Claims (4)
다음 일반식(Ⅰ)의 화합물과 약리학적으로 허용되는 산부가염The compound of formula (I) and a pharmacologically acceptable acid addition salt
상기 일반식에서, R1및 R2는 서로 동일하거나 상이한 것으로 각각 수소원자, C1-C4의 저급알킬기, C1-C4의 저급알콕시기, C1-C4의 저급알콕시 카르보닐기, 아민기, C1-C4의 저급알킬아민기, 카르복실기, 시안기, 니트로기, 아미도기, 및 할로겐원자로 구성되는 군에서 선택된 기이고, R3는 수소원자 또는 C1-C4의 저급알킬기이고, R4는 C1-C4의 저급알킬기, 아릴기, 아민기, C1-C4의 저급알킬아민기, 아릴아미노기, 히드라진기, 혹은 아미노이미노 메틸렌아미노(구아니딘)기이다.Said general formula, R 1 and R 2 are lower alkoxy of each represent a hydrogen atom, C 1 -C 4 lower alkyl group, C 1 -C 4 lower alkoxy groups, C 1 -C 4 of the same or different to each other, a carbonyl group, an amine group , A C 1 -C 4 lower alkylamine group, a carboxyl group, a cyan group, a nitro group, an amido group, and a group selected from a halogen atom, R 3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group of C 1 -C 4 , R 4 is a C 1 -C 4 lower alkyl group, an aryl group, an amine group, a C 1 -C 4 lower alkylamine group, an arylamino group, a hydrazine group, or an aminoimino methyleneamino (guanidine) group.
제1항에 있어서, R1및 R2가 수소원자, C1-C4의 저급알킬기, C1-C4의 저급알콕시기, C1-C4의 저급알콕시 카르보닐기, 아민기, 카르복실기 및 니트로기, 아미도기, 할로겐원자로 구성된 군에서 선택된 기이고, R3는 수소원자 또는 메틸 또는 에틸기이고, R4는 아민기, 단일 치환된 C1-C4의 저급알킬아민기, 또는 구아니딘기임을 특징으로 하는 화합물 및 약리학적으로 허용되는 산부가염.2. A compound according to claim 1, wherein R 1 and R 2 are hydrogen atoms, C 1 -C 4 lower alkyl groups, C 1 -C 4 lower alkoxy groups, C 1 -C 4 lower alkoxy carbonyl groups, amine groups, carboxyl groups and nitros A group selected from the group consisting of a group, an amido group and a halogen atom, R 3 is a hydrogen atom or a methyl or ethyl group, and R 4 is an amine group, a monosubstituted C 1 -C 4 lower alkylamine group, or a guanidine group Compounds and pharmacologically acceptable acid addition salts.
제2항에 있어서, R1및 R2는 수소원자, C1-C4의 저급알킬기, C1-C4의 저급알콕시기, C1-C4의 저급알콕시 카르보닐기, 카르복실기, 아민기, 아미도기, 및 할로겐원자로 구성된 군에서 선택된 기이고 R3는 수소원자 또는 메틸기, R4는 아민기, 메틸아민기, 에틸아민기, 프로필아민기, 부틸아민기, 또는 구아니딘기임을 특징하는 화합물 및 약리학적으로 허용되는 산부가염.According to claim 2, wherein, R 1 and R 2 are hydrogen atoms, C 1 -C 4 lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, an amine group, an amino lower alkoxy group of C 1 -C 4, C 1 -C 4 A compound selected from the group consisting of pottery and halogen atoms, and R 3 is a hydrogen atom or a methyl group, R 4 is an amine group, methylamine group, ethylamine group, propylamine group, butylamine group, or guanidine group Permissible acid addition salts.
다음 일반식(Ⅱ)의 화합물과 다음 일반식(Ⅲ)의 화합물을 반응시키는 것을 특징으로 하는 일반식(Ⅰ)의 제조방법.A method for producing formula (I), wherein the compound of formula (II) is reacted with the compound of formula (III).
상기 일반식에서, R1및 R2는 서로 동일하거나 상이한 것으로 각각 수소원자, 저급알킬기, 저급알콕시 카르보닐기, 알콕시기, 아민기, 저급알킬아민기, 카르복실기, 시안기, 니트로기, 아미도기, 및 할로겐원자로 구성되는 군에서 선택된 기이고, R3는 수소원자 또는 C1-C4의 저급알킬기이고, R4는 C1-C4의 저급알킬기, 아릴기, 아민기, C1-C4의 저급알킬아민기, 히드라진기, 또는 구아니딘기이다.In the above general formula, R 1 and R 2 are the same or different from each other, and each hydrogen atom, lower alkyl group, lower alkoxy carbonyl group, alkoxy group, amine group, lower alkylamine group, carboxyl group, cyan group, nitro group, amido group, and halogen a group selected from the group consisting of reactor configuration, R 3 is a lower alkyl group, a hydrogen atom or a C 1 -C 4, R 4 is a C 1 -C 4 lower alkyl group, an aryl group, an amine group, a lower C 1 -C 4 Alkylamine group, hydrazine group, or guanidine group.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.