KR840001626B1 - 비스코스 레이온의 연속 방사방법 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

비스코스 레이온의 연속 방사방법

제1도는 4본의 사를 동시에 처리하기 위한 4개의 전진이송 로울러를 가진, 본 발명 방법을 수행하기 위한 장치의 개략 측면도.

제2도는 제1도의 장치의 단부 사시도이다.

본 발명은 비스코스 레이온의 연속방사 방법에 관한 것이다.

적당한 방사구금으로부터 응고욕내로 압출된 비스코스 필라멘트가 상기 응고욕 또는 연속적인 욕들에서 응고 및 연신된 후, 나선에 가까운 일련의 연속적인 코일들로 구성된 나선 통로에서 지지 및 전진 이송 장치로 이송되어 그 통로에서의 주행시 그 필라멘트사가 소망의 최종 특성을 가지게 될 때까지 일련의 처리를 받는 비스코스 레이온 연속방사 공정이 알려져 있다. 응고되고 연신된 사를 나선통로에서 주행하게 하는 한가지 형태의 장치는 비교적 큰 직경의 주(主) 로울러와 매우 작은 직경을 가지고 축이 주 로울러의 축에 대해 비스듬하게 위치하는 일련의 부(副)로울러들로 구성되어 있다. 그 부로울러들은 대개 전진 이송로울러로 불린다. 주 로울러로는 화학처리 및 열처리가 그곳에서 행해지기 때문에 처리 로울러로도 불린다. 이런 종류의 장치에서 하나의 사가 하나의 전진 이송로울러에서 주행하기 때문에, 즉 다수의 사 모두가 주로울러에 접촉하고 각 사가 각 전진 이송로울러(즉, 부로울러)에 별도로 접촉하여 그들 다수의 사가 장치에서 동시에 주행하기 때문에, 본 발명의 설명에서는 간략화를 위해 그 장치가 단일의 전진 이송로울러를 갖는 것으로 설명한다.

따라서 본 발명은 단일의 사에 대해서 설명하지만, 실제에 있어서는 다수의 사들이 동시에 처리되고, 따라서 전진 이송로울러들이 하나 이상 배치되어 있다.

주 로울러, 즉 처리로울러 및 사의 나선통로는 사의 주행방향으로, 즉 처리로울러의 종방향으로 여러 개의 연속적인 지역들로 분할되어 있고, 각 처리지역들에서 각기 다른 처리가 행해진다. 상기 각종 처리지역들은 적당한 수단, 예를 들어 기계적 수단에 의해 분리되어 있고, 매우 간단한 분리 방법은 프렌지들 또는 플렌지쌍들을 각 지역과 그에 인접한 지역들 사이에 배치하는 것으로 되어 있다. 본 발명을 설명하는데 있어서, 이런 종류의 장치를 참조하여 설명하지만, 본 발명은 특정의 기계적 수단에 제한되지 않는다.

이제까지 이용된 통상의 기술에 따라 사의 응고 및 연신후 그 사는 산욕(acid bath)에서 셋팅되고, 세척된 후, 탈황, 정련 및 가공처리를 받은 다음, 세척 및 건조된다.

사의 응고 및 연신후, 통상의 셋팅 대신 고온과 산성하에서 행해지는 제1단계와 저온과 산성하에서 행해지는 제2단계의 2단계 셋팅이 행해지는 경우, 완전히 셋팅되고 탈황된 사가 얻어진다. 그 사에 함유된 유황염이 제거되고 소량의 유황원소만이 섬유에 잔류하며, 따라서 사의 품질에 대한 유황의 영향이 거의 없게 된다.

상기 2단계 셋팅들에서 사용되는 용액은 H₂SO₄, Na₂SO₄및 ZnSO₄의 수용액인 것이 바람직하고, 바람직한 처리 조건은 제1셋팅에서, H₂SO₄: 30-70g/l, Na₂SO₄: 60-140g/l, ZnSO₄: 1.8-4.2g/l, 온도 : 65-/85℃이고, 제2셋팅에서는 H₂SO₄: 15-35g/l, Na₂SO₄: 30-70g/l, ZnSO₄: 0.9-2.1g/l, 온도 : 50

-70℃이다.

전형적인 탈황 조작을 생략할 수 있어 상당한 기술적 진보가 제공되는데, 이는 특히 부식성이고(따라서, 특수한 물질의 사용을 요함) 오염의 관점에서 유해한 황화물욕이 생략되고 또한 후술되는 바와 같이 하나의 처리지역을 생략하는 것이 가능하게 되어, 방사속도가 여전히 동일하게 유지되면서도 처리로울러가 차지하는 공간이 감소되거나 또는 처리로울러가 차지하는 공간이 여전히 동일하면서도 방사속도가 증가될 수 있기 때문이다.

본 발명의 일예에서, 상기 셋팅 처리 다음, 약 30℃ 온도의 물로 세척이 행해지며, 그 세척은 사의 잔여산도(酸度) 및 가용성염을 제거하는 효과를 갖는다. 다른 예에서, 상기 조건들 하에서 2회의 세척이 수행되고, 그 경우 규정수의 처리지역들이 제공되어야 한다.

어떤 경우에도, 다음 실시예들로부터 명백한 바와 같이 사의 물리적 및 화학적 특성들이 완전히 만족스럽게 된다.

본 발명은 사의 응고 및 연신을 행하는 방식에 관계없이 적용될 수 있다. 특히 상기 조작들은 통상의 방식으로 수행될 수 있고, 또한 셋팅 후의 처리들에 사용되는 장치는 예를 들어 본 출원인의 이탈리아 특허 제516,501호 및 제535,752호에 기술된 것과 같이 공지의 타입이어도 좋다.

본 발명은 상기 이탈리아 특허 제516,501호에 기술된 바와 같은 사의 전진이송 및 처리를 위한 로울러 장치를 개략적으로 나타내는 첨부도면을 참조하여 기술된 몇몇 비제한적인 예들의 하기 설명으로부터 더 양호하게 이해될 것이다.

도면들에서, 처리 및 전진이송 로울러들이 부분적으로 도시되어 있고, 후술되는 실시예들에서 고려되는 수인 7개의 처리지역들만이 도시되어 있다. 건조지역은 도시되어 있지 않는데, 이는 그것이 본 발명에 관련되어 있지 않고 통상적으로 존재하는 것이기 때문이다. 다른 지역들은 본 발명에 관련된 목적들을 위해 추가되었다.

도면들에서, (10)은 처리로울러(11a), (11b), (11c) 및 (11d)는 처리로울러에 대해 비스듬히 배치된 전진 이송로울러들이고, (12a), (12b), (12c) 및 (12d)는 부분적으로만 도시된 사(絲)들이다. (13)은 여러 개의 지역들을 분리하는 플렌지들이고, 그 플렌지들은 여러 쌍으로 되거나 또는 다른 어떤한 형태의 것이어도 좋다. 처리액들을 공급하기 위한 수단은 도시의 간략화를 위해 생략되었다. (14)는 배출구(도시안됨)들을 구비한 액체 수집통이다. 각종 처리지역들은 하기 표에서 각 처리들을 나타내는 번호들에 해당하는 로마자 Ⅰ-Ⅶ로 나타내어져 있다.

모든 실시예들에서, 120데니어의 사가 로울러당 그리고 시간당 0.352kg의 생산량에 해당하는 분당 110m의 속도로 방사되었다. 처음 2개의 실시예들은 비교예들이고, 여기서 실시예 1은 탈황처리 없는 방사공정에 관한 것이고 실시예 2는 Na₂S욕에 의해 통상의 탈황처리를 행하는 방사 공정에 관한 것이다.

3개의 실시예들에 관한 데이타는 하기 표에서 세로줄에 처리지역 및 처리를 나타내고, 각 가로줄은 사가 각 지역에 체류하는 시간, 즉 각 처리시간과 체적에 의한 욕의 흐름비들을 나타내는 최종 2개의 줄들을 제외하고는 각 실시예에 대한 것을 나타내는 것으로 표시되어 있다. 추가처리를 임의로 행하기 위한 또 다른 지역이 전술한 지역들에 추가될 수 있으나, 그러한 가능성은 복잡을 피하기 위해 실시예와 도면에서 고려되지 않았다.

1

2

3개의 실시예들에 따른 조작에 의해 얻어진 사들을, 그들의 섬유 특성들에 관하여 측정하였고, 그 결과는 3가지 경우에서 실제 변하지 않고, 다음 성질을 나타내었다.

표준 상태에서의 강도 : 1.83-1.86g/den

습윤 상태에서의 강도 : 0.84-0.88g/den

표준 상태에서의 신도 : 16-19%

습윤 상태에서의 신도 : 30-32%

그 섬유들의 화학적 분석 결과는 다음과 같다.

실시예 1 : 유리(free)S 0.12%

ZnS 0.02%

실시예 2 : 유리 S 0.06%

ZnS 0.025%

실시예 3 : 유리 S 0.08%

ZnS 0.01%

본 발명은 Na₂S욕을 생략하였으나 사의 품질에 나쁜 영향을 끼치지 않았고, 그 품질이 통상의 공정에서 탈황처리를 제거함에 의해 얻어진 것보다 우수하였다.

처리지역 Ⅲ과 각 세척과정이 실시예 3에서 생략되면, 방사장치가 차지하는 공간이 감소될 수 있거나, 또는 그 공간이 동일하게 유지되면서도 방사속도가 증가될 수 있고, 섬유의 물리적 및 화학적 특성들이 실시예 3과 비하여 변하지 않는다. 따라서, 그러한 실시예는 표에 나타내지 않았는데, 이는 그 실시예가 단지 처리지역 Ⅲ만을 생략함에 의해 실시예 3으로부터 직접 추론될 수 있기 때문이다.

Claims (1)

1. 응고 및 연신된 사에 제1산 수용액에 의해 행해지는 제1셋팅 처리와, 제2산 수용액에 의해 행해지는 제2셋팅 처리 및 세척을 행하고, 상기 제2셋팅 처리가 제1셋팅 처리에서 보다 낮은 온도와 낮은 산도에서 수행되어, 사에 함유된 유황염이 상기 제1 및 제2셋팅 처리에 의해 거의 모두 제거되도록 한 것을 특징으로 하는 비스코스 레이온의 연속 방사방법.

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