KR20240089419A - 에어로졸 생성 시스템 - Google Patents

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KR20240089419A
KR20240089419A KR1020247015215A KR20247015215A KR20240089419A KR 20240089419 A KR20240089419 A KR 20240089419A KR 1020247015215 A KR1020247015215 A KR 1020247015215A KR 20247015215 A KR20247015215 A KR 20247015215A KR 20240089419 A KR20240089419 A KR 20240089419A
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Abstract

에어로졸 생성 시스템이 제공된다. 에어로졸 생성 시스템은 에어로졸 생성 디바이스를 포함한다. 에어로졸 생성 디바이스는 에어로졸 가능 재료를 포함하는 물품의 적어도 일부를 수용하기 위한 가열 챔버를 포함한다. 챔버는 측벽 및 베이스를 포함한다. 에어로졸 생성 시스템은 또한 가열 챔버 내로 삽입가능한 스페이서를 포함한다. 베이스는, 스페이서가 가열 챔버로부터 부재할 때, 에어로졸 가능 재료를 포함하는 물품의 원위 단부에 맞닿도록 구성된다. 스페이서는, 스페이서가 가열 챔버 내에 삽입될 때, 에어로졸 가능 재료를 포함하는 물품의 원위 단부를 베이스로부터 이격시키도록 구성된다.

Description

에어로졸 생성 시스템
본 발명은 에어로졸 생성 시스템에 관한 것이다.
시가렛(cigarette)들, 시가(cigar)들 등과 같은 흡연 물품(smoking article)들은 사용 동안에 담배를 태워서 담배 연기를 생성한다. 태우지 않고 화합물들을 방출하는 제품들을 생성함으로써 담배를 태우는 이들 물품들에 대한 대안들을 제공하려는 시도들이 있었다. 그러한 제품들의 예들에는, 재료를 태우지 않고 가열함으로써 화합물들을 방출하는 가열 디바이스들이 있다. 재료는, 예를 들어 니코틴을 보유할 수 있거나 보유하지 않을 수 있는 담배 또는 다른 비담배 제품들일 수 있다.
일 양태에 따르면, 에어로졸 생성 시스템이 제공되며, 에어로졸 생성 시스템은 에어로졸 생성 디바이스를 포함하고, 에어로졸 생성 디바이스는, 에어로졸 가능 재료를 포함하는 물품의 적어도 일부를 수용하기 위한 가열 챔버(heating chamber) ― 가열 챔버는 측벽 및 베이스를 포함 ―; 및 가열 챔버 내로 삽입가능한 스페이서(spacer)를 포함하며; 베이스는 스페이서가 가열 챔버에 없을 때 에어로졸 가능 재료를 포함하는 물품의 원위 단부 부근에 구성되며, 스페이서는, 스페이서가 가열 챔버에 삽입될 때 에어로졸 가능 재료를 포함하는 물품의 원위 단부를 베이스로부터 이격시키도록 구성된다.
스페이서는 베이스에 대해 스페이서를 로케이팅(locate)하도록 배열된 로케이팅 표면(locating surface)을 포함할 수 있다. 스페이서는, 에어로졸 가능 재료를 포함하는 물품의 적어도 일부에 맞닿기 위한 맞닿음 표면(abutment surface)을 포함할 수 있다.
로케이팅 표면은 스페이서의 원위 범위(distal extent)를 규정할 수 있다. 즉, 스페이서의 어떠한 부분도 로케이팅 표면을 넘어서 연장될 수 없다. 맞닿음 표면은 스페이서의 근위 범위(proximal extent)를 규정할 수 있다. 즉, 스페이서의 어떠한 부품도 맞닿음 표면을 넘어서 연장될 수 없다.
스페이서는, 맞닿음 표면과 로케이팅 표면 사이에 적어도 하나의 축방향 연장 부재를 포함할 수 있다. 스페이서는, 맞닿음 표면과 로케이팅 표면 사이에 복수의 축방향 연장 부재들을 포함할 수 있다. 스페이서는, 맞닿음 표면과 로케이팅 표면 사이에 적어도 2개의 축방향 연장 부재들을 포함할 수 있다. 스페이서는, 맞닿음 표면과 로케이팅 표면 사이에 적어도 3개의 축방향 연장 부재들을 포함할 수 있다.
스페이서는 가열 챔버에서 스페이서를 리테이닝하도록 구성된 리테이너(retainer)를 포함할 수 있다. 리테이너는 측벽 상에 작용하도록 구성될 수 있다. 스페이서는 리테이너의 적어도 일부를 규정하는 탄성 부분(resilient portion)을 포함할 수 있다. 리테이너는 탄성 탭을 포함할 수 있다. 리테이너는 리브(rib)를 포함할 수 있다. 리테이너는 스페이서의 일체로 형성된(integrally formed) 부품일 수 있다. 리테이너는 일체의(one-piece) 구성요소일 수 있다.
에어로졸 생성 디바이스는 돌출 요소를 포함할 수 있고, 리테이너는 돌출 요소 상에 작용하도록 구성될 수 있다.
에어로졸 생성 디바이스는 가열 요소를 포함할 수 있다. 가열 요소는 베이스로부터 연장될 수 있다. 스페이서는 가열 챔버 내에 수용될 때 축방향으로 가열 요소를 중첩하도록 구성될 수 있다. 가열 요소는 측벽의 적어도 일부를 규정할 수 있다. 돌출 요소의 적어도 일부는 가열 요소의 적어도 일부에 의해 제공될 수 있다. 가열 요소는 가열 챔버 내로 돌출될 수 있다. 스페이서는 가열 챔버 내에 수용될 때 가열 요소에 맞닿도록 배열될 수 있다.
스페이서는 스페이서를 통한 경로를 포함할 수 있다. 스페이서는 애퍼처 또는 채널을 포함할 수 있다. 애퍼처 또는 채널은 관통 구멍(throughbore)일 수 있다. 애퍼처 또는 채널은 공기 통로를 규정할 수 있다. 애퍼처 또는 채널은 스페이서가 가열 챔버에 삽입될 때 축방향으로 연장될 수 있다. 애퍼처 또는 채널은 맞닿음 표면과 로케이팅 표면 사이에서 연장될 수 있다. 애퍼처 또는 채널은 애퍼처 또는 채널 내에 삽입된 물체를 파지하기 위한 리테이너(retainer)를 포함할 수 있다. 리테이너는 애퍼처 또는 채널 내에 삽입된 가열 요소를 파지하도록 구성될 수 있다.
스페이서에는 변하는 자기장의 침투에 의해 가열될 수 있는 재료가 없을 수 있다. 스페이서는 베이스와 동일한 재료로 형성될 수 있다. 스페이서는 가열 챔버의 측벽과 동일한 재료로 형성될 수 있다. 스페이서는 150 ppm k-1 미만의, 유리 전이(glass transition) 초과의 유동을 따른 선형 열 팽창 계수를 가지는 재료로 형성될 수 있다. 스페이서는 140 ppm k-1의, 유리 온도 초과의 유동을 따른 선형 열 팽창 계수를 가지는 재료로 형성될 수 있다.
일 양태에 따르면, 에어로졸 생성 디바이스의 가열 챔버 내로 삽입하기 위한 스페이서가 제공되며, 이 스페이서는 본체 ― 본체는 가열 챔버의 베이스에 대해 로케이팅되도록 배열된 로케이팅 표면 및 에어로졸 가능 재료를 포함하는 물품의 단부에 맞닿도록 배열된 맞닿음 표면을 가지며, 맞닿음 표면은 스페이서의 축방향 범위를 규정함 ―; 및 가열 챔버 내에 스페이서를 리테이닝하도록 배열된 리테이너를 포함한다.
로케이팅 표면은 축을 따라 스페이서의 제1 축 방향 범위를 규정할 수 있다. 맞닿음 표면은 축을 따라 스페이서의 제2 축방향 범위를 규정할 수 있다.
스페이서는 리테이너의 적어도 일부를 규정하는 탄성 부분(resilient portion)을 포함할 수 있다. 리테이너는 축에 수직인 스페이서의 반경방향 범위를 규정할 수 있다. 리테이너는 가열 챔버의 측벽 상에 작용하도록 구성될 수 있다. 리테이너는 탄성 탭을 포함할 수 있다. 리테이너는 리브(rib)를 포함할 수 있다. 리테이너는 스페이서의 일체로 형성된 부품일 수 있다. 리테이너는 일체의 구성요소일 수 있다.
스페이서는 스페이서를 통한 경로를 포함할 수 있다. 스페이서는 애퍼처 또는 채널을 포함할 수 있다. 애퍼처 또는 채널은 관통 구멍일 수 있다. 애퍼처 또는 채널은 공기 통로를 규정할 수 있다. 애퍼처 또는 채널은 스페이서가 가열 챔버에 삽입될 때 축방향으로 연장될 수 있다. 애퍼처 또는 채널은 맞닿음 표면과 로케이팅 표면 사이에서 연장될 수 있다.
스페이서에는 변하는 자기장의 침투에 의해 가열될 수 있는 재료가 없을 수 있다. 스페이서는 가열 챔버의 베이스 또는 측벽과 동일한 재료로 형성될 수 있다. 스페이서는 150 ppm k-1 미만의, 유리 온도 초과의 유동을 따른 선형 열 팽창 계수를 가지는 재료로 형성될 수 있다. 스페이서는 140 ppm k-1의, 유리 온도 초과의 유동을 따른 선형 열 팽창 계수를 가지는 재료로 형성될 수 있다.
스페이서는 맞닿음 표면과 로케이팅 표면 사이에 축방향으로 연장되는 부재들을 포함할 수 있다. 스페이서는, 맞닿음 표면과 로케이팅 표면 사이에 복수의 축방향 연장 부재들을 포함할 수 있다. 스페이서는, 맞닿음 표면과 로케이팅 표면 사이에 적어도 2개의 축방향 연장 부재들을 포함할 수 있다. 스페이서는, 맞닿음 표면과 로케이팅 표면 사이에 적어도 3개의 축방향 연장 부재들을 포함할 수 있다.
일 양태에 따르면, 전술된 바와 같은 스페이서 및 에어로졸 생성 재료를 포함하는 물품을 포함하는 부품들의 키트가 제공된다.
일 양태에 따르면, 전술된 바와 같은 스페이서 및 에어로졸 생성 디바이스의 가열 챔버로부터 스페이서를 회수하기 위한 회수 공구를 포함하는 부품들의 키트가 제공된다.
이제, 실시예들이 첨부 도면들을 참조하여 단지 예로서 설명될 것이다:
도 1은 에어로졸 생성 디바이스의 정면 사시도를 도시한다.
도 2는 도 1의 에어로졸 생성 디바이스 및 에어로졸 생성 재료를 보유하는 물품을 개략적으로 도시한다.
도 3은 도 1의 에어로졸 생성 디바이스의 에어로졸 생성 조립체를 개략적으로 도시한다.
도 4는 도 1의 에어로졸 생성 디바이스의 삽입을 위한 제1 스페이서의 정면 사시도를 도시한다.
도 5는 도 1의 에어로졸 생성 디바이스의 삽입을 위한 제2 스페이서의 정면 사시도를 도시한다.
도 6은 삽입된 제1 또는 제2 스페이서 및 디바이스 내에 삽입된 제2 물품을 갖는 도 1의 에어로졸 생성 디바이스를 개략적으로 도시한다.
본원에 사용된 바와 같이, 용어 "에어로졸 생성 재료"는, 예를 들어 가열되거나, 조사되거나, 또는 임의의 다른 방식으로 에너지가 공급될 때, 에어로졸을 생성시킬 수 있는 재료이다. 에어로졸 생성 재료는, 예를 들어, 활성 물질 및/또는 향미제들을 보유할 수 있거나 보유하지 않을 수 있는 고체, 액체 또는 겔의 형태일 수 있다. 에어로졸 생성 재료는 임의의 담배-보유 재료와 같은 임의의 식물생약 재료를 포함할 수 있으며, 예를 들어 담배, 담배 파생품(tobacco derivative)들, 팽화 담배(expanded tobacco), 재생 담배(reconstituted tobacco), 담배 대용품(tobacco substitute)들 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 에어로졸 생성 재료는 또한 제품에 따라 니코틴을 보유할 수 있거나 보유하지 않을 수 있는 다른 비-담배 제품들을 포함할 수 있다. 에어로졸 생성 재료는, 예컨대, 고체, 액체, 겔, 왁스 등의 형태일 수 있다. 에어로졸 생성 재료는 또한, 예컨대 재료들의 조합 또는 블렌드일 수 있다. 에어로졸 생성 재료는 또한, "흡연 가능 재료"로서 알려져 있을 수 있다.
에어로졸 생성 재료는 결합제(binder) 및 에어로졸 형성제(aerosol former)를 포함할 수 있다. 선택적으로, 활성 물질 및/또는 충전제(filler)가 또한 존재할 수 있다. 선택적으로, 물과 같은 용매가 또한 존재하고, 에어로졸 생성 재료의 하나 이상의 다른 성분들은 용매에 가용성일 수 있거나 가용성이 아닐 수 있다. 일부 실시예들에서, 에어로졸 생성 재료에는 식물생약 재료(botanical material)가 실질적으로 없다. 일부 실시예들에서, 에어로졸 생성 재료에는 담배가 실질적으로 없다.
일부 실시예들에서, 에어로졸 생성 재료는 "비정질 고체(amorphous solid)"이거나 이를 포함할 수 있다. 비정질 고체는 "모놀리식 고체"일 수 있다. 일부 실시예들에서, 비정질 고체는 건조된 겔일 수 있다. 비정질 고체는 액체와 같은 일부 유체를 내부에 리테이닝할 수 있는 고체 재료이다. 일부 실시예들에서, 에어로졸 생성 재료는, 예를 들어, 약 50wt%, 60wt% 또는 70wt%의 비정질 고체 내지 약 90wt%, 95wt% 또는 100wt%의 비정질 고체를 포함할 수 있다.
에어로졸 생성 재료는 에어로졸 생성 필름(aerosol-generating film)을 포함할 수 있다. 에어로졸 생성 필름은 시트(sheet)를 포함하거나 시트일 수 있으며, 시트는 선택적으로 파쇄되어 파쇄된 시트를 형성할 수 있다. 에어로졸 생성 시트 또는 파쇄된 시트에는 담배가 실질적으로 없을 수 있다.
에어로졸 생성 재료를 가열하여 에어로졸 생성 재료의 적어도 하나의 성분을 휘발시키고, 전형적으로 에어로졸 생성 재료를 태우거나 또는 연소시키지 않고, 흡입될 수 있는 에어로졸을 형성하는 장치가 알려져 있다. 이러한 장치는 때때로 "에어로졸 생성 디바이스", "에어로졸 제공 디바이스", "비연소식 가열(heat-not-burn) 디바이스", "담배 가열 제품 디바이스" 또는 "담배 가열 디바이스" 또는 이와 유사한 것으로 설명된다. 유사하게, 전형적으로 니코틴을 보유할 수 있거나 보유하지 않을 수 있는 액체 형태의 에어로졸 생성 재료를 증발시키는 e-시가렛 디바이스들(e-cigarette devices)이 또한 있다. 에어로졸 생성 재료는 장치 내로 삽입될 수 있는 로드(rod), 카트리지(cartridge) 또는 카세트(cassette) 등의 형태이거나 그 일부로서 제공될 수 있다. 에어로졸 생성 재료를 가열 및 휘발시키기 위한 가열기가 장치의 "영구적" 부분으로서 제공될 수 있다.
에어로졸 생성 디바이스는 가열을 위한 에어로졸 생성 재료를 포함하는 물품을 수용할 수 있다. 이러한 맥락에서, "물품"은 사용시에 에어로졸 생성 재료를 포함하거나 보유하는 구성요소 ― 이는 에어로졸 생성 재료를 휘발시키기 위해 가열됨 ― 및 선택적으로 사용중인 다른 구성요소들이다. 사용자는 에어로졸 생성 디바이스 내로 물품을 삽입한 후에 에어로졸을 생성하도록 물품을 가열할 수 있고, 이어서 사용자는 에어로졸을 흡입한다. 물품은, 예를 들어, 물품을 수용하도록 크기가 정해진 디바이스의 가열 챔버 내에 배치되도록 구성되는 미리 결정된 또는 특정 크기일 수 있다. 실시예들에서, 물품은 소모품이다. 즉, 물품은 사용 후에, 예를 들어, 하나 이상의 사용 후에 폐기되며, 그 후, 다른 소모성 물품이 사용된다.
공지된 장치는 에어로졸 생성 재료를 가열하기 위한 가열기를 포함할 수 있다. 가열기는, 예를 들어 하나 이상의 니크롬 저항 가열 요소들 및/또는 하나 이상의 세라믹 저항 가열 요소들을 포함하는 하나 이상의 전기 저항 가열 요소들을 포함할 수 있다. 대안적으로, 가열기는 변하는 자기장을 통한 침투에 의해 가열될 수 있는 하나 이상의 가열 요소들(서셉터들로 지칭됨) 및 유도 코일을 포함하는 하나 이상의 유도 가열기들을 포함할 수 있다.
가열 요소(들)는, 에어로졸 생성 재료가 삽입되거나 사용 시에 다른 방식으로 로케이팅되는 챔버를 형성할 수 있다. 대안적으로, 가열 요소(들)는 사용 시에 에어로졸 생성 재료에 가깝게 또는 인접하게 포지셔닝될 수 있다. 다른 대안예에서, 가열 요소(들)는 사용 시에 에어로졸 생성 재료에 침투할 수 있다. 예를 들어, 가열 요소(들)는 블레이드(blade) 또는 핀(pin)의 형태를 가질 수 있다.
도 1은, 에어로졸 생성 재료로부터 에어로졸을 생성하기 위한 에어로졸 생성 디바이스(100)를 도시한다. 대략적으로, 디바이스(100)는 에어로졸 생성 재료를 포함하는 교체가능한 물품(300)(도 2 참조)을 가열하여 디바이스(100)의 사용자에 의해 흡입되는 에어로졸 또는 다른 흡입 가능 매체를 생성하기 위해 사용될 수 있다.
디바이스(100)는 본체 또는 인클로저 조립체(101)를 포함한다. 인클로저 조립체(101)는 에어로졸 생성 조립체(200)를 둘러싸고 수납하는 하우징(102)을 포함하며, 이는 수용된 물품(300)으로부터 에어로졸을 생성하기 위한 다양한 구성요소들을 포함한다. 물품(300)은 가열기 조립체에 의해 가열되어 에어로졸을 생성시킨다. 하우징(102)은 일 단부에 개구(103)를 가지며, 이 개구를 통해, 물품(300)이 가열을 위해 삽입될 수 있다. 디바이스는 사용 시에 물품을 적어도 부분적으로 수용하기 위한 가열 챔버(202)(도 2 참조)를 포함한다. 가열 챔버는 개구(103)와 연통한다. 사용 시에, 물품(300)은 디바이스(100) 내로 완전히 또는 부분적으로 삽입될 수 있으며, 여기서 물품은 하나 이상의 구성요소들에 의해 가열될 수 있다.
도 2를 참조하면, 에어로졸 생성 조립체(200)는 가열 시스템을 포함한다. 가열 시스템은, 유도 코일(208) 및 변하는 자기장의 침투에 의해 가열 가능한 가열 요소(206)(도 3 참조)(서셉터로 공지됨)를 포함하는 유도 가열 시스템이다. 다른 예들에서, 다수의 서셉터들 및/또는 코일들이 제공될 수 있다.
가열 요소(206)는 관형이다. 가열 요소(206)는, 사용 시에 물품의 적어도 일부가 삽입되거나 다른 방식으로 로케이팅되는 챔버를 규정한다. 실시예들에서, 챔버를 규정하는 벽에는 서셉터 재료가 없다. 그러한 실시예에서, 하나 이상의 가열 요소들은 가열 챔버에 가깝게 또는 그에 인접하게 포지셔닝된다. 실시예들에서, 하나 이상의 가열 요소들이 가열 챔버 내에 배치될 수 있다. 예를 들어, 하나 이상의 가열 요소들은 사용 시에 물품을 침투하는 핀 또는 블레이드와 같은 돌출부를 포함할 수 있다. 물품은 가열 요소를 수용하기 위한 애퍼처를 포함할 수 있다.
유도 코일(208)은 전원(power source)(170)과 통신하며, 이는 변하는 자속(varying magnetic flux)을 생성하기 위해 코일(208)에 에너지를 공급한다(energises). 자속은 가열 요소(206)에 전류를 생성하며, 이는 결국 가열 요소(206)가 가열되게 한다. 가열 요소(206)는 물품(300)과 열 연통하고, 제1 물품(300)을 가열하여 에어로졸을 생성시킨다.
다른 실시예들에서, 가열 시스템은, 예를 들어 하나 이상의 저항 가열 요소들 및/또는 하나 이상의 세라믹 가열 요소들을 포함하는 하나 이상의 전기 저항 가열 요소들을 포함할 수 있다. 그러한 실시예에서, 유도 코일은 생략될 수 있으며, 저항 가열 요소는 전원에 연결된다. 저항 가열 요소는 사용 시에 물품이 삽입되거나 다른 방식으로 위치되는 챔버를 형성할 수 있다. 실시예들에서, 하나 이상의 저항 가열 요소들은 가열 챔버에 가깝게 또는 인접하게 포지셔닝될 수 있다. 하나 이상의 저항 가열 요소들이 가열 챔버 내에 배치될 수 있다. 예를 들어, 하나 이상의 저항 가열 요소들은 사용 시에 물품을 관통하는 핀(pin) 또는 블레이드(blade)를 포함할 수 있다. 물품은 저항 가열 요소를 수용하기 위한 애퍼처를 포함할 수 있다. 다른 가열 배열체들이 또한 사용될 수 있다.
물품(300)이 가열 챔버(202) 내에 수용될 때, 물품은 가열 요소(206)에 인접한다. 물품(300)은 가열 요소(206)와 접촉할 수 있거나 접촉하지 않을 수 있다. 물품(300)과 가열 요소(206) 사이에 에어 갭(air gap) 또는 하나 이상의 추가 구성요소들이 존재할 수 있다. 열(heat)은 사용 시에 가열 요소(206)로부터 물품(300)으로 유동한다. 물품(300)은 가열 요소(206)로부터의 전도에 의해 가열될 수 있다. 대안적으로 또는 추가적으로, 물품은 가열 요소(206)로부터의 대류 또는 복사에 의해 가열될 수 있다. 전도에 의한 열 전달이 물품(300)을 가열하는 주된 모드(predominant mode)일 것으로 예상된다.
디바이스(100)는 또한, 눌려질 때 디바이스(100)를 동작시키는 버튼 또는 스위치와 같은 사용자-동작 가능한 제어 요소(150)(도 1을 참조)를 포함한다. 예를 들어, 사용자는 스위치를 동작함으로써 디바이스(100)를 켤 수 있다(turn on). 스위치는 하우징(102)의 일부를 형성할 수 있다.
디바이스(100)는 전원(170), 예를 들어, 재충전 가능한 배터리(rechargeable battery) 또는 비-충전식 배터리(non-rechargeable battery)와 같은 배터리를 포함한다. 적합한 배터리들의 예들은, 예를 들어 리튬 배터리(예컨대, 리튬-이온 배터리), 니켈 배터리(예컨대, 니켈-카드뮴 배터리) 및 알카라인 배터리를 포함한다.
디바이스(100)는 또한 전원(170)을 충전하기 위한 케이블(cable)을 수용할 수 있는 커넥터/포트(도시되지 않음)와 같은 전기 구성요소를 포함한다. 예를 들어, 커넥터는 USB 충전 포트와 같은 충전 포트일 수 있다. 일부 예들에서, 커넥터는 디바이스(100)와 컴퓨팅 디바이스와 같은 다른 디바이스 사이에서 데이터를 전송하기 위해 추가적으로 또는 대안적으로 사용될 수 있다.
주로 도 2를 참조하면, 디바이스(100)의 하우징(102)은 에어로졸 생성 조립체(200)를 캡슐화한다. 즉, 하우징(102)은, 물품(300)을 삽입하기 위한 개구(103)를 제외하고, 하우징이 존재할 때 에어로졸 생성 조립체(200)에 대한 접근이 방지되도록 에어로졸 생성 조립체(200)를 둘러싸고 있다. 하우징(102)은, 에어로졸 생성 조립체(200)가 수용되는 구성요소 공동(201)을 규정한다. 하우징(102)은, 에어로졸 생성 조립체(200)를 보유하고 환경으로부터의 보호를 제공하도록, 구성요소 공동(201)에 대한 배리어(barrier)로서 작용한다. 하우징(102)은 에어로졸 생성 조립체(200)로부터 사용자를 보호하며, 예를 들어, 전기 구성요소들과의 접촉을 방지하고 그리고/또는 가열된 구성요소들로부터 열 절연(thermal insulation)을 제공한다. 하우징(102)은, 디바이스(100) 및 에어로졸 생성 조립체(200)를 실질적으로 전체적으로 둘러싸고 있다. 하우징(102)은 유체 배리어로서 작용할 수 있다. 실시예들에서, 하우징(102)은 에어로졸 생성 조립체(200)의 외부 측을 유체적으로 절연시킨다. 하우징(102)은 쉘(shell)로서 작용한다.
개구(103)에 가장 가까운 디바이스(100)의 단부는 사용 중에 사용자의 입에 가장 가깝기 때문에 디바이스(100)의 근위 단부(또는 마우스 단부)(104)로 알려질 수 있다. 사용 시, 사용자는 물품(300)을 개구(103)에 삽입하고, 에어로졸 생성 재료의 가열을 시작하기 위해 사용자 제어부(150)를 동작시키고, 디바이스에서 생성된 에어로졸을 흡인한다. 이것은 에어로졸이 유동 경로를 따라 디바이스(100)의 근위 단부를 향해서 디바이스(100)를 통해 유동하게 한다.
개구(103)로부터 가장 멀리 떨어져 있는 디바이스의 다른 단부는, 사용 중에 사용자의 입으로부터 가장 멀리 떨어져 있는 단부이기 때문에 디바이스(100)의 원위 단부(106)로 알려질 수 있다. 사용자가 디바이스에서 생성된 에어로졸을 흡인할 때, 에어로졸은 디바이스(100)의 근위 단부(106)를 향하는 방향으로 유동한다. 디바이스(100)는, 근위 단부(104)로부터 원위 단부(106)로의 방향으로 연장하는 종축(108)을 규정한다. 디바이스(100)의 특징부들에 적용되는 바와 같은 근위 및 원위라는 용어들은, 축(108)을 따라 근위-원위 방향으로 서로에 대한 이러한 특징부들의 상대적 포지셔닝을 참조하여 설명될 것이다.
도 3은 에어로졸 생성 디바이스(100)의 에어로졸 생성 조립체(200)를 도시하고 있다. 에어로졸 생성 조립체(200)는 개구(103)로부터 연장되는 가열 챔버(202)를 규정한다. 가열 챔버(202)는 구성요소 공동(201)으로부터 격리된다. 가열 챔버(202)는 측벽(203) 및 베이스(204)로 형성된다. 측벽(203)은 원통형 튜브에 의해 형성된다. 다른 예들에서, 측벽(203)은 난형 단면(oval cross section) 또는 직사각형 단면 또는 불규칙한 단면과 같은 비-원형 단면을 가질 수 있다. 측벽(203) 및 베이스(204)는 일체로 형성될 수 있거나 별도의 구성요소들일 수 있다. 도 3의 디바이스에서, 측벽(203)은 가열 요소(206)에 의해 제공된다. 가열 요소(206)는 관형 가열 요소이다. 가열 요소(206)는 실질적으로 원통형이다. 다른 실시예들에서, 측벽(203)은 폴리에테르 에테르 케톤(PEEK)으로 형성된 별도의 구성요소일 수 있다.
일 실시예(도시되지 않음)에서, 측벽(203)은 하나 이상의 돌출부들을 포함한다. 돌출부들은, 가열 챔버(202) 내로 돌출하기 위해 측벽(203)의 내부면 상에 형성된 측벽(203)의 돌출 부분들이다. 돌출부들은 가열 요소(206) 상에 제공될 수 있다. 돌출부들은 가열 요소의 돌출 부분들일 수 있다.
베이스(204)는 측벽(203)의 원위 단부에 배치된 플레이트(plate)를 포함한다. 베이스(204)는, 물품(300)이 가열 챔버(202)에 삽입될 때 물품(300)의 원위 단부(300a)에 맞닿도록 구성된다. 도시된 실시예에서, 베이스(204)의 일부분은 물품(300)의 원위 단부(300a)에 맞닿도록 구성된다. 베이스의 융기된 중심 부분(204a)은, 물품(300)의 원위 단부(300a)에 맞닿도록 구성된다. 다른 실시예들에서, 베이스는 적어도 실질적으로 평탄하거나 오목할 수 있다. 베이스의 환형 또는 주변 부분은 물품의 원위 단부에 맞닿도록 구성될 수 있다.
실시예들에서, 베이스(204)는 애퍼처를 포함한다. 애퍼처는 공기유동을 제공하고 그리고/또는 사용 시에 형성된 응축물을 수집할 수 있다. 베이스는 실질적으로 환형 선반(shelf)을 형성할 수 있다. 베이스는 돌출부 또는 업스탠드(upstand)를 포함할 수 있다. 상기에서 논의된 바와 같이, 일부 실시예들에서, 가열 요소는 블레이드 또는 핀을 포함할 수 있다. 가열 요소는 베이스로부터 돌출할 수 있다. 대안적으로, 가열 요소는 베이스의 하나 이상의 애퍼처들을 통과할 수 있다. 베이스는 가열 요소 주위에 제공될 수 있다. 베이스는 가열 요소와 접촉할 수 있거나 접촉하지 않을 수 있다.
가열 챔버(202) 및 물품(300)은, 물품(300)이 가열 챔버(202)에 삽입되고 물품(300)의 원위 단부(300a)가 베이스(204)와 접촉할 때, 물품(300)의 근위 단부(300b)가 개구(103)로부터 돌출하도록 크기설정된다. 이것은 사용자가 사용 시에 근위 단부(300b) 상을 흡인할 수 있게 한다. 다른 예들에서, 물품은 가열 챔버에 완전히 수용될 수 있다. 즉, 물품의 근위 단부는 디바이스로부터 돌출하지 않을 수 있다.
도 4는 디바이스(100)의 가열 챔버(202) 내로의 삽입을 위한 스페이서(400)의 제1 실시예를 도시한다. 스페이서(400)는 본체(402)를 포함한다. 본체(402)는 베이스(204)에 대해 스페이서(400)를 로케이팅시키도록 배열된 로케이팅 표면(402a)을 포함한다. 본체(402)는, 에어로졸 생성 재료를 포함하는 물품의 적어도 일부에 맞닿기 위한 맞닿음 표면(402b)을 포함한다.
로케이팅 표면(402a)은, 스페이서(400)의 제1 축 방향 또는 원위 범위를 규정한다. 즉, 스페이서(400)의 어떠한 부분도 로케이팅 표면(402a)을 지나 연장하지 않는다. 로케이팅 표면(402a)은 도 6에서 본 바와 같이, 가열 챔버(202) 내에 삽입될 때 스페이서(400)의 원위 지점이다.
맞닿음 표면(402b)은 스페이서(400)의 제2 축방향 또는 근위 범위를 규정한다. 즉, 스페이서(400)의 어떠한 부분도 맞닿음 표면(402b)을 지나 연장하지 않는다. 맞닿음 표면(402b)은 도 6에서 보이는 바와 같이, 가열 챔버(202)에 삽입될 때 스페이서(400)의 노출된 측이다.
스페이서(400)는 제조 동안에, 예를 들어, 사출 성형 프로세스를 통해 함께 일체로 형성될 수 있다. 대안적으로, 스페이서(400)의 2개 이상의 특징부들이 초기에 개별적으로 형성되고, 그런 다음 예를 들어, 용접 프로세스에 의해 일체의 구성요소를 형성하기 위해 제조 스테이지(stage) 동안 함께 형성될 수 있다.
본원에 사용되는 바와 같이, 일체의 구성요소는 조립 후에 2개 이상의 구성요소들로 분리가능하지 않은 구성요소를 지칭한다. 일체로 형성된 이라 함은 구성요소의 제조 스테이지 중에 일체의 구성요소로 형성되는 2개 이상의 특징부들과 관련된다.
스페이서(400)에는 변하는 자기장의 침투에 의해 가열될 수 있는 재료가 없다. 실시예들에서, 스페이서(400)는 폴리에테르에테르케톤(PEEK) 재료로 형성된다.
스페이서는 ISO 11359-2:1999에 따라 측정된, 다음의 선형 열 팽창 계수들을 가지는 재료로 형성된다. 다른 적합한 재료들 및/또는 특성들이 사용될 수 있다. 재료의 유리 전이(Tg)의 시작은 143 ℃이며, 그리고 재료의 유리 전이의 중간점은 150 ℃이다.
본체(402)는 단부 부재(403) 및 3개의 세장형 축방향 연장 부재들(404)을 포함한다. 축방향 연장 부재들(404)은 유지 부재(retention member)들로서 작용한다. 유지 부재들은 리테이너(405)의 일부를 형성한다. 리테이너(405)는 내부에 수용될 때 가열 챔버(202)에 스페이서(400)를 리테이닝하도록 작용한다. 리테이너(405)의 구성은, 예를 들어 아래에서 설명되는 바와 같이 상이할 수 있다. 축방향 연장 부재들(404)은 단부 부재(403)로부터 바깥쪽으로 펼쳐진다. 다른 실시예들에서, 상이한 수의 축방향 연장 부재들이 제공될 수 있다. 예를 들어, 2개의 축방향 연장 부재들이 제공될 수 있다. 축방향 연장 부재들은 공동을 규정할 수 있다. 축방향 연장 부재들은 단부 부재 주위에서 부분적으로 원주방향으로 연장될 수 있다. 축방향 연장 부재들은 스커트의 형태로 제공될 수 있다. 보다 많거나 보다 적은 수의 축방향 연장 부재들(404)이 제공될 수 있다.
축방향 연장 부재들(404)은 스페이서 본체(402)의 일체형 부분이다. 맞닿음 표면(402b)은, 각각의 축방향 연장 부재(404)의 원위 단부에 의해 제공된다. 본 실시예의 맞닿음 표면(402b)은, 축방향 연장 부재들(404)의 3개의 단부 표면들로 구성된다. 축방향 연장 부재들(404)은 로케이팅 표면(402a)과 맞닿음 표면(402b) 사이에 제공된다.
축방향 연장 부재들로서 작용하는 아암들(404)은 탄성이 있다. 즉, 축방향 연장 부재들은 사용 시에 변형되거나 편향될 수 있고, 반력(reaction force)을 가할 수 있다. 아암들(404)은 단부 부재(403)로부터 바깥쪽으로 발산한다. 그러한 배열체는 가열 챔버(202)에서 스페이서(400)의 정렬을 돕는다. 축방향 연장 부재들은 내측방 편향을 가능하게 하는 것을 돕도록 이격된다. 스페이서는 가열 챔버에 삽입될 때, 축방향 연장 부재들이 가열 챔버의 벽들에 의해 내측방 편향되도록 크기설정된다. 축방향 연장 부재들은, 사용 시에 가열 챔버(202)에 스페이서(400)를 리테이닝하기 위한 유지력(retaining force)을 제공한다.
스페이서(400)는 그를 통한 공기 통로를 포함한다. 공기 통로는, 축방향 연장 부재들 사이에서 공동과 연통하는 애퍼처(406)를 포함한다. 애퍼처(406)는 관통 구멍이다. 즉, 애퍼처(406)은 스페이서의 하나의 표면으로부터 본체(402)를 통해 스페이서의 다른 표면으로 연장된다. 축방향 연장 부재들에 의해 규정되는 애퍼처(406) 및 공동은 공기 통로를 함께 형성한다. 공기 통로는 스페이서의 일 측으로부터 스페이서의 다른 측으로 연장된다. 이러한 실시예에서, 공기 통로는 로케이팅 표면(402a)과 맞닿음 표면(402b) 사이에서 연장된다.
도 5는, 가열 챔버(202) 내로의 삽입을 위한 다른 스페이서(500)를 도시한다. 제1 스페이서(400)와 공통인 특징부들은 유사한 참조 번호들로 지칭될 것이고, 간결화를 위해 다시 설명되지 않을 것이다(예를 들어, 제2 스페이서의 애퍼처(506)는 제1 스페이서의 애퍼처(406)에 대응함). 제2 스페이서(500)는 축방향 연장 부재들을 포함하지 않는다. 제2 스페이서(500)의 본체(502)는 실질적으로 원통형이다. 본 실시예에서, 애퍼처(506)는 원통형 본체(502)의 중공 내부와 연통한다. 중공 원통형 본체(502)는 그의 원위 단부, 즉 로케이팅 표면(502a)이 제공되는 본체의 단부에서 개방된다. 애퍼처(506) 및 원통형 본체(502)의 중공 내부는, 스페이서의 일 측으로부터 다른 측으로 연장하는 공기 통로를 함께 규정한다.
스페이서(500)는 리테이너(508)를 포함한다. 리테이너는, 가열 챔버(202) 내에 스페이서(500)를 리테이닝하도록 구성된다. 리테이너(508)는 가열 챔버(202)의 측벽(203) 상에 작용하도록 구성된다. 리테이너(508)는 스페이서(500)의 탄성 부분이다. 본 실시예에서, 리테이너(508)는 3개의 탄성 탭들 또는 아암들(508)을 포함한다. 탭들(508)은, 절취부들(510)에 의해 본체(500)의 나머지로부터 부분적으로 분리되는 원통형 본체(502)의 부분들이다. 탭들(508)은 절취부들에서 연장된다. 실시예들에서, 절취부들(510)은 생략되며, 이 때 탭들은 스페이서(500)의 외주 벽으로부터 연장된다. 탭들(508)의 반경방향 범위는, 스페이서 본체(502)의 나머지의 반경방향 범위보다 더 크다. 즉, 탭들(508)의 외부면(508a)은 스페이서 본체(502)의 외부면(502a)보다 높이 있다(proud of). 탭들(508)은 본체(502)의 원주의 50% 이하의 아치형 범위를 포함할 수 있다. 각각의 탭(508)의 원위 단부는 본체(500)의 나머지에 결합된다. 절취부들(510)은, 탭들(508)이 가열 챔버(202) 내로 삽입될 때, 측벽(203)과의 맞물림에 의해 편향될 수 있는 간극(clearance)을 제공한다. 탭들(508)은 스페이서 본체(502)의 일체로 형성된 부품이라는 것이 이해될 것이다.
실시예들에서, 리테이너(508)는 리브를 포함할 수 있다. 리브는 리테이너 본체(502)의 외부 표면 상에 배치된다. 리브는 스페이서(500)의 탄성 부분이다. 리브는 스페이서 본체(502)와 일체로 형성될 수 있다. 리브는 스페이서 본체(502)에 결합되는 별도의 구성요소로서 제공될 수 있다. 리브는 스페이서 본체(502) 상의 오버몰드(overmould)일 수 있다. 리브는 일체의 구성요소일 수 있다.
실시예들에서, 리테이너(508)는 측벽(203)의 하나 이상의 돌출부들에 작용하도록 구성될 수 있다.
도 6은, 스페이서(400) 및 사용을 위해 삽입된 제2 물품(302)을 갖는 에어로졸 생성 디바이스(100)를 개략적으로 도시하고 있다. 사용 시에, 스페이서(400)는 가열 챔버(202)에 삽입된다. 스페이서(400)는 가열 챔버(202)의 원위 단부에 포지셔닝된다.
스페이서(400)는 반영구적인 끼워맞춤부(semi-permanent fitting)이다. 즉, 스페이서는, 요구된다면/요망된다면 제거될 수 있지만, 스페이서는 삽입되도록 의도되고 그리고 그 후 디바이스에 남겨진다. 이것은 기존의 에어로졸 생성 디바이스들이 상이한 크기 또는 형상을 갖는 상이한 물품과 함께 사용하도록 적응될 수 있게 한다. 스페이서에는 초기 구매시에 에어로졸 생성 디바이스가 제공될 수 있거나, 사용자가 기존의 에어로졸 생성 디바이스들에 적응할 수 있게 하도록 별도로 제공될 수 있는 것이 구상된다. 특히, 스페이서는, 보다 짧은 물품이 디바이스에 사용되는 것을 허용하면서, 물품의 근위 단부가 기존 디바이스가 의도한 본래의 물품의 근위 단부의 로케이션에 근접하거나 동일한 로케이션에 배치되는 것을 허용한다. 이것은 디바이스가 상이하게 형상이 정해지거나 크기가 정해진 물품과 함께 효과적으로 기능하는 것을 허용한다. 예를 들어, 스페이서는 더 짧은 물품의 근위 단부가 디바이스의 개구로부터 돌출하도록 더 짧은 물품이 디바이스에 삽입되는 것을 허용하며, 이에 따라 사용자는 더 짧은 물품의 근위 단부 상으로 흡인할 수 있다.
스페이서(400)는, 가열 챔버의 측벽과 축방향 연장 부재들(404)의 마찰 맞물림에 의해 가열 챔버에 리테이닝된다. 스페이서(500)는 가열 챔버의 측벽과 리테이너의 마찰 맞물림에 의해 가열 챔버(202) 내에 리테이닝된다.
스페이서들은 가열 챔버 내에 배치된 가열 요소들, 예를 들어, 핀 또는 블레이드 가열 요소들을 포함하는 디바이스들과 함께 사용될 수 있다. 핀 또는 블레이드 가열 요소는 스페이서의 애퍼처(406, 506) 내에 수용될 수 있다. 선택적으로, 스페이서는 핀 또는 블레이드 가열 요소를 파지하도록 적응되는 리테이닝 특징부들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 애퍼처(406, 506)는 가열 요소의 외부 표면에 순응하도록 크기가 정해지고 형상이 정해질 수 있다. 애퍼처(406, 506)는 가열 요소의 외부 표면을 파지하도록 적응되는 탄성 부분을 포함할 수 있다. 그러한 실시예에서, 리테이너 및/또는 임의의 스페이서는 가열 챔버(202)의 주변 벽과의 접촉이 없을 수 있다.
스페이서의 애퍼처(406, 506)는 물품의 원위 단부의 통기를 허용하고 가열 요소를 수용하는 이중의 장점을 제공한다.
스페이서(400)는, 가열 챔버(202) 내에 수용될 때 축방향으로 가열 요소(206)와 중첩한다. 따라서, 스페이서는 가열 요소(206)의 접근가능한 길이를 감소시키도록 작용한다. 이러한 배열체들로, 가열 요소의 사용가능한 길이는 감소된다. 스페이서(400)가 가열 챔버(202) 내에 삽입될 때, 애퍼처(406)는 축방향으로 연장된다. 로케이팅 표면(402a)은 베이스(204)와 접촉한다. 특히, 로케이팅 표면(402a)은 베이스의 융기 부분(204a)과 접촉한다.
제2 물품(302)은 가열 챔버(202) 내에 삽입된다. 제2 물품(302)은 제1 물품(300)보다 길이가 더 짧다. 제2 물품(302)의 길이는 축방향으로의 범위인 것이 이해될 것이다. 제2 물품은 제1 물품(300)과 동일한 직경을 갖는다. 직경이 축방향에 수직인 방향인 것이 이해될 것이다. 제2 물품(302)은 스페이서(400) 이후에 삽입된다. 제2 물품(302)의 원위 단부(302a)는 스페이서(400)의 맞닿음 표면(402b)에 접촉한다. 제2 물품(302)은 스페이서(400)에 의해 가열 챔버(202) 내에 지지된다. 제2 물품(302)은 스페이서(400)에 의해 베이스(204)로부터 이격된다. 이에 따라, 근위 단부(302b)는 개구(103)로부터 돌출하여, 사용자가 사용 시에 근위 단부(302a) 상을 흡인할 수 있게 한다. 스페이서(400)는 가열 챔버(202)의 유효 길이를 감소시킨다. 스페이서(400)는 물품(302)에 노출되는 가열 요소의 길이를 감소시킨다.
스페이서(400, 500)는 가열 챔버의 직경 또는 사용성을 감소시키지 않고서 가열 챔버의 길이를 감소시킨다. 이는, 위에서 논의된 바와 같이, 맞닿음 표면(402b, 502b)이 스페이서의 근위 범위를 나타내기 때문에 가능하다. 즉, 스페이서의 어떠한 부분도 맞닿음 표면을 넘어 연장하지 않는다.
스페이서는, 에어로졸 생성 디바이스(100)가 스페이서의 삽입에 의해 적응될 수 있게 하여, 가열 챔버(202)의 유효 길이를 감소시킨다. 이것은 에어로졸 생성 디바이스(100)가 제2 물품(302)을 수용할 수 있게 한다. 스페이서는 에어로졸 생성 디바이스(100)와 별도로 제공되어, 사용자들이 이미 존재하는 에어로졸 생성 디바이스들을 제2 물품(302)을 수용할 수 있도록 적응시킬 수 있는 것으로 예상된다.
에어로졸 생성 디바이스로부터의 스페이서의 삽입 및/또는 제거를 돕기 위해 공구가 제공될 수 있는 것이 구상된다. 공구는, 개구(103)를 통해 가열 챔버(202) 내로 삽입하기 위한 세장형 부재를 포함할 수 있다. 공구는, 디바이스로부터 돌출하고 사용자에 의해 파지되면서, 가열 챔버의 원위 단부에 도달하기에 충분한 길이를 가질 수 있다. 공구는, 스페이서가 디바이스 밖으로 당겨질 수 있게 하기 위해, 스페이서를 파지하기 위한 맞물림 요소를 포함할 수 있다. 맞물림 요소는, 예를 들어, 세장형 부재의 단부에 후크형 부분(hooked portion)을 포함할 수 있다. 공구는 가열 챔버의 원위 단부를 향해 스페이서를 푸시하는 데 사용될 수 있다. 공구는 가열 챔버 밖으로 스페이서를 당기는 데 사용될 수 있다.
상기 실시예들은 본 발명의 예시적인 예들로서 이해되어야 한다. 본 발명의 추가의 실시예들이 구상된다. 임의의 하나의 실시예와 관련하여 설명된 임의의 특징은 단독으로, 또는 설명된 다른 특징들과 조합하여 사용될 수 있고, 다른 실시예들의 하나 이상의 특징들 또는 임의의 다른 실시예들의 임의의 조합과 조합하여 사용될 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 더욱이, 첨부된 청구범위에서 규정된 본 발명의 범위로부터 벗어나지 않고 상기에서 설명되지 않은 균등물들 및 변형예들도 또한 이용될 수 있다.

Claims (22)

  1. 에어로졸 생성 시스템으로서,
    에어로졸 생성 디바이스를 포함하고, 상기 에어로졸 생성 디바이스는,
    에어로졸 가능 재료를 포함하는 물품의 적어도 일부를 수용하기 위한 가열 챔버 ― 상기 가열 챔버는 측벽 및 베이스(base)를 포함 ―; 및
    가열 챔버 내로 삽입가능한 스페이서(spacer)를 포함하고;
    상기 베이스는, 상기 스페이서가 상기 가열 챔버로부터 부재할 때, 에어로졸 가능 재료를 포함하는 물품의 원위 단부에 맞닿도록 구성되고,
    상기 스페이서는, 상기 스페이서가 상기 가열 챔버 내에 삽입될 때, 에어로졸 가능 재료를 포함하는 물품의 원위 단부를 상기 베이스로부터 이격시키도록 구성되는,
    에어로졸 생성 시스템.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 스페이서는 상기 베이스에 대해 스페이서를 로케이팅하도록 배열된 로케이팅 표면(locating surface); 및 상기 에어로졸 가능 재료를 포함하는 물품의 적어도 일부에 맞닿기 위한 맞닿음 표면(abutment surface)을 포함하는,
    에어로졸 생성 시스템.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 로케이팅 표면은 상기 스페이서의 원위 범위를 규정하는,
    에어로졸 생성 시스템.
  4. 제2 항 또는 제3 항에 있어서,
    상기 맞닿음 표면은 상기 스페이서의 근위 범위를 규정하는,
    에어로졸 생성 시스템.
  5. 제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스페이서는 상기 가열 챔버 내에 스페이서를 리테이닝하도록 구성된 리테이너(retainer)를 포함하는,
    에어로졸 생성 시스템.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 리테이너는 상기 측벽 상에 작용하도록 구성되는,
    에어로졸 생성 시스템.
  7. 제5 항 또는 제6 항에 있어서,
    상기 스페이서는 상기 리테이너의 적어도 일부를 규정하는 탄성 부분을 포함하는,
    에어로졸 생성 시스템.
  8. 제1 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 에어로졸 생성 디바이스는 가열 요소를 포함하고, 상기 스페이서는 상기 가열 챔버 내에 수용될 때 축방향으로 상기 가열 요소와 중첩하도록 구성되는,
    에어로졸 생성 시스템.
  9. 제8 항에 있어서,
    상기 가열 요소는 상기 측벽의 적어도 일부를 규정하는,
    에어로졸 생성 시스템.
  10. 제8 항에 있어서,
    상기 가열 요소는 상기 가열 챔버 내에 돌출하는,
    에어로졸 생성 시스템.
  11. 제8 항 내지 제10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스페이서는 상기 가열 챔버 내에 수용될 때 상기 가열 요소에 맞닿도록 배열되는,
    에어로졸 생성 시스템.
  12. 제1 항 내지 제11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스페이서는 상기 스페이서를 통한 경로(path)를 포함하는,
    에어로졸 생성 시스템.
  13. 제1 항 내지 제12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스페이서에는 변하는 자기장의 침투에 의해 가열될 수 있는 재료가 없는,
    에어로졸 생성 시스템.
  14. 제1 항 내지 제13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스페이서는, 150 ppm k-1 미만의, 유리 전이(glass transition) 초과의 유동을 따른 선형 열 팽창 계수를 갖는 재료로 형성되는,
    에어로졸 생성 시스템.
  15. 에어로졸 생성 디바이스의 가열 챔버 내로 삽입하기 위한 스페이서로서,
    가열 챔버의 베이스에 대해 로케이팅되도록 배열된 로케이팅 표면 및 에어로졸 가능 재료를 포함하는 물품의 단부에 맞닿도록 배열된 맞닿음 표면을 갖는 본체 ― 상기 맞닿음 표면은 상기 스페이서의 축 방향 범위를 규정함 ―; 및
    상기 가열 챔버 내에 상기 스페이서를 리테이닝하도록 배열되는 리테이너(retainer)를 포함하는,
    에어로졸 생성 디바이스의 가열 챔버 내로 삽입하기 위한 스페이서.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 로케이팅 표면은 축을 따라 상기 스페이서의 제1 축방향 범위를 규정하고, 상기 맞닿음 표면은 상기 축을 따라 상기 스페이서의 제2 축방향 범위를 규정하는,
    에어로졸 생성 디바이스의 가열 챔버 내로 삽입하기 위한 스페이서.
  17. 제16 항에 있어서,
    상기 리테이너는 상기 축에 수직인 반경 방향 범위를 규정하는,
    에어로졸 생성 디바이스의 가열 챔버 내로 삽입하기 위한 스페이서.
  18. 제15 항 내지 제17 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스페이서는 탄성 탭을 포함하는,
    에어로졸 생성 디바이스의 가열 챔버 내로 삽입하기 위한 스페이서.
  19. 제15 항 내지 제18 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 리테이너는 상기 스페이서의 일체로(integrally) 형성된 부품인,
    에어로졸 생성 디바이스의 가열 챔버 내로 삽입하기 위한 스페이서.
  20. 제15 항 내지 제19 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 리테이너는 일체의 구성요소(one-piece component)인,
    에어로졸 생성 디바이스의 가열 챔버 내로 삽입하기 위한 스페이서.
  21. 제1 항 내지 제20 항 중 어느 한 항에 따른 스페이서 및 에어로졸 생성 재료를 포함하는 물품을 포함하는, 부품들의 키트.
  22. 제1 항 내지 제20 항 중 어느 한 항에 따른 스페이서 및 에어로졸 생성 디바이스의 가열 챔버로부터 스페이서를 후퇴시키기 위한 후퇴 공구를 포함하는, 부품들의 키트.
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