KR870001171B1 - Plasma treatment apparatus - Google Patents

Plasma treatment apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR870001171B1
KR870001171B1 KR1019850004094A KR850004094A KR870001171B1 KR 870001171 B1 KR870001171 B1 KR 870001171B1 KR 1019850004094 A KR1019850004094 A KR 1019850004094A KR 850004094 A KR850004094 A KR 850004094A KR 870001171 B1 KR870001171 B1 KR 870001171B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plasma
plasma processing
processing apparatus
housing chamber
truck
Prior art date
Application number
KR1019850004094A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR860000100A (en
Inventor
가쯔히데 마나베
야스히꼬 오기스
Original Assignee
도요다 고세이 가부시끼 가이샤
네모또 마사오
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP59121122A external-priority patent/JPS61439A/en
Priority claimed from JP59130622A external-priority patent/JPS619440A/en
Priority claimed from JP15023384A external-priority patent/JPS6128531A/en
Application filed by 도요다 고세이 가부시끼 가이샤, 네모또 마사오 filed Critical 도요다 고세이 가부시끼 가이샤
Publication of KR860000100A publication Critical patent/KR860000100A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR870001171B1 publication Critical patent/KR870001171B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C1/00Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C15/00Enclosures for apparatus; Booths

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Nozzles (AREA)

Abstract

A gate(2) is made on the right edge of the housing chamber (1). A cover, which has a plasma discharging hole(3), is attached on the gate. One pair of rails (5) is arranged under the chamber(1). A rotating portion(6) consists of a supporting frame(8) and a rotor(8), which rotates around the horizontal shaft multiple wheels(9) assembled under the supporting frame(7) rotate along the rail(5). The rotor(8) is composed of a shaft(10) and a psir of right and left rotating discs(11), which is fixed on the shaft(10). A gear(12) is fixed on the left edge of the shaft(10) and a sprocket wheel(13) on the right. A speed-adjustable notor(18) is used.

Description

플라즈마 처리장치Plasma processing equipment

제1도는 본 발명을실시하는 플라즈마 처리장치 및 이 장치에 대해 도장될 물질을 적재 및 제거하는 장치의 세로 단면도.1 is a longitudinal cross-sectional view of a plasma processing apparatus embodying the present invention and an apparatus for loading and removing material to be coated onto the apparatus.

제2도는 플라즈마 처리장치의 투시도.2 is a perspective view of a plasma processing apparatus.

제3도는 플라즈마 처리장치의 부분확대 횡단면도.3 is a partially enlarged cross-sectional view of a plasma processing apparatus.

제4도는 하우징챔버 및 회전지지부의 정합구 구성을 도시한 부분확대 측면도.Figure 4 is a partially enlarged side view showing the mating opening configuration of the housing chamber and the rotational support.

제5도는 제4도의 부분 세로 단면도.5 is a partial longitudinal cross-sectional view of FIG.

제6도는 하우징챔버에 대한 트럭의 위치 설정 및 고정 구성을 나타내는 트럭의 세로 단면도.6 is a longitudinal cross-sectional view of the truck showing the positioning and securing configuration of the truck relative to the housing chamber.

제7도는 트럭의 평면도.7 is a top view of the truck.

제8도는 트럭상의 회전기구 및 트럭에 대한 회전지지기부의 걸림구성을 도시한 부분 확대 전면도.8 is a partially enlarged front view showing a locking configuration of a rotating mechanism on a truck and a rotation supporting portion of the truck.

제9도는 부분 측면도.9 is a partial side view.

제10도는 현수부재의 부분확대 투시도.10 is a partially enlarged perspective view of the suspension member.

제11도는 본 발명의 제2실시예로서의 플라즈마 처리장치를 도시한 부분 단면도.11 is a partial sectional view showing a plasma processing apparatus as a second embodiment of the present invention.

제12도는 제11도의 투시도.12 is a perspective view of FIG.

제13도는 플라즈마주입관의 전면도.13 is a front view of the plasma injection tube.

제14도는 제13도의 선 ⅩⅣ-ⅩⅣ에 따른 단면도.14 is a cross-sectional view taken along the line XIV-XIV of FIG.

제15도는 제13도의 선 ⅩⅤ-ⅩⅤ에 따른 단면도.15 is a cross-sectional view taken along the line XV-XV of FIG.

제16도는배기관의 접속 시스템을 도시한 평면도.Fig. 16 is a plan view showing a connection system of the exhaust pipe.

제17도는 지지기부의 일부분을 도시한 확대 투시도.17 is an enlarged perspective view of a portion of the support base.

제18도는 플라즈마 처리장치가 사용될 때의 플라즈마 흐름을 도시한 도면.18 shows a plasma flow when a plasma processing apparatus is used.

제19도는 제2실시예의 또 다른 예를 도시한 부분 단면도.19 is a partial sectional view showing another example of the second embodiment.

제20도는 본 발명의 제3실시예의 플라즈마 처리장치를 도시한 단면도.20 is a cross-sectional view showing a plasma processing apparatus of a third embodiment of the present invention.

제21도는 제20도의 투시도.FIG. 21 is a perspective view of FIG. 20. FIG.

제22도는 본 발명의 제4실시예의 플라즈마 처리장치의 투시도.22 is a perspective view of a plasma processing apparatus of a fourth embodiment of the present invention.

제23도는 방전 감지기를 구비한 플라즈마 발생장치의 전면도.23 is a front view of a plasma generating device having a discharge detector.

제24도는 열감지기를 구비한 플라즈마 발생장치의 전면도.24 is a front view of the plasma generator with a heat sensor.

제25도는 오존 발생기를 구비한 플라즈마 발생장치의 전면도.25 is a front view of a plasma generator having an ozone generator.

제26도는 제4실시예의 플라즈마 처리장치의 전면도.26 is a front view of the plasma processing apparatus of the fourth embodiment;

제27도는 제4실시예의 좌측면도.27 is a left side view of the fourth embodiment.

제28도는 제4실시예의 우측면도.28 is a right side view of the fourth embodiment.

제29도는 제4실시예의배관도.29 is a piping diagram of the fourth embodiment.

제30도는 제4실시예의 하우징챔버의 투시도.30 is a perspective view of the housing chamber of the fourth embodiment.

제31도는 하우징챔버에 부착된 플라즈마 발생장치의 확대 측면도.31 is an enlarged side view of the plasma generator attached to the housing chamber.

제32도는 플라즈마 발생장치의 시간표.32 is a timetable of the plasma generator.

제33 및 34도는 플라즈마 처리후에 도장될 물질을 판별하는데 사용되는 인덱스 표준액체로 도장될 물질의 도장되지 않을 표면이 피복되는 경우에 있어서 액체의 유출 상태를 나타내는 기본 부분들의 확대도.33 and 34 are enlarged views of basic portions showing the outflow condition of the liquid in the case where the uncoated surface of the material to be coated is coated with an index standard liquid used to determine the material to be coated after the plasma treatment.

제35 및 36도는 판별에 사용되는 도장될 물질을 나타내는 투시도 및 전면도.35 and 36 are perspective and front views showing the material to be painted used for the determination.

제37도는 폴리프로필렌의 인덱스 표준 액체에 의한 접촉각과 표면 장력간의 상관관계를 도시한 그래프.FIG. 37 is a graph showing the correlation between surface tension and contact angle by index standard liquids of polypropylene. FIG.

* 도면의주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

1,101,131,201 : 하우징챔버 2 : 출입구1,101,131,201: housing chamber 2: entrance

3,102,106,204 :배기부 7 : 지지프레임3,102,106,204: Exhaust part 7: Support frame

6,116 : 회전지지기부 8,215 : 회전체6,116: rotary support 8,215: rotating body

9,39 : 휠 11 : 회전원반9,39: wheel 11: rotating disc

12,22 : 기어 18 : 가변속 구동모터12,22: gear 18: variable speed drive motor

23 : 현수부재 28,53,118 : 연결막대23: suspension member 28,53,118: connecting rod

33,103,104 : 플라즈마주입관 34 : 정합부재33,103,104: plasma injection pipe 34: matching member

38 : 트럭 43 : 위치 설정판38: truck 43: positioning plate

45 : 로울러 47,58 : 고정록크포올45: 47,58: fixed lock pool

49,56 : 이동가능록크포올 56 : 이동가능정합포올49,56: movable lock pool 56: movable matched polyol

58 : 고정정합포올 59 : 회전기구58: fixed matching column 59: rotating mechanism

61 : 동작핸들 64 : 워엄61: operation handle 64: worm

65 : 워엄기어 102a,106a : 유속제어밸브65: worm gear 102a, 106a: flow rate control valve

105,137,218a :주입구멍 136,221 : 플라즈마 발생장치105,137,218a Injection hole 136,221 Plasma generator

142,238 : 방전 감지기 148,230b : 표시 유니트142,238 Discharge detector 148,230b Display unit

149,230a : 경보기 230 : 경보장치149,230a: alarm 230: alarm

W : 도장될 물질W: Substance to be painted

본 발명은 합성수지로 만들어진 자동차의 완충기와 같은 도장될 물질의 표면에 플라즈마 처리를 하기 위한 플라즈마 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma processing apparatus for performing a plasma treatment on the surface of a material to be painted, such as a shock absorber of an automobile made of synthetic resin.

이같은 형태의 플라즈마 처리장치로서는 미합중국 특허원 제680511호를 들 수 있는데, 이 특허에 의하면, 회전지지기부는 도장될 물질이 복수개의 현수부재에 의해 지지되는 상태하에서 모터 등에 의해 일정속도로 회전된다. 이 장치는 도장될 물질의 크기, 형상, 표면적 및 수가 변하는 경우라도 동일조건하에서의 플라즈마처리가 행해지게 한다. 그러므로 예로서, 비교적 복잡한 형상을 가진 도장될 물질을 여러개씩 탱크내에 수용시켜 플라즈마 처리를 행하는 경우 도장될 물질의 전체 부분에 플라즈마가 균일하게 공급되지 못하여 플라즈마 처리가 불균일하게 수행되므로 문제점이 발생케 된다.As a plasma processing apparatus of this type, there is US Patent Application No. 680511. According to this patent, the rotary support portion is rotated at a constant speed by a motor or the like while the material to be painted is supported by a plurality of suspension members. This apparatus allows plasma treatment to be performed under the same conditions even if the size, shape, surface area and number of materials to be painted are varied. Therefore, for example, when a plasma treatment is performed by accommodating a plurality of materials to be painted with a relatively complicated shape in a tank, plasma is not uniformly supplied to the entire portion of the material to be coated, which causes problems. .

따라서, 본 발명의 목적은 도장될 물질의 크기 및 수가 변하는 경우라도 플라즈마가 도장될 복수개의 물질의 전체 부분에 균일하게 공급되어 플라즈마 처리가 균일하게 행해지게 하는 플라즈마 처리장치를 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a plasma processing apparatus in which the plasma is uniformly supplied to the entire portion of the plurality of materials to be coated even when the size and number of the materials to be coated are varied.

본 발명의 또 다른 목적은 도장될 복수개의 물질이 회전지지기부상의 복수개의 현수 부재에 대해 용이하게 적재 및 제거될 수 있는 플라즈마 처리장치를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a plasma processing apparatus in which a plurality of materials to be painted can be easily loaded and removed from a plurality of hanging members on a rotational support portion.

본 발명의 또 다른 목적은 도장될 복수개의 물질이 현수재에 의해 안정하게 지지될 수 있는 플라즈마 처리장치를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a plasma processing apparatus in which a plurality of materials to be painted can be stably supported by a suspension material.

본 발명의 또 다른 목적은 도장될 물질의 표면이 현수부재에 의해 차폐되지 않으며, 플라즈마가 도장될 물질의 단부에까지도 효과적으로 공급될 수 있어 플라즈마처리가 챔버내 설비된 자동차의 완충기와 같은 많은 큰 크기의 물질에 대해 수행되는 경우라도 도장될 물질의 표면 전체에 균일한 플라즈마 처리가 행해질 수 있게 하는 플라즈마 처리장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is that the surface of the material to be painted is not shielded by the suspension member, and the plasma can be effectively supplied even to the end of the material to be painted so that many large sizes such as shock absorbers of automobiles equipped with plasma treatment in the chamber It is to provide a plasma processing apparatus that enables a uniform plasma treatment to be performed on the entire surface of a material to be painted even when performed on a material of.

본 발명의 또 다른 목적은 플라즈마 가스가 하우징 챔버의 전체 부분에 충분하게 공급되어 플라즈마 처리가 효과적으로실현될 수 있고 도장될 물질에 대한 처리 시간이 단축될 수 있는 플라즈마 처리장치를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a plasma processing apparatus in which plasma gas is sufficiently supplied to the entire portion of the housing chamber so that the plasma processing can be effectively realized and the processing time for the material to be painted can be shortened.

본 발명의 또 다른 목적은 플라즈마 발생장치에 의한 플라즈마의 발생이 플라즈마 발생장치의 외부로부터 용이하게 확인될 수 있는 플라즈마 처리장치를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a plasma processing apparatus in which the generation of plasma by the plasma generating apparatus can be easily confirmed from the outside of the plasma generating apparatus.

본 발명의 또 다른 목적들은 후술된 바와 같은실시예로부터 명백히 이해되거나 청구범위로부터 알 수 있을 것이며, 여기에서 언급되지 않은 장점들은 본 분야의 숙련자에 의해서 쉽게 알 수 있을 것이다.Still other objects of the present invention will be apparent from the examples as described below or will be apparent from the claims, and advantages not mentioned herein will be readily apparent to those skilled in the art.

본 발명의 일실시예을 도면을 참조하여 상세히 설명하겠다.An embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

본실시예의 플라즈마 처리장치의 하우징 챔버(1)에는 제1도에 도시된 바와 같이 우측단에 출입구(2)가 있는데, 이 출입구(2)에는 개폐식의 플라즈마배기구(3)를 가진 커버(4)가 부착되어 있다. 하우징 챔버(1)의 저부에는 일정한 간격을 두고 한쌍의 레일(5)이배치되는데, 이들 레일은 챔버(1)의 거의 전체길이에 걸쳐 좌, 우로 연장한다.The housing chamber 1 of the plasma processing apparatus of the present embodiment has an entrance 2 at the right end as shown in FIG. 1, which has a cover 4 having an open and close plasma exhaust 3. Is attached. At the bottom of the housing chamber 1 a pair of rails 5 are arranged at regular intervals, which extend left and right over almost the entire length of the chamber 1.

회전지지기부(6)는 하우징 챔버(1)에 대해 입출 가능하도록 레일(5)상에 이동 가능하게 지지된다. 제1 내지 3도에 도시된 바와 같이, 회전지지기부(6)는 지지프레임 (7)과 이것상에서 수평축을 중심으로 회전가능하게 지지된 회전체(8)로 구성되며 지지프레임(7)의 양측의 하부에는 레일(5)을 따라 회전하는 복수개의 휠(9)이 회전가능하게 제공된다. 회전체(8)는 중심회전 샤프트(10)와 이것의 양단 근처 영역에 고정된 한쌍의 좌우 회전원반(11)으로 구성된다.The rotary support part 6 is movably supported on the rail 5 so as to be input and output with respect to the housing chamber 1. As shown in FIGS. 1 to 3, the rotation support part 6 is composed of a support frame 7 and a rotating body 8 rotatably supported about a horizontal axis thereon, and both sides of the support frame 7. At the bottom of the plurality of wheels 9 are rotatably provided to rotate along the rail 5. The rotating body 8 is composed of a central rotating shaft 10 and a pair of left and right rotating disks 11 fixed to regions near both ends thereof.

제1 내지 3도에 도시된 바와 같이, 지지프레임(7)의 외부에 있어서, 기어(12)는 회전샤프트(10)의 좌단에 고정되며, 스프로킷휠(13)은 회전샤프트(10)의 우단에 고정된다. 지지프레임(7)의 좌측판은 스프로킷휠(14) 및 샤프트(16)을 가진 기어(15)를 회전 가능하게 지지하며, 체인(17)은 스프로킷 휠(13)과 (14)간에 연장한다. 좌측의 하우징 챔버(1)의 외부에 있어서, 가변속모터(18)가 지지판(19)상에 제공되며, 모터 샤프트(20)는 베어링실린더(21)를 통해 하우징 챔버(1) 내로 돌출된다. 기어(22)는 모터샤프트(20)의 내부단에 고정되며, 이 기어(22)는 하우징 챔버(1)에 대한 회전지지 기부(6)의 이동에 따라 지지프레임(7)상의 기어(15)와 맞물리거나 분리된다.As shown in FIGS. 1 to 3, outside the support frame 7, the gear 12 is fixed to the left end of the rotary shaft 10, and the sprocket wheel 13 is the right end of the rotary shaft 10. Is fixed to. The left side plate of the support frame 7 rotatably supports the gear 15 with the sprocket wheel 14 and the shaft 16, and the chain 17 extends between the sprocket wheels 13 and 14. Outside the housing chamber 1 on the left side, a variable speed motor 18 is provided on the support plate 19, and the motor shaft 20 projects through the bearing cylinder 21 into the housing chamber 1. The gear 22 is fixed to the inner end of the motor shaft 20, which gear 22 on the support frame 7 as the rotary support base 6 moves relative to the housing chamber 1. Is engaged or separated.

모터(18)는 연속적으로 속도가 변할 수 있는 원추형 가변속모터로서, 속도가 변할 수 있는 구동수단을 구비한다. 모터(18)의 회전속도가 자유롭게 조정되므로, 회전지지기부(6)의 회전체(8)는 도장될 물질의 크기 및 수에 따른 속도로 회전될 수 있다.The motor 18 is a conical variable speed motor in which the speed can be continuously changed, and has a driving means in which the speed can be changed. Since the rotational speed of the motor 18 is freely adjusted, the rotary body 8 of the rotary support 6 can be rotated at a speed according to the size and number of materials to be painted.

예를 들어, 이실시예의 경우에는 , 회전체(8)의 회전속도는 6.5 내지 20rpm의 범위내에서 변할 수 있다. 자동차의 완충기와 같은 도장될 크기의 물질(W)인 경우에는 6.5 내지 20rpm의 저속으로 선택되며, 비교적 작은 크기의 물질(W)인 경우에는, 10rpm 이상의 고속으로 선택된다. 또한 플라즈마처리 횟수가 적은 경우에는 고회전 속도가 선택되나, 플라즈마 처리횟수가 많은 경우에는 저회전 속도가 선택된다.For example, in the case of this embodiment, the rotational speed of the rotor 8 may vary within the range of 6.5 to 20 rpm. In the case of a material W to be painted, such as a shock absorber of a vehicle, it is selected at a low speed of 6.5 to 20 rpm, and in the case of a material W of a relatively small size, it is selected at a high speed of 10 rpm or more. In addition, when the number of plasma treatments is small, a high rotational speed is selected, but when the number of plasma treatments is large, a low rotational speed is selected.

제1,2 및 10도에 도시된 바와 같이, 각각의 현수부재(23)는 그의 좌, 우단에 지지부재와 같은 한 쌍의 측판(24)이 제공되어 있고 샤프트(25)에 의해서 상단에 지지되므로 회전지지기부(6)의 회전원반(11)의 내측에서 회전될 수 있다. 창문(26)은 측판(24)의 하부 중심부에 제공되며, 이 창문에는 플라즈마 가스가 통할 수 있게 네트 (27)가 제공되어 있다. 단일 막대재료로 만들어진 연결막대(28)는 한쌍의 좌,우측판 (24)의 하부의 전연부들간에 연결된다. 제10도에 도시된 바와 같이, 연결막대(28)의 좌, 우연부에는 연결막대(28)로 부터 수직하게 연장하는 지지부재(29a)와 지지부재 (29a)의 후단으로부터 측판(24)의 하단의 연부로 연장하는 연결부재(29b)와 지지부재(29a)의 후단으로부터 연결막대(28)에 대해 경사지게 연장하는 보강부재(29c)로 구성된 보강프레임(29)이 제공된다.As shown in the first, second and ten degrees, each suspension member 23 is provided at its left and right ends with a pair of side plates 24, such as support members, supported by the shaft 25 at the top. Therefore, it can be rotated inside the rotary disk 11 of the rotation support (6). A window 26 is provided in the lower center of the side plate 24, which is provided with a net 27 through which plasma gas can pass. The connecting rod 28 made of a single bar material is connected between the lower edges of the pair of left and right plates 24. As shown in FIG. 10, the left and right sides of the connecting rod 28 are provided with support members 29a extending vertically from the connecting rod 28 and the side plates 24 from the rear ends of the supporting members 29a. There is provided a reinforcing frame 29 composed of a connecting member 29b extending to the edge of the lower end and a reinforcing member 29c extending inclined with respect to the connecting rod 28 from the rear end of the supporting member 29a.

보강부재(29)의 지지부재(29a)상에서는 한쌍의 전, 후방연부지지 돌출 세그먼트 (30)가 돌출되며, 도장될 물질(W)의 좌, 우 양단 근처에서 자동차의 완충기와 같은 도장될 물질(W)을 내측에서 지지하는 지지부재(30a)가 지지돌출 세그먼트(30)의 상단에 굽혀진 상태로 제공된다. 이러한 지지돌출 세그먼트(30)들 간에서 중심지지돌출 세그먼트(31)는 보강부재(29)의 지지부재(29a)상에 돌출되며, 도장될 물질(W)의 좌, 우양단간의 중심부에서 도장될 물질(W)을 내측에서 지지하는 지지부재(31a)가 지지돌출 세그먼트(31)의 상단에 굽혀진 상태로 제공된다. 지지부재(31a)의 높이는 지지부재(30a)의 높이보다 높다. 지지부재(31a)의 전단은 연결막대(28)에 연결된다.On the support member 29a of the reinforcing member 29, a pair of front and rear edge supporting protruding segments 30 protrude, and near the left and right ends of the material W to be painted, the material to be painted, such as a shock absorber of the vehicle ( A supporting member 30a for supporting W) from the inside is provided in a bent state at the upper end of the supporting protrusion segment 30. Between the support protrusion segments 30, the center support protrusion segment 31 protrudes on the support member 29a of the reinforcing member 29, and is to be painted at the center between the left and right ends of the material W to be painted. A support member 31a for supporting the material W from the inside is provided bent at the top of the support protrusion segment 31. The height of the support member 31a is higher than the height of the support member 30a. The front end of the supporting member 31a is connected to the connecting rod 28.

제3 및 4도에 도시된 바와 같이 복수개의 지지금속(32)이 도장될 물질에 대향하는 식으로 하우징 챔버(1)의 내측 원주면상에 거의 등각도 간격(이실시예에서는 90°간격으로배치된다. 많은주입구멍(도시안됨)을 가진 플라즈마주입관(33)은 지지금속(32)에 의해 지지된다. 산소와 같은 플라즈마가스는 플라즈마주입관(33)의주입구멍을 통해 하우징 챔버(1) 내로주입되고, 따라서 도장될 물질(W)의 표면은 플라즈마 처리를 받게 된다.As shown in FIGS. 3 and 4, a plurality of support metals 32 are disposed at substantially equiangular intervals (90 ° apart in this embodiment) on the inner circumferential surface of the housing chamber 1 in a manner opposite to the material to be painted. The plasma injection tube 33 having many injection holes (not shown) is supported by the support metal 32. A plasma gas such as oxygen is introduced into the housing chamber 1 through the injection hole of the plasma injection tube 33. The surface of the material W to be painted is thus subjected to plasma treatment.

제4 및 5도에 도시된 바와 같이, 정합부재(34)는 하우징 챔버(1)의 입출구 (2) 내의 레일(5)들간에 회전가능하게 지지되고, 정합포올(35)은 정합부재 (34)의 양단으로부터 돌출되며, 복원부분(36)은 정합부재(34)의 양단간에 제공된다. 정합부재(34)의 정합포올(35)에 대응하는 한쌍의 좌, 우 정합리세스(37)는 회전지지기부(6)의 지지프레임(7)의 하단에 형성되며, 회전지지기부(6)가 레일(5)을 따라 이동하여 하우징 챔버(1) 내로 인입될 때, 정합포올(35)은 정합리세스(37)와 정합되고, 이에 따라 회전지지기부(6)는 하우징 위치에 복원될 수 있는 식으로 정합 및 저장된다.As shown in FIGS. 4 and 5, the mating member 34 is rotatably supported between the rails 5 in the inlet and outlet 2 of the housing chamber 1, and the mating polyol 35 is mating member 34. Protruding from both ends of the), the restoring portion 36 is provided between both ends of the mating member (34). A pair of left and right matching recesses 37 corresponding to the matching port 35 of the matching member 34 are formed at the lower end of the support frame 7 of the rotary support 6, and the rotary support 6 Is moved along the rail 5 and drawn into the housing chamber 1, the mating fool 35 is mated with the mating recess 37, whereby the rotary support 6 can be restored to the housing position. Are matched and stored.

제1,6 및 7도에 도시된 바와 같이, 회전지지기부(6)를 운송하는 트럭(38)은 하우징 챔버(1)의 입출구(2) 내에 대향하게 제공된다. 트럭(38)의 하부에는 복수개의 휠(39)이 회전 가능하게 제공되며, 좌단부에서는 운송핸들(40)이 돌출한다. 좌, 우측으로 연장하는 한쌍의 전, 후방 레일(41)은 트럭(38)의 상부 표면의 양측에 제공되며, 이들은 하우징 챔버(1) 내에서 레일(5)와 연결되므로, 지지프레임(7)의 양측에 있는 휠(9)은 회전지지기부(6)가 하우징 챔버(1)에 대해 입출될 때 안내되고 지지된다.As shown in FIGS. 1, 6 and 7, a truck 38 carrying the rotary support 6 is provided oppositely in the entry and exit 2 of the housing chamber 1. A plurality of wheels 39 are rotatably provided at the bottom of the truck 38, and the transport handle 40 protrudes from the left end. A pair of front and rear rails 41 extending left and right are provided on both sides of the upper surface of the truck 38, which are connected to the rails 5 in the housing chamber 1, thus supporting the frame 7. The wheels 9 on both sides of are guided and supported when the rotational support part 6 is entered and exited with respect to the housing chamber 1.

제1,6 및 7도에 도시한 바와 같이, 조립부재(42)는 전,후방으로 연장하며 다리부의 좌측 표면에서 지지된다. 한쌍의 위치 설정판(43)은 조립부재(42)의 중심의 하부표면에 특정 간격으로 대향하게 제공된다. 또한 정합부재(44)는 전, 후방으로 연장하며 트럭(38)의 하측 좌측부에 지지된다. 위치 설정판(43)들간에 제거 가능하게 정합될 수 있는 정합 로울러(45)는 지지판(46)에 의해 지지된다. 위치 설정판 (43) 및 정합로울러(45)는 위치 설정수단을 구성한다. 트럭(38)이 하우징 챔버(1)의 입출구(2)로 이동될 때, 정합 로울러(45)는 위치 설정수단을 구성한다. 트럭 (38)이 하우징 챔버(1)의 입출구(2)로 이동될 때, 정합 로울러(45)는 위치 설정판 (43)들간에 들어가서 거기에 정합된다. 이리하여 트럭(38)은 하우징 챔버(1)에 대해 특정 위치에 있게 된다.As shown in FIGS. 1, 6 and 7, the assembly member 42 extends forward and backward and is supported on the left surface of the leg portion. The pair of positioning plates 43 are provided to face the lower surface of the center of the assembly member 42 at specific intervals. In addition, the mating member 44 extends forward and backward and is supported on the lower left side of the truck 38. The mating roller 45, which can be removably mated between the positioning plates 43, is supported by the support plate 46. The positioning plate 43 and the registration roller 45 constitute a positioning means. When the truck 38 is moved to the inlet and outlet 2 of the housing chamber 1, the mating roller 45 constitutes positioning means. When the truck 38 is moved to the inlet and outlet 2 of the housing chamber 1, the mating roller 45 enters between the positioning plates 43 and is mated therein. The truck 38 is thus in a specific position with respect to the housing chamber 1.

제6 및 7도에 도시된 바와 같이, 한쌍의 전, 후방 고정록크포올(47)은 조립부재(42)상에 제공된다. 회전 샤프트(48)는 조립부재(44)상에 회전 가능하게 지지된다. 고정록크포올(47)과 제거 가능하게 정합되는 한쌍의 전, 후방 이동가능 록크포올(49)은 회전샤프트(48)의 양단에 고정된다. 고정록크포올(47)과 이동가능 록크포올(49)은 록크 수단을 구성한다. 트럭(38)이 하우징 챔버(1)에 대향배치될 때, 이동가능 록크포올(49)은 스프링(50)에 의해 고정록크포올(47)과 정합되고, 이에 따라, 트럭(38)은 하우징 챔버(1)에 대해 고정된다. 또한, 복원레버(52)는 트럭 (38)의 우측부의 거의 중심에서 돌출된 한쌍의 동작용 조립판(51)들간에 회전 가능하게 지지되고, 이동가능 록크포올(49)은 연결막대(53)를 통한 복원레버(52)의 회전동작에 의해 복원되고 회전된다.As shown in Figs. 6 and 7, a pair of front and rear fixed lock poles 47 are provided on the assembly member 42. As shown in Figs. The rotary shaft 48 is rotatably supported on the assembly member 44. A pair of front and rear movable lockpools 49 which are removably mated with the fixed lockpool 47 are fixed to both ends of the rotary shaft 48. The fixed lockpool 47 and the movable lockpool 49 constitute a lock means. When the truck 38 is disposed opposite the housing chamber 1, the movable lockpool 49 is mated with the fixed lockpool 47 by a spring 50, whereby the truck 38 is in the housing chamber. It is fixed with respect to (1). In addition, the restoring lever 52 is rotatably supported between the pair of operation assembly plates 51 protruding from the center of the right side of the truck 38, and the movable lock forall 49 is connected to the connecting rod 53. It is restored and rotated by the rotation operation of the recovery lever 52 through.

제1,8 및 9도에 도시된 바와 같이, 회전샤프트(54)는 복원레버(52)상의 상부에 동작용의 조립판(51)을 통해 회전 가능하게 지지되고, 복원용의 동작레버(55)들은 전, 후측(제9 도에서는 우, 좌측)에 제각기 제공된다. 조립판(51)의 전, 후측에서 이동가능 정합포올(56)은 회전샤프트(54)에 고정되며, 회전샤프트(54)는 스프링 (57)에 의해 제3 도에서 반시계 방향으로 회전 가능하게 구동된다. 한쌍의 전, 후 고정정합 포올(58)은 이동가능 정합포올(56)과 함께 정합수단을 구성하는 식으로 회전지지기부(6)의 지지프레임(7)의 우측에서 돌출된다. 회전지지기부(6)가 트럭 (38)상에 당겨질 때, 고정정합포올(58)은 이동가능 정합포올(56)과 정합되고, 이에 따라 회전지지기부(6)는 트럭(38)상에 움직이지 않게 위치되고 보존된다.As shown in FIGS. 1, 8, and 9, the rotary shaft 54 is rotatably supported on the upper part of the restoring lever 52 through the mounting plate 51 for operation, and the restoring operation lever 55. ) Are provided on the front and the rear (right and left in FIG. 9), respectively. Before and after the assembly plate 51, the movable mating pot 56 is fixed to the rotary shaft 54, the rotary shaft 54 is rotatable counterclockwise in FIG. Driven. The pair of front and rear fixed mating poles 58 protrude from the right side of the support frame 7 of the rotary support 6 in such a manner as to form a mating means together with the movable mating poles 56. When the rotary support 6 is pulled on the truck 38, the fixed registration forum 58 is mated with the movable registration forum 56, whereby the rotary support 6 moves on the truck 38. Not located and preserved.

현수부재(23)에 대해 도장될 물질(W)의 적재 및 제거를 위하여 회전체(8)를 수동적으로 회전시키는 회전기구(59)는 트럭(38)상에배치된 회전지지기부의 회전체(8)와 접속되는 방식의 동작을 위해 조립판(51)의 상부에 제공된다.Rotating mechanism 59 for manually rotating the rotating body 8 for loading and removing the material W to be painted on the suspension member 23 is a rotating body of the rotating support portion disposed on the truck 38 ( 8) is provided on the upper part of the assembly plate 51 for operation in the manner of being connected.

즉, 동작샤프트(60)는 회전샤프트(54)의 상부에 조립판(51)을 통해 회전 가능하게 제공되고, 동작핸들(61)은 동작샤프트(60)의 전, 후단에 제공된다. 스프로킷휠(62)은 조립판(51)의 후측에서 동작샤프트(60)상에 고정되어 동작핸들(61)의 회전에 의해 회전된다. 조립판(61)들간의 상단에는 위엄감속기구(63)가배치되며, 서로 맞물리는 워엄(64) 및 워엄기어(65)는 내측에 제공된다.That is, the operation shaft 60 is rotatably provided on the upper portion of the rotary shaft 54 through the assembly plate 51, and the operation handle 61 is provided at the front and rear ends of the operation shaft 60. The sprocket wheel 62 is fixed on the operation shaft 60 at the rear side of the assembly plate 51 and is rotated by the rotation of the operation handle 61. The dignity reduction mechanism 63 is disposed at the upper end between the assembly plates 61, and the worm 64 and the worm gear 65 engaged with each other are provided inside.

워엄(64)의 워엄샤프트의 외부단에는 스프로킷휠(66)이 고정되고, 스프로킷휠(66)과 스프로킷휠(62) 간에는 체인(67)이 연장한다. 워엄기어(65)의 기어샤프트의 외부단에는 전동기어(68)가 고정된다. 회전지지기부(6)가 트럭(38)상에 당겨질 때, 전동기어(68)는 회전체(8)와 동작용의 회전기구(59)를 연결하며, 회전체(8)의 회전샤프트(10)의 전단에 제공된 기어(12)와 분리가능하게 정합된다.The sprocket wheel 66 is fixed to the outer end of the worm shaft of the worm 64, and the chain 67 extends between the sprocket wheel 66 and the sprocket wheel 62. The electric gear 68 is fixed to the outer end of the gear shaft of the worm gear 65. When the rotary support 6 is pulled on the truck 38, the electric gear 68 connects the rotary body 8 and the rotary mechanism 59 for operation, and the rotary shaft 10 of the rotary body 8 Is detachably mated with the gear 12 provided at the front end.

따라서, 상술한 바와 같이 구성된 플라즈마 처리장치에 있어서, 비교적 작은 도장될 물질(W)이 플라즈마 처리를 위한 하우징 챔버(1) 내에 다수개 수용되는 경우, 플라즈마주입관(33)으로부터주입된 플라즈마 가스는 가변속 모터(18)의 회전속도를 조정하여 회전체(8)의 회전속도를 20rpm의 고속으로 셋팅하는 것에 의해 회전체(8)의 고속회전에 따라 효과적으로 휘저어지고, 따라서 플라즈마 가스는 많은 수의 처리될 물질(W)의 전체 부분에 균일하게 공급되어 균일한 플라즈마 처리가 수행될 수 있다. 현수부재(23)상에배치된 도장될 물질(W)의 하부표면은 연결막대 (28)의 양단에 있는 보강부재(29)상에 제공된 복수계의 지지돌출 세그먼트 (30) ,(31)의 상단지지부제(30a),(31a)와 맞물리고, 이에 따라 도장될 물질(W)은 현수부재(23)상에 하측으로부터 안정하게 지지된다. 이같은 상태하에서는, 도장될 물질 (W)의 표면에 대해 어떤 차폐물질도 없게 되므로 플라즈마주입관(33)을 통해주입된 플라즈마 가스는 물질(W)에 균등하고도 효과적으로 공급되어, 균일한 플라즈마 처리가 물질(W)의 표면 천체에 균일하게 수행될 수 있다.Therefore, in the plasma processing apparatus configured as described above, when a plurality of relatively small substances to be coated (W) are accommodated in the housing chamber 1 for plasma processing, the plasma gas injected from the plasma injection pipe 33 is By adjusting the rotational speed of the variable speed motor 18 and setting the rotational speed of the rotor 8 at a high speed of 20 rpm, it is effectively agitated in accordance with the high-speed rotation of the rotor 8, so that the plasma gas is processed in large numbers. Uniform plasma treatment may be performed by uniformly supplying the entire portion of the material W to be used. The lower surface of the material W to be painted disposed on the suspending member 23 is formed of a plurality of support protrusion segments 30, 31 provided on the reinforcing member 29 at both ends of the connecting rod 28. Engaging with the upper support portions 30a and 31a, the material W to be painted is thus stably supported on the suspension member 23 from below. Under such a state, since there is no shielding material on the surface of the material W to be painted, the plasma gas injected through the plasma injection pipe 33 is equally and effectively supplied to the material W, so that a uniform plasma treatment is provided. It may be performed uniformly on the surface of the material (W).

다음은 회전지지기부(6)상의 현수부재(23)에 대해 도장될 물질(W)을 적재 또는 제거하는 동작을 설명하겠다.Next will be described the operation of loading or removing the material (W) to be painted for the suspension member 23 on the rotary support (6).

도장될 물질(W)은 다음의 방식으로 적재 및 제거될 수 있다. 제1 도에 도시된 바와 같이 하우징챔버(1)의 커버(4)가 열리면, 트럭(38)은 하우징 챔버(1)의 출입구(2)에 대향하게 제공된다. 이리하여 제6 및 7도에 도시된 바와 같이, 위치설정 수단의 정합로울러(45)는 하우징 챔버(1)에 대해 특정 위치에 트럭(38)을 위치시키는 위치 설정판(43)들간에 정합되고, 록크수단의 이동가능 록크포올(49)은 하우징 챔버(1)에 대해 트럭(38)을 고정시키는 고정록크 포올(47)과 맞물린다. 이 상태에서 트럭(1)의 레일(5)은 하우징 챔버(1) 내에서 레일(5)과 연결된다.The material W to be painted can be loaded and removed in the following manner. When the cover 4 of the housing chamber 1 is opened as shown in FIG. 1, the truck 38 is provided opposite the entrance 2 of the housing chamber 1. Thus, as shown in FIGS. 6 and 7, the matching roller 45 of the positioning means is matched between the positioning plates 43 for positioning the truck 38 in a specific position with respect to the housing chamber 1. The movable lockpool 49 of the lock means engages with the fixed lock pole 47 which secures the truck 38 with respect to the housing chamber 1. In this state, the rail 5 of the truck 1 is connected with the rail 5 in the housing chamber 1.

이런 후, 제4 및 5도에 도시된 정합부재(34)의 정합포올(35)은 하우징 챔버 (1)와 회전지지기부(6)간의 정합을 복원하는 정합리세스(37)로부터 분리된다. 회전지지기부(6)가 이 상태하에서 하우징 챔버(1)의 출입구(2)로부터 외측으로 당겨질 때 회전기부(6)는 제1도에서 쇄선으로 도시된 바와 같이 레일(5) 및 (41)을 따라 트럭(38)상에서 이동된다. 이리하여 회전지지기부(6)의 지지프레임(7)의 좌측에 제공된 기어(15)는 하우징챔버(1) 내에서 모터샤프트(20)상의 기어(22)로부터 분리되고, 지지프레임(7)의 우측에 제공된 기어(12)는 트럭(38) 내에서 전동기어(68)과 맞물리며, 이에 따라 회전지지기부(6)의 회전체(8)는 트럭(38)상의 회전기구(59)에 결합된다. 이 경우, 제8 및 9도에 도시된 정합수단의 고정정합포올(58)은 이동가능 정합포올(56)과 맞물리고, 회전지지기부(6)의 지지프레임(7)은 트럭(38)상에 정합되어 보존된다.Thereafter, the mating fool 35 of the mating member 34 shown in FIGS. 4 and 5 is separated from the mating recess 37 for restoring the mating between the housing chamber 1 and the rotary support part 6. When the rotation support part 6 is pulled outward from the doorway 2 of the housing chamber 1 under this state, the rotor part 6 moves the rails 5 and 41 as shown by the dashed line in FIG. Thus moving on the truck 38. Thus, the gear 15 provided on the left side of the support frame 7 of the rotary support 6 is separated from the gear 22 on the motor shaft 20 in the housing chamber 1, The gear 12 provided on the right side engages with the electric gear 68 in the truck 38, whereby the rotor 8 of the rotary support 6 is coupled to the rotary mechanism 59 on the truck 38. . In this case, the fixed matching fool 58 of the matching means shown in FIGS. 8 and 9 engages with the movable matching fool 56 and the support frame 7 of the rotary support 6 is on the truck 38. Matched to and preserved.

회전지지기부(6)의 회전체(8)가 이 상태하에서 동작핸들(61)의 회전에 의해 워엄감속기구(63)를 통해 소망의 각도 위치에 회전될 때 회전체(8)는 회전체(8)의 중량평형의 변동에 관계없이, 워엄감속기구(63)의 워엄(64)과 워엄기어(65)간의 정합에 근거된 소망의 각도 위치에 고정적으로 보존된다. 따라서, 도장될 물질(W)은 회전체(8)가 동작핸들(61)과의 특정 각도를 위해 점차회전되는 동안에 복수개의 현수부재(23)에 대해 단기간내에 용이하게 재 및 제거될 수 있다.When the rotating body 8 of the rotation supporting part 6 is rotated to the desired angular position through the worm reduction mechanism 63 by the rotation of the operation handle 61 under this state, the rotating body 8 is a rotating body ( Irrespective of the variation in the weight balance of 8), it is fixedly stored at a desired angular position based on the matching between the worm 64 and the worm gear 65 of the worm reduction mechanism 63. Thus, the material W to be painted can be easily ashed and removed with respect to the plurality of suspension members 23 in a short period of time while the rotating body 8 is gradually rotated for a specific angle with the operation handle 61.

이실시예에 있어서, 회전기구(59)의 동작핸들(61)과 정합수단의 복원을 위한 동작레버(55)는 트럭(38)상의 조립판(51)의 전, 후측에 제공되므로 현수부재 (23)에 대한 도장될 물질(W)은 트럭(38)의 전, 후측의 소망 위치에 극히 용이하게 적재 및 제거될 수 있다.In this embodiment, the actuating lever 55 for restoring the actuating handle 61 and the mating means of the rotating mechanism 59 is provided at the front and the back of the building plate 51 on the truck 38, so that the suspension member ( The material to be painted (W) 23 can be loaded and removed extremely easily in the desired position on the front and rear of the truck 38.

본 발명의 양호한 제1실시예는 상기 구성에만 국한되지 않으며, 예로서, 브레이크를 구비하는 브레이크 모터는 회전지지기부(6)를 회전시키는 회전기구로서 사용될 수도 있으며, 또는 속도가 변할 수 있는 구동수단은 일정 속도로 회전하는 모터 및 속도 변경을 통해 회전지지기부에 모터의 회전을 전달하는 연속가변속 기어에 의해 구성될 수도 있으며, 또는 판, 막대, 네트 또는 격자 형태의 지지부재 (24)가 사용될 수도 있다.The first preferred embodiment of the present invention is not limited to the above configuration, and, for example, a brake motor having a brake may be used as a rotating mechanism for rotating the rotary support portion 6, or a driving means whose speed can be changed. It may be composed of a motor that rotates at a constant speed and a continuous variable gear that transmits the rotation of the motor to the rotation support base through the speed change, or a support member 24 in the form of a plate, rod, net or lattice may be used. have.

본 발명의 양호한 제2실시예를 제11 내지 18도를 참조하여 설명하겠다.A second preferred embodiment of the present invention will now be described with reference to FIGS.

플라즈마 처리장치를 밀봉할 수도 있는 하우징 챔버(101)는 중공실린더와 같이 형성되고, 제11도에 있어서 그것의 전벽에는 하우징 챔버(101)를 개방 또는 폐쇄하는 도어(도시 안됨)가 제공된다. 제11도에 있어서, 하우징 챔버(101)의 내부 압력을 감소하는 데에만 사용되는 제1배기부(102)는 벽의 우측 중심에 제공된다. 제1배기부(102)는 흐름 감속제어를 위한 밸브(102a)를 가진배기 파이프(102b)와 조립된다.The housing chamber 101, which may seal the plasma processing apparatus, is formed like a hollow cylinder, and its front wall in FIG. 11 is provided with a door (not shown) for opening or closing the housing chamber 101. As shown in FIG. In FIG. 11, the first exhaust 102, which is used only to reduce the internal pressure of the housing chamber 101, is provided at the right center of the wall. The first exhaust 102 is assembled with an exhaust pipe 102b having a valve 102a for flow deceleration control.

배기부(102)의 하부에는 산소와 같은 플라즈마가스주입을 위한 스테인레스 플라즈마주입관(103)이 제공된다.The lower portion of the exhaust 102 is provided with a stainless plasma injection tube 103 for plasma gas injection, such as oxygen.

제13도에 도시된 바와 같이, 플라즈마주입관(103)은 전체 길이 l이 도장될 물질(W)의 전체 길이 L보다 양단에서 제각기 약 10% 더 길게 형성된다. 즉, 전체 길이 l은 다음 식으로 표현된다.As shown in FIG. 13, the plasma injection pipe 103 is formed about 10% longer at both ends than the total length L of the material W to be painted. That is, the total length l is expressed by the following equation.

l=L+2×0.1Ll = L + 2 × 0.1L

제13 내지 15에 있어서,주입관(103)의 거의 중심에 형성된 플라즈마주입부 (107)는주입관(104)에 연결되며, 그것의 단부는 하우징챔버(102)의 외측에배치된 플라즈마 공급장치(도시 안됨)에 접속된다.배치 간격이주입관(103)의 단부쪽으로 점차 감소되며 내경이 점차 증가하는 많은주입구멍(105)은 플라즈마주입부(107)의 양측에 있는주입관(103)의 외측원주상에 형성된다.주입구멍(105)은 수직평면 S 1에 대해 전방쪽에 측정각도θ1(이실시예에서는 30°)만큼 경사진 방향에 있는 구멍(105a)과 수직 평면에 대해 후방쪽에 측정각도 θ2(이실시예에서는 30°)만큼 경사진 방향에 있는 구멍(105b)를 포함한다. 전방쪽으로 경사진주입구멍 (105a)와 후방쪽으로 경사진주입구멍(105b)는 교대로배치된다.The plasma supply unit of claim 13 to 15, wherein the plasma injection unit 107 formed almost in the center of the injection tube 103 is connected to the injection tube 104, and an end thereof is disposed at an outer side of the housing chamber 102. Many injection holes 105 whose placement interval is gradually reduced toward the end of the injection pipe 103 and whose inner diameter gradually increases are outside the injection pipe 103 on both sides of the plasma injection portion 107. The injection hole 105 is measured at the front side with respect to the vertical plane S 1 and measured at the rear side with respect to the hole 105a in the direction inclined by the measurement angle θ 1 (30 ° in this embodiment) and the vertical plane. A hole 105b in a direction inclined by an angle θ 2 (30 ° in this embodiment). The injection hole 105a inclined forward and the injection hole 105b inclined backward are alternately arranged.

도입관(104)으로부터배기부(102)쪽, 즉 우측에 있는 다수의주입구멍(105)은 10 %정도배기부로부터 좌측에 있는주입구멍의 수보다 작게 설정된다.The plurality of injection holes 105 on the exhaust portion 102 side, that is, the right side, from the introduction pipe 104 is set to be smaller than the number of the injection holes on the left side by about 10%.

제2배기부(106)는주입관(103)에 대향하는 하우징 챔버(101)의 벽에 있는 제1배기부(102)보다 직경이 작게 형성된다.배기부(106)에는 유속을 제어하는 밸브 (106a)를 가진배기관(106b)이 제공되고배기관(106b)의 일단에는배기관(102b)가 접속된다. 즉, 제16도에 도시된 바와 같이배기관(106b)은배기관(102b)의 측로관이다.The second exhaust portion 106 is formed to have a smaller diameter than the first exhaust portion 102 on the wall of the housing chamber 101 facing the injection pipe 103. The exhaust portion 106 has a valve for controlling the flow rate. An exhaust pipe 106b having a 106a is provided, and an exhaust pipe 102b is connected to one end of the exhaust pipe 106b. That is, as shown in FIG. 16, the exhaust pipe 106b is a side pipe of the exhaust pipe 102b.

다음, 플라즈마주입관(103)과 제2배기부(106)간의 위치 관계를 설명하겠다. 제11도에 있어서, 플라즈마주입관(102)은 하우징 챔버(101)의 저면에 대해 수직평면 S1으로부터 반시계 방향으로 30°만큼 회전된 위치에 제공되고 제2배기부(106)는 동일수직평면 S1으로부터 반시계 방향으로 30°만큼 회전된 위치에 형성된다.Next, the positional relationship between the plasma injection pipe 103 and the second exhaust portion 106 will be described. In FIG. 11, the plasma injection tube 102 is provided at a position rotated by 30 ° counterclockwise from the vertical plane S 1 with respect to the bottom of the housing chamber 101 and the second exhaust portion 106 is the same vertical. It is formed at a position rotated by 30 ° counterclockwise from the plane S 1 .

페데스탈(110)은주입관(103)의 하부쪽에 있는 하우징 챔버(101)의 저부에 제공되고 후술된 회전장치(111)는 페데스탈(11)의 상부에 제공된다. 회전장치(111)는 제12도에 도시된 바와 같은 접동가능기구(도시 안됨) 및 프레임(112)의 양측에 제공된 한쌍의 기등(113)을 가진 정방프레임의 형태로 프레임(112)에 의해 지지된다.주로 그것은 기둥(113)의 상단에 회전 가능하게 지지된 회전샤프트(114)와 회전샤프트(114)의 공간에 고정된 한쌍의 지지원반(115a) 및 (115b)로 구성된다. 도장될 물질(W)을 지지하는 전체 6개의 지지기부(116)는 지지원반(115a) 및 (115b)의 내면들간에 적당한 각도 간격으로배치된다.The pedestal 110 is provided at the bottom of the housing chamber 101 at the lower side of the infusion tube 103 and the rotating device 111 described below is provided at the top of the pedestal 11. The rotating device 111 is supported by the frame 112 in the form of a square frame having a movable mechanism (not shown) as shown in FIG. 12 and a pair of lamps 113 provided on both sides of the frame 112. It mainly consists of a rotating shaft 114 rotatably supported on the top of the pillar 113 and a pair of support disks 115a and 115b fixed in the space of the rotating shaft 114. A total of six support bases 116 supporting the material W to be painted are arranged at appropriate angular intervals between the inner surfaces of the support discs 115a and 115b.

제17도에 도시된 바와 같이, 각 지지기부(116)는 금속판을 굽혀 형성한 한쌍의 지지편(117)과 지지편(117)들간에 연장하는 연장된 막대(118a)와 각 연장된 막대(118a)의 양단을 접속하기 위해 지지편(117)의 하부표면에 제공된 연결막대 (118b)로 구성되고, 각 지지편(117)은 금속(118)에 의해 지지원반(115a) 및 (115b)에 대해 회전 가능하게 지지된다. 그러므로, 각 지지기부(116)는 회전샤프트(114)와 지지원반(115a) 및 (115b)이 회전하는 동안에 수평적으로 보존되고, 회전되지 않는다. 플라즈마가스를 통과시키는 네트(120)는 지지편(117)의 중심에 있는 절개부에 연장된다.As shown in FIG. 17, each support base portion 116 includes a pair of support pieces 117 and an extension rod 118a extending between the support pieces 117 formed by bending a metal plate, and each extension rod ( It consists of a connecting rod 118b provided on the lower surface of the support piece 117 to connect both ends of the 118a, and each support piece 117 is supported by the metal 118 to the support disks 115a and 115b. Is rotatably supported. Therefore, each support base 116 is horizontally preserved while the rotary shaft 114 and the support disks 115a and 115b are rotated and are not rotated. The net 120 through which the plasma gas passes is extended to the cutout at the center of the support piece 117.

제11도에 있어서, 스프로킷휠(121)은 회전샤프트(114)의 전단과 맞물리고, 스프로킷휠(122) 및 축선을 중심으로 회전하는 전동기어(123)가 프레임(112)상에 제공되며, 체인(124)은 스프로킷휠(121)과 (122)간에 연장되고, 전동기어(123)은 도시안된 구동모터에 의해 회전 가능하게 구동되는 구동기어(125)와 맞물린다.In FIG. 11, the sprocket wheel 121 is engaged with the front end of the rotary shaft 114, and the sprocket wheel 122 and the electric gear 123 rotating about the axis are provided on the frame 112. The chain 124 extends between the sprocket wheel 121 and 122, the electric gear 123 is engaged with the drive gear 125 is rotatably driven by a drive motor (not shown).

구동기어(125)의 회전시, 지지원반(115a) 및 (115b)는 전동기어(123), 스프로킷휠(122), 체인(124) 및 스프로킷휠(121)를 통해 회전샤프트(114)와 함께 회전된다.When the drive gear 125 rotates, the support disks 115a and 115b together with the rotary shaft 114 through the electric gear 123, the sprocket wheel 122, the chain 124 and the sprocket wheel 121. Is rotated.

다음, 이 장치의 동작을 설명하겠다. 우선 하우징 챔버(101)의 도어가 열리고, 회전장치(111)는 프레임(112)과 함께 하우징 챔버(101)의 외측으로 접동되며, 플라즈마처리를 행할 물질(W)은 지지기부(116)상에 위치된다. (이하 여백 생략)Next, the operation of this apparatus will be explained. First, the door of the housing chamber 101 is opened, and the rotating device 111 is slid out of the housing chamber 101 together with the frame 112, and the substance W to be subjected to the plasma treatment is placed on the support base 116. Is located. (Hereinafter omitted)

다음, 회전장치(111)는 하우징 챔버(101) 내로 다시 접동되고 도어는 닫혀진다. 이때, 유속제어밸브(102a)가 열리고 하우징 챔버(101)의 내압이 특정압력(약 0.5 내지 0.6 Torr)로 감소된다(감소장치는 도시 안됨). 압력이 특정값으로 되면, 밸브(102a)는 닫혀지고, 회전장치(111)의 구동모터가 동작한다. 이리하여 회전샤프트(114) 및 지지원반(115)은 구동기어(125), 전동기어(123), 스프로킷휠(122), 체인(124) 및 스프로킷휠(121)을 통해 회전된다. 지지기부(116)가 도장될 물질(W)과 함께 지지원반(115)에 대해 상단주위를 회전하는 한, 물질(W)은 지지원반(115)의 회전중일지라도 수평적으로 보존된다.The rotating device 111 then slides back into the housing chamber 101 and the door is closed. At this time, the flow rate control valve 102a is opened and the internal pressure of the housing chamber 101 is reduced to a specific pressure (about 0.5 to 0.6 Torr) (reduction device not shown). When the pressure reaches a specific value, the valve 102a is closed and the drive motor of the rotating device 111 operates. Thus, the rotary shaft 114 and the support disk 115 is rotated through the drive gear 125, the electric gear 123, the sprocket wheel 122, the chain 124 and the sprocket wheel 121. As long as the support base 116 rotates around the top with respect to the support disc 115 with the material W to be painted, the material W is kept horizontal even if the support disc 115 is rotating.

회전장치(111)의 구동과 동시에 산소와 같은 플라즈마가스는 도입관(104)을 통해주입관(103)에 공급된다. 이리하여 플라즈마가스는 복수개의 물질(W)를 에워싸는 식으로주입되고, 플라즈마가스는 하우징 챔버(101) 내의 전체 부분에 퍼지며, 복수개의 물질(W)이 하우징 챔버내에서 자체 회전하는 동안에 회전하는 복수개의 물질(W)의 표면은주입관(103)이 10%정도 양단에서 물질(W)의 전체 길이보다 더 길게 형성되고,주입구멍(105)이 수직평면 S1에 대해 약 30°정도 전방측 또는 후방측으로 경사져 형성되기 때문에 균일하게 작동될 수 없다.Simultaneously with the driving of the rotary device 111, plasma gas such as oxygen is supplied to the injection pipe 103 through the introduction pipe 104. Thus, the plasma gas is injected in such a manner as to enclose a plurality of materials W, the plasma gas is spread over the entire portion in the housing chamber 101, and the plurality of materials W rotates while rotating itself in the housing chamber. The surface of the two substances (W) is formed in the injection tube 103 is longer than the entire length of the substance (W) at both ends by about 10%, the injection hole 105 is about 30 degrees to the vertical plane S 1 front side Or it can not be operated uniformly because it is formed to be inclined to the rear side.

실험에 따르면, 각도 θ1및 θ2를 25°내지 35°로 선택하는 것이 바람직하다. 만일 이 각도가 이들 값보다 크거나 작으면 플라즈마 처리는 불충분하며, 도장되지 않을 물질(W)의 접촉각도(표면장력의 변질값)는 증가한다.According to the experiment, it is preferable to select angles θ 1 and θ 2 from 25 ° to 35 °. If this angle is larger or smaller than these values, the plasma treatment is insufficient, and the contact angle (deterioration value of the surface tension) of the material W to be painted is increased.

이실시예에 있어서, 도입관(104)보다배기부(102)쪽 즉, 우측에 있는 다수의주입구멍(105)은 15%만큼 좌측에 있는주입구멍(105)의 수보다 적게 설정되므로배기부(102) 쪽으로의 플라즈마 가스 흐름은 편기되지 않고, 가스는 균일하게 흐르며, 플라즈마처리가 도장될 물질(W)에 보다 균일하게 된다.In this embodiment, the plurality of injection holes 105 on the exhaust portion 102 side, that is, on the right side of the introduction pipe 104 is set by 15% less than the number of the injection holes 105 on the left side. The plasma gas flow toward 102 is not biased, the gas flows uniformly, and the plasma treatment becomes more uniform with the material W to be painted.

또한, 유속제어밸브(106a)는주입된 플라즈마 가스의 양에 따라 조정되고, 이에 따라서, 제2배기부(106)에서의배기속도는 공급가스의 확산속도보다 낮게 설정되며, 하우징 챔버(101)의 내압은 일정하게 보존된다.In addition, the flow rate control valve 106a is adjusted according to the amount of the injected plasma gas, so that the exhaust velocity in the second exhaust portion 106 is set lower than the diffusion velocity of the supply gas, Internal pressure is kept constant.

이 경우에 있어서, 제2배기부(106)의 직경은 제1배기부(102)의 직경보다 작으므로배기속도는 제1배기부(102)만이 개방될 때의배기속도와 비교하여 낮게 된다.배기속도는 제어밸브(106a)와 미세조정될 수 있으므로 플라즈마 가스는 하우징 챔버(101) 내에서 균일하게 확산된다.In this case, since the diameter of the second exhaust portion 106 is smaller than the diameter of the first exhaust portion 102, the exhaust velocity is lower than the exhaust velocity when only the first exhaust portion 102 is opened. The exhaust velocity can be fine tuned with the control valve 106a so that the plasma gas is uniformly diffused in the housing chamber 101.

배기부(106)는 약 180°만큼 플라즈마주입관에 대향하는 위치에 제공되므로주입구멍(105)으로부터의 소나기와 같은 플라즈마 가스 확산속도는 제18도에 점선으로 도시될 수 있다. 이 도면은 플라즈마 가스가 하우징 챔버(101)의 전체 부분에 충분하게 확산되고, 제2배기부(106)에 접속된 후에배출된다. 따라서, 플라즈마 가스는 도장될 물질(W)의 표면에 유효하게주입되고 효과적으로 그 표면의 전체 부분을 활성화한다.Since the exhaust 106 is provided at a position opposite the plasma injection tube by about 180 °, the plasma gas diffusion rate such as the shower from the injection hole 105 can be shown by the dotted line in FIG. This figure shows that the plasma gas is sufficiently diffused in the entire portion of the housing chamber 101 and discharged after being connected to the second exhaust portion 106. Thus, the plasma gas is effectively injected into the surface of the material W to be painted and effectively activates the entire part of the surface.

하우징 챔버(101) 내에서의 플라즈마 가스의 확산조건은배기가스의 속도를 조정하는 것에 의해 도장될 물질(W)의 형상 및 수에 가장 적합한 조건으로 설정될 수 있고, 이에 따라 플라즈마처리 효율은 현저하게 개선될 수 있고, 처리시간도 단축될 수 있다.The diffusion condition of the plasma gas in the housing chamber 101 can be set to a condition most suitable for the shape and number of the material W to be painted by adjusting the velocity of the exhaust gas, whereby the plasma treatment efficiency is remarkable. Can be improved, and the processing time can be shortened.

제2배기부(106)에 조립된배기관(106b)은 제1배기관(102b)의 측로관으로서 사용되므로 하나의 감압장치만이 필요하며, 플라즈마처리 장치는 소형화 될 수 있다.Since the exhaust pipe 106b assembled to the second exhaust unit 106 is used as the side pipe of the first exhaust pipe 102b, only one pressure reducing device is required, and the plasma processing device can be miniaturized.

예로서, 제2실시예의 발명은 후술될 바와 같이실시될 수 있다.By way of example, the invention of the second embodiment can be implemented as will be described later.

1)배기부(106)는주입관(103)에 대향하는 위치에만 국한되지 않고, 샤우어와 같이 형성되는 플라즈마가 하우징 챔버(101) 내에서 효율적으로 확산된 후에 집중되는 위치에 제공될 수도 있다. 예로서, 그것은주입관(103)에 대향하는 위치로부터 상, 하 방향으로 45°내의 위치에 제공될 수도 있다.1) Exhaust portion 106 is not limited to the position opposite to injection tube 103, but may be provided at a position where a plasma formed like a shower is concentrated after being efficiently diffused in housing chamber 101. . By way of example, it may be provided at a position within 45 ° in the up and down directions from a position opposite to the infusion tube 103.

2)주입관(103)으로부터주입된 플라즈마 가스는 흡수되고, 그것이 흡수되고 제19도에 도시된 바와 같이배기부(106)에주입관(103)과 동일구조를 가진배기관 (126)을 제공하는 것에 의해 하나의 구멍으로부터 보다 균일하게배기된다.2) Plasma gas injected from the injection pipe 103 is absorbed, and it is absorbed and provides the exhaust pipe 126 having the same structure as the injection pipe 103 to the exhaust portion 106 as shown in FIG. By this, it is exhausted more uniformly from one hole.

3) 플라즈마 가스배기의 경우에 있어서, 가스는 제2배기부(106)로부터 뿐만 아니라 제1 및 제2배기부로부터 제1배기부(102)의 유속제어밸브(102a)를 조절하는 것에 의해배기될 수 있다.3) In the case of plasma gas exhaust, the gas is exhausted by adjusting the flow rate control valve 102a of the first exhaust portion 102 not only from the second exhaust portion 106 but also from the first and second exhaust portions. Can be.

4) 제2배기부(106)는 하우징 챔버(101)내의 압력을 감소시키는 것에 의해 제1배기부(102)와 함께 사용될 수 있다.4) The second exhaust 106 may be used with the first exhaust 102 by reducing the pressure in the housing chamber 101.

다음, 본 발명의 제3실시예와 제2실시예의 상이점을 제20 및 21도를 참조하여 설명하겠다.Next, differences between the third embodiment and the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 20 and 21. FIG.

하우징 챔버(101)의 내압을 감소하는배기부(102)는 플라즈마 처리장치의 밀봉된 하우징 챔버(101)의 우측벽의중심에 형성되고 밸브(102a)를 갖는다.배기부 (102)의 하부내면에는 산소와 같은 플라즈마주입을 위한 제1 스테인레스 플라즈마주입관(103a)이 하우징 챔버(101)의 축방향 중심에 연장하여 제공된다. 제2주입관(103b)도 제1주입관(103a)의 위치로부터 하우징 챔버(1)의 중심주위를 반시계 방향으로 90°만큼 회전된 위치에 동일 방식으로 제공되고, 제3주입관(103c)은 반시계 방향으로 90°만큼 더 회전된 위치에 동일 방식으로 제공된다.An exhaust 102 that reduces the internal pressure of the housing chamber 101 is formed in the center of the right wall of the sealed housing chamber 101 of the plasma processing apparatus and has a valve 102a. The lower inner surface of the exhaust 102 The first stainless plasma injection pipe 103a for plasma injection, such as oxygen, is provided extending in the axial center of the housing chamber 101. The second injection pipe 103b is also provided in the same manner at a position rotated by 90 ° counterclockwise from the position of the first injection pipe 103a to the center of the housing chamber 1, and the third injection pipe 103c. ) Are provided in the same way at positions rotated further by 90 ° counterclockwise.

3개의 주입관(103a),(103b) 및(103c)은 본 발명의 제2실시예의 플라즈마주입관(103)과 동일 형상으로 형성된다.The three injection tubes 103a, 103b and 103c are formed in the same shape as the plasma injection tube 103 of the second embodiment of the present invention.

3개의 주입관(103a),(103b) 및(103c)들간의 위치 관계는 다음과 같다. 즉,주입관(103a),(103b) 및 (103c)는 하우징 챔버(101)의 축방향 중심에 거의 평행하게 제공되고, 하우징 챔버(101)의 내면에 제공된다.주입관(103a),(103b),(103c)의 거의 중심에 형성된 플라즈마 도입부(도시 안됨)는 도입관(104)에 접속되며, 그의 단부는 하우징 챔버(101)의 외측에 있는 플라즈마 공급장치(도시 안됨)에 도시된다.The positional relationship between the three injection pipes 103a, 103b, and 103c is as follows. That is, the injection pipes 103a, 103b, and 103c are provided substantially parallel to the axial center of the housing chamber 101, and are provided on the inner surface of the housing chamber 101. The injection pipes 103a, ( A plasma introduction portion (not shown) formed almost at the center of 103b) and 103c is connected to the introduction tube 104, and an end thereof is shown in a plasma supply device (not shown) outside of the housing chamber 101.

효과 및 장점을 후술하겠다. 제2실시예의 경우에 있어서, 회전장치(111)가 구동된다. 이와 동시에 산소와 같은 플라즈마 가스가 도입관(104)을 통해주입관 (103a),(103b) 및 (103c)에 공급될 때, 플라즈마 가스는주입구멍(105)으로부터 균일하게주입된다.배기부(102)의 밸브(102a)는 그것이 조금 열릴 때에 하우징 챔버(101)의 내압을 조금 감소시켜 플라즈마 가스의 공급에 의해 발생될 하우징 챔버(101)의 내압증가를 방지하여 특정값에 유지시킨다.Effects and advantages will be described later. In the case of the second embodiment, the rotary device 111 is driven. At the same time, when plasma gas such as oxygen is supplied to the injection pipes 103a, 103b and 103c through the introduction pipe 104, the plasma gas is uniformly injected from the injection hole 105. The valve 102a of 102 slightly decreases the internal pressure of the housing chamber 101 when it is slightly opened, thereby preventing an increase in the internal pressure of the housing chamber 101 to be generated by the supply of plasma gas and maintaining it at a specific value.

이 경우에 있어서, 플라즈마 가스는주입관(103a),(103b) 및 (103c)의주입구멍(105)으로부터 동시에주입되므로 플라즈마 가스는 단일의주입관(103a)으로부터만주입되는 경우와 비교하여 하우징 챔버(101)의 전체 부분에 단기간내에 균일하게 확산될 수 있다.In this case, since the plasma gas is injected simultaneously from the injection holes 105 of the injection pipes 103a, 103b and 103c, the plasma gas is injected only from the single injection pipe 103a as compared with the case of the housing chamber. The entire portion of 101 can be uniformly diffused within a short period of time.

주입관(103a),(103b) 및 (103c)는 동일 원주상에서 서로 평행하게 하우징 챔버(101)의 내벽에 제공되므로 플라즈마가스는 그것이 회전 샤프트(114)의주위를 회전하는 동안에 도장될 물질(W)에 세번 직접적으로주입되고, 플라즈마 처리의 효율은 개선되며, 처리 시간은 약 1/3 내지 1/2로 단축될 수 있다.The injection tubes 103a, 103b and 103c are provided on the inner wall of the housing chamber 101 in parallel with each other on the same circumference so that the plasma gas is a substance W to be painted while it rotates around the rotation shaft 114. Three times), the efficiency of the plasma treatment is improved, and the treatment time can be shortened to about 1/3 to 1/2.

제3실시예의 본 발명은 다음과 같이도실시될 수 있다.The present invention of the third embodiment can also be implemented as follows.

1) 또다른주입관은주입관(103c)으로부터 90°만큼 반시계 방향으로 회전된 위치에 제공된다.1) Another injection pipe is provided at a position rotated counterclockwise by 90 ° from the injection pipe 103c.

2)주입관(103a),(130b) 및(103c)의 길이는 양단에서 약 10%맡큼 도장되지 않을 물질(W)의 길이보다 더 길다.2) The lengths of the injection tubes 103a, 130b and 103c are longer than the length of the material W which will not be painted by about 10% at both ends.

3)주입구멍(105)의 형상 및배열은 이실시예에만 국한되지 않는다. 예로서주입구멍(105)의 단면도는 원형으로 형성될 수도 있으며, 이배열에서의 특정 각도 θ1및 θ2는 0°내지 60°범위내에서 자유롭게 설정될 수도 있다.3) The shape and arrangement of the injection hole 105 is not limited to this embodiment. By way of example, the cross sectional view of the injection hole 105 may be formed in a circular shape, and the specific angles θ 1 and θ 2 in this arrangement may be freely set within a range of 0 ° to 60 °.

다음, 본 발명의 제4실시예를 제22 및 23도를 참조하여 설명하겠다.Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 22 and 23. FIG.

제22도에 도시된 바와 같이 산소와 같은 플라즈마 가스를주입하는 스테인레스 플라즈마주입관(134)은 하우징 챔버(131) 내에 경사진 하부측에 수용된다. 도입관(135)은 플라즈마 도입관(135)의 중심에 접속되고, 동일주입관(135)의 타단은 하우징 챔버(131)의 외측에서 플라즈마 발생장치(136)에 접속된다. 많은 주입구멍 (137)은주입관(134)의 외측원주에 형성된다.As shown in FIG. 22, a stainless plasma injection tube 134 for injecting a plasma gas such as oxygen is accommodated on the inclined lower side in the housing chamber 131. The introduction tube 135 is connected to the center of the plasma introduction tube 135, and the other end of the same injection tube 135 is connected to the plasma generator 136 outside the housing chamber 131. Many injection holes 137 are formed in the outer circumference of the injection tube 134.

제23도에 도시된 바와 같이 하우징 챔버(131)의 외측에 돌출된 도입관(135)은 유리관으로 구성된 코어를 구비하는 조인트(138)에 접속되고, 그것은 조인트 (138)를 통해 플라즈마 발생장치 (136)의 단부에 접속된다.As shown in FIG. 23, an introduction tube 135 protruding outside the housing chamber 131 is connected to a joint 138 having a core composed of a glass tube, which is connected to the plasma generator (138) through a joint 138. 136 is connected to the end.

동일장치(136)는 플라즈마 발생관(139), 플라즈마 발생로(140), 도파관 (141), 방전감지기(142), 테스라코일(143) 및 플로로 접속기(144)로 구성되고, 홀더(145)에 하우징 챔버(131)에 의해 지지된다.The same apparatus 136 is composed of a plasma generating tube 139, a plasma generating furnace 140, a waveguide 141, a discharge detector 142, a tester coil 143 and a flow connector 144, the holder ( 145 is supported by the housing chamber 131.

조인트(138)의 타단에 접속된 석영관으로 구성된 가늘고 긴 플라즈마 발생관 (139)은 후술된 플로로 접속기(144)를 통해 산소가스를 공급받는다. 이 발생관 (139)은 그의 일부분에 냉각부(146)를 갖는다. 원통형 플라즈마 발생로(140)는 냉각부(147)를 갖으며, 플라즈마 발생관(139)의 외측원주를 둘러싸는 식으로 제공되고, 플라즈마 방전에 의해 발생된 열을 냉각시킨다. 도파관(141)은 플라즈마 발생로(140)의 거의 중심에서 축방향에 대해 90°로 조립된다. 도파관(141)을 통해 공급된 고주파 신호는 플라즈마 방전을실현하기 위해 플라즈마 발생로(140)의 플라즈마 발생관(139) 내의 산소원자를 여기한다.The elongated plasma generating tube 139 composed of a quartz tube connected to the other end of the joint 138 is supplied with oxygen gas through the flow connector 144 described below. This generating tube 139 has a cooling portion 146 at a portion thereof. The cylindrical plasma generating furnace 140 has a cooling unit 147, is provided in a manner surrounding the outer circumference of the plasma generating tube 139, and cools the heat generated by the plasma discharge. The waveguide 141 is assembled at an angle of 90 ° with respect to the axial direction at almost the center of the plasma generator 140. The high frequency signal supplied through the waveguide 141 excites oxygen atoms in the plasma generation tube 139 of the plasma generation path 140 to realize plasma discharge.

방전감지기(142)는 플라즈마 발생로(140)의 외측 및 플라즈마 발생관(139)의 외측에 외부광에 의해 영향을 받지 않게 하는 식으로 조립된다. 이실시예에 있어서, 광을 감지하는 카디움셀(이하에서는 Cds라함)이 사용된다. 방전감지기(142)가 플라즈마 방전광을 수신할 때, 그것은 수신된 광량에 따라 저항값이 변하며, 후술된 표시유니트에 전기신호를 출력한다.The discharge detector 142 is assembled in such a manner that the discharge detector 142 is not affected by external light on the outer side of the plasma generating chamber 140 and the outer side of the plasma generating tube 139. In this embodiment, a cardium cell (hereinafter referred to as Cds) that senses light is used. When the discharge detector 142 receives the plasma discharge light, the resistance value changes according to the received light amount, and outputs an electric signal to the display unit described later.

표시유니트(148)는 플라즈마 방전을 검출하는 검출회로(도시 안됨)를 구비하며, 경보기(149) 및 경보등 (150)에 접속된다.The display unit 148 includes a detection circuit (not shown) for detecting plasma discharge and is connected to the alarm 149 and the alarm lamp 150.

방전은 플라즈마 발생관(139)의 후부에서 가느다란 관의 외측원주에 부착된 테스라코일(143)에서 스파크를 발생하는 것에 의해 트리거되고, 이에 따라 플라즈마는 플라즈마 발생관(139) 내에 용이하게 발생될 수 있다.The discharge is triggered by generating a spark in the tester coil 143 attached to the outer circumference of the slender tube at the rear of the plasma generating tube 139, whereby the plasma is easily generated in the plasma generating tube 139. Can be.

상기 구성에 있어서, 플라즈마 발생장치(136)의 동작이 개시되는 시작에서의 플라즈마 방전의 발생을 후술하겠다.In the above configuration, the generation of the plasma discharge at the start of the operation of the plasma generator 136 will be described later.

우선, 플라즈마 발생을 위한 산소는 플로로 접속기(144)를 통해 플라즈마 발생관(139)에 공급된다.First, oxygen for plasma generation is supplied to the plasma generation tube 139 through the flow connector 144.

다음, 테스라 코일(143)은 전압을 인가하는 것에 의해 스파크를 발생하게 되며, 고주파 신호도 도파관(141)에 인가된다. 이리하여 플라즈마는 플라즈마 발생관 (139) 내에서 발생된다. 플라즈마 발생로(140)의 내측에 제공된 방전감지기(142)는 발생된 플라즈마광을 검출한다. 발생된 광량에 따라 저항값이 변하며, 전기신호가 검출회로에 대해 발생된다.Next, the tester coil 143 generates a spark by applying a voltage, and a high frequency signal is also applied to the waveguide 141. Thus, plasma is generated in the plasma generating tube 139. The discharge detector 142 provided inside the plasma generator 140 detects the generated plasma light. The resistance value changes in accordance with the amount of light generated, and an electrical signal is generated for the detection circuit.

전기신호의 측정이 특정기간 동안 방전감지기(142)로부터 보내진후, 만일 표시유니트(148)가 플라즈마 방전이 발생되지 않는 것을 판단하면, 그것은 조작자에게 경고를 하는 경보기(149) 및 경고 등(150)을 동작시키고, 테스라코일(143)에 전압의 공급을 중단한다.After the measurement of the electrical signal is sent from the discharge detector 142 for a certain period of time, if the display unit 148 determines that no plasma discharge has occurred, it is an alarm 149 and a warning lamp 150 that warn the operator. Is operated, and the supply of voltage to the test coil 143 is stopped.

따라서, 플라즈마 발생장치(136)를 동작시킨 후 플라즈마 방전의 발생을 확인할 필요가 없게 된다.Therefore, it is not necessary to confirm the occurrence of plasma discharge after operating the plasma generator 136.

상기 제4실시에 있어서, Cds는 광을 검출하는 방전감지기(142)로서 사용되지만, 광트랜지스터, 광다이오드 또는실리콘 블루셀(SBS)와 같은 다른 소자들이 광감지기로서 사용될 수도 있다.In the fourth embodiment, Cds is used as the discharge detector 142 for detecting light, but other elements such as a phototransistor, a photodiode or a silicon blue cell (SBS) may be used as the photodetector.

플라즈마가 방전될 때, 광뿐만 아니라 열, 오존이 발생된다. 따라서, 후술된 바와 같은 소자들을 검출하는 것에 의해서 플라즈마 방전을 검출하는 것도 가능하다.When the plasma is discharged, not only light but also heat and ozone are generated. Therefore, it is also possible to detect the plasma discharge by detecting the elements as described below.

1) 열을 검출하는 방전감지기(142)로서 열전쌍 또는 자동온도조절기와 같은 열감지기(152)가 제24도에 도시된 바와 같은 플라즈마 발생관(139)에 부착될 수도 있다.1) A heat sensor 152, such as a thermocouple or a thermostat, may be attached to the plasma generating tube 139 as shown in FIG.

2) 오존감지기(153)로서 예로서 세라믹 반도체가 사용될 수도 있으며, 이것은 제25도에 도시된 바와 같이 조인트(138)의 내측에 부착되며, 발생된 오존과 접촉하게 위치된다.2) As the ozone detector 153, a ceramic semiconductor may be used as an example, which is attached to the inside of the joint 138 as shown in FIG. 25, and placed in contact with the generated ozone.

다음, 본 발명의 제5실시예는 제26 내지 32도를 참조하여 설명될 것이다.Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 26 to 32 degrees.

플라즈마 처리장치의 반구적으로 밀봉된 하우징 챔버(201)는 중공원통형과 같이 형성된다. 하우징 챔버(201) 내의 압력의 비정상 상승을 방지하는 안전밸브 (203)는 하우징 챔버(201)의 외측원주의 상좌측에 제공된다.The hemispherically sealed housing chamber 201 of the plasma processing apparatus is formed like a hollow cylinder cylinder. A safety valve 203 for preventing an abnormal rise in pressure in the housing chamber 201 is provided on the upper left side of the outer circumference of the housing chamber 201.

하우징 챔버(201) 내에 접속된 플라즈마배기부(204)는 챔버(201)의 우상측에 제공되며, 플라즈마배기부(204)의 플랜지(205)를 통해주밸브(206)에 접속된다.주밸브(206)는 플랜지를 가진배기도관(207)을 통해 하우징 챔버(201)를 진공상태로 하는 기계적인 승압기(208)에 접속된다. 기계적 승압기(208)도배기도관 (207)을 통해 하우징 챔버(201)을 진공화하는 회전펌프(209)에 접속된다.The plasma exhaust portion 204 connected in the housing chamber 201 is provided on the upper right side of the chamber 201 and is connected to the main valve 206 through the flange 205 of the plasma exhaust portion 204. Is connected to a mechanical booster 208 that vacuums the housing chamber 201 through an exhaust air conduit 207 having a flange. The mechanical booster 208 is also connected to the rotary pump 209 through which the housing chamber 201 is evacuated via the exhaust pipe 207.

제30 및 31도에 도시된 바와 같이, 압력감지기(210)는 외측의 우측으로부터 하우징 챔버(201) 내로 돌출된다. 압력감지기(210)는 하우징 챔버(201)의 외측에 제공되어 기계적 승압기(208), 회전펌프(209) 및 고주파 발진기, 테스라 코일 및 전자기적 밸브 등을 제어하는 제어장치(A)에 접속된다.As shown in FIGS. 30 and 31, the pressure sensor 210 protrudes into the housing chamber 201 from the right side of the outside. The pressure sensor 210 is provided outside the housing chamber 201 and connected to a mechanical booster 208, a rotary pump 209 and a control device A for controlling the high frequency oscillator, the Tesla coil and the electromagnetic valve. .

한쌍의 평행한 레일(213)은 하우징 챔버(201)의 저부에 제공되고, 회전지지기부(214)는 동일 레일(213)에 이동 가능하게 설정된다. 합성수지로 만들어진 도장될 물질(W)을 현수하는 회전체(215) 및 회전체(215)에 회전을 전달하는 전달장치 (216)가 회전지지기부(214)상에 적재된다. 전달장치(216)는 하우징챔버(201)의 외측에 적재된 구동모터(217)로부터 하우징챔버(201) 내로 돌출된 구동 샤프 상의 기어(217a)와 분리 가능하게 맞물린다.A pair of parallel rails 213 are provided at the bottom of the housing chamber 201, and the rotation support portion 214 is set to be movable on the same rail 213. A rotating body 215 that suspends the material W to be painted made of synthetic resin and a transmission device 216 that transmits rotation to the rotating body 215 are loaded on the rotating support 214. The delivery device 216 is removably engaged with the gear 217a on the drive shaft protruding into the housing chamber 201 from the drive motor 217 mounted on the outside of the housing chamber 201.

제31도에 도시된 바와 같이 많은주입구멍(218a)을 가지며, 플라즈마 가스를주입하는 스테인레스 플라즈마주입란(218)은 하우징 챔버(201) 내의 하부 우측에 고정된다.주입관(218)의 거의 중심에는 도입관(219)이 접속되며, 이 도입관(219)은 하우징 챔버(201)로부터 조인트(220)를 통해 플라즈마 발생장치(221)에 접속된다.As shown in FIG. 31, there are many injection holes 218a, and a stainless plasma injection column 218 for injecting plasma gas is fixed to the lower right side of the housing chamber 201. An introduction tube 219 is connected, and the introduction tube 219 is connected to the plasma generator 221 through the joint 220 from the housing chamber 201.

플라즈마 발생장치(221)는 후술된 바와 같이 구성된다. 조인트(220)는 플라즈마 발생관(222)에 접속된다. 이 플라즈마 발생관(222)는 일부분에 냉각부(223)를 가진 석영관으로 만들어지며 후부는 감소된 직경을 가진 가는관으로서 형성된다. 플라즈마의 발생을 트리거하는 테스라코일(224)는 상기 가는관에 평행하게 제공된다. 가는관의 후단에는 원료를 공급하는 구멍(225)이 접속된다. 또한, 제26 및 29도에 도시된 바와 같이 호스(225)는 전자기적 밸브(226)에 접속되고, 접촉조절기 (227)를 통해 원료가스펌프(228)에 접속된다.The plasma generator 221 is configured as described below. The joint 220 is connected to the plasma generating tube 222. The plasma generating tube 222 is made of a quartz tube having a cooling portion 223 in a portion thereof, and the rear portion is formed as a thin tube having a reduced diameter. A test coil 224 that triggers the generation of a plasma is provided parallel to the thin tube. The rear end of the thin tube is connected with a hole 225 for supplying a raw material. Further, as shown in FIGS. 26 and 29, the hose 225 is connected to the electromagnetic valve 226 and is connected to the source gas pump 228 through the contact regulator 227.

전자기적 밸브(226)는 하우징 챔버(201) 내의 진공도, 즉, 압력감지기(210) 및 조절장치(A)에 의해 조절된다.The electromagnetic valve 226 is regulated by the degree of vacuum in the housing chamber 201, ie the pressure sensor 210 and the regulator A.

접촉조절기(227)에는 펌프(228) 내의 압력을 나타내는 게이지(227a) 및 원료가스의배기시에 유압을 나타내는 게이지(227b)가 제공된다.The contact regulator 227 is provided with a gauge 227a indicating the pressure in the pump 228 and a gauge 227b indicating the hydraulic pressure at the time of exhaust of the source gas.

이 조절기(227)는 펌프(228) 내의 압력이 측정 압력보다 낮게될 때 동작하는 압력스위치(229)를 구비한다. 이 스위치(229)가 동작할 때, 조절장치(A)는 조작자에게 원료가스의 부족현상을 경보장치(30)로서 제공된 표시판넬(230) 및 경보기 (230)를 통해 알린다.This regulator 227 has a pressure switch 229 which operates when the pressure in the pump 228 is lower than the measured pressure. When the switch 229 is operated, the adjusting device A informs the operator of the shortage of raw material gas through the display panel 230 and the alarm 230 provided as the alarm device 30.

이실시예에 있어서, 산소는 원료 가스로서 사용된다.In this embodiment, oxygen is used as source gas.

제31도에 도시된 바와 같이, 외측원통형부재(232)가 개방된 하부를 가진 공간(213)을 통해 플라즈마 발생관(222)의주위에 적재된다. 외측 원통형부재(232)의 내측에는 냉각부(도시 안됨)가 제공되고, 냉각부(223)에 접속된다. 이 냉각부는 냉각수를 공급하는 호스(234)에 접속된다.As shown in FIG. 31, the outer cylindrical member 232 is loaded around the plasma generating tube 222 through a space 213 having an open lower portion. A cooling unit (not shown) is provided inside the outer cylindrical member 232 and is connected to the cooling unit 223. This cooling part is connected to the hose 234 which supplies cooling water.

호스(234)의 타단은 전자기적 밸브(235)가 냉각수의 흐름을 검출하는 누수검출기(236)를 통해 작업실내에 제공된 냉각수 공급관(237)에 접속된다. 냉각수의 흐름이 더 이상 검출되지 않을 때, 누수검출기(236)는 전자기적 밸브(235)를 닫는다.The other end of the hose 234 is connected to the coolant supply pipe 237 provided in the working room through the leak detector 236 through which the electromagnetic valve 235 detects the flow of the coolant. When the flow of coolant is no longer detected, the leak detector 236 closes the electromagnetic valve 235.

냉각수는 냉각장치를 냉각시키는데 사용된 후 플라즈마 발생관(222)의 냉각부(223)에 제공된 복원호스(223a)를 사용하는 물탱크(도시 안됨) 내에 수집될 수 있다.The cooling water may be collected in a water tank (not shown) using the recovery hose 223a provided to the cooling unit 223 of the plasma generating tube 222 after being used to cool the cooling device.

방전의 발생을 검출하는 방전감지기(228)는 외측원통형부재(232)의 내측에 제공된다. 방전감지기(238)가 플라즈마 방전을 더 이상 검출할 수 없는 경우, 조절장치(A)는 플라즈마 방전이 경보장치(230)에 의해 발생되지 않음을 조작자에게 알리고 플라즈마 처리장치의 발생을 중단한다.The discharge detector 228 for detecting the occurrence of the discharge is provided inside the outer cylindrical member 232. When the discharge detector 238 can no longer detect the plasma discharge, the adjusting device A notifies the operator that the plasma discharge is not generated by the alarm device 230 and stops the generation of the plasma processing device.

도파관(239)은 외측 원통형부재(232)의 거의 중심에서 축방향에 대해 직각으로 부착되며, 냉각 공기를 공급하는 호스(240)는 하부측에 적재된다. 호스(240)의 타단은 전자기적 밸브(241)가 냉각공기 흐름의 중단을 검출하는 감지기(242)를 통해 냉각공기 공급관(243)에 결합된다. 이 감지기(242)는 공기가 흐르지 않음을 검출할 때 전자기적 밸브(241)를 닫는다.The waveguide 239 is attached at right angles to the axial direction at about the center of the outer cylindrical member 232, and a hose 240 for supplying cooling air is mounted on the lower side. The other end of the hose 240 is coupled to the cooling air supply line 243 through a detector 242 through which an electromagnetic valve 241 detects an interruption of the cooling air flow. The detector 242 closes the electromagnetic valve 241 when it detects no air flows.

도파관(239)의 타단은 고주파 발진기(244)에 결합되고, 이 발진기(244)는 플라즈마 발생관(222)에 고주파 신호를 공급한다. 고주파 발진기(244)가 동작을 개시할 때, 테스라코일(224)은 동기하여 스라크를 형성하며, 고주파수로 플라즈마의 발생을 트리거한다.The other end of the waveguide 239 is coupled to the high frequency oscillator 244, which supplies a high frequency signal to the plasma generating tube 222. When the high frequency oscillator 244 starts its operation, the Tesla coil 224 synchronously forms a strike and triggers the generation of plasma at a high frequency.

조절장치(A)는 플라즈마처리 시간의 설정을 위해 타이머(도시 안됨)를 구비하며, 케이블(B)을 통해서주밸브(206), 기계적 승압기(208), 회전펌프(209), 구동모터(217), 테스라코일(224), 접촉조절기(227), 경보장치(230) 및 전자기적 밸브(226), (235) 및 (241)에 접속된다.The regulating device A is provided with a timer (not shown) for setting the plasma processing time, and the main valve 206, the mechanical booster 208, the rotary pump 209, the driving motor 217 through the cable B. , The tester coil 224, the contact regulator 227, the alarm 230, and the electromagnetic valves 226, 235, and 241.

이 조절장치(A)는 중심장치로서 사용된 압력 감지기(210)를 가진 상기 장치들을 동작한다.This control device A operates the devices with the pressure sensor 210 used as the center device.

우선, 플라즈마처리 시간은 조절장치(A)의 타이머(도시 안됨)에 처리될 물질을 고려하여 설정되고, 전력 스위치는 턴온된다.First, the plasma processing time is set in consideration of the material to be processed by a timer (not shown) of the adjusting device A, and the power switch is turned on.

이리하여, 제32도에 도시된 바와 같이, 회전펌프(209)는 동작하고,주밸브 (206)는 수초 후에 개방된다. 하우징 챔버(201)는 점차적으로 내압이 감소되며, 진공도가 P1에 이를 때에 기계적 압승기(208)를 동작한다. 하우징 챔버(201)는 내압이 더욱 감소하고 진공도가 P2에 이를 때, 구동모터(217) 및 회전체(215)는 회전을 개시하고, 전자기적 밸브(226)는 열리며, 이에 따라 원료가스는 플라즈마 발생관 (222)에 공급된다. 하우징 챔버(201)의 진공도가 P3에 이를 때, 고주파 발진기 (244), 테스라코일(224) 및 방전 감지기(238)는 거의 동시에 동작하며 전자기적 밸브(235) 및 (241)는 개방되어 냉각공기가 흐를 수 있게 한다. 이리하여 플라즈마 방전은 플라즈마 발생관(222) 내에서 발생되며, 원료가스 플라즈마는 발생될 수 있다.Thus, as shown in FIG. 32, the rotary pump 209 operates, and the main valve 206 opens after a few seconds. The housing chamber 201 gradually decreases the internal pressure and operates the mechanical booster 208 when the degree of vacuum reaches P 1 . When the housing chamber 201 further decreases the internal pressure and the degree of vacuum reaches P 2 , the driving motor 217 and the rotating body 215 start to rotate, and the electromagnetic valve 226 opens, thereby the source gas. Is supplied to the plasma generating tube 222. When the vacuum degree of the housing chamber 201 reaches P 3 , the high frequency oscillator 244, the tester coil 224 and the discharge detector 238 operate almost simultaneously and the electromagnetic valves 235 and 241 are opened. Allow cooling air to flow. Thus, the plasma discharge is generated in the plasma generating tube 222, the source gas plasma may be generated.

따라서, 발생된 플라즈마는 도장될 물질에주입관(218)의주입구멍(218a)으로부터 타이머의 프리셋트 기간 동안주입된다.Thus, the generated plasma is injected into the material to be painted from the injection hole 218a of the injection pipe 218 during the preset period of the timer.

특정 기간 후,주밸브(206), 기계적 승압기(208), 회전체(215), 동작모터 (217), 전자기적 밸브(226) 및 고주파 발진기(244)는 회전펌프(209) 및 안전밸브 (203)가 개방되는 것을 제외하고는 정지된다.After a certain period of time, the main valve 206, the mechanical booster 208, the rotating body 215, the operating motor 217, the electromagnetic valve 226 and the high frequency oscillator 244 are a rotary pump 209 and a safety valve (203). ) Is stopped except that is opened.

이런 후, 전자기적 밸브(235) 및 (241)이 닫혀진다. 특정 시간 후 안전밸브 (203)는 닫히고, 플라즈마 처리를 완료한다.After this, the electromagnetic valves 235 and 241 are closed. After a certain time, the safety valve 203 is closed to complete the plasma treatment.

만일, 원료가스펌프(228) 내의 압력이 특정처리 시간이 되지 않았을 때라도 플라즈마처리 동안 어떤 이유(예로서, 원료가스의 소모)로 해서 낮아지게 되면, 접촉조절기(227) 내의 압력스위치(229)는 동작한다. 이리하여 조절장치(A)는 경보기 (230a) 및 표시판넬(230b)로 원료가스의 부족을 조작자에게 알린다. 진공도가 더욱 낮아지면, 전자기적 밸브(226)는 닫힌다.If the pressure in the source gas pump 228 is lowered for some reason (for example, the consumption of source gas) during the plasma treatment even when the pressure in the source gas pump 228 has not reached the specific processing time, the pressure switch 229 in the contact controller 227 It works. Thus, the adjusting device A notifies the operator of the shortage of the raw material gas by the alarm 230a and the display panel 230b. If the degree of vacuum is further lowered, the electromagnetic valve 226 is closed.

만일 냉각수 또는 냉각공기의 공급이 누수 또는 압축기 고장으로 인해 중단되면, 누수검출기(236) 또는 (242)가 전자기적 밸브(235) 및 (241)을 닫는다.If the supply of cooling water or cooling air is interrupted due to a leak or compressor failure, the leak detector 236 or 242 closes the electromagnetic valves 235 and 241.

상술된 전자기적 밸브(226), (235) 및 (241) 중의 하나가 닫힐 때, 조정장치 (A)는 닫혀진 전자기적 밸브로부터 신호를 수신하고, 경보기(230a) 및 표시판넬 (230b)를 동작시켜 전자기적 밸브가 닫혀졌음을 조작자에게 알리고, 플라즈마처리 장치를 정지시킨다.When one of the above-mentioned electromagnetic valves 226, 235, and 241 is closed, the adjusting device A receives a signal from the closed electromagnetic valve, and operates the alarm 230a and the display panel 230b. The operator is informed that the electromagnetic valve is closed, and the plasma processing apparatus is stopped.

도장될 물질(W)이 플라즈마 처리장치에 의해 플라즈마 처리를 적정하게 받거나 받지 않게 되는 것을 판단하는 방법을 제33 내지 36도를 참조하여 설명하겠다.A method of determining whether the material W to be coated is properly or not subjected to plasma processing by the plasma processing apparatus will be described with reference to FIGS. 33 to 36.

제35 및 36도는 도장될 물질(W)로서 준비된 자동차의 완충기의 전면확대 투시도이다. 이 물질(W)의 표면은 플라즈마 처리를 받게 된다. 물질(W)은 백색으로 도장될 수도 있는 도장될 표면(161) 및 어떤 도장을 받게 되지 않을 수도 있는 표면(161)에 할당된다. 이들 표면(161) 및 (162)은 플라즈마 처리를 받게 된다.35 and 36 degrees are front enlarged perspective views of the shock absorber of the automobile prepared as the material W to be painted. The surface of this material W is subjected to plasma treatment. Material W is assigned to surface 161 to be painted white and surface 161 to be free of any paint. These surfaces 161 and 162 are subjected to plasma treatment.

도장되지 않는 복수개의 표면(162)은 습윤 계수표준 액체(164)로 피복되며, 플라즈마처리 조건은 도장되지 않은 표면(162)에서의 유출액체의조건을 관찰하는 것에 의해 판단될 수 있다.The plurality of unpainted surfaces 162 are covered with a wet count standard liquid 164, and the plasma treatment conditions may be determined by observing the conditions of the effluent liquid on the unpainted surfaces 162.

다음은 습윤계수표준액체(164)의 공급 방법에 대해 설명하겠다.Next, a method of supplying the wet coefficient standard liquid 164 will be described.

상기 습은계수표준액체(164)는 에틸렌글리콜모노에틸에테르와 호름아미드를 특정비로 혼합하는 것에 의해 얻어질 수 있다. 예로서, 와코 푸어 케미칼 캄파니, 리미트에 의해 제조된 표준액체(164)가 본실시예에서 사용된다.The wet coefficient standard liquid 164 may be obtained by mixing ethylene glycol monoethyl ether and homoamide in a specific ratio. As an example, a standard liquid 164 manufactured by Wako Poor Chemical Company, Limited is used in this embodiment.

이 방법에 있어서, 무명막대는 습윤계수 표준액체(164) 내에 잠겨지고, 도장되지 않을 표면(162)은 그러한 액체로 신속히 피복된다. 이 경우에 있어서, 물질 (W)의 각종 부분으로부터 도장되지 않을 표면(162)을 선택하여 물질(W)의 전체 부분의 활성화조건을 검출하고, 소망의 피복영역이 약 6cm2으로 하는 것이 바람직하다.In this method, the cotton rod is immersed in the wet coefficient standard liquid 164 and the surface 162 to be painted is quickly covered with such liquid. In this case, it is preferable that the surface 162 not to be painted is selected from various parts of the material W to detect the activation conditions of the entire part of the material W, and the desired covering area is preferably about 6 cm 2 . .

다음은 판별 방법을 설명하겠다. 즉, 상기 습윤계수표준액체(164)는 표면에 인가된다. 2초 후 액체의 유출이 2초 동안 도장되지 않을 표면(162)에서 발생했는지의 여부가 판단된다. 액체 유출 상황이 제33도에 도시된 바와 같이 발생되지 않은 경우에 있어서, 플라즈마 처리가 적당하게 수행된 것이 판별된다. 액체의 유출 상황이 제34도에서와 같이 발생될 때에는, 다른 혼합비로 습윤 계수표준액체(164)를 반복적으로 공급하고 표면을 관찰하는 것에 의해서 플라즈마 처리가 어느 정도 수행되었는지 판별되며, 플라즈마처리의 적당성이 52다인/cm2또는 그 이상의 표면장력을 가진 표준액체로 판단된다.The following describes the method of determination. That is, the wet coefficient standard liquid 164 is applied to the surface. It is determined whether the outflow of liquid after 2 seconds has occurred at the surface 162 which will not be painted for 2 seconds. In the case where the liquid outflow situation is not generated as shown in FIG. 33, it is determined that the plasma processing is appropriately performed. When the outflow situation of the liquid occurs as shown in FIG. 34, it is determined how much the plasma treatment has been performed by repeatedly supplying the wet count standard liquid 164 at different mixing ratios and observing the surface. It is considered to be a standard liquid having a surface tension of 52 dynes / cm 2 or more.

제17도에 도시된 선형특성(165)을 본 발명의 도장될 물질(W)을 형성하는 폴리프로필렌 수지로 된 습윤계수표준 액체에 의한(물과의) 접촉각과 표면장력간의 상관관계를 도시한 것이다. 이 도면으로부터 표면이 52다인/cm2또는 그 이상의 표면장력을 가질 때 플라즈마 처리에서의 효과를 볼 수 있음을 알 수 있다. 예로서, 비처리된 폴리프로필렌 수지(CJ 944)는 20℃의 온도 및 45%의 습도에서 31다인/cm2의 표면장력을 갖는다.The linear characteristic 165 shown in FIG. 17 shows the correlation between the contact angle (with water) and the surface tension (by water) by the polypropylene resin of the polypropylene resin forming the material to be coated (W) of the present invention. will be. It can be seen from this figure that the effect in plasma treatment can be seen when the surface has a surface tension of 52 dynes / cm 2 or more. As an example, the untreated polypropylene resin (CJ 944) has a surface tension of 31 dyne / cm 2 at a temperature of 20 ° C. and a humidity of 45%.

즉, 플라즈마처리의 적당성은 52다인/cm2또는 그 이상의 표면장력을 가진 습윤계수표준액체(164)의 공급으로부터 2초 후에 액체의 유출 상태를 관찰하는 것에 의해 판별된다.That is, suitability of the plasma treatment is determined by observing the outflow state of the liquid two seconds after the supply of the wet coefficient standard liquid 164 having a surface tension of 52 dynes / cm 2 or more.

판별 방법을 더욱 상세히 설명하겠다. 도장되지 않을 표면(162)은 10개의 점에서 자유롭게 선택된다. 액체의 유출 상태가 10개의 점마다 발생되지 않을 때, 플라즈마가 수행되었음이 판별되지만, 만일 이러한 조건이 한 점에서라도 발생되지 않으면 플라즈마처리가 불충분한 것으로 판별되며 물질(W)은 다시 처리를 받게 보내진다. 표 1은 52다인/cm2의 표면장력을 가진 표준액체의 액체조성을 보인 것이다.The determination method will be described in more detail. Surface 162 that will not be painted is freely selected at ten points. When the outflow state of the liquid does not occur every ten points, it is determined that the plasma has been performed, but if this condition does not occur at any one point, the plasma treatment is determined to be insufficient and the material W is sent back for processing. Lose. Table 1 shows the liquid composition of a standard liquid having a surface tension of 52 dynes / cm 2 .

[표 1]TABLE 1

Figure kpo00001
Figure kpo00001

즉, 상술된 바와 같이, 도장될 물질(W)의 전체 표면의 활성화 상태는 판별될 수 있고, 그것은 도장되지 않을 표면(162)에서의 액체의 유출상태를 관찰하는 것에 의해 도장특성의 지침으로 될 수도 있어 따라서 이것은 도장의 판별 기준으로 사용될 수 있다.That is, as described above, the activation state of the entire surface of the material W to be painted can be determined, which can be guided by the coating properties by observing the outflow state of the liquid on the surface 162 to be painted. Therefore, this may be used as a criterion for determining the painting.

상술한 바와 같이 물질(W)의 표면의 활성도는 상술한 판별에 의해 도장될 물질(W)에 대해서 상술하게 검색될 수 있으므로 각 제품의 양호한 제어가실현될 수 있으며, 정확한 활성도가 무명막대를 가진 표준액체의 공급과 같은 간단한 처리를 통해 가시적으로 관찰될 수 있다. 따라서, 처리효율은 상술될 수 있으며, 다음의 도장처리에서 비처리된 물질이 보내지는 것도 방지될 수 있다.As described above, since the activity of the surface of the substance W can be searched in detail for the substance W to be coated by the above-described discrimination, good control of each product can be realized, and the precise activity has a cotton rod. It can be visually observed through simple processing such as the supply of standard liquids. Therefore, the treatment efficiency can be described above, and the untreated material can be prevented from being sent in the next coating treatment.

상술한 판별 방법에서의 도장될 물질(W)로서 설명될 완충기는 폴리프로필렌과 같은 도장을 필요로 하는 무극성 합성수지제품, 예로서 펜더, 사이드 스텝, 스포일러 등으로 대체될 수도 있다.The buffer to be described as the material W to be coated in the above-described determination method may be replaced by a non-polar synthetic resin product which requires painting such as polypropylene, for example, fender, side step, spoiler and the like.

형태 및 세부사항의 전술한 변동 및 다른 변동은 본 발명의 정신 및 범주를 벗어나지 않는 범위내에서 가능하므로, 본 발명은 특정실시예에만 국한되지 않는다.The foregoing and other variations in form and detail are possible without departing from the spirit and scope of the invention, and thus the invention is not limited to the specific embodiments thereof.

Claims (39)

합성수지로 만든 도장될 물질을 수용하는 하우징 챔버와 상기 하우징 챔버내에 제공되어 도장될 물질을 회전시키는 회전지지기부와 상기 회전지지기부상에 제공되어 도장될 물질을 지지하는 복수개의 현수부재와 상기 하우징 챔버내에 제공되어 이 하우징 챔버에 플라즈마가스를주입하는 것에 의해 도장될 물질의 표면에 대한 플라즈마 처리를실행하는 적어도 하나의 플라즈마주입관으로 구성된 플라즈마 처리장치.A housing chamber containing a material to be painted made of synthetic resin, a rotation support portion provided in the housing chamber to rotate the material to be painted, and a plurality of suspension members provided on the rotation support portion to support the material to be painted and the housing chamber 10. A plasma processing apparatus comprising at least one plasma injection tube provided therein to perform plasma processing on a surface of a material to be painted by injecting a plasma gas into the housing chamber. 제1항에 있어서, 가변속 구동수단이 상기 물질의 형상 및 수에 따르는 속도로 회전지지기부를 회전시키기 위해 제공되는 플라즈마 처리장치.A plasma processing apparatus according to claim 1, wherein variable speed drive means are provided for rotating the rotational support portion at a speed in accordance with the shape and number of the materials. 제2항에 있어서, 회전지지기부가 하우징 챔버에 대해 삽입 및 취출 이동될 수 있으며, 이 회전지지기부는 한쌍의 기어를 통해 구동수단에 접속하되, 상기 한쌍의 기어는 그들이 하우징 챔버내에 설비된 상태하에서 서로에 대해 정합 또는 분리될 수도 있는 플라즈마 처리장치.A rotating support portion can be inserted and withdrawn relative to the housing chamber, wherein the rotation support portion is connected to the drive means via a pair of gears, wherein the pair of gears are in a state where they are installed in the housing chamber. Plasma processing apparatus which may be matched or separated relative to one another under one another. 제3항에 있어서, 구동수단이 가변속모터인 플라즈마 처리장치.The plasma processing apparatus according to claim 3, wherein the driving means is a variable speed motor. 제1항에 있어서, 회전지지기부는 하우징 챔버에 대해 삽입 및 취출 이동될 수 있으며, 하우징 챔버의 출입구에 대향하게 제공된 회전지지기부를 운송하기 위한 트럭과 이 트럭의 표면상에 회전지지기부가 위치되는 상태하에서 회전지지기부에 결합되어 이 회전지지기부를 현수부재에 대한 물질의 적재 및 비적재의 경우에 회전시키는 회전기구가 제공되는 플라즈마 처리장치.2. A truck according to claim 1, wherein the rotary support can be inserted and withdrawn relative to the housing chamber, wherein the rotary support is positioned on the surface of the truck and the truck for transporting the rotary support provided against the entrance and exit of the housing chamber. And a rotation mechanism coupled to the rotation support portion in such a state that the rotation support portion rotates in the case of loading and unloading the material on the suspension member. 제5항에 있어서 회전기구가 서로 맞물리는 워엄 및 워엄기어와 상기 워엄을 회전시키는 동작핸들로 구성된 플라즈마 처리장치.A plasma processing apparatus according to claim 5, wherein the rotating mechanisms comprise worms and worm gears which mesh with each other, and operation handles for rotating the worms. 제5항에 있어서, 상기 트럭은 상기 트럭과 하우징 챔버간에 제공된 위치 설정 수단에 의해 하우징 챔버의 출입구에 대향하게 위치 설정되는 플라즈마 처리장치.6. The plasma processing apparatus of claim 5 wherein the truck is positioned opposite the entrance and exit of the housing chamber by positioning means provided between the truck and the housing chamber. 제7항에 있어서, 상기 위치 설정수단은 하우징 챔버에 부착된 한쌍의 위치 설정판과 이들 위치설정판간에 정합 및 분리될 수 있는 정합 로울러들로 구성되는 플라즈마 처리장치.8. The plasma processing apparatus of claim 7, wherein the positioning means comprises a pair of positioning plates attached to the housing chamber and matching rollers that can be matched and separated between these positioning plates. 제5항에 있어서, 상기 트럭은 상기 트럭과 하우징 챔버간에 제공된 록크수단에 의해서 하우징 챔버에 대향하여 재설정 가능하게 록크되는 플라즈마 처리장치.6. The plasma processing apparatus of claim 5, wherein the truck is lockably reset against the housing chamber by locking means provided between the truck and the housing chamber. 제9항에 있어서, 상기 록크수단은 하우징 챔버에 제공된 한쌍의 고정록크포올과 상기 트럭에 부착되어 상기 고정록크포올에 대해 정합 및 분리되는 이동가능 록크포올로 구성되는 플라즈마 처리장치.10. The plasma processing apparatus of claim 9, wherein the lock means comprises a pair of fixed lockpools provided in the housing chamber and movable lockpools attached to the truck and matched with and separated from the fixed lockpools. 제5항에 있어서, 회전지지기부는 하부 양측에 복수개의 휠을 갖는 한쌍의 지지프레임과 상기 지지프레임에 의해 지지가능하게 지지된 회전체와 상기 하우징 챔버상의휠들 및 트럭을 안내하여 이들이 결합되게 하는 레일로 구성되는 플라즈마 처리장치.6. The rotary support unit according to claim 5, wherein the rotary support unit guides the pair of support frames having a plurality of wheels on both lower sides thereof, the rotating body supported by the support frame, the wheels on the housing chamber, and the truck to be coupled thereto. Plasma processing apparatus consisting of a rail to be. 제5항에 있어서, 회전지지기부는 트럭상에 위치되는 동안에 서로에 대해 정합 및 분리되는 한쌍의 기어를 통해 회전기구에 접속되는 플라즈마 처리장치.6. The plasma processing apparatus of claim 5, wherein the rotation support portion is connected to the rotating mechanism through a pair of gears that are mated and separated from each other while being positioned on the truck. 제5항에 있어서, 상기 회전지지기부는 트럭상에 위치되는 동안에 회전지지기부와 트럭간에 제공된 정합수단과 분리가능하게 정합되는 플라즈마 처리장치.6. The plasma processing apparatus of claim 5, wherein the rotation support portion is detachably matched with a matching means provided between the rotation support portion and the truck while being positioned on the truck. 제13항에 있어서, 상기 정합수단은 회전지지기부에 부착된 고정 정합포올과 트럭에 부착되어 상기 고정정합포올에 대해 정합 또는 분리되는 이동가능 정합포올로 구성되는 플라즈마 처리장치.The plasma processing apparatus according to claim 13, wherein the matching means comprises a fixed matching fool attached to the rotating support part and a movable matching fool attached to a truck to be matched or separated from the fixed matching fool. 제1항에 있어서, 상기 현수부재는 상부에 회전지지기부에 의해서 서로 회전 가능하게 지지되는 한쌍의 대향지지부재와 이들 지지부재의 하단에서 연장된 연결막대와 지지하는 식으로 도장될 물질의 하측으로 연결막대상에 돌출된 복수개의 지지돌출편으로 구성되는 플라즈마 처리장치.The material of claim 1, wherein the suspension member is supported by a pair of opposing support members rotatably supported by a rotatable support portion at an upper portion thereof and a connecting rod extending from a lower end of the support members. A plasma processing apparatus comprising a plurality of support protrusion pieces protruding from the connecting film object. 제15항에 있어서, 상기 회전지지기부는 지지프레임과 이 지지프레임에 의해 회전 가능하게 지지되며 한쌍의 회전원반을 갖는 회전체와 회전체의 회전원반들간에 회전 가능하게 지지되는 현수부재로 구성되는 플라즈마 처리장치.[16] The rotating support part of claim 15, wherein the rotation support part is composed of a support frame and a support member rotatably supported by the support frame and a suspension member rotatably supported between the rotation disks of the rotating body and the rotation disks of the rotating body. Plasma processing apparatus. 합성수지로 만든 도장될 물질을 수용하는 하우징 챔버와 하우징 챔버내에 제공되어 플라즈마가스를주입하는 것에 의해 도장될 물질의 표면에 대한 플라즈마 처리를실행하는 적어도 하나의 플라즈마주입관과 하우징 챔버내의 내압을 감소시키는 제1배기부로 구성된 플라즈마 처리장치.A housing chamber containing a material to be painted made of synthetic resin and at least one plasma inlet tube and plasma pressure injecting plasma gas to effect plasma pressure on the surface of the material to be painted to reduce internal pressure in the housing chamber. Plasma processing apparatus comprising a first exhaust. 제17항에 있어서, 제2배기부가 플라즈마조사 중에 공급가스를배기하고 조정하도록 한우징 챔버내에서 플라즈마주입관에 대향하는 위치에 제공되는 플라즈마 처리장치.18. The plasma processing apparatus according to claim 17, wherein the second exhaust portion is provided at a position opposite to the plasma injection pipe in the housing chamber to exhaust and adjust the supply gas during the plasma irradiation. 제18항에 있어서, 제2배기부가 공급가스량 및배기속도를 평형시키기 위한 직경을 갖는 플라즈마 처리장치.19. The plasma processing apparatus of claim 18, wherein the second exhaust portion has a diameter for balancing the supply gas amount and the exhaust velocity. 제18항에 있어서, 제2배기부는 제1배기부에 접속된배기관의 측로관을 가지며, 이 측로관에는 가스유속제어밸브가 제공되는 플라즈마 처리장치.19. The plasma processing apparatus of claim 18, wherein the second exhaust portion has a side pipe of an exhaust pipe connected to the first exhaust part, and the side pipe is provided with a gas flow rate control valve. 제20항에 있어서,배기관은 유속제어밸브를 갖는 플라즈마 처리장치.The plasma processing apparatus of claim 20, wherein the exhaust pipe has a flow rate control valve. 제21항에 있어서, 제2배기부가 플라즈마주입관으로부터 180°만큼 분리된 위치에서 형성되는 플라즈마 처리장치.22. The plasma processing apparatus of claim 21, wherein the second exhaust portion is formed at a position separated by 180 degrees from the plasma injection tube. 제17항에 있어서, 플라즈마주입관이 도장될 물질의 길이보다 더 길게 형성되며, 많은주입 구멍이주입관의 외측 원주상에 형성된 플라즈마 처리장치.18. The plasma processing apparatus of claim 17, wherein the plasma injection tube is formed longer than the length of the material to be painted, and many injection holes are formed on the outer circumference of the injection tube. 제23항에 의해서 많은주입구멍이 길이 방향으로 플라즈마주입관의 중심의 양측에 위치되며, 이들주입 구멍의 간격은주입관의 단부 근처 영역에서 점차 감소되고, 내경은 점차 증가하는 플라즈마 처리장치.24. A plasma processing apparatus according to claim 23, wherein many injection holes are located at both sides of the center of the plasma injection pipe in the longitudinal direction, and the spacing of these injection holes decreases gradually in the region near the end of the injection pipe, and the internal diameter gradually increases. 제24항에 있어서, 많은주입 구멍은 수직 평면에 대해주입관의 외면을 따라 일측으로 특정각(θ1)만큼 경사진 방향의 구멍 및 타측으로 특정각(θ2)만큼 경사진 방향의 구멍을 포함하며, 이들 두 종류의 구멍은 교대로 제공되는 플라즈마 처리장치.The method of claim 24, wherein the many injection holes are holes in the direction inclined to one side by a specific angle (θ 1 ) along the outer surface of the injection tube with respect to the vertical plane and a hole in the direction inclined by a specific angle (θ 2 ) to the other And, these two types of holes are alternately provided. 제25항에 있어서, 특정각(θ12)이 제각기 25°내지 35°인 플라즈마 처리장치.A plasma processing apparatus according to claim 25, wherein the specific angles (θ 1 , θ 2 ) are 25 ° to 35 °, respectively. 제23항에 있어서, 복수개의 플라즈마주입관이 제공된 플라즈마 처리장치.24. The plasma processing apparatus of claim 23, wherein a plurality of plasma injection tubes are provided. 제27항에 있어서,주입관들이 등간격으로 하우징 챔버내에 제공된 플라즈마 처리장치.The apparatus of claim 27, wherein injection tubes are provided in the housing chamber at equal intervals. 제28항에 있어서, 세개의주입관이 90°간격으로 하우징 챔버내에 제공된 플라즈마 처리장치.29. The plasma processing device of claim 28, wherein three injection pipes are provided in the housing chamber at 90 ° intervals. 제27항에 있어서, 각주입관은 그의 단부에서 물질의 전체 길이의 약 10%만큼 물질의 양단부로부터 외측으로 돌출하는 길이를 가진 플라즈마 처리장치.28. The plasma processing device of claim 27, wherein the prismatic injection tube has a length at its end that projects outwardly from both ends of the material by about 10% of the total length of the material. 광, 열 및 오존이 플라즈마 발생장치에 의한 플라즈마 발생으로 발생되는 위치에 제공된 방전감지기와 방전감지기에 접속된 표시유니트로 구성된 플라즈마 처리장치.A plasma processing apparatus comprising a discharge detector provided at a position where light, heat, and ozone are generated by plasma generation by a plasma generator, and a display unit connected to the discharge detector. 제31항에 있어서, 방전감지기가 광의 세기를 검출하는 광감지기인 플라즈마 처리장치.32. The plasma processing apparatus of claim 31, wherein the discharge detector is a light sensor for detecting the intensity of light. 제31항에 있어서, 방전감지기가 온도 상승을 검출하는 열감지기인 플라즈마 처리장치.32. The plasma processing apparatus of claim 31, wherein the discharge detector is a heat sensor that detects a rise in temperature. 제31항에 있어서, 방전감지기가 오존 발생을 검출하는 오존감지기인 플라즈마 처리장치.32. The plasma processing apparatus of claim 31, wherein the discharge detector is an ozone detector for detecting ozone generation. 합성수지로 만든 도장될 물질을 수용하는 하우징 챔버와 플라즈마 처리를 위한 원료가스와 냉각 유체가 플라즈마 발생 장치에 공급되는 위치에 제공되어 원료가스의 부족 압력을 검출해서 냉각 유체의 흐름을 중단시키는 감지기와 상기 감지기의 검출 동작에 따라 플라즈마 처리장치의 동작을 중단시키는 제어장치와 상기 제어장치에 의한 동작 중단을 조작자에 알리는 경보장치로 구성된 플라즈마 처리장치.A housing chamber containing a material to be painted made of synthetic resin and a source gas and a cooling fluid for plasma treatment supplied to a plasma generating device to detect an underpressure of the raw material gas to stop the flow of the cooling fluid; And a control device for stopping the operation of the plasma processing device according to the detection operation of the detector, and an alarm device for notifying the operator of the operation interruption by the control device. 제35항에 있어서, 원료가스의 부족압력을 검출하는 감지기가 하우징 챔버내에 제공된 압력감지기인 플라즈마 처리장치.36. The plasma processing apparatus of claim 35, wherein the detector for detecting the underpressure of the source gas is a pressure sensor provided in the housing chamber. 제35항에 있어서, 냉각 유체가 호스내를 흐르는 냉각수이며, 이 냉각수 흐름의 중단을 검출하는 감지기가 상기 호스의 경로 중에 제공된 누수검출기인 플라즈마 처리장치.36. The plasma processing apparatus of claim 35, wherein the cooling fluid is coolant flowing in the hose, and the detector for detecting the interruption of the coolant flow is a leak detector provided in the path of the hose. 제35항에 있어서, 냉각 유체가 호스내에 흐르는 냉각 공기이며, 이 냉각 공기흐름의 중단을 검출하는 감지기가 상기 호스의 결로 중에 제공된 결함공기흐름 검출기인 플라즈마 처리장치.36. The plasma processing apparatus of claim 35, wherein the cooling fluid is cooling air flowing in the hose, and the detector for detecting interruption of the cooling air flow is a defective air flow detector provided during condensation of the hose. 제35항에 있어서, 경보장치가 경보기 및 표시유티트로 구성되는 플라즈마 처리장치.36. The plasma processing device of claim 35, wherein the alarm device comprises an alarm and a display unit.
KR1019850004094A 1984-06-12 1985-06-11 Plasma treatment apparatus KR870001171B1 (en)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP84-121122 1984-06-12
JP?59-12112 1984-06-12
JP59121122A JPS61439A (en) 1984-06-12 1984-06-12 Plasma treatment apparatus
JP59130622A JPS619440A (en) 1984-06-25 1984-06-25 Plasma treating equipment
JP15023384A JPS6128531A (en) 1984-07-19 1984-07-19 Plasma treatment apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR860000100A KR860000100A (en) 1986-01-25
KR870001171B1 true KR870001171B1 (en) 1987-06-16

Family

ID=27314185

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019850004094A KR870001171B1 (en) 1984-06-12 1985-06-11 Plasma treatment apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR870001171B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102116371B1 (en) * 2019-09-19 2020-05-28 주식회사티티엘 PDMS bonding apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102116371B1 (en) * 2019-09-19 2020-05-28 주식회사티티엘 PDMS bonding apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR860000100A (en) 1986-01-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4668479A (en) Plasma processing apparatus
US6331890B1 (en) Thickness measuring apparatus, substrate processing method, and substrate processing apparatus
US4252595A (en) Etching apparatus using a plasma
US5371950A (en) Isopropyl alcohol vapor dryer system
US5501870A (en) Method and apparatus for hydrophobic treatment
EP0584081B1 (en) A Centrifugal Wafer Processor
US5580421A (en) Apparatus for surface conditioning
US6937691B2 (en) X-ray fluorescence spectrometric system and a program for use therein
US6067727A (en) Apparatus and method for drying substrates
US5038808A (en) High frequency ultrasonic system
US4977688A (en) Vapor device and method for drying articles such as semiconductor wafers with substances such as isopropyl alcohol
US5749159A (en) Method for precision cleaning and drying surfaces
US5054210A (en) Isopropyl alcohol vapor dryer system
US5115576A (en) Vapor device and method for drying articles such as semiconductor wafers with substances such as isopropyl alcohol
US7025831B1 (en) Apparatus for surface conditioning
US5752532A (en) Method for the precision cleaning and drying surfaces
US6660104B2 (en) Dual cassette centrifugal processor
CN113500070A (en) Quartz tube cleaning device and cleaning method
US6122837A (en) Centrifugal wafer processor and method
US7494550B2 (en) Fluid delivery ring and methods for making and implementing the same
JP2001137800A (en) Apparatus and method for treating substrate
KR870001171B1 (en) Plasma treatment apparatus
JP3315843B2 (en) Substrate processing equipment
KR890008808Y1 (en) Dyeing apparatus
CN114226360B (en) Pretreatment device for electron microscope sample and sample rod

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 19920602

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee