KR940011273B1 - 레이저 다이오드의 구조 - Google Patents

레이저 다이오드의 구조 Download PDF

Info

Publication number
KR940011273B1
KR940011273B1 KR1019920005612A KR920005612A KR940011273B1 KR 940011273 B1 KR940011273 B1 KR 940011273B1 KR 1019920005612 A KR1019920005612 A KR 1019920005612A KR 920005612 A KR920005612 A KR 920005612A KR 940011273 B1 KR940011273 B1 KR 940011273B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
quantum well
metal layer
drain
source
electric field
Prior art date
Application number
KR1019920005612A
Other languages
English (en)
Other versions
KR930022643A (ko
Inventor
안도열
Original Assignee
주식회사 금성사
이헌조
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 금성사, 이헌조 filed Critical 주식회사 금성사
Priority to KR1019920005612A priority Critical patent/KR940011273B1/ko
Publication of KR930022643A publication Critical patent/KR930022643A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR940011273B1 publication Critical patent/KR940011273B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/30Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
    • H01S5/34Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

내용 없음.

Description

레이저 다이오드의 구조
제 1 도는 종래의 트랜스버스 접합 레이저 다이오드를 나타낸 단면도.
제 2 도는 본 발명의 전계효과 양자우물 레이저 다이오드를 나타낸 단면도.
제 3 도는 본 발명 단일 양자우물에서의 전계영향에 따른 전자와 정공의 확률밀도함수를 나타낸 그래프.
제 4 도는 본 발명 결합 양자우물에서의 전계영향에 따른 전자와 정공의 확률 밀도함수를 나타낸 그래프.
제 5 도는 본 발명의 활성층으로 단일 양자우물과 결합 양자우물에 따른 게이트 전계에 의한 광이득의 변화를 나타낸 그래프.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 기판 2 : 금속층
3 : 소오스 4 : 드레인
5 : 활성층 6 : 게이트
본 발명은 레이저 다이오드의 구조에 관한 것으로, 특히 결합 양자우물(Coupled Quantum Well)을 이용한 전계효과 반도체 레이저의 광이득 적접 변조(Direct Modulation)를 기반 기술로 하여 결합 양자우물을 활성층으로 해서 저전압에서도 초고속 변조할 수 있도록 한 것이다.
일반적으로 반도체 레이저의 직접 변조는 광통신에서 중요하다.
종래의 트랜스 버스 접합(Transverse Uunction) 레이저 다이오드는 제 1 도와 같이 기판(GaAs 버퍼)(1)위에 금속층(AlGaAs)(2)이 형성되고 금속층(2) 상부에 소오스(3) 및 드레인(4)이 형성되며 소오스(3)와 드레인(4)사이 금속층(2) 영역에 다양자우물(Multi Quantum Well)활성층(5A')이 형성되었다.
이와 같은 종래의 기술은 주입 전류의 온/오프를 이용하여 발광의 광도를 조절하며 스위칭 속도(변조대역)의 한계는 다양자우물 활성층(5A')에 모여 있는 전송자(전자, 정공)의 수명(나노 초(nano second)에 좌우되므로 주입 전류의 변조에 의한 변조 대역은 대략 수십 CHz로 제한되었다.
그러나 이와 같은 종래의 기술에 있어서, 래이징(발진)을 만족시키기 위한 전자와 정공의 수명이 나노초 정도이기 때문에 초고속 변조를 할 수 없게 되는 결점이 있었다.
본 발명은 이와 같은 종래의 결점을 감안하여 안출한 것으로, 소오스와 드레인 사이에 게이트를 형성시켜 초고속 변조를 할 수 있는 레이저 다이오드를 제공하는데 그 목적이 있다.
이하에서 이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예를 첨부된 도면에 의하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
제 2 도는 본 발명의 전계효과를 양자우물 레이저 다이오드를 나타낸 단면도로서, 기판(1)위에 금속층(2)이 형성되고 금속층(2)상부에 소오스(3) 및 드레인(4)이 형성되며 소오스(3)와 드레인(4)사이 금속층(2)영역에 양자우물 활성층(5)이 형성되고 금속층(2)의 소오스(3)와 드레인(4) 사이에 게이트(6)가 형성되며 상기 양자우물활성층의 실시예로서는 단일 양자우물 활성층이나 결합 양자우물 활성층으로도 실시가능하다.
이와 같은 구조로 된 본 발명에서 전류는 소오스(3)와 드레인(4)를 통하여 양자우물 활성층(5)과 평행하게 주입되는데 게이트(6)를 통해서 전계를 인가할 경우 먼저, 단일 양자우물에서의 전계영향에 따른 전자와 정공의 확률밀도 함수는 제 3 도에서 (A)와 같이 전계=0이면, 전도대(conduction) band)와 가전자대(Valence Band)를 중심으로 전자의 확률밀도함수(C)와 정공의 확률밀도함수(D)는 위아래쪽으로 볼록한 분포를 이루고, (B)와 같이 전계>0이면, 전도대가 가전자대를 중심으로 전자의 확률밀도함수(E)와 정공의 확률밀도함수(F)는 대각선방향 위아래쪽으로 볼록한 분포를 이룬다.
또한, 결합 양자우물에서의 전계영향에 따른 전자와 정공의 확률밀도함수는 제 4 (a)도와 같이 전계=0이면, 전도대와 가전자대를 중심으로 전자의 확률밀도함수(G)와 정공의 확률밀도함수(H)는 위아래쪽으로 두개의 볼록한 분포를 이루고, (B)와 같이 전계>0이면, 전도대와 가전자대를 중심으로 전자의 확률밀도함수(I)와 정공의 확률밀도함수(J)는 대각선 방향 위아래쪽으로 볼록한 분포를 이룬다.
상기에서 전자와 정공의 확률분포가 공간적으로 떨어지게 되는 것을 알 수 있으며 특히, 양자우물 활성층(5)으로 결합 양자울물을 사용할때 더 효율적으로 전계에 의해 전자와 정공을 격리시킬 수 있음을 알 수 있고, 제 5 도와 같이 제 1 단일 양자우물(Lz=75Å)(K), 제 2 단일 양자우물(Lz=168Å)(L), 결합 양자우물(M)등을 양자우물 활성층(5)으로 사용했을때 게이트(6)의 전계에 따른 광이득에서도 알 수 있듯이 결합 양자우물(M)을 사용할때 효율적인 전자와 정공의 격리를 실시할 수 있다.
단, 상기 설명중 Lz는 양자우물 활성층(5)의 폭이다.
따라서, 전자와 정공이 격리되면 쌍소멸 없이도 광이득을 감소시킬 수 있기 때문에 레이저의 발진을 온/오프시킬 수 있고 양자우물 활성층(5)의 폭은 약 50∼200Å이므로 전자와 겅공이 각각 격리되는데 걸리는 시간은 약 10-15초 정도이며 이론상으로 테가헤르쯔 (Tera Hz)정도의 변조대역을 갖는다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 양자우물 활성층(5)을 결합 양자우물로 사용하고 게이트(6)에 전계를 인가하여 더욱 낮은 전계에서도 광이득 변조를 할 수 있는 효과가 있는 것이다.

Claims (1)

  1. 기판(1)위에 금속층(2)이 형성되고 상기 금속층(2) 상부에 소오스(3) 및 드레인(4)이 형성되며, 상기 소오스(3)와 드레인(4)사이 금속층(2) 영역에 결합 양자우물로 된 활성층(5)이 형성되고 상기 소오스(3)와 드레인(4)사이 금속층(2) 표면에 전계를 인가하기 위한 게이트(6)이 형성되어 이루어진 레이저 다이오드의 구조.
KR1019920005612A 1992-04-03 1992-04-03 레이저 다이오드의 구조 KR940011273B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019920005612A KR940011273B1 (ko) 1992-04-03 1992-04-03 레이저 다이오드의 구조

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019920005612A KR940011273B1 (ko) 1992-04-03 1992-04-03 레이저 다이오드의 구조

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR930022643A KR930022643A (ko) 1993-11-24
KR940011273B1 true KR940011273B1 (ko) 1994-12-03

Family

ID=19331365

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019920005612A KR940011273B1 (ko) 1992-04-03 1992-04-03 레이저 다이오드의 구조

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR940011273B1 (ko)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR900006588B1 (ko) * 1987-12-07 1990-09-13 삼성전자 주식회사 레이저 다이오드의 제조방법
JPH0254596A (ja) * 1988-08-18 1990-02-23 Mitsubishi Electric Corp 半導体レーザ

Also Published As

Publication number Publication date
KR930022643A (ko) 1993-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6369403B1 (en) Semiconductor devices and methods with tunnel contact hole sources and non-continuous barrier layer
US4987468A (en) Lateral heterojunction bipolar transistor (LHBT) and suitability thereof as a hetero transverse junction (HTJ) laser
US4878222A (en) Diode laser with improved means for electrically modulating the emitted light beam intensity including turn-on and turn-off and electrically controlling the position of the emitted laser beam spot
EP0033137B1 (en) Semiconductor laser device
US5164797A (en) Lateral heterojunction bipolar transistor (LHBT) and suitability thereof as a hetero transverse junction (HTJ) laser
JPH0143472B2 (ko)
US6391671B2 (en) Method of producing an optical semiconductor device having a waveguide layer buried in an InP current blocking layer
US5111256A (en) High speed semiconductor device and an optelectronic device
US3768037A (en) Semiconductor diode laser device
KR940011273B1 (ko) 레이저 다이오드의 구조
Thornton et al. Unified planar process for fabricating heterojunction bipolar transistors and buried heterostructure lasers utilizing impurity-induced disordering
Kishino et al. Fabrication and lasing properties of mesa substrate buried heterostructure GaInAsP/InP lasers at 1.3 µm wavelength
US7787736B2 (en) Semiconductor optoelectronic waveguide
EP0621665B1 (en) Semiconductor double-channel-planar-buried-heterostructure laser diode effective against leakage current
US4768200A (en) Internal current confinement type semiconductor light emission device
Paoli et al. High‐power multiple‐emitter AlGaAs superluminescent diodes
JPH1174600A (ja) レーザの直接振幅変調方法
Tanbun-Ek et al. Tunable electroabsorption modulated laser integrated with a bent waveguide distributed-feedback laser
Panish Heterostructure injection lasers
JPS6218782A (ja) 埋込み構造半導体レ−ザ
JPS6244713B2 (ko)
Uenohara et al. Operation characteristics of a side-light-injection multiple-quantum-well bistable laser for all-optical switching
JPH10321960A (ja) 半導体発光素子
JPH04242989A (ja) 半導体発光装置
JPS6379390A (ja) 半導体レ−ザ装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20031008

Year of fee payment: 10

LAPS Lapse due to unpaid annual fee