KR880001725A

KR880001725A - 수성 부가 시스템, 방법 및 중합 입자

Info

Publication number: KR880001725A
Application number: KR1019860005679A
Authority: KR
Inventors: 와인 하이크 켄네쓰; 크리스토퍼 고즈 윌리암
Original assignee: 이스트만 코닥 컴패니; 원본미기재; 이스트만 코닥 캠패니
Priority date: 1986-07-14
Filing date: 1986-07-14
Publication date: 1988-04-26
Also published as: KR940000964B1

Abstract

내용 없음

Description

수성 부가 시스템, 방법 및 중합 입자

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims

약2내지 10중량% 계면활성제, 약 5내지 약 20중량% 유화왁스, 7보다 크고, 10.5와 같거나 그 보다 작은 pH의 약 0.2 내지 약 1.0중량%염기, 착색 복합물을 형성할 수 있는 약 20내지 약 60중량% 최소한 하나의 부가제 및 약 40내지 약 60중량% 물로 구성되고, 본래의 장소에서 색 생성복합물의 형성이없는 것을 특징으로 하는 중합체 입자에 부가제를 적용하는 수성 부가 시스템.
제1항에 있어서, 염기가 소듐 테트라보레이트,탄산 나트륨, 중탄산 나트륨, 탄산 칼슘 또는 탄산 마그네슘에서 선택된 수성 시스템.
제1항에 있어서, 부가제가 테트라키스[메틸렌 3-(3´,5´-디-t-부틸-4´-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 옥타데실 3-(3´,5´-디-t-부틸-4´-하이드록시페닐)프로피오네이트, 1,3,5,-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸)-4-하이드록시벤질)벤젠, 비스(2,4-디-t-부틸페닐)펜타에 리쓰리톨 디포스파이트, 트리스(모노노닐페닐)포스파이트, 4,4´-부틸리덴-비스(5-메틸-2-t-부틸)페놀, 트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아뉴레이트, 또는 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐 세바세이트에서 선택된 수성시스템.
제2항에 있어서,부가제가 테트라키스[메틸렌 3-(3´,5´-디-t-부틸-4´-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 옥타데실 3-(3´,5´-디-t-부틸-4´-하이드록시페닐)프로피오네이트, 1,3,5,-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸)-4-하이드록시벤질벤젠, 비스(2,4-디-t-부틸페닐)펜타에 리쓰리톨 디포스파이트, 에서 선택된 수성시스템.
(1)약 40내지 약 65중량%물, 약 12내지 약 20% 제1의 부가 성분, 약 4내지 약 12% 제2의 부가성분, 약 5 내지 약 20%유화왁스, 약 0.2 내지 약 1.0%염기및 약 2 내지 약 10% 계면활성제를 혼합하고:(2)모든 고체가 용융되도록 혼합물의 온도를 상승시키며 혼합물을 고반하고:(3)최소한 25% 고체를 얻도록 최소한 85℃에서 물을 더 부가하고:(4)고체를 용융된 상태로 유지시키기에 충분한 온도까지 재가열하고:(5)균일한 동안 비등을 방지하는 압력하에 그 온도에서 가열된 혼합물을 유지하고:(6)유제를 주변 온도까지 냉각하는 것으로 구성되는 100℃또는 그 이하의 융점을 가지는 제1의 부가 성분 및100℃이상의 융점을 가지는 제2의 부가 성분 및 유화 왁스를 포함하는 수성유제를 제조하는 방법.
제5항에 있어서, 염기가 7이상에서 10.5또는 그 이하의 pH를 가지는 방법.
제6항에 있어서, 염기가 소돔 테트라보레이트, 탄산 나트륨, 중탄산나트륨, 탄산 칼슘 또는 탄산 마그네슘에서 선택된 방법.
제6항에 있어서, 제1의 부가 성분이 옥타데실 3-(3´,5´-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트 또는 디라우릴 티오디프로피오네이트에서 선택된 방법.
제8항에있어서, 제2의 부가 성분이 테트라키스[메틸렌3-(3´,5´-디-t-부틸-5-4-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄,1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸)4-하이드록시벤질)벤젠 또는 비스(2,4-디-t-부틸페닐)펜타에리쓰리톨 디포스파이트, 트리스(모노닐페닐)포스 파이트 또는 4,4´-부틸리덴-비스(5-메틸-2-t-부틸)페놀에서 선택된 방법.
입자를 제1항의 수성 시스템과 접촉시키고 입자를 건조시키는 것으로 구성되는, 중합 입자에 부가제를 적용하는 방법.
입자를 제2항의 수성시스템과 접촉시키고 입자를 건조시키는 것으로 구성되는, 중합입자에 부가제를 적용하는 방법.
입자를 제5항에 따라 제조된 수성 유체와 접촉시키고 입자를 건조시키는 것으로 구성되는, 중합입자에 부가제를 적용하는 방법.
제10항의 방법으로 처리된 중합 입자.
제11항의 방법으로 처리된 중합 입자.
제12항의 방법으로 처리된 중합 입자.
제5항의 방법으로 처리된 중합 입자.

※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.