KR20240056110A - 네일 케어 어셈블리 및 그의 큐티클 제거 방법 - Google Patents

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KR20240056110A
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설혜인
민방경
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설혜인
민방경
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    • AHUMAN NECESSITIES
    • A45HAND OR TRAVELLING ARTICLES
    • A45DHAIRDRESSING OR SHAVING EQUIPMENT; EQUIPMENT FOR COSMETICS OR COSMETIC TREATMENTS, e.g. FOR MANICURING OR PEDICURING
    • A45D29/00Manicuring or pedicuring implements
    • A45D29/16Cuticle sticks

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  • Portable Nailing Machines And Staplers (AREA)

Abstract

본 발명의 실시예에 따른 네일 케어 어셈블리는, 네일(nail)에 있는 큐티클(cuticle)을 미는 푸셔 및 상기 큐티클을 절단하여 제거하는 니퍼를 포함하며, 상기 푸셔의 푸셔날에는 밀리미터 단위의 눈금이 구비되어 상기 큐티클 중 루즈 큐티클이 일측으로 밀릴 수 있다.

Description

네일 케어 어셈블리 및 그의 큐티클 제거 방법{NAIL CARE ASSEMBLY AND CUTICLE REMOVAL METHOD THEREOF}
본 발명은 네일 케어 어셈블리 및 그의 큐티클 제거 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 네일 케어 시 푸셔에 의해 큐티클 라인의 방어적 케어 라인을 형성한 다음 니퍼를 이용하여 큐티클 중 루즈 큐티클만을 정확하고 깔끔하게 절단하여 제거할 수 있으며, 이를 통해 네일 케어의 정확성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있는 네일 케어 어셈블리 및 그의 큐티클 제거 방법에 관한 것이다.
최근 들어, 미용에 대한 관심 증가로 인해 얼굴 화장이나 헤어 관리 외에도 손톱이나 발톱을 손질 관리하는 네일 미용 역시 하나의 미용 분야로 크게 각광받고 있고, 성장하고 있다.
이러한 네일 미용은 크게, 네일 케어, 인조 네일, 네일 아트의 세 개의 분야로 분류할 수 있으며, 이 중 네일 케어는 손톱 주변의 큐티클을 제거하고 정리하는 것이다. 큐티클을 없애는 이유는 미용상의 이유이다. 따라서 보기 싫은 큐티클 부분만 없애는 것이 중요한데, 일부의 사람들은 큐티클 안에까지 끄집어내서 없애야 한다는 잘못된 인식을 가지고 있다.
부연하면, 큐티클은 보통 바깥으로 하얗게 보이는 루즈 큐티클과, 보이는 부분의 선상에서부터 매트릭스 손톱 뿌리까지 덮고 있는 트루 큐티클로 이루어져 있다. 그런데, 큐티클 제거 시 루즈 큐티클을 제거하는 것이고, 트루 큐티클은 제거하면 안 되는 부분이다.
일반적으로 네일 케어에서 사용되는 미용 및 위생 도구는 다양하게 있는데, 그 중 푸셔는 손톱이나 발톱의 루즈 큐티클을 일측으로 미는 것이고, 네일 니퍼는 일측으로 밀린 루즈 큐티클을 잘라 제거하거나 다듬는 데 사용되는 것이다.
그런데, 이러한 푸셔 또는 니퍼를 사용하는 경우, 케어를 받는 사람이 다칠 수 있기 때문에 방어적 케어가 이루어져야 하는데, 종래의 경우에는 니퍼의 선단이 날카로울 뿐만 아니라 기준이 명확하지 않아 큐티클을 제거하면서 인접 피부에 상처를 낼 우려가 있었고, 푸셔의 경우에도 라운딩 선단의 각도 조절이 애매하여 정확한 푸셔의 사용이 어려운 한계가 있었다.
다시 말해 푸셔의 라운딩 선단의 각도 조절과, 니퍼의 방향성과 움직임 조절이 어려워, 이것을 누군가에게 가르치는 경우 방법 전달이 쉽지 않았으며, 따라서 방어적 케어를 하는 데에 어려움이 있었다.
부연하면, 푸셔의 각도가 잘못되면 트루 큐티클까지 드러나게 되고, 하얗게 드러난 트루 큐티클을 루즈 큐티클로 착각하여 제거하는 경우가 발생될 수 있다. 푸셔의 각도는 대략 45도가 되어야 함을 알고 있음에도 불구하고 실제로는 15도 내지 30도의 각도로 케어를 하기 때문에 네일 케어의 정확성이 저하됨은 물론 큐티클 제거 부분이 빨갛게 부풀어오르는 경우가 발생될 수도 있다.
따라서, 네일 케어 시 큐티클 라인의 방어적 케어 라인을 형성하고 큐티클을 제거하도록 하는 새로운 구성의 큐티클 제거용 어셈블리 및 이를 이용한 큐티클 제거 방법의 개발이 요구되는 실정이다.
관련 선행기술로는, 대한민국 등록특허 10-2136369호(발명의 명칭: 네일 큐티클 제거용 핑거 니퍼) 등이 있다.
본 발명의 실시예는 네일 케어 시 푸셔에 의해 큐티클 라인의 방어적 케어 라인을 형성한 다음 니퍼를 이용하여 큐티클 중 루즈 큐티클만을 정확하고 깔끔하게 절단하여 제거할 수 있으며, 이를 통해 네일 케어의 만족도를 높일 수 있는 네일 케어 어셈블리 및 그의 큐티클 제거 방법을 제공한다.
아울러, 푸셔에 새겨진 눈금에 의해 루즈 큐티클만을 밀어낼 수 있고, 또한 내측면에 눈금이 새겨진 니퍼의 양 날을 네일 바디 면에 밀착된 상태에서 루즈 큐티클만을 깔끔하게 제거할 수 있기 때문에 네일 케어의 정확성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있는 네일 케어 어셈블리 및 그의 큐티클 제거 방법을 제공한다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 과제(들)로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제(들)은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 네일 케어 어셈블리는, 네일(nail)에 있는 큐티클(cuticle)을 미는 푸셔 및 상기 큐티클을 절단하여 제거하는 니퍼를 포함하며, 상기 푸셔의 푸셔날에는 밀리미터 단위의 눈금이 구비되어 상기 큐티클 중 루즈 큐티클이 일측으로 밀릴 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 푸셔의 상기 푸셔날에는 선단의 중앙에서 기준선이 표시되고 상기 기준선의 양측으로 1mm 간격의 눈금이 표시되어 총 2mm 간격을 가질 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 푸셔날의 상기 눈금으로 인해 네일 바디의 면에 대한 상기 푸셔날의 각도가 40도 내지 80도의 범위로 유지될 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 푸셔날은 가상의 중앙의 직선을 기준으로 양측으로 갈수록 하방으로 곡면을 형성하며, 상기 푸셔날의 선단부는 상기 푸셔날의 후단부에 비해서 평평하게 마련될 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 푸셔의 후단부에 큐렛이 구비될 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 니퍼의 양 날 중 하나의 날은 큐티클에 의해 형성되는 네일 바디의 큐티클 내측 선을 따라 밀착된 상태로 전진하는 고정날이며, 다른 하나의 날은 상기 고정날에 대해서 접근 및 이격되며 상기 큐티클을 절단하는 작동날일 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 고정날 및 상기 작동날의 내측 단의 저면에는 1mm 내지 3mm의 눈금이 구비되어 사용자에게 보이도록 상기 니퍼가 작동될 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 고정날에 대한 상기 작동날의 이동 범위는 1mm 내일 수 있다.
한편, 본 발명의 실시예에 따른 네일 케어 어셈블리의 큐티클 제거 방법은, 상기 푸셔의 푸셔날에 구비되는 밀리미터 단위의 눈금을 이용하여 상기 큐티클 중 루즈 큐티클을 일측으로 미는 큐티클 푸싱 단계 및 상기 니퍼의 양 날 중 고정날을 상기 큐티클의 내측 선을 따라 손톱 또는 발톱의 면에 밀착된 상태로 전진하면서, 상기 니퍼의 양 날 중 다른 날인 작동날을 상기 고정날에 대해 접근 또는 이격하면서 상기 루즈 큐티클을 절단하여 제거하는 큐티클 제거 단계를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 큐티클 푸싱 단계 시 사용되는 상기 푸셔의 푸셔날에는 선단의 중앙에서 기준선이 표시되고 상기 기준선의 양측으로 1mm 간격의 눈금이 표시되어 총 2mm 간격을 가지는 눈금이 구비될 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 큐티클 푸싱 단계 시 사용되는 상기 푸셔의 상기 푸셔날의 상기 눈금으로 인해 네일 바디의 면에 대한 상기 푸셔날의 각도가 40도 내지 80도의 범위로 유지될 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 상기 큐티클 제거 단계 시 사용되는 상기 니퍼의 상기 고정날 및 상기 작동날의 내측 단의 저면에는 1mm 내지 3mm의 눈금이 구비되어 사용자에게 보이도록 상기 니퍼가 작동되며, 상기 고정날에 대한 상기 작동날의 이동 범위는 1mm 내일 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 네일 케어 시 푸셔에 의해 큐티클 라인의 방어적 케어 라인을 형성한 다음 니퍼를 이용하여 큐티클 중 루즈 큐티클만을 정확하고 깔끔하게 절단하여 제거할 수 있으며, 이를 통해 네일 케어의 만족도를 높일 수 있다.
또한, 푸셔에 새겨진 눈금에 의해 루즈 큐티클만을 밀어낼 수 있고, 또한 내측면에 눈금이 새겨진 니퍼의 양 날을 네일 바디 면에 밀착된 상태에서 루즈 큐티클만을 깔끔하게 제거할 수 있기 때문에 네일 케어의 정확성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 케어 어셈블리의 큐티클 제거 방법의 순서도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 케어 어셈블리 중 푸셔를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 3은 도 2에 도시된 푸셔를 이용하여 큐티클을 미는 것을 단계적으로 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 케어 어셈블리 중 니퍼를 도시한 도면이다.
도 5는 도 4의 니퍼를 반대측에서 도시한 사시도이다.
도 6은 도 4의 니퍼를 이용하여 큐티클을 제거하는 것을 도시한 도면이다.
본 발명의 이점 및/또는 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 케어 어셈블리의 큐티클 제거 방법의 순서도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 케어 어셈블리 중 푸셔를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 3은 도 2에 도시된 푸셔를 이용하여 큐티클을 미는 것을 단계적으로 도시한 도면이며, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 케어 어셈블리 중 니퍼를 도시한 도면이고, 도 5는 도 4의 니퍼를 반대측에서 도시한 사시도이며, 도 6은 도 4의 니퍼를 이용하여 큐티클을 제거하는 것을 도시한 도면이다.
이들 도면에 도시된 것처럼, 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 케어 어셈블리는, 네일(1, nail)에 있는 큐티클(10, cuticle)을 미는 푸셔(100)와, 큐티클(10)을 절단하여 제거하는 니퍼(200)를 포함할 수 있다.
여기서, 푸셔(100)의 푸셔날(120)에는 밀리미터 단위의 눈금(121)이 구비되어 있으며, 이로 인해 큐티클 중 루즈 큐티클(10)만을 예를 들면 네일(1) 바디의 일측으로 면밀하게 밀 수 있다. 아울러, 니퍼(200)의 양 날 중 하나의 날은 큐티클(10)에 의해 형성되는 네일(1) 바디의 내측 선을 따라 밀착된 상태로 전진하고 이때 다른 하나의 날이 작동하면서 푸셔(100)에 의해 밀린 루즈 큐티클(10)을 절단하여 제거할 수 있다.
니퍼(200)의 양 날의 내측 단으로부터 이격된 면에는 눈금(230)이 구비되어 이를 통해 니퍼(200)를 정확하게 작동시킬 수 있는데, 이에 대해서는 후술하기로 한다.
이러한 구성에 의해서, 도 1에 도시된 것처럼, 본 실시예의 큐티클 제거 방법이 신뢰성 있게 이루어질 수 있는 것이다. 본 실시예의 큐티클 제거 방법은, 큐티클(10)을 미는 큐티클 푸싱 단계(S100)와, 밀린 큐티클(10)을 절단하여 제거하는 큐티클 제거 단계(S200)를 포함하는데, 이러한 방법 및 이를 수행하는 각각의 구성에 대해서는 이하에서 상세히 설명하기로 한다.
먼저, 본 실시예의 큐티클 푸싱 단계(S100)를 실행하는 푸셔(100)는, 도 1에 도시된 것처럼, 파지를 위해 길게 마련되는 파지부재(110)와, 파지부재(110)의 선단에 마련되는 푸셔날(120)과, 파지부재(110)의 후단에 구비 가능한 큐렛(미도시)을 포함할 수 있다.
본 실시예의 파지부재(110)는 사람이 파지하기에 적절하도록 곡면을 가지면서 평평한 형상을 가질 수 있고, 중앙 부분에 미끄럼 방지 부분이 구비됨으로써 네일(1) 케어 시 파지부재(110)를 견고히 파지한 상태에서 원하는 네일(1) 케어를 할 수 있다.
본 실시예의 푸셔날(120)은, 도 1 및 도 2에 도시된 것처럼, 길이 방향으로는 직선을 갖되 중앙에서 양측으로 갈수록 하방으로 곡면을 형성하며, 아울러 푸셔날(120)의 선단부는 푸셔날(120)의 후단부에 비해 평평하게 마련될 수 있다.
이처럼, 푸셔날(120)이 전체적으로 평평하면서도 곡률을 가진 곡면 구간이 있음으로 해서 네일(1) 바디의 곡면에 대응되고, 따라서 네일(1) 바디에 있는 큐티클 중 루즈 큐티클(10)만을 정확하게 밀어낼 수 있다.
한편, 이러한 푸셔날(120)의 선단부에는 눈금(121)이 구비된다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 푸셔날(120)의 선단의 중앙에 기준선이 표시되고 기준선의 양측으로 눈금(121)이 새겨지는데, 예를 들면 양측으로 1mm의 간격의 큰 눈금이 표시되고, 그 사이에 작은 눈금들이 표시될 수 있다. 즉, 총 2mm의 눈금(121)이 푸셔날(120)의 선단부에 구비될 수 있는 것이다.
전술한 것처럼, 푸셔(100)로 큐티클 제거 시 트루 큐티클을 건드리면 안 되고, 루즈 큐티클(10)만 내측으로 밀어야 하는데, 예를 들면 푸셔(100)를 네일(1) 바디에 대해 15도 내지 30도의 각도로 하여 큐티클(10)을 미는 경우 루즈 큐티클(10)만이 아닌 트루 큐티클까지 밀릴 수 있으며, 이로 인해 네일을 자라게 하는 매트릭스 또는 네일 루트에 손상이 발생될 수 있다. 다시 말해, 네일(1) 바디에 대한 푸셔(100)의 각도 유지가 중요한 것이다.
이를 위해, 본 실시예의 푸셔날(120)에는 전술한 것처럼, 눈금(121)이 구비될 수 있다. 푸셔날(120)의 눈금으로 인해 네일(1) 바디의 면에 대한 푸셔날(120)의 각도(α)가, 도 2에 도시된 것처럼, 40도 내지 80도, 바람직하게는 45도를 유지할 수 있으며, 이 각도를 유지한 채 본 실시예의 큐티클 푸싱 단계(S100)를 수행할 수 있다.
푸셔날(120)에 있는 눈금(121)을 통해 네일(1) 바디의 면에 대한 푸셔날(120)의 각도를 알 수 있는데, 예를 들면 전술한 각도 범위를 벗어나는 경우 눈금의 최대치인 2mm를 벗어나는 것이기 때문에 푸셔(100)를 사용할 수 없게 된다.
다시 말해, 사용되는 범위의 눈금의 최대치가 2mm이기 때문에 그 내에서만 푸셔날(120)을 사용할 수 있으며, 1mm 또는 2mm의 눈금을 통해 40도 내지 80도의 푸셔(100)의 각도를 유지하면서 사용할 수 있는 것이다.
이처럼, 본 실시예의 푸셔날(120)에 구비되는 눈금(121)으로 인해 큐티클 중 루즈 큐티클(10)만을 정확하게 밀어낼 수 있으며, 후술할 니퍼(200)에 의해 밀린 큐티클(10)만을 정확하게 절단하여 제거할 수 있다.
도시하지는 않았지만, 푸셔(100)의 파지부재(110)의 후단부에는 큐렛이 장착될 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 종류의 네일 도구가 장착될 수 있음은 당연하다.
한편, 본 실시예의 큐티클 제거 단계(S200)를 실행하는 본 실시예의 니퍼(200)는, 도 4 및 도 5에 도시된 것처럼, 고정날(210)과, 고정날(210)에 대해서 접근 또는 이격되는 동작(가위와 같은 교차 동작)을 하면서 큐티클(10)을 절단하는 작동날(220)을 포함할 수 있다.
이 중 고정날(210)은, 도 6에 도시된 것처럼, 큐티클(10)에 의해 형성되는 네일(1) 바디의 큐티클(10) 내측 선을 따라 밀착된 상태로 전진하는 날이다. 그런데, 고정날(210)의 경사진 밑면이 들뜨는 것이 아니라 고정날(210)의 밑면이 네일(1) 바디에 최대한 밀착 상태를 유지해야 하며, 고정날(210)이 내측 선을 따라 전진하더라도 큐티클(10)의 내측 선에 대한 고정날(210)의 선단의 위치는 일정하게 유지됨으로써 고정날(210)에 대해 작동날(220)이 다가옴으로써 밀린 큐티클(10)이 절단되어 제거될 수 있다.
니퍼(200)의 다른 하나의 날인 작동날(220)은, 전술한 것처럼, 큐티클(10) 내측 선을 따라 고정날(210)이 전진할 때, 고정날(210)에 대해서 접근 및 이격되는 날로서 큐티클(10)을 실질적으로 절단하여 제거하는 날이다. 이러한 작동날(220) 역시 밑면이 최대한 네일(1) 바디에 밀착된 상태에서 작동하며, 따라서 큐티클(10) 제거가 정확하게 이루어질 수 있다.
부연하면, 니퍼(200)의 날의 면을 최대한 네일(1) 바디의 면에 밀착하는 것이 중요한데, 종래의 경우 니퍼의 선단만을 사용하는 경우가 많아 큐티클(10)이 불규칙하게 절단됨은 물론 니퍼의 선단에 의해 상처가 발생될 수 있었다. 예를 들면, 니퍼의 날이 케어 부위로 들어가 윗살이 당겨져 오면서 피가 날 수도 있었고, 이로 인해 네일 매트릭스나 네일 루트에 2차 감염이 발생될 수 있었다.
그런데, 본 실시예의 경우 니퍼(200)의 양 날을 네일(1) 바디의 면에 밀착시킬 수 있는 구조를 가짐으로써 전술한 문제 발생을 방지할 수 있음은 물론, 아주 얇게 깔려 있는 루즈 큐티클(10)만을 정확하게 제거할 수 있다.
도 4 내지 도 6을 참조하면, 본 실시예의 니퍼(200)의 고정날(210) 및 작동날(220)의 내측 단의 저면에는 1mm 내지 3mm, 보다 바람직하게는 2mm의 눈금(230)이 구비될 수 있으며, 이를 통해 니퍼(200)의 작동이 제대로 이루어지고 있는지를 파악할 수 있다.
부연하면, 도 4는 니퍼(200)의 평면 사시도이기 때문에 눈금(230)이 보이지 않아서 눈금(230)을 점선으로 표현하였으며, 도 5는 니퍼(200)의 저면 사시도이기 때문에 도 5를 통해 고정날(210) 및 작동날(220)의 내측 단의 저면에 구비되는 눈금(230)을 확인할 수 있다.
니퍼(200)를 사용하는 사용자에게 눈금(230)이 보이는 경우, 네일(1) 바디 면에 대한 니퍼(200)의 위치가 바르게 유지되면서 작동이 이루어진다는 것이고, 반대로 눈금(230)이 보이지 않는 경우 니퍼(200)의 위치가 바르지 않다는 것을 나타내는 것인데, 이를 통해 니퍼(200)의 작동을 파악할 수 있는 것이다.
니퍼(200)의 고정날(210)에 대한 작동날(220)의 이동 범위는 1mm 이내일 수 있다. 도 6에 도시된 것처럼, 고정날(210)에 대해 작동날(220)이 작게 움직이면서 루즈 큐티클(10)만을 정확하게 절단할 수 있는 것이다. 다만, 고정날(210)에 대한 작동날(220)의 이동 범위가 이에 한정되는 것은 아니다.
이와 같이, 본 발명의 실시예에 따르면, 네일(1) 케어 시 푸셔(100)에 의해 큐티클(10) 라인의 방어적 케어 라인을 형성한 다음 니퍼(200)를 이용하여 큐티클 중 루즈 큐티클(10)만을 정확하고 깔끔하게 절단하여 제거할 수 있으며, 이를 통해 네일(1) 케어의 만족도를 높일 수 있다.
또한, 푸셔(100)에 새겨진 눈금(121)에 의해 루즈 큐티클(10)만을 밀어낼 수 있고, 또한 내측면에 눈금(230)이 새겨진 니퍼(200)의 양 날을 네일(1) 바디 면에 밀착된 상태에서 루즈 큐티클(10)만을 깔끔하게 제거할 수 있기 때문에 네일(1) 케어의 정확성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
지금까지 본 발명에 따른 구체적인 실시예에 관하여 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 후술하는 특허 청구의 범위뿐 아니라 이 특허 청구의 범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 이는 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명 사상은 아래에 기재된 특허청구범위에 의해서만 파악되어야 하고, 이의 균등 또는 등가적 변형 모두는 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
1: 네일(손톱 또는 발톱)
10: 큐티클
100: 푸셔
110: 파지부재
120: 푸셔날
121: 푸셔날의 눈금
200: 니퍼
210: 고정날
220: 작동날
230: 니퍼의 날의 눈금
S100: 큐티클 푸싱 단계
S200: 큐티클 제거 단계

Claims (12)

  1. 네일(nail)에 있는 큐티클(cuticle)을 미는 푸셔; 및
    상기 큐티클을 절단하여 제거하는 니퍼;
    를 포함하며,
    상기 푸셔의 푸셔날에는 밀리미터 단위의 눈금이 구비되어 상기 큐티클 중 루즈 큐티클이 일측으로 밀리는 것을 특징으로 하는 네일 케어 어셈블리.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 푸셔의 상기 푸셔날에는 선단의 중앙에서 기준선이 표시되고 상기 기준선의 양측으로 1mm 간격의 눈금이 표시되어 총 2mm 간격을 가지는 눈금이 구비되는 것을 특징으로 하는 네일 케어 어셈블리.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 푸셔날의 상기 눈금으로 인해 네일 바디의 면에 대한 상기 푸셔날의 각도가 40도 내지 80도의 범위로 유지되는 것을 특징으로 하는 네일 케어 어셈블리.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 푸셔날은 가상의 중앙의 직선을 기준으로 양측으로 갈수록 하방으로 곡면을 형성하며, 상기 푸셔날의 선단부는 상기 푸셔날의 후단부에 비해서 평평하게 마련되는 것을 특징으로 하는 네일 케어 어셈블리.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 푸셔의 후단부에 큐렛이 구비되는 것을 특징으로 하는 네일 케어 어셈블리.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 니퍼의 양 날 중 하나의 날은 큐티클에 의해 형성되는 네일 바디의 큐티클 내측 선을 따라 밀착된 상태로 전진하는 고정날이며, 다른 하나의 날은 상기 고정날에 대해서 접근 및 이격되며 상기 큐티클을 절단하는 작동날인 것을 특징으로 하는 네일 케어 어셈블리.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 고정날 및 상기 작동날의 내측 단의 저면에는 1mm 내지 3mm의 눈금이 구비되어 사용자에게 보이도록 상기 니퍼가 작동되는 것을 특징으로 하는 네일 케어 어셈블리.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 고정날에 대한 상기 작동날의 이동 범위는 1mm 내인 것을 특징으로 하는 네일 케어 어셈블리.
  9. 네일에 있는 큐티클을 미는 푸셔와, 상기 큐티클을 절단하여 제거하는 니퍼를 포함하는 네일 케어 어셈블리의 큐티클 제거 방법에 있어서,
    상기 푸셔의 푸셔날에 구비되는 밀리미터 단위의 눈금을 이용하여 상기 큐티클 중 루즈 큐티클을 일측으로 미는 큐티클 푸싱 단계; 및
    상기 니퍼의 양 날 중 고정날을 상기 큐티클의 내측 선을 따라 손톱 또는 발톱의 면에 밀착된 상태로 전진하면서, 상기 니퍼의 양 날 중 다른 날인 작동날을 상기 고정날에 대해 접근 또는 이격하면서 상기 루즈 큐티클을 절단하여 제거하는 큐티클 제거 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 네일 케어 어셈블리의 큐티클 제거 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 큐티클 푸싱 단계 시 사용되는 상기 푸셔의 푸셔날에는 선단의 중앙에서 기준선이 표시되고 상기 기준선의 양측으로 1mm 간격의 눈금이 표시되어 총 2mm 간격을 가지는 눈금이 구비되는 것을 특징으로 하는 네일 케어 어셈블리의 큐티클 제거 방법.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 큐티클 푸싱 단계 시 사용되는 상기 푸셔의 상기 푸셔날의 상기 눈금으로 인해 네일 바디의 면에 대한 상기 푸셔날의 각도가 40도 내지 80도의 범위로 유지되는 것을 특징으로 하는 네일 케어 어셈블리의 큐티클 제거 방법.
  12. 제9항에 있어서,
    상기 큐티클 제거 단계 시 사용되는 상기 니퍼의 상기 고정날 및 상기 작동날의 내측 단의 저면에는 1mm 내지 3mm의 눈금이 구비되어 사용자에게 보이도록 상기 니퍼가 작동되며,
    상기 고정날에 대한 상기 작동날의 이동 범위는 1mm 내인 것을 특징으로 하는 네일 케어 어셈블리의 큐티클 제거 방법.
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