KR900002058B1 - Bernzylidene compounds cosmetic compositions containing the same and ultraviolet absorber comprising the same - Google Patents

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KR900002058B1 KR1019870006755A KR870006755A KR900002058B1 KR 900002058 B1 KR900002058 B1 KR 900002058B1 KR 1019870006755 A KR1019870006755 A KR 1019870006755A KR 870006755 A KR870006755 A KR 870006755A KR 900002058 B1 KR900002058 B1 KR 900002058B1
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    • C07D233/30Oxygen or sulfur atoms

Abstract

Benzylidene cpds. of formula (I), cosmetic compsns. and UV absorbers contg. (I) are prepared. In (I), A is a gp. of (a) or (b); B is H or acetyl; W is H or -CH2-CH2-CO-O-R; Y is O or -NH-; Z is methyl or phenyl; R is C1-18 straightchain alkyl or C3-18 branched or cyclic alkyl; X1, X2 and X3 are each H, OH or methoxyl. (I) can be used in synthetic resins to prevent breakdown by UV radiation.

Description

벤질리덴 화합물, 그것을 함유하는 화장품 조성물 및 그것을 포함하는 자외선 흡수제Benzylidene Compound, Cosmetic Composition Containing It And Ultraviolet Absorber Including It

제1도 내지 제19도는 본 발명에 따른 화합물 번호 1 내지 19화합물의 적외선 흡수트펙트럼을 각각 도시한 것임.1 to 19 show infrared absorption spectra of compounds Nos. 1 to 19 according to the present invention, respectively.

본 발명은 신규한 벤질리덴 화합물, 자외선 흡수 화장품 조성물 및 자외선 흡수제에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 하기 일반식(I)로 표시되는 벤질리덴 화합물, 일반식(I)로 표시되는 벤질리덴 화합물을 1개 이상 함유하는 자외선 흡수화장품 조성물 및 일반식(I)로 표시되는 벤질리덴화합물을 1개 이상 포함하는 자외선 흡수제에 관한 것이다.The present invention relates to novel benzylidene compounds, ultraviolet absorbent cosmetic compositions and ultraviolet absorbents. In particular, the present invention provides an ultraviolet absorbent cosmetic composition containing at least one benzylidene compound represented by the following general formula (I), a benzylidene compound represented by the general formula (I), and benzylidene represented by the general formula (I). A ultraviolet absorbent comprising at least one compound.

Figure kpo00001
Figure kpo00001

상기식에서, A는 하기 일반식(II) 또는 (III)으로 나타낸 기이고;Wherein A is a group represented by the following general formula (II) or (III);

Figure kpo00002
Figure kpo00002

Figure kpo00003
Figure kpo00003

상기에서, B는 수소원자 또는 아세틸기를 나타내며; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-CO-O-R을 나타내고; Y는 산소원자 또는 이미노기(-NH-)를 나타내고; Z은 메틸기 또는 페닐기를 나타내며; 또 R은 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상 알킬기, 또는 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 측쇄상 또는 고리상 알킬기를 나타내며; X1및 X2및 X3은 독립적으로 수소원자, 히드록실기 또는 메톡실기(X1, X2및 X3의 둘 또는 셋은 동일할 수 있고 또는 모두 상이할 수 있음)를 나타내며; 단, A가 일반식(II)로 나타낸 기인 경우, R은 1 내지 2개 탄소원자를 갖는 알킬기가 아니고, 또 A가 일반식(III)으로 나타낸 기이고 또 X1, X2및 X3이 수소인 경우, R은 1 내지 2개 탄소원자를 갖는 알킬기가 아님.In the above, B represents a hydrogen atom or an acetyl group; W represents a hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -CO-OR; Y represents an oxygen atom or an imino group (-NH-); Z represents a methyl group or a phenyl group; And R represents a straight chain alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms; X 1 and X 2 and X 3 independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group or a methoxyl group (two or three of X 1 , X 2 and X 3 may be the same or all may be different); Provided that when A is a group represented by formula (II), R is not an alkyl group having from 1 to 2 carbon atoms, A is a group represented by formula (III) and X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen R is not an alkyl group having from 1 to 2 carbon atoms.

화장품 분야에서, 피부에 대한 자외선은 악영향을 방지하기 위한 자외선 흡수제의 사용이 오래전부터 주목되어 왔고 또 화장품으로 사용하기 위해 수많은 자외선 흡수제가 개발되어 왔다.In the field of cosmetics, the use of ultraviolet absorbers for preventing adverse effects of ultraviolet rays on the skin has long been noted, and numerous ultraviolet absorbers have been developed for use in cosmetics.

피부가 자외선에 노출되었을 경우, 자외선은 피부 조직에서 다양한 변화를 유발한다. 피부병학에 있어서, 자외선은 장파장 자외선(400-320nm), 중파장 자외선(320-290nm) 및 단파장 자외선(290-100nm)으로 분류되고, 또 이들은 각각 UV-A, UV-B 및 UV-C이라 한다.When the skin is exposed to ultraviolet light, ultraviolet light causes various changes in skin tissue. In dermatology, ultraviolet rays are classified into long wavelength ultraviolet rays (400-320 nm), medium wavelength ultraviolet rays (320-290 nm) and short wavelength ultraviolet rays (290-100 nm), which are UV-A, UV-B and UV-C, respectively. do.

이들중에서 UV-C는 오존층에 흡수되어서 지구표면에는 거의 미치지 않는다. UV-B에 있어서는 피부가 UV-B에 특정 수준이상으로 노출되는 경우, UV-B는 피부상에 홍반 또는 수포를 유발시키거나 또는 피부에 착색을 일으킨다는 것이 공지되어 있다. 한편, UV-A는 피부에 많은 영향을 미치지 않는다고 말해왔다. 그러나, 전자 현미경 검사 및 조직학적 연구의 결과로써, 최근 UV-A가 혈관벽 또는 결합조직의 탄력섬유에 변화를 유발한다는 것이 발견되었다. 또한, UV-A는 과민성 피부 또는 오랫동안 햇빛에 노출된 피부에 상처를 준다. UV-A는 또한 UV-B의 작용을 증진시킨다(J. Willis, A. Kligman and J. Epstein : "Photo-enhancement", The Journal of Investigative Dermatology, Vol. 59, No. 6, P. 416, 1973)는 것이 보고되어 왔다. 그러므로, UV-A로부터 피부를 스크리닝하는 것은 UV-B로부터 스크리닝하는 것만큼 중요하다.Among them, UV-C is absorbed by the ozone layer and hardly reaches the earth's surface. With UV-B it is known that when the skin is exposed to a certain level of UV-B, UV-B causes erythema or blisters on the skin or causes pigmentation on the skin. UV-A, meanwhile, has been said to have little effect on the skin. However, as a result of electron microscopy and histological studies, it has recently been discovered that UV-A causes changes in the elastic fibers of blood vessel walls or connective tissue. UV-A also hurts sensitive skin or skin that has been exposed to sunlight for a long time. UV-A also enhances the action of UV-B (J. Willis, A. Kligman and J. Epstein: "Photo-enhancement", The Journal of Investigative Dermatology, Vol. 59, No. 6, P. 416, 1973) has been reported. Therefore, screening the skin from UV-A is as important as screening from UV-B.

UV-B 흡수제로는, 벤조페논 흡수제, 살리실산 흡수제, 신남산 흡수제, 파라아미노벤조산 흡수제등이 사용되고 있다. 그러나, 이같은 공지된 자외선 흡수제중에서, 효과, 안전성, 용해성, 안정성 및 기타 특성면에서 만족스러운 것이 거의 없었다.As the UV-B absorbent, a benzophenone absorbent, a salicylic acid absorbent, a cinnamic acid absorbent, a paraaminobenzoic acid absorbent and the like are used. However, none of these known ultraviolet absorbents are satisfactory in terms of effects, safety, solubility, stability and other properties.

UV-A에 대한 연구의 역사는 오래되지 않으며, 또 피부에 도포되는 경우 효과적으로 UV-A를 흡수할 수 있는 물질은 알려진 것이 거의 없다. 이러한 물질로 공지된 것은 디벤조일메탄 유도체, 신남산 유도체 및 캘콘 유도체[서독 공개 특허원 제2,728,241호 및 제2,728,243호 및 일본국 특개소 제51-61641호('76), 제52-46056호('77), 제57-59840호('82), 제57-19720호('82) 및 제 60-109544호('85)]이다.The history of research on UV-A is not long, and few substances are known to effectively absorb UV-A when applied to the skin. Known as such substances are dibenzoylmethane derivatives, cinnamic acid derivatives and calcon derivatives [West German Patent Application Nos. 2,728,241 and 2,728,243 and Japanese Patent Laid-Open Nos. 51-61641 ('76) and 52-46056 ( '77, 57-59840 ('82), 57-19720 ('82) and 60-109544 ('85).

예를들어, 일본국 특개소 제51-61641호('76)는 혼합가능한 화장품 현색제와 함께 일반식

Figure kpo00004
(여기서, R은 1 내지 3개 탄소원자를 갖는 알킬기임) 화합물을 함유하는 광발연제를 기재하고 있고, 또 일본국 특개소 제52-46056호('77)는For example, Japanese Patent Laid-Open No. 51-61641 ('76) is a general formula with a blendable cosmetic developer
Figure kpo00004
(Wherein R is an alkyl group having from 1 to 3 carbon atoms) A photofoaming agent containing a compound is disclosed, and Japanese Patent Laid-Open No. 52-46056 ('77)

Figure kpo00005
Figure kpo00005

(여기서, R 및 R1은 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 직쇄상 또는 측쇄상 알킬기이며, n은 0 내지 3의 정수이고, 또 n'은 1 내지 3의 정수임)으로 나타낸 화합물을 1개 이상 함유하는 자외선 흡수제를 기술하고 있다. 일본국 특개소 제57-59840호(782)는 하기 일반식으로 나타낸 디벤조일메탄 유도체 1개 이상 및 화장품용으로 수용가능한 담체를 포함하는 자외선으로부터 피부를 보호하는 특성을 갖는 조성물을 기술하고 있다.Containing at least one compound represented by (wherein R and R 1 are linear or branched alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms, n is an integer of 0 to 3 and n 'is an integer of 1 to 3) It describes a UV absorber. Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-59840 (782) describes a composition having the property of protecting the skin from ultraviolet rays, including at least one dibenzoylmethane derivative represented by the following general formula and a carrier acceptable for cosmetics.

Figure kpo00006
Figure kpo00006

상기식에서, R1및 R2는 저급알킬기 또는 히드록시알킬기를 나타내고; R3는 저급알키기 또는 알콕시기를 나타내며; n은 0 내지 3의 정수이고; 또

Figure kpo00007
는 무기산 또는 유기산으로부터 유도된 음이온을 나타냄. 일본국 특개소 제57-197209호('82)는 광발연재로 하기 일반식의 디벤조일메탄의 히드록실 유도체 1개 이상 및 화장품용으로 수용가능한 담채를 포함하는 조성물을 기술하고 있다.Wherein R 1 and R 2 represent a lower alkyl group or a hydroxyalkyl group; R 3 represents a lower alkoxy group or an alkoxy group; n is an integer from 0 to 3; In addition
Figure kpo00007
Represents an anion derived from an inorganic or organic acid. Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-197209 ('82) discloses a composition comprising at least one hydroxyl derivative of dibenzoylmethane of the following general formula as a light-emitting material and an acceptable color for cosmetics.

Figure kpo00008
Figure kpo00008

상기식에서, R1, R2, R3및 R4는 수소원자, 할로겐원자, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 직쇄상 또는 측쇄상 알킬기, 또는 1 내지 4개 탄소원자를 갖는 알콕시기를 나타내고; 또 R은 수소원자 또는 1 내지 4개 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타냄. 또한, 일본국 특개소 제60-109544호('85)는 활성성분으로 하기 일반식으로 나타낸 캘콘 유도체를 함유하는 자외선 흡수제를 기술하고 있다.Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent a hydrogen atom, a halogen atom, a straight or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms; And R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-109544 ('85) discloses an ultraviolet absorber containing a calcon derivative represented by the following general formula as an active ingredient.

Figure kpo00009
Figure kpo00009

상기식에서, R1은 수소원자 또는 메틸기를 나타내며; 또 R2는 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄상 또는 측쇄상 지방족 탄화수소기를 나타냄.Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group; And R 2 represents a straight or branched aliphatic hydrocarbon group having 2 to 24 carbon atoms.

상기 기술한 자외선 흡수제이외에, 이산화티탄, 산화아연, 산화철등과 같은 자외선을 물리적으로 반사 또는 산란시키는 작용을 갖는 무기 분말이 또한 사용된다.In addition to the above-described ultraviolet absorbents, inorganic powders having the action of physically reflecting or scattering ultraviolet rays such as titanium dioxide, zinc oxide, iron oxide and the like are also used.

벤조페논 자외선 흡수제는 장파장 자외선(320-400nm)을 흡수하는 활성을 가지지만 피부의 수포 등을 유발하는 중파장 자외선(290-320nm)의 흡수에 있어서는 활성이 낮다.The benzophenone ultraviolet absorber has an activity of absorbing long wavelength ultraviolet rays (320-400 nm), but is low in absorption of medium wavelength ultraviolet rays (290-320 nm) which causes skin blisters and the like.

파라아미노벤조산 및 신남산 자외선 흡수제는 UV흡수효과는 높지만, 안정도에 있어서 문제점을 가지고 있다. 살리실산 UV흡수제는 UV흡수효과가 낮으므로 이들을 다량 배합하지 않는 한 만족스러운 효과를 기대할 수 없다.Paraaminobenzoic acid and cinnamic acid ultraviolet absorbers have a high UV absorption effect, but have problems in stability. Since the salicylic acid UV absorber has a low UV absorption effect, a satisfactory effect cannot be expected unless a large amount of these are combined.

무기 분말은 이들이 혼합될 수 있는 특정 화장품 형에 용도 제한을 받고, 또 이들은 다량으로 혼합될 경우 착색될 수 있는 문제점을 또한 가지고 있다.Inorganic powders are limited in use to certain cosmetic forms with which they can be mixed, and they also have the problem that they can be colored when mixed in large quantities.

자외선 흡수제는 또한 수지의 질저하를 방지하는 첨가물로도 사용된다. 첨가물로는, 살리실산 UV흡수제, 벤조페논 UV흡수제, 트리아졸 UV흡수제 및 시아노아크릴레이트 UV흡수제를 들수 있다. 그러나, 트리아졸 UV흡수제가 안정도 및 공중위생면에서 문제점을 갖는 반면, 살리실산 및 벤조페논 UV흡수제는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 및 폴리비닐클로라이드와 같은 수지에 영향을 주는 300-320nm부근 파장의 자외선의 흡수성이 낮다.UV absorbers are also used as additives to prevent the degradation of the resin. As an additive, a salicylic acid UV absorber, a benzophenone UV absorber, a triazole UV absorber, and a cyanoacrylate UV absorber are mentioned. However, while triazole UV absorbers have problems in terms of stability and hygiene, salicylic acid and benzophenone UV absorbers have an absorbance of ultraviolet radiation in the vicinity of 300-320 nm which affects resins such as polyethylene, polypropylene and polyvinyl chloride. low.

상기 기술한 바와같이, 수많은 자외선 흡수제가 개발되어 왔지만, UV흡수성, 안전성, 용매 및 수지내 용해성 및 안정성에 대한 모든 필요조건을 만족시키는 자외선 흡수제를 수득할 수 없었다. 그러므로, 탁월한 UV흡수성, 안전성 및 안정성을 갖는 자외선 흡수제와 그러한 UV흡수제를 함유하는 화장품 조성물의 실현을 필요로 하고 있었다.As described above, numerous ultraviolet absorbers have been developed, but no ultraviolet absorber that satisfies all requirements for UV absorbency, safety, solvent and solubility and stability in resins could not be obtained. Therefore, there has been a need for the realization of ultraviolet absorbers having excellent UV absorbency, safety and stability, and cosmetic compositions containing such UV absorbers.

상기와 같은 관점에서, 더욱 광범위한 연구 결과에 의하면, 하기 일반식(I)로 표시되는 벤질리덴 화합물이 중파장(240-400nm)의 자외선 흡수성이 높고 또 다양한 종류의 동물유, 식물유, 지방 및 유지류 및 유기용매에 쉽게 용해하며, 또 이러한 화합물을 1개 이상 함유하는 화장품 조성물이 양호한 UV흡수성, 피부의 홍반 등을 방지하는 효과, 광 및 열에 대한 안정성을 가지며, 또한 피부, 입술, 머리, 손톱 등에 자극적이지 않고 또 손상도 주지 않는다는 것을 발견하였다. 본 발명은 이러한 발견을 기초로하여 완성하였다.In view of the above, according to the results of a wider study, the benzylidene compound represented by the following general formula (I) has a high ultraviolet absorption of medium wavelength (240-400 nm) and various kinds of animal oil, vegetable oil, fat and oils and fats. And a cosmetic composition easily soluble in an organic solvent and containing one or more of these compounds, having good UV absorption, preventing skin erythema, and light and heat stability, and also having skin, lips, hair, nails, and the like. It was found to be neither irritating nor damaging. The present invention has been completed based on this finding.

본 발명의 제1목적은, 하기 일반식(I)로 표시되는 벤질리덴 화합물을 제공하는 것이다.A first object of the present invention is to provide a benzylidene compound represented by the following general formula (I).

Figure kpo00010
Figure kpo00010

상기식에서, A는 하기식으로 나타낸 기이고;Wherein A is a group represented by the following formula;

Figure kpo00011
Figure kpo00011

상기식에서, B는 수소원자 또는 아세틸기를 나타내고; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-CO-O-R을 나타내며; Y는 산소원자 또는 이미노기(-NH-)를 나타내며; Z은 메틸기 또는 페닐기를 나타내고; 또 R은 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상 알킬기, 또는 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 측쇄상 또는 고리상 알킬기이며 ;X1, X2및 X3은 독립적으로 수소원자, 히드록실기 또는 메톡실기(이들중 둘 또는 셋은 동일할 수 있거나 또는 이들 모두는 상이할 수 있음)를 나타내고 ;단, A가

Figure kpo00012
인 경우, R은 1 내지 2개 탄소원자를 갖는 알킬기가 아니며, 또 A가
Figure kpo00013
이고 또 X1, X2및 X3이 수소인 경우 R은 1 내지 2개 탄소원자를 갖는 알킬기가 아님.Wherein B represents a hydrogen atom or an acetyl group; W represents a hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -CO-OR; Y represents an oxygen atom or an imino group (-NH-); Z represents a methyl group or a phenyl group; And R is a linear alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms; X 1 , X 2 and X 3 are independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or a methoxyl group (Two or three of which may be the same or both may be different);
Figure kpo00012
R is not an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and A is
Figure kpo00013
And when X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen, R is not an alkyl group having from 1 to 2 carbon atoms.

본 발명의 제2목적은, 하기 일반식(I) 화합물을 1개 이상 함유하는 화장품 조성물을 제공하는 것이다.A second object of the present invention is to provide a cosmetic composition containing at least one compound of the following general formula (I).

Figure kpo00014
Figure kpo00014

상기식에서, A는 하기식으로 나타낸 기이고;Wherein A is a group represented by the following formula;

Figure kpo00015
Figure kpo00015

상기식에서, B는 수소원자 또는 아세틸기를 나타내고; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-CO-O-R을 나타내며; Y는 산소원자 또는 이미노기(-NH-)를 나타내며; Z은 메틸기 또는 페닐기를 나타내고; 또 R은 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상 알킬기, 또는 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 측쇄상 또는 고리상 알킬기를 나타내며; X1, X2및 X3는 독립적으로 수소원자, 히드록실기 또는 메톡실기(이들중 둘 또는 셋은 동일할 수 있거나 또는 이들 모두는 상이할 수 있음)를 나타내고; 단, A가

Figure kpo00016
인 경우, R은 1 내지 2개 탄소원자를 갖는 알킬기가 아니며, 또 A가
Figure kpo00017
이고 또 X1, X2및 X3이 수소원자인 경우, R은 1 내지 2개 탄소원자를 갖는 알킬기가 아님.Wherein B represents a hydrogen atom or an acetyl group; W represents a hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -CO-OR; Y represents an oxygen atom or an imino group (-NH-); Z represents a methyl group or a phenyl group; And R represents a straight chain alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms; X 1 , X 2 and X 3 independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group or a methoxyl group (two or three of which may be the same or both may be different); With A
Figure kpo00016
R is not an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and A is
Figure kpo00017
And when X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms, R is not an alkyl group having from 1 to 2 carbon atoms.

본 발명의 제3목적은, 하기 일반식(I)의 화합물을 1개 이상 함유하는 자외선 흡수제를 제공하는 것이다.A third object of the present invention is to provide an ultraviolet absorbent containing one or more compounds of the following general formula (I).

Figure kpo00018
Figure kpo00018

상기식에서, A는 하기식으로 나태낸 기이고;Wherein A is a group represented by the following formula;

Figure kpo00019
Figure kpo00019

상기식에서, B는 수소원자 또는 아세틸기를 나타내고; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-CO-O-R을 나타내며; Y는 산소원자 또는 이미노기(-NH-)를 나타내며; Z은 메틸기 또는 페닐기를 나타내고; 또 R은 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상 알킬기, 또는 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 측쇄상 또는 고리상 알킬기를 나타내며; X1, X2및 X3는 독립적으로 수소원자, 히드록실기 또는 메톡실기(이들중 둘 또는 셋은 동일할수 있거나 또는 이들 모두가 상이할 수 있음)를 나타내고; 단, A가

Figure kpo00020
인 경우, R은 1 내지 2개 탄소원자를 갖는 알킬기가 아니며, A가
Figure kpo00021
이고 또 X1, X2및 X3이 수소원자인 경우, R은 1 내지 2개 탄소원자를 갖는 알킬기가 아님.Wherein B represents a hydrogen atom or an acetyl group; W represents a hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -CO-OR; Y represents an oxygen atom or an imino group (-NH-); Z represents a methyl group or a phenyl group; And R represents a straight chain alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms; X 1 , X 2 and X 3 independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group or a methoxyl group (two or three of which may be the same or both may be different); With A
Figure kpo00020
When R is not an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, A is
Figure kpo00021
And when X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms, R is not an alkyl group having from 1 to 2 carbon atoms.

본 발명에 따른 일반식(I) 화합물은 A가 일반식(II)의 기인 일반식(I) 화합물, 즉 하기 일반식(IV)로 나타낸 화합물과 A가 일반식(III)의 기인 일반식(I) 화합물, 즉 하기 일반식(V)로 나타낸 화합물로 대충 분류할 수 있으며, 이들 모두는 신규한 화합물이다.The general formula (I) compound according to the present invention is a general formula (I) compound in which A is a group of general formula (II), that is, a compound represented by the following general formula (IV) and A is a group of general formula (III) I) can be roughly classified into compounds, ie, compounds represented by the following general formula (V), all of which are novel compounds.

Figure kpo00022
Figure kpo00022

Figure kpo00023
Figure kpo00023

상기식(IV)에서, B는 수소원자 또는 아세틸기이고; X1, X2및 X3은 각각 수소원자, 히드록실기 또는 메톡실기이며; Y는 산소원자 또는 이미노기(-NH-)이고; Z은 메틸기 또는 페닐기이며; 또 R은 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상, 측쇄상 또는 고리상 알킬기이고; 상기식(V)에서, X1및 X3은 수소원자 또는 메톡실기이고; X2는 메톡실기 또는 히드록실기이며; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-COOR이고; 또 R은 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상 알칼리, 또는 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 측쇄상 또는 고리상 알킬기이며; 또는 X1, X2및 X3은 수소원자이고; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-COOR이며; 또 R은 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상, 측쇄상 또는 고리상 상킬기임.In formula (IV), B is a hydrogen atom or an acetyl group; X 1 , X 2 and X 3 are each a hydrogen atom, a hydroxyl group or a methoxyl group; Y is an oxygen atom or an imino group (-NH-); Z is a methyl group or a phenyl group; And R is a straight, branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms; In the formula (V), X 1 and X 3 are a hydrogen atom or a methoxyl group; X 2 is a methoxyl group or a hydroxyl group; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -COOR; And R is a straight chain alkali having 1 to 18 carbon atoms, or a branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms; Or X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -COOR; And R is a straight chain, branched chain or cyclic ring group having 3 to 18 carbon atoms.

본 발명의 바람직한 화합물은 다음과 같다 : B는 수소원자 또는 아세틸이기고; X1및 X3이 수소원자 또는 메톡실기이며; X2는 메톡실기 또는 히드록실기이고; Y는 산소원자 또는 이미노기이며; 또 R은 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 아밀기, 이소아밀기, n-헥실기, 시클로헥실기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 2, 2, 4-트리메틸시클로헥실기, 데실기, 라우릴기, 미리스틸기, 세틸기 또는 스테아릴기인 일반식(IV)로 표시되는 화합물. X1및 X2가 메톡실기이고; X3가 수소원자이며; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-CO-O-R이고; 또 R은 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 아밀기, 이소아밀기, n-헥실기, 시클로헥실기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 2, 2, 4-트리메틸시클로헥실기, 데실기, 라우릴기, 미리스틸기, 세틸기 또는 스테아릴기인 일반식(V)로 표시되는 화합물, 그리고, X1, X2및 X3이 수소원자이고; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2CO-O-R이며; 또 R은 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 아밀기, 이소아밀기, n-헥실기, 시클로헥실기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 2, 2, 4-트리메틸시클로헥실기, 데실기, 라우릴기, 미리스틸기, 세틸기 또는 스테아릴기인 일반식(IV)로 표시되는 화합물.Preferred compounds of the invention are as follows: B is a hydrogen atom or acetyl; X 1 and X 3 are hydrogen atoms or methoxyl groups; X 2 is a methoxyl group or a hydroxyl group; Y is an oxygen atom or an imino group; R is isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, amyl group, isoamyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2, 2, 4-trimethyl The compound represented by general formula (IV) which is a cyclohexyl group, a decyl group, a lauryl group, a myristyl group, a cetyl group, or a stearyl group. X 1 and X 2 are methoxyl groups; X 3 is a hydrogen atom; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -CO-OR; R is methyl, ethyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, amyl, isoamyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-octyl, 2-ethylhexyl, 2, 2 A compound represented by the general formula (V) which is a 4-trimethylcyclohexyl group, a decyl group, a lauryl group, a myristyl group, a cetyl group, or a stearyl group, and X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 CO-OR; R is isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, amyl group, isoamyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2, 2, 4-trimethyl The compound represented by general formula (IV) which is a cyclohexyl group, a decyl group, a lauryl group, a myristyl group, a cetyl group, or a stearyl group.

본 발명의 더욱 바람직한 화합물은 다음과 같다 : B는 수소원자 또는 아세틸기이고; X1및 X3은 수소원자이며; X2는 메톡실기이고; Y는 산소원자 또는 아미노기(-NH-)이며; Z은 메틸기 또는 페닐기이고; 또 R은 이소프로필, 2-에틸헥실, 라우릴, 이소스테아릴, 시클로헥실 또는 3, 3, 5-트리메틸시클로헥실기인 일반식(IV)로 표시되는 화합물. X1및 X2는 메톡실기이고, X3는 수소원자이며; W는 수소원자 또는 -CH2CH2COOR이고; 또 R은 메틸, 에틸, n-부틸, 이소부틸 또는 2-에틸헥실기인 일반식(V)로 표시되는 화합물, 그리고, X1, X2및 X3는 수소원자이고; W는 수소원자이며; 또 R은 n-부틸, 이소부틸 또는 2-에틸헥실기인 일반식(V)로 표시되는 화합물.More preferred compounds of the present invention are as follows: B is a hydrogen atom or an acetyl group; X 1 and X 3 are hydrogen atoms; X 2 is a methoxyl group; Y is an oxygen atom or an amino group (-NH-); Z is a methyl group or a phenyl group; And R is a compound represented by formula (IV) wherein isopropyl, 2-ethylhexyl, lauryl, isostearyl, cyclohexyl or a 3, 3, 5-trimethylcyclohexyl group. X 1 and X 2 are methoxyl groups and X 3 is a hydrogen atom; W is hydrogen atom or -CH 2 CH 2 COOR; And R is a compound represented by the formula (V) which is methyl, ethyl, n-butyl, isobutyl or 2-ethylhexyl group, and X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms; W is a hydrogen atom; And R is a compound represented by formula (V) wherein n-butyl, isobutyl or 2-ethylhexyl group.

일반식(IV)로 표시되는 화합물은 다음과 같은 방법에 의해 제조할 수 있다. (1) 염기성 촉매 존재하에서, 하기에 나타낸 일반식(VI)의 방향족 알데히드를(i-1) 하기에 나타낸 일반식(VII)의 아세틸글리신 또는 벤조일글리신 또는 (i-2) 하기에 나타낸 일반식(IX)의 아즈락톤 전구체(azlactone)와 축합시키고 또 (ii-1) 하기에 나타낸 일반식(VIII)으로 표시되는 생성한 아락톤(alactone)화합물을 가수분해시키고 또 이어 에스테르화 또는 아미드화시키거나, 또는 (ii-2) 하기에 나타낸 일반식(VIII)로 표시되는 생성한 아락톤을 직접 알코올 분해 또는 아미노분해시키고, 또(iii) 필요한 경우 아미드의 질소 원자를 아세틸화시킨다. (2) 하기에 나타낸 일반식(X)의 α-케토산 또는 에스테르를 하기에 나타낸 일반식(XI)의 포스핀의 이민 또는 아미드와 축합시킨다. (3) 하기에 나타낸 일반식(XII)의 N-히드록시아미노 에스테르와 하기에 나타낸 일반식(XII)의 화합물을 반응시키고, 또 생성한 하기 일반식(XIV)의 N-히드록실아미노산 에스테르를 탈수시킨다.The compound represented by general formula (IV) can be manufactured by the following method. (1) In the presence of a basic catalyst, the aromatic aldehyde of the general formula (VI) shown below (i-1) the acetylglycine or benzoylglycine of the general formula (VII) shown below or (i-2) the general formula shown below Condensation with the azlactone precursor of (IX) and (ii-1) hydrolyzing the resulting alactone compound represented by the general formula (VIII) shown below, followed by esterification or amidation. Or (ii-2) direct alcohol degradation or amino decomposition of the resulting alactone represented by the general formula (VIII) shown below, and (iii) acetylation of the nitrogen atom of the amide, if necessary. (2) The α-keto acid or ester of the general formula (X) shown below is condensed with an imine or amide of the phosphine of the general formula (XI) shown below. (3) N-hydroxyamino ester of the general formula (XII) shown below is reacted with a compound of the general formula (XII) shown below, and the resulting N-hydroxyamino acid ester of the general formula (XIV) Dehydrate.

상기 기술한 제조 방법(1)-(3)에서의 반응식은 다음과 같다.The reaction schemes in the above-mentioned production methods (1)-(3) are as follows.

방법 (1)Method (1)

Figure kpo00024
Figure kpo00024

아세틸화 반응이 더 진행하는 경우 :If the acetylation reaction proceeds further:

(iii) 일반식(I')의 화합물(iii) a compound of formula (I ')

〔일반식(IV)의 화합물, (여기서, B=H임)〕[Compound of General Formula (IV), wherein B = H]

상기식에서, X1, X2, X3, Y, Z 및 R은 상기 정의한 바와 같음.Wherein X 1 , X 2 , X 3 , Y, Z and R are as defined above.

Figure kpo00025
Figure kpo00025

방법 (2)Method (2)

Figure kpo00026
Figure kpo00026

상기식에서, X1, X2, X3, Y, Z 및 R은 상기 정의한 바와 같음.Wherein X 1 , X 2 , X 3 , Y, Z and R are as defined above.

방법 (3)Method (3)

Figure kpo00027
Figure kpo00027

상기식에서, X1, X2, X3, Y, Z 및 R은 상기 정의한 바와 같음.Wherein X 1 , X 2 , X 3 , Y, Z and R are as defined above.

방법(1)에서, 염기성 촉매 존재하에서의, 일반식(VI)의 방향족 알데히드 및 일반식(VII)의 아세틸글리신 또는 벤조일글리신과의 축합반응은 0 내지 150℃온도에서 수행한다.In process (1), the condensation reaction with the aromatic aldehyde of formula (VI) and acetylglycine or benzoylglycine of formula (VII) in the presence of a basic catalyst is carried out at a temperature of 0 to 150 ° C.

염기성 촉매 존재하에서, 일반식(VI)의 방향족 알데히드 및 일반식(IX)의 아즈락톤 전구물질과의 축합반응은 70 내지 150℃온도에서 수행한다. 염기성 촉매로는, 피페리딘 및 트리에틸아민과 같은 아민; 나트륨 알콜레이트, 칼륨 알콜레이트등과 같은 금속 알콜레이트; 나트륨 아세테이트, 부틸 리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등을 들수 있다.In the presence of a basic catalyst, the condensation reaction with the aromatic aldehyde of formula (VI) and the azlactone precursor of formula (IX) is carried out at a temperature of 70 to 150 ° C. Basic catalysts include amines such as piperidine and triethylamine; Metal alcoholates such as sodium alcoholate, potassium alcoholate and the like; Sodium acetate, butyl lithium, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like.

일반식(VIII)로 표시되는 생성한 아즈락톤 화합물의 가수분해는 10 내지 150℃온도에서 수행한다. 가수분해된 화합물의 에스테르화반응 또는 아미드화반응은 0 내지 150℃온도에서 수행한다.Hydrolysis of the resulting azlactone compound represented by formula (VIII) is carried out at a temperature of 10 to 150 ℃. The esterification or amidation of the hydrolyzed compound is carried out at a temperature of 0 to 150 ° C.

일반식(VIII)로 표시되는 아즈락톤 화합물의 알코올 분해반응은 바람직하게는 금속 알콜레이트(예를들어, 나트륨 알콜레이트, 칼륨 알콜레이트등), 수산화나트륨, 수산화칼륨등과 같은 염기성 촉매를 사용하여 10 내지 150℃온도에서 수행한다. 일반식(I')의 화합물내에 있는 아미드 질소원자의 아세틸화 반응은 바람직하게는 디메틸아미노피리딘, 피롤리디노피린딘등과 같은 촉매를 사용하여 -30 내지 150℃ 온도에서 수행한다.The alcohol decomposition reaction of the azlactone compound represented by the general formula (VIII) is preferably carried out using a basic catalyst such as metal alcoholate (e.g., sodium alcoholate, potassium alcoholate, etc.), sodium hydroxide, potassium hydroxide, or the like. It is carried out at a temperature of 10 to 150 ℃. The acetylation reaction of the amide nitrogen atom in the compound of formula (I ') is preferably carried out at a temperature of -30 to 150 ° C using a catalyst such as dimethylaminopyridine, pyrrolidinopyridine and the like.

방법(2)에서, 일반식(X)의 α-케토산 또는 에스테르 및 일반식(XI)의 포스핀의 이민 또는 아민과의 축합반응은 -30 내지 150℃온도에서 수행한다.In process (2), the condensation reaction of α-keto acid or ester of general formula (X) with an amine or amine of phosphine of general formula (XI) is carried out at a temperature of -30 to 150 ° C.

방법(3)에서, 일반식(XII)의 N-히드록시아미노 에스테르 화합물 및 일반식(XIII)의 화합물과의 반응은 피리딘, 디메틸아미노피리딘 및 피롤리디노피리딘과 같은 촉매 존재하에서 -30 내지 150℃온도에서 수행한다.In method (3), the reaction of the N-hydroxyamino ester compound of formula (XII) and the compound of formula (XIII) is -30 to 150 in the presence of a catalyst such as pyridine, dimethylaminopyridine and pyrrolidinopyridine. It is carried out at a temperature of ℃.

II. 일반식(V)로 표시되는 화합물은 다음과 같은 방법에 의해 제조될 수 있다 :II. The compound represented by general formula (V) may be prepared by the following method:

염기성 촉매 존재하에서, 일반식(VI)의 방향족 알데히드 및 일반식(XV)의 히단토인을 축합시키고; 또 수득된 일반식(XVI)의 벤잘히단토인에 일반식(XVII)의 아크릴에스테르를 미카엘첨가 반응시킨다.Condensation of the aromatic aldehyde of formula (VI) and hydantoin of formula (XV) in the presence of a basic catalyst; Furthermore, the Michael addition reaction of the acrylic ester of general formula (XVII) is carried out to the obtained benzalhydantoin of general formula (XVI).

본 제조방법에서의 반응식은 다음과 같다.The reaction scheme in the production method is as follows.

Figure kpo00028
Figure kpo00028

상기식에서, X1, X2, X3및 R은 상기 정의한 바와 같음.Wherein X 1 , X 2 , X 3 and R are as defined above.

일반식(VI)의 방향족 알데히드 및 일반식(XV)의 히단토인과의 축합반응은 0 내지 150℃온도에서 수행한다. 염기성 촉매로는, 피페리딘, 트리에틸아민과 같은 아민; 아미노산; 암모니아 수용액; 나트륨알콜레이트, 칼륨 알콜레이트등과 같은 금속 알콜레이트; 나트륨 아세테이트, 수산화나트륨, 수산화칼륨등이 사용된다.The condensation reaction of the aromatic aldehyde of general formula (VI) with hydantoin of general formula (XV) is carried out at a temperature of 0 to 150 ° C. Basic catalysts include amines such as piperidine and triethylamine; amino acid; Aqueous ammonia solution; Metal alcoholates such as sodium alcoholate, potassium alcoholate and the like; Sodium acetate, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like are used.

일반식(XVII)의 아크릴 에스테르를 미카엘첨가 반응시켜 일반식(XVI)의 벤잘히단토인을 생성하는 반응은 20 내지 200℃온도에서 수행한다.The reaction for producing the benzalhydantoin of the general formula (XVI) by adding the Michael ester of the acrylic ester of the general formula (XVII) is carried out at a temperature of 20 to 200 ℃.

하기는 본 발명에 따른 일반식(IV)화합물의 예이다 :The following are examples of compounds of general formula (IV) according to the invention:

N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 라우릴아미드, N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 이소프로필 에스테르, N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 라우릴 에스테르, N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 스테아릴 에스테르, N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신-2-에틸헥실에스테르, N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신시클로헥실 에스테르, N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 3, 3, 5-트리메틸시클로헥실 에스테르, N-아세틸-O-메틸-α-데히드로티로신 이소프로필 에스테르, N-아세틸-O-메틸-α-데히드로티로신 2-에틸헥실 에스테르, N-아세틸-O-메틸-α-데히드로티로신 라우릴 에스테르, N-아세틸-O-메틸-α-데히드로티로신 2-스테아릴 에스테르, N-아세틸-N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 이소프로필에스테르, N-아세틸-N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 2-에틸헥실 에스테르, N-아세틸-N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 라우릴 에스테르, N-아세틸-N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 스테아릴 에스테르, N, N-디아세틸-O-메틸-α-데히드로티로신 이소프로필 에스테르, N, N-디아세틸-O-메틸-α-데히드로티로신 2-에틸헥실 에스테르, N, N-디아세틸-O-메틸-α-데히드로티로신 라우릴 에스테르, N, N-디아세틸-O-메틸-α-데히드로티로신 스테아릴 에스테르, N-아세틸-N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 n-부틸 에스테르, N, N-디아세틸-O-메틸-α-데히드로티로신 n-부틸 에스테르, 및 N-벤조일-3, 4, 5-트리메톡시-α-데히드로페닐알라닌 2-에틸헥실 에스테르.N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine laurylamide, N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine isopropyl ester, N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine lauryl ester , N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine stearyl ester, N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine-2-ethylhexyl ester, N-benzoyl-O-methyl-α-dehydro Tyrosinecyclohexyl ester, N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine 3, 3, 5-trimethylcyclohexyl ester, N-acetyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine isopropyl ester, N-acetyl- O-methyl-α-dehydrotyrosine 2-ethylhexyl ester, N-acetyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine lauryl ester, N-acetyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine 2-stearyl ester , N-acetyl-N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine isopropyl ester, N-acetyl-N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine 2-ethylhexyl ester, N-acetyl-N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine lauryl ester, N-acetyl-N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine stearyl ester, N, N-diacetyl-O -Methyl-α-dehydrotyrosine isopropyl ester, N, N-diacetyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine 2-ethylhexyl ester, N, N-diacetyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine Lauryl ester, N, N-diacetyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine stearyl ester, N-acetyl-N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine n-butyl ester, N, N- Diacetyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine n-butyl ester, and N-benzoyl-3, 4, 5-trimethoxy-α-dehydrophenylalanine 2-ethylhexyl ester.

본 발명에 따른 일반식(V)화합물의 예 :Examples of general formula (V) compounds according to the invention:

디이소프로필 4-벤질리덴-2, 5-디옥소-1, 3-이미다졸리딘 디프로피오네이트, 디-n-부틸-4-벤질리덴-2, 5-디옥소-1, 3-이미다졸리딘 디프로피오네이트, 디이소부틸 4-벤질리덴-2, 5-디옥소-1, 3-이미다졸리딘 디프로피오네이트, 비스(2-에틸헥실) 4-벤질리덴-2, 5-디옥소-1, 3-이미다졸리딘 디프로피오네이트, 이소프로필 4-벤질리덴-2, 5-디옥소-1- 이미다졸리딘 프로피오네이트, n-부틸 4-벤질리덴-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘 프로피오네이트, 이소부틸 4-벤질리덴-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘 프로피오네이트, 2-에틸헥실 4-벤질리덴-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘 프로피오네이트, 디멜틸 4-(3, 4-디메톡시페닐)메틸렌-2, 5-디옥소-1, 3-이미다졸리딘 디프로피오네이트, 디에틸 4-(3, 4-디메톡시페닐)-메틸렌-2, 5-디옥소-1, 3-이미다졸리딘 디프로피오네이트, 디이소프로필 4-(3, 4-디메톡시페닐)메틸렌-2, 5-디옥소-1, 3-이미다졸리딘 디프로피오네이트, 디-n-부틸 4-(3, 4-디메톡시페닐)메틸렌-2, 5-디옥소-1, 3-이미다졸리딘 디프로피오네이트, 디이소부틸 4-(3, 4-디메톡시페닐)메틸렌-2, 5-디옥소-1, 3-이미다졸리딘디 프로피오네이트, 비스(2-에틸헥실) 4-(3, 4-디메톡시페닐)메틸렌-2, 5-디옥소-1, 3-이미다졸리딘디프로피오네이트, 이소프로필 4-(3, 4-디메톡시페닐)메틸렌-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘프로피오네이트, 메틸 4-(3, 4-디메톡시페닐)메틸렌-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘 프로피오네이트, 에틸 4-(3, 4-디메톡시페닐)메틸렌-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘 프로피오네이트, n-부틸 4-(3, 4-디메톡시페닐)메틸렌-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘 프로피오네이트, 이소부틸 4-(3, 4-디메톡시페닐)메틸렌-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘 프로피오네이트, 2-에틸헥실 4-(3, 4-디메톡시페닐)메틸렌-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘 프로피오네이트, 에틸 4-(4-메톡시페닐)메틸렌 2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘 프로피오네이트, 및 에틸 4-(3, 4, 5-트리메톡시페닐)메틸렌-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘 프로피오네이트.Diisopropyl 4-benzylidene-2, 5-dioxo-1, 3-imidazolidine dipropionate, di-n-butyl-4-benzylidene-2, 5-dioxo-1, 3- Imidazolidine dipropionate, diisobutyl 4-benzylidene-2, 5-dioxo-1, 3-imidazolidine dipropionate, bis (2-ethylhexyl) 4-benzylidene-2 , 5-dioxo-1, 3-imidazolidine dipropionate, isopropyl 4-benzylidene-2, 5-dioxo-1-imidazolidine propionate, n-butyl 4-benzylidene -2,5-dioxo-1-imidazolidine propionate, isobutyl 4-benzylidene-2, 5-dioxo-1-imidazolidine propionate, 2-ethylhexyl 4-benzylidene -2,5-dioxo-1-imidazolidine propionate, dimeltyl 4- (3,4-dimethoxyphenyl) methylene-2, 5-dioxo-1, 3-imidazolidine diprop Cypionate, Diethyl 4- (3, 4-dimethoxyphenyl) -methylene-2, 5-dioxo-1, 3-imidazolidine dipropionate, diisopropyl 4- (3, 4-dimeth Cyphenyl) methylene-2, 5-dioxo-1, 3-imidazolidine dipropionate, di-n-butyl 4- (3,4-dimethoxyphenyl) methylene-2, 5-dioxo- 1, 3-imidazolidine dipropionate, diisobutyl 4- (3,4-dimethoxyphenyl) methylene-2, 5-dioxo-1, 3-imidazolidinedi propionate, bis ( 2-ethylhexyl) 4- (3,4-dimethoxyphenyl) methylene-2, 5-dioxo-1, 3-imidazolidinedipropionate, isopropyl 4- (3, 4-dimethoxyphenyl Methylene-2, 5-dioxo-1-imidazolidine propionate, methyl 4- (3,4-dimethoxyphenyl) methylene-2, 5-dioxo-1-imidazolidine propionate Ethyl 4- (3,4-dimethoxyphenyl) methylene-2,5-dioxo-1-imidazolidine propionate, n-butyl 4- (3,4-dimethoxyphenyl) methylene-2, 5-dioxo-1-imidazolidine propionate, isobutyl 4- (3,4-dimethoxyphenyl) methylene-2, 5-dioxo-1-imidazolidine propionate, 2-ethyl Hexyl 4- (3, 4- Methoxyphenyl) methylene-2, 5-dioxo-1-imidazolidine propionate, ethyl 4- (4-methoxyphenyl) methylene 2, 5-dioxo-1-imidazolidine propionate And ethyl 4- (3, 4, 5-trimethoxyphenyl) methylene-2, 5-dioxo-1-imidazolidine propionate.

본 발명에 따른 화장품 조성물은 일반식(I)로 표시되는 화합물 및 유상 성분, 수상 성분, 분말 성분 및/또는 이들 성분 물질을 유화, 분산 또는 용해하는 계면활성제 성분과 같은 화장품 조성물에 일반적으로 사용되는 공지된 성분들로 구성되어 있다.Cosmetic compositions according to the invention are generally used in cosmetic compositions such as compounds represented by general formula (I) and oily components, aqueous phase components, powder components and / or surfactant components which emulsify, disperse or dissolve these component substances. It consists of known components.

본 발명의 조성물에 사용 가능한 공지된 성분의 예는 다음과 같다.Examples of known components that can be used in the composition of the present invention are as follows.

유상 성분으로는, 밀랍, 목랍, 고래왁스, 카르나우바왁스, 칸델리라왁스, 카카오유, 세틸 알코올, 스테아릴알코올, 올레산, 스테아르산, 라놀린, 올리브유, 쯔바키유, 목화씨유, 피마자유, 올레일알코올, 스콸란등과 같은 동물유 또는 식물유; 고체 파라핀, 세레신, 미세결정왁스, 바셀린, 액체 파라핀, 실리콘유등과 같은 광물유 및 지방; 이소프로필 미리스테이트, 합성 폴리에테르 등과 같은 합성유 및 지방을 들수 있다.As an oily ingredient, beeswax, wax, whale wax, carnauba wax, candela wax, cacao oil, cetyl alcohol, stearyl alcohol, oleic acid, stearic acid, lanolin, olive oil, tsubaki oil, cottonseed oil, castor oil, Animal or vegetable oils such as oleyl alcohol, squalane and the like; Mineral oils and fats such as solid paraffin, ceresin, microcrystalline wax, petrolatum, liquid paraffin, silicone oils and the like; Synthetic oils and fats such as isopropyl myristate, synthetic polyether, and the like.

수상 성분으로는, 글리세린, 프로필렌, 글리콜, 소르비톨, 폴리에틸렌 글리콜, 퀸 씨드 검(Quine Seed gum), 트라가칸트 고무, 알긴산, 팩틴, 카르복시메틸 셀룰로즈, 하이알우론산, 수용성키틴, 폴리비닐알콜, 에탄올, 이소프로판올, 시트르산, 우레아, 양이온화 셀룰로즈 지방산 폴리팹티드 축합생성물, 라우르산, 피롤리돈 카르복실레이트 및 다양한 형의 아미노산을 예로 들수 있다. 계면활성제로는, 폴리옥시에틸렌 지방산 부분 에스테르, 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 부분 에스테르, 폴리옥시에틸렌 글리세린 지방산 부분 에스테르, 폴리글리세린 지방산 부분 에스테르, 지방산 알칸올 아미드, 지방산 알칸올 아미드-에틸렌 옥사이드 첨가 생성물, 폴리옥시에틸렌 글리세린 지방산, 모노글리세린 파이로글루타미네이트, 글리세린 아실글루타미네이트 등과 같은 비이온성 계면활성제; 알킬술페이트, 폴리옥시에틸렌 알킬 술페이트, 지방산 아미드에테르 술페이트, 알킬 벤젠 술페이트, 알콕시 술포네이트, 술포숙신산 고급 알코올 에스테르 염, N-긴사슬 지방산 아실-N-메틸-타우린염, 지방산염, N-긴사슬 아실 글루타미네이트, N-긴사슬 아실사코신염, 모노알킬 포스페이트등과 같은 음이온성 계면활성제; 카르복시베테인형, 이미다졸린형, 레시틴, 아미노술폰산형, 알킬아민 옥사이트형, Nα, Nα-디메틸 또는 Nα, Nα, Nα-트리메틸-N-아실 염기성 아미노산등과 같은 양쪽성 계면활성제; 디알킬디메틸 암모늄클로라이드, 알킬트리메틸 암모늄 클로라이드, 지방산 아실 알기닌 에틸 에스테르염 등과 같은 양이온성 계면활성제를 들수 있다. 분말로는, 활석, 카올린, 산화티탄, 티탄이 피복된 운모, 운모, 산화철, 군청규산, 프루시안 블루, 아연화, 점토, 침전된 칼슘카보네이트등과 같은 무기 분말; 및 N-긴사슬 아실 염기성 아미노산등과 같은 유기 분말을 들수 있다.As an aqueous phase component, glycerin, propylene, glycol, sorbitol, polyethylene glycol, queen seed gum, tragacanth rubber, alginic acid, pectin, carboxymethyl cellulose, hyaluronic acid, water soluble chitin, polyvinyl alcohol, ethanol , Isopropanol, citric acid, urea, cationic cellulose fatty acid polyfabricated condensation products, lauric acid, pyrrolidone carboxylate and various types of amino acids. As the surfactant, polyoxyethylene fatty acid partial ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial ester, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial ester, polyglycerol fatty acid partial ester, fatty acid alkanol amide, fatty acid alkanol amide-ethylene oxide addition product, Nonionic surfactants such as polyoxyethylene glycerin fatty acid, monoglycerine pyroglutamate, glycerin acyl glutamate, and the like; Alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl sulfates, fatty acid amide ether sulfates, alkyl benzene sulfates, alkoxy sulfonates, sulfosuccinic acid higher alcohol ester salts, N-long chain fatty acid acyl-N-methyl-taurine salts, fatty acid salts, Anionic surfactants such as N-long chain acyl glutamate, N-long chain acylsacosine salt, monoalkyl phosphate and the like; Amphoteric surfactants such as carboxybetaine type, imidazoline type, lecithin, aminosulfonic acid type, alkylamine oxite type, Nα, Nα-dimethyl or Nα, Nα, Nα-trimethyl-N-acyl basic amino acids; Cationic surfactants such as dialkyldimethyl ammonium chloride, alkyltrimethyl ammonium chloride, fatty acid acyl arginine ethyl ester salt and the like. Examples of the powder include inorganic powders such as talc, kaolin, titanium oxide, titanium-coated mica, mica, iron oxide, ultramarine silicate, prussian blue, galvanized, clay and precipitated calcium carbonate; And organic powders such as N-long chain acyl basic amino acids.

본 발명의 화장품 조성물은 농조화제, 연화제, 습윤제, 과지방제, 이완제, 방부제, 소포제, 향수, 조성물자신 또는 피부를 착색하는 염료와 같은 통상 사용되는 화장품 보조제 및 화장품에 보통 사용되는 기타 물질을 더 함유할 수 있다.The cosmetic composition of the present invention further contains a thickening agent, a softener, a humectant, a hyperfatting agent, a relaxing agent, a preservative, an antifoaming agent, a perfume, the composition itself or other substances commonly used in cosmetics such as dyes for coloring the skin. can do.

본 발명의 화장품 조성물은 혼합될 성분의 유형과 양을 적당히 선택 및 조정함으로써 용액, 유제, 반죽 혼합물, 고체(압축 제제), 분말 등과 같은 필요로 하는 형태로 제조할 수 있다. 본 발명의 화장품 조성물의 용도로는, 썬 오일, 로션, 크림, 밀크로션, 헤어린스, 헤어컨디셔너, 액체 화운데이션, 립스틱, 화운데이션, 백분, 에어로졸 등을 들수 있다.Cosmetic compositions of the present invention can be prepared in the required form, such as solutions, emulsions, dough mixtures, solids (compressed formulations), powders, etc. by appropriately selecting and adjusting the type and amount of ingredients to be mixed. Uses of the cosmetic composition of the present invention include sun oil, lotion, cream, milk lotion, hair conditioner, hair conditioner, liquid foundation, lipstick, foundation, powder, aerosol and the like.

본 발명의 화장품 조성물에서 일반식(I) 화합물의 함량은 혼합성분 및 자외선 차단지수(SPF)의 노성물에 따라 변하지만, 그 함량은 통상 0.1 내지 20중량%, 바람직하게는 0.5 내지 10중량%이다.The content of the compound of general formula (I) in the cosmetic composition of the present invention varies depending on the mixed components and the aging of the sun protection index (SPF), but the content is usually 0.1 to 20% by weight, preferably 0.5 to 10% by weight. to be.

본 발명의 화장품 조성물에 함유될 자외선 흡수제로는, 일반식(I)로 표시되는 화합물중의 하나를 단독으로 또는 이들 화합물 2개 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 일반식(I) 화합물의 1개 이상을 기타 형의 자외선 흡수제와 혼합하여 사용할 수 있다.As the ultraviolet absorber to be contained in the cosmetic composition of the present invention, one of the compounds represented by the general formula (I) may be used alone or in combination of two or more of these compounds. In addition, one or more of the compounds of the general formula (I) may be used in combination with other types of ultraviolet absorbers.

일반식(I) 화합물과 혼합하여 사용될 수 있는 기타 자외선 흡수제형으로는, P-메틸벤질리덴-D, L-장뇌와 같은 장뇌 유도체 또는 그의 나트륨 술포네이트; 나트륨 2-페닐벤즈이미다졸-5-술포네이트, 나트륨 3, 4-디메틸페닐글리옥실레이트, 이소옥틸 4-페닐벤조페논-2-카르복실레이트등과 같은 벤조페논; 및 P-메톡시신남산 에스테르, 2-페닐-5-메틸벤조옥사졸, 2-에틸헥실 살리실레이트, P-디메틸아미노벤조산 에스테르 등을 들수 있다.Other ultraviolet absorber types that can be used in admixture with the compound of formula (I) include camphor derivatives such as P-methylbenzylidene-D, L-camphor or sodium sulfonates thereof; Benzophenones such as sodium 2-phenylbenzimidazole-5-sulfonate, sodium 3, 4-dimethylphenylglyoxylate, isooctyl 4-phenylbenzophenone-2-carboxylate and the like; And P-methoxycinnamic acid ester, 2-phenyl-5-methylbenzooxazole, 2-ethylhexyl salicylate, P-dimethylaminobenzoic acid ester, and the like.

이들은 또한 확산제로 작용하는 산화티탄과 같은 무기분말과 함께 사용될 수 있다.They can also be used with inorganic powders such as titanium oxide, which act as a diffusing agent.

본 발명에서 사용된 일반식(I)로 표시되는 화합물은 270-320nm에서 104이상의 높은 분자흡광계수를 가지고 있다. 이들 화합물은 또한 피부의 홍반을 유발하는 290-320nm파장의 자외선 및 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리비닐클로라이드등과 같은 수지의 품질 저하를 유발하는 300-320nm파장의 자외선 흡수성이 높다. 또한, 일반식(I)의 화합물은, 예를들어 N-벤조일-α-디히드로티로신 및 O-메틸-N-벤조일-α-디히드로티로신과 같은 공지된 화합물과 비교할 때, R의 영향 때문에 다양한 종류의 동물유 및 식물유, 지방 및 유지류 및 유기용매 내에서의 용해도가 현저하게 개선된다. 또한, 아미드의 수소원자가 아세틸기로 치환된 일반식(I)의 화합물은 다양한 종류의 동물유 및 식물유, 지방 및 유지류 및 유기용매내에서 용해도가 훨씬 더 양호하다.The compound represented by formula (I) used in the present invention has a high molecular extinction coefficient of 10 4 or more at 270-320 nm. These compounds also have high UV absorption at 290-320 nm wavelengths that cause skin erythema and 300-320 nm wavelengths that cause degradation of resins such as polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, and the like. In addition, the compounds of general formula (I) are, for example, due to the influence of R when compared to known compounds such as N-benzoyl-α-dihydrotyrosine and O-methyl-N-benzoyl-α-dihydrotyrosine. Solubility in various kinds of animal and vegetable oils, fats and oils and organic solvents is significantly improved. In addition, compounds of formula (I) in which the hydrogen atom of the amide is substituted with an acetyl group have much better solubility in various types of animal and vegetable oils, fats and oils and organic solvents.

그러므로, 일반식(I)의 화합물은 다양한 종류의 동물유 및 식물유, 지방 및 유지 및 기타 유기용매내에 잘 용해될 수 있고, 또 크림, 밀크로션, 화운데이션, 헤어크림, 자외선 차단 오일(안티 썬번 오일 : antisunburn oil)등과 같은 화장품 제제에 첨가되는 경우 안정한 조성물을 제공할 수 있다. 또한, 이들 화합물이 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리비닐클로라이드, ABS수지, 폴리카보네이트등과 같은 수지에 첨가되는 경우, 본 발명의 화합물은 이들 수지와의 융화성이 양호하다. 본 발명에서 사용된 일반식(IV)의 α-디히드로아미노산 유도체는, 시판중인 자외선 흡수제(예를 들어 벤조페논 UV흡수제, 트리아졸 UV흡수제 및 살리실산 UV흡수제)와 비교할 때, 다음과 같은 이점을 가지고 있다. (1) 자외선에 대한 이들 유도체의 억제 효과는 특히 산소존재하에서 탁월하다. (2) 이들 유도체는 열 및 광 안정도가 탁월하며 또 이들 효과는 오래 지속한다. (3) 이들 유도체는 시판중인 UV흡수제보다 2 내지 10배 높은 UV분자흡광계수를 가지고 있다. (4) 다양한 중합체 물질과의 융화성이 양호하므로, 이들 유도체는 섬유, 수지 등의 가소제로 사용될 수 있고, 또한 황변 억제제로도 사용될 수 있다.Therefore, the compound of general formula (I) can be well dissolved in various kinds of animal and vegetable oils, fats and fats and other organic solvents, and can also be used in creams, milk lotions, foundations, hair creams and sunscreen oils (anti-sunburn oils). It can provide a stable composition when added to cosmetic preparations such as antisunburn oil. In addition, when these compounds are added to resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, ABS resin, polycarbonate and the like, the compound of the present invention has good compatibility with these resins. The α-dihydroamino acid derivatives of general formula (IV) used in the present invention have the following advantages when compared to commercially available ultraviolet absorbers (e.g., benzophenone UV absorbers, triazole UV absorbers and salicylic acid UV absorbers). Have. (1) The inhibitory effect of these derivatives on ultraviolet light is particularly excellent in the presence of oxygen. (2) These derivatives have excellent thermal and light stability and these effects last long. (3) These derivatives have UV molecular absorption coefficients that are 2 to 10 times higher than commercial UV absorbers. (4) Since compatibility with various polymer materials is good, these derivatives can be used as plasticizers for fibers, resins, etc., and can also be used as yellowing inhibitors.

상기 기술한 바와같이, 본 발명의 화합물은 향수 및 화장품 공업, 플라스틱 공업, 유기약제공업, 사진공업, 식품공업 및 섬유공업을 포함하는 폭넓은 사용범위와 사용분야를 가지고 있다.As described above, the compounds of the present invention have a wide range of uses and fields of use, including the perfume and cosmetics industry, the plastics industry, the organic drug industry, the photography industry, the food industry and the textile industry.

특히, 본 발명의 화합물이 240-360nm(최대흡수파장 : 300-340nm)파장의 자외선 흡수성을 가지기 때문에, 화장품에 이 화합물이 사용되는 경우, 다양한 선택적 UV흡수성을 갖는 안티 썬번 및 홍반방지 화장품을 제공한다. 또한, 이들 화합물이 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리비닐클로라이드등과 같은 중합체내에 혼합되는 경우, 자외선에 의한 중합체의 질 저하가 현저하게 감소된다.In particular, since the compound of the present invention has an ultraviolet absorption of 240-360nm (maximum absorption wavelength: 300-340nm) wavelength, when the compound is used in cosmetics, it provides an anti-sunburn and anti-erythema cosmetics having various selective UV absorption do. In addition, when these compounds are mixed in a polymer such as polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, or the like, the degradation of the polymer due to ultraviolet rays is significantly reduced.

일반식(V)로 표시되는 화합물, 특히 X2가 히드록실 또는 메톡실기인 일반식(V)의 화합물은 장파장(320-400nm)자외선의 흡수성이 높고 또 다양한 종류의 동물유 및 식물유, 지방 및 유지 및 유기용매내에 또한 용해된다.Compounds represented by the general formula (V), in particular, compounds of the general formula (V) wherein X 2 is a hydroxyl or methoxyl group, have high absorption of long wavelength (320-400 nm) ultraviolet rays and various kinds of animal and vegetable oils, fats and It is also dissolved in fats and oils and organic solvents.

일반식(I)로 표시되는 화합물은 UV흡수성이 높고 또 광 및 열안정성이 탁월하며 또한 피부, 머리, 점막 및 인체의 기타 조직에 대해 비자극성이고 또 해롭지 않으므로, 이들 화합물이 오일, 로션, 크림, 밀크로션, 헤어린스, 헤어컨디셔너, 액체 화운데이션, 립스틱, 화운데이션, 백분, 에어로졸등과 같은 다양한 종류의 화장품 제제내에 적당량(용도에 따라 0.1 내지 20중량% 범위내에서 선정)을 배합되는 경우, 이들 화장품 제제는 자외선 흡수성이 탁월하며 또 광 및 열에 안정한 제제라는 것이 판명된다.Compounds represented by formula (I) are highly UV absorbing, have excellent light and thermal stability and are non-irritating and non-harmful to skin, hair, mucous membranes and other tissues of the human body. When a suitable amount (selected within the range of 0.1 to 20% by weight) is formulated in various kinds of cosmetic preparations such as milk lotion, hair rinse, hair conditioner, liquid foundation, lipstick, foundation, powder, aerosol, etc. Cosmetic preparations are found to be excellent in ultraviolet absorption and stable to light and heat.

본 발명에 따른 화합물의 전형적인 예, 및 최대 흡수 파장(화합물이 최대 UV 흡수도를 나타내는 UV파장) 및 본 발명에 따른 화합물의 전형적인 예로써 측정된 기타특성을 하기 표 1과 2에 실시예 1로서 나타낸다. 유기 용매내에서 화합물의 용해도는 표 3에 실시예 10으로 나타내며, 또 본 발명의 화합물을 사용한 제제의 대표적인 예는 실시예 11 내지 23으로 나타낸다. 그러나, 본 발명은 이들 실시예에 제한되는 것은 아니다.Typical examples of the compounds according to the invention, and the maximum absorption wavelengths (UV wavelengths in which the compounds exhibit the maximum UV absorbance) and other properties measured as typical examples of the compounds according to the invention are shown in Example 1 in Tables 1 and 2 below. Indicates. The solubility of the compound in the organic solvent is shown in Example 3 in Table 3, and representative examples of the formulation using the compound of the present invention are shown in Examples 11 to 23. However, the present invention is not limited to these examples.

[실시예 1]Example 1

[표 1a]TABLE 1a

Figure kpo00029
Figure kpo00029

[표 1b]TABLE 1b

Figure kpo00030
Figure kpo00030

[실시예 1]Example 1

[표 2a]TABLE 2a

일반식(IV)로 표시되는 α-데히드로아미노산 유도체의 특성치Characteristic values of α-dehydroamino acid derivative represented by formula (IV)

Figure kpo00031
Figure kpo00031

[표 2b]TABLE 2b

일반식(V)로 표시되는 벤질히단토인 유도체의 특성치Characteristic Values of Benzyl Hydantoin Derivatives of Formula (V)

Figure kpo00032
Figure kpo00032

[실시예 2]Example 2

[합성 실시예 1]Synthesis Example 1

2-페닐-4-(4-메톡시벤질리덴)-5-옥사졸론의 합성Synthesis of 2-phenyl-4- (4-methoxybenzylidene) -5-oxazolone

아니스알데히드 20ml, 무수아세트산 50ml, 히푸르산 33.7g 및 나트륨 아세테이트 6.7g을 잘 혼합하고 또 수욕상에서 30분간 가열한다. 석출된 결정을 뜨거운 물로 세척하고 또 이어 여과한다. 이어 이들은 벤젠으로부터 재결정하고 또 건조시켜 40g의 2-페닐-4-(4-메톡시벤질리덴)-5-옥사졸론을 수득한다. 수율 : 83%.20 ml of anisealdehyde, 50 ml of acetic anhydride, 33.7 g of hypuric acid and 6.7 g of sodium acetate are mixed well and heated for 30 minutes on a water bath. The precipitated crystals are washed with hot water and then filtered. They are then recrystallized from benzene and dried to yield 40 g of 2-phenyl-4- (4-methoxybenzylidene) -5-oxazolone. Yield 83%.

[합성 실시예 2]Synthetic Example 2

N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 2-에틸헥실 에스테르의 합성Synthesis of N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine 2-ethylhexyl ester

합성실시예 1에서 수득한 2-페닐-4-(4-메톡시벤질리덴)-5-옥사졸론 1kg을 10리터 톨루엔 내에 현탁시키고, 또 이어 0.933kg 2-에틸-1-헥산올과 0.029kg 수산화나트륨을 첨가한다. 이 혼합물을 25℃에서 4시간 동안 교반하고, 또 이어 40리터 에틸아세테이트와 40리터 물을 첨가하고, 이어 이 혼합물을 더 교반한다. 유기층을 분리하고, 망초로 건조시켜 감압하에서 농축시킨다. 이 잔사를 톨루엔-헥산으로부터 재결정하며 1.0kg의 N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 2-에틸헥실 에스테르(수율 : 68.2%)를 수득한다.1 kg of 2-phenyl-4- (4-methoxybenzylidene) -5-oxazolone obtained in Synthesis Example 1 was suspended in 10 liter toluene, followed by 0.933 kg 2-ethyl-1-hexanol and 0.029 kg Sodium hydroxide is added. The mixture is stirred at 25 ° C. for 4 hours, followed by the addition of 40 liters of ethyl acetate and 40 liters of water, followed by further stirring of the mixture. The organic layer is separated, dried over forget-me-not and concentrated under reduced pressure. This residue is recrystallized from toluene-hexane to yield 1.0 kg of N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine 2-ethylhexyl ester (yield: 68.2%).

[실시예 3]Example 3

N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 n-라우릴 에스테르의 합성Synthesis of N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine n-lauryl ester

금속나트륨 2g을 154ml의 n-라우릴 알코올에 첨가하고 또 가열하에서 용해시킨다. 이 용액에 합성 실시예 1에서 수득한 2-페닐-4-(4-메톡시벤질리덴)-5-옥사졸론 118.6g 및 톨루엔 300ml를 첨가하고, 또 이 혼합물을 25℃에서 8시간 동안 교반한다. 생성한 반응 용액을 2리터 에틸 아세테이트에 첨가하고, 1.5리터 1N염산, 1.5리터 5% 탄산수소나트륨염 및 1.5리터 물로 세척하고, 이어 망초로 건조시키고 또 감압하에서 농축시킨다. 이 잔사를 n-헥산으로 재결정하여 N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 n-라우릴 에스테르 163.5g(수율 : 82.7%)을 수득한다.2 g of sodium metal is added to 154 ml of n-lauryl alcohol and dissolved under heating. 118.6 g of 2-phenyl-4- (4-methoxybenzylidene) -5-oxazolone obtained in Synthesis Example 1 and 300 ml of toluene are added to this solution, and the mixture is stirred at 25 ° C. for 8 hours. . The resulting reaction solution is added to 2 liters ethyl acetate and washed with 1.5 liters IN hydrochloric acid, 1.5 liters 5% sodium bicarbonate salt and 1.5 liters water, then dried over forget-me-not and concentrated under reduced pressure. This residue was recrystallized from n-hexane to give 163.5 g of N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine n-lauryl ester (yield: 82.7%).

[실시예 4]Example 4

N-아세틸-N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 n-라우릴에스테르의 합성Synthesis of N-acetyl-N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine n-lauryl ester

실시예 3에서 수득한 N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 n-라우릴 에스테르 10g을 100ml 피리딘내에 용해시키고, 이어 20ml무수아세트산 및 0.5g 디메틸아미노피리딘을 첨가하고, 또 이 혼합물을 25℃에서 14시간 동안 교반한다. 이 반응용액을 감압하에서 농축시키고 또 그 잔사를 300ml 에틸아세테이트내에 용해시킨다. 이 용액을 250ml물로 4회 세척하고 또 감압하에서 다시 농축시킨다. 이 잔사를 실리카 겔컬럼 크로마토그래피로 분리하여 N-아세틸-N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 n-라우릴에스테르 8.8g(수율 : 81.1%)을 수득한다.10 g of N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine n-lauryl ester obtained in Example 3 is dissolved in 100 ml pyridine, followed by addition of 20 ml acetic anhydride and 0.5 g dimethylaminopyridine, and the mixture is Stir at 25 ° C. for 14 hours. The reaction solution is concentrated under reduced pressure and the residue is dissolved in 300 ml ethyl acetate. The solution is washed four times with 250 ml water and concentrated again under reduced pressure. The residue was separated by silica gel column chromatography to obtain 8.8 g (yield: 81.1%) of N-acetyl-N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine n-lauryl ester.

[실시예 5]Example 5

n-부틸 4-(2, 3-디메톡시페닐메틸렌)2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘프로피오네이트의 합성Synthesis of n-butyl 4- (2,3-dimethoxyphenylmethylene) 2,5-dioxo-1-imidazolidinepropionate

5-(2, 3-디메톡시벤질리딘)히단토인 20g(80,6밀리몰), n-부틸아크릴레이트 12.4g(96밀리몰) 및 수산화 칼륨 0.90g(1.6밀리몰)을 150ml 디메틸포름아미드에 첨가하고, 또 이 혼합물을 110℃에서 2시간 동안 교반한다. 이 반응용액에 200ml물을 첨가하고 또 500ml에틸아세테이트로 추출한다. 이 추출액을 나트륨술페이트로 건조시키고 또 이어 이 용매를 감압하에서 증류한다. 톨루엔을 잔사에 첨가하고 또 석출된 결정을 건조시켜 24.7g의 n-부틸 4-(2, 3-디메톡시페닐메틸렌)-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘 프로피오네이트(수율 : 81.5%)를 수득한다.20 g (80,6 mmol) of 5- (2,3-dimethoxybenzylidine) hydantoin, 12.4 g (96 mmol) of n-butylacrylate and 0.90 g (1.6 mmol) of potassium hydroxide were added to 150 ml dimethylformamide And the mixture is stirred at 110 ° C. for 2 hours. 200 ml of water is added to the reaction solution, followed by extraction with 500 ml of ethyl acetate. The extract is dried over sodium sulfate and then the solvent is distilled off under reduced pressure. Toluene was added to the residue and the precipitated crystals were dried to give 24.7 g of n-butyl 4- (2,3-dimethoxyphenylmethylene) -2,5-dioxo-1-imidazolidine propionate (yield) : 81.5%).

[실시예 6]Example 6

2-에틸헥실 4-(2, 3-디메톡시페닐메틸렌)-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘 프로피오네이트의 합성Synthesis of 2-ethylhexyl 4- (2,3-dimethoxyphenylmethylene) -2,5-dioxo-1-imidazolidine propionate

5-(2, 3-디메톡시벤질리덴)히단토인 20g(86.6밀리몰), 2-에틸헥실아크릴 레이트 17.8g(96밀리몰) 및 수산화 칼륨 0.90g(1.6밀리몰)을 150ml 디메틸포름아미드에 첨가하고, 또 이 혼합물을 110℃에서 2시간 동안 교반한다. 냉각시킨 후, 이 반응용액에 200ml물을 첨가하고 또 500ml에틸아세테이트로 추출한다. 이 추출액을 나트륨 술페이트로 건조시키고 또 이어 용매를 감압하에서 증류제거시킨다. 이 잔사를 톨루엔-n-헥산(1 : 1)으로 재결정시키고 또 석출된 결정을 건조시켜 2-에틸헥실 4-(2, 3-디메톡시페닐 메틸렌)-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘프로피오네이트 27.1g(수율 : 77.8%)을 수득한다.20 g (86.6 mmol) 5- (2,3-dimethoxybenzylidene) hydantoin, 17.8 g (96 mmol) of 2-ethylhexyl acrylate and 0.90 g (1.6 mmol) of potassium hydroxide are added to 150 ml dimethylformamide, The mixture is stirred at 110 ° C. for 2 hours. After cooling, 200 ml of water was added to the reaction solution, followed by extraction with 500 ml of ethyl acetate. The extract is dried over sodium sulfate and the solvent is then distilled off under reduced pressure. The residue was recrystallized with toluene-n-hexane (1: 1), and the precipitated crystals were dried to give 2-ethylhexyl 4- (2,3-dimethoxyphenyl methylene) -2,5-dioxo-1-imide 27.1 g (yield: 77.8%) of dazolidinepropionate are obtained.

[실시예 7]Example 7

디에틸 4-(2, 3-디메톡시페닐메틸렌)-2, 5-디옥소-1, 3-이미다졸리딘디프로피오네이트의 합성Synthesis of diethyl 4- (2, 3-dimethoxyphenylmethylene) -2, 5-dioxo-1, 3-imidazolidinedipropionate

5-(2, 3-디메톡시벤질리덴)히단토인 20g(80.6밀리몰), 에틸아크릴 레이트 17.7g(177밀리몰) 및 수산화칼륨 0.90g(1.6밀리몰)을 150ml디메틸포름아미드(DMF)에 첨가하고 또 이 혼합물을 110℃에서 2시간 동안 교반한다. 냉각 시킨후, 이 반응 용액에 200ml물을 첨가하고 또 500ml에틸아세테이트로 추출한다. 이 추출액을 나트륨 술페이트로 건조시키고 또 용매를 감압하에서 증류제거시킨다. 이 잔사를 분리하고 또 실리카겔 컬럼크로마토그래피〔용리액 : 톨루엔/에틸아세테이트(3/1)〕로 정제하여 디에틸 4-(2, 3-디메톡시페닐메틸렌)-2, 5-디옥소-1, 3-이미다졸리딘디프로피오네이트 22.5g(수율 : 62.3%)을 수득한다.20 g (80.6 mmol) of 5- (2,3-dimethoxybenzylidene) hydantoin, 17.7 g (177 mmol) of ethyl acrylate and 0.90 g (1.6 mmol) of potassium hydroxide were added to 150 ml dimethylformamide (DMF) and The mixture is stirred at 110 ° C. for 2 hours. After cooling, 200 ml of water was added to the reaction solution, followed by extraction with 500 ml of ethyl acetate. The extract is dried over sodium sulfate and the solvent is distilled off under reduced pressure. The residue was separated and purified by silica gel column chromatography [eluent: toluene / ethyl acetate (3/1)] to give diethyl 4- (2, 3-dimethoxyphenylmethylene) -2, 5-dioxo-1, 22.5 g (yield: 62.3%) of 3-imidazolidinedipropionate are obtained.

[실시예 8]Example 8

이소부틸 4-벤질리덴-2, 5-디옥소-1- 이미다졸리딘프로피오네이트의 합성Synthesis of Isobutyl 4-benzylidene-2, 5-dioxo-1-imidazolidinepropionate

벤질히단토인 20g(0.106mol), 이소부틸 아크릴레이트 14.9g(0.117mol) 및 수산화칼륨 1.2g(0.02mol)을 150ml DMF에 첨가하고, 또 이 혼합물을 110℃에서 2시간 동안 교반한다. 냉각시킨 후, 이 반응용액에 300ml톨루엔을 첨가하고 또 결정화시킨다. 이 결정을 여과 및 건조시켜 이소부틸 4-벤질리덴-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘프로피오네이트 27.2g(스율 : 81%)을 수득한다.20 g (0.106 mol) of benzylhydrantoin, 14.9 g (0.117 mol) of isobutyl acrylate and 1.2 g (0.02 mol) of potassium hydroxide are added to 150 ml DMF and the mixture is stirred at 110 ° C. for 2 hours. After cooling, 300 ml toluene was added to this reaction solution and crystallized. The crystals were filtered and dried to yield 27.2 g of isobutyl 4-benzylidene-2, 5-dioxo-1-imidazolidinepropionate (a ratio: 81%).

[실시예 9]Example 9

비스(2-에틸헥실) 4-벤질리덴-2, 5-디옥소-1, 3-이미다졸리딘디프로피오네이트의 합성Synthesis of bis (2-ethylhexyl) 4-benzylidene-2, 5-dioxo-1, 3-imidazolidinedipropionate

벤잘히단토인 10g(53.1밀리몰), 2-에틸헥실 아크릴레이트 23.6g(127.6밀리몰) 및 수산화칼륨 0.6g(10.6밀리몰)을 100ml DMF에 첨가하고, 또 이 혼합물을 110℃에서 2시간 동안 교반한다. 냉각시킨후, 이 반응용액을 에틸아세테이트로 추출시키고, 또 유기층을 물로 세척하고, 나트륨 술페이트로 건조시키고 또 감압하에서 농축시킨다. 잔사를 톨루엔에 용해시키고 또 헥산을 첨가하여 결정화시킨다. 이 결정을 여과 및 건조시켜 비스(2-에틸헥실) 4-벤질리덴-2, 5-디옥소-1, 3-이미다졸리딘프로피오네이트 19.8g(수율 : 42.3%)을 수득한다.10 g (53.1 mmol) benzalhydantoin, 23.6 g (127.6 mmol) 2-ethylhexyl acrylate and 0.6 g (10.6 mmol) potassium hydroxide are added to 100 ml DMF and the mixture is stirred at 110 ° C. for 2 hours. After cooling, the reaction solution is extracted with ethyl acetate and the organic layer is washed with water, dried over sodium sulfate and concentrated under reduced pressure. The residue is dissolved in toluene and crystallized by addition of hexane. The crystals were filtered and dried to yield 19.8 g of bis (2-ethylhexyl) 4-benzylidene-2, 5-dioxo-1, 3-imidazolidinepropionate (yield: 42.3%).

[실시예 10]Example 10

[표 3]TABLE 3

일반식(IV)로 표시되는 신규한 α-데히드로아미노산 유도체의 용해도.Solubility of the novel α-dehydroamino acid derivative represented by formula (IV).

Figure kpo00033
Figure kpo00033

(*1) 100ml 용매내에 용해되어 있는 시료의 그램.( * 1) Grams of sample dissolved in 100 ml solvent.

[실시예 11]Example 11

썬 오일Sun oil

하기에 나타낸 물질을 지시된 양으로 혼합하여 썬오일을 제조한다. 다음 조성물을 균질화하는 더 유리한 조건은 약 40 내지 45℃에서 가열하면서 물질을 혼합하는 것이다.Sun oil is prepared by mixing the materials shown below in the indicated amounts. The more favorable conditions for homogenizing the next composition are mixing the materials while heating at about 40-45 ° C.

N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 이소스테아릴 4중량%4% by weight of N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine isostearyl

에스테르(화합물번호 4)Ester (Compound No. 4)

카카오 오일 2.5중량%2.5% by weight of cacao oil

향수 0.5중량%Perfume 0.5% by weight

지방산 트리글리세리드(C8-C12) 93중량%93% by weight of fatty acid triglycerides (C 8 -C 12 )

[실시예 12]Example 12

피부보호크림(O/W형)Skin protection cream (O / W type)

하기 제형에 따른 성분(A) 및 (B)를 가열하에서 각각 용해시키고, 또 이들을 혼합하고 또 실온까지 냉각시켜 피부보호크림을 제조한다.Components (A) and (B) according to the following formulations are respectively dissolved under heating, and these are mixed and cooled to room temperature to prepare a skin protection cream.

(A)(A)

디에틸 4-(3, 4-디메톡시페닐)메틸렌-2, 5-디옥소-1, 3-이 8중량%Diethyl 4- (3,4-dimethoxyphenyl) methylene-2, 5-dioxo-1, 3-di 8% by weight

미다졸리딘디프로피오네이트(화합물번호 19)Midazolidinedipropionate (Compound No. 19)

N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신-3, 3, 5-트리메틸 8중량%N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine-3, 3, 5-trimethyl 8% by weight

시클로헥실 에스테르(화합물번호 16)Cyclohexyl ester (compound number 16)

지방산 트리글리세리드(C8-C12) 10중량%10% by weight of fatty acid triglycerides (C 8 -C 12 )

세틸알코올 1.5중량%Cetyl alcohol 1.5% by weight

폴리옥시에틸렌 세틸에테르 및 폴리옥시에틸렌 스테아릴 에테르 6중량%6% by weight of polyoxyethylene cetyl ether and polyoxyethylene stearyl ether

(10에틸렌 옥사이드)(10 ethylene oxide)

폴리옥시에틸렌 소르비탄 모노 스테아레이트(20 에틸렌 옥사이드) 2중량%2% by weight of polyoxyethylene sorbitan mono stearate (20 ethylene oxide)

(B)(B)

글리세린 1.5중량%Glycerin 1.5% by weight

프로필렌글리콜 1.5중량%Propylene Glycol 1.5 wt%

소르비톨 용액(70%) 3.5중량%Sorbitol solution (70%) 3.5 wt%

나트륨 피롤리돈카복실레이트 0.5중량%Sodium pyrrolidonecarboxylate 0.5% by weight

메틸 파라-옥시벤조에이트 0.2중량%0.2 wt% of methyl para-oxybenzoate

물 57중량%57% by weight of water

[실시예 13]Example 13

피부보호크림(W/O형)Skin Protection Cream (W / O Type)

하기 성분들을 실시예 12와 동일한 방법으로 혼합 및 처리하여 피부보호크림을 제조한다.The following ingredients were mixed and treated in the same manner as in Example 12 to prepare a skin protection cream.

(A)(A)

N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 2-에틸헥실 8중량%N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine 2-ethylhexyl 8% by weight

에스테르(화합물번호 2)Ester (Compound No. 2)

세틸알코올 1.5중량%Cetyl alcohol 1.5% by weight

밀랍 1.5중량%Beeswax 1.5 wt%

파라핀 오일 3중량%3% by weight of paraffin oil

콜레스테롤 1중량%1% by weight cholesterol

지방산 트리글리세리드(C8-C12) 8중량%8% by weight of fatty acid triglycerides (C 8 -C 12 )

글리세린 모노스테아레이트 5중량%5% by weight glycerin monostearate

소르비탄 모노팔미테이트 9중량%9% by weight of sorbitan monopalmitate

폴리옥시에틸렌 소르비탄 모노스테아레이트(20 에틸렌 옥사이드) 1중량%1% by weight of polyoxyethylene sorbitan monostearate (20 ethylene oxide)

세레신 5중량%Ceresin 5% by weight

고래왁스 2중량%Whale wax 2% by weight

프로필 파라-옥시벤조에이트 0.1중량%0.1% by weight of propyl para-oxybenzoate

(B)(B)

글리세린 1.5중량%Glycerin 1.5% by weight

프로필렌글리콜 1.5중량%Propylene Glycol 1.5 wt%

소르비톨 용액(70%) 4중량%4% by weight of sorbitol solution (70%)

메틸 파라-옥시벤조에이트 0.2중량%0.2 wt% of methyl para-oxybenzoate

물 47.7중량%47.7% by weight of water

[실시예 14]Example 14

썬 오일(밀크 로션)Sun Oil (Milk Lotion)

하기 성분들은 실시예 12와 동일한 방법으로 혼합 및 처리하여 썬 오일을 제조한다.The following ingredients were mixed and treated in the same manner as in Example 12 to prepare sun oil.

(A)(A)

2-에틸헥실 4-벤질리덴-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘프로 5중량%2-ethylhexyl 4-benzylidene-2, 5-dioxo-1-imidazolidineprop 5% by weight

피오네이트(화합물번호 13)Cypionate (Compound No. 13)

2-에틸헥실 4-(3, 4-디메톡시페닐) 메틸렌-2, 5-디옥소- 2중량%2-ethylhexyl 4- (3,4-dimethoxyphenyl) methylene-2,5-dioxo-2% by weight

1-이미다졸리딘 프로피오네이트(화합물번호 18)1-imidazolidine propionate (Compound No. 18)

폴리옥시에틸렌 세틸 에테르 및 스테아릴 에테르(10 에틸렌 5중량%Polyoxyethylene cetyl ether and stearyl ether (5% by weight of 10 ethylene

옥사이드)Oxide)

바셸린 오일 6중량%6% by weight of petrolatum oil

이소프로필미리스테이트 8중량%Isopropyl myristate 8% by weight

실리콘유 1중량%1% by weight of silicone oil

세틸 알코올 1중량%1% by weight of cetyl alcohol

방부제 적당량Preservative

향수 적당량Perfume

물 나머지양Water rest

[실시예 15]Example 15

썬 밀크(밀크 로션)Sun Milk (Milk Lotion)

하기 성분들을 실시예 12와 동일한 방법으로 혼합 및 처리하여 썬 밀크를 제조한다.The following ingredients were mixed and treated in the same manner as in Example 12 to prepare sun milk.

(A)(A)

이소부틸 4-벤질리덴-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘프로 5중량%5% by weight of isobutyl 4-benzylidene-2, 5-dioxo-1-imidazolidineprop

피오네이트(화합물번호 12)Cypionate (Compound No. 12)

액체 파라핀 22.6중량%22.6% by weight of liquid paraffin

고체 파라핀 4.5중량%4.5 wt% of solid paraffin

세탄올 4중량%Cetanol 4% by weight

소르비탄 모노스테아레이트 1.8중량%Sorbitan monostearate 1.8% by weight

폴리옥시에틸렌 소르비탄 모노스테아레이트(20 에틸렌 2.8중량%Polyoxyethylene sorbitan monostearate (2.8 wt% of 20 ethylene

옥사이드)Oxide)

Nδ-코코일 오르니틴 5중량%5% by weight of N δ -cocoyl ornithine

(B)(B)

트리에탄올아민 피롤리돈 카복실레이트 4중량%Triethanolamine pyrrolidone carboxylate 4% by weight

물 50.1중량%50.1% by weight of water

방부제 0.2중량%Preservative 0.2% by weight

[실시예 16]Example 16

안티썬번 로션Antisunburn lotion

하기 제형에 따라 성분(A)를 가열하에서 용해시키고 또 실온까지 냉각시키고, 또 이어 성분(B)를 첨가하여 안티썬번 로션을 제조한다.According to the following formulation, component (A) is dissolved under heating and cooled to room temperature, and then component (B) is added to prepare antisunburn lotion.

(A)(A)

N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 시클로헥실 에 2중량%2% by weight to N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine cyclohexyl

스테르(화합물번호 5)Stear (Compound No. 5)

글리세린 5중량%Glycerin 5% by weight

폴리에틸렌 글리콜 400 0.5중량%Polyethylene Glycol 400 0.5 wt%

향수 적당량Perfume

물 나머지양Water rest

(B)(B)

96%에탄올 40중량%96% ethanol 40% by weight

[실시예 17]Example 17

립스틱lipstick

립스틱은 다음 제형에 따라 제조된다. (B)의 일부를 (A)에 첨가하고 또 이 혼합물을 로울링시켜 안료분을 제조한다. 이어 열에 의해 용해된 (B) 성분을 첨가시키고 또 이 혼합물을 균질화시키고, 응고시키기 위해 즉시 냉각시키며, 또 이어 성형시킨다.The lipstick is prepared according to the following formulation. A part of (B) is added to (A), and the mixture is rolled to prepare a pigment powder. The thermally dissolved component (B) is then added and the mixture is homogenized and immediately cooled to solidify and then molded.

(A)(A)

이산화티탄 2중량%Titanium Dioxide 2% by weight

N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 이소프로필 5.7중량N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine isopropyl 5.7 weight

에스테르(화합물번호 1)Ester (Compound No. 1)

(B)(B)

헥사데실알코올 25중량%25% by weight of hexadecyl alcohol

라놀린 4중량%4% by weight lanolin

밀랍 5중량%5% by weight of beeswax

오조세라이트 4중량%4% by ozoselite

칸델리라왁스 7중량%Candela wax 7% by weight

카르나우바왁스 2중량%Carnauba wax 2% by weight

산화방지제 적당량Appropriate amount of antioxidant

향수 적당량Perfume

피마자유 나머지양Castor Oil Rest

[실시예 18]Example 18

오일상 썬 겔(sun gel)Oily Sun Gel

하기 제형에 따른 지방 물질을 40 내지 45℃까지 가열하여 용해시키고, 이어 교반하에서 실리카를 첨가하고, 또 이 혼합물을 냉각시켜 오일상 썬 겔을 제조한다.Fatty materials according to the following formulations are heated to 40-45 ° C. to dissolve, then silica is added under stirring and the mixture is cooled to prepare an oily sun gel.

N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 라우릴에스 3중량%3% by weight of N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine lauryl S

테르(화합물번호 3)Ter (compound number 3)

2-에틸헥실 P-메톡시신나메이트 2중량%2-ethylhexyl P-methoxycinnamate 2% by weight

카카오 지방 2.5중량%2.5% by weight of cacao fat

실리카 10중량%10 wt% silica

산화방지제 적당량Appropriate amount of antioxidant

향수 적당량Perfume

지방산 트리글리세리드(C8-C12) 나머지양Fatty acid triglycerides (C 8 -C 12 )

[실시예 19]Example 19

발포성 에어 스프레이Effervescent air spray

하기 조성물의 혼합물 90부 및 프레온 기체(F21/F114=40/60) 10부를 압력용기에 장입시켜 발포성에어 스프레이를 제조한다.90 parts of the mixture of the following composition and 10 parts of Freon gas (F21 / F114 = 40/60) were charged to a pressure vessel to prepare a foamed air spray.

N-아세틸-N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 라우릴 0.3중량%0.3% by weight of N-acetyl-N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine lauryl

에스테르(화합물번호 7)Ester (Compound No. 7)

스테아르산 7중량%7% by weight stearic acid

프로필렌글리콜 7중량%Propylene glycol 7% by weight

트리에탄올아민 6중량%6% by weight of triethanolamine

올리브유 2중량%2% by weight of olive oil

물 나머지양Water rest

[실시예 20]Example 20

발포성이 아닌 로션 에어 스프레이Non-foaming lotion air spray

하기 조성물의 혼합물 30부 및 프레온 기체(F21/F114=40/60)70부를 압력용기에 장입시켜 발포성이 아닌 로션에어 스프레이를 제조한다.30 parts of the mixture of the following composition and 70 parts of Freon gas (F21 / F114 = 40/60) were charged to a pressure vessel to prepare a non-foamable lotion air spray.

N-아세틸-O-메틸-α-데히드로티로신 이소프로필 1중량%1% by weight N-acetyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine isopropyl

에스테르(화합물번호 8)Ester (Compound No. 8)

프로필렌 글리콜 10중량%10% by weight of propylene glycol

99% 에탄올 30중량%30% by weight 99% ethanol

물 나머지양Water rest

[실시예 21]Example 21

화운데이션Foundation

하기 제형(유상)에 따른 (C) 성분을 혼합하고 또 70℃에서 가열하여 용해시킨다(오일상) 이와 별도로, (B) 성분을 혼합하고 또 용해시켜 70℃에서 보존한다(수상). (A) 성분을 수상에 분산시키고 유상을 첨가하여 유화시키고, 또 이어 이 혼합물을 냉각시켜 화인데이션을 제조한다.The component (C) according to the following formulation (oil phase) is mixed and dissolved by heating at 70 ° C (oil phase). Separately, the component (B) is mixed, dissolved and stored at 70 ° C (water phase). The component (A) is dispersed in an aqueous phase, emulsified by adding an oil phase, and then cooled to prepare a mixture.

(A)(A)

N-부틸 4-벤질리덴-2, 5-디옥소-1-이미다졸리딘 10중량%N-butyl 4-benzylidene-2, 5-dioxo-1-imidazolidine 10% by weight

프로피오네이트(화합물번호 11)Propionate (Compound No. 11)

산화티탄 6중량%Titanium oxide 6% by weight

적색산화철 1.5중량%1.5 wt% red iron oxide

철황 0.2중량%Iron sulfur 0.2% by weight

(B)(B)

모노마그네슘 N-라우로일글루타미네이트 0.5중량%Monomagnesium N-lauroyl glutamate 0.5 wt%

트리에탄올아민 1.4중량%1.4% by weight of triethanolamine

프로필렌 글리콜 9.5중량%Propylene Glycol 9.5 wt%

물 37.9중량%37.9 weight% of water

(C)(C)

스테아르산 2.8중량%2.8% by weight stearic acid

프로필렌글리콜 모노스테아레이트 2.8중량%Propylene Glycol Monostearate 2.8 wt%

글리세린 모노스테아레이트(자가 유화형) 2.8중량%Glycerin monostearate (self-emulsifying) 2.8 wt%

액체 파라핀 24.6중량%24.6% by weight liquid paraffin

[실시예 22]Example 22

백분Percentage

하기 제형에 따른 물질을 혼합하여 백분을 수득한다.The materials according to the following formulations are mixed to obtain a powder.

N-벤조일-O-메틸-α-데히드로티로신 라우릴 72.4중량%N-benzoyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine lauryl 72.4 wt%

아미드(화합물번호 10)Amide (Compound No. 10)

활석 10중량%Talc 10% by weight

산화티탄 1중량%Titanium oxide 1 wt%

카올린 5중량%5% by weight kaolin

Nε-라우로일리신 5중량%N ε -5% by weight of laurolysine

아연 라우레이트 1.8중량%Zinc laurate 1.8% by weight

산화철(적색, 황색 및 흑색) 1.8중량%Iron oxide (red, yellow and black) 1.8% by weight

향수 3중량%3% by weight of perfume

[실시예 23]Example 23

린스Rinse

하기 제형에 따른 성분(A)를 혼합하고 또 80℃에서 가열하여 용해시키고, 또 이어 (B)를 첨가하고 또 분산시킨다. 이 분산액에 80℃에서 용해된 (C)를 첨가하고, 또 이 용액을 혼합 및 유화시키고 또 이어 실온까지 냉각시켜 린스를 제조한다.Component (A) according to the following formulation is mixed and dissolved by heating at 80 ° C., and then (B) is added and dispersed. (C) dissolved at 80 DEG C is added to this dispersion, and the solution is mixed and emulsified and then cooled to room temperature to prepare a rinse.

(A)(A)

N-아세틸-O-메틸-α-데히드로티로신 이소프로필 1중량%1% by weight N-acetyl-O-methyl-α-dehydrotyrosine isopropyl

에스테르(화합물번호 8)Ester (Compound No. 8)

양이온 DS(산요 케미컬 인더스트리스사 제품) 1중량%1% by weight of cationic DS (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Inc.)

CAE(아지노모또사 제품) 0.5중량%0.5% by weight of CAE (product of Ajino Moto Corporation)

폴리옥시에틸렌 소르비탈 모노올레이트(4 에틸렌 옥사이드) 0.5중량%0.5 wt% polyoxyethylene sorbitan monooleate (4 ethylene oxide)

폴리옥시에틸렌 소르비탈 모노올레이트(25 에틸렌 옥사이드) 0.5중량%0.5 wt% polyoxyethylene sorbitan monooleate (25 ethylene oxide)

물 80.5중량%80.5% by weight of water

(B)(B)

Nε-라우로일리신 2중량%N ε -2% by weight of laurolysine

(C)(C)

액체파라핀 2중량%2% by weight of liquid paraffin

세탄올 3중량%Cetanol 3% by weight

Claims (30)

하기 일반식(I)로 표시되는 벤질리덴 화합물 :Benzylidene compound represented by the following general formula (I):
Figure kpo00034
Figure kpo00034
상기식에서, A는 하기식으로 표시되는 기이고;Wherein A is a group represented by the following formula;
Figure kpo00035
Figure kpo00035
상기식에서, B는 수소원자 또는 아세틸기를 나타내고; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-CO-O-R이며; Y는 산소원자 또는 이미노기(-NH-)를 나타내고; Z는 메틸기 또는 페닐기를 나타내며; R은 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상 알킬기, 또는 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 측쇄상 또는 고리상 알킬기를 나타내고; X1, X2및 X3는 독립적으로 수소원자, 히드록실기 또는 메톡실기(이들중 둘 또는 셋은 동일하거나 또는 이들 모두는 상이할 수 있음)을 나타내며; 단, A가
Figure kpo00036
인 경우, R은 1 내지 2개 탄소원자를 갖는 알킬기가 아니며, 또 A가
Figure kpo00037
이고, 또 X1, X2및 X3가 수소원자인 경우, R은 1 내지 2개 탄소원자를 갖는 알킬기가 아님.
Wherein B represents a hydrogen atom or an acetyl group; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -CO-OR; Y represents an oxygen atom or an imino group (-NH-); Z represents a methyl group or a phenyl group; R represents a straight chain alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms; X 1 , X 2 and X 3 independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group or a methoxyl group (two or three of which may be the same or both may be different); With A
Figure kpo00036
R is not an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and A is
Figure kpo00037
And when X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms, R is not an alkyl group having from 1 to 2 carbon atoms.
제1항에 있어서, A가
Figure kpo00038
이고; B가 수소원자 또는 아세틸기이며; X1, X2및 X3가 수소원자, 히드록실기 또는 메톡실기이고; Y가 산소원자 또는 이미노기(-NH-)이며; Z은 메틸기 또는 페닐기이고; 또 R이 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상, 측쇄상 또는 고리상 알킬기인 화합물.
The compound of claim 1 wherein A is
Figure kpo00038
ego; B is a hydrogen atom or an acetyl group; X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atom, hydroxyl group or methoxyl group; Y is an oxygen atom or an imino group (-NH-); Z is a methyl group or a phenyl group; And R is a straight, branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms.
제1항에 있어서, A가
Figure kpo00039
이고; X1및 X3가 수소원자 또는 메톡실기이며; X2가 메톡실기 또는 히드록실기이고; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-COOR이며; 또 R이 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상 알킬기, 또는 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 측쇄상 또는 고리상 알킬기인 화합물.
The compound of claim 1 wherein A is
Figure kpo00039
ego; X 1 and X 3 are hydrogen atoms or methoxyl groups; X 2 is a methoxyl group or a hydroxyl group; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -COOR; And R is a linear alkyl group having 1 to 18 carbon atoms or a branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms.
제1항에 있어서, A가
Figure kpo00040
이고; X1, X2및 X3는 수소원자이며; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-COOR이고, 또 R이 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상, 측쇄상 또는 고리상 알킬기인 화합물.
The compound of claim 1 wherein A is
Figure kpo00040
ego; X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms; W is a hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -COOR, and R is a linear, branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms.
제2항에 있어서, B가 수소원자 또는 아세틸기이고; X1및 X3가 수소원자 또는 메톡실기이며; X2는 메톡실기 또는 히드록실기이고; Y는 산소원자 또는 이미노기이며; 또 R이 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 아밀기, 이소아밀기, n-헥실기, 시클로헥실기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 2, 2, 4-트리메틸시클로헥실기, 데실기, 라우릴기, 미리스틸기, 세틸기 또는 스테아릴기인 화합물.3. A compound according to claim 2, wherein B is a hydrogen atom or an acetyl group; X 1 and X 3 are hydrogen atoms or methoxyl groups; X 2 is a methoxyl group or a hydroxyl group; Y is an oxygen atom or an imino group; R is isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, amyl group, isoamyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2, 2, 4-trimethyl A compound which is a cyclohexyl group, a decyl group, a lauryl group, a myristyl group, a cetyl group, or a stearyl group. 제3항에 있어서, X1및 X2가 메톡실기이고; X3이 수소원자이며; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-CO-O-R이고; 또 R이 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 아밀기, 이소아밀기, n-헥실기, 시클로헥실기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 2, 2, 4-트리메틸시클로헥실기, 데실기, 라우릴기, 미리스틸기, 세틸기 또는 스테아릴기인 화합물.The compound of claim 3, wherein X 1 and X 2 are methoxyl groups; X 3 is a hydrogen atom; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -CO-OR; R is methyl, ethyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, amyl, isoamyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-octyl, 2-ethylhexyl, 2, 2 , 4-trimethylcyclohexyl group, decyl group, lauryl group, myristyl group, cetyl group or stearyl group. 제4항에 있어서, X1, X2및 X3가 수소원자이고; W가 수소원자 또는 -CH2-CH2CO-O-R-이며; 또 R이 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 아밀기, 이소아밀기, n-헥실기, 시클로헥실기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 2, 2, 4-트리메틸시클로헥실기, 데실기, 라우릴기, 미리스틸기, 세틸기 또는 스테아릴기인 화합물.The compound of claim 4, wherein X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 CO-OR-; R is isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, amyl group, isoamyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2, 2, 4-trimethyl A compound which is a cyclohexyl group, a decyl group, a lauryl group, a myristyl group, a cetyl group, or a stearyl group. 제5항에 있어서, B가 수소원자 또는 아세틸기이고; X1및 X3이 수소원자이며; X2가 메톡실기이고; Y는 산소원자 또는 이미노기(-NH-)이며; Z이 메틸기 또는 페닐기이고; 또 R이 이소프로필, 2-에틸헥실, 라우릴, 이소스테아릴, 시클로헥실 또는 3, 3, 5-트리메틸시클로헥실기인 화합물.A compound according to claim 5, wherein B is a hydrogen atom or an acetyl group; X 1 and X 3 are hydrogen atoms; X 2 is a methoxyl group; Y is an oxygen atom or an imino group (-NH-); Z is a methyl group or a phenyl group; And R is isopropyl, 2-ethylhexyl, lauryl, isostearyl, cyclohexyl or a 3, 3, 5-trimethylcyclohexyl group. 제6항에 있어서, X1및 X2가 메톡실기이고; X3이 수소원자이며; W가 수소원자 또는 -CH2CH2COOR이고; 또 R이 메틸, 에틸, n-부틸, 이소부틸, 또는 2-에틸헥실기인 화합물.The compound of claim 6, wherein X 1 and X 2 are methoxyl groups; X 3 is a hydrogen atom; W is hydrogen atom or -CH 2 CH 2 COOR; And R is a methyl, ethyl, n-butyl, isobutyl, or 2-ethylhexyl group. 제7항에 있어서, X1, X2및 X3이 수소원자이고; W가 수소원자이며; 또 R이 n-부틸, 이소부틸 또는 2-에틸헥실기인 화합물.8. A compound according to claim 7, wherein X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms; W is hydrogen atom; And R is an n-butyl, isobutyl or 2-ethylhexyl group. 하기일반식(I) 화합물의 유효량을 함유하는 자외선 흡수성 화장품 조성물 :An ultraviolet absorbent cosmetic composition containing an effective amount of the following general formula (I) compound:
Figure kpo00041
Figure kpo00041
상기식에서, A는 하기식으로 표시되는 기이고;Wherein A is a group represented by the following formula;
Figure kpo00042
Figure kpo00042
상기식에서, B는 수소원자 또는 아세틸기이며; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-CO-O-R이며; Y는 산소원자 또는 이미노기 (-NH-)이며; Z은 메틸기 또는 페닐기이고; 또 R이 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상 알킬기, 또는 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 측쇄상 또는 고리상 알킬기이며; X1, X2및 X3이 독립적으로 수소원자, 히드록실기 또는 메톡실기(이들중 둘 또는 셋은 동일할 수 있고 또는 이들 모두는 상이할 수 있음)이고; 단, A가
Figure kpo00043
인 경우, R은 수소원자 또는 1 내지 2개 탄소원자를 갖는 알킬기가 아니고, 또 A가
Figure kpo00044
이고; 또 X1, X2및 X3이 수소원자인 경우, R은 1 내지 2개 탄소원자를 갖는 알킬기가 아님.
Wherein B is a hydrogen atom or an acetyl group; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -CO-OR; Y is an oxygen atom or an imino group (-NH-); Z is a methyl group or a phenyl group; R is a straight chain alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a branched chain or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms; X 1 , X 2 and X 3 are independently a hydrogen atom, hydroxyl group or methoxyl group (two or three of which may be the same or both may be different); With A
Figure kpo00043
R is not a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and A is
Figure kpo00044
ego; And when X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms, R is not an alkyl group having from 1 to 2 carbon atoms.
제11항에 있어서, A가
Figure kpo00045
이고; B가 수소원자 또는 아세틸기이며; 각 X1, X2및 X3가 이 수소원자, 히드록실기 또는 메톡실기이고; Y는 산소원자 또는 이미노기(-NH-)이며; Z은 메틸기 또는 페닐기이고; 또 R은 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상, 측쇄상 또는 고리상 알킬기인 자외선 흡수성 화장품 조성물.
12. The compound of claim 11 wherein A is
Figure kpo00045
ego; B is a hydrogen atom or an acetyl group; Each X 1 , X 2 and X 3 is this hydrogen atom, a hydroxyl group or a methoxyl group; Y is an oxygen atom or an imino group (-NH-); Z is a methyl group or a phenyl group; And R is a linear, branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms.
제11항에 있어서, A가
Figure kpo00046
이고; X1및 X3이 수소원자 또는 메톡실기이며; X2는 메톡실기 또는 히드록실기이고; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-COOR이며; 또 R이 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상 알킬기, 또는 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 측쇄상 또는 고리상 알킬기인 자외선 흡수성 화장품 조성물.
12. The compound of claim 11 wherein A is
Figure kpo00046
ego; X 1 and X 3 are hydrogen atoms or methoxyl groups; X 2 is a methoxyl group or a hydroxyl group; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -COOR; And wherein R is a linear alkyl group having 1 to 18 carbon atoms or a branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms.
제11항에 있어서, A가
Figure kpo00047
이고; X1, X2및 X3가 수소원자이며; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-COOR이고; 또 R이 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상, 측쇄상 또는 고리상 알킬기인 자외선 흡수성 화장품 조성물.
12. The compound of claim 11 wherein A is
Figure kpo00047
ego; X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -COOR; And wherein R is a linear, branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms.
제12항에 있어서, B가 수소원자 또는 아세틸기이고; X1및 X3가 수소원자 또는 메톡실기이며; X2가 메톡실기 또는 히드록실기이고; Y는 산소원자 또는 이미노기이며; 또 R이 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 아밀기, 이소아밀기, n-헥실기, 시클로헥실기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 2, 2, 4-트리메틸시클로 헥실기, 데실기, 라우릴기, 미리스틸기, 세틸기 또는 스테아릴기인 자외선 흡수성 화장품 조성물.13. A compound according to claim 12, wherein B is a hydrogen atom or an acetyl group; X 1 and X 3 are hydrogen atoms or methoxyl groups; X 2 is a methoxyl group or a hydroxyl group; Y is an oxygen atom or an imino group; R is isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, amyl group, isoamyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2, 2, 4-trimethyl The ultraviolet absorbent cosmetic composition which is a cyclohexyl group, a decyl group, a lauryl group, a myristyl group, a cetyl group, or a stearyl group. 제13항에 있어서, X1및 X2가 메톡실기이고; X3이 수소원자이며; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-CO-O-R이며; 또 R이 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 아밀기, 이소아밀기, n-헥실기, 시클로헥실기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 2, 2, 4-트리메틸시클로헥실기, 데실기, 라우릴기, 미리스틸기, 세틸기 또는 스테아릴기인 자외선 흡수성 화장품 조성물.The compound of claim 13, wherein X 1 and X 2 are methoxyl groups; X 3 is a hydrogen atom; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -CO-OR; R is methyl, ethyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, amyl, isoamyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-octyl, 2-ethylhexyl, 2, 2 And a 4-trimethylcyclohexyl group, decyl group, lauryl group, myristyl group, cetyl group or stearyl group. 제14항에 있어서, X1, X2및 X3가 수소원자이고; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2CO-O-R이며; 또 R이 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 아밀기, 이소아밀기, n-헥실기, 시클로헥실기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 2, 2, 4-트리메틸시클로헥실기, 데실기, 라우릴기, 미리스틸기, 세틸기 또는 스테아릴기인 자외선 흡수성 화장품 조성물.The compound of claim 14, wherein X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 CO-OR; R is isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, amyl group, isoamyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2, 2, 4-trimethyl The ultraviolet absorbent cosmetic composition which is a cyclohexyl group, a decyl group, a lauryl group, a myristyl group, a cetyl group, or a stearyl group. 제15항에 있어서, B가 수소원자 또는 아세틸기이고; X1및 X3가 수소원자이며; X2가 메톡실기이고; Y는 산소원자 또는 이미노기(-NH-)이며; Z은 메틸기 또는 페닐기이고; 또 R이 이소프로필, 2-에틸헥실, 라우릴, 이소스테아릴, 시클로헥실 또는 3, 3, 5-트리메틸시클로헥실기인 자외선 흡수성 화장품 조성물.A compound according to claim 15, wherein B is a hydrogen atom or an acetyl group; X 1 and X 3 are hydrogen atoms; X 2 is a methoxyl group; Y is an oxygen atom or an imino group (-NH-); Z is a methyl group or a phenyl group; And wherein R is isopropyl, 2-ethylhexyl, lauryl, isostearyl, cyclohexyl or a 3, 3, 5-trimethylcyclohexyl group. 제16항에 있어서, X1및 X2가 메톡실기이고; X3이 수소원자이며; W가 수소원자 또는 -CH2CH2COOR이고; 또 R이 메틸, 에틸, n-부틸, 이소부틸 또는 2-에틸헥실기인 자외선 흡수성 화장품 조성물.The compound of claim 16, wherein X 1 and X 2 are methoxyl groups; X 3 is a hydrogen atom; W is hydrogen atom or -CH 2 CH 2 COOR; And R is a methyl, ethyl, n-butyl, isobutyl or 2-ethylhexyl group. 제17항에 있어서, X1, X2및 X3가 수소원자이며; 또 R이 n-부틸, 이소부틸, 또는 2-에틸헥실기인 자외선 흡수성 화장품 조성물.18. The compound of claim 17, wherein X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms; And wherein R is n-butyl, isobutyl, or 2-ethylhexyl group. 하기 일반식(I) 화합물의 유효량을 함유하는 자외선 흡수제 :Ultraviolet absorber containing an effective amount of the following general formula (I) compound:
Figure kpo00048
Figure kpo00048
상기식에서, A는 하기식으로 표시되는 기이고;Wherein A is a group represented by the following formula;
Figure kpo00049
Figure kpo00049
상기식에서, B는 수소원자 또는 아세틸기이며; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-CO-O-R이며; Y는 산소원자 또는 이미노기 (-NH-)이며; Z은 메틸기 또는 페닐기이고; 또 R이 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상 알킬기, 또는 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 측쇄상 또는 고리상 알킬기이며; X1, X2및 X3이 독립적으로 수소원자, 히드록실기 또는 메톡실기(이들중 둘 또는 셋은 동일할 수 있고 또는 이들 모두는 상이할 수 있음)이고; 단, A가
Figure kpo00050
인 경우, R은 수소원자 또는 1 내지 2개 탄소원자를 갖는 알킬기가 아니며, 또 A가
Figure kpo00051
이고 또 X1, X2및 X3이 수소원자인 경우, R은 1 내지 2개 탄소원자를 갖는 알킬기가 아님.
Wherein B is a hydrogen atom or an acetyl group; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -CO-OR; Y is an oxygen atom or an imino group (-NH-); Z is a methyl group or a phenyl group; R is a straight chain alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a branched chain or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms; X 1 , X 2 and X 3 are independently a hydrogen atom, hydroxyl group or methoxyl group (two or three of which may be the same or both may be different); With A
Figure kpo00050
R is not a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and A is
Figure kpo00051
And when X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms, R is not an alkyl group having from 1 to 2 carbon atoms.
제21항에 있어서, A가
Figure kpo00052
이고; B는 수소원자 또는 아세틸기이며; 각 X1, X2및 X3은 수소우너자, 히드록실기 또는 메톡실기이고; Y가 산소원자 또는 이미노기(-NH-)이며; Z이 메틸기 또는 페닐기이고; 또 R이 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상, 측쇄상 또는 고리상 알킬기인 자외선 흡수제.
The compound of claim 21, wherein A is
Figure kpo00052
ego; B is a hydrogen atom or an acetyl group; Each X 1 , X 2 and X 3 is a hydrogen atom, hydroxyl group or methoxyl group; Y is an oxygen atom or an imino group (-NH-); Z is a methyl group or a phenyl group; And a UV absorber wherein R is a linear, branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms.
제21항에 있어서, A가
Figure kpo00053
이고; X1및 X3가 수소원자 또는 메톡실기이며; X2가 매톡실기 또는 히드록실기이고; W가 수소원자 또는 -CH2-CH2-COOR이며; 또 R이 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상 알킬기, 또는 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 측쇄상 또는 고리상 알키기인 자외선 흡수제.
The compound of claim 21, wherein A is
Figure kpo00053
ego; X 1 and X 3 are hydrogen atoms or methoxyl groups; X 2 is a methoxyl group or a hydroxyl group; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -COOR; And an ultraviolet absorber wherein R is a linear alkyl group having 1 to 18 carbon atoms or a branched or cyclic alkoxy group having 3 to 18 carbon atoms.
제21항에 있어서, A가
Figure kpo00054
이고; X1, X2및 X3이 수소원자이며; W가 수소원자 또는 -CH2-CH2-COOR이고; 또 R이 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄상, 측쇄상 또는 고리상 알킬기인 자외선 흡수제.
The compound of claim 21, wherein A is
Figure kpo00054
ego; X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -COOR; And a UV absorber wherein R is a linear, branched or cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms.
제22항에 있어서, B가 수소원자 또는 아세틸기이고; X1및 X3이 수소원자 또는 메톡실기이며; X2가 메톡실기 또는 히드록실기이고; Y가 산소원자 또는 이미노기이며; 또 R이 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 아밀기, 이소아밀기, n-헥실기, 시클로헥실기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 2, 2, 4-트리메틸시클로헥실기, 데실기, 라우릴기, 미리스틸기, 세틸기 또는 스테아릴기인 자외선 흡수제.The compound of claim 22, wherein B is a hydrogen atom or an acetyl group; X 1 and X 3 are hydrogen atoms or methoxyl groups; X 2 is a methoxyl group or a hydroxyl group; Y is an oxygen atom or an imino group; R is isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, amyl group, isoamyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2, 2, 4-trimethyl The ultraviolet absorber which is a cyclohexyl group, a decyl group, a lauryl group, a myristyl group, a cetyl group, or a stearyl group. 제23항에 있어서, X1및 X2가 메톡실기이고; X3가 수소원자이며; W가 수소원자 또는 -CH2-CH2-CO-O-R이고; 또 R이 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 아밀기, 이소아밀기, n-헥실기, 시클로헥실기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 2, 2, 4-트리메틸시클로헥실기, 데실기, 라우릴기, 미리스틸기, 세틸기 또는 스테아릴기인 자외선 흡수제.The compound of claim 23, wherein X 1 and X 2 are methoxyl groups; X 3 is a hydrogen atom; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -CO-OR; R is methyl, ethyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, amyl, isoamyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-octyl, 2-ethylhexyl, 2, 2 And a 4-trimethylcyclohexyl group, decyl group, lauryl group, myristyl group, cetyl group or stearyl group. 제24항에 있어서, X1, X2및 X3이 수소원자이고; W는 수소원자 또는 -CH2-CH2-CO-O-R이며; 또 R이 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 아밀기, 이소아밀기, n-헥실기, 시클로헥실기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 2, 2, 4-트리메틸시클로헥실기, 데실기, 라우릴기, 미리스틸기, 세틸기 또는 스테아릴기인 자외선 흡수제.The compound of claim 24, wherein X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms; W is hydrogen atom or -CH 2 -CH 2 -CO-OR; R is isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, amyl group, isoamyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2, 2, 4-trimethyl The ultraviolet absorber which is a cyclohexyl group, a decyl group, a lauryl group, a myristyl group, a cetyl group, or a stearyl group. 제25항에 있어서, B가 수소원자 또는 아세틸기이고; X1및 X3이 수소원자이며; X2가 메톡실기이고; Y는 산소원자 또는 이미노기(-NH-)이며; Z은 메틸 또는 페닐기이고; 또 R이 이소프로필, 2-에틸헥실, 라우릴, 이소스테아릴, 시클로헥실 또는 3, 3, 5-트리메틸시클로헥실기인 자외선 흡수제.A compound according to claim 25, wherein B is a hydrogen atom or an acetyl group; X 1 and X 3 are hydrogen atoms; X 2 is a methoxyl group; Y is an oxygen atom or an imino group (-NH-); Z is a methyl or phenyl group; And an ultraviolet absorber wherein R is isopropyl, 2-ethylhexyl, lauryl, isostearyl, cyclohexyl or a 3, 3, 5-trimethylcyclohexyl group. 제26항에 있어서, X1및 X2가 메톡실기이고; X3이 수소원자이며; W가 수소원자 또는 -CH2CH2COOR이고; 또 R이 메틸, 에틸, n-부틸, 이소부틸 또는 2-에틸헥실기인 자외선 흡수제.27. The compound of claim 26, wherein X 1 and X 2 are methoxyl groups; X 3 is a hydrogen atom; W is hydrogen atom or -CH 2 CH 2 COOR; And R is a methyl, ethyl, n-butyl, isobutyl or 2-ethylhexyl group. 제27항에 있어서, X1, X2및 X3가 수소원자이고; W는 수소원자이며; 또 R이 n-부틸, 이소부틸 또는 2-에틸헥실기인 자외선 흡수제.The compound of claim 27, wherein X 1 , X 2 and X 3 are hydrogen atoms; W is a hydrogen atom; Moreover, the ultraviolet absorber whose R is n-butyl, isobutyl, or 2-ethylhexyl group.
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