KR910003947Y1 - Electrode of electron gun - Google Patents

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Abstract

내용 없음.No content.

Description

전자총의 전극Electrode of electron gun

제 1 도는 사용되는 전자총의 일례를 나타낸 종단면도.1 is a longitudinal sectional view showing an example of an electron gun used.

제 2a 도는 종래 기술에 의한 전자총의 전극 구조를 나타낸 정면도, 제 2b 도 는 제 2a 도의 A-A'선에 따른 측단면도.FIG. 2A is a front view showing the electrode structure of the electron gun according to the prior art, and FIG. 2B is a side cross-sectional view along the line AA ′ of FIG. 2A.

제 3a 도는 본 고안의 일 실시예에 의한 전자총의 전극 구조를 나타낸 정면도, 제 3b 도는 제 3a 도의 B-B'선에 따른 측단면도.Figure 3a is a front view showing the electrode structure of the electron gun according to an embodiment of the present invention, 3b is a side cross-sectional view taken along the line B-B 'of Figure 3a.

제 4 도는 본 고안의 다른 실시예에 의한 전자총의 전극 구조를 나타낸 정면도이다.4 is a front view showing the electrode structure of the electron gun according to another embodiment of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

K : 캐소드 G1 : 제 1 전극K: cathode G1: first electrode

G2 : 제 2 전극 G3 : 제 3 전극G2: second electrode G3: third electrode

G4 : 제 4 전극 BG : 비이드 글라스G4: 4th electrode BG: Bead glass

20A : 전극매립부 21 : 비임통과 구멍20A: electrode buried portion 21: non-passing hole

23 : 열변형 방지 프레싱부 25 : 기계적 변형방지 프레싱부23: heat deformation preventing pressing portion 25: mechanical deformation preventing pressing portion

27 : 곡면부 29 : 통공27: curved portion 29: through hole

본 고안은 전자총의 전극에 관한 것으로, 보다 상세하게는 비이드글라스에 대한 매립강도를 증대시키고 비이드 글라스와의 융착시 전극의 물리적 변형과 정상동작시 열적 변형을 예방할수 있게하는 전자총의 전극 구조에 관한 것이다.The present invention relates to an electrode of an electron gun, and more particularly, to an electrode structure of an electron gun, which increases the embedding strength of the bead glass and prevents physical deformation of the electrode during fusion with the bead glass and thermal deformation during normal operation. It is about.

일반적으로, 텔레비젼 수상기용의 브라운관과 같은 음극선관의 전자총은 제 1 도에 도시한 바와 같이 캐소드(K), 제 1 전극(제어전극)(G1), 제 2 전극(스크린 전극)(G2), 제 3 전극(포커스전극)(하나 또는 2개 이상으로 구성될 수 있다)(G3), 제 4 전극(애노드 전극)(G4)으로 이루어져 있으며, 캐소드(K)에서 방출된 전자를 가속하여 스크린면상의 형광체를 불광시키도록 되어 있다.In general, an electron gun of a cathode ray tube such as a cathode ray tube for a television receiver has a cathode K, a first electrode (control electrode) G1, a second electrode (screen electrode) G2, It is composed of a third electrode (focus electrode) (which may be composed of one or two or more) G3 and a fourth electrode (anode electrode) G4 and accelerates electrons emitted from the cathode K on the screen surface. The fluorescent substance of is made to fluoresce.

그리고 이들 전극(G1~G4)은 그의 매립부가 2개 이상의 부도체인 비이드 글라스(BG)에 매립되는 것에 의하여 서로 일정한 간격을 유지하여 지지된다.These electrodes G1 to G4 are supported at regular intervals by being embedded in bead glass BG, whose buried portions are two or more non-conductors.

비이드 글라스(BG)는 전자비임의 진행방향과 평행하게 설치되어 있다.Bead glass BG is provided in parallel with the advancing direction of an electron beam.

본 브라운관의 제조기술 분야에서는, 전자총의 장기간의 수명과 양호한 특성을 얻기 위하여 비이드 글라스에 대한 전극의 매립강도를 강화하고, 비이드 글라스에의 열융착시 기계적 변형의 방지와 조립시의 정밀도를 확보하기 위해 전극의 평탄도를 유지하는 한편, 전자총의 정상동작시 전극의 열적팽창을 억제하기 위한 노력을 강구하고 있다.In the field of manufacturing technology of the CRT, in order to obtain long-term life and good characteristics of the electron gun, the embedding strength of the electrode to the bead glass is strengthened, and mechanical deformation is prevented during heat fusion to the bead glass, In order to ensure the flatness of the electrode, efforts have been made to suppress thermal expansion of the electrode during normal operation of the electron gun.

제 2 도는 이러한 노력의 일환으로 나타난 종래의 전자총의 전극의 구조가 도시되어 있다.Figure 2 shows the structure of the electrode of a conventional electron gun as part of this effort.

제 2 도의 전극(10)은 제 1 전극(G1)이나 제 3 전극(G3)의 일부(G34)에 사용되는 판 전극의 형태를 보이고 있으며, 전극의 중앙부에는 3개의 R, G, B 전자비임이 통과할수 있는 3개의 구멍(11)이 일렬로 형성되어 있다.The electrode 10 of FIG. 2 shows the shape of a plate electrode used for a part G34 of the first electrode G1 or the third electrode G3, and three R, G, and B electron beams are located at the center of the electrode. Three holes 11 that can pass through are formed in a row.

이들 비임통과 구멍(11)의 둘레에는 곡률을 가진 환형의 프레싱부(13)가 형성되어 있는데, 이는 전자총이 정상동작할 때 발생되는 열에 의해 전극의 몸체가 변형되는 것을 억제하여 주는 역할을 한다.An annular pressing portion 13 having a curvature is formed around these non-passing through holes 11, which serves to suppress deformation of the body of the electrode by heat generated when the electron gun operates normally.

그리고 전극의 상, 하단에는 각각 비이드 글라스에 매립된 매립부 (10A)(10A)가 형성되어 있는바, 이 매립부(10A)(10A)의 양 귀부분에는 각각 통공(通孔)(17)(17)이 각각 형성되어 비이드 글라스의 융착시 비이드 글라스의 일부가 상기한 통공으로 함입되도록 하고 있다.Filling portions 10A and 10A embedded in bead glass are formed at upper and lower ends of the electrodes, respectively, and holes are formed in both ears of the filling portions 10A and 10A, respectively. ) 17 are formed to allow a portion of the bead glass to be inserted into the through-holes when the bead glass is fused.

이와 같이 비이드 글라스의 일부가 상기한 통공에 함입되어 경화될 때, 전극의 매립강도가 강화되어 비이드 글라스로부터 전극이 이탈되는 현상이 현저하게 줄어들도록 한 것이다. 그리고, 상기한 전극의 매립부(10A)(10A)와 환형 프레싱부(13)(13)(13)사이에는 비임통기 구멍(11)의 정렬선과 평행하게 직선형 프레싱부(15)(15)가 형성되어 있으며, 이는 제 2b 도에 도시한 바와같이 곡률을 가지고 있다.As such, when a part of the bead glass is embedded in the through hole and cured, the embedding strength of the electrode is enhanced to significantly reduce the phenomenon that the electrode is separated from the bead glass. In addition, between the buried portions 10A and 10A of the electrode and the annular pressing portions 13 and 13 and 13, the linear pressing portions 15 and 15 are arranged in parallel with the alignment line of the non-ventilating holes 11. It has a curvature as shown in Fig. 2b.

이 곡면상의 프레싱부(15)(15)는 비이드 글라스(BG)(BG)를 전극에 융착할 때 그 기계적 충격에 의해 전극이 변형되는 것을 억제하는 역할을 한다.The curved pressing portions 15 and 15 serve to suppress deformation of the electrode due to mechanical impact when the bead glass BG (BG) is fused to the electrode.

그런데 상기한 종래의 전극 구조에 있어서, 매립부(10A)(10A)의 통공(17)(17)에 비이드 글라스(BG)(BG)의 재료가 함입되는 것에 의해 매립강도가 강화되기는 하였으나 비이드 글라스가 함입된 양만큼 매립지점의 비이드 글라스(BG)(BG)의 외면이 몰입됨에 따라 전자총구조체를 취급하는 과정에서 비이드 글라스의 매립지점이 균열되어 오히려 전극의 지지력이 약화되는 결점을 보이고 있다.By the way, in the above-described conventional electrode structure, the embedding strength is strengthened by incorporating the material of the bead glass (BG) (BG) into the through-holes 17, 17 of the buried portion (10A) (10A), but not As the outer surface of the bead glass (BG) (BG) of the buried point is immersed by the amount of the embedded glass, the buried glass of the bead glass is cracked in the process of handling the electron gun structure, and thus the bearing capacity of the electrode is weakened. have.

또한 상기한 전극의 변형을 억제하기 위하여 형성된 곡류을 가지는 직선상의 프레싱부(15)(15)는 평탄도가 작기 때문에 각 전극을 일정간격으로 유지하기 위해 사용한치구(도시하지 않음)를 인출할 때 상기 치구가 고정된 전극을 뒤틀리게하는 경우가 때때로 발생하여 정확한 간격으로 유지된 전극 구조체를 얻기 힘들었다.In addition, since the linear pressing portions 15 and 15 having the grains formed to suppress the deformation of the electrodes are small in flatness, when drawing out a jig (not shown) used to hold each electrode at a predetermined interval, Occasionally, the jig distorted the fixed electrode, making it difficult to obtain the electrode structure held at the correct intervals.

이에 본 고안은 상기한 결점을 해소하기 위하여 안출된 것으로서, 비이드 글라스의 균열을 초래하지 않고 전극의 매립강도를 경화시킬 수 있는 전자총의 전극을 제공하는데 그 목적을 두고 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described drawbacks, and an object of the present invention is to provide an electrode of an electron gun capable of curing the embedding strength of the electrode without causing cracking of the bead glass.

본 고안은 다른 목적은 비이드 글라스의 융착시 전극의 변형을 억제하기 위한 프레싱부의 평탄도를 높여 조립치구의 인출에 의한 고정전극의 뒤틀림을 방지하여 정확하게 조립된 전극구조체를 얻게하는 전자총의 전극을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to increase the flatness of the pressing part to suppress the deformation of the electrode when the bead glass is fused to prevent distortion of the fixed electrode by drawing out the assembly jig to obtain an electrode assembly of the electron gun which accurately obtains the electrode structure. To provide.

상기한 본 고안의 제 1 목적을 달성하기 위한 전자총의 전극은 전극의 매립부에 전자비임의 진행방향과 동일 또는 반대방향으로 돌출한 하나 또는 그 이상의 곡면부를 형성한 것을 특징으로 한다.The electrode of the electron gun for achieving the first object of the present invention is characterized in that one or more curved portions protruding in the same or opposite direction to the traveling direction of the electron beam to the buried portion of the electrode.

본 고안의 제2목적을 달성하기 위한 본 고안의 전자총의 전극은 비이드 글라스의 융착시 전극의 변형을 억제하기 위한 프레싱부에 전자비임방향에 대하여 직각방향을 이루는 평면도를 부여하여 전극의 전체적인 평탄도를 높여주도록 구성된 것을 특징으로 한다.The electrode of the electron gun of the present invention for achieving the second object of the present invention is to give the pressing portion for suppressing the deformation of the electrode when the bead glass is fused to give a plan view that forms a direction perpendicular to the electron beam direction, the overall flatness of the electrode Characterized in that it is configured to raise the degree.

전자비임 방향에 대하여 직각방향을 이루는 평면을 가진 상기한 프레싱부는 전체적으로 "ㄷ" 자의 단면구조를 가지게 됨으로써 비이드 글라스의 융착시의 충격을 보다 효과적으로 완충시켜 종래의(곡류를 가진)프레싱부에 비해 전극의 변형률을 거의 제로로 만들어 주는 부가적인 장점을 얻을 수 있게 한다.The pressing portion having a plane perpendicular to the electron beam direction has a cross-sectional structure of “c” shape as a whole, thereby more effectively cushioning the impact during fusion of the bead glass, compared with the conventional (grain-like) pressing portion. This gives an additional advantage of making the strain almost zero.

이하, 본 고안의 실시예가 도시된 제 3 도 및 제 4 도를 참조하여 본 고안을 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 3 and 4 in which an embodiment of the present invention is shown.

제 3 도에 도시된 전극(20) 역시 판상의 전극구조를 보여주고 있으나, 본 고안은 원통형의 전극에도 물론 적용될 수 있다. 전극(20)의 중심부에는 제 2 도에 도시한 바와 같은 R, G, B 전자 비임통과 구멍(21)과 열변형 방지를 위한 환형프레싱부(23)가 형성되어 있다. 전극(20)의 상하단에 일체로 형성되는 매립부(20A)의 소정위치에는 각각 하나 또는 그 이상의 곡면부(27)가 형성되는데, 본 실시예에서는 상하의 매립부(20A) 각각 2개씩의 곡면부가 형성되어 있다. 이 곡면부(27)의 돌출방향은 전자비임 진행방향에 대하여 동일 또는 반대방향으로 설정되는데, 이 돌출방향은 인접하는 전극과의 전기적인 영향을 고려하여 결정하면 된다. 이 곡면부(27)는 비이드 글라스(BG)에 매립될 때 매립위치의 비이드 글라스의 외면의 몰입을 초래하지 않으므로 비이드 글라스의 균열을 막을 수 있을 뿐만 아니라 곡면의 형상에 의해 비이드 글라스와의 접촉면적이 증대되기 때문에 매립강도가 종래에 비하여 휠씬 증가하게 된다.Although the electrode 20 shown in FIG. 3 also shows a plate-like electrode structure, the present invention can of course be applied to a cylindrical electrode. In the center of the electrode 20, R, G, and B electron non-passing holes 21 and an annular pressing portion 23 for preventing heat deformation are formed as shown in FIG. One or more curved portions 27 are formed at predetermined positions of the buried portions 20A, which are integrally formed at the upper and lower ends of the electrode 20. In this embodiment, two curved portions of the upper and lower buried portions 20A, respectively, are formed. Formed. The protruding direction of the curved portion 27 is set in the same or opposite direction to the electron beam propagation direction, and the protruding direction may be determined in consideration of the electrical influence with the adjacent electrodes. Since the curved portion 27 does not cause immersion of the outer surface of the bead glass at the buried position when it is buried in the bead glass BG, it can not only prevent cracks of the bead glass but also bead glass by the shape of the curved surface. Since the contact area with is increased, the embedding strength is much increased compared with the conventional.

한편, 비이드 글라스 용착시의 전극의 변형을 억제하기 위해 형성된 프레싱부(25)는 제 3b 도에 도시된 바와같이 "ㄷ" 자의 단면 구조를 채용함으로써 전자비임 진행에 대하여 수직평면을 포함하고 있다.On the other hand, the pressing portion 25 formed to suppress the deformation of the electrode at the time of bead glass welding includes a vertical plane with respect to the progress of the electron beam by adopting a cross-sectional structure of the letter "c" as shown in Figure 3b .

이와 같은 평면부의 부가에 의해 전극(20)의 전체적 평탄도가 증대되어 전극의 조립도가 휠씬 정확하게 되며, 융착에 따른 변형에 대한 내성(耐性)이 종래에 비하여 휠씬 강화된 전극구조체을 얻을 수 있으며, 아울러 정상동작시의 열적변형도 보다 효과적으로 방지할 수 있게 된다.As a result of the addition of the flat portion, the overall flatness of the electrode 20 is increased, so that the assembly degree of the electrode is much more accurate, and the electrode structure with which the resistance to deformation due to fusion is much improved can be obtained. In addition, it is possible to more effectively prevent thermal deformation during normal operation.

본 고안의 다른 실시예로서 제 4 도에 도시된 전극을 보면, 전극(20)의 매립부(20A)에 형성된 곡면부(27)사이에 상기한 곡면부의 직경보다 작은 직경의 통공(29)이 설치된 것을 볼수 있다. 이 통공(29)의 직경은 작은 칫수를 갖기 때문에 이 통공에 함입되는 비이드 글라스의 재료의 양은 많지 않으며 따라서 비이드 글라스의 외면의 몰입에 의한 균열은 발생되지 않는 반면에 곡면부의 매립강도를 더욱 보강하여 주는 효과를 얻을 수 있게 된다.Referring to the electrode shown in FIG. 4 as another embodiment of the present invention, between the curved portion 27 formed in the buried portion 20A of the electrode 20, a through hole 29 having a diameter smaller than the diameter of the curved portion is You can see it installed. Since the diameter of the through hole 29 has a small dimension, the amount of material of the bead glass that is incorporated into the through hole is not large, so that cracks due to immersion of the outer surface of the bead glass do not occur, whereas the buried strength of the curved portion is further increased. The effect of reinforcement can be obtained.

Claims (2)

전자총의 비이드 글라스(BG)에 매립되는 전극의 상하 매립부(20A)의 소정위치에 전자비임의 진행방향과 동일 또는 반대방향으로 하나 또는 그 이상의 곡면부(27)를 돌출시켜 형성된 것을 특징으로하는 전자총의 전극.It characterized in that formed by projecting one or more curved portion 27 in the same or opposite direction to the traveling direction of the electron beam at a predetermined position of the upper and lower buried portion (20A) of the electrode embedded in the bead glass (BG) of the electron gun Electrode of electron gun. 제 1 항에 있어서, 비이드 글라스 융착시 전극의 변형을 억제하기 위해 R, G, B 전자비임의 통과구멍(21)의 정렬선에 대하여 평행하게 형성된 프레싱부(25)에 전자비임 진행방향에 대해 직각방향을 이루는 평면부를 부여하여 전극의 전체적인 평탄도를 높게한 것을 특징으로 하는 전자총의 전극.The method according to claim 1, wherein in order to suppress the deformation of the electrode during the bead glass welding, the pressing portion 25 formed in parallel with the alignment line of the passage holes 21 of the R, G, and B electron beams is disposed in the electron beam traveling direction. Electrode of the electron gun characterized in that to give a flat portion perpendicular to the direction to increase the overall flatness of the electrode.
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