KR830004784A - 고체 제초제 조성물 및 그 제조방법 - Google Patents

고체 제초제 조성물 및 그 제조방법 Download PDF

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KR830004784A
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piperidino
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KR1019810001496A
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버언 필립 리이
로버어트 엘리옷트 글렌
Original Assignee
호바트 오그덴 토마스
스타우퍼 케미칼 캄파니
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Abstract

내용 없음

Description

고체 제초제 조성물 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (11)

  1. 본문에 상술한 바와 같이 약 0.1~10.0중량%의 하기 구조식을 가진 티오 카르바메이트 술폭시드가 뇨소프릴표면내에 투침된 뇨소프릴로 이루어지는 고체 제초제 조성물 및 그 제조방법.
    식중, R은 알킬C2-C8, 또는 벤질이며, R1및 R2는 이것들이 결합되어 있는 질소원자와 공동으로 피페리디노헥, 사메틸렌이미노, 2,5-디메메틸-피페리디노 또는 5-에틸-2-메틸 피페리디노를 형성한다.
  2. R이 알킬 C2-C4이며, 그리고 R1및 R2는 이것들이 결합되어 있는 질소원자와 공동으로 헥사메틸렌이미노를 형성하는 특허청구의 범위 1기재의 고체 제초제 조성물 및 그 제조방법.
  3. 약 4.0~6.0중량%의 티오카르바메이트 술폭시드가 뇨소프릴의 표면내에 투침된 특허청구의 범위 1기재의 고체제초제 조성물 및 그 제조방법.
  4. R이 알킬 C2-C8이며, 그리고 R1및 R2는 이것들이 결합되어 있는 질소원자와 공동으로 헥사메틸렌이미노를 형성하는 특허청구의 범위 3기재의 고체 제초제 조성물 및 그 제조방법.
  5. R이 이소프로필이며, 그리고 R1및 R2는 이것들이 결합되어 있는 질소원자와 공동으로 헥사메틸렌이미노를 형성하는 특허청구의 범위 1기재의 고체제초제 조성물 및 그 제조방법.
  6. R이 이소피로필이며, 그리고 R1및 R2는 이것들이 결합되어 있는 질소원자와 공동으로 헥사메틸렌이미노를 형성하는 특허청구의 범위 3기재의 고체제초제 조성물 및 그 제조방법.
  7. 약 0.1~10.0중량%의 하기 구조식을 가진 티오카르바메이트 술포시드가 뇨소프릴의 표면내에 투침된 뇨소프릴로 이루어지는 고체제초제 조성물의 제조방법.
    식중 R은 알킬C2-C8, 또는 벤질이며, R1및 R2는 이것들이 결합되어 있는 질소원자와 공동으로 피페리디노, 헥사메틸렌이미노, 2,5-디메틸-피페리디노 또는 5-에틸-2-메틸 피페리디노를 형성한다.
  8. 티오카르바메이트 술폭시드가 주위온도하에서 고체이며, 뇨소 프릴의 표면내로 투침되기전에 용해되는 특허청구의 범위 7기재의 고체제초제 조성물의 제조방법.
  9. 투침은 약 4.0~6.0중량%의 상기 구조식(식중, R이 알킬 C2-C4이며, 그리고 R1및 R2는 이것들이 결합되어 있는 질소원자와 공동으로 헥사메틸렌이미노를 형성한다)을 가진 티오카르바메이트 술폭시드에 의하여 이룩되는 특허청구의 범위 7기재의 고체제초제 조성물의 제조방법.
  10. 하기 구조식을 가진 고체제초제 조성물의 제초유효량을 억제가 소망되는 장소에 적용함으로써 이루어지는 소망하지 않는 식물체의 억제방법.
    식중 R은 알킬C2-C8, 또는 벤질이며, R1및 R2는 이것들이 결합되어 있는 질소원자와 공동으로 피페리디노, 헥사메틸렌이미노, 2,5-디메틸-피페리디노 또는 5-에틸-2-메틸 피페리디노를 형성한다.
  11. R이 이소프로필이고, 그리고 R1및 R2는 이것들이 결합되어 있는 질소원자와 공동으로 헥사메틸렌이미노를 형성하는 특허청구의 범위 10기재의 식물체의 억제방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019810001496A 1980-05-01 1981-04-30 고체 제초제 조성물 및 그 제조방법 KR830004784A (ko)

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