KR20240033149A - Trivalent chrome plating device and method for cylinders - Google Patents
Trivalent chrome plating device and method for cylinders Download PDFInfo
- Publication number
- KR20240033149A KR20240033149A KR1020247006858A KR20247006858A KR20240033149A KR 20240033149 A KR20240033149 A KR 20240033149A KR 1020247006858 A KR1020247006858 A KR 1020247006858A KR 20247006858 A KR20247006858 A KR 20247006858A KR 20240033149 A KR20240033149 A KR 20240033149A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- cylinder
- plating
- insoluble electrode
- trivalent
- processed
- Prior art date
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 219
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 136
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims abstract description 38
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 4
- 229910021556 Chromium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 229960000359 chromic chloride Drugs 0.000 description 2
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 2
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical group [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- -1 calcium halide Chemical class 0.000 description 1
- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/10—Electrodes, e.g. composition, counter electrode
- C25D17/12—Shape or form
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/06—Suspending or supporting devices for articles to be coated
- C25D17/08—Supporting racks, i.e. not for suspending
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
- C25D3/06—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium from solutions of trivalent chromium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/04—Tubes; Rings; Hollow bodies
Abstract
3가크롬 도금액을 사용하여, 도금의 미석출 부분이 발생하는 일 없이, 석출이 양호하고 균일하며 내쇄력이 우수한 3가크롬 도금을 실시할 수 있도록 하는 실린더용 3가크롬 도금 장치 및 방법을 제공한다.
3가크롬 도금액이 저류되는 도금조; 피처리 실린더를 회전 가능하며 통전 가능하게 길이 방향 양단을 파지하여 상기 도금조에 수평 방향으로 수용하는 척 수단; 소정의 통전이 행해지는 불용성 전극;을 구비하고, 상기 불용성 전극을 상기 피처리 실린더의 외주면에 소정 간격을 두고 근접시켜, 상기 외주면에 3가크롬 도금을 실시하도록 한 실린더용 도금 장치이며, 상기 불용성 전극이 상기 피처리 실린더의 외주면 주위를 둘러싸는 위요형 불용성 전극인 실린더용 3가크롬 도금 장치로 한다.Provides a trivalent chrome plating device and method for cylinders that enables trivalent chrome plating with good precipitation, uniformity, and excellent crushing resistance without generating non-precipitated portions of the plating using a trivalent chromium plating solution. do.
A plating tank in which the trivalent chromium plating solution is stored; Chuck means for holding the cylinder to be processed at both longitudinal ends in a rotatable and energizable manner and receiving it in the plating bath in a horizontal direction; A plating device for a cylinder comprising an insoluble electrode to which a predetermined current is applied, wherein the insoluble electrode is brought close to the outer circumferential surface of the cylinder to be processed at a predetermined interval, and trivalent chromium plating is performed on the outer circumferential surface, wherein the insoluble electrode A trivalent chrome plating device for cylinders is used in which the electrode is a concave-shaped insoluble electrode surrounding the outer peripheral surface of the cylinder to be processed.
Description
본 발명은, 예를 들어, 그라비아 인쇄에 사용하는 중공 원통상의 그라비아 실린더(제판롤이라고도 함)를 제조함에 있어서, 장척상의 중공롤의 외주 표면에 대해 불용성 전극을 사용하는 3가크롬 도금을 실시하기 위한 실린더용 3가크롬 도금 장치 및 방법에 관한 것이다.In the present invention, for example, in manufacturing a hollow cylindrical gravure cylinder (also called plate making roll) used in gravure printing, trivalent chrome plating using an insoluble electrode is performed on the outer peripheral surface of the long hollow roll. It relates to a trivalent chrome plating device and method for cylinders.
그라비아 인쇄에서는, 중공 원통 형상의 피처리 실린더에 대하여 제판 정보에 따른 미소한 오목부(셀)를 형성하여 판면을 제작하고, 해당 셀에 잉크를 충전해서 피인쇄물에 전사한다. 일반적인 그라비아 실린더는 원통상의 철심 또는 알루미늄심(중공롤)을 기재로 하고, 해당 기재의 외주 표면 상에 하지층이나 박리층 등의 복수의 층을 형성하고, 그 위에 구리 도금 등의 도금층을 형성한다. 그리고, 이 구리 도금 등의 도금층에 레이저 노광 장치에 의한 제판 정보에 따른 셀을 형성하고, 그 후 그라비아 실린더의 내쇄력을 증가시키기 위한 크롬 도금 등을 실시하여 제판(판면의 제작)이 완료된다. 이 일반적인 크롬 도금은 6가크롬 도금층이다.In gravure printing, a plate surface is produced by forming minute recesses (cells) according to plate making information on a hollow cylindrical cylinder to be processed, and the cells are filled with ink and transferred to the printed object. A typical gravure cylinder uses a cylindrical iron core or aluminum core (hollow roll) as a base, and forms a plurality of layers such as a base layer or a peeling layer on the outer surface of the base material, and forms a plating layer such as copper plating on top of it. do. Then, a cell according to the plate making information is formed on this plating layer such as copper plating using a laser exposure device, and then chrome plating to increase the crushing force of the gravure cylinder is performed to complete the plate making (production of the plate surface). This common chrome plating is a hexavalent chromium plating layer.
그러나, 크롬 도금 공정에 있어서는 독성이 높은 6가크롬 도금액을 이용하고 있기 때문에, 작업의 안전 유지를 도모하기 위해 여분의 비용이 드는 것 외에, 공해 발생의 문제도 있어, 6가크롬층을 대신할 표면 강화 피복층의 출현이 기대되고 있는 것이 실정이다.However, in the chrome plating process, a highly toxic hexavalent chromium plating solution is used, which not only incurs extra costs to maintain work safety, but also causes pollution, so it is difficult to replace the hexavalent chromium layer. The reality is that the emergence of a surface-reinforced coating layer is expected.
6가크롬 도금액으로부터 얻어지는 6가크롬 도금층을 대신할 도금 방법으로는, 3가크롬 도금액에 의해 크롬 도금층을 형성하는 3가크롬 도금 방법이 있다. 3가크롬 도금액으로는, 예를 들어, 특허문헌 1의 3가크롬 도금액이 있다.A plating method that replaces the hexavalent chrome plating layer obtained from a hexavalent chrome plating solution is a trivalent chrome plating method in which a chrome plating layer is formed using a trivalent chrome plating solution. As a trivalent chrome plating solution, there is, for example, the trivalent chrome plating solution of Patent Document 1.
또한, 본원의 출원인은, 도금액이 저류되는 도금조와, 피처리 실린더를 회전 가능하며 통전 가능하게 길이방향 양단을 파지하여 상기 도금조에 수용하는 척 수단과, 상기 도금조 내에서 피처리 실린더의 양측면에 대향하여 매달리도록 설치되어 소정의 통전이 행해지는 상대향하는 한 쌍의 불용성 전극을 구비하고, 상기 한 쌍의 불용성 전극을 상기 피처리 실린더의 양측면에 소정 간격을 두고 근접시켜, 상기 피처리 실린더의 외주 표면에 도금을 실시하도록 한 실린더용 도금 장치이며, 상기 불용성 전극이 적어도 하부 부분을 내측으로 만곡시켜 이루어지는 형상을 가지며, 적어도 상기 하부 부분이 마디 형상부로 되어 있고, 한쪽 상기 불용성 전극의 상기 마디 형상부의 오목부의 위치에 다른쪽 상기 불용성 전극의 상기 마디 형상부의 볼록부가 위치하도록 엇갈리게 상대향 시켜, 상기 불용성 전극의 상단부분을 회동 중심으로하여 상기 불용성 전극을 회동 가능하게 구성하고, 상기 피처리 실린더의 직경에 따라 상기 피처리 실린더의 외주 표면에 대한 상기 불용성 전극의 근접 거리를 조절 가능하게 하여 이루어지는 실린더용 도금 장치를 이미 제안했다 (특허 문헌 2).In addition, the applicant of the present application provides a plating tank in which a plating liquid is stored, a chuck means for rotatably gripping both longitudinal ends of the cylinder to be treated and receiving electricity in the plating tank, and a chuck means for storing the cylinder in the plating tank, and a plating tank on both sides of the cylinder to be processed within the plating tank. A pair of insoluble electrodes are provided so as to hang opposite each other and conduct a predetermined amount of electricity, and the pair of insoluble electrodes are brought close to both sides of the cylinder to be treated at a predetermined interval, and the pair of insoluble electrodes are placed in proximity to the cylinder to be treated at a predetermined distance, and the pair of insoluble electrodes are disposed so as to hang opposite to each other and carry out a predetermined amount of electricity. A plating device for a cylinder configured to perform plating on a surface, wherein the insoluble electrode has a shape formed by bending at least a lower portion inward, wherein at least the lower portion is formed into a node-shaped portion, and wherein the node-shaped portion of the insoluble electrode is formed on one side of the insoluble electrode. The insoluble electrode is configured to be rotatable with the upper end of the insoluble electrode as the center of rotation, with the convex portion of the node-shaped portion of the other insoluble electrode positioned at the position of the concave portion. Accordingly, a plating device for a cylinder capable of adjusting the proximity distance of the insoluble electrode to the outer peripheral surface of the cylinder to be processed has already been proposed (Patent Document 2).
특허문헌 2의 실린더용 도금 장치에서는, 6가크롬 도금액을 사용하는 일반적인 크롬 도금이라면, 그라비아 인쇄에 요구되는 표면 물성인 경도, 내마모성 및 균일 전착성 등을 만족하여 내쇄력이 우수한 크롬 도금층(6가크롬 도금층)을 얻을 수 있었다.In the plating device for cylinders of Patent Document 2, if it is a general chrome plating using a hexavalent chrome plating solution, a chrome plating layer (hexavalent chrome plating layer) was obtained.
그러나, 특허문헌 2의 실린더용 도금 장치에서, 3가크롬 도금액을 사용한 3가크롬 도금을 실시하면, 도 11의 사진에 나타내는 바와 같이, 실린더의 중앙 부분에 검은 부분이 생겨 버린다. 이것은, 도금이 거의 석출되어 있지 않은 상태인 미석출 부분이 실린더의 일부에 발생해 버린 상태이다. 이와 같이, 특허문헌 2의 실린더용 도금 장치에서, 3가크롬 도금액을 이용한 3가크롬 도금을 실시하면, 미석출 부분이 실린더의 일부에 발생해 버린다는 문제가 있었다.However, when trivalent chromium plating is performed using the trivalent chromium plating solution in the plating device for cylinders of Patent Document 2, a black portion is formed in the center of the cylinder, as shown in the photograph of FIG. 11. This is a state in which non-precipitated portions, in which almost no plating has been deposited, have formed in a part of the cylinder. In this way, when trivalent chromium plating is performed using a trivalent chromium plating solution in the plating apparatus for cylinders of Patent Document 2, there is a problem in that non-precipitated portions are generated in a part of the cylinder.
본 발명은 상기 종래 기술의 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 3가크롬 도금액을 사용하여 도금의 미석출 부분이 발생하지 않고, 석출이 양호하고 균일하며 내쇄력이 우수한 3가크롬 도금을 실시할 수 있도록 한, 실린더용 3가크롬 도금 장치 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention was made in consideration of the problems of the prior art, so that trivalent chromium plating can be performed using a trivalent chromium plating solution without generating non-precipitated portions of the plating, with good precipitation, uniformity, and excellent crushing resistance. The purpose is to provide a trivalent chrome plating device and method for cylinders.
본 발명의 실린더용 3가크롬 도금 장치는, 3가크롬 도금액이 저류되는 도금조; 피처리 실린더를 회전 가능하며 통전 가능하게 길이방향 양단을 파지하여 상기 도금조에 수평 방향으로 수용 하는 척 수단; 소정의 통전이 행해지는 불용성 전극;을 구비하고, 상기 불용성 전극을 상기 피처리 실린더의 외주면에 소정 간격을 두고 근접시켜, 상기 외주면에 3가크롬 도금을 실시하도록 한 실린더용 3가크롬 도금 장치이고, 상기 불용성 전극이, 상기 피처리 실린더의 외주면의 주위를 둘러싸는 위요형 불용성 전극인 실린더용 3가크롬 도금 장치이다.The trivalent chrome plating apparatus for a cylinder of the present invention includes a plating tank in which a trivalent chrome plating solution is stored; Chuck means for holding the processing cylinder at both longitudinal ends in a rotatable and energizable manner and receiving it horizontally in the plating tank; A trivalent chrome plating device for a cylinder comprising an insoluble electrode through which a predetermined current is applied, wherein the insoluble electrode is brought close to the outer circumferential surface of the cylinder to be processed at a predetermined interval, and trivalent chromium plating is performed on the outer circumferential surface of the cylinder. , a trivalent chrome plating device for cylinders, wherein the insoluble electrode is a concave-shaped insoluble electrode surrounding the outer peripheral surface of the cylinder to be processed.
상기 위요형 불용성 전극은 상기 도금조에 수평 방향으로 수용된 피처리 실린더의 하측 외주면의 주위를 둘러싸는 하측 위요형 불용성 전극, 및/또는 상기 도금조에 수평 방향으로 수용된 피처리 실린더의 상측 외주면의 주위를 둘러싸는 상측 위요형 불용성 전극을 포함하는 것이 바람직하다.The upper concave-shaped insoluble electrode is a lower concave-shaped insoluble electrode surrounding the lower outer peripheral surface of the cylinder to be processed horizontally accommodated in the plating tank, and/or surrounding the upper outer peripheral surface of the cylinder to be processed accommodated in the horizontal direction in the plating tank. It is preferred that it includes an upper concave-shaped insoluble electrode.
상기 상측 위요형 불용성 전극 및/또는 하측 위요형 불용성 전극은 교차형 전극인 것이 바람직하다.It is preferable that the upper concave-shaped insoluble electrode and/or the lower upper concave-shaped insoluble electrode are cross-type electrodes.
상기 위요형 불용성 전극은, 에어 실린더 또는 전동 모터에 의해, 상기 피처리 실린더의 실린더 직경에 따라 상기 외주면에 근접하여 이루어지는 것이 바람직하다.The concave-shaped insoluble electrode is preferably formed close to the outer peripheral surface according to the cylinder diameter of the cylinder to be processed by means of an air cylinder or an electric motor.
상기 위요형 불용성 전극은 암의 회전 운동 또는 간격을 넓고 좁게 하는 동작에 의해, 상기 피처리 실린더의 실린더 직경에 따라 상기 외주면에 근접시켜 이루어지는 것이 바람직하다. It is preferable that the concave-shaped insoluble electrode is brought close to the outer circumferential surface according to the cylinder diameter of the cylinder to be processed by rotating the arm or moving the gap wide and narrow.
본 발명의 3가크롬 도금 방법은, 상기 실린더용 3가크롬 도금 장치를 이용하여, 상기 3가크롬 도금액으로 상기 피처리 실린더를 도금 처리하여 이루어지는 3가크롬 도금 방법이다.The trivalent chrome plating method of the present invention is a trivalent chrome plating method that is performed by plating the cylinder to be treated with the trivalent chrome plating solution using the trivalent chrome plating apparatus for the cylinder.
본 발명의 그라비아 실린더 제조 방법은, 상기 실린더용 3가크롬 도금 장치를 사용하여, 상기 3가크롬 도금액으로 상기 피처리 실린더를 도금 처리함으로써 그라비아 실린더를 제조하여 이루어지는, 그라비아 실린더의 제조 방법이다.The gravure cylinder manufacturing method of the present invention is a gravure cylinder manufacturing method comprising manufacturing a gravure cylinder by plating the cylinder to be treated with the trivalent chromium plating solution using the trivalent chrome plating apparatus for the cylinder.
본 발명에 의하면, 3가크롬 도금액을 사용하여, 균일하며 내쇄력이 우수한 3가크롬 도금을 실시할 수 있도록 한 실린더용 3가크롬 도금 장치 및 방법을 제공할 수 있다는 현저한 효과가 달성된다.According to the present invention, a remarkable effect is achieved in that it is possible to provide a trivalent chrome plating apparatus and method for cylinders that can perform trivalent chrome plating with uniform and excellent crushing resistance using a trivalent chromium plating solution.
도 1은 본 발명에 따른 실린더용 3가크롬 도금 장치의 제 1 실시 형태를 나타내는 좌측면도이다.
도 2a는 제 1 실시 형태의 실린더용 3가크롬 도금 장치의 요부 사시도이며, 좌측방에서 본 요부 사시도이다.
도 2b는 제 1 실시 형태의 실린더용 3가크롬 도금 장치의 요부 사시도이며, 우측방에서 본 요부 사시도이다.
도 3은 본 발명에 따른 실린더용 3가크롬 도금 장치의 제 2 실시 형태를 나타내는 좌측면도이다.
도 4a는 제 2 실시 형태의 실린더용 3가크롬 도금 장치의 요부 사시도이며, 좌측방에서 본 요부 사시도이다.
도 4b는 제 2 실시 형태의 실린더용 3가크롬 도금 장치의 요부 사시도이며, 우측방에서 본 요부 사시도이다.
도 5는 본 발명에 따른 실린더용 3가크롬 도금 장치의 제 3 실시 형태를 나타내는 좌측면도이다.
도 6a는 제 3 실시 형태의 실린더용 3가크롬 도금 장치의 요부 사시도이며, 좌측방에서 본 요부 사시도이다.
도 6b는 제 3 실시 형태의 실린더용 3가크롬 도금 장치의 요부 사시도이며, 우측방에서 본 요부 사시도이다.
도 7은 본 발명에 따른 실린더용 3가크롬 도금 장치의 제 4 실시 형태를 나타내는 좌측면도이다.
도 8은 제 4 실시 형태의 실린더용 3가크롬 도금 장치를 좌측방에서 본 사시도이다.
도 9는 제 4 실시 형태의 실린더용 3가크롬 도금 장치를 상방에서 본 평면도이다.
도 10a는 제 4 실시 형태의 실린더용 3가크롬 도금 장치의 요부 사시도이며, 좌측방에서 본 요부 사시도이다.
도 10b는 제 4 실시 형태의 실린더용 3가크롬 도금 장치의 요부 사시도이며, 우측방에서 본 요부 사시도이다.
도 11은 특허문헌 2의 실린더용 도금 장치이며, 3가크롬 도금액을 사용한 3가크롬 도금을 실시하여 제작한 그라비아 실린더의 사진이다.1 is a left side view showing a first embodiment of a trivalent chrome plating apparatus for cylinders according to the present invention.
Fig. 2A is a perspective view of the main part of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders of the first embodiment, as seen from the left side.
Fig. 2B is a perspective view of the main part of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders of the first embodiment, as seen from the right side.
Figure 3 is a left side view showing a second embodiment of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders according to the present invention.
Fig. 4A is a perspective view of the main part of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders of the second embodiment, as seen from the left side.
Fig. 4B is a perspective view of the main part of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders of the second embodiment, as seen from the right side.
Figure 5 is a left side view showing a third embodiment of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders according to the present invention.
Fig. 6A is a perspective view of the main part of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders according to the third embodiment, as seen from the left side.
Fig. 6B is a perspective view of the main part of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders of the third embodiment, as seen from the right side.
Figure 7 is a left side view showing a fourth embodiment of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders according to the present invention.
Fig. 8 is a perspective view of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders according to the fourth embodiment as seen from the left side.
Fig. 9 is a plan view of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders according to the fourth embodiment as seen from above.
Fig. 10A is a perspective view of the main part of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders according to the fourth embodiment, as seen from the left side.
Fig. 10B is a perspective view of the main part of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders according to the fourth embodiment, as seen from the right side.
Figure 11 is a plating device for a cylinder of Patent Document 2, and is a photograph of a gravure cylinder produced by performing trivalent chrome plating using a trivalent chromium plating solution.
이하에 본 발명의 실시형태를 첨부 도면에 의거하여 설명하지만, 도시예는 예시적으로 도시된 것이며, 본 발명의 기술적 사상으로부터 일탈하지 않는 한 여러 가지 변형이 가능하다.Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. However, the illustrated examples are shown as examples, and various modifications are possible as long as they do not deviate from the technical spirit of the present invention.
도 1 내지 도 2에 있어서, 본 발명에 따른 실린더용 3가크롬 도금 장치의 제1 형태로서, 실린더용 3가크롬 도금 장치(10A)를 나타낸다.1 to 2 show a trivalent chrome plating device for cylinders 10A as a first form of the trivalent chrome plating device for cylinders according to the present invention.
실린더용 3가크롬 도금 장치(10A)는, 피처리 실린더(12)에 3가크롬 도금을 실시하기 위한 도금 장치이다. 실린더용 3가크롬 도금 장치(10A)는, 3가크롬 도금액이 저류되는 도금조(14); 피처리 실린더를 회전 가능하며 통전 가능하게 길이 방향 양단을 파지하여 상기 도금조에 수평 방향으로 수용하는 척 수단(16); 소정의 통전이 행해지는 불용성 전극(18);을 구비하고, 상기 불용성 전극(18)을 상기 피처리 실린더(12)의 외주면에 소정 간격을 두고 근접시켜, 상기 외주면에 3가크롬 도금을 실시하도록 한 실린더용 3가크롬 도금 장치이고, 상기 불용성 전극(18)이 상기 피처리 실린더(12)의 외주면의 주위를 둘러싸는 위요형 불용성 전극인, 실린더용 3가크롬 도금 장치이다.The trivalent chrome plating device 10A for cylinders is a plating device for performing trivalent chrome plating on the cylinder 12 to be processed. The trivalent chrome plating apparatus 10A for a cylinder includes a plating tank 14 in which a trivalent chrome plating solution is stored; Chuck means (16) for rotatably and energizingly holding the cylinder to be processed at both ends in the longitudinal direction and receiving it in the plating bath in the horizontal direction; an insoluble electrode 18 through which a predetermined current is applied, and the insoluble electrode 18 is brought close to the outer peripheral surface of the cylinder 12 to be processed at a predetermined distance, and trivalent chromium plating is applied to the outer peripheral surface. This is a trivalent chrome plating device for a cylinder, wherein the insoluble electrode 18 is a concave-shaped insoluble electrode surrounding the outer peripheral surface of the cylinder 12 to be processed.
상기 위요형 불용성 전극(18)은 상기 도금조(14)에 수평 방향으로 수용된 피처리 실린더(12)의 하측 외주면(20)의 주위를 둘러싸는 하측 위요형 불용성 전극(22), 및/또는 상기 도금조(14)에 수평 방향으로 수용된 피처리 실린더(12)의 상측 외주면(24)의 주위를 둘러싸는 상측 위요형 불용성 전극(26)을 포함하는 구성으로 되어 있다. 도 1에서는, 하측 위요형 불용성 전극(22) 및 상측 위요형 불용성 전극(26)을 모두 포함하는 예를 나타내었다.The upper concave-shaped insoluble electrode 18 is a lower concave-shaped insoluble electrode 22 surrounding the lower outer peripheral surface 20 of the cylinder to be processed 12 accommodated in the plating tank 14 in the horizontal direction, and/or It is configured to include an upper concave-shaped insoluble electrode 26 surrounding the upper outer peripheral surface 24 of the cylinder to be processed 12 accommodated in the plating tank 14 in the horizontal direction. In Figure 1, an example including both the lower upper concave-shaped insoluble electrode 22 and the upper upper concave-shaped insoluble electrode 26 is shown.
또한, 본 발명의 실린더용 3가크롬 도금 장치에 사용되는 위요형 불용성 전극은, 상기 위요형 불용성 전극(18)이나 후술하는 실시 형태에 있어서의 위요형 불용성 전극을 포함하여, 메쉬형상의 전극인 것이 바람직하다. 메쉬형상 전극이라면, 상기 위요형 불용성 전극의 표면뿐만 아니라 이면으로부터도 전계가 생기기 때문에, 상기 위요형 불용성 전극의 전극으로서의 표면적이 증가하고, 결과적으로, 상기 위요형 불용성 전극의 전류 밀도가 감소하여 수명이 길어지기 때문이다. 메쉬형상 전극으로는, 특허문헌 2에 기재된 바와 같은 메쉬형상 전극이 적절하게 사용된다.In addition, the concave-shaped insoluble electrode used in the trivalent chromium plating apparatus for cylinders of the present invention is a mesh-shaped electrode, including the above-mentioned concave-shaped insoluble electrode 18 and the concave-shaped insoluble electrode in the embodiment described later. It is desirable. In the case of a mesh-shaped electrode, since an electric field is generated not only from the surface but also from the back surface of the above-mentioned concave-shaped insoluble electrode, the surface area of the above-mentioned concave-shaped insoluble electrode as an electrode increases, and as a result, the current density of the above-mentioned concave-shaped insoluble electrode decreases, thereby reducing the service life. This is because it gets longer. As the mesh-shaped electrode, a mesh-shaped electrode as described in Patent Document 2 is appropriately used.
실린더용 3가크롬 도금 장치(10A)에서는, 상기 하측 위요형 불용성 전극(22)은 교차형 전극으로 되어 있다. 본 명세서에 있어서, 교차형 전극이란, 단부가 마디 형상부로 이루어지는 한 쌍의 불용성 전극이 서로 엇갈리게 교차하는 전극을 말한다. 즉, 한 쌍의 하측 위요형 불용성 전극(22a, 22b)의 한 쪽의 상기 하측 위요형 불용성 전극(22a)의 마디 형상부의 오목부 위치에 다른 쪽의 하측 위요형 불용성 전극(22b)의 마디 형상부의 볼록부가 위치하도록 서로 엇갈리게 상대향하도록 교차시켜 이루어지는 전극이다.In the trivalent chrome plating apparatus 10A for a cylinder, the lower upper concave-shaped insoluble electrode 22 is a cross-shaped electrode. In this specification, a crossed electrode refers to an electrode in which a pair of insoluble electrodes whose ends are made of node-shaped parts cross each other in a staggered manner. That is, the concave portion of the node-shaped portion of one of the pair of lower concave-shaped insoluble electrodes 22a and 22b has a node shape of the lower concave-shaped insoluble electrode 22b on the other side. These electrodes are made by crossing each other so that the convex portions of the electrodes are opposite to each other.
그리고, 상기 위요형 불용성 전극(18)의 상기 상측 위요형 불용성 전극(26)은, 에어 실린더(28)에 의해 상하로 이동시켜, 상기 피처리 실린더(12)의 실린더 직경에 대응하여 상기 외주면에 근접시킬 수 있다. 또한, 에어 실린더(28) 대신에, 전동 모터에 의해, 상기 상측 위요형 불용성 전극(26)을 상하로 이동시켜 상기 피처리 실린더(12)의 실린더 직경에 대응하여 상기 외주면에 근접시키도록 할 수도 있다.Then, the upper concave-shaped insoluble electrode 26 of the above-mentioned concave-shaped insoluble electrode 18 is moved up and down by the air cylinder 28 to be placed on the outer peripheral surface corresponding to the cylinder diameter of the cylinder to be processed 12. You can get close. In addition, instead of the air cylinder 28, the upper concave-shaped insoluble electrode 26 may be moved up and down by an electric motor to approach the outer peripheral surface corresponding to the cylinder diameter of the cylinder to be processed 12. there is.
그리고, 상기 위요형 불용성 전극(18)의 상기 하측 위요형 불용성 전극(22)은, 암(30a, 30b)의 회전 운동에 의해, 상기 하측 위요형 불용성 전극(22a)의 마디 형상부의 오목부의 위치에 다른 쪽의 상기 하측 위요형 불용성 전극(22b)의 상기 마디 형상부의 볼록부가 들어가는 정도를 조절함으로써, 상기 피처리 실린더(12)의 실린더 직경에 대응하여 상기 외주면에 근접시켜서 이루어진다.And, the lower concave insoluble electrode 22 of the upper concave insoluble electrode 18 is positioned at the concave portion of the node-shaped portion of the lower concave insoluble electrode 22a by the rotational movement of the arms 30a and 30b. By adjusting the degree to which the convex portion of the node-shaped portion of the lower concave-shaped insoluble electrode 22b on the other side is inserted, the protruding portion is brought closer to the outer peripheral surface corresponding to the cylinder diameter of the cylinder to be processed 12.
종래에는, 특허문헌 2에 나타내는 바와 같이, 수평 방향으로 설치된 피처리 실린더의 하측 부분에만 전극이 위치하고 있었지만, 본 발명에서는, 피처리 실린더(12)의 상측에 상기 피처리 실린더12에 덮히도록 전극을 배치했다. 즉, 피처리 실린더(12)의 전체 둘레에 걸쳐서 전극을 설치한 것을 특징으로 한다. 도시된 예에서, 상측 위요형 불용성 전극(26)과 하측 위요형 불용성 전극(22)은 동일한 전원으로부터 전기가 공급되고 있다. 또한, 피처리 실린더(12)의 직경은 여러가지로 다르지만, 상측 위요형 불용성 전극(26)과 하측 위요형 불용성 전극(22)을 이동시킴으로써, 다양한 직경 사이즈의 피처리 실린더(12)에 적용할 수 있는 구성으로 되어 있다.Conventionally, as shown in Patent Document 2, electrodes were located only on the lower portion of the cylinder to be processed installed in the horizontal direction, but in the present invention, electrodes are placed on the upper side of the cylinder to be processed 12 so as to cover the cylinder to be processed 12. placed. That is, it is characterized in that electrodes are installed around the entire circumference of the cylinder 12 to be processed. In the example shown, the upper concave insoluble electrode 26 and the lower concave insoluble electrode 22 are supplied with electricity from the same power source. In addition, although the diameter of the cylinder to be processed 12 is variously different, by moving the upper concave insoluble electrode 26 and the lower concave insoluble electrode 22, it can be applied to the cylinder to be processed 12 of various diameter sizes. It is composed of:
상기 구성으로 함으로써, 3가크롬 도금액을 사용한 3가크롬 도금을 행해도, 피처리 실린더(12)의 일부에 미석출 부분이 발생해 버리는 등의 문제가 발생하지 않고, 석출 가 양호하고 깨끗하게, 균일하며 내쇄력이 우수한 실린더를 얻을 수 있다. 내쇄력이 우수하기 때문에, 그라비아 실린더로서 적용할 수 있다. 또한, 특허문헌 2에 나타내는, 하측에만 전극을 마련한 구성의 실린더용 도금 장치와 비교하여, 실린더용 3가크롬 도금 장치(10A)에서는 전압이 약 50% 감소한다는 효과도 있다.With the above configuration, even if trivalent chrome plating is performed using a trivalent chromium plating solution, problems such as non-precipitated portions occurring in a part of the cylinder 12 to be processed do not occur, and precipitation is good, clean, and uniform. A cylinder with excellent crushing resistance can be obtained. Because it has excellent crush resistance, it can be applied as a gravure cylinder. In addition, compared to the plating device for cylinders shown in Patent Document 2, which has an electrode provided only on the lower side, the trivalent chrome plating device 10A for cylinders has the effect of reducing the voltage by about 50%.
3가크롬 도금액으로는, 특허문헌 1에 기재된 도금액을 사용할 수 있다. 특히, 6가크롬은 독성이 있기 때문에, 3가크롬을 이용한 3가크롬 도금액이 바람직하고, 삼염화크롬(CrCl3(CrCl3·6H2O)) 등의 3가크롬을 포함하는 3가크롬 도금액이 바람직하다. 그리고, 특허문헌 1에 기재된 바와 같이, 삼염화크롬의 용액으로서, 물을 사용하지 않고 염화물(염화칼슘이나 염화리튬)의 용액을 사용하는 것이 바람직하고, 고농도의 할로겐화칼슘을 용해시킨 용액을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 특허 문헌 1에 기재된 특정 분해 전위를 갖는 용액을 도금액으로서 사용하는 것이 바람직하다.As the trivalent chromium plating solution, the plating solution described in Patent Document 1 can be used. In particular, because hexavalent chromium is toxic, a trivalent chromium plating solution using trivalent chromium is preferable, and a trivalent chromium plating solution containing trivalent chromium such as chromium trichloride (CrCl 3 (CrCl 3 ·6H 2 O)) This is desirable. And, as described in Patent Document 1, as a solution of chromium trichloride, it is preferable to use a solution of chloride (calcium chloride or lithium chloride) without using water, and it is preferable to use a solution in which a high concentration of calcium halide is dissolved. do. Additionally, it is preferable to use a solution having a specific decomposition potential described in Patent Document 1 as a plating solution.
상기 피처리 실린더(12)는 상기 도금조(14)에 수평 방향으로 수용된다. 즉, 본 발명의 도금 장치는, 피처리 실린더(12)를 옆으로 수용하는 횡형 도금 장치이다. 횡형 도금 장치의 경우, 피처리 실린더(12)의 상측에 전극을 설치하면, 피처리 실린더(12)의 상기 도금조(14)로의 출입이 문제 되지만, 상측 위요형 불용성 전극(26)을 에어 실린더(28)로 상하이동시킴으로써, 피처리 실린더(12)의 상기 도금조(14)또한, 피처리 실린더(12)를 연직 방향으로 세로로 해서 도금 장치에 수용하는 종형 도금 장치의 형태도 고려되지만, 연직 방향으로 세운 피처리 실린더(12)의 주위에, 예를 들어, 통과 같은 전극을 배치했다하더라도 깨끗하게 3가크롬 도금을 할 수는 없다. 이같은 종형 도금 장치의 경우, 도금조의 아래쪽으로부터 도금액이 쌓여 가기 때문에, 피처리 실린더의 위와 아래에서, 3가크롬 도금액에 잠기는 시간이 달라지게 된다. 3가크롬 도금액은 산성이기 때문에, 피처리 실린더의 표면이 부식되거나, 또는 피처리 실린더의 표면이 거칠어지게 된다.The cylinder to be processed 12 is accommodated in the plating tank 14 in a horizontal direction. That is, the plating device of the present invention is a horizontal plating device that accommodates the cylinder 12 to be processed laterally. In the case of a horizontal plating device, if an electrode is installed on the upper side of the cylinder to be processed (12), entry and exit of the cylinder to be processed (12) into the plating tank (14) becomes a problem, but the upper concave-shaped insoluble electrode (26) is connected to the air cylinder. By moving up and down at (28), the plating tank 14 of the cylinder 12 to be processed is also considered to be a vertical plating device in which the cylinder 12 to be processed is placed vertically in the plating device and accommodated in the plating device. Even if, for example, an electrode such as a barrel is placed around the cylinder 12 to be processed, which is erected in the vertical direction, trivalent chromium plating cannot be performed cleanly. In the case of such a vertical plating device, the plating solution accumulates from the bottom of the plating tank, so the time immersed in the trivalent chromium plating solution is different at the top and bottom of the cylinder to be processed. Since the trivalent chromium plating solution is acidic, the surface of the cylinder to be treated corrodes or becomes rough.
또한, 종형 도금 장치로 하면, 도금조 아래부터 도금액이 쌓여가는 동안, 무전해 도금과 같은 상태가 되므로, 도금액에 Ni나 Fe 등의 불순물이 포함되어 있을 경우, 도금액 에 담근 것만으로 피처리 실린더의 표면에 불순물이 석출되어 버리는 문제가 있다.Additionally, in the case of a vertical plating device, while the plating solution is accumulating from the bottom of the plating tank, the state is similar to electroless plating, so if the plating solution contains impurities such as Ni or Fe, the cylinder to be treated can be cleaned by simply immersing it in the plating solution. There is a problem of impurities precipitating on the surface.
본 발명의 도금 장치는, 피처리 실린더(12)가 상기 도금조(14)에 수평 방향으로 수용되는 횡형의 도금 장치이기 때문에, 피처리 실린더(12)가 회전하고 있는 상태에서 도금액을 넣을 수 있기 때문에, 실린더의 일부 표면만이 거칠어지는 등의 문제를 회피할 수 있는 것이다.Since the plating device of the present invention is a horizontal plating device in which the cylinder 12 to be processed is horizontally accommodated in the plating tank 14, the plating solution can be added while the cylinder 12 to be processed is rotating. Therefore, problems such as only a portion of the surface of the cylinder becoming rough can be avoided.
다음으로, 본 발명에 따른 실린더용 3가크롬 도금 장치의 제 2 형태로서, 실린더용 3가크롬 도금 장치(10B)를 도 3 내지 도 4에 나타낸다.Next, as a second form of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders according to the present invention, a trivalent chrome plating apparatus 10B for cylinders is shown in Figures 3 and 4.
실린더용 3가크롬 도금 장치(10B)는, 3가크롬 도금액이 저류되는 도금조(34); 피처리 실린더(12)를 회전 가능하며 통전 가능하게 길이 방향 양단을 파지하여 상기 도금조에 수평 방향으로 수용하는 척 수단(36); 소정의 통전이 행해지는 불용성 전극(38);을 구비하고, 상기 불용성 전극(38)을 상기 피처리 실린더(12)의 외주면에 소정 간격을 두고 근접시켜, 상기 외주면에 3가크롬 도금을 하도록 한 실린더용 3가크롬 도금 장치이고, 불용성 전극(38)이 상기 피처리 실린더(12)의 외주면의 주위를 둘러싸는 위요형 불용성 전극인, 실린더용 3가크롬 도금 장치이다.The trivalent chrome plating apparatus 10B for a cylinder includes a plating tank 34 in which a trivalent chrome plating solution is stored; Chuck means (36) for holding the processing cylinder (12) at both longitudinal ends in a rotatable and energizable manner and receiving it horizontally in the plating bath; an insoluble electrode (38) through which a predetermined current is applied, and the insoluble electrode (38) is brought close to the outer circumferential surface of the cylinder (12) at a predetermined distance, and trivalent chromium plating is applied to the outer circumferential surface. This is a trivalent chrome plating apparatus for cylinders, wherein the insoluble electrode 38 is a concave-shaped insoluble electrode surrounding the outer peripheral surface of the cylinder 12 to be processed.
도 3에 있어서, 상기 위요형 불용성 전극(38)은, 상기 도금조(34)에 수평 방향으로 수용된 피처리 실린더(12)의 하측 외주면(40)의 주위를 둘러싸는 하측 위요형 불용성 전극(42)과, 상기 도금조(14)에 수평 방향으로 수용된 피처리 실린더(12)의 상측 외주면(44)의 주위를 둘러싸는 상측 위요형 불용성 전극(46)을 포함하는 구성으로 되어 있다.In FIG. 3, the upper concave-shaped insoluble electrode 38 is a lower concave-shaped insoluble electrode 42 surrounding the lower outer peripheral surface 40 of the cylinder to be processed 12 accommodated in the plating tank 34 in the horizontal direction. ) and an upper concave-shaped insoluble electrode 46 surrounding the upper outer peripheral surface 44 of the cylinder to be processed 12 accommodated in the plating tank 14 in the horizontal direction.
실린더용 3가크롬 도금 장치(10B)에서, 상기 하측 위요형 불용성 전극(42)은 교차형 전극으로 되어 있다.In the trivalent chrome plating apparatus 10B for a cylinder, the lower upper concave-shaped insoluble electrode 42 is a cross-shaped electrode.
그리고, 상기 위요형 불용성 전극(38)의 상기 상측 위요형 불용성 전극(46)은, 암(48a, 48b)의 회전 동작에 의해, 피처리 실린더(12)의 상부를 덮는 상태와 개방 상태로 개폐 되게 된다. 이러한 식으로, 상기 피처리 실린더(12)의 실린더 직경에 대응하여 상기 외주면에 근접하게 된다. 또한, 암(48a, 48b)은 도시하지 않은 구동원에 의해 구동하게 된다.And, the upper concave-shaped insoluble electrode 46 of the upper concave-shaped insoluble electrode 38 is opened and closed in a state that covers the upper part of the cylinder to be processed 12 and an open state by the rotation of the arms 48a and 48b. It will happen. In this way, the outer circumferential surface is approximated corresponding to the cylinder diameter of the cylinder 12 to be processed. Additionally, the arms 48a and 48b are driven by a drive source not shown.
또한, 상기 위요형 불용성 전극(38)의 상기 하측 위요형 불용성 전극42(42a, 42b)은, 암(50a, 50b)의 회전 운동에 의해 상기 하측 위요형 불용성 전극(42a)의 마디 형상부의 오목부의 위치에, 다른 쪽의 하측 위요형 불용성 전극(42b)의 마디 형상부의 볼록부가 들어가는 정도를 조절함으로써, 상기 피처리 실린더(12)의 실린더 직경에 대응하여 상기 외주면에 근접하게 된다.In addition, the lower upper concave-shaped insoluble electrode 42 (42a, 42b) of the upper concave-shaped insoluble electrode 38 is recessed in the node-shaped portion of the lower upper concave-shaped insoluble electrode 42a by the rotational movement of the arms 50a, 50b. By adjusting the extent to which the convex portion of the node-shaped portion of the other lower concave-shaped insoluble electrode 42b is inserted into the position of the portion, the outer circumferential surface is approached corresponding to the cylinder diameter of the cylinder to be processed 12.
상기 구성으로 함으로써, 3가크롬 도금액을 사용한 3가크롬 도금을 행해도, 피처리 실린더(12)의 일부에 미석출 부분이 발생해 버리는 등의 문제가 발생하지 않고, 석출 이 양호하고 깨끗하며, 균일하고 내쇄력이 우수한 실린더를 얻을 수 있다. 내쇄력이 우수하기 때문에, 그라비아 실린더로서 적용할 수 있다. 또한, 특허문헌 2에 나타내는, 하측에만 전극을 마련한 구성의 실린더용 도금 장치와 비교하여, 실린더용 3가크롬 도금 장치(10B)에서는 전압이 약 50% 감소하는 효과도 있다.With the above configuration, even if trivalent chrome plating is performed using a trivalent chromium plating solution, problems such as non-precipitated portions occurring in a part of the cylinder 12 to be treated do not occur, and precipitation is good and clean. A cylinder with uniform and excellent crush resistance can be obtained. Because it has excellent crush resistance, it can be applied as a gravure cylinder. In addition, compared to the plating device for cylinders shown in Patent Document 2, which has an electrode provided only on the lower side, the trivalent chrome plating device 10B for cylinders has the effect of reducing the voltage by about 50%.
다음으로, 본 발명에 따른 실린더용 3가크롬 도금 장치의 제 3 형태로서, 실린더용 3가크롬 도금 장치(10C)를 도 5 내지 도 6에 나타낸다.Next, as a third form of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders according to the present invention, a trivalent chrome plating apparatus 10C for cylinders is shown in Figures 5 and 6.
실린더용 3가크롬 도금 장치(10C)는, 3가크롬 도금액이 저류되는 도금조(54); 피처리 실린더(12)를 회전 가능하고 통전 가능하게 길이 방향 양단을 파지하여 상기 도금조에 수평 방향으로 수용하는 척 수단(56); 소정의 통전이 행해지는 불용성 전극(58);을 구비하고, 상기 불용성 전극(58)을 상기 피처리 실린더(12)의 외주면에 소정 간격을 두고 근접시켜, 상기 외주면에 3가크롬 도금을 하도록 한 실린더용 3가크롬 도금 장치이고, 상기 불용성 전극(58)이 상기 피처리 실린더(12)의 외주면의 주위를 둘러싸는 위요형 불용성 전극인, 실린더용 3가크롬 도금 장치이다.The trivalent chrome plating apparatus 10C for a cylinder includes a plating tank 54 in which a trivalent chrome plating solution is stored; Chuck means 56 for holding the processing cylinder 12 at both longitudinal ends in a rotatable and energizable manner and receiving it horizontally in the plating bath; an insoluble electrode 58 through which a predetermined current is applied, and the insoluble electrode 58 is brought close to the outer circumferential surface of the cylinder 12 at a predetermined distance, and trivalent chromium plating is applied to the outer circumferential surface. This is a trivalent chrome plating apparatus for cylinders, wherein the insoluble electrode 58 is a concave-shaped insoluble electrode surrounding the outer peripheral surface of the cylinder 12 to be processed.
도 5에 있어서, 상기 위요형 불용성 전극(58)은 상기 도금조(54)에 수평 방향으로 수용된 피처리 실린더(12)의 좌측 외주면(60)의 주위를 둘러싸는 좌측 위요형 불용성 전극(62)과, 상기 도금조(14)에 수평 방향으로 수용된 피처리 실린더(12)의 우측 외주면(64)의 주위를 둘러싸는 우측 위요형 불용성 전극(66)을 포함하는 구성으로 되어 있다.In FIG. 5, the concave-shaped insoluble electrode 58 is a left concave-shaped insoluble electrode 62 surrounding the left outer peripheral surface 60 of the cylinder to be processed 12 accommodated in the plating tank 54 in the horizontal direction. and a right-side concave-shaped insoluble electrode 66 surrounding the right outer peripheral surface 64 of the cylinder to be processed 12 accommodated in the plating tank 14 in the horizontal direction.
실린더용 3가크롬 도금 장치(10C)에서는, 상기 좌측 위요형 불용성 전극(62) 및 상기 우측 위요형 불용성 전극(66)으로, 교차형 전극을 구성하고 있다.In the trivalent chrome plating apparatus 10C for cylinders, the left upper concave insoluble electrode 62 and the right upper concave insoluble electrode 66 constitute a cross-type electrode.
그리고, 상기 위요형 불용성 전극(58)의 상기 좌측 위요형 불용성 전극(62) 및 상기 우측 위요형 불용성 전극(66)은, 암(68a, 68b)이 간격을 넓고 좁게하는 동작에 의해, 피처리 실린더(12)의 주위를 덮는 상태와 개방 상태로 개폐시킬 수 있다. 이와 같이, 상기 좌측 위요형 불용성 전극(62)의 마디 형상부의 오목부 위치에 상기 우측 위요형 불용성 전극(66)의 상기 마디 형상부의 볼록부가 들어가는 정도를 조절함으로써, 상기 피처리 실린더(12)의 실린더 직경에 대응하여 상기 외주면에 근접시키게 된다. 또한, 암(68a, 68b)은 도시하지 않은 구동원에 의해 구동시키게 된다.And, the left upper concave insoluble electrode 62 and the right upper concave insoluble electrode 66 of the upper concave insoluble electrode 58 are to be treated by the operation of the arms 68a and 68b to widen and narrow the gap. The cylinder 12 can be opened and closed in a covered state or an open state. In this way, by adjusting the degree to which the convex part of the node-shaped part of the right upper concave-shaped insoluble electrode 66 enters the concave part of the node-shaped part of the left upper concave-shaped insoluble electrode 62, the processing cylinder 12 It is approximated to the outer peripheral surface corresponding to the cylinder diameter. Additionally, the arms 68a and 68b are driven by a drive source not shown.
상기 구성으로 함으로써, 3가크롬 도금액을 사용한 3가크롬 도금을 실시해도, 피처리 실린더(12)의 일부에 미석출 부분이 발생해 버리는 등의 문제가 발생하지 않고, 석출이 양호하고 깨끗하며, 균일하고 내쇄력이 우수한 실린더를 얻을 수 있다. 내쇄력이 우수하기 때문에, 그라비아 실린더로서 적용할 수 있다. 또한, 특허문헌 2에 나타내는, 하측에만 전극을 마련한 구성의 실린더용 도금 장치와 비교하여, 실린더용 3가크롬 도금 장치(10C)에서는 전압이 약 50% 감소하는 효과도 있다.With the above configuration, even when trivalent chrome plating is performed using a trivalent chromium plating solution, problems such as non-precipitated portions occurring in a part of the cylinder 12 to be treated do not occur, and precipitation is good and clean. A cylinder with uniform and excellent crush resistance can be obtained. Because it has excellent crush resistance, it can be applied as a gravure cylinder. In addition, compared to the plating device for cylinders shown in Patent Document 2, which has an electrode provided only on the lower side, the trivalent chrome plating device for cylinders (10C) has the effect of reducing the voltage by about 50%.
다음으로, 본 발명에 따른 실린더용 3가크롬 도금 장치의 제 4 형태로서, 실린더용 3가크롬 도금 장치(10D)를 도 7 내지 도 10에 나타낸다.Next, as a fourth form of the trivalent chrome plating apparatus for cylinders according to the present invention, a trivalent chrome plating apparatus 10D for cylinders is shown in FIGS. 7 to 10.
실린더용 3가크롬 도금 장치(10D)는, 3가크롬 도금액이 저류되는 도금조(74); 피처리 실린더(12)를 회전 가능하며 통전 가능하게 길이 방향 양단을 파지하여 상기 도금조에 수평 방향으로 수용하는 척 수단(76); 소정의 통전이 행해지는 불용성 전극(78);을 구비하고, 상기 불용성 전극(78)을 상기 피처리 실린더(12)의 외주면에 소정 간격을 두고 근접시켜, 상기 외주면에 3가크롬 도금을 행하도록 한 실린더용 3가크롬 도금 장치이고, 상기 불용성 전극(78)이 상기 피처리 실린더(12)의 외주면의 주위를 둘러싸는 위요형 불용성 전극인, 실린더용 3가크롬 도금 장치이다.The trivalent chrome plating apparatus 10D for a cylinder includes a plating tank 74 in which a trivalent chrome plating solution is stored; Chuck means (76) for holding the processing cylinder (12) at both longitudinal ends in a rotatable and energizable manner and receiving it in the plating bath in the horizontal direction; an insoluble electrode 78 through which a predetermined current is applied, and the insoluble electrode 78 is brought close to the outer circumferential surface of the cylinder 12 at a predetermined distance to perform trivalent chromium plating on the outer circumferential surface. This is a trivalent chrome plating device for a cylinder, wherein the insoluble electrode 78 is a concave-shaped insoluble electrode surrounding the outer peripheral surface of the cylinder 12 to be processed.
도 7에 있어서, 상기 위요형 불용성 전극(78)은, 상기 도금조(54)에 수평 방향으로 수용된 피처리 실린더(12)의 하측 외주면(80)의 주위를 둘러싸는 하측 위요형 불용성 전극(82)과, 상기 도금조(74)에 수평 방향으로 수용된 피처리 실린더(12)의 상측 외주면(84)의 주위를 둘러싸는 상측 위요형 불용성 전극(86)을 포함하는 구성으로 되어 있다.In FIG. 7, the upper concave-shaped insoluble electrode 78 is a lower concave-shaped insoluble electrode 82 surrounding the lower outer peripheral surface 80 of the cylinder to be processed 12 accommodated in the plating tank 54 in the horizontal direction. ) and an upper concave-shaped insoluble electrode 86 surrounding the upper outer peripheral surface 84 of the cylinder to be processed 12 accommodated in the plating tank 74 in the horizontal direction.
실린더용 3가크롬 도금 장치(10D)에서는, 상기 하측 위요형 불용성 전극(82) 및 상기 상측 위요형 불용성 전극(86)의 각각이, 교차형 전극으로 되어 있다.In the trivalent chrome plating apparatus 10D for a cylinder, each of the lower upper concave insoluble electrode 82 and the upper concave insoluble electrode 86 is a cross-shaped electrode.
상기 위요형 불용성 전극(78)의 상기 하측 위요형 불용성 전극(82)은 암(90a, 90b)의 회전 운동에 의해, 상기 하측 위요형 불용성 전극(82a)의 마디 형상부의 오목부 위치에 다른 쪽의 상기 하측 위요형 불용성 전극(82b)의 상기 마디 형상부의 볼록부가 들어가는 정도를 조절함으로써, 상기 피처리 실린더(12)의 실린더 직경에 대응하여 상기 외주면에 근접하게 된다. 또한, 암(90a, 90b)은 도시하지 않은 구동원에 의해 구동된다.The lower upper concave insoluble electrode 82 of the upper concave insoluble electrode 78 is positioned on the other side of the concave portion of the node-shaped portion of the lower upper concave insoluble electrode 82a by the rotational movement of the arms 90a and 90b. By adjusting the degree to which the convex portion of the node-shaped portion of the lower concave-shaped insoluble electrode 82b is inserted, it approaches the outer peripheral surface corresponding to the cylinder diameter of the cylinder to be processed 12. Additionally, the arms 90a and 90b are driven by a drive source not shown.
또한, 상기 위요형 불용성 전극(78)의 상기 상측 위요형 불용성 전극(86)은 암(92a, 92b)의 회전 운동에 의해, 상기 상측 위요형 불용성 전극(86a)의 마디 형상부의 오목부 위치에 다른 쪽의 상기 상측 위요형 불용성 전극(86b)의 상기 마디 형상부의 볼록부가 들어가는 정도를 조절함으로써, 상기 피처리 실린더(12)의 실린더 직경에 대응하여 상기 외주면에 근접하게 된다. 또한, 암(92a, 92b)은 도시하지 않은 구동원에 의해 구동된다.In addition, the upper concave-shaped insoluble electrode 86 of the upper concave-shaped insoluble electrode 78 is positioned at the concave portion of the node-shaped portion of the upper concave-shaped insoluble electrode 86a by the rotational movement of the arms 92a and 92b. By adjusting the extent to which the convex portion of the node-shaped portion of the upper concave-shaped insoluble electrode 86b on the other side is inserted, it is brought closer to the outer peripheral surface corresponding to the cylinder diameter of the cylinder to be processed 12. Additionally, the arms 92a and 92b are driven by a drive source not shown.
상기 구성으로 함으로써, 3가크롬 도금액을 사용한 3가크롬 도금을 실시해도, 피처리 실린더(12)의 일부에 미석출 부분이 발생해 버리는 등의 문제가 생기지 않고, 석출 가 양호하고 깨끗하며, 균일하고 내쇄력이 우수한 실린더를 얻을 수 있다. 내쇄력이 우수하기 때문에, 그라비아 실린더로서 적용할 수 있다. 또한, 특허문헌 2에 나타내는, 하측에만 전극을 마련한 구성의 실린더용 도금 장치와 비교하여, 실린더용 3가크롬 도금 장치(10D)에서는 전압이 약 50% 감소하는 효과도 있다.With the above configuration, even if trivalent chrome plating is performed using a trivalent chromium plating solution, problems such as non-precipitated portions occurring in a part of the cylinder 12 to be treated do not occur, and precipitation is good, clean, and uniform. And a cylinder with excellent crushing resistance can be obtained. Because it has excellent crush resistance, it can be applied as a gravure cylinder. In addition, compared to the plating device for cylinders shown in Patent Document 2, which has an electrode provided only on the lower side, the trivalent chrome plating device 10D for cylinders has the effect of reducing the voltage by about 50%.
본 발명에 따른 3가크롬 도금 방법은, 상기 본 발명에 따른 실린더용 3가크롬 도금 장치(10A~10D)를 이용하여, 3가크롬 도금액으로 상기 피처리 실린더(12)를 도금 처리하여 이루어지는, 3가크롬 도금 방법이다. 본 발명에 따른 3가크롬 도금 방법에 의하면, 3가크롬 도금액을 사용한 3가크롬 도금을 실시해도, 피처리 실린더(12)의 일부에 미석출 부분이 발생해 버리는 등의 문제 없이, 석출이 양호하고 깨끗하며, 균일하고 내쇄력이 우수한 실린더를 얻을 수 있다. 내쇄력이 우수하기 때문에, 그라비아 실린더로 적용할 수 있다.The trivalent chrome plating method according to the present invention is achieved by plating the cylinder 12 to be treated with a trivalent chrome plating solution using the trivalent chrome plating apparatus (10A to 10D) for cylinder according to the present invention. It is a trivalent chrome plating method. According to the trivalent chrome plating method according to the present invention, even when trivalent chrome plating is performed using a trivalent chromium plating solution, there is no problem such as the occurrence of non-precipitated portions in a part of the cylinder 12 to be treated, and the precipitation is good. You can obtain a cylinder that is clean, uniform, and has excellent crush resistance. Because it has excellent crush resistance, it can be applied as a gravure cylinder.
본 발명에 따른 그라비아 실린더의 제조 방법은, 상기 본 발명에 따른 실린더용 3가크롬 도금 장치(10A~10D)를 이용하여, 상기 3가크롬 도금액으로 상기 피처리 실린더를 도금 처리함으로써 그라비아 실린더를 제조하게 되는 그라비아 실린더의 제조 방법이다. 본 발명에 따른 그라비아 실린더의 제조 방법에 의하면, 3가크롬 도금액을 이용한 3가크롬 도금을 실시해도 피처리 실린더(12)의 일부에 미석출 부분이 발생해 버리는 등의 문제 없이, 석출이 양호하고 깨끗하며, 균일하고 내쇄력이 우수한 그라비아 실린더를 얻을 수 있다.The method for manufacturing a gravure cylinder according to the present invention is to manufacture a gravure cylinder by plating the cylinder to be treated with the trivalent chrome plating solution using the trivalent chrome plating apparatus (10A to 10D) for cylinder according to the present invention. This is the manufacturing method of the gravure cylinder. According to the method for manufacturing a gravure cylinder according to the present invention, even when trivalent chromium plating is performed using a trivalent chromium plating solution, there is no problem such as the occurrence of non-precipitated portions in a part of the cylinder 12 to be processed, and the precipitation is good. You can obtain a gravure cylinder that is clean, uniform, and has excellent crush resistance.
10A, 10B, 10C, 10D: 3가크롬 도금 장치
12: 피처리 실린더
14, 34, 54, 74: 도금조
16, 36, 56, 76: 척 수단
18, 38, 58, 78: 위요형 불용성 전극
20, 40, 80: 하측 외주면
22, 22a, 22b, 42, 42a, 42b, 82, 82a, 82b: 하측 위요형 불용성 전극
24, 44, 84: 상측 외주면
26, 46, 86, 86a, 86b: 상측 위요형 불용성 전극
28: 에어 실린더
30a, 30b, 48a, 48b, 50a, 50b, 68a, 68b, 90a, 90b, 92a, 92b:암
60: 좌측 외주면
62: 좌측 위요형 불용성 전극
64: 우측 외주면
66: 우측 위요형 불용성 전극10A, 10B, 10C, 10D: Trivalent chrome plating device
12: Cylinder to be processed
14, 34, 54, 74: Plating bath
16, 36, 56, 76: Chuck means
18, 38, 58, 78: concave-shaped insoluble electrode
20, 40, 80: Lower outer peripheral surface
22, 22a, 22b, 42, 42a, 42b, 82, 82a, 82b: Lower concave insoluble electrode
24, 44, 84: Upper outer peripheral surface
26, 46, 86, 86a, 86b: upper concave insoluble electrode
28: air cylinder
30a, 30b, 48a, 48b, 50a, 50b, 68a, 68b, 90a, 90b, 92a, 92b: Cancer
60: Left outer peripheral surface
62: Left superior concave insoluble electrode
64: Right outer peripheral surface
66: Right superior concave insoluble electrode
Claims (7)
상기 불용성 전극을 상기 피처리 실린더의 외주면에 소정 간격을 두고 근접시켜, 상기 외주면에 3가크롬 도금을 실시하도록 한 실린더용 3가크롬 도금 장치이며,
상기 불용성 전극이, 상기 피처리 실린더의 외주면의 주위를 둘러싸는 위요형 불용성 전극인, 실린더용 3가크롬 도금 장치.A plating tank in which the trivalent chromium plating solution is stored; Chuck means for holding the cylinder to be processed at both longitudinal ends in a rotatable and energizable manner and receiving it in the plating bath in a horizontal direction; Provided with an insoluble electrode to which a predetermined current is applied,
A trivalent chrome plating device for a cylinder in which the insoluble electrode is brought close to the outer circumferential surface of the cylinder to be processed at a predetermined interval, and trivalent chrome plating is performed on the outer circumferential surface,
A trivalent chrome plating device for a cylinder, wherein the insoluble electrode is a concave-shaped insoluble electrode surrounding the outer peripheral surface of the cylinder to be processed.
상기 위요형 불용성 전극이 상기 도금조에 수평 방향으로 수용된 피처리 실린더의 하측 외주면의 주위를 둘러싸는 하측 위요형 불용성 전극, 및/또는 상기 도금조에 수평 방향으로 수용된 피처리 실린더의 상측 외주면의 주위를 둘러싸는 상측 위요형 불용성 전극을 포함하는, 실린더용 3가크롬 도금 장치.According to claim 1,
A lower concave-shaped insoluble electrode surrounds a lower outer peripheral surface of a cylinder to be processed horizontally accommodated in the plating tank, and/or a lower concave-shaped insoluble electrode surrounds an upper outer peripheral surface of the cylinder to be processed horizontally accommodated in the plating tank. is a trivalent chromium plating device for a cylinder, comprising an upper concave insoluble electrode.
상기 상측 위요형 불용성 전극 및/또는 상기 하측 위요형 불용성 전극은, 교차형 전극인, 실린더용 3가크롬 도금 장치.According to claim 2,
The trivalent chromium plating device for a cylinder, wherein the upper concave insoluble electrode and/or the lower concave insoluble electrode are cross-type electrodes.
상기 위요형 불용성 전극은 에어 실린더 또는 전동 모터에 의해, 상기 피처리 실린더의 실린더 직경에 따라 상기 외주면에 근접하여 이루어지는, 실린더용 3가크롬 도금 장치.According to claim 1,
A trivalent chrome plating device for a cylinder, wherein the concave-shaped insoluble electrode is brought close to the outer circumferential surface of the cylinder to be processed by an air cylinder or an electric motor according to the cylinder diameter of the cylinder to be processed.
상기 위요형 불용성 전극은 암의 회전 운동 또는 간격을 넓고 좁게하는 동작에 의해, 상기 피처리 실린더의 실린더 직경에 따라 상기 외주면에 근접하여 이루어지는, 실린더용 3가크롬 도금 장치.According to claim 1,
The trivalent chrome plating device for a cylinder, wherein the concave-shaped insoluble electrode is brought close to the outer circumferential surface according to the cylinder diameter of the cylinder to be processed by rotating the arm or widening or narrowing the gap.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2022-031030 | 2022-03-01 | ||
JP2022031030 | 2022-03-01 | ||
PCT/JP2023/005674 WO2023167009A1 (en) | 2022-03-01 | 2023-02-17 | Apparatus and method for trivalent chromium plating for cylinder |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20240033149A true KR20240033149A (en) | 2024-03-12 |
Family
ID=87883459
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020247006858A KR20240033149A (en) | 2022-03-01 | 2023-02-17 | Trivalent chrome plating device and method for cylinders |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7406872B1 (en) |
KR (1) | KR20240033149A (en) |
CN (1) | CN117836474A (en) |
TW (1) | TW202346657A (en) |
WO (1) | WO2023167009A1 (en) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5241734B2 (en) * | 1972-06-01 | 1977-10-20 | ||
EP0829558A1 (en) * | 1996-09-13 | 1998-03-18 | MDC Max Dätwyler Bleienbach AG | Process and apparatus for the electrodeposition of a chromium layer on a printing cylinder |
EP2623646A4 (en) * | 2010-10-01 | 2015-09-23 | Think Labs Kk | Apparatus for plating cylinder |
JP6062600B2 (en) * | 2014-03-31 | 2017-01-18 | 株式会社シンク・ラボラトリー | Cylinder plating apparatus and method |
CH710741A2 (en) * | 2015-01-30 | 2016-08-15 | Acrom S A | Ecological procedure for continuous chrome plating of bars and relative equipment. |
WO2019164445A1 (en) * | 2018-02-22 | 2019-08-29 | Absolicon Solar Collector Ab | Electroplating of selective surfaces for concentrating solar collectors |
-
2023
- 2023-02-17 KR KR1020247006858A patent/KR20240033149A/en active Search and Examination
- 2023-02-17 CN CN202380013241.7A patent/CN117836474A/en active Pending
- 2023-02-17 WO PCT/JP2023/005674 patent/WO2023167009A1/en active Application Filing
- 2023-02-17 JP JP2023543113A patent/JP7406872B1/en active Active
- 2023-02-24 TW TW112106924A patent/TW202346657A/en unknown
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
[특허문헌1]특개2019-123927 |
[특허문헌2]WO2015/151665 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7406872B1 (en) | 2023-12-28 |
TW202346657A (en) | 2023-12-01 |
CN117836474A (en) | 2024-04-05 |
JPWO2023167009A1 (en) | 2023-09-07 |
WO2023167009A1 (en) | 2023-09-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Xu et al. | Preparation and characterization of Ti/SnO2-Sb electrode with copper nanorods for AR 73 removal | |
US3637468A (en) | Electrodes for electrolytic processes | |
DE19983254C2 (en) | Device and method for producing a thin foil from a Ni-Fe alloy | |
EP1309740B1 (en) | Elastic contact element | |
DE19748905A1 (en) | Treatment of alkaline effluent from nuclear fuel reprocessing | |
CN106987876A (en) | A kind of preparation method of super-hydrophobic/oleophylic water-oil separating Ni Cu composite deposite nethike embranes | |
DE1802850A1 (en) | Process and device for electrical deburring of metal parts | |
DE60107239T2 (en) | CATHODE FOR THE ELECTROCHEMICAL REGENERATION OF A PERMANGANATE ACID SOLUTION | |
DE19951325C2 (en) | Method and device for the electrolytic treatment of electrically insulated, electrically conductive structures on surfaces of electrically insulating film material and applications of the method | |
JPH10500736A (en) | Method and apparatus for continuous uniform metallization or etching | |
KR20240033149A (en) | Trivalent chrome plating device and method for cylinders | |
WO2009115308A1 (en) | Method and device for processing gravure printing cylinders | |
DE19951324C2 (en) | Method and device for the electrolytic treatment of electrically conductive surfaces of pieces of plate and foil material separated from one another and application of the method | |
KR100934929B1 (en) | Regenerative Electrochemical Polishing Decontamination of metallic Radioactive Wastes and Decontamination Liquid Waste Treatment by Electro-sorption and Electro-deposition | |
JPS60169592A (en) | Lining metal layer electrodeposition device | |
CN1904146B (en) | Coating device and coating method | |
US4836900A (en) | Process for the decontamination of the surface of a metal port contaminated by tritium and apparatus usable for this process | |
Gossage et al. | Reconstruction of lead acid battery negative electrodes after hard sulfation using controlled chelation chemistry | |
KR100847047B1 (en) | Manufacturing method of heat rays | |
CN105369327B (en) | A kind of preparation method of conductive diamond combination electrode | |
KR101546771B1 (en) | Copper electorplating system and method of carbon roll for transferring film | |
DE102009013467B4 (en) | Method and device for the electrochemical treatment of material in treatment devices | |
Yavuz et al. | Synthesis and characterisation of Co–Co (OH) 2 composite anode material on Cu current collector for energy storage devices | |
JP2007046164A (en) | System and method for recycling organic-inorganic composite sheet | |
CN110814016B (en) | Roller conveying type heavy metal contaminated soil continuous restoration and heavy metal recovery device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A302 | Request for accelerated examination |