Claims (7)
하기 구조식(I)로 표시된 화합물 또는 그의 산부가염.Compound represented by the following structural formula (I) or its acid addition salt.
식중, R1은 수소 원자 또는 저급 알킬기(비치환 또는 할로겐 원자에 의해 치환됨)이고, R2및 R3는 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 저급 알킬기(비치환 또는 할로겐 원자에 의해서 치환됨), 저급 알콕시기 또는 저급 알킬 티오기이고, R4는 수소원자, 할로겐 원자 또는 저급 알킬기이고, n는 1 또는 2의 정수이고, Q는 페닐기 또는 헤테로시클릭기이고, 이 기들은 각각 비치환이거나 또는 할로겐원자, 니트로기, 저급 알콕시기, 저급 알킬티오기, 저급 알킬기(비치환 또는 할로겐 원자로 치환되거나, 또는 비치환 또는 할로겐원자 치환 저급 알킬기로 치환됨)으로 되는 군 중에서 선택된 적어도 1개의 치환체로 치환되고, 상기 헤테로시클릭기는 옥소기, C5-10알킬기, 알릴기, 게라닐기, 파르네실기, 1-4개의 할로겐 원자로 치환된 저급 알킬기, C3-6시클로알킬메틸기, 저급 알콕시기로 치환된 에틸기, 저급 알콕시알킬기, 저급 알킬티오기, 저급 알킬술포닐기, 또는 페녹시기(1 또는 2개의 저급 알킬기로 치환될 수 있음), 글리시딜기, 아세토닐기, 페녹시메틸기(염소 원자로 치환될 수 있음)으로 치환된 디옥소라닐기, 2,2-디에톡시에틸기, 1-에톡시카르보닐에틸기, 트리메틸실릴메틸기, 1-피리딜에틸기, 벤질이미노기(저급 알콕시이미노기 또는 저급 알킬기로 치환될 수 있음으로 치환될 수 있음)으로 치환된 저급 알킬기로 치환 될 수 있고, A는 저급 알킬렌기(비치환 또는 C3-5시클로알킬기, 저급 알키닐기, 할로겐 원자로 치환된 저급 알킬기, 저급 알콕시기 또는 저급 알킬티오기로 되는 군 중에서 선택된 1 또는 2개의 치환체로 치환될 수 있음)이고, B는 직접 결합, 산소 원자, 황 원자, 곧은 사슬 또는 가지달린 사슬 저급 알킬렌기 또는 저급 알킬렌옥시기이다.Wherein R 1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group (substituted by an unsubstituted or halogen atom), and R 2 and R 3 are each independently a halogen atom or a lower alkyl group (substituted by an unsubstituted or halogen atom), lower An alkoxy group or lower alkyl thi group, R 4 is a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkyl group, n is an integer of 1 or 2, Q is a phenyl group or a heterocyclic group, and these groups are each unsubstituted or halogen Substituted with at least one substituent selected from the group consisting of atoms, nitro groups, lower alkoxy groups, lower alkylthio groups, lower alkyl groups (substituted with unsubstituted or halogen atoms or substituted with unsubstituted or halogen atom substituted lower alkyl groups); , The heterocyclic group is oxo group, C 5-10 alkyl group, allyl group, geranyl group, farnesyl group, lower alkyl group substituted with 1-4 halogen atoms, C 3-6 cycloal A methyl group, an ethyl group substituted with a lower alkoxy group, a lower alkoxyalkyl group, a lower alkylthio group, a lower alkylsulfonyl group, or a phenoxy group (which may be substituted with one or two lower alkyl groups), glycidyl group, acetonyl group, phenoxy Dioxolanyl group, 2,2-diethoxyethyl group, 1-ethoxycarbonylethyl group, trimethylsilylmethyl group, 1-pyridylethyl group, benzylimino group (lower alkoxyimino group substituted with a methyl group (which may be substituted with a chlorine atom)) Or a lower alkyl group substituted with an optionally substituted lower alkyl group, and A is a lower alkylene group (unsubstituted or C 3-5 cycloalkyl group, lower alkynyl group, lower substituted with halogen atom) May be substituted with one or two substituents selected from the group consisting of an alkyl group, a lower alkoxy group or a lower alkylthio group), and B is a direct bond, oxygen atom, sulfur atom, straight chain or branched A chain lower alkylene group or a lower alkyleneoxy group.
제1항에 있어서, 상기 화합물이 하기 구조식(I')로 표시되는 화합물 또는 그의 산부가염인 화합물.The compound according to claim 1, wherein the compound is a compound represented by the following structural formula (I ') or an acid addition salt thereof.
식 중, A'는 메틸기, 에틸기, 이소프로필기 또는 시클로프로필기로 치환된 메틸렌기이고, Q는 4-위치에서 불소원자, 염소원자 또는 메틸기로 치환된 페닐기, 2-피리딜기, 5-클로로피리딘-3-일기, 5-클로로-6-에틸피리미딘-4-일기, 5-클로로-6-메틸피리미딘-4-일기 또는 6-클로로-5-메틸피리미딘-4-일기이고, O-Q'기는 A'에 대해서 3- 또는 4-위치에서 치환된다.Wherein A 'is a methylene group substituted with a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group or a cyclopropyl group, and Q is a phenyl group substituted with a fluorine atom, a chlorine atom or a methyl group at the 4-position, 2-pyridyl group and 5-chloropyridine -3-yl group, 5-chloro-6-ethylpyrimidin-4-yl group, 5-chloro-6-methylpyrimidin-4-yl group or 6-chloro-5-methylpyrimidin-4-yl group, O- The Q 'group is substituted at the 3- or 4- position relative to A'.
제1항에 있어서, 상기 화합물의 하기 구조식(I″)로 표시되는 화합물 또는 그의 산 부가염인 화합물.The compound according to claim 1, which is a compound represented by the following structural formula (I ″) or an acid addition salt thereof.
식 중, R2, R3, R4및 n는 상기한 것과 동일한 의미를 가지며, R5는 저급 알킬기 또는 3 내지 5개의 탄소원자를 갖는 시클로알킬기이고, Q″는 5 내지 10개의 원자를 갖는 알킬기, 알릴기, 게라닐기, 파르네실기, 1내지 4개의 할로겐 원자로 치환된 저급 알킬기, 3 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 시클로알킬메틸기, 저급 알콕시기, 저급 알콕시알킬기, 저급 알킬티오기, 저급 알킬술포닐기, 1 또는 2개의 저급 알킬기로 치환될 수 있는 페녹시기로 치환된 에틸기, 글리시딜기, 아세토닐기, 염소원자로 치환될 수 있는 페녹시메틸기로 치환된 디옥소라닐기, 2,2-디에톡시에틸기, 1-에톡시카르보닐에틸기, 트리메틸실릴메틸기, 1-피리딜에틸기, 저급 알콕시이미노기 또는 저급 알킬기로 치환될 수 있는 벤질이미노기로 치환된 저급 알킬기이다.Wherein R 2 , R 3 , R 4 and n have the same meaning as described above, R 5 is a lower alkyl group or a cycloalkyl group having 3 to 5 carbon atoms, and Q ″ is an alkyl group having 5 to 10 atoms , Allyl group, geranyl group, farnesyl group, lower alkyl group substituted with 1 to 4 halogen atoms, cycloalkylmethyl group having 3 to 6 carbon atoms, lower alkoxy group, lower alkoxyalkyl group, lower alkylthio group, lower alkylsulfo An ethyl group substituted with a phenoxy group which may be substituted with one or two lower alkyl groups, a glycidyl group, an acetonyl group, a dioxoranyl group substituted with a phenoxymethyl group which may be substituted with a chlorine atom, and a 2,2-diethoxyethyl group And a lower alkyl group substituted with a benzylimino group which may be substituted with a 1-ethoxycarbonylethyl group, trimethylsilylmethyl group, 1-pyridylethyl group, lower alkoxyimino group or lower alkyl group.
하기 구조식Structural formula
(식 중, X는 제거시킬 수 있는 기임)의 화합물을 하기 구조식.Wherein X is a group that can be removed.
의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하는 하기 구조식(I)Structural formula (I) characterized by reacting with a compound of
[위 식 중, R1은 수소 원자 또는 저급 알킬기(비치환 또는 할로겐 원자에 의해 치환됨)이고, R2및 R3는 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 저급 알킬기(비치환 또는 할로겐 원자에 의해서 치환됨), 저급 알콕시기 또는 저급 알킬 티오기이고, R4는 수소원자, 할로겐 원자 또는 저급 알킬기이고, n는 1 또는 2의 정수이고, Q는 페닐기 또는 헤테로시클릭기 이고, 이 기들은 각각 비치환이거나 또는 할로겐원자, 니트로기, 저급 알콕시기, 저급 알킬티오기, 저급 알킬기(비치환 또는 할로겐원자 또는 저급 알콕시기에 의해서 치환됨), 페닐기(비치환 또는 저급 알콕시기로 치환됨) 및 페녹시기(비치환 또는 할로겐 원자로 치환되거나, 또는 비치환 또는 할로겐 원자 치환 저급 알킬기로 치환됨)으로 되는 군 중에서 선택된 적어도 1개의 치환체로 치환되고, 상기 헤테로시클릭기는 옥소기, C5-10알킬기, 알릴기, 게라닐기, 파르네실기, 1-4개의 할로겐 원자로 치환된 저급 알킬기, C3-6시클로알킬메틸기, 저급 알콕시기로 치환된 에틸기, 저급 알콕시알킬기, 저급 알킬티오기, 저급 알킬술포닐기, 또는 페녹시기(1 또는 2개의 저급 알킬기로 치환될 수 있음), 글리시딜기, 아세토닐기, 페녹시메틸기(염소 원자로 치환될 수 있음)으로 치환된 디옥소라닐기, 3,2-디에톡시에틸기, 1-에톡시카르보닐에틸기, 트리메틸실릴메틸기, 1-피리딜에틸기, 벤질이미노기(저급 알콕시이미노기 또는 저급 알킬기로 치환될 수 있음)으로 치환된 저급 알킬기로 치환 될 수 있고, A는 저급 알킬렌기(비치환 또는 C3-5시클로알킬기, 저급 알키닐기, 할로겐 원자로 치환된 저급 알킬기, 저급 알콕시기 또는 저급 알킬티오기로 되는 군 중에서 선택된 1 또는 2개의 치환체로 치환될 수 있음)이고, B는 직접 결합, 산소 원자, 황 원자, 곧은 사슬 또는 가지달린 사슬 저급 알킬렌기 또는 저급 알킬렌옥시기임)의 화합물 또는 그의 산부가염의 제조방법.[Wherein R 1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group (unsubstituted or substituted by a halogen atom), and R 2 and R 3 are each independently a halogen atom or a lower alkyl group (unsubstituted or a halogen atom substituted) ), A lower alkoxy group or a lower alkyl thi group, R 4 is a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkyl group, n is an integer of 1 or 2, Q is a phenyl group or a heterocyclic group, each of which is unsubstituted Or halogen atom, nitro group, lower alkoxy group, lower alkylthio group, lower alkyl group (substituted by unsubstituted or halogen atom or lower alkoxy group), phenyl group (substituted by unsubstituted or lower alkoxy group) and phenoxy group (beach Substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a ring or a halogen atom, or an unsubstituted or halogen atom substituted lower alkyl group), and Interrogating cyclic group oxo group, a C 5-10 alkyl group, an allyl group, a galley group, Parr four groups, 1-4 halogen atoms substituted lower alkyl group, a C 3-6 cycloalkyl group, an ethyl group, a lower alkoxy group substituted by a lower Substituted by an alkoxyalkyl group, lower alkylthio group, lower alkylsulfonyl group, or phenoxy group (which may be substituted with one or two lower alkyl groups), glycidyl group, acetonyl group, phenoxymethyl group (which may be substituted with chlorine atoms) Substituted dioxoranyl group, 3,2-diethoxyethyl group, 1-ethoxycarbonylethyl group, trimethylsilylmethyl group, 1-pyridylethyl group, benzylimino group (which may be substituted with lower alkoxyimino group or lower alkyl group) Lower alkyl group, and A is selected from the group consisting of lower alkylene group (unsubstituted or C 3-5 cycloalkyl group, lower alkynyl group, lower alkyl group substituted by halogen atom, lower alkoxy group or lower alkylthio group) And B is a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, a straight chain or branched chain lower alkylene group or a lower alkyleneoxy group) or a method for producing an acid addition salt thereof. .
유효 성분으로서 하기 구조식 화합물 또는 그의 산부가염을 함유하는 것을 특징으로 하는 살충제.A pesticide comprising the following structural formula or its acid addition salt as an active ingredient.
식 중, R1은 수소 원자 또는 저급 알킬기(비치환 또는 할로겐 원자에 의해서 치환됨)이고, R2및 R3는 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 저급 알킬기(비치환 또는 할로겐 원자에 의해서 치환됨), 저급 알콕시기 또는 저급 알킬티오기이고, R4는 수소 원자, 할로겐 원자 또는 저급 알킬기이고, n는 1 또는 2의 정수이고, Q는 페닐기 또는 헤테로시클릭기이고, 이 기들은 각각 비치환이거나 또는 할로겐 원자, 니트로기, 저급 알콕시기, 저급 알킬티오기, 저급 알킬기(비치환 또는 할로겐 원자 또는 저급 알콕시기에 의해서 치환됨), 페닐기(비치환 또는 저급 알콕시기로 치환됨) 및 페녹시기(비치환 또는 할로겐 원자로 치환되거나, 또는 비치환 또는 할로겐 원자 치환 저급 알킬기로 치환됨)으로 되는 군 중에서 선택된 적어도 1개의 치환체로 치환되고, 상기 헤테로시클릭기는 옥소기, C5-10알킬기, 알릴기, 게라닐기, 파르네실기, 1-4개의 할로겐 원자로 치환된 저급 알킬기, C3-6시클로알킬메틸기, 저급 알콕시기로 치환된 에틸기, 저급 알콕시알킬기, 저급 알킬티오기, 저급 알킬술포닐기, 또는 페녹시기(1 또는 2개의 저급 알킬기로 치환될 수 있음), 글리시딜기, 아세토닐기, 페녹시메틸기(염소 원자로 치환될 수 있음)으로 치환된 디옥소라닐기, 2,2-디에톡시에틸기, 1-에톡시카르보닐에틸기, 트리메틸실릴메틸기, 1-피리딜에틸기, 벤질이미노기(저급 알콕시이미노기 또는 저급 알킬기로 치환될 수 있음으로 치환될 수 있음)으로 치환된 저급 알킬기로 치환 될 수 있고, A는 저급 알킬렌기(비치환 또는 C3-5시클로알킬기, 저급 알키닐기, 할로겐 원자로 치환된 저급 알킬기, 저급 알콕시기 또는 저급 알킬티오기로 되는 군 중에서 선택된 1 또는 2개의 치환체로 치환될 수 있음)이고, B는 직접 결합, 산소 원자, 황 원자, 곧은 사슬 또는 가지달린 사슬 저급 알킬렌기 또는 저급 알킬렌옥시기이다.Wherein R 1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group (substituted by an unsubstituted or halogen atom), R 2 and R 3 are each independently a halogen atom or a lower alkyl group (substituted by an unsubstituted or halogen atom), A lower alkoxy group or a lower alkylthio group, R 4 is a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkyl group, n is an integer of 1 or 2, Q is a phenyl group or a heterocyclic group, each of which is unsubstituted or Halogen atom, nitro group, lower alkoxy group, lower alkylthio group, lower alkyl group (unsubstituted or substituted by halogen atom or lower alkoxy group), phenyl group (substituted by unsubstituted or lower alkoxy group) and phenoxy group (unsubstituted or Substituted with a halogen atom, or substituted with at least one substituent selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted halogen atom lower alkyl group, and Interrogating cyclic group oxo group, a C 5-10 alkyl group, an allyl group, a galley group, Parr four groups, 1-4 halogen atoms substituted lower alkyl group, a C 3-6 cycloalkyl group, an ethyl group, a lower alkoxy group substituted by a lower Substituted by an alkoxyalkyl group, lower alkylthio group, lower alkylsulfonyl group, or phenoxy group (which may be substituted with one or two lower alkyl groups), glycidyl group, acetonyl group, phenoxymethyl group (which may be substituted with chlorine atoms) Substituted dioxolanyl group, 2,2-diethoxyethyl group, 1-ethoxycarbonylethyl group, trimethylsilylmethyl group, 1-pyridylethyl group, benzylimino group (can be substituted with lower alkoxyimino group or lower alkyl group) may be) of which may be substituted with a substituted lower alkyl group, a is a lower alkylene group (which is unsubstituted or C 3-5 cycloalkyl group, a lower alkynyl group, a halogen atom substituted lower alkyl group, a lower alkoxy group or lower alkylthio group May be substituted with one or two substituents selected from the group), and, B is an alkylene group directly bonded to an oxygen atom, a sulfur atom, a straight chain or branched chain lower alkylene group or lower alkyl.
유효성분으로서 하기 구조식의 화합물 또는 그의 산부가염을 함유하는 것을 특징으로 하는 살응애제.An antimicrobial agent characterized by containing the compound of the following structural formula or its acid addition salt as an active ingredient.
식 중, R1은 수소 원자 또는 저급 알킬기(비치환 또는 할로겐 원자에 의해서 치환됨)이고, R2및 R3는 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 저급 알킬기(비치환 또는 할로겐 원자에 의해서 치환됨), 저급 알콕시기 또는 저급 알킬티오기이고, R4는 수소 원자, 할로겐 원자 또는 저급 알킬기이고, n는 1 또는 2의 정수이고, Q는 페닐기 또는 헤테로시클릭기이고, 이 기들은 각각 비치환이거나 또는 할로겐 원자, 니트로기, 저급 알콕시기, 저급 알킬티오기, 저급 알킬기(비치환 또는 할로겐 원자 또는 저급 알콕시기에 의해서 치환됨), 페닐기(비치환 또는 저급 알콕시기로 치환됨) 및 페녹시기(비치환 또는 할로겐 원자로 치환되거나, 또는 비치환 또는 할로겐 원자 치환 저급 알킬기로 치환됨)으로 되는 군 중에서 선택된 적어도 1개의 치환체로 치환되고, 상기 헤테로시클릭기는 옥소기, C5-10알킬기, 알릴기, 게라닐기, 파르네실기, 1-4개의 할로겐 원자로 치환된 저급 알킬기, C3-6시클로알킬메틸기, 저급 알콕시기로 치환된 에틸기, 저급 알콕시알킬기, 저급 알킬티오기, 저급 알킬술포닐기, 또는 페녹시기(1 또는 2개의 저급 알킬기로 치환될 수 있음), 글리시딜기, 아세토닐기, 페녹시메틸기(염소 원자로 치환될 수 있음)으로 치환된 디옥소라닐기, 2,2-디에톡시에틸기, 1-에톡시카르보닐에틸기, 트리메틸실릴메틸기, 1-피리딜에틸기, 벤질이미노기(저급 알콕시이미노기 또는 저급 알킬기로 치환될 수 있음으로 치환될 수 있음)으로 치환된 저급 알킬기로 치환 될 수 있고, A는 저급 알킬렌기(비치환 또는 C3-5시클로알킬기, 저급 알키닐기, 할로겐 원자로 치환된 저급 알킬기, 저급 알콕시기 또는 저급 알킬티오기로 되는 군 중에서 선택된 1 또는 2개의 치환체로 치환될 수 있음)이고, B는 직접 결합, 산소 원자, 황 원자, 곧은 사슬 또는 가지달린 사슬 저급 알킬렌기 또는 저급 알킬렌옥시기이다.Wherein R 1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group (substituted by an unsubstituted or halogen atom), R 2 and R 3 are each independently a halogen atom or a lower alkyl group (substituted by an unsubstituted or halogen atom), A lower alkoxy group or a lower alkylthio group, R 4 is a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkyl group, n is an integer of 1 or 2, Q is a phenyl group or a heterocyclic group, each of which is unsubstituted or Halogen atom, nitro group, lower alkoxy group, lower alkylthio group, lower alkyl group (unsubstituted or substituted by halogen atom or lower alkoxy group), phenyl group (substituted by unsubstituted or lower alkoxy group) and phenoxy group (unsubstituted or Substituted with a halogen atom, or substituted with at least one substituent selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted halogen atom lower alkyl group, and Interrogating cyclic group oxo group, a C 5-10 alkyl group, an allyl group, a galley group, Parr four groups, 1-4 halogen atoms substituted lower alkyl group, a C 3-6 cycloalkyl group, an ethyl group, a lower alkoxy group substituted by a lower Substituted by an alkoxyalkyl group, lower alkylthio group, lower alkylsulfonyl group, or phenoxy group (which may be substituted with one or two lower alkyl groups), glycidyl group, acetonyl group, phenoxymethyl group (which may be substituted with chlorine atoms) Substituted dioxolanyl group, 2,2-diethoxyethyl group, 1-ethoxycarbonylethyl group, trimethylsilylmethyl group, 1-pyridylethyl group, benzylimino group (can be substituted with lower alkoxyimino group or lower alkyl group) may be) of which may be substituted with a substituted lower alkyl group, a is a lower alkylene group (which is unsubstituted or C 3-5 cycloalkyl group, a lower alkynyl group, a halogen atom substituted lower alkyl group, a lower alkoxy group or lower alkylthio group May be substituted with one or two substituents selected from the group), and, B is an alkylene group directly bonded to an oxygen atom, a sulfur atom, a straight chain or branched chain lower alkylene group or lower alkyl.
유효 성분으로서 하기 구조식의 화합물 또는 그의 산부가염을 함유하는 것을 특징으로 하는 살진균제.A fungicide comprising a compound of the following structural formula or an acid addition salt thereof as an active ingredient.
식 중, R1은 수소 원자 또는 저급 알킬기(비치환 또는 할로겐 원자에 의해서 치환됨)이고, R2및 R3는 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 저급 알킬기(비치환 또는 할로겐 원자에 의해서 치환됨), 저급 알콕시기 또는 저급 알킬티오기이고, R4는 수소 원자, 할로겐 원자 또는 저급 알킬기이고, n는 1 또는 2의 정수이고, Q는 페닐기 또는 헤테로시클릭기이고, 이 기들은 각각 비치환이거나 또는 할로겐 원자, 니트로기, 저급 알콕시기, 저급 알킬티오기, 저급 알킬기(비치환 또는 할로겐 원자 또는 저급 알콕시기에 의해서 치환됨), 페닐기(비치환 또는 저급 알콕시기로 치환됨) 및 페녹시기(비치환 또는 할로겐 원자로 치환되거나, 또는 비치환 또는 할로겐 원자 치환 저급 알킬기로 치환됨)으로 되는 군 중에서 선택된 적어도 1개의 치환체로 치환되고, 상기 헤테로시클릭기는 옥소기, C5-10알킬기, 알릴기, 게라닐기, 파르네실기, 1-4개의 할로겐 원자로 치환된 저급 알킬기, C3-6시클로알킬메틸기, 저급 알콕시기로 치환된 에틸기, 저급 알콕시알킬기, 저급 알킬티오기, 저급 알킬술포닐기, 또는 페녹시기(1 또는 2개의 저급 알킬기로 치환될 수 있음), 글리시딜기, 아세토닐기, 페녹시메틸기(염소 원자로 치환될 수 있음)으로 치환된 디옥소라닐기, 2,2-디에톡시에틸기, 1-에톡시카르보닐에틸기, 트리메틸실릴메틸기, 1-피리딜에틸기, 벤질이미노기(저급 알콕시이미노기 또는 저급 알킬기로 치환될 수 있음으로 치환될 수 있음)으로 치환된 저급 알킬기로 치환 될 수 있고, A는 저급 알킬렌기(비치환 또는 C3-5시클로알킬기, 저급 알키닐기, 할로겐 원자로 치환된 저급 알킬기, 저급 알콕시기 또는 저급 알킬티오기로 되는 군 중에서 선택된 1 또는 2개의 치환체로 치환될 수 있음)이고, B는 직접 결합, 산소 원자, 황 원자, 곧은 사슬 또는 가지달린 사슬 저급 알킬렌기 또는 저급 알킬렌옥시기이다.Wherein R 1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group (substituted by an unsubstituted or halogen atom), R 2 and R 3 are each independently a halogen atom or a lower alkyl group (substituted by an unsubstituted or halogen atom), A lower alkoxy group or a lower alkylthio group, R 4 is a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkyl group, n is an integer of 1 or 2, Q is a phenyl group or a heterocyclic group, each of which is unsubstituted or Halogen atom, nitro group, lower alkoxy group, lower alkylthio group, lower alkyl group (unsubstituted or substituted by halogen atom or lower alkoxy group), phenyl group (substituted by unsubstituted or lower alkoxy group) and phenoxy group (unsubstituted or Substituted with a halogen atom, or substituted with at least one substituent selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted halogen atom lower alkyl group, and Interrogating cyclic group oxo group, a C 5-10 alkyl group, an allyl group, a galley group, Parr four groups, 1-4 halogen atoms substituted lower alkyl group, a C 3-6 cycloalkyl group, an ethyl group, a lower alkoxy group substituted by a lower Substituted by an alkoxyalkyl group, lower alkylthio group, lower alkylsulfonyl group, or phenoxy group (which may be substituted with one or two lower alkyl groups), glycidyl group, acetonyl group, phenoxymethyl group (which may be substituted with chlorine atoms) Substituted dioxolanyl group, 2,2-diethoxyethyl group, 1-ethoxycarbonylethyl group, trimethylsilylmethyl group, 1-pyridylethyl group, benzylimino group (can be substituted with lower alkoxyimino group or lower alkyl group) may be) of which may be substituted with a substituted lower alkyl group, a is a lower alkylene group (which is unsubstituted or C 3-5 cycloalkyl group, a lower alkynyl group, a halogen atom substituted lower alkyl group, a lower alkoxy group or lower alkylthio group May be substituted with one or two substituents selected from the group), and, B is an alkylene group directly bonded to an oxygen atom, a sulfur atom, a straight chain or branched chain lower alkylene group or lower alkyl.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.