Claims (19)
하기 일반식의 아자스피로 화합물 및 그의 염 :Azaspiro compounds and salts thereof of the general formula:
[상기식중 R1및 R2는 독립적으로 수소, 치환체를 가질 수도 있는 탄하수소잔기, 또는 치환체를 가질수도 있는 아실기를 나타내며 ; R3는 수소 또는 치환체를 가질 수도 있는 탄화수소 잔기를 나타내고 ; X1및 X2각각은 산소 또는 황이며 ; Y는 산소, 황 또는 일반식 : -N(R4)-(식중, R4는 수소 또는 저급알킬기를 나타낸다)의 기를 나타내고 ; m은 0 또는 1을 나타내며 : n은 0 또는 1을 나타낸다.][Wherein R 1 and R 2 independently represent hydrogen, a hydrocarbon residue which may have a substituent, or an acyl group which may have a substituent; R 3 represents a hydrocarbon moiety which may have hydrogen or a substituent; Each of X 1 and X 2 is oxygen or sulfur; Y represents an oxygen, sulfur or a group of the general formula: -N (R 4 )-(wherein R 4 represents hydrogen or a lower alkyl group); m represents 0 or 1: n represents 0 or 1.]
제1항에 있어서, 염이 생리적으로 허용 가능한 염인아자스피로 화합물 및 그의 염.The azaspiro compound and salt thereof according to claim 1, wherein the salt is a physiologically acceptable salt.
제1항에 있어서, 식중, R3가 수소인 아자스피로 화합물 및 그의 염.The azaspiro compound and salt thereof according to claim 1, wherein R 3 is hydrogen.
제1항에 있어서, 식중, Y가 산소인 아자스피로 화합물 및 그의 염.The azaspiro compound and salt thereof according to claim 1, wherein Y is oxygen.
제1항에 있어서, 식중, m이 0인 아자스피로 화합물 및 그의 염.The azaspiro compound according to claim 1, wherein m is 0 and a salt thereof.
제1항에 있어서, 식중, X1이 산소인 아자스피로 화합물 및 그의 염.The azaspiro compound and salt thereof according to claim 1, wherein X 1 is oxygen.
제1항에 있어서, 식중, X2가 산소인 아자스피로 화합물 및 그의 염.The azaspiro compound and salt thereof according to claim 1, wherein X 2 is oxygen.
제1항에 있어서, 식중, n이 0인 아자스피로 화합물 및 그의 염.The azaspiro compound according to claim 1, wherein n is 0 and a salt thereof.
제1항에 있어서, 식중, R1및 R2가 독립적으로 (1)수소, (2)탄화수소 잔기 또는 아실을 나타내고, 각각의 탄화수소 잔기 또는 아실은 할로겐, 니트로, 시아노, 히드록시, (C1∼4)알콕시(C1∼4)알킬티오, 아미노, 모노-또는 디(C1∼4)알킬-치환아미노, 모노-또는 디-아르알킬-치환 아미노, 모노-또는 디-피리딜카르보닐-치환아미노, (C1∼4)알콕시카르보닐, 히드록시카르보닐, (C1∼6)알킬카르보닐, 시클로알킬카르보닐, 카르바모일, 모노-또는 디(C1∼4)알킬-치환카르바모일, 페닐, 페녹시, 벤조일, 페톡시카르보닐, 페닐(C1∼4)알킬-카르바모일 및 페닐카르바모일에 의해 치환될 수도 있는 아자스피로 화합물 및 그의 염.The compound of claim 1, wherein R 1 and R 2 independently represent (1) hydrogen, (2) hydrocarbon residue or acyl, and each hydrocarbon residue or acyl is halogen, nitro, cyano, hydroxy, (C 1-4) alkoxy (C 1-4) alkylthio, amino, mono- or di (C 1-4) alkyl-substituted amino, mono- or di-aralkyl-substituted amino, mono- or di-pyridyl carbonate carbonyl-substituted amino, (C 1 ~ 4) alkoxycarbonyl, hydroxy-carbonyl, (C 1 ~ 6) alkyl-carbonyl, cycloalkyl-carbonyl, carbamoyl, mono- or di (C 1 ~ 4) alkyl -aza-spiro compounds and salts thereof which may be substituted by carbamoyl, and phenyl-carbamoyl-substituted carbamoyl, phenyl, phenoxy, benzoyl, page ethoxycarbonyl, phenyl (C 1 ~ 4) alkyl.
제9항에 있어서, 식중, 탄화수소 잔기가 (C1∼6)알킬, (C2∼4)알케닐, (C2∼4)알키닐, (C3∼7)단일 고리형 시클로알킬, (C8∼14)다리걸친 고리형 포화 탄화수소 잔기 또는 (C8∼14)다리걸친 고리형 불포화 탄화수소 잔기인 아자스피로 화합물 및 그의 염.10. The method of claim 9, wherein the hydrocarbon moiety is a (C 1 ~ 6) alkyl, (C 2 ~ 4) alkenyl, (C 2 ~ 4) alkynyl, (C 3 ~ 7) a single cyclic cycloalkyl, ( C 8 ~ 14) bridge cyclic saturated hydrocarbon residue or a (C 8 ~ 14) bridge the annular-aza-spiro compounds and salts thereof unsaturated hydrocarbon residues spanning over.
제9항에 있어서, 식중, 아실이 (C1∼6)카르복실릭 아실, 카르바믹 아실, 술포닉 아실 또는 치환-옥시카르보닐인 아자스피로 화합물 및 그의 염.10. The method of claim 9, wherein the (C 1 ~ 6) carboxylic acyl, carboxylic bamik acyl, sulfonic acyl or a substituted acyl-butyloxycarbonyl a-aza-spiro compounds and salts thereof.
제1항에 있어서, 식중, R1이 수소, (C1∼6)알킬, 할로겐에 의해 치환되거나 미치환된 (C1∼4) 알킬옥시카르보닐, 또는 (C1∼6) 방향족기-옥시카르보닐인 아자스피로 화합물 및 그의 염.According to claim 1, wherein, R 1 is hydrogen, (C 1 ~ 6) alkyl, optionally substituted by halogen or unsubstituted (C 1 ~ 4) alkyloxycarbonyl or (C 1 ~ 6) aromatic group- Azaspiro compounds that are oxycarbonyl and salts thereof.
제1항에 있어서, 식중, R1이 수소 또는 (C1∼4)알킬인 아자스피로 화합물 및 그의 염.According to claim 1, wherein, R 1 is-aza spiro compounds and salts thereof are hydrogen or alkyl (C 1 ~ 4).
제1항에 있어서, 식중, R2가 미치환(C1∼6)알킬인 아자스피로 화합물 및 그의 염.According to claim 1, wherein, R 2 is unsubstituted (C 1 ~ 6) alkyl-aza-spiro compounds and salts thereof.
제1항에 있어서, 화합물이 2-메톡시-2,8-디아자스피로 [4, 5]데칸-1,3-디온 히드로클로라이드인 아자스피로화합물 및 그의 염.The azaspiro compound and salt thereof according to claim 1, wherein the compound is 2-methoxy-2,8-diazaspiro [4,5] decane-1,3-dione hydrochloride.
제1항에 있어서, 화합물이 2-메톡시-8-(2-브로모에틸시카르보닐)-2,8-디아자스피로 [4, 5]데칸-1,3-디온인 아자스피로 화합물 및 그의 염.The azaspiro compound according to claim 1, wherein the compound is 2-methoxy-8- (2-bromoethylcycarbonyl) -2,8-diazaspiro [4,5] decane-1,3-dione and His salt.
활성성분으로서, 유효량의 하기 일반식(I)의 화합물 또는 생리적으로 허용 가능한 그의 염, 및 생리적으로 허용 가능한 담체 또는 희석제로 구성됨을 특징으로 하는 치매의 치료 및/또는 예방용 약학 조성물 :A pharmaceutical composition for the treatment and / or prophylaxis of dementia, which comprises, as an active ingredient, an effective amount of a compound of formula (I) or a physiologically acceptable salt thereof, and a physiologically acceptable carrier or diluent:
[상기식중, R1및 R2는 독립적으로 수소, 치환체를 가질 수도 있는 탄화수소잔기, 또는 치환체를 가질수도 있는 아실기를 나타내며 ; R3는 수소 또는 치환체를 가질수도 있는 탄화수소 잔기를 나타내고 ; X1및 X2각각은 산소 또는 황이며 ; Y는 산소, 황 또는 일반식 : -N(R4)-(식중, R4는 수소 또는 저급알킬기를 나타낸다)의 기를 나타내고 ; m은 0 또는 1을 나타내며; n은 0또는 1을나타낸다.][Wherein, R 1 and R 2 independently represent hydrogen, a hydrocarbon residue which may have a substituent, or an acyl group which may have a substituent; R 3 represents a hydrocarbon moiety which may have hydrogen or a substituent; Each of X 1 and X 2 is oxygen or sulfur; Y represents an oxygen, sulfur or a group of the general formula: -N (R 4 )-(wherein R 4 represents hydrogen or a lower alkyl group); m represents 0 or 1; n represents 0 or 1]
하기 일반식(I)의 화합물 또는 생리적으로 허용 가능한 그의 염의 유효량을 포유 동물에게 투여함을 특징으로 하는 치매의 치료 및/ 또는 예방법 :Treatment and / or prophylaxis of dementia characterized by administering to a mammal an effective amount of a compound of formula (I) or a physiologically acceptable salt thereof:
[상기식중, R1및 R2는 독립적으로 수소, 치환체를 가질 수도 있는 탄화수소 잔기, 또는 치환체를 가질 수도 있는 아실기를 나타내며 ; R3는 수소 또는 치환체를 가질 수도 있는 탄화수소 잔기를 나타내고 ; X1및 X2각각은 산소 또는 황이며 ; Y는 산소, 황 또는 일반식 : -N(R4)- (식중, R4는 수소 또는 저급알킬기를 나타낸다)의 기를 나타내고 ; m은 0 또는 1을 나타내며 ; n은 0 또는 1을 나타낸다.][Wherein, R 1 and R 2 independently represent hydrogen, a hydrocarbon residue which may have a substituent, or an acyl group which may have a substituent; R 3 represents a hydrocarbon moiety which may have hydrogen or a substituent; Each of X 1 and X 2 is oxygen or sulfur; Y represents an oxygen, sulfur or a group of the general formula: -N (R 4 )-(wherein R 4 represents hydrogen or a lower alkyl group); m represents 0 or 1; n represents 0 or 1.]
하기 일반식(I)의 화합물 및 그의 염을 제조하는 방법으로서 :As a method for preparing the compound of formula (I) and salts thereof:
[상기식중, R1및 R2는 독립적으로 수소, 치환체를 가질 수도 있는 탄화수소 잔기, 또는 치환체를 가질수도 있는 아실기를 나타내며 ; R3는 수소 또는 치환체를 가질 수도 있는 탄화수소 잔기를 나타내고 ; X1및 X2각각은 산소 또는 황이며 ; Y는 산소, 황 또는 일반식 : -N(R4)- (식중, R4는 수소 또는 저급알킬기를 나타낸다)의 기를 나타내고; m은 0 또는 1을 나타내며 ; n은 0 또는 1을 나타낸다.] (1) 하기 일반식 (Ⅱ)의 화합물을 하기 일반식(III)의 화합물과 반응시킨 후, 생성된 화합물을 고리화 반응시키고, 및 필요하다면, R1' 또는 R2/그 자체 또는 R1' 또는 R2' 내에 함유된 보호기를 제거하여, 상기 일반식(I)(식중, m은 0이다.)의 화합물 및 그의 염을 제조하고;[Wherein, R 1 and R 2 independently represent hydrogen, a hydrocarbon residue which may have a substituent, or an acyl group which may have a substituent; R 3 represents a hydrocarbon moiety which may have hydrogen or a substituent; Each of X 1 and X 2 is oxygen or sulfur; Y represents an oxygen, sulfur or a group of the general formula: -N (R 4 )-(wherein R 4 represents hydrogen or a lower alkyl group); m represents 0 or 1; n represents 0 or 1.] (1) After reacting a compound of formula (II) with a compound of formula (III), the resulting compound is cyclized and, if necessary, R 1 ′. Or removing the protecting group contained in R 2 / itself or R 1 ′ or R 2 ′ to prepare the compound of formula (I) wherein m is 0 and a salt thereof;
[상기식들중, X1, X2, R3, Y 및 n은 상기에서와 같은 의미이고 ; R1'는 상기의 R1과 같은 의미이거나 또는 R1이 작용기를 가질때는 그의 작용기가 보호기에 의해 보호된 R1이며 ; R2'는 상기의 R2와 같은 의미이거나 또는 R1이 작용기를 가질때는 그의 작용기가 보호기에 의해 보호된 R2이고 : 및 Z는 이탈기를 나타낸다.] (2) 하기 일반식(Ia)의 화합물을 하기 일반식(IV)의 화합물과 반응시키고, 및 필요하다면, 보호기를 제거하여, 상기 일반식(I)(식중, m은 0이다.)의 화합물 및 그의 염을 제조하고 ;[Wherein, X 1 , X 2 , R 3 , Y and n have the same meaning as above; R 1 'has the same meaning as the above R 1 or or R 1 is a R 1 is protected by a protecting group whose functional group is a functional group gajilttae; R 2 ′ has the same meaning as R 2 above, or when R 1 has a functional group, the functional group thereof is R 2 protected by a protecting group: and Z represents a leaving group.] (2) The following general formula (Ia) Reacting the compound with a compound of formula (IV) below and, if necessary, removing a protecting group to prepare the compound of formula (I) wherein m is 0 and salts thereof;
상기식들중, [R1', R2', R3', X1, X2, Y, Z 및 n은 상기에서와 같은 의미이다.] (3) 상기 일반식(Ia)의 화합물을 하기 일반식(V)의 화합물과 반등시키고, 및 필요하다면, 보호기를 제거하여, 상기 일반식(I)(식중, m은 0이다.)의 화합물 및 그의 염을 제조하고 :In the above formulas, [R 1 ′, R 2 ′, R 3 ′, X 1 , X 2 , Y, Z and n have the same meanings as above.] (3) The compound of formula (Ia) Rebound with a compound of formula (V) and, if necessary, a protecting group to remove the compound of formula (I) wherein m is 0 and a salt thereof:
R1'-N=C=0 ; (Ⅴ)R 1 '-N = C = 0; (Ⅴ)
상기식중, [R1'는 상기에서와 같은 의미이다.], (4) 하기 일반식(Ib)의 화합물을 하기 일반식(IV)의 화합물과 반응시키고, 및 필요하다면, 보호기를 제거하여, 상기 일반식(I)(식중, m은 0이다.)의 화합물 및 그의 염을 제조하고 :In the above formula, [R 1 ′ means the same as above.], (4) The compound of formula (Ib) is reacted with the compound of formula (IV). To prepare a compound of formula (I) wherein m is 0 and a salt thereof:
[상기식들중, R2', R3, X1, X2, Y 및 n은 상기에서와 같은 의미이고 ; R5는 수소 또는 히드록시를 나타내며 ; 및 Z'는 할로겐을 나타낸다.] (5) 하기 일반식(Ic)의 화합물을 하기일반식(VII)의 화합물과 반응시키고, 및 필요하다면, 보호기를 제거하여, 상기 일반식(I) (식중, m은 0이다.)의 화합물 및 그의 염을 제조하거나[Wherein, R 2 ′, R 3 , X 1 , X 2 , Y and n have the same meanings as above; R 5 represents hydrogen or hydroxy; And Z 'represents halogen.] (5) A compound of formula (Ic) is reacted with a compound of formula (VII) and, if necessary, a protecting group is removed to remove the general formula (I) , m is 0.) or a salt thereof
[상기식들중, R1', R2', R3', Z' 및 n은 상기에서와 같은 의미이다.] 또는 (6) 하기 일반식(Ie)의 화합물을 산화제와 반응시켜, 상기 일반식(I) (식중, m은 1이고, R1은 치환될 수도 있는 저급알킬이다.)의 화합물 및 그의 염을 제조함을 특징으로 하는 제조방법.[Wherein, R 1 ′, R 2 ′, R 3 ′, Z ′ and n have the same meanings as above.] Or (6) by reacting a compound of formula (Ie) with an oxidizing agent, A process for producing a compound of formula (I) wherein m is 1 and R 1 is lower alkyl which may be substituted.
[상기식중, R2', R3, X1, X2, Y 및 n은 상기에서와 같은 의미이고, 및 R1''는 치환될 수도 있는 저급알킬이다.][Wherein, R 2 ′, R 3 , X 1 , X 2 , Y and n have the same meaning as above, and R 1 ″ is lower alkyl which may be substituted.]
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.