Claims (22)
유리염기 또는 산 부가염 형태의 일반식(Ⅰ)의 화합물.Compound of formula (I) in free base or acid addition salt form.
상기식에서, R은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸이고:Wherein each R is independently hydrogen or methyl:
(여기에서, R1은 수소 또는 메틸이다)이고:R2은 직쇄 또는 측쇄 C1-6알킬: 트리-C1-3알킬실릴: 일반식-CH2-N(R3)2의 그룹[여기에서, R3는 각각 독립적으로 직쇄 또는 측쇄 C1-4알킬, 또는 2개의 R3는 이들의 결합된 질소원자와 함께 일반식의 그룹(여기에서, n은 정수 4,5 또는 6이다). 또는 일반식의 그룹(여기에서, X는 -O- -S- 또는 -NCH3이다)을 형성한다]: 또는 일반식의 그룹[여기에서, Y는 -(CH2)1-3, -OCH2- 또는 -OCH2CH2-이고, R4는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-3알콕시이다]이다.Wherein R 1 is hydrogen or methyl; and R 2 is straight or branched C 1-6 alkyl: tri-C 1-3 alkylsilyl: a group of formula—CH 2 —N (R 3 ) 2 [ Wherein R 3 is each independently linear or branched C 1-4 alkyl, or two R 3 together with their bound nitrogen atom Where n is an integer 4,5 or 6. Or general formula Form a group wherein X is -O- -S- or -NCH 3 In which Y is-(CH 2 ) 1-3 , -OCH 2 -or -OCH 2 CH 2 -and each R 4 is independently hydrogen or C 1-3 alkoxy.
제1항에 있어서, 유리염기 또는 산 부가염 형태의 하기 일반식(Ⅰs)로 표시되는 화합물.The compound according to claim 1, represented by the following general formula (Is) in free base or acid addition salt form.
상기식에서, T는 제1항에서 정의한 바와 같고: R2S는 직쇄 측쇄 C1-4알킬: 트리 C1-3알킬 실릴: 또는 일반식의 그룹(여기에서, YS는 -(CH2)1-3-이고, 44S는 각각 독립적으로 C1-3알콕시이다)이다.Wherein T is as defined in claim 1 wherein R 2S is a straight chain branched C 1-4 alkyl: tri C 1-3 alkyl silyl: or Is a group of wherein Y S is-(CH 2 ) 1-3 -and 4 4S are each independently C 1-3 alkoxy.
제2항에 있어서, T가 일반식(a), (c) 또는 (d)의 그룹인, 유리염기 또는 산 부가염 형태의 일반식(Ⅰs)의 화합물.The compound of formula (Is) according to claim 2, wherein T is a group of formula (a), (c) or (d).
제1항에 있어서, 치환체는 제1항에서 정의한 바와 같으며, 단 T가 일반식(b) 또는 (c)의 그룹이 아닌, 유기 염기 또는 산 부가염 형태의 일반식(Ⅰ)의 화합물.The compound of formula (I) according to claim 1, wherein the substituents are as defined in claim 1, provided that T is not a group of formula (b) or (c).
제1항에 있어서, R이 수소이고, R2가 4′위치에 존재하는 2-(3,4,5-트리메톡시페닐)에틸이고, T는 그룹(d) (여기서, R1은 수소이다)인, 유리염기 또는 산 부가염 형태의 일반식(Ⅰ)의 화합물.The compound of claim 1, wherein R is hydrogen, R 2 is 2- (3,4,5-trimethoxyphenyl) ethyl present at the 4 ′ position, and T is a group (d) where R 1 is hydrogen A compound of formula (I) in free base or acid addition salt form.
제1항에 있어서, R이 수소이고, R2는 4′위치에서 존재하는 2-(3,4,5-트리메톡시페닐)에틸이고, T는 그룹(a)(여기서, R1은 산소원자에 인접한 위치에서 존재하는 메틸이다)또는 그룹(c)(여기서, R1은 황원자에 인접한 위치에 존재하는 메틸이다)이거나: R1인 수소, 이고, T는 그룹(c)(여기서, R1은 황원자에 인접한 위치에 존재하는 메틸이다)이고, R2는 4′위치에 존재하는 3급-부틸 또는 4′위치에 존재하는 트리메틸실릴인 유리염기 또는산부가염 형태의 일반식(Ⅰ)의 화합물.The compound of claim 1, wherein R is hydrogen, R 2 is 2- (3,4,5-trimethoxyphenyl) ethyl present at the 4 ′ position, and T is group (a), wherein R 1 is oxygen Is methyl present at a position adjacent to the atom) or group (c), where R 1 is methyl at a position adjacent to the sulfur atom, or: hydrogen, R 1 , and T is group (c), where R 1 is methyl present at the position adjacent to the sulfur atom) and R 2 is tert-butyl present at the 4 ′ position or trimethylsilyl at the 4 ′ position of the free base or acid addition salt form of general formula (I) compound.
제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 따른 유리염기 또는 약제학적으로 허용되는 산 부가염 형태의 화합물을 포함함을 특징으로 하는 약제학적 조성물.A pharmaceutical composition comprising a compound in the form of a free base or a pharmaceutically acceptable acid addition salt according to any one of claims 1 to 6.
제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 있어서, 약제로서 사용하기 위한, 유리염기 또는 약제학적으로 허용되는 산 부가염 형태의 화합물.The compound according to any one of claims 1 to 6, in free base or pharmaceutically acceptable acid addition salt form, for use as a medicament.
제8항에 있어서, PAF-개재된 기관지수축을 억제하거나, PAF-개재된 일혈을 억제하거나, PAF 또는 알레르겐에 의해 유발된 기도의 과반응성을 조절하거나, 엔도톡신-유발된 저혈압을 예방하거나, 엔도톡신-유발된 사망을 예방하는데 사용하기 위한 화합물.The method of claim 8, which inhibits PAF-mediated bronchial contraction, inhibits PAF-mediated blood loss, modulates overreactivity of the airways caused by PAF or allergens, prevents endotoxin-induced hypotension, Compounds for use in preventing induced death.
제8항에 있어서, 림프종, 육종, 골수종 및 백혈병 세포계의 성장을 억제하는데 사용하기 위한 화합물.The compound of claim 8 for use in inhibiting the growth of lymphomas, sarcomas, myeloma and leukemia cell systems.
일반식(Ⅴ)의 화합물을 탈수시키고, 생성된 일반식(Ⅰ)의 화합물을 유리염기 또는 산부가염 형태로 회수함을 특징으로 하여, 유리염기 또는 산부가염 형태의 제1항에 따른 화합물을 제조하는 방법.The compound of formula (V) is dehydrated and the resulting compound of formula (I) is recovered in the form of free base or acid addition salt, thereby preparing a compound according to claim 1 in free base or acid addition salt form. How to.
상기식에서, R, T 및 R2는 제1항에서 정의한 바와 동일하다.Wherein R, T and R 2 are the same as defined in claim 1.
유리염기 또는 약제학적으로 허용되는 산 부가염형태의 제1항에서 정의된 일반식(Ⅰ)의 화합물을 약제학적으로 허용되는 담체 또는 희석제와 화합물을 특징으로 하여, 약제학적 조성물을 제조하는 방법.A process for preparing a pharmaceutical composition, characterized in that the compound of formula (I) as defined in claim 1 in free base or pharmaceutically acceptable acid addition salt form is characterized by a pharmaceutically acceptable carrier or diluent and a compound.
제12항의 방법에 따른 약제학적 조성물을 제조하기 위한, 유리염기 또는 약제학적으로 허용되는 산 부가염형태의 제1항에서 정의된 일반식(Ⅰ)의 화합물의 용도.Use of a compound of formula (I) as defined in claim 1 in the form of a free base or a pharmaceutically acceptable acid addition salt, for the preparation of a pharmaceutical composition according to the method of claim 12.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.