Claims (12)
한 전극에 인접한 최대 휘도로부터 제2전극에 인접한 덜 강한 휘도로 변하는 휘도 기울기를 갖고 있는 광선(29)의 영역을 발생시키는 한쌍의 간격을 두고 배치된 전극(30,32)를 갖고 있는 방전등(34)로 구성되는 광원(26)을 포함하고, 간격을 두고 배치된 전극(30,32) 및 이들 사이의 광선(29)의 영역이 시스템축을 정하는 선과 만나는, 애퍼츄어(25) 양단에 광선을 상당히 균일하게 분포시키기 위한 조명시스템에 있어서, 반사기(18)이 광선(29)의 영역을 통하는 전극(30,32) 사이의 선과 동심으로 되는 시스템 종축(A) 주위에 타원형 회전면을 구성하고, 타원면의 축(22)가 이 타원면과 타원면 축의 차단점으로부터 선정된 거리(DH)만큼 변위되고, 회전하기전에 시스템축(A)에 관련하여 각(θ)만큼, 비교적 균일한 광선분포(50 내지 88)이 애퍼츄어(25) 양단에서 생기는 크기로 경사진 것을 특징으로 하는 조명시스템.A discharge lamp 34 having electrodes 30, 32 arranged at a pair of intervals to generate an area of light rays 29 having a luminance gradient that varies from the maximum luminance adjacent to one electrode to a less intense luminance adjacent to the second electrode. The light source 26 comprising a light source 26 and spaced apart across the aperture 25 where the spaced apart electrodes 30, 32 and the region of light rays 29 between them meet a line defining the system axis. In the illumination system for even distribution, the reflector 18 constitutes an elliptical rotating surface around the system longitudinal axis A which is concentric with the line between the electrodes 30, 32 through the region of the light beam 29, The axis 22 is displaced by a predetermined distance DH from the cutoff point of this ellipsoidal plane and the ellipsoidal axis, and a relatively uniform light distribution 50-88 by an angle [theta] in relation to the system axis A before rotation. At the size that occurs at both ends of the aperture 25 Lighting system characterized in that the inclined.
제1항에 있어서, 타원면(18)의 축(22)가 (D)로부터 변위되고, 애퍼츄어(25) 양단의 광선분포량을 증가시키기 위해 시스템측(A) 주위에서 회전하기 전에 시스템측(A)로부터 선정된 각(θ)로 경사진 것을 특징으로 하는 시스템.The system side (A) according to claim 1, wherein the axis (22) of the ellipsoidal surface (18) is displaced from (D) and before rotating around the system side (A) to increase the amount of light distribution across the aperture (25). A system inclined at an angle (θ) selected from
제2항에 있어서, 타원면(18)이 드로우 거리(CTHRO), 원뿔각(α), 편심률(c/a), 타원직경(2a), 애퍼츄어 오프셋(ZAP), 소오스 오프셋(ZOFF) 및 애퍼츄어 키기(d)에 기초를 두고 형성되는 것을 특징으로 하는 시스템.The method of claim 2, wherein the ellipsoidal surface 18 has a draw distance CTHRO, a cone angle α, an eccentricity c / a, an ellipse diameter 2a, an aperture offset ZAP, a source offset Z OFF . And based on aperture keying (d).
제2항에 있어서, 간격을 두고 배치된 전극(30,32)의 형태가 전극에 인접한 광선(26)의 영상(46)이 변위되게 하는 엔벨로프(40)내에서 제한되는 것을 특징으로 하는 시스템.3. The system according to claim 2, characterized in that the shape of the electrodes (30, 32) spaced apart is limited within the envelope (40) causing the image (46) of the light rays (26) adjacent to the electrodes to be displaced.
제1항에 있어서, 광원(26)의 최대 휘도의 영역이 애퍼츄어(255) 양단의 광선분포의 균일도를 증가시키기 위해 선정된 크기(ZOFF) 만큼 타원면의 제1촛점(28)로부터 변위되는 것을 특징으로 하는 시스템.The area of maximum brightness of the light source 26 is displaced from the first focal point 28 of the ellipsoid by a predetermined size Z OFF to increase the uniformity of the light distribution across the aperture 255. System characterized in that.
제1항에 있어서, 애퍼츄어(25) 및 타원면의 제1 촛점(28)이 애퍼츄어(25) 양단의 광선분포의 균일도를 증가시키기 위해 종축주위에서 회전하기 전에 선택된 거리(DH+(a-c) sinθ)만큼 떨어져 배치되는 것을 특징으로 하는 시스템.2. The selected distance DH + (ac) sinθ according to claim 1, wherein the aperture 25 and the first focal point 28 of the ellipsoid are rotated around the longitudinal axis to increase the uniformity of the light distribution across the aperture 25. System), which is arranged apart from each other.
제1항에 있어서, 애퍼츄어(25)의 말단부로부터 반사기(18)의 말단부로 연장되는 선과 시스템의 축(A) 사이의 각(θ)가 애퍼츄어(25) 양단의 광선분포의 균일도를 증가시키기 위해 종축주위에서 회전하기 전에 선택되는 것을 특징으로 하는 시스템.The angle θ between the line extending from the distal end of the aperture 25 to the distal end of the reflector 18 and the axis A of the system increases the uniformity of the light distribution across the aperture 25. So that it is selected prior to rotation about the longitudinal axis in order to make it work.
제1항에 있어서, 변위되고 선정된 거리(DH)가 약 0.688 내지 약 0.888㎜범위인 것을 특징으로 하는 시스템.The system of claim 1, wherein the displaced and predetermined distance DH ranges from about 0.688 to about 0.888 mm.
제2항에 있어서, 각(θ)가 약 0.374°내지 약 0.574°범위인 것을 특징으로 하는 시스템.The system of claim 2, wherein the angle θ ranges from about 0.374 ° to about 0.574 °.
제1항에 있어서, 변위(DH)가 애퍼츄어(25)에서의 집광효율을 증가시키는 것을 특징으로 하는 시스템.The system of claim 1, wherein the displacement DH increases the condensing efficiency at the aperture.
제6항에 있어서, 선택된 거리가 방전등의 엔벨로프에 의해 발생된 영상변위가 교차점의 필요한 변위(DH)를 제공하기에 불출분하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 시스템.7. The system of claim 6, wherein the selected distance is such that the image displacement generated by the envelope of the discharge lamp is indistinguishable to provide the required displacement DH of the intersection.
제1항에 있어서, 조명시스템이 액정 광밸브 프로젝터 시스템내에 사용되는 것을 특징으로 하는 시스템.The system of claim 1, wherein the illumination system is used in a liquid crystal light valve projector system.
※참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: It is to be disclosed based on the initial application.