KR20240027802A - Aerosol generating device, control method, control device and readable storage medium - Google Patents
Aerosol generating device, control method, control device and readable storage medium Download PDFInfo
- Publication number
- KR20240027802A KR20240027802A KR1020247003645A KR20247003645A KR20240027802A KR 20240027802 A KR20240027802 A KR 20240027802A KR 1020247003645 A KR1020247003645 A KR 1020247003645A KR 20247003645 A KR20247003645 A KR 20247003645A KR 20240027802 A KR20240027802 A KR 20240027802A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- microwave
- frequency
- aerosol
- atomization chamber
- microwave frequency
- Prior art date
Links
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 title claims abstract description 228
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 65
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 claims abstract description 434
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 330
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 98
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 48
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 43
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 33
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 description 13
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 12
- 230000008859 change Effects 0.000 description 10
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 10
- 230000009471 action Effects 0.000 description 8
- 230000001808 coupling effect Effects 0.000 description 8
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 3
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000010808 liquid waste Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 2
- 239000002910 solid waste Substances 0.000 description 2
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 235000019504 cigarettes Nutrition 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 230000000391 smoking effect Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A24—TOBACCO; CIGARS; CIGARETTES; SIMULATED SMOKING DEVICES; SMOKERS' REQUISITES
- A24F—SMOKERS' REQUISITES; MATCH BOXES; SIMULATED SMOKING DEVICES
- A24F40/00—Electrically operated smoking devices; Component parts thereof; Manufacture thereof; Maintenance or testing thereof; Charging means specially adapted therefor
- A24F40/40—Constructional details, e.g. connection of cartridges and battery parts
- A24F40/46—Shape or structure of electric heating means
- A24F40/465—Shape or structure of electric heating means specially adapted for induction heating
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A24—TOBACCO; CIGARS; CIGARETTES; SIMULATED SMOKING DEVICES; SMOKERS' REQUISITES
- A24F—SMOKERS' REQUISITES; MATCH BOXES; SIMULATED SMOKING DEVICES
- A24F40/00—Electrically operated smoking devices; Component parts thereof; Manufacture thereof; Maintenance or testing thereof; Charging means specially adapted therefor
- A24F40/10—Devices using liquid inhalable precursors
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A24—TOBACCO; CIGARS; CIGARETTES; SIMULATED SMOKING DEVICES; SMOKERS' REQUISITES
- A24F—SMOKERS' REQUISITES; MATCH BOXES; SIMULATED SMOKING DEVICES
- A24F40/00—Electrically operated smoking devices; Component parts thereof; Manufacture thereof; Maintenance or testing thereof; Charging means specially adapted therefor
- A24F40/40—Constructional details, e.g. connection of cartridges and battery parts
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A24—TOBACCO; CIGARS; CIGARETTES; SIMULATED SMOKING DEVICES; SMOKERS' REQUISITES
- A24F—SMOKERS' REQUISITES; MATCH BOXES; SIMULATED SMOKING DEVICES
- A24F40/00—Electrically operated smoking devices; Component parts thereof; Manufacture thereof; Maintenance or testing thereof; Charging means specially adapted therefor
- A24F40/40—Constructional details, e.g. connection of cartridges and battery parts
- A24F40/46—Shape or structure of electric heating means
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A24—TOBACCO; CIGARS; CIGARETTES; SIMULATED SMOKING DEVICES; SMOKERS' REQUISITES
- A24F—SMOKERS' REQUISITES; MATCH BOXES; SIMULATED SMOKING DEVICES
- A24F40/00—Electrically operated smoking devices; Component parts thereof; Manufacture thereof; Maintenance or testing thereof; Charging means specially adapted therefor
- A24F40/50—Control or monitoring
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A24—TOBACCO; CIGARS; CIGARETTES; SIMULATED SMOKING DEVICES; SMOKERS' REQUISITES
- A24F—SMOKERS' REQUISITES; MATCH BOXES; SIMULATED SMOKING DEVICES
- A24F40/00—Electrically operated smoking devices; Component parts thereof; Manufacture thereof; Maintenance or testing thereof; Charging means specially adapted therefor
- A24F40/60—Devices with integrated user interfaces
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Special Spraying Apparatus (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
에어로졸 생성 장치(100), 제어방법, 제어장치와 판독 가능한 저장 매체에 있어서, 여기에서, 에어로졸 생성 장치(100)는 무화 챔버(103)와 극초단파 어셈블리(104)를 포함하고, 무화 챔버(103)는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하고, 극초단파 어셈블리(104)는 극초단파를 무화 챔버(103)로 피드-인(feed-in)하는 데 사용하며, 제어방법은 아래와 같이, 극초단파 어셈블리(104)를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕(frequency sweep) 운행을 진행하도록 하여 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 조회하는 단계; 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버(103) 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 단계; 에어로졸 생성 기질의 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리(104)의 운행 상태를 제어하는 단계;를 포함한다. 극초단파 어셈블리(104)의 주파수 스윕 운행을 통해 무화 챔버(103)의 현재 상태 하에서의 목표 극초단파 주파수를 확정함으로써, 무화 챔버(103) 내부의 에어로졸 생성 기질이 제자리에 있는지 여부를 검측해 빈 캐비티 상태 하에서의 무화 챔버(103)에 극초단파가 피드-인되는 것을 피하여 에어로졸 생성 장치(100)의 사용 수명을 늘린다.An aerosol generating device (100), control method, control device and readable storage medium, wherein the aerosol generating device (100) includes an atomization chamber (103) and a microwave assembly (104), wherein the atomization chamber (103) is used to receive the aerosol-generating substrate, and the microwave assembly 104 is used to feed the microwaves into the atomization chamber 103. The control method is as follows: Controlling a frequency sweep operation within the microwave frequency range to query the target microwave frequency within the microwave frequency range; Determining the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber 103 based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range; It includes controlling the running state of the microwave assembly 104 based on the provision state of the aerosol generating substrate. By determining the target microwave frequency under the current state of the atomization chamber 103 through the frequency sweep operation of the microwave assembly 104, it is possible to detect whether the aerosol generating substrate inside the atomization chamber 103 is in place and determine the atomization under the empty cavity state. Avoiding microwaves being fed into the chamber 103 increases the service life of the aerosol generating device 100.
Description
본 출원은 전자 무화 기술분야에 속하고, 상세하게, 에어로졸 생성 장치의 제어방법, 에어로졸 생성 장치의 제어장치, 에어로졸 생성 장치와 판독 가능한 저장 매체에 관한 것이다.The present application belongs to the field of electronic atomization technology, and specifically relates to a control method of an aerosol generating device, a control device of an aerosol generating device, an aerosol generating device and a readable storage medium.
가열 불연소(Heat Not Burning, HNB) 장치는 가열해도 에어로졸 생성 기질(처리를 거친 식물잎류 제품)이 연소하지 않도록 하는 전자 설비이다. 가열 불연소 장치는 고온으로 에어로졸 생성 기질을 가열해 에어로졸을 생성하지만 연소하기에는 부족한 온도에 의해 에어로졸 생성 기질로 하여금 연소하지 않는 전제하에 사용자에 필요한 에어로졸을 생성하도록 한다.Heat Not Burning (HNB) devices are electronic devices that prevent aerosol-generating substrates (treated plant leaf products) from burning even when heated. The heating non-combustion device generates an aerosol by heating the aerosol-generating substrate to a high temperature, but the temperature is insufficient for combustion, so it generates the aerosol required by the user under the premise that the aerosol-generating substrate does not burn.
현재 시장에 출시된 가열 불연소 기구는 주로 전기 저항 가열방식을 이용하고, 즉, 중심 발열시트 또는 발열 니들 등을 에어로졸 생성 기질의 내부까지 삽입해 가열을 진행한다. 이런 기구는 사용 전의 예열에 필요한 대기 시간이 길고 자유로운 흡연과 흡연 중단을 실시할 수 없고 에어로졸 생성 기질의 탄화가 균일하지 않아, 에어로졸 생성 기질의 베이킹이 충분하지 않고 이용률이 낮으며; 다음, HNB 기구 발열시트는 쉽게 에어로졸 생성 기질 추출기와 발열시트 베이스에서 오물이 발생해 청소가 어려우며; 발열체에 접촉하는 국부의 에어로졸 생성 기질은 온도가 지나치게 높고 일부 열분해가 발생해 인체에 해로운 물질을 방출한다. 따라서, 극초단파 가열기술이 점차 전기 저항 가열방식을 대체해 새로운 가열방식으로 되었다. 극초단파 가열기술은 고효율, 적시적, 선택성 및 가열 무지연성 특점을 갖고 있고, 유전 특성이 특정된 물질에 대해서만 가열 효과가 있다. 극초단파 가열 무화를 이용하는 응용은 아래의 장점이 있다. 즉, a. 극초단파 가열은 복사 가열로서, 열 전도가 아니고 즉시 흡입 및 즉시 중단을 구현할 수 있으며; b. 가열시트를 구비하지 않기 때문에 시트 끊김, 발열시트 청소 문제가 없으며; c. 에어로졸 생성 기질의 이용률이 높고 입맛의 일치성이 높고 입맛이 궐련에 더 가깝다.Heating non-combustion devices currently on the market mainly use the electric resistance heating method, that is, heating is performed by inserting a central heating sheet or heating needle into the inside of the aerosol-generating substrate. These devices require a long waiting time for preheating before use, cannot freely smoke and stop smoking, and the carbonization of the aerosol-generating substrate is not uniform, resulting in insufficient baking of the aerosol-generating substrate and low utilization rate; Next, the HNB device heating sheet is difficult to clean because dirt is easily generated from the aerosol-generating substrate extractor and the heating sheet base; The temperature of the local aerosol-generating substrate in contact with the heating element is excessively high, and some thermal decomposition occurs, releasing substances harmful to the human body. Therefore, microwave heating technology gradually replaced the electric resistance heating method as a new heating method. Microwave heating technology has the characteristics of high efficiency, timeliness, selectivity and no heating delay, and has a heating effect only on materials with specified dielectric properties. Applications using microwave heating atomization have the following advantages. That is, a. Microwave heating is radiation heating, not heat conduction, and can implement immediate suction and immediate interruption; b. Since there is no heated seat, there is no problem with seat breakage or heating seat cleaning; c. The utilization rate of aerosol-generating substrate is high, the taste consistency is high, and the taste is closer to that of cigarettes.
하지만, 종래기술에 따른 극초단파 가열의 HNB 기구는 빈 캐비티로 건식 가열되는 위험이 따라 기구의 사용 수명이 짧아진다.However, the HNB device using microwave heating according to the prior art has a risk of dry heating with an empty cavity, which shortens the service life of the device.
본 출원은 종래기술 또는 관련 기술에 존재하는 기술 문제 중 하나에 대한 해결을 취지로 한다.This application is intended to solve one of the technical problems existing in the prior art or related technologies.
따라서, 제1 측면에서 본 출원에 따른 실시예는 에어로졸 생성 장치의 제어방법을 창출하며, 에어로졸 생성 장치는 무화 챔버와 극초단파 어셈블리를 포함하고, 무화 챔버는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하고, 극초단파 어셈블리는 무화 챔버에 극초단파를 피드-인(feed-in)하는 데 사용하고, 제어방법은 아래와 같이, 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕(frequency sweep) 운행을 진행하도록 하여 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 조회하는 단계; 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 단계; 에어로졸 생성 기질의 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리의 운행 상태를 제어하는 단계;를 포함한다.Accordingly, in a first aspect embodiments according to the present application create a method of controlling an aerosol generating device, the aerosol generating device comprising an atomizing chamber and a microwave assembly, the atomizing chamber being used to receive an aerosol generating substrate, and the microwave The assembly is used to feed-in microwaves to the atomization chamber, and the control method is as follows: Control the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range. querying the target microwave frequency; Determining the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range; It includes controlling the operating state of the microwave assembly based on the provision state of the aerosol generating substrate.
본 출원이 제공한 제어방법은 에어로졸 생성 장치를 제어하는 데 사용하고, 에어로졸 생성 장치는 에어로졸 생성 기질을 가열하는 데 사용하고, 여기에서, 에어로졸 생성 기질은 고체 에어로졸 생성 기질 또는 액상 에어로졸 생성 기질일 수 있다. 에어로졸 생성 장치의 내부에는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하는 무화 챔버가 설치되고, 극초단파 어셈블리는 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인(feed-in)할 수 있고, 에어로졸 생성 기질은 극초단파의 작용 하에 열을 받아 무화를 구현한다.The control method provided by the present application is used to control an aerosol-generating device, and the aerosol-generating device is used to heat an aerosol-generating substrate, wherein the aerosol-generating substrate can be a solid aerosol-generating substrate or a liquid aerosol-generating substrate. there is. An atomization chamber used to accommodate an aerosol-generating substrate is installed inside the aerosol-generating device, and the microwave assembly can feed-in microwaves into the atomizing chamber, and the aerosol-generating substrate is under the action of the microwave. It receives heat and realizes atomization.
에어로졸 생성 장치는 무화 시작 명령을 수신하고 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕 운행을 진행하도록 한다. 상세하게, 차례대로 극초단파 주파수 범위 내의 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드인하도록 한다. 무화 챔버 내부의 파라미터 변화에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 확정하고, 목표 극초단파 주파수는 현재 무화 챔버 상태 하에서 극초단파 어셈블리가 운행하는 최적 주파수 지점이고, 즉, 무화 챔버 내부의 극초단파 흡수량이 가장 큰 극초단파 주파수이다. 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 판단할 수 있고, 즉, 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 판단할 수 있다. 다시, 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리의 운행을 제어한다. 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 것이 검측되었을 경우, 극초단파 어셈블리의 운행을 정상으로 제어해 에어로졸 생성 기질에 대한 가열 무화를 진행하도록 하고, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태인 것으로 검측되었을 경우, 극초단파가 캐비티 내부로 피드-인되어 에어로졸 생성 장치의 사용 수명이 단축되는 것을 피할 수 있도록, 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시킨다. 본 출원은 극초단파 어셈블리의 주파수 스윕 운행을 통해 무화 챔버의 현재 상태 하에서의 목표 극초단파 주파수를 확정함으로써, 무화 챔버 내부 에어로졸 생성 기질이 제자리에 있는지 여부를 검측해 극초단파기 빈 캐비티 상태 하에서의 무화 챔버로 피드-인되는 것을 피하여 에어로졸 생성 장치의 사용 수명을 늘린다.The aerosol generating device receives the atomization start command and controls the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range. In detail, the microwave assembly is controlled by each microwave frequency within the microwave frequency range in turn to feed the microwave into the atomization chamber. Based on the change in parameters inside the atomization chamber, the target microwave frequency in the microwave frequency range is determined, and the target microwave frequency is the optimal frequency point at which the microwave assembly operates under the current atomization chamber condition, that is, the microwave absorption amount inside the atomization chamber is the greatest. It is a microwave frequency. Based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range, the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber can be determined, that is, it can be determined whether the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber. Again, the operation of the microwave assembly is controlled based on the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber. If it is detected that an aerosol-generating substrate is contained inside the atomization chamber, the operation of the microwave assembly is controlled normally to proceed with heating and atomization of the aerosol-generating substrate, and if it is detected that the atomization chamber is in an empty cavity, the microwave is The microwave assembly is controlled and shut down to avoid feeding inward and shortening the service life of the aerosol generating device. This application determines the target microwave frequency under the current state of the atomization chamber through the frequency sweep operation of the microwave assembly, detects whether the aerosol generating substrate inside the atomization chamber is in place, and feeds into the atomization chamber under the empty cavity state of the microwave. Increase the service life of aerosol generating devices by avoiding
무화 챔버가 빈 캐비티 상태이고 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 상태일 경우, 주파수 스윕을 통해 확정한 목표 극초단파 주파수의 차이가 비교적 크기 때문에, 주파수 스윕으로 획득한 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계는 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 정확하게 판단하도록 할 수 있으며, 이 점은 이해할 수 있을 것이다.When the atomization chamber is in an empty cavity state and the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber, the difference between the target microwave frequency determined through the frequency sweep is relatively large, so the target microwave frequency and the set frequency range obtained through the frequency sweep are The relationship can be used to accurately determine whether an aerosol-generating substrate has been received within the atomization chamber, and this will be appreciated.
이외에도, 본 출원이 제공한 상기 기술방안 중 에어로졸 생성 장치에 근거한 제어방법은 아래의 부가 기술특징을 구비할 수도 있다.In addition, among the above technical solutions provided by this application, the control method based on the aerosol generating device may have the following additional technical features.
가능한 설계에 있어서, 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 단계는 상세하게, 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최소 값보다 작은 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 단계; 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최대 값보다 큰 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 단계; 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 내에 있는 데 기반해 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 주파수 평균 값의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 단계;를 포함한다.In a possible design, the step of determining the aerosol-generating substrate provision status inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range is based on the target microwave frequency being less than the minimum value in the set frequency range. determining that the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is in an empty state; determining that the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is in a prepared state based on the target microwave frequency being greater than the maximum value in the set frequency range; Based on the target microwave frequency being within the set frequency range, determining the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the average frequency value of the set frequency range.
상기 설계에서, 설정 주파수 범위 중의 최대 값은 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태 하에 놓여 있는 경우의 최적 주파수 지점이고, 설정 주파수 범위 중의 최소 값은 무화 챔버가 빈 캐비티 상태 하에 놓여 있는 경우, 즉, 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 경우의 최적 주파수 지점이다.In the above design, the maximum value in the set frequency range is the optimal frequency point when the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is under an empty cavity state, and the minimum value in the set frequency range is when the atomization chamber is under an empty cavity state, i.e. This is the optimal frequency point when the aerosol-generating substrate is in an unprepared state.
목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최소 값보다 작은 것이 검측되었을 경우, 무화 챔버가 현재 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버에 있지 않는 것으로 판정한다.When it is detected that the target microwave frequency is less than the minimum value in the set frequency range, it is determined that the atomization chamber is currently in an empty cavity state, that is, it is determined that the aerosol-generating substrate is not in the atomization chamber.
목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최대 값보다 큰 것이 검측되었을 경우, 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버 내부에 위치한 것으로 판정한다.When it is detected that the target microwave frequency is greater than the maximum value in the set frequency range, it is determined that the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber is in a prepared state, that is, it is determined that the aerosol-generating substrate is located inside the atomization chamber.
목표 극초단파 주파수가 극초단파 주파수 범위 내에 있는 것이 검측되었을 경우, 더 나아가, 극초단파 주파수 범위의 평균 값과 목표 극초단파 주파수의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부 에어로졸 생성 기질의 상태를 검측한다.When it is detected that the target microwave frequency is within the microwave frequency range, the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber is further detected based on the numerical relationship between the average value of the microwave frequency range and the target microwave frequency.
목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위 중의 수치를 대조해 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 판단하는 정확성을 향상한다. 상기 검측방식을 통해 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 정확하게 검측해 오판으로 빈 무화 챔버에 대해 극초단파 가열을 진행하는 상황의 발생을 피할 수 있다.By comparing the target microwave frequency with the values within the set frequency range, the accuracy of determining whether aerosol-generating substrate is contained within the atomization chamber is improved. Through the above detection method, it is possible to accurately detect whether an aerosol-generating substrate is contained within the atomization chamber and avoid situations in which microwave heating is performed on an empty atomization chamber due to a misjudgment.
무엇보다도, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 경우와 무화 챔버에 에어로졸 생성 기질을 수용한 상태에 놓여 있는 경우는 최적 주파수 지점이 상이하고, 여기에서, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태 하에 놓여 있는 경우의 최적 주파수 지점은 a이고, 무화 챔버가 에어로졸 생성 기질을 수용한 상태에 놓여 있는 경우의 최적 주파수 지점은 b이고, a와 b 간의 차이가 25MHZ 내지 35MHZ이기 때문에, 주파수 스윕을 통해 획득한 목표 극초단파 주파수는 통상적으로 a±2MHZ 또는 b±2MHZ이다. 따라서, 설정 주파수 범위를 a 내지 b로 설정하고, 목표 극초단파 주파수와 a 및 b의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 정확하게 판단할 수 있다.Above all, the optimal frequency point is different when the atomization chamber is placed in an empty cavity state and when the atomization chamber is placed in a state containing an aerosol-generating substrate, wherein the optimal frequency point is different when the atomization chamber is placed in an empty cavity state. The optimal frequency point is a, and the optimal frequency point when the atomization chamber is placed in a state of receiving the aerosol-generating substrate is b, and since the difference between a and b is 25 MHZ to 35 MHZ, the target microwave frequency obtained through frequency sweep is typically a±2MHZ or b±2MHZ. Therefore, the set frequency range can be set to a to b, and the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber can be accurately determined based on the numerical relationship between the target microwave frequency and a and b.
가능한 설계에 있어서, 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 주파수 평균 값의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 단계는 상세하게, 목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 큰 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 단계; 목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 작거나 같은 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 단계;를 포함한다.In a possible design, the step of determining the aerosol-generating substrate provision state inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the frequency average value of the set frequency range is based on the fact that the target microwave frequency is greater than the frequency average value. determining that the aerosol-generating substrate in the atomizing chamber is in a prepared state; and determining that the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is in an empty state based on the target microwave frequency being less than or equal to the average frequency value.
상기 설계에서, 목표 극초단파 주파수가 극초단파 주파수 범위 내에 있는 것이 검측되었을 경우, 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 주파수 평균 값의 수치관계를 판단하고, 상기 수치관계에 근거해 더 나아가 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 판단한다.In the above design, when it is detected that the target microwave frequency is within the microwave frequency range, the numerical relationship between the target microwave frequency and the frequency average value of the set frequency range is determined, and based on the numerical relationship, aerosol is further generated inside the atomization chamber. Determine temperament status.
목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 큰 것이 검측되었을 경우, 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버에 위치한 것으로 판정한다.When it is detected that the target microwave frequency is greater than the frequency average value, it is determined that the aerosol-generating substrate in the atomizing chamber is in a prepared state, that is, it is determined that the aerosol-generating substrate is located in the atomizing chamber.
목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 작거나 같은 것이 검측되었을 경우, 무화 챔버가 현재 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버에 있지 않는 것으로 판정한다.When it is detected that the target microwave frequency is less than or equal to the frequency average value, it is determined that the atomization chamber is currently in an empty cavity state, that is, the aerosol-generating substrate is not in the atomization chamber.
목표 극초단파 주파수가 극초단파 주파수 범위 내에 있을 경우, 목표 극초단파 주파수와 주파수 평균 값의 수치를 대조하여 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 정확하게 판정할 수 있다. 상기 검측방식을 통해 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 정확하게 검측하고, 더 나아가, 에어로졸 생성 기질이 제자리에 있는지 여부를 검측하는 정확성을 향상해 오판으로 빈 무화 챔버에 대해 극초단파 가열을 진행하는 상황의 발생을 피할 수 있다.If the target microwave frequency is within the microwave frequency range, the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber can be accurately determined by comparing the values of the target microwave frequency and the frequency average value. Through the above detection method, it is accurately detected whether the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber, and further, the accuracy of detecting whether the aerosol-generating substrate is in place is improved, and microwave heating is performed on the empty atomization chamber due to a misjudgment. You can avoid situations like this.
가능한 설계에 있어서, 에어로졸 생성 기질의 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리의 운행 상태를 제어하는 단계는 상세하게, 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 데 기반해 극초단파 어셈블리를 제어하여 목표 극초단파 주파수에 의해 무화 챔버에 극초단파를 피드-인하도록 하는 단계; 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 데 기반해 극초단파 어셈블리를 제어하여 운행을 정지하고 알림 정보를 출력하도록 하는 단계;를 포함한다.In a possible design, the step of controlling the operating state of the microwave assembly based on the presence of the aerosol-generating substrate may include controlling the microwave assembly based on the presence of the aerosol-generating substrate to achieve atomization at the target microwave frequency. allowing microwaves to be fed into the chamber; It includes controlling the microwave assembly to stop operation and output notification information based on the fact that the aerosol generating substrate is in an unequipped state.
상기 설계에서, 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있어 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 것이 검측된 상황에서, 이때 정상으로 에어로졸 생성 기질에 대해 극초단파 가열 무화를 진행할 수 있는 것으로 판정하고, 극초단파 어셈블리를 제어해 목표 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하도록 하고, 여기에서, 목표 극초단파 주파수는 극초단파 어셈블리가 주파수 스윕을 통해 확정한 극초단파 주파수이고, 목표 극초단파 주파수의 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하여, 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질로 하여금 최적 무화 상태에 도달하도록 할 수 있고, 즉, 에어로졸 생성 기질에서 목표 극초단파 주파수의 극초단파 흡수 효과가 가장 좋아지도록 할 수 있어, 에어로졸 생성 장치의 에너지 소모를 감소할 뿐만 아니라, 에어로졸 생성 기질의 무화 효과를 더 향상하고, 에어로졸 생성 기질이 열을 균일하게 받지 않아 발생되는 유해 물질을 감소한다.In the above design, in a situation where the aerosol-generating substrate is in a prepared state and it is detected that the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber, at this time, it is determined that microwave heating atomization can normally be performed on the aerosol-generating substrate, and the microwave assembly is installed. Control to feed-in the microwaves into the atomization chamber according to the target microwave frequency, where the target microwave frequency is the microwave frequency determined by the microwave assembly through frequency sweep, and the microwaves of the target microwave frequency are fed into the atomization chamber. -As a result, the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber can be made to reach the optimal atomization state, that is, the aerosol-generating substrate can have the best microwave absorption effect of the target microwave frequency, thereby reducing the energy consumption of the aerosol generating device. In addition to reducing the atomization effect of the aerosol-generating substrate, it further improves the atomization effect of the aerosol-generating substrate and reduces harmful substances generated because the aerosol-generating substrate is not uniformly heated.
에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 것으로 검측된 경우, 무화 챔버는 빈 캐비티 상태이다. 이 경우, 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시켜, 극초단파 어셈블리가 계속 빈 캐비티 상태에 놓여져 있는 무화 챔버에 극초단파를 피드-인함으로 인하여 에어로졸 생성 장치의 사용 수명이 단축되는 것을 피한다. 또한, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 것으로 검측된 경우, 알림 정보를 출력해 에어로졸 생성 기질을 무화 챔버에 배치하도록 사용자에 알려 사용자의 사용 느낌을 향상한다.If the aerosol generating substrate is detected to be empty, the atomization chamber is in an empty cavity state. In this case, the microwave assembly is controlled to stop operation to avoid shortening the service life of the aerosol generating device due to the microwave assembly continuously feeding microwaves into the atomization chamber in an empty cavity state. In addition, when it is detected that the atomization chamber is in an empty cavity state, notification information is output to inform the user to place the aerosol-generating substrate in the atomization chamber, thereby improving the user's feeling of use.
가능한 설계에 있어서, 극초단파 어셈블리는 극초단파 생성장치와 극초단파 안테나를 포함하고, 극초단파 안테나는 극초단파 생성장치와 상호 연결하고, 극초단파 안테나는 극초단파 생성장치가 생성한 극초단파를 무화 챔버로 발사하고 피드백 신호를 수신하는 데 사용하며, 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕 운행을 진행하도록 하여 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 조회하는 단계는 상세하게, 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 중 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 발사하도록 하는 단계; 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측하는 단계; 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별하는 단계;를 포함한다.In a possible design, the microwave assembly includes a microwave generator and a microwave antenna, the microwave antenna interconnected with the microwave generator, and the microwave antenna transmits microwaves generated by the microwave generator to the atomization chamber and receives a feedback signal. The step of controlling the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range and querying the target microwave frequency within the microwave frequency range is detailed in detail by controlling the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range. radiating microwaves into the atomization chamber; Detecting the feedback power value of the feedback signal corresponding to each microwave frequency; It includes selecting a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the feedback power value corresponding to each microwave frequency.
상기 설계에서, 극초단파 어셈블리는 극초단파 생성장치와 극초단파 안테나를 포함하고, 극초단파 생성장치는 상응되는 주파수의 극초단파를 생성할 수 있고, 극초단파 안테나는 상응되는 주파수의 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인할 수 있다. 극초단파가 무화 챔버에 진입한 후, 극초단파 안테나는 극초단파에 상응되는 피드백 신호를 수신할 수 있다. 극초단파 어셈블리는 제1 파워 검측장치와 제2 파워 검측장치를 더 포함하고, 여기에서, 제1 파워 검측장치는 극초단파 생성장치와 상호 연결해 극초단파 생성장치의 운행과정에서 극초단파 생성장치의 운행 파워 값을 수집할 수 있고, 제2 파워 검측장치는 극초단파 안테나와 상호 연결해 극초단파 안테나가 수신한 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측할 수 있다.In the above design, the microwave assembly includes a microwave generator and a microwave antenna, the microwave generator can generate microwaves of a corresponding frequency, and the microwave antenna can feed-in the microwave of a corresponding frequency into the atomization chamber. there is. After the microwave enters the atomization chamber, the microwave antenna can receive a feedback signal corresponding to the microwave. The microwave assembly further includes a first power detection device and a second power detection device, wherein the first power detection device is interconnected with the microwave generation device and collects the operating power value of the microwave generation device during the operation of the microwave generation device. The second power detection device can be connected to the microwave antenna to detect the feedback power value of the feedback signal received by the microwave antenna.
극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내의 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하하도록 하고, 즉, 극초단파 어셈블리를 제어해 차례대로 극초단파 주파수가 상이한 극초단파를 무화 챔버 내부로 발사하도록 한다. 극초단파 어셈블리가 극초단파를 발사하는 과정에서 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 신호를 동시에 수신하고, 제2 파워 검측장치를 통해 피드백 신호 각각의 피드백 파워 값을 확정한다. 검측된 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별해 무화 챔버 내부의 흡수 효과가 가장 좋은 목표 극초단파 주파수를 확정한다. 주파수 스윕 운행 방식을 통해 극초단파 주파수 범위 내의 극초단파를 선별해 현재 무화 챔버 내부의 흡수 효과가 가장 좋은 목표 극초단파 주파수를 확정한다. 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 상황에서 목표 극초단파 주파수의 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하여 에어로졸 생성 기질의 무화 효과를 향상할 수 있다.The microwave assembly is controlled to feed-in microwaves into the atomization chamber according to each microwave frequency within the microwave frequency range, that is, the microwave assembly is controlled to sequentially fire microwaves with different microwave frequencies into the atomization chamber. In the process of emitting microwave waves, the microwave assembly simultaneously receives feedback signals corresponding to each microwave frequency, and determines the feedback power value of each feedback signal through the second power detection device. Based on the measured feedback power value, the target microwave frequency within the microwave frequency range is selected and the target microwave frequency with the best absorption effect inside the atomization chamber is determined. Through the frequency sweep operation method, microwaves within the microwave frequency range are selected and the target microwave frequency with the best absorption effect inside the current atomization chamber is determined. In a situation where the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomizing chamber, the atomization effect of the aerosol-generating substrate can be improved by feeding microwaves of the target microwave frequency into the atomizing chamber.
가능한 설계에 있어서, 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별하는 단계는 상세하게, 극초단파 어셈블리가 출력한 극초단파 주파수 각각의 극초단파에 대응되는 운행 파워 값을 검측하는 단계; 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값과 운행 파워 값의 비율을 계산하여 파워 비율을 획득하는 단계; 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선택하는 단계;를 포함한다.In a possible design, the step of selecting a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the feedback power value corresponding to each microwave frequency is detailed by detecting the running power value corresponding to each microwave frequency output by the microwave assembly. steps; Obtaining a power ratio by calculating the ratio of the feedback power value and the running power value corresponding to each microwave frequency; It includes selecting a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the power ratio corresponding to each microwave frequency.
상기 설계에서, 제1 파워 검측장치를 통해 극초단파 주파수 각각에 대응되는 운행 파워 값을 모니터링한다. 운행 파워 값 및 대응되는 피드백 파워 값의 비율을 계산해 파워 비율을 획득할 수 있다. 파워 비율의 계산 공식은 아래와 같이,In the above design, the operating power value corresponding to each microwave frequency is monitored through the first power detection device. The power ratio can be obtained by calculating the ratio of the driving power value and the corresponding feedback power value. The formula for calculating power ratio is as follows:
N=P1/P2이고,N=P 1 /P 2 ,
여기에서, P1은 피드백 파워 값이고 P2는 운행 파워 값이고 N은 파워 비율이다.Here, P 1 is the feedback power value, P 2 is the running power value, and N is the power ratio.
N의 수치가 작을수록 무화 챔버 내부의 극초단파 커플링 효과가 더 좋고, 즉, 무화 챔버 내부의 극초단파 흡수 효과가 더 좋다는 것을 의미한다. N의 수치가 클수록 무화 챔버 내부의 극초단파 커플링 효과가 더 나쁘고, 즉, 무화 챔버 내부의 극초단파 흡수 효과가 더 나쁘다는 것을 의미한다.The smaller the value of N, the better the microwave coupling effect inside the atomization chamber, that is, the better the microwave absorption effect inside the atomization chamber. The larger the value of N, the worse the microwave coupling effect inside the atomization chamber, that is, the worse the microwave absorption effect inside the atomization chamber.
가능한 설계에 있어서, 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선택하는 단계는 상세하게, 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율 중의 최소 파워 비율을 확정하는 단계; 최소 파워 비율에 대응되는 극초단파 주파수를 조회해 목표 극초단파 주파수를 확정하는 단계;를 포함한다.In a possible design, the step of selecting a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the power ratio corresponding to each microwave frequency may include, in detail, determining a minimum power ratio among the power ratios corresponding to each microwave frequency; It includes the step of determining the target microwave frequency by querying the microwave frequency corresponding to the minimum power ratio.
상기 설계에서, 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율을 수치 크기에 따라 순서를 배열하여, 수치가 가장 작은 파워 비율에 대응되는 운행 주파수를 목표 극초단파 주파수로 이용한다. 주파수 비율을 계산해 주파수 스윕 단계의 오차 부분을 필터링하여 목표 극초단파 주파수 선별의 정확성을 향상함으로써, 목표 극초단파 주파수에 대한 오판을 피할 수 있다.In the above design, the power ratios corresponding to each microwave frequency are arranged according to numerical size, and the operating frequency corresponding to the power ratio with the smallest numerical value is used as the target microwave frequency. By calculating the frequency ratio and filtering the error portion of the frequency sweep step, the accuracy of target microwave frequency selection can be improved, thereby avoiding misjudgment of the target microwave frequency.
가능한 설계에 있어서, 극초단파 주파수에 대응되는 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별하는 단계는 상세하게, 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값 중의 피드백 파워 최소 값을 확정하는 단계; 피드백 파워 최소 값에 대응되는 극초단파 주파수를 조회해 목표 극초단파 주파수를 확정하는 단계;를 포함한다.In a possible design, the step of selecting a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the feedback power value corresponding to the microwave frequency includes, in detail, determining the minimum feedback power value among the feedback power values corresponding to each microwave frequency; It includes the step of determining the target microwave frequency by querying the microwave frequency corresponding to the minimum feedback power value.
상기 설계에서, 직접 피드백 파워 값을 수치 크기에 따라 순서를 배열하여 피드백 파워 최소 값을 확정한다. 피드백 파워 최소 값에 대응되는 극초단파 주파수를 목표 극초단파 주파수로 이용한다.In the above design, the minimum feedback power value is determined by directly arranging the feedback power values in order according to numerical magnitude. The microwave frequency corresponding to the minimum feedback power value is used as the target microwave frequency.
극초단파 생성장치는 상이한 주파수의 극초단파를 출력할 때 운행 파워의 변화가 비교적 작으며, 따라서, 피드백 파워 최소 값에 대응되는 극초단파 주파수를 직접 선택해 목표 극초단파 주파수로 이용하여, 목표 극초단파 주파수 선택의 정확성을 보장하는 전제하에 데이터 처리량을 감소하며, 이 점은 이해할 수 있을 것이다.When the microwave generator outputs microwaves of different frequencies, the change in operating power is relatively small. Therefore, the microwave frequency corresponding to the minimum value of the feedback power is directly selected and used as the target microwave frequency, ensuring the accuracy of target microwave frequency selection. Under the premise that data throughput is reduced, this point can be understood.
제2 측면에서, 본 출원에 따른 실시예는 에어로졸 생성 장치의 제어장치를 창출하며, 에어로졸 생성 장치는 무화 챔버와 극초단파 어셈블리를 포함하고, 무화 챔버는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하며, 극초단파 어셈블리는 무화 챔버에 극초단파를 피드-인하는 데 사용하고, 아래와 같이, 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕 운행을 진행하도록 하여 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 조회하는 데 사용하는 조회유닛; 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 데 사용하는 검측유닛; 에어로졸 생성 기질의 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리의 운행 상태를 제어하는 데 사용하는 제어유닛;을 포함한다.In a second aspect, embodiments according to the present application create a control device for an aerosol generating device, the aerosol generating device comprising an atomizing chamber and a microwave assembly, the atomizing chamber being used to receive an aerosol generating substrate, the microwave assembly is used to feed-in microwaves to the atomization chamber, and is used to query the target microwave frequency in the microwave frequency range by controlling the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range, as shown below; a query unit; A detection unit used to determine the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range; It includes a control unit used to control the running state of the microwave assembly based on the state of the aerosol-generating substrate.
본 출원이 제공한 제어장치는 에어로졸 생성 장치를 제어하는 데 사용하고, 에어로졸 생성 장치는 에어로졸 생성 기질을 가열하는 데 사용하고, 여기에서, 에어로졸 생성 기질은 고체 에어로졸 생성 기질 또는 액상 에어로졸 생성 기질일 수 있다. 에어로졸 생성 장치의 내부에는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하는 무화 챔버가 설치되고, 극초단파 어셈블리는 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인할 수 있고, 에어로졸 생성 기질은 극초단파의 작용하에 열을 받아 무화를 구현한다.The control device provided by the present application is used to control an aerosol-generating device, and the aerosol-generating device is used to heat an aerosol-generating substrate, wherein the aerosol-generating substrate can be a solid aerosol-generating substrate or a liquid aerosol-generating substrate. there is. An atomization chamber used to accommodate an aerosol-generating substrate is installed inside the aerosol-generating device, and the microwave assembly can feed-in microwaves into the atomizing chamber, and the aerosol-generating substrate is heated under the action of the microwave to achieve atomization. Implement.
조회유닛은 무화 시작 명령을 수신하고 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕 운행을 진행하도록 한다. 상세하게, 차례대로 극초단파 주파수 범위 내의 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하도록 한다. 무화 챔버 내부 파라미터의 변화에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 확정하고, 목표 극초단파 주파수는 현재 무화 챔버 상태 하에 극초단파 어셈블리가 운행하는 최적 주파수 지점이고, 즉, 무화 챔버 내부의 극초단파 흡수량이 가장 큰 극초단파 주파수이다. 검측유닛은 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 판단할 수 있고, 즉, 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 판단할 수 있다. 제어유닛은 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리의 운행을 제어한다. 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 것이 검측되었을 경우, 극초단파 어셈블리의 운행을 정상으로 제어해 에어로졸 생성 기질에 대해 가열 무화를 진행하고, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태인 것이 검측되었을 경우, 극초단파를 빈 캐비티 내부로 피드-인함으로 인하여 에어로졸 생성 장치의 수용 수명이 단축되는 것을 피하도록 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시킨다. 본 출원은 극초단파 어셈블리의 주파수 스윕 운행을 통해 무화 챔버의 현재 상태 하에서의 목표 극초단파 주파수를 확정함으로써, 무화 챔버 내부 에어로졸 생성 기질이 제자리에 있는지 여부를 검측해 빈 캐비티 상태 하에서의 무화 챔버에 극초단파를 피드-인하게 되는 것을 피하여 에어로졸 생성 장치의 사용 수명을 늘린다.The inquiry unit receives the atomization start command and controls the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range. In detail, the microwave assembly is controlled by each microwave frequency within the microwave frequency range in turn to feed-in the microwave into the atomization chamber. Based on the change in the internal parameters of the atomization chamber, the target microwave frequency in the microwave frequency range is determined, and the target microwave frequency is the optimal frequency point at which the microwave assembly operates under the current atomization chamber condition, that is, the microwave absorption amount inside the atomization chamber is the greatest. It is a microwave frequency. The detection unit can determine the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range, that is, it can determine whether the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber. The control unit controls the operation of the microwave assembly based on the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber. If it is detected that an aerosol-generating substrate is contained inside the atomization chamber, the operation of the microwave assembly is controlled normally to proceed with heating and atomization of the aerosol-generating substrate, and if it is detected that the atomization chamber is in an empty cavity, the microwave is applied to the empty cavity. The microwave assembly is controlled and shut down to avoid shortening the service life of the aerosol generating device due to internal feed-in. This application determines the target microwave frequency under the current state of the atomization chamber through the frequency sweep operation of the microwave assembly, detects whether the aerosol generating substrate inside the atomization chamber is in place, and feeds and cuts microwaves into the atomization chamber under the empty cavity state. Increase the service life of aerosol generating devices by avoiding
무화 챔버가 빈 캐비티 상태이고 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 상태일 경우, 주파수 스윕을 통해 확정한 목표 극초단파 주파수의 차이가 비교적 크기 때문에, 주파수 스윕으로 획득한 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계는 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된지 여부를 정확하게 판단하도록 할 수 있으며, 이 점은 이해할 수 있을 것이다.When the atomization chamber is in an empty cavity state and the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber, the difference between the target microwave frequency determined through the frequency sweep is relatively large, so the target microwave frequency and the set frequency range obtained through the frequency sweep are The relationship can be used to accurately determine whether an aerosol-generating substrate is contained within the atomization chamber, and this will be appreciated.
이외에도, 본 출원이 제공한 상기 기술방안 중 에어로졸 생성 장치에 근거한 제어장치는 아래의 부가 기술특징을 구비할 수도 있다.In addition, among the above technical solutions provided by this application, the control device based on the aerosol generating device may be equipped with the following additional technical features.
가능한 설계에 있어서, 검측유닛은 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최소 값보다 작은 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 데도 사용하며; 검측유닛은 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최대 값보다 큰 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 데도 사용하며; 검측유닛은 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 내에 있는 데 기반해 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 주파수 평균 값의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 데도 사용한다.In a possible design, the detection unit is also used to determine that the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is in an empty state based on the target microwave frequency being less than the minimum value in the set frequency range; The detection unit is also used to determine that the aerosol generating substrate in the atomization chamber is in a prepared state based on the target microwave frequency being greater than the maximum value in the set frequency range; Based on the fact that the target microwave frequency is within the set frequency range, the detection unit is also used to determine the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the frequency average value of the set frequency range.
상기 설계에서, 설정 주파수 범위 중의 최대 값은 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 경우에서의 최적 주파수 지점이고, 설정 주파수 범위 중의 최소 값은 무화 챔버가 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 경우, 즉, 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓인 경우의 최적 주파수 지점이다.In the above design, the maximum value in the set frequency range is the optimal frequency point when the atomization chamber is in an empty cavity state, i.e., the minimum value in the set frequency range is when the atomization chamber is in an empty cavity state, i.e. , is the optimal frequency point when the aerosol-generating substrate is in an unprepared state.
목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최소 값보다 작은 것으로 검측되었을 경우, 무화 챔버가 현재 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버에 있지 않는 것으로 판정한다.When the target microwave frequency is detected to be less than the minimum value in the set frequency range, it is determined that the atomization chamber is currently in an empty cavity state, that is, the aerosol-generating substrate is not in the atomization chamber.
목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최대 값보다 큰 것으로 검측되었을 경우, 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버 내부에 위치한 것으로 판정한다.When the target microwave frequency is detected to be greater than the maximum value in the set frequency range, it is determined that the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber is in a prepared state, that is, it is determined that the aerosol-generating substrate is located inside the atomization chamber.
목표 극초단파 주파수가 극초단파 주파수 범위에 있는 것으로 검측되었을 경우, 더 나아가, 극초단파 주파수 범위의 평균 값과 목표 극초단파 주파수의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부 에어로졸 생성 기질의 상태를 검측한다.When the target microwave frequency is detected to be in the microwave frequency range, the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber is further detected based on the numerical relationship between the average value of the microwave frequency range and the target microwave frequency.
목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위 중의 수치를 대조함으로써, 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 판단하는 정확성을 향상한다. 상기 검측방식을 통해 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 정확하게 검측해 오판으로 빈 무화 챔버에 대해 극초단파 가열을 진행하는 상황의 발생을 피할 수 있다.By comparing the target microwave frequency with the values within the set frequency range, the accuracy of determining whether the aerosol-generating substrate is contained within the atomization chamber is improved. Through the above detection method, it is possible to accurately detect whether an aerosol-generating substrate is contained within the atomization chamber and avoid situations in which microwave heating is performed on an empty atomization chamber due to a misjudgment.
무엇보다도, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 경우와 무화 챔버가 에어로졸 생성 기질을 수용한 상태에 놓여 있는 경우는 최적 주파수 지점이 상이하고, 여기에서, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 경우의 최적 주파수 지점은 a이고, 무화 챔버가 에어로졸 생성 기질을 수용한 상태에 놓여 있는 경우의 최적 주파수 지점은 b이고, a와 b 간의 차이는 25MHZ 내지 35MHZ이고, 주파수 스윕을 통해 획득한 목표 극초단파 주파수는 통상적으로 a±2MHZ 또는 b±2MHZ이다. 따라서, 설정 주파수 범위를 a 내지 b로 설정하고, 목표 극초단파 주파수와 a 및 b의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 정확하게 판단할 수 있다.Above all, the optimal frequency point is different when the atomization chamber is in an empty cavity state and when the atomization chamber is in a state containing an aerosol-generating substrate, wherein the optimal frequency point is different when the atomization chamber is in an empty cavity state. The optimal frequency point is a, the optimal frequency point when the atomization chamber is in a state of receiving the aerosol-generating substrate is b, the difference between a and b is 25 MHZ to 35 MHZ, and the target microwave frequency obtained through frequency sweep is Typically it is a±2MHZ or b±2MHZ. Therefore, the set frequency range can be set to a to b, and the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber can be accurately determined based on the numerical relationship between the target microwave frequency and a and b.
가능한 설계에 있어서, 검측유닛은 목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 큰 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 데도 사용하고; 검측유닛은 목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 작거나 같은 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 데도 사용한다.In a possible design, the detection unit is also used to determine that the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is in a prepared state based on the target microwave frequency being greater than the frequency average value; The detection unit is also used to determine that the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is in an empty state based on the target microwave frequency being less than or equal to the average frequency value.
상기 설계에서, 목표 극초단파 주파수가 극초단파 주파수 범위 내에 있는 것이 검측된 경우, 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 주파수 평균 값의 수치관계를 판단하고, 상기 수치관계에 근거해 더 나아가 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 판단한다.In the above design, when it is detected that the target microwave frequency is within the microwave frequency range, the numerical relationship between the target microwave frequency and the frequency average value of the set frequency range is determined, and based on the numerical relationship, aerosol is further generated inside the atomization chamber. Determine temperament status.
목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 큰 것으로 검측된 경우, 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버에 위치한 것으로 판정한다.When the target microwave frequency is detected to be greater than the frequency average value, it is determined that the aerosol-generating substrate in the atomizing chamber is in an available state, that is, it is determined that the aerosol-generating substrate is located in the atomizing chamber.
목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 작거나 같은 것이 검측된 경우, 무화 챔버가 현재 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버에 있지 않는 것으로 판정한다.If it is detected that the target microwave frequency is less than or equal to the frequency average value, it is determined that the atomization chamber is currently in an empty cavity state, that is, the aerosol-generating substrate is not in the atomization chamber.
목표 극초단파 주파수가 극초단파 주파수 범위 내에 놓여 있을 경우, 목표 극초단파 주파수와 주파수 평균 값의 수치를 대조해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 정확하게 판정할 수 있다. 상기 검측방식을 통해 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 정확하게 검측하고, 더 나아가, 에어로졸 생성 기질이 제자리에 있는지 여부를 검측하는 정확성을 향상해 오판으로 빈 무화 챔버에 대해 극초단파 가열을 진행하는 상황의 발생을 피할 수 있다.If the target microwave frequency is within the microwave frequency range, the condition of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber can be accurately determined by comparing the values of the target microwave frequency and the frequency average value. Through the above detection method, it is accurately detected whether the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber, and further, the accuracy of detecting whether the aerosol-generating substrate is in place is improved, and microwave heating is performed on the empty atomization chamber due to a misjudgment. You can avoid situations like this.
가능한 설계에 있어서, 제어유닛은 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 데 기반해 극초단파 어셈블리를 제어해 목표 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버에 피드-인하도록 하는 데도 사용하고; 제어유닛은 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 데 기반해 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시키고 알림 정보를 출력하도록 하는 데도 사용한다.In a possible design, the control unit is also used to control the microwave assembly based on the presence of the aerosol-generating substrate to feed-in the microwave to the atomization chamber at a target microwave frequency; The control unit is also used to control the microwave assembly to stop operation and output notification information based on the absence of an aerosol-generating substrate.
상기 설계에서, 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 검측된 상황에서, 즉, 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 것으로 검측된 상황에서, 이때 정상으로 에어로졸 생성 기질에 대해 극초단파 가열 무화를 진행할 수 있는 것으로 판정하고, 극초단파 어셈블리를 제어해 목표 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하도록 하고, 여기에서, 목표 극초단파 주파수는 극초단파 어셈블리가 주파수 스윕을 통해 확정한 극초단파 주파수이고, 목표 극초단파 주파수의 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하여, 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질로 하여금 최적 무화 상태에 도달하도록 할 수 있고, 즉, 에어로졸 생성 기질에서 목표 극초단파 주파수의 극초단파 흡수 효과가 가장 좋아지도록 할 수 있어, 에어로졸 생성 장치의 에너지 소모를 감소할 뿐만 아니라, 에어로졸 생성 기질의 무화 효과를 더 향상하고, 에어로졸 생성 기질이 열을 균일하게 받지 않아 발생되는 유해 물질을 감소한다.In the above design, in a situation where the aerosol-generating substrate is detected to be in a prepared state, that is, in a situation where the aerosol-generating substrate is detected to be accommodated inside the atomization chamber, microwave heating atomization can be performed on the aerosol-generating substrate as normal. It is determined that there is, and the microwave assembly is controlled to feed the microwave into the atomization chamber according to the target microwave frequency, where the target microwave frequency is the microwave frequency determined by the microwave assembly through frequency sweep, and the target microwave frequency By feeding the microwaves into the atomization chamber, the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber can be brought to an optimal atomization state, that is, the aerosol-generating substrate can have the best microwave absorption effect of the target microwave frequency. , not only reduces the energy consumption of the aerosol generating device, but also further improves the atomization effect of the aerosol generating substrate, and reduces harmful substances generated because the aerosol generating substrate does not receive heat uniformly.
에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 것으로 검측된 경우, 무화 챔버는 빈 캐비티 상태이다. 이 경우, 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시켜, 극초단파 어셈블리가 계속 극초단파를 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 무화 챔버로 피드-인함으로 인하여 에어로졸 생성 장치의 사용 수명이 단축되는 것을 피한다. 또한, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 것으로 검측된 경우, 알림 정보를 출력해 에어로졸 생성 기질을 무화 챔버에 배치하도록 사용자에 알려 사용자의 사용 느낌을 향상한다.If the aerosol generating substrate is detected to be empty, the atomization chamber is in an empty cavity state. In this case, the microwave assembly is controlled to stop operation to avoid shortening the service life of the aerosol generating device due to the microwave assembly continuously feeding microwaves into the atomization chamber in an empty cavity. In addition, when it is detected that the atomization chamber is in an empty cavity state, notification information is output to inform the user to place the aerosol-generating substrate in the atomization chamber, thereby improving the user's feeling of use.
가능한 설계에 있어서, 제어유닛은 극초단파 어셈블리를 제어하여 극초단파 주파수 범위 중 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 발사하는 데도 사용하고; 검측유닛은 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측하는 데도 사용하고; 조회유닛은 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별하는 데도 사용한다.In a possible design, the control unit is also used to control the microwave assembly to emit microwaves into the atomization chamber at respective microwave frequencies in the microwave frequency range; The detection unit is also used to detect the feedback power value of the feedback signal corresponding to each microwave frequency; The inquiry unit is also used to select target microwave frequencies in the microwave frequency range based on the feedback power value corresponding to each microwave frequency.
상기 설계에서, 극초단파 어셈블리는 극초단파 생성장치와 극초단파 안테나를 포함하고, 극초단파 생성장치는 상응되는 주파수의 극초단파를 생성할 수 있고, 극초단파 안테나는 상응되는 주파수의 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인할 수 있다. 극초단파가 무화 챔버에 진입한 후, 극초단파 안테나는 극초단파에 상응되는 피드백 신호를 수신할 수 있다. 극초단파 어셈블리는 제1 파워 검측장치와 제2 파워 검측장치를 더 포함하고, 여기에서, 제1 파워 검측장치는 극초단파 생성장치와 상호 연결하고, 극초단파 생성장치는 운행과정에서 극초단파 생성장치의 운행 파워 값을 수집할 수 있고, 제2 파워 검측장치는 극초단파 안테나와 상호 연결하여 극초단파 안테나가 수신한 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측할 수 있다.In the above design, the microwave assembly includes a microwave generator and a microwave antenna, the microwave generator can generate microwaves of a corresponding frequency, and the microwave antenna can feed-in the microwave of a corresponding frequency into the atomization chamber. there is. After the microwave enters the atomization chamber, the microwave antenna can receive a feedback signal corresponding to the microwave. The microwave assembly further includes a first power detection device and a second power detection device, wherein the first power detection device is interconnected with the microwave generation device, and the microwave generation device determines the operating power value of the microwave generation device during the operation process. can be collected, and the second power detection device can be connected to the microwave antenna to detect the feedback power value of the feedback signal received by the microwave antenna.
극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내의 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하도록 하고, 즉, 극초단파 어셈블리를 제어해 차례대로 극초단파 주파수가 상이한 극초단파를 무화 챔버 내부로 발사하도록 한다. 극초단파 어셈블리가 극초단파를 발사하는 과정에서 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 신호를 동시에 수신하고, 제2 파워 검측장치를 통해 피드백 신호 각각의 피드백 파워 값을 확정한다. 검측된 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별해, 무화 챔버 내부의 흡수 효과가 가장 좋은 목표 극초단파 주파수를 확정한다. 주파수 스윕 운행 방식을 통해 극초단파 주파수 범위 내의 극초단파를 선별해 현재 무화 챔버 내부의 흡수 효과가 가장 좋은 목표 극초단파 주파수를 확정한다. 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 상황에서 목표 극초단파 주파수의 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하여 에어로졸 생성 기질의 무화 효과를 향상할 수 있다.The microwave assembly is controlled to feed-in microwaves into the atomization chamber according to each microwave frequency within the microwave frequency range. That is, the microwave assembly is controlled to sequentially fire microwaves with different microwave frequencies into the atomization chamber. In the process of emitting microwave waves, the microwave assembly simultaneously receives feedback signals corresponding to each microwave frequency, and determines the feedback power value of each feedback signal through the second power detection device. Based on the measured feedback power value, the target microwave frequency within the microwave frequency range is selected, and the target microwave frequency with the best absorption effect inside the atomization chamber is determined. Through the frequency sweep operation method, microwaves within the microwave frequency range are selected and the target microwave frequency with the best absorption effect inside the current atomization chamber is determined. In a situation where the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomizing chamber, the atomization effect of the aerosol-generating substrate can be improved by feeding microwaves of the target microwave frequency into the atomizing chamber.
가능한 설계에 있어서, 검측유닛은 극초단파 어셈블리가 출력한 극초단파 주파수 각각의 극초단파에 대응되는 운행 파워 값을 검측하는 데도 사용하고; 제어장치는 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값과 운행 파워 값의 비율을 계산해 파워 비율을 획득하는 데 사용하는 계산유닛을 더 포함하고, 조회유닛은 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선택하는 데도 사용한다.In a possible design, the detection unit is also used to detect the running power value corresponding to the microwave at each microwave frequency output by the microwave assembly; The control device further includes a calculation unit used to obtain a power ratio by calculating the ratio between the feedback power value and the running power value corresponding to each microwave frequency, and the inquiry unit determines the microwave frequency based on the power ratio corresponding to each microwave frequency. It is also used to select the target microwave frequency within the frequency range.
상기 설계에서, 제1 파워 검측장치를 통해 극초단파 주파수 각각에 대응되는 운행 파워 값을 모니터링한다. 운행 파워 값 및 대응되는 피드백 파워 값의 비율을 계산해 파워 비율을 획득할 수 있다. 파워 비율의 계산 공식은 아래와 같이,In the above design, the operating power value corresponding to each microwave frequency is monitored through the first power detection device. The power ratio can be obtained by calculating the ratio of the driving power value and the corresponding feedback power value. The formula for calculating power ratio is as follows:
N=P1/P2이고,N=P 1 /P 2 ,
여기에서, P1은 피드백 파워 값이고 P2는 운행 파워 값이고 N은 파워 비율이다.Here, P 1 is the feedback power value, P 2 is the running power value, and N is the power ratio.
N의 수치가 작을수록 무화 챔버 내부의 극초단파 커플링 효과가 더 좋고, 즉, 무화 챔버 내부의 극초단파 흡수 효과가 더 좋다는 것을 의미한다. N의 수치가 클수록 무화 챔버 내부의 극초단파 커플링 효과가 더 나쁘고, 즉, 무화 챔버 내부의 극초단파 흡수 효과가 더 나쁘다는 것을 의미한다.The smaller the value of N, the better the microwave coupling effect inside the atomization chamber, that is, the better the microwave absorption effect inside the atomization chamber. The larger the value of N, the worse the microwave coupling effect inside the atomization chamber, that is, the worse the microwave absorption effect inside the atomization chamber.
가능한 설계에 있어서, 조회유닛은 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율 중의 최소 파워 비율을 확정하는 데도 사용하고; 조회유닛은 최소 파워 비율에 대응되는 극초단파 주파수를 조회해 목표 극초단파 주파수를 확정하는 데도 사용한다.In a possible design, the inquiry unit is also used to determine the minimum power ratio among the power ratios corresponding to each microwave frequency; The query unit is also used to determine the target microwave frequency by querying the microwave frequency corresponding to the minimum power ratio.
상기 설계에서, 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율을 수치 크기에 따라 순서를 배열하여, 수치가 가장 작은 파워 비율에 대응되는 운행 주파수를 목표 극초단파 주파수로 이용한다. 주파수 비율을 계산해 주파수 스윕 단계의 오차 부분을 필터링하여 목표 극초단파 주파수 선별의 정확성을 향상함으로써, 목표 극초단파 주파수에 대한 오판을 피할 수 있다.In the above design, the power ratios corresponding to each microwave frequency are arranged according to numerical size, and the operating frequency corresponding to the power ratio with the smallest numerical value is used as the target microwave frequency. By calculating the frequency ratio and filtering the error portion of the frequency sweep step, the accuracy of target microwave frequency selection can be improved, thereby avoiding misjudgment of the target microwave frequency.
가능한 설계에 있어서, 조회유닛은 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값 중의 피드백 파워 최소 값을 확정하는 데도 사용하고; 조회유닛은 피드백 파워 최소 값과 대응되는 극초단파 주파수를 조회해 목표 극초단파 주파수를 확정하는 데도 사용한다. 상기 설계에서, 직접 피드백 파워 값을 수치 크기에 따라 순서를 배열하여 피드백 파워 최소 값을 확정한다. 피드백 파워 최소 값에 대응되는 극초단파 주파수를 목표 극초단파 주파수로 이용한다.In a possible design, the inquiry unit is also used to determine the minimum feedback power value among the feedback power values corresponding to each microwave frequency; The query unit is also used to determine the target microwave frequency by querying the microwave frequency corresponding to the minimum feedback power value. In the above design, the minimum feedback power value is determined by directly arranging the feedback power values in order according to numerical magnitude. The microwave frequency corresponding to the minimum feedback power value is used as the target microwave frequency.
극초단파 생성장치는 상이한 주파수의 극초단파를 출력할 때 운행 파워의 변화가 비교적 작으며, 따라서, 피드백 파워 최소 값에 대응되는 극초단파 주파수를 직접 선택해 목표 극초단파 주파수로 이용하여, 목표 극초단파 주파수 선택의 정확성을 보장하는 전제하에 데이터 처리량을 감소하며, 이 점은 이해할 수 있을 것이다.When the microwave generator outputs microwaves of different frequencies, the change in operating power is relatively small. Therefore, the microwave frequency corresponding to the minimum value of the feedback power is directly selected and used as the target microwave frequency, ensuring the accuracy of target microwave frequency selection. Under the premise that data throughput is reduced, this point can be understood.
제3 측면에서, 본 출원에 따른 실시예는 에어로졸 생성 장치를 창출하며, 상기 에어로졸 생성 장치는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하는 무화 챔버; 무화 챔버 내부로 극초단파를 피드-인하는 데 사용하는 극초단파 어셈블리;를 포함하며, 상기 제2 측면의 어느 한 가능한 설계에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어장치는 극초단파 어셈블리와 상호 연결한다.In a third aspect, embodiments according to the present application create an aerosol generating device comprising: an atomizing chamber used to receive an aerosol generating substrate; A microwave assembly used to feed-in microwaves into the atomization chamber; wherein the control device of the aerosol generating device according to any possible design of the second aspect is interconnected with the microwave assembly.
본 출원이 제공한 에어로졸 생성 장치는 무화 챔버, 극초단파 어셈블리 및 에어로졸 생성 장치의 제어장치를 포함한다. 여기에서, 에어로졸 생성 장치는 에어로졸 생성 기질을 가열하는 데 사용하고, 여기에서, 에어로졸 생성 기질은 고체 에어로졸 생성 기질 또는 액상 에어로졸 생성 기질일 수 있다. 에어로졸 생성 장치 내부에는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하는 무화 챔버가 설치되고, 극초단파 어셈블리는 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인할 수 있고, 에어로졸 생성 기질은 극초단파의 작용하에 열을 받아 무화를 구현한다.The aerosol generating device provided by the present application includes an atomizing chamber, a microwave assembly, and a control device for the aerosol generating device. Here, the aerosol-generating device is used to heat the aerosol-generating substrate, where the aerosol-generating substrate may be a solid aerosol-generating substrate or a liquid aerosol-generating substrate. Inside the aerosol generating device, an atomizing chamber used to accommodate the aerosol generating substrate is installed, the microwave assembly can feed-in microwaves into the atomizing chamber, and the aerosol generating substrate is heated under the action of the microwave to achieve atomization. do.
에어로졸 생성 장치의 제어장치는 극초단파 어셈블리와 상호 연결해 극초단파 어셈블리의 운행을 제어한다. 에어로졸 생성 장치의 제어장치는 상기 제2 측면의 어느 한 가능한 설계에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어장치를 선택하기 때문에, 상기 제2 측면의 어느 한 가능한 설계에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어장치가 이룬 전부의 유익한 기술효과를 구비하며, 여기에서 다시 너무 많이 반복해 기재하지 않는다.The control device of the aerosol generating device is interconnected with the microwave assembly and controls the operation of the microwave assembly. Since the control device of the aerosol-generating device selects the control device of the aerosol-generating device according to any of the possible designs of the second aspect, all achieved by the control device of the aerosol-generating device according to any of the possible designs of the second aspect is It has beneficial technical effects and will not be repeated too much here.
제4 측면에서, 본 출원에 따른 실시예는 에어로졸 생성 장치를 창출하며, 상기 에어로졸 생성 장치는 프로그램 또는 명령이 저장된 메모리; 메모리에 저장된 프로그램 또는 명령을 실행해 상기 제1 측면의 어느 한 가능한 설계에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법의 단계를 구현하는 프로세서;를 포함한다. 따라서, 상기 어느 한 가능한 설계에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법이 이룬 전부의 유익한 기술효과를 구비하며, 여기에서 다시 너무 많이 반복해 기재하지 않는다.In a fourth aspect, embodiments according to the present application create an aerosol generating device, the aerosol generating device comprising: a memory storing programs or instructions; and a processor executing a program or command stored in a memory to implement the steps of the control method of the aerosol generating device according to any possible design of the first aspect. Accordingly, the control method of the aerosol generating device according to any of the above possible designs has all the beneficial technical effects achieved, which will not be repeated too much here.
본 출원이 제공한 에어로졸 생성 장치는 무화 챔버와 극초단파 어셈블리를 더 포함하고, 무화 챔버는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하고, 극초단파 어셈블리는 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하는 데 사용하고, 극초단파는 에어로졸 생성 기질에 작용하여 에어로졸 생성 기질로 하여금 열을 받아 무화를 구현하도록 한다. 극초단파 어셈블리는 프로세서와 상호 연결하고, 프로세서는 에어로졸 생성 장치의 제어방법을 실행해 에어로졸 생성 장치 중의 극초단파 어셈블리를 제어한다.The aerosol generating device provided by the present application further includes an atomizing chamber and a microwave assembly, the atomizing chamber being used to receive an aerosol generating substrate, the microwave assembly being used to feed-in the microwave into the atomizing chamber, and the microwave assembly being used to feed the microwave into the atomizing chamber. acts on the aerosol-generating substrate to heat the aerosol-generating substrate and achieve atomization. The microwave assembly is interconnected with a processor, and the processor executes a control method of the aerosol generating device to control the microwave assembly in the aerosol generating device.
제5 측면에서, 본 출원에 따른 실시예는 에어로졸 생성 장치를 창출하며, 상기 에어로졸 생성 장치는 하우징; 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하는 무화 챔버; 무화 챔버 내부로 극초단파를 피드-인하는 데 사용하는 극초단파 어셈블리; 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕 운행을 진행하도록 하여 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 조회하고, 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부 에어로졸 생성 기질의 구비 생태를 확정하고, 에어로졸 생성 기질의 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리의 운행 상태를 제어하는 데 사용하는 제어장치;를 포함한다.In a fifth aspect, embodiments according to the present application create an aerosol generating device, said aerosol generating device comprising: a housing; an atomization chamber used to contain an aerosol-generating substrate; A microwave assembly used to feed-in microwaves into the atomization chamber; Control the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range to query the target microwave frequency within the microwave frequency range, and provide an aerosol-generating substrate inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range. It includes a control device used to determine the operating state of the microwave assembly based on the state of the aerosol-generating substrate.
본 출원이 제공한 에어로졸 생성 장치는 하우징, 무화 챔버, 극초단파 어셈블리와 제어장치를 포함한다. 하우징 내부에는 무화 챔버가 설치되고, 무화 챔버는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용한다. 극초단파 어셈블리의 출력단은 무화 챔버와 상호 연통하고, 극초단파 어셈블리는 전기가 통해 운행되어 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하고, 에어로졸 생성 기질은 극초단파의 작용하에 열을 받아 무화를 구현한다.The aerosol generating device provided by the present application includes a housing, an atomization chamber, a microwave assembly and a control device. An atomization chamber is installed inside the housing, and the atomization chamber is used to accommodate an aerosol-generating substrate. The output end of the microwave assembly is in communication with the atomization chamber, the microwave assembly is electrically driven to feed the microwaves into the atomization chamber, and the aerosol-generating substrate is heated under the action of the microwaves to achieve atomization.
제어장치는 무화 시작 명령을 수신하고 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕 운행을 진행하도록 한다. 상세하게, 차례대로 극초단파 주파수 범위 내의 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하도록 한다. 무화 챔버 내부 파라미터의 변화에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 확정하고, 목표 극초단파 주파수는 현재 무화 챔버 상태 하에서 극초단파 어셈블리가 운행하는 최적 주파수 지점이고, 즉, 무화 챔버 내부의 극초단파 흡수량이 가장 큰 극초단파 주파수이다. 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 판단할 수 있고, 즉, 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 판단할 수 있다. 다시, 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리의 운행을 제어한다. 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 것이 검측되었을 경우, 극초단파 어셈블리의 운행을 정상으로 제어해 에어로졸 생성 기질에 대한 가열 무화를 진행하고, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태인 것으로 검측되었을 경우, 빈 캐비티 내부로 극초단파가 피드-인되어 에어로졸 생성 장치의 사용 수명이 단축되는 것을 피할 수 있도록, 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시킨다. 본 출원은 극초단파 어셈블리의 주파수 스윕 운행을 통해 무화 챔버의 현재 상태 하에서의 목표 극초단파 주파수를 확정함으로써, 무화 챔버 내부 에어로졸 생성 기질이 제자리에 있는지 여부를 검측해 빈 캐비티 상태 하에서의 무화 챔버에 극초단파가 피드-인되는 것을 피하여 에어로졸 생성 장치의 사용 수명을 늘린다.The control device receives the atomization start command and controls the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range. In detail, the microwave assembly is controlled by each microwave frequency within the microwave frequency range in turn to feed-in the microwave into the atomization chamber. Based on the change in the internal parameters of the atomization chamber, the target microwave frequency in the microwave frequency range is determined, and the target microwave frequency is the optimal frequency point at which the microwave assembly operates under the current atomization chamber condition, that is, the microwave absorption amount inside the atomization chamber is the greatest. It is a microwave frequency. Based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range, the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber can be determined, that is, it can be determined whether the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber. Again, the operation of the microwave assembly is controlled based on the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber. If it is detected that an aerosol-generating substrate is contained inside the atomization chamber, the operation of the microwave assembly is controlled normally to proceed with heating and atomization of the aerosol-generating substrate. If the atomization chamber is detected to be in an empty cavity, the atomization chamber is detected to be in an empty cavity. To avoid microwave feed-in, shortening the service life of the aerosol generating device, the microwave assembly is controlled to stop operation. This application determines the target microwave frequency under the current state of the atomization chamber through the frequency sweep operation of the microwave assembly, detects whether the aerosol generating substrate inside the atomization chamber is in place, and microwaves are fed into the atomization chamber under the empty cavity state. Increase the service life of aerosol generating devices by avoiding
무화 챔버가 빈 캐비티 상태이고 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 상태일 경우, 주파수 스윕을 통해 확정한 목표 극초단파 주파수의 차이가 비교적 크기 때문에, 주파수 스윕으로 획득한 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계는 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 정확하게 판단하도록 할 수 있으며, 이 점은 이해할 수 있을 것이다.When the atomization chamber is in an empty cavity state and the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber, the difference between the target microwave frequency determined through the frequency sweep is relatively large, so the target microwave frequency and the set frequency range obtained through the frequency sweep are The relationship can be used to accurately determine whether an aerosol-generating substrate has been received within the atomization chamber, and this will be appreciated.
이외에도, 본 출원이 제공한 상기 기술방안 중의 에어로졸 생성 장치는 아래의 부가 기술특징을 구비할 수도 있다.In addition, the aerosol generating device in the above technical solution provided by this application may be equipped with the following additional technical features.
가능한 설계에 있어서, 극초단파 어셈블리는 제어장치와 상호 연결한 극초단파 생성장치; 극초단파 생성 회로와 상호 연결해 극초단파 생성장치가 생성한 극초단파를 무화 챔버로 발사하고 피드백 신호를 수신하는 데 사용하는 극초단파 안테나; 제어장치와 상호 연결하고 수집단이 극초단파 생성장치와 상호 연결해 극초단파 생성장치의 운행 파워 값을 검측하는데 사용하는 제1 파워 검측장치; 제어장치와 상호 연결하고 수집단이 극초단파 안테나와 상호 연결해 극초단파 안테나가 수신한 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측하는 데 사용하는 제2 파워 검측장치;를 포함한다.In a possible design, the microwave assembly may include a microwave generator interconnected with a control device; An microwave antenna used to interconnect with the microwave generation circuit to emit microwaves generated by the microwave generation device to the atomization chamber and receive a feedback signal; A first power detection device that is interconnected with the control device and used by the collection stage to interconnect with the microwave generator and detect the operating power value of the microwave generator; It includes a second power detection device that is interconnected with the control device and used by the collection stage to interconnect with the microwave antenna to detect the feedback power value of the feedback signal received by the microwave antenna.
상기 설계에서, 극초단파 어셈블리는 극초단파 생성장치, 극초단파 안테나, 제1 파워 검측장치와 제2 파워 검측장치를 포함한다. 극초단파 어셈블리는 극초단파 생성장치와 극초단파 안테나를 포함하고, 극초단파 생성장치는 상응되는 주파수의 극초단파를 생성할 수 있고, 극초단파 안테나는 상응되는 주파수의 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인할 수 있다. 극초단파가 무화 챔버에 진입한 후, 극초단파 안테나는 극초단파에 상응되는 피드백 신호를 수신할 수 있다. 극초단파 어셈블리는 제1 파워 검측장치와 제2 파워 검측장치를 더 포함하고, 여기에서, 제1 파워 검측장치는 극초단파 생성장치와 상호 연결해 극초단파 생성장치의 운행과정에서 극초단파 생성장치의 운행 파워 값을 수집할 수 있고, 제2 파워 검측장치는 극초단파 안테나와 상호 연결해 극초단파 안테나가 수신한 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측할 수 있다.In the above design, the microwave assembly includes a microwave generator, a microwave antenna, a first power detection device and a second power detection device. The microwave assembly includes a microwave generator and a microwave antenna, the microwave generator can generate microwaves of a corresponding frequency, and the microwave antenna can feed the microwave of a corresponding frequency into the atomization chamber. After the microwave enters the atomization chamber, the microwave antenna can receive a feedback signal corresponding to the microwave. The microwave assembly further includes a first power detection device and a second power detection device, wherein the first power detection device is interconnected with the microwave generation device and collects the operating power value of the microwave generation device during the operation of the microwave generation device. The second power detection device can be connected to the microwave antenna to detect the feedback power value of the feedback signal received by the microwave antenna.
가능한 설계에 있어서, 극초단파 어셈블리는 방향성 커플러를 더 포함하고, 방향성 커플러는 제1단, 제2단, 제3단과 제4단을 포함하고, 제1단은 극초단파 생성장치와 상호 연결하고, 제2단은 극초단파 안테나와 상호 연결하고, 제3단은 제1 파워 검측장치와 상호 연결하고, 제4단은 제2 파워 검측장치와 상호 연결한다.In a possible design, the microwave assembly further includes a directional coupler, wherein the directional coupler includes a first stage, a second stage, a third stage and a fourth stage, the first stage interconnected with the microwave generator, and a second stage. The third stage is interconnected with the microwave antenna, the third stage is interconnected with the first power detection device, and the fourth stage is interconnected with the second power detection device.
상기 설계에서, 극초단파 어셈블리는 방향성 커플러를 더 포함한다. 방향성 커플러의 제1단, 제2단, 제3단과 제4단은 각각 극초단파 생성장치, 극초단파 안테나, 제1 파워 검측장치 및 제2 파워 검측장치와 상호 연결한다.In the above design, the microwave assembly further includes a directional coupler. The first, second, third and fourth stages of the directional coupler are respectively connected to the microwave generator, microwave antenna, first power detection device and second power detection device.
제1 파워 검측장치는 방향성 커플러를 통해 극초단파 생성장치의 운행 파워 값을 검측할 수 있고, 제2 파워 검측장치는 방향성 커플러를 통해 극초단파 안테나가 검측한 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측할 수 있다. 극초단파 생성장치가 생성한 극초단파 신호는 방향성 커플러를 경유해 극초단파 안테나까지 전송되고, 극초단파 안테나는 극초단파를 무화 챔버로 피드-인한다.The first power detection device can detect the operating power value of the microwave generator through the directional coupler, and the second power detection device can detect the feedback power value of the feedback signal detected by the microwave antenna through the directional coupler. The microwave signal generated by the microwave generator is transmitted to the microwave antenna via a directional coupler, and the microwave antenna feeds the microwaves into the atomization chamber.
극초단파 생성장치, 극초단파 안테나, 제1 파워 검측장치와 제2 파워 검측장치는 방향성 커플러를 통해 상호 연결해 극초단파 어셈블리 중의 전력 연결선을 감소함으로써, 극초단파 어셈블리의 점용 공간을 감소해 에어로졸 생성 장치의 부피를 더 작게 설치할 수 있어 제품 소형화 수요에 부합된다.The microwave generation device, the microwave antenna, the first power detection device, and the second power detection device are interconnected through a directional coupler to reduce the power connection line in the microwave assembly, thereby reducing the occupied space of the microwave assembly and reducing the volume of the aerosol generation device. It can be installed to meet the demand for product miniaturization.
가능한 설계에 있어서, 극초단파 생성장치는 제어장치와 상호 연결한 극초단파 발생기; 제어장치와 상호 연결하고 입력단이 극초단파 발생기와 상호 연결하고 출력단이 방향성 커플러의 제1단과 상호 연결한 파워 증폭기;를 포함한다.In a possible design, the microwave generation device may include a microwave generator interconnected with a control device; It includes a power amplifier interconnected with the control device, the input end of which is interconnected with the microwave generator, and the output end of which is interconnected with the first end of the directional coupler.
상기 설계에서, 극초단파 생성장치는 극초단파 발생기와 파워 증폭기를 포함한다. 극초단파 발생기는 극초단파 신호를 생성할 수 있고, 극초단파 발생기는 제어장치와 상호 연결하고, 제어장치는 극초단파 발생기의 운행을 제어할 수 있다. 극초단파 발생기의 출력단은 파워 증폭기의 입력단과 상호 연결하고, 파워 증폭기의 출력단은 방향성 커플러와 상호 연결한다. 제어장치는 극초단파 발생기의 운행 파워를 제어할 수 있을 뿐만 아니라, 파워 증폭기의 증폭 배수를 제어할 수도 있다.In the above design, the microwave generating device includes a microwave generator and a power amplifier. The microwave generator can generate a microwave signal, the microwave generator is interconnected with a control device, and the control device can control the operation of the microwave generator. The output terminal of the microwave generator is interconnected with the input terminal of the power amplifier, and the output terminal of the power amplifier is interconnected with the directional coupler. The control device can not only control the operating power of the microwave generator, but also control the amplification multiple of the power amplifier.
가능한 설계에 있어서, 극초단파 생성장치는 파워 조절기를 더 포함하고, 파워 조절기의 제1단은 제어장치와 상호 연결하고, 파워 조절기의 제2단은 파워 증폭기와 상호 연결한다.In a possible design, the microwave generator further includes a power regulator, a first stage of the power regulator interconnected with a control device, and a second stage of the power regulator interconnected with a power amplifier.
상기 설계에서, 극초단파 생성장치는 파워 조절기를 더 포함하고, 파워 조절기는 파워 증폭기와 상호 연결하고, 제어장치는 파워 조절기를 제어해 극초단파를 출력하는 파워를 조절하여 극초단파를 발사하는 파워의 조정 범위에 대한 증가를 구현할 수 있다.In the above design, the microwave generating device further includes a power regulator, the power regulator is interconnected with the power amplifier, and the control device controls the power regulator to adjust the power for outputting microwaves to the adjustment range of the power for emitting microwaves. An increase can be implemented.
가능한 설계에 있어서, 파워 조절기와 파워 증폭기는 집적 설치한다.In one possible design, the power regulator and power amplifier are integrated.
상기 설계에서, 파워 조절기와 파워 증폭기는 집적 설치하고, 즉, 파워 조절기와 파워 증폭기는 집적 전자 소자이고, 집적 전자 소자는 2개의 기능, 즉, 파워를 조절 및 증폭하는 기능을 구비한다. 파워 조절기와 파워 증폭기를 집적 설치해 극초단파 어셈블리의 에어로졸 생성 장치 내부에서의 점용 공간을 더 감소할 수 있다.In the above design, the power regulator and the power amplifier are installed integratedly, that is, the power regulator and the power amplifier are integrated electronic devices, and the integrated electronic devices have two functions, namely, the functions of regulating and amplifying power. By integrating the power regulator and power amplifier, the occupied space inside the aerosol generating device of the microwave assembly can be further reduced.
가능한 설계에 있어서, 에어로졸 생성 장치는 무화 챔버에 설치되어 무화 챔버를 수용 캐비티와 공진 캐비티로 나누고 수용 캐비티가 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용되는 분리부재; 공진 캐비티의 바닥벽에 설치된 공진 칼럼;을 더 포함한다.In a possible design, the aerosol generating device may include a separating member installed in the atomizing chamber to divide the atomizing chamber into a receiving cavity and a resonating cavity, with the receiving cavity being used to receive the aerosol generating substrate; It further includes a resonance column installed on the bottom wall of the resonance cavity.
상기 설계에서, 에어로졸 생성 장치는 무화 챔버 내부에 설치된 분리부재를 더 포함하고, 분리부재는 무화 챔버를 수용 캐비티와 공진 캐비티로 분할한다. 수용 캐비티는 에어로졸 생성 기질을 수용할 수 있고, 극초단파 어셈블리는 극초단파를 공진 캐비티 내부로 피드-인하고, 극초단파는 공진 캐비티를 통해 수용 캐비티로 전도되어 수용 캐비티 내부의 에어로졸 생성 기질에 대해 극초단파 가열을 진행할 수 있다.In the above design, the aerosol generating device further includes a separation member installed inside the atomization chamber, and the separation member divides the atomization chamber into a receiving cavity and a resonance cavity. The receiving cavity may receive an aerosol-generating substrate, the microwave assembly feeds the microwaves into the resonant cavity, and the microwaves are conducted to the receiving cavity through the resonating cavity to perform microwave heating on the aerosol-generating substrate inside the receiving cavity. You can.
수용 캐비티와 공진 캐비티는 분리부재를 통해 상호 분리되어 수용 캐비티 내부의 에어로졸 생성 기질이 무화를 구현한 후 발생된 액체 폐기물 또는 고체 폐기물이 공진 캐비티에 진입하는 것을 피함으로써, 폐기물이 공진 캐비티에 진입함으로 인해 극초단파 어셈블리가 고장나는 경우의 발생을 피할 수 있다.The receiving cavity and the resonance cavity are separated from each other through a separation member to avoid liquid waste or solid waste generated after the aerosol generating substrate inside the receiving cavity is atomized from entering the resonance cavity. This can avoid the occurrence of microwave assembly failure.
바람직하게, 분리부재와 하우징은 분리되도록 상호 연결하고, 수용 캐비티는 분리부재 내부에 설치된다. 분리부재를 해체해 수용 캐비티를 단독으로 분리 세척할 수 있어 사용자의 사용 느낌을 향상한다.Preferably, the separating member and the housing are interconnected so as to be separated, and the receiving cavity is installed inside the separating member. By dismantling the separation member, the receiving cavity can be separated and cleaned independently, improving the user's feeling of use.
분리부재는 세라믹, 유리 등 재질을 선택해 제조되어 공진 캐비티 내부의 극초단파로 하여금 수용 캐비티 내부에 전도되도록 하여 수용 캐비티 내부의 에어로졸 생성 기질에 대한 가열을 진행할 수 있으며, 이 점은 이해할 수 있을 것이다.The separation member is made of selected materials such as ceramic and glass, so that the microwaves inside the resonant cavity are conducted into the receiving cavity, thereby heating the aerosol-generating substrate inside the receiving cavity. This point can be understood.
가능한 설계에 있어서, 공진 칼럼은 극초단파 안테나와 상호 연결한다.In a possible design, the resonant column interconnects with a microwave antenna.
상기 설계에서, 공진 칼럼을 통해 극초단파를 공진 캐비티에 피드-인한다. 공진 칼럼의 제1단은 공진 캐비티의 바닥벽과 상호 연결하고, 공진 칼럼의 제2단은 수용 캐비티와 상대되게 설치하고, 극초단파는 공진 칼럼의 제1단에서부터 제2단까지에 이르는 방향을 따라 전도되어 수용 캐비티 중의 에어로졸 생성 기질을 가열한다.In this design, microwaves are fed into the resonant cavity through a resonant column. The first end of the resonance column is interconnected with the bottom wall of the resonance cavity, the second end of the resonance column is installed relative to the receiving cavity, and microwaves are transmitted along the direction from the first end to the second end of the resonance column. conduction heats the aerosol-generating substrate in the receiving cavity.
제6 측면에서, 본 출원에 따른 실시예는 판독 가능한 저장 매체를 창출하며, 판독 가능한 저장 매체에는 프로그램 또는 명령이 저장되고, 프로그램 또는 명령은 프로세서에 의해 실행될 때 상기 어느 한 가능한 설계에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법의 단계를 구현한다. 따라서, 상기 어느 한 가능한 설계에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법이 이룬 전부의 유익한 기술효과를 구비하며, 여기에서 다시 너무 많이 반복해 기재하지 않는다.In a sixth aspect, embodiments according to the present application create a readable storage medium, the readable storage medium having a program or instructions stored therein, the program or instructions, when executed by a processor, producing an aerosol according to any of the above possible designs. Implement the steps of the device control method. Accordingly, the control method of the aerosol generating device according to any of the above possible designs has all the beneficial technical effects achieved, which will not be repeated too much here.
본 출원의 부가 측면과 장점은 아래의 기재 부분에서 명료해지거나 또는 본 출원의 실천을 통해 파악하게 될 것이다.Additional aspects and advantages of the present application will become apparent from the description below or may be learned through practice of the present application.
본 출원의 상기 및/또는 부가 측면과 장점은 이하 도면을 결합해 진행한 실시예의 기재에서 명료해지고 쉽게 이해할 수 있게 될 것이며, 여기에서,
도 1은 본 출원의 첫 번째 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법에 대한 과정 설명도 1이고;
도 2는 본 출원의 첫 번째 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법에 대한 과정 설명도 2이고;
도 3은 본 출원의 첫 번째 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법에 대한 과정 설명도 3이고;
도 4는 본 출원의 첫 번째 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법에 대한 과정 설명도 4이고;
도 5는 본 출원의 첫 번째 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의제어방법에 대한 과정 설명도 5이고;
도 6은 본 출원의 첫 번째 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법에 대한 과정 설명도 6이고;
도 7은 본 출원의 두 번째 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법에 대한 과정 설명도이고;
도 8은 본 출원의 세 번째 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어장치를 설명한 블록도이고;
도 9는 본 출원의 네 번째 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치를 설명한 블록도이고;
도 10은 본 출원의 다섯 번째 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치를 설명한 블록도이고;
도 11은 본 출원의 여섯 번째 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 구조에 대한 설명도 1이고;
도 12는 본 출원의 여섯 번째 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 구조에 대한 설명도 2이고;
도 13은 본 출원의 여섯 번째 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 구조에 대한 설명도 3이다.The above and/or additional aspects and advantages of the present application will become clear and easily understandable from the following description of the embodiments in combination with the drawings, wherein:
Figure 1 is a process explanation diagram 1 of a control method of an aerosol generating device according to the first embodiment of the present application;
Figure 2 is a process diagram 2 of a control method of an aerosol generating device according to the first embodiment of the present application;
Figure 3 is a process explanation diagram 3 of the control method of the aerosol generating device according to the first embodiment of the present application;
Figure 4 is a process explanation diagram 4 of the control method of the aerosol generating device according to the first embodiment of the present application;
Figure 5 is a process explanation diagram 5 of the control method of the aerosol generating device according to the first embodiment of the present application;
Figure 6 is a process explanatory diagram of the control method of the aerosol generating device according to the first embodiment of the present application;
Figure 7 is a process explanatory diagram of a control method of an aerosol generating device according to the second embodiment of the present application;
Figure 8 is a block diagram explaining the control device of the aerosol generating device according to the third embodiment of the present application;
Figure 9 is a block diagram illustrating an aerosol generating device according to the fourth embodiment of the present application;
Figure 10 is a block diagram illustrating an aerosol generating device according to the fifth embodiment of the present application;
Figure 11 is an explanatory diagram 1 of the structure of an aerosol generating device according to the sixth embodiment of the present application;
Figure 12 is an explanatory diagram 2 of the structure of an aerosol generating device according to the sixth embodiment of the present application;
Figure 13 is an explanatory diagram 3 of the structure of an aerosol generating device according to the sixth embodiment of the present application.
이하, 본 출원의 상기 목적, 특징과 장점을 더 명료하게 이해할 수 있도록 도면과 구체적인 실시방식을 결합해 본 출원을 더 상세하게 설명한다. 무엇보다도, 상충되지 않는 상황에서 본 출원의 실시예 및 실시예의 특징은 상호 조합할 수 있다.Hereinafter, the present application will be described in more detail by combining drawings and specific implementation methods to provide a clearer understanding of the objects, features, and advantages of the present application. Above all, the embodiments and features of the embodiments of the present application may be combined with each other provided there is no conflict.
이하의 설명은 본 출원을 충분히 이해하는 데 편리하도록 구체적인 세부 사항을 매우 많이 기재하였지만, 본 출원은 여기에서 기재한 것과는 다른 기타 방식을 이용해 실시할 수도 있으며, 따라서, 본 출원의 보호 범위는 이하에서 공개한 구체적인 실시예에 의해 한정되지 않는다.Although the following description contains many specific details for convenience in fully understanding the present application, the present application may be implemented using other methods different from those described herein, and therefore, the scope of protection of the present application is as follows. It is not limited by the specific examples disclosed.
이하, 도 1 내지 도 13을 참조해 본 출원의 일보 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법, 에어로졸 생성 장치의 제어장치, 에어로졸 생성 장치와 판독 가능한 저장 매체를 기재한다.Hereinafter, with reference to FIGS. 1 to 13, a control method of an aerosol generating device, a control device of an aerosol generating device, an aerosol generating device, and a readable storage medium according to an exemplary embodiment of the present application will be described.
실시예 1:Example 1:
도 1에 도시된 바와 같이, 본 출원에 따른 첫 번째 실시예는 에어로졸 생성 장치의 제어방법을 제공하며, 에어로졸 생성 장치는 무화 챔버와 극초단파 어셈블리를 포함하고, 무화 챔버는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하고, 극초단파 어셈블리는 극초단파를 무화 챔버로 피드-인(feed-in)하는 데 사용한다.As shown in Figure 1, a first embodiment according to the present application provides a method of controlling an aerosol generating device, the aerosol generating device comprising an atomizing chamber and a microwave assembly, the atomizing chamber receiving an aerosol generating substrate. The microwave assembly is used to feed microwaves into the atomization chamber.
에어로졸 생성 장치의 제어방법은 아래의 단계를 포함한다.The control method of the aerosol generating device includes the following steps.
단계 102: 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕(frequency sweep) 운행을 진행하도록 하여 극초단파 주파수 범위 내의 목표 극초단파 주파수를 조회하며;Step 102: Control the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range to query the target microwave frequency within the microwave frequency range;
단계 104: 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하며;Step 104: Determining the aerosol generating substrate provision state inside the atomization chamber according to the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range;
단계 106: 에어로졸 생성 기질의 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리의 운행 상태를 제어한다.Step 106: Control the operating state of the microwave assembly based on the provision state of the aerosol-generating substrate.
본 실시예가 제공한 제어방법은 에어로졸 생성 장치를 제어하는 데 사용하고, 에어로졸 생성 장치는 에어로졸 생성 기질을 가열하는 데 사용하고, 여기에서, 에어로졸 생성 기질은 고체 에어로졸 생성 기질 또는 액상 에어로졸 생성 기질일 수 있다. 에어로졸 생성 장치의 내부에는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하는 무화 챔버가 설치되고, 극초단파 어셈블리는 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인할 수 있고, 에어로졸 생성 기질은 극초단파의 작용하에 열을 받아 무화를 구현한다.The control method provided by this embodiment is used to control an aerosol-generating device, and the aerosol-generating device is used to heat an aerosol-generating substrate, wherein the aerosol-generating substrate can be a solid aerosol-generating substrate or a liquid aerosol-generating substrate. there is. An atomization chamber used to accommodate an aerosol-generating substrate is installed inside the aerosol-generating device, and the microwave assembly can feed-in microwaves into the atomizing chamber, and the aerosol-generating substrate is heated under the action of the microwave to achieve atomization. Implement.
무화 시작 명령을 수신하고 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕 운행을 진행하도록 한다. 상세하게, 차례대로 극초단파 주파수 범위 내의 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하도록 한다. 무화 챔버 내부의 파라미터 변화에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 확정하고, 목표 극초단파 주파수는 현재 무화 챔버 상태 하에서 극초단파 어셈블리가 운행하는 최적 주파수 지점이고, 즉, 무화 챔버 내부의 극초단파 흡수량이 가장 큰 극초단파 주파수이다. 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 판단할 수 있고, 즉, 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 판단할 수 있다. 다시, 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리의 운행을 제어한다. 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 것이 검측되었을 경우, 극초단파 어셈블리의 운행을 정상으로 제어해 에어로졸 생성 기질에 대한 가열 무화를 진행하고, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태인 것으로 검측되었을 경우, 극초단파가 빈 캐비티 내부로 피드-인되어 에어로졸 생성 장치의 사용 수명이 단축되는 것을 피할 수 있도록, 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시킨다. 본 출원은 극초단파 어셈블리의 주파수 스윕 운행을 통해 무화 챔버의 현재 상태 하에서의 목표 극초단파 주파수를 확정함으로써, 무화 챔버 내부 에어로졸 생성 기질이 제자리에 있는지 여부를 검측해 극초단파가 빈 캐비티 상태 하에서의 무화 챔버로 피드-인되는 것을 피하여 에어로졸 생성 장치의 사용 수명을 늘린다.It receives the atomization start command and controls the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range. In detail, the microwave assembly is controlled by each microwave frequency within the microwave frequency range in turn to feed-in the microwave into the atomization chamber. Based on the change in parameters inside the atomization chamber, the target microwave frequency in the microwave frequency range is determined, and the target microwave frequency is the optimal frequency point at which the microwave assembly operates under the current atomization chamber condition, that is, the microwave absorption amount inside the atomization chamber is the greatest. It is a microwave frequency. Based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range, the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber can be determined, that is, it can be determined whether the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber. Again, the operation of the microwave assembly is controlled based on the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber. If it is detected that an aerosol-generating substrate is contained inside the atomization chamber, the operation of the microwave assembly is controlled normally to proceed with heating and atomization of the aerosol-generating substrate, and if it is detected that the atomization chamber is in an empty cavity, the microwave is The microwave assembly is controlled and shut down to avoid feeding inward and shortening the service life of the aerosol generating device. This application determines the target microwave frequency under the current state of the atomization chamber through the frequency sweep operation of the microwave assembly, detects whether the aerosol generating substrate inside the atomization chamber is in place, and microwaves feed into the atomization chamber under the empty cavity state. Increase the service life of aerosol generating devices by avoiding
무화 챔버가 빈 캐비티 상태이고 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 상태일 경우, 주파수 스윕을 통해 확정한 목표 극초단파 주파수의 양자 간 차이가 비교적 크기 때문에, 주파수 스윕으로 획득한 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계는 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 정확하게 판단하도록 할 수 있으며, 이 점은 이해할 수 있을 것이다.When the atomization chamber is in an empty cavity state and the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber, the difference between the target microwave frequencies determined through the frequency sweep is relatively large, so the target microwave frequency and the set frequency range obtained through the frequency sweep The numerical relationship can accurately determine whether the aerosol-generating substrate is contained within the atomization chamber, and this point can be understood.
도 2에 도시된 바와 같이, 상기 어느 한 실시예에 있어서, 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 단계는 상세하게 아래의 단계를 포함한다.As shown in FIG. 2, in one of the above embodiments, the step of determining the aerosol generating substrate provision state inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range includes the following steps in detail: do.
단계 202: 설정 주파수 범위를 획득하며;Step 202: Obtain a set frequency range;
단계 204: 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최소 값보다 작은지 여부를 판단하고, 판단 결과가 아닐 경우, 단계 206을 실행하고, 판단 결과가 그럴 경우, 단계 212를 실행하며;Step 204: Determine whether the target microwave frequency is less than the minimum value in the set frequency range, if the judgment result is not, execute step 206, if the judgment result is yes, execute step 212;
단계 206: 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최대 값보다 큰지 여부를 판단하고, 판단 결과가 아닐 경우, 단계 208을 실행하고, 판단 결과가 그럴 경우, 단계 214를 실행하며;Step 206: Determine whether the target microwave frequency is greater than the maximum value in the set frequency range, if the judgment result is not, execute step 208, if the judgment result is yes, execute step 214;
단계 208: 설정 주파수 범위 중의 주파수 평균 값을 획득하며;Step 208: Obtaining the average frequency value in the set frequency range;
단계 210: 목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 큰지 여부를 판단하고, 판단 결과가 그럴 경우, 단계 214를 실행하고, 판단 결과가 아닐 경우, 단계 212를 실행하고;Step 210: Determine whether the target microwave frequency is greater than the frequency average value, if the judgment result is yes, execute step 214, if the judgment result is not, execute step 212;
단계 212: 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하고, 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시키며;Step 212: Determine that the aerosol generating substrate in the atomization chamber is in an empty state, and control the microwave assembly to stop running;
단계 214: 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하고, 극초단파 어셈블리를 제어해 목표 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하도록 한다.Step 214: It is confirmed that the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is in a prepared state, and the microwave assembly is controlled to feed-in the microwave into the atomization chamber according to the target microwave frequency.
상기 실시예에서, 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최소 값보다 작은 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하며;In the above embodiment, based on the target microwave frequency being less than the minimum value in the set frequency range, it is determined that the aerosol generating substrate in the atomization chamber is in an empty state;
목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최대 값보다 큰 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하며;Based on the fact that the target microwave frequency is greater than the maximum value in the set frequency range, it is determined that the aerosol generating substrate in the atomization chamber is in a provided state;
목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 내에 있는 데 기반해 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 주파수 평균 값의 수치관계에 근거하여 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정한다.Based on the fact that the target microwave frequency is within the set frequency range, the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber is determined based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the frequency average value of the set frequency range.
설정 주파수 범위 중의 최대 값은 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태 하에 놓여 있는 경우의 최적 주파수 지점이고, 설정 주파수 범위 중의 최소 값은 무화 챔버가 빈 캐비티 상태 하에 놓여 있는 경우, 즉, 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태 하에 놓여 있는 경우의 최적 주파수 지점이다.The maximum value in the set frequency range is the optimal frequency point when the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is under a filled state, and the minimum value in the set frequency range is when the atomizing chamber is under an empty cavity state, that is, when the aerosol-generating substrate is in an empty cavity state. This is the optimal frequency point when placed under unequipped conditions.
목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최소 값보다 작은 것으로 검측되었을 경우, 무화 챔버가 현재 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버에 있지 않는 것으로 판정한다.When the target microwave frequency is detected to be less than the minimum value in the set frequency range, it is determined that the atomization chamber is currently in an empty cavity state, that is, the aerosol-generating substrate is not in the atomization chamber.
목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최대 값보다 큰 것으로 검측되었을 경우, 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버 내부에 위치한 것으로 판정한다.When the target microwave frequency is detected to be greater than the maximum value in the set frequency range, it is determined that the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber is in a prepared state, that is, it is determined that the aerosol-generating substrate is located inside the atomization chamber.
목표 극초단파 주파수가 극초단파 주파수 범위 내에 있는 것으로 검측되었을 경우, 더 나아가, 극초단파 주파수 범위의 평균 값과 목표 극초단파 주파수의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부 에어로졸 생성 기질의 상태를 검측한다.When the target microwave frequency is detected to be within the microwave frequency range, the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber is further detected based on the numerical relationship between the average value of the microwave frequency range and the target microwave frequency.
목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위 중의 수치를 대조해 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 판단하는 정확성을 향상한다. 상기 검측방식을 통해 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 정확하게 검측해 오판으로 빈 무화 챔버에 대해 극초단파 가열을 진행하는 상황의 발생을 피할 수 있다.By comparing the target microwave frequency with the values within the set frequency range, the accuracy of determining whether aerosol-generating substrate is contained within the atomization chamber is improved. Through the above detection method, it is possible to accurately detect whether an aerosol-generating substrate is contained within the atomization chamber and avoid situations in which microwave heating is performed on an empty atomization chamber due to a misjudgment.
무엇보다도, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 경우와 무화 챔버에 에어로졸 생성 기질이 수용된 상태에 놓여 있는 경우는 최적 주파수 지점이 상이하고, 여기에서, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태 하에 놓여 있는 경우의 최적 주파수 지점은 a이고, 무화 챔버가 에어로졸 생성 기질을 수용한 상태에 놓여 있는 경우의 최적 주파수 지점은 b이고, a와 b 간의 차이가 25MHZ 내지 35MHZ이기 때문에, 주파수 스윕을 통해 획득한 목표 극초단파 주파수는 통상적으로 a±2MHZ 또는 b±2MHZ이다. 따라서, 설정 주파수 범위를 a 내지 b로 설정하고, 목표 극초단파 주파수와 a 및 b의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 정확하게 판단할 수 있다.Above all, the optimal frequency point is different when the atomization chamber is placed in an empty cavity state and when the atomization chamber is placed in a state containing an aerosol-generating substrate, wherein the optimal frequency point when the atomization chamber is placed in an empty cavity state is different. The frequency point is a, and the optimal frequency point when the atomization chamber is placed in a state of receiving the aerosol-generating substrate is b. Since the difference between a and b is 25 MHZ to 35 MHZ, the target microwave frequency obtained through the frequency sweep is Typically it is a±2MHZ or b±2MHZ. Therefore, the set frequency range can be set to a to b, and the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber can be accurately determined based on the numerical relationship between the target microwave frequency and a and b.
목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 주파수 평균 값의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 단계는 상세하게, The step of determining the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the frequency average value of the set frequency range is detailed,
목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 큰 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 단계;determining that the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is in a prepared state based on the target microwave frequency being greater than the frequency average value;
목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 작거나 같은 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 단계;를 포함한다.and determining that the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is in an empty state based on the target microwave frequency being less than or equal to the average frequency value.
목표 극초단파 주파수가 극초단파 주파수 범위 내에 있는 것이 검측되었을 경우, 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 주파수 평균 값의 수치관계를 판단하고, 상기 수치관계에 근거해 더 나아가 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 판단한다.When it is detected that the target microwave frequency is within the microwave frequency range, the numerical relationship between the target microwave frequency and the average frequency value of the set frequency range is determined, and based on the numerical relationship, the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber is further determined. judge.
목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 큰 것이 검측되었을 경우, 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버에 위치한 것으로 판정한다.When it is detected that the target microwave frequency is greater than the frequency average value, it is determined that the aerosol-generating substrate in the atomizing chamber is in a prepared state, that is, it is determined that the aerosol-generating substrate is located in the atomizing chamber.
목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 작거나 같은 것이 검측되었을 경우, 무화 챔버가 현재 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버에 있지 않는 것으로 판정한다.When it is detected that the target microwave frequency is less than or equal to the frequency average value, it is determined that the atomization chamber is currently in an empty cavity state, that is, the aerosol-generating substrate is not in the atomization chamber.
목표 극초단파 주파수가 극초단파 주파수 범위 내에 있을 경우, 목표 극초단파 주파수와 주파수 평균 값의 수치를 대조하여 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 정확하게 판정할 수 있다. 상기 검측방식을 통해 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 정확하게 검측해 오판으로 빈 무화 챔버에 대해 극초단파 가열을 진행하는 상황의 발생을 피할 수 있다.If the target microwave frequency is within the microwave frequency range, the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber can be accurately determined by comparing the values of the target microwave frequency and the frequency average value. Through the above detection method, it is possible to accurately detect whether an aerosol-generating substrate is contained within the atomization chamber and avoid situations in which microwave heating is performed on an empty atomization chamber due to a misjudgment.
에어로졸 생성 장치를 출하하기 전에 설정 주파수 범위 중의 주파수를 설정하는 것은 이해할 수 있을 것이다. 여기에서, 설정 주파수 범위 중의 최대 값은 무화 챔버에 에어로졸 생성 기질이 수용되었을 때 극초단파 어셈블리가 극초단파를 무화 챔버로 피드-인하는 최적 주파수 값이다. 설정 주파수 범위 중의 최소 값은 무화 챔버가 빈 캐비티 상태에 놓여 있을 때 극초단파 어셈블리가 극초단파를 무화 챔버로 피드-인하는 최적 주파수 값이다.It would be understandable to set the frequency within the set frequency range before shipping the aerosol generating device. Here, the maximum value in the set frequency range is the optimal frequency value at which the microwave assembly feeds microwaves into the atomization chamber when the atomization chamber contains an aerosol-generating substrate. The minimum value in the set frequency range is the optimal frequency value at which the microwave assembly feeds microwaves into the atomization chamber when the atomization chamber is in an empty cavity state.
일부 실시예에서, 설정 주파수 범위 중에는 복수의 설정 주파수 값을 포함하고, 작은 것부터 큰 차례에 따라 F1, F2, ……Fn으로 배열한다. 아래의 공식:In some embodiments, the set frequency range includes a plurality of set frequency values, and is F 1, F 2, . . . in order from smallest to largest. … Arrange as F n . The formula below:
FAVG=(F1+F2…+Fn)/nF AVG =(F 1 +F 2 …+F n )/n
에 의해 설정 주파수 범위의 평균 값을 계산하고;Calculate the average value of the frequency range set by;
여기에서, FAVG는 주파수 평균 값이고, F1, F2, ……Fn는 설정 주파수 범위 중의 각각의 주파수 값이고, n은 설정 주파수 범위 중의 설정 주파수 값의 수량이다.Here, F AVG is the frequency average value, F 1, F 2, … … F n is each frequency value in the set frequency range, and n is the quantity of set frequency values in the set frequency range.
다른 일부 실시예에서, 설정 주파수 범위는 복수의 설정 주파수 값을 포함하고, 설정 주파수 범위 중의 주파수 최소 값과 주파수 최대 값을 추출하고, 주파수 최대 값과 주파수 최소 값에 근거해 계산하여 설정 주파수 범위 중의 주파수 평균 값을 획득한다. 아래의 공식:In some other embodiments, the set frequency range includes a plurality of set frequency values, extracts the minimum frequency value and maximum frequency value in the set frequency range, calculates based on the maximum frequency value and minimum frequency value, and calculates the value in the set frequency range. Obtain the frequency average value. The formula below:
FAVG=(Fmin+Fmax)/2F AVG =(F min +F max )/2
에 의해 설정 주파수 범위의 평균 값을 계산하고,Calculate the average value of the frequency range set by,
여기에서, FAVG는 주파수 평균 값이고 Fmin는 주파수 최소 값이고 Fmax는 주파수 최대 값이다.Here, F AVG is the frequency average value, F min is the frequency minimum value, and F max is the frequency maximum value.
에어로졸 생성 기질의 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리의 운행 상태를 제어하는 단계는 상세하게, The steps for controlling the running state of the microwave assembly based on the state of the aerosol generating substrate are detailed,
에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 데 기반해 극초단파 어셈블리를 제어하여 목표 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버로 피드-인하는 단계;controlling the microwave assembly based on the presence of the aerosol-generating substrate to feed-in the microwave into the atomization chamber at a target microwave frequency;
에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 데 기반해 극초단파 어셈블리를 제어하여 운행을 정지하고 알림 정보를 출력하도록 하는 단계;를 포함한다.It includes controlling the microwave assembly to stop operation and output notification information based on the fact that the aerosol generating substrate is in an unequipped state.
에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있어 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 것이 검측된 상황에서, 이때 정상으로 에어로졸 생성 기질에 대해 극초단파 가열 무화를 진행할 수 있는 것으로 판정하고, 극초단파 어셈블리를 제어해 목표 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하도록 하고, 여기에서, 목표 극초단파 주파수는 극초단파 어셈블리가 주파수 스윕을 통해 확정한 극초단파 주파수이고, 목표 극초단파 주파수의 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하여, 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질로 하여금 최적 무화 상태에 도달하도록 할 수 있고, 즉, 에어로졸 생성 기질에서 목표 극초단파 주파수의 극초단파 흡수 효과가 가장 좋아지도록 할 수 있어, 에어로졸 생성 장치의 에너지 소모를 감소할 뿐만 아니라, 에어로졸 생성 기질의 무화 효과를 더 향상하고, 에어로졸 생성 기질이 열을 균일하게 받지 않아 발생되는 유해 물질을 감소한다.In a situation where it is detected that an aerosol-generating substrate is stored inside the atomization chamber because the aerosol-generating substrate is in a prepared state, it is determined that microwave heating atomization can normally be performed on the aerosol-generating substrate, and the microwave assembly is controlled to produce the target microwave. Microwaves are fed into the atomization chamber according to the frequency, where the target microwave frequency is the microwave frequency determined by the microwave assembly through a frequency sweep, and the microwaves of the target microwave frequency are fed into the atomization chamber to achieve atomization. The aerosol generating substrate inside the chamber can be made to reach an optimal atomization state, that is, the aerosol generating substrate has the best microwave absorption effect of the target microwave frequency, which not only reduces the energy consumption of the aerosol generating device. , further improves the atomization effect of the aerosol-generating substrate and reduces harmful substances generated because the aerosol-generating substrate does not receive heat uniformly.
에어로졸 생성 기질이 미구비 상태로 놓여 있는 것으로 검측된 경우, 무화 챔버는 빈 캐비티 상태이고, 무화 챔버의 내부에는 에어로졸 형성 기질이 구비되지 않았다. 이 경우, 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시켜, 극초단파 어셈블리가 계속 극초단파를 빈 캐비티 상태에 놓여져 있는 무화 챔버로 피드-인함으로 인하여 에어로졸 생성 장치의 사용 수명이 단축되는 것을 피한다. 또한, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 것으로 검측된 경우, 알림 정보를 출력해 사용자에 에어로졸 생성 기질을 무화 챔버에 배치하도록 알려 사용자의 사용 느낌을 향상한다.If it is detected that the aerosol-generating substrate is not provided, the atomizing chamber is in an empty cavity state, and the interior of the atomizing chamber is not provided with the aerosol-forming substrate. In this case, the microwave assembly is controlled to stop operation to avoid shortening the service life of the aerosol generating device due to the microwave assembly continuously feeding microwaves into the atomization chamber placed in an empty cavity. In addition, when the atomization chamber is detected to be in an empty cavity state, notification information is output to inform the user to place the aerosol-generating substrate in the atomization chamber, thereby improving the user's feeling of use.
도 3에 도시된 바와 같이, 상기 임의의 실시예에서, 극초단파 어셈블리는 극초단파 생성장치와 극초단파 안테나를 포함한다.As shown in Figure 3, in any of the above embodiments, the microwave assembly includes a microwave generator and a microwave antenna.
극초단파 안테나는 극초단파 생성장치와 상호 연결하고, 극초단파 안테나는 극초단파 생성장치가 생성한 극초단파를 무화 챔버로 발사하고 피드백 신호를 수신하는 데 사용한다.The microwave antenna is interconnected with the microwave generator, and the microwave antenna is used to emit microwaves generated by the microwave generator to the atomization chamber and receive a feedback signal.
극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕 운행을 진행하도록 하여 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 조회하는 단계는 상세하게 아래의 단계를 포함한다.The step of controlling the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range and querying the target microwave frequency within the microwave frequency range includes the following steps in detail.
단계 302: 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 중 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 발사하며;Step 302: Control the microwave assembly to emit microwaves into the atomization chamber at respective microwave frequencies in the microwave frequency range;
단계 304: 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측하며;Step 304: Detecting the feedback power value of the feedback signal corresponding to each microwave frequency;
단계 306: 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별한다.Step 306: Select a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the feedback power value corresponding to each microwave frequency.
상기 실시예에서, 극초단파 어셈블리는 극초단파 생성장치와 극초단파 안테나를 포함하고, 극초단파 생성장치는 상응되는 주파수의 극초단파를 생성할 수 있고, 극초단파 안테나는 상응되는 주파수의 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인할 수 있다. 극초단파가 무화 챔버에 진입한 후, 극초단파 안테나는 극초단파에 상응되는 피드백 신호를 수신할 수 있다. 극초단파 어셈블리는 제1 파워 검측장치와 제2 파워 검측장치를 더 포함하고, 여기에서, 제1 파워 검측장치는 극초단파 생성장치와 상호 연결해 극초단파 생성장치의 운행과정에서 극초단파 생성장치의 운행 파워 값을 수집할 수 있고, 제2 파워 검측장치는 극초단파 안테나와 상호 연결해 극초단파 안테나가 수신한 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측할 수 있다.In the above embodiment, the microwave assembly includes a microwave generator and a microwave antenna, the microwave generator can generate microwaves of a corresponding frequency, and the microwave antenna can feed-in the microwaves of the corresponding frequency into the atomization chamber. You can. After the microwave enters the atomization chamber, the microwave antenna can receive a feedback signal corresponding to the microwave. The microwave assembly further includes a first power detection device and a second power detection device, wherein the first power detection device is interconnected with the microwave generation device and collects the operating power value of the microwave generation device during the operation of the microwave generation device. The second power detection device can be connected to the microwave antenna to detect the feedback power value of the feedback signal received by the microwave antenna.
극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내의 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하도록 하고, 즉, 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수가 상이한 극초단파를 차례대로 무화 챔버 내부로 발사한다. 극초단파 어셈블리가 극초단파를 발사하는 과정에서 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 신호를 동시에 수신하고, 제2 파워 검측장치를 통해 피드백 신호 각각의 피드백 파워 값을 확정한다. 검측된 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별해, 무화 챔버 내부의 흡수 효과가 가장 좋은 목표 극초단파 주파수를 확정한다. 주파수 스윕 운행 방식을 통해 극초단파 주파수 범위 내의 극초단파를 선별해 현재 무화 챔버 내부의 흡수 효과가 가장 좋은 목표 극초단파 주파수를 확정한다. 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 상황에서 목표 극초단파 주파수의 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하여 에어로졸 생성 기질의 무화 효과를 향상할 수 있다.The microwave assembly is controlled to feed-in microwaves into the atomization chamber according to each microwave frequency within the microwave frequency range. That is, the microwave assembly is controlled to fire microwaves with different microwave frequencies into the atomization chamber in sequence. In the process of emitting microwave waves, the microwave assembly simultaneously receives feedback signals corresponding to each microwave frequency, and determines the feedback power value of each feedback signal through the second power detection device. Based on the measured feedback power value, the target microwave frequency within the microwave frequency range is selected, and the target microwave frequency with the best absorption effect inside the atomization chamber is determined. Through the frequency sweep operation method, microwaves within the microwave frequency range are selected and the target microwave frequency with the best absorption effect inside the current atomization chamber is determined. In a situation where the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomizing chamber, the atomization effect of the aerosol-generating substrate can be improved by feeding microwaves of the target microwave frequency into the atomizing chamber.
무엇보다도, 목표 극초단파 주파수는 극초단파 어셈블리가 극초단파를 현재 무화 챔버 내부로 피드-인한 최적 주파수 지점이다. 무화 챔버가 빈 캐비티 상태에 놓여 있을 경우, 검측된 목표 극초단파 주파수는 극초단파를 빈 무화 챔버 내부로 피드-인할 때 극초단파 어셈블리가 극초단파를 출력하는 최적 주파수 지점이다. 무화 챔버에 에어로졸 생성 기질이 수용된 상태에 놓여 있을 경우, 검측된 목표 극초단파 주파수는 극초단파를 에어로졸 생성 기질이 수용된 무화 챔버 내부로 피드-인할 때 극초단파 어셈블리가 극초단파를 출력하는 최적 주파수 지점이다.First of all, the target microwave frequency is the optimal frequency point at which the microwave assembly feeds microwaves into the current atomization chamber. When the atomization chamber is in an empty cavity state, the detected target microwave frequency is the optimal frequency point at which the microwave assembly outputs microwaves when feeding the microwaves into the empty atomization chamber. When the atomization chamber contains the aerosol-generating substrate, the detected target microwave frequency is the optimal frequency point at which the microwave assembly outputs microwaves when the microwaves are fed into the atomization chamber containing the aerosol-generating substrate.
도 4에 도시된 바와 같이, 상기 임의의 실시예에서, 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별하는 단계는 상세하게 아래의 단계를 포함한다.As shown in Figure 4, in any of the above embodiments, the step of selecting a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the feedback power value corresponding to each microwave frequency includes the following steps in detail.
단계 402: 극초단파 어셈블리가 출력한 극초단파 주파수 각각의 극초단파에 대응되는 운행 파워 값을 검측하며;Step 402: Detect the running power value corresponding to each microwave frequency output by the microwave assembly;
단계 404: 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값과 운행 파워 값의 비율을 계산하여 파워 비율을 획득하며;Step 404: Obtain a power ratio by calculating the ratio of the feedback power value and the running power value corresponding to each microwave frequency;
단계 406: 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선택한다.Step 406: Select a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the power ratio corresponding to each microwave frequency.
상기 설계에서, 제1 파워 검측장치를 통해 극초단파 주파수 각각에 대응되는 운행 파워 값을 모니터링한다. 운행 파워 값 및 대응되는 피드백 파워 값의 비율을 계산해 파워 비율을 획득할 수 있다. 파워 비율의 계산 공식은 아래와 같이,In the above design, the operating power value corresponding to each microwave frequency is monitored through the first power detection device. The power ratio can be obtained by calculating the ratio of the driving power value and the corresponding feedback power value. The formula for calculating power ratio is as follows:
N=P1/P2이고,N=P 1 /P 2 ,
여기에서, P1은 피드백 파워 값이고 P2는 운행 파워 값이고 N은 파워 비율이다.Here, P 1 is the feedback power value, P 2 is the running power value, and N is the power ratio.
N의 수치가 작을수록 무화 챔버 내부의 극초단파 커플링 효과가 더 좋고, 즉, 무화 챔버 내부의 극초단파 흡수 효과가 더 좋다는 것을 의미한다. N의 수치가 클수록 무화 챔버 내부의 극초단파 커플링 효과가 더 나쁘고, 즉, 무화 챔버 내부의 극초단파 흡수 효과가 더 나쁘다는 것을 의미한다.The smaller the value of N, the better the microwave coupling effect inside the atomization chamber, that is, the better the microwave absorption effect inside the atomization chamber. The larger the value of N, the worse the microwave coupling effect inside the atomization chamber, that is, the worse the microwave absorption effect inside the atomization chamber.
N의 수치 범위가 1보다 작은 것은 이해할 수 있을 것이다.It may be understood that the numerical range of N is less than 1.
일부 실시예에서, 극초단파 주파수의 수량은 3개로서, 각각 Fa, Fb와 Fc이다. 계산 결과, Fa에 대응되는 파워 비율 Na은 0.1이고 Fb에 대응되는 파워 비율 Nb는 0.5이고 Fc에 대응되는 파워 비율 Nc는 0.3이다. Na, Nb와 Nc를 수치 크기에 따라 순서를 배열하고, 즉, Na<Nc<Nb이고, 파워 비율의 수치가 작을 수록 극초단파 흡수율이 더 높기 때문에, 극초단파 어셈블리를 제어해 파워 비율 Na에 대응되는 극초단파 주파수 Fa에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인할 경우, 가장 좋은 가열 효과를 이룰 수 있는 것으로 판정하고, 따라서, Fa가 목표 극초단파 주파수이다.In some embodiments, the quantities of microwave frequencies are three, F a , F b and F c , respectively. As a result of the calculation, the power ratio N a corresponding to F a is 0.1, the power ratio N b corresponding to F b is 0.5, and the power ratio N c corresponding to F c is 0.3. N a , N b and N c are arranged in order according to the numerical size, that is, N a <N c <N b , and the smaller the numerical value of the power ratio, the higher the microwave absorption rate, so the microwave assembly is controlled to control the power. It is determined that the best heating effect can be achieved when microwaves are fed into the atomization chamber by the microwave frequency F a corresponding to the ratio Na, and therefore F a is the target microwave frequency.
도 5에 도시된 바와 같이, 상기 어느 한 실시예에서, 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선택하는 단계는 상세하게 아래의 단계를 포함한다.As shown in Figure 5, in one of the above embodiments, the step of selecting a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the power ratio corresponding to each microwave frequency includes the following steps in detail.
단계 502: 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율 중의 최소 파워 비율을 확정하며;Step 502: Determining the minimum power ratio among the power ratios corresponding to each microwave frequency;
단계 504: 최소 파워 비율에 대응되는 극초단파 주파수를 조회해 목표 극초단파 주파수를 확정한다.Step 504: Determine the target microwave frequency by querying the microwave frequency corresponding to the minimum power ratio.
상기 설계에서, 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율을 수치 크기에 따라 순서를 배열하여, 수치가 가장 작은 파워 비율에 대응되는 운행 주파수를 목표 극초단파 주파수로 이용한다. 주파수 비율을 계산해 주파수 스윕 단계의 오차 부분을 필터링하여 목표 극초단파 주파수 선별의 정확성을 향상함으로써, 목표 극초단파 주파수에 대한 오판을 피할 수 있다.In the above design, the power ratios corresponding to each microwave frequency are arranged according to numerical size, and the operating frequency corresponding to the power ratio with the smallest numerical value is used as the target microwave frequency. By calculating the frequency ratio and filtering the error portion of the frequency sweep step, the accuracy of target microwave frequency selection can be improved, thereby avoiding misjudgment of the target microwave frequency.
도 6에 도시된 바와 같이, 상기 어느 한 실시예에서, 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별하는 단계는 상세하게 아래의 단계를 포함한다.As shown in FIG. 6, in one of the above embodiments, the step of selecting a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the feedback power value corresponding to each microwave frequency includes the following steps in detail.
단계 602: 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값 중의 피드백 파워 최소 값을 확정하며;Step 602: Determining the minimum feedback power value among the feedback power values corresponding to each microwave frequency;
단계 604: 피드백 파워 최소 값에 대응되는 극초단파 주파수를 조회해 목표 극초단파 주파수를 확정한다.Step 604: The target microwave frequency is determined by querying the microwave frequency corresponding to the minimum feedback power value.
상기 설계에서, 직접 피드백 파워 값을 수치 크기에 따라 순서를 배열하여 피드백 파워 최소 값을 확정한다. 피드백 파워 최소 값에 대응되는 극초단파 주파수를 목표 극초단파 주파수로 이용한다.In the above design, the minimum feedback power value is determined by directly arranging the feedback power values in order according to numerical magnitude. The microwave frequency corresponding to the minimum feedback power value is used as the target microwave frequency.
극초단파 생성장치는 상이한 주파수의 극초단파를 출력할 때 운행 파워의 변화가 비교적 작으며, 따라서, 피드백 파워 최소 값에 대응되는 극초단파 주파수를 직접 선택해 목표 극초단파 주파수로 이용하여, 목표 극초단파 주파수 선택의 정확성을 보장하는 전제하에 데이터 처리량을 감소하며, 이 점은 이해할 수 있을 것이다.When the microwave generator outputs microwaves of different frequencies, the change in operating power is relatively small. Therefore, the microwave frequency corresponding to the minimum value of the feedback power is directly selected and used as the target microwave frequency, ensuring the accuracy of target microwave frequency selection. Under the premise that data throughput is reduced, this point can be understood.
실시예 2:Example 2:
도 7에 도시된 바와 같이, 본 출원에 따른 두 번째 실시예는 에어로졸 생성 장치의 제어방법을 제공하며, 에어로졸 생성 장치는 무화 챔버와 극초단파 어셈블리를 포함하고, 무화 챔버는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하고, 극초단파 어셈블리는 극초단파를 무화 챔버로 피드-인하는 데 사용한다.As shown in Figure 7, a second embodiment according to the present application provides a method of controlling an aerosol generating device, the aerosol generating device comprising an atomizing chamber and a microwave assembly, the atomizing chamber receiving an aerosol generating substrate. The microwave assembly is used to feed-in microwaves to the atomization chamber.
에어로졸 생성 장치의 제어방법은 아래의 단계를 포함한다.The control method of the aerosol generating device includes the following steps.
단계 702: 운행 시작 명령에 호응해 극초단파 어셈블리를 제어하여 각각의 극초단파 주파수에 의해 주파수 스윕 운행을 진행하도록 하며;Step 702: In response to the operation start command, the microwave assembly is controlled to perform frequency sweep operation according to each microwave frequency;
단계 704: 주파수 스윕 운행과정에서 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측하며;Step 704: Detecting the feedback power value of the feedback signal corresponding to each microwave frequency during the frequency sweep operation;
단계 706: 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별하며;Step 706: Select a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the feedback power value corresponding to each microwave frequency;
단계 708: 설정 주파수 범위를 획득하며;Step 708: Obtain a set frequency range;
단계 710: 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최소 값보다 작은지 여부를 판단하고, 판단 결과가 그럴 경우, 단계 718을 실행하고, 판단 결과가 아닐 경우, 단계 712를 실행하며;Step 710: Determine whether the target microwave frequency is less than the minimum value in the set frequency range, if the judgment result is yes, execute step 718, if the judgment result is not, execute step 712;
단계 712: 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 내의 최대 값보다 큰지 여부를 판단하고, 판단 결과가 그럴 경우, 단계 720을 실행하고, 판단 결과가 아닐 경우, 단계 714를 실행하며;Step 712: Determine whether the target microwave frequency is greater than the maximum value within the set frequency range, if the judgment result is yes, execute step 720, otherwise execute step 714;
단계 714: 설정 주파수 범위 내의 주파수 평균 값을 획득하며;Step 714: Obtaining the average frequency value within the set frequency range;
단계 716: 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위의 주파수 평균 값보다 큰지 여부를 판단하고, 판단 결과가 그럴 경우, 단계 720을 실행하고, 판단 결과가 아닐 경우, 단계 718을 실행하며;Step 716: Determine whether the target microwave frequency is greater than the average frequency value of the set frequency range, if the judgment result is yes, execute step 720, otherwise execute step 718;
단계 718: 무화 챔버가 빈 캐비티 상태에 놓여 있을 경우, 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시키며;Step 718: When the atomization chamber is in an empty cavity state, control the microwave assembly to stop operation;
단계 720: 무화 챔버 중 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있을 경우, 극초단파 어셈블리를 제어해 목표 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하도록 한다.Step 720: When the aerosol generating substrate is provided in the atomization chamber, the microwave assembly is controlled to feed the microwave into the atomization chamber according to the target microwave frequency.
상기 실시예에서, 에어로졸 생성 장치가 운행 시작 명령을 수신하였을 경우, 극초단파 어셈블리를 제어해 무화 챔버에 대해 주파수 스윕 검측을 진행하도록 하여 극초단파 어셈블리가 운행하는 목표 극초단파 주파수, 즉, 극초단파 어셈블리가 현재 상태 하에서의 무화 챔버에 극초단파를 피드-인하는 최적 주파수 지점을 확정한다. 주파수 스윕이 운행하는 과정에서 극초단파 어셈블리를 제어해 차례대로 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하고, 이와 동시에, 대응되는 피드백 신호를 수신해 피드백 신호 각각의 피드백 파워 값을 확정한다.In the above embodiment, when the aerosol generating device receives the operation start command, the microwave assembly is controlled to perform frequency sweep detection for the atomization chamber to determine the target microwave frequency at which the microwave assembly operates, that is, the microwave assembly is operating under the current state. Determine the optimal frequency point for feeding microwaves into the atomization chamber. During the frequency sweep operation, the microwave assembly is controlled to feed the microwaves into the atomization chamber according to each microwave frequency in turn, and at the same time, the corresponding feedback signal is received to determine the feedback power value of each feedback signal. do.
피드백 파워 값은 무화 챔버의 극초단파 흡수 효과를 반영할 수 있으며, 피드백 파워 값이 작을수록 무화 챔버의 극초단파 흡수 효과가 더 강하다는 것을 의미하고, 피드백 파워 값이 클수록 무화 챔버의 극초단파 흡수 효과가 더 나쁘다는 것을 의미하며, 이 점은 이해할 수 있을 것이다. 극초단파 흡수 효과가 가장 강한 피드백 파워 값에 대응되는 극초단파 주파수를 선택해 목표 극초단파 주파수로 이용한다.The feedback power value can reflect the microwave absorption effect of the atomization chamber, the smaller the feedback power value means the stronger the microwave absorption effect of the atomization chamber, the larger the feedback power value, the worse the microwave absorption effect of the atomization chamber. This means that you will understand this point. The microwave frequency corresponding to the feedback power value with the strongest microwave absorption effect is selected and used as the target microwave frequency.
에어로졸 생성 장치를 출하하기 전에 설정 주파수 범위 중의 주파수를 설정한다. 여기에서, 설정 주파수 범위 중의 최대 값은 무화 챔버에 에어로졸 생성 기질이 수용되었을 때 극초단파 어셈블리가 극초단파를 출력하는 최적 주파수 값이다. 설정 주파수 범위 중의 최소 값은 무화 챔버가 빈 캐비티 상태에 놓여 있을 때 극초단파 어셈블리가 극초단파를 출력하는 최적 주파수 값이다.Before shipping the aerosol generating device, set the frequency within the set frequency range. Here, the maximum value in the set frequency range is the optimal frequency value at which the microwave assembly outputs microwaves when the aerosol-generating substrate is accommodated in the atomization chamber. The minimum value in the set frequency range is the optimal frequency value at which the microwave assembly outputs microwaves when the atomization chamber is in an empty cavity state.
목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최소 값보다 작은 것으로 검측되었을 경우, 무화 챔버가 현재 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되지 않은 것으로 판정하고, 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시켜 무화 챔버의 건식 가열을 피한다.If the target microwave frequency is detected to be less than the minimum value in the set frequency range, it is determined that the atomization chamber is currently in an empty cavity state, that is, it is determined that no aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber, and the microwave assembly Control and stop operation to avoid dry heating of the atomization chamber.
목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최대 값보다 큰 것으로 검측되었을 경우, 무화 챔버 내에 에어로졸 생성 기질이 수용된 것으로 판정한다. 이 경우, 극초단파 어셈블리를 제어해 주파수 스윕에 의해 획득한 목표 극초단파 주파수를 선별하고 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하도록 함으로써, 에어로졸 생성 기질의 극초단파 흡수 효율을 향상하고 에어로졸 생성 기질의 무화 효과를 향상한다.If the target microwave frequency is detected to be greater than the maximum value in the set frequency range, it is determined that the aerosol-generating substrate is contained in the atomization chamber. In this case, the microwave assembly is controlled to select the target microwave frequency obtained by frequency sweep and feed the microwaves into the atomization chamber, thereby improving the microwave absorption efficiency of the aerosol-generating substrate and improving the atomization effect of the aerosol-generating substrate. do.
목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위의 주파수 평균 값보다 작은 것으로 검측되었을 경우, 무화 챔버가 현재 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되지 않은 것으로 판정하고, 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시켜 무화 챔버의 건식 가열을 피한다.If the target microwave frequency is detected to be less than the average frequency value of the set frequency range, it is determined that the atomization chamber is currently in an empty cavity state, that is, the aerosol generating substrate is not accommodated inside the atomization chamber, and the microwave The assembly is controlled to stop operation to avoid dry heating of the atomization chamber.
목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 주파수 평균 값보다 큰 것으로 검측되었을 경우, 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 것으로 판정한다. 이 경우, 극초단파 어셈블리를 제어해 주파수 스윕에 의해 획득한 목표 극초단파 주파수를 선별하고 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하도록 함으로써, 에어로졸 생성 기질의 극초단파 흡수 효율을 향상하고 에어로졸 생성 기질의 무화 효과를 향상한다.If the target microwave frequency is detected to be greater than the average frequency value in the set frequency range, it is determined that the aerosol-generating substrate is contained within the atomization chamber. In this case, the microwave assembly is controlled to select the target microwave frequency obtained by frequency sweep and feed the microwaves into the atomization chamber, thereby improving the microwave absorption efficiency of the aerosol-generating substrate and improving the atomization effect of the aerosol-generating substrate. do.
목표 극초단파 주파수가 극초단파 주파수 범위 내에 있는 것으로 검측되었을 경우, 더 나아가, 극초단파 주파수 범위의 평균 값과 목표 극초단파 주파수의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부 에어로졸 생성 기질의 상태를 검측한다. 검측 오차로 인한 오판을 피해 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 구비되었는지 여부를 판단하는 정확성을 더 향상함으로써, 오판으로 빈 무화 챔버에 대해 극초단파 가열을 진행하는 상황의 발생을 피해 에어로졸 생성 장치가 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 무화 챔버에 대해 극초단파 가열을 진행하지 않도록 보장하는 동시에, 사용자의 사용 느낌을 향상한다.When the target microwave frequency is detected to be within the microwave frequency range, the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber is further detected based on the numerical relationship between the average value of the microwave frequency range and the target microwave frequency. By further improving the accuracy of determining whether an aerosol generating substrate is provided inside the atomization chamber to avoid misjudgments due to detection errors, the aerosol generating device avoids situations where microwave heating is performed on an empty atomization chamber due to misjudgment. It ensures that no microwave heating is applied to the atomization chamber while in use, while improving the user's feeling of use.
실시예 3:Example 3:
도 8에 도시된 바와 같이, 본 출원에 따른 세 번째 실시예는 에어로졸 생성 장치의 제어장치(800)를 제공하며, 에어로졸 생성 장치는 무화 챔버와 극초단파 어셈블리를 포함하고, 무화 챔버는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하고, 극초단파 어셈블리는 무화 챔버에 극초단파를 피드-인하는 데 사용한다.As shown in Figure 8, a third embodiment according to the present application provides a control device 800 of an aerosol generating device, the aerosol generating device comprising an atomizing chamber and a microwave assembly, the atomizing chamber containing an aerosol generating substrate. It is used to receive and the microwave assembly is used to feed-in microwaves to the atomization chamber.
에어로졸 생성 장치의 제어장치(800)는 아래와 같이,The control device 800 of the aerosol generating device is as follows,
극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕 운행을 진행하도록 하여 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 조회하는 데 사용하는 조회유닛(802); A query unit 802 used to control the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range and to query the target microwave frequency within the microwave frequency range;
목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 데 사용하는 검측유닛(804);A detection unit 804 used to determine the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range;
에어로졸 생성 기질의 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리의 운행 상태를 제어하는 데 사용하는 제어유닛(806);을 포함한다.It includes a control unit 806 used to control the running state of the microwave assembly based on the state of the aerosol-generating substrate.
본 실시예가 제공한 제어장치는 에어로졸 생성 장치를 제어하는 데 사용하고, 에어로졸 생성 장치는 에어로졸 생성 기질을 가열하는 데 사용하고, 여기에서, 에어로졸 생성 기질은 고체 에어로졸 생성 기질 또는 액상 에어로졸 생성 기질일 수 있다. 에어로졸 생성 장치의 내부에는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하는 무화 챔버가 설치되고, 극초단파 어셈블리는 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인할 수 있고, 에어로졸 생성 기질은 극초단파의 작용하에 열을 받아 무화를 구현한다.The control device provided by this embodiment is used to control the aerosol-generating device, and the aerosol-generating device is used to heat the aerosol-generating substrate, wherein the aerosol-generating substrate can be a solid aerosol-generating substrate or a liquid aerosol-generating substrate. there is. An atomization chamber used to accommodate an aerosol-generating substrate is installed inside the aerosol-generating device, and the microwave assembly can feed-in microwaves into the atomizing chamber, and the aerosol-generating substrate is heated under the action of the microwave to achieve atomization. Implement.
조회유닛(802)은 무화 시작 명령을 수신하고 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕 운행을 진행하도록 한다. 상세하게, 차례대로 극초단파 주파수 범위 내의 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하도록 한다. 무화 챔버 내부 파라미터의 변화에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 확정하고, 목표 극초단파 주파수는 현재 무화 챔버 상태 하에 극초단파 어셈블리가 운행하는 최적 주파수 지점이고, 즉, 무화 챔버 내부의 극초단파 흡수량이 가장 큰 극초단파 주파수이다. 검측유닛(804)은 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 판단할 수 있고, 즉, 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 판단할 수 있다. 제어유닛(806)은 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리의 운행을 제어한다. 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 것이 검측되었을 경우, 극초단파 어셈블리의 운행을 정상으로 제어해 에어로졸 생성 기질에 대해 가열 무화를 진행하고, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태인 것이 검측되었을 경우, 극초단파를 빈 캐비티 내부로 피드-인함으로 인하여 에어로졸 생성 장치의 수용 수명이 단축되는 것을 피하도록 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시킨다. 본 출원은 극초단파 어셈블리의 주파수 스윕 운행을 통해 무화 챔버의 현재 상태 하에서의 목표 극초단파 주파수를 확정함으로써, 무화 챔버 내부 에어로졸 생성 기질이 제자리에 있는지 여부를 검측해 빈 캐비티 상태 하에서의 무화 챔버에 극초단파를 피드-인하게 되는 것을 피하여 에어로졸 생성 장치의 사용 수명을 늘린다.The inquiry unit 802 receives the atomization start command and controls the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range. In detail, the microwave assembly is controlled by each microwave frequency within the microwave frequency range in turn to feed-in the microwave into the atomization chamber. Based on the change in the internal parameters of the atomization chamber, the target microwave frequency in the microwave frequency range is determined, and the target microwave frequency is the optimal frequency point at which the microwave assembly operates under the current atomization chamber condition, that is, the microwave absorption amount inside the atomization chamber is the greatest. It is a microwave frequency. The detection unit 804 can determine the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range, that is, determine whether the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber. You can. The control unit 806 controls the operation of the microwave assembly based on the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber. If it is detected that an aerosol-generating substrate is contained inside the atomization chamber, the operation of the microwave assembly is controlled normally to proceed with heating and atomization of the aerosol-generating substrate, and if it is detected that the atomization chamber is in an empty cavity, the microwave is applied to the empty cavity. The microwave assembly is controlled and shut down to avoid shortening the service life of the aerosol generating device due to internal feed-in. This application determines the target microwave frequency under the current state of the atomization chamber through the frequency sweep operation of the microwave assembly, detects whether the aerosol generating substrate inside the atomization chamber is in place, and feeds and cuts microwaves into the atomization chamber under the empty cavity state. Increase the service life of aerosol generating devices by avoiding
무화 챔버가 빈 캐비티 상태이고 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 상태일 경우, 주파수 스윕을 통해 확정한 목표 극초단파 주파수의 차이가 비교적 크기 때문에, 주파수 스윕으로 획득한 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계는 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된지 여부를 정확하게 판단하도록 할 수 있으며, 이 점은 이해할 수 있을 것이다.When the atomization chamber is in an empty cavity state and the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber, the difference between the target microwave frequency determined through the frequency sweep is relatively large, so the target microwave frequency and the set frequency range obtained through the frequency sweep are The relationship can be used to accurately determine whether an aerosol-generating substrate is contained within the atomization chamber, and this will be appreciated.
상기 실시예에서, 검측유닛은 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최소 값보다 작은 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 데도 사용하며;In the above embodiment, the detection unit is also used to determine that the aerosol generating substrate in the atomization chamber is in an empty state based on the target microwave frequency being less than the minimum value in the set frequency range;
검측유닛은 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최대 값보다 큰 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 데도 사용하며;The detection unit is also used to determine that the aerosol generating substrate in the atomization chamber is in a prepared state based on the target microwave frequency being greater than the maximum value in the set frequency range;
검측유닛은 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 내에 있는 데 기반해 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 주파수 평균 값의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 데도 사용한다.Based on the fact that the target microwave frequency is within the set frequency range, the detection unit is also used to determine the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the frequency average value of the set frequency range.
상기 실시예에서, 설정 주파수 범위 중의 최대 값은 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 경우의 최적 주파수 지점이고, 설정 주파수 범위 중의 최소 값은 무화 챔버가 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 경우, 즉, 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 경우의 최적 주파수 지점이다.In the above embodiment, the maximum value in the set frequency range is the optimal frequency point when the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is in an empty state, and the minimum value in the set frequency range is when the atomization chamber is in an empty cavity state, i.e. , is the optimal frequency point when the aerosol-generating substrate is in an unprepared state.
목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최소 값보다 작은 것으로 검측되었을 경우, 무화 챔버가 현재 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버에 있지 않는 것으로 판정한다.When the target microwave frequency is detected to be less than the minimum value in the set frequency range, it is determined that the atomization chamber is currently in an empty cavity state, that is, the aerosol-generating substrate is not in the atomization chamber.
목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최대 값보다 큰 것으로 검측되었을 경우, 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 판정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버 내부에 위치한 것으로 판정한다.When the target microwave frequency is detected to be greater than the maximum value in the set frequency range, it is determined that the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber is in a prepared state, that is, it is determined that the aerosol-generating substrate is located inside the atomization chamber.
목표 극초단파 주파수가 극초단파 주파수 범위에 있는 것으로 검측되었을 경우, 더 나아가, 극초단파 주파수 범위의 평균 값과 목표 극초단파 주파수의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부 에어로졸 생성 기질의 상태를 검측한다.When the target microwave frequency is detected to be in the microwave frequency range, the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber is further detected based on the numerical relationship between the average value of the microwave frequency range and the target microwave frequency.
목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위 중의 수치를 대조함으로써, 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 판단하는 정확성을 향상한다. 상기 검측방식을 통해 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 정확하게 검측해 오판으로 빈 무화 챔버에 대해 극초단파 가열을 진행하는 상황의 발생을 피할 수 있다.By comparing the target microwave frequency with the values within the set frequency range, the accuracy of determining whether the aerosol-generating substrate is contained within the atomization chamber is improved. Through the above detection method, it is possible to accurately detect whether an aerosol-generating substrate is contained within the atomization chamber and avoid situations in which microwave heating is performed on an empty atomization chamber due to a misjudgment.
무엇보다도, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 경우와 무화 챔버에 에어로졸 생성 기질을 수용한 상태에 놓여 있는 경우는 최적 주파수 지점이 상이하고, 여기에서, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태 하에 놓여 있는 경우의 최적 주파수 지점은 a이고, 무화 챔버가 에어로졸 생성 기질을 수용한 상태에 놓여 있는 경우의 최적 주파수 지점은 b이고, a와 b 간의 차이가 25MHZ 내지 35MHZ이기 때문에, 주파수 스윕을 통해 획득한 목표 극초단파 주파수는 통상적으로 a±2MHZ 또는 b±2MHZ이다. 따라서, 설정 주파수 범위를 a 내지 b로 설정하고, 목표 극초단파 주파수와 a 및 b의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 정확하게 판단할 수 있다.Above all, the optimal frequency point is different when the atomization chamber is placed in an empty cavity state and when the atomization chamber is placed in a state containing an aerosol-generating substrate, wherein the optimal frequency point is different when the atomization chamber is placed in an empty cavity state. The optimal frequency point is a, and the optimal frequency point when the atomization chamber is placed in a state of receiving the aerosol-generating substrate is b, and since the difference between a and b is 25 MHZ to 35 MHZ, the target microwave frequency obtained through frequency sweep is typically a±2MHZ or b±2MHZ. Therefore, the set frequency range can be set to a to b, and the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber can be accurately determined based on the numerical relationship between the target microwave frequency and a and b.
상기 어느 한 실시예에서, 검측유닛은 목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 큰 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여져 있는 것으로 확정하는 데도 사용하며;In one of the above embodiments, the detection unit is also used to determine that the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is in a prepared state based on the target microwave frequency being greater than the frequency average value;
검측유닛은 목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 작거나 같은 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여져 있는 것으로 확정하는 데도 사용한다.The detection unit is also used to determine that the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is in an empty state based on the target microwave frequency being less than or equal to the average frequency value.
상기 실시예에서, 목표 극초단파 주파수가 극초단파 주파수 범위 내에 있는 것이 검측되었을 경우, 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 주파수 평균 값의 수치관계를 판단하고, 상기 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 더 판단한다.In the above embodiment, when it is detected that the target microwave frequency is within the microwave frequency range, the numerical relationship between the target microwave frequency and the average frequency value of the set frequency range is determined, and the aerosol generating substrate inside the atomization chamber is determined based on the numerical relationship. Further determine the state of availability.
목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 큰 것이 검측되었을 경우, 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버에 위치한 것으로 확정한다.When it is detected that the target microwave frequency is greater than the average frequency value, it is determined that the aerosol-generating substrate in the atomizing chamber is in a prepared state, that is, it is determined that the aerosol-generating substrate is located in the atomizing chamber.
목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 작거나 같은 것이 검측되었을 경우, 무화 챔버가 현재 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 것으로 확정하고, 즉, 에어로졸 생성 기질이 무화 챔버에 있지 않는 것으로 확정한다.When it is detected that the target microwave frequency is less than or equal to the frequency average value, it is determined that the atomization chamber is currently in an empty cavity state, that is, the aerosol-generating substrate is not in the atomization chamber.
목표 극초단파 주파수가 극초단파 주파수 범위 내에 있을 경우, 목표 극초단파 주파수와 주파수 평균 값의 수치를 대조해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 정확하게 판정할 수 있다. 상기 검측방식을 통해 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용되었는지 여부를 정확하게 검측하고, 더 나아가, 에어로졸 생성 기질이 제자리에 있는지 여부를 검측하는 정확성을 향상해 오판으로 빈 무화 챔버에 대해 극초단파 가열을 진행하는 상황의 발생을 피할 수 있다.If the target microwave frequency is within the microwave frequency range, the status of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber can be accurately determined by comparing the target microwave frequency and the frequency average value. Through the above detection method, it is accurately detected whether the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber, and further, the accuracy of detecting whether the aerosol-generating substrate is in place is improved, and microwave heating is performed on the empty atomization chamber due to a misjudgment. You can avoid situations like this.
상기 어느 한 실시예에서, 제어유닛은 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 데 기반해 극초단파 어셈블리를 제어해 목표 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버로 피드-인하는 데도 사용하고;In one of the above embodiments, the control unit is further used to control the microwave assembly based on the presence of the aerosol-generating substrate to feed-in the microwave into the atomization chamber at a target microwave frequency;
제어유닛은 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 데 기반해 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시키고 알림 정보를 출력하는 데도 사용한다.The control unit is also used to control the microwave assembly to stop operation and output notification information based on the absence of an aerosol-generating substrate.
상기 실시예에서, 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있어 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 것이 검측된 상황에서, 이때 정상으로 에어로졸 생성 기질에 대해 극초단파 가열 무화를 진행할 수 있는 것으로 판정하고, 극초단파 어셈블리를 제어해 목표 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하도록 하고, 여기에서, 목표 극초단파 주파수는 극초단파 어셈블리가 주파수 스윕을 통해 확정한 극초단파 주파수이고, 목표 극초단파 주파수의 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하여, 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질로 하여금 최적 무화 상태에 도달하도록 할 수 있고, 즉, 에어로졸 생성 기질에서 목표 극초단파 주파수의 극초단파 흡수 효과가 가장 좋아지도록 할 수 있어, 에어로졸 생성 장치의 에너지 소모를 감소할 뿐만 아니라, 에어로졸 생성 기질의 무화 효과를 더 향상하고, 에어로졸 생성 기질이 열을 균일하게 받지 않아 발생되는 유해 물질을 감소한다.In the above example, in a situation where it is detected that the aerosol-generating substrate is in a prepared state and the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomization chamber, at this time, it is determined that microwave heating atomization can normally be performed on the aerosol-generating substrate, and the microwave assembly is controlled to feed-in the microwaves into the atomization chamber according to the target microwave frequency, where the target microwave frequency is the microwave frequency determined by the microwave assembly through a frequency sweep, and the microwaves of the target microwave frequency are fed into the atomization chamber. By feeding, the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber can be made to reach the optimal atomization state, that is, the microwave absorption effect of the target microwave frequency can be best achieved in the aerosol-generating substrate, thereby consuming the energy of the aerosol generating device. Not only does it reduce the atomization effect of the aerosol-generating substrate, it also reduces harmful substances generated because the aerosol-generating substrate does not receive heat uniformly.
에어로졸 생성 기질이 미구비 상태로 놓여 있는 것으로 검측된 경우, 무화 챔버는 빈 캐비티 상태이다. 이 경우, 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시켜, 극초단파 어셈블리가 계속 극초단파를 빈 캐비티 상태에 놓여져 있는 무화 챔버로 피드-인함으로 인하여 에어로졸 생성 장치의 사용 수명이 단축되는 것을 피한다. 또한, 무화 챔버가 빈 캐비티 상태에 놓여 있는 것으로 검측된 경우, 알림 정보를 출력해 사용자에 에어로졸 생성 기질을 무화 챔버에 배치하도록 알려 사용자의 사용 느낌을 향상한다.If it is detected that the aerosol generating substrate is lying empty, the atomization chamber is in an empty cavity state. In this case, the microwave assembly is controlled to stop operation to avoid shortening the service life of the aerosol generating device due to the microwave assembly continuously feeding microwaves into the atomization chamber placed in an empty cavity. In addition, when the atomization chamber is detected to be in an empty cavity state, notification information is output to inform the user to place the aerosol-generating substrate in the atomization chamber, thereby improving the user's feeling of use.
상기 어느 한 실시예에서, 제어유닛은 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 중 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 발사하는 데도 사용하고;In one of the above embodiments, the control unit is used to control the microwave assembly to emit microwaves into the atomization chamber at respective microwave frequencies in the microwave frequency range;
검측유닛은 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측하는 데도 사용하고;The detection unit is also used to detect the feedback power value of the feedback signal corresponding to each microwave frequency;
조회유닛은 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별하는 데도 사용한다.The inquiry unit is also used to select target microwave frequencies in the microwave frequency range based on the feedback power value corresponding to each microwave frequency.
상기 실시예에서, 극초단파 어셈블리는 극초단파 생성장치와 극초단파 안테나를 포함하고, 극초단파 생성장치는 상응되는 주파수의 극초단파를 생성할 수 있고, 극초단파 안테나는 상응되는 주파수의 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인할 수 있다. 극초단파가 무화 챔버에 진입한 후, 극초단파 안테나는 극초단파에 상응되는 피드백 신호를 수신할 수 있다. 극초단파 어셈블리는 제1 파워 검측장치와 제2 파워 검측장치를 더 포함하고, 여기에서, 제1 파워 검측장치는 극초단파 생성장치와 상호 연결해 극초단파 생성장치의 운행과정에서 극초단파 생성장치의 운행 파워 값을 수집할 수 있고, 제2 파워 검측장치는 극초단파 안테나와 상호 연결해 극초단파 안테나가 수신한 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측할 수 있다.In the above embodiment, the microwave assembly includes a microwave generator and a microwave antenna, the microwave generator can generate microwaves of a corresponding frequency, and the microwave antenna can feed-in the microwaves of the corresponding frequency into the atomization chamber. You can. After the microwave enters the atomization chamber, the microwave antenna can receive a feedback signal corresponding to the microwave. The microwave assembly further includes a first power detection device and a second power detection device, wherein the first power detection device is interconnected with the microwave generation device and collects the operating power value of the microwave generation device during the operation of the microwave generation device. The second power detection device can be connected to the microwave antenna to detect the feedback power value of the feedback signal received by the microwave antenna.
극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내의 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하도록 하고, 즉, 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수가 상이한 극초단파를 차례대로 무화 챔버 내부로 발사한다. 극초단파 어셈블리가 극초단파를 발사하는 과정에서 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 신호를 동시에 수신하고, 제2 파워 검측장치를 통해 피드백 신호 각각의 피드백 파워 값을 확정한다. 검측된 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별해, 무화 챔버 내부의 흡수 효과가 가장 좋은 목표 극초단파 주파수를 확정한다. 주파수 스윕 운행 방식을 통해 극초단파 주파수 범위 내의 극초단파를 선별해 현재 무화 챔버 내부의 흡수 효과가 가장 좋은 목표 극초단파 주파수를 확정한다. 무화 챔버 내부에 에어로졸 생성 기질이 수용된 상황에서 목표 극초단파 주파수의 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하여 에어로졸 생성 기질의 무화 효과를 향상할 수 있다.The microwave assembly is controlled to feed-in microwaves into the atomization chamber according to each microwave frequency within the microwave frequency range. That is, the microwave assembly is controlled to fire microwaves with different microwave frequencies into the atomization chamber in sequence. In the process of emitting microwave waves, the microwave assembly simultaneously receives feedback signals corresponding to each microwave frequency, and determines the feedback power value of each feedback signal through the second power detection device. Based on the measured feedback power value, the target microwave frequency within the microwave frequency range is selected, and the target microwave frequency with the best absorption effect inside the atomization chamber is determined. Through the frequency sweep operation method, microwaves within the microwave frequency range are selected and the target microwave frequency with the best absorption effect inside the current atomization chamber is determined. In a situation where the aerosol-generating substrate is accommodated inside the atomizing chamber, the atomization effect of the aerosol-generating substrate can be improved by feeding microwaves of the target microwave frequency into the atomizing chamber.
상기 어느 한 실시예에서, 검측유닛은 극초단파 어셈블리가 출력한 극초단파 주파수 각각의 극초단파에 대응되는 운행 파워 값을 검측하는 데도 사용하고;In one of the above embodiments, the detection unit is also used to detect the operating power value corresponding to the microwave at each microwave frequency output by the microwave assembly;
제어장치는 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값과 운행 파워 값의 비율을 계산해 파워 비율을 획득하는 데 사용하는 계산유닛을 더 포함하고,The control device further includes a calculation unit used to obtain a power ratio by calculating the ratio of the feedback power value and the running power value corresponding to each microwave frequency,
조회유닛은 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선택하는 데도 사용한다.The inquiry unit is also used to select a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the power ratio corresponding to each microwave frequency.
상기 실시예에서, 제1 파워 검측장치를 통해 극초단파 주파수 각각에 대응되는 운행 파워 값을 모니터링한다. 운행 파워 값 및 대응되는 피드백 파워 값의 비율을 계산해 파워 비율을 획득할 수 있다. 파워 비율의 계산 공식은 아래와 같이,In the above embodiment, the operating power value corresponding to each microwave frequency is monitored through the first power detection device. The power ratio can be obtained by calculating the ratio of the driving power value and the corresponding feedback power value. The formula for calculating power ratio is as follows:
N=P1/P2이고,N=P 1 /P 2 ,
여기에서, P1은 피드백 파워 값이고 P2는 운행 파워 값이고 N은 파워 비율이다.Here, P 1 is the feedback power value, P 2 is the running power value, and N is the power ratio.
N의 수치가 작을수록 무화 챔버 내부의 극초단파 커플링 효과가 더 좋고, 즉, 무화 챔버 내부의 극초단파 흡수 효과가 더 좋다는 것을 의미한다. N의 수치가 클수록 무화 챔버 내부의 극초단파 커플링 효과가 더 나쁘고, 즉, 무화 챔버 내부의 극초단파 흡수 효과가 더 나쁘다는 것을 의미한다.The smaller the value of N, the better the microwave coupling effect inside the atomization chamber, that is, the better the microwave absorption effect inside the atomization chamber. The larger the value of N, the worse the microwave coupling effect inside the atomization chamber, that is, the worse the microwave absorption effect inside the atomization chamber.
상기 어느 한 실시예에서, 조회유닛은 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율 중의 최소 파워 비율을 확정하는 데도 사용하고; 조회유닛은 최소 파워 비율에 대응되는 극초단파 주파수를 조회해 목표 극초단파 주파수를 확정하는 데도 사용한다.In one of the above embodiments, the inquiry unit is also used to determine the minimum power ratio among the power ratios corresponding to each microwave frequency; The query unit is also used to determine the target microwave frequency by querying the microwave frequency corresponding to the minimum power ratio.
상기 실시예에서, 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율을 수치 크기에 따라 순서를 배열하여, 수치가 가장 작은 파워 비율에 대응되는 운행 주파수를 목표 극초단파 주파수로 이용한다. 주파수 비율을 계산해 주파수 스윕 단계의 오차 부분을 필터링하여 목표 극초단파 주파수 선별의 정확성을 향상함으로써, 목표 극초단파 주파수에 대한 오판을 피할 수 있다.In the above embodiment, the power ratios corresponding to each microwave frequency are arranged in numerical order, and the operating frequency corresponding to the power ratio with the smallest numerical value is used as the target microwave frequency. By calculating the frequency ratio and filtering the error portion of the frequency sweep step, the accuracy of target microwave frequency selection can be improved, thereby avoiding misjudgment of the target microwave frequency.
상기 어느 한 실시예에서, 조회유닛은 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값 중의 피드백 파워 최소 값을 확정하는 데도 사용하고; 조회유닛은 피드백 파워 최소 값에 대응되는 극초단파 주파수를 조회해 목표 극초단파 주파수를 확정하는 데도 사용한다. 상기 실시예에서, 직접 피드백 파워 값을 수치 크기에 따라 순서를 배열하여 피드백 파워 최소 값을 확정한다. 피드백 파워 최소 값에 대응되는 극초단파 주파수를 목표 극초단파 주파수로 이용한다.In one of the above embodiments, the inquiry unit is also used to determine the minimum feedback power value among the feedback power values corresponding to each microwave frequency; The query unit is also used to determine the target microwave frequency by querying the microwave frequency corresponding to the minimum feedback power value. In the above embodiment, the minimum feedback power value is determined by directly arranging the feedback power values in order according to numerical magnitude. The microwave frequency corresponding to the minimum feedback power value is used as the target microwave frequency.
극초단파 생성장치는 상이한 주파수의 극초단파를 출력할 때 운행 파워의 변화가 비교적 작으며, 따라서, 피드백 파워 최소 값에 대응되는 극초단파 주파수를 직접 선택해 목표 극초단파 주파수로 이용하여, 목표 극초단파 주파수 선택의 정확성을 보장하는 전제하에 데이터 처리량을 감소하며, 이 점은 이해할 수 있을 것이다.When the microwave generator outputs microwaves of different frequencies, the change in operating power is relatively small. Therefore, the microwave frequency corresponding to the minimum value of the feedback power is directly selected and used as the target microwave frequency, ensuring the accuracy of target microwave frequency selection. Under the premise that data throughput is reduced, this point can be understood.
실시예 4:Example 4:
도 9에 도시된 바와 같이, 본 출원에 따른 네 번째 실시예는 에어로졸 생성 장치(900)를 제공하며, 상기 에어로졸 생성 장치(900)는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하는 무화 챔버; 무화 챔버 내부로 극초단파를 피드-인하는 데 사용하는 극초단파 어셈블리(902);를 포함하며, 상기 어느 한 가능한 설계에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어장치(800)는 극초단파 어셈블리(902)와 상호 연결한다.As shown in Figure 9, a fourth embodiment according to the present application provides an aerosol generating device (900) comprising: an atomization chamber used to contain an aerosol generating substrate; A microwave assembly 902 used to feed-in microwaves into the atomization chamber, wherein the control device 800 of the aerosol generating device according to one of the above possible designs is interconnected with the microwave assembly 902.
본 실시예가 제공한 에어로졸 생성 장치는 무화 챔버, 극초단파 어셈블리(902) 및 에어로졸 생성 장치의 제어장치(800)를 포함한다. 여기에서, 에어로졸 생성 장치는 에어로졸 생성 기질을 가열하는 데 사용하고, 여기에서, 에어로졸 생성 기질은 고체 에어로졸 생성 기질 또는 액상 에어로졸 생성 기질일 수 있다. 에어로졸 생성 장치 내부에는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하는 무화 챔버가 설치되고, 극초단파 어셈블리(902)는 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인할 수 있고, 에어로졸 생성 기질은 극초단파의 작용하에 열을 받아 무화를 구현한다.The aerosol generating device provided by this embodiment includes an atomizing chamber, a microwave assembly 902, and a control device 800 of the aerosol generating device. Here, the aerosol-generating device is used to heat the aerosol-generating substrate, where the aerosol-generating substrate may be a solid aerosol-generating substrate or a liquid aerosol-generating substrate. An atomization chamber used to accommodate an aerosol-generating substrate is installed inside the aerosol generating device, and the microwave assembly 902 is capable of feeding microwaves into the atomizing chamber, and the aerosol-generating substrate is heated under the action of the microwave. Implements figment.
에어로졸 생성 장치의 제어장치(800)는 극초단파 어셈블리(902)와 상호 연결해 극초단파 어셈블리(902)의 운행을 제어한다. 에어로졸 생성 장치의 제어장치(800)는 상기 실시예의 어느 한 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어장치(800)를 선택하기 때문에, 상기 어느 한 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어장치(800)가 이룬 전부의 유익한 기술효과를 구비하며, 여기에서 다시 너무 많이 반복해 기재하지 않는다.The control device 800 of the aerosol generating device is interconnected with the microwave assembly 902 and controls the operation of the microwave assembly 902. Since the control device 800 of the aerosol generating device selects the control device 800 of the aerosol generating device according to any one of the above embodiments, the control device 800 of the aerosol generating device according to any of the above embodiments It has all the beneficial technical effects achieved and will not be repeated too much here.
실시예 5:Example 5:
도 10에 도시된 바와 같이, 본 출원에 따른 다섯 번째 실시예는 에어로졸 생성 장치(1000)를 제공하며, 상기 에어로졸 생성 장치(1000)는 프로그램 또는 명령이 저장된 메모리(1002); 메모리(1002)에 저장된 프로그램 또는 명령을 실행해 상기 실시예 1에 따른 어느 한 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법의 단계를 구현하는 프로세서(1004);를 포함한다. 따라서, 상기 어느 한 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법이 이룬 전부의 유익한 기술효과를 구비하며, 여기에서 다시 너무 많이 반복해 기재하지 않는다.As shown in Figure 10, the fifth embodiment according to the present application provides an aerosol generating device 1000, wherein the aerosol generating device 1000 includes a memory 1002 in which a program or command is stored; It includes a processor 1004 that executes a program or command stored in the memory 1002 to implement the steps of the control method of the aerosol generating device according to one embodiment according to the first embodiment. Accordingly, the control method of the aerosol generating device according to any of the above embodiments has all the beneficial technical effects achieved, which will not be described again too much here.
본 실시예가 제공한 에어로졸 생성 장치(1000)는 무화 챔버와 극초단파 어셈블리를 더 포함하고, 무화 챔버는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하고, 극초단파 어셈블리는 극초단파를 무화 챔버 내부로 피드-인하는 데 사용하고, 극초단파는 에어로졸 생성 기질은 에어로졸 생성 기질에 작용하여 에어로졸 생성 기질로 하여금 열을 받아 무화를 구현하도록 한다. 극초단파 어셈블리는 프로세서(1004)와 상호 연결하고, 프로세서(1004)는 에어로졸 생성 장치의 제어방법을 실행해 에어로졸 생성 장치(1000) 중의 극초단파 어셈블리를 제어한다.The aerosol generating device 1000 provided by this embodiment further includes an atomizing chamber and a microwave assembly, the atomizing chamber being used to receive the aerosol generating substrate, and the microwave assembly being used to feed-in the microwave into the atomizing chamber. In addition, the microwave acts on the aerosol-generating substrate to heat the aerosol-generating substrate and achieve atomization. The microwave assembly is interconnected with a processor 1004, and the processor 1004 executes a control method of the aerosol generating device to control the microwave assembly in the aerosol generating device 1000.
실시예 6:Example 6:
도 11에 도시된 바와 같이, 본 출원에 따른 여섯 번째 실시예는 에어로졸 생성 장치(100)를 제공하며, 상기 에어로졸 생성 장치(100)는 하우징(102), 무화 챔버(103), 극초단파 어셈블리(104)와 제어장치(105)를 포함한다.As shown in Figure 11, the sixth embodiment according to the present application provides an aerosol generating device (100), the aerosol generating device (100) comprising a housing (102), an atomization chamber (103), and a microwave assembly (104). ) and a control device 105.
무화 챔버(103)는 하우징(102) 내부에 설치되고, 무화 챔버(103)는 에어로졸 생성 기질(108)을 수용하는 데 사용하며;The atomization chamber 103 is installed inside the housing 102, and the atomization chamber 103 is used to accommodate the aerosol-generating substrate 108;
극초단파 어셈블리(104)는 극초단파를 무화 챔버(103) 내부로 피드-인하는 데 사용하며;Microwave assembly 104 is used to feed microwaves into the atomization chamber 103;
제어장치(105)는 극초단파 어셈블리(104)를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕 운행을 진행하도록 하여 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 조회하고; 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버(103) 내부의 에어로졸 생성 기질(108) 구비 상태를 확정하고; 에어로졸 생성 기질(108)의 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리(104)의 운행 상태를 제어하는 데 사용한다.The control device 105 controls the microwave assembly 104 to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range to query the target microwave frequency within the microwave frequency range; Determining the provision state of the aerosol generating substrate 108 inside the atomization chamber 103 based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range; It is used to control the running state of the microwave assembly (104) based on the provision state of the aerosol generating substrate (108).
본 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치(100)는 하우징(102), 무화 챔버(103), 극초단파 어셈블리(104)와 제어장치(105)를 포함한다. 하우징(102) 내부에는 무화 챔버(103)가 설치되고, 무화 챔버(103)는 에어로졸 생성 기질(108)을 수용하는 데 사용한다. 극초단파 어셈블리(104)의 출력단은 무화 챔버(103)와 상호 연통하고, 극초단파 어셈블리(104)는 전기가 통해 운행되어 극초단파를 무화 챔버(103) 내부로 피드-인하고, 에어로졸 생성 기질(108)은 극초단파의 작용하에 열을 받아 무화를 구현한다.The aerosol generating device 100 according to this embodiment includes a housing 102, an atomization chamber 103, a microwave assembly 104, and a control device 105. An atomization chamber 103 is installed inside the housing 102, and the atomization chamber 103 is used to accommodate the aerosol-generating substrate 108. The output end of the microwave assembly 104 is in communication with the atomization chamber 103, the microwave assembly 104 is electrically operated to feed-in the microwaves into the atomization chamber 103, and the aerosol generating substrate 108 is It is heated under the action of microwaves and achieves atomization.
제어장치(105)는 무화 시작 명령을 수신하고 극초단파 어셈블리(104)를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕 운행을 진행하도록 한다. 상세하게, 차례대로 극초단파 주파수 범위 내의 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파 어셈블리(104)를 제어해 극초단파를 무화 챔버(103) 내부로 피드-인하도록 한다. 무화 챔버(103) 내부의 파라미터 변화에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 확정하고, 목표 극초단파 주파수는 현재 무화 챔버(103) 상태 하에서 극초단파 어셈블리(104)가 운행하는 최적 주파수 지점이고, 즉, 무화 챔버(103) 내부의 극초단파 흡수량이 가장 큰 극초단파 주파수이다. 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버(103) 내부의 에어로졸 생성 기질(108) 구비 상태를 판단할 수 있고, 즉, 무화 챔버(103) 내부에 에어로졸 생성 기질(108)이 수용되었는지 여부를 판단할 수 있다. 다시, 무화 챔버(103) 내부의 에어로졸 생성 기질(108) 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리(104)의 운행을 제어한다. 무화 챔버(103) 내부에 에어로졸 생성 기질(108)이 수용된 것이 검측되었을 경우, 극초단파 어셈블리(104)의 운행을 정상으로 제어해 에어로졸 생성 기질(108)에 대한 가열 무화를 진행하고, 무화 챔버(103)가 빈 캐비티 상태인 것으로 검측되었을 경우, 극초단파가 빈 캐비티 내부로 피드-인되어 에어로졸 생성 장치(100)의 사용 수명이 단축되는 것을 피할 수 있도록, 극초단파 어셈블리(104)를 제어해 운행을 정지시킨다. 본 출원은 극초단파 어셈블리(104)의 주파수 스윕 운행을 통해 무화 챔버(103)의 현재 상태 하에서의 목표 극초단파 주파수를 확정함으로써, 무화 챔버(103) 내부 에어로졸 생성 기질(108)이 제자리에 있는지 여부를 검측해 빈 캐비티 상태 하에서의 무화 챔버(103)에 극초단파가 피드-인되는 것을 피하여 에어로졸 생성 장치(100)의 사용 수명을 늘린다.The control device 105 receives the atomization start command and controls the microwave assembly 104 to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range. In detail, the microwave assembly 104 is controlled by each microwave frequency within the microwave frequency range in turn to feed-in the microwaves into the atomization chamber 103. Based on the change in parameters inside the atomization chamber 103, the target microwave frequency in the microwave frequency range is determined, and the target microwave frequency is the optimal frequency point at which the microwave assembly 104 operates under the current state of the atomization chamber 103, that is, This is the microwave frequency at which the microwave absorption amount inside the atomization chamber 103 is greatest. Based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range, the state of the aerosol generating substrate 108 inside the atomizing chamber 103 can be determined, that is, the aerosol generating substrate 108 is present inside the atomizing chamber 103. You can judge whether it has been accepted or not. Again, the operation of the microwave assembly 104 is controlled based on the state of the aerosol generating substrate 108 inside the atomization chamber 103. When it is detected that the aerosol-generating substrate 108 is accommodated inside the atomization chamber 103, the operation of the microwave assembly 104 is normally controlled to heat and atomize the aerosol-generating substrate 108, and the atomization chamber 103 ) is detected to be in an empty cavity, the microwave assembly 104 is controlled to stop operation to avoid shortening the service life of the aerosol generating device 100 by feeding in the microwave into the empty cavity. . The present application detects whether the aerosol generating substrate 108 inside the atomization chamber 103 is in place by determining the target microwave frequency under the current state of the atomization chamber 103 through the frequency sweep operation of the microwave assembly 104. Avoiding microwaves being fed into the atomization chamber 103 under empty cavity conditions increases the service life of the aerosol generating device 100.
무화 챔버(103)가 빈 캐비티 상태이고 무화 챔버(103) 내부에 에어로졸 생성 기질(108)이 수용된 상태일 경우, 주파수 스윕을 통해 확정한 목표 극초단파 주파수의 차이가 비교적 크기 때문에, 주파수 스윕으로 획득한 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계는 무화 챔버(103) 내부에 에어로졸 생성 기질(108)이 수용되었는지 여부를 정확하게 판단하도록 할 수 있으며, 이 점은 이해할 수 있을 것이다.When the atomization chamber 103 is in an empty cavity state and the aerosol generating substrate 108 is accommodated inside the atomization chamber 103, the difference between the target microwave frequencies determined through the frequency sweep is relatively large, so the It will be understood that the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range can accurately determine whether or not the aerosol-generating substrate 108 is received within the atomization chamber 103.
도 12에 도시된 바와 같이, 상기 어느 한 실시예에서, 극초단파 어셈블리(104)는 극초단파 생성장치(1041), 극초단파 안테나(1042), 제1 파워 검측장치(1043)와 제2 파워 검측장치(1044)를 포함한다.As shown in FIG. 12, in one embodiment, the microwave assembly 104 includes a microwave generator 1041, a microwave antenna 1042, a first power detection device 1043, and a second power detection device 1044. ) includes.
극초단파 생성장치(1041)는 제어장치(105)와 상호 연결하며;The microwave generator 1041 is interconnected with the control device 105;
극초단파 안테나(1042)는 극초단파 생성 회로와 상호 연결하고, 극초단파 안테나(1042)는 극초단파 생성장치(1041)가 생성한 극초단파를 무화 챔버(103)로 발사해 피드백 신호를 수신하는 데 사용하며;The microwave antenna 1042 is interconnected with the microwave generation circuit, and the microwave antenna 1042 is used to receive a feedback signal by emitting microwaves generated by the microwave generator 1041 to the atomization chamber 103;
제1 파워 검측장치(1043)는 제어장치(105)와 상호 연결하고, 제1 파워 검측장치(1043)의 수집단은 극초단파 생성장치(1041)와 상호 연결하고, 극초단파 생성장치(1041)의 운행 파워 값을 검측하는 데 사용하며;The first power detection device 1043 is interconnected with the control device 105, the collection end of the first power detection device 1043 is interconnected with the microwave generation device 1041, and the operation of the microwave generation device 1041 Used to detect power value;
제2 파워 검측장치(1044)는 제어장치(105)와 상호 연결하고, 제2 파워 검측장치(1044)의 수집단은 극초단파 안테나(1042)와 상호 연결하고, 극초단파 안테나(1042)가 수신한 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측하는 데 사용한다.The second power detection device 1044 is interconnected with the control device 105, and the collection end of the second power detection device 1044 is interconnected with the microwave antenna 1042, and the feedback received by the microwave antenna 1042 It is used to detect the feedback power value of the signal.
상기 실시예에서, 극초단파 어셈블리(104)는 극초단파 생성장치(1041), 극초단파 안테나(1042), 제1 파워 검측장치(1043)와 제2 파워 검측장치(1044)를 포함한다. 극초단파 어셈블리(104)는 극초단파 생성장치(1041)와 극초단파 안테나(1042)를 포함하고, 극초단파 생성장치(1041)는 상응되는 주파수의 극초단파를 생성할 수 있고, 극초단파 안테나(1042)는 상응되는 주파수의 극초단파를 무화 챔버(103) 내부로 피드-인할 수 있다. 극초단파가 무화 챔버(103)에 진입한 후, 극초단파 안테나(1042)는 극초단파에 상응되는 피드백 신호를 수신할 수 있다. 극초단파 어셈블리(104)는 제1 파워 검측장치(1043)와 제2 파워 검측장치(1044)를 더 포함하고, 여기에서, 제1 파워 검측장치(1043)는 극초단파 생성장치(1041)와 상호 연결해 극초단파 생성장치(1041)의 운행과정에서 극초단파 생성장치(1041)의 운행 파워 값을 수집할 수 있고, 제2 파워 검측장치(1044)는 극초단파 안테나(1042)와 상호 연결해 극초단파 안테나(1042)가 수신한 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측할 수 있다.In the above embodiment, the microwave assembly 104 includes a microwave generator 1041, a microwave antenna 1042, a first power detection device 1043, and a second power detection device 1044. The microwave assembly 104 includes a microwave generator 1041 and a microwave antenna 1042, the microwave generator 1041 is capable of generating microwaves of a corresponding frequency, and the microwave antenna 1042 is capable of generating microwaves of a corresponding frequency. Microwaves can be fed into the atomization chamber 103. After the microwaves enter the atomization chamber 103, the microwave antenna 1042 may receive a feedback signal corresponding to the microwaves. The microwave assembly 104 further includes a first power detection device 1043 and a second power detection device 1044, where the first power detection device 1043 is interconnected with the microwave generating device 1041 to generate microwave energy. During the operation of the generator 1041, the operating power value of the microwave generator 1041 can be collected, and the second power detection device 1044 is connected to the microwave antenna 1042 to receive information from the microwave antenna 1042. The feedback power value of the feedback signal can be detected.
상기 어느 한 실시예에서, 극초단파 어셈블리(104)는 방향성 커플러(1048)를 더 포함하고, 방향성 커플러(1048)는 제1단, 제2단, 제3단과 제4단을 포함하고, 제1단은 극초단파 생성장치(1041)와 상호 연결하고, 제2단은 극초단파 안테나(1042)와 상호 연결하고, 제3단은 제1 파워 검측장치(1043)와 상호 연결하고, 제4단은 제2 파워 검측장치(1044)와 상호 연결한다.In one of the above embodiments, the microwave assembly 104 further includes a directional coupler 1048, wherein the directional coupler 1048 includes a first stage, a second stage, a third stage, and a fourth stage, and the first stage is interconnected with the microwave generator 1041, the second stage is interconnected with the microwave antenna 1042, the third stage is interconnected with the first power detection device 1043, and the fourth stage is interconnected with the second power It is interconnected with the detection device (1044).
상기 실시예에서, 극초단파 어셈블리(104)는 방향성 커플러(1048)를 더 포함한다. 방향성 커플러(1048)의 제1단, 제2단, 제3단과 제4단은 각각 극초단파 생성장치(1041), 극초단파 안테나(1042), 제1 파워 검측장치(1043) 및 제2 파워 검측장치(1044)와 상호 연결한다.In this embodiment, microwave assembly 104 further includes a directional coupler 1048. The first, second, third and fourth stages of the directional coupler 1048 are respectively a microwave generator 1041, a microwave antenna 1042, a first power detection device 1043 and a second power detection device ( 1044).
제1 파워 검측장치(1043)는 방향성 커플러(1048)를 통해 극초단파 생성장치(1041)의 운행 파워 값을 검측할 수 있고, 제2 파워 검측장치(1044)는 방향성 커플러(1048)를 통해 극초단파 안테나(1042)가 검측한 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측할 수 있다. 극초단파 생성장치(1041)가 생성한 극초단파 신호는 방향성 커플러(1048)를 경유해 극초단파 안테나(1042)까지 전송되고, 극초단파 안테나(1042)는 극초단파를 무화 챔버(103)로 피드-인한다.The first power detection device 1043 can detect the operating power value of the microwave generator 1041 through the directional coupler 1048, and the second power detection device 1044 can detect the operating power value of the microwave antenna through the directional coupler 1048. The feedback power value of the feedback signal detected by 1042 can be detected. The microwave signal generated by the microwave generator 1041 is transmitted to the microwave antenna 1042 via the directional coupler 1048, and the microwave antenna 1042 feeds the microwaves into the atomization chamber 103.
극초단파 생성장치(1041), 극초단파 안테나(1042), 제1 파워 검측장치(1043)와 제2 파워 검측장치(1044)는 방향성 커플러(1048)를 통해 상호 연결해 극초단파 어셈블리(104) 중의 전력 연결선을 감소함으로써, 극초단파 어셈블리(104)의 점용 공간을 감소해 에어로졸 생성 장치(100)의 부피를 더 작게 설치할 수 있어 제품 소형화 수요에 부합된다.The microwave generator 1041, the microwave antenna 1042, the first power detection device 1043, and the second power detection device 1044 are connected to each other through a directional coupler 1048 to reduce the power connection line in the microwave assembly 104. By doing so, the space occupied by the microwave assembly 104 is reduced and the volume of the aerosol generating device 100 can be installed smaller, meeting the demand for product miniaturization.
도 13에 도시된 바와 같이, 상기 어느한 실시예에서, 극초단파 생성장치(1041)는 극초단파 발생기(10412)와 파워 증폭기(10414)를 포함한다.As shown in FIG. 13, in one of the above embodiments, the microwave generating device 1041 includes a microwave generator 10412 and a power amplifier 10414.
극초단파 발생기(10412)는 제어장치(105)와 상호 연결하며;Microwave generator 10412 is interconnected with control device 105;
극초단파 생성장치(1041)는 제어장치(105)와 상호 연결하고, 파워 증폭기(10414)의 입력단은 극초단파 발생기(10412)와 상호 연결하고, 파워 증폭기(10414)의 출력단은 방향성 커플러(1048)의 제1단과 상호 연결한다.The microwave generator 1041 is interconnected with the control device 105, the input terminal of the power amplifier 10414 is interconnected with the microwave generator 10412, and the output terminal of the power amplifier 10414 is connected to the control device 105. Interconnect with stage 1.
상기 실시예에서, 극초단파 생성장치(1041)는 극초단파 발생기(10412)와 파워 증폭기(10414)를 포함한다. 극초단파 발생기(10412)는 극초단파 신호를 생성할 수 있고, 극초단파 발생기(10412)는 제어장치(105)와 상호 연결하고, 제어장치(105)는 극초단파 발생기(10412)의 운행을 제어할 수 있다. 극초단파 발생기(10412)의 출력단은 파워 증폭기(10414)의 입력단과 상호 연결하고, 파워 증폭기(10414)의 출력단은 방향성 커플러(1048)와 상호 연결한다. 제어장치(105)는 극초단파 발생기(10412)의 운행 파워를 제어할 수 있을 뿐만 아니라, 파워 증폭기(10414)의 증폭 배수를 제어할 수도 있다.In the above embodiment, the microwave generator 1041 includes a microwave generator 10412 and a power amplifier 10414. The microwave generator 10412 can generate a microwave signal, the microwave generator 10412 is interconnected with the control device 105, and the control device 105 can control the operation of the microwave generator 10412. The output terminal of the microwave generator 10412 is interconnected with the input terminal of the power amplifier 10414, and the output terminal of the power amplifier 10414 is interconnected with the directional coupler 1048. The control device 105 can not only control the operating power of the microwave generator 10412, but also control the amplification multiple of the power amplifier 10414.
도 13에 도시된 바와 같이, 상기 어느 한 실시예에서, 극초단파 생성장치(1041)는 파워 조절기(10416)를 더 포함하고, 파워 조절기(10416)의 제1단은 제어장치(105)와 상호 연결하고, 파워 조절기(10416)의 제2단은 파워 증폭기(10414)와 상호 연결한다.As shown in FIG. 13, in one of the above embodiments, the microwave generating device 1041 further includes a power regulator 10416, and a first end of the power regulator 10416 is interconnected with the control device 105. And the second stage of the power regulator 10416 is connected to the power amplifier 10414.
상기 실시예에서, 전자 무화장치는 파워 조절기(10416)를 더 포함하고, 파워 조절기(10416)는 파워 증폭기(10414)와 상호 연결하고, 제어장치(105)는 파워 조절기(10416)를 제어해 극초단파를 출력하는 파워를 조절하여 극초단파를 발사하는 파워의 조정 범위에 대한 증가를 구현할 수 있다.In the above embodiment, the electronic atomizer further includes a power regulator 10416, the power regulator 10416 is interconnected with the power amplifier 10414, and the control device 105 controls the power regulator 10416 to generate microwave By adjusting the output power, an increase in the adjustment range of the power for emitting microwaves can be realized.
상기 어느 한 실시예에서, 파워 조절기(10416)와 파워 증폭기(10414)는 집적 설치한다.In one of the above embodiments, the power regulator 10416 and the power amplifier 10414 are integrated.
상기 실시예에서, 파워 조절기(10416)와 파워 증폭기(10414)는 집적 설치하고, 즉, 파워 조절기(10416)와 파워 증폭기(10414)는 집적 전자 소자이고, 집적 전자 소자는 2개의 기능, 즉, 파워를 조절 및 증폭하는 기능을 구비한다. 파워 조절기(10416)와 파워 증폭기(10414)를 집적 설치해 극초단파 어셈블리(104)의 에어로졸 생성 장치(100) 내부에서의 점용 공간을 더 감소할 수 있다.In the above embodiment, the power regulator 10416 and the power amplifier 10414 are integrated installations, that is, the power regulator 10416 and the power amplifier 10414 are integrated electronic devices, and the integrated electronic devices have two functions, namely: It has the function of controlling and amplifying power. By integrating the power regulator 10416 and the power amplifier 10414, the space occupied inside the aerosol generating device 100 of the microwave assembly 104 can be further reduced.
도 11에 도시된 바와 같이, 상기 어느 한 실시예에서, 에어로졸 생성 장치(100)는 무화 챔버(103)에 설치되어 무화 챔버(103)를 수용 캐비티(1032)와 공진 캐비티(1034)로 나누고 수용 캐비티(1032)가 에어로졸 생성 기질(108)을 수용하는 데 사용되는 분리부재(106)를 더 포함한다. 공진 칼럼(107)은 공진 캐비티(1034)의 바닥벽에 설치된다.As shown in FIG. 11, in one of the above embodiments, the aerosol generating device 100 is installed in the atomization chamber 103 to divide the atomization chamber 103 into a receiving cavity 1032 and a resonance cavity 1034. Cavity 1032 further includes a separator 106 used to receive aerosol-generating substrate 108. The resonance column 107 is installed on the bottom wall of the resonance cavity 1034.
상기 실시예에서, 에어로졸 생성 장치(100)는 무화 챔버(103) 내부에 설치된 분리부재(106)를 더 포함하고, 분리부재(106)는 무화 챔버(103)를 수용 캐비티(1032)와 공진 캐비티(1034)로 분할한다. 수용 캐비티(1032)는 에어로졸 생성 기질(108)을 수용할 수 있고, 극초단파 어셈블리(104)는 극초단파를 공진 캐비티(1034) 내부로 피드-인하고, 극초단파는 공진 캐비티(1034)를 통해 수용 캐비티(1032)로 전도되어 수용 캐비티(1032) 내부의 에어로졸 생성 기질(108)에 대해 극초단파 가열을 진행할 수 있다.In the above embodiment, the aerosol generating device 100 further includes a separation member 106 installed inside the atomization chamber 103, and the separation member 106 includes the atomization chamber 103, a receiving cavity 1032, and a resonance cavity. Divide by (1034). The receiving cavity 1032 may receive an aerosol-generating substrate 108, and the microwave assembly 104 feeds microwaves into the resonant cavity 1034, wherein the microwaves travel through the resonant cavity 1034 to the receiving cavity ( 1032), and microwave heating may be performed on the aerosol-generating substrate 108 inside the receiving cavity 1032.
수용 캐비티(1032)와 공진 캐비티(1034)는 분리부재(106)를 통해 상호 분리되어 수용 캐비티(1032) 내부의 에어로졸 생성 기질(108)이 무화를 구현한 후 발생된 액체 폐기물 또는 고체 폐기물이 공진 캐비티(1034)에 진입하는 것을 피함으로써, 폐기물이 공진 캐비티(1034)에 진입함으로 인해 극초단파 어셈블리(104)가 고장나는 경우의 발생을 피할 수 있다.The receiving cavity 1032 and the resonance cavity 1034 are separated from each other through the separation member 106, so that the liquid waste or solid waste generated after the aerosol generating substrate 108 inside the receiving cavity 1032 achieves atomization resonates. By avoiding entering the cavity 1034, failure of the microwave assembly 104 due to waste entering the resonant cavity 1034 can be avoided.
일부 실시예에서, 분리부재(106)와 하우징(102)은 분리되도록 상호 연결하고, 수용 캐비티(1032)는 분리부재(106) 내부에 설치된다. 분리부재(106)를 해체해 수용 캐비티(1032)를 단독으로 분리 세척할 수 있어 사용자의 사용 느낌을 향상한다.In some embodiments, the separation member 106 and the housing 102 are interconnected to be separate, and the receiving cavity 1032 is installed inside the separation member 106. By dismantling the separation member 106, the receiving cavity 1032 can be separated and cleaned independently, thereby improving the user's feeling of use.
분리부재(106)는 세라믹, 유리 등 재질을 선택해 제조되어 공진 캐비티(1034) 내부의 극초단파로 하여금 수용 캐비티(1032) 내부에 전도되도록 하여 수용 캐비티(1032) 내부의 에어로졸 생성 기질(108)에 대한 가열을 진행할 수 있으며, 이 점은 이해할 수 있을 것이다.The separation member 106 is manufactured from selected materials such as ceramic and glass, and allows the microwaves inside the resonance cavity 1034 to be conducted into the receiving cavity 1032, thereby providing protection against the aerosol generating substrate 108 inside the receiving cavity 1032. Heating can proceed, and this will be understood.
상기 어느 한 실시예에서, 공진 칼럼(107)은 극초단파 안테나(1042)와 상호 연결한다.In either embodiment, resonant column 107 interconnects with microwave antenna 1042.
상기 실시예에서, 공진 칼럼(107)을 통해 극초단파를 공진 캐비티(1034)에 피드-인(feed-in)한다. 공진 칼럼(107)의 제1단은 공진 캐비티(1034)의 바닥벽과 상호 연결하고, 공진 칼럼(107)의 제2단은 수용 캐비티(1032)와 상대되게 설치하고, 극초단파는 공진 칼럼(107)의 제1단에서부터 제2단까지에 이르는 방향을 따라 전도되어 수용 캐비티(1032) 중의 에어로졸 생성 기질(108)을 가열한다.In this embodiment, microwaves are fed into the resonant cavity 1034 through the resonant column 107. The first end of the resonance column 107 is connected to the bottom wall of the resonance cavity 1034, the second end of the resonance column 107 is installed relative to the receiving cavity 1032, and the microwave is transmitted to the resonance column 107. ) is conducted along the direction from the first end to the second end to heat the aerosol-generating substrate 108 in the receiving cavity 1032.
실시예 7:Example 7:
본 출원에 따른 일곱 번재 실시예는 판독 가능한 저장 매체를 제공하며, 상기 판독 가능한 저장 매체에는 프로그램이 저장되고, 프로그램은 프로세서에 의해 실행될 때 상기 어느 한 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법을 구현한다. 따라서, 상기 어느 한 실시예에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법이 이룬 전부의 유익한 기술효과를 구비한다.A seventh embodiment according to the present application provides a readable storage medium, wherein a program is stored in the readable storage medium, and the program, when executed by a processor, implements the control method of the aerosol generating device according to any of the above embodiments. do. Accordingly, the control method of the aerosol generating device according to any of the above embodiments has all the beneficial technical effects achieved.
여기에서, 판독 가능한 저장 매체는 예를 들어, 읽기 전용 메모리(Read-Only Memory, ROM), 랜덤 액세스 메모리(Random Access Memory, RAM), 자기 디스크 또는 광 디스크 등일 수 있다.Here, the readable storage medium may be, for example, read-only memory (ROM), random access memory (RAM), magnetic disk, or optical disk.
무엇보다도, 본 출원의 특허청구범위, 명세서와 명세서 도면에 있어서, 용어 “복수”는 2개 또는 2개 이상을 지칭하고, 별도로 명료하게 한정하지 않은 한, 용어 “상”, “하” 등이 지칭하는 방위 또는 위치관계는 도면에 도시된 방위 또는 위치관계를 기반으로 하며, 본 출원을 더 편리하게 기재하고 기재 과정이 더 간편해지도록 하는 것을 목적으로 할 뿐이며, 지칭하는 장치 또는 소자가 반드시 기재한 특정 밤위를 구비하고 특정 방위에 의해 구성 및 조작하도록 지시 또는 암시하는 것을 목적으로 하지 않기 때문에, 이런 기재는 본 발명에 대한 한정으로 이해하지 않으며; 용어 “연결”, “장착”, “고정” 등은 넓은 의미에서 이해하여야 하며, 예를 들어, “연결”은 복수 대상 간의 고정 연결일 수 있고, 복수 대상 간의 분리식 연결 또는 일체식 연결일 수도 있고; 복수 대상 간의 직접적인 상호 연결일 수 있고, 복수 대상 간의 중간 매채를 통한 간접적인 상호 연결일 수도 있다. 본 기술분야의 당업자들은 상기 데이터의 구체적인 상황에 근거해 상기 용어가 본 출원에서 갖는 구체적인 의미를 이해할 수 있다.Above all, in the claims, specification, and drawings of the present application, the term “plural” refers to two or more than two, and unless clearly defined otherwise, the terms “upper”, “lower”, etc. The orientation or positional relationship referred to is based on the orientation or positional relationship shown in the drawings, and the purpose is only to describe the present application more conveniently and to make the description process simpler, and the device or element referred to must be described. Since it is not intended to instruct or suggest that it be configured and operated in a specific position and in a specific orientation, this description should not be construed as a limitation to the present invention; The terms “connection”, “mounting”, “fixing”, etc. should be understood in a broad sense; for example, “connection” may be a fixed connection between multiple objects, or a separate connection or integral connection between multiple objects. There is; It may be a direct interconnection between multiple objects, or it may be an indirect interconnection through an intermediate medium between multiple objects. Those skilled in the art can understand the specific meaning of the term in this application based on the specific situation of the data.
본 출원의 특허청구범위, 명세서와 명세서 도면에 있어서, 용어 “하나의 실시예”, “일부 실시예”, “구체적인 실례” 등의 기재는 상기 실시예 또는 실례를 결합해 기재한 구체적인 특징, 구조, 재료 또는 특점이 본 출원의 적어도 하나의 실시예 또는 실레에 포함되는 것을 의미한다. 본 출원의 특허청구범위, 명세서와 명세서 도면에 있어서, 상기 용어의 예시성 기재는 반드시 동일한 실시예 또는 실례를 대상으로 설명해야 하는 것은 아니다. 또한, 기재한 구체적인 특징, 구조, 재료 또는 특점은 임의의 하나 또는 복수의 실시예 또는 실례에서 적절한 방식으로 결합할 수 있다.In the claims, specification, and specification drawings of this application, descriptions of terms such as “one embodiment,” “some embodiments,” and “specific examples” refer to specific features and structures described in combination with the above embodiments or examples. , means that the material or feature is included in at least one embodiment or example of the present application. In the claims, specification, and specification drawings of this application, the illustrative description of the above terms does not necessarily refer to the same embodiment or example. Additionally, the specific features, structures, materials or features described may be combined in any appropriate manner in one or more embodiments or examples.
상기 내용은 본 출원의 바람직한 실시예일 뿐으로서, 본 출원을 한정하는 데는 사용하지 않으며, 본 기술분야의 당업자들에 있어서, 본 출원은 다양한 변경과 변화가 있을 수 있다. 본 출원의 정신과 원칙 내에서 진행한 모든 수정, 균등 치환, 개선 등은 모두 본 출원의 보호 범위 내에 포함되어야 할 것이다.The above content is only a preferred embodiment of the present application and is not used to limit the present application, and for those skilled in the art, the present application may be subject to various changes and modifications. All modifications, equivalent substitutions, improvements, etc. made within the spirit and principles of this application shall be included within the scope of protection of this application.
100: 에어로졸 생성 장치
102: 하우징
103: 무화 챔버
1032: 수용 캐비티
1034: 공진 캐비티
104: 극초단파 어셈블리
1041: 극초단파 생성장치
10412: 극초단파 발생기
10414: 파워 증폭기
10416: 파워 조절기
1042: 극초단파 안테나
1043: 제1 파워 검측장치
1044: 제2 파워 검측장치
1048: 방향성 커플러
105: 제어장치
106: 분리부재
107: 공진 칼럼
108: 에어로졸 생성 기질100: Aerosol generating device
102: housing
103: Atomization chamber
1032: receiving cavity
1034: Resonant cavity
104: Microwave assembly
1041: Microwave generator
10412: Microwave Generator
10414: Power amplifier
10416: Power regulator
1042: Microwave antenna
1043: First power detection device
1044: Second power detection device
1048: Directional coupler
105: Control device
106: Separating member
107: resonance column
108: Aerosol-generating substrate
Claims (19)
상기 에어로졸 생성 장치는 무화 챔버와 극초단파 어셈블리를 포함하고, 상기 무화 챔버는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하고, 상기 극초단파 어셈블리는 상기 무화 챔버에 극초단파를 피드-인(feed-in)하는 데 사용하고, 상기 제어방법은 이하의 단계,
상기 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕(frequency sweep) 운행을 진행하도록 하여 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 조회하는 단계;
상기 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 단계;
상기 에어로졸 생성 기질의 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리의 운행 상태를 제어하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어방법.In the control method of the aerosol generating device,
The aerosol generating device includes an atomizing chamber and a microwave assembly, the atomizing chamber being used to receive an aerosol generating substrate, and the microwave assembly being used to feed-in microwaves to the atomizing chamber; , the control method includes the following steps,
Controlling the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range and querying a target microwave frequency within the microwave frequency range;
determining the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range;
A control method for an aerosol generating device comprising: controlling the operating state of the microwave assembly based on the state of the aerosol generating substrate.
상기 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 단계는 상세하게,
상기 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최소 값보다 작은 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 단계;
상기 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최대 값보다 큰 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 단계;
상기 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 내에 있는 데 기반해 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 주파수 평균 값의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어방법.According to paragraph 1,
The step of determining the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range is detailed,
determining that the aerosol generating substrate in the atomization chamber is in an empty state based on the target microwave frequency being less than the minimum value in the set frequency range;
determining that the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is in a prepared state based on the target microwave frequency being greater than the maximum value in the set frequency range;
Based on the fact that the target microwave frequency is within the set frequency range, determining the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the average frequency value of the set frequency range; Control method of an aerosol generating device.
상기 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 주파수 평균 값의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 단계는 상세하게,
상기 목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 큰 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 단계;
상기 목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 작거나 같은 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어방법.According to paragraph 2,
The step of determining the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the frequency average value of the set frequency range is detailed,
determining that the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is in a prepared state based on the target microwave frequency being greater than the frequency average value;
A control method for an aerosol generating device comprising a step of determining that the aerosol generating substrate in the atomization chamber is in an empty state based on the target microwave frequency being less than or equal to the average frequency value.
상기 에어로졸 생성 기질의 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리의 운행 상태를 제어하는 단계는 상세하게,
상기 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 데 기반해 극초단파 어셈블리를 제어하여 목표 극초단파 주파수에 의해 무화 챔버에 극초단파를 피드-인하도록 하는 단계;
상기 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 데 기반해 극초단파 어셈블리를 제어하여 운행을 정지하고 알림 정보를 출력하도록 하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어방법.According to any one of claims 1 to 3,
The step of controlling the running state of the microwave assembly based on the state of the aerosol generating substrate is detailed,
controlling the microwave assembly based on the aerosol-generating substrate being provided to feed-in microwaves to the atomization chamber at a target microwave frequency;
A control method of an aerosol generating device comprising: controlling the microwave assembly to stop operation and output notification information based on the fact that the aerosol generating substrate is in an unequipped state.
상기 극초단파 어셈블리는 극초단파 생성장치와 극초단파 안테나를 포함하고, 상기 극초단파 안테나는 상기 극초단파 생성장치와 상호 연결하고, 상기 극초단파 안테나는 상기 극초단파 생성장치가 생성한 극초단파를 무화 챔버로 발사하고 피드백 신호를 수신하는 데 사용하며, 상기 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕 운행을 진행하도록 하여 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 조회하는 단계는 상세하게,
상기 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 중 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버 내부로 발사하도록 하는 단계;
상기 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측하는 단계;
상기 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어방법.According to any one of claims 1 to 3,
The microwave assembly includes a microwave generator and a microwave antenna, the microwave antenna is interconnected with the microwave generator, and the microwave antenna emits microwaves generated by the microwave generator to an atomization chamber and receives a feedback signal. The step of controlling the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range and querying the target microwave frequency within the microwave frequency range is detailed,
Controlling the microwave assembly to emit microwaves into the atomization chamber at each microwave frequency in the microwave frequency range;
detecting a feedback power value of a feedback signal corresponding to each of the microwave frequencies;
A method of controlling an aerosol generating device comprising: selecting a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the feedback power value corresponding to each of the microwave frequencies.
상기 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별하는 단계는 상세하게,
상기 극초단파 어셈블리가 출력한 극초단파 주파수 각각의 극초단파에 대응되는 운행 파워 값을 검측하는 단계;
상기 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값과 운행 파워 값의 비율을 계산하여 파워 비율을 획득하는 단계;
상기 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선택하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어방법.According to clause 5,
The step of selecting a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the feedback power value corresponding to each microwave frequency is detailed,
detecting operating power values corresponding to each microwave frequency output from the microwave assembly;
Obtaining a power ratio by calculating a ratio between a feedback power value and a running power value corresponding to each of the microwave frequencies;
A method of controlling an aerosol generating device comprising: selecting a target microwave frequency in the microwave frequency range based on a power ratio corresponding to each of the microwave frequencies.
상기 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선택하는 단계는 상세하게,
상기 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율 중의 최소 파워 비율을 확정하는 단계;
상기 최소 파워 비율에 대응되는 극초단파 주파수를 조회해 목표 극초단파 주파수를 확정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어방법.According to clause 6,
The step of selecting a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the power ratio corresponding to each of the microwave frequencies is detailed,
determining a minimum power ratio among power ratios corresponding to each of the microwave frequencies;
A method of controlling an aerosol generating device comprising: determining the target microwave frequency by querying the microwave frequency corresponding to the minimum power ratio.
상기 극초단파 주파수에 대응되는 피드백 파워 값에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별하는 단계는 상세하게,
상기 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값 중의 피드백 파워 최소 값을 확정하는 단계;
상기 피드백 파워 최소 값에 대응되는 극초단파 주파수를 조회해 목표 극초단파 주파수를 확정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어방법.According to clause 5,
The step of selecting a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the feedback power value corresponding to the microwave frequency is detailed,
determining a minimum feedback power value among feedback power values corresponding to each of the microwave frequencies;
A control method of an aerosol generating device comprising: determining the target microwave frequency by querying the microwave frequency corresponding to the minimum feedback power value.
상기 에어로졸 생성 장치는 무화 챔버와 극초단파 어셈블리를 포함하고, 상기 무화 챔버는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하며, 상기 극초단파 어셈블리는 무화 챔버에 극초단파를 피드-인하는 데 사용하고,
상기 극초단파 어셈블리를 제어해 극초단파 주파수 범위 내에서 주파수 스윕 운행을 진행하도록 하여 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 조회하는 데 사용하는 조회유닛;
상기 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 데 사용하는 검측유닛;
상기 에어로졸 생성 기질의 구비 상태에 근거해 극초단파 어셈블리의 운행 상태를 제어하는 데 사용하는 제어유닛;을 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어장치.In the control device of the aerosol generating device,
The aerosol generating device includes an atomizing chamber and a microwave assembly, the atomizing chamber being used to receive an aerosol generating substrate, and the microwave assembly being used to feed-in microwaves to the atomizing chamber;
a query unit used to control the microwave assembly to perform a frequency sweep operation within the microwave frequency range and to query a target microwave frequency within the microwave frequency range;
a detection unit used to determine the state of the aerosol-generating substrate inside the atomization chamber based on the numerical relationship between the target microwave frequency and the set frequency range;
A control unit for controlling the operating state of the microwave assembly based on the state of the aerosol generating substrate.
상기 검측유닛은 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최소 값보다 작은 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 데도 사용하며;
상기 검측유닛은 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 중의 최대 값보다 큰 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 데도 사용하며;
상기 검측유닛은 목표 극초단파 주파수가 설정 주파수 범위 내에 있는 데 기반해 목표 극초단파 주파수와 설정 주파수 범위의 주파수 평균 값의 수치관계에 근거해 무화 챔버 내부의 에어로졸 생성 기질 구비 상태를 확정하는 데도 사용하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어장치.According to clause 9,
The detection unit is also used to determine that the aerosol-generating substrate in the atomization chamber is in an empty state based on the target microwave frequency being less than the minimum value in the set frequency range;
The detection unit is also used to determine that the aerosol generating substrate in the atomization chamber is in a prepared state based on the target microwave frequency being greater than the maximum value in the set frequency range;
The detection unit is also used to determine the state of the aerosol generating substrate inside the atomization chamber based on the fact that the target microwave frequency is within the set frequency range and the numerical relationship between the target microwave frequency and the average frequency value of the set frequency range. A control device for an aerosol generating device.
상기 검측유닛은 목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 큰 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 데도 사용하고;
상기 검측유닛은 목표 극초단파 주파수가 주파수 평균 값보다 작거나 같은 데 기반해 무화 챔버 중의 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 것으로 확정하는 데도 사용하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어장치.According to clause 10,
The detection unit is also used to determine that the aerosol generating substrate in the atomization chamber is in a prepared state based on the target microwave frequency being greater than the average frequency value;
The control device of the aerosol generating device, wherein the detection unit is used to determine that the aerosol generating substrate in the atomization chamber is in an unfilled state based on the target microwave frequency being less than or equal to the average frequency value.
상기 제어유닛은 에어로졸 생성 기질이 구비 상태에 놓여 있는 데 기반해 극초단파 어셈블리를 제어해 목표 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 무화 챔버에 피드-인하도록 하는 데도 사용하고;
상기 제어유닛은 에어로졸 생성 기질이 미구비 상태에 놓여 있는 데 기반해 극초단파 어셈블리를 제어해 운행을 정지시키고 알림 정보를 출력하도록 하는 데도 사용하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어장치.According to any one of claims 9 to 11,
The control unit is also used to control the microwave assembly based on the aerosol-generating substrate being provided to feed the microwave into the atomization chamber at a target microwave frequency;
The control unit is a control device for an aerosol generating device, wherein the control unit is used to control the microwave assembly to stop operation and output notification information based on the fact that the aerosol generating substrate is not prepared.
상기 극초단파 어셈블리는 극초단파 생성장치와 극초단파 안테나를 포함하고, 상기 극초단파 안테나는 상기 극초단파 생성장치와 상호 연결하고, 상기 극초단파 안테나는 상기 극초단파 생성장치가 생성한 극초단파를 상기 무화 챔버로 발사하고 피드백 신호를 수신하는 데 사용하며;
상기 제어유닛은 상기 극초단파 어셈블리를 제어해 상기 극초단파 주파수 범위 중 각각의 극초단파 주파수에 의해 극초단파를 상기 무화 챔버 내부로 발사하는 데도 사용하며;
상기 검측유닛은 각각의 상기 극초단파 주파수에 대응되는 상기 피드백 신호의 피드백 파워 값을 검측하는 데도 사용하며;
상기 조회유닛은 상기 각각의 극초단파 주파수에 대응되는 상기 피드백 파워 값에 근거해 상기 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선별하는 데도 사용하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어장치.According to any one of claims 9 to 11,
The microwave assembly includes a microwave generator and a microwave antenna, the microwave antenna is connected to the microwave generator, and the microwave antenna emits microwaves generated by the microwave generator to the atomization chamber and receives a feedback signal. It is used to;
The control unit is used to control the microwave assembly to emit microwaves into the atomization chamber at each microwave frequency in the microwave frequency range;
The detection unit is also used to detect the feedback power value of the feedback signal corresponding to each of the microwave frequencies;
The control device of the aerosol generating device, wherein the inquiry unit is used to select a target microwave frequency in the microwave frequency range based on the feedback power value corresponding to each microwave frequency.
상기 검측유닛은 극초단파 어셈블리가 출력한 극초단파 주파수 각각의 극초단파에 대응되는 운행 파워 값을 검측하는 데도 사용하고;
상기 제어장치는 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값과 운행 파워 값의 비율을 계산해 파워 비율을 획득하는 데 사용하는 계산유닛을 더 포함하고, 조회유닛은 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율에 근거해 극초단파 주파수 범위 중의 목표 극초단파 주파수를 선택하는 데도 사용하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어장치.According to clause 13,
The detection unit is also used to detect the operating power value corresponding to each microwave frequency output from the microwave assembly;
The control device further includes a calculation unit used to obtain a power ratio by calculating the ratio between the feedback power value and the running power value corresponding to each microwave frequency, and the inquiry unit calculates the ratio of the feedback power value corresponding to each microwave frequency and the operating power value, and the inquiry unit calculates the ratio of the feedback power value corresponding to each microwave frequency and the running power value. A control device for an aerosol generating device, characterized in that it is also used to select a target microwave frequency in the microwave frequency range.
상기 조회유닛은 극초단파 주파수 각각에 대응되는 파워 비율 중의 최소 파워 비율을 확정하는 데도 사용하고;
상기 조회유닛은 최소 파워 비율에 대응되는 극초단파 주파수를 조회해 목표 극초단파 주파수를 확정하는 데도 사용하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어장치.According to clause 14,
The inquiry unit is also used to determine the minimum power ratio among the power ratios corresponding to each microwave frequency;
The control device of the aerosol generating device, characterized in that the query unit is used to determine the target microwave frequency by querying the microwave frequency corresponding to the minimum power ratio.
상기 조회유닛은 극초단파 주파수 각각에 대응되는 피드백 파워 값 중의 피드백 파워 최소 값을 확정하는 데도 사용하고;
상기 조회유닛은 피드백 파워 최소 값과 대응되는 극초단파 주파수를 조회해 목표 극초단파 주파수를 확정하는 데도 사용하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치의 제어장치.According to clause 13,
The inquiry unit is also used to determine the minimum feedback power value among the feedback power values corresponding to each microwave frequency;
The control unit of the aerosol generating device is characterized in that the inquiry unit is used to determine the target microwave frequency by querying the microwave frequency corresponding to the minimum feedback power value.
상기 에어로졸 생성 장치는 에어로졸 생성 기질을 수용하는 데 사용하는 무화 챔버;
무화 챔버 내부로 극초단파를 피드-인하는 데 사용하는 극초단파 어셈블리;를 포함하며,
제9항 내지 제16항 중 어느 한 항에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어장치가 상기 극초단파 어셈블리와 상호 연결하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치.In the aerosol generating device,
The aerosol generating device includes an atomizing chamber used to contain an aerosol generating substrate;
A microwave assembly used to feed-in microwaves into the atomization chamber,
An aerosol-generating device, characterized in that a control device of the aerosol-generating device according to any one of claims 9 to 16 is interconnected with the microwave assembly.
프로그램 또는 명령이 저장된 메모리;
상기 메모리에 저장된 프로그램 또는 명령을 실행해 상기 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법의 단계를 구현하는 프로세서;를 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 생성 장치.In the aerosol generating device,
Memory in which programs or instructions are stored;
An aerosol generating device comprising a processor that executes a program or command stored in the memory to implement the steps of the control method of the aerosol generating device according to any one of claims 1 to 8.
상기 판독 가능한 저장 매체에는 프로그램 또는 명령이 저장되고, 상기 프로그램 또는 명령은 프로세서에 의해 실행될 때 상기 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 에어로졸 생성 장치의 제어방법의 단계를 구현하는 것을 특징으로 하는 판독 가능한 저장 매체.In a readable storage medium,
A program or command is stored in the readable storage medium, and the program or command, when executed by a processor, implements the steps of the control method of the aerosol generating device according to any one of claims 1 to 8. A readable storage medium.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/CN2021/109223 WO2023004678A1 (en) | 2021-07-29 | 2021-07-29 | Aerosol generating device, control method, control device and readable storage medium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20240027802A true KR20240027802A (en) | 2024-03-04 |
Family
ID=85086137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020247003645A KR20240027802A (en) | 2021-07-29 | 2021-07-29 | Aerosol generating device, control method, control device and readable storage medium |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP4364590A4 (en) |
JP (1) | JP2024528909A (en) |
KR (1) | KR20240027802A (en) |
WO (1) | WO2023004678A1 (en) |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106115386A (en) * | 2016-08-25 | 2016-11-16 | 桂林九马新动力科技有限公司 | Elevator operation control method based on human body proximity sensor, system and elevator |
CN108552613A (en) * | 2018-07-16 | 2018-09-21 | 云南中烟工业有限责任公司 | A kind of microwave resonance causes the electronic cigarette of atomization |
CN110088643B (en) * | 2018-08-31 | 2021-12-07 | 深圳迈睿智能科技有限公司 | Human presence detector and human presence detection method |
KR102214675B1 (en) * | 2018-12-26 | 2021-02-10 | 주식회사 이노아이티 | Microwave heating type fine particle generator |
KR102389832B1 (en) * | 2019-06-18 | 2022-04-22 | 주식회사 케이티앤지 | Apparatus for generating aerosol by using microwave and method thereof |
CN110662322B (en) * | 2019-09-02 | 2022-11-15 | 成都亚彦科技有限公司 | Microwave output control method and device, storage medium and terminal equipment |
CN112448168A (en) * | 2019-09-02 | 2021-03-05 | 成都亚彦科技有限公司 | Energy absorbing device and method |
GB2589560A (en) * | 2019-11-06 | 2021-06-09 | Nicoventures Trading Ltd | Apparatus for heating an aerosolisable material |
KR20210071459A (en) * | 2019-12-06 | 2021-06-16 | 주식회사 이노아이티 | Microwave heating device |
CN113115998A (en) * | 2020-01-16 | 2021-07-16 | 深圳市合元科技有限公司 | Smoking set |
CN111436665A (en) * | 2020-04-24 | 2020-07-24 | 云南中烟工业有限责任公司 | Microwave heating type heating non-combustion cigarette heating device |
-
2021
- 2021-07-29 EP EP21951286.0A patent/EP4364590A4/en active Pending
- 2021-07-29 JP JP2024505335A patent/JP2024528909A/en active Pending
- 2021-07-29 KR KR1020247003645A patent/KR20240027802A/en unknown
- 2021-07-29 WO PCT/CN2021/109223 patent/WO2023004678A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP4364590A1 (en) | 2024-05-08 |
EP4364590A4 (en) | 2024-08-14 |
JP2024528909A (en) | 2024-08-01 |
WO2023004678A1 (en) | 2023-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2474092C2 (en) | Microwave heating device | |
CN104854403B (en) | Steam generator | |
KR102214675B1 (en) | Microwave heating type fine particle generator | |
KR20200077446A (en) | Combined rf and thermal heating system and methods of operation thereof | |
JP2009105054A (en) | Microwave heating device, microwave heating system, and method of using microwave heating device or microwave heating system | |
JP7564848B2 (en) | Aerosol generator, electronic atomizer, atomization system, identification method, and temperature control method | |
KR20240027802A (en) | Aerosol generating device, control method, control device and readable storage medium | |
US20240016215A1 (en) | Electronic vaporization device and method for controlling microwave thereof | |
CN110652038A (en) | Non-combustion smoking set and smoking article | |
EP3740034B1 (en) | Combined rf and thermal heating system with heating time estimation | |
JP3634710B2 (en) | Steam generating apparatus and microwave oven provided with the apparatus | |
WO2023065944A1 (en) | Aerosol generation apparatus, control method, control apparatus and readable storage medium | |
JP2011129341A (en) | Microwave processing device source | |
CN217509909U (en) | Heating atomization device | |
CN112448168A (en) | Energy absorbing device and method | |
KR20240113813A (en) | Aerosol generating device and control method thereof, control device and readable storage medium | |
CN210958866U (en) | Gaseous object generating device, gaseous object generating device and system based on liquid heating | |
CN108309038A (en) | Electric cooking pot and its anti-spilled control device and anti-overflow discharge control method | |
WO2023138167A1 (en) | Aerosol generating apparatus, control method, control apparatus, and readable storage medium | |
CN115670023A (en) | Aerosol generating device | |
WO2023004675A1 (en) | Aerosol generating device | |
CN110145874B (en) | Household lamp and water heater | |
WO2024109694A1 (en) | Aerosol generating apparatus and control method therefor | |
CN111867169B (en) | Radio frequency heating control method based on double sources and double frequencies and radio frequency heating device | |
CN221059582U (en) | Aerosol generating system and aerosol generating device |