KR830000807B1 - Cathode ray tube with improved screen - Google Patents

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KR830000807B1
KR830000807B1 KR1019790004107A KR790004107A KR830000807B1 KR 830000807 B1 KR830000807 B1 KR 830000807B1 KR 1019790004107 A KR1019790004107 A KR 1019790004107A KR 790004107 A KR790004107 A KR 790004107A KR 830000807 B1 KR830000807 B1 KR 830000807B1
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KR1019790004107A
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휴 가드프레이 리처드
오즈문 펙 제임즈
Original Assignee
에드워드 제이 노오튼
알 씨이 에이 코오포레이숀
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Abstract

내용 없음.No content.

Description

스크리인의 테두리를 개선한 음극선관Cathode ray tube with improved screen

제1도는 개구가 형성된 마스크를 지닌 음극선관을 축으로 절단한 평면도.1 is a plan view cut along an axis of a cathode ray tube having a mask having an opening formed therein;

제2도는 제1도의 절단선 2-2에서 절취한 마스크 및 페이스 플레이트(face plate)의 배면도.FIG. 2 is a rear view of the mask and face plate taken at cut line 2-2 of FIG.

제3도 및 제4도는 각기 종래 기술에 의한 음극선관 및 본 발명의 1실시예를 이용하는 음극선관을 설명하기 위하여 제2도의 원 4로 가리켜진 음극선관의 부위를 확대한 도면.3 and 4 are enlarged portions of the cathode ray tube indicated by circle 4 of FIG. 2 to explain the cathode ray tube according to the prior art and the cathode ray tube using the first embodiment of the present invention, respectively.

제5도 및 제6도는 본 발명에 따라 만든 샤도우 마스크의 대향변을 노출시키기 위한 포오토마스터(photomaster)의 부위를 확대한 도면.5 and 6 are enlarged views of a portion of a photomaster for exposing opposite sides of a shadow mask made in accordance with the present invention.

본 발명은 음극 발광 라인 스크리인과 슬리트형 개구 형성 마스크를 지닌 음극 선관에 관한 것이며, 특히 가시도를 개량한 스크리인 구조체에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a cathode ray tube having a cathode light emitting line screen and a slit-type opening forming mask, and more particularly to a screening structure having improved visibility.

최근 개발되어 칼러 텔레비젼 수상기에 사용하기 위하여 시판되고 있는 음극 선관에는 음극 발광재료로된 라인 스크리인을 지닌 구형의 장방형 페이스 플레이트와 상기 스크리인에 인접하여 다소 구형이면서 슬리트형 개구가 마련된 샤도우 마스크가 설치되어 있다. 마스크의 슬리트는 병렬 수직 칼럼을 이루면서 정열되어 있다. 각 컬럼은 마스크의 웨브 부분들에 의해 수직 분리된 다수의 슬리트들을 내포한다.Recently developed and commercially available for use in color television receivers, a rectangular rectangular face plate with a line screen made of a cathode light emitting material and a shadow mask provided with a slightly spherical but slit opening adjacent to the screen are installed. It is. The slits of the masks are arranged in parallel vertical columns. Each column contains a plurality of slits vertically separated by the web portions of the mask.

인접하는 칼럼들의 웨브(web) 부분은 서로 수직으로 엇갈려져 있다. 이러한 엇갈림 때문에 그리고 슬리트형 개구의 길이가 일반적으로 일정하기 때문에, 지정된 상·하단 스크리인의 테두리 라인은 우선적으로 각 칼럼내의 개구들을 절단하여 지나가는 식으로 되지만, 때때로 웨브 부분들을 절단하기도 한다. 스크리인의 몇몇 칼럼의 웨브가 소망한 스크리인 테두리 라인과 인접하는 반면 나머지 칼럼들의 개구들이 테두리 라인과 인접함으로서 스크리인의 상하단 테두리의 몇몇 부분에 계단을 형성하는 단점이 있다. 스크리인의 이러한 계단은 스크리인 가까이 앉아 있는 시청자 눈에 띄일 수 있으므로 미적으로 바람직스럽지 못하다.The web portions of adjacent columns are vertically staggered from one another. Because of this staggering and because the length of the slit-shaped openings is generally constant, the rim line of the designated top and bottom screens preferentially cuts through the openings in each column, but sometimes cuts the web portions. The webs of some columns of the screen are adjacent to the desired screen line border while the openings of the remaining columns are adjacent to the border line, forming a step in some portions of the top and bottom edges of the screen. This staircase of screenin is aesthetically undesirable as it may be noticeable to the viewer sitting near the screenin.

본 발명에 의한 음극선관은 음극선 발광라인 스크리인과 이 스크리인에 일정 간격으로 관내에 설치한 슬리트형 개구형성 마스크를 지니고 있다. 마스크 내의 슬리트는 실제적으로 병렬의 칼럼 형태로 정열되어 있고, 각각의 칼럼은 마스크의 웨브 부분들에 의해 수직 분리된 다수의 슬리트들을 내포한다. 개구 칼럼들의 몇몇 단부분들을 수정하여 미적으로 더 호감을 주는 스크리인 테두리를 만들었다.The cathode ray tube according to the present invention has a cathode ray emitting line screen and a slit type aperture forming mask provided in the tube at regular intervals. The slits in the mask are arranged in a substantially parallel columnar form, each column containing a plurality of slits vertically separated by the web portions of the mask. Several end portions of the opening columns were modified to create a more aesthetically appealing screenin rim.

이제 본 발명을 첨부 도면에 의해 상세히 설명한다.The invention is now described in detail by the accompanying drawings.

제1도는 퍼널(funnel)(26)로접합되는 장방향 패널(22)과 튜우브형의 내크(24)로 구성된 진공 유리 봉입관(20)을 에닌 장방형 칼러 수상관을 예시하고 있다. 패널(22)의 내면도는 제2도에 도시되어 있다. 패널(22)은 퍼널(26)에 밀봉시킨 주변 플랜지 즉 즉벽(30)과 페이스 플레이트(28)로 구성되어 있다. 모자이크화한 3색 음극 발광라인 스크리인(32)은 페이스 플레이트(28)의 내면에 설치되어져 있고, 관의 수직축(y-y)에 거의 평행하게 연장되는 형광체 라인의 어레이로 구성되어져 있다. 음극 발광 라인 사이의 영역은 광 흡수물질로 채워에기도 한다. 다수의 개구를 형성시킨 칼러 선택 전극 즉 샤도우 마스크(34)(도혜적으로 예시되어 있음)는 스크리인(32)에 대해 규정된 간격을 유지하면서 착탈 가능하게 패널(22) 내에 설치되어 있다. 마스크(34)는 사실상 병렬 수직 칼럼을 이루면서 정열되어 있는 다수의 슬리트형 개구들을 포함한다. 각 칼럼은 마스크의 웨브 부분들에 의해 수직 분리된 다수의 슬리트를 포와한다. 인접한 칼럼들의 웨브 부분들은 옆으로 볼 때 개구들이 보통의 벽돌 형상 패턴을 이루면서 위치하게끔 수직으로 엇갈려져 있다.FIG. 1 illustrates a rectangular color water tube eninened with a vacuum glass encapsulation tube 20 consisting of a longitudinal panel 22 bonded to a funnel 26 and a tubular nach 24. An inner view of panel 22 is shown in FIG. The panel 22 is composed of a peripheral flange, that is, a wall 30 and a face plate 28 sealed to the funnel 26. The mosaic three-color cathode light emitting line screen 32 is provided on the inner surface of the face plate 28 and consists of an array of phosphor lines extending substantially parallel to the vertical axis (y-y) of the tube. The area between the cathode emission lines is also filled with light absorbing material. A color selection electrode, or shadow mask 34 (preferably illustrated), which has formed a plurality of openings, is detachably installed in the panel 22 while maintaining a predetermined distance with respect to the screen 32. Mask 34 includes a plurality of slit-shaped openings that are aligned in a substantially parallel vertical column. Each column contains a plurality of slits vertically separated by the web portions of the mask. The web portions of adjacent columns are vertically staggered so that the openings are located in a normal brick pattern when viewed sideways.

인라인(in-line) 전자총(36)(도해적으로 예시되어 있음)은 네크(24) 내에 설치되어 있는바, 이것은 3전자 비임 (38 B) (38R) (38G)을 발생하여 코플레이너(coplanar) 컨버전스 통로를 따라 그리고 마스크(34)를 통해 스크리인(32)으로 지향시킨다.An in-line electron gun 36 (illustrated diagrammatically) is installed in the neck 24, which generates a three electron beam 38 B, 38R, 38G to form a coplanar ( coplanar) along the convergence path and through the mask 34 to the screenin 32.

제1도의 관은 네크(24)와 퍼널(26)의 접합부 부근에서 이들을 둘러싸는 외부 자게편향 요우크(40)와 함께 사용할 수 있게 설계되어 있다. 적절한 전압을 요우크(40)에 인가할 때, 3전자 비임(38 B) (38 R) (38G)은 이들 비임이 스크리인(32) 위의 장방형 라스터에서 수평적으로 또한 수직적으로 주사되게 하는 수직 및 수평지장을 받는다. 간단하게 하기 위하여, 편향 영역에 있어서 편향 비임들의 통로의 실제 곡선은 제1도에 표시하지 않았다. 그대신, 이들 비임이 편향면 p-p에서 순간적으로 구부러지는 것처럼 도시하였다.The tube of FIG. 1 is designed for use with an external lateral deflection yoke 40 surrounding them near the junction of the neck 24 and funnel 26. When an appropriate voltage is applied to the yoke 40, the three electron beams 38 B, 38 R, 38G scan horizontally and vertically in a rectangular raster over which these beams are screened 32. Subject to vertical and horizontal disturbances. For simplicity, the actual curve of the passage of the deflection beams in the deflection zone is not shown in FIG. Instead, these beams are shown as instantaneously bent at the deflection plane p-p.

제2도의 원 4로 지칭한 패널(22)의 일부분의 확대도를 각기 종래 기술의 수상관 및 본 발명의 실시예를 내포하는 수상관과 관련하여 제3도 및 제4도에 각기 도시하였다.An enlarged view of a portion of panel 22, referred to as circle 4 in FIG. 2, is shown in FIGS. 3 and 4, respectively, with respect to the prior art water tube and the water tube containing an embodiment of the present invention, respectively.

제3도는 수상관의 스크리인(44)의 일부분을 나타내기 위하여 부분 절개한 종래 기술의 개구형성 마스크(42)를 도시하고 있다. 마스크(42)는 칼럼(48)에 정열된 다수의 슬리트 형상의 개구들(46)을 포함하고 있다. 마스크 주변 근처의 몇몇 개구들(50)을 제외하면, 모든 슬리트 형상의 개구(46)의 길이는 동일하다. 각 칼럼(48)의 각각의 개구(46)는 마스크 웨브 부분에 의하여 동일 칼럼의 인접 개구로부터 분리된다. 도시한 마스크의 작은 부분에서, 이들 웨브 부분의 길이는 슬리트 형상의 개구의 세로 방향에서 측정했을 때 본질적으로 동일하다. 동일 칼럼 내의 연속하는 웨브 부분들(52) 사이의 중심 대 중심거리는 수직하는 반복 웨브 거리 WRD(Web repeat distance)이다. 반복 웨브 거리는 전 마스크를 통하여 계속된다. 이러한 반복 웨브 패턴때문에 그리고 스크리인의 테두리를 패널(22) 및 마스크(42) 상하단의 약간 휘어진 형상과 나란하게 하는 것이 바람직하기 때문에, 지정된 테두리 라인이 대개 개구 칼럼들을 개구 위치점에서 전개할 뿐만 아니라 때로는 웨브를 절개하거나 또는 그에 거의 인접하여 절개하게 되어 완전한 에칭(etching)을 행하기에는 불충분한 개구 패턴이 있게 된다. 이렇게 패턴화 되어 있지만 에칭이 되어져 있지 않은 개구들이 제3도의 점선으로 된 부위(54) 및 (56)으로 가리켜져 있다. 마스크는 스크리인을 형성하는 데 있어서 포오토 마스터로써 사용되므로, 요망했던 테두리 라인이 어떤 웨브 부분을 통과하거나 또는 그 근처에 있게 됨으로써 불규칙한 톱니 모양의 상·하단 테두리를 지닌 스크리인을 형성하게 된다. 이 불규칙한 테두리의 1예를 제 3 도에 도시하였는 바, 3라인이 1조인 형광체 라인(58)이 부분적인 개구(56)가(점선으로 도시하였음) 에칭이 되어 있지 않음으로 해서 인접하는 조(60)보다 더 낮은 점에서 끝을 이루고 있다.3 shows a prior art aperture forming mask 42 partially cut away to show a portion of the screen-in 44 of the water pipe. Mask 42 includes a plurality of slits-shaped openings 46 arranged in column 48. With the exception of some openings 50 near the periphery of the mask, the lengths of all the slits shaped openings 46 are the same. Each opening 46 of each column 48 is separated from an adjacent opening of the same column by a mask web portion. In small portions of the mask shown, the lengths of these web portions are essentially the same as measured in the longitudinal direction of the slits. The center to center distance between successive web portions 52 in the same column is the vertical repeat web distance Web repeat distance (WRD). The repeating web distance continues through the entire mask. Because of this repeating web pattern and it is desirable to align the screen's edge with the slightly curved top and bottom edges of the panel 22 and mask 42, the designated border line usually not only opens the opening columns at the opening position point, Occasionally, the web is cut or cut close to, resulting in an insufficient opening pattern to perform a complete etch. These patterned but unetched openings are indicated by dotted lines 54 and 56 in FIG. Since the mask is used as a photo master to form the screen, the desired edge line passes through or near a web portion, thereby forming a screen with irregular top and bottom edges. An example of this irregular rim is shown in FIG. 3, and the phosphor line 58 having one set of three lines shows that the adjacent openings are not etched because the partial openings 56 (shown in dashed lines) are not etched. Ending at a lower point than 60).

본 발명에 따라 규칙적이고 원활한 상하단 스크리인 테두리를 가지는 관의 일부분을 제 4 도에 도시하였다. 마스크(62)는, 몇몇 칼럼의 개구 패턴의 상·하단 주변부를 수정하여 놓음에 따라 모든 개구 칼럼들의 전 너비에 걸쳐서 요망한 테두리 라인과 접하는 슬리트형 개구들을 확실히 가진다는 점을 제외하곤, 마스크의 대부분에 걸쳐 제 3 도의 마스크(42)와 동일한 슬리트형 개구를 지니게 된다. 마스크(62)는 칼럼(66)에 정열된 다수의 슬리트형 개구(64)를 포함하는데, 각 칼럼의 개구(64)는 웨브(68)에 의해 분리되고 있다. 마스크(62)의 주요 중심부 위에서 웨브(68) 사이의 중심 대 중심 간격은 반복 웨브 거리 WRD이다. 이 실시예에서, 요망한 테두리 라인으로부터 1/2 웨브 반복 거리 내에 일어날 수 있는 중심을 지닌 모든 웨브는 빼버렷다. 실제적으로 스크리인을 광노출시키는데 사용되어지는 포오토마스터를 형성하고 개구 패턴을 구성시키는 동안, 테두리 내의 1/2 WRD 또는 개구 패턴이 테두리를 넘어 계속되는 경우 테두리 밖의 1/2 WRD를 일으킬 수 있는 중심을 가지는 어떤 웨브들은 생략하였다. 테두리 패턴들이 약간 시프트될 수 있기 때문에 테두리 밖의 웨브 패턴들은 생략시킴에 따라, 칼럼들과의 경계 테두리 라인의 교차에 영향을 가져오고 또한 슬리트 형상의 . 구들의 단부에 테이퍼를 내는 것이 스크리인의 테두리 라인 윤곽에 영향을 주지 않게 한다. 개구 패턴 테두리 근처로부터 웨브들을 제거시킴으로서 모든 칼럼들의 단부개구들은 전 너비에 널쳐 상하의 요막한 테두리 라인들로 확실히 연정될 것이다. 개구 칼럼들은 매끄럽게 윤곽지워진 라인을 따라 끝을 이루기 때문에, 결과적인 스크리인(70)도 마찬가지로 제 4 도에 도시한 바와 같이 그 상하 테두리가 매끄럽게 될 것이다.A portion of a tube having a regular and smooth top and bottom screen edges in accordance with the present invention is shown in FIG. The mask 62, except that the mask 62 has slit-shaped openings that abut the desired border line over the entire width of all the opening columns as the upper and lower peripheral portions of the opening patterns of some columns are modified. Over most of it will have the same slit-like opening as the mask 42 of FIG. The mask 62 includes a plurality of slit-shaped openings 64 arranged in columns 66, with the openings 64 in each column being separated by a web 68. The center to center spacing between the webs 68 above the main center of the mask 62 is the repeating web distance WRD. In this embodiment, all webs with a center that can occur within a 1/2 web repeat distance from the desired rim line are missing. While forming the automaster and constructing the aperture pattern, which is used to actually expose the screen, the half-WRD in the border or the center that can cause the 1/2 WRD outside the border if the opening pattern continues beyond the border. Some webs with s are omitted. Since the web patterns outside the border are omitted because the border patterns can be shifted slightly, it affects the intersection of the border border line with the columns and also the slits. Taping the ends of the spheres does not affect the rim line contour of the screen. By removing the webs from near the opening pattern border, the end openings of all the columns will span the full width and reliably align with the top and bottom rugged border lines. Since the opening columns end along a smoothly contoured line, the resulting screen-in 70 will likewise have its top and bottom edges smooth as shown in FIG.

반복 웨브 거리는 여기에서 일정한 것으로 설명하였지만, 반복 웨브 거리가 특정 목적에 부합되도록 마스크 전반에 걸쳐 약간 변화될 수 있는 실시예도 본 발명의 영역에 초함된다고 이해해야 한다. 더우기 본 발명은 수직 연장되는 개구 칼럼들을 지닌 관에 관하여 설명하였지만, 본 발명은 수평 연장되는 슬리트형 개구 칼럼들을 지닌 관에도 응용할 수 있다.Although the repetitive web distance has been described herein as being constant, it should be understood that embodiments in which the repetitive web distance may be slightly changed throughout the mask to suit a particular purpose are included in the scope of the present invention. Furthermore, while the present invention has been described with respect to tubes with vertically extending opening columns, the present invention is also applicable to tubes with slitting opening columns extending horizontally.

샤도우 마스크는 보통 마스크의 전자총쪽에 대한 개구의 오픈닝(opening)보다 마스크의 스크리인 쪽에 대한 개구의 오픈닝이 보다 크게 구조되어 있다. 이러한 개구들은 먼저 감광성 코우팅재에 비에칭 마스크 물질의 박판을 코우팅시킨 후 이 코우팅을 관련된 포오로 마스터를 통해 박판의 반대편으로부터 광노출시키므로써 형성된다. 그후, 이 코우팅을 현상하고 박판을 에칭시키면 개구들을 형성하게 된다. 제5도, 제6도는 어떤 샤도우 마스크의 대향면들을 노츨시키기 위하여 각기 사용되는 샤도우 마스크 포오트 마스터(84)(86)의 개구 패턴(80) (82)을 나타낸다. 제 5 도의 패턴(80)은 마스크의 전자총쪽에 설정된 개구의 오픈닝을 나타내고, 제 6 도의 패턴(82)은 마스크의 스크리인쪽에 설정할 개구의 오픈닝을 나타낸다. 각각의 도면에서, 개구 어레이의 테두리는 라인(88)으로 도시되어 있다. 전자총쪽의 패턴(80)에서, 테두리 라인(88)에서의 패턴 단부의 엘리먼트들(스크리인쪽 패턴(82)에서는 그 패턴 단부의 엔리들)이 테두리 라인(88)을 넘어 연장된다. 마스크의 1면에 있는 패턴배열를 의도한 개구영역을 넘어 연장시키는 목적은 마스크를 반구형의 형상으로 성형하는 동안 일어나는 응력을 경감시키기 위하여 마스크 내에 폐쇄(blind) 요면을 형상하려는 것이다. 개구 어레이 밖의 주변 영역을 약화시키므로써, 마스크 웨브들에 대한 응력은 다소 경감되어지고 마스크를 성형하는 동안 웨브 균열의 기회가 줄어든다.In the shadow mask, the opening of the opening to the screen-in side of the mask is larger than that of the opening to the electron gun side of the mask. These openings are formed by first coating a thin sheet of non-etched mask material onto the photosensitive coating material and then exposing the coating from the opposite side of the thin sheet through the associated poro master. This coating is then developed and the thin plate etched to form openings. 5 and 6 show opening patterns 80 and 82 of shadow mask pot masters 84 and 86, respectively, used to expose opposite surfaces of certain shadow masks. The pattern 80 in FIG. 5 shows the opening of the opening set in the electron gun side of the mask, and the pattern 82 in FIG. 6 shows the opening of the opening to be set in the screen-in side of the mask. In each figure, the border of the opening array is shown by line 88. In the pattern 80 on the electron gun side, the elements at the end of the pattern in the edge line 88 (entries at the end of the pattern in the screen-in pattern 82) extend beyond the edge line 88. The purpose of extending the pattern arrangement on one side of the mask beyond the intended opening area is to form a blind recess in the mask to relieve the stresses that occur while forming the mask into a hemispherical shape. By weakening the peripheral area outside the aperture array, the stress on the mask webs is somewhat relieved and the chance of web cracking during shaping the mask is reduced.

제 5 도 및 제 6 도에서, 테두리 라인(88) 내의 점선(90)은 1/ 2 반복 웨브 거리의 간격을 나타낸다. 도시되어 있듯이, 점선(90) 및 테두리 라인(88)사이에 아무런 웨브 중심점이 위치되어져 있지않아, 개구어레이의 주변부에 주위에 월활한 윤곽이 제공 되어진다. 설정된 반복 웨브 거리를 가지는 종래 기술에서 웨브가 존재할 수 있는 위치는 "A"로서 가리커져 있다. 그러나, 실험에 따르면 이 주변 영역에서 몇몇 웨브의 제거로 문제점이 생긴다는 것이 발경되었다. 예를 들어, 웨브의 제거로 단부의 개구가 너무 길어질 질때마스크를 반구형의 윤곽을 지니게 성형시키는 동안 개구의 과잉 왜곡이 생겼었다. 따라서, 이 변형을 보정하기 위하여, 1/ 2 반복 웨브 거리 바로 밖의 패턴에 부가적인 웨브가 가해져야 한다. 이러한 부가적인 웨브는 도면에 "B"로 레벨이 붙어 있다. 일반적으로, 웨브의 중심점이 테두리 라인(88)에서 반복 웨브거리의 1.1 내지 1.5 사이에 있지 않을 때, 어떤 웨브가 부가되어야 한다. 제5도 제6도의 실시예에서 1.1 및 1.5의 한계는 각기 라인(92) 및 (94)로 지정되어져 있다. 부가적인 웨브 "B"는 길어진 슬리트형 개구들의 중심에 가해져 있다. 부가된 웨브 "B"의 수직 치수는 정상적인 웨브의 수직 치수의 거의 반이다.5 and 6, the dashed line 90 in the rim line 88 represents the spacing of 1/2 repeat web distance. As shown, no web center point is located between the dashed line 90 and the rim line 88, providing a smooth outline around the periphery of the aperture array. In the prior art with a set repeating web distance, the position at which the web can exist is indicated as "A". However, experiments have shown that the removal of some webs in this periphery creates problems. For example, when the removal of the web made the opening at the end too long, there was excessive distortion of the opening while shaping the mask to have a hemispherical contour. Therefore, in order to compensate for this deformation, additional webs must be applied to the pattern just outside the 1/2 repeat web distance. These additional webs are labeled "B" in the figure. In general, when a center point of the web is not between 1.1 and 1.5 of the repeating web distance in the rim line 88, some web must be added. 5 and 6, the limits of 1.1 and 1.5 are designated by lines 92 and 94, respectively. An additional web “B” is applied to the center of the elongated slatted openings. The vertical dimension of the added web “B” is approximately half of the vertical dimension of a normal web.

제 6 도에 도시하였듯이, 마스크(86)의 스크리인쪽 위에 있는 연장된 패턴에서, 후술할 코오너들을 제외하고는 테두리(88) 내에 사용된 것과 같은 웨브 패턴을 이동시키기 위하여 동일한 기준이 사용되어 진다. 연장되어 있는 패턴화된 웨브들을 이동시키는 것은 부분적인 웨브기 테두리(88)의 부위에 형성되지 않도록 하여 테두리(88)의 부위에 있는 개구의 형상 또는 길이에 영향을 주지 않게하는 데 필요하다. 제 6 도에서, 테두리(88) 외부의 1/ 2 반복 웨브 거리(96) 내에 이동되어져 있는 패턴화된 웨브는 "D"로 지칭되어 있다.As shown in FIG. 6, in the elongated pattern on the screen-in side of the mask 86, the same criteria are used to move the web pattern as used in the rim 88, except for coowners, which will be described later. Lose. Moving the patterned webs that are elongated is necessary so that they do not form at the site of the partial web edge 88 so as not to affect the shape or length of the opening at the site of the edge 88. In FIG. 6, the patterned web that is moved within the 1/2 repeat web distance 96 outside the rim 88 is referred to as "D".

패턴화된 웨브들이 연장된 패턴 부위에서 제거되어지면, 기본적인 과잉약화(overweakening)의 문제가 마스크의 코오너들에 생긴다. 그러므로, 이러한 과잉약화를 보정하기 위하여, 웨브들이 개구 패턴의 테두리(88)에 있는 마스크 코오너들에서 연장 패턴에 부가되어야 한다. 이들 부가 웨브들은 제 6 도에서 "C"로 지칭되어 있다.If the patterned webs are removed at the extended pattern site, a problem of basic overweakening occurs in the nose owners of the mask. Therefore, in order to compensate for this overweaking, webs must be added to the extension pattern at the mask coowners at the edge 88 of the opening pattern. These additional webs are referred to as "C" in FIG.

Claims (1)

음극 발광 라인 스크리인과 이 스크리인에 일정 관계로 설치되어 있는 슬리트형 개구 형성 마스크가 구성되어 있고, 이 마스크의 슬리트들이 병렬이 칼럼을 이루면서 정열되어 있으며, 각 칼럼이 마스크의 웨브 부분들에 의해 분리된 다수의 슬리트들을 내포하고, 마스크의 주요 부분 전반에 걸쳐 칼럼내의 인접 웨이브들간의 중심 대 중심 간격이 웨브 반복 거리로서 정의되며, 인접 칼럼들의 웨브 부분들이 서로에 관해 세로로 엇갈려 있는 음극선관에 있어서, 전술한 칼럼(66)들이 그 칼럼들의 단부 어느쪽으로부터 1/2 반복 웨브 거리(WRD)의 범위 안에 아무런 웨브(68)의 중심들을 포함하지 안흔 점을 특징으로 하는 음극선관.A cathode-emitting line screen and a slit-type opening forming mask provided in a constant relation to the screen are configured, and the slits of the mask are arranged in a column in parallel, and each column is connected to the web portions of the mask. A cathode containing multiple slits separated by, the center-to-center spacing between adjacent waves in the column throughout the main portion of the mask, defined as the web repeat distance, with the web portions of adjacent columns vertically staggered with respect to each other The tube according to claim 1, characterized in that the aforementioned columns (66) contain no centers of any web (68) within the range of 1/2 repeat web distance (WRD) from either end of the columns.
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