KR20240064240A - Initiator compound used for recording optical information, photo polymerization initiator system and composition comprising the same - Google Patents

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KR20240064240A
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이연희
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Abstract

본 출원은 광학 정보 기록에 사용되는 (공)개시제 화합물, 이를 포함하는 개시제계와 조성물에 관한 것이다.This application relates to (co)initiator compounds used in optical information recording, initiator systems and compositions containing them.

Description

광학 정보 기록에 사용되는 개시제 화합물, 이를 포함하는 광 중합 개시제계 및 조성물{Initiator compound used for recording optical information, photo polymerization initiator system and composition comprising the same}Initiator compound used for recording optical information, photo polymerization initiator system and composition comprising the same}

본 출원은 개시제 화합물, 이를 포함하는 개시제계 및 조성물에 관한 것이다. 구체적으로, 본 출원은 광학 정보 기록에 사용되는 개시제 화합물 및 이를 포함하는 개시제계와 조성물에 관한 것이다.This application relates to initiator compounds, initiator systems and compositions containing them. Specifically, the present application relates to initiator compounds used in optical information recording and initiator systems and compositions containing the same.

홀로그램(hologram) 기록 매체는 노광 과정을 통하여 홀로그래픽 기록층 내 굴절률을 변화시킴으로써 정보를 기록하고, 이와 같이 기록된 굴절률의 차이를 판독하여 정보를 재생한다.A hologram recording medium records information by changing the refractive index in the holographic recording layer through an exposure process, and reads the difference in the recorded refractive index to reproduce the information.

이와 관련하여, 포토폴리머 조성물은 홀로그램 제조에 사용될 수 있다. 포토폴리머는 광반응성 단량체의 광중합에 의하여 광 간섭 패턴을 홀로그램으로 용이하게 저장할 수 있다. 따라서, 포토폴리머는 모바일 기기와 같은 스마트 기기, 웨어러블 디스플레이의 부품, 차량용품(예컨대, head up display), 홀로그래픽 지문 인식 시스템, 광학 렌즈, 거울, 편향 거울, 필터, 확산 스크린, 회절 부재, 도광체, 도파관, 영사 스크린 및/또는 마스크의 기능을 갖는 홀로그래픽 광학 소자, 광메모리 시스템의 매질과 광확산판, 광파장 분할기, 반사형, 투과형 컬러필터 등 다양한 분야에 사용될 수 있다.In this regard, photopolymer compositions can be used for hologram production. Photopolymers can easily store optical interference patterns as holograms by photopolymerization of photoreactive monomers. Therefore, photopolymers are used in smart devices such as mobile devices, parts of wearable displays, automotive products (e.g., head up display), holographic fingerprint recognition systems, optical lenses, mirrors, deflecting mirrors, filters, diffusion screens, diffraction members, and light guides. It can be used in a variety of fields, including holographic optical elements that function as a screen, waveguide, projection screen, and/or mask, media and light diffusion plates in optical memory systems, optical wavelength splitters, and reflective and transmissive color filters.

구체적으로, 홀로그램 제조용 포토폴리머 조성물은 고분자 매트릭스, 광반응성 단량체 및 광개시제계를 포함한다. 그리고, 이러한 조성물로부터 제조된 포토폴리머에 대하여 레이저 간섭광을 조사하여 국부적인 단량체의 광중합을 유도한다. Specifically, the photopolymer composition for producing a hologram includes a polymer matrix, a photoreactive monomer, and a photoinitiator system. Then, the photopolymer prepared from this composition is irradiated with laser interference light to induce local photopolymerization of the monomer.

이러한 국부적인 광중합 과정을 통해 굴절률 변조가 생기게 되며, 이러한 굴절률 변조에 의해서 회절 격자가 생성된다. 굴절률 변조값(△n)은 포토폴리머 층의 두께와 회절 효율(DE)에 영향을 받으며, 각도 선택성은 두께가 얇을수록 넓어지게 된다.Through this local photopolymerization process, refractive index modulation occurs, and a diffraction grating is created through this refractive index modulation. The refractive index modulation value (△n) is affected by the thickness of the photopolymer layer and the diffraction efficiency (DE), and the angular selectivity becomes wider as the thickness becomes thinner.

최근에는 높은 회절 효율과 안정적으로 홀로그램을 유지할 수 있는 재료 개발에 대한 요구가 높아지고 있고, 얇은 두께를 가지면서도 회절 효율과 굴절률 변조값이 큰 홀로그램 기록 매체의 제조를 위한 다양한 시도가 이루어지고 있다.Recently, there has been a growing demand for the development of materials that can maintain high diffraction efficiency and stable holograms, and various attempts have been made to manufacture hologram recording media that have a small thickness but have high diffraction efficiency and a high refractive index modulation value.

한편, 홀로그램 기록 매체는 광학 정보를 기록하기 전에도 우수한 경시 안정성을 나타내 원래 의도된 광학 기록 특성을 나타낼 필요가 있다. 그러나, 홀로그램 기록 매체는 보관 중에 광개시제계가 반응함에 따라 원래 의도된 광학 기록 특성을 나타내지 못하는 한계가 있다.Meanwhile, the holographic recording medium needs to exhibit excellent stability over time even before recording optical information, thereby exhibiting the originally intended optical recording characteristics. However, holographic recording media have limitations in that they do not exhibit originally intended optical recording characteristics as the photoinitiator system reacts during storage.

본 출원의 일 목적은, 광 중합성 조성물에 사용되고, 소정 구조를 갖는 양이온과 음이온을 포함하는 화합물을 제공하는 것이다.One object of the present application is to provide a compound that is used in a photopolymerizable composition and contains a cation and an anion having a predetermined structure.

본 출원의 다른 목적은 우수한 경시 안정성을 제공할 수 있는 개시제계(initiator system)에 포함되는 화합물을 제공하는 것이다.Another object of the present application is to provide a compound included in an initiator system that can provide excellent stability over time.

본 출원의 또 다른 목적은 우수한 경시 안정성을 제공할 수 있는 개시제계를 제공하는 것이다.Another object of the present application is to provide an initiator system that can provide excellent stability over time.

본 출원의 또 다른 목적은 우수한 경시 안정성을 제공할 수 있는 개시제계를 포함하는 조성물을 제공하는 것이다.Another object of the present application is to provide a composition comprising an initiator system that can provide excellent stability over time.

본 출원의 또 다른 목적은 상기 화합물, 개시제계 및 조성물을 이용하여 제조된 홀로그램 기록 매체를 제공하는 것이다.Another object of the present application is to provide a hologram recording medium manufactured using the above compound, initiator system, and composition.

본 출원의 상기 목적 및 기타 그 밖의 목적은 하기 상세히 설명되는 본 출원에 의해 모두 해결될 수 있다.The above objects and other objects of the present application can all be solved by the present application described in detail below.

본 출원의 구체예에 따르면, 홀로그램 기록 매체 제조에 사용되는 광 중합용 개시제 화합물, 개시제계, 조성물이 제공된다. 또한, 본 출원의 다른 구체예에 따르면 소정 특성을 만족하는 홀로그램 기록 매체가 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present application, an initiator compound, initiator system, and composition for photopolymerization used in producing a hologram recording medium are provided. Additionally, according to another embodiment of the present application, a hologram recording medium that satisfies predetermined characteristics can be provided.

이하 본 출원 발명의 구체예를 보다 자세히 설명한다.Hereinafter, specific examples of the invention of this application will be described in more detail.

본 출원에 관한 일례에서, 본 출원은 광 중합용 개시제 화합물에 관한 것이다. 후술하는 용도에서 상기 화합물은 일종의 라디칼 개시제로 사용될 수 있다.In one example related to this application, this application relates to initiator compounds for photopolymerization. In the applications described below, the compound can be used as a type of radical initiator.

본 출원의 화합물은 광중합성 조성물에 사용될 수 있다. 구체적으로, 상기 광중합성 조성물은 고분자 매트릭스, 광 반응성 단량체 및 광개시제계를 포함할 수 있고, 상기 화합물은 광개시제계에 포함될 수 있다. 그리고, 상기 화합물은 광 조사에 의해 활성화되어 고분자 매트릭스에 분산된 광 반응성 단량체의 광중합을 유발하고, 광학 정보를 기록하는데 사용될 수 있다.The compounds of the present application can be used in photopolymerizable compositions. Specifically, the photopolymerizable composition may include a polymer matrix, a photoreactive monomer, and a photoinitiator system, and the compound may be included in the photoinitiator system. In addition, the compound is activated by light irradiation to cause photopolymerization of the photoreactive monomer dispersed in the polymer matrix, and can be used to record optical information.

예를 들어, 홀로그램 기록 매체에는 광학 정보가 기록된 포토 폴리머 필름이 포함되는데, 상기 포토 폴리머는 포토폴리머 형성을 위한 코팅액(또는 코팅 조성물)에 물체광과 참조광을 조사하는 방식으로 제조될 수 있다. 물체광과 참조광이 상쇄 간섭하는 영역에서는 광개시제계가 비활성 상태로 존재하므로 광반응성 단량체의 광중합이 일어나지 않고 보강 간섭 영역에서는 활성화된 광개시제계에 의하여 광반응성 단량체의 광중합이 일어나게 된다. 보강 간섭 영역에서는 광반응성 단량체가 지속적으로 소모됨에 따라 상쇄 간섭 영역과 보강 간섭 영역에서 광반응성 단량체 간 농도 차이가 발생하게 된다. 그 결과 상쇄 간섭 영역의 광반응성 단량체가 보강 간섭 영역으로 확산하게 된다. 광반응성 단량체 및 이로부터 형성되는 광중합체는 고분자 매트릭스 대비 고굴절률을 가지기 때문에 포토폴리머에는 공간적인 굴절률의 변화가 발생하며, 이러한 포토폴리머에서 발생하는 공간적인 굴절률 변조에 의해 격자가 생기게 된다. 이러한 격자 면은 굴절률의 차에 의해 입사광을 반사시키는 반사면의 역할을 하며, 홀로그램 기록 후 참조광의 방향으로 기록 시 파장의 광이 입사되면 Bragg 조건을 만족하여 원래 물체광 방향으로 광이 회절하게 되어 홀로그램 광학 정보를 재생할 수 있다.For example, a hologram recording medium includes a photopolymer film on which optical information is recorded, and the photopolymer may be manufactured by irradiating object light and reference light to a coating solution (or coating composition) for forming a photopolymer. In the area where object light and reference light destructively interfere, the photoinitiator system is in an inactive state, so photopolymerization of the photoreactive monomer does not occur, and in the constructive interference area, photopolymerization of the photoreactive monomer occurs due to the activated photoinitiator system. As the photoreactive monomer is continuously consumed in the constructive interference area, a concentration difference occurs between the photoreactive monomer in the destructive interference area and the constructive interference area. As a result, the photoreactive monomer in the destructive interference region diffuses into the constructive interference region. Since the photoreactive monomer and the photopolymer formed therefrom have a high refractive index compared to the polymer matrix, spatial changes in refractive index occur in the photopolymer, and a lattice is created due to the spatial refractive index modulation occurring in the photopolymer. This grating surface serves as a reflective surface that reflects incident light by the difference in refractive index, and when light of the same wavelength is incident when recording in the direction of the reference light after recording the hologram, the Bragg condition is satisfied and the light diffracts in the direction of the original object light. Holographic optical information can be reproduced.

본 출원의 개시제 화합물은 보레이트 센터(borate center)에 3개의 아릴기(aryl)가 도입된 보레이트 음이온을 포함하는 것으로, 광개시제 역할을 수행한다. 상기 보레이트 화합물의 아릴기에는 적어도 1개의 할로겐 치환기가 도입되어 에너지 준위가 조절되므로, 광중합 조건에서 라디칼 개시제(radicla initiator)로서의 역할을 충분히 수행할 수 있다.The initiator compound of the present application contains a borate anion with three aryl groups introduced into the borate center, and serves as a photoinitiator. Since at least one halogen substituent is introduced into the aryl group of the borate compound to adjust the energy level, it can sufficiently perform the role of a radical initiator under photopolymerization conditions.

본 출원의 구체예에서, 상기 화합물은 아래 화학식 1로 표시되는 음이온; 및 아래 화학식 2로 표시되는 양이온을 포함하고, 광 조사에 의해 활성화되어 고분자 매트릭스에 분산된 광 반응성 단량체의 광중합을 유발하고, 광학 정보를 기록하는데 사용되는 화합물이다.In an embodiment of the present application, the compound is an anion represented by Formula 1 below; and a cation represented by Formula 2 below, and is activated by light irradiation to cause photopolymerization of the photoreactive monomer dispersed in the polymer matrix, and is used to record optical information.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식 1에서, In Formula 1,

R102는 각각 독립적으로 수소, 알킬기 또는 할로겐이고, R102 중 적어도 1 이상은 할로겐이며,R 102 is each independently hydrogen, an alkyl group or halogen, and at least one of R 102 is halogen,

R103은 각각 독립적으로 수소, 알킬기 또는 할로겐이되, 인접하는 R102가 수소 또는 알킬기인 경우 할로겐이며,R 103 is each independently hydrogen, an alkyl group, or halogen, but when the adjacent R 102 is hydrogen or an alkyl group, it is halogen,

R은 탄소수 1 내지 24의 알킬기이다.R is an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms.

본 명세서에서 특별히 달리 정의하지 않는 이상, 할로겐의 구체적인 종류는 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택될 수 있다.Unless specifically defined otherwise in the specification, the specific type of halogen is not particularly limited and may be selected from, for example, F, Cl, Br, or I.

또한, 본 명세서에서 특별히 달리 정의하지 않는 이상, 「알킬기」는 직쇄, 분지쇄, 또는 고리형의 알킬기일 수 있다. 알킬기의 탄소수는 예를 들어, 1 내지 24, 1 내지 16, 1 내지 8, 또는 1 내지 4일 수 있다. 비제한적인 예로, 본 명세서에서 알킬기는 메틸, 에틸, 프로필(예컨대, n-프로필, 이소프로필 등), 부틸(예컨대, n-부틸, 이소부틸, tert-부틸, sec-부틸, 시클로부틸 등), 펜틸(예컨대, n-펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, tert-펜틸, 1,1-디메틸-프로필, 1-에틸-프로필, 1-메틸-부틸, 시클로펜틸 등), 헥실(예컨대, n-헥실, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 4-메틸펜틸, 3,3-디메틸부틸, 1-에틸-부틸, 2-에틸부틸, 시클로펜틸메틸, 시클로헥실 등), 헵틸(예컨대, n-헵틸, 1-메틸헥실, 4-메틸헥실, 5-메틸헥실, 시클로헥실메틸 등), 옥틸(예컨대, n-옥틸, tert-옥틸, 1-메틸헵틸, 2-에틸헥실, 2-프로필펜틸 등), 노닐(예컨대, n-노닐, 2,2-디메틸헵틸 등) 등일 수 있다.Additionally, unless specifically defined otherwise in the specification, the “alkyl group” may be a straight-chain, branched-chain, or cyclic alkyl group. The carbon number of the alkyl group may be, for example, 1 to 24, 1 to 16, 1 to 8, or 1 to 4. By way of non-limiting example, alkyl groups herein include methyl, ethyl, propyl (e.g., n-propyl, isopropyl, etc.), butyl (e.g., n-butyl, isobutyl, tert-butyl, sec-butyl, cyclobutyl, etc.) , pentyl (e.g. n-pentyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, 1,1-dimethyl-propyl, 1-ethyl-propyl, 1-methyl-butyl, cyclopentyl, etc.), hexyl (e.g. n- Hexyl, 1-methylpentyl, 2-methylpentyl, 4-methylpentyl, 3,3-dimethylbutyl, 1-ethyl-butyl, 2-ethylbutyl, cyclopentylmethyl, cyclohexyl, etc.), heptyl (e.g., n- Heptyl, 1-methylhexyl, 4-methylhexyl, 5-methylhexyl, cyclohexylmethyl, etc.), octyl (e.g., n-octyl, tert-octyl, 1-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 2-propylpentyl, etc. ), nonyl (eg, n-nonyl, 2,2-dimethylheptyl, etc.).

하나의 예시에서, 상기 화학식 1의 R은 10 이하의 알킬기일 수 있다. 구체적으로, 화학식 1의 R은 탄소수 4 내지 8 또는 4 내지 6의 알킬기일 수 있고, 이 경우 우수한 안정성이 확보될 수 있다.In one example, R in Formula 1 may be an alkyl group of 10 or less. Specifically, R in Formula 1 may be an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms or 4 to 6 carbon atoms, and in this case, excellent stability can be ensured.

하나의 예시에서, 상기 화학식 1의 보레이트에 결합된 3 개의 방향족 고리 중에서 적어도 2 이상의 방향족 고리가 할로겐으로 치환될 수 있다. 예를 들어, 상기 화학식 1의 R102 중 2개가 할로겐일 수 있다. 이러한 경우, R103은 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기 일 수 있다.In one example, among the three aromatic rings bonded to the borate of Formula 1, at least two aromatic rings may be substituted with halogen. For example, two of R 102 in Formula 1 may be halogen. In this case, R 103 may each independently be hydrogen or an alkyl group.

하나의 예시에서, 상기 화학식 1의 보레이트에 결합된 3 개의 방향족 고리 모두는 할로겐으로 치환된 것일 수 있다. 예를 들어, 상기 화학식 1의 R102 중 3개가 할로겐일 수 있다. 이러한 경우, R103은 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기 일 수 있다.In one example, all three aromatic rings bonded to the borate of Formula 1 may be substituted with halogen. For example, three of R 102 in Formula 1 may be halogen. In this case, R 103 may each independently be hydrogen or an alkyl group.

[화학식 2][Formula 2]

NY1Y2Y3Y4 NY 1 Y 2 Y 3 Y 4

상기 화학식 2에서, Y1 내지 Y4 중 2 개의 치환기는 서로 연결되어 탄소수 4 내지 10의 지방족 고리를 형성하거나 또는 형성하지 않을 수 있고, In Formula 2, two substituents of Y 1 to Y 4 may or may not be connected to each other to form an aliphatic ring having 4 to 10 carbon atoms,

지방족 고리를 형성하지 않는 Y1 내지 Y4는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 40의 알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 탄소수 6 내지 40의 아릴알킬기 또는 에스테르 결합을 매개로 연결된 탄소수 2 내지 40의 알킬기(예컨대, -CH2CH2-O-CO-CH2CH2CH3 등)이되, Y 1 to Y 4 that do not form an aliphatic ring are each independently an alkyl group with 1 to 40 carbon atoms, an aryl group with 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group with 6 to 40 carbon atoms, or an alkyl group with 2 to 40 carbon atoms linked through an ester bond. (For example, -CH 2 CH 2 -O-CO-CH 2 CH 2 CH 3 , etc.),

Y1 내지 Y4가 모두 메틸기이거나, 또는 2 이상의 치환기가 탄소수 16 이상의 알킬기인 것은 배제된다. It is excluded that Y 1 to Y 4 are all methyl groups or that two or more substituents are alkyl groups having 16 or more carbon atoms.

상기 화학식 2에서 Y1 내지 Y4가 모두 메틸기이거나, 또는 2 이상의 치환기가 탄소수 16 이상의 알킬기인 경우에는 전자 공여체가 포토폴리머 조성물에 잘 용해되지 않아 목적하는 광학 기록 특성을 나타내지 못할 수 있다. In Formula 2, if Y 1 to Y 4 are all methyl groups, or two or more substituents are alkyl groups having 16 or more carbon atoms, the electron donor may not dissolve well in the photopolymer composition and may not exhibit the desired optical recording characteristics.

하나의 예시에서, Y1 내지 Y4 중 2 개의 치환기는 서로 연결되어 피페리딘 또는 피롤리딘을 형성할 수 있다. 실험적으로 확인한 결과, Y1 내지 Y4 중 2 개의 치환기는 서로 연결되어 피페리딘 또는 피롤리딘을 형성하는 경우, 예를 들어, Y1 내지 Y4 모두가 알킬기인 사용되는 경우 보다, 높은 용해도를 확보하는데 유리하다.In one example, two of the substituents Y 1 to Y 4 may be connected to each other to form piperidine or pyrrolidine. As a result of experimental confirmation, when two of the substituents Y 1 to Y 4 are connected to each other to form piperidine or pyrrolidine, for example, when Y 1 to Y 4 are all alkyl groups, the solubility is higher than when used. It is advantageous to secure.

상기 Y1 내지 Y4 중 지방족 고리를 형성하지 않는 치환기는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 32의 직쇄 알킬기, 페닐기, 벤질기 또는 -CH2CH2-O-CO-CH2CH2CH3 일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 Y1 내지 Y4 중 지방족 고리를 형성하지 않는 치환기는 각각 독립적으로 예를 들어, 메틸기, 부틸기, 헥사데실기, 헨트리아콘틸(hentriacontyl)기, 페닐기 또는 벤질기일 수 있다. 본 출원의 구체예예 따르면, 상기 Y1 내지 Y4 중 지방족 고리를 형성하지 않는 치환기가 하나 이상이 헥사데실기 등과 같이 탄소수 10 이상의 알킬기이거나 이를 포함하는 경우, 화합물의 구조 안정성이 우수하다.Among Y 1 to Y 4 , the substituents that do not form an aliphatic ring may each independently be a straight-chain alkyl group having 1 to 32 carbon atoms, a phenyl group, a benzyl group, or -CH 2 CH 2 -O-CO-CH 2 CH 2 CH 3 . More specifically, the substituents that do not form an aliphatic ring among Y 1 to Y 4 may each independently be, for example, a methyl group, a butyl group, a hexadecyl group, a hentriacontyl group, a phenyl group, or a benzyl group. . According to a specific example of the present application, when at least one substituent among Y 1 to Y 4 that does not form an aliphatic ring is or includes an alkyl group having 10 or more carbon atoms, such as a hexadecyl group, the structural stability of the compound is excellent.

하나의 예시에서, 상기 화학식 2에서 Y1 내지 Y4 중 적어도 하나가 아릴기, 보다 구체적으로는 벤질기일 수 있다. 실험적으로 확인한 결과, Y1 내지 Y4 중 적어도 하나가 아릴기인 경우, 예를 들어 Y1 내지 Y4 모두가 알킬기인 사용되는 경우 보다, 높은 용해도를 확보하는데 유리할 수 있다.In one example, in Formula 2, at least one of Y 1 to Y 4 may be an aryl group, more specifically, a benzyl group. As a result of experimental confirmation, when at least one of Y 1 to Y 4 is an aryl group, for example, it may be advantageous to secure higher solubility than when all of Y 1 to Y 4 are alkyl groups.

특별히 제한되지는 않으나, 상기 화학식 2의 양이온으로 사용가능한 질소 함유 양이온은 예를 들어, 예를 들면, 헥사데실 디메틸 벤질 암모늄 양이온 또는 또는 헥사데실 벤질 피롤리디늄 일 수 있다.Although not particularly limited, the nitrogen-containing cation usable as the cation of Formula 2 may be, for example, hexadecyl dimethyl benzyl ammonium cation or hexadecyl benzyl pyrrolidinium.

상기 화합물이 사용되는 용도와 관련한 본 출원의 구체예에서, 상기 고분자 매트릭스는 실란 작용기를 포함하는 실록산계 고분자 및 (메트)아크릴계 폴리올이 가교 결합하여 형성된 고분자 매트릭스일 수 있다. 구체적인 예시는 후술하는 조성물에 관한 설명에 기재한다.In a specific example of the present application related to the use of the compound, the polymer matrix may be a polymer matrix formed by crosslinking a siloxane-based polymer containing a silane functional group and a (meth)acrylic-based polyol. Specific examples are described in the description of the composition described later.

상기 화합물이 사용되는 용도와 관련한 본 출원의 구체예에서, 상기 광 반응성 단량체는, (메트)아크릴로일기, 비닐기 및 티올기 중에서 선택되는 1 이상의 광 반응성기를 가질 수 있다. 구체적인 예시는 후술하는 조성물에 관한 설명에 기재한다.In a specific example of the present application related to the use of the compound, the photo-reactive monomer may have one or more photo-reactive groups selected from a (meth)acryloyl group, a vinyl group, and a thiol group. Specific examples are described in the description of the composition described later.

본 출원에 관한 다른 일례에서, 본 출원은 상술한 (화학식 1의 음이온 및 화학식 2의 양이온을 포함하는) 화합물을 포함하는 광 중합 개시제계(initiator system)에 관한 것이다.In another example, the present application relates to a photopolymerization initiator system comprising the above-described compound (comprising an anion of Formula 1 and a cation of Formula 2).

상기 광 중합 개시제계는 (화학식 1의 음이온 및 화학식 2의 양이온을 포함하는) 화합물 외에, 광 감응 염료를 더 포함하고, 광 조사에 의해 활성화되어 고분자 매트릭스에 분산된 광 반응성 단량체의 광중합을 유발하고, 광학 정보를 기록하는데 사용될 수 있다.The photo polymerization initiator system further includes a light-sensitive dye in addition to a compound (containing an anion of Formula 1 and a cation of Formula 2), and is activated by light irradiation to cause photopolymerization of the photo-reactive monomer dispersed in the polymer matrix, , can be used to record optical information.

광 중합 개시제계에 포함되는 화학식 1의 음이온 및 화학식 2의 양이온을 포함하는 화합물(전자 공여체(electron donor))에 관한 설명은 상술한 것과 동일하므로, 이를 생략한다.The description of the compound (electron donor) containing the anion of Chemical Formula 1 and the cation of Chemical Formula 2 included in the photopolymerization initiator system is the same as the above, and thus is omitted.

광 중합 개시제계에 포함되는 광 감응 염료는 특별히 제한되지 않고, 후술하는 조성물에 관한 설명에서 언급된 것 또는 후술하는 설명의 특성을 갖는 것 들이 사용될 수 있다.The photosensitive dye included in the photopolymerization initiator system is not particularly limited, and those mentioned in the description of the composition described later or those having the characteristics described later may be used.

본 출원의 구체예예서, 상기 개시제계는 전자 공여체로 후술하는 광 감응 염료와 특정 반응 에너지를 나타내는 것(즉, 화학식 1의 음이온 및 화학식 2의 양이온을 포함하는 화합물)을 사용하여, 광중합된 포토 폴리머 또는 홀로그램 기록 매체에 우수한 경시 안정성을 제공할 수 있다.In a specific example of the present application, the initiator system uses a photosensitive dye described later as an electron donor and a specific reaction energy (i.e., a compound containing an anion of Formula 1 and a cation of Formula 2) to produce photopolymerized photopolymerization. It can provide excellent stability over time to polymer or holographic recording media.

구체적으로, 상기 전자 공여체(화학식 1의 음이온 및 화학식 2의 양이온을 포함하는 화합물)는, 광 조사에 의해 삼중항 상태로 들뜬 광 감응 염료와 하기 반응식 1과 같이 반응하여 광중합 개시 반응에 참여하게 된다.Specifically, the electron donor (a compound containing an anion of Formula 1 and a cation of Formula 2) reacts with a photosensitive dye excited to a triplet state by light irradiation as shown in Scheme 1 below and participates in the photopolymerization initiation reaction. .

[반응식 1][Scheme 1]

Figure pat00002
Figure pat00002

이때, 전자 공여체로 삼중항 상태로 들뜬 광감응 염료와의 반응 에너지가 - 25 내지 0 kJ/mol인 것을 사용하면 광 조사 전에는 상온 내지 고온에서도 반응이 개시되지 않아 우수한 경시 안정성을 나타내면서 광이 조사되면 민감하게 광 개시 반응이 일어나 우수한 광학 기록 특성을 나타낼 수 있다.At this time, if an electron donor with a reaction energy of -25 to 0 kJ/mol with a photosensitive dye excited in a triplet state is used, the reaction does not start even at room temperature or high temperature before light irradiation, showing excellent stability over time and when light is irradiated. A sensitive photo-initiated reaction occurs, resulting in excellent optical recording properties.

보다 구체적으로, 상기 전자 공여체는 삼중항 상태로 들뜬 광감응 염료와의 반응 에너지가 - 25 kJ/mol 이상, - 20 kJ/mol 이상, - 15 kJ/mol 이상, - 14 kJ/mol 이상, - 13 kJ/mol 이상, - 12 kJ/mol 이상, - 11 kJ/mol 이상, - 10 kJ/mol 이상, - 9 kJ/mol 이상 또는 - 8.5 kJ/mol 이상이면서 0 kJ/mol 이하, - 3 kJ/mol 이하 또는 - 5 kJ/mol 이하인 것일 수 있다. 상기 반응 에너지를 측정하는 방법은 후술하는 시험예에 자세히 기재된 측정 방법을 참고할 수 있다.More specifically, the electron donor has a reaction energy with a photosensitive dye excited in a triplet state of - 25 kJ/mol or more, - 20 kJ/mol or more, - 15 kJ/mol or more, - 14 kJ/mol or more, - 13 kJ/mol or more, - 12 kJ/mol or more, - 11 kJ/mol or more, - 10 kJ/mol or more, - 9 kJ/mol or more, or - 8.5 kJ/mol or more and 0 kJ/mol or less, - 3 kJ It may be /mol or less or -5 kJ/mol or less. For the method of measuring the reaction energy, refer to the measurement method described in detail in the test example described later.

하나의 예시에서, 상기 광 중합 개시제계는 전자 수용체(electron acceptor)를 더 포함할 수 있다. 전자 수용체는 예를 들어, 오늄염 화합물 및 트리아진 화합물 중에서 선택되는 1 이상을 포함할 수 있고, 후술하는 조성물에 관한 설명에서 언급된 것들이 사용될 수 있다. 전자 수용체는 광개시제계의 산화 환원 반응 시에 전자를 받고, 전자 수용체를 포함하는 경우에는 광개시제계 반응의 전체 에너지 E2가 음의 값 쪽으로 커지게 된다. 그러나, 본 발명자들의 연구 결과 전자 수용체가 포함되어 광개시제계 반응의 전체 에너지가 변화되더라도 광감응 염료와 전자 공여체의 반응 에너지가 상술한 범위 내인 경우에 한하여 우수한 경시 안정성이 확보될 수 있다. In one example, the photo polymerization initiator system may further include an electron acceptor. The electron acceptor may include, for example, one or more selected from onium salt compounds and triazine compounds, and those mentioned in the description of the composition described later may be used. The electron acceptor receives electrons during the redox reaction of the photoinitiator system, and when an electron acceptor is included, the total energy E2 of the photoinitiator system reaction increases toward a negative value. However, as a result of the present inventors' research, even if the total energy of the photoinitiator system reaction changes due to the inclusion of the electron acceptor, excellent stability over time can be secured only when the reaction energy of the photosensitive dye and the electron donor is within the above-mentioned range.

광 중합 개시제계에 포함되는 전자 수용체는 특별히 제한되지 않고, 후술하는 조성물에 관한 설명에서 언급된 것 또는 후술하는 설명의 특성을 갖는 것들이 사용될 수 있다.The electron acceptor included in the photopolymerization initiator system is not particularly limited, and those mentioned in the description of the composition described later or those having the characteristics described later may be used.

본 출원에 관한 또 다른 일례에서, 본 출원은 상술한 (화학식 1의 음이온 및 화학식 2의 양이온을 포함하는) 화합물을 포함하는 광중합 조성물에 관한 것이다. 상기 조성물은 포토 폴리머, 구체적으로는 후술하는 홀로그램 기록 매체의 포토폴리머 층을 제조하는데 사용될 수 있다.In another example relating to this application, this application relates to a photopolymerizable composition comprising a compound (comprising an anion of Formula 1 and a cation of Formula 2) described above. The composition can be used to produce a photopolymer, specifically a photopolymer layer of a holographic recording medium, which will be described later.

하나의 예시에서, 상기 조성물은 고분자 매트릭스, 광반응성 단량체 및 광개시제계를 포함할 수 있다. 또는 상기 조성물은 고분자 매트릭스; 및 광반응성 단량체 및 광개시제계로부터 얻어지는 광중합체를 포함할 수 있다. 또는, 상기 조성물은 고분자 매트릭스 광반응성 단량체, 광개시제계 및 광중합체를 모두 포함할 수 있다. In one example, the composition may include a polymer matrix, a photoreactive monomer, and a photoinitiator system. Alternatively, the composition may include a polymer matrix; and photopolymers obtained from photoreactive monomers and photoinitiator systems. Alternatively, the composition may include all of a polymer matrix photoreactive monomer, a photoinitiator system, and a photopolymer.

하나의 예시에서, 상기 고분자 매트릭스는 실란 작용기(Si-H)를 포함하는 실록산계 고분자 및 (메트)아크릴계 폴리올이 가교 결합하여 형성된 고분자 매트릭스일 수 있다. 구체적으로, 상기 고분자 매트릭스는 (메트)아크릴계 폴리올을 실란 작용기를 포함하는 실록산계 고분자로 가교시킨 것이다. 보다 구체적으로, 상기 (메트)아크릴계 폴리올의 히드록시기는 실록산계 고분자의 실란 작용기와 히드로실릴레이션(hydrosilylation) 반응을 통해 가교 결합을 형성할 수 있다. 상기 히드로실릴레이션 반응은 Pt 계열의 촉매 하에서 비교적 저온(예를 들어, 약 60 ℃ 내외의 온도)에서도 빠르게 진행될 수 있다. 따라서, 상기 포토폴리머 층은 지지체로서 비교적 저온에서도 빠르게 가교될 수 있는 고분자 매트릭스를 채용함에 따라 홀로그램 기록 매체의 제조 효율이나 생산성을 향상시킬 수 있다.In one example, the polymer matrix may be a polymer matrix formed by crosslinking a siloxane-based polymer containing a silane functional group (Si-H) and a (meth)acrylic polyol. Specifically, the polymer matrix is crosslinked (meth)acrylic polyol with a siloxane-based polymer containing a silane functional group. More specifically, the hydroxy group of the (meth)acrylic polyol can form a crosslink with the silane functional group of the siloxane-based polymer through a hydrosilylation reaction. The hydrosilylation reaction can proceed rapidly even at relatively low temperatures (for example, around 60°C) under a Pt-based catalyst. Therefore, the photopolymer layer can improve the manufacturing efficiency and productivity of the hologram recording medium by employing a polymer matrix that can be quickly crosslinked even at a relatively low temperature as a support.

상기 고분자 매트릭스는 실록산계 고분자의 유연한 주쇄로 인해 포토폴리머에 포함된 성분(예컨대, 광반응성 단량체 또는 가소제 등)의 유동성(mobility)을 높일 수 있다. 또한, 내열 및 내습열 특성이 우수한 실록산 결합은 광학 정보가 기록된 포토폴리머 및 이를 포함하는 홀로그램 기록 매체의 신뢰성 확보를 용이하게 할 수 있다.The polymer matrix can increase the mobility of components (eg, photoreactive monomers or plasticizers) included in the photopolymer due to the flexible main chain of the siloxane-based polymer. In addition, siloxane bonding with excellent heat resistance and moisture heat resistance properties can facilitate securing the reliability of the photopolymer on which optical information is recorded and the hologram recording medium containing the same.

상기 고분자 매트릭스는 상대적으로 낮은 굴절률을 가질 수 있고, 그로 인해 상기 포토폴리머 또는 폴토폴리머 층의 굴절률 변조를 높이는 역할을 할 수 있다. 예를 들어, 상기 고분자 매트릭스의 굴절률 상한은 1.53 이하, 1.52 이하, 1.51 이하, 1.50 이하 또는 1.49 이하일 수 있다. 그리고, 상기 고분자 매트릭스의 굴절률 하한은 예를 들어, 1.40 이상, 1.41 이상, 1.42 이상, 1.43 이상 1.44 이상, 1.45 이상 또는 1.46 이상일 수 있다. 본 명세서에서 「굴절률」이란 25 ℃에서 Abbe 굴절계로 측정한 값일 수 있다.The polymer matrix may have a relatively low refractive index, thereby serving to increase the refractive index modulation of the photopolymer or photopolymer layer. For example, the upper limit of the refractive index of the polymer matrix may be 1.53 or less, 1.52 or less, 1.51 or less, 1.50 or less, or 1.49 or less. And, the lower limit of the refractive index of the polymer matrix may be, for example, 1.40 or more, 1.41 or more, 1.42 or more, 1.43 or more, 1.44 or more, 1.45 or more, or 1.46 or more. In this specification, “refractive index” may be a value measured with an Abbe refractometer at 25°C.

상기 포토폴리머 또는 포토폴리머층은 상술한 실란 작용기를 포함하는 실록산계 고분자 및 (메트)아크릴계 폴리올이 가교 결합하여 형성된 고분자 매트릭스를 포함하나, 일부 가교 결합되지 않은 고분자 매트릭스 전구체를 포함할 수 있다. 이때, 고분자 매트릭스 전구체란, 실록산계 고분자, (메트)아크릴계 폴리올 및 Pt 계열 촉매를 의미할 수 있다.The photopolymer or photopolymer layer includes a polymer matrix formed by crosslinking the siloxane-based polymer containing the above-described silane functional group and (meth)acrylic polyol, but may include a polymer matrix precursor that is not partially crosslinked. At this time, the polymer matrix precursor may mean a siloxane-based polymer, (meth)acrylic-based polyol, and Pt-based catalyst.

상기 실록산계 고분자는, 일 예로, 하기 화학식 3으로 표시되는 반복 단위 및 하기 화학식 4로 표시되는 말단기를 포함할 수 있다. For example, the siloxane-based polymer may include a repeating unit represented by Formula 3 below and a terminal group represented by Formula 4 below.

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00003
Figure pat00003

상기 화학식 3에서, In Formula 3 above,

복수의 R1 및 R2는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고, A plurality of R 1 and R 2 are the same or different from each other and are each independently hydrogen, halogen, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,

n은 1 내지 10,000의 정수이며, n is an integer from 1 to 10,000,

[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 화학식 4에서, In Formula 4 above,

복수의 R11 내지 R13은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고, A plurality of R 11 to R 13 are the same or different from each other, and each independently represents hydrogen, halogen, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,

상기 화학식 3으로 표시되는 반복 단위 중 적어도 하나의 반복 단위와 상기 화학식 4로 표시되는 말단기 중 어느 한 쪽의 말단기의 R1, R2 및 R11 내지 R13 중 적어도 하나는 수소이다. At least one of R 1 , R 2 , and R 11 to R 13 of at least one of the repeating units represented by Formula 3 and one of the terminal groups represented by Formula 4 is hydrogen.

상기 화학식 4에서 -(O)-는 상기 화학식 4로 표시되는 말단기의 Si이 상기 화학식 3으로 표시되는 반복 단위에 결합할 때 산소(O)를 매개로 결합하거나 혹은 산소(O) 없이 직접 결합하는 것을 의미한다. In Formula 4, -(O)- is bonded through oxygen (O) or directly without oxygen (O) when Si of the terminal group represented by Formula 4 is bonded to the repeating unit represented by Formula 3. It means to do.

하나의 예시에서, 상기 화학식 3 및 4의 R1, R2 및 R11 내지 R13는 메틸 또는 수소이고, 복수의 R1, R2 및 R11 내지 R13 중 적어도 2 이상은 수소일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 실록산계 고분자로는 상기 화학식 3의 R1 및 R2가 각각 메틸 및 수소이고, 상기 화학식 4의 R11 내지 R13가 각각 독립적으로 메틸 또는 수소인 화합물(예컨대, 말단기가 트리메틸실릴기 또는 디메틸히드로실릴기인 폴리메틸히드로실록산); 상기 화학식 4의 일부 R1 및 R2가 각각 메틸 및 수소이고, 나머지 R1 및 R2가 모두 메틸이며, 상기 화학식 4의 R11 내지 R13가 각각 독립적으로 메틸 또는 수소인 화합물(예컨대, 말단기가 트리메틸실릴기 또는 디메틸히드로실릴기인 폴리(디메틸실록산-co-메틸히드로실록산); 또는 상기 화학식 3의 R1 및 R2가 모두 메틸이고, 상기 화학식 4의 R11 내지 R13 중 적어도 하나가 수소이고 나머지가 각각 독립적으로 메틸 또는 수소인 화합물(예컨대, 말단기 중 어느 한쪽 혹은 모두가 디메틸히드로실릴기인 폴리디메틸실록산)일 수 있다. In one example, R 1 , R 2 and R 11 to R 13 in Formulas 3 and 4 are methyl or hydrogen, and at least two of the plurality of R 1 , R 2 and R 11 to R 13 may be hydrogen. . More specifically, the siloxane-based polymer includes compounds in which R 1 and R 2 of Formula 3 are methyl and hydrogen, respectively, and R 11 to R 13 of Formula 4 are each independently methyl or hydrogen (for example, a terminal group is trimethyl polymethylhydrosiloxane, which is a silyl group or dimethylhydrosilyl group); Some R 1 and R 2 of Formula 4 are methyl and hydrogen, respectively, the remaining R 1 and R 2 are both methyl, and R 11 to R 13 of Formula 4 are each independently methyl or hydrogen (e.g., a terminal compound poly(dimethylsiloxane-co-methylhydrosiloxane) wherein the group is a trimethylsilyl group or a dimethylhydrosilyl group, or R 1 and R 2 of the formula 3 are both methyl, and at least one of R 11 to R 13 of the formula 4 is hydrogen; and the remainder are each independently methyl or hydrogen (e.g., polydimethylsiloxane in which either or both of the terminal groups are dimethylhydrosilyl groups).

상기 실록산계 화합물은, 일 예로, 200 내지 4,000 범위의 수평균분자량(Mn)을 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 실록산계 고분자의 수평균분자량 하한은 예를 들어, 200 이상, 250 이상, 300 이상 또는 350 이상일 수 있고, 그 상한은 예를 들어, 3,500 이하, 3,000 이하, 2,500 이하, 2,000 이하, 1,500 이하 또는 1,000 이하일 수 있다. 상기 실록산계 고분자의 수평균분자량이 상기 범위를 만족하는 경우에는 상온 또는 그 이상의 온도에서 이루어지는 (메트)아크릴계 폴리올과의 가교 과정에서 실록산계 고분자가 휘발되면서 매트릭스 가교도가 낮아지거나, 혹은 상기 실록산계 고분자가 다른 포토폴리머 층의 성분들과 상용성이 좋지 못하여 이러한 성분들과 상분리가 발생하는 등의 문제를 방지할 수 있다. 그 결과, 상기 홀로그램 기록 매체가 우수한 광학 기록 특성 및 열 안정성을 나타내게 할 수 있다. For example, the siloxane-based compound may have a number average molecular weight (Mn) in the range of 200 to 4,000. Specifically, the lower limit of the number average molecular weight of the siloxane-based polymer may be, for example, 200 or more, 250 or more, 300 or more, or 350 or more, and the upper limit may be, for example, 3,500 or less, 3,000 or less, 2,500 or less, 2,000 or less, It may be 1,500 or less or 1,000 or less. When the number average molecular weight of the siloxane-based polymer satisfies the above range, the siloxane-based polymer volatilizes during the crosslinking process with (meth)acrylic polyol at room temperature or higher, thereby lowering the degree of matrix crosslinking, or the siloxane-based polymer Problems such as poor compatibility with components of other photopolymer layers, such as phase separation with these components, can be prevented. As a result, the hologram recording medium can exhibit excellent optical recording characteristics and thermal stability.

상기 수평균분자량은 GPC법에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 수 평균 분자량(단위: g/mol)을 의미한다. 상기 GPC법에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 수평균분자량을 측정하는 과정에서는, 통상적으로 알려진 분석 장치와 시차 굴절 검출기(Refractive Index Detector) 등의 검출기 및 분석용 컬럼을 사용할 수 있고, 통상적으로 적용되는 온도 조건, 용매, flow rate를 적용할 수 있다. 상기 측정 조건의 구체적인 예로, 30 ℃의 온도, 테트라히드로퓨란 용매(Tetrahydrofuran) 및 1 mL/min의 flow rate를 들 수 있다.The number average molecular weight refers to the number average molecular weight (unit: g/mol) in terms of polystyrene measured by GPC method. In the process of measuring the number average molecular weight of polystyrene equivalent measured by the GPC method, commonly known analysis devices, detectors such as differential refractive index detectors, and analytical columns can be used, and the commonly applied temperature Conditions, solvent, and flow rate can be applied. Specific examples of the measurement conditions include a temperature of 30° C., tetrahydrofuran solvent, and a flow rate of 1 mL/min.

하나의 예시에서, 상기 실록산계 고분자의 실란 작용기(Si-H) 당량은, 예를 들어, 30 내지 200 g/equivalent 범위 내일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 실록산계 고분자의 실란 작용기(Si-H) 당량은 50 g/equivalent 이상, 60 g/equivalent 이상, 70 g/equivalent 이상, 80 g/equivalent 이상 또는 90 g/equivalent 이상이면서, 180 g/equivalent 이하 또는 150 g/equivalent 이하일 수 있다.In one example, the silane functional group (Si-H) equivalent weight of the siloxane-based polymer may be, for example, in the range of 30 to 200 g/equivalent. More specifically, the silane functional group (Si-H) equivalent weight of the siloxane-based polymer is 50 g/equivalent or more, 60 g/equivalent or more, 70 g/equivalent or more, 80 g/equivalent or more, or 90 g/equivalent or more, and is 180 g/equivalent or more. It may be less than g/equivalent or less than 150 g/equivalent.

본 명세서에서 「어떤 작용기의 당량」이란, 단위 g/equivalent로 표시되는 g당량수(equivalent weight, 당량 무게라 호칭하기도 함)을 간략히 지칭하는 것으로 해당 작용기를 포함하는 분자 또는 중합체의 분자량(중량평균분자량이나 수평균분자량 등)을 해당 작용기의 수로 나눈 값을 의미한다. 따라서, 당량 값이 작을수록 작용기의 밀도가 높으며, 당량 값이 클수록 작용기의 밀도가 작아진다.In this specification, “equivalent of a certain functional group” briefly refers to the number of g equivalents (equivalent weight, also called equivalent weight) expressed in units of g/equivalent, and refers to the molecular weight (weight average) of a molecule or polymer containing the functional group in question. It refers to the value divided by the number of functional groups (molecular weight, number average molecular weight, etc.). Therefore, the smaller the equivalent value, the higher the density of the functional group, and the larger the equivalent value, the smaller the density of the functional group.

상기 실록산계 고분자의 실란 작용기 당량이 상기 범위를 만족하는 경우 고분자 매트릭스가 적절한 가교 밀도를 가져 지지체로서의 역할을 충분히 수행하며, 포토폴리머 층에 포함되는 성분들의 유동성이 향상되어 기록 후 생성된 회절 격자들의 경계면이 무너지는 문제없이 시간이 경과하더라도 초기의 굴절률 변조값을 우수한 수준으로 유지하여 광학 정보에 대한 기록 특성의 감소를 최소화할 수 있다.When the silane functional group equivalent of the siloxane-based polymer satisfies the above range, the polymer matrix has an appropriate crosslinking density and sufficiently performs the role of a support, and the fluidity of the components included in the photopolymer layer is improved, so that the diffraction gratings generated after recording are improved. Even as time passes without the problem of the boundary collapsing, the initial refractive index modulation value is maintained at an excellent level, thereby minimizing the decrease in recording characteristics for optical information.

하나의 예시에서, 상기 (메트)아크릴계 폴리올은 (메트)아크릴레이트계 고분자의 주쇄 또는 측쇄에 1 이상, 구체적으로는 2 이상의 히드록시기가 결합된 중합체를 의미할 수 있다. 본 명세서에서 「(메트)아크릴(계)」란, 특별히 달리 언급하지 않는 이상, 아크릴(계) 및/또는 메타크릴(계)을 지칭하는 것으로, 아크릴(계), 메타크릴(계), 또는 아크릴(계)와 메트크릴(계)의 혼합 모두 아우르는 용어이다. In one example, the (meth)acrylic polyol may refer to a polymer in which one or more, specifically, two or more hydroxy groups are bonded to the main chain or side chain of a (meth)acrylate polymer. In this specification, “(meth)acrylic (based)” refers to acrylic (based) and/or methacrylic (based), unless specifically stated otherwise, such as acrylic (based), methacrylic (based), or It is a term that encompasses both acrylic (based) and methacrylic (based) mixture.

상기 (메트)아크릴계 폴리올은 히드록시기를 갖는 (메트)아크릴레이트계 단량체의 단독 중합체이거나, 2 종 이상의 히드록시기를 갖는 (메트)아크릴레이트계 단량체의 공중합체이거나, 혹은 히드록시기를 갖는 (메트)아크릴레이트계 단량체 및 히드록시기를 갖지 않는 (메트)아크릴레이트계 단량체의 공중합체일 수 있다. 본 명세서에서 「공중합체」는, 특별히 달리 언급하지 않는 이상, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체 및 그라프트 공중합체를 모두 아우르는 용어이다. The (meth)acrylic polyol is a homopolymer of a (meth)acrylate monomer having a hydroxy group, a copolymer of two or more (meth)acrylate monomers having a hydroxy group, or a (meth)acrylate monomer having a hydroxy group. It may be a copolymer of a monomer and a (meth)acrylate-based monomer that does not have a hydroxy group. In this specification, “copolymer” is a term that encompasses random copolymers, block copolymers, and graft copolymers, unless otherwise specified.

상기 히드록시기를 갖는 (메트)아크릴레이트계 단량체로는, 예를 들면, 히드록시알킬 (메트)아크릴레이트 또는 히드록시아릴 (메트)아크릴레이트 등을 들 수 있으며, 상기 알킬은 탄소수 1 내지 30의 알킬이고, 상기 아릴은 탄소수 6 내지 30의 아릴일 수 있다. 또한, 상기 히드록시기를 갖지 않는 (메트)아크릴레이트계 단량체로는, 예를 들면, 알킬 (메트)아크릴레이트계 단량체 또는 아릴 (메트)아크릴레이트계 단량체 등을 들 수 있으며, 상기 알킬은 탄소수 1 내지 30의 알킬이고, 상기 아릴은 탄소수 6 내지 30의 아릴일 수 있다.Examples of the (meth)acrylate-based monomer having the hydroxy group include hydroxyalkyl (meth)acrylate or hydroxyaryl (meth)acrylate, and the alkyl is an alkyl having 1 to 30 carbon atoms. , and the aryl may be an aryl having 6 to 30 carbon atoms. In addition, examples of the (meth)acrylate-based monomer that does not have the hydroxy group include alkyl (meth)acrylate-based monomers or aryl (meth)acrylate-based monomers, and the alkyl has 1 to 1 carbon atoms. It is an alkyl of 30, and the aryl may be an aryl of 6 to 30 carbon atoms.

상기 (메트)아크릴계 폴리올은, 일 예로, 150,000 내지 1,000,000 범위 내의 중량평균분자량(Mw)을 가질 수 있다. 상기 중량평균분자량은, 상술한 바와 같은 GPC법에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량을 의미한다. 예를 들어, 상기 중량평균분자량의 하한은 150,000 이상, 200,000 이상 또는 250,000 이상일 수 있고, 그 상한은 예를 들어, 900,000 이하, 850,000 이하, 800,000 이하, 750,000 이하, 700,000 이하, 650,000 이하, 600,000 이하, 550,000 이하, 500,000 또는 450,000 이하일 수 있다. 상기 (메트)아크릴계 폴리올의 중량평균분자량이 상기 범위를 만족하는 경우 고분자 매트릭스가 지지체 기능을 충분히 발휘하여 사용 시간이 경과하더라도 광학 정보에 대한 기록 특성의 감소가 적으며, 고분자 매트릭스에 충분한 유연성을 부여하여 상기 포토폴리머에 포함된 성분(예컨대, 광반응성 단량체 또는 가소제 등)의 유동성(mobility)을 향상시켜 광학 정보에 대한 기록 특성 감소를 최소화할 수 있다.For example, the (meth)acrylic polyol may have a weight average molecular weight (Mw) in the range of 150,000 to 1,000,000. The weight average molecular weight means the weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by the GPC method as described above. For example, the lower limit of the weight average molecular weight may be 150,000 or more, 200,000 or more, or 250,000 or more, and the upper limit may be, for example, 900,000 or less, 850,000 or less, 800,000 or less, 750,000 or less, 700,000 or less, 650,000 or less, Below, It may be less than 550,000, less than 500,000, or less than 450,000. When the weight average molecular weight of the (meth)acrylic polyol satisfies the above range, the polymer matrix sufficiently functions as a support, so there is little decrease in the recording characteristics of optical information even with the passage of time, and sufficient flexibility is provided to the polymer matrix. As a result, the mobility of components (eg, photoreactive monomers or plasticizers, etc.) included in the photopolymer can be improved to minimize the decrease in recording characteristics for optical information.

상기 실록산계 고분자에 의한 상기 (메트)아크릴계 폴리올의 가교 밀도를 홀로그램 기록 매체의 기능 확보에 유리한 수준으로 조절하기 위해, 상기 (메트)아크릴계 폴리올의 수산기 당량은 적절한 수준으로 조절될 수 있다. In order to adjust the crosslinking density of the (meth)acrylic polyol by the siloxane-based polymer to a level advantageous for securing the function of a hologram recording medium, the hydroxyl equivalent weight of the (meth)acrylic polyol may be adjusted to an appropriate level.

구체적으로, 상기 (메트)아크릴계 폴리올의 수산기(-OH) 당량은, 예를 들어, 500 내지 3,000 g/equivalent 범위 내일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 (메트)아크릴계 폴리올의 수산기(-OH) 당량 하한은 600 g/equivalent 이상, 700 g/equivalent 이상, 800 g/equivalent 이상, 900 g/equivalent 이상, 1000 g/equivalent 이상, 1100 g/equivalent 이상, 1200 g/equivalent 이상, 1300 g/equivalent 이상, 1400 g/equivalent 이상, 1500 g/equivalent 이상, 1600 g/equivalent 이상, 1700 g/equivalent 이상 또는 1750 g/equivalent 이상일 수 있다. 그리고, 상기 (메트)아크릴 폴리올의 수산기(-OH) 당량 상한은 2900 g/equivalent 이하, 2800 g/equivalent 이하, 2700 g/equivalent 이하, 2600 g/equivalent 이하, 2500 g/equivalent 이하, 2400 g/equivalent 이하, 2300 g/equivalent 이하, 2200 g/equivalent 이하, 2100 g/equivalent 이하, 2000 g/equivalent 이하 또는 1900 g/equivalent 이하일 수 있다. Specifically, the hydroxyl (-OH) equivalent weight of the (meth)acrylic polyol may be, for example, in the range of 500 to 3,000 g/equivalent. More specifically, the lower limit of the hydroxyl (-OH) equivalent weight of the (meth)acrylic polyol is 600 g/equivalent or more, 700 g/equivalent or more, 800 g/equivalent or more, 900 g/equivalent or more, 1000 g/equivalent or more, 1100 g/equivalent or more. It may be more than g/equivalent, more than 1200 g/equivalent, more than 1300 g/equivalent, more than 1400 g/equivalent, more than 1500 g/equivalent, more than 1600 g/equivalent, more than 1700 g/equivalent, or more than 1750 g/equivalent. And, the upper limit of the hydroxyl group (-OH) equivalent weight of the (meth)acrylic polyol is 2900 g/equivalent or less, 2800 g/equivalent or less, 2700 g/equivalent or less, 2600 g/equivalent or less, 2500 g/equivalent or less, 2400 g/ It may be equivalent or less, 2300 g/equivalent or less, 2200 g/equivalent or less, 2100 g/equivalent or less, 2000 g/equivalent or less, or 1900 g/equivalent or less.

상기(메트)아크릴계 폴리올의 수산기(-OH) 당량이 상기 범위를 만족하는 경우 고분자 매트릭스가 적절한 가교 밀도를 가져 지지체로서의 역할을 충분히 수행하며, 포토폴리머 층에 포함되는 성분들의 유동성이 향상되어 기록 후 생성된 회절 격자들의 경계면이 무너지는 문제없이 시간이 경과하더라도 초기의 굴절률 변조값을 우수한 수준으로 유지하여 광학 정보에 대한 기록 특성의 감소를 최소화할 수 있다. When the hydroxyl (-OH) equivalent of the (meth)acrylic polyol satisfies the above range, the polymer matrix has an appropriate crosslinking density and sufficiently performs the role of a support, and the fluidity of the components included in the photopolymer layer is improved, so that the polymer matrix can be used after recording. The initial refractive index modulation value can be maintained at an excellent level even as time passes without the problem of the interface between the generated diffraction gratings collapsing, thereby minimizing the decrease in recording characteristics for optical information.

상기 (메트)아크릴계 폴리올은, 예를 들면, - 60 내지 - 10 ℃ 범위의 유리전이온도(Tg)를 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 유리전이온도의 하한은 예를 들어, - 55 ℃ 이상, - 50 ℃ 이상, - 45 ℃ 이상, - 40 ℃ 이상, - 35 ℃ 이상, - 30 ℃ 이상 또는 - 25 ℃ 이상일 수 있고, 그 상한은 예를 들어, -15 ℃ 이하, - 20 ℃ 이하, - 25 ℃ 이하, - 30 ℃ 이하, 또는 - 35 ℃ 이하일 수 있다. 상기 유리전이온도 범위를 만족하는 경우, 고분자 매트릭스의 모듈러스를 크게 저하시키지 않으면서도 유리전이온도를 낮추어 포토폴리머 층 내의 다른 성분들의 이동성(유동성)을 높이고, 포토폴리머 조성물의 성형성도 개선할 수 있다. 상기 유리전이온도는 공지된 방법, 예를 들어 DSC (Differential Scanning Calorimetry) 또는 DMA (dynamic mechanical analysis)와 같은 방법을 이용하여 측정될 수 있다.For example, the (meth)acrylic polyol may have a glass transition temperature (Tg) in the range of -60 to -10°C. Specifically, the lower limit of the glass transition temperature may be, for example, -55 ℃ or higher, -50 ℃ or higher, -45 ℃ or higher, -40 ℃ or higher, -35 ℃ or higher, -30 ℃ or higher, or -25 ℃ or higher. , the upper limit may be, for example, -15°C or less, -20°C or less, -25°C or less, -30°C or less, or -35°C or less. When the above glass transition temperature range is satisfied, the glass transition temperature can be lowered without significantly lowering the modulus of the polymer matrix, thereby increasing the mobility (liquidity) of other components in the photopolymer layer and improving the moldability of the photopolymer composition. The glass transition temperature can be measured using a known method, for example, DSC (Differential Scanning Calorimetry) or DMA (dynamic mechanical analysis).

상기 (메트)아크릴계 폴리올의 굴절률은, 예를 들면, 1.40 이상 1.50 미만일 수 있다. 구체적으로, 상기 (메트)아크릴 폴리올의 굴절률 하한은 예를 들어, 1.41 이상, 1.42 이상, 1.43 이상, 1.44 이상, 1.45 이상 또는 1.46 이상일 수 있고, 그 상한은 예를 들어, 1.49 이하, 1.48 이하, 1.47 이하, 1.46 이하 또는 1.45 이하일 수 있다. 상기 (메트)아크릴계 폴리올이 상술한 범위의 굴절률을 가질 경우 굴절률 변조를 높이는데 기여할 수 있다. 상기 (메트)아크릴계 폴리올의 굴절률은 이론적인 굴절률로서, (메트)아크릴계 폴리올 제조에 사용되는 단량체의 굴절률(25 ℃에서 Abbe 굴절률계를 이용하여 측정한 값)과 각 단량체의 분율(몰비)을 사용하여 계산될 수 있다.The refractive index of the (meth)acrylic polyol may be, for example, 1.40 or more and less than 1.50. Specifically, the lower limit of the refractive index of the (meth)acrylic polyol may be, for example, 1.41 or more, 1.42 or more, 1.43 or more, 1.44 or more, 1.45 or more, or 1.46 or more, and the upper limit may be, for example, 1.49 or less, 1.48 or less, It may be 1.47 or less, 1.46 or less, or 1.45 or less. When the (meth)acrylic polyol has a refractive index in the above-mentioned range, it can contribute to increasing the refractive index modulation. The refractive index of the (meth)acrylic polyol is a theoretical refractive index, using the refractive index of the monomer used to produce (meth)acrylic polyol (value measured using an Abbe refractometer at 25 ℃) and the fraction (molar ratio) of each monomer. It can be calculated as:

상기 (메트)아크릴계 폴리올과 실록산계 고분자는 (메트)아크릴계 폴리올의 히드록시기(-OH)에 대한 실록산계 고분자의 실란 작용기(Si-H)의 몰 비율(SiH/OH)이 1.5 내지 4가 되도록 포함될 수 있다. The (meth)acrylic polyol and the siloxane polymer are included so that the molar ratio (SiH/OH) of the silane functional group (Si-H) of the siloxane polymer to the hydroxyl group (-OH) of the (meth)acrylic polyol is 1.5 to 4. You can.

상기 (메트)아크릴계 폴리올의 히드록시기에 대한 실록산계 고분자의 실란 작용기의 몰 비율(이하, 간략하게 SiH/OH 몰 비율로 호칭)은 각 중합체의 무게와 각 중합체의 해당 작용기 당량으로부터 확인되는 작용기 몰 수로부터 계산할 수 있다. The molar ratio of the silane functional group of the siloxane-based polymer to the hydroxyl group of the (meth)acrylic polyol (hereinafter, simply referred to as SiH/OH molar ratio) is the number of moles of functional groups determined from the weight of each polymer and the corresponding functional group equivalent of each polymer. It can be calculated from

구체적으로, 실록산계 고분자의 실란 작용기 당량은 상기 실록산계 고분자의 분자량(예컨대, 수평균분자량)을 1 분자당 실란 작용기의 수로 나눈 값이고, 상기 (메트)아크릴계 폴리올의 수산기 당량은 상기 (메트)아크릴계 폴리올의 분자량(예컨대, 중량평균분자량)을 1 분자당 히드록시 작용기의 수로 나눈 값이다. 따라서, 실록산계 고분자의 무게를 실록산계 고분자의 실란 작용기 당량으로 나누면 실란 작용기의 몰 수를 확인할 수 있고, (메트)아크릴계 폴리올의 무게를 (메트)아크릴계 폴리올의 수산기 당량으로 나누면 히드록시기의 몰 수를 확인할 수 있다. 보다 구체적으로, 후술하는 실시예 1을 예로 들면, 실시예 1에서 사용된 실록산계 고분자의 무게(2.6 g)를 실시예 1에서 사용된 실록산계 고분자의 실란 작용기 당량(103 g/equivanlent)으로 나누면 실란 작용기의 몰 수(0.0252 mol)가 계산되며, 실시예 1에서 사용된 (메트)아크릴계 폴리올의 무게(22.4 g)를 실시예 1에서 사용된 (메트)아크릴계 폴리올의 수산기 당량(1802 g/equivanlent)으로 나누면 히드록시기의 몰 수(0.0124 mol)가 계산된다. 이렇게 계산된 실란 작용기의 몰 수(0.0252 mol)를 히드록시기의 몰 수(0.0124 mol)로 나누면 SiH/OH 몰 비율은 2로 계산되는 것이 확인된다.Specifically, the silane functional group equivalent of the siloxane-based polymer is the molecular weight (e.g., number average molecular weight) of the siloxane-based polymer divided by the number of silane functional groups per molecule, and the hydroxyl equivalent of the (meth)acrylic polyol is the (meth) It is a value obtained by dividing the molecular weight (e.g., weight average molecular weight) of the acrylic polyol by the number of hydroxy functional groups per molecule. Therefore, the number of moles of silane functional groups can be confirmed by dividing the weight of the siloxane-based polymer by the equivalent weight of the silane functional group of the siloxane-based polymer, and by dividing the weight of the (meth)acrylic polyol by the equivalent weight of the hydroxyl group of the (meth)acrylic polyol, the number of moles of hydroxy groups can be determined. You can check it. More specifically, taking Example 1 described below as an example, dividing the weight (2.6 g) of the siloxane-based polymer used in Example 1 by the silane functional group equivalent of the siloxane-based polymer used in Example 1 (103 g/equivanlent) The number of moles of the silane functional group (0.0252 mol) is calculated, and the weight (22.4 g) of the (meth)acrylic polyol used in Example 1 is calculated as the hydroxyl equivalent of the (meth)acrylic polyol used in Example 1 (1802 g/equivanlent). ) to calculate the number of moles of hydroxyl group (0.0124 mol). By dividing the calculated number of moles of silane functional group (0.0252 mol) by the number of moles of hydroxy group (0.0124 mol), it is confirmed that the SiH/OH molar ratio is calculated as 2.

상기 SiH/OH 몰 비율의 하한은 예를 들어, 1.6 이상, 1.7 이상, 1.8 이상, 1.9 이상 또는 2.0 이상일 수 있고, 그 상한은 예를 들어 3.9 이하, 3.8 이하, 3.7 이하, 3.6 이하 또는 3.5 이하일 수 있다. 상기 SiH/OH 몰 비율 범위를 만족하는 경우 고분자 매트릭스가 적절한 가교 밀도로 가교되어 기록을 위한 성분들(예컨대, 광반응성 단량체 및 가소제 등)의 유동성을 향상시켜 우수한 광학 기록 특성을 확보할 수 있고, 기록 전 후 고온 및/또는 고습 환경에 놓이더라도 포토폴리머 층 내 성분들이 이행 또는 변형되거나 수분 등이 포토폴리머 층으로 침투하는 것을 억제하여 우수한 내열성 또는 내습열성 등을 나타낼 수 있다. The lower limit of the SiH/OH molar ratio may be, for example, 1.6 or more, 1.7 or more, 1.8 or more, 1.9 or more, or 2.0 or more, and the upper limit may be, for example, 3.9 or less, 3.8 or less, 3.7 or less, 3.6 or less, or 3.5 or less. You can. When the above SiH/OH molar ratio range is satisfied, the polymer matrix is crosslinked at an appropriate crosslinking density to improve the fluidity of recording components (e.g., photoreactive monomers and plasticizers, etc.) to ensure excellent optical recording characteristics, Even if placed in a high temperature and/or high humidity environment before and after recording, the components in the photopolymer layer can be prevented from moving or deforming or moisture from penetrating into the photopolymer layer, thereby showing excellent heat resistance or moisture heat resistance.

상기 실란계 고분자와 상기 (메트)아크릴계 폴리올을 가교하는데에는 Pt 계열 촉매가 사용될 수 있다. 사용되는 Pt 계열 촉매는 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어, Karstedt's catalyst 등일 수 있다.A Pt-based catalyst may be used to crosslink the silane-based polymer and the (meth)acrylic-based polyol. The Pt-based catalyst used is not particularly limited, but may be, for example, Karstedt's catalyst.

상기 Pt 계열 촉매는 상기 (메트)아크릴계 폴리올 100 중량부에 대하여 0.01 내지 2 중량부로 포함될 수 있다. 구체적으로, 상기 Pt 계열 촉매는, 예를 들어, 상기 (메트)아크릴계 폴리올 100 중량부에 대하여 0.02 중량부 이상, 0.03 중량부 이상, 0.04 중량부 이상, 0.05 중량부 이상 또는 0.06 중량부 이상이고, 1.5 중량부 이하, 1.0 중량부 이하, 0.5 중량부 이하, 0.3 중량부 이하, 0.2 중량부 이하, 0.15 중량부 이하, 0.14 중량부 이하, 0.13 중량부 이하 또는 0.12 중량부 이하로 포함될 수 있다. 상기 Pt 계열 촉매가 상술한 함량으로 사용되는 경우 고분자 매트릭스가 적절한 가교 밀도로 가교되어 목적하는 광학 기록 특성을 나타낼 수 있다.The Pt-based catalyst may be included in an amount of 0.01 to 2 parts by weight based on 100 parts by weight of the (meth)acrylic polyol. Specifically, the Pt-based catalyst is, for example, 0.02 part by weight, 0.03 part by weight, 0.04 part by weight, 0.05 part by weight, or 0.06 part by weight, based on 100 parts by weight of the (meth)acrylic polyol, It may be included in 1.5 parts by weight or less, 1.0 parts by weight or less, 0.5 parts by weight or less, 0.3 parts by weight or less, 0.2 parts by weight or less, 0.15 parts by weight or less, 0.14 parts by weight or less, 0.13 parts by weight or less, or 0.12 parts by weight or less. When the Pt-based catalyst is used in the above-mentioned amount, the polymer matrix can be crosslinked at an appropriate crosslinking density to exhibit desired optical recording characteristics.

상기 고분자 매트릭스 전구체는, 필요에 따라, Pt 계열 촉매 외에 Rhodium 계열, Iridium 계열, Rhenium 계열, Molybdenum 계열, Iron 계열, Nickel 계열, 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 계열, Lewis acids 계열 또는 Carbene 계열의 비금속 계열의 촉매 등을 추가로 포함할 수 있다.The polymer matrix precursor may, if necessary, be a Rhodium-based, Iridium-based, Rhenium-based, Molybdenum-based, Iron-based, Nickel-based, alkali metal or alkaline earth metal-based, Lewis acids-based or Carbene-based non-metallic catalyst in addition to the Pt-based catalyst. etc. may be additionally included.

한편, 본 출원에 관한 구체예에 따르면, 홀로그램 기록 매체 제조시에는 포토폴리머(층)에 물체광과 참조광을 조사하여 광학 정보를 기록할 수 있다. 이러한 물체광과 참조광의 간섭장에 의해 상쇄 간섭 영역에서는 광반응성 단량체의 광중합이 일어나지 않고 보강 간섭 영역에서는 광반응성 단량체의 광중합이 일어나게 된다. 보강 간섭 영역에서 광반응성 단량체가 지속적으로 소모됨에 따라 상쇄 간섭 영역과 보강 간섭 영역에서 광반응성 단량체 간 농도 차이가 발생하게 되고, 그 결과 상쇄 간섭 영역의 광반응성 단량체가 보강 간섭 영역으로 확산하게 된다. 이렇게 발생한 굴절률 변조에 의해 회절 격자가 생성된다. Meanwhile, according to a specific example related to the present application, when manufacturing a hologram recording medium, optical information can be recorded by irradiating object light and reference light to the photopolymer (layer). Due to the interference field between the object light and the reference light, photopolymerization of the photoreactive monomer does not occur in the destructive interference area, but photopolymerization of the photoreactive monomer occurs in the constructive interference area. As the photoreactive monomer is continuously consumed in the constructive interference area, a concentration difference occurs between the photoreactive monomers in the destructive interference area and the constructive interference area, and as a result, the photoreactive monomer in the destructive interference area diffuses into the constructive interference area. A diffraction grating is created by the refractive index modulation that occurs in this way.

따라서, 광반응성 단량체는 상술한 굴절률 변조를 구현하기 위해 고분자 매트릭스 보다 높은 굴절률을 가지는 화합물을 포함할 수 있다. 다만, 모든 광반응성 단량체가 고분자 매트릭스 보다 높은 굴절률을 가지는 것에 한정되는 것은 아니고, 높은 굴절률 변조값을 구현할 수 있도록 적어도 일부의 광반응성 단량체가 고분자 매트릭스 보다 높은 굴절률을 가질 수 있다. 일 예로, 상기 광반응성 단량체는 굴절률이 1.50 이상, 1.51 이상, 1.52 이상, 1.53 이상, 1.54 이상, 1.55 이상, 1.56 이상, 1.57 이상, 1.58 이상, 1.59 이상 또는 1.60 이상이면서 1.70 이하인 단량체를 포함할 수 있다.Accordingly, the photoreactive monomer may include a compound having a higher refractive index than the polymer matrix in order to implement the above-described refractive index modulation. However, all photoreactive monomers are not limited to having a higher refractive index than the polymer matrix, and at least some of the photoreactive monomers may have a higher refractive index than the polymer matrix so that a high refractive index modulation value can be realized. As an example, the photoreactive monomer may include a monomer with a refractive index of 1.50 or more, 1.51 or more, 1.52 or more, 1.53 or more, 1.54 or more, 1.55 or more, 1.56 or more, 1.57 or more, 1.58 or more, 1.59 or more, or 1.60 or more and 1.70 or less. there is.

하나의 예시에서, 상기 광 반응성 단량체는 1 개의 광반응성 관능기를 가지는 단관능 단량체 및 2 개 이상의 광반응성 관능기를 가지는 다관능 단량체로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상의 단량체를 포함할 수 있다. 이때, 상기 광반응성 관능기는, 예를 들면, (메트)아크릴로일기, 비닐기 또는 티올기 등일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 광반응성 관능기는 (메트)아크릴로일기일 수 있다.In one example, the photoreactive monomer may include one or more monomers selected from the group consisting of a monofunctional monomer having one photoreactive functional group and a polyfunctional monomer having two or more photoreactive functional groups. At this time, the photoreactive functional group may be, for example, a (meth)acryloyl group, a vinyl group, or a thiol group. More specifically, the photoreactive functional group may be a (meth)acryloyl group.

상기 단관능 단량체는, 예를 들면, 벤질 (메트)아크릴레이트(Miwon社의 M1182 굴절률 1.5140), 벤질 2-페닐아크릴레이트, 페녹시벤질 (메트)아크릴레이트(Miwon社의 M1122 굴절률 1.565), 페놀 (에틸렌 옥사이드) (메트)아크릴레이트(phenol (EO) (meth)acrylate; Miwon社의 M140 굴절률 1.516), 페놀 (에틸렌 옥사이드)2 (메트)아크릴레이트(phenol (EO)2 (meth)acrylate; Miwon社의 M142 굴절률 1.510), O-페닐페놀 (에틸렌 옥사이드) (메트)아크릴레이트(O-phenylphenol (EO) (meth)acrylate; Miwon社의 M1142 굴절률 1.577), 페닐티오에틸 (메트)아크릴레이트(Miwon社의 M1162 굴절률 1.560) 및 비페닐메틸 (메트)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상을 포함할 수 있다. The monofunctional monomers include, for example, benzyl (meth)acrylate (Miwon's M1182 refractive index 1.5140), benzyl 2-phenylacrylate, phenoxybenzyl (meth)acrylate (Miwon's M1122 refractive index 1.565), and phenol. (ethylene oxide) (meth)acrylate (phenol (EO) (meth)acrylate; Miwon's M140 refractive index 1.516), phenol (ethylene oxide) 2 (meth)acrylate (phenol (EO) 2 (meth)acrylate; Miwon Miwon's M142 refractive index 1.510), O -phenylphenol (ethylene oxide) (meth)acrylate ( O -phenylphenol (EO) (meth)acrylate; Miwon's M1142 refractive index 1.577), phenylthioethyl (meth)acrylate (Miwon It may include at least one member selected from the group consisting of the company's M1162 refractive index 1.560) and biphenylmethyl (meth)acrylate.

상기 다관능 단량체는, 예를 들면, 비스페놀 A (에틸렌 옥사이드)2~10 디(메트)아크릴레이트(bisphenol A (EO)2~10 (meth)acrylate; Miwon社의 M240 굴절률 1.537, M241 굴절률 1.529, M244 굴절률 1.545, M245 굴절률 1.537, M249 굴절률 1.542, M2100 굴절률 1.516, M2101 굴절률 1.512), 비스페놀 A 에폭시 디(메트)아크릴레이트(Miwon社의 PE210 굴절률 1.557, PE2120A 굴절률 1.533, PE2120B 굴절률 1.534, PE2020C 굴절률 1.539, PE2120S 굴절률 1.556), 비스플루오렌 디(메트)아크릴레이트(Miwon社의 HR6022 굴절률 1.600, HR6040 굴절률 1.600, HR6042 굴절률 1.600), 변형된 비스페놀 플루오렌 디(메트)아크릴레이트(Miwon社의 HR 6060 굴절률 1.584, HR6100 굴절률 1.562, HR6200 굴절률 1.530), 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리(메트)아크릴레이트(Miwon社의 M370 굴절률 1.508), 페놀 노볼락 에폭시 (메트)아크릴레이트(Miwon社의 SC6300 굴절률 1.525) 및 크레졸 노볼락 에폭시 (메트)아크릴레이트(Miwon社의 SC6400 굴절률 1.522, SC6400C 굴절률 1.522)로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상을 포함할 수 있다.The multifunctional monomer is, for example, bisphenol A (ethylene oxide) 2-10 di(meth)acrylate (bisphenol A (EO) 2-10 (meth)acrylate; Miwon's M240 refractive index 1.537, M241 refractive index 1.529, M244 refractive index 1.545, M245 refractive index 1.537, M249 refractive index 1.542, M2100 refractive index 1.516, M2101 refractive index 1.512), Bisphenol A epoxy di(meth)acrylate (Miwon's PE210 refractive index 1.557, PE2120A refractive index 1.5 33, PE2120B refractive index 1.534, PE2020C refractive index 1.539, PE2120S refractive index 1.556), bisfluorene di(meth)acrylate (Miwon's HR6022 refractive index 1.600, HR6040 refractive index 1.600, HR6042 refractive index 1.600), modified bisphenol fluorene di(meth)acrylate (Miwon's HR 6060 refractive index 1.584) , HR6100 refractive index 1.562, HR6200 refractive index 1.530), tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate tri(meth)acrylate (Miwon's M370 refractive index 1.508), phenol novolak epoxy (meth)acrylate (Miwon's) It may include one or more selected from the group consisting of (SC6300 refractive index 1.525) and cresol novolak epoxy (meth)acrylate (Miwon's SC6400 refractive index 1.522, SC6400C refractive index 1.522).

상기 포토폴리머(또는 포토폴리머 층) 조성물은 광반응성 단량체를 상기 고분자 매트릭스 100 중량부에 대하여 50 내지 300 중량부로 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 광반응성 단량체의 함량 하한은 50 중량부 이상, 70 중량부 이상, 100 중량부 이상 또는 120 중량부 이상일 수 있고, 그 상한은 300 중량부 이하,270 중량부 이하, 250 중량부 이하 또는 220 중량부 이하일 수 있다. 이때, 기준이 되는 고분자 매트릭스의 함량은, 매트릭스를 형성하는 (메트)아크릴계 폴리올과 실록산계 고분자의 함량(중량)을 합한 함량을 의미한다. 상기 범위를 만족하는 경우, 우수한 광학 기록 특성을 나타낼 수 있다.The photopolymer (or photopolymer layer) composition may include 50 to 300 parts by weight of a photoreactive monomer based on 100 parts by weight of the polymer matrix. For example, the lower limit of the content of the photoreactive monomer may be 50 parts by weight or more, 70 parts by weight or more, 100 parts by weight or more, or 120 parts by weight or more, and the upper limit is 300 parts by weight or less, 270 parts by weight or less, and 250 parts by weight or less. It may be less than or equal to 220 parts by weight. At this time, the content of the polymer matrix, which is the standard, means the content (weight) of the (meth)acrylic polyol and siloxane-based polymer forming the matrix. When the above range is satisfied, excellent optical recording characteristics can be exhibited.

하나의 예시에서, 상기 포토폴리머(또는 포토폴리머 층) 조성물은 가소제를 더 포함할 수 있다. 가소제가 포토폴리머에 첨가되는 경우 홀로그램의 기록 시에 보다 용이하게 굴절률 변조를 구현할 수 있다. 보다 구체적으로, 가소제는 고분자 매트릭스의 유리전이온도를 낮추어 광반응성 단량체의 유동성을 향상시키고, 저굴절률 및 비반응성 특성을 가져 고분자 매트릭스 내에 균일하게 분포되어 있다가 광중합되지 않은 광반응성 단량체가 이동하는 경우에 이와 반대되는 방향으로 이동하여 굴절률 변조에 기여할 수 있다. 또한, 가소제는 포토폴리머 조성물의 성형성 향상에도 기여할 수 있다. In one example, the photopolymer (or photopolymer layer) composition may further include a plasticizer. When a plasticizer is added to the photopolymer, refractive index modulation can be more easily implemented when recording a hologram. More specifically, the plasticizer improves the fluidity of the photoreactive monomer by lowering the glass transition temperature of the polymer matrix, and has a low refractive index and non-reactive properties, so it is uniformly distributed within the polymer matrix and then moves when the unphotoreactive monomer moves. It can contribute to refractive index modulation by moving in the opposite direction. Additionally, plasticizers can contribute to improving the moldability of photopolymer compositions.

이러한 가소제로는 불소계 화합물이 사용될 수 있다.Fluorine-based compounds may be used as such plasticizers.

상기 불소계 화합물은 상술한 가소제 기능을 수행하기 위해, 1.45 이하의 낮은 굴절률을 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 굴절률의 상한은 예를 들어 1.44 이하, 1.43 이하, 1.42 이하, 1.41 이하, 1.40 이하, 1.40 이하, 1.39 이하, 1.38 이하 또는 1.37 이하일 수 있고, 상기 굴절률의 하한은 예를 들어, 1.30 이상, 1.31 이상, 1.32 이상, 1.33 이상, 1.34 이상 또는 1.35 이상일 수 있다. 상술한 광반응성 단량체 보다 낮은 굴절률을 갖는 불소계 화합물을 사용하기 때문에, 고분자 매트릭스의 굴절률을 보다 낮출 수 있고, 광반응성 단량체와의 굴절률 변조를 보다 크게 할 수 있다. The fluorine-based compound may have a low refractive index of 1.45 or less in order to perform the above-described plasticizer function. Specifically, the upper limit of the refractive index may be, for example, 1.44 or less, 1.43 or less, 1.42 or less, 1.41 or less, 1.40 or less, 1.40 or less, 1.39 or less, 1.38 or less, or 1.37 or less, and the lower limit of the refractive index may be, for example, 1.30 or less. It may be 1.31 or more, 1.32 or more, 1.33 or more, 1.34 or more, or 1.35 or more. Since a fluorine-based compound having a lower refractive index than the photoreactive monomer described above is used, the refractive index of the polymer matrix can be lowered, and the refractive index modulation with the photoreactive monomer can be increased.

상기 불소계 화합물은, 예를 들면, 에테르기, 에스테르기 및 아미드기로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상의 작용기 및 2 이상의 디플루오로메틸렌기를 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 불소계 화합물은 일 예로, 하기 화학식 5으로 표시되는 반복 단위를 포함하는 화합물일 수 있다.The fluorine-based compound may include, for example, one or more functional groups selected from the group consisting of an ether group, an ester group, and an amide group, and two or more difluoromethylene groups. More specifically, the fluorine-based compound may be, for example, a compound containing a repeating unit represented by the following formula (5).

[화학식 5][Formula 5]

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 화학식 5에서, In Formula 5 above,

복수의 R31 내지 R34는 각각 독립적으로 수소 또는 불소이고, 적어도 R31 내지 R34 중 어느 하나는 불소이며, m은 2 내지 12의 정수이다. A plurality of R 31 to R 34 are each independently hydrogen or fluorine, at least one of R 31 to R 34 is fluorine, and m is an integer of 2 to 12.

상기 불소계 화합물은, 보다 구체적으로, 하기 화학식 5-1로 표시되는 단위를 1 내지 3개 포함하는 화합물일 수 있다. More specifically, the fluorine-based compound may be a compound containing 1 to 3 units represented by the following Chemical Formula 5-1.

[화학식 5-1][Formula 5-1]

Figure pat00006
Figure pat00006

상기 화학식 5-1에서, In Formula 5-1,

R41 내지 R44 및 R53 내지 R56은 각각 독립적으로 수소 또는 불소이고, R45 내지 R52는 불소이다. R 41 to R 44 and R 53 to R 56 are each independently hydrogen or fluorine, and R 45 to R 52 are fluorine.

일 예로, 상기 화학식 5-1에서, R41, R42, R55 및 R56은 수소이고, R43 내지 R54는 불소이다. For example, in Formula 5-1, R 41 , R 42 , R 55 and R 56 are hydrogen, and R 43 to R 54 are fluorine.

상기 화학식 5 및 5-1로 표시되는 (반복) 단위를 포함하는 불소계 화합물은 특별히 한정되지 않으나, 관련 기술 분야에서 널리 사용되는 말단 캡핑제(end capping agent)로 캡핑될 수 있다. 일 예로, 상기 화학식 5 및 5-1로 표시되는 (반복) 단위를 포함하는 불소계 화합물의 말단은 알킬기 또는 1 개 이상의 알콕시로 치환된 알킬기일 수 있다. 비제한적인 예로, 말단 캡핑제로서 2-메톡시에톡시메틸 클로라이드를 사용하여 상기 화학식 5 및 5-1로 표시되는 (반복) 단위를 포함하는 불소계 화합물의 말단은 2-메톡시에톡시메틸기일 수 있다. Fluorine-based compounds containing (repeating) units represented by Formulas 5 and 5-1 are not particularly limited, but may be capped with an end capping agent widely used in the related technical field. As an example, the terminal of the fluorine-based compound containing the (repeating) unit represented by Formulas 5 and 5-1 may be an alkyl group or an alkyl group substituted with one or more alkoxy. As a non-limiting example, using 2-methoxyethoxymethyl chloride as an end capping agent, the terminal of the fluorine-based compound containing (repeating) units represented by Formulas 5 and 5-1 is a 2-methoxyethoxymethyl group. You can.

상기 불소계 화합물은 중량평균분자량이 300 이상일 수 있다. 구체적으로, 불소계 화합물의 중량평균분자량 하한은 예를 들어, 350 이상, 400 이상, 450 이상, 500 이상 또는 550 이상일 수 있고, 그 상한은 예를 들어, 1000 이하, 900 이하, 800 이하, 700 이하 또는 600 이하일 수 있다. 굴절률 변조, 다른 성분과의 상용성, 불소계 화합물의 용출 문제 등을 고려할 때, 상기 중량평균분자량 범위를 만족하는 것이 바람직하다. 이때, 상기 중량평균분자량은, 상술한 바와 같은 GPC법에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량을 의미한다.The fluorine-based compound may have a weight average molecular weight of 300 or more. Specifically, the lower limit of the weight average molecular weight of the fluorine-based compound may be, for example, 350 or more, 400 or more, 450 or more, 500 or more, or 550 or more, and the upper limit may be, for example, 1000 or less, 900 or less, 800 or less, and 700 or less. Or it may be 600 or less. Considering refractive index modulation, compatibility with other components, and dissolution problems of fluorine-based compounds, it is preferable to satisfy the above weight average molecular weight range. At this time, the weight average molecular weight means the weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by the GPC method as described above.

상기 포토폴리머(또는 폴토폴리머 층) 조성물은 상기 고분자 매트릭스 100 중량부에 대하여 상기 불소계 화합물을 20 내지 200 중량부로 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 불소계 화합물의 함량 하한은 예를 들어, 25 중량부 이상, 30 중량부 이상, 40 중량부 이상, 50 중량부 이상, 60 중량부 이상, 70 중량부 이상 또는 80 중량부 이상일 수 있고, 그 상한은 예를 들어, 190 중량부 이하, 180 중량부 이하, 170 중량부 이하, 160 중량부 이하 또는 150 중량부 이하일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 포토폴리머 층에 포함되는 성분들과 상용성이 나빠져 일부 불소계 화합물이 포토폴리머 층 표면으로 용출되거나 헤이즈가 나빠지는 등의 문제없이 충분한 저굴절률을 갖는 불소계 화합물로 인해 기록 후 큰 굴절률 변조값을 나타낼 수 있어 우수한 광학 기록 특성을 확보하는데 유리하다.The photopolymer (or photopolymer layer) composition may include 20 to 200 parts by weight of the fluorine-based compound based on 100 parts by weight of the polymer matrix. Specifically, the lower limit of the content of the fluorine-based compound may be, for example, 25 parts by weight or more, 30 parts by weight or more, 40 parts by weight or more, 50 parts by weight or more, 60 parts by weight or more, 70 parts by weight or more, or 80 parts by weight or more. , the upper limit may be, for example, 190 parts by weight or less, 180 parts by weight or less, 170 parts by weight or less, 160 parts by weight or less, or 150 parts by weight or less. When the above range is satisfied, the fluorine-based compound has a sufficiently low refractive index without problems such as poor compatibility with the components included in the photopolymer layer, causing some fluorine-based compounds to elute to the surface of the photopolymer layer or worsen haze after recording. It can exhibit a large refractive index modulation value, which is advantageous in securing excellent optical recording characteristics.

상기 포토폴리머(또는 포토폴리머 층) 조성물은 광개시제계를 포함한다. 상기 광개시제계란 광에 의해 중합을 개시할 수 있도록 하는 광개시제(photoinitiator) 또는 광감작제(photosensitizer)와 공개시제(coinitiator)의 조합을 의미할 수 있다. 예를 들어, 상기 포토폴리머(또는 포토폴리머 층) 조성물은 광개시제계로서 광감작제와 공개시제를 포함할 수 있다.The photopolymer (or photopolymer layer) composition includes a photoinitiator system. The photoinitiator system may refer to a combination of a photoinitiator or a photosensitizer and a coinitiator that allows polymerization to be initiated by light. For example, the photopolymer (or photopolymer layer) composition may include a photosensitizer and a coinitiator as a photoinitiator system.

상기 조성물에 포함되는 광개시제계는 광에 의해 중합을 개시할 수 있도록 하는 성분으로서, 상술한 화학식 1의 음이온 및 화학식 2의 양이온을 포함하는 화합물 외에, 다른 성분을 추가로 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 광개시제계는 광감작제(photosensitizer)와 개시제를 포함할 수 있다. 이때, 상술한 화학식 1의 음이온 및 화학식 2의 양이온을 포함하는 화합물은 (공)개시제 또는 그 일 성분으로 볼 수 있다.The photoinitiator system included in the composition is a component that allows polymerization to be initiated by light, and may further include other components in addition to the compound containing the anion of Formula 1 and the cation of Formula 2 described above. For example, the photoinitiator system may include a photosensitizer and an initiator. At this time, the compound containing the anion of Formula 1 and the cation of Formula 2 described above can be viewed as a (co)initiator or a component thereof.

상기 광감작제로는, 예를 들면, 광감응 염료가 사용될 수 있다. 상기 광감응 염료는 광개시제를 증감시키는 증감 색소의 역할을 한다. 구체적으로 상기 광감응 염료는 상기 조성물에 조사된 빛에 의하여 자극되어 광 반응성 단량체 등의 중합을 개시하는 개시제의 역할도 함께 할 수 있다.As the photosensitizer, for example, a photosensitivity dye may be used. The photosensitive dye serves as a sensitizing dye that increases or decreases the photoinitiator. Specifically, the photosensitive dye can also serve as an initiator to initiate polymerization of photoreactive monomers by being stimulated by light irradiated to the composition.

구체적으로 상기 광감응 염료로는, 예를 들면, 실리콘 로다민(silicon rhodamine) 화합물, 세라미도닌의 설포늄 유도체, 뉴 메틸렌 블루(new methylene blue), 티오에리트로신 트리에틸암모늄(thioerythrosine triethylammonium), 6-아세틸아미노-2-메틸세라미도닌(6-acetylamino-2-methylceramidonin), 에오신(eosin), 에리트로신(erythrosine), 로즈 벵갈(rose bengal), 티오닌(thionine), 베이직 옐로우(basic yellow), 피나시놀 클로라이드(Pinacyanol chloride), 로다민 6G(rhodamine 6G), 갈로시아닌(gallocyanine), 에틸 바이올렛(ethyl violet), 빅토리아 블루 R(Victoria blue R), 셀레스틴 블루(Celestine blue), 퀴날딘 레드(QuinaldineRed), 크리스탈 바이올렛(crystal violet), 브릴리언트 그린(Brilliant Green), 아스트라존 오렌지 G(Astrazon orange G), 다로우 레드(darrow red), 피로닌 Y(pyronin Y), 베이직 레드 29(basic red 29), 피릴륨I(pyrylium iodide), 사프라닌 O(Safranin O), 시아닌, 메틸렌 블루, 아주레 A(Azure A) 및 보디피(BODIPY)로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상을 사용할 수 있다.Specifically, the photosensitive dyes include, for example, silicon rhodamine compounds, sulfonium derivatives of ceramidonin, new methylene blue, thioerythrosine triethylammonium, 6-acetylamino-2-methylceramidonin, eosin, erythrosine, rose bengal, thionine, basic yellow ), Pinacyanol chloride, rhodamine 6G, gallocyanine, ethyl violet, Victoria blue R, Celestine blue, Quinaldine Red, crystal violet, brilliant green, Astrazon orange G, darrow red, pyronin Y, basic red 29 (basic red 29), pyrylium iodide, Safranin O, cyanine, methylene blue, Azure A and BODIPY. You can use it.

일 예로, 상기 광감응 염료로는 하기 화학식 6으로 표시되는 실리콘 로다민 화합물이 사용될 수 있다. As an example, a silicon rhodamine compound represented by the following formula (6) may be used as the photosensitive dye.

[화학식 6][Formula 6]

Figure pat00007
Figure pat00007

상기 화학식 6에서, In Formula 6 above,

R21 내지 R29는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴옥시기이고, R 21 to R 29 are each independently hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or It is a substituted or unsubstituted aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms,

d 및 e는 각각 독립적으로 0 내지 3의 정수이고, d and e are each independently integers from 0 to 3,

f는 0 내지 5의 정수이며, f is an integer from 0 to 5,

An-은 음이온이다. An - is an anion.

상기 화학식 6과 관련하여 「치환 또는 비치환된」이란, 수소 또는 탄소가 다른 원소로 치환된 것으로, 수소는 할로겐, 히드록시기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 1 내지 10의 알콕시기로 치환될 수 있고, 탄소(-CH2-)는 -O- 또는 -CO-로 치환될 수 있다. In relation to Formula 6, “substituted or unsubstituted” means that hydrogen or carbon is replaced with another element, and hydrogen may be substituted with a halogen, a hydroxy group, an alkyl group with 1 to 10 carbon atoms, or an alkoxy group with 1 to 10 carbon atoms, , carbon (-CH 2 -) may be substituted with -O- or -CO-.

하나의 예시에서, 상기 화학식 6의 R21 내지 R28은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기일 수 있다. 구체적으로, 상기 화학식 6에서 R21 내지 R28은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6의 알킬기일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 화학식 6에서 R21 내지 R28은 메틸기일 수 있다. In one example, R 21 to R 28 in Formula 6 may each independently be a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Specifically, in Formula 6, R 21 to R 28 may each independently be an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. More specifically, in Formula 6, R 21 to R 28 may be a methyl group.

하나의 예시에서, 상기 화학식 6의 d 및 e는 각각 독립적으로 0 내지 2의 정수, 0 내지 1의 정수 또는 0 일 수 있다. In one example, d and e in Formula 6 may each independently be an integer of 0 to 2, an integer of 0 to 1, or 0.

하나의 예시에서, 상기 화학식 6의 f는 0 내지 5의 정수, 0 내지 4의 정수, 0 내지 3의 정수, 0 내지 2의 정수 또는 1 내지 2의 정수일 수 있다. In one example, f in Formula 6 may be an integer of 0 to 5, an integer of 0 to 4, an integer of 0 to 3, an integer of 0 to 2, or an integer of 1 to 2.

하나의 예시에서, 상기 화학식 6의 R29는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알콕시기일 수 있다. 구체적으로, 상기 화학식 6에서 R29는 탄소수 1 내지 6의 알콕시기일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 화학식 6에서 R29는 메톡시기일 수 있다. In one example, R 29 in Formula 6 may be a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Specifically, in Formula 6, R 29 may be an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. More specifically, in Formula 6, R 29 may be a methoxy group.

하나의 예시에서, 상기 화학식 6의 음이온(An-)은 할라이드 음이온, 시아노 음이온, 설포네이트 음이온, 탄소수 1 내지 30의 알콕시 음이온, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬 설포네이트 음이온, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 방향족 설포네이트 음이온, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 방향족 보레이트 음이온일 수 있다. In one example, the anion (An - ) of Formula 6 is a halide anion, a cyano anion, a sulfonate anion, an alkoxy anion having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkyl sulfonate anion having 1 to 30 carbon atoms, or a substituted anion. Alternatively, it may be an unsubstituted aromatic sulfonate anion having 6 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aromatic borate anion having 6 to 30 carbon atoms.

구체적으로, 상기 화학식 6의 음이온(An-)은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬 설포네이트 음이온, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 방향족 설포네이트 음이온, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 방향족 보레이트 음이온일 수 있다. Specifically, the anion (An - ) of Formula 6 is a substituted or unsubstituted alkyl sulfonate anion having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aromatic sulfonate anion having 6 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted carbon number. It may be 6 to 30 aromatic borate anions.

보다 구체적으로, 상기 화학식 6에서 음이온(An-)은 하나 이상의 수소가 불소로 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 15의 알킬 설포네이트 음이온, 하나 이상의 탄소가 -O- 또는 -CO-로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 알킬 설포네이트 음이온, 메틸로 치환 또는 비치환된 페닐 설포네이트 음이온, 또는 치환 또는 비치환된 테트라아릴보레이트 음이온일 수 있다. 일 예로, 상기 화학식 6에서 음이온(An-)은 도데실 설포네이트 음이온, 퍼플루오로부틸 설포네이트 음이온, 페닐 설포네이트 음이온, 메틸페닐 설포네이트 음이온,

Figure pat00008
또는 테트라페닐보레이트 음이온일 수 있다.More specifically, in Formula 6, the anion (An - ) is an alkyl sulfonate anion having 2 to 15 carbon atoms in which at least one hydrogen is substituted or unsubstituted with fluorine, and at least one carbon is substituted or unsubstituted with -O- or -CO-. It may be a ringed alkyl sulfonate anion having 6 to 30 carbon atoms, a methyl-substituted or unsubstituted phenyl sulfonate anion, or a substituted or unsubstituted tetraaryl borate anion. For example, in Formula 6, the anion (An - ) is a dodecyl sulfonate anion, a perfluorobutyl sulfonate anion, a phenyl sulfonate anion, a methylphenyl sulfonate anion,
Figure pat00008
Or it may be a tetraphenylborate anion.

광감응 염료로서 상술한 실리콘 로다민 화합물을 사용하는 경우, 상술한 전자 공여체와 광감응 염료의 조합은 상술한 범위의 반응 에너지를 나타내 우수한 경시 안정성을 확보하면서 동시에 우수한 감도를 나타내 홀로그램 기록 매체의 제반 물성인 회절 효율, 굴절률 변조값, 이미지 재현성, 각도 선택성 등이 우수한 특징을 나타낼 수 있다.When using the above-described silicon rhodamine compound as a photosensitive dye, the combination of the above-described electron donor and the photosensitive dye exhibits a reaction energy in the above-mentioned range, ensuring excellent stability over time and at the same time showing excellent sensitivity, which can be used in all aspects of holographic recording media. It can exhibit excellent properties such as diffraction efficiency, refractive index modulation value, image reproducibility, and angle selectivity.

상기 포토폴리머(또는 포토폴리머 층) 조성물은 상기 고분자 매트릭스 100 중량부에 대하여 상기 광감응 염료를 0.01 내지 10 중량부 범위로 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 광감응 염료의 함량 하한은 예를 들어, 0.02 중량부 이상, 0.03 중량부 이상 또는 0.05 중량부 이상일 수 있고, 그 상한은 예를 들어, 5 중량부 이하일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 적절한 중합 반응 속도를 나타내 목적하는 광학 기록 특성을 확보하는데 유리하다.The photopolymer (or photopolymer layer) composition may include the photosensitive dye in the range of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer matrix. Specifically, the lower limit of the content of the photosensitive dye may be, for example, 0.02 parts by weight or more, 0.03 parts by weight or more, or 0.05 parts by weight or more, and the upper limit may be, for example, 5 parts by weight or less. When the above range is satisfied, it is advantageous to secure the desired optical recording characteristics by showing an appropriate polymerization reaction rate.

하나의 예시에서, 상기 (공)개시제는 전자 공여체(electron donor), 전자 수용체(electron acceptor) 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 이때, 전자 공여체로는 상술한 화학식 1의 음이온 및 화학식 2의 양이온을 포함하는 화합물이 사용될 수 있다. 이러한 전자 공여체는 상술한 광감응 염료와 특정 반응 에너지를 낼 수 있다. 이를 통해 홀로그램 기록 매체는 우수한 경시 안정성을 가질 수 있다.In one example, the (co)initiator may be an electron donor, an electron acceptor, or a mixture thereof. At this time, a compound containing the anion of Formula 1 and the cation of Formula 2 described above may be used as the electron donor. This electron donor can produce a specific reaction energy with the above-described photosensitive dye. Through this, the hologram recording medium can have excellent stability over time.

구체적으로, 상기 전자 공여체는 광 조사에 의해 삼중항 상태로 들뜬 광감응 염료와 하기 반응식 1과 같이 반응하여 광중합 개시 반응에 참여하게 된다. Specifically, the electron donor participates in the photopolymerization initiation reaction by reacting with the photosensitive dye excited to a triplet state by light irradiation as shown in Scheme 1 below.

[반응식 1][Scheme 1]

Figure pat00009
Figure pat00009

이때, 전자 공여체로 삼중항 상태로 들뜬 광감응 염료와의 반응 에너지가 - 25 내지 0 kJ/mol인 것을 사용하면 광 조사 전에는 상온 내지 고온에서도 반응이 개시되지 않아 우수한 경시 안정성을 나타내면서 광이 조사되면 민감하게 광 개시 반응이 일어나 우수한 광학 기록 특성을 나타낼 수 있다. At this time, if an electron donor with a reaction energy of -25 to 0 kJ/mol with a photosensitive dye excited in a triplet state is used, the reaction does not start even at room temperature or high temperature before light irradiation, showing excellent stability over time and when light is irradiated. A sensitive photo-initiated reaction occurs, resulting in excellent optical recording properties.

보다 구체적으로, 상기 전자 공여체는 삼중항 상태로 들뜬 광감응 염료와의 반응 에너지가 - 25 kJ/mol 이상, - 20 kJ/mol 이상, - 15 kJ/mol 이상, - 14 kJ/mol 이상, - 13 kJ/mol 이상, - 12 kJ/mol 이상, - 11 kJ/mol 이상, - 10 kJ/mol 이상, - 9 kJ/mol 이상 또는 - 8.5 kJ/mol 이상이면서 0 kJ/mol 이하, - 3 kJ/mol 이하 또는 - 5 kJ/mol 이하를 만족하는 것일 수 있다. 상기 반응 에너지를 측정하는 방법은 후술하는 시험예에 자세히 기재된 측정 방법을 참고할 수 있다More specifically, the electron donor has a reaction energy with a photosensitive dye excited in a triplet state of - 25 kJ/mol or more, - 20 kJ/mol or more, - 15 kJ/mol or more, - 14 kJ/mol or more, - 13 kJ/mol or more, - 12 kJ/mol or more, - 11 kJ/mol or more, - 10 kJ/mol or more, - 9 kJ/mol or more, or - 8.5 kJ/mol or more and 0 kJ/mol or less, - 3 kJ It may satisfy /mol or less or -5 kJ/mol or less. For the method of measuring the reaction energy, refer to the measurement method described in detail in the test example described later.

하나의 예시에서, 상기 개시제는 전자 수용체를 더 포함할 수 있다. 광개시제계의 산화 환원 반응 시에 전자를 받아 전자 수용체를 포함하는 경우 광개시제계 반응의 전체 에너지 E2가 음의 값 쪽으로 커지게 된다. 그러나, 본 발명자들의 연구 결과 전자 수용체가 포함되어 광개시제계 반응의 전체 에너지가 변화되더라도 광감응 염료와 전자 공여체의 반응 에너지가 상술한 범위 내인 경우에 한하여 우수한 경시 안정성이 확보될 수 있다.In one example, the initiator may further include an electron acceptor. When an electron acceptor is received and an electron acceptor is included during a redox reaction of a photoinitiator system, the total energy E2 of the photoinitiator system reaction increases toward a negative value. However, as a result of the present inventors' research, even if the total energy of the photoinitiator system reaction changes due to the inclusion of the electron acceptor, excellent stability over time can be secured only when the reaction energy of the photosensitive dye and the electron donor is within the above-mentioned range.

이러한 전자 수용체는 예를 들어, 설포늄(sulfonium) 염, 요오도늄(iodonium) 염 등과 같은 오늄염; 트리스(트리할로메틸)트리아진, 치환된 비스(트리할로메틸)트리아진 등과 같은 트리아진 화합물; 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다.Such electron acceptors include, for example, onium salts such as sulfonium salts, iodonium salts, etc.; triazine compounds such as tris(trihalomethyl)triazine, substituted bis(trihalomethyl)triazine, etc.; Or it may include a mixture thereof.

구체적으로, 상기 전자 수용체로는 요오드늄 염으로서 (4-(옥틸옥시)페닐)(페닐)요오드늄 염을 포함하거나, 트리아진 화합물로서 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진을 포함할 수 있다. 상기 전자 수용체로는, 예를 들면, 상업적으로 입수할 수 있는 H-Nu 254 (Spectra社) 또는 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진(TCI社)을 사용할 수 있다.Specifically, the electron acceptor includes (4-(octyloxy)phenyl)(phenyl)iodonium salt as an iodonium salt, or 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis as a triazine compound. It may include (trichloromethyl)-1,3,5-triazine. Examples of the electron acceptor include commercially available H-Nu 254 (Spectra) or 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3, 5-Triazine (TCI) can be used.

이 중에서도 상기 전자 수용체로는 트리아진 화합물을 사용할 수 있다. 전자 수용체로 트리아진 화합물을 사용하는 경우 기록 전 홀로그램 기록 매체의 고온에서의 경시 안정성을 더욱 향상시킬 수 있다.Among these, a triazine compound can be used as the electron acceptor. When a triazine compound is used as an electron acceptor, the stability over time at high temperatures of the hologram recording medium before recording can be further improved.

상기 포토폴리머(또는 포토폴리머 층) 조성물은 상기 고분자 매트릭스 100 중량부에 대하여 상기 공개시제를 0.05 내지 10 중량부 범위로 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 공개시제의 함량 하한은 예를 들어, 0.1 중량부 이상, 0.5 중량부 이상, 1 중량부 이상, 1.5 중량부 이상 또는 2 중량부 이상일 수 있고, 그 상한은 예를 들어, 5 중량부 이하일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 적절한 중합 반응 속도를 나타내 목적하는 광학 기록 특성을 확보하는데 유리하다.The photopolymer (or photopolymer layer) composition may include the co-initiator in the range of 0.05 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer matrix. Specifically, the lower limit of the content of the disclosure agent may be, for example, 0.1 part by weight or more, 0.5 part by weight or more, 1 part by weight or more, 1.5 part by weight or more, or 2 parts by weight or more, and the upper limit is, for example, 5 parts by weight. It may be less than 100%. When the above range is satisfied, it is advantageous to secure the desired optical recording characteristics by showing an appropriate polymerization reaction rate.

상기 광개시제계는 기록을 위한 광 조사 후 광감응 염료의 색을 제거하고 미반응 광반응성 단량체를 모두 반응시키기 위해 추가의 광개시제를 포함할 수 있다. 이러한 광개시제로는, 예를 들면, 이미다졸 유도체, 비스이미다졸 유도체, N-아릴 글리신 유도체, 유기 아지드 화합물, 티타노센, 알루미네이트 착물, 유기 과산화물, N-알콕시 피리디늄 염, 티옥산톤 유도체, 아민 유도체, 디아조늄염(diazonium salt), 설포늄염(sulfonium salt), 요오도늄염 (iodonium salt), 설폰산 에스테르, 이미드 설포네이트, 디알킬-4-히드록시 설포늄염, 아릴 설폰산-p-니트로 벤질에스테르, 실라놀-알루미늄 착물, (η6- 벤젠) (η5-시클로 펜타디에닐)철(II), 벤조인 토실레이트, 2,5-디니트로 벤질 토실레이트, N- 토실프탈산 이미드 또는 이들의 혼합물 등이 사용될 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 광개시제로는 1,3-di(t-butyldioxycarbonyl)benzophenone, 3,3',4,4''-tetrakis(t-butyldioxycarbonyl)benzophenone, 3-phenyl-5-isoxazolone, 2-mercapto benzimidazole, bis(2,4,5-triphenyl)imidazole, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (제품명: Irgacure 651 / 제조사: BASF), 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (제품명: Irgacure 184 / 제조사: BASF), 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1 (제품명: Irgacure 369 / 제조사: BASF), bis(η5-2,4-cyclopentadiene-1-yl)-bis(2,6-difluoro-3-(1H-pyrrole-1-yl)-phenyl)titanium (제품명: Irgacure 784 / 제조사: BASF), Ebecryl P-115(제조사: SK entis), Cyracure UVI-6970, Cyracure UVI-6974, Cyracure UVI-6990 (제조사: Dow Chemical Co. in USA), Irgacure 264, Irgacure 250 (제조사: BASF), CIT-1682 (제조사: Nippon Soda) 또는 이들의 혼합물 등을 예로 들 수 있으나, 이들에 제한되는 것은 아니다.The photoinitiator system may include an additional photoinitiator to remove the color of the photosensitive dye and react all unreacted photoreactive monomers after irradiation with light for recording. Such photoinitiators include, for example, imidazole derivatives, bisimidazole derivatives, N-aryl glycine derivatives, organic azide compounds, titanocene, aluminate complexes, organic peroxides, N-alkoxy pyridinium salts, thioxanthone derivatives. , amine derivatives, diazonium salt, sulfonium salt, iodonium salt, sulfonic acid ester, imide sulfonate, dialkyl-4-hydroxy sulfonium salt, aryl sulfonic acid- p-nitro benzyl ester, silanol-aluminum complex, (η6-benzene) (η5-cyclopentadienyl)iron(II), benzoin tosylate, 2,5-dinitro benzyl tosylate, N-tosylphthalate or mixtures thereof may be used. More specifically, the photoinitiator includes 1,3-di(t-butyldioxycarbonyl)benzophenone, 3,3',4,4''-tetrakis(t-butyldioxycarbonyl)benzophenone, 3-phenyl-5-isoxazolone, 2-mercapto benzimidazole, bis(2,4,5-triphenyl)imidazole, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (Product name: Irgacure 651 / Manufacturer: BASF), 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone ( Product name: Irgacure 184 / Manufacturer: BASF), 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1 (Product name: Irgacure 369 / Manufacturer: BASF), bis(η5-2,4-cyclopentadiene- 1-yl)-bis(2,6-difluoro-3-(1H-pyrrole-1-yl)-phenyl)titanium (Product name: Irgacure 784 / Manufacturer: BASF), Ebecryl P-115 (Manufacturer: SK entis), Cyracure UVI-6970, Cyracure UVI-6974, Cyracure UVI-6990 (manufacturer: Dow Chemical Co. in USA), Irgacure 264, Irgacure 250 (manufacturer: BASF), CIT-1682 (manufacturer: Nippon Soda) or mixtures thereof, etc. Examples include, but are not limited to these.

상기 포토폴리머(또는 포토폴리머 층) 조성물은 상기 고분자 매트릭스 100 중량부에 대하여 상기 광개시제를 0.05 내지 10 중량부 범위로 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 광개시제의 함량 하한은 예를 들어, 0.1 중량부 이상, 0.5 중량부 이상, 1 중량부 이상, 1.5 중량부 이상 또는 2 중량부 이상일 수 있고, 그 상한은 예를 들어, 5 중량부 이하일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 포토폴리머 층에 광학 정보를 기록한 후 효과적으로 광반응성 단량체의 반응을 종결시키고 광감응 염료의 색을 탈색시켜 투명한 홀로그램 기록 매체를 제공할 수 있다.The photopolymer (or photopolymer layer) composition may include the photoinitiator in the range of 0.05 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer matrix. Specifically, the lower limit of the content of the photoinitiator may be, for example, 0.1 parts by weight or more, 0.5 parts by weight or more, 1 part by weight or more, 1.5 parts by weight or more, or 2 parts by weight or more, and the upper limit is, for example, 5 parts by weight. It may be below. When the above range is satisfied, a transparent hologram recording medium can be provided by recording optical information on the photopolymer layer, effectively terminating the reaction of the photoreactive monomer, and discoloring the photosensitive dye.

그 외에, 상기 조성물은 공지된 첨가제(계면 활성제, 소포제 등)나 용매를 더 포함할 수 있다.In addition, the composition may further include known additives (surfactants, antifoaming agents, etc.) or solvents.

계면활성제는 예를 들어, 실리콘계 계면활성제, 불소계 계면활성제 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다.Surfactants may include, for example, silicone-based surfactants, fluorine-based surfactants, or mixtures thereof.

상기 실리콘계 계면활성제로는, 예를 들면, BYK Chemie 사의 BYK-077, BYK-085, BYK-300, BYK-301, BYK-302, BYK-306, BYK-307, BYK-310, BYK-320, BYK-322, BYK-323, BYK-325, BYK-330, BYK-331, BYK-333, BYK-335, BYK-341v344, BYK-345v346, BYK-348, BYK-354, BYK355, BYK-356, BYK-358, BYK-361, BYK-370, BYK-371, BYK-375, BYK-380, BYK-390, BYK-3550 등을 사용할 수 있다. 그리고, 상기 불소계 계면활성제로는 DIC(DaiNippon Ink & Chemicals) 사의 F-114, F-177, F-410, F-411, F-450, F-493, F-494, F-443, F-444, F-445, F-446, F-470, F-471, F-472SF, F-474, F-475, F-477, F-478, F-479, F-480SF, F-482, F-483, F-484, F-486, F-487, F-172D, MCF-350SF, TF-1025SF, TF-1117SF, TF-1026SF, TF-1128, TF-1127, TF1129, TF-1126, TF-1130, TF-1116SF, TF-1131, TF1132, TF1027SF, TF-1441, TF-1442 등을 사용할 수 있다. 그러나, 상기 나열된 것들로 제한되는 것은 아니다.The silicone-based surfactant includes, for example, BYK-077, BYK-085, BYK-300, BYK-301, BYK-302, BYK-306, BYK-307, BYK-310, BYK-320 manufactured by BYK Chemie, BYK-322, BYK-323, BYK-325, BYK-330, BYK-331, BYK-333, BYK-335, BYK-341v344, BYK-345v346, BYK-348, BYK-354, BYK355, BYK-356, BYK-358, BYK-361, BYK-370, BYK-371, BYK-375, BYK-380, BYK-390, BYK-3550, etc. are available. In addition, the fluorine-based surfactants include F-114, F-177, F-410, F-411, F-450, F-493, F-494, F-443, and F- manufactured by DIC (DaiNippon Ink & Chemicals). 444, F-445, F-446, F-470, F-471, F-472SF, F-474, F-475, F-477, F-478, F-479, F-480SF, F-482, F-483, F-484, F-486, F-487, F-172D, MCF-350SF, TF-1025SF, TF-1117SF, TF-1026SF, TF-1128, TF-1127, TF1129, TF-1126, TF-1130, TF-1116SF, TF-1131, TF1132, TF1027SF, TF-1441, TF-1442, etc. are available. However, it is not limited to those listed above.

상기 포토폴리머(또는 포토폴리머 층) 조성물이 계면활성제를 포함한다면, 상기 고분자 매트릭스 100 중량부에 대하여 계면활성제를 0.01 중량부 이상, 0.02 중량부 이상, 0.03 중량부 이상 또는 0.05 중량부 이상이면서 5 중량부 이하 또는 3 중량부 이하로 포함할 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 포토폴리머 층에 우수한 접착성과 이형성을 부여해 우수한 광학 기록 특성을 보존할 수 있다.If the photopolymer (or photopolymer layer) composition includes a surfactant, the surfactant may be used in an amount of 0.01 part by weight, 0.02 part by weight, 0.03 part by weight, or 0.05 part by weight, based on 100 parts by weight of the polymer matrix. It may contain less than or equal to 3 parts by weight. When the above range is satisfied, excellent optical recording properties can be preserved by providing excellent adhesiveness and release properties to the photopolymer layer.

소포제로는 예를 들어, 실리콘계 반응성 첨가제가 사용될 수 있다. 상기 실리콘계 반응성 첨가제로는, 예를 들면, Tego Rad 2500 등과 같은 시판품을 사용할 수 있다. 상기 소포제의 함량은 홀로그램 기록 매체의 기능에 장애가 되지 않는 수준에서 적절히 조절될 수 있다.As an antifoaming agent, for example, a silicone-based reactive additive may be used. As the silicone-based reactive additive, for example, commercial products such as Tego Rad 2500 can be used. The content of the antifoaming agent can be appropriately adjusted to a level that does not interfere with the function of the hologram recording medium.

하나의 예시에서, 상기 조성물은 용매를 포함할 수 있다.In one example, the composition may include a solvent.

상기 조성물에 포함되는 용매는 유기 용매일 수 있으며, 예를 들어, 케톤류, 알코올류, 아세테이트류 및 에테르류로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상의 유기 용매일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 이러한 유기 용매의 구체적인 예로는, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 아세틸아세톤 또는 이소부틸케톤 등의 케톤류; 메탄올, 에탄올, n-프로판올, i-프로판올, n-부탄올, i-부탄올, 또는 t-부탄올 등의 알코올류; 에틸아세테이트, i-프로필아세테이트, 또는 폴리에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 등의 아세테이트류; 및 테트라히드로퓨란 또는 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 등의 에테르류로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상을 들 수 있다. The solvent included in the composition may be an organic solvent, for example, one or more organic solvents selected from the group consisting of ketones, alcohols, acetates, and ethers, but is not limited thereto. Specific examples of such organic solvents include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetylacetone, and isobutyl ketone; Alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, i-propanol, n-butanol, i-butanol, or t-butanol; Acetates such as ethyl acetate, i-propyl acetate, or polyethylene glycol monomethyl ether acetate; and one or more selected from the group consisting of ethers such as tetrahydrofuran or propylene glycol monomethyl ether.

이러한 용매는 상기 조성물에 포함되는 각 성분들이 혼합되는 시기에 첨가되거나 각 성분들이 유기 용매에 분산 또는 혼합된 상태로 첨가되면서 상기 조성물에 포함될 수 있다.This solvent may be added when each component included in the composition is mixed, or may be included in the composition while each component is added in a dispersed or mixed state in an organic solvent.

상기 포토폴리머 조성물은 고형분의 농도가 1 내지 90 중량%가 되도록 용매를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 포토폴리머 조성물은 고형분의 농도가 20 중량% 이상, 25 중량% 이상 또는 30 중량% 이상이고, 50 중량% 이하, 45 중량% 이하 또는 40 중량% 이하가 되도록 용매를 포함할 수 있다. 이러한 범위 내에서 포토폴리머 조성물은 적절한 흐름성을 나타내 줄무늬 등의 불량 없이 코팅막을 형성할 수 있으며, 이의 건조 및 경화 과정에서 불량이 발생하지 않아 원하는 물성 및 표면 특성을 나타내는 포토폴리머를 형성할 수 있다.The photopolymer composition may include a solvent so that the solid content concentration is 1 to 90% by weight. Specifically, the photopolymer composition may contain a solvent so that the solid concentration is 20% by weight or more, 25% by weight or more, or 30% by weight or less, and 50% by weight or less, 45% by weight or less, or 40% by weight or less. . Within this range, the photopolymer composition exhibits appropriate flowability and can form a coating film without defects such as streaks, and no defects occur during the drying and curing process, thereby forming a photopolymer that exhibits desired physical and surface properties. .

본 출원에 관한 또 다른 일례에서, 본 출원은 홀로그램 기록 매체에 관한 것이다. In another example related to this application, this application relates to holographic recording media.

본 명세서에서 「홀로그램(hologram) 기록 매체」는, 특별히 달리 언급하지 않는 이상, 노광 과정을 통해 전체 가시광선 범위와 자외선 범위(예: 300 내지 1,200 nm)에서 광학 정보를 기록할 수 있는 매체(medium 또는 media)를 의미한다. 따라서, 본 명세서의 홀로그램 기록 매체는 광학 정보가 기록된 매체를 의미할 수도 있고, 광학 정보를 기록할 수 있는 상태의 기록 전 매체를 의미할 수도 있다. 본 명세서의 홀로그램으로는 인-라인 (가버(Gabor)) 홀로그램, 이축(off-axis) 홀로그램, 완전-천공(full-aperture) 이전 홀로그램, 백색광 투과 홀로그램 ("무지개 홀로그램"), 데니슈크(Denisyuk) 홀로그램, 이축 반사 홀로그램, 엣지-리터러츄어(edge-literature) 홀로그램 또는 홀로그래피 스테레오그램(stereogram) 등의 시각적 홀로그램(visual hologram)이 모두 포함될 수 있다.In this specification, “hologram recording medium” refers to a medium (medium) capable of recording optical information in the entire visible light range and ultraviolet range (e.g., 300 to 1,200 nm) through an exposure process, unless specifically stated otherwise. or media). Accordingly, the hologram recording medium of this specification may refer to a medium on which optical information is recorded, or may refer to a pre-recording medium capable of recording optical information. Holograms herein include in-line (Gabor) holograms, off-axis holograms, full-aperture holograms, white light transmission holograms (“rainbow holograms”), and Denisyuk. ) All visual holograms such as holograms, biaxial reflection holograms, edge-literature holograms, or holographic stereograms may be included.

하나의 예시에서, 상기 홀로그램 기록 메체는 실란 작용기를 포함하는 실록산계 고분자 및 (메트)아크릴계 폴리올이 가교 결합하여 형성된 고분자 매트릭스; 및 광반응성 단량체와 광개시제계 또는 이로부터 얻어지는 광중합체를 포함하는 포토폴리머 층을 포함한다. 그리고, 상기 홀로그램 기록 매체 또는 포토폴리머층은 하기 식 1로 계산되는 최저 투과율 변화가 20 % 이하인 것을 만족한다.In one example, the hologram recording medium includes a polymer matrix formed by crosslinking a siloxane-based polymer containing a silane functional group and a (meth)acrylic-based polyol; and a photopolymer layer containing a photoreactive monomer and a photoinitiator system or a photopolymer obtained therefrom. In addition, the hologram recording medium or photopolymer layer satisfies that the lowest transmittance change calculated by Equation 1 below is 20% or less.

[식 1][Equation 1]

△T(%) = {(│T1 - T0│)/ T0} X 100△T(%) = {(│T 1 - T 0 │)/ T 0 }

상기 식 1에서, T0는 기록 전 홀로그램 기록 매체를 20 내지 25 ℃의 온도 및 40 내지 50 %의 상대 습도 하의 암실에서 보관 후 Notch filter 홀로그램을 기록한 샘플에 대하여 UV-Vis 분광기를 사용하여 300 내지 1,200 nm의 파장 범위에서 측정된 최저 투과율이고, In Equation 1, T 0 is 300 to 300 using a UV-Vis spectrometer for the sample on which the notch filter hologram was recorded after storing the hologram recording medium before recording in a dark room at a temperature of 20 to 25 ℃ and relative humidity of 40 to 50%. The lowest transmittance measured in the wavelength range of 1,200 nm,

T1은 기록 전 홀로그램 기록 매체를 60 ℃의 온도 및 40 내지 50 %의 상대 습도 하의 암실에서 100 시간 보관 후 Notch filter 홀로그램을 기록한 샘플에 대하여 상기와 같이 측정된 최저 투과율이다.T 1 is the lowest transmittance measured as above for the sample on which the notch filter hologram was recorded after the hologram recording medium was stored for 100 hours in a dark room at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 40 to 50% before recording.

상기 포토폴리머 층은 광학 정보를 기록할 수 있는 기록 전 상태의 포토폴리머 층이거나 혹은 광학 정보가 기록된 상태의 포토폴리머 층일 수 있다.The photopolymer layer may be a photopolymer layer in a pre-recording state capable of recording optical information, or may be a photopolymer layer in a state in which optical information is recorded.

광학 정보가 기록된 상태의 포토폴리머 층은 기록 전 포토폴리머 층에 물체광과 참조광을 조사하여 제조할 수 있다. 기록 전 포토폴리머 층에 물체광과 참조광을 조사하면 물체광과 참조광의 간섭장에 의해 상쇄 간섭 영역에서는 광개시제계가 비활성 상태로 존재하므로 광반응성 단량체의 광중합이 일어나지 않고 보강 간섭 영역에서는 활성화된 광개시제계에 의하여 광반응성 단량체의 광중합이 일어나게 된다. 보강 간섭 영역에서는 광반응성 단량체가 지속적으로 소모됨에 따라 상쇄 간섭 영역과 보강 간섭 영역에서 광반응성 단량체 간 농도 차이가 발생하게 된다. 그 결과 상쇄 간섭 영역의 광반응성 단량체가 보강 간섭 영역으로 확산하게 된다. 광반응성 단량체 및 이로부터 형성되는 광중합체는 고분자 매트릭스 대비 고굴절률을 가지기 때문에 포토폴리머 층에는 공간적인 굴절률의 변화가 발생하며, 이러한 포토폴리머 층에서 발생하는 공간적인 굴절률 변조에 의해 격자가 생기게 된다. 이러한 격자 면은 굴절률의 차에 의해 입사광을 반사시키는 반사면의 역할을 하며, 홀로그램 기록 후 참조광의 방향으로 기록 시 파장의 광이 입사되면 Bragg 조건을 만족하여 원래 물체광 방향으로 광이 회절하게 되어 홀로그램 광학 정보를 재생할 수 있다. A photopolymer layer with optical information recorded can be manufactured by irradiating object light and reference light to the photopolymer layer before recording. When object light and reference light are irradiated to the photopolymer layer before recording, the photoinitiator system is in an inactive state in the destructive interference area due to the interference field of the object light and reference light, so photopolymerization of the photoreactive monomer does not occur, and the activated photoinitiator system does not occur in the constructive interference area. This causes photopolymerization of the photoreactive monomer. As the photoreactive monomer is continuously consumed in the constructive interference area, a concentration difference occurs between the photoreactive monomer in the destructive interference area and the constructive interference area. As a result, the photoreactive monomer in the destructive interference region diffuses into the constructive interference region. Since the photoreactive monomer and the photopolymer formed therefrom have a high refractive index compared to the polymer matrix, spatial changes in refractive index occur in the photopolymer layer, and a grid is created due to the spatial refractive index modulation occurring in the photopolymer layer. This grating surface serves as a reflective surface that reflects incident light due to the difference in refractive index, and when light of the same wavelength is incident when recording in the direction of the reference light after recording the hologram, the Bragg condition is satisfied and the light diffracts in the direction of the original object light. Holographic optical information can be reproduced.

따라서, 상기 포토폴리머 층이 기록 전 상태라면 포토폴리머 층에는 상기 고분자 매트릭스 내에 광반응성 단량체 및 광개시제계가 무작위하게 분산된 형태로 포함될 수 있다. Therefore, if the photopolymer layer is in a state before recording, the photopolymer layer may include photoreactive monomers and a photoinitiator system in a randomly dispersed form within the polymer matrix.

반면, 상기 포토폴리머 층에 광학 정보가 기록된 상태라면, 상기 포토폴리머 층에는 고분자 매트릭스와 격자를 형성할 수 있도록 분포된 광중합체가 포함될 수 있다.On the other hand, if optical information is recorded in the photopolymer layer, the photopolymer layer may include a photopolymer distributed to form a polymer matrix and a lattice.

상기 식 1로 계산되는 최저 투과율의 변화는 기록 전 홀로그램 기록 매체의 경시 안정성 특히 고온(60 ℃)에서의 경시 안정성을 평가하는 지표로서, 상기 일 구현예의 홀로그램 기록 매체는 기록 전 고온에서 100 시간 방치되더라도 원래 의도한 수준의 광학 기록 특성을 나타낼 수 있다. The change in minimum transmittance calculated by Equation 1 is an indicator for evaluating the temporal stability of the holographic recording medium before recording, especially at high temperature (60° C.). The holographic recording medium of the embodiment is left at high temperature for 100 hours before recording. Even so, the optical recording characteristics can be displayed at the originally intended level.

구체적으로, 상기 일 구현예의 홀로그램 기록 매체는 상기 식 1로 계산되는 최저 투과율의 변화(△T)가 20 % 이하, 19 % 이하, 18 % 이하, 17 % 이하, 16 % 이하, 15 % 이하, 14 % 이하, 13 % 이하, 12 % 이하, 11 % 이하, 10 % 이하, 9 % 이하, 8 % 이하, 7 % 이하, 6 % 이하, 5 % 이하, 4 % 이하, 3 % 이하, 2 % 이하 또는 1 % 이하일 수 있다. 상기 식 1로 계산되는 최저 투과율의 변화(△T)의 하한은 특별히 한정되지 않으며, 0 % 이상일 수 있다.Specifically, the hologram recording medium of the embodiment has a change in minimum transmittance (△T) calculated by Equation 1 of 20% or less, 19% or less, 18% or less, 17% or less, 16% or less, 15% or less, 14% or less, 13% or less, 12% or less, 11% or less, 10% or less, 9% or less, 8% or less, 7% or less, 6% or less, 5% or less, 4% or less, 3% or less, 2% or less It may be less than or less than 1%. The lower limit of the change in minimum transmittance (ΔT) calculated using Equation 1 is not particularly limited and may be 0% or more.

상기 포토폴리머 층은 실란 작용기를 포함하는 실록산계 고분자 및 (메트)아크릴계 폴리올이 가교 결합하여 형성된 고분자 매트릭스; 광반응성 단량체; 및 광개시제계를 포함하는 포토폴리머 조성물로부터 형성된다. The photopolymer layer includes a polymer matrix formed by crosslinking a siloxane-based polymer containing a silane functional group and a (meth)acrylic-based polyol; Photoreactive monomer; and a photoinitiator system.

상기 포토폴리머층은 상술한 조성물과 동일한 구성을 가질 수 있고, 이때, 고분자 매트릭스, 광반응성 단량체, 및 고아개시제계에 관한 설명은 상술한 것과 동일하므로, 이를 생략한다.The photopolymer layer may have the same composition as the composition described above, and in this case, the description of the polymer matrix, photoreactive monomer, and high-initiator system is the same as that described above, and thus is omitted.

상기 포토폴리머 층이 불소계 화합물을 포함하고, 포토폴리머 층 표면에서 측정되는 원소 구성비가 특정 비율을 만족하는 경우 광학 기록 특성이 우수한 것은 물론 고온에서도 우수한 경시 안정성을 나타낼 수 있다.When the photopolymer layer contains a fluorine-based compound and the elemental composition measured on the surface of the photopolymer layer satisfies a certain ratio, it can exhibit excellent optical recording characteristics and excellent stability over time even at high temperatures.

구체적으로, X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) 또는 Electron Spectroscopy for Chemical Analysis (ESCA)로 불리는 광전자 분광법을 이용하면, 포토폴리머 층 표면의 원소 비율을 확인할 수 있다. 후술하는 시험예에 기재된 광전자 분광법에 따르면, survey scan을 통해 분석 대상 샘플의 표면에서 발견되는 원소들을 정성 분석한 후 발견된 각 원소별로 narrow scan을 진행해 원소 비율을 측정할 수 있다. 후술하는 시험예에 기재된 바와 같이 기록 전 포토폴리머 층의 원소 비율과 기록 후 포토폴리머 층의 원소 비율은 동일할 수 있다.Specifically, using photoelectron spectroscopy, called X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) or Electron Spectroscopy for Chemical Analysis (ESCA), the element ratio on the surface of the photopolymer layer can be confirmed. According to the photoelectron spectroscopy method described in the test example described later, the elements found on the surface of the sample to be analyzed can be qualitatively analyzed through a survey scan, and then the element ratio can be measured by performing a narrow scan for each element found. As described in the test examples described later, the element ratio of the photopolymer layer before recording and the element ratio of the photopolymer layer after recording may be the same.

상기 일 구현예의 홀로그램 기록 매체에 포함된 포토폴리머 층 표면의 탄소 원소 비율은 50 원자% 이상, 51 원자% 이상, 52 원자% 이상, 53 원자% 이상 또는 54 원자% 이상이고, 70 원자% 이하, 69 원자% 이하 또는 68 원자% 이하일 수 있다. The carbon element ratio on the surface of the photopolymer layer included in the hologram recording medium of one embodiment is 50 atomic% or more, 51 atomic% or more, 52 atomic% or more, 53 atomic% or more, or 54 atomic% or more, and 70 atomic% or less, It may be 69 atomic% or less or 68 atomic% or less.

상기 포토폴리머 층 표면의 질소 원소 비율은 0.01 원자% 이상, 0.05 원자% 이상, 0.10 원자% 이상 또는 0.20 원자% 이상이고, 2 원자% 이하, 1.8 원자% 이하, 1.6 원자% 이하, 1.4 원자% 이하 또는 1.2 원자% 이하일 수 있다.The nitrogen element ratio on the surface of the photopolymer layer is 0.01 atomic % or more, 0.05 atomic % or more, 0.10 atomic % or more, or 0.20 atomic % or more, and 2 atomic % or less, 1.8 atomic % or less, 1.6 atomic % or less, 1.4 atomic % or less. Or it may be 1.2 atomic% or less.

상기 포토폴리머 층 표면의 산소 원소 비율은 15 원자% 이상, 16 원자% 이상 또는 17 원자% 이상이고, 30 원자% 이하, 29 원자% 이하, 28 원자% 이하, 27 원자% 이하 또는 26 원자% 이하일 수 있다. The oxygen element ratio on the surface of the photopolymer layer is 15 atomic% or more, 16 atomic% or more, or 17 atomic% or more, and 30 atomic% or less, 29 atomic% or less, 28 atomic% or less, 27 atomic% or less, or 26 atomic% or less. You can.

상기 포토폴리머 층 표면의 불소 원소 비율은 3 원자% 이상 또는 4 원자% 이상이고, 12 원자% 이하, 11 원자% 이하 또는 10 원자% 이하일 수 있다. The fluorine element ratio on the surface of the photopolymer layer may be 3 atomic% or more, or 4 atomic% or more, and 12 atomic% or less, 11 atomic% or less, or 10 atomic% or less.

상기 포토폴리머 층 표면의 실리콘 원소 비율은 3 원자% 이상, 4 원자% 이상 또는 4.5 원자% 이상이고, 15 원자% 이하일 수 있다. The silicon element ratio on the surface of the photopolymer layer may be 3 atomic% or more, 4 atomic% or more, 4.5 atomic% or more, and 15 atomic% or less.

상기 탄소, 질소, 산소, 불소 및 실리콘 원소 비율은 포토폴리머 층의 표면에서 광전자 분광법으로 확인되는 탄소, 질소, 산소, 불소 및 실리콘 원자 총량에 대한 백분율(원자%)이다. The carbon, nitrogen, oxygen, fluorine and silicon element ratios are percentages (atomic percent) relative to the total amount of carbon, nitrogen, oxygen, fluorine and silicon atoms confirmed by photoelectron spectroscopy on the surface of the photopolymer layer.

상기 포토폴리머 층은 상술한 원소 구성비를 나타냄에 따라 광학 기록 특성이 우수하고, 고온에서의 경시 안정성이 우수한 특성을 나타낼 수 있다. 특히, 불소 원소 비율이 상기 범위 미만이면 광학 기록 특성이 저하되고, 불소 원소 비율이 상기 범위를 초과하면 습기에 취약해져 경시 안정성이 저하되는 문제가 있을 수 있다. 또한, 실리콘 원소 비율이 상기 범위 미만이면 열에 취약해지고 헤이즈가 높아지는 문제가 있을 수 있고, 실리콘 원소 비율이 상기 범위를 초과하면 광학 기록 특성이 크게 저하되는 문제가 있을 수 있다. As the photopolymer layer exhibits the above-described elemental composition ratio, it can exhibit excellent optical recording properties and excellent stability over time at high temperatures. In particular, if the fluorine element ratio is less than the above range, the optical recording characteristics may deteriorate, and if the fluorine element ratio exceeds the above range, there may be a problem of deterioration of stability over time due to vulnerability to moisture. In addition, if the silicon element ratio is less than the above range, there may be a problem of vulnerability to heat and increased haze, and if the silicon element ratio exceeds the above range, there may be a problem that optical recording characteristics are greatly reduced.

상기 포토폴리머 층의 대부분의 성분은 고분자 매트릭스 및 광반응성 단량체와 필요에 따라 첨가되는 가소제인 불소계 화합물이라 할 수 있다. 따라서, 상기 포토폴리머 층 표면의 원소 구성비는 고분자 매트릭스, 광반응성 단량체 및 불소계 화합물의 배합비를 통해 제어할 수 있다. 상기 포토폴리머 층은 상술한 원소 구성비를 충족하기 위해, 고분자 매트릭스, 광반응성 단량체 및 불소계 화합물 총 중량에 대하여, 고분자 매트릭스를 17 내지 38 중량%, 광반응성 단량체를 33 내지 58 중량%, 불소계 화합물을 17 내지 38 중량%로 포함할 수 있다. Most of the components of the photopolymer layer can be said to be a polymer matrix, a photoreactive monomer, and a fluorine-based compound that is a plasticizer added as needed. Therefore, the elemental composition of the surface of the photopolymer layer can be controlled through the mixing ratio of the polymer matrix, photoreactive monomer, and fluorine-based compound. In order to satisfy the above-described elemental composition, the photopolymer layer contains 17 to 38% by weight of the polymer matrix, 33 to 58% by weight of the photoreactive monomer, and a fluorine-based compound, based on the total weight of the polymer matrix, photoreactive monomer, and fluorine-based compound. It may contain 17 to 38 weight%.

보다 구체적으로, 상기 고분자 매트릭스는, 예를 들어, 17 중량% 이상, 18 중량% 이상, 19 중량% 이상 또는 20 중량% 이상이면서 38 중량% 이하, 37 중량% 이하 또는 36 중량% 이하로 포함될 수 있다. 상기 광반응성 단량체는, 예를 들어, 33 중량% 이상, 35 중량% 이상 또는 38 중량% 이상이면서 58 중량% 이하, 55 중량% 이하 또는 53 중량% 이하로 포함될 수 있다. 상기 불소계 화합물은, 예를 들어, 17 중량% 이상, 18 중량% 이상, 19 중량% 이상 또는 20 중량% 이상이면서 38 중량% 이하, 35 중량% 이하, 33 중량% 이하 또는 32 중량% 이하로 포함될 수 있다. 이러한 범위 내에서 상술한 원소 구성비를 충족하는 포토폴리머 층을 제공할 수 있다. More specifically, the polymer matrix may include, for example, 17 wt% or more, 18 wt% or more, 19 wt% or more, or 20 wt% or more and 38 wt% or less, 37 wt% or less, or 36 wt% or less. there is. For example, the photoreactive monomer may be included in 33 wt% or more, 35 wt% or more, or 38 wt% or more and 58 wt% or less, 55 wt% or less, or 53 wt% or less. For example, the fluorine-based compound may be included in an amount of 17 wt% or more, 18 wt% or more, 19 wt% or more, or 20 wt% or more and 38 wt% or less, 35 wt% or less, 33 wt% or less, or 32 wt% or less. You can. Within this range, it is possible to provide a photopolymer layer that satisfies the above-described elemental composition ratio.

상기 일 구현예의 홀로그램 기록 매체는 얇은 두께의 포토폴리머 층을 가짐에도 불구하고 굴절률 변조, 회절 효율 및 구동 신뢰성이 우수하다.The hologram recording medium of the above embodiment has excellent refractive index modulation, diffraction efficiency, and driving reliability despite having a thin photopolymer layer.

상기 포토폴리머 층의 두께는, 예를 들면, 5.0 내지 40.0 ㎛ 범위일 수 있다. 구체적으로, 상기 포토폴리머 층 두께의 하한은, 예를 들어, 6 ㎛ 이상, 7 ㎛ 이상, 8 ㎛ 이상 또는 9 ㎛ 이상일 수 있다. 그리고, 상기 두께의 상한은, 예를 들어, 35 ㎛ 이하, 30 ㎛ 이하, 29 ㎛ 이하, 28 ㎛ 이하, 27 ㎛ 이하, 26 ㎛ 이하, 25 ㎛ 이하, 24 ㎛ 이하, 23 ㎛ 이하, 22 ㎛ 이하, 21 ㎛ 이하, 20 ㎛ 이하, 19 ㎛ 이하 또는 18 ㎛ 이하일 수 있다.The thickness of the photopolymer layer may range from 5.0 to 40.0 μm, for example. Specifically, the lower limit of the photopolymer layer thickness may be, for example, 6 μm or more, 7 μm or more, 8 μm or more, or 9 μm or more. And, the upper limit of the thickness is, for example, 35 ㎛ or less, 30 ㎛ or less, 29 ㎛ or less, 28 ㎛ or less, 27 ㎛ or less, 26 ㎛ or less, 25 ㎛ or less, 24 ㎛ or less, 23 ㎛ or less, 22 ㎛ or less. Hereinafter, it may be 21 ㎛ or less, 20 ㎛ or less, 19 ㎛ or less, or 18 ㎛ or less.

상기 일 구현예의 홀로그램 기록 매체는 상기 포토폴리머 층의 적어도 일면에 기재를 더 포함할 수 있다. 기재의 종류는 특별히 제한되지 않고, 관련 기술 분야에서 공지된 것이 사용될 수 있다. 예를 들어, 유리(glass), PET(polyethylene terephthalate), TAC(triacetyl cellulose), PC(polycarbonate), COP(cycloolefin polymer) 등의 기재가 사용될 수 있다. The hologram recording medium of the embodiment may further include a substrate on at least one side of the photopolymer layer. The type of base material is not particularly limited, and those known in the related technical field can be used. For example, substrates such as glass, polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC), polycarbonate (PC), and cycloolefin polymer (COP) may be used.

상기 일 구현예의 홀로그램 기록 매체는 높은 회절 효율을 가질 수 있다. 일 예로, 상기 홀로그램 기록 매체는 Notch filter 홀로그램을 기록한 경우 80 % 이상의 회절 효율을 가질 수 있다. 이때, 상기 포토폴리머 층의 두께는, 예를 들어, 5 내지 30 ㎛일 수 있다. 구체적으로, 상기 Notch filter 홀로그램을 기록한 경우의 회절 효율은 85 % 이상, 86 % 이상, 87 % 이상, 88 % 이상, 89 % 이상, 90 % 이상, 91 % 이상 또는 92 % 이상일 수 있다. 이처럼, 상기 일 구현예의 홀로그램 기록 매체는 얇은 두께의 포토폴리머 층을 포함하더라도 우수한 회절 효율을 구현할 수 있다. 상기 회절 효율은 후술하는 시험예에 기재된 방식으로 측정될 수 있다. The hologram recording medium of the above embodiment may have high diffraction efficiency. As an example, the hologram recording medium may have a diffraction efficiency of 80% or more when recording a notch filter hologram. At this time, the thickness of the photopolymer layer may be, for example, 5 to 30 ㎛. Specifically, the diffraction efficiency when recording the notch filter hologram may be 85% or more, 86% or more, 87% or more, 88% or more, 89% or more, 90% or more, 91% or more, or 92% or more. As such, the hologram recording medium of the embodiment can achieve excellent diffraction efficiency even if it includes a thin photopolymer layer. The diffraction efficiency can be measured by the method described in the test example described later.

상기 일 구현예의 홀로그램 기록 매체는 이에 한정되는 것은 아니나 반사형 홀로그램 또는 투과형 홀로그램이 기록된 것일 수 있다.The hologram recording medium of the embodiment is not limited thereto, but may be one on which a reflective hologram or a transmissive hologram is recorded.

한편, 발명의 다른 일 구현예에 따르면, 실란 작용기를 포함하는 실록산계 고분자 및 (메트)아크릴계 폴리올이 가교 결합하여 형성된 고분자 매트릭스 또는 이의 전구체; 광반응성 단량체; 및 광개시제계를 포함하는 포토폴리머 조성물을 도포 및 건조하여 포토폴리머 층을 형성함으로써 하기 식 1로 계산되는 최저 투과율의 변화가 20 % 이하인 기록 전 홀로그램 기록 매체를 제조하는 단계; 및 상기 포토폴리머 층의 소정 영역에 가간섭성 레이저를 조사하여 상기 포토폴리머 층에 포함된 광반응성 단량체를 선택적으로 중합시켜 광학 정보를 기록하는 단계를 포함하는 홀로그램 기록 매체의 제조 방법이 제공된다. Meanwhile, according to another embodiment of the invention, a polymer matrix or a precursor thereof formed by crosslinking a siloxane-based polymer containing a silane functional group and a (meth)acrylic-based polyol; Photoreactive monomer; and applying and drying a photopolymer composition containing a photoinitiator system to form a photopolymer layer, thereby manufacturing a hologram recording medium before recording with a change in minimum transmittance of 20% or less as calculated by Equation 1 below; and recording optical information by selectively polymerizing photoreactive monomers included in the photopolymer layer by irradiating a coherent laser to a predetermined area of the photopolymer layer.

[식 1][Equation 1]

△T(%) = {(│T1 - T0│)/ T0} X 100△T(%) = {(│T1 - T0│)/ T0}

상기 식 1에서, T0는 기록 전 홀로그램 기록 매체를 20 내지 25 ℃의 온도 및 40 내지 50 %의 상대 습도 하의 암실에서 보관 후 Notch filter 홀로그램을 기록한 샘플에 대하여 UV-Vis 분광기를 사용하여 300 내지 1,200 nm의 파장 범위에서 측정된 최저 투과율이고, In Equation 1, T0 is 300 to 1,200 using a UV-Vis spectrometer for the sample on which the notch filter hologram was recorded after storing the hologram recording medium before recording in a dark room at a temperature of 20 to 25 ℃ and relative humidity of 40 to 50%. is the lowest transmittance measured in the wavelength range of nm,

T1은 기록 전 홀로그램 기록 매체를 60 ℃의 온도 및 40 내지 50 %의 상대 습도 하의 암실에서 100 시간 보관 후 Notch filter 홀로그램을 기록한 샘플에 대하여 상기와 같이 측정된 최저 투과율이다. T1 is the lowest transmittance measured as above for the sample on which the notch filter hologram was recorded after the hologram recording medium was stored for 100 hours in a dark room at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 40 to 50% before recording.

상기 식 1로 계산되는 최저 투과율의 변화가 20 % 이하인 홀로그램 기록 매체 및 이에 포함되는 포토폴리머 층에 대해서는 앞서 상세히 설명하였으므로 여기서는 자세한 설명을 생략한다. Since the hologram recording medium and the photopolymer layer included therein, which have a change in minimum transmittance calculated by Equation 1 above of 20% or less, have been described in detail previously, detailed descriptions will be omitted here.

상기 포토폴리머 층을 형성하는 단계에서는 우선 상술한 구성을 포함하는 포토폴리머 조성물을 제조할 수 있다. 상기 포토폴리머 조성물을 제조하는 경우에, 각 성분의 혼합에는 통상적으로 알려진 혼합기, 교반기 또는 믹서 등을 별 다른 제한 없이 사용할 수 있다. 그리고, 이러한 혼합 과정은 0 ℃ 내지 100 ℃ 범위의 온도, 10 ℃ 내지 80 ℃ 범위의 온도, 또는 20 ℃ 내지 60 ℃ 범위의 온도에서 이루어질 수 있다.In the step of forming the photopolymer layer, a photopolymer composition containing the above-described structure can first be prepared. When manufacturing the photopolymer composition, a commonly known mixer, stirrer, or mixer can be used to mix each component without any restrictions. And, this mixing process may be performed at a temperature ranging from 0°C to 100°C, a temperature ranging from 10°C to 80°C, or a temperature ranging from 20°C to 60°C.

상기 포토폴리머 층을 형성하는 단계에서는 준비된 포토폴리머 조성물을 도포하여 포토폴리머 조성물로부터 형성된 도막을 형성할 수 있다. 상기 도막은 50 ℃ 이상, 55 ℃ 이상, 60 ℃ 이상, 65 ℃ 이상 또는 70 ℃ 이상이면서 120 ℃ 이하, 110 ℃ 이하, 100 ℃ 이하 또는 90 ℃ 이하의 온도에서 건조될 수 있다. 이러한 과정을 통해 반응하지 않고 남아있는 (메트)아크릴계 폴리올의 히드록시기와 실록산계 고분자의 실란 작용기의 히드로실릴레이션 반응을 유도하여 목적하는 가교 밀도를 구현할 수 있다. In the step of forming the photopolymer layer, the prepared photopolymer composition may be applied to form a coating film formed from the photopolymer composition. The coating film may be dried at a temperature of 50 ℃ or higher, 55 ℃ or higher, 60 ℃ or higher, 65 ℃ or higher or 70 ℃ or lower and 120 ℃ or lower, 110 ℃ or lower, 100 ℃ or lower or 90 ℃ or lower. Through this process, the desired crosslinking density can be achieved by inducing a hydrosilylation reaction between the hydroxy group of the (meth)acrylic polyol that remains unreacted and the silane functional group of the siloxane polymer.

상기 포토폴리머 층을 형성하는 단계를 통해 제조된 포토폴리머 층에는 가교된 고분자 매트릭스 내에 광반응성 단량체와 광개시제계, 필요에 따라 첨가되는 첨가제 등이 균일하게 분산되어 있을 수 있다. In the photopolymer layer prepared through the step of forming the photopolymer layer, photoreactive monomers, a photoinitiator system, and additives added as necessary may be uniformly dispersed within the crosslinked polymer matrix.

이후, 광학 정보를 기록하는 단계에서 상기 포토폴리머 층에 가간섭성 레이저를 조사하게 되면, 보강 간섭이 일어나는 영역에서는 광반응성 단량체의 중합이 일어나 광중합체가 형성되고, 상쇄 간섭이 일어나는 영역에서는 광반응성 단량체의 중합이 일어나지 않거나 억제되어 광반응성 단량체가 존재하게 된다. 그리고 반응하지 않은 광반응성 단량체는 광반응성 단량체의 농도가 적은 광중합체 측으로 디퓨전(diffusion)하게 되면서 굴절률 변조가 생기며, 굴절률 변조에 의해서 회절 격자가 생성된다. 그에 따라, 회절 격자를 갖는 상기 포토폴리머 층에는 홀로그램, 즉 광학 정보가 기록된다.Then, in the step of recording optical information, when the photopolymer layer is irradiated with a coherent laser, polymerization of the photoreactive monomer occurs in the area where constructive interference occurs to form a photopolymer, and in the area where destructive interference occurs, the photoreactive monomer is formed. Polymerization does not occur or is suppressed, resulting in the presence of a photoreactive monomer. In addition, the unreacted photoreactive monomer diffuses toward the photopolymer with a lower concentration of the photoreactive monomer, causing refractive index modulation, and a diffraction grating is created by the refractive index modulation. Accordingly, holograms, i.e. optical information, are recorded on the photopolymer layer with the diffraction grating.

상기 또 다른 일 구현예의 홀로그램 기록 매체의 제조 방법은 광학 정보를 기록하는 단계 후에 광학 정보가 기록된 포토폴리머 층에 전체적으로 광을 조사하여 광 표백하는 단계(photobleaching)를 추가로 포함할 수 있다. The method of manufacturing a hologram recording medium according to another embodiment may further include the step of photobleaching the photopolymer layer on which the optical information is recorded by irradiating light as a whole after the step of recording the optical information.

상기 광 표백 단계에서는 광학 정보가 기록된 포토폴리머 층에 자외선을 조사하여 포토폴리머 층에 남아있는 광반응성 단량체의 반응을 종결시키고, 광감응 염료의 색을 제거할 수 있다. 일 예로, 상기 광 표백 단계에서는 320 내지 400 nm 영역의 자외선(UVA)을 조사하여 광반응성 단량체의 반응을 종결시키고, 광감응 염료의 색을 제거할 수 있다. In the photobleaching step, ultraviolet rays are irradiated to the photopolymer layer on which optical information is recorded to terminate the reaction of the photoreactive monomer remaining in the photopolymer layer, and the color of the photosensitive dye can be removed. For example, in the photobleaching step, ultraviolet rays (UVA) in the range of 320 to 400 nm are irradiated to terminate the reaction of the photoreactive monomer and remove the color of the photosensitive dye.

한편, 발명의 또 다른 일 구현예에 따르면, 상기 홀로그램 기록 매체를 포함하는 광학 소자가 제공된다. Meanwhile, according to another embodiment of the invention, an optical element including the hologram recording medium is provided.

상기 광학 소자의 구체적인 예로는 모바일 기기와 같은 스마트 기기, 웨어러블 디스플레이의 부품, 차량용품(예컨대, head up display), 홀로그래픽 지문 인식 시스템, 광학 렌즈, 거울, 편향 거울, 필터, 확산 스크린, 회절 부재, 도광체, 도파관, 영사 스크린 및/또는 마스크의 기능을 갖는 홀로그래픽 광학 소자, 광메모리 시스템의 매질과 광확산판, 광파장 분할기, 반사형, 투과형 컬러필터 등을 들 수 있다. Specific examples of the optical elements include smart devices such as mobile devices, wearable display components, vehicle products (e.g., head up display), holographic fingerprint recognition systems, optical lenses, mirrors, deflecting mirrors, filters, diffusion screens, and diffraction members. , holographic optical elements having the functions of light guides, waveguides, projection screens and/or masks, media and light diffusion plates of optical memory systems, optical wavelength splitters, reflective and transmissive color filters, etc.

상기 홀로그램 기록 매체를 포함한 광학 소자의 일 예로는 홀로그램 디스플레이 장치를 들 수 있다. 상기 홀로그램 디스플레이 장치는 광원부, 입력부, 광학계 및 표시부를 포함한다.An example of an optical element including the hologram recording medium may be a hologram display device. The holographic display device includes a light source unit, an input unit, an optical system, and a display unit.

구체적으로, 상기 광원부는 입력부 및 표시부에서 물체의 3차원 영상 정보를 제공, 기록 및 재생하는데 사용되는 레이저 빔을 조사하는 부분이다.Specifically, the light source unit is a part that emits a laser beam used to provide, record, and reproduce 3D image information of an object in the input unit and display unit.

상기 입력부는 표시부에 기록할 물체의 3차원 영상 정보를 미리 입력하는 부분이며, 구체적으로는 전기 구동 액정 SLM(electrically addressed liquid crystal SLM)에 공간별 빛의 세기와 위상과 같은 물체의 3차원 정보를 입력할 수 있고, 이때 입력 빔이 사용될 수 있는 부분이다.The input unit is a part that pre-inputs the 3D image information of the object to be recorded on the display unit. Specifically, the 3D information of the object, such as the intensity and phase of light in each space, is input to an electrically driven liquid crystal SLM (electrically addressed liquid crystal SLM). Input is possible, and this is the part where the input beam can be used.

상기 광학계는 미러, 편광기, 빔스플리터, 빔셔터, 렌즈 등으로 구성될 수 있다. 상기 광학계는 광원부에서 방출되는 레이저 빔을 입력부로 보내는 입력 빔, 표시부로 보내는 기록 빔, 기준 빔, 소거 빔, 독출 빔 등으로 분배할 수 있다.The optical system may be composed of a mirror, polarizer, beam splitter, beam shutter, lens, etc. The optical system can distribute the laser beam emitted from the light source unit into an input beam sent to the input unit, a recording beam sent to the display unit, a reference beam, an erase beam, a read beam, etc.

상기 표시부는 입력부로부터 물체의 3차원 영상 정보를 전달받아서 광학 구동 SLM(optically addressed SLM)으로 이루어진 홀로그램 플레이트에 기록하고, 물체의 3차원 영상을 재생할 수 있다. 이때, 입력 빔과 기준 빔의 간섭을 통하여 물체의 3차원 영상 정보를 기록할 수 있다. 상기 홀로그램 플레이트에 기록된 물체의 3차원 영상 정보는 독출 빔이 생성하는 회절 패턴에 의해 3차원 영상으로 재생될 수 있고, 소거 빔은 형성된 회절 패턴을 빠르게 제거하기 위해 사용될 수 있다. 한편, 상기 홀로그램 플레이트는 3차원 영상을 입력하는 위치와 재생하는 위치 사이에서 이동될 수 있다.The display unit can receive 3D image information of an object from an input unit, record it on a hologram plate made of an optically driven SLM (optically addressed SLM), and reproduce the 3D image of the object. At this time, 3D image information of the object can be recorded through interference between the input beam and the reference beam. The 3D image information of the object recorded on the hologram plate can be reproduced as a 3D image by a diffraction pattern generated by the readout beam, and an erase beam can be used to quickly remove the formed diffraction pattern. Meanwhile, the hologram plate can be moved between a position where a 3D image is input and a position where it is played.

본 출원의 구체예에 따르면, 본 출원의 개시제 화합물, 이를 포함하는 개시제계 및 조성물을 이용하여 제조된 홀로그램 기록 매체가 제공된다. 상기 홀로그램 기록 매체는 광학 정보를 기록하기 전 우수한 경시 안정성을 나타내기 때문에, 상온 내지 고온에서 장시간 보관되더라도 본래 의도한 광학 기록 특성을 나타낼 수 있다. 또한, 상기 홀로그램 기록 매체는 홀로그램 기록 매체에 기본적으로 요구되는 회절 효율 등의 물성도 매우 우수한 특징을 나타낸다.According to an embodiment of the present application, a hologram recording medium manufactured using the initiator compound of the present application, an initiator system and composition containing the same is provided. Since the holographic recording medium exhibits excellent stability over time before recording optical information, it can exhibit the originally intended optical recording characteristics even if stored for a long time at room temperature or high temperature. In addition, the holographic recording medium exhibits excellent physical properties such as diffraction efficiency, which are fundamentally required for a holographic recording medium.

도 1은, 홀로그램 기록을 위한 기록 장비 셋업을 개략적으로 도시한 것이다. 구체적으로 도 1은, 광원(10)에서 소정 파장의 레이저가 조사되고, 이어서 상기 레이저가 거울(mirror)(20, 20'), 아이리스(Iris)(30), 스페이셜 필터(spatial filter)(40), 아이리스(Iris)(30'), 집속렌즈(collimation lens)(50), 및 분할기(PBS, Polarized Beam Splitter)(60)를 거쳐, 거울(70) 일면에 위치한 PP(홀로그램 기록 매체)(80)에 조사되는 과정을 개략적으로 도시한 것이다.Figure 1 schematically shows the recording equipment setup for hologram recording. Specifically, Figure 1 shows that a laser of a predetermined wavelength is irradiated from a light source 10, and then the laser is irradiated through a mirror (20, 20'), an iris (30), and a spatial filter ( 40), Iris (30'), collimation lens (50), and splitter (PBS, Polarized Beam Splitter) (60), PP (holographic recording medium) located on one side of the mirror (70) (80) schematically shows the process investigated.

이하 발명의 구체적인 실시예를 통해 발명의 작용, 효과를 보다 구체적으로 설명하기로 한다. 다만, 이는 발명의 예시로서 제시된 것으로 이에 의해 발명의 권리범위가 어떠한 의미로든 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the operation and effects of the invention will be described in more detail through specific examples of the invention. However, this is presented as an example of the invention, and the scope of the invention is not limited by this in any way.

하기 제조예, 실시예 및 비교예 등에서 원료 등의 함량은 특별히 달리 기재되어 있지 않는 한 고형분 기준의 함량을 의미한다.In the following production examples, examples, and comparative examples, the content of raw materials, etc. refers to the content based on solid content, unless otherwise specified.

제조예Manufacturing example

제조예 1: (메트)아크릴계 폴리올의 제조Preparation Example 1: Preparation of (meth)acrylic polyol

2 L 자켓 반응기에 부틸 아크릴레이트(butyl acrylate) 132 g, 에틸 아크릴레이트(ethyl acrylate) 420 g, 히드록시부틸 아크릴레이트(hydroxybutyl acrylate) 48 g을 넣고, 에틸 아세테이트(ethyl acetate) 1200 g으로 희석하였다. 60~70 ℃로 반응 온도를 셋팅하고, 30 분 내지 1 시간 정도 교반을 진행하였다. n-도데실 머캅탄(n-DDM) 0.42 g을 추가로 넣고, 30 분 정도 더 교반을 진행하였다. 이후, 중합 개시제인 AIBN 0.24 g을 넣고, 반응 온도에서 4 시간 이상 중합을 진행하여 잔류 아크릴레이트 함량이 1 % 미만이 될 때까지 유지하여, 히드록시기가 분지쇄에 위치한 (메트)아크릴레이트계 공중합체 (중량평균분자량 약 300,000, OH 당량 약 1802 g/equivalent)를 제조하였다.132 g of butyl acrylate, 420 g of ethyl acrylate, and 48 g of hydroxybutyl acrylate were added to a 2 L jacketed reactor, and diluted with 1200 g of ethyl acetate. . The reaction temperature was set to 60-70°C, and stirring was performed for about 30 minutes to 1 hour. An additional 0.42 g of n-dodecyl mercaptan (n-DDM) was added, and stirring was continued for another 30 minutes. Afterwards, 0.24 g of AIBN, a polymerization initiator, was added, polymerization was carried out at the reaction temperature for more than 4 hours, and the residual acrylate content was maintained at less than 1%, resulting in a (meth)acrylate-based copolymer in which the hydroxyl group is located in the branched chain. (Weight average molecular weight approximately 300,000, OH equivalent weight approximately 1802 g/equivalent) was prepared.

제조예 2: 불소계 화합물의 제조Preparation Example 2: Preparation of fluorine-based compound

1000 mL 플라스크에 2,2'-{oxybis[(1,1,2,2-tetrafluoroethane-2,1-diyl)oxy]}bis(2,2-difluoroethan-1-ol) 20.51 g을 넣어준 후, 테트라히드로퓨란 500 g에 녹여 0 ℃에서 교반하면서 sodium hydride (60 % dispersion in mineral oil) 4.40 g을 여러 차례에 걸쳐 조심스럽게 첨가하였다. 0 ℃에서 20 분 교반한 후, 2-methoxyethoxymethyl chloride 12.50 mL를 천천히 dropping 하였다. 1H NMR로 반응물이 모두 소모된 것이 확인되면, 디클로로메탄을 이용한 work-up을 통해 순도 95 % 이상의 액상 생성물 29 g을 98 %의 수율로 수득하였다. 제조된 불소계 화합물의 중량평균분자량은 586 이고, Abbe 굴절계로 측정된 굴절률은 1.361 이다.After adding 20.51 g of 2,2'-{oxybis[(1,1,2,2-tetrafluoroethane-2,1-diyl)oxy]}bis(2,2-difluoroethan-1-ol) to a 1000 mL flask. , was dissolved in 500 g of tetrahydrofuran and 4.40 g of sodium hydride (60% dispersion in mineral oil) was carefully added several times while stirring at 0°C. After stirring at 0°C for 20 minutes, 12.50 mL of 2-methoxyethoxymethyl chloride was slowly dropped. When it was confirmed that all the reactants were consumed by 1H NMR, 29 g of a liquid product with a purity of 95% or more was obtained with a yield of 98% through work-up using dichloromethane. The weight average molecular weight of the prepared fluorine-based compound was 586, and the refractive index measured with an Abbe refractometer was 1.361.

실시예 및 비교예: 홀로그램 기록 매체의 제조Examples and Comparative Examples: Preparation of holographic recording medium

실시예 1Example 1

(1) 포토폴리머 조성물의 제조(1) Preparation of photopolymer composition

실록산계 고분자로서 trimethylsilyl terminated poly(methylhydrosiloxane) (Sigma-Aldrich社 제조, 수평균분자량: 약 390, SiH 당량 약 103 g/equivalent) 및 제조예 1에서 제조된 (메트)아크릴계 폴리올을 먼저 혼합하였다. 상기 (메트)아크릴계 폴리올의 함량은 22.4 g이었으며, 실록산계 고분자는 SiH/OH 몰 비율이 2가 되도록 첨가되었다. 실시예 1에서는 실록산계 고분자가 2.6 g으로 첨가되었다.As a siloxane polymer, trimethylsilyl terminated poly(methylhydrosiloxane) (manufactured by Sigma-Aldrich, number average molecular weight: about 390, SiH equivalent about 103 g/equivalent) and (meth)acrylic polyol prepared in Preparation Example 1 were first mixed. The content of the (meth)acrylic polyol was 22.4 g, and the siloxane-based polymer was added so that the SiH/OH molar ratio was 2. In Example 1, 2.6 g of siloxane-based polymer was added.

그리고, 광반응성 단량체로서 HR 6042 (Miwon社, 굴절률 1.60) 52 g, 광감응 염료로서 하기 화학식 a로 표시되는 화합물 0.2 g, 공개시제인 헥사데실 디메틸 벤질 암모늄 트리(p-클로로페닐)부틸 보레이트 0.8 g, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진(TCI社) 0.05 g, 광개시제로서 Irgacure 369 0.9 g, 가소제로서 제조예 2에서 제조된 불소계 화합물 23 g 및 용매인 메틸이소부틸케톤(MIBK) 190 g을 첨가하고, 빛을 차단한 상태에서 Paste 믹서로 약 30 분간 교반하였다. 이후 매트릭스 가교를 위해 Karstedt(Pt 계열) 촉매 0.014 g을 첨가하여 포토폴리머 조성물을 제조하였다. In addition, 52 g of HR 6042 (Miwon, refractive index 1.60) as a photoreactive monomer, 0.2 g of a compound represented by the following formula (a) as a photosensitive dye, and 0.8 g of hexadecyl dimethyl benzyl ammonium tri(p-chlorophenyl)butyl borate as a co-initiator. g, 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine (TCI) 0.05 g, 0.9 g of Irgacure 369 as a photoinitiator, Preparation Example 2 as a plasticizer 23 g of the fluorine-based compound prepared in and 190 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) as a solvent were added, and stirred for about 30 minutes with a paste mixer while blocking light. Afterwards, 0.014 g of Karstedt (Pt-based) catalyst was added for matrix crosslinking to prepare a photopolymer composition.

[화학식 a][Formula a]

Figure pat00010
Figure pat00010

(2) 홀로그램 기록 매체의 제조 (2) Manufacturing of holographic recording media

상기 포토폴리머 조성물을 meyer bar를 이용하여, 60 ㎛ 두께의 TAC 기재에 소정 두께로 코팅하고, 80 ℃에서 10 분간 건조시켰다. 건조 후 포토폴리머 층의 두께는 약 15 ㎛ 이었다.The photopolymer composition was coated to a predetermined thickness on a 60 ㎛ thick TAC substrate using a Meyer bar and dried at 80°C for 10 minutes. The thickness of the photopolymer layer after drying was about 15 μm.

실시예 2 및 비교예 1 내지 3Example 2 and Comparative Examples 1 to 3

공개시제를 하기 표 1에 기재된 바와 같이 달리한 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 홀로그램 기록 매체를 제조하였다.A hologram recording medium was manufactured in the same manner as Example 1, except that the open tense was changed as shown in Table 1 below.

전자 공여체electron donor 전자 수용체electron acceptor 실시예 1Example 1 헥사데실 디메틸 벤질 암모늄 트리(p-클로로페닐)부틸 보레이트Hexadecyl dimethyl benzyl ammonium tri(p-chlorophenyl)butyl borate 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine 실시예 2Example 2 헥사데실 벤질 피롤리디늄 트리(p-클로로페닐)부틸 보레이트Hexadecyl Benzyl Pyrrolidinium Tri(p-Chlorophenyl)Butyl Borate -- 비교예 1Comparative Example 1 WPBG-300(1,2-디시클로헥실-4,4,5,5-테트라메틸비구아니디움 트리(페닐)부틸 보레이트)WPBG-300 (1,2-dicyclohexyl-4,4,5,5-tetramethylbiguanidium tri(phenyl)butyl borate) -- 비교예 2Comparative Example 2 WPBG-300WPBG-300 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine 비교예 3Comparative Example 3 테트라부틸 암모늄 트리(o-메틸페닐)헥실 보레이트Tetrabutyl ammonium tri(o-methylphenyl)hexyl borate --

시험예 1: 홀로그램 기록 매체의 분석Test Example 1: Analysis of hologram recording medium

(1) 원소 비율(1) Element ratio

기록 전 샘플과 기록 후 샘플에 대해 하기 기재된 방법으로 표면의 원소 비율을 분석하였다. The elemental ratios of the surfaces were analyzed for the pre-recording and post-recording samples by the method described below.

구체적으로, 분석 대상 샘플을 구리 포일 위에 탄소 테이프로 고정하고, 이를 샘플 홀더 위에 두고 클립을 이용하여 고정하였다. 그리고, K-Alpha+ 표준 작동법(SOP-0524-Ok)에 따라 X선 광전자 분광 장치(ESCA, 모델명: K-Alpha+, Thermo Fisher Scientific Inc.)를 사용하여 데이터를 얻고 Avantage software (version 5.980)를 이용하여 샘플 표면의 원소 비율(원자%)을 분석하였다. Specifically, the sample to be analyzed was fixed on a copper foil with carbon tape, placed on a sample holder and fixed using a clip. Then, data were acquired using an The element ratio (atomic %) of the sample surface was analyzed.

사용한 ESCA 기기의 시스템 사양은 아래와 같다. The system specifications of the ESCA device used are as follows.

- Base chamber pressure: 1.0 X 10-9 mbar- Base chamber pressure: 1.0

- X-ray source: monochromatic Al Kα(1486.6 eV)- X-ray source: monochromatic Al Kα (1486.6 eV)

- X-ray spot size: 400 ㎛ - X-ray spot size: 400 ㎛

- Mode: CAE (Constant Analyzer Energy) mode- Mode: CAE (Constant Analyzer Energy) mode

- Charge compensation: Flood gun (FG03: 100 ㎂, 0.5 V)- Charge compensation: Flood gun (FG03: 100 ㎂, 0.5 V)

As-received 상태의 분석 대상 샘플 표면에 대해 아래와 같은 조건에서 initial survey scan하여 정성 분석을 진행하고, 정성 분석 결과에 따라 각 원소 별 narrow scan (snap)을 통해 정량 분석을 진행하였다. 각 샘플 당 세 군데의 원소 비율을 확인하였으며, 정량 분석에는 peak background smart 방식이 적용되었다. Core level Spectrum의 binding energy 보정은 C 1s (284.8 eV)를 기준으로 하였다. Qualitative analysis was performed by conducting an initial survey scan on the surface of the sample subject to analysis in the as-received state under the following conditions, and quantitative analysis was performed through narrow scan (snap) for each element according to the results of the qualitative analysis. The ratio of elements in three locations for each sample was confirmed, and the peak background smart method was applied for quantitative analysis. The binding energy correction of the core level spectrum was based on C 1s (284.8 eV).

<Survey scan 조건><Survey scan conditions>

- Scan 구간 binding energy: -5 ~ 1350 eV- Scan section binding energy: -5 ~ 1350 eV

- Step size: 1 eV- Step size: 1 eV

- Per Point dwell time: 20 ms- Per Point dwell time: 20 ms

- Periods: 2-Periods: 2

- Pass energy: 200 eV- Pass energy: 200 eV

<narrow scan 조건><narrow scan conditions>

- Scan 구간 binding energy: 약 20 eV- Scan section binding energy: about 20 eV

- Step size: ~ 0.16 eV- Step size: ~ 0.16 eV

- Per Point dwell time: 1 sec- Per Point dwell time: 1 sec

- Periods: 10~30- Periods: 10~30

- Pass energy: 150 eV- Pass energy: 150 eV

<Etching 조건><Etching conditions>

- Source: Ar ion- Source: Ar ion

- Energy: 6 keV- Energy: 6 keV

- Cluster size: 75- Cluster size: 75

- Rater size: 1.6 X 1.0 mm2 -Rater size: 1.6

- Mode: GCIB-Mode: GCIB

실시예 및 비교예에서 제조된 모든 포토폴리머 조성물은 이들의 고형분 중 가장 큰 비중을 차지하는 고분자 매트릭스, 광반응성 단량체 및 불소계 화합물을 각각 25 g, 52g 및 23 g으로 포함하여 고분자 매트릭스:광반응성 단량체:불소계 화합물의 중량비가 모두 25:52:23 이었다. All photopolymer compositions prepared in the Examples and Comparative Examples included the polymer matrix, photoreactive monomer, and fluorine-based compound, which account for the largest proportion of the solid content, at 25 g, 52 g, and 23 g, respectively, and were composed of polymer matrix: photoreactive monomer: The weight ratio of the fluorine-based compounds was all 25:52:23.

그 결과, 상기 실시예 및 비교예에서 제조된 모든 샘플의 원소 비율은 탄소가 62.1 원자%, 질소가 0.9 원자%, 산소가 21.0 원자%, 불소가 6.2 원자%, 실리콘이 9.8 원자%로 나타났다.As a result, the element ratios of all samples prepared in the examples and comparative examples were 62.1 atomic% for carbon, 0.9 atomic% for nitrogen, 21.0 atomic% for oxygen, 6.2 atomic% for fluorine, and 9.8 atomic% for silicon.

또한, 기록 전 샘플과 기록 후 샘플에 대해 표면의 원소 비율을 측정한 결과 기록 전 후 샘플 표면의 원소 비율은 동일하게 측정되었다.In addition, as a result of measuring the element ratios on the surface of the sample before and after recording, the element ratios on the surface of the sample before and after recording were measured to be the same.

(2) 반응 에너지의 계산(2) Calculation of reaction energy

하기 반응식 1의 반응 에너지 E2를 계산하기 위해, Gaussian 社 제조의 양자 화학 계산 프로그램인 Gaussian 16을 이용해 전자 공여체인 보레이트 음이온(BX1X2X3X4)의 최저 여기 일중항 에너지(S1)과 광감응 염료(Dye)의 최저 여기 삼중항 에너지(T1)을 구하였다. 밀도 범함수 이론(DFT)를 이용하여 범함수로서 B3LYP, 기저 함수로서 6-31G*를 이용하여 최적화된 구조에 대해 S1과 T1을 계산하였다. To calculate the reaction energy E2 in Scheme 1 below, the lowest singlet excitation energy (S1) of the borate anion (BX1 The lowest triplet excitation energy (T1) was obtained. Using density functional theory (DFT), S1 and T1 were calculated for the optimized structure using B3LYP as the functional and 6-31G* as the basis function.

광감응 염료는 전자 환원 반응이 일어나므로, T1은 음의 값으로 기재하고 전자 공여체는 전자 산화 반응이 일어나므로, S1은 양의 값으로 기재하였으며, 이를 더하여 전체 반응 에너지 E2를 계산하였다. Since the photosensitive dye undergoes an electron reduction reaction, T1 is written as a negative value, and since the electron donor undergoes an electron oxidation reaction, S1 is written as a positive value, and the total reaction energy E2 is calculated by adding these.

[반응식 1][Scheme 1]

Figure pat00011
Figure pat00011

광감응 염료의 T1T1 of photosensitive dye 전자 공여체의 종류Types of Electron Donors 전자 공여체의 S1S1 of electron donor 반응 에너지(E2)Reaction energy (E2) 실시예 1Example 1 -465.4 kJ/mol-465.4 kJ/mol 헥사데실 디메틸 벤질 암모늄 트리(p-클로로페닐)부틸 보레이트Hexadecyl dimethyl benzyl ammonium tri(p-chlorophenyl)butyl borate +456.9 kJ/mol+456.9 kJ/mol -8.5 kJ/mol-8.5 kJ/mol 실시예 2Example 2 -465.4 kJ/mol-465.4 kJ/mol 헥사데실 벤질 피롤리디늄 트리(p-클로로페닐)부틸 보레이트Hexadecyl Benzyl Pyrrolidinium Tri(p-Chlorophenyl)Butyl Borate +456.9 kJ/mol+456.9 kJ/mol -8.5 kJ/mol-8.5 kJ/mol 비교예 1Comparative Example 1 -465.4 kJ/mol-465.4 kJ/mol WPBG-300(1,2-디시클로헥실-4,4,5,5-테트라메틸비구아니디움 트리(페닐)부틸 보레이트)WPBG-300 (1,2-dicyclohexyl-4,4,5,5-tetramethylbiguanidium tri(phenyl)butyl borate) +435.3 kJ/mol+435.3 kJ/mol -30.1 kJ/mol-30.1 kJ/mol 비교예 2Comparative Example 2 -465.4 kJ/mol-465.4 kJ/mol WPBG-300WPBG-300 +435.3 kJ/mol+435.3 kJ/mol -30.1 kJ/mol-30.1 kJ/mol 비교예 3Comparative Example 3 -465.4 kJ/mol-465.4 kJ/mol 테트라부틸 암모늄 트리(o-메틸페닐)헥실 보레이트Tetrabutyl ammonium tri(o-methylphenyl)hexyl borate +399.1 kJ/mol+399.1 kJ/mol -66.3 kJ/mol-66.3 kJ/mol

시험예 2: 홀로그램 기록 매체의 성능 평가Test Example 2: Performance evaluation of hologram recording medium

(1) 열 안정성 (△T)(1) Thermal stability (△T)

고온에 노출시키기 전 후의 최저 투과율 변화(△T) 정도로 열 안정성을 평가하였다. 구체적으로, 고온에 노출시키지 않은 기록 전 샘플과 고온에 노출시킨 기록 전 샘플에 회절 격자를 기록한 후 최저 투과율 변화 정도로 열 안정성을 평가하였으며, 최저 투과율 변화 정도는 하기 식 1를 통해 구하였다. Thermal stability was evaluated as the lowest transmittance change (△T) before and after exposure to high temperature. Specifically, the thermal stability was evaluated based on the lowest degree of change in transmittance after recording the diffraction grating on the pre-recording sample that was not exposed to high temperature and the pre-recording sample that was exposed to high temperature, and the lowest degree of change in transmittance was obtained through Equation 1 below.

[식 1][Equation 1]

△T(%) = {(│T1 - T0│)/ T0} X 100△T(%) = {(│T1 - T0│)/ T0}

상기 식 1에서, T0는 기록 전 샘플을 항온(20 내지 25 ℃), 항습(40 내지 50 %의 상대 습도) 조건의 암실에서 보관 후 Notch filter 홀로그램을 기록한 샘플에 대하여 UV-Vis 분광기를 사용하여 300 내지 1,200 nm의 파장 범위에서 측정된 최저 투과율이고, T1은 기록 전 샘플을 60 ℃, 40 내지 50 %의 상대 습도 조건의 암실에서 100 시간 보관 후 Notch filter 홀로그램을 기록한 샘플에 대하여 상기 방법과 동일하게 측정된 최저 투과율이다. In Equation 1, T0 is obtained by storing the sample in a dark room under constant temperature (20 to 25 ℃) and constant humidity (relative humidity of 40 to 50%) conditions before recording, and then using a UV-Vis spectrometer for the sample on which the notch filter hologram was recorded. It is the lowest transmittance measured in the wavelength range of 300 to 1,200 nm, and T1 is the same as the above method for the sample on which the notch filter hologram was recorded after storing the sample before recording for 100 hours in a dark room at 60 ℃ and 40 to 50% relative humidity conditions. This is the lowest transmittance measured.

상기 Notch filter 홀로그램은 도 1과 같은 셋업을 이용하여 기록하였다. 구체적으로, 제조된 포토폴리머 층을 거울 상에 라미네이션한 후 레이저를 조사하면, 입사광(L)과 거울에서 반사된 광(L')의 간섭을 통해 두께 방향으로 주기적인 굴절률 변조를 갖는 Notch filter 홀로그램이 기록될 수 있다. 본 실시예에서는 입사각을 0 °(degree)로 하여 Notch filter 홀로그램을 기록하였다. Notch filter 와 Bragg reflector는 특정 파장의 빛만 반사하는 광학 소자로서, 굴절률 차이가 있는 2 개 층이 일정한 두께에서 주기적으로 반복 적층된 구조를 가진다.The notch filter hologram was recorded using the same setup as shown in Figure 1. Specifically, when the manufactured photopolymer layer is laminated on a mirror and then irradiated with a laser, a notch filter hologram with periodic refractive index modulation in the thickness direction is generated through interference between incident light (L) and light reflected from the mirror (L'). This can be recorded. In this example, the notch filter hologram was recorded with an incident angle of 0 ° (degree). Notch filters and Bragg reflectors are optical elements that reflect only light of a specific wavelength, and have a structure in which two layers with different refractive indices are stacked periodically and repeatedly at a certain thickness.

(2) 회절 효율(DE) (2) Diffraction efficiency (DE)

회절 효율(η)은 상술한 방식으로 Notch filter 홀로그램을 기록한 샘플에 대하여 하기 식 2을 통해 구하였다. Diffraction efficiency (η) was obtained through Equation 2 below for the sample on which the notch filter hologram was recorded in the above-described manner.

[식 2] [Equation 2]

η(%) = {PD / (PD + PT)} X 100η(%) = {P D / (P D + P T )}

상기 식 2에서, η은 회절 효율이고, PD는 기록 후 샘플의 회절된 빔의 출력량(mW/㎠)이고, PT는 기록 후 샘플의 투과된 빔의 출력량(mW/㎠)이다. In Equation 2, η is the diffraction efficiency, P D is the output amount of the diffracted beam of the sample after recording (mW/cm2), and P T is the output amount of the transmitted beam of the sample after recording (mW/cm2).

반응 에너지(E2)Reaction energy (E2) 열 안정성 (△T, %)Thermal stability (△T, %) 회절 효율(DE, %)Diffraction efficiency (DE, %) 실시예 1Example 1 -8.5 kJ/mol-8.5 kJ/mol 0.80.8 98.098.0 실시예 2Example 2 -8.5 kJ/mol-8.5 kJ/mol 2.22.2 91.591.5 비교예 1Comparative Example 1 -30.1 kJ/mol-30.1 kJ/mol 7878 92.192.1 비교예 2Comparative Example 2 -30.1 kJ/mol-30.1 kJ/mol 92.892.8 89.289.2 비교예 3Comparative Example 3 -66.3 kJ/mol-66.3 kJ/mol 100100 96.496.4

상기 표 3을 참조하면, 홀로그램 기록 매체는 삼중항 상태로 여기된 광감응 염료와의 반응 에너지가 -25 내지 0 kJ/mol인 전자 공여체를 채용함에 따라 기록 전 고온에서의 경시 안정성이 보다 우수한 것이 확인되며, 홀로그램 기록 매체의 제반 물성인 회절 효율도 매우 우수한 것이 확인된다. Referring to Table 3, the hologram recording medium has better stability over time at high temperatures before recording as it uses an electron donor with a reaction energy of -25 to 0 kJ/mol with the photosensitive dye excited in the triplet state. It is confirmed that the diffraction efficiency, which is a general physical property of the hologram recording medium, is also very excellent.

또한, 전자 수용체를 추가로 포함한 실시예 1은 이를 포함하지 않은 나머지 실시예 및 비교예 대비 보다 우수한 고온 경시 안정성을 나타내는 것이 확인된다.In addition, it was confirmed that Example 1, which additionally included an electron acceptor, exhibited superior high temperature stability over time compared to the remaining Examples and Comparative Examples that did not include the electron acceptor.

Claims (10)

아래 화학식 1로 표시되는 음이온; 및 아래 화학식 2로 표시되는 양이온을 포함하고,
광 조사에 의해 활성화되어 고분자 매트릭스에 분산된 광 반응성 단량체의 광중합을 유발하고, 광학 정보를 기록하는데 사용되는,
화합물:
[화학식 1]
Figure pat00012

상기 화학식 1에서,
R102는 각각 독립적으로 수소, 알킬기 또는 할로겐이고, R102 중 적어도 1 이상은 할로겐이며,
R103은 각각 독립적으로 수소, 알킬기 또는 할로겐이되, 인접하는 R102가 수소 또는 알킬기인 경우 할로겐이며,
R은 탄소수 1 내지 24의 알킬기이다.
[화학식 2]
NY1Y2Y3Y4
상기 화학식 2에서, Y1 내지 Y4 중 2 개의 치환기는 서로 연결되어 탄소수 4 내지 10의 지방족 고리를 형성하거나 또는 형성하지 않을 수 있고,
지방족 고리를 형성하지 않는 Y1 내지 Y4는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 40의 알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 탄소수 6 내지 40의 아릴알킬기 또는 에스테르 결합을 매개로 연결된 탄소수 2 내지 40의 알킬기이되,
Y1 내지 Y4가 모두 메틸기이거나, 또는 2 이상의 치환기가 탄소수 16 이상의 알킬기인 것은 배제된다.
An anion represented by Formula 1 below; and a cation represented by Formula 2 below,
Activated by light irradiation to cause photopolymerization of photoreactive monomers dispersed in a polymer matrix, used to record optical information,
compound:
[Formula 1]
Figure pat00012

In Formula 1,
R 102 is each independently hydrogen, an alkyl group or halogen, and at least one of R 102 is halogen,
R 103 is each independently hydrogen, an alkyl group, or halogen, but when the adjacent R 102 is hydrogen or an alkyl group, it is halogen,
R is an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms.
[Formula 2]
NY 1 Y 2 Y 3 Y 4
In Formula 2, two substituents of Y 1 to Y 4 may or may not be connected to each other to form an aliphatic ring having 4 to 10 carbon atoms,
Y 1 to Y 4 that do not form an aliphatic ring are each independently an alkyl group with 1 to 40 carbon atoms, an aryl group with 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group with 6 to 40 carbon atoms, or an alkyl group with 2 to 40 carbon atoms linked through an ester bond. become,
It is excluded that Y 1 to Y 4 are all methyl groups or that two or more substituents are alkyl groups having 16 or more carbon atoms.
제 1 항에 있어서,
R102 중 2개가 할로겐인, 화합물.
According to claim 1,
A compound in which two of R 102 are halogens.
제 1 항에 있어서,
R102 모두가 할로겐인, 화합물.
According to claim 1,
R 102 A compound in which all are halogens.
제 1 항에 있어서,
상기 화학식 2에서 Y1 내지 Y4 적어도 하나가 아릴기인, 화합물.
According to claim 1,
In Formula 2, at least one of Y 1 to Y 4 is an aryl group.
제 1 항에 있어서,
상기 화학식 2에서 Y1 내지 Y4 중 2 개의 치환기가 서로 연결되어 피페리딘 또는 피롤리딘을 형성하는, 화합물.
According to claim 1,
A compound in which two substituents of Y 1 to Y 4 in Formula 2 are connected to each other to form piperidine or pyrrolidine.
제 1 항에 있어서,
상기 고분자 매트릭스는 실란 작용기를 포함하는 실록산계 고분자 및 (메트)아크릴계 폴리올이 가교 결합하여 형성된 고분자 매트릭스인, 화합물.
According to claim 1,
The polymer matrix is a polymer matrix formed by crosslinking a siloxane-based polymer containing a silane functional group and a (meth)acrylic polyol.
제 1 항에 있어서,
상기 광 반응성 단량체는, (메트)아크릴로일기, 비닐기 및 티올기 중에서 선택되는 1 이상의 광 반응성기를 갖는, 화합물.
According to claim 1,
The photoreactive monomer is a compound having at least one photoreactive group selected from a (meth)acryloyl group, a vinyl group, and a thiol group.
전자 공여체(electron donor)인 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 따른 화합물; 및 광 감응 염료를 포함하고,
광 조사에 의해 활성화되어 고분자 매트릭스에 분산된 광 반응성 단량체의 광중합을 유발하고, 광학 정보를 기록하는데 사용되는,
광 중합 개시제계(initiator system).
The compound according to any one of claims 1 to 7, which is an electron donor; And a light-sensitive dye,
Activated by light irradiation to cause photopolymerization of photoreactive monomers dispersed in a polymer matrix, used to record optical information,
Photopolymerization initiator system.
제 8 항에 있어서,
전자 수용체(electron acceptor)로서 오늄염 화합물 및 트리아진 화합물 중에서 선택되는 1 이상을 더 포함하는,
광 중합 개시제계(initiator system).
According to claim 8,
Further comprising one or more selected from onium salt compounds and triazine compounds as an electron acceptor,
Photopolymerization initiator system.
실란 작용기를 포함하는 실록산계 고분자 및 (메트)아크릴계 폴리올이 가교 결합하여 형성된 고분자 매트릭스;
광반응성 단량체; 및
제 1 항에 따른 화합물 또는 제 8 항에 따른 상기 광개시제계를 포함하는,
조성물.
A polymer matrix formed by crosslinking a siloxane-based polymer containing a silane functional group and a (meth)acrylic-based polyol;
Photoreactive monomer; and
Comprising a compound according to claim 1 or said photoinitiator system according to claim 8,
Composition.
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