KR940004290Y1 - Two-wave length laser apparatus - Google Patents
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Abstract
내용 없음.No content.
Description
제1도는 종래의 레이저 발생장치의 거울 유형도1.1 is a mirror type of a conventional laser generator.
제2도는 종래의 레이저 발생장치의 거울 유형도2.2 is a mirror type of a conventional laser generator.
제3도는 종래의 레이저 발생장치의 거울 유형도3.3 is a mirror type of a conventional laser generator.
제4도는 종래의 레이저 발생장치의 구성도.4 is a block diagram of a conventional laser generator.
제5도는 본 고안에 따른 2파장 레이저 발생장치의 구성도.5 is a block diagram of a two-wavelength laser generator according to the present invention.
제6도는 본 고안에 따른 2파장 레이저 발생장치에서 거울1의 파장에 따른 반사율 표시도.6 is a reflectance display according to the wavelength of the mirror 1 in the two-wavelength laser generator according to the present invention.
제7도는 본 고안에 따른 2파장 레이저 발생장치에서 거울2의 파장에 따른 반사율 표시도.7 is a reflectance display according to the wavelength of the mirror 2 in the two-wavelength laser generator according to the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
1 : 제1거울 2 : 제2거울1: 1st mirror 2: 2nd mirror
3 : 여기장치 4 : 레이저 매질3: excitation device 4: laser medium
본 고안은 레이저 발생장치에 관한 것으로, 특히 동시에 서로 다른 2파장 광을 발생시키기에 적당하도록 한 2파장 레이저 발생장치의 공진기에 관한 것이다.The present invention relates to a laser generator, and more particularly, to a resonator of a two-wavelength laser generator that is adapted to generate different two-wavelength light at the same time.
종래의 레이저 발생장치는 제1도, 제2도, 제3도, 제4도에서 도시한 바와 같이, 레이저의 발생은 유도 방사된 광을 모으기 위해 적절하게 설정된 캐버티(Cavity) 내에서 이루어졌는데 이 캐버티의 양쪽은 두개의 거울로 막혀 있으며, 한쪽 거울은 반사율이 매우 높고 다른 한쪽 거울은 반사율이 조금 낮게 되어 있으며, 반사율이 조금 낮은 거울을 통하여 레이저 광이 나오게 되어 있다.In the conventional laser generator, as shown in FIGS. 1, 2, 3, and 4, the generation of the laser is performed in a cavity set appropriately to collect the induced radiated light. Both sides of this cavity are blocked by two mirrors, one with a very high reflectivity, the other with a slightly lower reflectivity, and a laser beam through the slightly less reflective mirror.
이때 양쪽의 거울과 캐버티 내에 있는 레이저를 발생시킬 수 있는 레이저 발생물질(He-Ne Gas NdYAG, Ruby 등)과 여기장치(3)를 합쳐 공진기라 하며, 공진기의 양 끝이 두개의 거울로 되어 있다. 상기의 여기장치(3)는 He-Ne레이저인 경우 방전을 사용하고 고체 레이저인 경우 플래쉬 램프를 사용하는데 이 여기장치(3)에 의해서 레이저 매질에서 유도방사되는 광파는 여러개가 된다.At this time, the laser generating materials (He-Ne Gas NdYAG, Ruby, etc.) that can generate lasers in both mirrors and cavities and the excitation device (3) are called resonators, and both ends of the resonators are two mirrors. have. The excitation device 3 uses a discharge in the case of a He-Ne laser and a flash lamp in the case of a solid-state laser. The light wave induced by the excitation device 3 in the laser medium is several.
예를 들어 레이저 매질이 He-Cd인 경우 325㎜, 441.6㎜, 537.8㎜ 등이 발생되고 He-Ne인 경우 632.8㎜, 1.15㎜, 3.39㎜ 등이 나오는데 종래의 레이저 거울은 여러개의 파장중에서 한 파장에 대해서만 반사율을 조정하고 공진기의 길이를 조정하여 한 파장의 광만을 발생시키는 레이저 광발생 장치로서 여러 파장의 광이 필요한 경우 각각 파장에 해당하는 공진기를 구성해야 하는 문제점이 있었다.For example, when the laser medium is He-Cd, 325mm, 441.6mm, 537.8mm, etc. are generated, and when He-Ne is 632.8mm, 1.15mm, 3.39mm, etc., the conventional laser mirror has one wavelength among several wavelengths. As a laser light generating device generating only one wavelength of light by adjusting the reflectance only and adjusting the length of the resonator, there is a problem that a resonator corresponding to the wavelength has to be configured when multiple wavelengths of light are required.
본 고안은 이와 같은 결점을 해결하기 위해 안출된 것으로서 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.The present invention is devised to solve such drawbacks and will be described below with reference to the accompanying drawings.
제5도는 본 고안에 따른 2파장 레이저 발생장치에 대한 구성도로서 레이저 매질(4)과 여기장치(3)로 조합된 공진기의 양측에 제1거울(1), 제2거울(2)로 되어 있다.5 is a configuration diagram of a two-wavelength laser generating device according to the present invention, the first mirror (1), the second mirror (2) on both sides of the resonator combined with the laser medium (4) and the excitation device (3) have.
이와 같이 구성된 본 고안의 상세한 설명은 다음과 같다.Detailed description of the present invention configured as described above is as follows.
여기장치(3)에 의해서 레이저 매질(4)에 유도방사되는 여러개의 광파중에서 본 고안에서의 레이저 거울 제1거울(1), 제2거울(2)은 발생하고자 하는 2파장에 대하여 제1거울, 제2거울의 반사율을 조정함으로써 2파장의 레이저를 발생하는 것으로서 사용된 2개의 거울에 대한 파장별 반사율은 첨부된 도면 제6도 및 제7도와 같으며 이에 관한 레이저 공진기의 거리는 발진파장 λ에 대하여 m=d(λ/2)……①(n : 정수, d : 공진기의 길이)의 식 ①을 만족해야 하는데, 서로 다른 두개의 파장 λ1, λ2에 대해서는 m1=d′/(λ1/2)……②, m2=d′/(λ2/2)……③(m1, m2 : 정수, d′ : 공진기의 길이)의 식 ②, ③을 동시에 만족시키는 d′(공진기의 길이)를 선택해야 한다. 식 ②, ③을 만족하고 제1거울, 제2거울의 파장별 반사율을 고려하여 고안된 것으로 제1거울의 좌측에서는 λ1의 파장의 레이저 광이 나오고, 제2거울의 우측에서는 λ2의 파장이 나오게 됨으로써 2개의 레이저 광을 동시에 발생시키는 것이다.Among the several light waves induced by the excitation device 3 to the laser medium 4, the laser mirror first mirror 1 and the second mirror 2 in the present invention are the first mirror with respect to the two wavelengths to be generated. The reflectance for each wavelength for the two mirrors used as generating the laser of two wavelengths by adjusting the reflectance of the second mirror is shown in FIGS. 6 and 7 of the accompanying drawings. M = d (λ / 2) … (N: integer, d: length of the resonator) must be satisfied. For two different wavelengths? 1 and? 2, m1 = d '/ (λ1 / 2)... … (2), m2 = d '/ (λ2 / 2). … D '(length of resonator) that satisfies equation ②, ③ of ③ (m1, m2: integer, d': length of resonator) should be selected at the same time. Equation (2) and (3) are satisfied and designed in consideration of the reflectance for each wavelength of the first mirror and the second mirror. It is to generate two laser lights at the same time.
이와 같이 본 고안은 제1거울(1), 제2거울(2)의 반사율을 조정함으로써 하나의 레이저 발생장치로 2파장의 레이저 광원을 얻을 수 있고, 두개의 레이저 광을 동시에 사용할 경우 하나의 레이저광을 사용하는 것보다 전기적 에너지의 레이저광 변화효율이 높으며 광학계에서 널리 사용될 수 있는 효과를 가진 것이다.As such, the present invention can obtain a laser light source having two wavelengths with one laser generator by adjusting the reflectances of the first mirror 1 and the second mirror 2, and using two laser lights simultaneously. Compared to using light, laser energy change efficiency of electrical energy is higher and can be widely used in the optical system.
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019880021603U KR940004290Y1 (en) | 1988-12-27 | 1988-12-27 | Two-wave length laser apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019880021603U KR940004290Y1 (en) | 1988-12-27 | 1988-12-27 | Two-wave length laser apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR900013509U KR900013509U (en) | 1990-07-05 |
| KR940004290Y1 true KR940004290Y1 (en) | 1994-06-25 |
Family
ID=19282539
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019880021603U KR940004290Y1 (en) | 1988-12-27 | 1988-12-27 | Two-wave length laser apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR940004290Y1 (en) |
-
1988
- 1988-12-27 KR KR2019880021603U patent/KR940004290Y1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR900013509U (en) | 1990-07-05 |
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