KR840001462B1 - Semiconductor memory circuit - Google Patents

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KR840001462B1
KR840001462B1 KR1019800003291A KR800003291A KR840001462B1 KR 840001462 B1 KR840001462 B1 KR 840001462B1 KR 1019800003291 A KR1019800003291 A KR 1019800003291A KR 800003291 A KR800003291 A KR 800003291A KR 840001462 B1 KR840001462 B1 KR 840001462B1
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히데아끼 이소가이
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후지쓰 가부시끼가이샤
고바야시 다이유우
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Abstract

A semiconductor memory circuit, comprising memory cells; word lines, hold lines and bit lines connected to respective memory cells; and a hold-current controlling circuit. The hold-current controlling circuit comprises identical controlling circuit elements connected to respective hold lines and a constant-current source commonly connected to the controlling circuit elements. Each of the controlling circuit respective hold lines, when corresponding word lines change from a selection status to a non-selection status, until the voltage level of the hold line reaches a full "L" or "H" level, and means for blocking a flow of electric charges from the hold line.

Description

반도체 기억회로Semiconductor memory circuit

제1도는 종인의 반도체 기억회로의 배열을 도시한 개요도.1 is a schematic diagram showing an arrangement of a semiconductor memory circuit of a servant.

제2a도는 종래의 제1형 보유전류 제어회로를 포함하는 반도체 기억회로의 부분회로도.FIG. 2A is a partial circuit diagram of a semiconductor memory circuit including a conventional first type holding current control circuit. FIG.

제2b도는 종래의 제2형 보유전류 제어회로를 포함하는 반도체 기억장치의 부분회로도.2B is a partial circuit diagram of a semiconductor memory device including a conventional second type holding current control circuit.

제2c도는 본 발명에 의한 보유전류 제어회로를 포함하는 반도체 기억회로의 부분회로도.2C is a partial circuit diagram of a semiconductor memory circuit including a holding current control circuit according to the present invention.

제3a도는 제2a도에 도시된 회로의 동작을 나타낸 시간 그래프.FIG. 3a is a time graph showing the operation of the circuit shown in FIG. 2a.

제3b도는 제2b도에 도시된 회로의 동작을 나타낸 시간 그래프.FIG. 3b is a time graph showing the operation of the circuit shown in FIG. 2b.

제3c도는 제2b도에 도시된 회로의 동작을 나타낸 시간 그래프.FIG. 3c is a time graph showing the operation of the circuit shown in FIG. 2b.

제4a,b,c도는 제2도에 표시된 보유제어 회로의 단계적 동작을 도시한 회로도.4A, B, and C are circuit diagrams showing the stepwise operation of the retention control circuit shown in FIG.

본 발명은 반도체 기억회로에 관한것으로서 특히 이 회로내에 취부된 보유전류(Hold-current) 제어회로에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor memory circuits, and more particularly to a hold-current control circuit mounted in this circuit.

일반적으로 반도체 기억회로는 주로 대용량의 기억소자를 포함하고 있다. 상기 기억소자는 워드선(word line)과 비트선(bit line)의 교차점에 배열된다. 바라는 기억소자는 워드선에 연결된 워드디코우더(decoder)와 비트선에 연결된 비트 디코우더 양자에 의하여 그들의 단부에서 선택되어진다.In general, a semiconductor memory circuit mainly includes a large capacity memory device. The memory element is arranged at the intersection of a word line and a bit line. The desired memory elements are selected at their ends by both a word decoder connected to the word line and a bit decoder connected to the bit line.

판독되어질 데이타는 기록되어질 데이타가 상기 기억소자에 공급되어질 후에 선정된 기억소자가 연결된대응하는 비트선의 타단으로부터 발생된다. 각 기억소자는 일반적으로 워드선 뿐만 아니라 홀드선(hold line)에 연결되어 여기를 통하여 상기 언급된 보유전류가 흐른다. 이 보유전류는 기억소자에 저장된 데이타를 유지하는 기능을 한다. 이 보유전류는 보유전류원으로 흡수된다. 또 주지할 것은 보유전류원이 방전전류를 흡수한다.The data to be read out is generated from the other end of the corresponding bit line to which the selected memory device is connected after the data to be written is supplied to the memory device. Each memory element is generally connected to a hold line as well as a word line through which the above-mentioned holding current flows. This holding current functions to hold data stored in the memory device. This holding current is absorbed by the holding current source. Note that the holding current source absorbs the discharge current.

이 방전전류는 기억소자의 기생 캐패시터 및 워드선에 분포된표유 캐패시터에 보유된 전하에 의하여 생긴다. 이 방전전류가 보유전류에 의하여 흡수된 흡수되면 될수록 기억소자의억세싱 속도는 더 높아진다.This discharge current is generated by the charges retained in the parasitic capacitor and the stray capacitor distributed in the word line of the memory element. The more the discharge current is absorbed by the holding current, the higher the access speed of the memory element becomes.

따라서 방전전류를 매우 빠르게 흡수시키기 위하여 상기에서 서술한 바와같은 보유전류 제어회로가 제안되었다.Therefore, the holding current control circuit as described above has been proposed to absorb the discharge current very quickly.

상기 보유전류 제어회로는 보유전류원과 연동되고, 보유전류뿐 아니라 상기 캐패시터에 보유된 전하에 의하여 산출되는 상기 언급한 방전전류를 흡수한다.The holding current control circuit is interlocked with the holding current source and absorbs the above-mentioned discharge current calculated by the charge held in the capacitor as well as the holding current.

이러한 보유전류 제어회로의 많은 형태가 제안되고 오고, 실제로 사용되어 왔다. 그러나 종래 기술에 의한 이들 모두의 보유전류 제어회로는 이들 보유전류 제어회로 각각은 선정상태에서 비선정상태로 변하는 워드선에 대하여 고속 억세싱 동작의 수행을 효과적으로 한다할지라도, 상기 보유전류회로는 비선정상태어서 선정상태로 변하는 워드선에 대하여 고속억세싱동작의 수행을 효과적으로 할 수 없다는 동일한 단점을 가지고 있다. 여기에서 선정상태의 용어는 워드선이 워드디코우더에 의해 선정되는 조건을 의미하고, 한편 비선정 상태의 용어는 워드선이 워드디코우더에 의해 선정되지 않은 상태를 의미한다.Many forms of such holding current control circuits have been proposed and used in practice. However, all of these holding current control circuits according to the prior art, although each of these holding current control circuits effectively performs the fast accessing operation on the word line that changes from the selected state to the non-selected state, the holding current circuit is non-operational. It has the same disadvantage that it is not possible to effectively perform the high speed accessing operation for the word line that changes from the selected state to the selected state. Herein, the term of selection state means the condition under which the word line is selected by the word decoder, while the term of non-selection state means that the word line is not selected by the word decoder.

이리하여 본 발명의 목적은 반도체 기억회로에 있어서, 선정상태에서 비선정상태로 변하는 워드선 및 비선정상태에서 선정상태로 변하는 워드선 양쪽에 대해 고속억세싱동작을 효과적으로 수행하는 보유전류 제어회로를 제공하는 것이다. 본 발명을 첨부된 도면에 의거하여 하기에서 상세히 설명한다.Thus, an object of the present invention is to provide a holding current control circuit for effectively performing a high speed accessing operation for both a word line that changes from a selected state to a non-selected state and a word line that changes from a non-selected state to a selected state in a semiconductor memory circuit. To provide. The present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings.

제1도는 종래의 반도체 기억회로의 배열을 도시한 개요도로서, 참조번호(11)은 예로서 2n×2m 기억소자로 구성된 기억소자배열을 나타낸다. 상기 복수의 기억소자로부터 하나의 바라는 기억소자는 각각 어드레스데이타(address data)(A0~An-1)와 어드레스데이타(An~An+m-1)에 응하여 워드디코우더(12W)와 비트디코우더(12B)에 의하여 억세스되어진다.1 is a schematic diagram showing an arrangement of a conventional semiconductor memory circuit, in which reference numeral 11 denotes a memory element array composed of, for example, 2n × 2m memory elements. One desired memory device from the plurality of memory devices is a word decoder 12W corresponding to address data A 0 to A n-1 and address data A n to A n + m-1, respectively. And the bit decoder 12B.

워드선(13)은 워드디코우더(12W)로부터 배열(11)의 방향으로 연장되고, 비트선(14)은 비트디코우더(12B)로부터 배열(11)로 연장되어 있다. 판독되어질 데이타(Dout)는 비트선중의 해당비트선과 프리센스(pre-se-nse) 증폭기(18)를 거쳐 센스증폭기(19)에서 산출된다.The word line 13 extends from the word decoder 12W in the direction of the array 11, and the bit line 14 extends from the bit decoder 12B into the array 11. The data Dout to be read out is calculated by the sense amplifier 19 via the corresponding bit line among the bit lines and the pre-se-nse amplifier 18.

기억소자 배열(11)은 홀드선(15)을 거쳐 보유전류원(16)에 연결된다. 보유전류는 홀드선(15)을 거쳐 흘러서, 전류원(16)으로 흡수된다. 이 전류원(16)은 또한 기억소자의기생 캐패시터 및 워드선에 따라 분포된 표류 캐패시터에 보유된 전하에 의해 생성된 방전전류를 흡수하기 위해 유용하게 사용된다.The memory element array 11 is connected to the holding current source 16 via the hold line 15. The holding current flows through the hold wire 15 and is absorbed by the current source 16. This current source 16 is also usefully used to absorb the discharge current generated by the charges held in the parasitic capacitors and the stray capacitors distributed along the word lines of the memory element.

이 경우에 방전전류는 기억소자의 고속 억세싱동작을 수행하기 위하여 매우 빨리 흡수되어져야 한다. 이 고속 억세싱동작을 수행하기 위하여, 보유전류 제어회로(17)가 반도체 기억소자에 사용되어진다. 특히 본원 발명은 보유전류 제어회로(17)에 중점을 두는것을 이해하여야 한다.In this case, the discharge current must be absorbed very quickly in order to perform the fast accessing operation of the memory device. In order to perform this high speed accessing operation, a holding current control circuit 17 is used for the semiconductor memory element. In particular, it should be understood that the present invention focuses on the holding current control circuit 17.

종래 기술에서 보유전류제어회로의 2가지 형태가 제안되어 왔다. 종래기술의 보유전류 제어회로의 한가지 형태는 제2a도에 도시되고, 제2의 형태는 제2b도에 도시되었다. 또, 본 발명에 따르는 보유전류제어회로가 제2c도에 묘사되었다.In the prior art, two types of holding current control circuits have been proposed. One form of the holding current control circuit of the prior art is shown in FIG. 2A and the second form is shown in FIG. 2B. Further, the holding current control circuit according to the present invention is depicted in FIG. 2C.

제3a,b,c도는 제2a,b,c도에 도시된 회로동작을 각각 나타낸 시간 그래프이다. 제2a도에서 기억소자 배열(11)은 많은 숫자의 기억소자를 포함하고 있다. 제2a도에서는 단지 4개의 기억소자(21-11, 21-1m, 21-n1, 21-nm)만이 도시되어 있다. 기억소자 모두 동일회로 배열이므로 기억소자(21-11)만을 상세히 도시하였다.3a, b, and c are time graphs showing the circuit operation shown in FIGS. 2a, b, and c, respectively. In FIG. 2A, the memory element array 11 includes a large number of memory elements. In FIG. 2A only four memory elements 21-11, 21-1m, 21-n1, 21-nm are shown. Since the memory elements are all arranged in the same circuit, only the memory elements 21-11 are shown in detail.

기억소자(21-11)은 도시에 이해되는 바와같이, 기억소자의 각각은 기본적으로 한쌍의 멀티-에미터 트랜지스터를 포함하는 플립플럽을 구성한다. 각 트랜지스터의 하나의 에미터가 한쌍의 비트선(14-1)에 연결되고, 각 트랜지스터의 다른 에미터가 홀드선(15-1)에 연결된다. 이에 의해 기억소자의 플립플럽은 각각의 워드선과 홀드선간에 연결된다. 제2도의 예에서 기억소자(21-11, 21-1m, 21-n1, 21nm)는 워드선(13-1)과 홀드선(15-1) 사이에 연결된다. 워드선(13-1)은 워드구동 트랜지스터(22-1)에 연결된다. 또한 나머지 워드선은 각각의 워드구동 트랜지스터에 연결된다.As the memory elements 21-11 are understood in the figure, each of the memory elements basically constitutes a flip flop including a pair of multi-emitter transistors. One emitter of each transistor is connected to a pair of bit lines 14-1, and the other emitter of each transistor is connected to a hold line 15-1. As a result, the flip flop of the memory device is connected between each word line and hold line. In the example of FIG. 2, the memory elements 21-11, 21-1m, 21-n1, 21nm are connected between the word line 13-1 and the hold line 15-1. The word line 13-1 is connected to the word drive transistor 22-1. The remaining word line is connected to each word driving transistor.

이들 워드 구동트랜지스터(22-1~22-n)들은 워드 디코우더(12W)(제1도참조)에 포함된다.These word drive transistors 22-1 to 22-n are included in the word decoder 12W (see FIG. 1).

한편, 홀드선(15-1~15-n)은 보유전류원(16)(제1도 참조)에 연결되고, 이 보유전류원(16)은 홀드선(15-1~15-n)에 각각 연결된 정전류원(23-1~23-n)을 포함한다. 전류원(23-1~23-n)의 각각은 정전류(Ih)를 흡수한다. 정전류원(23-1~23-n)은 보유 전류제어회로(210)와 연동한다. 이 회로(210)는 다이오드(211-1~211-n)를 포함한다. 다이오드(211-1~211-n)은 각각은 그 애노우드가 홀드선(15-1~15-n)에 각각 연결되고, 캐소우드가 정전류(△Ih)를 흡수하는 정전류원(212)에 공통으로 연결되어 있다.On the other hand, the hold lines 15-1 to 15-n are connected to the holding current source 16 (see FIG. 1), and the holding current sources 16 are connected to the hold lines 15-1 to 15-n, respectively. Constant current sources 23-1 to 23-n. Each of the current sources 23-1 to 23-n absorbs a constant current Ih. The constant current sources 23-1 to 23-n interlock with the holding current control circuit 210. This circuit 210 includes diodes 211-1 to 211-n. Each of the diodes 211-1 to 211-n is connected to a constant current source 212 whose anodes are connected to the hold lines 15-1 to 15-n, respectively, and the cathode absorbs a constant current ΔIh. It is connected in common.

예로서 기억소자(21-11)가 워드 디코우더(12W)(제1도)와 비트 디코우더(12B)(제1도)의 어드레스 데이타에 의하여 억세스 되어진다면, 우선 워드선(13-1)이 워드구동 트랜지스터(22-1)에 의해 구동된다.For example, if the memory element 21-11 is accessed by the address data of the word decoder 12W (FIG. 1) and the bit decoder 12B (FIG. 1), the word line 13- 1) is driven by the word drive transistor 22-1.

그러므로 워드선(13-1)이 선택상태로 유지된다. 이경우 워드선(13-1)의 전압레벨(VW)은 제3a도에서 이해되는 바와같이, “H”레벨(고려벨)이다. 제3a도에서 점선에 의한 곡선(30SN)(30NS)은 회로(210)가 사용되지 않을 때 얻어지고, 굵은선(31SN)(31NS)은 회로(210)가 사용될때 얻어진다. 곡선(30SN)(31SN)은 워드선이 선택상태에서 비 선정상태로 변할때 얻어진다. 곡선(30NS)(31NS)은 또 다른 워드선은 비선정상태(N)에서 선정상태(S)로 변할때 얻어진다. 상기 언급한 경우의 예로서 워드선(13-1)이 선정상태에서 비 선정상태(제3a도의 곡선 30SN 또는 31SN에 대응한 상태)로 변할때, 워드선(13-n)(제2a도)은 비 선정상태로부터 선정상태(제3a도의 곡선 30NS 또는 31NS에 대응상태)로 변한다. 제2a도의 회로(210)가 사용되지 않을때, 곡선(30SN)(30NS)간의 교차점은 제3a도에 도시된 바와같이 시간(to)에서 발생된다.Therefore, the word line 13-1 is held in the selected state. In this case, the voltage level V W of the word line 13-1 is the "H" level (concerned bell), as understood in FIG. 3A. In FIG. 3A, curves 30SN and 30NS by dotted lines are obtained when the circuit 210 is not used, and thick lines 31SN and 31NS are obtained when the circuit 210 is used. Curves 30SN and 31SN are obtained when the word line changes from the selected state to the unselected state. Curves 30NS and 31NS are obtained when another word line changes from the unselected state N to the selected state S. FIG. As an example of the above-mentioned case, when the word line 13-1 changes from the selected state to the unselected state (the state corresponding to the curve 30SN or 31SN in FIG. 3A), the word line 13-n (FIG. 2A) It changes from a non-selection state to a selection state (corresponding to curve 30NS or 31NS in FIG. 3A). When the circuit 210 of FIG. 2a is not used, the intersection between the curves 30SN and 30NS is generated at time to as shown in FIG. 3a.

주지할것은 워드선(13-1)의 기억소자중의 하나로부터 워드선(13-n)의 기억소자중의 하나로 데이타스위칭이 시간(to) 후에 발생한다. 따라서 이 시간을 바라는 기억소자의 고속억세싱을 성취하기 위하여 제3a도에서 왼쪽으로 이동되어야 한다. 보유전류 제어회로(210)는 시간(to)에서 시간(t1)으로 쉬프트하는데 유용하다.Note that data switching occurs after one time from one of the memory elements of the word line 13-1 to one of the memory elements of the word line 13-n. Therefore, in order to achieve the high speed access of the memory device which desires this time, it must be moved to the left in FIG. 3a. The holding current control circuit 210 is useful for shifting from time to time t1.

그 이유는 하기와 같다. 워드선(13-1)이 선정상태에 있을때, 워드선(13-1)의 전압레벨은 “H”레벨이다. 따라서 홀드선(15-1)의 전압레벨 역시 “H”레벨이다. 이경우 전하는 워드선(13-1)을 따라 분포된 표류 캐피시터에 보유되고, 또한 기억소자(21-11~21-1m에 형성된기생 캐피시터에 보유된다. 이후에 워드선(13-1)이 선정상태에서 비선정상태로 변할때, 상기 언급한 캐피시터에 보유된전하는 홀드선(15-1)을 거쳐 매우 빠르게 방전되어야 한다. 회로(210)가 없다면 방전전류는 전류원(23-1)에 의해서만 흡수된다. 그러나 회로(210)가 사용되어진다면, 다이오드(211-1)만이 전도되고, 방전전류는 전류원(23-1)뿐만 아니라 회로(210)의 전류원(212)에 의하여 흡수되어질 수 있다. 이리하여 제3도의 곡선(31SN)의 급경사가 얻어질 수 있다.The reason is as follows. When the word line 13-1 is in the selected state, the voltage level of the word line 13-1 is at the "H" level. Therefore, the voltage level of the hold line 15-1 is also at the "H" level. In this case, the charge is retained in the drift capacitors distributed along the word line 13-1, and also in the parasitic capacitors formed in the memory elements 21-11 to 21-1 m. Thereafter, the word line 13-1 is selected. When changing from to the non-selected state, the charge held in the above-mentioned capacitor must be discharged very quickly via the hold line 15-1. Without the circuit 210, the discharge current is only absorbed by the current source 23-1. However, if the circuit 210 is used, only the diode 211-1 is conducting and the discharge current can be absorbed by the current source 212 of the circuit 210 as well as the current source 23-1. A steep slope of the curve 31SN of 3 degrees can be obtained.

그러나 회로(210)는 하기와 같은 단점을 내포하고 있다. 단점은 제3a도를 참조하여 명확해질 것이다. 즉, 곡선(31NS)의 경사가 급하게 되는것이 보다 바람직하지만, 곡선(31NS)의 대응하는 부분이 회로(210) 때문에 점진적 곡선이 된다. 이것은 워드선(15-n)이 비선정상태에서 선정상태로 변할대, 상기 언급한 캐피시터를 충전시키기 위한 충전전류가 현재 도통상태인 다이오드(211-n)를 거쳐 정전류원(212)에 의해 더 흡수되기 때문이다. 이는 제3a도의 전류(ΔIh)를 참조하면 된다.However, the circuit 210 has the following disadvantages. The disadvantage will be apparent with reference to Figure 3a. That is, although it is more preferable that the slope of the curve 31NS is steep, the corresponding portion of the curve 31NS becomes a gradual curve because of the circuit 210. This is further caused by the constant current source 212 via the diode 211-n in which the charging current for charging the above-mentioned capacitor is in the conduction state when the word line 15-n changes from the non-selected state to the selected state. Because it is absorbed. This can be referred to the current ΔIh in FIG. 3a.

주지할것은 가능한한 왼쪽(제3a도에서)으로 시간(to)을 이동시키기 위해, 곡선(30SN)의 경사는 매우 급하여야 하고, 동시에 곡선(30NS)의 경사도 매우 급하여야 한다. 제2b도는 종래기술의 제2형태의 보유전류 제어회로(220)를 포함하는 반도체 기억회로의 부분회로도이다.It should be noted that, in order to shift the time to the left (as in FIG. 3a) as far as possible, the slope of the curve 30SN should be very urgent, and at the same time the slope of the curve 30NS should be very urgent. FIG. 2B is a partial circuit diagram of a semiconductor memory circuit including the holding current control circuit 220 of the second aspect of the prior art.

이 보유전류제어회로(220)를 이용한 기억회로는 제2a도의 전술 상기 회로(210)를 이용한 기억회로와 비교하여 기억 억세싱 특정을 개선할 수 있다.The memory circuit using the holding current control circuit 220 can improve the memory access specification in comparison with the memory circuit using the circuit 210 described above in FIG. 2A.

이 개선은 제3b도를 참조하면 명확해 질 것이다. 제3b도에서 곡선(32SN)(32NS)간의 교차점은 회로(220) 때문에 제3a도의 시간(to)보다 더빠른 시간(t2)에 발생한다. 이것은 정전류원(23-1)과 전류원(221-1)에 의해 흡수되는 전류(Ih+ΔIh)가 시간(t2)후에 따르는 시간(t2)까지 흐르기 때문이다.This improvement will be apparent with reference to Figure 3b. The intersection between the curves 32SN and 32NS in FIG. 3B occurs at a time t 2 which is faster than the time to in FIG. 3A because of the circuit 220. This is because the current Ih + ΔIh absorbed by the constant current source 23-1 and the current source 221-1 flows to a time t 2 following the time t 2 .

이 전류(In+ΔIh)는 시간(t2)후에 계속 흐르므로, 곡선(32SN)의 경사는 제3a도의 곡선(31SN)보다 급하게 된다. 그러나 곡선(32NS)은 제3a도의 곡선(31NS)과 비교하여 개선되지 않았다.Since the current In + ΔIh continues to flow after the time t 2 , the slope of the curve 32SN is steeper than the curve 31SN of FIG. 3A. However, the curve 32NS was not improved compared to the curve 31NS of FIG. 3A.

보유전류 제어회로(220), 특히 전류원(221-1~221-n)의 하나는 1979. 2. 15일자로 발간된 “1979 IEEE International Solid-State Circuits Conference(ISSSCC)”에 기재되어 있다.One of the holding current control circuits 220, in particular the current sources 221-1 to 221-n, is described in the 1979 IEEE International Solid-State Circuits Conference (ISSSCC), published February 15, 1979.

이 전류원(221-1~221-n)의 동작은 제2b도를 참조하여 설명한다.The operation of these current sources 221-1 to 221-n will be described with reference to FIG. 2B.

워드선(13-1)의 전압레벨이 “H”레벨일때, 점(A)(B)의 전압레벨은 또한 “H”레벨이다. 이후 워드선(13-1)이 선정상태에서 비선정상태로 변할때 점(A)의 전압 레벨은 “L”(저)레벨로 감소한다. 그러나 점(B)에서의 전압레벨은 캐피시터(C2)에 보유된 전하때문에 “H”레벨을 유지한다. 그때에 캐피시터(C2)의 전하는 저항(R2)을 통하여 시정수(c2×r2)로 방전된다.When the voltage level of the word line 13-1 is at the "H" level, the voltage level at the points A and B is also at the "H" level. Then, when the word line 13-1 changes from the selected state to the non-selected state, the voltage level at point A decreases to the "L" (low) level. However, the voltage level at point B maintains the “H” level because of the charge retained in capacitor C 2 . At that time, the charge of the capacitor C 2 is discharged to the time constant c 2 × r 2 through the resistor R 2 .

여기에서 기호(c2)(r2)는 각각 캐피시터(C2)의 용량치와 저항(R2)의 저항치를 나타낸다. 점(B)에서의 전압 레벨이 “L”레벨로 감소하는 시간동안, 트랜지스터(T3)는 전도 상태이다. 그러므로, 전류(ΔIh)는 제3b도에 시간(t2)후에 계속흐른다.Here, the symbol c 2 (r 2 ) represents the capacitance of the capacitor C 2 and the resistance of the resistor R 2, respectively. During the time when the voltage level at point B decreases to the "L" level, transistor T 3 is in a conductive state. Therefore, the current ΔIh continues to flow after time t 2 in FIG. 3b.

동시에 워드선(13-n)은 비선정상태에서 선정상태로 변한다. 이경우 전류원(221-n)은 다음과 같이 동작한다. 회로(221-n)의 회로배열이 회로(221-1)의 회로배열과 같으므로, 하기에서 제2b도에 도시한 바와 같이 회로(221-1)의 회로요소를 참조하여 설명한다. 워드선(13-n)이 비 선정상태에 있을때, 점(A)(B)의 전압레벨은 “L”레벨이다.At the same time, the word line 13-n changes from the non-selected state to the selected state. In this case, the current source 221-n operates as follows. Since the circuit arrangement of the circuit 221-n is the same as the circuit arrangement of the circuit 221-1, the following description will be made with reference to the circuit elements of the circuit 221-1 as shown in FIG. 2B. When the word line 13-n is in the unselected state, the voltage level at points A and B is at the "L" level.

그후에 선(13-n)이 비선정상태에서 선정상태로 변할때, 점(B)의 전압레벨이 “H”레벨로 증가한다. 따라서 트랜지스터(T2)는 전도된다. 그후에 캐피시터(C2)는 충전되고, 점(B)의 전압레벨은 “H”레벨로 증가한다. 따라서 트랜지스터(T3)는 트랜지스터(T2)가 전도된후 즉시 전도된다. 그러므로 전류(ΔIh)는 시간(t2)후에 트랜지스터(T3)를 거쳐 계속 흐른다. 제3b도의 전류(ΔIh)를 참조하면 이해될 것이다. 결과적으로 곡선(32NS)(제3b도)의 경사는 곡선(30NS)과 비교할때 점진적 경사이다. 트랜지스터(T1)는 점(A)에 설정전압레벨을 공급하기 위하여 그 베이스에 기준 전압(Vref)이 인가된다.Thereafter, when the line 13-n changes from the non-selected state to the selected state, the voltage level at the point B increases to the "H" level. Thus, transistor T 2 is conductive. The capacitor C 2 is then charged and the voltage level at point B increases to the "H" level. Thus, transistor T 3 is conducted immediately after transistor T 2 is conducted. Therefore, the current ΔIh continues to flow through the transistor T 3 after the time t 2 . It will be understood with reference to the current ΔIh in FIG. 3b. As a result, the slope of the curve 32NS (FIG. 3B) is a gradual slope as compared with the curve 30NS. The transistor T 1 is applied with a reference voltage Vref at its base to supply a set voltage level to the point A.

제2c도는 본 발명의 보유전류 제어회로(230)를 포함한 반도체 기억회로의 일부회로도를 도시하였다. 보유전류 제어회로(230)를 사용한 기억회로는 전술한 제2b도의 회로(220)와 제2a도의 회로(210)를 이용한 기억회로와 비교하여, 기억억세싱 특성을 개선할 수 있다. 이 개선은 제3c도를 참조하여 명확해 질 것이다.2C shows a partial circuit diagram of the semiconductor memory circuit including the holding current control circuit 230 of the present invention. The memory circuit using the holding current control circuit 230 can improve the memory accessing characteristics as compared with the memory circuit using the circuit 220 of FIG. 2B and the circuit 210 of FIG. 2A. This improvement will be apparent with reference to FIG. 3C.

제3c도에서 곡선(33SN)(33NS)간의 교차점은 회로(230) 때문에 제3b도의 시간(t2)보다 빠른 시간(t3)에 발생한다. 이것은 정전류원(23-1)과 회로(230)에 의하여 흡수되는 전류(Ih+ΔIh)가 시간(t3)후에 따르는 시간(t3′)까지 흐르기 때문이다.The intersection between the curves 33SN and 33NS in FIG. 3C occurs at a time t 3 earlier than the time t 2 in FIG. 3B because of the circuit 230. This is due to flow through the constant current source (23-1) and the time (t 3 ') following a current (Ih + ΔIh) absorbed by the circuit 230, the time (t 3).

이 전류(Ih+ΔIh)는 시간(t3)후에 계속적으로 흐르므로, 곡선(33SN)의 경사가 제3a도의 곡선(31SN)보다 더 급하게 된다. 더우기 곡선(33NS)의 경사는 제3a도의 곡선(31NS)과 제3b도의 곡선(32NS)보다 더급하게 된다. 즉 곡선(33NS)의 경사는 실질적으로 바라는 곡선(30NS)과 동일하다.Since the current Ih + ΔIh continuously flows after the time t 3 , the slope of the curve 33SN becomes more steep than the curve 31SN of FIG. 3a. Moreover, the slope of the curve 33NS is more urgent than the curve 31NS of FIG. 3A and the curve 32NS of FIG. 3B. In other words, the inclination of the curve 33NS is substantially the same as the desired curve 30NS.

본 발명에 따르는 상기 언급한 개선의 이유는 전류(Ih)가 시간(t3)으로부터 흐름을 시작하는 것이 아니라 시간(t3″)로부터 이라는 사실로부터 유출된다. 대응하는 워드선(13-n)이 비선택상태에서 선택상태로 변할때, 전류(Ih)는 홀드선(15-n)으로부터 흡수되지 않기 때문에, 상기 언급한 기생 캐피시터와 표류캐피시터 양자는 워드선(13-n)과 이 워드선(13-n)의 기억소자를 포함하는 영역내에 존재하고, 제2c도에 도시된 바와 같이 워드 구동트랜지스터(22-n)로부터 공급된 전류에 의하여 매우 급히 충전되어 질 수 있다.The reason for the abovementioned improvement in accordance with the invention stems from the fact that the current Ih does not start flowing from time t3 but from time t3 ″. When the corresponding word line 13-n changes from the non-selected state to the selected state, since the current Ih is not absorbed from the hold line 15-n, both of the above-mentioned parasitic capacitors and drift capacitors are connected to the word lines ( 13-n) and a storage element of this word line 13-n, and is very rapidly charged by the current supplied from the word driving transistor 22-n as shown in FIG. Can lose.

시간(t3″)은 제2c도의 캐피시터(C11~Cn1)의 용량치와 제2c도의 저항(R11~Rn)의 저항치를 적절히 선택함으로서 자유로 프리셋트 될 수 있다. 제2c도에서 캐피시터(C11~Cn1)와 저항(R11~Rn1)의 병렬회로의 각각은 쇼트키(Schottky)트랜지스터(ST11~STn1)에 각각 연결된다.The time t3 " may be freely preset by appropriately selecting the capacitance values of the capacitors C 11 to C n1 of FIG. 2C and the resistance values of the resistors R 11 to R n of FIG. 2C. In FIG. 2C, each of the parallel circuits of the capacitors C 11 to C n1 and the resistors R 11 to R n1 are connected to Schottky transistors ST 11 to ST n1 , respectively.

트랜지스터(ST11~STn1)의 에미터는 정전류원(212)(제2a도 참조)에 공통으로 연결되었다. 제2c도로부터 이해되는 바와같이, 본 발명의 회로(230)는 제2b도의 회로(220)와 비교할때 구조상 매우 간단하여 이 사실은 본 발명의 또다른 이득이 된다.The emitters of the transistors ST 11 to ST n1 are commonly connected to the constant current source 212 (see also FIG. 2A). As understood from FIG. 2C, the circuit 230 of the present invention is very simple in structure compared to the circuit 220 of FIG. 2B, which is another benefit of the present invention.

특히 캐피시터와 트랜지스터의 수는 회로(220)에 사용한 수의 반이다. 이 보유전류제어회로(230)의 동작은 제4a,b,c도를 참조하여 설명될 것이다. 우선 제4a도를 참조하여 워드선(13-1)이 선택상태에 있을때 트랜지스터(22-1)의 베이스에 전압레벨은 “H”레벨이고, 선(13-1)과 선(15-1)의 전압 레벨도 “H”레벨이다. 그러므로 쇼트키 다이오드(SD11)은 역 바이어스되어 있다.In particular, the number of capacitors and transistors is half the number used for the circuit 220. The operation of this holding current control circuit 230 will be described with reference to FIGS. 4A, b, and C. FIG. First, referring to FIG. 4A, when the word line 13-1 is in the selected state, the voltage level at the base of the transistor 22-1 is at the "H" level, and the line 13-1 and the line 15-1. The voltage level at is also the "H" level. Therefore, the Schottky diode SD 11 is reverse biased.

쇼트키 다이오드는 쇼트키 트랜지스터에 포함되어 있으므로 쇼트키 다이오드(SD11)가 제2c도에 도시되어 있지 않고, 또 회로(230)의 트랜지스터가 일반 트랜지스터로 구성되었다면, 그러한 일반 다이오드는 보통의 트랜지스터의 베이스와 콜렉터간에 삽입되는 것은 이해될 수 있다.Since the Schottky diode is included in the Schottky transistor, if the Schottky diode SD 11 is not shown in Fig. 2c, and if the transistor of the circuit 230 is composed of a normal transistor, then that general diode is a common transistor. It can be understood that it is inserted between the base and the collector.

이 경우 쇼트키 다이오드(SD11)는 비전도 상태가 되고, 점(C)의 전압 레벨은 “H”레벨이 된다. 이 “H”레벨은 기준전압(Vref)으로 정의된다. 점 (C)의 전압레벨이 “H”레벨이므로 쇼트키 트랜지스터(SD11)는 전도된다. 그러므로 전ΔIh의 전류가 정전류원(212)에 의해 흡수된다.In this case, the Schottky diode SD 11 is in a non-conductive state, and the voltage level at the point C becomes the "H" level. This "H" level is defined as the reference voltage (Vref). Since the voltage level at point C is at the "H" level, the Schottky transistor SD 11 is conducted. Therefore, the current of the entire ΔIh is absorbed by the constant current source 212.

동시에 트랜지스터(22-n)의 베이스 전압레벨은 “L”레벨이 되고, 선(13-1)(15-1)의 전압레벨도 역시 “L”레벨이 된다. 이경우 쇼트키 다이오드(SDn1)는 순 바이어스로 되고, 전류(Δi)가 전압원(Vref)으로부터 저항(Rn1)과 다이오드(SDn1)를 통하여 흐른다. 따라서 점(D)의 전압레벨은 “L”레벨이 되고, 그러므로 쇼트키트랜지스터(STn1)는 비전도된다.At the same time, the base voltage level of the transistor 22-n becomes the "L" level, and the voltage levels of the lines 13-1 and 15-1 also become the "L" level. In this case, the Schottky diode SD n1 is forward biased, and a current Δi flows from the voltage source Vref through the resistor R n1 and the diode SD n1 . Therefore, the voltage level of the point D becomes the "L" level, and thus the Schottky transistor ST n1 is nonconductive.

전류(Δi)가 저항(Rn1)을 통하여 흐르기 때문에 전류(Δi)의 크기는 전류(ΔIh)보다 훨씬 낮다. 다음 제4도를 참조하여, 워드선(13-1)이 선정상태에서 비선정상태로 변할때 워드선(13-n)은 동시에 비 선정상태에서 선정상태로 변한다. 이 경우 트랜지스터(22-1)의 베이스 전압레벨은 “H”에서 “L”레벨로 변하고 따라서 선(13-1)(15-1)의 전압레벨은 “H”에서 “L”레벨로 변한다.Since the current Δi flows through the resistor R n1 , the magnitude of the current Δi is much lower than the current ΔIh. Referring to FIG. 4, when the word line 13-1 is changed from the selected state to the non-selected state, the word line 13-n is changed from the non-selected state to the selected state at the same time. In this case, the base voltage level of the transistor 22-1 changes from the "H" to the "L" level, and thus the voltage level of the lines 13-1 and 15-1 changes from the "H" to the "L" level.

상기와는 반대로 트랜지스터(22-n)의 베이스 전압레벨은 “L”에서 “H”레벨로 변하고, 따라서 선(13-n)과 선(15-n)의 전압레벨은 “L”에서 “H”레벨로 변한다. 이경우 다이오드(SD11)는 역 바이어스형에서 순바이어스형으로 변하고 한편 다이오드(SDn1)은 순바이어스형에 역바이어스형으로 변한다.Contrary to the above, the base voltage level of the transistor 22-n changes from the "L" to the "H" level, so that the voltage levels of the lines 13-n and 15-n are "L" to "H". Change to level. In this case, the diode SD 11 changes from the reverse bias type to the forward bias type, while the diode SD n1 changes from the forward bias type to the reverse bias type.

하기 사실은 매우 중요하다. 즉 선(15-1)의 전압레벨이 “H”에서 “L”레벨로 변할때 그 구간동안, 다이오드(SD11)는 전도된다. 다시말하면 다이오드(SD11)는 선(15-1)의 전압레벨이 완전 “L”레벨로 감소된후 우선적으로 전도상태로 된다. 이것은 기준전압(Vref)의 레벨이 다이오드의 순방향전압과 완전 L레벨의 화보다 약간 큰치로 선정되기 때문이다.The following facts are very important. That is, when the voltage level of the line 15-1 changes from the "H" to the "L" level, the diode SD 11 is conducted during the period. In other words, the diode SD 11 preferentially becomes in a conductive state after the voltage level of the line 15-1 is reduced to a completely "L" level. This is because the level of the reference voltage Vref is selected to be slightly larger than the forward voltage of the diode and the full L level.

예를들면 완전 “L”레벨이 -1.6V이고, 순방향전압 0.4V이라면 기준전압(Vref)은 -1.1이 된다. 결과적으로 제3c도에서 전류(Ih+ΔIh)는 시간(t3′)까지 흐르고 이것은 곡선(33SN)이 급경사가 되도록 한다. 한편 다이오드(SDn1)에 관하여, 선(15-n)의 전압레벨이 “L”에서 “H”레벨로 변할때, 이 다이오드(SDn1)는 전도상태에서 비전도상태로 급히 변하지 않는다. 이것은 점(D)에서의 전압레벨이 캐피시터(Cn1)와 저항(Rn1)의 존재로 인해 “H”에서 “L”레벨로 매우 서서히 변하기 때문이다. 그러므로 제3c도에서 전류(ΔIh)는 시간(t3)에서 시간(t3″)기간동안, 선(15-n)(제2c도)으로 흡수되어 지지 않는다. 이것은 바라는 곡선(30NS)과 실질적으로 곡같은 경사로서 곡선(33NS)을 만드다. 상기 기간(t3-t3″)은(의길이는 캐피시터(C11~Cn1)와 저항(R11~Rn1) 양자에 의해 결정되는 시정수를 적절히 선택됨으로서 자유로 결정할 수 있다.For example, if the full “L” level is -1.6V and the forward voltage is 0.4V, then the reference voltage (Vref) is -1.1. As a result, in FIG. 3C, the current Ih + ΔIh flows up to the time t3 ', which causes the curve 33SN to steeply slope. On the other hand, with respect to the diode SD n1 , when the voltage level of the line 15-n changes from the "L" to the "H" level, the diode SD n1 does not change rapidly from the conducting state to the non-conductive state. This is because the voltage level at point D changes very slowly from “H” to “L” level due to the presence of capacitor C n1 and resistor R n1 . Therefore, in Fig. 3c, the current? Ih is not absorbed by the line 15-n (Fig. 2c) during the time t3 to the time t3 ". This creates a curve 33NS as a substantially curved slope with the desired curve 30NS. The period t3-t3 " (the length can be freely determined by appropriately selecting the time constant determined by both the capacitors C 11 to C n1 and the resistors R 11 to R n1 ).

마지막으로 제4c도는 선(13-1)의 기억소자에서 선(13-n)의 기억소자로 데이타스위칭의 완성을 도시한 것이다. 이 단계에서, 전류(ΔIh)는 트랜지스터(STn1)를 통하여 흐르고, 전류(Δi)는 다이오드(SD11)를 통하여 흐른다.Finally, FIG. 4C shows the completion of data switching from the memory element of line 13-1 to the memory element of line 13-n. In this step, the current ΔIh flows through the transistor ST n1 and the current Δi flows through the diode SD 11 .

그 지점에서의 전압레벨은 제4c도에 “H” 또는 “L”레벨로 지시되고 이 형태는 제4a도에 도시한 형태와 반대이다.The voltage level at that point is indicated by the “H” or “L” level in FIG. 4C, which is the opposite of that shown in FIG. 4A.

본 발명에 따르는 상기 언급에 의하여 고속기억 억세싱동작이 성취되어 질 수 있다.By the above-mentioned in accordance with the present invention, a high speed memory accessing operation can be achieved.

Claims (1)

기억소자와, 각각의 기억소자에 연결된 워드선, 홀드선 및 비트선과, 상기 홀드선에 연결된 제1정전류원 및 상기 제1정전류원에 연결된 보유전류 제어회로로 구성되는 반도체 기억회로에 있어서, 상기 보유전류 제어회로는 저항과 캐피시터로 된 병렬회로와, 베이스가 상기 병렬회로의 제1단에 연결되고 제1출력단자는 각각의 홀드선에 연결되고 제2출력단자는 상기 제2정전류원에 연결되는 트랜지스터와, 상기 제1출력단자와 상기 트랜지스터의 상기 베이스 사이에 연결된 다이오드 및 상기 병렬회로와 제2단에 인가되는 기준전압(Vref)으로 구성되며 각각의 홀드선에 접속된 동일한 제어회로 소자들 및 상기 동일한 제어회로 소자들에 공통으로 접속된 제2정전류원으로 이루어져서 대응 워드선이 선정상태에서 비선정상태로 변할때에는 각 홀드선의 전압레벨이 완전한 “L”(저)레벨에 도달할때까지 각 홀드선으로부터 전하를 흡수하며, 상기 대응워드선이 비선정상태에서 선정상태로 변할때에는 상기 기억소자중의 하나로부터 상기 기억소자중의 다른 하나로 데이타 스위칭이 실행된 후 소정 간격동안 상기 각 홀드선으로부터 전하의 흐름을 차단하는 것을 특징으로하는 반도체 기억 회로.10. A semiconductor memory circuit comprising: a memory element, word lines, hold lines, and bit lines connected to respective memory elements; a first constant current source connected to the hold lines; and a holding current control circuit connected to the first constant current source. The holding current control circuit includes a parallel circuit composed of a resistor and a capacitor, a base connected to a first end of the parallel circuit, a first output terminal connected to each hold line, and a second output terminal connected to the second constant current source. And the same control circuit elements composed of a diode connected between the first output terminal and the base of the transistor and a reference voltage Vref applied to the parallel circuit and the second terminal and connected to respective hold lines. It is composed of a second constant current source commonly connected to the same control circuit elements, so that when the corresponding word line changes from the selected state to the unselected state, The charge is absorbed from each hold line until the level reaches a complete " L " (low) level. And interrupting the flow of electric charges from the respective hold lines for a predetermined interval after the data switching is executed.
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