Claims (10)
하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 신규 에틸리덴디카르바즈산 유도체Novel ethylidenedicarbazic acid derivatives represented by the following general formula (I)
상기식에서, R은 C1-4알킬기, C2-4알케닐기, 아릴알킬기 또는 아릴기를 나타내고 ; R1은 수소원자, C1-4알킬기, 알릴기 또는 프로파길기를 나타내며 ; R2는 수소원자, C1-4알킬기이거나 임의의 위치에 할로겐원자, 니트로기 및 메틸기로 구성된 군에서 선택된 1 또는 2이상의 치환기를 갖을 수 있는 페닐기를 나타내며 ; R3는 수소원자, 메틸기, 에틸기 또는 페닐기를 나타낸다.Wherein R represents a C 1-4 alkyl group, C 2-4 alkenyl group, arylalkyl group or aryl group; R 1 represents a hydrogen atom, a C 1-4 alkyl group, an allyl group, or a propargyl group; R 2 represents a hydrogen atom, a C 1-4 alkyl group or a phenyl group which may have one or two or more substituents selected from the group consisting of halogen atoms, nitro groups and methyl groups at arbitrary positions; R 3 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a phenyl group.
제 1 항에 있어서, R이 메틸기, 에틸기, 알릴기, 페닐기 또는 벤질기이고 ; R1이에틸기, 알릴기 또는 프로파길기이며 ; R2가 수소원자, 메틸기, 에틸기 또는 페닐기이고 ; R3가 수소원자, 메틸기, 에틸기 또는 페닐기임을 특징으로 하는 일반식(Ⅰ)의 화합물.The compound according to claim 1, wherein R is a methyl group, an ethyl group, an allyl group, a phenyl group or a benzyl group; R 1 is an ethyl group, an allyl group, or a propargyl group; R 2 is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a phenyl group; A compound of formula (I) wherein R 3 is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a phenyl group.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, R이 메틸기, 알릴기 또는 벤질기이고 ; R1가 에틸기이며 ; R2가 메틸기이고 ; R3가 수소원자임을 특징으로 하는 일반식(Ⅰ)의 화합물.The compound according to claim 1 or 2, wherein R is a methyl group, allyl group or benzyl group; R 1 is an ethyl group; R 2 is a methyl group; A compound of formula (I) wherein R 3 is a hydrogen atom.
하기 일반식(Ⅲ)의 메틸렌 말로네이트 유도체와 하기 일반식(Ⅱ)의 디티오카르바제이트 유도체를 용매 및 염기 존재하에서 반응시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 에틸리덴디티오카르바즈산 유도체의 제조방법.Ethylidenetyl represented by the following general formula (I) characterized by reacting a methylene malonate derivative of the following general formula (III) and a dithiocarbazate derivative of the following general formula (II) in the presence of a solvent and a base: Method for preparing an ocarbazic acid derivative.
상기식에서, R은 C1-4알킬기, C2-4알케닐기, 아릴알킬기 또는 아릴기를 나타내고 ; R1은 수소원자, C1-4알킬기, 알릴기 또는 프로파길기를 나타내며 ; R2는 수소원자, C1-4알킬기이거나 임의의 위치에 할로겐원자, 니트로기 및 메틸기로 구성된 군에서 선택된 1 또는 2이상의 치환기를 갖을 수 있는 페닐기를 나타내며 ; R3는 수소원자, 메틸기, 에틸기 또는 페닐기를 나타내고 ; R4는 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다.Wherein R represents a C 1-4 alkyl group, C 2-4 alkenyl group, arylalkyl group or aryl group; R 1 represents a hydrogen atom, a C 1-4 alkyl group, an allyl group, or a propargyl group; R 2 represents a hydrogen atom, a C 1-4 alkyl group or a phenyl group which may have one or two or more substituents selected from the group consisting of halogen atoms, nitro groups and methyl groups at arbitrary positions; R 3 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a phenyl group; R 4 represents a methyl group or an ethyl group.
제 4 항에 있어서, R이 메틸기, 에틸기, 알릴기, 페닐기 또는 벤질기이고 ; R1이에틸기, 알릴기 또는 프로파길기이며 ; R2가 수소원자, 메틸기, 에틸기 또는 페닐기이고 ; R3가 수소원자, 메틸기, 에틸기 또는 페닐기임을 특징으로 하는 일반식(Ⅰ) 화합물의 제조방법.The compound according to claim 4, wherein R is a methyl group, an ethyl group, an allyl group, a phenyl group or a benzyl group; R 1 is an ethyl group, an allyl group, or a propargyl group; R 2 is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a phenyl group; A process for producing a compound of formula (I) wherein R 3 is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a phenyl group.
제 5 항에 있어서, R이 메틸기, 알릴기 또는 벤질기이고 ; R1이 에틸기이며 ; R2가 메틸기이고 ; R3가 수소원자임을 특징으로 하는 일반식(Ⅰ) 화합물의 제조방법.A compound according to claim 5, wherein R is a methyl group, allyl group or benzyl group; R 1 is an ethyl group; R 2 is a methyl group; A process for producing a compound of formula (I), wherein R 3 is a hydrogen atom.
제 4 항에 있어서, 일반식(Ⅱ) 화합물의 사용량이 일반식(Ⅲ) 화합물을 기준으로 1.0내지 2.0당량임을 특징으로 하는 방법.The method according to claim 4, wherein the amount of the compound of formula (II) is 1.0 to 2.0 equivalents based on the compound of formula (III).
제 4 항 내지 6항중 어느 한 항에 있어서, 반응용매가 에탄올, 테트라하이드로퓨란 또는 메틸렌디클로라이드이고, 염기가 알칼리금속(C1-C5)알콕사이드 또는 3급 아민임을 특징으로 하는 방법.The process according to claim 4, wherein the reaction solvent is ethanol, tetrahydrofuran or methylenedichloride and the base is an alkali metal (C 1 -C 5 ) alkoxide or tertiary amine.
제 8 항에 있어서, 반응용매가 에탄올이고, 염기가 소디움(C1-C5)알콕사이드임을 특징으로 하는 방법.9. The process of claim 8 wherein the reaction solvent is ethanol and the base is sodium (C 1 -C 5 ) alkoxide.
제 8 항에 있어서, 알칼리금속 알콕사이드의 사용량이 일반식(Ⅲ)의 화합물을 기준으로 1.0당량 내지 1.5당량임을 특징으로 하는 방법.The method according to claim 8, wherein the alkali metal alkoxide is used in an amount of 1.0 to 1.5 equivalents based on the compound of formula (III).
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.