KR20240068671A - 냉각 요소 및 냉각 요소와 관련된 방법 - Google Patents

Abstract

노(1)를 위한 냉각 요소(4)는 노(1)의 내부(3)를 향해 지향되도록 구성된 제 1 측면(7), 제 1 측면(7)에 대향하고 노의 내부(3)로부터 멀리 지향되도록 구성된 제 2 측면(8), 및 냉각 유체 순환을 위한 냉각 유체 채널 시스템(6)을 포함한다. 냉각 요소(4)는 압력 매체를 위한 적어도 하나의 모니터링 채널(11)을 포함하는 모니터링 채널 시스템(10)을 더 포함한다. 모니터링 채널(11)의 적어도 부분(12)은 제 1 측면(7) 과 제 1 측면(7)에 가장 가까운 냉각 유체 채널 시스템(10)의 지점들(15)에 의해 한정된 평면(14) 사이에 제공된 냉각 요소(4)의 부분(13)에서 연장된다.

Description

냉각 요소 및 냉각 요소와 관련된 방법

본 발명은 노에 관한 것으로, 보다 상세하게는 노의 냉각 요소에 관한 것이다. 본 발명은 또한 이러한 냉각 요소와 관련된 방법에 관한 것이다.

산업적 목적, 특히 플래시 스멜팅 노 (flash smelting furnace), 용광로 (blast furnace) 및 전기로 또는 다른 야금 반응기와 같은 금속의 제조에 사용되는 노와 관련하여, 냉각 요소가 사용된다. 냉각 요소는 전형적으로 양호한 열 전도율로 인해 주로 구리로 이루어진다. 전형적으로, 이들 냉각 요소는 물에 의해 냉각되고, 따라서 냉각수 채널 시스템을 구비하며, 이 경우 열은 노 공간 내의 내화 벽돌로부터 냉각 요소의 하우징을 통해 냉각수로 전달된다. 작업 조건은 극단적이고, 냉각 요소는, 다른 것들 중에서도, 노 분위기 또는 용융 접점에 의해 야기되는 강한 부식 및 침식 스트레인을 겪는다. 시간이 지남에 따라, 냉각 요소에 마모 및 손상이 발생할 수 있다. 이러한 손상이 냉각수 채널 시스템에 도달하면, 냉각수가 노 내부로 누출되고, 이는 공정 장애, 예상치 못한 서비스 단절 및 현저한 경제적 손실을 초래할 수 있다.

본 발명의 목적은 새로운 냉각 요소 및 냉각 요소와 관련된 새로운 방법을 제공하는 것이다. 본 목적은 독립 청구항들에 기재된 것에 의해 특징지어지는 방법 및 냉각 요소에 의해 달성된다. 본 발명의 일부 바람직한 실시형태들은 종속 청구항들에 개시된다.

본 발명은 냉각 요소 내부에 모니터링 채널 시스템을 제공하는 아이디어에 기초한다. 특히, 냉각 요소가 사용을 위해 노에 장착될 때, 노의 내부를 향하는 표면과 냉각 유체 채널 시스템 사이의 냉각 요소 내부에 모니터링 채널 시스템이 제공된다.

본 발명의 방법 및 장치의 이점은 가능한 손상이 냉각 유체 채널 시스템에 도달하기 전에 냉각 요소의 마모가 검출될 수 있다는 것이다. 이러한 방식으로 냉각 요소들을 수리하거나 교체하기 위한 필요성들이 예측될 수 있고, 공정 중단시간은 다른 유지보수 필요성들과 함께 계획되고 최적화될 수 있다. 나아가, 본 발명은 알려진 해결책에서보다 간단한 구조 및 더 적은 구성부품 및 배선을 갖는 효과적인 모니터링 장치를 제공한다.

이하에서, 본 개시는 첨부 도면들을 참조하여 바람직한 실시형태들에 의해 보다 상세하게 설명될 것이다.
도 1 은 노의 세부 단면을 도시한다.
도 2 는 일 실시형태에 따른 냉각 요소를 단면으로 개략적으로 도시한다.
도 3 은 일 실시형태에 따른 냉각 요소를 도 2 의 수직 방향으로부터의 단면으로 개략적으로 도시한다.
도 4 는 일 실시형태에 따른 제 1 측면에 가장 가까운 냉각 유체 채널의 지점들에 의해 정의되는 평면을 도시한다.
도 5 는 다른 실시형태에 따른 제 1 측면에 가장 가까운 냉각 유체 채널의 지점들에 의해 정의된 평면을 도시한다.
도 6 은 제 1 측면에 가장 가까운 냉각 유체 채널의 지점들에 의해 정의된 평면과 모니터링 채널 사이의 각도를 개략적으로 도시한다.
도 7 은 냉각 요소의 단부로부터 본 냉각 요소를 단면으로 개략적으로 도시한다.
도 8 은 도 7 에 도시된 교차점 B-B 의 방향에서 본 도 7 의 냉각 요소를 확대된 단면으로 개략적으로 도시한다.
도 9 는 냉각 요소의 단부로부터 본 냉각 요소를 단면으로 개략적으로 도시한다.
도 10 은 도 9 에 도시된 교차점 B-B 의 방향에서 본 도 9 의 냉각 요소를 확대된 단면으로 개략적으로 도시한다.
도 11 은 냉각 요소의 단부로부터 본 냉각 요소를 단면으로 개략적으로 도시한다.
도 12 는 도 11 에 도시된 교차점 방향 B-B 에서 본 도 11 의 냉각 요소를 확대된 단면으로 개략적으로 도시한다.
도 13 및 14 는 냉각 요소의 단부로부터 본 냉각 요소의 2개의 상이한 실시형태를 단면으로 개략적으로 도시한다.
도 15 내지 도 23 은 도 13 에 도시된 교차점 C-C 의 방향 또는 도 14 에 도시된 교차점 A-A 의 방향에서 확대해서 본 냉각 요소들의 상이한 실시형태들을 개략적으로 도시한다.
도 24 는 냉각 장치를 도시한다.
도 25 는 일 실시형태에 따른 냉각 장치의 세부 구성을 도시한다.
도 26 은 냉각 요소와 관련된 방법을 도시한다.
도 27 은 노를 위한 냉각 요소의 마모를 모니터링하기 위한 방법을 도시한다.
도면들은 단지 예시적인 목적들을 위해 제공되며, 이에 의해 이들은 스케일링되도록 도시되지 않으며, 모든 대응하는 특징들이 제공되는 것은 아니다.

도 1 은 노(1)의 세부 단면을 도시한다. 도 1 에 도시된 노는 단지 본 설명 및 첨부 도면에 개시된 냉각 요소 및 방법이 사용될 수 있는 상이한 유형의 노의 예이고, 이러한 노에 전형적인 일부 관련 용어 및 특징을 예시하기 위해 도시된다는 것은 당업자에게 명백하다. 유사하게, 이러한 노가 본 명세서에서 언급되지 않은 복수의 부분 및 구조를 포함하는 것은 당업자에게 명백한데, 그 이유는 이들이 문제의 해결책에 관하여 관련이 없기 때문이다.

노(1)는 전형적으로 노 하우징(2)을 포함하고, 노 하우징 내부에는 노 공간, 즉 노의 내부(3)가 있으며, 이 공간 내에 처리될 재료가 제공될 수 있다. 일 실시형태에 따르면, 노(1)는 산업용으로 사용된다. 일 실시형태에 따르면, 노는 보다 특히 금속의 제조에 사용된다. 이러한 노(1)는 플래시 스멜팅 노, 용광로, 전기로 또는 다른 유형의 야금 반응기를 포함할 수 있다.

전형적으로, 도 1 의 노와 같은 전술한 유형의 노들은 노의 내부(3)를 향하는 노 하우징(2) 측에 제공된 냉각 요소들(4)을 포함한다. 실시형태에 따라, 본 설명에 개시된 하나 이상의 냉각 요소(4)는 노(1)의 상이한 부분들에 제공될 수 있다. 냉각 요소(4)는 노의 내부(3)를 전체적으로 둘러쌀 수 있고, 하나 이상의 냉각 요소(4)가 노 하우징(2)의 일부를 덮도록 제공될 수 있거나, 하나 이상의 냉각 요소(4)가 냉각이 필요한 노(1)의 특정 지점(들)에만 제공될 수 있다. 일 예로서, 노(1)가 플래시 스멜팅 노를 포함하는 실시형태에서, 하나 이상의 냉각 요소(4)가 반응 챔버, 하부 노, 침강기(settler) 및/또는 업테이크 샤프트에 제공될 수 있다. 추가 실시형태에 따르면, 내화 라이닝(5), 예를 들어 내화 벽돌들을 포함하는 라이닝이 노의 내부(3)를 향해 지향되는 냉각 요소들(4)의 표면과 관련하여 제공된다. 내화 라이닝은 세라믹 재료를 포함할 수 있다. 본 설명에서, 표현 “및/또는” 이 사용될 때, 이는 개시된 대안들 중 적어도 하나, 즉 대안들 중 하나 이상을 지칭한다.

일 실시형태에 따르면, 냉각 요소(4)는 구리를 포함할 수 있다. 일 실시형태에 따르면, 냉각 요소(4)의 부피 중 적어도 50% 가 구리로 이루어질 수 있다. 더 바람직하게는, 냉각 요소(4)의 부피의 60% 이상, 가장 바람직하게는 70% 이상이 구리로 이루어질 수 있다. 일 실시형태에 따르면, 냉각 요소(4)는 구리에 추가하여 또는 구리 대신에 다른 재료(들)를 포함할 수 있다.

냉각 요소(4)는 냉각 요소 내부에서 순환되는 냉각 액체와 같은 냉각 유체에 의해 냉각될 수 있다. 이를 위해, 냉각 요소(4)의 내부에는 냉각 유체 채널 시스템(6)이 제공될 수 있다. 따라서, 열이 내화 라이닝(5)으로부터 냉각 요소(4)의 하우징을 통해 냉각 액체로 전달될 수 있다.

냉각 요소(4)가 부피의 50, 60 또는 70% 와 같은 높은 비율의 구리를 포함하는 실시형태들의 이점은, 구리가 특히 양호한 열 전도율을 가지며, 따라서 냉각 요소(4)가 노의 내부(3)를 향해 지향되는 표면으로부터, 예를 들어 내화 라이닝(5)으로부터 냉각 유체 채널 시스템(6) 내의 냉각 유체로 열을 효과적으로 전달할 수 있다는 것이다. 냉각 요소(4)에는 홈(grooves) 또는 릿지(ridges)가 제공될 수 있고, 내화 라이닝(5)은 예를 들어 세라믹 또는 다른 유형의 재료로 제조된 내화 벽돌과 같은 세라믹 부재를 포함할 수 있다.

도 2 는 일 실시형태에 따른 냉각 요소(4)를 단면으로 개략적으로 도시한 것이다. 노(1)를 위한 냉각 요소(4)는 노의 내부(3)를 향해 지향되도록 구성된 제 1 측면(7), 및 제 1 측면(7)에 대향하고 노의 내부(3)로부터 멀리 지향되도록 구성된 제 2 측면(8)을 포함한다. 즉, 제 1 측면(7)은 노 공간이라고도 불리는 노의 내부(3)를 향해 배열된 냉각 요소(4)의 측면을 포함하고, 제 2 측면(8)은 냉각 요소(4)가 노(1)에 장착될 때에 노 하우징(2)을 향해 배열된 냉각 요소(4)의 측면을 포함한다.

냉각 요소(4)는 또한 냉각 유체 순환을 위한 냉각 유체 채널 시스템(6)을 포함한다. 냉각 유체 채널 시스템(6)은 냉각 요소(4) 내부에 제공된 적어도 하나의 냉각 유체 채널(9)을 포함한다. 일 실시형태에 따르면, 냉각 요소(4)는 둘 이상의 냉각 유체 채널들(9)을 포함한다. 각각의 냉각 유체 채널(9)은 냉각 유체를 수용하도록 구성된다. 따라서, 냉각 유체 순환은 냉각 유체 채널 시스템(6)에서 발생하도록 구성될 수 있다. 냉각 유체 순환 및 냉각 유체 채널들은 당업계에 알려져 있으므로, 여기서는 상세히 논의되지 않는다.

냉각 요소(4)는 모니터링 채널 시스템(10)을 더 포함한다. 모니터링 채널 시스템(10)은 압력 매체를 위한 적어도 하나의 모니터링 채널(11)을 포함한다. 즉, 모니터링 채널(11)은 압력 매체를 수용하도록 구성된다. 모니터링 채널(11) 내의 압력 및/또는 유동이 모니터링될 수 있고, 데이터는 냉각 요소(4)의 마모 등의 상태를 모니터링하기 위해 사용될 수 있다. 보다 구체적으로, 데이터는 노(1)의 내부(3)를 향해 지향되는 제 1 측면(7) 상의 냉각 요소(4)의 마모를 검출하는 데 사용될 수 있고, 따라서 고온에 노출된다. 냉각 요소(4)의 상태를 모니터링하는 것은 다른 실시형태들과 관련하여 더 상세하게 후술된다. 이러한 모니터링 채널(들)(11)은 냉각 유체 채널(들)(9)에 도달하기 전에 마모를 검출하는 것을 가능하게 한다. 이에 의해 냉각 요소(4)는 냉각 유체가 노(1)의 내부(3)와 접촉할 위험이 있기 전에 예를 들어 교체되거나 수리될 수 있다. 일 실시형태에 따르면, 모니터링 채널 시스템(10)은 압력 매체를 위한 정확히 하나의 모니터링 채널(11)을 포함한다.

실시형태에 따라, 냉각 요소(4)는 주조, 예를 들어 연속 주조, 몰드 캐스팅 또는 샌드 캐스팅에 의해 제조될 수 있다. 실시형태에 따라, 모니터링 채널(11) 및 모니터링 채널 시스템(10)은 드릴링과 같은 기계가공에 의해, 또는 주조 및/또는 몰딩과 관련하여 냉각 요소(4) 내에 형성될 수 있다.

모니터링 채널(11)의 적어도 부분(12)은 제 1 측면(7) 과 제 1 측면(7)에 가장 가까운 냉각 유체 채널 시스템(6)의 지점들(15)에 의해 한정된 평면(14) 사이에 제공된 냉각 요소의 부분(13)에서 연장된다. 이는 예를 들어 도 2 의 방향에 수직인 방향으로부터 일 실시형태에 따른 냉각 요소를 단면으로 개략적으로 도시하는 도 3 에 도시되어 있다. 그러한 실시형태들의 이점은, 예를 들어, 포인트-유사(point-like) 측정 또는 모니터링 포인트들을 이용하는 것보다 더 큰 영역의 냉각 요소(4) 및 냉각 유체 채널 시스템(6)이 커버될 수 있고, 따라서 모니터링될 수 있다는 것이다. 도 3 은 모니터링 채널(11)이 또한 냉각 요소(4)의 내부 및 외부에 다른 부분들을 가질 수 있는 것을 개략적으로 예시한다. 이는 단지 개략적인 예이고 모니터링 채널(11)이 여러 크기로 서로에 대해 각도를 이루는 부분들을 가질 수 있다는 것은 당업자에게 명백하다. 일부 예들이 첨부된 도면들에 도시되어 있다. 냉각 유체 채널(들)(9)이 반드시 직선일 필요는 없고, 곡선, 파형, 지그재그 또는 일부 다른 형상을 가질 수 있다는 것이 또한 당업자에게는 명백하다. 여전히, 이들은 본 설명에서 설명된 바와 같이 평면(14)을 정의하는 지점들(15)을 갖는다.

방향 또는 평면에서 또는 부분에서 연장되는 모니터링 채널(11) 또는 일부 다른 구조적 특징부는 그 방향 또는 평면에서 또는 그 부분에서 실질적인 크기를 갖는 구조적 특징부를 지칭한다. 본 설명의 맥락에서, 예를 들어 직선 보어홀은, 보어홀이 당연히 직경을 또한 갖더라도, 보어홀의 길이 방향으로, 다시 말해서 드릴의 전진 운동 방향으로, 그러나 길이 방향에 수직한 방향이 아닌 방향으로 연장되는 것으로 이해된다. 도 15, 도 19 또는 도 22 의 모니터링 채널과 같은 만곡된 모니터링 채널(11)은, 모니터링 채널(11)의 경우에 모니터링 채널(11)의 단면(18)에 수직인 각각의 지점에 있는 만곡된 방향으로 연장되는 것으로 간주된다. 만곡된 특징부는 모니터링 채널(11)과 같은 파형, 원형 또는 나선형 특징부를 포함할 수 있다. 유사하게, 본 설명의 맥락에서, 평면은 서로 수직인 2개의 크기들로 연장되는 것으로 간주되지만, 다른 2개에 수직인 제 3 방향으로는 연장되지 않는다. 따라서, 예를 들어 모니터링 채널(11)은 연장된다고 하는 방향에서 모니터링 채널의 직경(20)보다 큰 치수를 갖는다.

일 실시형태에 따르면, 제 1 측면(7)과 제 1 측면(7)에 가장 가까운 냉각 유체 채널 시스템(6)의 지점들(15)에 의해 한정된 평면(14) 사이의 냉각 요소의 부분(13)에서 연장되는 모니터링 채널(11)의 치수는, 모니터링 채널(11)의 직경(20)의 적어도 10배, 바람직하게는 모니터링 채널(11)의 직경(20)의 적어도 50배일 수 있다. 일 실시형태에 따르면, 제 1 측면(7)과 제 1 측면(7)에 가장 가까운 냉각 유체 채널 시스템(6)의 지점들(15)에 의해 한정된 평면(14) 사이의 냉각 요소의 부분(13)에서 연장되는 모니터링 채널(11)의 치수는, 냉각 유체 채널(9)의 길이의 적어도 70% 일 수 있다. 일 실시형태에 따르면, 제 1 측면(7)과 제 1 측면(7)에 가장 가까운 냉각 유체 채널 시스템(6)의 지점들(15)에 의해 한정된 평면(14) 사이의 냉각 요소의 부분(13)에서 연장되는 모니터링 채널(11)의 치수는, 적어도 1 미터 길이, 바람직하게는 적어도 4 미터 길이일 수 있다. 일 실시형태에 따르면, 제 1 측면(7)과 제 1 측면(7)에 가장 가까운 냉각 유체 채널 시스템(6)의 지점들(15)에 의해 한정된 평면(14) 사이의 냉각 요소(4)의 부분(13)에서 연장되는 모니터링 채널들(11)의 치수의 합은, 적어도 1 미터 길이, 바람직하게는 적어도 4 미터 길이일 수 있다.

제 1 측면(7)에 가장 가까운 냉각 유체 채널 시스템(6)의 지점들(15)은, 제 1 측면(7)을 가로지르는 방향으로 측정된 제 1 측면(7)으로부터의 최단 거리(16)를 갖는 냉각 유체 채널 시스템(6)의 냉각 유체 채널(들)(9) 사이의 계면의 3개 이상의 지점들을 지칭한다. 다시 말해서, 최단 거리(16)는 노의 내부(3)를 향하도록 구성된 제 1 측면(7)의 표면으로부터 측정된다. 제 1 측면(7)에 가장 가까운 냉각 유체 채널 시스템(6)의 지점들(15)에 의해 한정된 평면(14)은, 도 4 에 도시된 바와 같이 모든 지점들(15)을 통해 연장하는 평면, 또는 데이터 지점들로서 지점들(15)을 사용하는 보간을 사용하여 한정된 평면을 지칭하며, 그 일 예가 도 5 에 개략적으로 도시되어 있다. 즉, 평면(14)은 냉각 요소(4) 내에서 지점들(15)을 통해 연장하는 평면 또는 지점들(15)의 레벨을 나타내는 근사치를 포함할 수 있다. 이에 의해, 모니터링 채널(11)의 적어도 부분(12)은 냉각 유체 채널 시스템(6)과 냉각 요소의 제 1 측면(7) 사이에서 냉각 요소(4) 내부로 연장된다.

모니터링 채널(11)의 부분(12)은 또한 모니터링 채널 부분(12)으로 지칭될 수 있고, 유사하게, 본 설명에서 냉각 요소의 부분(13)은 또한 냉각 요소 부분(13)으로 지칭될 수 있다. 실시형태에 따라, 모니터링 채널(11)은 또한 냉각 요소(4) 외부로 연장되는 부분 및/또는 평면(14) 및/또는 제 1 측면(7)에 수직인 방향으로 연장되는 부분과 같은 부분(12)에 추가하여 다른 부분을 포함할 수 있다.

일 실시형태에 따르면, 모니터링 채널의 부분(12)은 다음의 방향 중 적어도 하나의 방향으로 연장된다: 평면(14)에 평행한 방향, 제 1 측면(7)의 표면의 적어도 일부에 평행한 방향, 또는 평면(14)에 대해 30도 이하, 바람직하게는 10도 이하의 각도(X)로 제공되는 방향. 다시 말해서, 모니터링 채널 부분(12)은, 냉각 요소(4)가 노에 장착될 때, 평면(14)과 제 1 측면(7), 보다 구체적으로는 노의 내부(3)를 향하는 제 1 측면(7)의 표면 사이에서 연장된다. 보다 구체적으로, 장착 채널 부분(12)은 평면(14)에 대해 30도 이하, 바람직하게는 10도 이하의 각도를 이루는 방향 그리고/또는 제 1 측면(7)의 표면의 적어도 일부에 평행한 방향으로 형성된다. 실제로, 이는 장착 채널 부분(12)이 제 1 측면(7)의 표면의 적어도 일부에 대해 실질적으로 평행하거나 약간 각진 방향으로 평면(14)과 제 1 측면(7) 사이의 냉각 요소(4) 내에서 연장된다는 것을 의미한다. 일 실시형태에 따른 평면(14)과 모니터링 채널(11) 사이의 각도(X)는 도 6 에 도시되어 있다. 도 6 에서 평면(14)에 평행한 선을 추가하여 각도 X를 보다 명확하게 보여준다.

도 2 의 실시형태에서와 같은 일부 실시형태들에서, 제 1 측면(7)의 표면은 평면이 아닐 수 있고 그리고/또는 예를 들어 서로에 대해 각진 여러 섹션들로 구성될 수 있다. 제 1 측면(7)의 표면은 예를 들어 융기 및/또는 만곡될 수 있다. 따라서, 제 1 측면(7)의 표면의 일부는 바람직하게는 제 1 측면(7)의 방향으로부터 제 2 측면(8)을 향해 볼 때 모니터링 채널(11)의 위치에 있거나 또는 그에 가까운 제 1 측면의 표면의 일부이다.

도 7 은 냉각 요소의 단부로부터 본 단면에서의 냉각 요소(4)를 개략적으로 도시하고, 도 8 은 도 7 에 도시된 방향 B-B 에서 본 확대 단면에서의 도 7 의 냉각 요소를 개략적으로 도시한다. 유사하게, 도 9 는 냉각 요소의 단부로부터 본 단면에서의 냉각 요소(4)를 개략적으로 도시하고, 도 10 은 도 9 에 도시된 방향 B-B 에서 본 확대 단면에서의 도 9 의 냉각 요소를 개략적으로 도시한다. 또한 유사하게, 도 11 은 냉각 요소의 단부로부터 본 단면에서의 냉각 요소를 개략적으로 도시하고, 도 12 는 도 11 에 도시된 교차 방향 B-B 에서 본 확대 단면에서의 도 11 의 냉각 요소를 개략적으로 도시한다.

도 13 의 실시형태와 같은 실시형태에 따르면, 하나 이상의 모니터링 채널(11)은 하나의 평면에 제공될 수 있다. 도 14 의 실시형태와 같은 다른 실시형태에 따르면, 모니터링 채널(11)은 2개 이상의 평면에 제공될 수 있다. 바람직하게는, 각각의 모니터링 채널(11)의 적어도 부분(12)은 제 1 측면(7)과 제 1 측면(7)에 가장 가까운 냉각 유체 채널 시스템(6)의 지점들(15)에 의해 한정된 평면(14) 사이에 제공된 냉각 요소의 부분(13) 내에서 연장된다. 도 15 내지 도 23 은 도 13 의 C-C 의 교차 방향 또는 도 14 의 A-A 의 교차 방향에서 보여지는 바와 같이 냉각 요소(4) 내에 모니터링 채널들(11)을 제공하는 기하학적 구조들의 일부 실시형태들을 도시한다. 이들은 냉각 요소(4) 내에 모니터링 채널(11)이 어떻게 위치될 수 있는지를 매우 다양하게 예시하기 위해 도시되며, 이 방향에서 볼 때 모니터링 채널의 기하학적 구조의 가능한 실시형태들은 도면들에 도시된 실시형태들에 제한되지 않는다는 것은 당업자에게 명백하다.

도 7 내지 도 10 의 실시형태와 같은 실시형태에 따르면, 모니터링 채널 시스템(10)은 압력 매체를 위한 2개 이상의 모니터링 채널(11)을 포함할 수 있다. 추가 실시형태에 따르면, 이러한 모니터링 채널 시스템(10)에서, 모니터링 채널들(11)의 적어도 일부의 적어도 부분(12)은 제 1 측면(7)과 제 1 측면(7)에 가장 가까운 냉각 유체 채널 시스템(6)의 지점들(15)에 의해 한정된 평면(14) 사이에 제공된 냉각 요소(4)의 부분(13)에서 연장될 수 있고; 모니터링 채널의 부분(12)은 평면(14)에 평행한 방향으로, 제 1 측면(7)의 표면의 적어도 일부에 평행한 방향으로, 그리고/또는 평면(14)에 대해 30도 이하, 바람직하게는 10도 이하의 각도로 제공된 방향으로 연장된다. 일 실시형태에 따르면, 모니터링 채널들(11) 중 적어도 일부는 냉각 요소 내부에 제공된 적어도 하나의 연결 채널(17)에 의해 서로 연결되어 모니터링 채널 시스템(10)을 형성한다. 일 실시형태에 따르면, 모니터링 채널들(11) 중 적어도 2개는 냉각 요소 내부에 제공된 적어도 하나의 연결 채널(17)에 의해 서로 연결되어 모니터링 채널 시스템(10)을 형성한다. 일 실시형태에 따르면, 연결 채널(17)은 모니터링 채널들에 수직인 방향으로, 그리고 모니터링 채널들에 의해 정의된 평면에 평행한 평면에서 연장된다. 다른 실시형태에 따르면, 연결 채널(17)의 적어도 부분은 모니터링 채널들에 대해 각진 방향으로, 그리고 모니터링 채널들에 의해 정의된 평면에 대해 각진 평면에서 연장된다. 추가 실시형태에 따르면, 모니터링 채널들에 대한 연결 채널의 각도는 5 내지 90도, 바람직하게는 45 내지 90도의 범위일 수 있다. 추가 실시형태에 따르면, 모니터링 채널들에 의해 한정되는 평면에 대한 연결 채널의 각도는 0 내지 45도, 바람직하게는 0 내지 20도의 범위이다. 다른 실시형태들에 따르면, 연결 채널(17)은 일부 다른 방식으로 모니터링 채널들(11)을 연결할 수 있다. 일부 예들이 도면들에 도시되어 있다.

일 실시형태에 따르면, 모니터링 채널들(11) 중 적어도 일부는 냉각 요소 외부에 제공된 적어도 하나의 연결 채널(17)에 의해 서로 연결되어 모니터링 채널 시스템(10)을 형성한다. 일 실시형태에 따르면, 모니터링 채널들(11) 중 적어도 2개는 냉각 요소 외부에 제공된 적어도 하나의 연결 채널(17)에 의해 서로 연결되어 모니터링 채널 시스템(10)을 형성한다.

일 실시형태에 따르면, 냉각 요소에서, 제 1 측면(7)과 제 1 측면(7)에 가장 가까운 냉각 유체 채널 시스템(6)의 지점들(15)에 의해 한정된 평면(14) 사이에 제공된 냉각 요소의 부분(13)에서 연장하는 모니터링 채널의 적어도 일부(12)를 포함하는 모니터링 채널들(11)의 개수는, 냉각 요소(4)가 보이는 경우, 예를 들어 도 2, 도 8 및 도 10 에서와 같은 단면에서, 냉각 유체 채널들(9)의 개수의 0.2 내지 2.0배, 바람직하게는 0.8 내지 1.5배, 가장 바람직하게는 냉각 유체 채널(9) 당 하나의 모니터링 채널의 범위이다.

도 2 및 도 8 의 실시형태에 따르는 것과 같은 실시형태에 따르면, 각각의 모니터링 채널(11)의 단면(18)은, 제 1 측면(7)으로부터 제 2 측면(8)을 향해 볼 때, 냉각 유체 채널(9)의 단면(19)과 중첩될 수 있다. 일 실시형태에 따르면, 적어도 하나의 모니터링 채널(11)의 단면(18)은 냉각 유체 채널(9)의 단면(19)과 중첩한다. 일 실시형태에 따르면, 적어도 2개 이상의 모니터링 채널들(11)의 단면(18)은 각각의 경우에 냉각 유체 채널(9)의 단면(19)과 중첩된다. 일 실시형태에 따르면, 모든 모니터링 채널들(11)의 단면들(18)은 각각의 경우에 냉각 유체 채널의 단면(19)과 중첩된다. 실시형태에 따라, 냉각 유체 채널(9)의 단면(19)과 중첩되는 각각의 모니터링 채널(11)의 단면(18)은 냉각 유체 채널(9)의 단면(19)과 부분적으로 또는 완전히 중첩될 수 있다. 즉, 제 1 측면(7)으로부터 제 2 측면(8)을 향해 바라볼 때, 냉각 유체 채널(9)의 단면과 중첩되는 각각의 모니터링 채널(11)의 전체 단면(19)은 도 8 의 실시형태에서와 같이 냉각 유체 채널(9)의 단면(19)과 중첩될 수 있다. 도 10 의 실시형태에 따르는 것과 같은 다른 실시형태에 따르면, 각각의 모니터링 채널(11)의 단면(18)은, 제 1 측면(7)으로부터 제 2 측면(8)을 향해 볼 때, 냉각 유체 채널(들)(9) 중 어느 하나의 단면(19)과 중첩되지 않는다. 추가 실시형태에 따르면, 냉각 요소(4)에서, 도 12 의 실시형태에서와 같이, 하나 이상의 모니터링 채널(11)은 각각의 경우에 냉각 유체 채널(9)과 중첩될 수 있고, 하나 이상의 모니터링 채널(11)은 전술한 바와 같이 냉각 유체 채널(9)과 중첩되지 않을 수 있다.

도 10 의 실시형태와 같은 실시형태에 따르면, 하나 이상의 모니터링 채널(11)이, 제 1 측면(7)의 방향으로부터 제 2 측면(8)을 향해 볼 때, 각각의 경우에 부분(13) 내에 그리고 2개의 인접한 냉각 액체 채널(9)의 중간에 제공될 수 있다.

도 12 의 실시형태와 같은 일 실시형태에 따르면, 모니터링 채널(11)은 2개 이상의 평면에 제공될 수 있다.

도면에 도시되지 않았을지라도, 도면들에 도시된 2개 이상의 모니터링 채널들(11)이 각각의 경우에 연결되어 하나의 단일 모니터링 채널(11)을 형성할 수 있거나, 이들은 별개의 모니터링 채널들(11)일 수 있다는 것을 이해해야 한다.

일 실시형태에 따르면, 모니터링 채널(11)의 직경(20)은 6-20 mm 의 범위 내에 있고, 더 바람직하게는 8-13 mm 의 범위 내에 있다.

일 실시형태에 따르면, 각각의 모니터링 채널(11)은 일 단부에서 폐쇄되고 제 2 단부에서 연결 채널을 통해 또는 직접 압력 매체 공급 시스템(도시되지 않음)에 연결되도록 구성된다.

일 실시형태에 따르면, 냉각 요소(4)는, 모니터링 채널 시스템(10)의 적어도 하나의 모니터링 채널(11)에 연결되고, 모니터링 채널 시스템 내의 압력, 모니터링 채널 시스템 내의 압력 변화, 모니터링 채널 시스템 내의 유동, 또는 모니터링 채널 시스템 내의 유동 변화 중 적어도 하나의 양을 검출하도록 구성된 적어도 하나의 검출기(21)를 더 포함한다. 일 실시형태에 따르면, 냉각 요소(4)는 모니터링 채널 시스템(10)에 연결된 정확히 하나의 검출기(21)를 포함한다. 일 실시형태에 따르면, 냉각 요소(4)는 정확히 하나의 모니터링 채널 시스템(10) 및 모니터링 채널 시스템에 연결된 정확히 하나의 검출기(21)를 포함한다. 일 실시형태에 따르면, 검출기(21)는 적어도 압력 센서 또는 유량계를 포함한다.

일 실시형태에 따르면, 냉각 요소(4)에서, 모니터링 채널 시스템(10)의 각각의 모니터링 채널(11)은 0.2 내지 10 bar 범위, 바람직하게는 0.4 내지 4 bar 범위의 공급 압력을 갖는 압력 매체에 적합하고, 압력 매체는 가압 공기, 질소 또는 다른 가압 가스를 포함한다. 압력 장비 지침 또는 이와 유사한 것과 같은 규제가 적용되는 실시형태들에서, 공급 압력은 0.2 내지 0.5 bar 의 범위일 수 있다.

일 실시형태에 따르면, 냉각 요소(4)는 금속 생산 공정과 관련된 노(1)에 사용하기에 적합한 냉각 요소이다.

도 24 는 노(1)를 위한 냉각 장치(22)를 개시한다. 도 25 는 일 실시형태에 따른 냉각 장치의 세부 구성을 도시한다.

도 24 에 따른 냉각 장치(22)는 본 설명 및/또는 첨부 도면들에 개시된 실시형태 또는 그러한 실시형태들의 조합에 따른 적어도 하나의 냉각 요소(4)를 포함한다. 도 24 의 실시형태에 따르면, 냉각 장치(22)는 냉각 유체 채널 시스템(6)에서 냉각 유체를 순환시키도록 배치된 냉각 유체 순환 수단(23), 및 모니터링 채널 시스템(10)에서 미리 결정된 입구 압력 및/또는 유동으로 압력 매체를 제공하기 위한 압력 매체 공급 시스템(24)을 더 포함한다.

일 실시형태에 따르면, 압력 매체 공급 시스템(24)은 압력 매체를 위한 공급 라인(30)을 포함하고, 압력 매체를 위한 공급 라인(24)에는 공급 라인(30)의 압력을 미리 결정된 값으로 감소시키도록 배열된 압력 조절 수단(25)이 제공된다. 일 실시형태에 의하면, 미리 결정된 값은 0.2 내지 10 bar 의 범위, 바람직하게는 0.4 내지 4 bar 의 범위이다. 실시형태들에서, 압력 장비 지침 또는 이와 유사한 것과 같은 규제가 적용되는 경우, 미리 결정된 값은 0.2 내지 0.5 bar 의 범위일 수 있다.

일 실시형태에 따르면, 냉각 장치(22)는 냉각 요소(4) 실시형태와 관련하여 개시된 실시형태 또는 실시형태들의 조합에 따른 적어도 하나의 검출기(21)를 포함한다. 검출기(21)는 이어서 모니터링 채널 시스템(10) 내의 압력 및/또는 유동을 검출하도록 구성될 수 있다. 냉각 장치는 검출기에 의해 검출된 양과 관련된 미리 정의된 조건이 충족되는지를 결정하기 위한 모니터링 유닛(26)을 더 포함할 수 있다. 일 실시형태에 따르면, 측정된 양은 모니터링 채널 시스템 내의 압력 및 모니터링 채널 시스템 내의 유동 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 일 실시형태에 따르면, 미리 정의된 조건은, 검출된 압력이 미리 결정된 값 이하로 감소하는 것, 검출된 유동이 미리 결정된 값 이하로 증가하는 것, 상기 검출된 압력이 미리 정의된 임계치만큼 감소하는 것, 또는 상기 검출된 유동이 미리 정의된 임계치만큼 증가하는 것 중 적어도 하나를 포함한다.

일 실시형태에 따르면, 검출기(21)는 모니터링 채널 시스템(10) 내의 압력 및/또는 유동을 연속적으로 또는 미리 결정된 시간 간격으로 모니터링하도록 구성된다.

일 실시형태에 따르면, 냉각 장치(22)는 압력 매체를 위한 공급 라인(24)에 제공된 유동 제한 수단(27)을 더 포함하며, 검출기(21)는 유동 제한 수단(27)으로부터 하류에 제공된다.

일 실시형태에 따르면, 모니터링 채널 시스템(10)의 모니터링 채널들(11) 중 적어도 하나는 모니터링 채널(들)(11) 내의 압력 매체 유동을 개폐할 수 있는 밸브(28)를 구비한다. 추가 실시형태에 따르면, 모니터링 채널 시스템(10)의 각각의 모니터링 채널(11)은 모니터링 채널 내의 압력 매체 유동을 개폐할 수 있는 밸브(28)를 구비한다. 그러한 실시형태들에서, 사건이 모니터링 채널 시스템(10)에서 식별될 때, 그 소스는 더 정확하게 위치될 수 있다. 예를 들어, 검출기에 의해 검출된 양과 관련된 조건이 충족될 때, 밸브(들)는 한번에 하나씩 폐쇄될 수 있고, 조건을 야기하는 모니터링 채널(11) 또는 그의 일부는 측정된 양을 모니터링함으로써 위치될 수 있다. 보다 구체적으로, 모니터링 채널(11) 또는 상태를 야기하는 그 일부로 흐르는 압력 매체 유동이 대응 밸브(28)를 폐쇄함으로써 폐쇄되면, 검출기(21)에 의해 검출되는 압력이 증가하기 시작한다.

일 실시형태에 따르면, 냉각 장치(22)는 2개 이상의 냉각 요소(4) 및 정확히 하나의 검출기(21)를 포함한다. 일 실시형태에 따르면, 하나의 모니터링 유닛(26) 및 하나의 검출기(21)를 갖는 하나의 냉각 장치(22)는 2개 이상의 냉각 요소(4)를 모니터링하는데 사용될 수 있다. 그러한 실시형태들에서, 냉각 요소들(4)의 모니터링 채널들(11)은 유체 연결에 의해 서로 연결된다.

일 실시형태에 따르면, 노(1)는 본 설명 및/또는 첨부 도면들에 개시된 실시형태 또는 실시형태들의 조합에 따른 적어도 하나의 냉각 요소(4) 및/또는 냉각 장치(22)를 포함할 수 있다. 일 실시형태에 따르면, 노(1)는 금속 생산 공정과 관련된 노이다.

도 26 은 노(1)를 위한 냉각 요소(4)와 관련된 방법을 개시한다. 냉각 요소(4)는 본 설명 및/또는 첨부 도면들에 개시된 실시형태 또는 실시형태들의 조합에 따른 냉각 요소를 포함한다.

도 26 에 따른 방법은 냉각 유체 순환 수단(23)에 의해 냉각 유체 채널 시스템(6) 내에 냉각 유체를 순환시킴으로써 냉각 요소(4)를 냉각시키는 단계(41); 및 압력 매체 공급 시스템에 의해 적어도 하나의 모니터링 채널(11) 내에 압력 매체를 제공하는 단계(43)를 포함한다. 일 실시형태에 따르면, 냉각 요소(4)는 냉각 요소(4) 및/또는 냉각 장치(22) 실시형태들과 관련하여 개시된 실시형태 또는 실시형태들의 조합에 따른 적어도 하나의 검출기(21); 및 검출기(21)에 의해 검출된 양과 관련된 미리 정의된 조건이 충족되는지를 결정하기 위한 모니터링 유닛(26)을 포함한다. 이에 의해, 상기 방법은 모니터링 채널 시스템(10) 내의 압력 또는 유동을 연속적으로 또는 미리 결정된 시간 간격으로 모니터링하는 단계, 및 모니터링 유닛이 미리 정의된 조건이 충족되는 것으로 결정하는 것에 응답하여 냉각 요소(4)의 마모를 검출하는 단계를 더 포함할 수 있다. 일 실시형태에 따르면, 미리 정의된 조건은, 검출된 압력이 미리 결정된 값 이하로 감소하는 것, 검출된 유동이 미리 결정된 값 이하로 증가하는 것, 상기 검출된 압력이 미리 정의된 임계치만큼 감소하는 것, 또는 상기 검출된 유동이 미리 정의된 임계치만큼 증가하는 것 중 적어도 하나를 포함할 수도 있다.

일 실시형태에 따르면, 냉각 요소(4)는 모니터링 채널(들)(11) 내의 압력 매체 유동을 개방 및 폐쇄할 수 있는 하나 이상의 밸브(28)를 더 포함한다. 일 실시형태에 따르면, 밸브(들)(28)는 모니터링 채널 시스템(10)의 모니터링 채널들(11) 중 적어도 하나에 제공될 수 있다. 그 후, 상기 방법은 제어 시스템 채널에서 압력 및/또는 유동의 강하를 야기하는 마모를 위치시키기 위해 밸브(들)(28)를 한 번에 하나 또는 여러 개씩 개방 및 폐쇄하는 단계를 더 포함할 수 있다.

일 실시형태에 따르면, 모니터링 유닛(26)은 작업자에게 마모의 지시를 야기하는 신호를 생성하도록 구성될 수 있다.

도 27 은 노(1)에 대한 냉각 요소(4)의 마모를 모니터링하는 방법을 개시하며, 여기서 냉각 요소(4)는 본 설명 및/또는 첨부 도면들에 개시된 실시형태 또는 실시형태들의 조합에 따른 냉각 요소를 포함한다.

도 27 의 방법은 적어도 하나의 모니터링 채널(11) 내에 압력 매체를 제공하는 단계(51); 모니터링 채널 시스템(10)의 적어도 하나의 모니터링 채널(11)에 연결된 적어도 하나의 검출기(21)를 냉각 요소(4)에 제공하는 단계(53); 검출기에 의해 검출된 양과 관련된 미리 정의된 조건이 충족되는지를 결정하기 위해 검출기(21)를 모니터링 유닛(26)에 연결하는 단계(55); 모니터링 채널 시스템(10) 내의 압력 또는 유동을 연속적으로 또는 미리 결정된 시간 간격으로 모니터링하는 단계(57); 및 모니터링 유닛이 미리 정의된 조건이 충족되는 것으로 결정하는 것에 응답하여 냉각 요소(4)의 마모를 검출하는 단계를 포함한다.

Claims (36)

1. 노 (furnace) 를 위한 냉각 요소로서, 상기 냉각 요소는
   상기 노의 내부를 향해 지향되도록 구성된 제 1 측면,
   상기 제 1 측면에 대향하고 상기 노의 내부로부터 멀리 지향되도록 구성된 제 2 측면,
   냉각 유체 순환을 위한 냉각 유체 채널 시스템으로서, 상기 냉각 유체 채널 시스템은 상기 냉각 요소의 내부에 제공된 적어도 하나의 냉각 유체 채널을 포함하는, 상기 냉각 유체 채널 시스템을 포함하고,
   상기 냉각 요소는 압력 매체를 위한 적어도 하나의 모니터링 채널을 포함하는 모니터링 채널 시스템을 더 포함하고, 상기 모니터링 채널의 적어도 부분은 상기 제 1 측면과 상기 제 1 측면에 가장 가까운 상기 냉각 유체 채널 시스템의 지점들에 의해 한정된 평면 사이에 제공된 상기 냉각 요소의 부분에서 연장하며,
   상기 모니터링 채널의 상기 부분은, 상기 평면에 평행한 방향, 상기 제 1 측면의 표면의 적어도 일부에 평행한 방향, 또는 상기 평면에 대해 30도 이하의 각도로 제공된 방향 중 적어도 하나의 방향으로 연장되는 것을 특징으로 하는, 냉각 요소.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 냉각 요소는 2개 이상의 냉각 유체 채널들을 포함하는, 냉각 요소.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 모니터링 채널 시스템은 압력 매체를 위한 2개 이상의 모니터링 채널들을 포함하고, 상기 모니터링 채널들 중 적어도 일부 모니터링 채널의 적어도 부분은 상기 제 1 측면과 상기 제 1 측면에 가장 가까운 상기 냉각 유체 채널 시스템의 지점들에 의해 한정된 평면 사이에 제공된 상기 냉각 요소의 부분에서 연장되며,
   상기 모니터링 채널들의 부분들은, 상기 평면에 평행한 방향, 상기 제 1 측면의 표면의 적어도 일부에 평행한 방향, 또는 상기 평면에 대해 30도 이하의 각도로 제공된 방향 중 적어도 하나의 방향으로 연장되는, 냉각 요소.
4. 제 3 항에 있어서, 상기 모니터링 채널들 중 적어도 일부는 상기 모니터링 채널 시스템을 형성하기 위해 상기 냉각 요소의 내부에 제공된 적어도 하나의 연결 채널에 의해 서로 연결되는, 냉각 요소.
5. 제 4 항에 있어서, 상기 연결 채널은 상기 모니터링 채널들에 수직인 방향으로 그리고 상기 모니터링 채널들에 의해 정의된 평면에 평행한 평면에서 연장되는, 냉각 요소.
6. 제 3 항에 있어서, 상기 모니터링 채널들 중 적어도 일부는 상기 모니터링 채널 시스템을 형성하기 위해 상기 냉각 요소의 외부에 제공되는 적어도 하나의 연결 채널에 의해 서로 연결되는, 냉각 요소.
7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 1 측면과 상기 제 1 측면에 가장 가까운 상기 냉각 유체 채널 시스템의 지점들에 의해 한정되는 평면 사이에 제공되는 상기 냉각 요소의 부분에서 연장되는 상기 모니터링 채널의 적어도 부분을 포함하는 모니터링 채널들의 개수는 냉각 유체 채널들의 개수의 0.2배 내지 2.0배의 범위 내에 있는, 냉각 요소.
8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 1 측면으로부터 상기 제 2 측면을 향해 바라볼 때, 각각의 모니터링 채널의 단면은 냉각 유체 채널의 단면과 중첩되는, 냉각 요소.
9. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 1 측면으로부터 상기 제 2측면을 향해로 바라볼 때, 각각의 모니터링 채널의 단면은 냉각 유체 채널(들) 중 어느 하나의 단면과 중첩되지 않는, 냉각 요소.
10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 모니터링 채널의 직경은 6 내지 20 mm 의 범위인, 냉각 요소.
11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 모니터링 채널의 직경은 8 내지 13 mm 의 범위인, 냉각 요소.
12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 모니터링 채널들의 각각은 일 단부에서 폐쇄되고, 제 2 단부에서 연결 채널을 통해 또는 직접 압력 매체 공급 시스템에 연결되도록 구성되는, 냉각 요소.
13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 냉각 요소는, 상기 모니터링 채널 시스템의 적어도 하나의 모니터링 채널에 연결되고, 다음의 양들: 상기 모니터링 채널 시스템 내의 압력, 상기 모니터링 채널 시스템 내의 압력의 변화, 상기 모니터링 채널 시스템 내의 유동, 또는 상기 모니터링 채널 시스템 내의 유동의 변화 중 적어도 하나를 검출하도록 배치된 적어도 하나의 검출기를 더 포함하는, 냉각 요소.
14. 제 13 항에 있어서, 상기 냉각 요소는 상기 모니터링 채널 시스템에 연결된 정확하게 하나의 검출기를 포함하는, 냉각 요소.
15. 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서, 상기 냉각 요소는 정확히 하나의 모니터링 채널 시스템 및 상기 모니터링 채널 시스템에 연결된 정확히 하나의 검출기를 포함하는, 냉각 요소.
16. 제 13 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 검출기가 적어도 압력 센서 또는 유량계를 포함하는, 냉각 요소.
17. 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 모니터링 채널 시스템의 각각의 모니터링 채널이 0.2 내지 10 bar 범위의 공급 압력을 갖는 압력 매체에 적합하고, 상기 압력 매체는 가압 공기, 질소 또는 다른 가압 가스를 포함하는, 냉각 요소.
18. 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 냉각 요소는 금속 생산 공정과 관련된 노에 사용하기에 적합한, 냉각 요소.
19. 노를 위한 냉각 장치로서, 상기 냉각 장치는
    제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 따른 적어도 하나의 냉각 요소;
    상기 냉각 유체 채널 시스템 내에서 냉각 유체를 순환시키도록 배치된 냉각 유체 순환 수단; 및
    미리 결정된 입구 압력 및 유동 중 적어도 하나에서 상기 모니터링 채널 시스템 내에 압력 매체를 제공하기 위한 압력 매체 공급 시스템
    을 포함하는 것을 특징으로 하는, 냉각 장치.
20. 제 19 항에 있어서, 상기 압력 매체 공급 시스템은 상기 압력 매체를 위한 공급 라인을 포함하고, 상기 압력 매체를 위한 공급 라인에는 상기 공급 라인의 압력을 미리 결정된 값으로 감소시키도록 배치된 압력 조절 수단이 제공되는, 냉각 장치.
21. 제 20 항에 있어서, 상기 미리 결정된 값은 0.2 내지 10 bar 의 범위에 있는, 냉각 장치.
22. 제 19 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 냉각 장치는,
    상기 모니터링 채널 시스템에서의 압력 또는 유동 중 적어도 하나를 검출하도록 구성된 제 13 항 내지 제 16 항 중 적어도 한 항에 따른 적어도 하나의 검출기, 및
    상기 검출기에 의해 검출된 양과 관련된 미리 정의된 조건이 충족되는지를 결정하기 위한 모니터링 유닛을 포함하고,
    측정된 양은 상기 모니터링 채널 시스템에서의 압력 및 상기 모니터링 채널 시스템에서의 유동 중 적어도 하나를 포함하는, 냉각 장치.
23. 제 22 항에 있어서, 상기 미리 정의된 조건은, 검출된 압력이 미리 결정된 값 이하로 감소하는 것, 검출된 유동이 미리 결정된 값 이하로 증가하는 것, 상기 검출된 압력이 미리 정의된 임계치만큼 감소하는 것, 또는 상기 검출된 유동이 미리 정의된 임계치만큼 증가하는 것 중 적어도 하나를 포함하는, 냉각 장치.
24. 제 22 항 또는 제 23 항에 있어서, 상기 검출기는 상기 모니터링 채널 시스템 내의 압력 및 유동 중 적어도 하나를 연속적으로 또는 미리 결정된 시간 간격으로 모니터링하도록 구성되는, 냉각 장치.
25. 제 19 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 냉각 장치는 압력 매체를 위한 공급 라인에 제공된 유동 제한 수단을 추가로 포함하고, 상기 검출기는 상기 유동 제한 수단으로부터 하류에 제공되는, 냉각 장치.
26. 제 19 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 모니터링 채널 시스템의 모니터링 채널들 중 적어도 하나에는 상기 모니터링 채널(들) 내의 압력 매체 유동을 개방 및 폐쇄할 수 있는 밸브가 제공되는, 냉각 장치.
27. 제 26 항에 있어서, 상기 모니터링 채널 시스템의 각각의 모니터링 채널에는 상기 모니터링 채널 내의 압력 매체 유동을 개방 및 폐쇄할 수 있는 밸브가 제공되는, 냉각 장치.
28. 제 19 항 내지 제 27 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 냉각 장치가 2개 이상의 냉각 요소들 및 정확히 하나의 검출기를 포함하는, 냉각 장치.
29. 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 따른 적어도 하나의 냉각 요소 또는 제 19 항 내지 제 27 항 중 어느 한 항에 따른 냉각 장치 중 적어도 하나를 포함하는 노.
30. 제 28 항에 있어서, 상기 노는 금속 제조 공정과 관련된 노인, 노.
31. 노를 위한 냉각 요소와 관련된 방법으로서,
    상기 냉각 요소는 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 따른 냉각 요소를 포함하고,
    상기 방법은
    냉각 유체 순환 수단에 의해 냉각 유체 채널 시스템 내에 냉각 유체를 순환시킴으로써 상기 냉각 요소를 냉각시키는 단계; 및
    압력 매체 공급 시스템에 의해 적어도 하나의 모니터링 채널 내에 압력 매체를 제공하는 단계를 포함하는, 노를 위한 냉각 요소와 관련된 방법.
32. 제 30 항에 있어서, 상기 냉각 요소는,
    제 13 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 따른 적어도 하나의 검출기, 및
    상기 검출기에 의해 검출된 양과 관련된 미리 정의된 조건이 충족되는지를 결정하기 위한 모니터링 유닛을 포함하고,
    상기 방법은
    상기 모니터링 채널 시스템 내의 압력 또는 유동을 연속적으로 또는 미리 결정된 시간 간격으로 모니터링하는 단계, 및
    상기 모니터링 유닛이 상기 미리 정의된 조건이 충족된다고 결정하는 것에 응답하여 상기 냉각 요소의 마모를 검출하는 단계를 추가로 포함하는, 노를 위한 냉각 요소와 관련된 방법.
33. 제 31 항에 있어서, 상기 미리 정의된 조건은, 검출된 압력이 미리 결정된 값 이하로 감소하는 것, 검출된 유동이 미리 결정된 값 이하로 증가하는 것, 상기 검출된 압력이 미리 정의된 임계치만큼 감소하는 것, 또는 상기 검출된 유동이 미리 정의된 임계치만큼 증가하는 것 중 적어도 하나를 포함하는, 노를 위한 냉각 요소와 관련된 방법.
34. 제 31 항 또는 제 32 항에 있어서, 상기 냉각 요소는 상기 모니터링 채널 시스템의 모니터링 채널들 중 적어도 하나에 제공된 상기 모니터링 채널(들) 내의 압력 매체 유동을 개방 및 폐쇄할 수 있는 밸브들을 추가로 포함하고,
    상기 방법은 제어 시스템 채널 내의 압력 또는 유동 중 적어도 하나에서의 하강을 야기하는 마모를 위치시키기 위해 상기 밸브(들)를 한번에 하나씩 또는 여러개 개방 및 폐쇄하는 단계를 추가로 포함하는, 노를 위한 냉각 요소와 관련된 방법.
35. 제 31 항 내지 제 33 항 중 어느 한 항에 있어서, 모니터링 유닛은 조작자에게 마모의 표시를 야기하는 신호를 생성하도록 구성되는, 노를 위한 냉각 요소와 관련된 방법.
36. 노를 위한 냉각 요소의 마모를 모니터링하는 방법으로서,
    상기 냉각 요소는 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 따른 냉각 요소를 포함하고,
    상기 방법은
    적어도 하나의 모니터링 채널 내에 압력 매체를 제공하는 단계;
    모니터링 채널 시스템의 상기 적어도 하나의 모니터링 채널에 연결된 적어도 하나의 검출기를 상기 냉각 요소에 제공하는 단계;
    상기 검출기에 의해 검출된 양과 관련된 미리 정의된 조건이 충족되는지를 결정하기 위해 상기 검출기를 모니터링 유닛에 연결하는 단계;
    상기 모니터링 채널 시스템 내의 압력 또는 유동을 연속적으로 또는 미리 결정된 시간 간격으로 모니터링하는 단계; 및
    상기 모니터링 유닛이 상기 미리 정의된 조건이 충족된다고 결정하는 것에 응답하여 상기 냉각 요소의 마모를 검출하는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는, 노를 위한 냉각 요소의 마모를 모니터링하는 방법.

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