KR790001542B1 - Process for preparing 2,3-low alkylene penam-3-carbox-vlic acid derivatives - Google Patents

Process for preparing 2,3-low alkylene penam-3-carbox-vlic acid derivatives Download PDF

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KR790001542B1
KR790001542B1 KR7802465A KR780002465A KR790001542B1 KR 790001542 B1 KR790001542 B1 KR 790001542B1 KR 7802465 A KR7802465 A KR 7802465A KR 780002465 A KR780002465 A KR 780002465A KR 790001542 B1 KR790001542 B1 KR 790001542B1
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acid
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amino
substituted
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다까시 가미야
쯔도무 데라지
마사시 하시모또
오사무 나가구찌
데라오 오꾸
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후지사와 유우기찌로오
후지사와 야구힝 고교 가부시기가이샤
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Abstract

The title compds. I (R2 = carboxyl or protected carboxyl, R3 = lower alkyl, R4 = lower alkylene, X = S, SO) were prepd. by removing the protecting group from II (Rla = protected aminoacyl, R2,R3,R4,X = given). II in HCOH was stirred for 1.5hr at room temp. to give I.

Description

2, 3-저급알킬렌 펜암-3-카르복실산 유도체의 제조방법Method for preparing 2, 3-lower alkylene phenam-3-carboxylic acid derivative

본 발명은 2, 3-저급알킬렌 펜암-3-카르복실산 유도체에 관한 것이다. 특별히 항균작용이 있고, 중간체로 유용하며 약학적인 제제가 되는 신규한 2, 3-저급알킬렌 펜암-3-카르복실산 유도체에 관한 것이다.The present invention relates to 2, 3-lower alkylene phenam-3-carboxylic acid derivatives. It relates to novel 2,3-lower alkylene phenam-3-carboxylic acid derivatives which are particularly antimicrobial, useful as intermediates, and become pharmaceutical preparations.

본 발명의 다른 목적의 하나는 포도상균이나 간균과 같은 그림양성에 유효한 향균제인 2, 3-저급알킬렌 펜암-3-카르복실산 유도체와 항균제인 3-세팜-4-카르복실산 유도체의 중간물질을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is an intermediate between 2,3-lower alkylene phenam-3-carboxylic acid derivatives, which are effective antibacterial agents for the improvement of pictures such as staphylococci and bacilli, and 3-cepam-4-carboxylic acid derivatives, which are antibacterial agents. To provide a substance.

2, 3-저급알킬렌 펜암-3-카르복실산 유도체는 다음 구조식(Ⅰ)과 같이 종래의 기술로써 예측할 수 없었던 새롭고 유용한 화학적인 구조를 가진 새로운 화합물이다.The 2,3-loweralkylene phenam-3-carboxylic acid derivatives are new compounds with new and useful chemical structures that were not predictable by conventional techniques, such as the following structural formula (I).

Figure kpo00001
Figure kpo00001

상기식에서,In the above formula,

R1은 아미노, 치환아미노이고,R 1 is amino, substituted amino,

R2는 카르복시, 보호 카르복시이고,R 2 is carboxy, protective carboxy,

R3는 저급알킬이며,R 3 is lower alkyl,

R4는 저급 알킬렌이고,R 4 is lower alkylene,

X는 -S-,

Figure kpo00002
이다.X is -S-,
Figure kpo00002
to be.

본 발명에 의하여 2, 3-저급알킬렌 펜암-3-카르복실산 유도체는 여러방법에 의하여 제조되는데, 다음의 방정식과 같이 제조방법(Ⅱ)-(Ⅰ)로 되는 기본제법을 총괄적으로 예시하였다.According to the present invention, the 2,3-lower alkylene phenam-3-carboxylic acid derivatives are prepared by various methods, and the general formulas of the preparation methods (II)-(I) are collectively illustrated as follows. .

Figure kpo00003
Figure kpo00003

Figure kpo00004
Figure kpo00004

Figure kpo00005
Figure kpo00005

상기식에서,In the above formula,

R1은 아미노, 치환아미노이고R 1 is amino, substituted amino

R2는 카르복시, 보호 카르복시이며R 2 is carboxy, protective carboxy

R3는 저급알킬이며R 3 is lower alkyl

R4는 저급알킬렌이고R 4 is lower alkylene

R5와 R6는 각각 아릴, 치환아릴이며R 5 and R 6 are each aryl, substituted aryl

R7는 아실이고R 7 is acyl

X는 -S-,

Figure kpo00006
이며X is -S-,
Figure kpo00006
And

Y는 산의 잔기Y is the residue of the acid

R1a는 보호된 아미노이고R 1a is protected amino

R1b와 R1b'는 각각 아실아미노이며R 1b and R 1b ' are each acylamino

R1c는 보호 아미노기를 가진 아실아미노이고R 1c is acylamino with a protective amino group

R1d는 아미노기를 가진 아실아미노이며R 1d is an acylamino having an amino group

R1e는 보호 하이드록시를 가진 아실아미노이고R 1e is acylamino with a protective hydroxy

R1f는 하이드록시를 가진 아실아미노이며R 1f is acylamino with hydroxy

R2a는 보호 카르복실기이다.R 2a is a protective carboxyl group.

출발물질(Ⅱ)중의 메틸-2-아세톡시메틸-2-메틸-6-(2-테녹시아세트아마이도)펜암-3-카르복실레이트와 벤질-2-아세톡시 메틸-2-메틸-6-(2-페녹시아세트 아미도)펜암-3-카르복실레이트는 미합중국 특허 3, 466, 275에 의하여 제조되고 기타 출발물질은 대응하는 2-옥소-3-아미노(또는 치환 아미노)-4-치환 아미노(또는 치환 티오)-치환 티오-1-아세티딘-α-(1-알킬 비닐)초산이나 카르복시에서의 이들의 유도체와 염화수소와 같은 잔기를 도입할 수 있는 대응하는 축합제와를 반응시킴으로써 제조된다.Methyl-2-acetoxymethyl-2-methyl-6- (2-tenoxyacetamide) phenam-3-carboxylate and benzyl-2-acetoxy methyl-2-methyl-6 in starting material (II) -(2-phenoxyacetamido) phenam-3-carboxylate is prepared according to U.S. Patent 3, 466, 275 and other starting materials are corresponding 2-oxo-3-amino (or substituted amino) -4- Reacts with substituted amino (or substituted thio) -substituted thio-1-acetidine-α- (1-alkyl vinyl) acetates or their derivatives in carboxy and corresponding condensing agents which may introduce residues such as hydrogen chloride It is prepared by making.

본원 명세서에서 R1에서의 "치환 아미노"란 하이드라지노, 모노(디)-(저급)알킬아미노, 모노(디)-(저급)알케닐아미노, 저급알킬이덴아미노, 알(저급)알킬이덴아미노, 1-치환 또는 비치환 아릴아미노-1-아실티오메틸아미노, 아실아미노, 아실기들 보다고 다른 아미노보호기에 의하여 치환된 아미노 그룹과 같은 적당히 치환된 아미노기를 의미한다.As used herein, “substituted amino” in R 1 refers to hydrazino, mono (di)-(lower) alkylamino, mono (di)-(lower) alkenylamino, loweralkylideneamino, al (lower) alkyl By edenamino, 1-substituted or unsubstituted arylamino-1-acylthiomethylamino, acylamino, acyl groups rather than appropriately substituted amino groups such as amino groups substituted by other aminoprotecting groups.

상술한 적당히 치환된 아미노기에 있어서 모노(디) 저급알킬아미노중 적당한 저급알킬기는 메틸, 에틸, 푸로필, 이소푸로필, 부틸 등을 의미하고 모노(디) 저급알케닐아민중 적당한 저급알케닐기는 아릴, 2-부테닐 등을 의미하고, 알킬이덴아미노중 적당한 알킬이덴은 에틸이덴, 푸로필이덴, 부틸이덴 등을 말하며, 알(저급)알킬이덴중 적당한 알(저급)알킬이덴은 벤질이덴, 펜에틸이덴 등을 의미하고, 아실아미노 그룹중 적당한 아실기는 카르바모일, 지방족아실그룹 및 방향족이나 복소환식을 함유한 아실기를 의미하며, 다음에 상세히 예를들어 설명하겠다.Suitable lower alkyl groups in the mono (di) lower alkylamino in the above-mentioned appropriately substituted amino group mean methyl, ethyl, propofyl, isofurophyll, butyl and the like, and suitable lower alkenyl groups in the mono (di) lower alkenylamine Aryl, 2-butenyl, and the like, and suitable alkylidene in alkylideneamino refers to ethylidene, furophylidene, butylidene and the like, and suitable egg (lower) in al (lower) alkylidene. Alkylidene means benzylidene, phenethylidene and the like, and the appropriate acyl group among acylamino groups means carbamoyl, aliphatic acyl groups and acyl groups containing aromatic or heterocyclic groups. I will explain.

즉 적당한 지방족 아실그룹은 예를들면 저급알카노일(포르밀, 아세틸, 푸로피오닐, 부티릴, 이소부티릴, 발레릴, 이소발레릴, 옥사릴, 석시닐, 비바로일 등), 고급 알카노일(옥타노일, 라우로일, 팔미토일 등), 저급알케노일(아크릴로일, 크로토노일 등), 저급알키노일(푸로피노일 등), 저급이나 고급 시클로알켄카르보닐(시클로펜텐 카르보닐, 시클로헥산 카르보닐, 시클로햅텐카르보닐 등), 저급이나 고급 시클로알킬(저급) 알카노일(시클로펜틸 아세틸, 시클로헥실아세틸, 시클로헵틸아세틸, 시클로헥실푸로피오닐, 시클로헵틸푸로피오닐 등), 저급이나 고급 시클로알카디엔 카르보닐(디하이드로벤조일 등), 저급이나 고급 시클로알카디에닐(저급) 알카노일(디하이드로페닐아세틸, 디하이드로페닐푸로피오닐 등)등의 저급이나 고급 지방족 아실기, 그리고 예를들면 저급알콕시(저급) 알카노일(메톡시아세틸, 에톡시아세틸, 메톡시 푸로피오닐 등), 저급 알킬티오(저급) 알카노일(메틸티오아세틸, 에틸티오 아세틸, 메틸티오푸로피오닐 등), 저급 알케닐티오(저급) 알카노일(아릴티오아세틸, 아릴티오 푸로피오닐 등), 저급이나 고급 시클로알킬티오(저급) 알카노일(시클로펜틸티오 아세틸, 시클로헥실티오 푸로피오닐, 시클로헵틸티오 아세틸 등), 저급이나 고급 시클로알콕시(저급) 알카노인(시클로펜틸옥시아세틸, 시클로헥실옥실푸로피오닐 등), 저급이나 고급 시클로알켄디에닐옥시(저급) 알카노일(디하이드로펜옥시아세틸, 디히드로페녹시푸로피오닐 등), 저급이나 고급 시클로알켄디에닐 티오(저급) 알카노일(디히드로페닐 티오아세틸, 디히드로페닐티오 푸로피오닐 등), 저급 알콕시카르보닐(메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, 푸로폭시 카르보닐, 1-시클로푸로필-에톡시카르보닐, 이소푸로폭시카르보닐, 부톡시카르보닐, 제3부톡시카르보닐 등), 저급이나 고급 시클로알킬옥시 카르보닐(시클로펜틸옥시카르보닐, 시클로톡실옥실 카르보닐, 시클로헵틸 옥실카르보닐 등), 저급이나 고급 시클로알켄디에닐옥시 카르보닐(디히드로펜톡시카르보닐 등)등과 같이 측쇄나 환식환을 함유한 포화되었거나 불포화된 저급이나 고급 알카노일기를 포함한다.Suitable aliphatic acyl groups are, for example, lower alkanoyls (formyl, acetyl, furopionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, oxaryl, succinyl, vivaroyl, etc.) Noil (octanoyl, lauroyl, palmitoyl, etc.), lower alkenoyl (acryloyl, crotonoyl, etc.), lower alkinoyl (such as propinoyl), lower or higher cycloalkencarbonyl (cyclopentene carbon) Carbonyl, cyclohexane carbonyl, cyclohaptencarbonyl, etc.), lower and higher cycloalkyl (lower) alkanoyls (cyclopentyl acetyl, cyclohexylacetyl, cycloheptylacetyl, cyclohexyl furopionyl, cycloheptyl furopionyl, etc.) Lower and higher aliphatic acyl groups such as lower and higher cycloalkadiene carbonyl (such as dihydrobenzoyl) and lower and higher cycloalkadieenyl (lower) alkanoyls (such as dihydrophenylacetyl and dihydrophenylfuropionyl). , And Higher alkoxy (lower) alkanoyl (methoxyacetyl, ethoxyacetyl, methoxy furopionyl, etc.), lower alkylthio (lower) alkanoyl (methylthioacetyl, ethylthio acetyl, methylthiofulopionyl); Etc.), lower alkenylthio (lower) alkanoyl (such as arylthioacetyl, arylthio furopionyl), lower or higher cycloalkylthio (lower) alkanoyl (cyclopentylthio acetyl, cyclohexylthio furopionyl, cyclo) Heptylthio acetyl, etc.), lower and higher cycloalkoxy (lower) alkanoin (cyclopentyloxyacetyl, cyclohexyloxylfulopionyl, etc.), lower and higher cycloalkenedenyloxy (lower) alkanoyl (dihydrophenoxy Acetyl, dihydrophenoxyfulopionyl, etc.), lower and higher cycloalkenedenyl thio (lower) alkanoyls (dihydrophenyl thioacetyl, dihydrophenylthio furiononyl, etc.), lower alkoxycarbonyl (methok Carbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, 1-cyclofurophyll-ethoxycarbonyl, isopuroxycarbonyl, butoxycarbonyl, tertbutoxycarbonyl, etc.), lower and higher cycloalkyloxy Side chains and cyclic rings such as carbonyl (cyclopentyloxycarbonyl, cyclooxyxyloxyl carbonyl, cycloheptyl oxylcarbonyl, etc.), lower and higher cycloalkenedenyloxy carbonyl (dihydropentoxycarbonyl, etc.) Containing saturated or unsaturated lower or higher alkanoyl groups.

벤젠 및 나푸탈렌 등과 같은 방향족환을 함유한 적당한 아실기는 예를들면 아릴카르바모일(페닐 카르바모일 등), 아릴오일(벤조일, 톨루오일, 나푸토일, α-메틸나푸토일, 푸타로일, 벤젠설포닐, 테트라하이드로나푸토일, 인단카르보닐 등), 알(저급) 알카노일(페닐아세틸, 페닐푸로피오닐, 페닐부티릴, 톨릴아세틸, 키실릴아세틸, 나푸틸아세텔, 테트라하이드로나 푸틸아세틸, 인단닐아세틸 등) 등을 포함하고, 그리고 상술한 알(저급)알카노일 그룹중의 알킬기의 탄소원자는 알릴옥시(저급) 알카노일(페녹시아세틸, 테녹시푸로피오닐, 페녹시부티릴, 키실린옥시아세틸등), 아릴옥시카르보닐(페녹시카르보닐, 키실옥시카르보닐, 나푸틸옥시카르보닐, 인단닐옥시카르보닐 등), 알(저급)알콕시카르보닐(벤질옥시카르보닐, 펜에틸옥시카르보닐등), 아릴티오(저급)알카노일(페닐티오아세틸, 페닐티오푸로피오닐등), 아릴글라이옥시로일(패닐글라이옥시로일등)등과 같이 산소나 유황원자나 또는 카르보닐로 대치시켜도 된다.Suitable acyl groups containing aromatic rings, such as benzene and naphthalene, are for example arylcarbamoyl (such as phenyl carbamoyl), aryl oils (benzoyl, toluoyl, nafutoyl, α-methylnafutoyl, putaroyl, Benzenesulfonyl, tetrahydronafutoyl, indancarbonyl, etc.), al (lower) alkanoyl (phenylacetyl, phenylfulopionyl, phenylbutyryl, tolylacetyl, xylylacetyl, naphthylacetel, tetrahydronaphthyl Acetyl, indanylacetyl, etc.), and carbon atoms of the alkyl group in the above-mentioned al (lower) alkanoyl group include allyloxy (lower) alkanoyl (phenoxyacetyl, tenoxyfulopionyl, phenoxybutyryl) , Xyloxyoxyacetyl, etc.), aryloxycarbonyl (phenoxycarbonyl, xyloxycarbonyl, naphthyloxycarbonyl, indanyloxycarbonyl, etc.), al (lower) alkoxycarbonyl (benzyloxycarbonyl , Phenethyloxycarbonyl, etc.), arylthio You may replace with lower oxygen, a sulfur atom, or carbonyl like (lower) alkanoyl (phenylthioacetyl, phenylthio furiononyl, etc.), arylglyoxyloyl (panylglyoxyloyl, etc.).

복소환식환을 함유한 적당한 아실기는 복소환식 카르보닐이나 복소환식 저급알카노일을 포함하고, 그리고 복소환식 카르보닐이나 복소환식 저급 알카노일에 있어서 복소환식환은 포화되었거나 불포화된 단환식이나 다환식을 말하고, 산소, 유황이나 질소원자등과 같은 적어도 하나의 복소원자를 포함한 것을 말하며 예를 들면 다음과 같다. 즉 유황원자를 함유한 불포화 3-8 위복소환식(티에닐등), 유황원자를 함유한 불포화 축합복소환식(벤조티에닐등), 산소원자를 함유한 불포화 3-8 위복소환식(후릴, 2(4) 피라닐, 5, 6-디하이드로-2H-피란-3-일등), 1-4개질 소원자를 함유한 불포화 3-8 위복소환식 (피롤릴,2(3)H-피롤릴, 2(3)-피롤리닐, 이미다졸릴, 피라졸릴, 피리딜, 피리미딜, 피라지닐, 피리다지닐, 1H-테트라졸릴, 2H-테트라졸릴등 ), 1-2개의 질소원자를 함유한 포화 3-8 위복소환식 (피롤리디닐, 이미다졸리디닐, 피페리디노, 피페리디닐등), 1-3개의 질소원자를 함유한 불포화 축합 복소환식(인돌릴, 이소인돌릴, 벤지이미다졸릴, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 1(2)H-인다졸릴, 1(2)H-벤조트리아졸릴등), 1-3개의 질소원자와 산소원자를 함유한 불포화 3-8 위복소환식(옥사졸릴, 이소옥사졸릴, 옥사디아졸릴등), 1-2개의 산소원자와 1-2개의 질소원자를 함유한 불포화 3-8 위복소환식(시드노일등), 유황과 1-3개의 질소원자를 함유한 불포화 3-8 위복소환식(티아졸릴, 티아디아졸릴등), 산소원자와 1-2개의 질소원자와를 함유한 불포화 축합 복소환식(벤족사졸릴, 벤족사디아졸릴등), 유황원자와 1-2개의 질소원자를 함유한 불포화 축합 복소환식(벤조티아졸릴, 벤조티아디아졸릴등)을 말하고, 그리고 상술한 바와같이 복소환식 저급 알카노일중의 저급 알킬기의 탄소원자는 복소환식 저급알콕시카르보닐, 복소환식옥시카르보닐, 복소환식옥시(저급)알카노일 및 복소환식-티오-(저급)알카노일과 같은 산소원자나 유황원자로 대치해도 좋다.Suitable acyl groups containing a heterocyclic ring include heterocyclic carbonyl or heterocyclic lower alkanoyl, and for heterocyclic carbonyl or heterocyclic lower alkanoyl, the heterocyclic ring refers to a saturated or unsaturated monocyclic or polycyclic ring; , Containing at least one heteroatom such as oxygen, sulfur or nitrogen atoms, for example: That is, unsaturated 3-8 gasocyclic ring containing sulfur atom (thienyl etc.), unsaturated condensation heterocyclic ring containing sulfur atom (benzothienyl etc.), unsaturated 3-8 gasocyclic heterocyclic ring containing oxygen atom (Furyl, 2 (4) pyranyl, 5, 6-dihydro-2H-pyran-3-yl, etc.), unsaturated 3-8 stomach heterocyclic containing 1-4 modifying atom (pyrrolyl, 2 (3) H-pyrrolyl , 2 (3) -pyrrolinyl, imidazolyl, pyrazolyl, pyridyl, pyrimidyl, pyrazinyl, pyridazinyl, 1H-tetrazolyl, 2H-tetrazolyl, etc.), containing 1-2 nitrogen atoms One saturated 3-8 gasocyclic ring (pyrrolidinyl, imidazolidinyl, piperidino, piperidinyl, etc.), unsaturated condensed heterocyclic ring containing 1-3 nitrogen atoms (indolyl, isoindoleyl, benzyl) Imidazolyl, quinolyl, isoquinolyl, 1 (2) H-indazolyl, 1 (2) H-benzotriazolyl, etc.), unsaturated 3-8 stomach heterocycle containing 1-3 nitrogen and oxygen atoms Formulas (oxazolyl, isoxoxazolyl, oxadiazolyl, etc.), 1-2 Unsaturated 3-8 gasocyclic ring containing oxygen atoms and 1-2 nitrogen atoms (such as sidnoyl), unsaturated 3-8 gasocyclic ring containing sulfur and 1-3 nitrogen atoms (thiazolyl, thiadia) Jolyl, etc.), unsaturated condensed heterocyclic ring containing oxygen and 1-2 nitrogen atoms (benzoxazolyl, benzoxadiazolyl, etc.), unsaturated condensed heterocyclic ring containing sulfur and 1-2 nitrogen atoms ( Benzothiazolyl, benzothiadiazolyl, etc.), and as described above, the carbon atom of the lower alkyl group in the heterocyclic lower alkanoyl is heterocyclic lower alkoxycarbonyl, heterocyclic oxycarbonyl, heterocyclic oxy (lower) alkanoyl And oxygen atoms such as heterocyclic-thio- (lower) alkanoyl or sulfur atoms.

더우기 카르바모일, 상술한 바와같이 지방족 아실 및 방향족이나 복소환식환을 함유한 아실기는 저급알킬(메틸, 에틸, 푸로필, 이소푸로필등), 저급 알케닐(1-푸로페닐, 알릴등), 저급이나 고급 환식알킬(환식푸로필, 환식펜틸, 환식헥실, 환식헵틸등), 저급알콕시(메톡시, 에톡시, 푸로폭시, 이소푸로폭시등), 저급 알킬티오(메틸티오, 에틸티오등), 아릴(페닐, 키시릴, 톨릴, 인단닐등), 알(저급)알킬(벤질, 펜에틸등), 할로겐(염소, 브롬, 불소등), 할로페닐(클로로페닐, 브로모페닐등), 할로페녹시(클로로녹시, 브로모페녹시등), 시아노, 저급 알킬설피닐(메틸설피닐, 에틸설피닐등), 저급 알켄설포닐(메탄설포닐, 에탄설포닐등), 저급 알콕시카르보닐(저급)알콕시(메톡시카르보닐메톡시, 에톡시카르보닐에톡시, 1-환식푸로필에톡시 카르보닐메톡시, 제 3 부톡시카르보닐메톡시등), 니트로, 설포, 아미노(아지도, 멜캅토, 카르복시, 하이드록시, 하이드록시아미노, 모노(디)알킬아미노(모노(디)메틸아미노, 모노(디)에틸아미노, 모노(디)푸로필아미노, 모노(디)이소푸로필아미노등)와 같은 1-10개의 적당한 치환체를 가진다.Furthermore, carbamoyl, aliphatic acyl as described above, and acyl groups containing aromatic or heterocyclic rings, lower alkyl (methyl, ethyl, furophyll, isofurophyll, etc.), lower alkenyl (1-furophenyl, allyl, etc.) Lower and higher cyclic alkyl (cyclic fluoropropyl, cyclic pentyl, cyclic hexyl, cyclic heptyl, etc.), lower alkoxy (methoxy, ethoxy, furoxy, isopuroxy, etc.), lower alkyl thio (methylthio, ethylthio, etc.) ), Aryl (phenyl, cysyl, tolyl, indanyl, etc.), al (lower) alkyl (benzyl, phenethyl, etc.), halogen (chlorine, bromine, fluorine, etc.), halophenyl (chlorophenyl, bromophenyl, etc.) , Halophenoxy (chlorooxy, bromophenoxy, etc.), cyano, lower alkylsulfinyl (methylsulfinyl, ethylsulfinyl, etc.), lower alkensulfonyl (methanesulfonyl, ethanesulfonyl, etc.), lower Alkoxycarbonyl (lower) alkoxy (methoxycarbonylmethoxy, ethoxycarbonylethoxy, 1-cyclic furopropylethoxy carbonylmethoxy, tert-butoxide Cycarbonylmethoxy, etc.), nitro, sulfo, amino (azido, melcapto, carboxy, hydroxy, hydroxyamino, mono (di) alkylamino (mono (di) methylamino, mono (di) ethylamino, mono (Di) furophyllamino, mono (di) isofurophylamino, etc.).

상술한 바와같이 아실그룹은 아미노, 하이드록시멜캅토, 카르복시등과 같이 관능기를 가질때는 그 관능기가 적당한 보호기로 보호되어질 수 있다. 아미노기에 대한 적당한 보호기에 트리틸, 2-니트로페닐티오, 2, 4-디니트로페닐티오, 2-하이드록시벤질이덴, 2-하이드록시, 5-클로로벤질이덴, 2-하이드록시-1-나푸틸메틸렌, 3-하이드록시-4-피리딜메틸렌, 1-메톡시카르보닐-2-푸로필리덴, 1-에톡시카르보닐-2-푸로필리덴, 3-에톡시카르보닐-2-부티리덴, 1-아세틸-2-푸로필리덴, 1-벤조일-2-푸로피리덴, 1-벤조일-2-푸로필리덴, 1-[N-(2-메톡시페닐)카르바모일]-2-푸로필리덴, 1-[N-(4-메톡시페닐)카르바모일]-2-푸로필리덴, 2-에톡시카르보닐시클로헥실리덴, 2-에톡시카르보닐시클로펜틸리덴, 2-아세틸시클로헥실리덴, 3, 3-디메틸-5-옥소-시클로헥실리덴(이들중 1-메톡시카르보닐-2-푸로필리덴과 2-에톡시카르보닐 시클로헥실리덴기는 1-메톡시카르보닐-1-푸로판-2-일과 2-에톡시카르보닐-1-시클로헥세닐기와를 서로 대체시켜도 좋다). 모노디시릴등과 같은 아실기보다 그외의 아실기 또는 다른 기와 같이 통상적인 보호기의 어느 하나를 포함한다.As described above, when the acyl group has a functional group such as amino, hydroxymelcapto, carboxy, or the like, the functional group may be protected with an appropriate protecting group. Suitable protecting groups for amino groups are trityl, 2-nitrophenylthio, 2, 4-dinitrophenylthio, 2-hydroxybenzylidene, 2-hydroxy, 5-chlorobenzylidene, 2-hydroxy-1 Naphthylmethylene, 3-hydroxy-4-pyridylmethylene, 1-methoxycarbonyl-2-furopylidene, 1-ethoxycarbonyl-2-furopylidene, 3-ethoxycarbonyl-2 -Butylidene, 1-acetyl-2-furopylidene, 1-benzoyl-2-furopyridene, 1-benzoyl-2-furopylidene, 1- [N- (2-methoxyphenyl) carbamoyl] 2-furopilidene, 1- [N- (4-methoxyphenyl) carbamoyl] -2-furophilidene, 2-ethoxycarbonylcyclohexylidene, 2-ethoxycarbonylcyclopentyli Den, 2-acetylcyclohexylidene, 3, 3-dimethyl-5-oxo-cyclohexylidene, of which 1-methoxycarbonyl-2-furopylidene and 2-ethoxycarbonyl cyclohexylidene Groups replace 1-methoxycarbonyl-1-furopan-2-yl and 2-ethoxycarbonyl-1-cyclohexenyl groups with one another Turning good). It includes any of the conventional protecting groups such as other acyl groups or other groups than acyl groups such as monodisyryl and the like.

하이드록시나 멜캅토기에 대한 적당한 보호기는 예를들면 벤질, 트리틸, 메톡시메틸, 2-니트로페닐티오, 2, 4-디니트로페닐티오등과 같은 아실기보다 다른기 또는 아실기를 위하여 하이드록시 또는 멜캅토기에 대한 통상의 보호기중 어느 하나를 포함한다. 그리고 카르복실기에 대한 적당한 보호기는 예를들면 저급알킬에스텔(메틸에스텔, 에틸에스텔, 푸로필에스텔, 부틸에스텔, 1-시클로푸로필 에틸에스텔, 제 3 부틸에스텔등), 모노(디, 트리)할로(저급)알킬에스텔(클로로메틸에스텔, 2, 2, 2-트리클로로에틸에스텔, 3, 3-디브로모푸로필에스텔등), 아릴에스텔(페닐에스텔, 니트로페닐에스텔,인다닐에스텔등), 알(저급)알킬에스텔(벤질에스텔, 디페닐메텔에스텔, 트리페닐메틸에스텔, P-니트로벤질에스텔, P-브로모벤질에스텔등), 트리(저급)알킬실릴에스텔(트리메틸실릴에스텔, 트리에틸실릴에스텔 등)등의 보호기의 어느 하나를 포함한다.Suitable protecting groups for hydroxy or melcapto groups are hydroxy for other or acyl groups than acyl groups such as, for example, benzyl, trityl, methoxymethyl, 2-nitrophenylthio, 2, 4-dinitrophenylthio, etc. Or a conventional protecting group for a melcapto group. And suitable protecting groups for carboxyl groups are, for example, lower alkyl esters (methyl ester, ethyl ester, fluoropropyl ester, butyl ester, 1-cyclofurophil ethyl ester, tertiary butyl ester, etc.), mono (di, tri) halo ( Lower) alkyl esters (chloromethyl ester, 2, 2, 2-trichloroethyl ester, 3, 3-dibromo furopropyl ester, etc.), aryl esters (phenyl ester, nitrophenyl ester, indanyl ester, etc.) (Lower) alkyl ester (benzyl ester, diphenyl methyl ester, triphenyl methyl ester, P-nitrobenzyl ester, P-bromobenzyl ester, etc.), tri (lower) alkyl silyl ester (trimethyl silyl ester, triethyl silyl ester) Etc.) and any one of protecting groups.

더우기 "치환아미노"의 위에서 설명된 아실기 보다 다른 보호아미노기에 대하여 상기 아실게에서 아미노기에 대한 보호기에서 설명한 것과 똑같이 설명된다.Furthermore, for protecting amino groups other than the acyl groups described above of "substituted amino", they are described in the same manner as described for the protecting groups for amino groups in the acyl.

특별히 아실기의 적당한 실예를 열거하면 다음과 같다.In particular, suitable examples of acyl groups are as follows.

(1) 저급알콕시카르보닐(메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, 푸로폭시카르보닐, 1-시클로푸로필에톡시카르보닐, 제 3 부톡시카르보닐등)(1) lower alkoxycarbonyl (methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, furoxycarbonyl, 1-cyclofurophylethoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl, etc.)

(2) 저급 알킬티오(저급)알카노일(2-메틸티오아세틸, 2-메틸티오부티릴, 2-에틸티오아세틸, 3-메틸티오푸로피오닐등)(2) lower alkylthio (lower) alkanoyl (2-methylthioacetyl, 2-methylthiobutyryl, 2-ethylthioacetyl, 3-methylthiofulopionyl, etc.)

(3) 저급 알케닐티오(저급)알카노일(2-알릴티오아세틸, 3-아릴티오푸로피오닐등)(3) lower alkenylthio (lower) alkanoyl (2-allylthioacetyl, 3-arylthiofulopionyl, etc.)

(4) 시아노(저급)알카노일(2-시아노아세틸, 3-시아노푸로피오닐, 4-시아노부티릴등)(4) cyano (lower) alkanoyl (2-cyanoacetyl, 3-cyanopropionyl, 4-cyanobutyryl, etc.)

(5) 페닐(저급)알카노일(2-페닐아세틸, 3-페닐푸로피오닐, 4-페닐부티릴등)(5) Phenyl (lower) alkanoyl (2-phenylacetyl, 3-phenylpropionyl, 4-phenylbutyryl, etc.)

(6) 페녹시(저급)알카노일(2-페녹시아세틸, 3-페녹시푸로피오닐, 4-페녹시부틸등)(6) phenoxy (lower) alkanoyl (2-phenoxyacetyl, 3-phenoxyfulopionyl, 4-phenoxybutyl, etc.)

(7) 페닐카르바모일(7) phenylcarbamoyl

(8) 페닐그라이옥시로일(8) phenylglyoxyloyl

(9) 페닐티오카르보닐(9) phenylthiocarbonyl

(10) 페닐 및 아미노로 치환된 저급 알카노일(페닐글라이실, 3-아미노-3-페닐푸로피오닐등)(10) lower alkanoyl substituted with phenyl and amino (phenylglycyl, 3-amino-3-phenylfulopionyl, etc.)

(11) 페닐 및 하이드록시로 치환된 저급 알카노일(2-2하이드록시-2-테닐아세틸, 2-하이드록시-3-페닐푸로피오닐등)(11) lower alkanoyl substituted with phenyl and hydroxy (2-2hydroxy-2-tenylacetyl, 2-hydroxy-3-phenylpropionyl, etc.)

(12) 페닐 및 저급 알콕시카르보닐아미노로 치환된 저급 알카노일(N-메톡시카르보닐페닐글라이실, N-에톡시카르보닐페닐글라이실, N-(1-시클로푸로필에톡시)카르보닐페닐글라이실, N-제 3 부톡시카르보닐페닐글라이실,2-(1-시클로푸로필에톡시)카르보닐아미노-3-페닐푸로피오닐등)(12) lower alkanoyl substituted with phenyl and lower alkoxycarbonylamino (N-methoxycarbonylphenylglysil, N-ethoxycarbonylphenylglysil, N- (1-cyclofurophylethoxy) carbonyl Phenylglycyl, N-tertiary butoxycarbonylphenylglysil, 2- (1-cyclofurophylethoxy) carbonylamino-3-phenylfulopionyl, etc.)

(13) 페닐 및 트리할로(저급)알콕시카르보닐아미노로 치환된 저급 알카노일(N-트리클로로에톡시카르보닐페닐글라이실, 3-트리클로로에톡시카르보닐아미노-3-페닐푸로피오닐, N-트리브로모에톡시카르보닐페닐글라이실등)(13) lower alkanoyl substituted with phenyl and trihalo (lower) alkoxycarbonylamino (N-trichloroethoxycarbonylphenylglycyl, 3-trichloroethoxycarbonylamino-3-phenylfuropionyl , N-tribromoethoxycarbonylphenyl glycyl, etc.)

(14) 페닐 및 저급 알카노일옥시로 치환된 저급 알카노일(2-포르밀옥시-2-페닐아세틸, 2-아세톡시-2-페닐아세틸, 3-푸로피오닐옥시-3-페닐푸로피오닐등)(14) lower alkanoyl substituted with phenyl and lower alkanoyloxy (2-formyloxy-2-phenylacetyl, 2-acetoxy-2-phenylacetyl, 3-propionyloxy-3-phenylfuropionyl Etc)

(15) 페닐 및 세미카르바조노로 치환된 저급 알카노일(2-페닐-2-세미카르바조노아세틸, 2-세미카르바조노-3-페닐푸로피오닐등)(15) lower alkanoyl substituted with phenyl and semicarbazono (2-phenyl-2-semicarbazonoacetyl, 2-semicarbazono-3-phenylfulopionyl, etc.)

(16) 할로페닐티오카르바모일(2-(3 또는 4)-클로로페닐티오카르바모일, 2(3 또는 4)-클로로페닐티오카르바모일, 2-(3 또는 4)-브로모페닐티오카르바모일등)(16) halophenylthiocarbamoyl (2- (3 or 4) -chlorophenylthiocarbamoyl, 2 (3 or 4) -chlorophenylthiocarbamoyl, 2- (3 or 4) -bromophenyl Thiocarbamoyl, etc.)

(17) 푸타로일(17) Putaroyl

(18) 저급 알카노일아미노벤젠설포닐(2-(3 또는 4) 아세트 아미도벤젠설포닐, 2(3 또는 4) 푸로피온아미노벤젠설포닐등)(18) lower alkanoylaminobenzenesulfonyl (2- (3 or 4) acet amidobenzenesulfonyl, 2 (3 or 4) propionylaminobenzenesulfonyl, etc.)

(19) 페닐 및 할로페녹시로 치환된 저급 알카노일(2-페닐-2-[2-(3 또는 4) 클로로페녹시]아세틸, 2-페닐-2[2-(3 또는 4)-브로모페녹시]아세틸등)(19) lower alkanoyl (2-phenyl-2- [2- (3 or 4) chlorophenoxy] acetyl, 2-phenyl-2 [2- (3 or 4) -bro substituted with phenyl and halophenoxy Mophenoxy] acetyl, etc.)

(20) 할로페닐(저급)알카노일(2[2-(3 또는 4)크로로페닐]아세틸, 2-[2-(3 또는 4)크로로페닐]아세틸, 3-[2-(3 또는 4)브로모페닐]푸로피오닐등)(20) halophenyl (lower) alkanoyl (2 [2- (3 or 4) chlorophenyl] acetyl, 2- [2- (3 or 4) chlorophenyl] acetyl, 3- [2- (3 or 4) bromophenyl] propionyl, etc.)

(21) 페닐(저급)알콕시카르보닐(벤질옥시카르보닐, 펜에틸옥시카르보닐등)(21) Phenyl (lower) alkoxycarbonyl (benzyloxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl, etc.)

(22) 하이드록시페닐 및 아미노로 치환된 저급 알카노일(2-아미노-2-[2-(3 또는 4)하이드록시페닐]아세틸, 2-아미노-3-[2-(3 또는 4)하이드록시페닐]푸로피오닐등)(22) lower alkanoyl (2-amino-2- [2- (3 or 4) hydroxyphenyl] acetyl, 2-amino-3- [2- (3 or 4) hydroxy substituted with hydroxyphenyl and amino Oxyphenyl] propionyl)

(23) 하이드록페닐 및 저급 알콕시카르보닐아미노로 치환된 저급 알카노일(2-메톡시카르보닐아미노-2-[2-(3 또는 4)하이드록시페닐]아세틸, 2-(1-시클로푸로필에톡시)카보닐아미노-2-[2-(3 또는 4)하이드록시페닐]아세틸, 2-제 3 부톡시카르보닐아미노-2-[2-(3 또는 4)하이드록시페닐]아세틸등)(23) lower alkanoyl (2-methoxycarbonylamino-2- [2- (3 or 4) hydroxyphenyl] acetyl, 2- (1-cyclofuro) substituted with hydroxylphenyl and lower alkoxycarbonylamino Philethoxy) carbonylamino-2- [2- (3 or 4) hydroxyphenyl] acetyl, 2-tertiary butoxycarbonylamino-2- [2- (3 or 4) hydroxyphenyl] acetyl, etc. )

(24) 페닐 및 설포로 치환된 저급 알카노일(2-페닐-2-설포아세틸, 3-페닐-3-설포푸로피오닐등)(24) lower alkanoyls substituted with phenyl and sulfo (2-phenyl-2-sulfoacetyl, 3-phenyl-3-sulfopurionyl, etc.)

(25) 저급 알콕시페닐 및 아미노로 치환된 저급 알카노일(2-아미노-2-[2-(3 또는 4)-메톡시페닐]아세틸, 2-아미노-3-[2-(3 또는 4)메톡시페닐]아세틸등)(25) lower alkanoyl (2-amino-2- [2- (3 or 4) -methoxyphenyl] acetyl, 2-amino-3- [2- (3 or 4) substituted with lower alkoxyphenyl and amino Methoxyphenyl] acetyl, etc.)

(26) 저급 알콕시페닐 및 저급 알콕시카르보닐아미노로 치환된 저급알카노일(2-메톡시카르보닐아미노-2-[2-(3 또는 4)메톡시페닐]아세틸, 2-(1-시클로푸로필에톡시)카르보닐아미노-2-[2-(3 또는 4)메톡시페닐]아세틸, 2-제 3 부톡시카르보닐아미노-2-[2-(3 또는 4메톡시페닐]아세틸등)(26) lower alkanoyl (2-methoxycarbonylamino-2- [2- (3 or 4) methoxyphenyl] acetyl, 2- (1-cyclofuro) substituted with lower alkoxyphenyl and lower alkoxycarbonylamino Philethoxy) carbonylamino-2- [2- (3 or 4) methoxyphenyl] acetyl, 2-tertiary butoxycarbonylamino-2- [2- (3 or 4methoxyphenyl] acetyl, etc.)

(27) 저급 알킬티오페닐 및 아미노로 치환된 저급 알카노일(2-아미노--2-[2-(3 또는 4)메틸티오페닐]아세틸, 2-아미노-3-[2-(3 또는 4)에틸티오페닐)푸로피오닐등)(27) lower alkylthiophenyl and lower alkanoyl substituted with amino (2-amino--2- [2- (3 or 4) methylthiophenyl] acetyl, 2-amino-3- [2- (3 or 4 Ethylthiophenyl) propionyl

(28) 저급 알킬티오페닐 및 저급 알콕시카르보닐아미노로 치환된 저급 알카노일(2-메톡시카르보닐아미노-2-[2-(3 또는 4)메틸티오페닐]아세틸, 2(1-시클로푸로필에톡시)카르보닐아미노-2-[2-(3 또는 4)메틸티오페닐]아세틸, 2-제 3 카르보닐아미노-2-[2-(3 또는 4)메틸티오페닐]아세틸, 2-제 3 부톡시카르보닐아미노-3-[2-(3 또는 4)에틸티오페닐]푸로피오닐등)(28) lower alkanoyl (2-methoxycarbonylamino-2- [2- (3 or 4) methylthiophenyl] acetyl, 2 (1-cyclofuro) substituted with lower alkylthiophenyl and lower alkoxycarbonylamino Philethoxy) carbonylamino-2- [2- (3 or 4) methylthiophenyl] acetyl, 2-third carbonylamino-2- [2- (3 or 4) methylthiophenyl] acetyl, 2- Tertiary butoxycarbonylamino-3- [2- (3 or 4) ethylthiophenyl] propionyl, etc.)

(29) 저급 알킬설피닐페닐 및 아미노로 치환된 저급 알카노일(2-아미노-2-[2-(3 또는 4)메틸설피닐페닐]아세틸, 2-아미노-3-[2-(3 또는 4)에틸설피닐페닐]푸로피오닐등)(29) lower alkylsulfinylphenyl and lower alkanoyl substituted with amino (2-amino-2- [2- (3 or 4) methylsulfinylphenyl] acetyl, 2-amino-3- [2- (3 or 4) ethylsulfinylphenyl] propionyl, etc.)

(30) 저급 알킬설피닐페닐 및 저급 알콕시카르보닐아미노로 치환된 저급 알카노일(2-메톡시카르보닐아미노-2-[2-(3 또는 4)메틸설피닐페닐]아세틸, 2(1-시클로푸로필에톡시)카르보닐아미노-3-[2-(3 또는 4)에틸설피닐페닐푸로피오닐]아세틸등)(30) lower alkanoyl (2-methoxycarbonylamino-2- [2- (3 or 4) methylsulfinylphenyl] acetyl, 2 (1-) substituted with lower alkylsulfinylphenyl and lower alkoxycarbonylamino Cyclofurophylethoxy) carbonylamino-3- [2- (3 or 4) ethylsulfinylphenylfuropionyl] acetyl, etc.)

(31) 저급 알콕시카르보닐(저급)알콕시페닐 및 아미노로 치환된 저급 알카노일(2-아미노-2-[2-(3 또는 4)메톡시카르보닐메톡시페닐]아세틸, 2-아미노-3-[2-(3 또는 4)푸로폭시카르보닐메톡시페닐]푸로피오닐, 2-아미노-2-[2-(3 또는 4)제 3 부톡시카르보닐메톡시페닐)아세틸등)(31) lower alkoxycarbonyl (lower) alkoxyphenyl and lower substituted alkanoyl (2-amino-2- [2- (3 or 4) methoxycarbonylmethoxyphenyl] acetyl, 2-amino-3 -[2- (3 or 4) furooxycarbonylmethoxyphenyl] propionyl, 2-amino-2- [2- (3 or 4) tertiary butoxycarbonylmethoxyphenyl) acetyl, etc.)

(32) 저급 알콕시카르보닐(저급)알콕시페닐 및 저급 알콕시카르보닐아미노로 치환된 저급 알카노일(2-메톡시카르보닐아미노-2-[2-(3 또는 4)메톡시카르보닐메톡시페닐]아세틸, 2-(1시클로푸로필에톡시)카르보닐-3-[2-(3 또는 4)에톡시카르보닐메톡시페닐]푸로피오닐, 2-제 3 부톡시카르보닐아미노-2-[2-(3 또는 4)제3부톡시카르보닐메톡시페닐]아세틸등)(32) lower alkanoyl (2-methoxycarbonylamino-2- [2- (3 or 4) methoxycarbonylmethoxyphenyl substituted with lower alkoxycarbonyl (lower) alkoxyphenyl and lower alkoxycarbonylamino) ] Acetyl, 2- (1cyclofurophylethoxy) carbonyl-3- [2- (3 or 4) ethoxycarbonylmethoxyphenyl] propionyl, 2-tert-butoxycarbonylamino-2- [2- (3 or 4) tert-butoxycarbonylmethoxyphenyl] acetyl, etc.)

(33) 페닐 및 티아디아졸릴티오(저급)알카노일아미노로 치환된 저급 알카노일(N-(1, 3, 4-티아디아졸-2-일)티오아세틸페닐글라이실, 2-[3-(1, 3, 4-티아디아졸-2-일)티오푸로피오닐]아미노-3-페닐푸로피오닐등)(33) lower alkanoyl substituted with phenyl and thiadiazolylthio (lower) alkanoylamino (N- (1, 3, 4-thiadiazol-2-yl) thioacetylphenylglycyl, 2- [3- (1,3,4-thiadiazol-2-yl) thiofulopionyl] amino-3-phenylfulopionyl, etc.)

(34)페닐 및 인단닐옥시카르보닐로 치환된 저급 알카노일(2-페닐-2-인단닐옥시카르보닐아세틸, 3-페닐-2-인단닐옥시카르보닐푸로피오닐등)(34) lower alkanoyl substituted with phenyl and indanyloxycarbonyl (2-phenyl-2-indanyloxycarbonylacetyl, 3-phenyl-2-indanyloxycarbonylpropionyl, etc.)

(35) 디하이드로페닐 및 아미노로 치환된 저급 알카노일(2-아미노-2(2, 5-디하이드로페닐)아세틸, 2-아미노-3-(2, 5-디하이드로로페닐)푸로피오닐등)(35) lower alkanoyl (2-amino-2 (2, 5-dihydrophenyl) acetyl, 2-amino-3- (2, 5-dihydrophenyl) fulopionyl substituted with dihydrophenyl and amino Etc)

(36) 디하이드로페닐 및 저급 알콕시카르보닐아미노로 치환된 저급 알카노일(2-메톡시카르보닐아미노-2-(2, 5디하이드로페닐)아세틸, 2-(1-시클로푸로필에톡시)카르보닐아미노-2-(2, 5-디하이드로페닐)아세틸, 2-제 3 부톡시카르보닐아미노-2-(2, 5-디하이드로페닐)-아세틸, 2-제 3 부톡시카르보닐아미노-3-(2, 5-디하이드로페닐)푸로피오닐등)(36) lower alkanoyl substituted with dihydrophenyl and lower alkoxycarbonylamino (2-methoxycarbonylamino-2- (2,5 dihydrophenyl) acetyl, 2- (1-cyclofurophylethoxy) Carbonylamino-2- (2, 5-dihydrophenyl) acetyl, 2-tertiary butoxycarbonylamino-2- (2, 5-dihydrophenyl) -acetyl, 2-tertiary butoxycarbonylamino -3- (2,5-dihydrophenyl) propionyl)

(37) 3-할로페닐-5-저급알칼이속사졸-4-일카르보닐(3-[2-(3 또는4)브로모페닐]-5-에틸이속사졸-4-일카르보닐등)(37) 3-halophenyl-5-lower alkali isoxazol-4-ylcarbonyl (3- [2- (3 or 4) bromophenyl] -5-ethylisoxazol-4-ylcarbonyl and the like )

(38) 티에닐(저급)알카노일(2-(2-티에닐)아세틸,3-(2-티에닐)푸로피오닐등)(38) thienyl (lower) alkanoyl (2- (2-thienyl) acetyl, 3- (2-thienyl) propionyl, etc.)

(39) 티에닐 및 아미노로 치환된 저급 알카노인(2-아미노-2-(2-티에닐)아세틸, 2-아미노-3-(2-티에닐)푸로피오닐등)(39) lower alkanoines substituted with thienyl and amino (2-amino-2- (2-thienyl) acetyl, 2-amino-3- (2-thienyl) propionyl, etc.)

(40) 티에닐 및 저급 알콕시카르보닐아미노로 치환된 저급 알카노일(2-메톡시카르보닐아미노-2-(2-티에닐)아세틸, 2-(1-시클로푸로필에톡시)카르보닐아미노-2-(2-티에닐)아세틸, 2-제 3 부톡시카르보닐아미노-2-(2-티에닐)아세틸, 2-제 3 부톡시카르보닐아미노-3-(2-티에닐)푸로피오닐등)(40) lower alkanoyl (2-methoxycarbonylamino-2- (2-thienyl) acetyl, 2- (1-cyclofurophylethoxy) carbonylamino substituted with thienyl and lower alkoxycarbonylamino 2- (2-thienyl) acetyl, 2-tertiary butoxycarbonylamino-2- (2-thienyl) acetyl, 2-tert-butoxycarbonylamino-3- (2-thienyl) furo Fionyl)

(41) 테르라졸릴(저급)알카노일(2-(1H-테트라졸-1-일)아세틸, 3-(1H-테트라졸-1-일)푸로피오닐, 4-(1H-테트라졸-1-일)부티릴등)(41) terrazolyl (lower) alkanoyl (2- (1H-tetrazol-1-yl) acetyl, 3- (1H-tetrazol-1-yl) fulopionyl, 4- (1H-tetrazol- 1-day) butyryl)

(42) 티아디아졸릴(저급)알카노일(2-(1, 2, 5-티아디아졸-3-일)아세틸, 2-(1, 3, 4-티아디아졸-2-일)아세틸, 3-(1, 2, 5-티아디아졸-3-일)푸로피오닐등)(42) thiadiazolyl (lower) alkanoyl (2- (1, 2, 5-thiadiazol-3-yl) acetyl, 2- (1, 3, 4-thiadiazol-2-yl) acetyl, 3- (1, 2, 5-thiadiazol-3-yl) propionyl and the like)

(43) 티아디아졸릴티오(저급)알카노일(2-(1, 3, 4-티아디아졸-2-일티오)아세틸, 2-(1, 2, 5-티아디아졸-3-일티오)아세틸, 3-(1, 3, 4-티아디아졸-2-일티오)푸로피오닐등)(43) thiadiazolylthio (lower) alkanoyl (2- (1, 3, 4-thiadiazol-2-ylthio) acetyl, 2- (1, 2, 5-thiadiazol-3-ylthio) ) Acetyl, 3- (1, 3, 4-thiadiazol-2-ylthio) propionyl, etc.)

(44) 할로벤조트리아졸릴(저급)알카노일(2-[4-(5, 6 또는 7)클로로-1H-벤조트리아졸-1-일]아세틸, 2-[4(5, 6 또는 7)브로모-1H-벤조트리아졸-1-일]아세틸, 3-[4-(5, 6 또는 7)후로로-2H-벤조트리아졸-2-일]푸로피오닐등)(44) halobenzotriazolyl (lower) alkanoyl (2- [4- (5, 6 or 7) chloro-1H-benzotriazol-1-yl] acetyl, 2- [4 (5, 6 or 7) Bromo-1H-benzotriazol-1-yl] acetyl, 3- [4- (5, 6 or 7) fluoro-2H-benzotriazol-2-yl] propionyl

(45) 저급 알킬티아디아졸릴옥시(저급)알카노일(2-(5-메틸-1, 3, 4-티아디아졸-2-일옥시)아세틸, 2-(4-메틸-1, 2, 5-티아디아졸-3-일옥시)아세틸, 2-(5-에틸-1, 3, 4-티아디아졸-2-일옥시)프로피오닐등)(45) lower alkylthiadiazolyloxy (lower) alkanoyl (2- (5-methyl-1, 3, 4-thiadiazol-2-yloxy) acetyl, 2- (4-methyl-1, 2, 5-thiadiazol-3-yloxy) acetyl, 2- (5-ethyl-1, 3, 4-thiadiazol-2-yloxy) propionyl, etc.)

(46) 디하이드로피란일 및 아미노로 치환된 저급 알카노일(2-아미노-2-(5, 6-하이드로-2H-피라노-3-일)아세틸, 2-아미노-3-(5, 6-디하이드로-2H-피란-3-일)푸로피오닐등)(46) dihydropyranyl and lower substituted alkanoyl (2-amino-2- (5, 6-hydro-2H-pyrano-3-yl) acetyl, 2-amino-3- (5, 6) Dihydro-2H-pyran-3-yl) propionyl)

(47) 디하이드로피란일 및 저급 알콕시벤조일아미노로 치환된 저급 알카노일(2-메톡시카르보닐아미노-2-(5, 6-디하이드로-2H-피란-3-일)아세틸, 2-(1-시클로푸로필에톡시)카르보닐아미노-2-(5, 6-디하이드로-2H-피란-3-일)아세틸, 2- 제 3 부톡시카보닐아미노-2-(5, 6-디하이드로-2H-피란-3-일)푸로피오닐등)(47) lower alkanoyl (2-methoxycarbonylamino-2- (5, 6-dihydro-2H-pyran-3-yl) acetyl, 2- (substituted with dihydropyranyl and lower alkoxybenzoylamino) 1-cyclofurophilethoxy) carbonylamino-2- (5, 6-dihydro-2H-pyran-3-yl) acetyl, 2-tertiary butoxycarbonylamino-2- (5, 6-di Hydro-2H-pyran-3-yl) propionyl)

(48) 시드노일(저급)알카노일(2-(시드논-3-일)아세틸, 3-(시드논-3-일)푸로피오닐등)(48) sidnoyl (lower) alkanoyl (2- (sidon-3- yl) acetyl, 3- (sidnon-3- yl) propionyl)

(49) 페닐(저급)알콕시카르보닐(벤질옥시카르보닐, 펜에틸옥시카르보닐등)R1a및 R1c에 대한 보호 아미노기를 가진 아실아미노에 있어서 "보호 아미노"란 용어는 상술한 바와같이 아실기 보다 다른 아미노 보호기에 의하여 치환된 아미노기 및 아실아미노기를 포함한다. 보호 하이드록시를 가진 아실아미노에 있어서 "보호 하이드록시"란 용어는 상술한 바와같이 하이드록시에 대한 동일한 통상의 보호기에 의하여 보호된 하이드록시를 포함한다.(49) In acylamino having a protective amino group for phenyl (lower) alkoxycarbonyl (benzyloxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl, etc.) R 1a and R 1c , the term "protecting amino" is as defined above. Amino groups and acylamino groups substituted by other amino protecting groups than the actual groups are included. For acylamino having a protective hydroxy, the term “protective hydroxy” includes hydroxy protected by the same conventional protecting group for hydroxy as described above.

R1b, R1b', R1c에 대한 보호된 아미노를 가진 아실아미노, R1d에 대한 아미노를 가진 아실아미노, R1e에 대한 보호 하이드록시를 가진 아실아미노 및 R1f에 대한 하이드록시를 가진 아실아미노에 있어서 "아실아미노"란 용어는 상술한 바와같이 동일한 아실아미노를 포함한다.R1b, R1b ', R1cAcylamino with protected amino for, R1dAcylamino with amino for R1eAcylamino and R with protective hydroxy for1fFor acylamino having a hydroxy for "acylamino" includes the same acylamino as described above.

R2및 R2a에 있어서 "보호 카르복시기"란 용어는 에스텔, 산아미드, 산무수물, 염등을, 포함한다. 적당한 에스텔은 실릴에스텔, 지방족 에스텔 및 방향족 또는 복소환식환을 함유한 에스텔을 포함한다. 적당한 실릴에스텔은 예를들면 트리(저급)알킬실릴(트리메틸실릴, 트리에틸실릴등) 에스텔등으로 설명된다. 적당한 지방족 에스텔은 저급알킬(메틸, 에틸, 푸소틸, 이소푸로필, 1-사이크로푸로필,에틸, 부틸, 제 3 부닐등)에스텔, 고급알킬(옥틸, 논닐, 운데실등)에스텔, 저급 알케닐(비닐, 1-푸로페닐, 알릴, 3-부테닐등)에스텔, 저급 알키닐(3-부티닐, 4-펜티닐등)에스텔, 저급이나 고급 시클로알킬(시클로펜닐, 시클로헥실, 시클로헵틸등)에스텔등과 같은 측쇄나 환식환을 가진 포화되였거나 불포화된 고급이나 저급 알킬에스텔을 말하고 저급알콕시(저급)알킬(메톡시케틸, 에톡시에틸, 메톡시에틸등)에스텔, 저급알킬티오(저급)알킬(메틸티오메틸, 에틸티오에닐, 메틸티오푸로필등)에스텔, 디(저급)알킬아미노(디메틸아미노, 디에틸아미노, 디푸로필아미노등)에스텔, 저급 알킬이덴아미노(에틸이덴아미노, 푸로필이덴아미노, 이소푸로필이덴아미노등)에스텔, 저급 알킬설페닐(저급)알킬(메틸설페닐메틸, 에틸설페닐에틸등)에스텔등과 거이질소 유황이나 산소를 함유한 포화되었거나 불포화된 저급이나 고급 지방족 에스텔을 포함한다.The term "protective carboxyl group" for R 2 and R 2a includes esters, acid amides, acid anhydrides, salts and the like. Suitable esters include silyl esters, aliphatic esters and esters containing aromatic or heterocyclic rings. Suitable silyl esters are described, for example, with tri (lower) alkylsilyl (trimethylsilyl, triethylsilyl, etc.) esters and the like. Suitable aliphatic esters include lower alkyl (methyl, ethyl, fusoyl, isoprophyl, 1-cyclofurophyll, ethyl, butyl, tertiary bunyl, etc.) esters, higher alkyl (octyl, nonyl, undecyl, etc.) esters, lower Alkenyl (vinyl, 1-furophenyl, allyl, 3-butenyl, etc.) ester, lower alkynyl (3-butynyl, 4-pentynyl, etc.) ester, lower or higher cycloalkyl (cyclophenyl, cyclohexyl, cyclo Saturated or unsaturated higher or lower alkyl esters having side chains or cyclic rings such as heptyl), such as heptyl, etc .; lower alkoxy (lower) alkyls (methoxyketyl, ethoxyethyl, methoxyethyl, etc.), lower alkylthio (Lower) alkyl (methylthiomethyl, ethylthioenyl, methylthiofurofil, etc.) ester, di (lower) alkylamino (dimethylamino, diethylamino, difurophylamino, etc.) ester, lower alkylideneamino ( Ethyl idenamino, furophyldeniamino, isofurofilideneamino, etc.), lower grade Alkylsulphenyl (lower) alkyl (methylsulphenylmethyl, ethylsulphenylethyl, etc.) ester and the like and saturated or unsaturated lower or higher aliphatic esters containing sulfur nitrogen or oxygen.

방향족환을 포함한 적당한 에스텔은 예를들면 아릴(페닐, 키실릴, 톨릴, 나푸틸, 인단닐, 디하이드로안트릴등)에스텔, 알(저급)알킬(벤질, 펜에닐등)에스텔, 알릴옥시(저급)알킬(페녹시메틸, 페녹시에틸, 페녹시푸로필등)에스텔, 아릴티오(저급)알킬(페닐티오메틸, 페닐티오페닐, 티오푸로필등)에스텔, 알킬설페닐(저급)알킬(페닐설페닐메틸, 페닐설페닐에틸등), 아릴오릴(저급)알킬(벤조일에틸, 톨우릴에틸등), 아릴오일아미노(푸탈이미도등)에스텔등을 포함한다. 복소환식환을 함유한 적당한 에스텔은 예를 들면 복소환식에스텔, 복소환식저급알킬에스텔등을 포함하고, 적당한 복소환식에스텔은 산소, 유황 및 질소와 같은 1-4-1-일, 테트라하이드로피란닐, 퀴노릴, 피라졸릴등)에스텔을 말하고, 그리고 적당한 복소환식 저급알킬에스텔은 산소, 유황 및 질소원자등 1-4복소원자를 함유한 포화되거나 불포화되고 축합되거나 비축합된 3-8위복소환식(피리딜, 피페리디노, 2-피리돈-1-일, 테트라하이드로피라닐, 퀴노릴, 피라졸릴등)에스텔을 말한다. 실릴에스텔, 지방족에스텔 및 상술한 바와같은 방향족이나 복소환식환을 함유한 에스텔은 다음과 같이 적당한 1-10개의 치환체를 가진것을 말한다.Suitable esters containing aromatic rings include, for example, aryl (phenyl, xylyl, tolyl, naphthyl, indanyl, dihydroantryl, etc.) esters, al (lower) alkyl (benzyl, phenenyl, etc.) esters, allyloxy (Lower) alkyl (phenoxymethyl, phenoxyethyl, phenoxyfurophyll, etc.) ester, arylthio (lower) alkyl (phenylthiomethyl, phenylthiophenyl, thiofurophyll, etc.) ester, alkylsulphenyl (lower) alkyl (Phenyl sulfenyl methyl, phenyl sulfenyl ethyl, etc.), aryl aryl (lower) alkyl (benzoyl ethyl, toluuryl ethyl, etc.), aryl oyl amino (such as phthalimido) ester, and the like. Suitable esters containing heterocyclic rings include, for example, heterocyclic esters, heterocyclic lower alkyl esters, and the like, and suitable heterocyclic esters include 1-4-1-yl such as oxygen, sulfur and nitrogen, tetrahydropyranyl And quinolyl, pyrazolyl) esters, and suitable heterocyclic lower alkyl esters are saturated, unsaturated, condensed or non-condensed 3-8 position heterocyclic compounds containing 1-4 heteroatoms such as oxygen, sulfur and nitrogen atoms. (Pyridyl, piperidino, 2-pyridone-1-yl, tetrahydropyranyl, quinolyl, pyrazolyl, etc.). Silyl esters, aliphatic esters and esters containing an aromatic or heterocyclic ring as described above are those having 1 to 10 substituents as appropriate.

즉 저급알킬(메탈, 에틸, 푸로필, 이소푸로필, 부틸, 제3부틸등), 저급 알콕시(메톡시, 에톡시, 푸로폭시, 이소푸로폭시, 부톡시, 제 3 부톡시등), 저급알킬티오(메틸티오, 에틸티오, 푸로필티오등), 저급알킬설피닐(메틸설피닐, 에틸설피닐, 푸로필설피닐등), 저급알칸설포닐(메탄설포닐, 에탄설포닐등), 페닐라조, 할로겐(염소, 브롬, 불소등), 시아노, 니트로등이고, 예를들면 모노(디, 트리)할로(저급)알킬(클로로메틸브로모메틸, 디클로르메틸, 2, 2, 2-트리클로로에틸, 2, 2, 2-트리브로모에틸등)에스텔, 시아노(저급)알킬(시아노메틸, 시아노에틸등), 에스텔, 모노(디, 트리, 대트라 또는 펜타)할로페닐(4-클로로페닐), 3, 5디브로모페닐, 2, 4, 5-트리클로로페닐, 2, 4, 6-트리클로로페닐펜타클로로페닐등)에스텔, 저급알칸설포닐페닐(4-메탄설포닐페닐, 2-에탈설포닐페닐등)에스텔, 2-(3 또는 4)페닐 아조페닐에스텔, 모노(디, 트리)니트로페닐(4-니트로페닐, 2, 4-디니트로페닐, 3, 4, 5-트리니트로페닐등)에스텔, 모노(디 , 트리, 테트라 또는 펜타(할로페닐(저급)알킬(2-클로로벤질, 2, 4-디브로모벤질, 3, 4, 5-트리클로로벤질, 펜타클로로벤질등)에스텔, 모노(디, 트리)니트로페닐(저급)알킬(2-니트로벤질, 2, 4-디니트로벤질, 3, 4, 5-트리니트로벤질등)에스텔, 모노(디, 트리)(저급)알콕시페닐(저급)알킬(2-메톡시벤질, 3, 4-디메톡시벤질, 3, 4, 5-트리메톡시벤질등)에스텔, 하이드록시 및 디(저급)알킬페닐(저급)알킬(3, 5-디메닐-4-하이드록시벤질, 3, 4-제3부닐-4-하이드록시벤질등)에스텔등이다.Lower alkyl (metal, ethyl, furophyll, isofurophyll, butyl, tertiary butyl, etc.), lower alkoxy (methoxy, ethoxy, puroxy, isopuroxy, butoxy, tertiary butoxy, etc.), lower Alkylthio (methylthio, ethylthio, furophylthio, etc.), lower alkylsulfinyl (methylsulfinyl, ethylsulfinyl, furophylsulfinyl, etc.), lower alkanesulfonyl (methanesulfonyl, ethanesulfonyl, etc.), Phenylazo, halogen (chlorine, bromine, fluorine, etc.), cyano, nitro, etc., for example, mono (di, tri) halo (lower) alkyl (chloromethyl bromomethyl, dichlormethyl, 2, 2, 2- Trichloroethyl, 2, 2, 2-tribromoethyl, etc.) ester, cyano (lower) alkyl (cyanomethyl, cyanoethyl, etc.), ester, mono (di, tri, datra or penta) halophenyl (4-chlorophenyl), 3,5-dibromophenyl, 2, 4, 5-trichlorophenyl, 2, 4, 6-trichlorophenylpentachlorophenyl, etc., ester, lower alkanesulfonylphenyl (4-methane Sulfonylphenyl, 2-ethalsulfo Phenyl), 2- (3 or 4) phenyl azophenyl ester, mono (di, tri) nitrophenyl (4-nitrophenyl, 2, 4-dinitrophenyl, 3, 4, 5-trinitrophenyl, etc.) , Mono (di, tri, tetra or penta (halophenyl (lower) alkyl (2-chlorobenzyl, 2,4-dibromobenzyl, 3, 4, 5-trichlorobenzyl, pentachlorobenzyl, etc.) (Di, tri) nitrophenyl (lower) alkyl (2-nitrobenzyl, 2,4-dinitrobenzyl, 3, 4, 5-trinitrobenzyl, etc.) ester, mono (di, tri) (lower) alkoxyphenyl (lower) Alkyl (2-methoxybenzyl, 3, 4-dimethoxybenzyl, 3, 4, 5-trimethoxybenzyl, etc.) ester, hydroxy and di (lower) alkylphenyl (lower) alkyl (3, 5-di Menyl-4-hydroxybenzyl, 3,4-tert-butyl-4-hydroxybenzyl, and the like.

적당한 산아마이드는 예를들면 N-저급알킬산아마이드(N-메틸산아마이드, N-에틸산아마이드등)NN-디(저급)알킬산아마이드(NN-디메틸산아마이드, NN-디에틸산아마이드, N-메틸-N-에틸산아마이드등), N-페틸산아마이드, 또는 피라졸, 이미다졸, 4-저급알킬이미다졸이 부착된 산아마이드(4-메틸이미다졸, 4-에닐이미다졸등)등을 포함한다.Suitable acidamides are, for example, N-lower alkyl acid amides (N-methyl acid amide, N-ethyl acid amide, etc.) NN-di (lower) alkyl acid amides (NN-dimethyl acid amide, NN-diethyl acid amide, N-methyl-N-ethyl acid amide, etc.), N-fetylic acid amide, or acid amide (4-methylimidazole, 4-enylimida) with pyrazole, imidazole, 4-lower alkylimidazole And so on).

적당한 산무수물은 예를들면 디(저급)알킬산염(디메틸인산염, 디에틸인산염등), 디벤질인산염, 인산할라이드(인산클로라이드, 인산브롬마이드등), 디(저급)알킬포스파이트(디메닐포스파이트, 디에틸포스파이트등), 아황산, 티오황산, 황산, 저급알킬카르보네이트(메이트등), 하이드라조익산, 하이드로할로겐(산염,산브롬산등), 포화되었거나 불포화된 저급 지방족 카르복실산(피바릭산, 펜타노익산, 이소펜타노익산, 2-에틸부타노익산; 크로토닉산(길초산, 푸로피온산등), 포화되었거나 불포화된 할로(저급)지방족 카르복실산(클로로초산, 3-클로로-2-펜테노익산, 3-브로모-2-부테노익산등), 치환된 저급 지방족 카르복실산(페닐초산, 페녹시초산, 후란초산, 티오펜초산등), 방향족 카르복실산(안식향산등), 또는 대칭산무수물등이 포함된다.Suitable acid anhydrides include, for example, di (lower) alkyl salts (dimethyl phosphate, diethyl phosphate, etc.), dibenzyl phosphate, phosphate halides (phosphate chloride, bromide phosphate, etc.), di (lower) alkyl phosphites (dimenyl phosphate). Pits, diethylphosphite, etc.), sulfurous acid, thiosulfate, sulfuric acid, lower alkyl carbonate (mate), hydrazonic acid, hydrohalogen (acid salt, bromic acid, etc.), saturated or unsaturated lower aliphatic carboxylic acid (Pibaric acid, pentanoic acid, isopentanoic acid, 2-ethylbutanoic acid; crotonic acid (gilic acid, propionic acid, etc.), saturated or unsaturated halo (lower) aliphatic carboxylic acid (chloroacetic acid, 3 -Chloro-2-pentenoic acid, 3-bromo-2-butenoic acid, etc.), substituted lower aliphatic carboxylic acids (phenylacetic acid, phenoxyacetic acid, furanacetic acid, thiophenic acid, etc.), aromatic carboxylic acid (Benzoic acid, etc.), or symmetric acid anhydrides.

적당한 산염은 금속(소디움, 포타시움, 마그네시움등)이나, 유기아민(메틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 아니린, 피리딘, 피코린, NN'-디벤질에틸렌디아민등)등의 염이 포함된다.Suitable acid salts are salts such as metals (sodium, potassium, magnesium, etc.) and organic amines (methylamine, diethylamine, triethylamine, aniline, pyridine, picoline, NN'-dibenzylethylenediamine, etc.). This includes.

R3에서 "저급알킬"이란 용어는 메틸, 에틸, 푸로필, 이소푸로필, 부틸, 제 3 부틸, 시클로헥실등과 같이 탄소원자 1-6개 체인을 가진직쇄, 분지쇄, 또는 환식의 어느 하나를 가진것을 의미한다.The term "lower alkyl" in R 3 refers to any of straight, branched, or cyclic chains having 1 to 6 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propofyl, isofurophyll, butyl, tertiary butyl, cyclohexyl, etc. It means to have one.

R4에서 "저급알킬렌"이란 예를들면 메틸렌, 에틸렌, 푸로필렌등과 같이 탄소원자 1-3개를 가진 알킬렌을 의미하고"Lower alkylene" in R 4 means alkylene having 1-3 carbon atoms, for example methylene, ethylene, furopropylene, etc.

R5및 R6에서 "아릴"은 페닐, 나푸틸을 말하며, R5및 R6에서 "치환아릴"이란 용어는 2-(3 또는 4)-클로로페닐, 톨릴등과 같이 할로페닐을 의미한다.R 5 and R 6 "aryl" is phenyl, "substituted aryl" refers to or in putil, R 5 and R 6 The term 2- (3 or 4), - means halophenyl such as chlorophenyl, tolyl, etc. .

"아실"이란 용어는 위에서와 같고The term "acyl" is the same as above

Y에서 "산의 잔기"란 용어는 할도겐(염소, 브롬, 불소등), 아실옥시(에탄설포닐옥시, 벤젠설포닐옥시, 톨루엔설포닐옥시)등과 같이 수소를 제거함으로써 주어지는 기를 의미한다.The term “residue of acid” in Y means a group given by removing hydrogen, such as halogeno (chlorine, bromine, fluorine, etc.), acyloxy (ethanesulfonyloxy, benzenesulfonyloxy, toluenesulfonyloxy) and the like.

본원 명세서중에서 "저급"이란 용어는 1-6탄소원자 체인을 의미하고 "고급"이란 용어는 7-16탄소원자 체인을 의미하며, 분지쇄로 되거나 환식환으로 되어도 된다. 본원 발명의 화합물(Ⅰ)의 출발물질(Ⅱ)와 염기를 반응시켜 제조할 수 있다.As used herein, the term "lower" means a 1-6 carbon atom chain and the term "advanced" means a 7-16 carbon atom chain and may be branched or cyclic. It can be prepared by reacting the starting material (II) of the compound (I) of the present invention with a base.

본 발명에서 사용하는 적당한 염기는 예를들면 알카리 금속(티티움, 소디움, 포타시움등), 알카리토금속(마그네시움, 칼시움등)과 같은 무기염기, 대용하는 하이드라이드, 저급알콕사이드(메콕사이드, 에톡사이드, 푸로폭사이드, 부톡사이드, 제 3 부톡사이드등), 하이드록사이드, 카르보네이트, 비카르보네이트, 아마이드, 에닐페닐아마이드, 디이소푸로필아마이드, 그리고 부틸, 페닐이나 트리페닐메틸의 상술한 금속염 또한 제 1 급 아민(메탈아민, 에틸아민, 푸로필아민, 제 3 급 부틸아민등), 제 2 급 아민(디메틸아민, 디에틸아민, 디이소푸로필아민등), 제 3 급 아민(트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리푸로필아민, 트리이소 푸로필아민, 트리부탈아민, 디메틸벤질아민, 트리펜에틸아민, 피로리딘, 피콜린, α-피콜린, N-에틸피페리딘, N-에틸몰폴린, NN'-디메틸피페라진, 1, 5-디아자네시클로[4, 3, 0]논-5-엔, 1, 4-디아자비시클로[2, 2, 2]옥탄, 1, 8-디아자비시클로[5, 4, 0]운데센-7등), 제 4 급 암모니움 하이드록사이드화합물등과 같은 유기염기가 포함된다. 본 반응은 포롬 용매중에서 출발물질과 염기를 동몰로 사용하여 진행된다. 본 발명에서 사용된 염기가 액체일때, 이것은 또한 용매로도 사용될 수 있다. 본 반응은 용매가 있거나 없거나 진행되나 용매가 있을때, 보다 잘 진행된다. 본 발명에 사용된 용매는 본 반응에 나쁜 영향을 미치지 않는 것으로써 예를들면 디메틸포름아마이드, 디메틸설폭사이드, 헥사메틸포스포아마이드, 테트라메닐우레아, 테트라하이드로후란, 메틸렌클로라이드디옥산, 콜타임, 디글라임, 아세트니트릴, 아세톤, 인산염 완충액 등이다. 본 반응에 있어서 반응온도는 특별한 한계는 없고, 주위온도와 같은 보통조건에서 좋다.Suitable bases for use in the present invention are, for example, alkali metals (titanium, sodium, potassium, etc.), inorganic bases such as alkali earth metals (magnesium, calium, etc.), hydrides substituted, lower alkoxides (methoxide, Ethoxide, furoxide, butoxide, tertiary butoxide, etc.), hydroxides, carbonates, bicarbonates, amides, enylphenylamides, diisoprophyllamides, and butyl, phenyl or triphenylmethyl The above-mentioned metal salts of the present invention also include primary amines (metal amines, ethyl amines, propofyl amines, tertiary butyl amines, etc.), secondary amines (dimethyl amine, diethyl amine, diisofurophyl amine, etc.), and third Tertiary amines (trimethylamine, triethylamine, trifurophylamine, triisofurophylamine, tributalamine, dimethylbenzylamine, tripenethylamine, pyriridine, picoline, α-picoline, N-ethylpiperi Dean, N-ethylmorpholine, NN'-di Tilpiperazine, 1,5-diazanecyclo [4, 3,0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2, 2, 2] octane, 1,8-diazabicyclo [5, 4, 0] undecene-7, etc.), and quaternary ammonium hydroxide compounds. The reaction proceeds using equimolar amounts of starting material and base in a form solvent. When the base used in the present invention is a liquid, it can also be used as a solvent. The reaction proceeds well with or without solvent but with solvent. The solvent used in the present invention does not adversely affect the reaction, for example, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoamide, tetramenylurea, tetrahydrofuran, methylene chloridedioxane, call time , Diglyme, acetonitrile, acetone, phosphate buffer, and the like. The reaction temperature in this reaction is not particularly limited and is good under normal conditions such as ambient temperature.

본 발명은 그 공정내에 그 카르복시기가 보호 카르복시기로 되는 것과 보호 카르복시기가 다른 보호 카르복시기나 또는 본 반응의 전처리 반응이나 본 반응중에 유리카르복시기로 되는 것도 포함된다. 목적물(Ⅰ)이 다음 공정으로 사용될때 그것을 단리하거나 도는 정제하거나 그렇지 않으면 그냥 사용한다.The present invention includes a protective carboxyl group in which the carboxyl group is a protective carboxyl group and a protective carboxyl group in which the protective carboxyl group is different or a free carboxyl group in the pretreatment reaction or the present reaction of the present reaction. When the target (I) is used in the next process, it is isolated, purified or otherwise used.

목적물(Ⅰb)는 화합물(Ⅰa)를 산화하여 제조한다. 본 산화반응은 -S-기가

Figure kpo00007
기로 되게하는 조건하에서 수행된다. 본 반응에서 산화는 할로겐(염소, 브롬등), 할로겐화합물(이소시안우로일클로라이드, 페닐요오디클로라이드등), 온존, 무기과산(과요도산, 과황산등), 유기과산(과안식향산, M-클로로과안식향산, 과개미산, 과초산, 클로로과초산, 트리후로로과초산등), 무기나 유기과산의 금속염, 그리고 과산화수소등과 같은 산화제를 사용하는 공지의 방법에 의하여 진행된다.Target object (Ib) is manufactured by oxidizing compound (Ia). This oxidation reaction is -S-group
Figure kpo00007
It is carried out under conditions that make it crosswise. Oxidation in this reaction is halogen (chlorine, bromine, etc.), halogen compounds (isocyanuroyl chloride, phenyliodichloride, etc.), warm zone, inorganic peracids (periodic acid, persulfate, etc.), organic peracids (perbenzoic acid, M- Chloroperbenzoic acid, pericic acid, peracetic acid, chloroperacetic acid, trifluoroperacetic acid, and the like), a metal salt of an inorganic or organic peracid, and an oxidizing agent such as hydrogen peroxide.

본 반응은 예를들면 텅그스텐산, 몰리브덴산, 바나딘산등, 알칼리금속(소디움, 포타시움등), 알칼리토금속(칼시움, 마그네시움등), 이들의 암모니움염, 또는 오산화바나디움과 같은 주기율표 제 Ⅴb 족이나 제 Ⅵb 족의 원소화합물의 존재하에서 보다 잘 이루어진다.The reaction is a periodic table such as, for example, tungstenic acid, molybdate, vanadic acid, alkali metals (sodium, potassium, etc.), alkaline earth metals (calcium, magnesium, etc.), their ammonium salts, or vanadium pentoxide. Better in the presence of elemental compounds of Group Vb or Group VIb.

본 산화반응은 보통 클로로포름, 에닐렌클로라이드, 저급알콜(메탄올, 에탄올등), 피리딘, 물, 테트라하이드로후란, 디메틸포름아마이드, 디옥산, 초산이나 본 반응에 나쁜 영향을 주지 않는 다른 용매의 존제하에서 진행된다. 본 반응온도는 특별히 한정되지 않으며, 보통 주위온도나 낮은 온도에서 진행된다.This oxidation reaction usually involves the presence of chloroform, enylene chloride, lower alcohols (methanol, ethanol, etc.), pyridine, water, tetrahydrofuran, dimethylformamide, dioxane, acetic acid or other solvents that do not adversely affect the reaction. Proceeds under. The reaction temperature is not particularly limited and usually proceeds at ambient or low temperature.

본 발명은 그 공정내에서 본 반응이나 전처리 반응중에 카르복시기가 보호 카르복시기로 되고, 그 보호 카르복시기가 다른 보호 카르복시기나 유리 카르복시기로 되는 것까지를 포함시킨다.The present invention includes the carboxyl group as a protective carboxyl group and the protective carboxyl group as another protective carboxyl group or free carboxyl group during the present reaction or pretreatment reaction in the process.

목적물(Ⅰa)는 목적물(Ⅰb)를 환원시킴으로 제조되는때 이 환원반응은 -S-기

Figure kpo00008
를기로 되게하는 조건하에서 진행된다. 본 반응에서 환원은 제일 클로라이드 또는 금속티오설페이트(소디움티오설페이트, 포타시움티오설페이트 등), 또는 산클로라이드, 상술한 제일클로라이드나 금속설페이트의 조합물, 또는 포스포터스트티클로라이드, 포스포터스펜클로라이드, 시리콘트리클로라이드등의 방법이나 일본특허 제 21111 호에 기술된 방법등 통상의 방법에 의하여 수행된다.When the target (Ia) is prepared by reducing the target (Ib), the reduction reaction is -S-
Figure kpo00008
Proceeds under the condition that makes it to be. Reduction in this reaction is the first chloride or metal thiosulfate (sodium thiosulfate, potassium thiosulfate, etc.), or an acid chloride, a combination of the above-mentioned first chloride or metal sulfate, or phosphorus thichloride, phosphorus pen chloride, siri It is carried out by a conventional method such as a method such as corn trichloride or the method described in Japanese Patent No. 21111.

본 반응은 또한 디메틸포름아마이드, 아세토니트릴, 아세토초산에스텔, 테트라하이드로후란, 클로로포름, 메틸렌클로라이드, 디옥산등과 같은 본 반응에 나쁜 영향을 주지 않는 용매하에서 수행된다. 반응온도에도 특별한 한계가 없고, 화합물(Ⅰb) 및 본 반응에서 사용한 환원방법에 따라서 적당히 선택하면 좋다.The reaction is also carried out in a solvent which does not adversely affect the reaction, such as dimethylformamide, acetonitrile, acetoacetic acetate, tetrahydrofuran, chloroform, methylene chloride, dioxane and the like. There is no particular limitation on the reaction temperature, and the reaction temperature may be appropriately selected depending on the compound (Ib) and the reduction method used in the present reaction.

본 발명은 제조공정내에 본 반응이나 후처리 반응중에 카르복시기를 보호 카르복시기로 변화시키고, 이 보호 카르복시기를 다른 보호 카르복시기 또는 유리 카르복시기로 변화시키는 것까지 포함한다.The present invention also includes changing a carboxyl group to a protective carboxyl group and changing the protective carboxyl group to another protective carboxyl group or a free carboxyl group during the present reaction or post-treatment reaction in the production process.

목적물(Ⅰd)는 화합물(Ⅰc)에서 아미노 보호기를 제거반응 시킴으로 제조되고 목적물(Ⅰh)는 화합물(Ⅰg)를 아미노 보호기를 제거반응시킴으로 각각 제조된다.The target (Id) is prepared by removing the amino protecting group from the compound (Ic) and the target (Ih) is prepared by removing the amino protecting group from the compound (Ig).

본 제거반응은 산을 사용하는 가수분해히드라진과 처리, 환원등과 같은 통상의 방법에 의하여 진행된다. 이 방법들은 제거되어질 보호기에 따라서 임의로 선택할 수 있다. 보호기가 아실기일때에는 이미노 할로겐화제를 반응시켜 이미노 에스텔화하고, 필요하면 다음에 가수분해시켜서 제거한다. 산에 의한 제기반응은 벤질옥시카르보닐, 치환벤질옥시 카르보닐, 아다만틸옥시카르보닐, 알콕시카르보닐, 치환알콕시카르보닐, 아랄옥시카르보닐, 트리틸, 치환페닐티오, 치환아랄킬이덴, 치환알킬이덴, 치환시클로알킬이덴 등과 같은 보호기를 제거하는데 사용되는 가장 보편적인 방법중의 하나이다. 적당한 산은 개미산, 트리후로로초산, 벤젠설폰산, P-톨루엔설폰산등이고, 가장 적당한 산은 개미산과 트리후로로초산등과 같이 감압하에서 쉽게 증류 제거되는 산을 말한다. 반응에 대한 적당한 산은 제거되어지는 보호기와 다른 요인에 의하여 선택된다. 제거반응이 산에 의하여 유도될때에는 하이드로필릭 유기용매, 물, 또는 이들의 혼합용매와 같은 용매의 존재하에 진행된다. 하이드라진에 의한 제거반응은 예를들면 푸탈오일과 같은 것을 제거하는데 통상으로 사용된다. 그 환원은 일반적으로 트리클로로에톡시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 치환벤질옥시카르보닐, 2-피리딜메틸옥시카르보닐등과 같은 것을 제거하는데 사용된다.This removal reaction proceeds by conventional methods such as hydrolysis hydrazine using acid and treatment, reduction and the like. These methods can be chosen arbitrarily depending on the protecting group to be removed. When the protecting group is an acyl group, the imino halogenating agent is reacted to imino esterify and, if necessary, hydrolyzed to remove it. The reactions brought about by the acid include benzyloxycarbonyl, substituted benzyloxy carbonyl, adamantyloxycarbonyl, alkoxycarbonyl, substituted alkoxycarbonyl, araloxycarbonyl, trityl, substituted phenylthio, substituted aralkylidene It is one of the most common methods used to remove protecting groups such as substituted alkylidene, substituted cycloalkylidene and the like. Suitable acids are formic acid, trifluoroacetic acid, benzenesulfonic acid, P-toluenesulfonic acid and the like, and most suitable acids are acids which are easily distilled off under reduced pressure such as formic acid and trifluoroacetic acid. The appropriate acid for the reaction is chosen by the protecting group to be removed and other factors. When the removal reaction is induced by acid, it proceeds in the presence of a solvent such as hydrophilic organic solvent, water, or a mixed solvent thereof. Removal reactions with hydrazine are commonly used to remove things such as, for example, phthalate oil. The reduction is generally used to remove such things as trichloroethoxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, substituted benzyloxycarbonyl, 2-pyridylmethyloxycarbonyl and the like.

본 발명은 제거반응에 대하여 적용될 수 있는 환원은 예를들면 금속(석, 납, 철등), 금속화합물의 조합(염화크롬, 초산크롬등), 그리고 유기 또는 무기산(초산, 푸로피온산, 염산등)등과 같은 환원시키는 것이고, 촉매환원에 대하여는 금속촉매하에서 진행시키는 것이다. 촉매환원에 있어서 금속촉매는 타니-닉켈, 플레티늄옥사이드, 파라디움탄소 및 다른 공지의 촉매를 포함한다. 보호기, 즉 트리후로로아세틸은 염기의 존재 또는 비존재하에서 물과 반응시켜 제거하고, 할로겐치환알콕시카르보닐 및 8-퀴놀릴옥시카르보닐은 보통 구리, 아연등과 같은 중금속과 같이 처리하여 제거한다. 보호기가 아실일때에는 그 아실은 이미노할로겐화제와 반응시켜 이미노에텔화하고, 필요하면 가수분해시켜 수행한다.The present invention can be applied to the reduction reaction, for example, metals (stone, lead, iron, etc.), combinations of metal compounds (chromium chloride, chromium acetate, etc.) and organic or inorganic acids (acetic acid, propionic acid, hydrochloric acid, etc.). ), And reduction of the catalyst is carried out under a metal catalyst. Metal catalysts for catalytic reduction include Tani-Nickel, Platinum Oxide, Palladium Carbon and other known catalysts. The protecting group, ie trifluoroacetyl, is removed by reaction with water in the presence or absence of a base, and halogen-substituted alkoxycarbonyl and 8-quinolyloxycarbonyl are usually removed by treatment with heavy metals such as copper, zinc, etc. . When the protecting group is acyl, the acyl is reacted with an iminohalogenating agent to iminoethylate and, if necessary, hydrolyzed.

적당한 이미노할로겐화제는 예를들면 삼염화인, 오염화인, 삼취화인, 오취화인, 옥시염화인, 염화티오닐, 포스겐등을 포함한다. 이미노할로겐화에 있어서 반응온도는 특별한 한계가 없고, 주위온도에서나 냉각된 온도하에서 충분히 수행된다. 이미노할로겐반응이 진행되는 결과를 가져오는 이미노에텔화제는 알카놀(메타놀, 에타놀,푸로파놀, 이소푸로파놀, 부타놀, 제 3 부타놀등), 또는 알킬기에서 치환제로써 알콕시(메톡시, 에톡시, 푸로폭시, 이소푸로폭시, 부톡시등)과 알카리금속알콕사이드(소시움알콕사이드, 포타시움알콜사이드등), 또는 상술한 알콕에서 유도되는 알카리토금속옥사이드(칼시움알콕사이드, 바리움알콕사이드등)과 같은 금속알콕사이드를 가진 대응하는 알카놀을 포함한다.Suitable iminohalogenating agents include, for example, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphorus triphosphate, phosphorus pentachloride, phosphorus oxychloride, thionyl chloride, phosgene and the like. In iminohalogenation, the reaction temperature is not particularly limited and is sufficiently performed at ambient temperature or under cooled temperature. The iminoetherification agent that results in the progress of the iminohalogen reaction is alkanol (methol, ethanol, furanolol, isofuropanol, butanol, tert-butanol, etc.), or alkoxy (methoxy as a substituent in the alkyl group). , Ethoxy, furoxy, isopuroxy, butoxy and the like, and alkali metal alkoxides (sodium alkoxide, potassium potassium side, etc.), or alkali metal oxides (calcium alkoxide, barium alkoxide, etc.) derived from the alkoxy mentioned above. Corresponding alkanols having the same metal alkoxide.

반응온도는 특별히 한정되는 것이 아니고, 주위온도나 냉각하에서 충분히 수행된다. 필요하면 반응물이 얻어진 것을 가수분해한다. 가수분해는 물이나 물과메타놀, 에타놀과 같은 하이드로필릭용매와의 혼합물에 이반응혼합물을 가하여서 충분히 수행할 수 있다. 이 가수분해에 있어서 물을 알카리금속비카르보네이트나트리알킬아민등과 같은 염기나 희염산, 초산과 같은 산을 함유함이 좋다. 보호기가 아실일 경우에 이 아실기는 상술한 가수분해에 의해서나 다른 통상의 가수분해에 의하여 제거될 수 있다. 반응온도는 아미노에 대한 보호기나 상술한 제거반응에 따라서 적당히 선택함이 좋고, 본 반응은 냉각이나 약간 가온등과 같은 적당한 조건하에서 수행함이 좋다.The reaction temperature is not particularly limited and is sufficiently performed at ambient temperature or under cooling. If necessary, the reaction product is hydrolyzed. Hydrolysis can be performed sufficiently by adding a reaction mixture to water or a mixture of water and a hydrophilic solvent such as ethanol and ethanol. In this hydrolysis, water preferably contains a base such as an alkali metal bicarbonate or trialkylamine, or an acid such as dilute hydrochloric acid or acetic acid. If the protecting group is acyl, this acyl group can be removed by the above-mentioned hydrolysis or by other conventional hydrolysis. The reaction temperature may be appropriately selected according to the protecting group for amino or the above-described elimination reaction, and the present reaction may be performed under suitable conditions such as cooling or slightly warming.

본 발명은 그 공정에 있어서 본 반응이나 후처리 공정중에 보호카르복시기를 다른 보호 카르복시기로 또는 유리 카르복시기로 변화시키는 경우도 포함시킨다.The present invention also includes a case where the protective carboxyl group is changed to another protective carboxyl group or a free carboxyl group during the present reaction or post-treatment step in the step.

본 발명은 또한 그 제조공정에 있어서 반응중에 화합물(Ⅰg)가 하나나 그 이상의 보호 카르복시, 보호 하이드록시, 그리고 펜암환의 6위에 아실아미노기중 호호 멜캅토 그룹일때에 상술한 기들을 대응하는 유리기로 되는 것도 포함된다. 얻어진 화합물(Ⅰd) 및 (Ⅰh)는 필요하면 원하는 이들의 산부가염으로 변환할 수 있다. 목적물(Ⅰe)는 화합물(Ⅰd)와 이들의 염에 아실화제를 반응시켜 제조할 수 있다. 화합물(Ⅰd)의 적당한 염을 유기산염(초산염, 말레인산염, 주석산염, 벤젤설폰산염, 톨루엔설폰산염등)과 무기산염(염산염, 황산염, 인산염등)과 같은것을 포함한다. 본 반응에서 아실화제는 지방족, 방향족, 그리고 복소환식 카르복실산과 대응하는 설폰산, 카르본산에스텔, 카르바민산과 티오산 그리고 이들의 반응 유도체를 말한다.The present invention also relates to the free groups corresponding to the above-mentioned groups when the compound (Ig) is one or more protective carboxyl, protective hydroxy, and hexameraccapto groups in the acylamino group at the 6th position of the phenam ring in the preparation process. It also includes. The obtained compound (Id) and (Ih) can be converted into these desired acid addition salts if necessary. The target substance (Ie) can be produced by reacting an acylating agent with compound (Id) and salts thereof. Suitable salts of compound (Id) include those such as organic acid salts (acetates, maleates, tartarate salts, benzelsulfonate salts, toluene sulfonate salts, etc.) and inorganic acid salts (hydrochloride salts, sulfate salts, phosphate salts, etc.). Acylating agent in this reaction refers to the sulfonic acid, carboxylic acid ester, carbamic acid and thio acid and corresponding reactive derivatives of aliphatic, aromatic, and heterocyclic carboxylic acids.

각각 반응 유도체로써는 산무수물, 활성아미드, 활성에스텔, 이소시안네이트 및 이소티오시안네이트등이고, 예를들면 산아자이드, 디알킬인산, 디페닐인산, 디벤질인산, 할로겐인산, 디알킬아인산, 안황산, 티오황산, 하이드로할로겐산(염산), 황산, 모노알킬카르보네이트, 지방족카르복실산(초산, 피바린산, 펜타노익산, 이소펜타노익산, 2-에틸락산, 트리클로로초산), 방향족 카르복실산(안식향산)과 같은 산에 의한 혼합된 산무수물이나 또는 대칭 산무수물, 그리고 피라졸, 이미다졸, 4-치환이미다졸, 디메틸피라졸, 트리아졸, 테트라졸과의 산아미드, 그리고 에스텔(시아노메틸에스텔, 메톡시메틸에스텔, 비닐에스텔, 푸로파르질에스텔, P-니트로페닐에스텔, 2, 4-디니트로페닐에스텔, 트리클로로페닐에스텔, 펜타클로로페닐에스텔, 메탄설포닐페닐에스텔, 페닐아조페닐에스텔, 테닐티오에스텔, P-니트로페닐티오에스텔, P-크리실티오에스텔, 카르복시에틸티오에스텔, 피리닐에스텔, 피리딜에스텔, 피페리딜에스텔, 8-퀴노릴티오에스텔, 또는 N, N-디메틸하이드록실아민, 1-하이드록시-2-(1H)-피리돈), N-하이드록시석신이아드 또는 N-하이드록시푸탈아미드의에스텔)을 말한다.Reactive derivatives include acid anhydrides, active amides, active esters, isocyanates and isothiocyanates, for example, acid azide, dialkyl phosphate, diphenyl phosphate, dibenzyl phosphate, halogen phosphate, dialkyl phosphite, and sulfuric acid. , Thiosulfate, hydrohalogenic acid (hydrochloric acid), sulfuric acid, monoalkyl carbonate, aliphatic carboxylic acid (acetic acid, pivaric acid, pentanoic acid, isopentanoic acid, 2-ethyl lac acid, trichloroacetic acid) Mixed acid anhydrides or symmetric acid anhydrides with acids such as acids (benzoic acid) and pyrazoles, imidazoles, 4-substituted imidazoles, dimethylpyrazoles, triazoles, acid amides with tetrazole, and esters (Cyano methyl ester, methoxy methyl ester, vinyl ester, furparzyl ester, P-nitrophenyl ester, 2, 4-dinitrophenyl ester, trichlorophenyl ester, pentachlorophenyl ester, methanesulfonylphenyl Tel, phenyl azophenyl ester, tenyl thioester, P-nitrophenyl thioester, P-crysyl thio ester, carboxyethyl thio ester, pyridyl ester, pyridyl ester, piperidyl ester, 8-quinolyl thioester, Or N, N-dimethylhydroxylamine, 1-hydroxy-2- (1H) -pyridone), N-hydroxysuccinate or ester of N-hydroxyfutalamide).

상술한 반응 유도체들은 사용한 산의 종류에 따라서 정해진다. 아실화 반응에 있어서 유리산이 사용되었을때는 NN'-디시클로헥실카르보디이미드, N-시클로헥실-N'-모르폴리노에틸카르보디이미드, N-시클로헥실-N'-(4-디에틸아미노시클로헥실)카르보디이미드, NN'-디에틸카보디이미드, NN'-디이소푸로필카르보디이미드, N-에틸-N'-(3-디메틸아미노푸로필)카르보디이미드, NN'-카르보닐, 디-(2-메틸이미다졸), 펜타메틸렌케텐-N-시클로헥실이미드, 디메틸케텐-N-시클로헥실이민, 알콕시아세틸렌, 1-알콕시-1-클로로에틸렌, 트리알킬포스파이트, 에틸폴리포스페이트, 이소푸로필폴리포스페이트, 포스포러스옥시클로라이드, 포스포러스트리클로라이드, 티오닐클로라이드, 옥사틸클로라이드, 트리페닐포스핀, 2-에틸--7-하이드록시벤즈이속사졸리움염, 2-에틸-5-(M-설포페닐)-이소옥사졸리움하이드록사이드분자내염, (클로로메틸렌)-디메틸암모니움클로라이드-2, 2, 4, 4, 6, 6-헥사클로로-2, 2, 4, 4, 6, 6-헥사하이드로-1, 3, 5, 2, 4, 6-트리아자트리포스포린과 같은 축합제나 트리페닐포스핀과 카르본테트라할라이드(카르본테트라클로라이드, 카르본테트라브롬마이드등)나 할로겐(염소, 브롬등)과 같은 혼합된 축합제를 가함이 더 효과적이다.The reaction derivatives described above are determined according to the type of acid used. When free acid is used in the acylation reaction, NN'-dicyclohexylcarbodiimide, N-cyclohexyl-N'-morpholinoethylcarbodiimide, N-cyclohexyl-N '-(4-diethylamino Cyclohexyl) carbodiimide, NN'-diethylcarbodiimide, NN'-diisofurophyllcarbodiimide, N-ethyl-N '-(3-dimethylaminofurophyll) carbodiimide, NN'-carbox Carbonyl, di- (2-methylimidazole), pentamethyleneketene-N-cyclohexylimide, dimethylketene-N-cyclohexylimine, alkoxyacetylene, 1-alkoxy-1-chloroethylene, trialkylphosphite, Ethylpolyphosphate, isofurophyllpolyphosphate, phosphorus oxychloride, phosphorus chloride, thionyl chloride, oxyl chloride, triphenylphosphine, 2-ethyl--7-hydroxybenzisoxazolium salt, 2-ethyl -5- (M-sulfophenyl) -isoxazolium hydroxide molecular salt, (chloromethylene ) -Dimethylammonium chloride-2, 2, 4, 4, 6, 6-hexachloro-2, 2, 4, 4, 6, 6-hexahydro-1, 3, 5, 2, 4, 6-tree It is more effective to add condensing agents such as azatriphosphorine or mixed condensing agents such as triphenylphosphine and carbon tetrahalide (carbon tetrachloride, carbon tetrabromide, etc.) or halogens (chlorine, bromine, etc.). .

상술한 아실화제에 의하야 화합물(Ⅰd)의 아미노기로 도입되는 아실기의 예는 지방족, 방향족 및 복소환식카르복실산 그리고 이와 대응하는 설폰산(카르본산에스텔, 카르바민산 및 티오산으로부터 탈하이드록시화된 기를 말하고, 더우기 아실기는 R'에 대한 아실아미노기에서 아실기를 설명한 바와같은 동일한 아실기이다. 아실화반응은 보통 물, 아세톤, 디옥산, 아세토니트릴, 클로로포름, 에틸렌클로라이드, 에탄디클로라이드, 테트라하이드로후란, 초산에틸, 디메틸포름아마이드, 피리딘등과 같은 본 반응에 나쁜 영향을 끼치지 않는 용매하에서 진행되고 상술한 하이드로필 용매도 물과 혼합용매로 사용하면 좋다.Examples of the acyl group introduced into the amino group of compound (Id) by the acylating agent described above include aliphatic, aromatic and heterocyclic carboxylic acids and their corresponding sulfonic acids (dehydrating from carboxylic acid esters, carbamic acid and thio acids). Oxylated groups, moreover, acyl groups are the same acyl groups as described for the acyl groups in the acylamino groups for R 'Acylation reactions are usually water, acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, ethylene chloride, ethanedichloride, Tetrahydrofuran proceeds under a solvent which does not adversely affect the present reaction, such as ethyl acetate, dimethylformamide, pyridine, and the like, and the above-mentioned hydrofill solvent may also be used as a mixed solvent with water.

또한 본 아실화반응은 무기염기(알카리금속비카르보네이트등)과 유기염기(트리알킬아민, NN-디알킬아민, NN-디알킬벤질아민, 피리딘, 1, 5-디아자비시클로[4, 3, 0]논-5-온, 1, 4-디아자비시클로[2, 2, 2]옥탄, 1, 8-디아자비시클로[5, 4, 0]운데센-7등)과 같은 염기의 존재하에 수행함이 보다좋다.In addition, the acylation reaction is carried out for inorganic bases (alkali metal bicarbonate, etc.) and organic bases (trialkylamine, NN-dialkylamine, NN-dialkylbenzylamine, pyridine, 1,5-diazabicyclo [4, 3,0] non-5-one, 1,4-diazabicyclo [2, 2, 2] octane, 1,8-diazabicyclo [5, 4, 0] undecene-7, etc.) It is better to perform in the presence.

본 반응에 있어서 액체염기나 액체축합제가 용매로써 사용될 수 있다. 본 반응에서 반응온도는 한계가 없고, 냉각하거나 주위온도하에서 수행한다. 본 발명은 본 반응이나 전처리반응에 있어서 보호된 카르복시가 다른 보호된 카르복시기이거나 또는 유리 카르복시기로 변화시키는 경우까지를 포함한다. 목적물(Ⅰf)는 화합물(Ⅰe)와 이미노할로겐화제, 이미노에텔화제, 그리고 다음에 아실화제와 반응시키고, 필요하면 가수분해하여 제조할 수 있다.In this reaction, a liquid base or a liquid condensing agent can be used as the solvent. The reaction temperature in this reaction is not limited and is cooled or carried out at ambient temperature. The present invention includes the case where the protected carboxyl in the present reaction or pretreatment reaction is another protected carboxyl group or changed to a free carboxyl group. The desired compound (If) can be prepared by reacting compound (Ie) with an iminohalogenating agent, an iminoethering agent, and then an acylating agent, if necessary, by hydrolysis.

적당한 이미노할로겐화제는 삼염화인, 오염화인, 삼취화인, 오취화인, 옥시염화인, 염화티오닐, 포스겐등을 포함한다. 이미노할로겐화 반응에 있어서 반응온도는 한정된 것이 아니고, 주위온도나 냉각된 온도에서 충분히 진행된다. 이미노할로겐반응이 완수되는 적당한 이미노에텔화제는 알카놀(메타놀, 에타놀, 푸로파놀, 이소푸로파놀, 부타놀, 제 3 부타놀등)또는 알킬기에 치환체로써 알콕시(메톡시. 에톡시, 푸로폭시, 이소푸로폭시, 부톡시등)을 가진 대응하는 알카놀, 그리고 알카리금속 알콕사이드(소디움알콕사이드, 포타시움알콕사이드등)과 알카시토금속알콕사이드(칼슘알콕사이드, 바리움알콕사이드등)과 같이 상기 알코올로부터 유도되는 금속알콕사이드를 말하며 이미노에텔화에 있어서 반응온도는 한정된 것이 아니고 주위온도나 냉각하에서 충분히 수행된다. 본 아실화반응은 화합물(Ⅰd)에서 서술한 바와 똑같은 조건하에서 수행된다. 이 얻어진 반응생성물은 필요하면 가수분해하는데 이 가수분해는 이 반응혼합물을 물이나 또는 물과 메타놀, 에타놀과 같은 하이드로필 용매와의 혼합물에 주입하므로서 충분히 진행된다. 이 가수분해에 있어서 물은 알카리 금속비카르보네이트, 트리알킬아민과 같은 염기를 그리고 희염산, 초산과 같은 산을 함유함이 좋다.Suitable iminohalogenating agents include phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphorus oxychloride, thionyl chloride, phosgene and the like. In the iminohalogenation reaction, the reaction temperature is not limited and proceeds sufficiently at ambient temperature or at a cooled temperature. Suitable iminoetherification agents for which the iminohalogen reaction is completed are alkanols (methol, ethanol, furopanol, isofuropanol, butanol, tertiary butanol, etc.) or alkoxy (methoxy.ethoxy, furo) as substituents on alkyl groups. Corresponding alkanols with foxy, isopuroxy, butoxy and the like, and metals derived from such alcohols as alkali metal alkoxides (sodium alkoxides, potassium alkoxides, etc.) and alkoxytometal alkoxides (calcium alkoxides, barium alkoxides, etc.) It refers to an alkoxide. In iminoetherification, the reaction temperature is not limited and is sufficiently performed at ambient temperature or cooling. This acylation reaction is carried out under the same conditions as described for compound (Id). The obtained reaction product is hydrolyzed if necessary. The hydrolysis proceeds sufficiently by injecting the reaction mixture into water or a mixture of water and a hydrophilic solvent such as methanol and ethanol. In this hydrolysis, water preferably contains a base such as alkali metal bicarbonate, trialkylamine, and an acid such as dilute hydrochloric acid or acetic acid.

본 반응에서 화합물(Ⅰe)에 있어서 아실아미노그룹R1b는 화합물(Ⅰf)에 있어서 다른 아실아미노그룹R1b'로 변화되는 것이다. 목적물(Ⅰj)는 화합물(Ⅰi)에서 하이드록시의 보호기를 제거반응시킴으로써 제조될 수 있다. 본 제거반응은 산이나 염기 또는 환원등과 같은 통상의 방법에 의하여 수행된다. 이 방법들은 제거되는 보호기의 종류에 따라서 선택되어 진다. 산으로 처리하는 제거반응은 벤질옥시카르보닐, 치환벤질옥시카르보닐, 알콕시카르보닐, 치환알콕시카르보닐, 아랄옥시카르보닐, 아다안틸옥시카르보닐, 트리틸, 치환페닐티오, 치환아랄킬이덴, 치환아랄아덴 치환시클로알킬이덴등과 같은 것을 제거하는데에 사용되는 가장 보편적인 방법의 하나이다.In this reaction, the acylamino group R 1b in the compound (Ie) is changed to another acylamino group R 1b ' in the compound (If). Target (Ij) can be prepared by removing the protecting group of hydroxy from compound (Ii). This removal reaction is carried out by conventional methods such as acid, base or reduction. These methods are chosen according to the type of protecting group to be removed. Removal reaction with acid is benzyloxycarbonyl, substituted benzyloxycarbonyl, alkoxycarbonyl, substituted alkoxycarbonyl, araloxycarbonyl, adamantyloxycarbonyl, trityl, substituted phenylthio, substituted aralkylidene It is one of the most common methods used to remove such things as substituted aral ardene substituted cycloalkyl ide.

적당한 산은 예를들면 개미산, 트리후로로초산, 벤젠설폰산, P-톨루엔설폰산등이고, 가장 적합한 산은 개미산, 트리후로로초산과 같이 감압하에서 증발하여 쉽게 제거되는 산을 말한다. 반응에 적합한 산은 제거되어질 보호기나 다른 요인에 따라서 결정되어진다. 산으로 제거반응을 할때는 그 산은 하이드로필 유기용매, 물, 또는 이들의 혼합용매하에서 수행한다. 염기로서하는 제거반응은 아실기를 제거하는데 사용된다. 적당한 염기는 예를들면 알카리금속(소디움, 포타슘등), 무기염기, 하이드록사이드 또는 카르본네이트, 또는 이들의 비카르본네이트 등이나 그리고 트리알킬아민(트리멘틸아민, 트리에틸아민등), 피콜린, N-메틸피로리딘, N-메틸모르포린, 1, 5-디아자비시클로[4, 3, 0]논-5-엔, 1, 4-디아자시클로[2, 2, 2]옥탄, 1, 8-디아자시클로[5, 4, 0]운데센-7등과 같은 유기염기를 포함한다. 염으로써 제거반응은 가끔 물이나 하이드로피린 용매 또는 이들의 혼합용매존재하에서 수행된다. 환원은 일반적으로 트리클로로에톡시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 치환벤질옥시카르보닐, 2-피리딜메톡시카르보닐 등에서 제거하는데 사용된다. 본 발명의 제거반응에 사용되는 환원은 금속(석, 아연, 철등)이나 금속화합물(크로모우스클로라이드, 크로모우스아세테이트등)과 유기 또는 무기산(초산, 푸로피온산, 염산등)의 조합물을 사용함으로써 하는 환원을 말하며 이 환원은 촉매환원을 위한 금속 촉매하에서 진행된다. 촉매환원을 하기 위한 금속촉매는 예를들면 라니-닉켈, 플라티늄옥사이드, 파라디옵카르본산 및 다른 공지의 촉매를 포함한다. 보호기, 트리후로로아세틸은 보통 염기의 존재 또는 부재하에서 물로 처리하여 제거된다. 그리고 할로겐치환 알콕시카르보닐 또는 8-퀴노릴옥시카르보닐은 보통 구리, 아연등과 같은 중금속으로 처리함으로서 제거한다. 보호기가 트리후로아세틸일때는 물이나 염기 존재하의 물로 처리하여 제거하고 그 보호기가 할로겐 치환알콕시카르보닐이거나 8-퀴노릴옥시카르보닐일때는 구리, 주석과 같은 중금속으로 처리하여 제거한다. 보호기가 아실기일때는 그 아실은 상술한 바와같은 가수분해나 다른 통상의 가수분해에 의하여 제거될 수 있다.Suitable acids are, for example, formic acid, trifluoroacetic acid, benzenesulfonic acid, P-toluenesulfonic acid, and the like, and most suitable acids are acids which are easily removed by evaporation under reduced pressure such as formic acid and trifluoroacetic acid. The acid suitable for the reaction depends on the protecting group or other factors to be removed. When the acid is removed, the acid is carried out under hydrophilic organic solvent, water, or a mixed solvent thereof. The removal reaction as a base is used to remove acyl groups. Suitable bases are, for example, alkali metals (sodium, potassium, etc.), inorganic bases, hydroxides or carbonates, or bicarbonates thereof and the like, and trialkylamines (trimentylamine, triethylamine, etc.), Picoline, N-methylpyrrolidine, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4, 3,0] non-5-ene, 1,4-diazacyclo [2, 2, 2] octane And organic bases such as 1,8-diazacyclo [5, 4, 0] undecene-7 and the like. Removal reactions with salts are sometimes carried out in the presence of water or hydropyrin solvents or mixed solvents thereof. Reduction is generally used to remove from trichloroethoxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, substituted benzyloxycarbonyl, 2-pyridylmethoxycarbonyl and the like. The reduction used in the removal reaction of the present invention is a combination of a metal (stone, zinc, iron, etc.) or a metal compound (chromose chloride, chromose acetate, etc.) and an organic or inorganic acid (acetic acid, propionic acid, hydrochloric acid, etc.). It refers to the reduction made by using a reaction which proceeds under a metal catalyst for catalytic reduction. Metal catalysts for catalytic reduction include, for example, Raney-nickel, platinum oxide, paradiopcarboxylic acid and other known catalysts. The protecting group, trifluoroacetyl, is usually removed by treatment with water in the presence or absence of a base. Halogen-substituted alkoxycarbonyl or 8-quinolyloxycarbonyl is usually removed by treatment with heavy metals such as copper, zinc and the like. When the protecting group is trifluoroacetyl, it is removed by treatment with water or water in the presence of a base. When the protecting group is halogen-substituted alkoxycarbonyl or 8-quinolyloxycarbonyl, it is removed by treatment with heavy metals such as copper and tin. When the protecting group is an acyl group, the acyl can be removed by hydrolysis or other conventional hydrolysis as described above.

반응온도는 특별히 한정된 것이 아니고 하이드록시에 대한 보호기 및 제거방법에 따라서 선택되어 지고 그리고 본 반응은 냉각하에서나 약간의 가온하와 같은 적당한 조건하에서 더욱 효과적으로 진행된다. 본 발명은 제조공정 안에서 본 반응이나 후처리 방법중에 보호 카르복시기나 다른 보호 카르복시기나 또는 유리 카르복시기로 변화시키는 경우도 포함한다.The reaction temperature is not particularly limited and is selected according to the protecting group and the removal method for hydroxy, and the reaction proceeds more effectively under suitable conditions such as cooling or slight warming. This invention also includes the case where it changes into a protective carboxyl group, another protective carboxyl group, or free carboxyl group in this reaction or a post-treatment method in a manufacturing process.

또한 본 발명은 화합물(Ⅰi)가 하나 또는 그 이상의 보호아미노, 보호 카르복시 그리고 펜암환의 6위의 아실아미노 기중 보호 멜캅토기를 소지하고 있을때는 상기한 기들을 본 반응중 대응하는 유리기로 변환시키는 것도 포함시킨다. 목적물(Ⅱ)는 화합물(Ⅰk)에서 보호 카르복시기를 제거함으로서 제조할 수 있다.The present invention also relates to converting the aforementioned groups into the corresponding free groups during the reaction when compound (Ii) has a protective melcapto group in the acylamino group at the 6th position of one or more of the protective amino, protective carboxy and phenam rings. Include it. Target (II) can be prepared by removing the protective carboxyl group from compound (Ik).

본 제거반응에 있어서 모든 공지의 방법들이 본 제거반응에 사용되고 예를들면 환원, 가수분해등이 적용될 수 있는 것처럼 통상의 방법들이 보호 카르복시기를 제거하는데 사용된다. 보호기가 활성 에스텔, 활성아마이드 또는 산무수물일때 이들은 물을 접촉시키는 적당한 조건하에서 가수분해시킨다. 환원은 2-요도에틸에스텔, 2, 2, 2-트리클로로에틸에스텔, 벤질에스텔등을 제거하는데 적용할 수 있다. 산으로서의 제거반응은 P-메톡시벤질에스텔, 제 3 부틸에스텔, 트리틸에스텔, 디페닐메틸에스텔, 비스(메톡시페닐)메틸에스텔, 3, 4-디메톡시벤질에스텔, 1-시클로푸로필에틸에스텔등과 같은 보호기를 제거하는데 사용된다. 본 발명의 제거반응에 대하여 적용되는 환원은 예를들면 금속이나(아연, 아연아말감등), 크롬염화합물(크로모우스클로라이드, 크로모우스아세테이트등)과 유기나 무기산(초산, 푸로피온산, 염산)과의 조합물을 사용하고 그리고 금속환원 촉매하에서 행해지는 환원을 포함한다.All known methods in this removal reaction are used in this removal reaction and conventional methods are used to remove the protective carboxyl groups, for example reduction, hydrolysis and the like can be applied. When protecting groups are active esters, activated amides or acid anhydrides they are hydrolyzed under suitable conditions in contact with water. Reduction can be applied to remove 2-iodoethylester, 2, 2, 2-trichloroethylester, benzylester and the like. The removal reaction as an acid was P-methoxybenzyl ester, tertiary butyl ester, trityl ester, diphenyl methyl ester, bis (methoxyphenyl) methyl ester, 3, 4-dimethoxybenzyl ester, 1-cyclofuropropyl ethyl It is used to remove protecting groups such as esters. Reductions applied to the elimination reactions of the present invention are, for example, metals (zinc, zinc amalgam, etc.), chromium salt compounds (chromose chloride, chromose acetate, etc.) and organic or inorganic acids (acetic acid, propionic acid, Hydrochloric acid) and the reduction carried out under a metal reduction catalyst.

촉매환원의 금속촉매는 예를들면 백금촉매(백금선, 백금해면, 백금혹, 백금콜로이드)파라디움촉매(파라디움해면, 파라디움혹, 파라디움옥사이드, 황산바륨상의 파라디움, 탄산바륨상의 파라디움, 목탄상의 파라디움, 시리카겔상의 파라디움,파라디움콜로이드등)닉켈촉매(환원닉켈, 닉켈옥사이드, 라니-닉켈, 우루시바라닉켈등)을 포함하고 제거반응에서 적당한 산은 개미산, 트리할로초산(트리클로로초산, 트리후로로초산등)염산, 불화수소산, P-톨루엔설폰산, 트리후로로메탄설폰산, 염산과 초산의 혼합산등)등을 포함한다. 제거반응에서 적당한 무수물의 염기촉매는 소디움티오페노레이트[(CH3)2LiCu]등을 말한다.Catalytic reduction metal catalysts include, for example, platinum catalysts (platinum wire, platinum sponges, platinum bumps, platinum colloids), palladium catalysts (paradium sponges, palladium humps, palladium oxides, palladium sulfate, palladium carbonate, palladium on charcoal, and silica Gel-like palladium, palladium colloid, etc.) Nickel catalysts (reducing nickel, nickel oxide, Raney-nickel, urushibaranic, etc.) and suitable acids in the removal reaction are formic acid, trihaloacetic acid (trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc.). Hydrochloric acid, hydrofluoric acid, P-toluenesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, mixed acids of hydrochloric acid and acetic acid, and the like. Suitable base anhydride catalysts in the removal reaction include sodium thiophenorate [(CH 3 ) 2 LiCu].

보호기가 반응에 있어서 물이나 액체산으로 처리함으로 제거될때 본 반응은 용매없이도 수행된다. 본 반응에서 본 반응에 나쁜영향을 주지않는 예를들면 디메틸후롬마이드, 메틸렌클로라이드, 클로로후롬, 테트라하이드로후란, 아세톤등 어느 용매든지 사용할 수 있다. 반응온도는 특별한 한계가 없으며 출발물질과 실제로 적용되는 제거반응에 따라서 적당히 선택되어지는 것이 좋다.The reaction is carried out without solvent when the protecting group is removed by treatment with water or liquid acid in the reaction. In this reaction, any solvent such as dimethyl fluoromide, methylene chloride, chlorofulom, tetrahydrofuran, acetone, etc., which does not adversely affect the reaction can be used. The reaction temperature is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the starting material and the removal reaction actually applied.

본 발명은 출발물질에 함유되어 있는 보호 카르복시, 하이드록시, 멜캅토 또는 아미노그룹이 각각 본 반응의 전처리나 원공정에 있어서 유리 카르복시하이드록시 멜캅토나 아미노그룹으로 변화시키는 경우도 포함한다. 이와같이 화합물(Ⅱ)는 원하는 금속(소디움, 포티시움)염이나 유기 염기염으로 변환시킬 수 있다. 목적물(Ⅰn)는 화합물(Ⅰm)에 세미카르바지드나 이들의 염과를 반응시켜 제조할 수 있다.The present invention also includes the case where the protective carboxy, hydroxy, melcapto or amino group contained in the starting material is changed to free carboxyhydroxy melcapto or amino group in the pretreatment or original process of the reaction, respectively. In this way, compound (II) can be converted into a desired metal (sodium, fortisium) salt or organic base salt. The target product (In) can be prepared by reacting compound (Im) with semicarbazide or salts thereof.

세미카르바지드의 적당한 염은 무기산염(하이드로클로라이드, 셀페닐동)과 유기산염(아세테이트 말레이트, 타타레이트등)과 같은것을 포함한다. 보통 본 반응은 본 반응에 나쁜영향을 주지 않는 용매 즉 메타놀, 에타놀, 물, 아세토니트릴, 에델, 크로로후롬, 후롬마이드, 벤젠등에서 수행된다.Suitable salts of semicarbazide include such as inorganic acid salts (hydrochloride, selphenyl copper) and organic acid salts (acetate maleate, tartarate, etc.). Usually the reaction is carried out in solvents that do not adversely affect the reaction, ie methanol, ethanol, water, acetonitrile, edel, chlorofulom, fluoromide, benzene and the like.

본 반응은 염기의 존재하에서 보다 잘 진행된다. 적당한 염기는 예를들면 알카리금속(리티움, 소디움, 포타시움등)과 (알카리토금속마그네시움, 칼슘등)와 같은 무기염기, 대응하는, 하이드라이드, 아마이드, 알콕사이드, 메톡사이드(에톡사이드, 푸로폭사이드, 부톡사이드, 제 3 부톡사이드 등), 하이드록사이드, 카르보네이트, 비카르보네이트 아세테이트 등과 그리고 제 3 -아민(트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리푸로필아민, 트리이소푸로필아민, 트리부틸아민, 디메틸벤젠아민, 트리펜에틸아민, 피로리딘, 피리딘, α-피콜린, N-메틸피페리딘, N-메틸올핀, NN-디메틸피페라진, 1, 5-디아자비시클로[4, 3, 0]논-5-엔, 1, 4-디아자비시클로[2, 2, 2]옥탄, 1, 8-디아자비시클로[5, 4, 0]운덴센-7)등과 같은 유기염기를 포함한다. 반응온도는 특별히 한계가 없고 본 반응은 보통 본 반응에 사용한 용매의 비점에서 가열하는 가온하에서 수행된다.The reaction proceeds better in the presence of a base. Suitable bases include, for example, inorganic bases such as alkali metals (lithium, sodium, potassium, etc.) and (alkaline metal magnesium, calcium, etc.), corresponding hydrides, amides, alkoxides, methoxides (ethoxides, furo) Oxides, butoxides, tertiary butoxides, etc.), hydroxides, carbonates, bicarbonate acetates, and the like and tertiary amines (trimethylamine, triethylamine, trifurophylamine, triisofurophylamine). , Tributylamine, dimethylbenzeneamine, tripenethylamine, pyriridine, pyridine, α-picoline, N-methylpiperidine, N-methylolpine, NN-dimethylpiperazine, 1,5-diazabicyclo [ Organic such as 4, 3, 0] non-5-ene, 1, 4-diazabicyclo [2, 2, 2] octane, 1,8-diazabicyclo [5, 4, 0] undensene-7) and the like Base. The reaction temperature is not particularly limited and the reaction is usually carried out under heating which is heated at the boiling point of the solvent used in the reaction.

본 반응은 그 공정내에서 후처리나 본 반응중에 보호 카르복시기를 다른 보호 카르복시기나 유리카르복시기로 되게하는 공정도 포함한다. 목적물(Ⅰp)는 화합물(Ⅰo)에 반응 조건하에서 아실화제와 반응시켜 제조할 수 있다. 본 아실화반응은

Figure kpo00009
기가-S-기로 변환하는 즉 화합물(Ⅰa)이 화합물(Ⅰb)을 환원시킴으로 제조되는 것과 동일한 조건하에서 진행된다. 적당한 아실화제는 화합물(Ⅰe)에서 아실화 반응에 사용된 것과 동일한 것이다.This reaction also includes a step of subjecting the protective carboxyl group to another protective carboxyl group or free carboxyl group during the post-treatment or the present reaction in the step. The desired compound (Ip) can be prepared by reacting compound (Io) with an acylating agent under reaction conditions. This acylation reaction
Figure kpo00009
The conversion proceeds under the same conditions as those prepared by the conversion to the giga-S-group, ie compound (Ia) is reduced by compound (Ib). Suitable acylating agents are the same as those used for the acylation reaction in compound (Ie).

본 반응은 아실화제로 산할라이드를 사용함으로 보다 좋게 수행된다. 본 발명은 보통 디메틸포름마이드, 아세토니트릴, 아세토초산에스텔, 테트라하이드로후란, 클로로포롬, 메틸렌클로라이드, 디옥산등과 같은 본 반응에 나쁘지 않은 영향을 주는 용매의 존재하에서 수행된다.This reaction is better performed by using acid halides as acylating agents. The present invention is usually carried out in the presence of a solvent which does not adversely affect the present reaction such as dimethylformamide, acetonitrile, acetoacetic acid ester, tetrahydrofuran, chloroformum, methylene chloride, dioxane and the like.

본 반응온도는 특별한 한계가 없으며 반응 온도는 화합물(Ⅰo)에 따라서 선택되어지고 아실화제나 사용된 반응방법에 따라서도 선택되어진다.The reaction temperature is not particularly limited and the reaction temperature is selected according to the compound (Io) and also according to the acylating agent or the reaction method used.

본 발명은 본 발명의 본 반응과 전처리에 있어서 카르복시기를 보호 카르복시기로 변화시키고 보호 카르복시기를 다른 보호 카르복시나 유기 카르복시기로 변화시키는 공정도 포함한다.The present invention also includes a step of changing a carboxyl group to a protective carboxyl group and a protective carboxyl group to another protective carboxyl or organic carboxyl group in the present reaction and pretreatment of the present invention.

본 발명의 목적물(Ⅰ)은 여러가지 병원균에 대하여 항균효과가 있고 인간이나 동물에 있어서 이와 같은 병원균에 의하여 전염된 병의 치료에 유용한 것이다.The object (I) of the present invention has an antimicrobial effect against various pathogens and is useful for the treatment of diseases transmitted by such pathogens in humans and animals.

본 발명의 대표적인 목적물에 관하여 항균효과는 다음의 참고에 설명하였다.Regarding the representative object of the present invention, the antimicrobial effect is described in the following reference.

목적물(Ⅰ)의 포도상구균 209-PJC-1과 각균 ATCC 6633에 대한 MIC치(mcg/ml)는 다음과 같다.The MIC values (mcg / ml) of Staphylococcus aureus 209-PJC-1 and each bacterium ATCC 6633 of the target (I) are as follows.

시험관내에서의 항균효과의 평가방법Evaluation method of antimicrobial effect in vitro

시험관내에서 다음에 기술한 바와같이 두 포개진 한천판 희석방법에 의하여 항균효과가 평가되었다.In vitro, the antimicrobial effect was assessed by two superposition agar plate dilution methods as described below.

트립티 케이스-대두즙(106생육세포/ml)에서 각 시험균주를 일주야 배양한 것을 한 백금 이에 취하고 항생제의 일정농도를 함유한 하아트 침출액한천(HI-agor)상에 배열한 다음 37℃에서 20시간 배양한 후 최소 저지농도(MIC)를 mcg/ml로 나타냈다.Each test strain was cultured in tripty case-soybean juice (10 6 viable cells / ml) for one night and one night, and arranged on HI-agor containing a certain concentration of antibiotics. After 20 hours of incubation, the minimum stopping concentration (MIC) was expressed in mcg / ml.

(1) 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-페닐글라이실아미노펜암-3-카르복실산(포 : 포도상구균 간 : 간균)(1) 2-methyl-2, 3-methylene-6-phenylglycosylaminophenam-3-carboxylic acid (fo: staphylococcus liver: bacilli)

포 : 25 간 : 1.56Four: 25 liver: 1.56

(2) 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[3-(2-클로로페닐)-5-메틸이속사졸-4-카르복스 아미도]펜암-3-카르복실산의 NN'-디벤질에틸렌디아민(2) NN'- of 2-methyl-2, 3-methylene-6- [3- (2-chlorophenyl) -5-methylisoxazole-4-carbox amido] phenam-3-carboxylic acid Dibenzylethylenediamine

포 : 50 간 : 12.5Four: 50 liver: 12.5

(3) 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[2-(2-티에닐)아세트아미도]펜암-3-카르복실산(3) 2-methyl-2, 3-methylene-6- [2- (2-thienyl) acetamido] phenam-3-carboxylic acid

포 : 12.5 간 : 1.56Four: 12.5 liver: 1.56

(4) 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[2-(2-클로로페녹시)-2-페닐 아세트아미도]펜암-3-카르복실산의 NN'-디벤질에틸렌 디아민염(4) NN'-dibenzylethylene diamine salt of 2-methyl-2, 3-methylene-6- [2- (2-chlorophenoxy) -2-phenyl acetamido] phenam-3-carboxylic acid

포 : 1.56 간 : 1.56Four: 1.56 Inter: 1.56

(5) 소디움 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[2-(1, 3, 4-티아디아졸-2-일티오)-아세트아미도]펜암-3-카르복실레이트(5) Sodium 2-methyl-2, 3-methylene-6- [2- (1, 3, 4-thiadiazol-2-ylthio) -acetamido] phenam-3-carboxylate

포 : 12.5 간 : 3.13Four: 12.5 liver: 3.13

(6) 소디움 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-(2-메틸티오 아세트아미도)펜암-3-카르복실레이트(6) Sodium 2-methyl-2, 3-methylene-6- (2-methylthio acetamido) phenam-3-carboxylate

포 : 12.5 간 : 3.13Four: 12.5 liver: 3.13

(7)소디움 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-(2-포르밀옥시-2-페닐아세트아미도)-펜암-3-카르복실레이트(7) sodium 2-methyl-2, 3-methylene-6- (2-formyloxy-2-phenylacetamido) -penam-3-carboxylate

포 : 12.5 간 : 1.56Four: 12.5 liver: 1.56

(8) 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-페닐티오카르보닐 아미노펜암-3-카르복실산(8) 2-methyl-2, 3-methylene-6-phenylthiocarbonyl aminophenam-3-carboxylic acid

포 : 200 간 : 100Four: 200 Liver: 100

(9) 소디움 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-(2-하이드록시-2-페닐아세트 아미도)펜암-3-카르복실레이트(9) Sodium 2-methyl-2, 3-methylene-6- (2-hydroxy-2-phenylacet amido) phenam-3-carboxylate

포 : 12.5 간 : 3.13Four: 12.5 liver: 3.13

(10) 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-푸탈이미도펜암-3-카르복실산의-디벤질에틸렌디아민염(10) -dibenzylethylenediamine salt of 2-methyl-2,3-methylene-6-phthalimidophenam-3-carboxylic acid

포 : 200 간 : 50Four: 200 Liver: 50

(11) 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-(2-페닐-2-세이카르바조노)-아세트아미도펜암-3-카르복실산(11) 2-Methyl-2, 3-methylene-6- (2-phenyl-2-seicarbazono) -acetamidophenam-3-carboxylic acid

포 : 50 간 : 3.13Four: 50 liver: 3.13

(12) 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-(1-시클로푸로필에톡시)카르보닐아미도 펜암-3-카르복실산의 N, N'-디벤질에틸렌디아민염(12) N, N'-dibenzylethylenediamine salt of 2-methyl-2, 3-methylene-6- (1-cyclofurophylethoxy) carbonylamido penam-3-carboxylic acid

포 : 6.25 간 : 6.26Four: 6.25 Inter: 6.26

(13) 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-(2-페닐아세트아미도)펜암-3-카르복실산(13) 2-methyl-2, 3-methylene-6- (2-phenylacetamido) phenam-3-carboxylic acid

포 : 25 간 : 3.13Four: 25 liver: 3.13

(14) 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[2-(1H-테트라졸-1-일)아세테이트]-펜암-3-카르복실산(14) 2-Methyl-2, 3-methylene-6- [2- (1H-tetrazol-1-yl) acetate] -phenam-3-carboxylic acid

포 : 50 간 : 12.5Four: 50 liver: 12.5

본 발명의 목적물(Ⅰ)은 예를들면 2- 저급 알킨-7-아실아미노-3-세펨-4-카르복실산 유도체와 같은 항균성 화합물의 주요한 중간체를 제조하는데 유용하기도 하다. 본 발명의 화합물(Ⅰ)은 다른 항생물질과 같이 유추하여 편리한 방법으로 투여하기 위하여 제제화한다. 화합물(Ⅰ)의 제제는 화합물(Ⅰ)에 외용이나 내용에 적합한 약학적 또는 무기의 부형제나 첨가제를 혼합하여 고형이나 반고형 또는 액체형으로 제제화하여 사용한다. 에를들면 정제, 환제, 캅셀제, 좌제, 액제, 현탁제, 유제 및 기타 사용하기 적당한 제제로 제제화하기 위해서 활성성분을 부형제와 같이 혼합한다. 사용되는 첨가제는 전분, 락토스, 아카시아껌, 젤라틴, 만니톨, 전분페이스트, 마으네시움트리실레케이트, 탈크옥수수전분, 케라틴, 콜로이도실리카, 감자전분, 우레아 기타 제제화 하기에 적합한 첨가제로 고형, 반고형, 액체형으로 제제함에 있어서 보조제, 안정제, 발색제를 함유할 수도 있다.Object (I) of the present invention is also useful for preparing major intermediates of antimicrobial compounds such as, for example, 2-lower alkyn-7-acylamino-3-cepem-4-carboxylic acid derivatives. Compound (I) of the present invention is formulated for administration in a convenient way by analogy with other antibiotics. Formulation of compound (I) is used in the form of a solid, semi-solid or liquid by mixing the compound (I) with a pharmaceutical or inorganic excipient or additive suitable for external use or content. For example, the active ingredient is mixed with excipients to formulate into tablets, pills, capsules, suppositories, solutions, suspensions, emulsions and other suitable formulations for use. The additives used are starch, lactose, acacia gum, gelatin, mannitol, starch paste, manesium trisilicate, talc corn starch, keratin, colloidal silica, potato starch, urea and other suitable additives for formulating solids, semis It may contain adjuvant, stabilizer, coloring agent in formulating in solid and liquid form.

또한 본 발명의 제제는 효과면에서 원하는 제제의 유효성분이 변질되지 않게 보존제와 방부제를 함유시킬 수 있다. 유효성분(Ⅰ)은 본 제제에 항균적인 충분한 효과를 가질 수 있는 량을 함유하고 있고, 이 제제의 유효성분 함유량은 각 환자의 치료에 조건과 년령에 따라 다르나 보통 1일 상용량이 0.5-5g이고 바람직하게는 활성성분1-2g/ℓ일을 목적화합물(Ⅰ)이 유용한 병을 치료하기 위하여 일반적으로 투여된다.In addition, the preparation of the present invention may contain a preservative and preservative so that the effective ingredient of the desired preparation is not deteriorated in effect. The active ingredient (I) contains an amount that can have a sufficient antimicrobial effect on the preparation, and the content of the active ingredient of the preparation varies depending on the conditions and ages for the treatment of each patient. Preferably 1-2 g / l of the active ingredient is generally administered to treat diseases in which the target compound (I) is useful.

본 발명에 대해 이제까지 일반적으로 설명해왔으나 보다 더 이해할 수 있게 하기 위해서 다음의 특수한 실시예를 들었으나 이는 구체적으로 설명 또는 기술한 것으로 별도 지적하지 않는 한 제한을 하고저 하는 것이 아니다.Although the present invention has been generally described so far, but in order to make it more understandable, the following specific embodiments have been given, which are described or described in detail, and are not intended to be limiting unless otherwise indicated.

[반응][reaction]

Figure kpo00010
Figure kpo00010

[실시예 1]Example 1

개미산 5ml중의 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-(1-시클로프로필에톡시)-카르보닐 아미노펜암-3-카르복실산 840mg의 용액을 실온에서 1.5시간 동안 교반한다. 반응이 끝난후 개미산을 감압하에서 증류하여 제거한다. 잔사를 에텔로 세척하고 물을 함유한 아세토니트릴을 가함으로 결정화시키로 그 결정물을 여과에 의하여 수집하면 2-메틸-2, 3-메틸렌-6-아미노펜암-3-카르복실산 380mg을 얻는다.A solution of 840 mg of 2-methyl-2, 3-methylene-6- (1-cyclopropylethoxy) -carbonyl aminophenam-3-carboxylic acid in 5 ml of formic acid is stirred at room temperature for 1.5 hours. After the reaction, formic acid is distilled off under reduced pressure. The residue was washed with ether, and acetonitrile containing water was crystallized. The crystals were collected by filtration to give 380 mg of 2-methyl-2, 3-methylene-6-aminophenam-3-carboxylic acid. .

(융점 200℃ 분해)(Decomposition of melting point 200 ℃)

적외선 흡수 스펙트럼(뉴졸)Infrared absorption spectrum (new sol)

1, 788, 1, 608cm-1 1, 788, 1, 608 cm -1

[실시예 2]Example 2

건조된 벤젠 10ml의 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-(2-페닐아세트 아미도)펜암-3-카르복실레이트 0.46g의 용액에 피리딘 0.12g과 오염화인 0.30g을 차례로 가하고 그 혼합물을 실온에서 2시간 동안 교반한다. 무수물의 메타놀 1ml을 -10℃에서 냉각시키면서 그 용액에 가하고 그 용액을 2시간 동안 교반한다. 그 용액에 -10℃에서 물5ml를 가하고 더욱이 10분 동안 교반한다.0.12 g of pyridine in a solution of 10 ml of dried benzene in 0.46 g of 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- (2-phenylacet amido) phenam-3-carboxylate And 0.30 g of phosphorus contaminant are added sequentially and the mixture is stirred at room temperature for 2 hours. 1 ml of methanol of anhydride is added to the solution while cooling at −10 ° C. and the solution is stirred for 2 hours. To the solution is added 5 ml of water at −10 ° C. and further stirred for 10 minutes.

반응이 완전히 끝난후 수층을 반응 혼합물로부터 완전히 분리하고 중탄산나트륨 수용액에 의하여 pH 8-9로 조정하고 에틸 아세테이트로 추출한다. 그 추출액을 망초상에서 건조시키고 감압하에서 용매를 증류하여 제거한 다음 그 잔사를 소량의 석유 에텔로 세척하고 소량의 에틸 아세테이트에 용해한다. 에틸 아세테이트의 P-톨루엔설폰산 모노하이드레이트의 용액을 그 용액에 가하고 침전은 여과에 의하여 수집한 다음 건조하면 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-아미노펜암-3-카르복실레이트-P-톨루엔설포네이트 25mg을 얻는다.After the reaction is complete, the aqueous layer is completely separated from the reaction mixture, adjusted to pH 8-9 with aqueous sodium bicarbonate solution and extracted with ethyl acetate. The extract is dried over manganese, the solvent is distilled off under reduced pressure, and the residue is washed with a small amount of petroleum ether and dissolved in a small amount of ethyl acetate. A solution of P-toluenesulfonic acid monohydrate of ethyl acetate was added to the solution, and the precipitate was collected by filtration and dried to give 2, 2, 2-trichloro ethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6-aminophen 25 mg of dark-3-carboxylate-P-toluenesulfonate are obtained.

(융점 179~180℃ 분해)(Decomposition of melting point 179 ~ 180 ℃)

적외선 흡수 스펙트럼(누졸)Infrared absorption spectrum (nusol)

1, 800, 1, 755cm-1 1, 800, 1, 755 cm -1

[실시예 3]Example 3

건조된 디클로로메탄 10ml중의 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-(2-페닐아세트아미노)펜암-3-카르복실레이트-1-β-옥사이드 960mg의 용액에 디메틸아니린 370mg과 오염화인 620mg을 차례로 -40℃에서 냉각시키면서 가하고 그 혼합물을 -30`-40℃에서 2시간 동안 교반하고 더욱이 -10~-20℃에서 30분 동안 교반한다. 그 용액을 -30~-40℃에서 냉각하고 무수물의 메타놀 0.7 ml을 그 용액에 적가하고 그 다음 그 혼합물을 -20~-30℃에서 2시간 동안 교반한다. 물 0.7ml을 반응혼합물에 가하고 그 용액을 빙냉하에서 1시간 동안 교반한다. 물 5-6ml을 혼합물에 가하고 수층을 분리하고 중탄산나트륨에 의하여 중화하고 에틸 아세테이트로 추출한다.960 mg of 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- (2-phenylacetamino) phenam-3-carboxylate-1-β-oxide in 10 ml of dried dichloromethane To the solution, 370 mg of dimethylaniline and 620 mg of phosphorus contaminant are sequentially added while cooling at -40 ° C, and the mixture is stirred at -30'-40 ° C for 2 hours and further stirred at -10 ~ -20 ° C for 30 minutes. The solution is cooled at -30 to -40 [deg.] C. and 0.7 ml of anhydrous methanolol is added dropwise to the solution and then the mixture is stirred at -20 to -30 [deg.] C. for 2 hours. 0.7 ml of water is added to the reaction mixture and the solution is stirred for 1 hour under ice-cooling. 5-6 ml of water are added to the mixture, the aqueous layer is separated, neutralized with sodium bicarbonate and extracted with ethyl acetate.

그 추출액을 물로 세척하고 망초상에서 건조하고 감압하에서 용매를 증류하여 제거한다.The extract is washed with water, dried over forget-me-not and the solvent is distilled off under reduced pressure.

오일상의 잔사를 소량의 석유 에텔로 세척하고 소량의 에틸아세테이트에 용해시킨 다음 에틸아세테이트 5ml중의 P-톨루엔설폰산모노 하이드레이트 120mg의 용액을 그 용액에 가한다. 침전은 여과에 의해서 수집하고 아세톤으로부터 분별결정화하면 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-아미노펜암-3-카르복실레이트-1-β-옥사이드-P-톨루엔설포 네이트 60mg을 얻는다.The oily residue is washed with a small amount of petroleum ether, dissolved in a small amount of ethyl acetate, and then a solution of 120 mg of P-toluenesulfonic acid monohydrate in 5 ml of ethyl acetate is added to the solution. The precipitate was collected by filtration and fractionated from acetone to give 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6-aminophenam-3-carboxylate-1-β-oxide-P 60 mg of toluenesulfonate is obtained.

(융점 176~179℃ 분해)(Decomposition of melting point 176 ~ 179 ℃)

적외선 흡수 스펙트럼(누졸)Infrared absorption spectrum (nusol)

1, 800, 1, 745cm-1 1, 800, 1, 745 cm -1

[실시예 4]Example 4

테트라하이드로 후란 70ml의 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-(2-벤질옥시카르복시미도)펜암-3-카르복실레이트 0.8g의 용액에 카르본상 1.5g의 10% 팔라디움을 가하고 출발물질을 실온에서 3시간 동안 촉매 환원시켰다. 반응이 끝난후 반응 혼합물을 여과하고 그 여액을 감압하에서 농축한 다음 잔사를 에틸아세테이트를 2ml에 용해시킨다. 이 용액에 에틸 아세테이트의 P-톨루엔설폰산의 용액을 가하고 침전되는 결정물을 여과하여 수집하고 에텔로 세척하고 건조하면 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-아미노펜암-3-카르복실레이트-P-톨루엔설포네이트 0.43g을 얻는다.Carbon phase 1.5 in a solution of 0.8 g of 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- (2-benzyloxycarboxyamido) phenam-3-carboxylate in 70 ml of tetrahydrofuran g of 10% palladium was added and the starting material was catalytically reduced for 3 hours at room temperature. After the reaction was completed, the reaction mixture was filtered, the filtrate was concentrated under reduced pressure, and the residue was dissolved in 2 ml of ethyl acetate. To this solution was added a solution of ethyl acetate P-toluenesulfonic acid, and the precipitated crystals were collected by filtration, washed with ether and dried to give 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene- 0.43 g of 6-aminophenam-3-carboxylate-P-toluenesulfonate is obtained.

(융해 179~180℃ 분해)(Decomposition of melting 179 ~ 180 ℃)

2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-아미노펜암-3-카르복실레이트-P-톨루엔살포네이트(융점 179~180℃ 분해)는 실시예 (2)~(4)에서 동일한 방법에 따라 얻어진다.2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6-aminophenam-3-carboxylate-P-toluenesalfonate (melting point 179-180 DEG C decomposition) is shown in Example (2). It is obtained according to the same method in (4).

다음 화합물의 각각은 출발물질로서 사용한다.Each of the following compounds is used as starting material.

(a) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[2(1H-테트라졸-1-일)아세트아미도]펜암-3-카르복실레이트 (융점 133~137℃)(a) 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- [2 (1H-tetrazol-1-yl) acetamido] penam-3-carboxylate (melting point 133 ~ 137 ℃)

(b) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[2-(2-티에닐)-아세트아미도]펜암-3-카르복실레이트 (융점 144~145℃)(b) 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- [2- (2-thienyl) -acetamido] penam-3-carboxylate (melting point 144- 145 ℃)

(c) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[2-페닐-2-(2-클로로페녹시)아세트아미도]펜암-3-카르복실레이트 (오일)(c) 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- [2-phenyl-2- (2-chlorophenoxy) acetamido] phenam-3-carboxylate (oil)

(d) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-(2-페닐-2-포르밀옥시아세트 아미도)펜암-3-카르복실레이트 (오일)(d) 2, 2, 2-trichloro ethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- (2-phenyl-2-formyloxyacetamido) phenam-3-carboxylate (oil)

(e) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[2-(1, 3, 4-티아디아졸-2-일티오)아세트아미도]펜암-3-카르복실레이트 (오일)(e) 2, 2, 2-trichloro ethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- [2- (1, 3, 4-thiadiazol-2-ylthio) acetamido] penam- 3-carboxylate (oil)

(f) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[2-(5-클로로-1H-벤조트리아졸-1-일)아세트아미도]펜암-3-카르복실레이트 (융점 164~166℃)(f) 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- [2- (5-chloro-1H-benzotriazol-1-yl) acetamido] penam-3 -Carboxylate (melting point: 164 ~ 166 ℃)

(g) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-(2-메틸티오 아세트아미도]펜암-3-카르복실레이트 (오일)(g) 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- (2-methylthio acetamido] phenam-3-carboxylate (oil)

(h) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[N-(1-시클로프로필에톡시)카르보닐페닐글라이실]아미노펜암-3-카르복실레이트 (무정형)(h) 2, 2, 2-trichloro ethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- [N- (1-cyclopropylethoxy) carbonylphenylglycyl] aminophenam-3-carboxylate (Amorphous)

(i) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[3-(2-클로로페닐)-5-메틸이속사졸-4-카르복사미도]펜암-3-카르복실레이트 (폼)(i) 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- [3- (2-chlorophenyl) -5-methylisoxazole-4-carboxamido] penam- 3-carboxylate (foam)

(j) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[2-페닐-2-세미카르바조노 아세트아미도]펜암-3-카르복실레이트 (융점 200~201℃ 분해)(j) 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- [2-phenyl-2-semicarbazono acetamido] penam-3-carboxylate (melting point 200 ~ 201 ℃ decomposition)

(k) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-2-(1H-테트라졸-1-일)아세트아미도펜암-3-카르복실레이트-1-β-옥사이드 (융점 189~192℃ 분해)(k) 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6-2- (1H-tetrazol-1-yl) acetamidophenam-3-carboxylate-1- β-oxide (melting point 189 ~ 192 ℃ decomposition)

(l) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[2-(2-티에닐)-아세트아미이도]펜암-3-카르복실레이트-1-β-옥사이드 (융점 118.5~122℃ 분해)(l) 2, 2, 2-trichloro ethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- [2- (2-thienyl) -acetamido] penam-3-carboxylate-1-β Oxide (melting point: 118.5 ~ 122 ℃)

(m) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[2-페닐-2-(2-클로로페녹시)아세트아미도]펜암-3-카르복실레이트-1-β-옥사이드 (오일)(m) 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- [2-phenyl-2- (2-chlorophenoxy) acetamido] phenam-3-carboxylate -1-β-oxide (oil)

(n) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-(2-페닐-2-포르밀옥시아세트아미도)펜암-3-카르복실레이트-1-β-옥사이드 (융점 151.5~153.5℃ 분해)(n) 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- (2-phenyl-2-formyloxyacetamido) penam-3-carboxylate-1-β Oxide (melting point 151.5 ~ 153.5 ℃ decomposition)

(o) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[2-(1, 3, 4-티아디아졸-2-일티오)-아세트아미도]펜암-3-카르복실레이트-1-β-옥사이드 (오일)(o) 2, 2, 2-trichloro ethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- [2- (1, 3, 4-thiadiazol-2-ylthio) -acetamido] penam 3-carboxylate-1-β-oxide (oil)

(p) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[2-(5-클로로-1H-벤조트리아졸-1-일)-아세트아미도]펜암-3-카르복실레이트-1-β-옥사이드 (융점 145~149℃ 분해)(p) 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- [2- (5-chloro-lH-benzotriazol-1-yl) -acetamido] penam- 3-carboxylate-1-β-oxide (melting point 145 ~ 149 ℃ decomposition)

(q) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-(2-메틸티오 아세트 아마이도)펜암-3-카르복실레이트-1-β-옥사이드 (융점 177℃ 분해)(q) 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- (2-methylthio acetamide) penam-3-carboxylate-1-β-oxide (melting point 177 ℃ decomposition)

(r) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-(1-시클로프로필에톡시)-카르보닐아미노펜암-3-카르복실레이트-1-β-옥사이드 (오일)(r) 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- (1-cyclopropylethoxy) -carbonylaminophenam-3-carboxylate-1-β-oxide (oil)

(s) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[N-(1-시클로프로필에톡시)카르보닐페닐글라이실]아미노펜암-3-카르복실레이트-1-β-옥사이드 (기포형)(s) 2, 2, 2-trichloro ethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- [N- (1-cyclopropylethoxy) carbonylphenylglycyl] aminophenam-3-carboxylate -1-β-oxide (bubble type)

(t) 2, 2, 2-트리클로로 에틸-2-메틸-2, 3-메틸렌-6-[3-(2-클로로페닐)-5-메틸이속사졸-4-카르복사마이도]펜암-3-카르복실레이트-1-β-옥사이드 (무정형)(t) 2, 2, 2-trichloroethyl-2-methyl-2, 3-methylene-6- [3- (2-chlorophenyl) -5-methylisoxazole-4-carboxamido] penam 3-carboxylate-1-β-oxide (amorphous)

Claims (1)

다음 일반식(Ⅰc)의 화합물에서 아미노 보호기를 제거 반응시켜 다음 일반식(Ⅰd)의 새로운 화합물을 제조하는 방법Method for preparing a new compound of the following general formula (Id) by removing the amino protecting group from the compound of the following general formula (Ic)
Figure kpo00011
Figure kpo00011
상기식에서In the above formula R2는 카르복시 또는 보호카르복시이고R 2 is carboxy or protective carboxy R3는 저급 알킬이고R 3 is lower alkyl R4는 저급 알킬렌이며R 4 is lower alkylene X는 -S-,
Figure kpo00012
이고
X is -S-,
Figure kpo00012
ego
R1a는 보호아미노이다.R 1a is a protective amino.
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