KR940020452A - Microwave power generation system - Google Patents

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KR940020452A
KR940020452A KR1019930002839A KR930002839A KR940020452A KR 940020452 A KR940020452 A KR 940020452A KR 1019930002839 A KR1019930002839 A KR 1019930002839A KR 930002839 A KR930002839 A KR 930002839A KR 940020452 A KR940020452 A KR 940020452A
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Inventor
이청대
손상형
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김주용
현대전자산업 주식회사
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Abstract

본 발명은 마이크로파를 이용하여 반도체 소자 제조에 사용되는 마이크로웨이브 파워 발생 시스템에 관한 것으로, 웨이브가이드내를 따라 전송되는 마이크로파의 일부가 반사되어 플라즈마 발생장치의 기능을 저하 시키는 반사 마이크로파를 줄이게 됨으로써 자기헤드의 수명을 장기간 유지하고, 석영 튜브를 둘러싸고 있는 O-링이 열화을 방지함으로써 챔버내의 불순물 입자를 제거하게 되어 플라즈마를 이용한 반도체 소자의 제작에 있어 소자의 신뢰도와 수율 향상에 기여할 수 있는 마이크로웨이브 파워 발생 시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a microwave power generation system used for manufacturing a semiconductor device using microwaves, wherein a portion of the microwaves transmitted along the waveguide is reflected to reduce the reflected microwaves that degrade the function of the plasma generator. Microwave power generation can be maintained for a long time and the O-ring surrounding the quartz tube prevents deterioration to remove impurity particles in the chamber, thereby contributing to the improvement of reliability and yield in the fabrication of semiconductor devices using plasma. It's about the system.

Description

마이크로웨이브 파워 발생 시스템Microwave power generation system

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음Since this is an open matter, no full text was included.

제1도는 본 발명에 따른 플라즈마 발생 시스템의 개략적인 구성도.1 is a schematic configuration diagram of a plasma generation system according to the present invention.

Claims (2)

마이크로웨이브 파워 발생 시스템에 있어서, DC전압을 발생하여 전압을 공급하는 DC전원(1), 상기 DC전원(1)에 의해 공급되는 고에너지 전력을 받아 마이크로파를 출력하는 자전관 헤드(2), 상기 자전관 헤드(2)에서 발생한 마이크로파를 부하까지 전송하는 웨이브가이드(7), 튜너의 길이를 조절하여 마이크로파의 파장을 조절함으로써 효율적인 플라즈마 형성을 이루도록 상기 웨이브가이드(7) 중앙에 설치되어 임피던스 매칭을 형성하는 스터브 튜너(4), 마이크로파의 진행 방향에 대해 상기 스터브 튜너(4)앞에 설치되어 마이크로파의 순방향 진행과반사되는 마이크로파의 위상차를 이용하여 상기 자전관 헤드(2)에서 출력되는 마이크로파와 부하간의 매칭 상태를 알아 볼수 있도록 검출 센서인 백금을 갖고 전원 센싱과 파워 미터에 의한 반사 마이크로파의 모니터링을 할수 있도록 구성된 커플러(3), 출력된 마이크로파가 부하를 지나 사 마이크로파가 되었을때 생기는 열을 모두 흡수하여 발산하도록 마이크로파의 진행부위의 일측단에 형성되는 더미로드(8), 상기 더미로드(8)와 스터브 튜너(4) 사이에 형성되어 출력된 마이크로파를 이용하여 플라즈마를 형성하도록 플라즈마 반응원가스를 공급하는 석영튜브(6), 반사되는 마이크로파와 플라즈마에 의한 열로 인하여 생기는 웨이브가이드 내부의 열을 흡수하기 위하여 상기 석영튜브(6)와 인접하여 형성되는 열 냉각부인 냉각핀(5), 상기 더미로드(8)에서 발생한 열을 냉각 시키는 냉각라인(9), 웨이브가이드(7)내부에서 반사되는 마이크로파와 플라즈마에 의해 발생된 열을 냉각 시키기 위해 상기 더미로드(8)와 인접하여 형성되는 냉각수단인 N2냉각포트(10), 상기 자전관 헤드(2)에 걸리는 고전압과 마이크로파의 누설을 방지하기 위해 상기 자기헤드(2)를 보호하고 있는 보호용 커버(11), 상기 자전관 헤드(2)의 안테나에서 출력되는 마이크로파의 위상을 조절하여 반사되는 마이크로파를 줄여 주는 역할을 하는 웨이브가이드 사이드 커버(12), 상기 자전관 헤드(2)의 고전압에 의해 발생하는 열을 냉각 시키고 과도하게 발생하는 열을 방지하기 위하여 일정온도 이상이 되면은 자기헤드(2)의 동작을 정지시키도록 상기 자기헤드(2)에 형성되어지는 열센서(13)을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 마이크로웨이브 파워 발생 시스템.In the microwave power generation system, a DC power supply (1) for generating a DC voltage to supply a voltage, a magnetron head (2) for receiving a high energy power supplied by the DC power supply (1), and outputs a microwave, the magnetron Wave guide (7) for transmitting the microwave generated from the head (2) to the load, by adjusting the length of the tuner to adjust the wavelength of the microwave is installed in the center of the wave guide (7) to achieve efficient plasma formation to form impedance matching The stub tuner 4 is installed in front of the stub tuner 4 with respect to the traveling direction of the microwaves, and the matching state between the microwaves and the loads output from the magnetron head 2 using the phase difference of the microwaves reflected from the forward traveling of the microwaves is determined. With platinum, the detection sensor, we can see the reflection of microwaves Coupler (3) configured to monitor, the dummy rod (8) formed at one end of the traveling portion of the microwave so as to absorb and dissipate all the heat generated when the output microwave is passed through the load, the dummy rod ( 8) and a quartz tube 6 for supplying plasma reactant gas to form a plasma by using the output microwaves formed between the stub tuner 4 and the heat inside the waveguide generated by the heat from the reflected microwaves and the plasma. Cooling fin (5), which is a thermal cooling unit formed adjacent to the quartz tube (6) to absorb the heat, the cooling line (9) for cooling the heat generated from the dummy rod (8), the reflection inside the wave guide (7) N 2 cooling port 10, which is a cooling means formed adjacent to the dummy rod (8) to cool the heat generated by the microwave and plasma to be, In order to prevent leakage of high voltage and microwaves applied to the magnetron head 2, the protective cover 11 protecting the magnetic head 2 and the phase of the microwave output from the antenna of the magnetron head 2 are adjusted. The waveguide side cover 12, which serves to reduce reflected microwaves, cools the heat generated by the high voltage of the magnetron head 2 and prevents excessive heat from occurring. And a heat sensor (13) formed in said magnetic head (2) to stop operation of said (2). 제1항에 있어서, 상기 더미로드(8)은삼각뿔 기둥형태로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마이크로웨이브 파워 발생 시스템.The microwave power generation system according to claim 1, wherein the dummy rod (8) has a triangular pyramid shape. ※참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: It is to be disclosed based on the initial application.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990068381A (en) * 1999-05-11 1999-09-06 허방욱 microwave plasma burner
KR100689037B1 (en) * 2005-08-24 2007-03-08 삼성전자주식회사 micrewave resonance plasma generating apparatus and plasma processing system having the same
KR100698679B1 (en) * 2005-06-03 2007-03-23 현대모비스 주식회사 Wheel Cap of Automobile

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KR100689037B1 (en) * 2005-08-24 2007-03-08 삼성전자주식회사 micrewave resonance plasma generating apparatus and plasma processing system having the same

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