KR20240054382A - surface treatment agent - Google Patents

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KR20240054382A
KR20240054382A KR1020247011883A KR20247011883A KR20240054382A KR 20240054382 A KR20240054382 A KR 20240054382A KR 1020247011883 A KR1020247011883 A KR 1020247011883A KR 20247011883 A KR20247011883 A KR 20247011883A KR 20240054382 A KR20240054382 A KR 20240054382A
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KR1020247011883A
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가즈키 마루하시
히사시 미츠하시
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다이킨 고교 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 하기 식 (1) 또는 (2)(식 중, 각 기호는 명세서 중의 기재와 동일한 의미임)로 표시되는 화합물.
The present invention relates to a compound represented by the following formula (1) or (2) (wherein each symbol has the same meaning as described in the specification).

Description

표면 처리제surface treatment agent

본 개시는, 신규 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물, 및 이러한 화합물을 포함하는 표면 처리제에 관한 것이다.The present disclosure relates to novel fluoropolyether group-containing acrylic compounds and surface treatment agents containing such compounds.

어느 종의 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물은, 기재의 표면 처리에 사용하면, 우수한 발수성, 발유성, 방오성 등을 제공할 수 있는 것이 알려져 있다. 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물을 포함하는 표면 처리제로부터 얻어지는 층(이하, 「표면 처리층」이라고도 함)은, 소위 기능성 박막으로서, 예를 들어 유리, 플라스틱, 섬유, 위생 용품, 건축 자재 등 여러 가지 다양한 기재에 실시되고 있다(특허문헌 1).It is known that certain types of fluoropolyether group-containing silane compounds can provide excellent water repellency, oil repellency, antifouling properties, etc. when used for surface treatment of substrates. The layer obtained from a surface treatment agent containing a fluoropolyether group-containing silane compound (hereinafter also referred to as “surface treatment layer”) is a so-called functional thin film, which is used for various applications such as glass, plastic, fiber, sanitary products, and building materials. It has been implemented on various substrates (Patent Document 1).

일본 특허 공개 제2003-238577호 공보Japanese Patent Publication No. 2003-238577

특허문헌 1에 기재된 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물은, 우수한 기능을 갖는 표면 처리층을 부여할 수 있지만, 보다 높은 내구성을 갖는 표면 처리층이 요구되고 있다.The fluoropolyether group-containing silane compound described in Patent Document 1 can provide a surface treatment layer with excellent function, but a surface treatment layer with higher durability is required.

본 개시는, 내구성이 우수한 표면 처리층을 부여할 수 있는 플루오로폴리에테르기 함유 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.The purpose of the present disclosure is to provide a fluoropolyether group-containing compound capable of providing a highly durable surface treatment layer.

본 개시는, 이하의 양태를 포함한다.This disclosure includes the following aspects.

[1] 하기 식 (1) 또는 (2):[1] Equation (1) or (2) below:

[식 중:[Formula:

RF1은, Rf1-RF-Oq-이며,R F1 is Rf 1 -R F -O q -,

RF2는, -Rf2 p-RF-Oq-이며,R F2 is -Rf 2 p -R F -O q -,

Rf1은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-16 알킬기이며,Rf 1 is a C 1-16 alkyl group which may be substituted with one or more fluorine atoms,

Rf2는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기이며,Rf 2 is a C 1-6 alkylene group which may be substituted with one or more fluorine atoms,

RF는, 각각 독립적으로, 2가의 플루오로폴리에테르기이며,R F is each independently a divalent fluoropolyether group,

p는, 0 또는 1이며,p is 0 or 1,

q는, 각각 독립적으로, 0 또는 1이며,q is each independently 0 or 1,

XA는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는 2가의 유기기이며,X A is each independently a single bond or a divalent organic group,

XB는, 각각 독립적으로, Si 원자를 함유하지 않는 탄소수 1 내지 10의 (m+n+1)가의 기이며, Each of

RSi는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -XC-SiR1 n'R2 3-n'이며,R Si is independently -X C -SiR 1 n' R 2 3-n' in each occurrence,

XC는, 탄소수 1 내지 10의 2가 유기기이며,X C is a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms,

R1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수 분해성기이며,R 1 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group in each occurrence,

R2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이며,R 2 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group in each occurrence,

n'는, 1 내지 3의 정수이며,n' is an integer from 1 to 3,

RAc는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -XD-XE(-XF-OCO-CR5=CH2)m'이며,R Ac is, independently in each occurrence, -X D -X E (-X F -OCO-CR 5 =CH 2 ) m' ,

XD는, 단결합, 또는 2가의 유기기이며,X D is a single bond or a divalent organic group,

XE는, 단결합, 또는 (m'+1)가의 기이며,X E is a single bond or (m'+1) valent group,

XF는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합, 또는 탄소수 1 내지 10의 2가의 유기기이며,X F , in each occurrence, is independently a single bond or a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms,

R5는, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 1가의 유기기이며,R 5 is a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms,

m'는, 1 내지 10의 정수이며,m' is an integer from 1 to 10,

n은, 각각 독립적으로, 1 내지 10의 정수이며,n is each independently an integer from 1 to 10,

m은, 각각 독립적으로, 1 내지 10의 정수임]m is each independently an integer from 1 to 10]

로 표시되는 화합물.Compounds represented by .

[2] RF는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 식:[2] R F is independently for each occurrence, in the equation:

-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3RFa 6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f--(OC 6 F 12 ) a -(OC 5 F 10 ) b -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 R Fa 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f -

[식 중, RFa는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이며,[In the formula, R Fa is independently a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom in each occurrence,

a, b, c, d, e 및 f는, 각각 독립적으로, 0 내지 200의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 1 이상이며, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이며, 단, 모든 RFa가 수소 원자 또는 염소 원자인 경우, a, b, c, e 및 f 중 적어도 1개는, 1 이상임]a, b, c, d, e and f are each independently an integer from 0 to 200, and the sum of a, b, c, d, e and f is 1 or more, and a, b, c, d, The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses by adding e or f is arbitrary in the formula, provided that when all R Fa is a hydrogen atom or a chlorine atom, at least one of a, b, c, e and f is, [is more than 1]

로 표시되는 기인, 상기 [1]에 기재된 화합물.The compound described in [1] above, which is a group represented by .

[3] RFa는, 불소 원자인, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된, 화합물.[3] The compound according to [1] or [2] above, wherein R Fa is a fluorine atom.

[4] RF는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (f1), (f2), (f3), (f4), (f5) 또는 (f6):[4] R F , in each occurrence, is independently represented by the following formula (f1), (f2), (f3), (f4), (f5) or (f6):

-(OC3F6)d-(OC2F4)e- (f1)-(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e - (f1)

[식 중, d는 1 내지 200의 정수이며, e는, 0 또는 1임],[Wherein, d is an integer from 1 to 200, and e is 0 or 1],

-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f2)-(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f2)

[식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로, 0 내지 30의 정수이며;[Wherein, c and d are each independently an integer of 0 to 30;

e 및 f는, 각각 독립적으로, 1 내지 200의 정수이며;e and f are each independently an integer from 1 to 200;

c, d, e 및 f의 합은, 10 내지 200의 정수이며;The sum of c, d, e and f is an integer from 10 to 200;

첨자 c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의임],The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with the subscript c, d, e or f is arbitrary in the formula],

-(R6-R7)g-R9- (f3)-(R 6 -R 7 ) g -R 9 - (f3)

[식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이며;[Wherein, R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 ;

R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이며;R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or a combination of 2 or 3 groups selected from these groups;

R9는, 단결합, 또는, OCF2, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이며;R 9 is a single bond or a group selected from OCF 2 , OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 ;

g는, 2 내지 100의 정수임],g is an integer from 2 to 100],

-(R6-R7)g-Rr-(R7'-R6')g'- (f4)-(R 6 -R 7 ) g -R r -(R 7' -R 6' ) g' - (f4)

[식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이며,[Wherein, R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 ;

R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기로부터 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이며,R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or a combination of 2 or 3 groups independently selected from these groups and

R6'는, OCF2 또는 OC2F4이며,R 6' is OCF 2 or OC 2 F 4 ,

R7'는, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기로부터 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이며,R 7' is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or two or three groups independently selected from these groups. It is a combination,

g는, 2 내지 100의 정수이며,g is an integer from 2 to 100,

g'는, 2 내지 100의 정수이며,g' is an integer from 2 to 100,

Rr은,R r is,

(식 중, *는, 결합 위치를 나타냄)(In the formula, * indicates the binding position)

임];lim];

-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f5)-(OC 6 F 12 ) a -(OC 5 F 10 ) b -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f5)

[식 중, e는, 1 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d 및 f는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 적어도 1이며, 또한, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임][In the formula, e is an integer between 1 and 200, and a, b, c, d, and f are each independently integers between 0 and 200, and is the sum of a, b, c, d, e, and f. is at least 1, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the formula]

-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f6)-(OC 6 F 12 ) a -(OC 5 F 10 ) b -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f6)

[식 중, f는, 1 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d 및 e는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 적어도 1이며, 또한, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임][In the formula, f is an integer between 1 and 200, and a, b, c, d, and e are each independently integers between 0 and 200, and is the sum of a, b, c, d, e, and f. is at least 1, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the formula]

으로 표시되는 기인, 상기 [1] 내지 [3] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.The compound according to any one of [1] to [3] above, which is a group represented by .

[5] Rf1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, C1-16 퍼플루오로알킬기이며,[5] Rf 1 is independently a C 1-16 perfluoroalkyl group in each occurrence,

Rf2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, C1-6 퍼플루오로알킬렌기인, 상기 [1] 내지 [4] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.The compound according to any one of [1] to [4] above, wherein each occurrence of Rf 2 is independently a C 1-6 perfluoroalkylene group.

[6] XA는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는 우레탄 결합을 포함하지 않는 2가의 유기기인, 상기 [1] 내지 [5] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.[6] The compound according to any one of [1] to [5] above, wherein X A is each independently a single bond or a divalent organic group not containing a urethane bond.

[7] XA는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는[7] X A is, each independently, a single bond, or

-(CαR11 )s1-R12 t1--(C α R 11 ) s1 -R 12 t1 -

[식 중:[Formula:

R11은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 불소 원자이며,R 11 is independently a hydrogen atom or a fluorine atom in each occurrence,

α는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 1 내지 10의 정수이며,α is an integer from 1 to 10, independently for each occurrence,

R12는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -O-, -CO-, -NR10-, -CONR10-, -NR10CO-, -COO-, 또는 -OCO-이며,R 12 is, in each occurrence, independently -O-, -CO-, -NR 10 -, -CONR 10 -, -NR 10 CO-, -COO-, or -OCO-,

R10은, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기이며,R 10 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group,

s1은, 0 내지 3의 정수이며,s1 is an integer from 0 to 3,

t1은, 0 내지 3의 정수이며,t1 is an integer from 0 to 3,

s1과 t1의 합계는, 1 이상이며,The sum of s1 and t1 is 1 or more,

s1 또는 t1을 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임]The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with s1 or t1 is arbitrary in the equation]

로 표시되는 기인, 상기 [1] 내지 [6] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.The compound according to any one of [1] to [6] above, which is a group represented by .

[8] XA는, -CONR10-Cα1H2α1-, -(Cα2H2α2)-O-(Cα3H2α3)-, 또는 -Cα4H2α4-이며, [ 8 ]

R10은, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기이며,R 10 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group,

α1은, 1 내지 10의 정수이며,α1 is an integer from 1 to 10,

α2는, 0 내지 6의 정수이며,α2 is an integer from 0 to 6,

α3은, 0 내지 6의 정수이며,α3 is an integer from 0 to 6,

α4는, 0 내지 6의 정수인, 상기 [7]에 기재된 화합물.The compound described in [7] above, where α4 is an integer from 0 to 6.

[9] XA는, -CONR10-Cα1H2α1-인, 상기 [8]에 기재된 화합물.[9] X A is -CONR 10 -C α1 H 2α1 - The compound described in [8] above.

[10] XB는, 3가의 기이며, n은 1이며, m은 1인, 상기 [1] 내지 [9] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.[10] The compound according to any one of [1] to [9] above, wherein X B is a trivalent group, n is 1, and m is 1.

[11] XB는,[11 ]

[식 중, R8은, 수소 원자, 또는 C1-6 알킬기임][Wherein, R 8 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group]

이며, n은 1이며, m은 1인, 상기 [1] 내지 [10] 중 어느 한 항에 기재된 화합물., n is 1, and m is 1. The compound according to any one of [1] to [10] above.

[12] XC는,[ 12 ]

C1-6 알킬렌기,C 1-6 alkylene group,

-(CH2)z1-O-(CH2)z2-(식 중, z1은, 0 내지 6의 정수이며, z2는, 0 내지 6의 정수임),-(CH 2 ) z1 -O-(CH 2 ) z2 - (wherein, z1 is an integer from 0 to 6, and z2 is an integer from 0 to 6),

-(CH2)z3-페닐렌-(CH2)z4-(식 중, z3은, 0 내지 6의 정수이며, z4는, 0 내지 6의 정수임), 또는-(CH 2 ) z3 -phenylene-(CH 2 ) z4 - (wherein, z3 is an integer of 0 to 6, and z4 is an integer of 0 to 6), or

-(CH2)z13-OCONH-(CH2)z14-(식 중, z13은, 0 내지 6의 정수이며, z14는, 0 내지 6의 정수임)인, 상기 [1] 내지 [11] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.-(CH 2 ) z13 -OCONH-(CH 2 ) z14 - (wherein, z13 is an integer from 0 to 6, and z14 is an integer from 0 to 6), any of the above [1] to [11] Compounds described in paragraph one.

[13] XC는, C1-6 알킬렌기인, 상기 [1] 내지 [12] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.[13] The compound according to any one of [1] to [12] above, wherein X C is a C 1-6 alkylene group.

[14] n'는, 2 또는 3인, 상기 [1] 내지 [13] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.[14] The compound according to any one of [1] to [13] above, wherein n' is 2 or 3.

[15] n'는 3인, 상기 [1] 내지 [14] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.[15] The compound according to any one of [1] to [14] above, wherein n' is 3.

[16] XE는, 단결합인, 상기 [1] 내지 [15] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.[16] The compound according to any one of [1] to [15] above, wherein X E is a single bond.

[17] XE는, -XG-XH이며,[17] X E is -X G -X H ,

XG는,X G is,

단결합,single bond,

C1-6 알킬렌기,C 1-6 alkylene group,

-(CH2)z9-O-(CH2)z10-(식 중, z9는, 0 내지 6의 정수이며, z10은, 0 내지 6의 정수임), 또는,-(CH 2 ) z9 -O-(CH 2 ) z10 - (wherein, z9 is an integer from 0 to 6, and z10 is an integer from 0 to 6), or,

-(CH2)z11-페닐렌-(CH2)z12-(식 중, z11은, 0 내지 6의 정수이며, z12는, 0 내지 6의 정수임)-(CH 2 ) z11 -phenylene-(CH 2 ) z12 - (wherein, z11 is an integer of 0 to 6, and z12 is an integer of 0 to 6)

이며,and

XH는, 하기X H is

이며,and

R8은, 수소 원자, 또는 C1-6 알킬기인, 상기 [1] 내지 [15] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.The compound according to any one of [1] to [15] above, wherein R 8 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group.

[18] XD는, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NHCO-, -OCONH-, -NHCOO-, -NH-CO-NH-, -CH2CH(OH)CH2-, -CH(CH2OH)CH2-,[ 18 ] CH(OH)CH 2 -, -CH(CH 2 OH)CH 2 -,

[식 중, * 및 **는, 결합 위치를 나타내고, *는 XB에 결합하고, **는 XE에 결합함]인, 상기 [1] 내지 [17] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.The compound according to any one of [1] to [17] above, wherein * and ** represent the binding position, * is bonded to X B , and ** is bonded to

[19] XF는,[ 19 ]

단결합,single bond,

C1-6 알킬렌기,C 1-6 alkylene group,

-(CH2)z5-O-(CH2)z6-(식 중, z5는, 0 내지 6의 정수이며, z6은, 0 내지 6의 정수임), 또는,-(CH 2 ) z5 -O-(CH 2 ) z6 - (wherein, z5 is an integer from 0 to 6, and z6 is an integer from 0 to 6), or,

-(CH2)z7-페닐렌-(CH2)z8-(식 중, z7은, 0 내지 6의 정수이며, z8은, 0 내지 6의 정수임)인, 상기 [1] 내지 [18] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.-(CH 2 ) z7 -phenylene-(CH 2 ) z8 - (wherein, z7 is an integer of 0 to 6, and z8 is an integer of 0 to 6) in [1] to [18] above. The compound according to any one of the preceding paragraphs.

[20] R5는, 수소 원자, 또는 메틸기인, 상기 [1] 내지 [19] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.[20] The compound according to any one of [1] to [19] above, wherein R 5 is a hydrogen atom or a methyl group.

[21] 상기 [1] 내지 [20] 중 어느 한 항에 기재된 화합물을 함유하는, 표면 처리제.[21] A surface treatment agent containing the compound according to any one of [1] to [20] above.

[22] 불소 함유 오일, 실리콘 오일, 및 촉매에서 선택되는 1종 또는 그 이상의 다른 성분을 더 함유하는, 상기 [21]에 기재된 표면 처리제.[22] The surface treatment agent according to [21] above, further containing one or more other components selected from fluorine-containing oil, silicone oil, and catalyst.

[23] 방오성 코팅제 또는 방수성 코팅제로서 사용되는, 상기 [21] 또는 [22]에 기재된 표면 처리제.[23] The surface treatment agent according to [21] or [22] above, which is used as an antifouling coating agent or a waterproof coating agent.

[24] 기재와, 해당 기재의 표면에, 상기 [1] 내지 [19] 중 어느 한 항에 기재된 화합물 또는 상기 [21] 내지 [23] 중 어느 한 항에 기재된 표면 처리제로 형성된 층을 포함하는 물품.[24] Comprising a substrate and a layer formed on the surface of the substrate with the compound according to any one of [1] to [19] above or the surface treatment agent according to any one of [21] to [23] above. article.

본 개시에 의하면, 내구성이 우수한 표면 처리층을 부여할 수 있는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물을 제공할 수 있다.According to the present disclosure, it is possible to provide an acrylic compound containing a fluoropolyether group that can provide a surface treatment layer with excellent durability.

본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「1가의 유기기」란, 탄소를 함유하는 1가의 기를 의미한다. 1가의 유기기로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 탄화수소기 또는 그의 유도체일 수 있다. 탄화수소기의 유도체란, 탄화수소기의 말단 또는 분자쇄 중에, 1개 또는 그 이상의 N, O, S, Si, 아미드, 술포닐, 실록산, 카르보닐, 카르보닐옥시 등을 갖고 있는 기를 의미한다. 또한, 단순히 「유기기」라고 나타내는 경우, 1가의 유기기를 의미한다. 또한, 「2가의 유기기」란, 탄소를 함유하는 2가의 기를 의미한다. 이와 같은 2가의 유기기로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 유기기로부터 1개의 수소 원자를 더 탈리시킨 2가의 기를 들 수 있다.As used herein, “monovalent organic group” means a monovalent group containing carbon. The monovalent organic group is not particularly limited, but may be a hydrocarbon group or a derivative thereof. A derivative of a hydrocarbon group refers to a group having one or more N, O, S, Si, amide, sulfonyl, siloxane, carbonyl, carbonyloxy, etc. at the end of the hydrocarbon group or in the molecular chain. Additionally, when simply expressed as “organic group”, it means a monovalent organic group. Additionally, “divalent organic group” means a divalent group containing carbon. Such a divalent organic group is not particularly limited, but includes a divalent group in which one hydrogen atom is further removed from the organic group.

본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「탄화수소기」란, 탄소 및 수소를 포함하는 기이며, 탄화수소로부터 1개의 수소 원자를 탈리시킨 기를 의미한다. 이러한 탄화수소기로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되는, C1-20 탄화수소기, 예를 들어 지방족 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 등을 들 수 있다. 상기 「지방족 탄화수소기」는, 직쇄상, 분지쇄상 또는 환상 중 어느 것이어도 되고, 포화 또는 불포화 중 어느 것이어도 된다. 또한, 탄화수소기는, 1개 또는 그 이상의 환 구조를 포함하고 있어도 된다.As used in this specification, “hydrocarbon group” refers to a group containing carbon and hydrogen, and means a group in which one hydrogen atom is removed from a hydrocarbon. Such hydrocarbon groups are not particularly limited, but include C 1-20 hydrocarbon groups that may be substituted with one or more substituents, such as aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups. The “aliphatic hydrocarbon group” may be linear, branched, or cyclic, and may be saturated or unsaturated. Additionally, the hydrocarbon group may contain one or more ring structures.

본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「탄화수소기」의 치환기로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 할로겐 원자, 1개 또는 그 이상의 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는, C1-6 알킬기, C2-6 알케닐기, C2-6 알키닐기, C3-10 시클로알킬기, C3-10 불포화 시클로알킬기, 5 내지 10원의 헤테로시클릴기, 5 내지 10원의 불포화 헤테로시크릴기, C6-10 아릴기 및 5 내지 10원의 헤테로아릴기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 기를 들 수 있다.When used in this specification, the substituent for the “hydrocarbon group” is not particularly limited, but includes, for example, a halogen atom, a C 1-6 alkyl group which may be substituted with one or more halogen atoms, and C 2 -6 alkenyl group, C 2-6 alkynyl group, C 3-10 cycloalkyl group, C 3-10 unsaturated cycloalkyl group, 5 to 10 membered heterocyclyl group, 5 to 10 membered unsaturated heterocyclyl group, C 6- One or more groups selected from 10- membered aryl groups and 5- to 10-membered heteroaryl groups can be mentioned.

본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「가수 분해성기」란, 가수 분해 반응을 받을 수 있는 기를 의미하고, 즉, 가수 분해 반응에 의해, 화합물의 주골격으로부터 탈리할 수 있는 기를 의미한다. 가수 분해성기의 예로서는, -ORh, -OCORh, -O-N=CRh 2, -NRh 2, -NHRh, -NCO, 할로겐(이들 식 중, Rh는, 치환 또는 비치환의 C1-4 알킬기를 나타냄) 등을 들 수 있다.When used in this specification, “hydrolyzable group” means a group that can undergo a hydrolysis reaction, that is, a group that can be separated from the main skeleton of the compound through a hydrolysis reaction. Examples of hydrolyzable groups include -OR h , -OCOR h , -ON=CR h 2 , -NR h 2 , -NHR h , -NCO, halogen (in these formulas, R h is substituted or unsubstituted C 1- 4 represents an alkyl group), and the like.

본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 하기 식 (1) 또는 (2):The fluoropolyether group-containing acrylic compound of the present disclosure has the following formula (1) or (2):

[식 중:[Formula:

RF1은, Rf1-RF-Oq-이며,R F1 is Rf 1 -R F -O q -,

RF2는, -Rf2 p-RF-Oq-이며,R F2 is -Rf 2 p -R F -O q -,

Rf1은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-16 알킬기이며,Rf 1 is a C 1-16 alkyl group which may be substituted with one or more fluorine atoms,

Rf2는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기이며,Rf 2 is a C 1-6 alkylene group which may be substituted with one or more fluorine atoms,

RF는, 각각 독립적으로, 2가의 플루오로폴리에테르기이며,R F is each independently a divalent fluoropolyether group,

p는, 0 또는 1이며,p is 0 or 1,

q는, 각각 독립적으로, 0 또는 1이며,q is each independently 0 or 1,

XA는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는 2가의 유기기이며,X A is each independently a single bond or a divalent organic group,

XB는, 각각 독립적으로, Si 원자를 함유하지 않는 탄소수 1 내지 10의 (m+n+1)가의 기이며, Each of

RSi는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -XC-SiR1 n'R2 3 -n'이며,R Si is independently -X C -SiR 1 n' R 2 3 -n' in each occurrence,

XC는, 탄소수 1 내지 10의 2가의 유기기이며,X C is a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms,

R1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수 분해성기이며,R 1 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group in each occurrence,

R2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이며,R 2 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group in each occurrence,

n'는, 1 내지 3의 정수이며,n' is an integer from 1 to 3,

RAc는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -XD-XE(-XF-OCO-CR5=CH2)m '이며,R Ac is, independently in each occurrence, -X D -X E (-X F -OCO-CR 5 =CH 2 ) m ' ,

XD는, 단결합, 또는 2가의 유기기이며,X D is a single bond or a divalent organic group,

XE는, 단결합, 또는 (m'+1)가의 기이며,X E is a single bond or (m'+1) valent group,

XF는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합, 또는 유기기이며,X F , in each occurrence, is independently a single bond or an organic group,

R5는, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 1가의 유기기이며,R 5 is a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms,

m'는, 1 내지 10의 정수이며,m' is an integer from 1 to 10,

n은, 각각 독립적으로, 1 내지 10의 정수이며,n is each independently an integer from 1 to 10,

m은, 각각 독립적으로, 1 내지 10의 정수임]m is each independently an integer from 1 to 10]

로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물이다.It is an acrylic compound containing a fluoropolyether group, represented by .

상기 식 (1)에 있어서, RF1은, Rf1-RF-Oq-이다.In the above formula (1), R F1 is Rf 1 -R F -O q -.

상기 식 (2)에 있어서, RF2는, -Rf2 p-RF-Oq-이다.In the above formula (2), R F2 is -Rf 2 p -R F -O q -.

상기 식에 있어서, Rf1은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-16 알킬기이다.In the above formula, Rf 1 is a C 1-16 alkyl group which may be substituted with one or more fluorine atoms.

상기 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-16 알킬기에 있어서의 「C1-16 알킬기」는, 직쇄여도, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C1-6 알킬기, 특히 C1-3 알킬기이며, 보다 바람직하게는 직쇄의 C1-6 알킬기, 특히 C1-3 알킬기이다.The "C 1-16 alkyl group" in the C 1-16 alkyl group which may be substituted by one or more fluorine atoms may be straight chain or branched, and is preferably straight chain or branched C 1- It is a 6 -alkyl group, especially a C 1-3 alkyl group, and more preferably a straight-chain C 1-6 alkyl group, especially a C 1-3 alkyl group.

상기 Rf1은, 바람직하게는 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있는 C1-16 알킬기이며, 보다 바람직하게는 CF2H-C1-15 퍼플루오로알킬렌기이며, 더욱 바람직하게는 C1-16 퍼플루오로알킬기이다.The Rf 1 is preferably a C 1-16 alkyl group substituted with one or more fluorine atoms, more preferably a CF 2 HC 1-15 perfluoroalkylene group, and even more preferably a C 1 It is a -16 perfluoroalkyl group.

상기 C1-16 퍼플루오로알킬기는, 직쇄여도, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C1-6 퍼플루오로알킬기, 특히 C1-3 퍼플루오로알킬기이며, 보다 바람직하게는 직쇄의 C1-6 퍼플루오로알킬기, 특히 C1-3 퍼플루오로알킬기, 구체적으로는 -CF3, -CF2CF3, 또는 -CF2CF2CF3이다.The C 1-16 perfluoroalkyl group may be straight-chain or branched, and is preferably a straight-chain or branched C 1-6 perfluoroalkyl group, especially a C 1-3 perfluoroalkyl group, and more preferably is a straight-chain C 1-6 perfluoroalkyl group, especially a C 1-3 perfluoroalkyl group, specifically -CF 3 , -CF 2 CF 3 , or -CF 2 CF 2 CF 3 .

상기 식에 있어서, Rf2는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기이다.In the above formula, Rf 2 is a C 1-6 alkylene group that may be substituted with one or more fluorine atoms.

상기 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기에 있어서의 「C1-6 알킬렌기」는, 직쇄여도, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C1-3 알킬렌기이며, 보다 바람직하게는 직쇄의 C1-3 알킬렌기이다.The "C 1-6 alkylene group" in the C 1-6 alkylene group which may be substituted by one or more fluorine atoms may be straight chain or branched, and is preferably straight chain or branched C. It is a 1-3 alkylene group, and more preferably a straight chain C 1-3 alkylene group.

상기 Rf2는, 바람직하게는 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있는 C1-6 알킬렌기이며, 보다 바람직하게는 C1-6 퍼플루오로알킬렌기이며, 더욱 바람직하게는 C1-3 퍼플루오로알킬렌기이다.The Rf 2 is preferably a C 1-6 alkylene group substituted with one or more fluorine atoms, more preferably a C 1-6 perfluoroalkylene group, and even more preferably a C 1-6 alkylene group. 3 It is a perfluoroalkylene group.

상기 C1-6 퍼플루오로알킬렌기는, 직쇄여도, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C1-3 퍼플루오로알킬렌기이며, 보다 바람직하게는 직쇄의 C1-3 퍼플루오로알킬기, 구체적으로는 -CF2-, -CF2CF2-, 또는 -CF2CF2CF2-이다.The C 1-6 perfluoroalkylene group may be straight-chain or branched, and is preferably a straight-chain or branched C 1-3 perfluoroalkylene group, and more preferably a straight-chain C 1-3 purple group. A luoroalkyl group, specifically -CF 2 -, -CF 2 CF 2 -, or -CF 2 CF 2 CF 2 -.

상기 식에 있어서, p는, 0 또는 1이다. 일 양태에 있어서, p는 0이다. 다른 양태에 있어서 p는 1이다.In the above formula, p is 0 or 1. In one aspect, p is 0. In another embodiment, p is 1.

상기 식에 있어서, q는, 각각 독립적으로, 0 또는 1이다. 일 양태에 있어서, q는 0이다. 다른 양태에 있어서 q는 1이다.In the above formula, q is each independently 0 or 1. In one aspect, q is 0. In another embodiment, q is 1.

상기 식 (1) 및 (2)에 있어서, RF는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 2가의 플루오로폴리에테르기이다.In the above formulas (1) and (2), R F each independently represents a divalent fluoropolyether group in each occurrence.

RF는, 바람직하게는 하기:R F is preferably:

-(OCh1RFa 2h1)h3-(OCh2RFa 2h2-2)h4--(OC h1 R Fa 2h1 ) h3 -(OC h2 R Fa 2h2-2 ) h4 -

[식 중:[Formula:

RFa는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이며,R Fa is, in each occurrence, independently a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom,

h1은, 1 내지 6의 정수이며,h1 is an integer from 1 to 6,

h2는, 4 내지 8의 정수이며,h2 is an integer from 4 to 8,

h3은, 0 이상의 정수이며,h3 is an integer greater than or equal to 0,

h4는, 0 이상의 정수이며,h4 is an integer greater than or equal to 0,

단, h3과 h4의 합성은, 1 이상, 바람직하게는 2 이상, 보다 바람직하게는 5 이상이며, h3 및 h4를 붙여 괄호로 묶어진 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의임]However, the composition of h3 and h4 is 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 5 or more, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with h3 and h4 is arbitrary in the formula.]

로 표시되는 기를 포함할 수 있다.It may include a group represented by .

일 양태에 있어서, RF는, 직쇄상, 또는 분지쇄상일 수 있다. RF는, 바람직하게는 식:In one aspect, R F may be linear or branched. R F is preferably expressed by the formula:

-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3RFa 6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f--(OC 6 F 12 ) a -(OC 5 F 10 ) b -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 R Fa 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f -

[식 중:[Formula:

RFa는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이며,R Fa is, in each occurrence, independently a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom,

a, b, c, d, e 및 f는, 각각 독립적으로, 0 내지 200의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 1 이상이다. a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶어진 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다. 단, 모든 RFa가 수소 원자 또는 염소 원자인 경우, a, b, c, e 및 f 중 적어도 1개는, 1 이상임]a, b, c, d, e and f are each independently an integer from 0 to 200, and the sum of a, b, c, d, e and f is 1 or more. The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the formula. However, when all R Fa are hydrogen atoms or chlorine atoms, at least one of a, b, c, e and f is 1 or more]

로 표시되는 기이다.It is a group represented by .

RFa는, 바람직하게는 수소 원자 또는 불소 원자이며, 보다 바람직하게는, 불소 원자이다. 단, 모든 RFa가 수소 원자 또는 염소 원자인 경우, a, b, c, e 및 f 중 적어도 1개는, 1 이상이다.R Fa is preferably a hydrogen atom or a fluorine atom, and more preferably a fluorine atom. However, when all R Fa are hydrogen atoms or chlorine atoms, at least one of a, b, c, e and f is 1 or more.

a, b, c, d, e 및 f는, 바람직하게는 각각 독립적으로, 0 내지 100의 정수여도 된다.a, b, c, d, e and f may each independently be an integer of 0 to 100.

a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이며, 보다 바람직하게는 10 이상이며, 예를 들어 15 이상 또는 20 이상이어도 된다. a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 200 이하, 보다 바람직하게는 100 이하, 더욱 바람직하게는 60 이하이며, 예를 들어 50 이하 또는 30 이하여도 된다.The sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, and may be, for example, 15 or more or 20 or more. The sum of a, b, c, d, e and f is preferably 200 or less, more preferably 100 or less, further preferably 60 or less, and may be, for example, 50 or less or 30 or less.

이들 반복 단위는, 직쇄상이어도, 분지쇄상이어도 되고, 환 구조를 포함하고 있어도 된다. 예를 들어, -(OC6F12)-는, -(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3CF2CF2CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3CF2CF2CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3CF2CF2)-, -(OCF2CF2CF2CF(CF3CF2)-, -(OCF2CF2CF2CF2CF(CF3))- 등이어도 된다. -(OC5F10)-는, -(OCF2CF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3CF2CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3CF2CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3CF2)-, -(OCF2CF2CF2CF(CF3))- 등이어도 된다. -(OC4F8)-는, -(OCF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3))-, -(OC(CF3)2CF2)-, -(OCF2C(CF3)2)-, -(OCF(CF3CF(CF3))-, -(OCF(C2F5CF2)- 및 -(OCF2CF(C2F5))- 중 어느 것이어도 된다. -(OC3F6)-(즉, 상기 식 중, RFa는 불소 원자임)는, -(OCF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3CF2)- 및 -(OCF2CF(CF3))- 중 어느 것이어도 된다. -(OC2F4)-는, -(OCF2CF2)- 및 -(OCF(CF3))- 중 어느 것이어도 된다.These repeating units may be linear or branched, and may contain a ring structure. For example, -(OC 6 F 12 )- is -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -( OCF 2 CF(CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF(CF 3 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF(CF 3 CF 2 )-, - (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF(CF 3 ))-, -(OC 5 F 10 )- may be -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF). 3 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF(CF 3 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF(CF 3 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF( CF 3 ))- , etc. may be -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF) . (CF 3 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF(CF 3 ))-, -(OC(CF 3 ) 2 CF 2 )-, -(OCF 2 C(CF 3 ) 2 )-, -( OCF(CF 3 CF(CF 3 ))-, -(OCF(C 2 F 5 CF 2 )-, and -(OCF 2 CF(C 2 F 5 ))- may be any of -(OC 3 F 6 )-(i.e., in the above formula, R Fa is a fluorine atom) is -(OCF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 CF 2 )- and -(OCF 2 CF(CF 3 )) - may be any of -(OC 2 F 4 )- may be either -(OCF 2 CF 2 )- and -(OCF(CF 3 ))-.

일 양태에 있어서, RF는, 환 구조를 포함할 수 있다.In one aspect, R F may include a ring structure.

상기 환 구조는, 하기 3원환, 4원환, 5원환, 또는 6원환일 수 있다.The ring structure may be the following 3-membered ring, 4-membered ring, 5-membered ring, or 6-membered ring.

[식 중, *는, 결합 위치를 나타낸다.][In the formula, * represents the binding position.]

상기 환 구조는, 바람직하게는 4원환, 5원환, 또는 6원환, 보다 바람직하게는 4원환, 또는 6원환일 수 있다.The ring structure may be preferably a 4-membered ring, a 5-membered ring, or a 6-membered ring, and more preferably a 4-membered ring or a 6-membered ring.

환 구조를 갖는 반복 단위는, 바람직하게는 하기의 단위일 수 있다.The repeating unit having a ring structure may preferably be the following unit.

[식 중, *는, 결합 위치를 나타낸다.][In the formula, * represents the binding position.]

일 양태에 있어서, 상기 반복 단위는 직쇄상이다. 상기 반복 단위를 직쇄상으로 함으로써, 표면 처리층의 표면 미끄럼성, 마모 내구성 등을 향상시킬 수 있다.In one aspect, the repeating unit is linear. By making the repeating units linear, the surface slipperiness and wear durability of the surface treatment layer can be improved.

일 양태에 있어서, 상기 반복 단위는 분지쇄상이다. 상기 반복 단위를 분지쇄상으로 함으로써, 표면 처리층의 운동 마찰 계수를 크게 할 수 있다.In one aspect, the repeating unit is branched. By making the repeating unit branched, the kinetic friction coefficient of the surface treatment layer can be increased.

일 양태에 있어서, RF는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (f1) 내지 (f6) 중 어느 것으로 표시되는 기이다.In one aspect, R F is a group independently represented by any of the following formulas (f1) to (f6) in each occurrence.

-(OC3F6)d-(OC2F4)e- (f1)-(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e - (f1)

[식 중, d는, 1 내지 200의 정수이며, e는 0 또는 1, 바람직하게는 1임];[Wherein, d is an integer from 1 to 200, and e is 0 or 1, preferably 1];

-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f2)-(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f2)

[식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로 0 이상 30 이하의 정수이며, e 및 f는, 각각 독립적으로 1 이상 200 이하의 정수이며,[In the formula, c and d are each independently integers from 0 to 30, and e and f are each independently integers from 1 to 200,

c, d, e 및 f의 합은 2 이상이며,The sum of c, d, e and f is at least 2,

첨자 c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶어진 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의임];The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with the subscript c, d, e or f is arbitrary in the formula];

-(R6-R7)g-R9- (f3)-(R 6 -R 7 ) g -R 9 - (f3)

[식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이며,[Wherein, R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 ;

R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이며,R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or a combination of 2 or 3 groups independently selected from these groups and

R9는, 단결합, 또는, OCF2, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이며;R 9 is a single bond or a group selected from OCF 2 , OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 ;

g는, 2 내지 100의 정수임];g is an integer from 2 to 100];

-(R6-R7)g-Rr-(R7'-R6')g'- (f4)-(R 6 -R 7 ) g -R r -(R 7' -R 6' ) g' - (f4)

[식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이며,[Wherein, R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 ;

R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이며,R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or a combination of 2 or 3 groups independently selected from these groups and

R6'는, OCF2 또는 OC2F4이며,R 6' is OCF 2 or OC 2 F 4 ,

R7'는, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이며,R 7' is OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or a combination of 2 or 3 groups independently selected from these groups,

g는, 2 내지 100의 정수이며,g is an integer from 2 to 100,

g'는, 2 내지 100의 정수이며,g' is an integer from 2 to 100,

Rr은,R r is,

(식 중, *는, 결합 위치를 나타냄)(In the formula, * indicates the binding position)

임];lim];

-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f5)-(OC 6 F 12 ) a -(OC 5 F 10 ) b -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f5)

[식 중, e는, 1 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d 및 f는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, 또한, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶어진 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임][In the formula, e is an integer from 1 to 200, and a, b, c, d, and f are each independently integers from 0 to 200, and a, b, c, d, e or f The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses is arbitrary in the equation]

-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f6)-(OC 6 F 12 ) a -(OC 5 F 10 ) b -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f6)

[식 중, f는, 1 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d 및 e는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, 또한, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶어진 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임][In the formula, f is an integer from 1 to 200, and a, b, c, d, and e are each independently integers from 0 to 200, and a, b, c, d, e or f The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses is arbitrary in the equation]

상기 식 (f1)에 있어서, d는, 바람직하게는 5 내지 200, 보다 바람직하게는 10 내지 100, 더욱 바람직하게는 15 내지 50, 예를 들어 25 내지 35의 정수이다. 일 양태에 있어서, e는, 1이다. 다른 양태에 있어서, e는 0이다. 상기 식 (f1)에 있어서의 (OC3F6)은, 바람직하게는 (OCF2CF2CF2), (OCF2CF(CF3)) 또는 (OCF(CF3)CF2)로 표시되는 기이며, 보다 바람직하게는, -(OCF2CF2CF2)d-로 표시되는 기이다. 상기 식 (f1)에 있어서의 (OC2F4)는, 바람직하게는 (OCF2CF2), 또는 (OCF(CF3))으로 표시되는 기이며, 보다 바람직하게는, (OCF2CF2)로 표시되는 기이다.In the above formula (f1), d is an integer of preferably 5 to 200, more preferably 10 to 100, further preferably 15 to 50, for example 25 to 35. In one aspect, e is 1. In another aspect, e is 0. (OC 3 F 6 ) in the formula (f1) is preferably expressed as (OCF 2 CF 2 CF 2 ), (OCF 2 CF(CF 3 )) or (OCF(CF 3 )CF 2 ). It is a group, and more preferably, it is a group represented by -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) d -. (OC 2 F 4 ) in the formula (f1) is preferably a group represented by (OCF 2 CF 2 ) or (OCF(CF 3 )), and more preferably (OCF 2 CF 2 ) . It is a group represented by ).

상기 식 (f2)에 있어서, e 및 f는, 각각 독립적으로, 바람직하게는 5 내지 200, 보다 바람직하게는 10 내지 200의 정수이다. 또한, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이며, 보다 바람직하게는 10 이상이며, 예를 들어 15 이상 또는 20 이상이어도 된다. 일 양태에 있어서, 상기 식 (f2)는, 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2CF2)c-(OCF2CF2CF2)d-(OCF2CF2)e-(OCF2)f-로 표시되는 기이다. 다른 양태에 있어서, 식 (f2)는, -(OC2F4)e-(OCF2)f-로 표시되는 기여도 된다.In the above formula (f2), e and f are each independently an integer of preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200. Additionally, the sum of c, d, e, and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, and may be, for example, 15 or more or 20 or more. In one aspect, the formula (f2) is preferably -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) c -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) d -(OCF 2 CF 2 ) e -(OCF 2 ) It is a group represented by f -. In another aspect, equation (f2) also has a contribution expressed as -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f -.

상기 식 (f3)에 있어서, R6은, 바람직하게는 OC2F4이다. 상기 (f3)에 있어서, R7은, 바람직하게는 OC2F4, OC3F6 및 OC4F8에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이며, 보다 바람직하게는, OC3F6 및 OC4F8에서 선택되는 기이다. OC2F4, OC3F6 및 OC4F8에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합으로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 -OC2F4OC3F6-, -OC2F4OC4F8-, -OC3F6OC2F4-, -OC3F6OC3F6-, -OC3F6OC4F8-, -OC4F8OC4F8-, -OC4F8OC3F6-, -OC4F8OC2F4-, -OC2F4OC2F4OC3F6-, -OC2F4OC2F4OC4F8-, -OC2F4OC3F6OC2F4-, -OC2F4OC3F6OC3F6-, -OC2F4OC4F8OC2F4-, -OC3F6OC2F4OC2F4-, -OC3F6OC2F4OC3F6-, -OC3F6OC3F6OC2F4-, 및 -OC4F8OC2F4OC2F4- 등을 들 수 있다. 일 양태에 있어서, R9는, 단결합이다. 다른 양태에 있어서, R9는, OCF2, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이다. 상기 식 (f3)에 있어서, g는, 바람직하게는 3 이상, 보다 바람직하게는 5 이상의 정수이다. 상기 g는, 바람직하게는 50 이하의 정수이다. 상기 식 (f3)에 있어서, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12는, 직쇄 또는 분지쇄 중 어느 것이어도 되고, 바람직하게는 직쇄이다. 이 양태에 있어서, 상기 (R6-R7)g는, 바람직하게는 -(OC2F4-OC3F6)g- 또는 -(OC2F4-OC4F8)g-이다.In the above formula (f3), R 6 is preferably OC 2 F 4 . In (f3) above, R 7 is preferably a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 , or a combination of 2 or 3 groups independently selected from these groups. , and more preferably, it is a group selected from OC 3 F 6 and OC 4 F 8 . The combination of two or three groups independently selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 is not particularly limited, but includes, for example, -OC 2 F 4 OC 3 F 6 -, -OC 2 F 4 OC 4 F 8 -, -OC 3 F 6 OC 2 F 4 -, -OC 3 F 6 OC 3 F 6 -, -OC 3 F 6 OC 4 F 8 -, -OC 4 F 8 OC 4 F 8 -, -OC 4 F 8 OC 3 F 6 -, -OC 4 F 8 OC 2 F 4 -, -OC 2 F 4 OC 2 F 4 OC 3 F 6 -, -OC 2 F 4 OC 2 F 4 OC 4 F 8 -, -OC 2 F 4 OC 3 F 6 OC 2 F 4 -, -OC 2 F 4 OC 3 F 6 OC 3 F 6 -, -OC 2 F 4 OC 4 F 8 OC 2 F 4 -, -OC 3 F 6 OC 2 F 4 OC 2 F 4 -, -OC 3 F 6 OC 2 F 4 OC 3 F 6 -, -OC 3 F 6 OC 3 F 6 OC 2 F 4 -, and -OC 4 F 8 OC 2 F 4 OC 2 F 4 - and the like. In one aspect, R 9 is a single bond. In another aspect, R 9 is a group selected from OCF 2 , OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 . In the above formula (f3), g is preferably an integer of 3 or more, more preferably 5 or more. The g is preferably an integer of 50 or less. In the above formula (f3), OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 may be either straight chain or branched, and are preferably straight chain. In this aspect, (R 6 -R 7 ) g is preferably -(OC 2 F 4 -OC 3 F 6 ) g - or -(OC 2 F 4 -OC 4 F 8 ) g -.

상기 식 (f4)에 있어서, R6, R7 및 g는, 상기 식 (f3)의 기재와 동일한 의미이며, 마찬가지의 양태를 갖는다. R6 ', R7' 및 g'는, 각각, 상기 식 (f3)에 기재된 R6, R7 및 g와 동일한 의미이며, 마찬가지의 양태를 갖는다. Rr은, 바람직하게는In the formula (f4), R 6 , R 7 and g have the same meanings as those described in the formula (f3) and have similar aspects. R 6 ' , R 7' and g' each have the same meaning as R 6 , R 7 and g described in the above formula (f3), and have similar aspects. R r is preferably

[식 중, *는, 결합 위치를 나타냄][In the formula, * indicates the binding position]

이며, 보다 바람직하게는, and more preferably

[식 중, *는, 결합 위치를 나타냄][In the formula, * indicates the binding position]

이다.am.

상기 식 (f5)에 있어서, e는, 바람직하게는 1 이상 100 이하, 보다 바람직하게는 5 이상 100 이하의 정수이다. a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이며, 보다 바람직하게는 10 이상, 예를 들어 10 이상 100 이하이다.In the above formula (f5), e is preferably an integer of 1 to 100, more preferably 5 to 100. The sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example, 10 or more and 100 or less.

상기 식 (f6)에 있어서, f는, 바람직하게는 1 이상 100 이하, 보다 바람직하게는 5 이상 100 이하의 정수이다. a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이며, 보다 바람직하게는 10 이상, 예를 들어 10 이상 100 이하이다.In the above formula (f6), f is preferably an integer of 1 to 100, more preferably 5 to 100. The sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example, 10 or more and 100 or less.

일 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f1) 또는 (f2)로 표시되는 기이다.In one aspect, R F is a group represented by the formula (f1) or (f2).

일 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f1)로 표시되는 기이다.In one aspect, R F is a group represented by the formula (f1).

일 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f2)로 표시되는 기이다.In one aspect, R F is a group represented by the formula (f2).

일 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f3)으로 표시되는 기이다.In one aspect, R F is a group represented by the formula (f3).

일 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f4)로 표시되는 기이다.In one aspect, R F is a group represented by the formula (f4).

일 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f5)로 표시되는 기이다.In one aspect, R F is a group represented by the formula (f5).

일 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f6)으로 표시되는 기이다.In one aspect, R F is a group represented by the formula (f6).

상기 RF에 있어서, f에 대한 e의 비(이하, 「e/f비」라 함)는, 0.1 내지 10이며, 바람직하게는 0.2 내지 5이며, 보다 바람직하게는 0.2 내지 2이며, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 1.5이며, 더욱 보다 바람직하게는 0.2 내지 0.85이다. e/f비를 10 이하로 함으로써, 이 화합물로부터 얻어지는 표면 처리층의 미끄럼성, 마모 내구성 및 내케미컬성(예를 들어, 인공땀에 대한 내구성)이 보다 향상된다. e/f비가 보다 작을수록, 표면 처리층의 미끄럼성 및 마모 내구성은 보다 향상된다. 한편, e/f비를 0.1 이상으로 함으로써, 화합물의 안정성을 보다 높일 수 있다. e/f비가 보다 클수록, 화합물의 안정성은 보다 향상된다.In the above R F , the ratio of e to f (hereinafter referred to as “e/f ratio”) is 0.1 to 10, preferably 0.2 to 5, more preferably 0.2 to 2, and even more preferably Typically, it is 0.2 to 1.5, and more preferably 0.2 to 0.85. By setting the e/f ratio to 10 or less, the slipperiness, abrasion durability, and chemical resistance (for example, durability against artificial sweat) of the surface treatment layer obtained from this compound are further improved. The smaller the e/f ratio, the more improved the slipperiness and wear durability of the surface treatment layer. On the other hand, by setting the e/f ratio to 0.1 or more, the stability of the compound can be further improved. The larger the e/f ratio, the more improved the stability of the compound.

일 양태에 있어서, 상기 e/f비는, 바람직하게는 0.2 내지 0.95이며, 보다 바람직하게는 0.2 내지 0.9이다.In one aspect, the e/f ratio is preferably 0.2 to 0.95, more preferably 0.2 to 0.9.

일 양태에 있어서, 내열성의 관점에서, 상기 e/f비는, 바람직하게는 1.0 이상이며, 보다 바람직하게는 1.0 내지 2.0이다.In one aspect, from the viewpoint of heat resistance, the e/f ratio is preferably 1.0 or more, and more preferably 1.0 to 2.0.

상기 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물에 있어서, RF1 및 RF2 부분의 수 평균 분자량은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 500 내지 30,000, 바람직하게는 1,500 내지 30,000, 보다 바람직하게는 2,000 내지 10,000이다. 본 명세서에 있어서, RF1 및 RF2의 수 평균 분자량은, 19F-NMR에 의해 측정되는 값으로 한다.In the above fluoropolyether group-containing acrylic compound, the number average molecular weight of the R F1 and R F2 portions is not particularly limited, but is, for example, 500 to 30,000, preferably 1,500 to 30,000, more preferably 2,000 to 2,000. It's 10,000. In this specification, the number average molecular weight of R F1 and R F2 is the value measured by 19 F-NMR.

상기 식 (1) 및 (2)에 있어서, XA는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는 2가의 유기기이다.In the above formulas (1) and (2), X A is each independently a single bond or a divalent organic group.

일 양태에 있어서, XA는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는 우레탄 결합을 포함하지 않는 2가의 유기기이다.In one aspect, X A is each independently a single bond or a divalent organic group not containing a urethane bond.

바람직한 양태에 있어서, XA는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는In a preferred embodiment, X A is each independently a single bond, or

-(CαR11 )s1-R12 t1--(C α R 11 ) s1 -R 12 t1 -

[식 중:[Formula:

R11은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 불소 원자이며,R 11 is independently a hydrogen atom or a fluorine atom in each occurrence,

α는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 1 내지 10의 정수이며,α is an integer from 1 to 10, independently for each occurrence,

R12는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -O-, -CO-, -CONH-, -NHCO-, -COO-, 또는 -OCO-이며,R 12 is, in each occurrence, independently -O-, -CO-, -CONH-, -NHCO-, -COO-, or -OCO-,

s1은, 0 내지 3의 정수이며,s1 is an integer from 0 to 3,

t1은, 0 내지 3의 정수이며,t1 is an integer from 0 to 3,

s1과 t1의 합계는, 1 이상이며,The sum of s1 and t1 is 1 or more,

s1 또는 t1을 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임]The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with s1 or t1 is arbitrary in the equation]

로 표시되는 기이다. 또한, 식 중, 좌측이, RF1 또는 RF2에 결합한다.It is a group represented by . In addition, in the formula, the left side binds to R F1 or R F2 .

일 양태에 있어서, XA는, 단결합이다.In one aspect, X A is a single bond.

일 양태에 있어서, XA는, 각각 독립적으로, 상기 -(CαR11 )s1-R12 t1-이다.In one aspect, X A is each independently the above -(C α R 11 ) s1 -R 12 t1 -.

상기 R11은, 바람직하게는 수소 원자이다.Said R 11 is preferably a hydrogen atom.

상기 α는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 4의 정수, 더욱 바람직하게는 2 내지 4의 정수이다.The α is independently an integer in each occurrence, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 4, and even more preferably an integer of 2 to 4.

상기 R12는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 바람직하게는, -O-, -CO-, -NR10-, -CONH-, 또는 -COO-, 보다 바람직하게는 -CONH-이다.Said R 12 is each independently in each occurrence, preferably -O-, -CO-, -NR 10 -, -CONH-, or -COO-, more preferably -CONH-.

상기 R10은, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기이며, 바람직하게는 수소 원자이다.Said R 10 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group, and is preferably a hydrogen atom.

상기 s1은, 바람직하게는 1 또는 2, 보다 바람직하게는 1이다.The s1 is preferably 1 or 2, and more preferably 1.

상기 t1은, 바람직하게는 0 내지 2의 정수, 보다 바람직하게는 1 또는 2이며, 더욱 바람직하게는 1이다.The above t1 is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 1 or 2, and even more preferably 1.

바람직한 양태에 있어서,In a preferred embodiment,

R11은, 수소 원자이며,R 11 is a hydrogen atom,

α는, 2 내지 4의 정수이며,α is an integer from 2 to 4,

R12는, -O-, -CO-, -NR10-, -CONH-, 또는 -COO-이며,R 12 is -O-, -CO-, -NR 10 -, -CONH-, or -COO-,

R10은, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기이며,R 10 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group,

s1은, 1 또는 2이며,s1 is 1 or 2,

t1은, 0 또는 1이다.t1 is 0 or 1.

보다 바람직한 양태에 있어서, XA는, -CONR10-Cα1H2α1-, -(Cα2H2α2)-O-(Cα3H 3)-, 또는 -Cα4H2α4-이며, 바람직하게는 -CONR10-Cα1H2α1-이다. 이러한 기는, 좌측이, RF1 또는 RF2에 결합한다. In a more preferred embodiment , is -CONR 10 -C α1 H 2α1 -. This group is bonded to R F1 or R F2 on the left side.

α1은, 1 내지 10의 정수이다. α2는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이다. α3은, 0 내지 6의 정수 예를 들어 1 내지 6의 정수이다. α4는, 0 내지 6의 정수 예를 들어 1 내지 6의 정수이다.α1 is an integer from 1 to 10. α2 is an integer of 0 to 6, for example, 1 to 6. α3 is an integer of 0 to 6, for example, 1 to 6. α4 is an integer of 0 to 6, for example, 1 to 6.

XA는, 바람직하게는 -CONH-Cα1H2α1-이다. 이러한 기는, 좌측이, RF1 또는 RF2에 결합한다.X A is preferably -CONH-C α1 H 2α1 -. This group is bonded to R F1 or R F2 on the left side.

상기 Cα1H2α1은, 바람직하게는 (CH2)α1이다.The C α1 H 2α1 is preferably (CH 2 ) α1 .

상기 Cα2H2α2는, 바람직하게는 (CH2)α2이다.The C α2 H 2α2 is preferably (CH 2 ) α2 .

상기 Cα3H2α3은, 바람직하게는 (CH2)α3이다.The C α3 H 2α3 is preferably (CH 2 ) α3 .

상기 Cα4H2α4는, 바람직하게는 (CH2)α4이다.The C α4 H 2α4 is preferably (CH 2 ) α4 .

상기 식 (1) 및 (2)에 있어서, XB는, 각각 독립적으로, Si 원자를 함유하지 않는 탄소수 1 내지 10의 (n+n+1)가의 기이다.In the above formulas (1 ) and (2),

일 양태에 있어서, 상기 XB는, 4가의 기이며, 바람직하게는In one aspect, X B is a tetravalent group, preferably

이다. 일 양태에 있어서, 상기 -C(-O-)=는, O가 RSi에 결합한다. 다른 양태에 있어서, -C(-O-)=는, O가 RAc에 결합한다.am. In one aspect, in -C(-O-)=, O is bonded to R Si . In another embodiment, -C(-O-)=, O is bonded to R Ac .

일 양태에 있어서, 상기 XB는, 3가의 기이며, 바람직하게는In one aspect, X B is a trivalent group, preferably

[식 중, R8은, 수소 원자, 또는 C1-6 알킬기(바람직하게는 메틸기 또는 에틸기, 보다 바람직하게는 메틸기)임]일 수 있다. 일 양태에 있어서, 상기 -CR8(-O-)-는, O가 RSi에 결합한다. 다른 양태에 있어서, -CR8(-O-)-는, O가 RAc에 결합한다.[In the formula, R 8 may be a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group (preferably a methyl group or an ethyl group, more preferably a methyl group)]. In one aspect, in -CR 8 (-O-)-, O is bonded to R Si . In another embodiment, -CR 8 (-O-)-, O binds to R Ac .

바람직한 양태에 있어서, XB는, N이다. 이 경우, 식 중, m은 1이며, n은 1이다.In a preferred embodiment, X B is N. In this case, in the formula, m is 1 and n is 1.

상기 식 (1) 및 (2)에 있어서, m은, 각각 독립적으로, 1 내지 10의 정수이며, n은, 각각 독립적으로, 1 내지 10의 정수이다.In the above formulas (1) and (2), m is each independently an integer of 1 to 10, and n is each independently an integer of 1 to 10.

m은, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 3의 정수, 특히 바람직하게는 1이다.m is preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, and particularly preferably 1.

n은, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 3의 정수, 특히 바람직하게는 1이다.n is preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, and particularly preferably 1.

바람직한 양태에 있어서, m은, 1이며, n은, 1이다.In a preferred embodiment, m is 1 and n is 1.

상기 식 (1) 및 (2)에 있어서, RSi는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -XC-SiR1 n'R2 3-n'이다.In the above formulas (1) and (2), R Si is independently -X C -SiR 1 n' R 2 3-n' in each occurrence.

상기 XC는, 탄소수 1 내지 10의 2가의 유기기이다.The above X C is a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms.

일 양태에 있어서, XC는,In one aspect,

C1-6 알킬렌기,C 1-6 alkylene group,

-(CH2)z1-O-(CH2)z2-(식 중, z1은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이며, z2는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수임),-(CH 2 ) z1 -O-(CH 2 ) z2 -(Wherein, z1 is an integer of 0 to 6, for example, 1 to 6, and z2 is an integer of 0 to 6, for example. is an integer from 1 to 6),

-(CH2)z3-페닐렌-(CH2)z4-(식 중, z3은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이며, z4는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수임), 또는-(CH 2 ) z3 -phenylene-(CH 2 ) z4 -(wherein, z3 is an integer of 0 to 6, for example, 1 to 6, and z4 is an integer of 0 to 6, for example For example, it is an integer from 1 to 6), or

-(CH2)z13-OCONH-(CH2)z14-(식 중, z13은, 0 내지 6의 정수이며, z14는, 0 내지 6의 정수임)-(CH 2 ) z13 -OCONH-(CH 2 ) z14 - (wherein, z13 is an integer from 0 to 6, and z14 is an integer from 0 to 6)

이다. 이들 기는, 예를 들어 불소 원자, C1-6 알킬기, C2-6 알케닐기, 및 C2-6 알키닐기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되지만, 바람직하게는 비치환이다. 이들 기는, 좌측이 XB에 결합한다.am. These groups may be substituted by, for example, one or more substituents selected from fluorine atoms, C 1-6 alkyl groups, C 2-6 alkenyl groups, and C 2-6 alkynyl groups, but are preferably unsubstituted. am. The left side of these groups binds to X B.

상기 C1-6 알킬렌기는, 직쇄여도, 분지쇄여도 되지만, 바람직하게는 직쇄이다.The C 1-6 alkylene group may be straight chain or branched, but is preferably straight chain.

바람직한 양태에 있어서, XC는, C1-6 알킬렌기, 바람직하게는 C2-4 알킬렌기이다.In a preferred embodiment, X C is a C 1-6 alkylene group, preferably a C 2-4 alkylene group.

상기 R1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수 분해성기이다.Each occurrence of R 1 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.

R1은, 바람직하게는 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 가수 분해성기이다.R 1 is preferably a hydrolyzable group independently in each occurrence.

R1은, 바람직하게는 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -ORh, -OCORh, -O-N=CRh 2, -NRh 2, -NHRh, -NCO, 또는 할로겐(이들 식 중, Rh는, 치환 또는 비치환의 C1-4 알킬기를 나타냄)이며, 보다 바람직하게는 -ORh(즉, 알콕시기)이다. Rh로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기 등의 비치환 알킬기; 클로로메틸기 등의 치환 알킬기를 들 수 있다. 그것들 중에서도, 알킬기, 특히 비치환 알킬기가 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기가 보다 바람직하다. 일 양태에 있어서, Rh는, 메틸기이며, 다른 양태에 있어서, Rh는, 에틸기이다.R 1 is preferably independently in each occurrence -OR h , -OCOR h , -ON=CR h 2 , -NR h 2 , -NHR h , -NCO, or halogen (in these formulas, R h represents a substituted or unsubstituted C 1-4 alkyl group), and more preferably -OR h (i.e., an alkoxy group). Examples of R h include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, an alkyl group, especially an unsubstituted alkyl group, is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable. In one aspect, R h is a methyl group, and in another aspect, R h is an ethyl group.

상기 R2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이다. 이러한 1가의 유기기는, 상기 가수 분해성기를 제외한 1가의 유기기이다.Each occurrence of R 2 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. These monovalent organic groups are monovalent organic groups excluding the hydrolyzable groups mentioned above.

R2에 있어서, 1가의 유기기는, 바람직하게는 C1-20 알킬기이며, 보다 바람직하게는 C1-6 알킬기, 더욱 바람직하게는 메틸기이다.For R 2 , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, and still more preferably a methyl group.

상기 식 중, n'는, (SiR1 n'R2 3 -n') 단위마다 각각 독립적으로, 1 내지 3의 정수이며, 바람직하게는 2 또는 3이며, 보다 바람직하게는 3이다.In the above formula, n' is each independently an integer of 1 to 3 for each (SiR 1 n' R 2 3 -n' ) unit, preferably 2 or 3, and more preferably 3.

상기 식 (1) 및 (2)에 있어서, RAc는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -XD-XE(-XF-OCO-CR5=CH2)m'이다.In the above formulas (1) and (2), R Ac is independently -X D -X E (-X F -OCO-CR 5 =CH 2 ) m' in each occurrence.

상기 XD는, 단결합, 또는 2가의 유기기이다.Said X D is a single bond or a divalent organic group.

XD는, 바람직하게는 -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NHCO-, -OCONH-, -NHCOO-, -NH-CO-NH-, -CH2CH(OH)CH2-, 또는 -CH(CH2OH)CH2-이며, 보다 바람직하게는 -CONH-, -CH2CH(OH)CH2-, -CH(CH2OH)CH2-,X D is preferably -o-, -co-, -coo-, -oco-, -conh-, -nhco-, -Oconh-, -nhcoo- CH(OH)CH 2 -, or -CH(CH 2 OH)CH 2 -, more preferably -CONH-, -CH 2 CH(OH)CH 2 -, -CH(CH 2 OH)CH 2 - ,

[식 중, * 및 **는, 결합 위치를 나타내고, *는 XB에 결합하고, **는 XE에 결합함][In the formula, * and ** represent binding positions, * binds to X B , and ** binds to X E ]

이다. 이들 기는, 좌측이 XB에 결합한다.am. The left side of these groups binds to X B.

XD는, 보다 바람직하게는 -CONH-이다.X D is more preferably -CONH-.

상기 XE는, 단결합, 또는 (m'+1)가의 기이다.The above X E is a single bond or a (m'+1) valent group.

일 양태에 있어서, XE는, 단결합이다.In one aspect, X E is a single bond.

일 양태에 있어서, XE는,In one aspect, X E is:

-XG-XH -X G -X H

[식 중:[Formula:

XG는,X G is,

단결합,single bond,

C1-6 알킬렌기,C 1-6 alkylene group,

-(CH2)z9-O-(CH2)z10-(식 중, z9는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이며, z10은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수임), 또는,-(CH 2 ) z9 -O-(CH 2 ) z10 -(wherein, z9 is an integer of 0 to 6, for example, an integer of 1 to 6, and z10 is an integer of 0 to 6, for example is an integer from 1 to 6), or,

-(CH2)z11-페닐렌-(CH2)z12-(식 중, z11은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이며, z12는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수임)-(CH 2 ) z11 -phenylene-(CH 2 ) z12 -(wherein, z11 is an integer of 0 to 6, for example, 1 to 6, and z12 is an integer of 0 to 6, for example For example, it is an integer from 1 to 6)

이며,and

XH는, 하기X H is

이며,and

R8은, 수소 원자, 또는 C1-6 알킬기임]R 8 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group]

로 표시되는 3 또는 4가의 기이다.It is a trivalent or tetravalent group represented by .

상기 C1-6 알킬렌기는, 직쇄여도, 분지쇄여도 되지만, 바람직하게는 직쇄이다.The C 1-6 alkylene group may be straight chain or branched, but is preferably straight chain.

바람직한 양태에 있어서, 상기 C1-6 알킬렌기는, C2-4 알킬렌기이다.In a preferred embodiment, the C 1-6 alkylene group is a C 2-4 alkylene group.

상기 C1-6 알킬기는, 바람직하게는 C1-3 알킬기, 보다 바람직하게는 메틸기이다.The C 1-6 alkyl group is preferably a C 1-3 alkyl group, and more preferably a methyl group.

상기 XF는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합, 또는 2가의 유기기(바람직하게는, 탄소수 1 내지 10의 2가의 유기기)이다.Each occurrence of X F is independently a single bond or a divalent organic group (preferably a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms).

일 양태에 있어서, XF는,In one aspect, X F is,

단결합,single bond,

C1-6 알킬렌기,C 1-6 alkylene group,

-(CH2)z5-O-(CH2)z6-(식 중, z5는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이며, z6은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수임), 또는,-(CH 2 ) z5 -O-(CH 2 ) z6 -(wherein, z5 is an integer of 0 to 6, for example, 1 to 6, and z6 is an integer of 0 to 6, for example is an integer from 1 to 6), or,

-(CH2)z7-페닐렌-(CH2)z8-(식 중, z7은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이며, z8은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수임)-(CH 2 ) z7 -phenylene-(CH 2 ) z8 -(wherein, z7 is an integer of 0 to 6, for example, 1 to 6, and z8 is an integer of 0 to 6, for example For example, it is an integer from 1 to 6)

이다. 이들 기는, 예를 들어 불소 원자, C1-6 알킬기, C2-6 알케닐기, 및 C2-6 알키닐기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되지만, 바람직하게는 비치환이다. 이들 기는, 좌측이 XB에 결합한다.am. These groups may be substituted by, for example, one or more substituents selected from fluorine atoms, C 1-6 alkyl groups, C 2-6 alkenyl groups, and C 2-6 alkynyl groups, but are preferably unsubstituted. am. The left side of these groups binds to X B.

상기 C1-6 알킬렌기는, 직쇄여도, 분지쇄여도 되지만, 바람직하게는 직쇄이다.The C 1-6 alkylene group may be straight chain or branched, but is preferably straight chain.

바람직한 양태에 있어서, XF는, C1-6 알킬렌기, 바람직하게는 C2-4 알킬렌기이다.In a preferred embodiment, X F is a C 1-6 alkylene group, preferably a C 2-4 alkylene group.

일 양태에 있어서, XD, XE, 및 XF는, 단결합이다.In one aspect, X D , X E , and X F are single bonds.

상기 R5는, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1 내지 8의 1가의 유기기이다.Said R 5 is a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms.

상기 1가의 유기기는, 바람직하게는 C1-8 알킬기, C3-8 시클로알킬기, 또는 C5-8 아릴기이며, 보다 바람직하게는 C1-6 알킬기 또는 페닐기이며, 더욱 바람직하게는 C1-3 알킬기이며, 특히 바람직하게는 메틸기이다.The monovalent organic group is preferably a C 1-8 alkyl group, a C 3-8 cycloalkyl group, or a C 5-8 aryl group, more preferably a C 1-6 alkyl group or a phenyl group, and even more preferably a C 1-8 alkyl group. -3 It is an alkyl group, especially preferably a methyl group.

일 양태에 있어서, R5는, 수소 원자이다.In one aspect, R 5 is a hydrogen atom.

일 양태에 있어서, R5는, 메틸기이다.In one aspect, R 5 is a methyl group.

상기 m'는, 1 내지 10의 정수, 바람직하게는 1 내지 3의 정수, 보다 바람직하게는 1이다.The m' is an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 3, and more preferably 1.

상기 식 (1) 또는 식 (2)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 5×102 내지 1×105의 수 평균 분자량을 가질 수 있다. 이러한 범위 중에서도 2,000 내지 32,000, 보다 바람직하게는 2,500 내지 12,000의 수 평균 분자량을 갖는 것이, 마모 내구성의 관점에서 바람직하다. 또한, 이러한 「수 평균 분자량」은, 19F-NMR에 의해 측정되는 값으로 한다.The fluoropolyether group-containing acrylic compound represented by the formula (1) or formula (2) is not particularly limited, but may have a number average molecular weight of 5×10 2 to 1×10 5 . Among these ranges, those having a number average molecular weight of 2,000 to 32,000, more preferably 2,500 to 12,000, are preferable from the viewpoint of wear durability. In addition, this “number average molecular weight” is taken as the value measured by 19 F-NMR.

일 양태에 있어서, 본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 식 (1)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물이다.In one aspect, the fluoropolyether group-containing acrylic compound of the present disclosure is a fluoropolyether group-containing acrylic compound represented by formula (1).

일 양태에 있어서, 본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 식 (2)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물이다.In one aspect, the fluoropolyether group-containing acrylic compound of the present disclosure is a fluoropolyether group-containing acrylic compound represented by formula (2).

상기 식 (1) 및 (2)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 먼저, -NH-, -C(OH)- 등의 반응성 부위를 갖는 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물을 조제하고, 이어서, 상기 반응성 부위에, 아크릴기를 갖는 화합물을 반응시킴으로써 얻을 수 있다.The fluoropolyether group-containing acrylic compound represented by the above formulas (1) and (2) is prepared by first preparing a fluoropolyether group-containing silane compound having a reactive site such as -NH-, -C(OH)-, etc. Then, it can be obtained by reacting a compound having an acrylic group with the reactive site.

일 양태에 있어서, 상기 식 (1) 및 (2)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 하기 식:In one aspect, the fluoropolyether group-containing acrylic compounds represented by the formulas (1) and (2) have the following formula:

RF1-COOR21 R F1 -COOR 21

R21OOC-RF2-COOR21 R 21 OOC-R F2 -COOR 21

(식 중, R21은 수소 원자 또는 메틸기이며, RF1 및 RF2는, 식 (1) 및 (2)에 관한 기재와 동일한 의미임)(In the formula, R 21 is a hydrogen atom or a methyl group, and R F1 and R F2 have the same meaning as described in formulas (1) and (2))

로 표시되는 화합물과, 하기 식:A compound represented by and the following formula:

R24-R23-NH-R22-SiR1 n'R2 3-n' R 24 -R 23 -NH-R 22 -SiR 1 n' R 2 3-n'

(식 중, R22는, 2가의 기이며,(In the formula, R 22 is a divalent group,

R23은, 2가의 기이며,R 23 is a divalent group,

R24는, NH2 등의 반응성기이며,R 24 is a reactive group such as NH 2 ,

R1, R2, 및 n'는, 식 (1) 및 (2)에 관한 기재와 동일한 의미임)R 1 , R 2 , and n' have the same meaning as described in equations (1) and (2))

로 표시되는 화합물을 반응시켜, 하기 식:By reacting the compound represented by the following formula:

RF1-R25-R23-NH-R22-SiR1 n'R2 3-n' R F1 -R 25 -R 23 -NH-R 22 -SiR 1 n' R 2 3-n'

R2 3-n'R1 n'Si-R22-HN-R23-R25-RF2-R25-R23-NH-R22-SiR1 n'R2 3-n' R 2 3-n' R 1 n' Si-R 22 -HN-R 23 -R 25 -R F2 -R 25 -R 23 -NH-R 22 -SiR 1 n' R 2 3-n'

로 표시되는 화합물을 얻는다. 이어서, 상기 화합물과, 하기 식:Obtain the compound represented by Then, the compound and the formula:

R34-R35-OCOCH=CH2 R 34 -R 35 -OCOCH=CH 2

(식 중, R34는, -NCO, -COOH, -COOCl 등의 반응성기이며,(In the formula, R 34 is a reactive group such as -NCO, -COOH, -COOCl, etc.,

R35는, 2가의 기임) 또는R 35 is a divalent group) or

R56-OCOCR57=CH2 R 56 -OCOCR 57 =CH 2

(식 중, R56은 할로겐, H, 또는 1가의 탄화수소기이며,(Wherein, R 56 is halogen, H, or a monovalent hydrocarbon group,

R57은, 수소 원자 또는 C1-3 알킬임)R 57 is a hydrogen atom or C 1-3 alkyl)

로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 얻을 수 있다.It can be obtained by reacting the compound represented by .

일 양태에 있어서, 상기 식 (1) 및 (2)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 하기 식:In one aspect, the fluoropolyether group-containing acrylic compounds represented by the formulas (1) and (2) have the following formula:

RF1-COFR F1 -COF

FOC-RF2-COFFOC-R F2 -COF

(식 중, RF1 및 RF2는, 식 (1) 및 (2)에 관한 기재와 동일한 의미임)(In the formula, R F1 and R F2 have the same meaning as described in formulas (1) and (2))

로 표시되는 화합물과,A compound represented by

Br-Mg-CH2CH=CH2 Br-Mg-CH 2 CH=CH 2

를 반응시켜,By reacting,

RF1-C(OH)(CH2CH=CH2)2 R F1 -C(OH)(CH 2 CH=CH 2 ) 2

(CH2=CHCH2)2(HO)C-RF2-C(OH)(CH2CH=CH2)2 (CH 2 =CHCH 2 ) 2 (HO)CR F2 -C(OH)(CH 2 CH=CH 2 ) 2

로 표시되는 화합물을 얻는다. 이어서, 상기 화합물과, 하기 식:Obtain the compound represented by Then, the compound and the formula:

HSiR1 n'R2 3 -n' HSiR 1 n' R 2 3 -n'

를 반응시켜,By reacting,

RF1-C(OH)(CH2CH=CH2)2 R F1 -C(OH)(CH 2 CH=CH 2 ) 2

(R2 3-n'R1 n'Si-CH2CH2CH2)2(HO)C-RF2-C(OH)(CH2CH2CH2-SiR1 n'R2 3-n')2 (R 2 3-n' R 1 n' Si-CH 2 CH 2 CH 2 ) 2 (HO)CR F2 -C(OH)(CH 2 CH 2 CH 2 -SiR 1 n' R 2 3-n' ) 2

로 표시되는 화합물을 얻는다. 이어서, 상기 화합물과, 하기 식:Obtain the compound represented by Then, the compound and the formula:

R34-R35-OCOCH=CH2 R 34 -R 35 -OCOCH=CH 2

(식 중, R34는, -NCO, -COOH 등의 반응성기이며,(In the formula, R 34 is a reactive group such as -NCO, -COOH, etc.,

R35는, 2가의 기임)R 35 is a divalent group)

로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 얻을 수 있다.It can be obtained by reacting the compound represented by .

일 양태에 있어서, 상기 식 (A1) 및 (A2)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 하기 식:In one aspect, the fluoropolyether group-containing acrylic compounds represented by the formulas (A1) and (A2) have the following formula:

HOCH2-RF2-CH2OHHOCH 2 -R F2 -CH 2 OH

(식 중, RF1 및 RF2는, 식 (A1) 및 (A2)에 관한 기재와 동일한 의미임)(In the formula, R F1 and R F2 have the same meaning as described in formulas (A1) and (A2))

로 표시되는 화합물과,A compound represented by

를 반응시켜,By reacting,

를 얻는다. 이어서, 상기 화합물과,get Subsequently, the above compound,

OCN-(CH2)3-SiR1 n'R2 3-n' OCN-(CH 2 ) 3 -SiR 1 n' R 2 3-n'

(식 중, 각 기호는 상기와 동일한 의미임)(In the formula, each symbol has the same meaning as above)

를 반응시켜,By reacting,

(식 중, 각 기호는 상기와 동일한 의미임)(In the formula, each symbol has the same meaning as above)

로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.A compound represented by can be obtained.

일 양태에 있어서, 상기 식 (A1) 및 (A2)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 하기 식:In one aspect, the fluoropolyether group-containing acrylic compounds represented by the formulas (A1) and (A2) have the following formula:

(식 중, 각 기호는 상기와 동일한 의미임)(In the formula, each symbol has the same meaning as above)

로 표시되는 화합물과,A compound represented by

HOOC=CH2 HOOC=CH 2

를 반응시켜,By reacting,

(식 중, 각 기호는 상기와 동일한 의미임)(In the formula, each symbol has the same meaning as above)

로 표시되는 화합물을 얻는다. 이어서, 상기 화합물과,Obtain the compound represented by Subsequently, the above compound,

OCN-(CH2)3-SiR1 n'R2 3-n' OCN-(CH 2 ) 3 -SiR 1 n' R 2 3-n'

(식 중, 각 기호는 상기와 동일한 의미임)(In the formula, each symbol has the same meaning as above)

를 반응시켜,By reacting,

(식 중, 각 기호는 상기와 동일한 의미임)(In the formula, each symbol has the same meaning as above)

로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.A compound represented by can be obtained.

상기 반응의 각 공정의 반응 조건은, 당업자는 적절히 설정할 수 있다.The reaction conditions for each step of the above reaction can be set appropriately by a person skilled in the art.

다음으로, 본 개시의 표면 처리제에 대하여 설명한다.Next, the surface treatment agent of the present disclosure will be described.

본 개시의 표면 처리제는, 식 (1) 또는 (2)로 표시되는 적어도 1종의 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물을 함유한다.The surface treatment agent of the present disclosure contains at least one fluoropolyether group-containing acrylic compound represented by formula (1) or (2).

일 양태에 있어서, 본 개시의 표면 처리제 중, 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 식 (1)로 표시되는 화합물이다.In one aspect, among the surface treatment agents of the present disclosure, the fluoropolyether group-containing acrylic compound is a compound represented by formula (1).

다른 양태에 있어서, 본 개시의 표면 처리제 중, 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 식 (2)로 표시되는 화합물이다.In another aspect, among the surface treatment agents of the present disclosure, the fluoropolyether group-containing acrylic compound is a compound represented by formula (2).

다른 양태에 있어서, 본 개시의 표면 처리제 중, 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 식 (1)로 표시되는 화합물 및 식 (2)로 표시되는 화합물이다.In another aspect, among the surface treatment agents of the present disclosure, the fluoropolyether group-containing acrylic compound is a compound represented by formula (1) and a compound represented by formula (2).

본 개시의 표면 처리제 중, 식 (1)로 표시되는 화합물과 식 (2)로 표시되는 화합물의 합계에 대하여, 식 (2)로 표시되는 화합물이, 바람직하게는 0.1몰% 이상 35몰% 이하이다. 식 (1)로 표시되는 화합물과 식 (2)로 표시되는 화합물의 합계에 대한 식 (2)로 표시되는 화합물의 함유량의 하한은, 바람직하게는 0.1몰%, 보다 바람직하게는 0.2몰%, 더욱 바람직하게는 0.5몰%, 더욱 보다 바람직하게는 1몰%, 특히 바람직하게는 2몰%, 특별하게는 5몰%일 수 있다. 식 (1)로 표시되는 화합물과 식 (2)로 표시되는 화합물의 합계에 대한 식 (2)로 표시되는 화합물의 함유량의 상한은, 바람직하게는 35몰%, 보다 바람직하게는 30몰%, 더욱 바람직하게는 20몰%, 더욱 보다 바람직하게는 15몰% 또는 10몰%일 수 있다. 식 (1)로 표시되는 화합물과 식 (2)로 표시되는 화합물의 합계에 대한 식 (2)로 표시되는 화합물은, 바람직하게는 0.1몰% 이상 30몰% 이하, 보다 바람직하게는 0.1몰% 이상 20몰% 이하, 더욱 바람직하게는 0.2몰% 이상 10몰% 이하, 더욱 보다 바람직하게는 0.5몰% 이상 10몰% 이하, 특히 바람직하게는 1몰% 이상 10몰% 이하, 예를 들어 2몰% 이상 10몰% 이하 또는 5몰% 이상 10몰% 이하이다.Among the surface treatment agents of the present disclosure, the compound represented by formula (2) is preferably 0.1 mol% or more and 35 mol% or less relative to the total of the compound represented by formula (1) and the compound represented by formula (2). am. The lower limit of the content of the compound represented by formula (2) relative to the total of the compound represented by formula (1) and the compound represented by formula (2) is preferably 0.1 mol%, more preferably 0.2 mol%, More preferably, it is 0.5 mol%, even more preferably 1 mol%, particularly preferably 2 mol%, and especially 5 mol%. The upper limit of the content of the compound represented by formula (2) relative to the total of the compound represented by formula (1) and the compound represented by formula (2) is preferably 35 mol%, more preferably 30 mol%, More preferably, it may be 20 mol%, and even more preferably 15 mol% or 10 mol%. The compound represented by formula (2) relative to the total of the compound represented by formula (1) and the compound represented by formula (2) is preferably 0.1 mol% or more and 30 mol% or less, more preferably 0.1 mol%. 20 mol% or less, more preferably 0.2 mol% or more and 10 mol% or less, even more preferably 0.5 mol% or more and 10 mol% or less, particularly preferably 1 mol% or more and 10 mol% or less, for example 2 It is mol% or more and 10 mol% or less, or 5 mol% or more and 10 mol% or less.

상기 식 (1) 또는 (2)로 표시되는 화합물의 함유량은, 표면 처리제 전체에 대하여, 바람직하게는 0.1 내지 50.0질량%, 보다 바람직하게는 1.0 내지 30.0질량%, 더욱 바람직하게는 5.0 내지 25.0질량%, 특히 바람직하게는 10.0 내지 20.0질량%일 수 있다. 상기 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 보다 높은 발수 발유성 및 마찰 내구성을 얻을 수 있다.The content of the compound represented by the formula (1) or (2) is preferably 0.1 to 50.0% by mass, more preferably 1.0 to 30.0% by mass, and still more preferably 5.0 to 25.0% by mass, based on the total surface treatment agent. %, particularly preferably 10.0 to 20.0 mass %. By setting the content of the fluoropolyether group-containing acrylic compound within the above range, higher water and oil repellency and friction durability can be obtained.

본 개시의 표면 처리제는, 용매, 불소 함유 오일로서 이해될 수 있는 (비반응성의) 플루오로폴리에테르 화합물, 바람직하게는 퍼플루오로(폴리)에테르 화합물(이하, 통합하여 「불소 함유 오일」이라 함), 실리콘 오일로서 이해될 수 있는 (비반응성의) 실리콘 화합물(이하, 「실리콘 오일」이라 함), 알코올류, 촉매, 계면 활성제, 중합 금지제, 증감제 등을 포함할 수 있다.The surface treatment agent of the present disclosure is a solvent, a (non-reactive) fluoropolyether compound that can be understood as a fluorine-containing oil, preferably a perfluoro(poly)ether compound (hereinafter collectively referred to as “fluorine-containing oil”) ), (non-reactive) silicone compounds that can be understood as silicone oil (hereinafter referred to as “silicone oil”), alcohols, catalysts, surfactants, polymerization inhibitors, sensitizers, etc.

상기 용매로서는, 예를 들어 헥산, 시클로헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸, 운데칸, 도데칸, 미네랄 스피릿 등의 지방족 탄화수소류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 나프탈렌, 솔벤트 나프타 등의 방향족 탄화수소류; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산-n-부틸, 아세트산이소프로필, 아세트산이소부틸, 아세트산셀로솔브, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 아세트산카르비톨, 디에틸옥살레이트, 피루브산에틸, 에틸-2-히드록시부티레이트, 에틸아세토아세테이트, 아세트산아밀, 락트산메틸, 락트산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 2-히드록시이소부티르산메틸, 2-히드록시이소부티르산에틸 등의 에스테르류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헥사논, 시클로헥사논, 메틸아미노케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜모노알킬에테르 등의 글리콜에테르류; 메탄올, 에탄올, iso-프로판올, n-부탄올, 이소부탄올, tert-부탄올, sec-부탄올, 3-펜탄올, 옥틸알코올, 3-메틸-3-메톡시부탄올, tert-아밀알코올 등의 알코올류; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 글리콜류; 테트라히드로푸란, 테트라히드로피란, 디옥산 등의 환상 에테르류; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류; 메틸셀로솔브, 셀로솔브, 이소프로필셀로솔브, 부틸셀로솔브, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르알코올류; 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트; 1,1,2-트리클로로-1,2,2-트리플루오로에탄, 1,2-디클로로-1,1,2,2-테트라플루오로에탄, 디메틸술폭시드, 1,1-디클로로-1,2,2,3,3-펜타플루오로프로판(HCFC225), 제오로라 H, HFE7100, HFE7200, HFE7300, CF3CH2OH, CF3CF2CH2OH, (CF3)2CHOH 등의 불소 함유 용매 등을 들 수 있다. 혹은 이들 2종 이상의 혼합 용매 등을 들 수 있다.Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, and mineral spirits; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, naphthalene, and solvent naphtha; Methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, -n-butyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate, carbitol acetate, diethyl oxalate, ethyl pyruvate, ethyl-2- Ester such as hydroxybutyrate, ethyl acetoacetate, amyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 2-hydroxyisobutyrate, and ethyl 2-hydroxyisobutyrate. ; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, 2-hexanone, cyclohexanone, methyl amino ketone, and 2-heptanone; Ethyl cellosolve, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol mono. Glycol ethers such as ethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene glycol dimethyl ether, and ethylene glycol monoalkyl ether; Alcohols such as methanol, ethanol, iso-propanol, n-butanol, isobutanol, tert-butanol, sec-butanol, 3-pentanol, octyl alcohol, 3-methyl-3-methoxybutanol, and tert-amyl alcohol; Glycols such as ethylene glycol and propylene glycol; Cyclic ethers such as tetrahydrofuran, tetrahydropyran, and dioxane; Amides such as N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide; ether alcohols such as methyl cellosolve, cellosolve, isopropyl cellosolve, butyl cellosolve, and diethylene glycol monomethyl ether; diethylene glycol monoethyl ether acetate; 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane, 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetrafluoroethane, dimethyl sulfoxide, 1,1-dichloro-1 , 2,2,3,3-pentafluoropropane (HCFC225), Zeorora H, HFE7100, HFE7200, HFE7300, CF 3 CH 2 OH, CF 3 CF 2 CH 2 OH, (CF 3 ) 2 CHOH, etc. Containing solvents, etc. can be mentioned. Or a mixed solvent of two or more of these types can be mentioned.

불소 함유 오일로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 이하의 일반식 (3)으로 표시되는 화합물(퍼플루오로(폴리)에테르 화합물)을 들 수 있다.The fluorine-containing oil is not particularly limited, but examples include compounds represented by the following general formula (3) (perfluoro(poly)ether compounds).

Rf5-(OC4F8)a'-(OC3F6)b'-(OC2F4)c'-(OCF2)d'-Rf6 … (3)Rf 5 -(OC 4 F 8 ) a' -(OC 3 F 6 ) b' -(OC 2 F 4 ) c' -(OCF 2 ) d' -Rf 6 … (3)

식 중, Rf5는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 16 알킬기(바람직하게는, C1-16의 퍼플루오로알킬기)를 나타내고, Rf6은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 16 알킬기(바람직하게는, C1-16 퍼플루오로알킬기), 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, Rf5 및 Rf6은, 보다 바람직하게는, 각각 독립적으로, C1-3 퍼플루오로알킬기이다.In the formula, Rf 5 represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group) which may be substituted with one or more fluorine atoms, and Rf 6 represents one or Represents an alkyl group with 1 to 16 carbon atoms (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group) that may be substituted with more fluorine atoms, a fluorine atom or a hydrogen atom, and Rf 5 and Rf 6 are more preferably: Each independently, is a C 1-3 perfluoroalkyl group.

a', b', c' 및 d'는, 폴리머의 주골격을 구성하는 퍼플루오로(폴리)에테르의 4종의 반복 단위수를 각각 나타내고, 서로 독립적으로 0 이상 300 이하의 정수이며, a', b', c' 및 d'의 합은 적어도 1, 바람직하게는 1 내지 300, 보다 바람직하게는 20 내지 300이다. 첨자 a', b', c' 또는 d'를 붙여 괄호로 묶어진 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다. 이들 반복 단위는, 직쇄상이어도, 분지쇄상이어도 되고, 환 구조를 포함하고 있어도 된다. 예를 들어, -(OC4F8)-는, -(OCF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3)CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3))-, -(OC(CF3)2CF2)-, -(OCF2C(CF3)2)-, -(OCF(CF3)CF(CF3))-, -(OCF(C2F5)CF2)- 및 (OCF2CF(C2F5))- 중 어느 것이어도 되지만, 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2CF2)-이다. -(OC3F6)-는, -(OCF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2)- 및 (OCF2CF(CF3))- 중 어느 것이어도 되고, 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2)-이다. -(OC2F4)-는, -(OCF2CF2)- 및 (OCF(CF3))- 중 어느 것이어도 되지만, 바람직하게는 -(OCF2CF2)-이다.a', b', c', and d' each represent the number of four types of repeating units of perfluoro(poly)ether constituting the main skeleton of the polymer, and are independently integers from 0 to 300, and a The sum of ', b', c' and d' is at least 1, preferably 1 to 300, more preferably 20 to 300. The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with the subscript a', b', c', or d' is arbitrary in the formula. These repeating units may be linear or branched, and may contain a ring structure. For example, -(OCF 4 F 8 )- is -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF(CF 3 ) CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF(CF 3 ))-, -(OC(CF 3 ) 2 CF 2 )-, -(OCF 2 C(CF 3 ) 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF(CF 3 ))-, -(OCF(C 2 F 5 )CF 2 )- and (OCF 2 CF(C 2 F 5 ))- may be any of them, but preferably -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-. -(OC 3 F 6 )- may be any of -(OCF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 )-, and (OCF 2 CF(CF 3 ))-, and is preferred. This is -(OCF 2 CF 2 CF 2 )-. -(OCF 2 F 4 )- may be either -(OCF 2 CF 2 )- or (OCF(CF 3 ))-, but is preferably -(OCF 2 CF 2 )-.

상기 환 구조는, 하기 3원환, 또는 4원환:The ring structure is the following 3-membered ring or 4-membered ring:

[식 중, *는, 결합 위치를 나타냄][In the formula, * indicates the binding position]

일 수 있다.It can be.

예를 들어, (OC4F8)은,For example, (OC 4 F 8 ) is:

[식 중, *는, 결합 위치를 나타냄][In the formula, * indicates the binding position]

일 수 있다.It can be.

상기 일반식 (3)으로 표시되는 퍼플루오로(폴리)에테르 화합물의 예로서, 이하의 일반식 (3a) 및 (3b) 중 어느 것으로 나타내어지는 화합물(1종 또는 2종 이상의 혼합물이어도 됨)을 들 수 있다.As an example of the perfluoro(poly)ether compound represented by the general formula (3), a compound (single type or a mixture of two or more types may be used) represented by any of the following general formulas (3a) and (3b) I can hear it.

Rf5-(OCF2CF2CF2)b"-Rf6 … (3a)Rf 5 -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) b" -Rf 6 … (3a)

Rf5-(OCF2CF2CF2CF2)a"-(OCF2CF2CF2)b"-(OCF2CF2)c"-(OCF2)d"-Rf6 … (3b)Rf 5 -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) a" -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) b" -(OCF 2 CF 2 ) c" -(OCF 2 ) d" -Rf 6 ... (3b)

이들 식 중, Rf5 및 Rf6은 상기한 대로이며; 식 (3a)에 있어서, b"는 1 이상 100 이하의 정수이며; 식 (3b)에 있어서, a" 및 b"는, 각각 독립적으로 0 이상 30 이하의 정수이며, c" 및 d"는 각각 독립적으로 1 이상 300 이하의 정수이다. 첨자a", b", c", d"를 붙여 괄호로 묶어진 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.In these formulas, Rf 5 and Rf 6 are as defined above; In formula (3a), b" is an integer of 1 to 100; in formula (3b), a" and b" are each independently integers of 0 to 30, and c" and d" are each The order of existence of each repeating unit, which is independently an integer between 1 and 300 and enclosed in parentheses with the subscripts a", b", c", and d", is arbitrary in the formula.

또한, 다른 관점에서, 불소 함유 오일은, 일반식 Rf3-F(식 중, Rf3은 C5-16 퍼플루오로알킬기임)로 표시되는 화합물이어도 된다. 또한, 클로로트리플루오로에틸렌올리고머여도 된다.Additionally, from another viewpoint, the fluorine-containing oil may be a compound represented by the general formula Rf 3 -F (wherein Rf 3 is a C 5-16 perfluoroalkyl group). Additionally, it may be a chlorotrifluoroethylene oligomer.

상기 불소 함유 오일은, 500 내지 10000의 평균 분자량을 갖고 있어도 된다. 불소 함유 오일의 분자량은, GPC를 사용하여 측정할 수 있다.The fluorine-containing oil may have an average molecular weight of 500 to 10,000. The molecular weight of fluorine-containing oil can be measured using GPC.

불소 함유 오일은, 본 개시의 표면 처리제에 대하여, 예를 들어 0 내지 50질량%, 바람직하게는 0 내지 30질량%, 보다 바람직하게는 0 내지 5질량% 포함될 수 있다. 일 양태에 있어서, 본 개시의 표면 처리제는, 불소 함유 오일을 실질적으로 포함하지 않는다. 불소 함유 오일을 실질적으로 포함하지 않는다란, 불소 함유 오일을 전혀 포함하지 않거나, 또는 극미량의 불소 함유 오일을 포함하고 있어도 되는 것을 의미한다.The fluorine-containing oil may be contained in an amount of, for example, 0 to 50% by mass, preferably 0 to 30% by mass, and more preferably 0 to 5% by mass, relative to the surface treatment agent of the present disclosure. In one aspect, the surface treatment agent of the present disclosure is substantially free of fluorine-containing oil. Substantially free from fluorine-containing oil means that it does not contain fluorine-containing oil at all, or may contain a trace amount of fluorine-containing oil.

일 양태에 있어서, 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물의 평균 분자량보다도, 불소 함유 오일의 평균 분자량을 크게 해도 된다. 이와 같은 평균 분자량으로 함으로써, 특히 진공 증착법에 의해 표면 처리층을 형성하는 경우에 있어서, 보다 우수한 마모 내구성과 표면 미끄럼성을 얻을 수 있다.In one aspect, the average molecular weight of the fluorine-containing oil may be larger than the average molecular weight of the acrylic compound containing a fluoropolyether group. By setting such an average molecular weight, better wear durability and surface slipperiness can be obtained, especially when forming a surface treatment layer by vacuum deposition.

일 양태에 있어서, 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물의 평균 분자량보다도, 불소 함유 오일의 평균 분자량을 작게 해도 된다. 이와 같은 평균 분자량으로 함으로써, 이러한 화합물로부터 얻어지는 표면 처리층의 투명성의 저하를 억제하면서, 높은 마모 내구성 및 높은 표면 미끄럼성을 갖는 경화물을 형성할 수 있다.In one aspect, the average molecular weight of the fluorine-containing oil may be smaller than the average molecular weight of the acrylic compound containing a fluoropolyether group. By setting such an average molecular weight, a cured product having high wear durability and high surface slipperiness can be formed while suppressing a decrease in transparency of the surface treatment layer obtained from such a compound.

불소 함유 오일은, 본 개시의 표면 처리제에 의해 형성된 층의 표면 미끄럼성을 향상시키는 데 기여한다.The fluorine-containing oil contributes to improving the surface slipperiness of the layer formed by the surface treatment agent of the present disclosure.

상기 실리콘 오일로서는, 예를 들어 실록산 결합이 2,000 이하인 직쇄상 또는 환상의 실리콘 오일을 사용할 수 있다. 직쇄상의 실리콘 오일은, 소위 스트레이트 실리콘 오일 및 변성 실리콘 오일이어도 된다. 스트레이트 실리콘 오일로서는, 디메틸실리콘 오일, 메틸페닐실리콘 오일, 메틸하이드로겐실리콘 오일을 들 수 있다. 변성 실리콘 오일로서는, 스트레이트 실리콘 오일을, 알킬, 아르알킬, 폴리에테르, 고급 지방산 에스테르, 플루오로알킬, 아미노, 에폭시, 카르복실, 알코올 등에 의해 변성한 것을 들 수 있다. 환상의 실리콘 오일은, 예를 들어 환상 디메틸실록산 오일 등을 들 수 있다.As the silicone oil, for example, a linear or cyclic silicone oil having a siloxane bond of 2,000 or less can be used. The linear silicone oil may be so-called straight silicone oil or modified silicone oil. Examples of straight silicone oil include dimethyl silicone oil, methylphenyl silicone oil, and methyl hydrogen silicone oil. Examples of modified silicone oil include straight silicone oil modified with alkyl, aralkyl, polyether, higher fatty acid ester, fluoroalkyl, amino, epoxy, carboxyl, alcohol, etc. Examples of cyclic silicone oil include cyclic dimethylsiloxane oil.

본 개시의 표면 처리제 중, 이러한 실리콘 오일은, 상기 본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물의 합계 100질량부(2종 이상의 경우에는 이들의 합계, 이하도 마찬가지)에 대하여, 예를 들어 0 내지 300질량부, 바람직하게는 50 내지 200질량부로 포함될 수 있다.Among the surface treatment agents of the present disclosure, such silicone oil is, for example, 0 parts by mass relative to a total of 100 parts by mass (if two or more types, the total of these, the same applies hereinafter) of the fluoropolyether group-containing acrylic compound of the present disclosure. It may be included in an amount of 50 to 300 parts by mass, preferably 50 to 200 parts by mass.

실리콘 오일은, 표면 처리층의 표면 미끄럼성을 향상시키는 데 기여한다.Silicone oil contributes to improving the surface slipperiness of the surface treatment layer.

상기 알코올류로서는, 예를 들어 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 6의 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, iso-프로판올, tert-부탄올, CF3CH2OH, CF3CF2CH2OH, (CF3)2CHOH를 들 수 있다. 이들 알코올류를 표면 처리제에 첨가함으로써, 표면 처리제의 안정성을 향상시키고, 또한, 퍼플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물과 용매의 상용성을 개선시킨다.Examples of the alcohols include alcohols having 1 to 6 carbon atoms that may be substituted with one or more fluorine atoms, such as methanol, ethanol, iso-propanol, tert-butanol, CF 3 CH 2 OH, CF 3 CF 2 CH 2 OH, (CF 3 ) 2 CHOH. By adding these alcohols to the surface treatment agent, the stability of the surface treatment agent is improved and the compatibility between the perfluoropolyether group-containing acrylic compound and the solvent is improved.

상기 알코올은, 바람직하게는 2,2,3,3,3-펜타플루오로-1-프로판올 또는 2,2,2-트리플루오로에탄올이다.The alcohol is preferably 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol or 2,2,2-trifluoroethanol.

상기 촉매로서는, 산(예를 들어 아세트산, 트리플루오로아세트산 등), 염기(예를 들어 암모니아, 트리에틸아민, 디에틸아민 등), 전이 금속(예를 들어 Ti, Ni, Sn 등) 등을 들 수 있다.Examples of the catalyst include acids (e.g. acetic acid, trifluoroacetic acid, etc.), bases (e.g. ammonia, triethylamine, diethylamine, etc.), transition metals (e.g. Ti, Ni, Sn, etc.), etc. I can hear it.

촉매는, 본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물의 가수 분해, 탈수 축합, 또는 중합을 촉진하여, 본 개시의 표면 처리제에 의해 형성되는 층의 형성을 촉진한다.The catalyst promotes hydrolysis, dehydration condensation, or polymerization of the fluoropolyether group-containing acrylic compound of the present disclosure, and promotes the formation of a layer formed by the surface treatment agent of the present disclosure.

다른 성분으로서는, 상기 이외에, 예를 들어 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 메틸트리아세톡시실란 등도 들 수 있다.Other components other than the above include, for example, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and methyltriacetoxysilane. .

본 개시의 표면 처리제는, 다공질 물질, 예를 들어 다공질의 세라믹 재료, 금속 섬유, 예를 들어 스틸 울을 면상으로 굳힌 것에 함침시켜, 펠릿으로 할 수 있다. 당해 펠릿은, 예를 들어 진공 증착에 사용할 수 있다.The surface treatment agent of the present disclosure can be made into pellets by impregnating a porous material, such as a porous ceramic material, a metal fiber, such as steel wool, hardened into a planar shape. The pellets can be used, for example, for vacuum deposition.

본 개시의 표면 처리제는, 상기한 성분에 더하여, 불순물로서, 예를 들어 Pt, Rh, Ru, 1,3-디비닐테트라메틸디실록산, 트리페닐포스핀, NaCl, KCl, 실란의 축합물 등을 미량 포함할 수 있다.In addition to the above components, the surface treatment agent of the present disclosure contains impurities such as Pt, Rh, Ru, 1,3-divinyltetramethyldisiloxane, triphenylphosphine, NaCl, KCl, condensates of silane, etc. It may contain trace amounts.

이하, 본 개시의 물품에 대하여 설명한다.Hereinafter, the article of the present disclosure will be described.

본 개시의 물품은, 기재와, 해당 기재 표면에 본 개시의 표면 처리제로 형성된 층(표면 처리층)을 포함한다.The article of the present disclosure includes a substrate and a layer (surface treatment layer) formed on the surface of the substrate with the surface treatment agent of the present disclosure.

본 개시에 있어서 사용 가능한 기재는, 예를 들어 유리, 수지(천연 또는 합성 수지, 예를 들어 일반적인 플라스틱 재료여도 됨), 금속, 세라믹스, 반도체(실리콘, 게르마늄 등), 섬유(직물, 부직포 등), 모피, 피혁, 목재, 도자기, 석재 등, 건축 부재 등, 위생 용품, 임의의 적절한 재료로 구성될 수 있다.Substrates that can be used in the present disclosure include, for example, glass, resin (natural or synthetic resin, for example, may be a general plastic material), metal, ceramics, semiconductors (silicon, germanium, etc.), fibers (fabric, non-woven fabric, etc.) , fur, leather, wood, ceramics, stone, etc., building members, etc., sanitary products, and any suitable material.

예를 들어, 제조해야 할 물품이 광학 부재인 경우, 기재의 표면을 구성하는 재료는, 광학 부재용 재료, 예를 들어 유리 또는 투명 플라스틱 등이어도 된다. 또한, 제조해야 할 물품이 광학 부재인 경우, 기재의 표면(최외층)에 어떠한 층(또는 막), 예를 들어 하드 코트층이나 반사 방지층 등이 형성되어 있어도 된다. 반사 방지층에는, 단층 반사 방지층 및 다층 반사 방지층 중 어느 것을 사용해도 된다. 반사 방지층에 사용 가능한 무기물의 예로서는, SiO2, SiO, ZrO2, TiO2, TiO, Ti2O3, Ti2O5, Al2O3, Ta2O5, Ta3O5, Nb2O5, HfO2, Si3N4, CeO2, MgO, Y2O3, SnO2, MgF2, WO3 등을 들 수 있다. 이들 무기물은, 단독으로, 또는 이들의 2종 이상을 조합하여(예를 들어 혼합물로서) 사용해도 된다. 다층 반사 방지층으로 하는 경우, 그 최외층에는 SiO2 및/또는 SiO를 사용하는 것이 바람직하다. 제조해야 할 물품이, 터치 패널용의 광학 유리 부품인 경우, 투명 전극, 예를 들어 산화인듐주석(ITO)이나 산화인듐아연 등을 사용한 박막을, 기재(유리)의 표면의 일부에 갖고 있어도 된다. 또한, 기재는, 그 구체적 사양 등에 따라서, 절연층, 점착층, 보호층, 장식 프레임층(I-CON), 무화막층, 하드 코팅막층, 편광 필름, 상위차 필름, 및 액정 표시 모듈 등을 갖고 있어도 된다.For example, when the article to be manufactured is an optical member, the material constituting the surface of the substrate may be a material for optical members, such as glass or transparent plastic. Additionally, when the article to be manufactured is an optical member, any layer (or film), such as a hard coat layer or an anti-reflection layer, may be formed on the surface (outermost layer) of the substrate. For the anti-reflection layer, either a single-layer anti-reflection layer or a multi-layer anti-reflection layer may be used. Examples of inorganic materials that can be used in the anti-reflection layer include SiO 2 , SiO, ZrO 2 , TiO 2 , TiO, Ti 2 O 3 , Ti 2 O 5 , Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , Ta 3 O 5 , Nb 2 O 5 , HfO 2 , Si 3 N 4 , CeO 2 , MgO, Y 2 O 3 , SnO 2 , MgF 2 , WO 3 , etc. These inorganic substances may be used individually or in combination of two or more types thereof (for example, as a mixture). When using a multilayer antireflection layer, it is preferable to use SiO 2 and/or SiO as the outermost layer. When the article to be manufactured is an optical glass component for a touch panel, a thin film using a transparent electrode, for example, indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide, may be formed on part of the surface of the base material (glass). . In addition, the base material has an insulating layer, an adhesive layer, a protective layer, a decorative frame layer (I-CON), an atomized film layer, a hard coating film layer, a polarizing film, a higher order film, a liquid crystal display module, etc., depending on its specific specifications, etc. You can stay.

상기 기재의 형상은, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어, 판상, 필름, 그 밖의 형태여도 된다. 또한, 표면 처리층을 형성해야 할 기재의 표면 영역은, 기재 표면의 적어도 일부이면 되고, 제조해야 할 물품의 용도 및 구체적 사양 등에 따라서 적절히 결정될 수 있다.The shape of the substrate is not particularly limited, and may be, for example, plate-shaped, film, or other forms. In addition, the surface area of the substrate on which the surface treatment layer is to be formed may be at least a portion of the surface of the substrate, and can be appropriately determined depending on the purpose and specific specifications of the article to be manufactured.

일 양태에 있어서, 이러한 기재로서는, 적어도 그 표면 부분이, 수산기를 원래 갖는 재료로 이루어지는 것이어도 된다. 이러한 재료로서는, 유리를 들 수 있고, 또한, 표면에 자연 산화막 또는 열산화막이 형성되는 금속(특히 비금속), 세라믹스, 반도체 등을 들 수 있다. 혹은, 수지 등과 같이, 수산기를 갖고 있어도 충분하지 않은 경우나, 수산기를 원래 갖고 있지 않은 경우에는, 기재에 어떠한 전처리를 실시함으로써, 기재의 표면에 수산기를 도입하거나, 증가시키거나 할 수 있다. 이러한 전처리의 예로서는, 플라스마 처리(예를 들어 코로나 방전)나, 이온빔 조사를 들 수 있다. 플라스마 처리는, 기재 표면에 수산기를 도입 또는 증가시킬 수 있음과 함께, 기재 표면을 청정화하기(이물 등을 제거하기) 위해서도 적합하게 이용될 수 있다. 또한, 이러한 전처리의 다른 예로서는, 탄소-탄소 불포화 결합기를 갖는 계면 흡착제를 LB법(랭뮤어-블로젯법)이나 화학 흡착법 등에 의해, 기재 표면에 미리 단분자막의 형태로 형성하고, 그 후, 산소나 질소 등을 포함하는 분위기 하에서 불포화 결합을 개열하는 방법을 들 수 있다.In one aspect, such a substrate may have at least a surface portion made of a material that originally has hydroxyl groups. Examples of such materials include glass, and also include metals (particularly non-metals), ceramics, and semiconductors on which a natural oxide film or thermal oxidation film is formed on the surface. Alternatively, in cases where the presence of hydroxyl groups is not sufficient, such as in resins, or when the base material does not originally have hydroxyl groups, hydroxyl groups can be introduced or increased on the surface of the base material by subjecting the base material to some kind of pretreatment. Examples of such pretreatment include plasma treatment (for example, corona discharge) and ion beam irradiation. Plasma treatment can introduce or increase hydroxyl groups on the surface of a substrate, and can also be suitably used to clean the surface of the substrate (remove foreign substances, etc.). In addition, as another example of such pretreatment, an interfacial adsorbent having a carbon-carbon unsaturated bonding group is formed in the form of a monomolecular film on the surface of the substrate in advance by LB method (Langmuir-Blodget method) or chemical adsorption method, and then oxygen or nitrogen is added to the surface of the substrate. and a method of cleaving an unsaturated bond in an atmosphere containing such.

다른 양태에 있어서, 이러한 기재로서는, 적어도 그 표면 부분이, 다른 반응성기, 예를 들어 Si-H기를 1개 이상 갖는 실리콘 화합물이나, 알콕시실란을 포함하는 재료로 이루어지는 것이어도 된다.In another aspect, such a substrate may have at least a surface portion made of a material containing a silicone compound or alkoxysilane having one or more other reactive groups, for example, Si-H groups.

바람직한 양태에 있어서, 상기 기재는 유리이다. 이러한 유리로서는, 사파이어 유리, 소다석회 유리, 알칼리알루미노규산염 유리, 붕규산 유리, 무알칼리 유리, 크리스탈 유리, 석영 유리가 바람직하고, 화학 강화한 소다석회 유리, 화학 강화한 알칼리알루미노규산염 유리, 및 화학 결합한 붕규산 유리가 특히 바람직하다.In a preferred embodiment, the substrate is glass. Preferred examples of such glass include sapphire glass, soda-lime glass, alkali aluminosilicate glass, borosilicate glass, alkali-free glass, crystal glass, and quartz glass, as well as chemically strengthened soda-lime glass, chemically strengthened alkali aluminosilicate glass, and chemically bonded glass. Borosilicate glass is particularly preferred.

본 개시의 물품은, 상기 기재의 표면에, 상기 본 개시의 표면 처리제의 층을 형성하고, 이 층을 필요에 따라서 후처리하고, 이에 의해, 본 개시의 표면 처리제로 층을 형성함으로써 제조할 수 있다.The article of the present disclosure can be manufactured by forming a layer of the surface treatment agent of the present disclosure on the surface of the substrate, post-treating this layer as necessary, and thereby forming a layer of the surface treatment agent of the present disclosure. there is.

본 개시의 표면 처리제의 층 형성은, 상기 표면 처리제를 기재의 표면에 대하여, 해당 표면을 피복하도록 적용함으로써 실시할 수 있다. 피복 방법은, 특별히 한정되지는 않는다. 예를 들어, 습윤 피복법 및 건조 피복법을 사용할 수 있다.Layer formation of the surface treatment agent of the present disclosure can be performed by applying the surface treatment agent to the surface of the substrate so as to cover the surface. The coating method is not particularly limited. For example, wet coating and dry coating methods can be used.

습윤 피복법의 예로서는, 침지 코팅, 스핀 코팅, 플로 코팅, 스프레이 코팅, 롤 코팅, 그라비아 코팅 및 유사한 방법을 들 수 있다.Examples of wet coating methods include dip coating, spin coating, flow coating, spray coating, roll coating, gravure coating and similar methods.

건조 피복법의 예로서는, 증착(통상, 진공 증착), 스퍼터링, CVD 및 유사한 방법을 들 수 있다. 증착법(통상, 진공 증착법)의 구체예로서는, 저항 가열, 전자 빔, 마이크로파 등을 사용한 고주파 가열, 이온빔 및 유사한 방법을 들 수 있다. CVD 방법의 구체예로서는, 플라스마-CVD, 광학 CVD, 열 CVD 및 유사한 방법을 들 수 있다.Examples of dry coating methods include vapor deposition (usually vacuum deposition), sputtering, CVD, and similar methods. Specific examples of the deposition method (usually vacuum deposition) include resistance heating, electron beam, high-frequency heating using microwaves, ion beam, and similar methods. Specific examples of CVD methods include plasma-CVD, optical CVD, thermal CVD, and similar methods.

또한, 상압 플라스마법에 의한 피복도 가능하다.Additionally, coating using an atmospheric pressure plasma method is also possible.

습윤 피복법을 사용하는 경우, 본 개시의 표면 처리제는, 용매로 희석되고 나서 기재 표면에 적용될 수 있다. 본 개시의 조성물의 안정성 및 용매의 휘발성의 관점에서, 다음의 용매가 바람직하게 사용된다: 탄소수 5 내지 12의 퍼플루오로 지방족 탄화수소(예를 들어, 퍼플루오로헥산, 퍼플루오로메틸시클로헥산 및 퍼플루오로-1,3-디메틸시클로헥산); 폴리플루오로 방향족 탄화수소(예를 들어, 비스(트리플루오로메틸)벤젠); 폴리플루오로 지방족 탄화수소(예를 들어, C6F13CH2CH3(예를 들어, 아사히 가라스 가부시키가이샤제의 아사히클린(등록 상표) AC-6000), 1,1,2,2,3,3,4-헵타플루오로시클로펜탄(예를 들어, 닛폰 제온 가부시키가이샤제의 제오로라(등록 상표) H); 히드로플루오로에테르(HFE)(예를 들어, 퍼플루오로프로필메틸에테르(C3F7OCH3)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7000), 퍼플루오로부틸메틸에테르(C4F9OCH3)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7100), 퍼플루오로부틸에틸에테르(C4F9OC2H5)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7200), 퍼플루오로헥실메틸에테르(C2F5CF(OCH3)C3F7)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7300) 등의 알킬퍼플루오로알킬에테르(퍼플루오로알킬기 및 알킬기는 직쇄 또는 분지상이어도 됨), 혹은 CF3CH2OCF2CHF2(예를 들어, 아사히 가라스 가부시키가이샤제의 아사히클린(등록 상표) AE-3000)) 등. 이들 용매는, 단독으로, 또는, 2종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있다. 그 중에서도, 히드로플루오로에테르가 바람직하고, 퍼플루오로부틸메틸에테르(C4F9OCH3) 및/또는 퍼플루오로부틸에틸에테르(C4F9OC2H5)가 특히 바람직하다.When using a wet coating method, the surface treatment agent of the present disclosure can be diluted with a solvent and then applied to the substrate surface. In view of the stability of the composition of the present disclosure and the volatility of the solvent, the following solvents are preferably used: perfluoro aliphatic hydrocarbons having 5 to 12 carbon atoms (e.g., perfluorohexane, perfluoromethylcyclohexane and perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane); polyfluoro aromatic hydrocarbons (e.g., bis(trifluoromethyl)benzene); Polyfluoro aliphatic hydrocarbons (e.g., C 6 F 13 CH 2 CH 3 (e.g., Asahi Clean (registered trademark) AC-6000 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), 1,1,2,2, 3,3,4-heptafluorocyclopentane (e.g., Zeorora (registered trademark) H manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.); hydrofluoroether (HFE) (e.g., perfluoropropylmethyl ether); (C 3 F 7 OCH 3 ) (e.g., Novec (trademark) 7000 manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), perfluorobutylmethyl ether (C 4 F 9 OCH 3 ) (e.g., Sumitomo 3M Co., Ltd.) Novec (trademark) 7100, manufactured by Kaisha Co., Ltd.), perfluorobutyl ethyl ether (C 4 F 9 OC 2 H 5 ) (e.g., Novec (trademark) 7200, manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), perfluorohexylmethyl. Alkylperfluoroalkyl ethers such as ether (C 2 F 5 CF(OCH 3 )C 3 F 7 ) (for example, Novec (trademark) 7300 manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.) (the perfluoroalkyl group and the alkyl group are may be linear or branched), or CF 3 CH 2 OCF 2 CHF 2 (for example, Asahi Clean (registered trademark) AE-3000 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), etc. Alternatively, it can be used as a mixture of two or more types, preferably hydrofluoroether, and perfluorobutylmethyl ether (C 4 F 9 OCH 3 ) and/or perfluorobutyl ethyl ether (C 4 F 9 ) . OC 2 H 5 ) is particularly preferred.

건조 피복법을 사용하는 경우, 본 개시의 표면 처리제는, 그대로 건조 피복법에 부쳐도 되고, 또는, 상기한 용매로 희석하고 나서 건조 피복법에 부쳐도 된다.When using the dry coating method, the surface treatment agent of the present disclosure may be subjected to the dry coating method as is, or may be diluted with the above-mentioned solvent and then subjected to the dry coating method.

표면 처리제의 층 형성은, 층 중에서 본 개시의 표면 처리제가, 가수 분해 및 탈수 축합을 위한 촉매와 함께 존재하도록 실시하는 것이 바람직하다. 간편하게는, 습윤 피복법에 의한 경우, 본 개시의 표면 처리제를 용매로 희석한 후, 기재 표면에 적용하기 직전에, 본 개시의 표면 처리제의 희석액에 촉매를 첨가해도 된다. 건조 피복법에 의한 경우에는, 촉매 첨가한 본 개시의 표면 처리제를 그대로 증착(통상, 진공 증착) 처리하거나, 혹은 철이나 구리 등의 금속 다공체에, 촉매 첨가한 본 개시의 표면 처리제를 함침시킨 펠릿상 물질을 사용하여 증착(통상, 진공 증착) 처리를 해도 된다.The layer formation of the surface treatment agent is preferably performed so that the surface treatment agent of the present disclosure is present together with a catalyst for hydrolysis and dehydration condensation in the layer. Conveniently, in the case of using a wet coating method, the catalyst may be added to the diluted solution of the surface treatment agent of the present disclosure immediately before application to the surface of the substrate after diluting the surface treatment agent of the present disclosure with a solvent. In the case of a dry coating method, the surface treatment agent of the present disclosure to which a catalyst has been added is deposited as is (usually vacuum deposition), or a metal porous body such as iron or copper is impregnated with the surface treatment agent of the present disclosure to which a catalyst has been added. Pellets Vapor deposition (usually vacuum deposition) may be performed using the phase material.

촉매에는, 임의의 적절한 산 또는 염기를 사용할 수 있다. 산 촉매로서는, 예를 들어 아세트산, 포름산, 트리플루오로아세트산 등을 사용할 수 있다. 또한, 염기 촉매로서는, 예를 들어 암모니아, 유기 아민류 등을 사용할 수 있다.As the catalyst, any suitable acid or base can be used. As the acid catalyst, for example, acetic acid, formic acid, trifluoroacetic acid, etc. can be used. Additionally, as a base catalyst, for example, ammonia, organic amines, etc. can be used.

본 개시의 물품에 포함되는 표면 처리층은, 높은 마모 내구성의 양쪽을 갖는다. 또한, 상기 표면 처리층은, 높은 마모 내구성에 더하여, 사용하는 표면 처리제의 조성에 따라서 다르지만, 발수성, 발유성, 방오성(예를 들어 지문 등의 오염의 부착을 방지함), 방수성(전자 부품 등으로의 물의 침입을 방지함), 표면 미끄럼성(또는 윤활성, 예를 들어 지문 등의 오염의 닦아내기성이나, 손가락에 대한 우수한 촉감), 내약품성 등을 가질 수 있어, 기능성 박막으로서 적합하게 이용될 수 있다.The surface treatment layer included in the article of the present disclosure has both high wear durability. In addition to high abrasion durability, the surface treatment layer has water-repellency, oil-repellent properties, anti-fouling properties (prevents the adhesion of contaminants such as fingerprints), and waterproofing properties (e.g., prevents adhesion of contaminants such as fingerprints), depending on the composition of the surface treatment agent used. It can have surface slipperiness (or lubricity, such as wiping away contaminants such as fingerprints or excellent feel to the finger), chemical resistance, etc., and can be suitably used as a functional thin film. You can.

따라서, 본 개시는 또한, 상기 표면 처리층을 최외층에 갖는 광학 재료에도 관한 것이다.Accordingly, the present disclosure also relates to an optical material having the surface treatment layer as the outermost layer.

광학 재료로서는, 후기에 예시하는 바와 같은 디스플레이 등에 관한 광학 재료 외에, 다종다양한 광학 재료를 바람직하게 들 수 있다: 예를 들어, 음극선관(CRT; 예를 들어, 퍼스컴 모니터), 액정 디스플레이, 플라스마 디스플레이, 유기EL 디스플레이, 무기 박막 EL 도트 매트릭스 디스플레이, 배면 투사형 디스플레이, 형광 표시관(VFD), 전계 방출 디스플레이(FED; Field Emission Display) 등의 디스플레이 또는 그것들의 디스플레이의 보호판, 또는 그것들의 표면에 반사 방지막 처리를 실시한 것.As optical materials, in addition to optical materials for displays and the like as exemplified later, a wide variety of optical materials are preferably used: for example, cathode ray tubes (CRTs; e.g., computer monitors), liquid crystal displays, and plasma displays. , displays such as organic EL displays, inorganic thin film EL dot matrix displays, rear projection displays, fluorescent displays (VFDs), field emission displays (FEDs), or protective plates for these displays, or anti-reflective films on their surfaces. processing was carried out.

본 개시의 물품은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 광학 부재일 수 있다. 광학 부재의 예에는, 다음의 것을 들 수 있다: 안경 등의 렌즈; PDP, LCD 등의 디스플레이의 전방면 보호판, 반사 방지판, 편광판, 안티글레어판; 휴대 전화, 휴대 정보 단말기 등의 기기의 터치 패널 시트; 블루레이(Blu-ray(등록 상표)) 디스크, DVD 디스크, CD-R, MO 등의 광 디스크의 디스크면; 광 파이버; 시계의 표시면 등.The article of the present disclosure is not particularly limited, but may be an optical member. Examples of optical members include: lenses such as glasses; Front protection plates, anti-reflection plates, polarizers, and anti-glare plates for displays such as PDP and LCD; Touch panel sheets for devices such as mobile phones and mobile information terminals; Disc surfaces of optical discs such as Blu-ray (registered trademark) discs, DVD discs, CD-Rs, and MOs; optical fiber; Watch display, etc.

또한, 본 개시의 물품은, 의료 기기 또는 의료 재료여도 된다. 또한, 본 개시에 의해 얻어지는 층을 갖는 물품은, 자동차 내외장 부재여도 된다. 외장재의 예에는, 다음의 것을 들 수 있다: 윈도우, 라이트 커버, 사외 카메라 커버. 내장재의 예에는, 다음의 것을 들 수 있다: 인스트루먼트 패널 커버, 내비게이션 시스템 터치 패널, 가식 내장재.Additionally, the article of the present disclosure may be a medical device or medical material. Additionally, the article having the layer obtained by the present disclosure may be an automobile interior or exterior member. Examples of exterior materials include: windows, light covers, and external camera covers. Examples of interior materials include: instrument panel covers, navigation system touch panels, and decorative interior materials.

상기 층의 두께는, 특별히 한정되지는 않는다. 광학 부재의 경우, 상기 층의 두께는, 1 내지 50㎚, 1 내지 30㎚, 바람직하게는 1 내지 15㎚의 범위인 것이, 광학 성능, 마모 내구성 및 방오성의 점에서 바람직하다.The thickness of the layer is not particularly limited. In the case of an optical member, the thickness of the layer is preferably in the range of 1 to 50 nm, 1 to 30 nm, and preferably 1 to 15 nm from the viewpoint of optical performance, wear durability and anti-fouling properties.

이상, 본 개시의 물품에 대하여 상세하게 설명하였다. 또한, 본 개시의 물품 및 물품의 제조 방법 등은, 상기에서 예시한 것에 한정되지는 않는다.Above, the article of the present disclosure has been described in detail. In addition, the article and method for manufacturing the article of the present disclosure are not limited to those exemplified above.

실시예Example

이하, 본 개시의 화합물에 대하여, 실시예에 있어서 설명하지만, 본 개시는 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 실시예에 있어서, 플루오로폴리에테르를 구성하는 반복 단위의 존재 순서는 임의이며, 이하에 나타내어지는 화학식은 평균 조성을 나타낸다.Hereinafter, the compounds of the present disclosure will be described using examples, but the present disclosure is not limited to the following examples. In addition, in this example, the order of existence of the repeating units constituting the fluoropolyether is arbitrary, and the chemical formula shown below represents the average composition.

합성예 1Synthesis Example 1

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 평균 조성 CF3O(CF2CF2O)22(CF2O)26CF2COF로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르 변성 산 플루오라이드체 10.0g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 10.0g, 및 테트라히드로푸란 5.0g을, 질소 기류 하, 25℃에서 30분간 교반하였다. 계속해서, 0.7M의 알릴마그네슘 브로마이드 9.6mL를 천천히 적하한 후, 60℃에서 4시간 가열하였다. 그 후, 5℃까지 냉각하고, 3.0M 염산 수용액 10.0g을 적하하여 반응을 정지시켰다. 분액 조작에 의해, 하층의 플루오로스상을 회수 후, 메탄올로 세정하였다. 그 후, 감압 하에서 휘발분을 증류 제거함으로써, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 알릴 화합물(A)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer and stirrer, perfluoropolyether-modified acid fluoride with an average composition CF 3 O(CF 2 CF 2 O) 22 (CF 2 O) 26 CF 2 COF was added. 10.0 g of sieve, 10.0 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, and 5.0 g of tetrahydrofuran were stirred at 25°C for 30 minutes under a nitrogen stream. Subsequently, 9.6 mL of 0.7 M allyl magnesium bromide was slowly added dropwise, and then heated at 60°C for 4 hours. After that, it was cooled to 5°C, and 10.0 g of 3.0 M hydrochloric acid aqueous solution was added dropwise to stop the reaction. The lower fluorose phase was recovered through a liquid separation operation and then washed with methanol. Thereafter, the volatile matter was distilled off under reduced pressure to obtain a perfluoropolyether group-containing allyl compound (A) represented by the following formula.

CF3O(CF2CF2O)22(CF2O)26CF2C(OH)(CH2CH=CH2)2 CF 3 O(CF 2 CF 2 O) 22 (CF 2 O) 26 CF 2 C(OH)(CH 2 CH=CH 2 ) 2

합성예 2Synthesis Example 2

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 1에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 알릴 화합물(A) 10.0g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 10.0g, 트리아세톡시메틸실란 0.020g, 및 트리클로로실란 1.21g을 투입하고, 질소 기류 하, 5℃에서 30분간 교반하였다. 계속해서, 1,3-디비닐-1, 1,3,3-테트라메틸디실록산의 Pt 착체를 2% 포함하는 크실렌 용액 0.20g을 첨가한 후, 60℃에서 5시간 교반하였다. 그 후, 감압 하에서 휘발분을 증류 제거함으로써, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 트리클로로실란 화합물(B)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, 10.0 g of the perfluoropolyether group-containing allyl compound (A) obtained in Synthesis Example 1 and 10.0 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene were added. , 0.020 g of triacetoxymethylsilane, and 1.21 g of trichlorosilane were added, and stirred for 30 minutes at 5°C under a nitrogen stream. Subsequently, 0.20 g of a xylene solution containing 2% of the Pt complex of 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane was added, and then stirred at 60°C for 5 hours. Thereafter, the volatile matter was distilled off under reduced pressure to obtain a perfluoropolyether group-containing trichlorosilane compound (B) represented by the following formula.

CF3O(CF2CF2O)22(CF2O)26CF2C(OH)(CH2CH2CH2SiCl3)2 CF 3 O(CF 2 CF 2 O) 22 (CF 2 O) 26 CF 2 C(OH)(CH 2 CH 2 CH 2 SiCl 3 ) 2

합성예 3Synthesis Example 3

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 2에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 트리클로로실란 화합물(B) 10.0g, 및 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 10.0g을 투입하고, 질소 기류 하, 50℃에서 30분간 교반하였다. 계속해서, 메탄올 0.13g, 및 오르토포름산메틸 1.42g의 혼합 용액을 첨가한 후, 65℃에서 2시간 교반하였다. 그 후, 감압 하에서 휘발분을 증류 제거함으로써, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(C)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, 10.0 g of the perfluoropolyether group-containing trichlorosilane compound (B) obtained in Synthesis Example 2, and 1,3-bis(trifluoromethyl) 10.0 g of benzene was added and stirred at 50°C for 30 minutes under a nitrogen stream. Subsequently, a mixed solution of 0.13 g of methanol and 1.42 g of methyl orthoformate was added, and then stirred at 65°C for 2 hours. Thereafter, the volatile matter was distilled off under reduced pressure to obtain a perfluoropolyether group-containing silane compound (C) represented by the following formula.

CF3O(CF2CF2O)22(CF2O)26CF2C(OH){CH2CH2CH2Si(OCH3)3}2 CF 3 O(CF 2 CF 2 O) 22 (CF 2 O) 26 CF 2 C(OH){CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3 } 2

합성예 4Synthesis Example 4

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 3에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(C) 10.0g, 2-이소시아나토에틸아크릴레이트(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) AOI) 0.32g, 및 디부틸주석디라우레이트 0.0014g을 투입하고, 질소 기류 하, 50℃에서 2시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(D)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, 10.0 g of the perfluoropolyether group-containing silane compound (C) obtained in Synthesis Example 3 and 2-isocyanatoethyl acrylate (Showa Denko Co., Ltd.) 0.32 g of Kaisha Karenz (registered trademark) AOI) and 0.0014 g of dibutyltin dilaurate were added and stirred at 50°C for 2 hours under a nitrogen stream to obtain a perfluoropolyether group represented by the following formula. Silane compound (D) was obtained.

CF3O(CF2CF2O)22(CF2O)26CF2C(OX){CH2CH2CH2Si(OCH3)3}2 CF 3 O(CF 2 CF 2 O) 22 (CF 2 O) 26 CF 2 C(OX){CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3 } 2

X=-CONHCH2CH2OCOCH=CH2 X=-CONHCH 2 CH 2 OCOCH=CH 2

합성예 5Synthesis Example 5

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 평균 조성 CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)24CF2CF2COOCH3로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르 변성 에스테르체 10.0g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 5.0g, 및 3-(2-아미노에틸아미노)프로필트리메톡시실란 0.51g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하였다. 그 후 감압 하에서 휘발분을 증류 제거함으로써, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(E)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer and stirrer, modified perfluoropolyether with an average composition CF 3 CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) 24 CF 2 CF 2 COOCH 3 was added. 10.0 g of ester, 5.0 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, and 0.51 g of 3-(2-aminoethylamino)propyltrimethoxysilane were added, and incubated at 25°C for 1 hour under a nitrogen stream. It was stirred. Thereafter, the volatile matter was distilled off under reduced pressure to obtain a perfluoropolyether group-containing silane compound (E) represented by the following formula.

CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)24CF2CF2CONHCH2CH2NHCH2CH2CH2Si(OCH3)3 CF 3 CF 2 CF 2 O(CF 2 CF 2 CF 2 O) 24 CF 2 CF 2 CONHCH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

합성예 6Synthesis Example 6

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 5에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(E) 10.0g, 2-이소시아나토에틸아크릴레이트(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) AOI) 0.32g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(F)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, 10.0 g of the perfluoropolyether group-containing silane compound (E) obtained in Synthesis Example 5 and 2-isocyanatoethyl acrylate (Showa Denko Co., Ltd.) 0.32 g of Kaisha Karenz (registered trademark) AOI) was added and stirred at 25°C for 1 hour under a nitrogen stream to obtain a perfluoropolyether group-containing silane compound (F) represented by the following formula.

CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)24CF2CF2CONHCH2CH2N(X)CH2CH2CH2Si(OCH3)3 CF 3 CF 2 CF 2 O(CF 2 CF 2 CF 2 O) 24 CF 2 CF 2 CONHCH 2 CH 2 N(X)CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

X=-CONHCH2CH2OCOCH=CH2 X=-CONHCH 2 CH 2 OCOCH=CH 2

합성예 7Synthesis Example 7

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 평균 조성 CF3O(CF2CF2O)22(CF2O)26CF2COOCH3로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르 변성 에스테르체 10.0g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 5.0g, 및 3-(2-아미노에틸아미노)프로필트리메톡시실란 0.50g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하였다. 그 후 감압 하에서 휘발분을 증류 제거함으로써, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(G)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, a perfluoropolyether modified ester with an average composition CF 3 O (CF 2 CF 2 O) 22 (CF 2 O) 26 CF 2 COOCH 3 was added. 10.0 g, 5.0 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, and 0.50 g of 3-(2-aminoethylamino)propyltrimethoxysilane were added, and stirred at 25°C for 1 hour under a nitrogen stream. . Thereafter, the volatile matter was distilled off under reduced pressure to obtain a perfluoropolyether group-containing silane compound (G) represented by the following formula.

CF3O(CF2CF2O)22(CF2O)26CF2CONHCH2CH2NHCH2CH2CH2Si(OCH3)3 CF 3 O(CF 2 CF 2 O) 22 (CF 2 O) 26 CF 2 CONHCH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

합성예 8Synthesis Example 8

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 7에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(G) 10.0g, 및 2-이소시아나토에틸아크릴레이트(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) AOI) 0.31g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(H)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, 10.0 g of the perfluoropolyether group-containing silane compound (G) obtained in Synthesis Example 7, and 2-isocyanatoethyl acrylate (Showa Denko Co., Ltd.) 0.31 g of Karenz (registered trademark) AOI) manufactured by Shiki Kaisha was added and stirred at 25°C for 1 hour under a nitrogen stream to obtain a perfluoropolyether group-containing silane compound (H) represented by the following formula.

CF3O(CF2CF2O)22(CF2O)26CF2CONHCH2CH2N(X)CH2CH2CH2Si(OCH3)3 CF 3 O(CF 2 CF 2 O) 22 (CF 2 O) 26 CF 2 CONHCH 2 CH 2 N(X)CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

X=-CONHCH2CH2OCOCH=CH2 X=-CONHCH 2 CH 2 OCOCH=CH 2

합성예 9Synthesis Example 9

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 평균 조성 CF3CF2CF2O{CF(CF3)CF2O}11CF(CF3)COOCH3로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르 변성 에스테르체 10.0g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 5.0g, 및 3-(2-아미노에틸아미노)프로필트리메톡시실란 1.02g을 투입하고, 질소 기류 하, 70℃에서 10시간 교반하였다. 그 후 감압 하에서 휘발분을 증류 제거함으로써, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(I)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, perfluoropoly with an average composition CF 3 CF 2 CF 2 O{CF(CF 3 )CF 2 O} 11 CF(CF 3 )COOCH 3 was added. 10.0 g of ether-modified ester, 5.0 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, and 1.02 g of 3-(2-aminoethylamino)propyltrimethoxysilane were added, and the mixture was heated at 70°C under a nitrogen stream. It was stirred for 10 hours. Thereafter, the volatile matter was distilled off under reduced pressure to obtain a perfluoropolyether group-containing silane compound (I) represented by the following formula.

CF3CF2CF2O{CF(CF3)CF2O}11CF(CF3)CONHCH2CH2NHCH2CH2CH2Si(OCH3)3 CF 3 CF 2 CF 2 O{CF(CF 3 )CF 2 O} 11 CF(CF 3 )CONHCH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

합성예 10Synthesis Example 10

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 9에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(I) 10.0g, 및 2-이소시아나토에틸아크릴레이트(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) AOI) 0.65g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(J)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, 10.0 g of the perfluoropolyether group-containing silane compound (I) obtained in Synthesis Example 9, and 2-isocyanatoethyl acrylate (Showa Denko Co., Ltd.) 0.65 g of Karenz (registered trademark) AOI) manufactured by Shiki Kaisha was added and stirred at 25°C for 1 hour under a nitrogen stream to obtain a perfluoropolyether group-containing silane compound (J) represented by the following formula.

CF3CF2CF2O{CF(CF3)CF2O}11CF(CF3)CONHCH2CH2N(X)CH2CH2CH2Si(OCH3)3 CF 3 CF 2 CF 2 O{CF(CF 3 )CF 2 O} 11 CF(CF 3 )CONHCH 2 CH 2 N(X)CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

X=-CONHCH2CH2OCOCH=CH2 X=-CONHCH 2 CH 2 OCOCH=CH 2

합성예 11Synthesis Example 11

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 평균 조성 CF3O(CF2CF2OCF2CF2CF2CF2O)13CF2CF2OCF2CF2CF2COOCH3로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르 변성 에스테르체 10.0g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 5.0g, 및 3-(2-아미노에틸아미노)프로필트리메톡시실란 0.47g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하였다. 그 후 감압 하에서 휘발분을 증류 제거함으로써, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(K)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, the average composition CF 3 O (CF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) 13 CF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 CF 2 COOCH 3 10.0 g of the indicated perfluoropolyether modified ester, 5.0 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, and 0.47 g of 3-(2-aminoethylamino)propyltrimethoxysilane were added, and nitrogen was added. It was stirred for 1 hour at 25°C under air flow. Thereafter, the volatile matter was distilled off under reduced pressure to obtain a perfluoropolyether group-containing silane compound (K) represented by the following formula.

CF3O(CF2CF2OCF2CF2CF2CF2O)13CF2CF2OCF2CF2CF2CONHCH2CH2NHCH2CH2CH2Si(OCH3)3 CF 3 O(CF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) 13 CF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 CF 2 CONHCH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

합성예 12Synthesis Example 12

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 11에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(K) 10.0g, 및 2-이소시아나토에틸아크릴레이트(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) AOI) 0.30g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(L)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, 10.0 g of the perfluoropolyether group-containing silane compound (K) obtained in Synthesis Example 11, and 2-isocyanatoethyl acrylate (Showa Denko Co., Ltd.) 0.30 g of Karen's (registered trademark) AOI) manufactured by Shiki Kaisha was added and stirred at 25°C for 1 hour under a nitrogen stream to obtain a perfluoropolyether group-containing silane compound (L) represented by the following formula.

CF3O(CF2CF2OCF2CF2CF2CF2O)13CF2CF2OCF2CF2CF2CONHCH2CH2N(X)CH2CH2CH2Si(OCH3)3 CF 3 O(CF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) 13 CF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 CF 2 CONHCH 2 CH 2 N(X)CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

X=-CONHCH2CH2OCOCH=CH2 X=-CONHCH 2 CH 2 OCOCH=CH 2

합성예 13Synthesis Example 13

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 7에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(G) 10.0g, 및 1,1-(비스아크릴로일옥시메틸)에틸이소시아네이트(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) BEI) 0.53g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(M)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, 10.0 g of the perfluoropolyether group-containing silane compound (G) obtained in Synthesis Example 7, and 1,1-(bisacryloyloxymethyl)ethyl 0.53 g of isocyanate (Kalens (registered trademark) BEI, manufactured by Showa Denko Co., Ltd.) was added, stirred for 1 hour at 25°C under a nitrogen stream, and a perfluoropolyether group-containing silane compound represented by the following formula ( M) was obtained.

CF3O(CF2CF2O)22(CF2O)26CF2CONHCH2CH2N(X)CH2CH2CH2Si(OCH3)3 CF 3 O(CF 2 CF 2 O) 22 (CF 2 O) 26 CF 2 CONHCH 2 CH 2 N(X)CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

X=-CONHC(CH3)(CH2OCOCH=CH2)2 X=-CONHC(CH 3 )(CH 2 OCOCH=CH 2 ) 2

합성예 14Synthesis Example 14

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 7에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(G) 10.0g, 및 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르(미쓰비시 케미컬 가부시키가이샤제 4HBAGE) 0.45g을 투입하고, 질소 기류 하, 50℃에서 2시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(N)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, 10.0 g of the perfluoropolyether group-containing silane compound (G) obtained in Synthesis Example 7, and 4-hydroxybutylacrylate glycidyl ether (Mitsubishi 0.45 g of (4HBAGE) manufactured by Chemical Co., Ltd. was added and stirred at 50°C for 2 hours under a nitrogen stream to obtain a perfluoropolyether group-containing silane compound (N) represented by the following formula.

CF3O(CF2CF2O)22(CF2O)26CF2CONHCH2CH2N(X)CH2CH2CH2Si(OCH3)3 CF 3 O(CF 2 CF 2 O) 22 (CF 2 O) 26 CF 2 CONHCH 2 CH 2 N(X)CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

X는 하기 X1 또는 X2(X1:X2=73:27) X is

X1=-CH2CH(OH)CH2OCH2CH2CH2CH2OCOCH=CH2 X 1 =-CH 2 CH(OH)CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OCOCH=CH 2

X2=-CH(CH2OH)CH2OCH2CH2CH2CH2OCOCH=CH2 X 2 =-CH(CH 2 OH)CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OCOCH=CH 2

합성예 15Synthesis Example 15

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 평균 조성 CH3OCOCF2O(CF2O)12(CF2CF2O)12CF2COOCH3로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르 변성 에스테르체 10.0g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 5.0g, 및 3-(2-아미노에틸아미노)프로필트리메톡시실란 1.69g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하였다. 그 후 감압 하에서 휘발분을 증류 제거함으로써, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(O)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer and stirrer, modified perfluoropolyether with an average composition CH 3 OCOCF 2 O(CF 2 O) 12 (CF 2 CF 2 O) 12 CF 2 COOCH 3 was added. 10.0 g of ester, 5.0 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, and 1.69 g of 3-(2-aminoethylamino)propyltrimethoxysilane were added, and incubated at 25°C for 1 hour under a nitrogen stream. It was stirred. Thereafter, the volatile matter was distilled off under reduced pressure to obtain a perfluoropolyether group-containing silane compound (O) represented by the following formula.

(CH3O)3SiCH2CH2CH2NHCH2CH2NHCOCF2O(CF2CF2O)12(CF2O)12CF2CONHCH2CH2NHCH2CH2CH2Si(OCH3)3 (CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2 NHCOCF 2 O(CF 2 CF 2 O) 12 (CF 2 O) 12 CF 2 CONHCH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

합성예 16Synthesis Example 16

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 15에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(O) 10.0g, 및 2-이소시아나토에틸아크릴레이트(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) AOI) 1.08g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(P)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, 10.0 g of the perfluoropolyether group-containing silane compound (O) obtained in Synthesis Example 15, and 2-isocyanatoethyl acrylate (Showa Denko Co., Ltd.) 1.08 g of Karen's (registered trademark) AOI) manufactured by Shiki Kaisha was added and stirred at 25°C for 1 hour under a nitrogen stream to obtain a perfluoropolyether group-containing silane compound (P) represented by the following formula.

(CH3O)3SiCH2CH2CH2N(X)CH2CH2NHCOCF2O(CF2CF2O)12(CF2O)12CF2CONHCH2CH2N(X)CH2CH2CH2Si(OCH3)3 (CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 N(X)CH 2 CH 2 NHCOCF 2 O(CF 2 CF 2 O) 12 (CF 2 O) 12 CF 2 CONHCH 2 CH 2 N(X)CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

X=-CONHCH2CH2OCOCH=CH2 X=-CONHCH 2 CH 2 OCOCH=CH 2

합성예 17Synthesis Example 17

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 평균 조성 CH3OCOCF(CF3){OCF2CF(CF3)}mOCF2CF2O{CF(CF3)CF2O}nCF(CF3)COOCH3(m+n≒34)로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르 변성 에스테르체 10.0g, 헥사플루오로벤젠 5.0g, 및 3-(2-아미노에틸아미노)프로필트리메톡시실란 0.73g을 투입하고, 질소 기류 하, 70℃에서 12시간 교반하였다. 그 후 감압 하에서 휘발분을 증류 제거함으로써, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(Q)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, the average composition CH 3 OCOCF(CF 3 ){OCF 2 CF(CF 3 )} m OCF 2 CF 2 O{CF(CF 3 )CF 2 O} 10.0 g of perfluoropolyether modified ester represented by n CF(CF 3 )COOCH 3 (m+n≒34), 5.0 g of hexafluorobenzene, and 3-(2-aminoethylamino)propyltrimethoxy 0.73 g of silane was added, and stirred at 70°C for 12 hours under a nitrogen stream. Thereafter, volatile matter was distilled off under reduced pressure to obtain a perfluoropolyether group-containing silane compound (Q) represented by the following formula.

(CH3O)3SiCH2CH2CH2NHCH2CH2NHCOCF(CF3){OCF2CF(CF3)}mOCF2CF2O{CF(CF3)CF2O}nCF(CF3)CONHCH2CH2NHCH2CH2CH2Si(OCH3)3 (CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2 NHCOCF(CF 3 ){OCF 2 CF(CF 3 )} m OCF 2 CF 2 O{CF(CF 3 )CF 2 O} n CF(CF 3 )CONHCH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

합성예 18Synthesis Example 18

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 17에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(Q) 10.0g, 및 2-이소시아나토에틸아크릴레이트(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) AOI) 0.46g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(R)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, 10.0 g of the perfluoropolyether group-containing silane compound (Q) obtained in Synthesis Example 17, and 2-isocyanatoethyl acrylate (Showa Denko Co., Ltd.) 0.46 g of Karen's (registered trademark) AOI) manufactured by Shiki Kaisha was added and stirred at 25°C for 1 hour under a nitrogen stream to obtain a perfluoropolyether group-containing silane compound (R) represented by the following formula.

(CH3O)3SiCH2CH2CH2N(X)CH2CH2NHCOCF(CF3){OCF2CF(CF3)}mOCF2CF2O{CF(CF3)CF2O}nCF(CF3)CONHCH2CH2N(X)CH2CH2CH2Si(OCH3)3 (CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 N(X)CH 2 CH 2 NHCOCF(CF 3 ){OCF 2 CF(CF 3 )} m OCF 2 CF 2 O{CF(CF 3 )CF 2 O} n CF(CF 3 )CONHCH 2 CH 2 N(X)CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

X=-CONHCH2CH2OCOCH=CH2 X=-CONHCH 2 CH 2 OCOCH=CH 2

합성예 19Synthesis Example 19

환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 15에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(O) 10.0g, 및 2-(2-메타크릴로일옥시에틸옥시)에틸이소시아나토(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) MOI-EG) 1.52g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물(S)을 얻었다.In a 100 mL three-necked flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer, 10.0 g of the perfluoropolyether group-containing silane compound (O) obtained in Synthesis Example 15, and 2-(2-methacryloyloxyethyloxy) 1.52 g of ethyl isocyanato (Karenz (registered trademark) MOI-EG, manufactured by Showa Denko Co., Ltd.) was added, stirred for 1 hour at 25°C under a nitrogen stream, and perfluoropolyether represented by the following formula was obtained. A group-containing silane compound (S) was obtained.

(CH3O)2(CH3)SiCH2CH2CH2N(X)CH2CH2NHCOCF2O(CF2CF2O)12(CF2O)12CF2CONHCH2CH2N(X)CH2CH2CH2Si(CH3)(OCH3)2 (CH 3 O) 2 (CH 3 )SiCH 2 CH 2 CH 2 N(X)CH 2 CH 2 NHCOCF 2 O(CF 2 CF 2 O) 12 (CF 2 O) 12 CF 2 CONHCH 2 CH 2 N(X )CH 2 CH 2 CH 2 Si(CH 3 )(OCH 3 ) 2

X=-CONHCH2CH2OCH2CH2OCOC(CH3)=CH2 X=-CONHCH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 OCOC(CH 3 )=CH 2

실시예 1Example 1

상기 합성예 4에서 얻은 화합물(D)을, 농도 20질량%로 되도록, 노벡 7200(쓰리엠사제)에 용해시켜, 표면 처리제 1을 조제하였다.Compound (D) obtained in Synthesis Example 4 was dissolved in Novec 7200 (manufactured by 3M) to a concentration of 20 mass% to prepare Surface Treatment Agent 1.

상기에서 조제한 표면 처리제 1을, 화학 강화 유리(코닝사제, 「고릴라」 글라스, 두께 0.7㎜) 상에 진공 증착하였다. 진공 증착법의 조건은, 저항 가열식 증착기 챔버 사이즈 1,900㎜φ, 진공도 5.0E-05, 전류값 240A, 전압 10V, 기재 온도 40℃였다. 다음으로, 증착한 화학 강화 유리를, 온도 150℃의 분위기 하에서 30분 정치하고, 그 후 실온까지 방랭시켰다. 계속해서, 증착한 화학 강화 유리에, 공기 분위기 하 365㎚의 UV광을 포함하는 광선을 1000mJ/㎠의 강도로 조사하여, 유리 기재 상에 표면 처리층을 형성시켰다.Surface treatment agent 1 prepared above was vacuum deposited on chemically strengthened glass (“Gorilla” glass manufactured by Corning, thickness 0.7 mm). The conditions for the vacuum deposition method were a resistance heating type evaporator chamber size of 1,900 mmϕ, a vacuum degree of 5.0E-05, a current value of 240 A, a voltage of 10 V, and a substrate temperature of 40°C. Next, the vapor-deposited chemically strengthened glass was left to stand in an atmosphere at a temperature of 150°C for 30 minutes, and then allowed to cool to room temperature. Subsequently, the vapor-deposited chemically strengthened glass was irradiated with a ray containing 365 nm UV light in an air atmosphere at an intensity of 1000 mJ/cm 2 to form a surface treatment layer on the glass substrate.

실시예 2Example 2

화합물(D) 대신에, 상기 합성예 6에서 얻은 화합물(F)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 표면 처리제를 조제하여, 표면 처리층을 형성하였다.A surface treatment agent was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound (F) obtained in Synthesis Example 6 was used instead of the compound (D), and a surface treatment layer was formed.

실시예 3Example 3

화합물(D) 대신에, 상기 합성예 8에서 얻은 화합물(H)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 표면 처리제를 조제하여, 표면 처리층을 형성하였다.A surface treatment agent was prepared in the same manner as in Example 1, except that compound (H) obtained in Synthesis Example 8 was used instead of compound (D), and a surface treatment layer was formed.

실시예 4Example 4

화합물(D) 대신에, 상기 합성예 10에서 얻은 화합물(J)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 표면 처리제를 조제하여, 표면 처리층을 형성하였다.A surface treatment agent was prepared in the same manner as in Example 1, except that compound (J) obtained in Synthesis Example 10 was used instead of compound (D), and a surface treatment layer was formed.

실시예 5Example 5

화합물(D) 대신에, 상기 합성예 12에서 얻은 화합물(L)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 표면 처리제를 조제하여, 표면 처리층을 형성하였다.A surface treatment agent was prepared in the same manner as in Example 1, except that compound (L) obtained in Synthesis Example 12 was used instead of compound (D), and a surface treatment layer was formed.

실시예 6Example 6

화합물(D) 대신에, 상기 합성예 13에서 얻은 화합물(M)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 표면 처리제를 조제하여, 표면 처리층을 형성하였다.A surface treatment agent was prepared in the same manner as in Example 1, except that compound (M) obtained in Synthesis Example 13 was used instead of compound (D), and a surface treatment layer was formed.

실시예 7Example 7

화합물(D) 대신에, 상기 합성예 14에서 얻은 화합물(N)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 표면 처리제를 조제하여, 표면 처리층을 형성하였다.A surface treatment agent was prepared in the same manner as in Example 1, except that compound (N) obtained in Synthesis Example 14 was used instead of compound (D), and a surface treatment layer was formed.

실시예 8Example 8

화합물(D) 대신에, 상기 합성예 16에서 얻은 화합물(P)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 표면 처리제를 조제하여, 표면 처리층을 형성하였다.A surface treatment agent was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound (P) obtained in Synthesis Example 16 was used instead of the compound (D), and a surface treatment layer was formed.

실시예 9Example 9

화합물(D) 대신에, 상기 합성예 18에서 얻은 화합물(R)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 표면 처리제를 조제하여, 표면 처리층을 형성하였다.A surface treatment agent was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound (R) obtained in Synthesis Example 18 was used instead of the compound (D), and a surface treatment layer was formed.

실시예 10Example 10

화합물(D) 대신에, 상기 합성예 19에서 얻은 화합물(S)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 표면 처리제를 조제하여, 표면 처리층을 형성하였다.A surface treatment agent was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound (S) obtained in Synthesis Example 19 was used instead of the compound (D), and a surface treatment layer was formed.

비교예 1Comparative Example 1

하기 화합물(T)을, 농도 20질량%로 되도록, 노벡 7200(쓰리엠사제)에 용해시켜, 표면 처리제 2를 조제하였다.Surface treatment agent 2 was prepared by dissolving the following compound (T) in Novec 7200 (manufactured by 3M) at a concentration of 20% by mass.

CF3O(CF2CF2O)22(CF2O)26CF2CON{CH2CH2CH2Si(OCH3)3}2 CF 3 O(CF 2 CF 2 O) 22 (CF 2 O) 26 CF 2 CON{CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3 } 2

상기에서 조제한 표면 처리제 2를, 각각 화학 강화 유리(코닝사제, 「고릴라」 글라스, 두께 0.7㎜) 상에 진공 증착하였다. 진공 증착법의 조건은, 저항 가열식 증착기 챔버 사이즈 1,900㎜φ, 진공도 5.0E-05, 전류값 240A, 전압 10V, 기재 온도 40℃였다. 다음으로, 증착한 화학 강화 유리를, 온도 150℃의 분위기 하에서 30분 정치하고, 그 후 실온까지 방랭시켜, 유리 기재 상에 표면 처리층을 형성하였다.The surface treatment agent 2 prepared above was vacuum deposited on chemically strengthened glass (“Gorilla” glass manufactured by Corning, thickness 0.7 mm). The conditions for the vacuum deposition method were a resistance heating type evaporator chamber size of 1,900 mmϕ, a vacuum degree of 5.0E-05, a current value of 240 A, a voltage of 10 V, and a substrate temperature of 40°C. Next, the vapor-deposited chemically strengthened glass was left to stand in an atmosphere at a temperature of 150°C for 30 minutes, and then allowed to cool to room temperature to form a surface treatment layer on the glass substrate.

비교예 2Comparative Example 2

화합물(T) 대신에, 하기 화합물(U)을 사용한 것 이외에는, 비교예 1과 마찬가지로 하여, 표면 처리제를 조제하여, 표면 처리층을 형성하였다.A surface treatment agent was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that the following compound (U) was used instead of compound (T), and a surface treatment layer was formed.

CF3O(CF2CF2O)22(CF2O)26CF2CONHCH2CH2CH2Si(OCH3)3 CF 3 O(CF 2 CF 2 O) 22 (CF 2 O) 26 CF 2 CONHCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

비교예 3Comparative Example 3

화합물(T) 대신에, 하기 화합물(V)을 사용한 것 이외에는, 비교예 1과 마찬가지로 하여, 표면 처리제를 조제하여, 표면 처리층을 형성하였다.A surface treatment agent was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that the following compound (V) was used instead of compound (T), and a surface treatment layer was formed.

CF3CF2CF2O{CF(CF3)CF2O}11CF(CF3)CONHCH2CH2CH2Si(OCH3)3 CF 3 CF 2 CF 2 O{CF(CF 3 )CF 2 O} 11 CF(CF 3 )CONHCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

비교예 4Comparative Example 4

화합물(T) 대신에, 하기 화합물(W)을 사용한 것 이외에는, 비교예 1과 마찬가지로 하여, 표면 처리제를 조제하여, 표면 처리층을 형성하였다.A surface treatment agent was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that the following compound (W) was used instead of the compound (T), and a surface treatment layer was formed.

CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2CF2O)25CF2CF2CONHCH2CH2CH2Si(OCH3)3 CF 3 CF 2 CF 2 O(CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) 25 CF 2 CF 2 CONHCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

비교예 5Comparative Example 5

화합물(T) 대신에, 하기 화합물(X)을 사용한 것 이외에는, 비교예 1과 마찬가지로 하여, 표면 처리제를 조제하여, 표면 처리층을 형성하였다.A surface treatment agent was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that the following compound (X) was used instead of compound (T), and a surface treatment layer was formed.

(CH3O)3SiCH2CH2CH2NHCOCF2O(CF2CF2O)12(CF2O)12CF2CONHCH2CH2CH2Si(OCH3)3 (CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 NHCOCF 2 O(CF 2 CF 2 O) 12 (CF 2 O) 12 CF 2 CONHCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

비교예 6Comparative Example 6

화합물(T) 대신에, 하기 화합물(Y)을 사용한 것 이외에는, 비교예 1과 마찬가지로 하여, 표면 처리제를 조제하여, 표면 처리층을 형성하였다.A surface treatment agent was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that the following compound (Y) was used instead of compound (T), and a surface treatment layer was formed.

(CH3O)3SiCH2CH2CH2NHCOCF(CF3){OCF2CF(CF3)}mOCF2CF2O{CF(CF3)CF2O}nCF(CF3)CONHCH2CH2CH2Si(OCH3)3 (CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 NHCOCF(CF 3 ){OCF 2 CF(CF 3 )} m OCF 2 CF 2 O{CF(CF 3 )CF 2 O} n CF(CF 3 )CONHCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3

<평가><Evaluation>

상기에서 얻어진 표면 처리층 구비 유리 기체에 대하여, 각각, 다음과 같이 물 접촉각의 측정, 알칼리 시험의 평가를 행하였다.For each of the glass substrates with a surface treatment layer obtained above, the water contact angle was measured and the alkaline test was evaluated as follows.

(알칼리 침지 시험)(Alkali immersion test)

직경 1㎝의 PTFE제 O링을, 상기 실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 6에서 표면 처리한 기재의 표면에 설치하고, 8N의 NaOH 용액(알칼리 수용액)을 상기 O링 내에 적하하여, 표면 처리층의 표면을 알칼리 수용액과 접촉시켜, 알칼리 침지 시험에 부쳤다. 알칼리 침지 시험의 20 내지 300분 경과 후에 알칼리 수용액을 닦아내고, 순수, 에탄올로 세정한 후에, 물에 대한 접촉각을 측정하였다. 또한, 물의 정적 접촉각은, 상기 알칼리 침지 시험 후의 유리 기체의 표면에 대하여, 2μL의 순수의 수적을 착적시키고, 접촉각계(교와 가이멘 가가쿠사제: 자동 접촉각계 DropMaster701)를 사용하여, 물에 대한 접촉각을 측정하였다. 알칼리 침지 시험 후의 물의 정적 접촉각의 측정 개소는 5개소에서 행하였다. 300분 이내에 물의 정적 접촉각의 측정값이 저하된 경우에는, 도중에 알칼리 침지 시험을 정지하였다. 침지 시간과, 5개소의 접촉각 평균값의 관계를 하기 표에 나타낸다.A PTFE O-ring with a diameter of 1 cm was installed on the surface of the substrate surface-treated in Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 6, and an 8N NaOH solution (alkaline aqueous solution) was dropped into the O-ring to form a surface. The surface of the treated layer was brought into contact with an aqueous alkaline solution and subjected to an alkali immersion test. After 20 to 300 minutes of the alkali immersion test, the aqueous alkaline solution was wiped off, washed with pure water and ethanol, and then the contact angle with water was measured. In addition, the static contact angle of water was measured by depositing 2 μL of pure water on the surface of the glass substrate after the above-described alkali immersion test and using a contact angle meter (Kyowa Kaimen Chemical Co., Ltd.: Automatic contact angle meter DropMaster701). The contact angle was measured. The static contact angle of water after the alkali immersion test was measured at five locations. If the measured value of the static contact angle of water decreased within 300 minutes, the alkali immersion test was stopped midway. The relationship between the immersion time and the average value of the contact angles at five locations is shown in the table below.

Figure pct00024
Figure pct00024

(마모 내구성 시험)(Abrasion durability test)

표면 처리층이 형성된 샘플 물품을 수평 배치하고, 하기의 마찰자를 표면 처리층의 표면에 접촉(접촉면은 직경 1㎝의 원)시키고, 그 위에 5N의 하중을 부여하고, 그 후, 하중을 가한 상태에서 마찰자를 40㎜/초의 속도로 왕복시켰다. 마찰자를 최대 4000회 왕복시키고, 왕복 횟수(마찰 횟수) 1000회마다 물의 정적 접촉각(°)을 측정하였다. 물의 정적 접촉각의 측정값이 60° 미만이 된 시점에서 시험을 중지하였다. 또한, 물의 정적 접촉각의 측정은, 상기 알칼리 시험과 마찬가지로 실시하였다. 결과를 하기 표에 나타낸다.The sample article on which the surface treatment layer was formed is placed horizontally, the friction element shown below is brought into contact with the surface of the surface treatment layer (the contact surface is a circle with a diameter of 1 cm), and a load of 5 N is applied thereon. After that, the load is applied. The friction element was reciprocated at a speed of 40 mm/sec. The friction element was reciprocated up to 4000 times, and the static contact angle (°) of water was measured for every 1000 reciprocations (number of frictions). The test was stopped when the measured static contact angle of water became less than 60°. In addition, the static contact angle of water was measured in the same manner as the alkaline test described above. The results are shown in the table below.

·마찰자·Frictioner

하기에 나타내는 실리콘 고무 가공품의 표면(직경 1㎝)을, 하기에 나타내는 조성의 인공땀에 침지한 코튼으로 덮은 것을 마찰자로서 사용하였다.The surface (1 cm in diameter) of the processed silicone rubber product shown below was covered with cotton soaked in artificial sweat of the composition shown below and used as a friction element.

인공땀의 조성:Composition of artificial sweat:

무수 인산수소이나트륨: 2gDisodium hydrogen phosphate anhydrous: 2g

염화나트륨: 20gSodium chloride: 20g

85% 락트산: 2g85% lactic acid: 2g

히스티딘염산염: 5gHistidine hydrochloride: 5g

증류수: 1KgDistilled water: 1Kg

실리콘 고무 가공품:Silicone rubber processed products:

타이거스 폴리머제, 실리콘 고무 마개 SR-51을, 직경 1㎝, 두께 1㎝의 원주상으로 가공한 것.Silicone rubber stopper SR-51 made by Tigers Polymer was processed into a column shape with a diameter of 1 cm and a thickness of 1 cm.

Figure pct00025
Figure pct00025

본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 여러 가지 다양한 기재, 특히 마찰 내구성이 요구되는 광학 부재의 표면에, 표면 처리층을 형성하기 위해 적합하게 이용될 수 있다.The fluoropolyether group-containing acrylic compound of the present disclosure can be suitably used to form a surface treatment layer on a variety of substrates, especially on the surface of an optical member requiring friction durability.

Claims (24)

하기 식 (1) 또는 (2):

[식 중:
RF1은, Rf1-RF-Oq-이며,
RF2는, -Rf2 p-RF-Oq-이며,
Rf1은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-16 알킬기이며,
Rf2는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기이며,
RF는, 각각 독립적으로, 2가의 플루오로폴리에테르기이며,
p는, 0 또는 1이며,
q는, 각각 독립적으로, 0 또는 1이며,
XA는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는 2가의 유기기이며,
XB는, 각각 독립적으로, Si 원자를 함유하지 않는 탄소수 1 내지 10의 (m+n+1)가의 기이며,
RSi는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -XC-SiR1 n'R2 3-n'이며,
XC는, 탄소수 1 내지 10의 2가의 유기기이며,
R1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수 분해성기이며,
R2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이며,
n'는, 1 내지 3의 정수이며,
RAc는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -XD-XE(-XF-OCO-CR5=CH2)m'이며,
XD는, 단결합, 또는 2가의 유기기이며,
XE는, 단결합, 또는 (m'+1)가의 기이며,
XF는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합, 또는 2가의 유기기이며,
R5는, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 1가의 유기기이며,
m'는, 1 내지 10의 정수이며,
n은, 각각 독립적으로, 1 내지 10의 정수이며,
m은, 각각 독립적으로, 1 내지 10의 정수임]
로 표시되는 화합물.
Equation (1) or (2) below:

[Formula:
R F1 is Rf 1 -R F -O q -,
R F2 is -Rf 2 p -R F -O q -,
Rf 1 is a C 1-16 alkyl group which may be substituted with one or more fluorine atoms,
Rf 2 is a C 1-6 alkylene group which may be substituted with one or more fluorine atoms,
R F is each independently a divalent fluoropolyether group,
p is 0 or 1,
q is each independently 0 or 1,
X A is each independently a single bond or a divalent organic group,
Each of
R Si is independently -X C -SiR 1 n' R 2 3-n' in each occurrence,
X C is a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms,
R 1 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group in each occurrence,
R 2 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group in each occurrence,
n' is an integer from 1 to 3,
R Ac is, independently in each occurrence, -X D -X E (-X F -OCO-CR 5 =CH 2 ) m' ,
X D is a single bond or a divalent organic group,
X E is a single bond or a (m'+1) valent group,
X F is, in each occurrence, independently a single bond or a divalent organic group,
R 5 is a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms,
m' is an integer from 1 to 10,
n is each independently an integer from 1 to 10,
m is each independently an integer from 1 to 10]
Compounds represented by .
제1항에 있어서,
RF는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 식:
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3RFa 6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
[식 중, RFa는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이며,
a, b, c, d, e 및 f는, 각각 독립적으로, 0 내지 200의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 1 이상이며, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이며, 단, 모든 RFa가 수소 원자 또는 염소 원자인 경우, a, b, c, e 및 f 중 적어도 1개는, 1 이상임]
로 표시되는 기인, 화합물.
According to paragraph 1,
R F is independently for each occurrence, in the equation:
-(OC 6 F 12 ) a -(OC 5 F 10 ) b -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 R Fa 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f -
[In the formula, R Fa is independently a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom in each occurrence,
a, b, c, d, e and f are each independently an integer from 0 to 200, and the sum of a, b, c, d, e and f is 1 or more, and a, b, c, d, The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses by adding e or f is arbitrary in the formula, provided that when all R Fa is a hydrogen atom or a chlorine atom, at least one of a, b, c, e and f is, [is more than 1]
A radical, a compound, denoted by .
제1항 또는 제2항에 있어서,
RFa는, 불소 원자인, 화합물.
According to claim 1 or 2,
R Fa is a fluorine atom.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
RF는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (f1), (f2), (f3), (f4), (f5) 또는 (f6):
-(OC3F6)d-(OC2F4)e- (f1)
[식 중, d는 1 내지 200의 정수이며, e는, 0 또는 1임],
-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f2)
[식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로, 0 내지 30의 정수이며;
e 및 f는, 각각 독립적으로, 1 내지 200의 정수이며;
c, d, e 및 f의 합은, 10 내지 200의 정수이며;
첨자 c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의임],
-(R6-R7)g-R9- (f3)
[식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이며;
R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이며;
R9는, 단결합, 또는, OCF2, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이며;
g는, 2 내지 100의 정수임],
-(R6-R7)g-Rr-(R7'-R6')g'- (f4)
[식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이며,
R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기로부터 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이며,
R6'는, OCF2 또는 OC2F4이며,
R7'는, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기로부터 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이며,
g는, 2 내지 100의 정수이며,
g'는, 2 내지 100의 정수이며,
Rr은,

(식 중, *는, 결합 위치를 나타냄)
임];
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f5)
[식 중, e는, 1 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d 및 f는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 적어도 1이며, 또한, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임]
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f6)
[식 중, f는, 1 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d 및 e는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 적어도 1이며, 또한, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임]
으로 표시되는 기인, 화합물.
According to any one of claims 1 to 3,
R F is, at each occurrence, independently of the following formula (f1), (f2), (f3), (f4), (f5) or (f6):
-(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e - (f1)
[Wherein, d is an integer from 1 to 200, and e is 0 or 1],
-(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f2)
[Wherein, c and d are each independently an integer of 0 to 30;
e and f are each independently an integer from 1 to 200;
The sum of c, d, e and f is an integer from 10 to 200;
The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with the subscript c, d, e or f is arbitrary in the formula],
-(R 6 -R 7 ) g -R 9 - (f3)
[Wherein, R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 ;
R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or a combination of 2 or 3 groups selected from these groups;
R 9 is a single bond or a group selected from OCF 2 , OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 ;
g is an integer from 2 to 100],
-(R 6 -R 7 ) g -R r -(R 7' -R 6' ) g' - (f4)
[In the formula, R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 ,
R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or a combination of 2 or 3 groups independently selected from these groups and
R 6' is OCF 2 or OC 2 F 4 ,
R 7' is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or two or three groups independently selected from these groups. It is a combination,
g is an integer from 2 to 100,
g' is an integer from 2 to 100,
R r is,

(In the formula, * indicates the binding position)
lim];
-(OC 6 F 12 ) a -(OC 5 F 10 ) b -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f5)
[In the formula, e is an integer between 1 and 200, and a, b, c, d, and f are each independently integers between 0 and 200, and is the sum of a, b, c, d, e, and f. is at least 1, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the formula]
-(OC 6 F 12 ) a -(OC 5 F 10 ) b -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f6)
[In the formula, f is an integer between 1 and 200, and a, b, c, d, and e are each independently integers between 0 and 200, and is the sum of a, b, c, d, e, and f. is at least 1, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the formula]
A radical, a compound, denoted by .
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
Rf1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, C1-16 퍼플루오로알킬기이며,
Rf2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, C1-6 퍼플루오로알킬렌기인, 화합물.
According to any one of claims 1 to 4,
Each occurrence of Rf 1 is independently a C 1-16 perfluoroalkyl group,
A compound in which Rf 2 is independently a C 1-6 perfluoroalkylene group in each occurrence.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
XA는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는 우레탄 결합을 포함하지 않는 2가의 유기기인, 화합물.
According to any one of claims 1 to 5,
X A is each independently a single bond or a divalent organic group not containing a urethane bond.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
XA는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는
-(CαR11 )s1-R12 t1-
[식 중:
R11은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 불소 원자이며,
α는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 1 내지 10의 정수이며,
R12는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -O-, -CO-, -NR10-, -CONR10-, -NR10CO-, -COO-, 또는 -OCO-이며,
R10은, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기이며,
s1은, 0 내지 3의 정수이며,
t1은, 0 내지 3의 정수이며,
s1과 t1의 합계는, 1 이상이며,
s1 또는 t1을 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의임]
로 표시되는 기인, 화합물.
According to any one of claims 1 to 6,
X A is, each independently, a single bond, or
-(C α R 11 ) s1 -R 12 t1 -
[Formula:
R 11 is independently a hydrogen atom or a fluorine atom in each occurrence,
α is an integer from 1 to 10, independently for each occurrence,
R 12 is, in each occurrence, independently -O-, -CO-, -NR 10 -, -CONR 10 -, -NR 10 CO-, -COO-, or -OCO-,
R 10 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group,
s1 is an integer from 0 to 3,
t1 is an integer from 0 to 3,
The sum of s1 and t1 is 1 or more,
The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with s1 or t1 is arbitrary in the equation]
A radical, a compound, denoted by .
제7항에 있어서,
XA는, -CONR10-Cα1H2α1-, -(Cα2H2α2)-O-(Cα3H2α3)-, 또는 -Cα4H2α4-이며,
R10은, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기이며,
α1은, 1 내지 10의 정수이며,
α2는, 0 내지 6의 정수이며,
α3은, 0 내지 6의 정수이며,
α4는, 0 내지 6의 정수인, 화합물.
In clause 7,
and
R 10 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group,
α1 is an integer from 1 to 10,
α2 is an integer from 0 to 6,
α3 is an integer from 0 to 6,
α4 is an integer from 0 to 6.
제8항에 있어서,
XA는, -CONR10-Cα1H2α1-인, 화합물.
According to clause 8,
X A is -CONR 10 -C α1 H 2α1 -, a compound.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
XB는, 3가의 기이며, n은 1이며, m은 1인, 화합물.
According to any one of claims 1 to 9,
X B is a trivalent group, n is 1, and m is 1.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
XB는,

[식 중, R8은, 수소 원자, 또는 C1-6 알킬기임]
이며, n은 1이며, m은 1인, 화합물.
According to any one of claims 1 to 10,
X B is,

[Wherein, R 8 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group]
, n is 1, and m is 1.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
XC는,
C1-6 알킬렌기,
-(CH2)z1-O-(CH2)z2-(식 중, z1은, 0 내지 6의 정수이며, z2는, 0 내지 6의 정수임),
-(CH2)z3-페닐렌-(CH2)z4-(식 중, z3은, 0 내지 6의 정수이며, z4는, 0 내지 6의 정수임), 또는
-(CH2)z13-OCONH-(CH2)z14-(식 중, z13은, 0 내지 6의 정수이며, z14는, 0 내지 6의 정수임)인, 화합물.
According to any one of claims 1 to 11,
X C is,
C 1-6 alkylene group,
-(CH 2 ) z1 -O-(CH 2 ) z2 - (wherein, z1 is an integer from 0 to 6, and z2 is an integer from 0 to 6),
-(CH 2 ) z3 -phenylene-(CH 2 ) z4 - (wherein, z3 is an integer of 0 to 6, and z4 is an integer of 0 to 6), or
-(CH 2 ) z13 -OCONH-(CH 2 ) z14 - (wherein, z13 is an integer of 0 to 6, and z14 is an integer of 0 to 6).
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
XC는, C1-6 알킬렌기인, 화합물.
According to any one of claims 1 to 12,
X C is a C 1-6 alkylene group.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
n'는, 2 또는 3인, 화합물.
According to any one of claims 1 to 13,
n' is 2 or 3, compound.
제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
n'는 3인, 화합물.
According to any one of claims 1 to 14,
n' is 3, compound.
제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
XE는, 단결합인, 화합물.
According to any one of claims 1 to 15,
X E is a single bond compound.
제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
XE는, -XG-XH이며,
XG는,
단결합,
C1-6 알킬렌기,
-(CH2)z9-O-(CH2)z10-(식 중, z9는, 0 내지 6의 정수이며, z10은, 0 내지 6의 정수임), 또는,
-(CH2)z11-페닐렌-(CH2)z12-(식 중, z11은, 0 내지 6의 정수이며, z12는, 0 내지 6의 정수임)
이며,
XH는, 하기

이며,
R8은, 수소 원자, 또는 C1-6 알킬기인, 화합물.
According to any one of claims 1 to 15,
X E is -X G -X H ,
X G is,
single bond,
C 1-6 alkylene group,
-(CH 2 ) z9 -O-(CH 2 ) z10 - (wherein, z9 is an integer from 0 to 6, and z10 is an integer from 0 to 6), or,
-(CH 2 ) z11 -phenylene-(CH 2 ) z12 - (wherein, z11 is an integer of 0 to 6, and z12 is an integer of 0 to 6)
and
X H is

and
A compound in which R 8 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group.
제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
XD는, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NHCO-, -OCONH-, -NHCOO-, -NH-CO-NH-, -CH2CH(OH)CH2-, -CH(CH2OH)CH2-,

[식 중, * 및 **는, 결합 위치를 나타내고, *는 XB에 결합하고, **는 XE에 결합함]인, 화합물.
According to any one of claims 1 to 17,
X D is -o-, -co-, -coo-, -oco-, -conh-, -nhco-, -Oconh-, -nhcoo-, -nh-co-nh-, -CH 2 ch )CH 2 -, -CH(CH 2 OH)CH 2 -,

[Wherein, * and ** represent the binding position, * is bonded to X B , and ** is bonded to X E ].
제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,
XF는,
단결합,
C1-6 알킬렌기,
-(CH2)z5-O-(CH2)z6-(식 중, z5는, 0 내지 6의 정수이며, z6은, 0 내지 6의 정수임), 또는,
-(CH2)z7-페닐렌-(CH2)z8-(식 중, z7은, 0 내지 6의 정수이며, z8은, 0 내지 6의 정수임)인, 화합물.
According to any one of claims 1 to 18,
X F is,
single bond,
C 1-6 alkylene group,
-(CH 2 ) z5 -O-(CH 2 ) z6 - (wherein, z5 is an integer from 0 to 6, and z6 is an integer from 0 to 6), or,
-(CH 2 ) z7 -phenylene-(CH 2 ) z8 - (wherein, z7 is an integer of 0 to 6, and z8 is an integer of 0 to 6).
제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서,
R5는, 수소 원자, 또는 메틸기인, 화합물.
According to any one of claims 1 to 19,
A compound in which R 5 is a hydrogen atom or a methyl group.
제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 기재된 화합물을 함유하는, 표면 처리제.A surface treatment agent containing the compound according to any one of claims 1 to 20. 제21항에 있어서,
불소 함유 오일, 실리콘 오일, 및 촉매에서 선택되는 1종 또는 그 이상의 다른 성분을 더 함유하는, 표면 처리제.
According to clause 21,
A surface treatment agent further containing one or more other components selected from fluorine-containing oil, silicone oil, and catalyst.
제21항 또는 제22항에 있어서,
방오성 코팅제 또는 방수성 코팅제로서 사용되는, 표면 처리제.
According to claim 21 or 22,
A surface treatment agent used as an antifouling or waterproof coating.
기재와, 해당 기재의 표면에, 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 기재된 화합물, 또는
제21항 내지 제23항 중 어느 한 항에 기재된 표면 처리제로 형성된 층을 포함하는 물품.
A substrate and a compound according to any one of claims 1 to 20 on the surface of the substrate, or
An article comprising a layer formed with the surface treatment agent according to any one of claims 21 to 23.
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