Claims (12)
(a)합성 계면활성제 10 내지 30%; (b) 평균입자 크기가 약 25μm 미만인 황화셀레늄 0.1 내지 5.0%; (c) 퍼옥시 산화제 0.005 내지 0.9%; 및 (d) 물 20 내지 8%을 함유함을 특징으로 하는 로션형 비듬 치료용 샴푸 조성물.(a) 10-30% synthetic surfactant; (b) 0.1-5.0% selenium sulfide having an average particle size of less than about 25 μm; (c) 0.005 to 0.9% peroxy oxidant; And (d) lotion-type dandruff treatment shampoo composition, characterized in that it contains 20 to 8% water.
제1항에 있어서, 계면활성제가 음이온성 계면활성제, 쯔비터이온성(zwitterionci) 계면활성제, 양성 계면활성제 및 이의 혼합물 중에서 선택되는 샴푸 조성물.The shampoo composition of claim 1 wherein the surfactant is selected from anionic surfactants, zwitterionci surfactants, amphoteric surfactants, and mixtures thereof.
제1 또는 2항에 있어서, 계면활성제가 음이온성이고, 바람직하게는 알킬 설페이트 에톡실화된 알킬 설페이트 및 이의 혼합물중에서 선태되는 샴푸 조성물.3. Shampoo composition according to claim 1 or 2, wherein the surfactant is anionic and is preferably selected from alkyl sulfate ethoxylated alkyl sulfates and mixtures thereof.
제1항에 있어서, 퍼옥시 산화제가 과산화수소, 과탄산나트륨, 과붕산나트륨, 퍼벤조산 및 이의 혼합물중에서 선택되는 샴푸 조성물.The shampoo composition of claim 1 wherein the peroxy oxidant is selected from hydrogen peroxide, sodium percarbonate, sodium perborate, perbenzoic acid, and mixtures thereof.
제1항에 있어서, 퍼옥시산화제가 과산화수소이고, 조성물의 0.005 내지 0.2% 더 바람직하게는 0.009 내지 0.15%로 존재하는 샴푸 조성물.The shampoo composition of claim 1 wherein the peroxyoxidant is hydrogen peroxide and is present at 0.005 to 0.2% more preferably 0.009 to 0.15% of the composition.
제1항에 있어서, 퍼옥시 산화제가 과탄산나트륨이고, 조성물의 0.01내지 0.8%로 존재하는 샴푸 조성물.The shampoo composition of claim 1 wherein the peroxy oxidant is sodium percarbonate and is present at 0.01 to 0.8% of the composition.
제1 내지 6항중 어느 한 항에 있어서, 하이드록시 프로필 에틸 셀룰로즈, 카복시메틸 셀룰로즈, 나트륨 카복시메틸 셀룰로즈, 하이드록시에틸 셀룰로즈, 나트륨 카복시에틸 셀룰로즈, 하이드록시에틸 셀룰로즈 및 이의 혼합물 중에서 선택된 비이온성 중합체 0.001내지 0.1%를 추가로 함유하는 샴푸 조성물.The nonionic polymer according to any one of claims 1 to 6, wherein the nonionic polymer is selected from hydroxy propyl ethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, sodium carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, sodium carboxyethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose and mixtures thereof. A shampoo composition further containing 0.1%.
제1 내지 6항중 어느 한 항에 있어서, 실리콘 액체 및 실리콘 혼합물인 비-휘발성 실리콘 0.1 내지 10를 추가로 함유하는 샴푸 조성물.The shampoo composition of claim 1, further comprising 0.1 to 10 of non-volatile silicone, which is a silicone liquid and a silicone mixture.
제1 내지 6항중 어느 한 항에 있어서, 에틸렌글리콜 디스테아레이트 및 크산탄 고무와 마그네슘 알루미늄 실리케이트의 혼합물 중에서 선택된 현탁제 0.1 내지 5%를 추가로 함유하는 샴푸 조성물.The shampoo composition of claim 1, further comprising 0.1 to 5% suspending agent selected from ethylene glycol distearate and a mixture of xanthan rubber and magnesium aluminum silicate.
제1 내지 6항중 어느 한 항에 있어서, 아미드 1내지 10%를 추가로 함유하는 샴푸 조성물.The shampoo composition of claim 1, further comprising 1 to 10% amide.
(a) 평균입자 크기가 약 25μm 미만인 황화셀레늄을 퍼옥시 산화제(여기서, 퍼옥시 산화제는 바람직하게는 과산화수소, 과탄산나트륨 및 이의 혼합물 중에서 선택된다) 0.1 내지 30%를 함유한 수성 용액응로 세척하고, (b)상기 수성용액을 황화셀레늄으로부터 분리하며; 및 (c) 상기 황화셀레늄을 샴푸성분과 혼합하여 (i)합성 계면활성제 10내지 30%, (ii)상기 황화셀레늄 0.1 내지 0.5% 및 (iii) 물 20 내지 84%를 함유한 샴푸 조성물을 생성하는 단계를 포함함을 특징으로 하여 색-안정성인 비듬치료용 샴푸 조성물을 제조하는 방법.(a) selenium sulfide with an average particle size of less than about 25 μm is washed with an aqueous solution containing 0.1 to 30% peroxy oxidant, wherein the peroxy oxidant is preferably selected from hydrogen peroxide, sodium percarbonate and mixtures thereof. (b) separating the aqueous solution from selenium sulfide; And (c) mixing the selenium sulfide with the shampoo component to produce a shampoo composition containing (i) 10 to 30% of the synthetic surfactant, (ii) 0.1 to 0.5% of the selenium sulfide and (iii) 20 to 84% of water. Method for producing a color-stable dandruff treatment shampoo composition characterized in that it comprises a step of.
제11항에 있어서, 수성용액이 나트륨, 칼륨, 암모늄 및 트리에탄올아민 알킬 설페이트, 및 이의 혼합물 중에서 바람직하게 선택된 계면활성제 0.5 내지 5%를 추가로 함유하는 방법.12. The process of claim 11, wherein the aqueous solution further comprises 0.5 to 5% of a surfactant preferably selected from sodium, potassium, ammonium and triethanolamine alkyl sulfates, and mixtures thereof.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.