KR20240129583A - Embedded Electrode for delivering the Electric Field on object - Google Patents
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Abstract
본 발명의 일실시예에 따른 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극은 3차원 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극에 있어서, 일면이 3차원 대상체의 표면과 접촉하는 전도성 매개체, 전도성 매개체의 타면에 구비되는 세라믹 및 세라믹 내에 구비된 전도체를 포함하되, 전도체 및 세라믹은 모두 원통 형상이고, 전도체의 반지름은 상기 세라믹의 반지름보다 10% 이상 작은 것을 포함하는 것으로, 임베디드 전극의 구조를 변경하여, 에지 효과를 최소화하고, 대상체에 전달되는 전기장의 세기를 최대화할 수 있는 효과가 있다.According to one embodiment of the present invention, an embedded electrode for transmitting an electric field to a target object is an embedded electrode for transmitting an electric field to a three-dimensional target object, comprising: a conductive medium having one surface in contact with a surface of the three-dimensional target object; a ceramic provided on the other surface of the conductive medium; and a conductor provided in the ceramic, wherein both the conductor and the ceramic have a cylindrical shape, and a radius of the conductor is 10% or more smaller than a radius of the ceramic. By changing the structure of the embedded electrode, there is an effect of minimizing the edge effect and maximizing the intensity of the electric field transmitted to the target object.
Description
본 발명은 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극의 구조를 변경하여, 에지 효과를 최소화하고 전달되는 전기장의 세기를 최대화할 수 있는 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극에 관한 것이다.The present invention relates to an embedded electrode for transmitting an electric field to a target object, and more specifically, to an embedded electrode for transmitting an electric field to a target object, which can minimize edge effects and maximize the intensity of the transmitted electric field by changing the structure of the embedded electrode for transmitting an electric field to the target object.
고주파 치료는 교류 전력(또는 전압, 전류)을 이용하여 인체에 에너지를 인가하고 이를 이용하여 질병 치료 및 증상 개선을 목적으로 하는 의학적인 접근 방법이다. 이는 에너지를 이용하여 조직의 혈류, 대사 활동, 염증 등을 조절하여 다양한 증상을 완화하거나 치료하는 데 사용된다. High-frequency therapy is a medical approach that uses alternating current (or voltage, current) to apply energy to the human body and uses it to treat diseases and improve symptoms. It is used to alleviate or treat various symptoms by controlling blood flow, metabolic activity, and inflammation in tissues using energy.
일 예로, 암 세포에 대한 고주파 온열 치료는 암 조직에 고온 열 에너지를 인가하여 암 세포를 손상시키는 원리를 이용한다. 암 세포는 정상 세포보다 열에 민감하여, 상대적으로 높은 온도로 노출될 경우 세포 내부의 생리작용이 이상하게 되거나 세포막이 손상되어 세포 사멸을 초래할 수 있고 혈전이 생성되어 혈류량이 감소하게 되는데 이로 인해 영양공급이 차단되어 괴사될 수 있다.For example, high-frequency hyperthermia treatment for cancer cells uses the principle of damaging cancer cells by applying high-temperature heat energy to cancer tissue. Cancer cells are more sensitive to heat than normal cells, and when exposed to relatively high temperatures, the physiological functions inside the cells become abnormal or the cell membrane is damaged, which can lead to cell death, and blood clots are formed, which reduces blood flow, which can block the supply of nutrients and cause necrosis.
현재 상용화된 전기장 종양 치료법(Tumor Treating Fields, 이하 TTFields)은 재발된 교모세포종, 신규 진단된 교모세포종에 대해 FDA 허가를 획득한 검증된 암치료법이다.Currently commercialized, tumor treating fields (TTFields) are a proven cancer treatment that has received FDA approval for recurrent and newly diagnosed glioblastomas.
대상체의 타겟 영역에 치료 전기장을 전달하기 위한 전기장 종양 치료 시스템은 제너레이터(generator, 교류 신호 발생기), 분배기, 복수의 전극 어레이(전극 패드 또는 트랜스듀서 어레이)로 구성된다. 특허문헌1 내지 특허문헌2에 따르면, 각 전극 어레이는 대상체의 표면에 부착되는 복수의 개별 전극으로 구성된다. 여기서 전극 어레이에 연결되는 전류 패스를 위한 전선에 개별 전극들이 병렬로 연결된다. 즉, 개별 전극들은 같은 전압을 공유하는 표면(isopotential surface)을 가진다.An electric field tumor treatment system for delivering a therapeutic electric field to a target area of a subject comprises a generator (alternating current signal generator), a distributor, and a plurality of electrode arrays (electrode pads or transducer arrays). According to patent documents 1 and 2, each electrode array comprises a plurality of individual electrodes attached to a surface of a subject. Here, the individual electrodes are connected in parallel to wires for a current path connected to the electrode array. That is, the individual electrodes have surfaces that share the same voltage (isopotential surfaces).
전형적인 개별 전극은 원통형 유전체(세라믹)로 구성된 용량 결합(capacitive coupled) 전극이고, 각 전극은 전기 전도성 의료용 젤(하이드로겔)과 압력을 주기 위한 접착 테이프 사이에 끼워져 있다. 의료용 젤은 환자의 윤곽에 따라 딱딱한 전극과 피부 사이를 전기적으로 연결한다.A typical individual electrode is a capacitively coupled electrode made of a cylindrical dielectric (ceramic), each electrode sandwiched between an electrically conductive medical gel (hydrogel) and adhesive tape to apply pressure. The medical gel electrically connects the rigid electrode to the skin, following the contour of the patient.
뇌종양(Glioblastoma)을 위한 전형적인 전극 어레이는 직경 1.8cm 정도인 개별 전극 9개가 3X3의 매트릭스 구조로 구성되며, 개별 전극에는 전극과 피부 사이의 온도를 측정하기 위해 온도 센서가 전극에 열 접촉(thermal contact)된다. 제너레이터는 분배기를 통해 서로 직교인 두 방향을 커버하기 위한 2쌍의 전극 어레이(제1 전극 어레이 쌍과 제2 전극 어레이 쌍)와 연결된다. 분배기는 제1 시간(1초) 동안 제1 전극 어레이 쌍을 연결하여 전류를 흘려 주고, 다음 제2 시간(1초) 동안 제2 전극 어레이 쌍을 선택하여 전류를 흘려 준다. 이 순환 동작(cyclic operation)은 치료가 진행되는 동안 지속한다. 제너레이터에서 발생하는 교류 전류는 분배기를 통해 선택된 전극 어레이 쌍(제1 전극 어레이와 제2 전극 어레이)으로 연결되어 제1 전극 어레이의 전극들과 각 전극이 부착된 대상체의 피부 및 대상체의 체내, 제2 전극 어레이의 개별전극이 부착된 대상체의 피부, 제2 전극 어레이의 전극들이 만드는 전류 패스를 따라 흐르게 된다. 이때 암세포의 타겟 영역에 일정 세기(1V/cm) 이상의 치료 전기장이 전달되고, 이 치료 전기장은 분열하는 암세포의 분열을 방해하거나, 지연시킴으로써 암세포를 파괴하게 된다.A typical electrode array for glioblastoma consists of nine individual electrodes, each about 1.8 cm in diameter, arranged in a 3X3 matrix configuration, each of which has a temperature sensor in thermal contact with the electrode to measure the temperature between the electrode and the skin. A generator is connected to two pairs of electrode arrays (a first electrode array pair and a second electrode array pair) to cover two orthogonal directions through a distributor. The distributor connects the first electrode array pair for a first time (1 second) and supplies current, and then selects the second electrode array pair for a second time (1 second) and supplies current. This cyclic operation continues during the treatment. The alternating current generated from the generator is connected to a selected electrode array pair (the first electrode array and the second electrode array) through a distributor, and flows along the current path created by the electrodes of the first electrode array, the skin of the subject to which each electrode is attached, the body of the subject, the skin of the subject to which the individual electrodes of the second electrode array are attached, and the electrodes of the second electrode array. At this time, a therapeutic electric field having a certain intensity (1 V/cm) or greater is delivered to the target area of the cancer cells, and this therapeutic electric field destroys the cancer cells by interfering with or delaying the division of the dividing cancer cells.
암세포 분열의 축과 전기장의 방향이 일치할 때 치료 효과가 커지고 서로 수직이면 치료 효과는 사라진다. 암세포는 모든 방향으로 분열하므로 2쌍의 전극 어레이를 서로 직교가 되도록 배치하고 교대로 치료 전기장을 전달한다. 상기 교류 전류의 주파수는 50 ~ 500kHz 범위에서 타겟 종양세포의 종류와 크기에 따라 최적 주파수가 결정된다. 분배기를 통해 제1 전극 어레이 쌍과 제2 전극 어레이 쌍을 교대로 선택하여 치료 전기장을 타겟 영역에 전달할 때 개별 전극의 온도가 한계 온도(섭씨 41도) 이상으로 올라가면, 대상체의 화상 위험 등의 이유로, 온도가 다시 한계 온도 이하가 될 때까지 치료를 중단한다.When the axis of cancer cell division and the direction of the electric field are aligned, the therapeutic effect increases, and when they are perpendicular to each other, the therapeutic effect disappears. Since cancer cells divide in all directions, two pairs of electrode arrays are arranged orthogonally to each other and the therapeutic electric field is delivered alternately. The frequency of the AC current is determined optimally according to the type and size of the target tumor cells in the range of 50 to 500 kHz. When the first electrode array pair and the second electrode array pair are alternately selected through the distributor to deliver the therapeutic electric field to the target area, if the temperature of each electrode rises above the limit temperature (41 degrees Celsius), the treatment is stopped until the temperature falls below the limit temperature again due to reasons such as the risk of burns to the subject.
한편, 종래의 전기장 종양 치료법에 따르면 전기장 종양 치료기는 하나의 제너레이터와 연결된 복수의 전극 어레이로 구성되어 있다. 전극 어레이는 복수의 개별 전극으로 구성되어 있다. 개별 전극은 신체와 용량 결합하기 위한 세라믹과 전류를 인가하기 위한 동일한 크기의 전도체로 이루어져 있다. 전극의 전류 밀도 분포가 균등하지 않고, 전극의 가장자리에서 전류밀도가 급격히 상승하는 에지 효과(edge effect)로 인하여 화상을 야기할 수 있는 문제점이 있다. 또한 용량결합 전극을 사용함으로써 발생하는 전극의 임피던스로 인하여 종양 치료 전기장의 세기가 약해지는 문제점이 있다.Meanwhile, according to the conventional electric field tumor treatment method, the electric field tumor treatment device is composed of a plurality of electrode arrays connected to a single generator. The electrode array is composed of a plurality of individual electrodes. The individual electrodes are composed of ceramics for capacitive coupling with the body and conductors of the same size for applying current. There is a problem that the current density distribution of the electrodes is not uniform, and burns may be caused due to the edge effect in which the current density rapidly increases at the edge of the electrode. In addition, there is a problem that the intensity of the tumor treatment electric field is weakened due to the impedance of the electrode caused by using the capacitive coupling electrode.
따라서, 치료 효과를 높이고, 안전성을 높이고, 위험을 낮추기 위해서는 에지 효과를 최소화하고, 대상체에 전달되는 전기장의 세기를 최대화할 수 있는 임베디드 전극이 필요한 실정이다.Therefore, in order to increase therapeutic efficacy, increase safety, and reduce risk, an embedded electrode that can minimize edge effects and maximize the intensity of the electric field delivered to the subject is required.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극의 구조를 변경하여, 에지 효과를 최소화하고 전달되는 전기장의 세기를 최대화할 수 있는, 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극을 제공하는 것이다.An object of the present invention to solve the above problems is to provide an embedded electrode that transmits an electric field to a target object, which can minimize edge effects and maximize the intensity of the transmitted electric field by changing the structure of the embedded electrode that transmits the electric field to the target object.
위와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극은 3차원 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극에 있어서, 일면이 3차원 대상체의 표면과 접촉하는 전도성 매개체; 상기 전도성 매개체의 타면에 구비되는 세라믹; 및 상기 세라믹 내에 구비된 전도체를 포함하되, 상기 전도체 및 세라믹은 모두 원통 형상이고, 상기 전도체의 반지름은 상기 세라믹의 반지름보다 10% 이상 작은 것일 수 있다.According to one embodiment of the present invention for solving the above-mentioned problem, an embedded electrode for transmitting an electric field to a target object is provided, wherein the embedded electrode for transmitting an electric field to a three-dimensional target object comprises: a conductive medium having one surface in contact with a surface of the three-dimensional target object; a ceramic provided on the other surface of the conductive medium; and a conductor provided in the ceramic, wherein both the conductor and the ceramic have a cylindrical shape, and the radius of the conductor may be 10% or more smaller than the radius of the ceramic.
여기에서, 상기 원통 형상 전도체의 중심축 및 원통 형상 세라믹의 중심축은 하나의 직선 상에 위치하는 것일 수 있다.Here, the central axis of the cylindrical conductor and the central axis of the cylindrical ceramic may be positioned on a single straight line.
여기에서, 상기 세라믹의 두께는 1mm 이하이고, 상기 세라믹의 반지름(Ra)은 9mm 이하인 것일 수 있다.Here, the thickness of the ceramic may be 1 mm or less, and the radius (Ra) of the ceramic may be 9 mm or less.
여기에서, 상기 전도체 하단 경계면부터 상기 세라믹 하단 경계면까지의 거리(d1)는 0.5mm 이상이고, 0.9mm 이하인 것일 수 있다.Here, the distance (d1) from the lower boundary surface of the conductor to the lower boundary surface of the ceramic may be 0.5 mm or more and 0.9 mm or less.
여기에서, 상기 전도체의 반지름(Rb)은 5mm 이상이고, 상기 세라믹의 반지름(Ra)의 90% 이하인 것일 수 있다.Here, the radius (Rb) of the conductor may be 5 mm or more and 90% or less of the radius (Ra) of the ceramic.
여기에서, 상기 전도체 하단 경계면부터 상기 세라믹 하단 경계면까지의 거리(d1)가 증가할수록, 상기 대상체에 인가되는 전류밀도의 1번째 피크 및 2번째 피크가 모두 감소하는 것일 수 있다.Here, as the distance (d1) from the lower boundary surface of the conductor to the lower boundary surface of the ceramic increases, both the first peak and the second peak of the current density applied to the target may decrease.
여기에서, 상기 전도체의 반지름(Rb)이 감소할수록, 상기 대상체에 인가되는 전류밀도의 2번째 피크가 감소하는 것일 수 있다.Here, as the radius (Rb) of the conductor decreases, the second peak of the current density applied to the target may decrease.
여기에서, 상기 전도성 매개체는 하이드로겔인 것일 수 있다.Here, the conductive medium may be a hydrogel.
여기에서, 상기 전도체가 상기 세라믹에 맞닿아 있는 면적이 증가할수록, 상기 전극 자체의 임피던스가 낮게 형성되는 것일 수 있다.Here, as the area in which the conductor is in contact with the ceramic increases, the impedance of the electrode itself may be formed to be lower.
본 발명에 따르면, 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극의 구조를 변경하여, 에지 효과를 최소화하고, 대상체에 전달되는 전기장의 세기를 최대화할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, by changing the structure of an embedded electrode that transmits an electric field to a target object, there is an effect of minimizing the edge effect and maximizing the intensity of the electric field transmitted to the target object.
더불어, 대상체에 전달되는 전기장의 세기를 최대화하므로, 대상체에 대한 전기장 치료의 효과를 극대화 시킬 수 있는 장점이 있다.In addition, it has the advantage of maximizing the intensity of the electric field delivered to the subject, thereby maximizing the effect of electric field treatment on the subject.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극을 설명하기 위한 전극의 도면이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.2mm일때, 전도체의 반지름이 5mm부터 9mm까지의 경우(도 2(a)부터 도 2(e)까지)의 임베디드 전극의 중심부터 하이드로겔 가장자리 까지의 전류밀도 분포이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.2mm일때, 전도체의 반지름을 5mm부터 9mm까지 1mm씩 변경하였을 경우의 전류밀도 분포이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.4mm일때, 전도체의 반지름이 5mm부터 9mm까지의 경우(도 4(a)부터 도 4(e)까지)의 임베디드 전극의 중심부터 하이드로겔 가장자리 까지의 전류밀도 분포이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.4mm일때, 전도체의 반지름을 5mm부터 9mm까지 1mm씩 변경하였을 경우의 전류밀도 분포이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.6mm일때, 전도체의 반지름이 5mm부터 9mm까지의 경우(도 6(a)부터 도 6(e)까지)의 임베디드 전극의 중심부터 하이드로겔 가장자리 까지의 전류밀도 분포이다.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.6mm일때, 전도체의 반지름을 5mm부터 9mm까지 1mm씩 변경하였을 경우의 전류밀도 분포이다.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.8mm일때, 전도체의 반지름이 5mm부터 9mm까지의 경우(도 8(a)부터 도 8(e)까지)의 임베디드 전극의 중심부터 하이드로겔 가장자리 까지의 전류밀도 분포이다.
도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.8mm일때, 전도체의 반지름을 5mm부터 9mm까지 1mm씩 변경하였을 경우의 전류밀도 분포이다.
도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 전극을 부착하여 전압을 인가하기위한 시뮬레이션 팬텀과 전기장 계산 지점을 설명하기 위한 도면이다.
도 11은 종래의 전극을 통해 종양 치료 전기장을 인가하였을 때 대상체 중심에 형성되는 전기장의 세기에 대한 시뮬레이션 결과이다.
도 12는 종래의 전극에서 전도체의 반지름을 세라믹의 반지름보다 작게 형성되었을 때 대상체 중심에 형성되는 전기장의 세기에 대한 시뮬레이션 결과이다.
도 13은 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극을 통해 종양 치료 전기장을 인가하였을 때 대상체 중심에 형성되는 전기장의 세기에 대한 시뮬레이션 결과이다.FIG. 1 is a drawing of an electrode for explaining an embedded electrode that transmits an electric field to a target according to one embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a current density distribution from the center of the embedded electrode to the edge of the hydrogel when the length of d1 in the embedded electrode is 0.2 mm and the radius of the conductor is from 5 mm to 9 mm (from FIG. 2(a) to FIG. 2(e)) according to one embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a current density distribution when the length of d1 in an embedded electrode according to one embodiment of the present invention is 0.2 mm and the radius of the conductor is changed by 1 mm from 5 mm to 9 mm.
FIG. 4 is a current density distribution from the center of the embedded electrode to the edge of the hydrogel when the length of d1 in the embedded electrode is 0.4 mm and the radius of the conductor is from 5 mm to 9 mm (from FIG. 4(a) to FIG. 4(e)) according to one embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a current density distribution when the length of d1 in an embedded electrode according to one embodiment of the present invention is 0.4 mm and the radius of the conductor is changed by 1 mm from 5 mm to 9 mm.
FIG. 6 is a current density distribution from the center of the embedded electrode to the edge of the hydrogel when the length of d1 in the embedded electrode is 0.6 mm and the radius of the conductor is from 5 mm to 9 mm (from FIG. 6(a) to FIG. 6(e)) according to one embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a current density distribution when the length of d1 in an embedded electrode according to one embodiment of the present invention is 0.6 mm and the radius of the conductor is changed by 1 mm from 5 mm to 9 mm.
FIG. 8 is a current density distribution from the center of the embedded electrode to the edge of the hydrogel when the length of d1 in the embedded electrode is 0.8 mm and the radius of the conductor is from 5 mm to 9 mm (from FIG. 8(a) to FIG. 8(e)) according to one embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a current density distribution when the length of d1 in an embedded electrode according to one embodiment of the present invention is 0.8 mm and the radius of the conductor is changed by 1 mm from 5 mm to 9 mm.
FIG. 10 is a drawing for explaining a simulation phantom and an electric field calculation point for applying voltage by attaching an electrode in an embedded electrode according to one embodiment of the present invention.
Figure 11 is a simulation result of the intensity of the electric field formed at the center of the target when a tumor treatment electric field is applied through a conventional electrode.
Figure 12 is a simulation result of the intensity of the electric field formed at the center of the object when the radius of the conductor in a conventional electrode is formed smaller than the radius of the ceramic.
FIG. 13 is a simulation result of the intensity of an electric field formed at the center of a target when a tumor treatment electric field is applied through an embedded electrode according to one embodiment of the present invention.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다.Hereinafter, with reference to the attached drawings, embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily implement the present invention. The present invention may be implemented in various different forms and is not limited to the embodiments described herein.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly explain the present invention, parts irrelevant to the description are omitted, and the same reference numerals are used for identical or similar components throughout the specification.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우 뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 "전기적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is said to be "connected" to another part, this includes not only the case where it is "directly connected" but also the case where it is "electrically connected" with another element in between. Also, when a part is said to "include" a component, this does not mean that it excludes other components, but rather that it may include other components, unless otherwise specifically stated.
어느 부분이 다른 부분의 "위에" 있다고 언급하는 경우, 이는 바로 다른 부분의 위에 있을 수 있거나 그 사이에 다른 부분이 수반될 수 있다. 대조적으로 어느 부분이 다른 부분의 "바로 위에" 있다고 언급하는 경우, 그 사이에 다른 부분이 수반되지 않는다.When a part is said to be "on" another part, it may be directly on top of the other part, or there may be other parts involved. In contrast, when a part is said to be "directly on" another part, there are no other parts involved.
제1, 제2 및 제3 등의 용어들은 다양한 부분, 성분, 영역, 층 및/또는 섹션들을 설명하기 위해 사용되나 이들에 한정되지 않는다. 이들 용어들은 어느 부분, 성분, 영역, 층 또는 섹션을 다른 부분, 성분, 영역, 층 또는 섹션과 구별하기 위해서만 사용된다. 따라서, 이하에서 서술하는 제1 부분, 성분, 영역, 층 또는 섹션은 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 제2 부분, 성분, 영역, 층 또는 섹션으로 언급될 수 있다.The terms first, second, and third, etc. are used to describe, but are not limited to, various parts, components, regions, layers, and/or sections. These terms are only used to distinguish one part, component, region, layer, or section from another part, component, region, layer, or section. Thus, a first part, component, region, layer, or section described below may also be referred to as a second part, component, region, layer, or section without departing from the scope of the present invention.
여기서 사용되는 전문 용어는 단지 특정 실시예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다. 여기서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함하는"의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to limit the invention. The singular forms used herein include the plural forms as well, unless the context clearly dictates otherwise. The word "comprising," as used herein, specifies particular features, regions, integers, steps, operations, elements, and/or components, but does not exclude the presence or addition of other features, regions, integers, steps, operations, elements, and/or components.
"아래", "위" 등의 상대적인 공간을 나타내는 용어는 도면에서 도시된 한 부분의 다른 부분에 대한 관계를 보다 쉽게 설명하기 위해 사용될 수 있다. 이러한 용어들은 도면에서 의도한 의미와 함께 사용 중인 장치의 다른 의미나 동작을 포함하도록 의도된다. 예를 들면, 도면 중의 장치를 뒤집으면, 다른 부분들의 "아래"에 있는 것으로 설명된 어느 부분들은 다른 부분들의 "위"에 있는 것으로 설명된다. 따라서 "아래"라는 예시적인 용어는 위와 아래 방향을 전부 포함한다. 장치는 90도 회전 또는 다른 각도로 회전할 수 있고, 상대적인 공간을 나타내는 용어도 이에 따라서 해석된다.Terms indicating relative space, such as "below", "above", etc., may be used to more easily describe the relationship of one part to another part depicted in the drawings. These terms are intended to encompass other meanings or operations of the device being used along with the intended meaning in the drawings. For example, if the device in the drawings is turned over, some parts described as being "below" other parts are described as being "above" the other parts. Thus, the exemplary term "below" includes both the up and down directions. The device may be rotated 90 degrees or at other angles, and the relative space terms interpreted accordingly.
다르게 정의하지는 않았지만, 여기에 사용되는 기술용어 및 과학용어를 포함하는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 일반적으로 이해하는 의미와 동일한 의미를 가진다. 보통 사용되는 사전에 정의된 용어들은 관련 기술문헌과 현재 개시된 내용에 부합하는 의미를 가지는 것으로 추가 해석되고, 정의되지 않는 한 이상적이거나 매우 공식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms, including technical and scientific terms, used herein have the same meaning as commonly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. Terms defined in commonly used dictionaries are additionally interpreted as having a meaning consistent with the relevant technical literature and the presently disclosed content, and are not interpreted in an ideal or very formal sense unless defined.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다.Hereinafter, with reference to the attached drawings, embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily implement the present invention. However, the present invention may be implemented in various different forms and is not limited to the embodiments described herein.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극을 설명하기 위한 전극의 도면이다. 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.2mm일때, 전도체의 반지름이 5mm부터 9mm까지의 경우(도 2(a)부터 도 2(e)까지)의 임베디드 전극의 중심부터 하이드로겔 가장자리 까지의 전류밀도 분포이다. 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.2mm일때, 전도체의 반지름을 5mm부터 9mm까지 1mm씩 변경하였을 경우의 전류밀도 분포이다. 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.4mm일때, 전도체의 반지름이 5mm부터 9mm까지의 경우(도 4(a)부터 도 4(e)까지)의 임베디드 전극의 중심부터 하이드로겔 가장자리 까지의 전류밀도 분포이다. 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.4mm일때, 전도체의 반지름을 5mm부터 9mm까지 1mm씩 변경하였을 경우의 전류밀도 분포이다. 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.6mm일때, 전도체의 반지름이 5mm부터 9mm까지의 경우(도 6(a)부터 도 6(e)까지)의 임베디드 전극의 중심부터 하이드로겔 가장자리 까지의 전류밀도 분포이다. 도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.6mm일때, 전도체의 반지름을 5mm부터 9mm까지 1mm씩 변경하였을 경우의 전류밀도 분포이다. 도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.8mm일때, 전도체의 반지름이 5mm부터 9mm까지의 경우(도 8(a)부터 도 8(e)까지)의 임베디드 전극의 중심부터 하이드로겔 가장자리 까지의 전류밀도 분포이다. 도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 d1의 길이가 0.8mm일때, 전도체의 반지름을 5mm부터 9mm까지 1mm씩 변경하였을 경우의 전류밀도 분포이다.FIG. 1 is a diagram of an electrode for explaining an embedded electrode that transmits an electric field to a target according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a current density distribution from the center of the embedded electrode to the edge of the hydrogel when the length of d1 in the embedded electrode is 0.2 mm and the radius of the conductor is from 5 mm to 9 mm (from FIG. 2(a) to FIG. 2(e)) according to an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a current density distribution when the length of d1 in the embedded electrode is 0.2 mm and the radius of the conductor is changed by 1 mm from 5 mm to 9 mm according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a current density distribution from the center of the embedded electrode to the edge of the hydrogel when the length of d1 is 0.4 mm in the embedded electrode according to an embodiment of the present invention and the radius of the conductor is from 5 mm to 9 mm (from FIG. 4(a) to FIG. 4(e)). FIG. 5 is a current density distribution when the length of d1 is 0.4 mm in the embedded electrode according to an embodiment of the present invention and the radius of the conductor is changed by 1 mm from 5 mm to 9 mm. FIG. 6 is a current density distribution from the center of the embedded electrode to the edge of the hydrogel when the length of d1 is 0.6 mm in the embedded electrode according to an embodiment of the present invention and the radius of the conductor is from 5 mm to 9 mm (from FIG. 6(a) to FIG. 6(e)). FIG. 7 is a current density distribution when the length of d1 in an embedded electrode is 0.6 mm and the radius of the conductor is changed from 5 mm to 9 mm by 1 mm in steps of 1 mm according to an embodiment of the present invention. FIG. 8 is a current density distribution from the center of the embedded electrode to the edge of the hydrogel when the length of d1 in an embedded electrode is 0.8 mm and the radius of the conductor is from 5 mm to 9 mm (from FIG. 8(a) to FIG. 8(e)) in steps of 1 mm according to an embodiment of the present invention. FIG. 9 is a current density distribution when the length of d1 in an embedded electrode is 0.8 mm and the radius of the conductor is changed from 5 mm to 9 mm by 1 mm in steps of 1 mm according to an embodiment of the present invention.
도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극에서 전극을 부착하여 전압을 인가하기위한 시뮬레이션 팬텀과 전기장 계산 지점을 설명하기 위한 도면이다. 도 11은 종래의 전극을 통해 종양 치료 전기장을 인가하였을 때 대상체 중심에 형성되는 전기장의 세기에 대한 시뮬레이션 결과이다. 도 12는 종래의 전극에서 전도체의 반지름을 세라믹의 반지름보다 작게 형성되었을 때 대상체 중심에 형성되는 전기장의 세기에 대한 시뮬레이션 결과이다. 도 13은 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 전극을 통해 종양 치료 전기장을 인가하였을 때 대상체 중심에 형성되는 전기장의 세기에 대한 시뮬레이션 결과이다.FIG. 10 is a diagram for explaining a simulation phantom and an electric field calculation point for applying voltage by attaching an electrode in an embedded electrode according to an embodiment of the present invention. FIG. 11 is a simulation result for the intensity of an electric field formed at the center of a target object when a tumor treatment electric field is applied through a conventional electrode. FIG. 12 is a simulation result for the intensity of an electric field formed at the center of a target object when the radius of a conductor in a conventional electrode is formed smaller than the radius of a ceramic. FIG. 13 is a simulation result for the intensity of an electric field formed at the center of a target object when a tumor treatment electric field is applied through an embedded electrode according to an embodiment of the present invention.
먼저, 도 1 내지 도 13을 함께 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극(100)은 3차원 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극에 있어서, 일면이 3차원 대상체의 표면과 접촉하는 전도성 매개체(103); 상기 전도성 매개체(103)의 타면에 구비되는 세라믹(102); 및 상기 세라믹(102) 내에 구비된 전도체(101)를 포함하되, 상기 전도체(101) 및 세라믹(102)은 모두 원통 형상이고, 상기 전도체(101)의 반지름은 상기 세라믹(102)의 반지름보다 10% 이상 작은 것일 수 있다.First, referring to FIGS. 1 to 13 together, an embedded electrode (100) for transmitting an electric field to a target according to an embodiment of the present invention includes a conductive medium (103) having one surface in contact with a surface of the three-dimensional target; a ceramic (102) provided on the other surface of the conductive medium (103); and a conductor (101) provided in the ceramic (102), wherein both the conductor (101) and the ceramic (102) have a cylindrical shape, and the radius of the conductor (101) may be 10% or more smaller than the radius of the ceramic (102).
상기 전도성 매개체(103)는 일면이 3차원 대상체의 표면과 접촉하는 것으로, 상기 대상체에 전기장을 전달하기 위한 것일 수 있다. 상기 세라믹(102)은 상기 전도성 매개체(103)의 타면에 구비되며, 상기 전도체(101)는 상기 세라믹(102) 내에 구비될 수 있다. 즉, 상기 전도체(101)의 일면 및 타면은 모두 상기 세라믹(102)에 접하게 되며, 상기 전도체(101)는 상기 세라믹(102) 내에 구비되는 것일 수 있다.The conductive medium (103) may have one surface that contacts the surface of a three-dimensional object and may be used to transmit an electric field to the object. The ceramic (102) may be provided on the other surface of the conductive medium (103), and the conductor (101) may be provided within the ceramic (102). That is, both the one surface and the other surface of the conductor (101) may be in contact with the ceramic (102), and the conductor (101) may be provided within the ceramic (102).
특히, 상기 원통 형상 전도체(101)의 중심축 및 원통 형상 세라믹(102)의 중심축은 하나의 직선 상에 위치하는 것일 수 있다. 즉, 상기 원통 형상 전도체(101)의 중심축은 상기 원통 형상 세라믹(102)의 중심축과 동일한 것일 수 있다.In particular, the central axis of the cylindrical conductor (101) and the central axis of the cylindrical ceramic (102) may be positioned on a single straight line. That is, the central axis of the cylindrical conductor (101) may be the same as the central axis of the cylindrical ceramic (102).
한편, 상기 세라믹(102)의 두께는 1mm 이하이고, 상기 세라믹(102)의 반지름(Ra)은 9mm 이하인 것일 수 있다. 상기 임베디드 전극(100)의 크기는 상기 대상체에 부착하기 편리하기 위하여, 상기 세라믹(102)의 반지름(Ra)은 9mm 이하로 유지하는 것이 필요하다.Meanwhile, the thickness of the ceramic (102) may be 1 mm or less, and the radius (Ra) of the ceramic (102) may be 9 mm or less. In order to conveniently attach the embedded electrode (100) to the target, it is necessary to maintain the radius (Ra) of the ceramic (102) to 9 mm or less.
상기 전도체(101) 하단 경계면부터 상기 세라믹(102) 하단 경계면까지의 거리(d1)는 0.5mm 이상이고, 0.9mm 이하인 것일 수 있다. 위와 동일한 이유로, 상기 임베디드 전극(100)을 상기 대상체에 부착하기 편리하기 위하여, 상기 전도체(101) 하단 경계면부터 상기 세라믹(102) 하단 경계면까지의 거리(d1)는 0.5mm 이상이고, 0.9mm 이하를 유지하는 것이 필요하다.The distance (d1) from the lower boundary surface of the conductor (101) to the lower boundary surface of the ceramic (102) may be 0.5 mm or more and 0.9 mm or less. For the same reason as above, in order to conveniently attach the embedded electrode (100) to the target object, it is necessary to maintain the distance (d1) from the lower boundary surface of the conductor (101) to the lower boundary surface of the ceramic (102) to be 0.5 mm or more and 0.9 mm or less.
또한, 상기 전도체(101)의 반지름(Rb)은 5mm 이상이고, 상기 세라믹(102)의 반지름(Ra)의 90% 이하인 것일 수 있다. 상기 전도체(101)의 크기가 너무 작아질 경우에는 임베디드 전극(100)을 통하여 전달되는 종양 치료 전기장의 세기가 작아지게 되므로, 상기 전도체(101)의 반지름은 5mm 이상으로 유지되어야 한다.In addition, the radius (Rb) of the conductor (101) may be 5 mm or more and 90% or less of the radius (Ra) of the ceramic (102). If the size of the conductor (101) becomes too small, the intensity of the tumor treatment electric field transmitted through the embedded electrode (100) becomes small, so the radius of the conductor (101) should be maintained at 5 mm or more.
한편, 상기 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극(100)에서, 상기 전도체(101) 하단 경계면부터 상기 세라믹(102) 하단 경계면까지의 거리(d1)가 증가할수록, 상기 대상체에 인가되는 전류밀도의 1번째 피크 및 2번째 피크가 모두 감소하는 것일 수 있으며, 상기 전도체(101)의 반지름(Rb)이 감소할수록, 상기 대상체에 인가되는 전류밀도의 2번째 피크가 감소하는 것일 수 있다.Meanwhile, in the embedded electrode (100) that transmits an electric field to the target object, as the distance (d1) from the lower boundary surface of the conductor (101) to the lower boundary surface of the ceramic (102) increases, both the first peak and the second peak of the current density applied to the target object may decrease, and as the radius (Rb) of the conductor (101) decreases, the second peak of the current density applied to the target object may decrease.
한편, 상기 전도성 매개체(103)는 하이드로겔인 것일 수 있다.Meanwhile, the conductive medium (103) may be a hydrogel.
더불어, 상기 전도체(101)가 상기 세라믹(102)에 맞닿아 있는 면적이 증가할수록, 상기 전극 자체의 임피던스가 낮게 형성되는 것일 수 있다.In addition, as the area in which the conductor (101) is in contact with the ceramic (102) increases, the impedance of the electrode itself may be formed to be lower.
본 발명은 전기장 종양 치료법에 있어 대상체에 전기장을 전달하기 위한 제너레이터와 함께 사용하기 위한 전극 어레이를 구성하는 개별 전극에 대한 것이다. 전극 어레이는 대상체에 대해 배치되도록 구성된 복수의 개별 전극 요소를 포함한다.The present invention relates to individual electrodes forming an electrode array for use with a generator for delivering an electric field to a subject in electric field tumor therapy. The electrode array comprises a plurality of individual electrode elements configured to be positioned relative to the subject.
이하, 여러 실시 예들이 첨부된 도면들을 참조하여 설명되며, 유사한 참조 번호는 유사한 요소를 나타낼 수 있다.Hereinafter, various embodiments are described with reference to the attached drawings, wherein like reference numerals may represent similar elements.
종양 치료 전기장을 인가할 때 전극의 전류 밀도는 고르게 분포되지 않고, 가장자리에 전류밀도가 급격하게 높아지게 되는 에지 효과로 인하여 가장자리에 화상 위험이 전극 중앙 부분보다 높다. 이러한 문제점을 타파하기 위하여 개별 전극의 기하학적 구조를 변경하여 문제를 해결할 수 있다.When applying a tumor treatment electric field, the current density of the electrode is not evenly distributed, and the edge effect, in which the current density increases rapidly at the edge, causes a higher risk of burns at the edge than at the center of the electrode. To overcome this problem, the geometric structure of each electrode can be changed to solve the problem.
도 1은 본 발명 전극의 물리적 구조와 전류 밀도 피크를 최소화 하기 위한 전극의 물리적인 변수를 나타낸다. 전도체(101)에서 하이드로겔(103)의 경계면까지의 거리를 d1이라 정의하고, 전도체의 두께는 0.2mm이다. 세라믹(102)은 전도체(101)을 감싸고 있다. 전체 전극의 크기는 환자에게 부착하기 용이하게 하기 위하여 반지름 9mm이하, 하이드로겔을 포함하지 않는 두께인 1mm 이다.Figure 1 shows the physical structure of the electrode of the present invention and the physical variables of the electrode for minimizing the current density peak. The distance from the conductor (101) to the boundary of the hydrogel (103) is defined as d1, and the thickness of the conductor is 0.2 mm. The ceramic (102) surrounds the conductor (101). The size of the entire electrode is 1 mm in thickness excluding the hydrogel and a radius of 9 mm or less for easy attachment to a patient.
도 2(a), 도 2(b), 도 2(c), 도 2(d), 도 2(e)는 각각 본 발명의 전극의 전도체와 하이드로겔의 면적까지의 세라믹 두께(d1) 이 0.2mm 일 때의 전극의 중심에서 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포이다(Range). 도 2(a)는 전도체의 반지름(Rb)이 5mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 2(b)는 전도체의 반지름(Rb)이 6mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 2(c)는 전도체의 반지름(Rb)이 7mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 2(d)는 전도체의 반지름(Rb)이 8mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 2(e)는 전도체의 반지름(Rb)이 9mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 3은 도 2(a), 도 2(b), 도 2(c), 도 2(d), 도 2(e) 전류밀도 분포를 하나의 그래프로 나타내었다.FIG. 2(a), FIG. 2(b), FIG. 2(c), FIG. 2(d), and FIG. 2(e) are current density distributions (Range) from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the ceramic thickness (d1) of the conductor and the area of the hydrogel of the electrode of the present invention is 0.2 mm. FIG. 2(a) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 5 mm. FIG. 2(b) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 6 mm. FIG. 2(c) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 7 mm. Fig. 2(d) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 8 mm. Fig. 2(e) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 9 mm. Fig. 3 shows the current density distributions of Figs. 2(a), 2(b), 2(c), 2(d), and 2(e) in one graph.
도 4(a), 도 4(b), 도 4(c), 도 4(d), 도 4(e)는 각각 본 발명의 전극의 전도체와 하이드로겔의 면적까지의 세라믹 두께(d1) 이 0.4mm 일 때의 전극의 중심에서 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포이다(Range). 도 4(a)는 전도체의 반지름(Rb)이 5mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 4(b)는 전도체의 반지름(Rb)이 6mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 4(c)는 전도체의 반지름(Rb)이 7mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 4(d)는 전도체의 반지름(Rb)이 8mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 4(e)는 전도체의 반지름(Rb)이 9mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 5은 도 4(a), 도 4(b), 도 4(c), 도 4(d), 도 4(e) 전류밀도 분포를 하나의 그래프로 나타내었다.FIG. 4(a), FIG. 4(b), FIG. 4(c), FIG. 4(d), and FIG. 4(e) are current density distributions (Range) from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the ceramic thickness (d1) of the conductor and the area of the hydrogel of the electrode of the present invention is 0.4 mm. FIG. 4(a) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 5 mm. FIG. 4(b) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 6 mm. FIG. 4(c) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 7 mm. Fig. 4(d) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 8 mm. Fig. 4(e) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 9 mm. Fig. 5 shows the current density distributions of Figs. 4(a), 4(b), 4(c), 4(d), and 4(e) in one graph.
도 6(a), 도 6(b), 도 6(c), 도 6(d), 도 6(e)는 각각 본 발명의 전극의 전도체와 하이드로겔의 면적 까지의 세라믹 두께(d1) 이 0.6mm 일 때의 전극의 중심에서 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포이다(Range). 도 6(a)는 전도체의 반지름(Rb)이 5mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 6(b)는 전도체의 반지름(Rb)이 6mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 6(c)는 전도체의 반지름(Rb)이 7mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 6(d)는 전도체의 반지름(Rb)이 8mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 6(e)는 전도체의 반지름(Rb)이 9mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 7은 도 6(a), 도 6(b), 도 6(c), 도 6(d), 도 6(e) 전류밀도 분포를 하나의 그래프로 나타내었다.FIG. 6(a), FIG. 6(b), FIG. 6(c), FIG. 6(d), and FIG. 6(e) are current density distributions (Range) from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the ceramic thickness (d1) of the conductor and the area of the hydrogel of the electrode of the present invention is 0.6 mm. FIG. 6(a) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 5 mm. FIG. 6(b) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 6 mm. FIG. 6(c) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 7 mm. Fig. 6(d) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 8 mm. Fig. 6(e) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 9 mm. Fig. 7 shows the current density distributions of Figs. 6(a), 6(b), 6(c), 6(d), and 6(e) in one graph.
도 8(a), 도 8(b), 도 8(c), 도 8(d), 도 8(e)는 각각 본 발명의 전극의 전도체와 하이드로겔의 면적 까지의 세라믹 두께(d1) 이 0.8mm 일 때의 전극의 중심에서 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포이다(Range). 도 8(a)는 전도체의 반지름(Rb)이 5mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 8(b)는 전도체의 반지름(Rb)이 6mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 8(c)는 전도체의 반지름(Rb)이 7mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 8(d)는 전도체의 반지름(Rb)이 8mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 8(e)는 전도체의 반지름(Rb)이 9mm 일 때 전극의 중심부터 하이드로겔의 가장자리까지의 전류밀도 분포 시뮬레이션 결과를 도시한다. 도 9은 도 8(a), 도 8(b), 도 8(c), 도 8(d), 도 8(e) 전류밀도 분포를 하나의 그래프로 나타내었다.FIG. 8(a), FIG. 8(b), FIG. 8(c), FIG. 8(d), and FIG. 8(e) are current density distributions (Range) from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the ceramic thickness (d1) of the conductor and the area of the hydrogel of the electrode of the present invention is 0.8 mm. FIG. 8(a) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 5 mm. FIG. 8(b) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 6 mm. FIG. 8(c) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 7 mm. Fig. 8(d) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 8 mm. Fig. 8(e) shows the simulation result of the current density distribution from the center of the electrode to the edge of the hydrogel when the radius (Rb) of the conductor is 9 mm. Fig. 9 shows the current density distributions of Figs. 8(a), 8(b), 8(c), 8(d), and 8(e) in one graph.
각 시뮬레이션 결과에서 전도체로부터 하이드로겔의 면까지의 세라믹의 두께(d1)의 증가는 두 피크의 전체적인 감소와 관련되고, 전도체의 반지름(Rb)의 감소는 두 번째 전류밀도 분포 피크의 감소와 관련된다. 줄(joule) 열로 인하여 생기는 화상 위험을 제거하기위해 전류밀도 분포의 각 피크는 중앙의 전류밀도 보다 10% 내외여야 한다. d1의 두께가 얇을 경우 전도체의 가장자리로 인하여 발생하는 전류밀도의 분포 피크는 최대 중앙의 전류밀도 보다 30% 이상 증가한다.In each simulation result, an increase in the thickness (d1) of the ceramic from the conductor to the hydrogel plane is associated with an overall decrease in both peaks, and a decrease in the radius (Rb) of the conductor is associated with a decrease in the second current density distribution peak. To eliminate the risk of burns due to Joule heating, each peak of the current density distribution should be within 10% of the current density at the center. When the thickness of d1 is small, the current density distribution peaks caused by the edges of the conductor increase by more than 30% compared to the maximum current density at the center.
또한, 전도체의 크기가 세라믹의 크기와 같아질수록 두 번째 피크(하이드로겔의 가장자리)가 최대 70% 이상 증가한다. 기준을 만족하기 위하여 d1이 0.5mm 이상일 때 첫 번째 전류밀도 피크가 10% 이하로 발생하고, 두 번째 전류밀도 피크는 전도체의 반지름(Rb)가 세라믹의 반지름 보다 10%이상 작을 때 피크의 상승치 또한 감소하게 된다.In addition, as the size of the conductor becomes equal to that of the ceramic, the second peak (the edge of the hydrogel) increases by up to 70% or more. To meet the criterion, when d1 is 0.5 mm or more, the first current density peak occurs at 10% or less, and the second current density peak also decreases in its peak elevation when the radius of the conductor (Rb) is 10% or more smaller than that of the ceramic.
전극을 굴곡이 있는 대상체의 표면에 붙이기 위해서는 반지름이 9mm 이하인 것이 바람직하고, 세라믹 전극에서의 전압 강하를 최소화하기 위해서는 두께 또한 1mm이하인 것이 바람직하다.In order to attach the electrode to the surface of a curved object, it is desirable that the radius be 9 mm or less, and in order to minimize the voltage drop in the ceramic electrode, the thickness should also be 1 mm or less.
따라서, d1은 0.5mm 이상, 0.9mm이하 여야 한다. 또한 전도체의 크기가 너무 작아질 경우 전극을 통하여 전달되는 종양 치료 전기장의 세기가 작아지게 되므로 전도체의 반지름은 5mm 이상이여야 하고 세라믹의 반지름 보다 10%이하의 값을 가질 때 줄 열로 인한 화상의 위험도를 줄일 수 있다.Therefore, d1 should be 0.5 mm or more and 0.9 mm or less. Also, if the size of the conductor becomes too small, the intensity of the tumor treatment electric field transmitted through the electrode becomes small, so the radius of the conductor should be 5 mm or more, and when it has a value 10% or less than the radius of the ceramic, the risk of burns due to Joule heat can be reduced.
도 11은 도 10의 시뮬레이션 팬텀에서 종래의 전극을 사용하여 종양 치료 전기장을 적용하였을 때 대상체의 중심부(1001)의 전기장 세기이다. 도 12는 도 10의 시뮬레이션 팬텀에서 종래의 전극의 전도체의 크기를 줄인 전극을 사용하여 종양 치료 전기장을 적용하였을 때 대상체의 중심부(1001)의 전기장의 세기이다. 도 13은 도 10의 시뮬레이션 팬텀에서 본 발명의 전극을 사용하여 종양 치료 전기장을 적용하였을 때 대상체의 중심부(1001)의 전기장 세기이다. 각각의 시뮬레이션 결과는 전극을 통한 동일한 전압을 인가하였을 때의 결과이다.Fig. 11 shows the electric field intensity at the center (1001) of the subject when a tumor treatment electric field is applied using a conventional electrode in the simulation phantom of Fig. 10. Fig. 12 shows the electric field intensity at the center (1001) of the subject when a tumor treatment electric field is applied using an electrode having a reduced conductor size of a conventional electrode in the simulation phantom of Fig. 10. Fig. 13 shows the electric field intensity at the center (1001) of the subject when a tumor treatment electric field is applied using an electrode of the present invention in the simulation phantom of Fig. 10. Each simulation result is the result when the same voltage is applied through the electrode.
본 발명의 전극은 기존의 전극 보다 전도체가 세라믹에 맞닿아 있는 면적이 증가하여 전극 자체의 임피던스가 낮게 형성된다. 따라서 동일한 전압을 인가하여도 전극에서 발생하는 전압 강하가 기존의 전극보다 낮게 형성되어진다. 종래의 전극을 사용하여 종양 치료 전기장을 적용하였을 때 중심부 에는 1.71 V/cm 의 전기장이 형성되어지고, 종래의 기술에서 전도체의 크기가 작은 전극을 사용하였을 때 1.62 V/cm 의 전기장이 형성된다. 본 발명의 전극을 사용할 때 중심부에 형성되는 전기장의 세기는 1.78V/cm으로 종래의 기술 보다 약 5%의 증가된 전기장이 형성된다.The electrode of the present invention has a larger area of the conductor in contact with the ceramic than the existing electrode, so that the impedance of the electrode itself is formed lower. Therefore, even when the same voltage is applied, the voltage drop occurring in the electrode is formed lower than that of the existing electrode. When a tumor treatment electric field is applied using a conventional electrode, an electric field of 1.71 V/cm is formed at the center, and when an electrode with a small conductor size is used in the conventional technology, an electric field of 1.62 V/cm is formed. When the electrode of the present invention is used, the intensity of the electric field formed at the center is 1.78 V/cm, which is an electric field that is approximately 5% greater than that of the conventional technology.
결국, 본 발명의 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극을 사용하였을 때 대상체의 중심부에 형성되는 전기장의 세기가 종래의 기술 보다 높게 형성되어 치료효과를 증가시킬 수 있다.Ultimately, when an embedded electrode that transmits an electric field to a target object of the present invention is used, the intensity of the electric field formed at the center of the target object can be formed higher than that of conventional technology, thereby increasing the therapeutic effect.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 예를 들어 당업자는 각 구성요소의 재질, 크기 등을 적용 분야에 따라 변경하거나, 개시된 실시형태들을 조합 또는 치환하여 본 발명의 실시예에 명확하게 개시되지 않은 형태로 실시할 수 있으나, 이 역시 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것으로 한정적인 것으로 이해해서는 안 되며, 이러한 변형 실시예들은 본 발명의 특허청구범위에 기재된 기술사상에 포함된다고 하여야 할 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described with reference to the attached drawings, those skilled in the art will understand that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical idea or essential characteristics thereof. For example, those skilled in the art may change the material, size, etc. of each component according to the application field, or may combine or substitute the disclosed embodiments to implement the present invention in a form not specifically disclosed in the embodiments of the present invention, but this also does not depart from the scope of the present invention. Therefore, the embodiments described above should not be construed as being limited in all aspects, and such modified embodiments should be included in the technical idea described in the claims of the present invention.
100: 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극
101: 전도체
102: 세라믹
103: 전도성 매개체
Ra: 세라믹의 반지름
Rb: 전도체의 반지름
Rc: 전도성 매개체의 반지름100: Embedded electrodes that transmit electric fields to the target
101: Conductor
102: Ceramic
103: Conductive medium
Ra: Radius of the ceramic
Rb: Radius of conductor
Rc: Radius of the conducting medium
Claims (9)
일면이 3차원 대상체의 표면과 접촉하는 전도성 매개체;
상기 전도성 매개체의 타면에 구비되는 세라믹; 및
상기 세라믹 내에 구비된 전도체를 포함하되,
상기 전도체 및 세라믹은 모두 원통 형상이고, 상기 전도체의 반지름은 상기 세라믹의 반지름보다 10% 이상 작은 것을 특징으로 하는 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극.In an embedded electrode that transmits an electric field to a three-dimensional object,
A conductive medium having one side in contact with the surface of a three-dimensional object;
Ceramic provided on the other side of the conductive medium; and
Including a conductor provided within the above ceramic,
An embedded electrode for transmitting an electric field to a target object, wherein both the conductor and the ceramic have a cylindrical shape, and the radius of the conductor is 10% or more smaller than the radius of the ceramic.
상기 원통 형상 전도체의 중심축 및 원통 형상 세라믹의 중심축은 하나의 직선 상에 위치하는
것을 특징으로 하는 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극.In the first paragraph,
The central axis of the cylindrical conductor and the central axis of the cylindrical ceramic are located on a single straight line.
An embedded electrode that transmits an electric field to a target object characterized by:
상기 세라믹의 두께는 1mm 이하이고, 상기 세라믹의 반지름(Ra)은 9mm 이하인
것을 특징으로 하는 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극.In the first paragraph,
The thickness of the above ceramic is 1 mm or less, and the radius (Ra) of the above ceramic is 9 mm or less.
An embedded electrode that transmits an electric field to a target object characterized by:
상기 전도체 하단 경계면부터 상기 세라믹 하단 경계면까지의 거리(d1)는 0.5mm 이상이고, 0.9mm 이하인
것을 특징으로 하는 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극.In the third paragraph,
The distance (d1) from the lower boundary surface of the conductor to the lower boundary surface of the ceramic is 0.5 mm or more and 0.9 mm or less.
An embedded electrode that transmits an electric field to a target object characterized by:
상기 전도체의 반지름(Rb)은 5mm 이상이고, 상기 세라믹의 반지름(Ra)의 90% 이하인
것을 특징으로 하는 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극.In the third paragraph,
The radius (Rb) of the conductor is 5 mm or more and 90% or less of the radius (Ra) of the ceramic.
An embedded electrode that transmits an electric field to a target object characterized by:
상기 전도체 하단 경계면부터 상기 세라믹 하단 경계면까지의 거리(d1)가 증가할수록, 상기 대상체에 인가되는 전류밀도의 1번째 피크 및 2번째 피크가 모두 감소하는
것을 특징으로 하는 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극.In the first paragraph,
As the distance (d1) from the lower boundary surface of the conductor to the lower boundary surface of the ceramic increases, both the first peak and the second peak of the current density applied to the target decrease.
An embedded electrode that transmits an electric field to a target object characterized by:
상기 전도체의 반지름(Rb)이 감소할수록, 상기 대상체에 인가되는 전류밀도의 2번째 피크가 감소하는
것을 특징으로 하는 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극.In the first paragraph,
As the radius (Rb) of the conductor decreases, the second peak of the current density applied to the target decreases.
An embedded electrode that transmits an electric field to a target object characterized by:
상기 전도성 매개체는 하이드로겔인 것을 특징으로 하는 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극.In the first paragraph,
An embedded electrode for transmitting an electric field to a target object, wherein the conductive medium is a hydrogel.
상기 전도체가 상기 세라믹에 맞닿아 있는 면적이 증가할수록, 상기 전극 자체의 임피던스가 낮게 형성되는
것을 특징으로 하는 대상체에 전기장을 전달하는 임베디드 전극.
In the first paragraph,
As the area of the conductor in contact with the ceramic increases, the impedance of the electrode itself becomes lower.
An embedded electrode that transmits an electric field to a target object characterized by:
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8715203B2 (en) | 2007-09-17 | 2014-05-06 | Novocure Limited | Composite electrode |
| US20210196348A1 (en) | 2019-12-31 | 2021-07-01 | Novocure Gmbh | Arrays for Delivering Tumor Treating Fields (TTFields) with Individually Accessible Electrode Elements and Temperature Sensors |
| US20210196967A1 (en) | 2019-12-31 | 2021-07-01 | Novocure Gmbh | Methods, systems, and apparatuses for managing temperatures induced by alternating fields |
| US11395916B2 (en) | 2018-11-19 | 2022-07-26 | Novocure Gmbh | Arrays for delivering tumor treating fields (TTFields) with selectively addressable sub-elements |
-
2024
- 2024-02-19 KR KR1020240023350A patent/KR20240129583A/en unknown
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8715203B2 (en) | 2007-09-17 | 2014-05-06 | Novocure Limited | Composite electrode |
| US8764675B2 (en) | 2007-09-17 | 2014-07-01 | Novocure Ltd | Composite electrode |
| US11395916B2 (en) | 2018-11-19 | 2022-07-26 | Novocure Gmbh | Arrays for delivering tumor treating fields (TTFields) with selectively addressable sub-elements |
| US20210196348A1 (en) | 2019-12-31 | 2021-07-01 | Novocure Gmbh | Arrays for Delivering Tumor Treating Fields (TTFields) with Individually Accessible Electrode Elements and Temperature Sensors |
| US20210196967A1 (en) | 2019-12-31 | 2021-07-01 | Novocure Gmbh | Methods, systems, and apparatuses for managing temperatures induced by alternating fields |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| Gentilal, Nichal, et al. "Temperature and Impedance Variations During Tumor Treating Fields (TTFields) Treatment." Frontiers in Human Neuroscience 16 (2022). |
| Kirson ED, Dalby V, Tovarys F, Vymazal J, Soustiel JF, Itzhaki A, Mordechovich D, Steinberg-Shapira S, Gurvich Z, Schneiderman R, Wasserman Y, Salzberg M, Ryffel B, Goldsher D, Dekel E, Palti Y. Alternating electric fields arrest cell proliferation in animal tumor models and human brain tumors. Proc Natl Acad Sci U S A. 2007 Jun 12;104(24):10152-7. doi: 10.1073/pnas.0702916104. Epub 2007 Jun 5. PMID: 17551011; PMCID: PMC1886002. |
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