KR910008944Y1 - Static type semiconductor memory device - Google Patents

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KR910008944Y1
KR910008944Y1 KR2019910009673U KR910009637U KR910008944Y1 KR 910008944 Y1 KR910008944 Y1 KR 910008944Y1 KR 2019910009673 U KR2019910009673 U KR 2019910009673U KR 910009637 U KR910009637 U KR 910009637U KR 910008944 Y1 KR910008944 Y1 KR 910008944Y1
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South Korea
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pair
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transistors
data
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Application number
KR2019910009673U
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Korean (ko)
Inventor
마사다카 마츠이
준이치 츠지모토
다카유키 오타니
미츠오 이소베
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가부시키가이샤 도시바
아오이 죠이치
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내용 없음.No content.

Description

스태틱형 반도체기억장치Static type semiconductor memory device

제1도는 종래의 반도체기억장치의 구성을 나타낸 블럭도.1 is a block diagram showing the structure of a conventional semiconductor memory device.

제2도는 제1도에 도시된 반도체기억장치의 각 부분을 구체적으로 나타낸 회로도.FIG. 2 is a circuit diagram specifically showing each part of the semiconductor memory device shown in FIG.

제3조는 본 고안의 1실시예에 따른 반도체기억장치의 구성을 타나낸 블럭도.Article 3 is a block diagram showing the configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

제4도는 제3도에 도시된 반도체기억장치의 각 부분을 구체적으로 나타낸 회로도.FIG. 4 is a circuit diagram specifically showing each part of the semiconductor memory device shown in FIG.

제5a도 내지 제5h도는 본 고안의 1실시예에 따른 반도체기억장치의 동작을 설명하기 치한 타이밍차트.5A to 5H are timing charts illustrating the operation of the semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

제6도는 본 고안의 다른 실시예에 따른 반도체기억장치의 구성을 나타낸 블럭도이다.6 is a block diagram showing the configuration of a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

10 : 행디코더 11 : 콘트롤러10: hang decoder 11: controller

20, 80 : 메모리셀어레이 21-ii, 81-i : 부분(section)20, 80: memory cell array 21-ii, 81-i: section

22-iii, 82-ii : 메모리셀 23-ii, 83-i : 비트선부하회로22-iii, 82-ii: memory cells 23-ii, 83-i: bit line load circuit

24-iii, 86-ii : 열선택게이트회로 27-ii, 87-i : 부분감지증폭기24-iii, 86-ii: column select gate circuit 27-ii, 87-i: partial sensing amplifier

28-i : 블럭선택회로 29-i : 블럭감지증폭기28-i: block selection circuit 29-i: block detection amplifier

30, 89 : 랫치회로 88 : 주감지증폭기30, 89: latch circuit 88: main sensing amplifier

43, 93 : 플립플롭 44∼47, 94∼97 : MOS트랜지스터43, 93: flip-flops 44-47, 94-97: MOS transistor

41, 42, 91, 92 : 인버터 24-11A, 29-1A, 87-1A : 구동부41, 42, 91, 92: Inverter 24-11A, 29-1A, 87-1A: Drive part

27-11B, 29-1B, 87-1B : 부하부27-11B, 29-1B, 87-1B: Load part

51, 52, 61, 101, 102 : N챈널 구동용 트랜지스터51, 52, 61, 101, 102: N channel driving transistor

53, 54, 63, 64, 103, 104 : N챈널 스위칭용 트랜지스터53, 54, 63, 64, 103, 104: N channel switching transistor

55, 65, 105 : N챈널 전류제어용 트랜지스터55, 65, 105: N-channel current control transistor

56A, 56B, 66A, 66B, 106A, 106B : 구동회로56A, 56B, 66A, 66B, 106A, 106B: drive circuit

57, 58, 67, 111, 112 : P챈널 MOS트랜지스터57, 58, 67, 111, 112: P channel MOS transistor

59A, 59B, 69A, 69B, 113A, 113B : 전류미러형 부하회로59A, 59B, 69A, 69B, 113A, 113B: Current Mirror Load Circuit

71, 72 : NAND게이트 WLii : 부분워드선71, 72: NAND gate WLii: partial word line

[산업상의 이용분야][Industrial use]

본 고안은 절연게이트형 전계효과트랜지스터, 예컨대 MOS트랜지스터로 구성된 반도체기억장치에 관한 것으로, 특히 메모리셀로서 스태틱형셀을 사용하는 스태틱형 반도체기억장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory device composed of an insulated gate field effect transistor, such as a MOS transistor, and more particularly, to a static semiconductor memory device using a static cell as a memory cell.

[종래의 기술 및 그 문제점][Traditional Technology and Problems]

반도체기억장치에 있어서는 프로세스기술이 진보되고 기억용량이 증가함에 따라 메모리셀로 구동시켜야 할 데이터션의 부하용량이 증대되게 되는바, 이러한 부하 용량의 증대는 데이터의 독출속도의 저하를 초래하게 된다. 그래서 종래의 반도체기억장치에서는, 메모리셀로 구동시켜야 할 용량을 저감시켜야 데이터의 독출속도를 고속화시키기 위해 메모리셀어레이를 복수개의 부분으로 분할시키고, 각 부분마다 부분데이터션을 설치하여 각 부분내에 있는 메모리셀의 독출데이터에 따라 대응하는 부분데이터선만을 구동도이시키도록 된 반도체기 억장치가 실용화되고 있다.In the semiconductor memory device, as the process technology is advanced and the memory capacity is increased, the load capacity of the data source to be driven by the memory cell is increased. This increase in the load capacity causes a decrease in the data reading speed. Therefore, in the conventional semiconductor memory device, the capacity to be driven by the memory cell must be reduced, so that the memory cell array is divided into a plurality of parts in order to speed up the data reading speed, and the partial data is provided for each part to provide the data within each part. BACKGROUND OF THE INVENTION [0002] A semiconductor memory device which drives only a corresponding partial data line in accordance with read data of a memory cell has been put into practical use.

제1도는 이와 같이 메로리셀어레이가 복수개의 부분으로 분할된 종래의 반도체기억장치의 구성을 나타낸 것으로, 이 반도체기억장치는 설명을 간략화하기 위해 1비트독출형이라고 가정한다. 도면에서 메모리셀어레이(80)는 복수개의 부분(81-1∼81-n)으로 분할되어 있고, 각 부분(81-i; 여기서 i=1∼n)에서의 스태틱형 메모리셀(82-11∼82-nn)은 각 부분워드선(WLi; 여기서 i=1∼n)에 대해 2차원어레이형상으로 배치되어 있다. 여기서는 부분(81-1)을 일예로 해서 반도체기억장치를 설명하기로 한다.FIG. 1 shows the structure of a conventional semiconductor memory device in which a merery cell array is divided into a plurality of parts, and it is assumed that the semiconductor memory device is a 1-bit read type to simplify the description. In the drawing, the memory cell array 80 is divided into a plurality of portions 81-1 to 81-n, and the static memory cells 82-11 in each portion 81-i (where i = 1 to n) are shown in FIG. 82-nn are arranged in a two-dimensional array shape with respect to each partial word line WLi (where i = 1 to n). Here, the semiconductor memory device will be described using the portion 81-1 as an example.

각 메로리셀(52-li; 여기서 i=1∼n)은 각 부분마다 분할된 부분워드선(WL1)과 비트선쌍 에 접속되어 있고, 각 비트선은 비트선부하회로(83-1)에 접속되어 있다.Each Mericell 52-li (where i = 1 to n) is a partial word line WL1 and a bit line pair divided for each part. Connected to each bit line Is connected to the bit line load circuit 83-1.

워드선(WL)은 도시되지 않은 행디코더에 의해 활성화되며, 전부분에 걸쳐 배치되어 있다. 이 워드선(WL)의 신호와 부분선택신호(SDi; 여기서 i=1∼n)는 부분선택게이트회로(88-i; 여기서 i-1∼n)에 공급된다.The word line WL is activated by a row decoder, not shown, and is disposed over the entire portion. The signal of this word line WL and the partial select signal SDi (where i = 1 to n) are supplied to the partial select gate circuit 88-i (where i-1 to n).

여기서, 부분선택회로(84-1)로부터 출력되는 부분선택회로(SD1)는 부분(81-1)을 선택할 때만 활성화된다. 그에 따라, 부분선택게이트회로(85-1)의 출력신호에 기초해서 선택된 부분(81-1)의 부분워드선(WL1)만 이 활성화되게 된다. 그리고, 선택된 부분(81-1)내에서 활성화된 부분워드선(WL1)에 접속되어 있는 모든 메모리셀(82-1i: 여기서 i=1∼n)로 부터 데이터가 독출되고 그 독출신호가 대응하는 비트선쌍으로 전송되게 된다.Here, the partial selection circuit SD1 output from the partial selection circuit 84-1 is activated only when the portion 81-1 is selected. Accordingly, only the partial word line WL1 of the selected portion 81-1 is activated based on the output signal of the partial select gate circuit 85-1. Then, data is read from all memory cells 82-1i (where i = 1 to n) connected to the activated partial word line WL1 in the selected portion 81-1, and the read signal corresponds to the read signal. Bit line pair Will be sent to.

열선택게이트회로(86-li; 여기서 i=1∼n)는 열선택신호(CD)에 기초해서 도통제어되고, 동일 부분(81-1)에 속하는 비트선쌍의 신호는 상기 열선택게이트회로(86-li; 여기서 i=1∼n)에 의해 1비트분만이 선택되어 부분데이터쌍으로 전송되게 된다. 이 부분데이터쌍으로 전승된 1쌍의 신호는, 부분감지증폭기 (87-1)에 입력되고, 각 부분데이터쌍의 신호가 입력된 상기 부분감지증폭기 (87-1)는 부분선택회로(84-1)로 부터 출력되는 부분감지증폭기 활성 화신호(SSA1)에 의해 선택적으로 활성차되게 된다. 여기서, 비활성화된 부분감지증폭기(87-1)의 출력은 고임피던스 상태로 된다.The column select gate circuit 86-li (where i = 1 to n) is conductively controlled based on the column select signal CD, and bit line pairs belonging to the same portion 81-1. Signal is selected only by one bit by the column select gate circuit 86-li (where i = 1 to n). Will be sent to. This partial data pair The pair of signals passed down to are input to the partial detection amplifier 87-1, and each pair of data pairs. The partial sense amplifier 87-1 to which the signal of? Is input is selectively activated by the partial sense amplifier activation signal SSA1 output from the partial selection circuit 84-1. Here, the output of the inactivated partial sensing amplifier 87-1 is in a high impedance state.

상기 부분감지증폭기(87-1)로부터 출력된 1쌍의 신호는 전부분에 걸쳐 공통으로 배선된 주데이터선쌍으로 전송되고, 주데이터선상의 신호는 칩내에서 도시되지 않은 출력버퍼 부근에 배치된 주감지증폭기(88)에 입력된다. 이 주감지증폭기(88)에 의해 증폭된 1쌍의 신호는 랫치회로(89) 에 의해 랫치된 다음 독출데이터(DO)로서 출력버퍼로 전송되게 된다.The pair of signals output from the partial sense amplifier 87-1 is a main data line pair commonly wired throughout the portion. On the main data line Is input to the main sense amplifier 88 arranged in the chip in the vicinity of an output buffer (not shown). The pair of signals amplified by the main sense amplifier 88 is latched by the latch circuit 89 and then transmitted to the output buffer as read data DO.

제2도는 상기 종래의 반도체기억장치의 각 부분을 구체적으로 나타낸 회로도로서, 도면에서 메모리셀(82-11)은 플립플롭(93)과 전송게이트로 기능하는 MOS트랜지스터 (94, 95)로 구성되어 있는 바, 그중 플립플롭(93)은 고정함과 구동용 MOS 트랜지스터로 이루어지진 2개의 인버터(91, 92)의 입 · 출력단자 상호간을 교찹시켜 구성한다. 상기 MOS트랜지스터(94)는 플립플롭(93)의 한쪽 출력단자와 비트선(BL-11)사이에 접속되고, 상기 트랜지터(95)는 플립플롭(93)의 다른쪽 출력단자 비트선사이에 접속되며, 2개의 MOS트랜지스터(94, 95)의 게이트는 그 부분(81-11)내의 부분워드선(WL1)에 접속되어 있다.FIG. 2 is a circuit diagram specifically showing each part of the conventional semiconductor memory device. In the drawing, the memory cells 82-11 include a flip-flop 93 and MOS transistors 94 and 95 functioning as transfer gates. Among them, the flip-flop 93 is composed by interlocking the input and output terminals of the two inverters (91, 92) consisting of a fixing box and a driving MOS transistor. The MOS transistor 94 is connected between one output terminal of the flip-flop 93 and the bit line BL-11, and the transistor 95 is a bit line of the other output terminal of the flip-flop 93. The gates of the two MOS transistors 94 and 95 are connected to the partial word line WL1 in the portion 81-11.

상기 비트선쌍과 부분데이터선쌍사이에 접속된 열선택게이트회로(86-11)는 게이트에 열선택신호(CD)가 공급되는 2개의 MOS트랜지스터 (96, 97)로 구성되어 있다.The pair of bit lines And partial data line pairs The column select gate circuit 86-11 connected therebetween is composed of two MOS transistors 96 and 97 to which a column select signal CD is supplied to the gate.

전류미러(current mirror)병렬형 감지증폭기라 일컬어지는 부분감지증폭기 (87-1)는 구동부(87-1A)와 부하부(87-1B)로 분리되는 바, 구동부(87-1A)는 부분데이터선쌍가 각각가의 신호가 게이트에 공급되는 N챈널의 구동용 트랜지스터 (101, 102)와 부분감지증폭기활성화신호(SSA1)가 게이트에 공급되는 N챈널의 스위칭용 트랜지스터(103, 104) 및 N챈널의 전류제어용 트랜지스터(105)로 이루어진 구동회로(106A)와, 이 구동회로(106A)의 구성과 동일한 구동회로(106B)로 구성된다. 마찬가지로, 부하부(87-15)는 각각 2개의 P챈널 MOS트랜지스터(111, 112)로 이루어진 2개의 전류미러형 부하회로(113A, 113B)로 구성된다. 여기서, 각 부분감지증폭기(87-1)에서는 구동부(87-1A)만이 각 부분데이터선에 대응해서 설치되어 있고, 부하부(87-1B)에 대해서는 모든 부분감지증폭기에 공통으로 1개만이 설치되어 있다.The partial sensing amplifier 87-1, referred to as a current mirror parallel sensing amplifier, is divided into a driving unit 87-1A and a load unit 87-1B, and the driving unit 87-1A is a partial data. Line pair The currents of the driving transistors 101 and 102 of the N channel and the switching transistors 103 and 104 of the N channel to which the partial sense amplifier activation signal SSA1 is supplied to the gate are supplied to the gate, respectively. It consists of a drive circuit 106A composed of the control transistor 105 and a drive circuit 106B identical to the structure of the drive circuit 106A. Similarly, the load section 87-15 is composed of two current mirror type load circuits 113A and 113B each consisting of two P-channel MOS transistors 111 and 112. Here, in each of the partial detection amplifiers 87-1, only the driving unit 87-1A is provided corresponding to each partial data line, and only one unit is installed in common for all the partial sensing amplifiers for the load unit 87-1B. It is.

이러한 형식의 부분감지증폭기를 사용하는 경우에는 주데이터선쌍으로서 본체의 주데이터선쌍외에 기준용의 주데터선쌍도 설치되어 있다.When using this type of partial sense amplifier, the main data line pair of the main unit as the main data line pair. In addition, main data pair for reference Also installed.

상기 종래의 반도체기억장치에서는 메모리셀어레이를 복수개의 부분으로 분할하고, 데이터의 독출시에는 하나의 부분을 선택적으로 활성화시켜 셀레이터를 독출하며, 그 독출신호를 부분감지증폭기(87-i; 여기서 i=1∼n)에서 1번 증폭해서 주데이터선쌍으로 출력하고, 더욱이 이것을 주감지증폭기(88)를 증폭해서 CMOS진폭레벨로 변환시킨 후에 랫치회로(89)로 랫치시키도록 되어 있다.In the conventional semiconductor memory device, the memory cell array is divided into a plurality of parts, and when reading data, one part is selectively activated to read the selector, and the read signal is partially sensed amplifier 87-i; Where i = 1 to n) The main sense amplifier 88 is amplified and converted to a CMOS amplitude level, and then latched by the latch circuit 89.

이와 같은 반도체기억장치에서는 부분데이터선쌍이 각 부분마다 분할되어 있기 때문에, 각 비트선쌍의 신호를 열선택 게이트회로86-ii 여기서 i=1∼n)를 매개해서 주데이터선쌍에 직접 전송하는 경우에 비해, 전류구동능력이 작은 메도리셀로 직접 구동시켜야만 하는 부하용량의 값이 작아지게 된다. 그 때문에, 데이터의 독출속도를 어느 정도 고속으로 할 수 있게 된다.In such a semiconductor memory device, a partial data line pair Since each part is divided, each bit line pair Column select gate circuit 86-ii where i = 1 to n) Compared to the direct transmission to the direct current, the load capacity required to be driven directly by the small cell having a small current driving capability becomes smaller. Therefore, the data reading speed can be made to a certain speed.

그런데, 반도체기억장치의 기억용량의 더욱 더 증대됨에 따라 부분수가 증가하게 되며 주데이터선상의 배선용량 또는 부하용량의 증대와 더불어 제2도의 부분감지증폭기(87-1)내에서 드레인측이 주데 이터선쌍에 접속되어 있는 N챈널의 스위칭용 트랜지스터(103, 104)의 드레인접합용량의 총합이 부분수가 증가하기 때문에 증대되게 된다. 따라서, 선택된 부분감지증폭기(87-1)가 구동시켜야만 하는 부하 용량이 증대되게 된다. 그 때문에, 주데이터선쌍신호변화속도가 늦어지게 되어 데이터의 독출속도가 늦어지게 되는 결점이 있다.However, as the memory capacity of the semiconductor memory device is further increased, the number of parts increases and the main data line In addition to the increase in wiring capacity or load capacity, the pair of main data lines in the partial sense amplifier 87-1 of FIG. The total sum of the drain junction capacities of the switching transistors 103 and 104 of the N channel connected to is increased because the number of parts increases. Thus, the load capacity that the selected partial sense amplifier 87-1 must drive is increased. Therefore, main data line pair There is a drawback that the speed of signal change is slowed down and thus the data read speed is slowed down.

그 대책으로서, 부분감지증폭기(87-1)내의 구동용 트랜지스터(101, 102)의 트랜지스터사이즈를 크게 하는 것을 생각할 수 있지만, 그에 따라 스위칭용 트랜지스터(103, 104)의 트랜지스터사이즈도 크게 할 필요가 있게 되어 드레인접합용량이 더욱 더 증가하게 된다. 따라서, 부분감지증폭기(87-1)내의 트랜지스터사이즈를 크게 하더라도 데이터의 독출속도를 빠르게 할 수 없게 된다. 그뿐만 아니라 트랜지스터사이즈가 커지게 되면 부분 감지증폭기(87-1)의 소비전력이 증가하게 되는 문제도 발생하게 된다. 상기한 바와 같이 종래의 스태틱형 반도체기억장치에서는 기억용량이 증대됨에 따라 데이터의 독출속도가 늦어지게 되는 결점이 있었다.As a countermeasure, it is conceivable to increase the transistor size of the driving transistors 101 and 102 in the partial sense amplifier 87-1, but it is necessary to increase the transistor size of the switching transistors 103 and 104 accordingly. The drain junction capacity is further increased. Therefore, even if the transistor size in the partial sense amplifier 87-1 is increased, the data read speed cannot be increased. In addition, as the transistor size increases, a problem arises in that the power consumption of the partial sense amplifier 87-1 increases. As described above, in the conventional static type semiconductor memory device, there is a drawback that the data reading speed is slowed down as the storage capacity is increased.

[고안의 목적][Purpose of designation]

이에 본 고안은 상기와 같은 사정을 감안해서 고안된 것으로, 대용량화 되더라도 데이터의 독출속도를 고속 화시킬 수 있도록 된 스태틱형반도체기억장치를 제공하고자 함에 그 목적이 있다.The present invention has been devised in view of the above circumstances, and its object is to provide a static type semiconductor memory device capable of speeding up the reading speed of data even if the capacity is increased.

[고안의 구성][Composition of design]

상기한 목적을 달성하기 위한 본 고안의 스태틱형 반도체기억장치는 복수개의 부분으로 각각 분할된 복수개의 블럭으로 분할되고, 각 부분에서 메모리셀들이 매트릭스형태로 배열되는 복수개의 메모리셀어레이와, 상기 복수개의 부분중 하나의 부분에 대응해서 각각 설치되어 상기 대응하는 부분에 속하는 선택된 복수개의 메모리 셀중 선택된 하나의 메모리셀로부터 데이들를 독출할때 상기 독출데이터를 공급받아 상기 독출데이터를 첫번재 증폭해 주는 복수개의 부분감지증폭수단, 상기 복수개의 블럭중 하나의 블럭에 대응해서 각가 설치되어 상기 대응하는 블럭에 속하는 상기 대응하는 부분감지증폭수단으로부터 출력되는 첫번째 증폭된 데이터를 2번째 증폭해 주는 복수개의 블럭감지증폭수단 및, 상기 블럭감지증폭수단으로부터 출력되는 2번째 증폭된 데이터를 랫치시켜 주는 랫치수단을 구비한 스태틱형 반도체기억장치에 있어터, 상기 부분감지증폭수단이 감지특성은 상기 블럭감지증폭수단의 감지특성보다 높고, 상기 블럭감지증폭수단의 전류구동특성은 상기 부분감지 증폭수단의 전류구동특성보다 큰 것을 특징으로 한다.The static semiconductor memory device of the present invention for achieving the above object is divided into a plurality of blocks each divided into a plurality of parts, a plurality of memory cell array in which memory cells are arranged in a matrix form, and the plurality of A plurality of parts respectively installed corresponding to one of the plurality of parts to receive the read data and amplify the read data first when reading the data from the selected one of the selected plurality of memory cells belonging to the corresponding part; A plurality of block sensing amplification means, each block corresponding to one of the plurality of blocks, the second amplifying the first amplified data output from the corresponding partial sensing amplification means belonging to the corresponding block; An amplifying means and 2 output from the block detecting amplifying means. In a static type semiconductor memory device having a latch means for latching amplified data, the sensing characteristic of the partial sensing amplification means is higher than that of the block sensing amplification means, and the current driving of the block sensing amplifying means is performed. The characteristic is larger than the current driving characteristic of the partial sense amplifying means.

[작용][Action]

상기와 같은 구성된 본 고안의 스태틱형 반도체기억장치에서는, 각 부분마다 설치된 부분감지중폭기의 출력을 블럭단위로 설치된 블럭감지증폭기에 입력시키고, 이 블럭감지증폭기의 출력을 모든 블럭에 걸쳐 배선된 주데이터선에 공급하며, 이 주데이터선의 데이터를 랫치회로로 랫치시키도록 되어 있다.In the static type semiconductor memory device of the present invention configured as described above, the output of the partial sensing intermediate amplifier installed in each part is input to the block sensing amplifier provided in units of blocks, and the output of the block sensing amplifier is wired over all blocks. The data line is supplied to latch the data of this main data line with a latch circuit.

이와 같이 2단째의 블럭감지증폭기를 분산배치해 놓음으로써 1단째의 부분감지증폭기의 출력용량을 저감시키고, 게다가 주데이터선에 접속된 블럭감지증폭기의 갯수를 적게 함으로써 주데이터선의 총용량을 저감시켜 데이터의 독출속도를 고속화할 수 있게 된다.By distributing the block detection amplifiers of the second stage as described above, the output capacity of the first stage partial sensing amplifier is reduced, and the number of block detection amplifiers connected to the main data lines is reduced, thereby reducing the total capacity of the main data lines. This can speed up the reading speed of

[실시예]EXAMPLE

이하, 예시도면을 참조해서 본 고안의 각 실시예를 상세히 설명하면 제3도는 본 고안의 1실시예에 따른 반도체기억장치의 구성을 나타낸것으로, 도면에서 행디코더 (10)는 입력행어드레스에 따라 복수개의 워드선중에서 선택된 주워드선(WL)을 활성화시켜 주는 것이다. 여기서, 선택된 주워드선(WL)은 활성화상태인 로우레벨로 된다. 한편, 입력열어드렌스에 따라 콘트롤러(11)는 열선택신호(CD)와 부분선택신호(SS) 및 블럭선택신호(BS)를 연선택게이트회로(26-iii)와 부분선택회로(24-ii) 및 블럭선택회로(28-i)로 각각 전송해 주게 된다.Hereinafter, each embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the exemplary drawings. FIG. 3 shows a configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. In the drawing, the row decoder 10 according to an input row address is shown. The main word line WL selected from among the plurality of word lines is activated. Here, the selected main word line WL is at a low level in an active state. On the other hand, according to the input column advice, the controller 11 connects the column selection signal CD, the partial selection signal SS, and the block selection signal BS to the selection gate circuit 26-iii and the partial selection circuit 24-. ii) and block selection circuits 28-i, respectively.

또, 메모리셀어레이(20)는 주워드선(WL)이 연장방향에 따라 복수개의 블럭으로 분할되어 있고, 이 각각의 블럭은 주워드선(WL)외 연장방향에 따라 복수개의 부분(21-ii)으로 분할되어 있다. 각 부분(21-ii)내에서는 스태틱형 메모리셀이 2차원의 어레이형상으로 배치되어 있고, 각 부분내의 각 메모리셀, 예컨대 부분(21-11)내의 메모리셀(22-111)은 각 부분마다 분할된 부분워드선(WLLL)과 비트선쌍에 접속되어 있다. 또, 부분(21-11)내의 각 비트선은 비트선부하회로(23-11)에 접속되어 있다.In the memory cell array 20, the main word line WL is divided into a plurality of blocks in the extending direction, and each of the blocks has a plurality of portions 21- along the extending direction outside the main word line WL. ii). In each part 21-ii, the static memory cells are arranged in a two-dimensional array shape, and each memory cell in each part, for example, the memory cells 22-111 in the part 21-11, is for each part. Divided partial word line (WLLL) and bit line pair Is connected to. Moreover, each bit line in the part 21-11 Is connected to the bit line load circuit 23-11.

각 부분의 부분게이트로회로, 예컨대 부분선택게이트회로(25-11)의 입력단에는 주워드선(WL)의 신호와 부분선택회로(24-11)로부터 출력되는 활성화로우레벨인 부분선택신호(SD-11)가 공급되는데, 부분선택신호(SD-11)는 대응하는 부분이 선택될 때에만 신호(SS)에 따라 활성화되고, 이 부분선택신호(SD-11)의 활성화에 따라 부분선택게이트회로(25-11)의 출력과 선택된 부분에 속하는 부분워드선(wL11)이 활성화되게 된다.The partial select signal SD, which is an active low level output from the signal of the main word line WL and the partial select circuit 24-11, at the input terminal of the partial gate circuit of each portion, for example, the partial select gate circuit 25-11. -11) is supplied, and the partial selection signal SD-11 is activated according to the signal SS only when the corresponding portion is selected, and the partial selection gate circuit is activated in accordance with the activation of the partial selection signal SD-11. The output of (25-11) and the partial word line wL11 belonging to the selected portion are activated.

그리고, 선택된 부분내의 부부워드선(WL11)에 접속되어 있는 전 메모리셀(22-11i)로 부터 데이터가 독출되고, 그 독출신호가 대응하는 비트선쌍으로 전송되게 된다.Then, data is read from all the memory cells 22-11i connected to the couple word line WL11 in the selected portion, and the bit line pair corresponding to the read signal is read. Will be sent to.

열선택게이트회로(CSG ; 26-11li)의 활성화는 콘트롤러(11)로부터의 연선택신호(CD)에 따라 도통제어되고, 동일 부분에 속하는 비트선쌍의 신호는 열선택신호(CD)에 기초해서 도통제어되는 열선택 게이트회로(26-11i)에 의해 1비트분만이 선택되어 각 부분에 대응해서 설치되어 있는 부분데이터선쌍으로 전송되게 된다.Activation of the column select gate circuit (CSG) 26-11li is conducted and controlled in accordance with the soft select signal (CD) from the controller 11, and bit line pairs belonging to the same portion. The signal of? Is selected only by one bit by the column select gate circuit 26-11i, which is electrically controlled based on the column select signal CD, and the pair of partial data lines provided corresponding to each part. Will be sent to.

이 부분데이터선쌍의 신호가 공급되는 부분감지증폭기(27-11)는 부분선택회로(2B-11)로부터 출력되는 부분감지증폭기활성화신호(SSA11)에 따라 선택적으로 활성화되게 된다. 따라서, 부분데이터선쌍의 신호는 부분감지증폭기 (27-11)에 의해 증폭된 후 각 블럭마다 설치된 블럭데이터선쌍으로 전송되게 된다.This partial data line pair The partial sense amplifier 27-11 to which the signal is supplied is selectively activated according to the partial sense amplifier activation signal SSA11 output from the partial selection circuit 2B-11. Thus, partial data line pairs The signal of is amplified by the partial sense amplifier 27-11 and then transmitted to the block data line pair provided for each block.

예컨대, 블럭데이터선쌍의 신호는 블럭선택신호(BS)에 따라 블럭선택회로(28-1)로부터 출력되는 블럭감지증폭기활성신호(BSA1)에 의해 선택적으로 활성화하는 블럭감지증폭기(27-11)에 입력된다. 이 블럭감지증폭기(29-1)는 상기 부분감지증폭기(27-11)에 의해 증폭된 신호를 더 증폭해 줌으로써 상보적인 데이터를 출력해주는 것으로, 이 블럭감지증폭기(29-1)의 출력데이터는 전 블럭에 걸쳐 공통으로 배선된 주데이터선쌍으로 전송되게 된다. 또 주데이터선상의 데이터는 메모리칩내에서 출력버퍼(도시되지 않음)부근에 배치된 랫치회로(30)에 의해 랫치되어 독출데이터(DO)로서 출력버퍼로 전송되게 된다.For example, block data line pairs Is input to the block detection amplifier 27-11 which is selectively activated by the block detection amplifier activation signal BSA1 output from the block selection circuit 28-1 according to the block selection signal BS. The block sensing amplifier 29-1 outputs complementary data by further amplifying the signal amplified by the partial sensing amplifier 27-11. The output data of the block sensing amplifier 29-1 Primary data line pairs commonly wired across all blocks Will be sent to. On the main data line Data is latched by the latch circuit 30 disposed near the output buffer (not shown) in the memory chip and transferred to the output buffer as read data DO.

제4도는 제3도에 도시된 반도체기억장치의 각 부분을 구체적을 나타낸 회도로서, 부분선택게이트회로(25-11)는 행디코더(10)로부터 주워드선(WL)으로 전송된 신호와 상기 부분선택회로(24-11)로부터 출력되는 부분 선택회로(SD-11)가 입력되는 NOR게이트로 구성되어 있다. 메로리셀(22-111)은 종래의 반도체기억장치와 마찬가지로 플립플롭(43)과 각각 전송게이트로 가능하는 MOS트랜지스터(44, 45)를 갖추고 있는바, 그중 플립 플롭(43)은 고저항과 구동용 MOS트랜지스터로 이루어진 2개의 인버터(41, 42)의 입출력단자 상호간을 교차접속시켜 구성한다. 또 상기 MOS트랜지스터 (44)는 인버터(41)의 출력접속점과 비트선(BL-111)사이에, 접속되고, 상기 MOS트랜지스터(45)는 인버터42)의 출력접속점과 비트선사이에 접속되며, 2개의 MOS트랜지스터(44, 45)의 게이트는 그 부분내의 부분워드선(WL11)에 각각 접속되어 있다.FIG. 4 is a circuit diagram showing each part of the semiconductor memory device shown in FIG. 3 in detail. The partial selection gate circuit 25-11 is a signal transmitted from the row decoder 10 to the main word line WL and The partial selection circuit SD-11 outputted from the partial selection circuit 24-11 is configured as a NOR gate to which the partial selection circuit SD-11 is input. As in the conventional semiconductor memory device, the meriscell 22-111 has a flip-flop 43 and MOS transistors 44 and 45 which can be formed as transfer gates, respectively, of which the flip-flop 43 has high resistance and drive. The input / output terminals of two inverters 41 and 42 made of MOS transistors for interconnection are connected to each other. The MOS transistor 44 is connected between the output connection point of the inverter 41 and the bit line BL-111, and the MOS transistor 45 is connected to the output connection point and the bit line of the inverter 42. The gates of the two MOS transistors 44 and 45 are connected to the partial word lines WL11 in the portions thereof.

상기 비트선쌍과 부분데이터선쌍사이에 접속된 열선택게이트회로(26-11)는 게이트에 열선택신호(CD)가 공급되는 2개의 N챈널 NOS트랜지스터(46, 47)로 구성되어 있다.The pair of bit lines And partial data line pairs The column select gate circuits 26-11 connected therebetween are composed of two N-channel NOS transistors 46 and 47 supplied with a column select signal CD to the gate.

또, 전류미러병렬형 감지증폭기라 일컬어지는 부분감지증폭기(27-11)는 구동부(27-11A)와 부하부(27-11B)로 분할되는 바, 그중 구동부(27-11A)는 부분데이터선쌍각각의 신호가 게이트에 공급되는 N챈널의 구동용 트랜지스터(51, 52)와 부분선택회로(24-11)로부터 출력되는 부분감지증폭기활성화신호(SSA11)가 게이트에 공급되는 N챈널의 스위칭용 트랜지스터(53, 54) 및 N챈널의 전류전한용 트랜지스터 (55)로 이루어진 2개의 구동회로(56A, 56B)를 갖추고 있다. 여기서, 구동부(27-11A)를 후술한 구동부(29-1A)를 갖추고 있다. 여기서 구동부(27-11A)는 후술한 구동부(29-1A)와 동일한 구성으로 되어 있다.In addition, the partial sensing amplifier 27-11, which is called a current mirror parallel sensing amplifier, is divided into a driving unit 27-11A and a load unit 27-11B, of which the driving unit 27-11A is a partial data line pair. Switching transistors for the N channel supplied with the partial sensing amplifier activation signal SSA11 outputted from the driving transistors 51 and 52 and the partial selection circuit 24-11 of the N channel supplied with the respective signals to the gate. And two driving circuits 56A and 56B which are composed of (53, 54) and an N-channel current-carrying transistor 55. Here, the drive part 27-11A is provided with the drive part 29-1A mentioned later. Here, the drive part 27-11A has the same structure as the drive part 29-1A mentioned later.

부하부(17-11B)는 각각 2개의 P챈널 MOS트랜지스터(57, 58)로 이루어진 2개의 전류미러형 부하회로(59A, 59B)를 갖추고 있다. 여기서, 각 부분감지증포기기(27-11)에서는 구동부(27-11A)만이 각 부분데이터선쌍에 대응해서 설치되어 있고, 부하부(27-11B)에 대해서는 모든 부분감지증폭기에 공통으로 1개만이 설치되어 있다.The load section 17-11B has two current mirror type load circuits 59A and 59B each consisting of two P-channel MOS transistors 57 and 58. Here, in each of the partial sensing amplifiers 27-11, only the driving section 27-11A is provided corresponding to each partial data line pair, and for the load section 27-11B, only one common to all the partial sensing amplifiers is provided. It is installed.

이러한 형식의 부분감지층폭기(27-11)를 사용하는 경우에는, 블럭데이터선쌍외에 기준용 블럭데이터선쌍이 설치되어 있다. 그리고 부분감지증포기기(27-11)의 구동부(27-11A)내의 구동회로(56A)측에 있는 구동용 트랜지스터 (51)은 드레인은 본래의 블럭데이터션에 접속되고, 구동용 트랜지스터(52)의 드레인 기준용 블럭데이터선에 접속되는 반면에, 구동회로(56B)측에 있는 구동용 트랜지스터(51)의 드레인은 기준용 블럭데이터션(BDLR-1)에 접속되고, 구동용 트랜지스터(52)의 드레인은 본래의 블럭데이터션(BDL-1)에 각각 접속되어 있다.In the case of using the partial sense layer attenuation 27-11 of this type, a block data line pair Block data line pair for reference Is installed. The driving transistor 51 on the side of the driving circuit 56A in the driving unit 27-11A of the partial sensing amplifier 27-11 has an original block data. Connected to the drain data block data line of the driving transistor 52 On the other hand, the drain of the driving transistor 51 on the driving circuit 56B side is connected to the reference block data block BDLR-1, and the drain of the driving transistor 52 is the original block data. It is connected to the option BDL-1, respectively.

또 전류미러병렬형 감지증폭기라 일컬어지는 블럭감지증폭기(29-1)도 구동부(29-1A)와 부하부(29-1B)로 분할되는 바, 그중 구동부(29-1A는 블럭데이터선쌍각각의 신호가 게이트에 공급되는 N챈널의 구동용 트랜지스터(61, 62)와 상기 블럭선택회로(28-1)로부터 출력되는 블럭감지증포기활성화신호(BSA1)가 게이트에 공급되는 N챈널된 스위칭용 트랜지스터(63, 64) 및 N챈널의 전류전한용 트랜지스터 (65)로 이루어진 2개의 구동회로(66A, 66B)를 갖추고 있다. 여기서, 구동부(29-1A)는 상술한 바 있는 구동부(27-11A)와 동일하게 구성되어 있다.The block sensing amplifier 29-1, also referred to as a current mirror parallel sensing amplifier, is also divided into a driving unit 29-1A and a load unit 29-1B, of which the driving unit 29-1A is a block data line pair. N-channel switching in which the N-channel driving transistors 61 and 62 and the block detection amplifier activation signal BSA1 output from the block selection circuit 28-1 to which the respective signals are supplied to the gate are supplied to the gate, respectively. Two driving circuits 66A and 66B are formed of the transistors 63 and 64 and the N-channel current-carrying transistor 65. Here, the drive part 29-1A is comprised similarly to the drive part 27-11A mentioned above.

상술한 부하부(27-11B)차 마찬가지로 부하부(29-1B)는 각각 2개의 P챈널 MOS트랜지스터(67, 68)로 이루 어진 2개의 전류미러형 부하회로(69A, 69B)를 갖추고 있다. 여기서, 각 블럭감지증폭기(29-1)에서는 구동부(29-1A)만이 각 블럭데이터선쌍에 대응해서 설치되어 있고, 부하부(29-1B)에 대해서는 모든 블럭감지증폭기에 공통으로 1개만이 설치되어 있다.Similarly to the difference between the load portions 27-11B, the load portion 29-1B includes two current mirror type load circuits 69A and 69B each consisting of two P-channel MOS transistors 67 and 68, respectively. Here, in each block detection amplifier 29-1, only the drive unit 29-1A is provided corresponding to each block data line pair, and only one unit is installed in common for all the block detection amplifiers for the load unit 29-1B. It is.

이러한 형식의 블럭감지증폭기를 사용하는 경우에는. 주데이터선쌍외에 기준용 주데이터서쌍이 설치되어 있다. 그리고, 블럭감지증폭기 (29-1)의 구동부(29-1A)내외 구동회로(66A)측에 있는 스위칭용 트랜지스터(63)외 드레인은 본래의 주데이터선쌍주데이터선에 접속되고, 스위칭용 트랜지스터(64)의 드레인은 기준용에 접속되는 반면에, 구동회로(66B)측에 있는 스위칭용 트랜지스터(63)의 드레인은 기준용 주데이터선(MDLR)에 접속되고, 스위치용 트랜지스터 (64)의 드레인은 본fo의 주데이터선(MDL)에 접속되어 있다.When using this type of block detection amplifier. Primary data line pair In addition, main data pair for reference Is installed. The drain of the switching transistor 63 on the inside and outside of the driving unit 29-1A and the driving circuit 66A of the block sensing amplifier 29-1 is an original main data line pair main data line. Is connected to the drain of the switching transistor 64 for reference. While the drain of the switching transistor 63 on the driving circuit 66B side is connected to the reference main data line MDLR, the drain of the switching transistor 64 is the main data line of the present fo. It is connected to (MDL).

상기 랫치회로(30)는 2개의 NAND게이트(71, 72)로 이루어져 주데이터선쌍의 데이터가 입력되는 플립플롭으로 구성되어 있다.The latch circuit 30 is composed of two NAND gates 71 and 72 and a main data line pair. It consists of flip-flops into which data is input.

다음에는 상기한 바와 같이 구싱된 반도체기억장치의 동작을 제5a도 내지 제5h도에 나타낸 타이밍차트를 이용해서 설명한다.Next, the operation of the semiconductor memory device that is subjected to the above described operation will be described using the timing chart shown in FIGS. 5A to 5H.

먼저, 제5a도에 나타난 바와 같이 어드레스가 변하되어 새로운 어드레스가 입력되면, 행어드레스가 행디코더(10)에 공급될 때 행디코더(10)의 출력에 의해 제5b도에 나타낸 바와 같이 1개의 워드선(WL)이 활성화("O"레벨)되게 되고, 이때 하나의 블럭에 속하는 부분, 예컨대 블럭(1)의 부분(21-11)을 선택하기 위해 콘크롤러(11)는 수신된 열어드레스신호에 응답해서 부분선택신호(SS)를 부분선택회로(24-11)가 제5c도에 나 타낸 바와 같기 부분선택신호(SD-11)를 활성화("0"레벨)시키게 된다. 이 부분선택신호(SD-11)와 워드선(WL)의 신호가 부분선택게이트회로(25-11)에 입력되게 되는바, 이 부분선택게이트회로(25-11)의 출력에 따라 부분워드선(WL11)이 제5d도에 나타낸 바와 같이 활성화("1"레벨)되게 된다. 여기서, 활성화되는 부분워드선(WL11)은 하나의 블럭중 하나의 부분(21-11)내의 것만이다.First, when the address is changed as shown in FIG. 5A and a new address is inputted, one word as shown in FIG. 5B by the output of the row decoder 10 when the row address is supplied to the row decoder 10. The line WL becomes active ("O" level), where the crawler 11 receives the received open-dress signal to select a portion belonging to one block, for example, the portion 21-11 of the block 1. In response to the partial selection signal SS, the partial selection circuit 24-11 activates the partial selection signal SD-11 as shown in FIG. 5C ("0" level). The signal of the partial selection signal SD-11 and the word line WL is inputted to the partial selection gate circuit 25-11. The partial word line is output in accordance with the output of the partial selection gate circuit 25-11. (WL11) is activated ("1" level) as shown in Fig. 5d. Here, the partial word line WL11 to be activated is only in one portion 21-11 of one block.

상기 부분워드선(WL11)이 활성화되면, 그 부분(21-11)내의 부분워드선(WL11)에 접속된 메모리셀(22- lli)이 동시에 선택되어 이들 메모리셀(22-11i)로부터 병렬로 데이터가 독출되게 된다. 그러므로, 메모리셀(22-11i)로부터의 데이터독출시에는 제5e도에 나타낸 바와 같이 각 비트선쌍의 전위에 미묘한 차이가 생기게 된다.When the partial word line WL11 is activated, the memory cells 22-lli connected to the partial word line WL11 in the portion 21-11 are simultaneously selected and run in parallel from these memory cells 22-11i. The data will be read. Therefore, when reading data from the memory cells 22-11i, each bit line pair as shown in Fig. 5E. There is a subtle difference in the potential of.

또, 이때의 입력열어드레스에 따라 콘크롤러(11)로부터 열선택게이트회로(CSC: 26-11i)로 열선택신호(CD)가 출력되어 열선택게이트회(26-11i)가 활성화되게 되고, 그에 따라 열선택게이트회로(25-11i)에 접속된 비트선쌍의 신호는 제5f도에 나타낸 바와 같이 부분데이터선쌍으로 전송되게 된다. 더욱이, 상기 부분선택회로(24-11)의 부터의 부분감지증폭기활성화신호(SSA11)에 의해 하나의 부분감지증폭기(27-11)가 활성화되어 상기 부분데이터선쌍의 신호를 증폭하게 되고, 이와 같이 증폭된 신호는 제5g도에 나타낸 바와 같이 그 블럭에 설치되어 있는 블럭데이터선쌍으로 전송되게 된다. 더욱이, 이때의 입력열어드레스에 따라 콘트롤러(11)로부터 출력되는 블럭 선택신호(BS)에 따라 블럭선택회로(28-1)가 활성화되어 이 블럭선택회로(28-1)로부터 블럭감지증폭기활성화신호(BSA1)가 출력되고, 이 블럭감지증폭기활성화신호(BSA1)에 따라 블럭감지증폭기(29-1)가 활성화되게 된다. 그 결과, 블럭데이터선쌍의 신호가 이 블럭감지증폭기(29-1)에 의해 증폭되어 제5h도에 나타낸 바와 같이 주데이터선쌍으로 전송되게 된다. 그후, 주데이터선쌍의 데이터는 랫치회로(30)에 의해 랫치되고, 그 랫치데이터가 독출데이터(DO)로서 출력되게 되는 것이다.In addition, according to the input column address at this time, the column select signal CD is output from the controller 11 to the column select gate circuit (CSC) 26-11i to activate the column select gate circuit 26-11i. Accordingly, bit line pairs connected to the column select gate circuits 25-11i. As shown in Fig. 5f, the signal of Will be sent to. Furthermore, one partial sense amplifier 27-11 is activated by the partial sense amplifier activation signal SSA11 from the partial selection circuit 24-11 to perform the partial data line pairing. The amplified signal is amplified by the block data line pair provided in the block as shown in FIG. Will be sent to. Further, the block selection circuit 28-1 is activated in accordance with the block selection signal BS output from the controller 11 in accordance with the input string address at this time, and thus the block detection amplifier activation signal from the block selection circuit 28-1. The BSA1 is outputted, and the block sensing amplifier 29-1 is activated in accordance with the block sensing amplifier activation signal BSA1. As a result, block data line pairs Signal is amplified by the block detection amplifier 29-1, and as shown in FIG. Will be sent to. Then, the main data line pair Is latched by the latch circuit 30, and the latch data is output as the read data DO.

이와 같이 상기 실시예의 반도체기억장치에서는, 각 부분마다 설치된 제1감지증폭기로서의 부분감지증폭기(37-11)외 출력을 블럭단위로 설치된 제2감지증폭기로서의 블럭감지증폭기(29-1)에 입력시키고, 블럭감지 증폭기(29-1)의 출력을 전 블럭에 걸쳐 배선된 주데이터선쌍에 공급하며, 이 주데이터선쌍의 데이터를 랫치회로(30)로 랫치시키도록 된 것이다. 상기 실시예에서는 부분(21-11)을 참조해 서 설명했지만, 다른 블럭의 부분뿐만 아니라 동일한 블럭의 다른 부분에도 적용가능하다. 더욱이, 상기 실시 예에서는 메모리셀어레이가 n부분으로 분할된 각각의 n블럭으로 분할되어 있으나, 물론 분할되는 블럭의 수는 분할되는 부분의 수와 달라도 된다.As described above, in the semiconductor memory device of the above embodiment, the output of the partial sense amplifier 37-11 as the first sense amplifier provided in each section is input to the block sense amplifier 29-1 as the second sense amplifier provided in units of blocks. Main data line pairs wired to the output of the block sense amplifier 29-1 over all blocks To the main data line pair It is to latch the data of the latch circuit 30. Although the above embodiment has been described with reference to portions 21-11, it is applicable to other portions of the same block as well as portions of other blocks. Further, in the above embodiment, the memory cell array is divided into n blocks each divided into n parts, but the number of blocks to be divided may be different from the number of parts to be divided.

여기서, 각 부분감지증폭기(27-ii)의 출력단자는 블럭데이터선쌍에 의해 동일 블럭에 속하는 어떤 다른 부분감지증폭기들의 출력단자와 공통접속되어 있기 때문에, 블럭데이터선쌍에 접속되어 있는 각 부분감지증폭기(27-ii)내의 상기 트랜지스터(51, 52)의 수는 종래보다도 적어지게 된다. 따라서, 블럭데이터선쌍에 접속되어 있는 접속용량의 총합은 충분히 작아지게 된다. 게다가, 블럭데이터선쌍그 자체의 배선길이도 주데이터선쌍에 비해 짧아지기 때문에 배선용량도 작아지게 된다.Here, the output terminal of each partial sense amplifier 27-ii is a block data line pair. Block data line pairs because they are commonly connected to the output terminals of some other sense amplifiers belonging to the same block. The number of the transistors 51 and 52 in each of the partial sense amplifiers 27-ii connected to is smaller than before. Thus, block data line pairs The total of the connection capacities connected to is sufficiently small. In addition, block data line pairs Wiring length itself Main data line pair Since it is shorter than that, the wiring capacity is also reduced.

따라서, 각 부분감지증폭기(27-ii)의 출력부하용량은 종래의 반도체 기억장치의 부분감지증폭기의 출력부하 용량에 비해 현저히 작아지게 되므로 블턱데이터선쌍의 고속으로 변화시킬 수 있게된다. 각 블럭데이터선쌍신호를 증폭해 추는 블럭감지증폭기(29i)의 부하용량에 대해서는, 종래의 반도체 기억장치의 주감지증포기의 부하용량에 비하면 크게 되어 있다. 그러나, 블럭감지증폭기(29-i)의 부하용량은 주데이터선쌍의 배선용량과, 주데이터선쌍에 접속된 블럭감지증폭기(29-i)내의 상기 트랜지스터(63, 64)의 드레인접합용량의 총합으로 되게 된다. 그런데, 이 용량은 종래의 반도체기억장치의 부분감지증폭기의 용량에 비하면 감지증폭기의 갯수가 적어진 만큼 작아지게 된다.Therefore, the output load capacity of each of the partial sense amplifiers 27-ii becomes significantly smaller than the output load capacity of the partial sense amplifiers of the conventional semiconductor memory device. It can be changed at high speed. Each block data line pair The load capacity of the block detection amplifier 29i that amplifies the signal is larger than that of the main detection amplifier of the conventional semiconductor memory device. However, the load capacity of the block sensing amplifier 29-i is the main data line pair. Wiring capacity and main data line pair The sum of the drain junction capacities of the transistors 63 and 64 in the block sense amplifier 29-i connected to the sum is obtained. However, this capacitance becomes smaller as the number of sensing amplifiers is smaller than that of the partial sensing amplifier of the conventional semiconductor memory device.

본 실시예의 스태틱형 반도체기억장치에서는 제1단째의 감지증폭기의 부분감지증폭기(27-ii)와 2단째의 감지증폭기인 블럭감지증폭기(29-i)각각의 출력부하용량의 배분이 한쪽으로 치우치지 않도록 할 수 있므므로, 그만큼 각 데이터선쌍에서의 신호지연시간의 총합을 종래의 반도체기억장치에 비해 작게 할 수 있게 된다. 그 결과, 데이터의 고속독출이 실현된 수 있게 되는 것이다.In the static semiconductor memory device of this embodiment, the output load capacity of each of the partial sense amplifiers 27-ii of the sense amplifier of the first stage and the block sense amplifiers 29-i which are the sense amplifiers of the second stage are shifted to one side. Since it is possible to prevent them from being hit, the sum of the signal delay times in each pair of data lines can be made smaller than that of the conventional semiconductor memory device. As a result, high-speed reading of data can be realized.

또, 본 실시예에서는 부분감지증폭기(27-ii)의 출력부하가 작기 때문에 부분감지증폭기(27-ii)에 큰 전류구 동능력을 갖게할 필요가 없게 된다. 그 때문에, 부분감지증폭기(27-ii)로서 제4도에 나타내어진 바와 같이 구동용 트랜지스터(51, 52)를 출력측에 배치해서 고감도특성을 갖도록 설계할 수 있게 된다. 즉, 부분감지증폭기(27-ii)는 감도우선의 설계로 할 수 있게된다. 그에 반해 제2도에 나타내어진 종래의 반도체기억장치의 부분감지증폭기에서는 스위치용 트랜지스터(103, 104)를 출력측에 배치해서 큰 전류구동능력을 갖도록 설계할 필요가 있었다.In addition, in this embodiment, since the output load of the partial sensing amplifier 27-ii is small, it is not necessary to give the partial sensing amplifier 27-ii a large current driving capability. Therefore, as the partial sensing amplifier 27-ii, as shown in FIG. 4, the driving transistors 51 and 52 can be arranged on the output side to be designed to have high sensitivity. That is, the partial sensing amplifier 27-ii can be designed with sensitivity priority. In contrast, in the conventional partial sensing amplifier of the semiconductor memory device shown in FIG. 2, it is necessary to arrange the switching transistors 103 and 104 on the output side to have a large current driving capability.

더욱이, 블럭감지증폭기(29-i)에 대해서는, 블럭데이터선쌍에서의 신호의 진폭이 어느정도 크게 되어 있으므로 비교적 큰 부하용량을 충분히 구동시킬 수 있기 때문에, 이 블럭감지증폭기(29-i)로서 제4도에 나타낸 바와 같이 스위칭용 트랜지스터(63, 64)를 출력측에 배치해서 전류구동능력이 큰 특성을 갖도록 설계할 수 있게된다. 즉, 블럭감지증폭기(29-i)는 구동력우선의 설계로 할 수 있게 된다.Further, for the block detection amplifier 29-i, a block data line pair Since the amplitude of the signal in the circuit is somewhat large, the relatively large load capacity can be sufficiently driven. As the block sensing amplifier 29-i, as shown in FIG. By arranging, the current driving capability can be designed to have a large characteristic. In other words, the block detection amplifier 29-i can be designed with a driving force priority.

상기한 바와 같이 본 고안의 반도체기억장치에서는 종래의 반도체기억장치와 마찬가지로 감지증폭기를 2단 구성으로 한 것이다. 그렇지만, 이것을 3단구성으로 해서 주데이터선쌍의 데이터를 감지증폭기에 의해 더욱 더 증폭시키는 것을 생각할 수 있다. 그러나, 이러한 방식에서는 감지증폭기로 흐르는 총전류가 증가하거나, 또는 총전류가 일정한 조건하에서는 감지증폭기를 구성하는 트랜지스터의 사이즈를 작게 하지 않으면 안되는 바, 메모리IC에서는 총전류가 제한되도록 되어 있기 때문에 감지증폭기를 3단구성으로 하기 위해서는 트랜지스터사이즈의 축소화밖에 없다. 따라서, 감지증폭기를 2단구성으로 해서 각각의 출력용량을 적정하게 배분하는 본 고안의 반도체기억장치쪽에 고속으로 되게 된다. 또, 통상적으로 전류미러병렬형 감지증폭기 형식의 감지증폭기의 직류적인 증폭률은 15정도이다. 그 때문에, 데이터독출시의 부분데이터선쌍 상호간의 전위차가 0.1v정도이더라도 주데이터선쌍상호간의 전위차는 CMOS레벨로서는 충분히 큰 것으로 할 수 있게 된다.As described above, in the semiconductor memory device of the present invention, as in the conventional semiconductor memory device, the sensing amplifier has a two-stage configuration. However, let this be a three-stage configuration, and the main data line pair It is conceivable to further amplify the data by the sense amplifier. However, in such a scheme, the total current flowing to the sense amplifier increases or the transistors constituting the sense amplifier must be made smaller under the condition that the total current is constant. Since the total current is limited in the memory IC, the sense amplifier is limited. In order to achieve a three-stage configuration, only the transistor size is reduced. Therefore, the sensing amplifier has a two-stage configuration, which is at a high speed toward the semiconductor memory device of the present invention which appropriately distributes each output capacity. In general, the direct current amplification factor of the sense amplifier of the current mirror parallel sense amplifier type is about 15. Therefore, partial data line pair at the time of data reading Even if the potential difference between them is about 0.1v, the main data line pair The potential difference between them can be made large enough as a CMOS level.

한편, 본 고안을 상기 실시예에 한정되지 않고, 그 요지를 이탈하지 않는 범위내에서 여러가지로 변형해서 실시할 수가 있다. 예컨대, 상기 실시예의 반도체기억장치에서는 동일 부분에 속하는 비트선쌍의 신호중에서 1비트분만을 열선택게이트로회로(26-iii)에 의해 선택한 다음 최종적으로 출력되는 데이터가 1비트인 경우에 대해 설명했지만, 이것은 동일 부분에 속하는 비트선쌍의 신호중에서 m비트 분을 m개의 열선택게이트회로(26-iii)에 의해 선택한 다음 최종적으로 m비트의 데이터를 병렬로 출력하도록 구성해도 좋다. 이 경우에는 하나의 부분에 m쌍의 부분데이터선이 설치되게 되므로, 이들 각 부분데이터선쌍에 대해 각각 부분감지 증폭기(27-ii)와 블럭데이터선쌍블럭감지증폭기(29-i), 주데이터선쌍및 랫치회로(30)등를 설치할 필요가 있게 된다.In addition, this invention is not limited to the said Example, It can variously deform and implement within the range which does not deviate from the summary. For example, in the semiconductor memory device of the embodiment, a pair of bit lines belonging to the same portion Although only one bit of the signal of? Is selected by the column select gate circuit 26-iii, and the data finally outputted is described as one bit, this is a bit line pair belonging to the same part. M bits may be selected by the m column select gate circuits 26-iii, and finally m bits of data may be output in parallel. In this case, m pairs of partial data lines Is provided, so that the partial sense amplifiers 27-ii and the block data line pairs are respectively provided for each of these partial data line pairs. Block detection amplifier (29-i), main data line pair And the latch circuit 30, etc. need to be provided.

또, 상기 실시예에서는 메모리셀(22-iii)로서 고저항부하를 이용한 형식의 것을 사용하는 경우에 대해 설명 했지만, 이것을 플립플롭(43)으로 P챈널 MOS트랜지스터와 N챈널 MOS트랜지스터를 이용하는 CMOS형의 것을 사용해도 좋다. 더욱이, 상기 실시예에서는 부분워드선과 워드선이 설치된 소위 워드선2중화방식의 반도체기억장치에 대해 설명했지만, 상기 2중화방식대신에 제6도에 나타낸 바와 같이 메모리셀어레이를 복수개의 블럭으로 분할하고, 각 블럭에 대해 행디코더를 설치하는 것과 같은 워드선다중분할방식의 반도체기억장치에 대해서도 실시할 수가 있다.In the above embodiment, a case has been described in which the memory cell 22-iii uses a high resistance load type. However, the flip-flop 43 is a CMOS type using a P-channel MOS transistor and an N-channel MOS transistor. You may use one. Furthermore, in the above embodiment, a so-called word line redundancy semiconductor memory device in which partial word lines and word lines are provided has been described. However, as shown in FIG. 6, the memory cell array is divided into a plurality of blocks instead of the redundancy method. In addition, the word memory multiple division type semiconductor memory device, such as a row decoder for each block, can be implemented.

이 경우에 기본적인 동작은 상기 제1실시예의 동작과 동일하다. 그렇지만, 분할수를 칩사이즈의 증대를 그만큼 초래하지 않고 증가시켜 줄 수 있는 워드선 2중화방식의 반도체기억장치에 본 고안을 실시하면 그 효과는 더욱 커지게 된다.In this case, the basic operation is the same as that of the first embodiment. However, if the present invention is implemented in a word line duplex semiconductor memory device capable of increasing the number of divisions without causing such an increase in chip size, the effect becomes even greater.

이상 설명한 바와 같이 본 고안에 의하면, 대용량화되더라도 데이터의 독출속도를 고속화시킬 수 있도록 된 스태틱형 반도체기억장치를 제공할 수 있게 된다.As described above, according to the present invention, it is possible to provide a static semiconductor memory device capable of speeding up the reading speed of data even when the capacity is increased.

Claims (10)

복수개의 부분으로 가각 분할된 복수개의 블럭으로 분할되고, 각 부분에서 복수개의 메로리셀(22-111)들이 매트릭스형태로 배열되는 복수개의 메모리셀어레이(20)와, 상기 복수개의 부분에 대응해서 각각 설치되어 상기 대응하는 부분에 속하는 선택된 복수개의 메로리셀중 선택된 하나의 메모리셀로부터 데이터를 독출할때 상기 독출데이터를 공급받아 상기 독출데이터를 첫번째 증폭해 주는 복수개의 부분감지증폭수단(27-11∼27-nn) 상기 복수개의 블럭중 하나의 블럭에 대응해서 각각 설치되어 상기 대응하는 블럭에 속하는 상기 대응하는 부분감지증폭수단(27-11∼27-nn)으로부터 출력되는 첫번째 증폭된 데이터를 2번째 증폭해 주는 복수개의 블럭감지증폭수단(29-1∼29-n) 및, 상기 블럭감지증폭수단(29-1∼29-n)으로부터 출력되는 2번째 증폭된 데이터를 랫치시켜 주는 랫치수단(30)을 구비한 스태틱형 반도체 기억장치에 있어서, 상기 부분감지증폭수단(27-11∼37-nn)의 감지특성은 상기 블럭감지증폭수단(29-1∼29-n)의 감지특성보다 높고, 상기 블럭감지 증폭수단(29-1∼39-n)의 전류구동특성은 상기 부분가미지증폭수단(27-11∼27-nn)의 전류구동특성보다 큰 것을 특징으로 하는 스태틱형 반도체기억장치.A plurality of memory cell arrays 20 which are divided into a plurality of blocks each divided into a plurality of parts, in which a plurality of merery cells 22-111 are arranged in a matrix form, and corresponding to the plurality of parts, respectively. A plurality of partial sensing amplification means 27-11 to be provided to receive the read data and to amplify the read data first when reading data from one selected memory cell among the selected plurality of merolicells belonging to the corresponding portion; 27-nn) The first amplified data output from the corresponding partial sense amplification means 27-11 to 27-nn respectively provided corresponding to one of the plurality of blocks and belonging to the corresponding block is second. The second amplified data output from the plurality of block detection amplification means 29-1 to 29-n and the block detection amplification means 29-1 to 29-n are amplified. In the static semiconductor memory device having the latch means 30, the sensing characteristics of the partial sense amplification means 27-11 to 37-nn are the block sense amplification means 29-1 to 29-n. Static current characteristics higher than the detection characteristics, and the current driving characteristics of the block detection amplifying means 29-1 to 39-n are larger than the current driving characteristics of the partial image amplifying means 27-11 to 27-nn. Type semiconductor memory device. 제1항에 있어서, 입력행어드레스에 따라 복수개의 주워드선(WL)중 하나의 주워드선을 선택해 주는 행디코딩수단(10)이 더 구비되고, 상기 각 부분은, 상기 복수개의 주워드선(WL)에 대응하는 복수개의 부분워드선(WL11)과, 상기 복수개의 부분워드(WL11)에 접속되고 매트릭스형태로 배열되는 복수개의 메모리셀(22- 111) 및, 상기 선택된 메로리셀에 상기 활성화된 부분워드선이 접속되고 상기 선택된 주워드선에 대응하는 부분워드선을 활성화시켜 주는 부분선택게이트수단(25-11)을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 스태틱형 반도체기억장치.The apparatus of claim 1, further comprising: row decoding means (10) for selecting one main word line among a plurality of main word lines (WL) in accordance with an input row address, wherein each part includes the plurality of main word lines The plurality of partial word lines WL11 corresponding to (WL), a plurality of memory cells 22-111 connected to the plurality of partial words WL11 and arranged in a matrix form, and the activation of the selected Merolicell. And a partial selection gate means (25-11) for connecting the partial word lines to activate the partial word lines corresponding to the selected main word lines. 제1항에 있어서, 상기 선택된 메모리셀에 상기 활성화된 부분워드선이 접속되고, 입력행어드레스에 따라 상기 대응하는 블럭에 속하는 상기 부분에 관통으로 복수개의 부분워드선중 하나의 부분워드선을 선택해 주기 위해 상기 복수개의 블럭중 하나의 블럭에 대응해서 각각 설치되는 복수개의 행디코딩수단(10)이 더 구비된 것을 특징으로 하는 스태틱형 반도체기억장치.The partial word line of claim 1, wherein the activated partial word line is connected to the selected memory cell, and one partial word line of a plurality of partial word lines is selected through the portion belonging to the corresponding block according to an input row address. And a plurality of row decoding means (10) which are respectively provided in correspondence with one of the plurality of blocks for giving. 제1항에 있어서, m부분감지증폭수단은 상기 부분들 각각에 설치되어 m메모리셀로부터 독출된 데이터를 첫번째 증폭해주고, m블럭감지증폭수단은 상기 블럭들 각각에 설치되어 이 m블럭감지증폭기수단중 k블럭감지증폭수단이 m부분감지증폭수단중 k부분감지증폭수단에 의해 첫번째 증폭된 데이터를 두번째 증폭해 주며, m랫치수단은 상기 블럭들 각각에 설치되어 이 m랫치수단중 k랫치수단이 상기, k블럭감지증폭수단으로부터 출력된 2번째 증폭된 데이터를 랫치시켜 주도록 된 것을 특징으로 하는 스태틱형반도체기억장치.2. The apparatus of claim 1, wherein the m portion detecting amplifier means is provided in each of the portions to first amplify the data read out from the m memory cell, and the m block detecting amplifier means is provided in each of the blocks. The k block detection amplification means amplifies the data amplified first by the k partial detection amplification means of the m partial detection amplification means for the second time, and the m latch means is installed in each of the blocks so that the k latch means of the m latch means is provided. And the second amplified data outputted from the k-block detection amplifying means is latched. 제1항에 있어서, 입력열어드레스에 따라 열선택신호(CD)를 선택적으로 발생시켜 주는 제어수단(11)과, 상기 선택된 메모리셀 모두에 대응되고, 상기 대응하는 부분과 상기 대응하는 부분감지증폭수단에서 복수개의 비트선쌍중 하나의 비트선쌍사이에 각각 설치되어 상기 제어수단(11)으로부터의 상기 열선택신호(CD)에 따라 선택된 메모리셀로부터의 독출데이터를 상기 대응하는 부분감지 증폭수단으로 출력해 주는 복수개의 열선택게이트수단(26-111∼26-nnn)이 더 구비된 것을 특징으로 하는 스태 틱형 반도체기억장치.2. The control means (11) according to claim 1, wherein the control means (11) selectively generates a column selection signal (CD) in accordance with an input column address, and corresponds to both of the selected memory cells, wherein the corresponding portions and the corresponding partial sense amplification amplifiers. Multiple bit line pairs in the means A plurality of column selections respectively provided between one pair of bit lines to output read data from a memory cell selected according to the column selection signal CD from the control means 11 to the corresponding partial sense amplification means; A static semiconductor memory device characterized by further comprising gate means (26-111 to 26-nnn). 제5항에 있어서, 상기 제어수단(11)에는 상기 복수개의 부분감지증폭기수단(27-11∼27-nn)각각에 제1활성화신호(SSA11∼SSAnn)를 출력해주고 상기 복수개의 블럭감지증폭수단(29-1∼29-n) 각각에 제2활성화신호(BSA1∼SSAnn)를 출력해 주기 위해 상기 입력열어드레스에 따라 상기 제1 및 제2활성화신호를 선택적으로 발생시켜 주는 수단이 더 구비되고, 상기 부분감지증폭수단(27-11∼27-nn) 각각은 상기 제1활성화신호(SSA11∼SSAnn)에 따라 선택적으로 활성화되고, 상기 블럭감지증폭수단(29-1∼39-n) 각각은 상기 제2활성화신호(BSA1∼BSAn)에 따라 선택적으로 활성화되도록 된 것을 특징으로 하는 스태틱형 반도체기억장치.6. The control means (11) according to claim 5, wherein the control means (11) outputs first activation signals (SSA11 to SSAnn) to the plurality of partial sense amplifier means (27-11 to 27-nn), respectively. Means for selectively generating the first and second activation signals in accordance with the input string address to output second activation signals BSA1 to SSAnn to 29-1 to 29-n, respectively. Each of the partial sensing amplification means 27-11 to 27-nn is selectively activated according to the first activation signals SSA11 to SSAnn, and each of the block sensing amplification means 29-1 to 39-n And a static type semiconductor memory device which is selectively activated according to the second activation signals BSA1 to BSAn. 제6항에 있어서, 상기 부분감지증폭수단 각각은 대응하는 부분에 속하는 상기 부분감지증폭수단 각각에 분할적으로 설치되는 구동부(27-11A)와, 상기 대응하는 부분에 속하는 상기 부분감지증폭수단 전체에 공통적으로 설치되는 부하부(27-11B)로 이루어진 전류미러병렬형 감지증폭기인 것을 특징으로 하는 스태틱형 반도체기억장치.7. The apparatus as claimed in claim 6, wherein each of the partial sensing amplification means includes a drive portion 27-11A which is provided separately in each of the partial sensing amplification means belonging to a corresponding portion, and the entire partial sensing amplification means belonging to the corresponding portion. A static type semiconductor memory device, characterized in that the current mirror parallel sensing amplifier consisting of a load unit (27-11B) is installed in common. 제7항에 있어서, 상기 구동부(27-11A)는, 메모리셀(22-111)로부터 독출된 데이터가 게이트에 공급됨에 따라 블럭데이터선쌍과 기준용 블럭데이터선쌍중 하나를 구동시켜 주는 제1쌍의 트랜지스터(51, 52)와, 상기 제1쌍의 트랜지지스터(51, 52)에 각각 접속되고, 게이트에 상기 제1활성화신호(SSA11)가 공동으로 공급되는 제2쌍의 트랜지스터(53, 54), 상기 제2쌍의 트랜지스터(53, 54)에 공통으로 접속되어 전류를 제어해 주는 제1트랜지스터(55) 메모리셀(22-111)로부터 독출된 데이터가 게이트에 공급됨에 따라 상기 블럭데이터선쌍과 상기 기준용 블럭데이터선쌍중 다른 하나를 구동시켜 주는 제3쌍의 트랜지스터(51, 52), 상기 3쌍의 트랜지스터(51, 52)에 각각 접속되고, 게이트에 상기 제1활성화신호(SSA11)가 공통으로 공급되는 제4쌍의 트랜지스터(53, 54) 및, 상기 제4쌍의 트랜지스터(53, 54)에 공통으로 접속되어 전류를 구동시켜 주는 제2트랜지스터(55)로 구성된 것을 특징으론 하는 스태틱형 반도체기억장치.10. The block data line pair as claimed in claim 7, wherein the driving unit (27-11A) is provided with a block data line pair as data read from the memory cells (22-111) is supplied to a gate. Data line pairs A first pair of transistors 51 and 52 driving one of the transistors and a pair of transistors 51 and 52 of the first pair, respectively, and the first activation signal SSA11 is jointly supplied to a gate. Data read from the first transistor 55 memory cells 22-111 that are commonly connected to the second pair of transistors 53 and 54 and the second pair of transistors 53 and 54 to control current. The block data line pairs as the is supplied to the gate And the reference block data line pair A fourth pair of transistors 51 and 52 driving the other one of the transistors, and a fourth pair of transistors 51 and 52 connected to the three pairs of transistors 51 and 52, respectively, to which the first activation signal SSA11 is commonly supplied to a gate; And a second transistor (55) connected in common to the pair of transistors (53, 54) and the fourth pair of transistors (53, 54) to drive a current. 제6항에 있어서, 상기 블럭감지증폭수단 각각은 대응하는 블럭에 속하는 블럭감지증폭수단 각각에 분할적으로 설치되는 구동부(29-1A)와, 상기 대응하는 블럭에 속하는 상기 블럭감지증폭수단 전체에 공통적으로 설치되는 부하부(29-1B)로 이루어진 전류미러병렬형 감지증폭기인 것을 특징으로 하는 스태틱형 반도체기억장치.7. The apparatus according to claim 6, wherein each of the block sensing amplifying means includes a drive section 29-1A, which is provided separately in each of the block sensing amplifying means belonging to the corresponding block, and the entire block sensing amplifying means belonging to the corresponding block. Static type semiconductor memory device, characterized in that the current mirror parallel sensing amplifier consisting of a load unit (29-1B) installed in common. 제9항에 있어서, 상기 구동부(29-1A)는, 상기 제2활성화신호(BSA1)가 게이트에 공통으로 공급됨에 따라 주데이터선쌍과 기준용 주데이터선쌍중 하나를 구동시켜 준는 제1쌍의 트랜지스터(63, 64)와, 상기 제1쌍의 트랜지스터 (63, 64)에 각각 접속되고, 게이트에 상기 부분감지증폭수단(27-11)으로부터 출력된 데이터가 공급되는 제2쌍의 트랜지스터(61, 62), 상기 제2쌍의 트랜지스터(61, 62)에 공통으로 접속되어 전류를 제어해 주는 제1트랜지스터(65), 상기 제2활성화신호(BSA1)가 게이트에 공통으로 공급 됨에 따라 상기 주데이터선쌍과 상기 기준용 주데이터선쌍중 다른 하나를 구동시켜 주는 제3쌍의 트랜지스터(63, 64), 상기 제3쌍의 트랜지스터(63, 64)에 각각 접속되고, 게이트에 상기 부분감지증폭수단(27-11)으로부터 출력된 데이터가 공급되는 제4쌍의 트랜지스터(61, 62) 및, 상기 제4쌍의 트랜지스터(61, 62)에 공통으로 접속되어 전류를 구동시켜 제2트랜지스터(65)로 구성된 것을 특징으로하는 스택틱형 반도체기억장치.10. The pair of main data lines of claim 9, wherein the driving unit 29-1A is supplied with the second activation signal BSA1 to a gate in common. Data line pairs The first pair of transistors 63 and 64 for driving one of the first and second pairs of transistors 63 and 64, respectively, and the data outputted from the partial sense amplification means 27-11 to the gate; Is connected to the second pair of transistors 61 and 62 to which the second pair is supplied, the first transistor 65 to control the current in common with the second pair of transistors 61 and 62, and the second activation signal BSA1. The main data line pair as is supplied to the gate in common And the reference main data line pair The third pair of transistors 63 and 64 and the third pair of transistors 63 and 64 respectively driving the other one, and the data output from the partial sensing amplification means 27-11 to a gate; And a fourth transistor (61, 62), to which the second pair of transistors (61, 62) are commonly supplied, and a second transistor (65) characterized by comprising a second transistor (65) by driving a current. Memory.
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