KR20240023514A - Imaging devices and electronic devices - Google Patents
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 181
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 121
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 25
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 20
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 claims description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 20
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 48
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 47
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 35
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-RNFDNDRNSA-N silicon-32 atom Chemical compound [32Si] XUIMIQQOPSSXEZ-RNFDNDRNSA-N 0.000 description 10
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 10
- 230000006870 function Effects 0.000 description 9
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 9
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000004522 Pentaglottis sempervirens Nutrition 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 238000005513 bias potential Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000010267 cellular communication Effects 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 240000004050 Pentaglottis sempervirens Species 0.000 description 1
- 230000003190 augmentative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- -1 for example Chemical compound 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005236 sound signal Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
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- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
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Abstract
[과제] 양자 효율의 저하를 억제할 수 있는 촬상 장치 및 이 촬상 장치를 사용한 전자 기기를 제공한다.
[해결 수단] 본 개시의 촬상 장치는, 화소마다 마련되며 각각이 광 입사측의 제1 단부와 상기 제1 단부와 반대 측의 제2 단부를 갖는 복수의 광전 변환부와, 상기 복수의 광전 변환부의 각각의 경계를 따라서 상기 제1 단부로부터 상기 제2 단부로의 제1 방향으로 배치된 제1 부재와, 상기 복수의 광전 변환부의 각각과 상기 제1 부재 사이에서 또한 상기 제1 단부에 마련되며 상기 광전 변환부보다도 굴절률이 낮은 재료를 포함하는 제2 부재를 구비하고 있다.[Problem] To provide an imaging device capable of suppressing decline in quantum efficiency and an electronic device using the imaging device.
[Solution] An imaging device of the present disclosure includes a plurality of photoelectric conversion units provided for each pixel and each having a first end on a light incident side and a second end on a side opposite to the first end, and the plurality of photoelectric conversion units. a first member disposed in a first direction from the first end to the second end along each boundary of the unit, and also provided at the first end between each of the plurality of photoelectric conversion units and the first member; It is provided with a second member made of a material with a lower refractive index than the photoelectric conversion unit.
Description
본 개시의 실시 형태는, 촬상 장치 및 전자 기기에 관한 것이다.Embodiments of the present disclosure relate to imaging devices and electronic devices.
광전 변환층을 복수의 화소로 분리하는 트렌치 내에 전극을 매립한 촬상 장치가 알려져 있다(특허문헌 1). 이 촬상 장치에 있어서는, 상기 전극에 음의 바이어스 전압을 인가함으로써, 수광했을 때에 광전 변환층에 발생하는 홀을 모아, 암전류 및 촬상된 화상에 백점이 발생하는 것을 억제하고 있다.An imaging device is known in which electrodes are embedded in a trench that separates a photoelectric conversion layer into a plurality of pixels (Patent Document 1). In this imaging device, by applying a negative bias voltage to the electrode, holes generated in the photoelectric conversion layer when light is received are collected, and the occurrence of dark current and white spots in the captured image is suppressed.
그러나, 특허문헌 1에 기재된 촬상 장치에 있어서는, 상기 전극에 다결정 실리콘을 사용한 경우에는, 다결정 실리콘에 의한 광의 흡수가 발생하여, 양자 효율이 저하된다는 과제가 있다.However, in the imaging device described in
본 개시는, 양자 효율의 저하를 억제할 수 있는 촬상 장치 및 이 촬상 장치를 사용한 전자 기기를 제공한다.The present disclosure provides an imaging device capable of suppressing a decrease in quantum efficiency and an electronic device using the imaging device.
본 개시의 제1 양태에 의한 촬상 장치는, 화소마다 마련되며 각각이 광 입사측의 제1 단부와 상기 제1 단부와 반대 측의 제2 단부를 갖는 복수의 광전 변환부와, 상기 복수의 광전 변환부의 각각의 경계를 따라서 상기 제1 단부로부터 상기 제2 단부로의 제1 방향으로 배치된 제1 부재와, 상기 복수의 광전 변환부의 각각과 상기 제1 부재 사이에서 또한 상기 제1 단부 측에 마련되며 상기 광전 변환부보다도 굴절률이 낮은 재료를 포함하는 제2 부재를 구비하고 있다.An imaging device according to a first aspect of the present disclosure includes a plurality of photoelectric conversion units provided for each pixel and each having a first end on a light incident side and a second end on a side opposite to the first end, and the plurality of photoelectric conversion units. A first member disposed in a first direction from the first end to the second end along each boundary of the conversion unit, and between each of the plurality of photoelectric conversion units and the first member and on the side of the first end. and a second member containing a material with a lower refractive index than the photoelectric conversion unit.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서, 상기 제2 부재는 도전체를 포함하고 있어도 된다.In the imaging device according to the first aspect, the second member may include a conductor.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서, 상기 제2 부재는 밀봉된 공기를 포함하고 있어도 된다.In the imaging device according to the first aspect, the second member may contain sealed air.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서, 상기 제2 부재는 상기 제1 방향을 따라서 두께가 얇아져도 된다.In the imaging device according to the first aspect, the thickness of the second member may be reduced along the first direction.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서, 상기 광전 변환부에 있어서 상기 제2 부재가 배치된 이외의 영역에, 상기 광전 변환부와 다른 도전형의 반도체층을 더 구비해도 된다.In the imaging device according to the first aspect, a semiconductor layer of a conductivity type different from that of the photoelectric conversion unit may be further provided in a region of the photoelectric conversion unit other than where the second member is disposed.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서, 상기 제2 부재는 상기 제1 방향을 따라서 상기 제2 단부 측까지 연장되고 또한 상기 제1 방향을 따라서 상기 제1 부재의 두께와 상기 제2 부재의 두께의 합이 균일해도 된다.In the imaging device according to the first aspect, the second member extends to the second end side along the first direction and has a thickness of the first member and a thickness of the second member along the first direction. The sum may be uniform.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서, 상기 제2 부재는 상기 제1 단부 측에 있어서의 두께가 상기 제2 단부 측에 있어서의 두께보다도 얇아도 된다.In the imaging device according to the first aspect, the thickness of the second member on the first end side may be thinner than the thickness on the second end side.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서, 상기 복수의 광전 변환부는 각각 제1 부분과 제2 부분을 갖고, 상기 제1 부분과 상기 제2 부분은, 평면에서 보았을 때에 중앙부의 일부분 이외의 경계가 상기 제1 부재에 의해 둘러싸이고 또한 상기 일부분에 접해 있어도 된다.In the imaging device according to the first aspect, the plurality of photoelectric conversion units each have a first part and a second part, and the first part and the second part have a boundary other than a portion of the central portion when viewed from the top. It may be surrounded by the first member and may be in contact with the above portion.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서, 상기 복수의 광전 변환부는 각각 평면에서 보았을 때에 대략 사각형의 형상을 갖고, 상기 제2 부재는 상기 대략 사각형의 코너부에 있어서의 두께가 다른 부분에 있어서의 두께보다도 두꺼워도 된다.In the imaging device according to the first aspect, the plurality of photoelectric conversion units each have a substantially rectangular shape in plan view, and the second member has a thickness at a portion where the thickness at the corner portion of the substantially rectangular portion is different. It may be thicker than that.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서, 상기 제2 부재의 두께는 20nm 이상이며, 상기 제2 부재의 깊이 방향의 길이는 1000nm 이상이어도 된다.In the imaging device according to the first aspect, the thickness of the second member may be 20 nm or more, and the length of the second member in the depth direction may be 1000 nm or more.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서, 상기 제2 부재는 상기 복수의 광전 변환부의 각각의 주위를 둘러싸도록 배치되어도 된다.In the imaging device according to the first aspect, the second member may be arranged to surround each of the plurality of photoelectric conversion units.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서, 상기 제1 부재는 폴리실리콘을 포함하고 있어도 된다.In the imaging device according to the first aspect, the first member may contain polysilicon.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서, 상기 복수의 광전 변환부의 각각에 대응하여 마련된 마이크로 렌즈를 더 구비하고 있어도 된다.The imaging device according to the first aspect may further include a micro lens provided corresponding to each of the plurality of photoelectric conversion units.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서, 상기 복수의 광전 변환부의 각각과 상기 마이크로 렌즈 사이에 마련된 컬러 필터를 더 구비하고 있어도 된다.The imaging device according to the first aspect may further include a color filter provided between each of the plurality of photoelectric conversion units and the micro lens.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서. 상기 복수의 광전 변환부는 어레이상으로 배열된 군으로 나뉘고, 각 군에 대응하여 마련된 마이크로 렌즈를 더 구비하고 있어도 된다.In the imaging device according to the first aspect. The plurality of photoelectric conversion units may be divided into groups arranged in an array, and may further include micro lenses provided corresponding to each group.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서, 상기 제2 단부 측에 배치되고, 화소 트랜지스터를 갖는 회로를 더 구비하고 있어도 된다.In the imaging device according to the first aspect, a circuit disposed on the second end side and having a pixel transistor may be further provided.
제1 양태에 의한 촬상 장치에 있어서, 상기 복수의 광전 변환부는 각각 실리콘을 포함하고, 상기 제2 부재는 산화실리콘을 포함하고 있어도 된다.In the imaging device according to the first aspect, the plurality of photoelectric conversion units may each contain silicon, and the second member may contain silicon oxide.
제2 양태에 의한 전자 기기는, 촬상 장치와, 상기 촬상 장치에 의해 촬상된 화소 신호에 기초하여 신호 처리를 행하는 신호 처리부를 구비하고, 상기 촬상 장치는, 화소마다 마련되며 각각이 광 입사측의 제1 단부와 상기 제1 단부와 반대 측의 제2 단부를 갖는 복수의 광전 변환부와, 상기 복수의 광전 변환부의 각각의 경계를 따라서 상기 제1 단부로부터 상기 제2 단부로의 제1 방향으로 배치된 제1 부재와, 상기 복수의 광전 변환부의 각각과 상기 제1 부재 사이에서 또한 상기 제1 단부 측에 마련되며 상기 광전 변환부보다도 굴절률이 낮은 재료를 포함하는 제2 부재를 구비하고 있다.An electronic device according to a second aspect includes an imaging device and a signal processing unit that performs signal processing based on a pixel signal imaged by the imaging device, and the imaging device is provided for each pixel, each of which is on the light incident side. A plurality of photoelectric conversion units having a first end and a second end opposite to the first end, and a first direction from the first end to the second end along each boundary of the plurality of photoelectric conversion units. It is provided with a first member arranged, and a second member provided between each of the plurality of photoelectric conversion units and the first member and on the side of the first end and containing a material with a lower refractive index than the photoelectric conversion unit.
도 1은 제1 실시 형태에 의한 촬상 장치를 나타내는 단면도.
도 2는 도 1에 나타내는 절단면 A-A에서 절단한 단면도.
도 3은 시뮬레이션에 사용한 샘플의 촬상 장치를 나타내는 단면도.
도 4는 도 3에 나타내는 샘플의 광흡수 억제부의 두께를 변화시킨 제1 내지 제6 샘플을 나타내는 도면.
도 5는 도 4에 나타내는 제1 내지 제6 샘플의 적색광, 녹색광 및 청색광에 대한 양자 효율을 구한 시뮬레이션 결과를 나타내는 그래프.
도 6은 시뮬레이션에 사용한 샘플의 촬상 장치를 나타내는 단면도.
도 7은 도 6에 나타내는 촬상 장치의 광흡수 억제부를 나타내는 단면도.
도 8a 내지 도 8c는 광흡수 억제부의 깊이 방향의 길이를 변화시킨 경우의 양자 효과를 나타내는 도면.
도 9a 내지 도 9c는 광흡수 억제부의 깊이 방향의 길이를 변화시킨 경우의 양자 효과를 나타내는 도면.
도 10a 내지 도 10e는 제1 실시 형태의 촬상 장치에 있어서의 광흡수 억제부의 제조 공정을 나타내는 단면도.
도 11은 제2 실시 형태에 의한 촬상 장치를 나타내는 단면도.
도 12는 제3 실시 형태에 의한 촬상 장치를 나타내는 단면도.
도 13은 제4 실시 형태에 의한 촬상 장치를 나타내는 단면도.
도 14는 제5 실시 형태에 의한 촬상 장치를 나타내는 단면도.
도 15는 제6 실시 형태에 의한 촬상 장치를 나타내는 단면도.
도 16a는 제7 실시 형태에 의한 촬상 장치의 단면도.
도 16b는 제7 실시 형태에 의한 촬상 장치의 하나의 화소군의 평면도.
도 17은 제8 실시 형태에 의한 촬상 장치를 나타내는 단면도.
도 18은 제9 실시 형태에 의한 촬상 장치를 나타내는 단면도.
도 19는 제10 실시 형태에 의한 촬상 장치를 나타내는 단면도.
도 20은 차량 제어 시스템의 개략적인 구성의 일례를 나타내는 블록도.
도 21은 차밖 정보 검출부 및 촬상부의 설치 위치의 일례를 나타내는 설명도.1 is a cross-sectional view showing an imaging device according to a first embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along section AA shown in FIG. 1.
Figure 3 is a cross-sectional view showing an imaging device of a sample used in simulation.
FIG. 4 is a view showing first to sixth samples in which the thickness of the light absorption suppressing portion of the sample shown in FIG. 3 is changed.
FIG. 5 is a graph showing simulation results of calculating quantum efficiencies for red light, green light, and blue light of the first to sixth samples shown in FIG. 4.
Fig. 6 is a cross-sectional view showing the imaging device of the sample used in simulation.
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a light absorption suppressing portion of the imaging device shown in FIG. 6.
8A to 8C are diagrams showing the quantum effect when the length of the light absorption suppression portion in the depth direction is changed.
9A to 9C are diagrams showing the quantum effect when the length of the light absorption suppression portion in the depth direction is changed.
10A to 10E are cross-sectional views showing the manufacturing process of the light absorption suppressor in the imaging device of the first embodiment.
Fig. 11 is a cross-sectional view showing an imaging device according to the second embodiment.
Fig. 12 is a cross-sectional view showing an imaging device according to the third embodiment.
Fig. 13 is a cross-sectional view showing an imaging device according to the fourth embodiment.
Fig. 14 is a cross-sectional view showing an imaging device according to the fifth embodiment.
Fig. 15 is a cross-sectional view showing an imaging device according to the sixth embodiment.
Fig. 16A is a cross-sectional view of an imaging device according to the seventh embodiment.
Fig. 16B is a top view of one pixel group of the imaging device according to the seventh embodiment.
Fig. 17 is a cross-sectional view showing an imaging device according to the eighth embodiment.
Fig. 18 is a cross-sectional view showing an imaging device according to the ninth embodiment.
Fig. 19 is a cross-sectional view showing an imaging device according to the tenth embodiment.
20 is a block diagram showing an example of the schematic configuration of a vehicle control system.
Fig. 21 is an explanatory diagram showing an example of the installation positions of the information detection unit and the imaging unit outside the vehicle.
본 개시의 실시 형태에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 이하의 실시 형태에서는, 촬상 장치 및 전자 기기의 구성 부분을 주로 설명하지만, 촬상 장치 및 전자 기기에는, 도시 또는 설명되지 않은 구성 부분이나 기능이 존재할 수 있다. 이하의 설명은, 도시 또는 설명되지 않은 구성 부분이나 기능을 제외하는 것은 아니다.Embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, the structural parts of the imaging device and the electronic device are mainly explained, but there may be structural parts and functions in the imaging device and the electronic device that are not shown or explained. The following description does not exclude components or functions not shown or explained.
또한, 이하의 설명에서 참조되는 도면은, 본 개시의 실시 형태의 설명과, 그 이해를 촉진시키기 위한 도면이고, 알기 쉽게 하기 위해서, 도면 중에 나타내지는 형상, 치수, 비 등은 실제와 다른 경우가 있다.In addition, the drawings referred to in the following description are drawings to facilitate explanation and understanding of the embodiments of the present disclosure, and for ease of understanding, the shapes, dimensions, ratios, etc. shown in the drawings may differ from the actual ones. there is.
(제1 실시 형태)(First Embodiment)
제1 실시 형태에 의한 촬상 장치에 대하여 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한다. 도 1은 제1 실시 형태의 촬상 장치의 단면도이며, 도 2는 도 1에 나타내는 절단면 A-A에서 절단한 단면도이다. 이 제1 실시 형태의 촬상 장치는, 적어도 하나의 화소군을 갖고, 이 화소군은 2행 2열로 배치된 4개의 화소(10a, 10b, 10c, 10d)를 구비하고 있다. 각 화소는 광전 변환부를 구비하고 있다. 예를 들어, 화소(10a)는 광전 변환부(12a)를 갖고, 화소(10b)는 광전 변환부(12b)를 갖고, 화소(10c)는 광전 변환부(12c)를 갖고, 화소(10d)는 광전 변환부(12d)를 갖고 있다. 이들 광전 변환부(12a, 12b, 12c, 12d)는 광전 변환층(12)에 형성된 트렌치(13)에 의해 서로 절연 분리되어 있다. 즉, 트렌치(13)는 광전 변환부(12a, 12b, 12c, 12d) 각각을 둘러싸도록 형성된다. 그리고, 각 트렌치(13) 내에는, 도전체(제1 부재)(14)가 매립된다. 본 실시 형태에서는, 도전체(14)로서, 예를 들어 다결정 실리콘이 사용된다. 이 도전체(14)에 음의 바이어스 전위가 인가된다. 도전체(14)에 음의 바이어스 전위가 인가됨으로써, 수광 시에 발생하는 홀을 도전체(14)에 모아, 암전류나 촬상된 화상에 백점이 발생하는 것을 억제할 수 있다.The imaging device according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a cross-sectional view of the imaging device of the first embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the section A-A shown in FIG. 1. The imaging device of this first embodiment has at least one pixel group, and this pixel group includes four
광전 변환부(12a, 12b, 12c, 12d)의 각각의 상방에는, 마이크로 렌즈(18)가 마련되어 있다. 광전 변환부(12a, 12b, 12c, 12d) 각각과, 대응하는 마이크로 렌즈(18) 사이에는 컬러 필터가 마련되어 있다. 예를 들어, 광전 변환부(12a)와 마이크로 렌즈(18) 사이에 컬러 필터(17a)가 마련되고, 광전 변환부(12b)와 마이크로 렌즈(18) 사이에 컬러 필터(17b)가 마련되어 있다. 이들 컬러 필터를 둘러싸도록 화소간 차광부(16)가 마련되어 있다. 이 화소간 차광부(16)는 트렌치(13) 내에 매립된 도전체(14) 상에 배치된다.A
도 1에 나타내는 바와 같이, 광전 변환부(12a, 12b, 12c, 12d) 각각에 있어서, 컬러 필터측의 상단부에 광흡수 억제부(제2 부재)(15)가 마련되어 있다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 광흡수 억제부(15)는 광전 변환부(12a, 12b, 12c, 12d)의 각각의 주위를 둘러싸도록 형성된다. 그리고, 도 2에 나타내는 바와 같이, 광흡수 억제부(15)는 광전 변환부의 코너부에 있어서의 두께 b가 다른 부분의 두께 a보다도 두꺼워져 있다. 광흡수 억제부(15)로서는, 광전 변환부(12a, 12b, 12c, 12d)에 포함되는 재료보다도 굴절률이 낮은 재료가 사용된다. 예를 들어, 광전 변환부(12a, 12b, 12c, 12d)가, 예를 들어 실리콘을 포함하고 있으면, 광흡수 억제부(15)로서는, 예를 들어 산화실리콘(SiO)이 사용된다.As shown in FIG. 1, in each of the
화소군의 하단부(마이크로 렌즈(18)와 반대 측의 단부)에는, 화소군으로부터 신호를 판독하기 위한 화소 트랜지스터 및 그들을 구동하는 회로(20)가 마련되어 있다. 이 회로(20)는 광전 변환부(12a, 12b, 12c, 12d)에 접속하는 전송 게이트 TG를 포함하는 제1 단차부(26)와, 리셋 트랜지스터 RST 및 증폭 트랜지스터 AMP 그리고 선택 트랜지스터 SEL 등의 화소 트랜지스터가 배치되는 제2 단차부(24)와, 배선이 적층된 적층 배선부(22)를 갖는 3단 구조를 구비하고 있다.At the lower end of the pixel group (the end opposite to the microlens 18), pixel transistors for reading signals from the pixel group and a
이상 설명한 바와 같이, 본 실시 형태의 촬상 장치에 있어서는, 화소(10a, 10b, 10c, 10d)를 서로 분리하는 트렌치(13) 내에, 예를 들어 다결정 실리콘을 포함하는 도전체(14)가 마련되고, 이 도전체(14)와 광전 변환부(12a, 12b, 12c, 12d) 사이에는, 광흡수 억제부(15)가 마련되어 있다. 그리고, 광흡수 억제부(15)는 광전 변환부(12a, 12b, 12c, 12d) 각각에 있어서, 컬러 필터측의 상단부에 마련되고, 또한 광흡수 억제부(15)로서는, 광전 변환부(12a, 12b, 12c, 12d)에 포함되는 재료보다도 굴절률이 낮은 재료가 사용된다. 이에 의해, 수광 시에 광전 변환층(12)에 있어서 발생한 광이 다결정 실리콘을 포함하는 도전체(14)에 흡수되는 주요인인 에바네센트광의 스며나옴을 억제하는 것이 가능해져, 양자 효율이 저하되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서는, 광전 변환부가 화소마다 마련되고, 광전 변환층(12)은 모든 광전 변환부를 포함하는 반도체층이다.As explained above, in the imaging device of this embodiment, a
다음으로, 제1 실시 형태의 촬상 장치에 있어서, 광흡수 억제부(15)의 적절한 두께에 대해서, 시뮬레이션을 사용하여 구하였다. 이 시뮬레이션에 사용한 촬상 장치의 단면을 도 3에 나타낸다. 도 3에 나타내는 촬상 장치는, 산화실리콘(SiO)(30)이 매립된 트렌치에 의해 서로 분리된 광전 변환부(12a, 12b)를 구비하고 있다. 산화실리콘(30)은 다결정 실리콘(32)을 덮도록 배치되고, 이 다결정 실리콘(32)의 두께에 의해 트렌치 내의 두께가 조정된다. 각 광전 변환층(12) 상에는, 고정 전하막(34)과, 고정 전하막(34) 상에 배치된 산화막(36)이 마련되어 있다. 또한, 반도체 기판의 광 입사면에는 광의 반사를 방지하는 요철 구조(38)가 마련되어 있다.Next, in the imaging device of the first embodiment, the appropriate thickness of the light
각 광전 변환부(12a, 12b)에 대응하여, 산화막(36) 상에 컬러 필터(17a, 17b)가 배치된다. 컬러 필터(17a)는, 예를 들어 녹색 필터이며, 컬러 필터(17b)는 적색 필터이다. 또한, 도 3에는 도시하고 있지 않지만, 컬러 필터에는 청색 필터도 있다. 이들 컬러 필터는 각각 저굴절 도파로(39)에 의해 분리되어 있다. 즉, 저굴절 도파로(39)는 컬러 필터를 서로 광학적으로 분리하며, 또한 트렌치 상에 위치하고, 다결정 실리콘(32)으로부터 트렌치 내에 배치된 산화실리콘(30)으로 스며나온 광을 검출하기 위해 사용된다. 컬러 필터(17a, 17b) 상에, 각 광전 변환부에 대응하여 마이크로 렌즈(18)가 마련되어 있다.
이러한 구조를 갖는 촬상 장치에 있어서, 트렌치 내의 산화실리콘(30)의 두께를 다결정 실리콘(32)의 두께에 의해 조정한 샘플을 도 4에 나타낸다. 각 샘플은 모두 트렌치의 폭을 100nm로 하여, 제1 내지 제6 샘플을 준비하였다. 제1 샘플은 트렌치 내의 산화실리콘(30)의 두께를 100nm, 다결정 실리콘(32)의 두께를 0nm로 하였다. 제2 샘플은 트렌치 내의 산화실리콘(30)의 두께를 30nm, 다결정 실리콘(32)의 두께를 40nm로 하였다. 제3 샘플은 트렌치 내의 산화실리콘(30)의 두께를 20nm, 다결정 실리콘(32)의 두께를 60nm로 하였다. 제4 샘플은 트렌치 내의 산화실리콘(30)의 두께를 15nm, 다결정 실리콘(32)의 두께를 70nm로 하였다. 제5 샘플은 트렌치 내의 산화실리콘(30)의 두께를 10nm, 다결정 실리콘(32)의 두께를 80nm로 하였다. 제6 샘플은 트렌치 내의 산화실리콘(30)의 두께를 5nm, 다결정 실리콘(32)의 두께를 90nm로 하였다.In the imaging device having this structure, a sample in which the thickness of the
제1 내지 제6 샘플에 대하여 시뮬레이션을 행하여, 양자 효율 Qe(촬상 장치에 입사한 광자 중 전기 신호로서 추출할 수 있는 전자로 변환되는 것의 비율)를 구하였다. 이 결과를 도 5에 나타낸다. 이 시뮬레이션에 있어서, 적색광의 파장을 600nm, 녹색광의 파장을 530nm, 청색광의 파장을 460nm로 하여 계산을 행하였다. 녹색광 및 적색광이 촬상 장치에 입사한 경우에 있어서는, 양자 효율 Qe는 산화실리콘(30)의 두께가 감소함에 따라서 선형적으로 감소하고, 산화실리콘(30)의 두께가 20nm보다도 얇아지면 비선형적으로 감소한다. 청색광이 촬상 장치에 입사한 경우에 있어서는, 적색광 또는 녹색광이 입사한 경우에 비해, 양자 효율은 나빠져 있다. 청색광이 촬상 장치에 입사한 경우에 있어서는, 산화실리콘(30)의 두께가 10nm까지 얇아짐에 따라서, 양자 효율 Qe는 선형적으로 감소하고, 10nm보다도 얇아지면, 비선형적으로 감소한다. 이상으로부터, 도 4에 나타내는 촬상 장치에 있어서는, 산화실리콘의 두께가 20nm 미만이 되면, 에바네센트광의 스며나옴이 커지게 된다. 이 때문에, 산화실리콘(30)의 두께, 즉 광흡수 억제부(15)의 두께가 20nm 이상이면, 에바네센트광의 스며나옴을 억제하는 것이 가능해져, 양자 효율의 저하를 억제할 수 있다.Simulations were performed on the first to sixth samples to determine the quantum efficiency Qe (the ratio of photons incident on the imaging device that are converted into electrons that can be extracted as electrical signals). This result is shown in Figure 5. In this simulation, calculations were made assuming that the wavelength of red light was 600 nm, that of green light was 530 nm, and that of blue light was 460 nm. When green light and red light are incident on the imaging device, the quantum efficiency Qe decreases linearly as the thickness of the
다음으로, 제1 실시 형태의 촬상 장치에 있어서, 광흡수 억제부(15)의 깊이 방향의 적절한 길이에 대해, 시뮬레이션을 사용하여 구하였다. 이 시뮬레이션에 사용한 촬상 장치의 단면을 도 6에 나타낸다. 도 6에 나타내는 촬상 장치는, 도 3에 나타내는 촬상 장치에 있어서, 트렌치 내의 다결정 실리콘의 일부를 고정 전하막(34)에 의해 치환한 구성을 갖고 있다. 트렌치 내에 있어서, 다결정 실리콘의 일부를 고정 전하막(34)에 의해 치환한 구성을 도 7에 나타낸다. 트렌치의 측면을 따라서 요철 구조(38)와 동일한 재료의 산화 부재(38a)가 배치되고, 이 산화 부재(38a)의 측면 및 저면을 따라서 고정 전하막(34)이 배치된다. 이 고정 전하막(34)의 중앙부에는 고정 전하막(34)의 저부에 달하는 산화막(36b)이 배치되어 있다.Next, in the imaging device of the first embodiment, the appropriate length of the light
시뮬레이션의 대상이 되는 제1 내지 제6 샘플을 준비한다. 제1 샘플은 트렌치 내에 모두 산화실리콘이 매립된 촬상 장치(이하, FTI-SiO라고도 함), 제2 샘플은 트렌치 내에 모두 다결정 실리콘이 매립된 촬상 장치(이하, FTI-Poly라고도 함), 제3 샘플은 트렌치 내의 고정 전하막(34)의 깊이가 200nm인 촬상 장치(이하, SCF200이라고도 함), 제4 샘플은 트렌치 내의 고정 전하막(34)의 깊이가 400nm인 촬상 장치, 제5 샘플은 트렌치 내의 고정 전하막(34)의 깊이가 800nm인 촬상 장치(이하, SCF800이라고도 함), 제6 샘플은 트렌치 내의 고정 전하막(34)의 깊이가 1000nm인 촬상 장치(이하, SCF1000이라고도 함)이다. 즉, 제1 샘플은 에바네센트광의 스며나옴이 거의 없는 촬상 장치이며, 제2 샘플은 에바네센트광의 스며나옴이 가장 큰 촬상 장치이며, 제3 내지 제6 샘플은 에바네센트광의 스며나옴이 제1 샘플과 제2 샘플의 중간 위치에 있는 촬상 장치이다.Prepare the first to sixth samples that are the subject of simulation. The first sample is an imaging device in which all silicon oxide is embedded in the trench (hereinafter referred to as FTI-SiO), the second sample is an imaging device in which all polycrystalline silicon is embedded in the trench (hereinafter referred to as FTI-Poly), and the third sample is an imaging device in which all silicon oxide is embedded in the trench (hereinafter referred to as FTI-Poly). The sample is an imaging device (hereinafter also referred to as SCF200) with a depth of the fixed
제1 내지 제6 샘플에 입사 각도가 0도인 청색광을 조사한 경우의 양자 효율 Qe를 구한 결과를 도 8a에 나타낸다. 제6 샘플은 제1 샘플과 거의 동일한 양자 효율을 얻을 수 있고, 제2 샘플에 비해 약 5% 높은 양자 효율을 얻을 수 있다. 양자 효율 Qe는 제2 샘플, 제3 샘플, 제4 샘플, 제5 샘플, 제6 샘플의 순으로 높아지고 있다.The results of calculating the quantum efficiency Qe when blue light with an incident angle of 0 degrees is irradiated on the first to sixth samples are shown in FIG. 8A. The sixth sample can obtain almost the same quantum efficiency as the first sample, and can obtain a quantum efficiency that is about 5% higher than that of the second sample. Quantum efficiency Qe is increasing in the order of the second sample, third sample, fourth sample, fifth sample, and sixth sample.
제1 내지 제6 샘플에 입사 각도가 0도인 녹색광을 조사한 경우의 양자 효율 Qe를 구한 결과를 도 8b에 나타낸다. 제6 샘플은 제1 샘플보다도 1.5% 낮은 양자 효율로 되어 있지만, 제2 샘플에 비해 약 3% 높은 양자 효율을 얻을 수 있다. 양자 효율 Qe는 제2 샘플, 제3 샘플, 제4 샘플, 제5 샘플, 제6 샘플의 순으로 높아지고 있다.The results of calculating the quantum efficiency Qe when green light with an incident angle of 0 degrees is irradiated on the first to sixth samples are shown in FIG. 8B. The sixth sample has a quantum efficiency that is 1.5% lower than the first sample, but can obtain a quantum efficiency that is about 3% higher than the second sample. Quantum efficiency Qe is increasing in the order of the second sample, third sample, fourth sample, fifth sample, and sixth sample.
제1 내지 제6 샘플에 입사 각도가 0도인 적색광을 조사한 경우의 양자 효율 Qe를 구한 결과를 도 8c에 나타낸다. 제6 샘플은 제1 샘플보다도 1.4% 낮은 양자 효율로 되어 있지만, 제2 샘플에 비해 약 1% 높은 양자 효율을 얻을 수 있다. 양자 효율 Qe는 제2 샘플, 제3 샘플, 제4 샘플, 제5 샘플, 제6 샘플의 순으로 높아지고 있다.The results of calculating the quantum efficiency Qe when red light with an incident angle of 0 degrees is irradiated on the first to sixth samples are shown in FIG. 8C. The sixth sample has a quantum efficiency that is 1.4% lower than the first sample, but can obtain a quantum efficiency that is about 1% higher than the second sample. Quantum efficiency Qe is increasing in the order of the second sample, third sample, fourth sample, fifth sample, and sixth sample.
제1 내지 제6 샘플에 입사 각도가 36도인 청색광을 조사한 경우의 양자 효율 Qe를 구한 결과를 도 9a에 나타낸다. 제6 샘플은 제1 샘플과 거의 동일한 양자 효율을 얻을 수 있고, 제2 샘플에 비해 약 5% 높은 양자 효율을 얻을 수 있다. 양자 효율 Qe는 제2 샘플, 제3 샘플, 제4 샘플, 제5 샘플, 제6 샘플의 순으로 높아지고 있다.The results of calculating the quantum efficiency Qe when blue light with an incident angle of 36 degrees is irradiated on the first to sixth samples are shown in FIG. 9A. The sixth sample can obtain almost the same quantum efficiency as the first sample, and can obtain a quantum efficiency that is about 5% higher than that of the second sample. Quantum efficiency Qe is increasing in the order of the second sample, third sample, fourth sample, fifth sample, and sixth sample.
제1 내지 제6 샘플에 입사 각도가 36도인 녹색광을 조사한 경우의 양자 효율 Qe를 구한 결과를 도 9b에 나타낸다. 제6 샘플은 제1 샘플보다도 1.3% 낮은 양자 효율로 되어 있지만, 제2 샘플에 비해 약 4% 높은 양자 효율을 얻을 수 있다. 양자 효율 Qe는 제2 샘플, 제3 샘플, 제4 샘플, 제5 샘플, 제6 샘플의 순으로 높아지고 있다.The results of calculating the quantum efficiency Qe when green light with an incident angle of 36 degrees is irradiated on the first to sixth samples are shown in FIG. 9B. The sixth sample has a quantum efficiency that is 1.3% lower than the first sample, but can obtain a quantum efficiency that is about 4% higher than the second sample. Quantum efficiency Qe is increasing in the order of the second sample, third sample, fourth sample, fifth sample, and sixth sample.
제1 내지 제6 샘플에 입사 각도가 0도인 적색광을 조사한 경우의 양자 효율 Qe를 구한 결과를 도 9c에 나타낸다. 제6 샘플은 제1 샘플보다도 3% 낮은 양자 효율로 되어 있지만, 제2 샘플에 비해 약 2% 높은 양자 효율을 얻을 수 있다. 양자 효율 Qe는 제2 샘플, 제3 샘플, 제4 샘플, 제5 샘플, 제6 샘플의 순으로 높아지고 있다.The results of calculating the quantum efficiency Qe when red light with an incident angle of 0 degrees is irradiated on the first to sixth samples are shown in FIG. 9C. The sixth sample has a quantum efficiency that is 3% lower than that of the first sample, but can obtain a quantum efficiency that is about 2% higher than that of the second sample. Quantum efficiency Qe is increasing in the order of the second sample, third sample, fourth sample, fifth sample, and sixth sample.
도 8a 및 도 9a로부터 알 수 있는 바와 같이, 청색광의 경우에는, 고정 전하막(34)의 깊이 방향의 길이가 200nm로 양자 효율이 크게 개선되고, 그 이후의 길이에서는 미증(微增)한다. 도 8b 및 도 9b로부터 알 수 있는 바와 같이, 녹색광의 경우에는, 제6 샘플은, 제2 샘플에 비해 고정 전하막(34)의 깊이 방향의 길이가 800nm로 양자 효율이 2.4% 내지 3.2% 개선되고, 고정 전하막(34)의 깊이 방향의 길이가 100nm로 양자 효율이 3% 내지 약 4% 개선되어 있다. 도 8c 및 도 9c로부터 알 수 있는 바와 같이, 적색광의 경우에는, 양자 효율은, 고정 전하막(34)의 깊이 방향의 길이가 깊어짐에 따라서 미증한다.As can be seen from FIGS. 8A and 9A, in the case of blue light, quantum efficiency is greatly improved when the length of the fixed
도 8a 내지 도 9c로부터 알 수 있는 바와 같이, 적색광의 경우에는, 고정 전하막(34)의 깊이 방향의 길이가 길어져도 양자 효율은 미증한다. 그러나, 녹색광 및 청색광의 경우에는, 고정 전하막(34)의 깊이 방향의 길이가 길어짐에 따라서 양자 효율은 증가하고, 고정 전하막(34)의 깊이 방향의 길이가 1000nm(1㎛)이며, 에바네센트광의 스며나옴이 거의 없는 제1 샘플의 양자 효율에 가까워져, 광의 흡수를 억제하는 효과를 얻을 수 있다.As can be seen from FIGS. 8A to 9C, in the case of red light, the quantum efficiency is minimal even if the length of the fixed
다음으로, 제1 실시 형태의 촬상 장치의 광흡수 억제부(15)의 제조 방법을 도 10a 내지 도 10e를 참조하여 설명한다. 먼저, 도 10a에 나타내는 바와 같이, 화소 트랜지스터 및 그들을 구동하는 회로(20) 상에 광전 변환층(12)을 형성하고, 이 광전 변환층(12)에, 화소를 분리하여 광학적으로 절연하는 트렌치를 형성하고, 이 트렌치 내에 도전체(14)를 매립한다. 이에 의해, 광전 변환층(12)은 광전 변환부(12)가 된다. 계속해서, 광전 변환부(12) 및 도전체(14) 상에 마스크(400)를 형성한다(도 10a 참조).Next, the manufacturing method of the light
다음으로, 마스크(400)를 사용하여 광전 변환부(12)를 건식 에칭, 예를 들어 RIE(Reactive Ion Etching)를 행하고, 이에 의해 광전 변환부(12)는 깊이가 예를 들어 1㎛ 에칭된다. 광전 변환부(12)가 에칭에 의해 제거된 영역(402)이, 광흡수 억제부(15)가 마련되는 영역이 된다. 그 후, 마스크(400)를 제거한다(도 10b 참조).Next, dry etching, for example, RIE (Reactive Ion Etching), is performed on the
다음으로, 예를 들어 산화실리콘(410)을 퇴적하여, 영역(402)을 매립한다(도 10c 참조). 계속해서, 산화실리콘(410)의 표면을 CMP(Chemical Mechanical Etching)로 평탄화하고, 광전 변환부(12)의 표면을 노출한다(도 10d 참조). 이에 의해, 산화실리콘을 포함하는 광흡수 억제부(15)가 형성된다. 그 후, 고정 전하막(420)을 퇴적하고, 이 고정 전하막(420) 상에 산화막(430)을 형성한다.Next, the
이상 설명한 바와 같이, 제1 실시 형태에 의하면, 양자 효율의 저하를 억제할 수 있는 촬상 장치를 제공할 수 있다.As explained above, according to the first embodiment, it is possible to provide an imaging device capable of suppressing a decrease in quantum efficiency.
(제2 실시 형태)(Second Embodiment)
제2 실시 형태에 의한 촬상 장치를 도 11에 나타낸다. 이 제2 실시 형태의 촬상 장치는, 도 1에 나타내는 촬상 장치에 있어서, 광흡수 억제부(15)의 재료를 산화실리콘(SiO)으로부터 광전 변환부의 재료보다도 굴절률이 낮은 재료를 사용한 구성을 구비하고 있다. 예를 들어, 광전 변환부(12a, 12b)가 실리콘을 포함하는 반도체라면, 실리콘보다도 굴절률이 낮은 재료가 광흡수 억제부(15)에 사용된다. 광전 변환부(12a, 12b)가 화합물 반도체를 포함하면, 이 화합물 반도체보다도 굴절률이 낮은 재료가 사용된다. 이렇게 구성함으로써, 반사율을 향상시키는 것이 가능해지고, 다결정 실리콘에 광이 흡수되는 것을 억제할 수 있다. 제2 실시 형태의 촬상 장치도 제1 실시 형태와 마찬가지로, 양자 효율의 저하를 억제할 수 있다.An imaging device according to the second embodiment is shown in FIG. 11. The imaging device of this second embodiment has a structure in which, in the imaging device shown in FIG. 1, the material of the light
(제3 실시 형태)(Third Embodiment)
제3 실시 형태에 의한 촬상 장치를 도 12에 나타낸다. 이 제3 실시 형태의 촬상 장치는, 도 1에 나타내는 촬상 장치에 있어서, 광흡수 억제부(15)는 산화실리콘이 아니라, 공기가 밀봉된 구성을 갖고 있다. 공기는 실리콘보다도 굴절률이 낮으므로, 제3 실시 형태의 촬상 장치도 제1 실시 형태와 마찬가지로, 양자 효율의 저하를 억제할 수 있다.An imaging device according to the third embodiment is shown in FIG. 12. In the imaging device of this third embodiment shown in FIG. 1, the
(제4 실시 형태)(Fourth Embodiment)
제4 실시 형태에 의한 촬상 장치를 도 13에 나타낸다. 이 제4 실시 형태의 촬상 장치는, 도 1에 나타내는 촬상 장치에 있어서, 광흡수 억제부(15)는 깊이 방향을 따라서 두께가 감소하는 구성을 갖고 있다. 이에 의해, 깊이 방향에 있어서의 광흡수 억제부의 두께가 얇아지고, 도전체(14)로부터 광전 변환부(12)에 작용하는 전계가 인가되는 영역을 넓게 할 수 있다. 에바네센트광의 스며나옴이 강한 천부에서는 두께가 두꺼운 광흡수 억제부(15)에서 억제하고, 심부에서는 도전체(14)에 부 바이어스를 인가함으로써, 촬상된 화상에 백점이 발생하는 것을 억제한다. 제4 형태의 촬상 장치도 제1 실시 형태와 마찬가지로, 양자 효율의 저하를 억제할 수 있다.An imaging device according to the fourth embodiment is shown in FIG. 13. In the imaging device of this fourth embodiment shown in FIG. 1, the light
(제5 실시 형태)(Fifth Embodiment)
제5 실시 형태에 의한 촬상 장치를 도 14에 나타낸다. 이 제5 실시 형태의 촬상 장치는, 도 1에 나타내는 촬상 장치에 있어서, 광흡수 억제부(15)에 의해 둘러싸인 광전 변환부(12a, 12b)의 상단부의 영역을 광전 변환부(12a, 12b)의 도전형과 다른 도전형의 반도체층(28)으로 한 구성을 구비하고 있다. 광흡수 억제부(15)에 의해 둘러싸인 영역은, 도전체(14)에 인가되는 부 바이어스가 작용하지 않기 때문에, 광전 변환부(12a, 12b)와 도전형이 다른 반도체층(28)을 마련함으로써, 촬상된 화상에 백점이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 제5 형태의 촬상 장치도 제1 실시 형태와 마찬가지로, 양자 효율의 저하를 억제할 수 있다.An imaging device according to the fifth embodiment is shown in FIG. 14. In the imaging device of this fifth embodiment, in the imaging device shown in FIG. 1, the area of the upper ends of the
(제6 실시 형태)(6th embodiment)
제6 실시 형태에 의한 촬상 장치를 도 15에 나타낸다. 이 제6 실시 형태의 촬상 장치는, 도 1에 나타내는 촬상 장치에 있어서, 광흡수 억제부(15)가 광전 변환부(12a, 12b)의 상단부뿐만 아니라, 깊이 방향을 따라서 하단부도 설치되고, 또한 도전체(14)의 두께와 광흡수 억제부(15)의 두께의 합이 거의 일정해지도록 구성되어 있다. 이 때문에, 광흡수 억제부(15)는 광전 변환부(12a, 12b)의 상단부에서는 두꺼워지고, 하단부에서는 얇아지고 있다. 에바네센트광의 스며나옴이 강한 광전 변환부의 상단부에서는 광흡수 억제부(15)의 두께가 다른 부분보다도 두껍기 때문에, 제1 실시 형태와 마찬가지로, 양자 효율의 저하를 억제할 수 있다. 또한, 본 실시 형태에 있어서는, 광전 변환부(12a, 12b)의 두께(도면 상에서 수평 방향의 길이)가 거의 일정하게 되어 있다.An imaging device according to the sixth embodiment is shown in FIG. 15. In the imaging device of this sixth embodiment, in the imaging device shown in FIG. 1, the light
(제7 실시 형태)(7th embodiment)
제7 실시 형태에 의한 촬상 장치에 대하여 도 16a, 16b를 참조하여 설명한다. 도 16a는 도 16b에 나타내는 절단면 A-A에서 절단한 단면도, 도 16b는 1개의 화소군의 평면도이다.An imaging device according to the seventh embodiment will be described with reference to FIGS. 16A and 16B. FIG. 16A is a cross-sectional view taken along the section A-A shown in FIG. 16B, and FIG. 16B is a top view of one pixel group.
이 제7 실시 형태의 촬상 장치는, 도 1에 나타내는 촬상 장치에 있어서, 4개의 화소(10a, 10b, 10c, 10d)로 이루어지는 화소군에 있어서, 각 화소, 예를 들어 화소(10a)의 광전 변환부(12a)를 2개의 광전 변환 부분(12a1, 12a2)으로 나누고, 나뉜 2개의 광전 변환 부분(12a1, 12a2)은, 트렌치에 매립된 도전체(14a)에 의해 분리된다. 광전 변환 부분(12a1, 12a2)은, 도 16b로부터 알 수 있는 바와 같이, 트렌치 내에 마련된 도전체(14a)로 분리된다. 이 도전체(14a)는 평면에서 보았을 때에 중앙부에 절단되어 있으며, 이에 의해, 광전 변환 부분(12a1) 및 광전 변환 부분(12a2)이 이 절단 개소에서 접속된다. 이 도전체(14a)의 측부는, 광전 변환 부분(12a1, 12a2)의 상단부에 있어서 광흡수 억제부(15)에 의해 둘러싸여 있다. 또한, 마이크로 렌즈(18)는 2개의 광전 변환 부분(12a1, 12a2)에 의해 공유된다.In the imaging device of this seventh embodiment, in the imaging device shown in FIG. 1, in a pixel group consisting of four
이렇게 구성된 제7 실시 형태에 있어서는, 각 화소의 광전 변환부를 2개의 광전 변환 부분으로 나눔으로써 화상의 위상차를 검출할 수 있다. 제7 형태의 촬상 장치도 제1 실시 형태와 마찬가지로, 양자 효율의 저하를 억제할 수 있다.In the seventh embodiment configured in this way, the phase difference of the image can be detected by dividing the photoelectric conversion section of each pixel into two photoelectric conversion sections. Like the first embodiment, the imaging device of the seventh embodiment can also suppress a decrease in quantum efficiency.
(제8 실시 형태)(8th embodiment)
제8 실시 형태에 의한 촬상 장치를 도 17에 나타낸다. 도 1에 나타내는 촬상 장치에 있어서는, 1개의 화소군을 구성하는 각 화소에 대하여 마이크로 렌즈(18)가 마련되어 있다. 그러나, 제8 실시 형태에 있어서는, 1개의 화소군에 대하여 1개의 마이크로 렌즈가 마련된 구성을 갖고 있다. 마이크로 렌즈(18) 이외에는, 제1 실시 형태와 마찬가지의 구성을 갖고 있다. 제8 형태의 촬상 장치도 제1 실시 형태와 마찬가지로, 양자 효율의 저하를 억제할 수 있다.An imaging device according to the eighth embodiment is shown in FIG. 17. In the imaging device shown in FIG. 1, a
(제9 실시 형태)(9th embodiment)
제9 실시 형태에 의한 촬상 장치를 도 18에 나타낸다. 도 1에 나타내는 촬상 장치에 있어서는, 1개의 화소군에 대하여, 화소 트랜지스터 및 그들을 구동하는 회로(20)가 마련되고, 이 회로는 3단 구조를 갖고 있다. 제9 실시 형태의 촬상 장치에 있어서는, 리셋 트랜지스터 RST, 증폭 트랜지스터 AMP 및 선택 트랜지스터 SEL 등의 화소 트랜지스터가 동일한 계층에 배치된 구성을 갖고 있다. 그 이외에는, 제1 실시 형태의 촬상 장치와 동일한 구성을 구비하고 있다. 제9 형태의 촬상 장치도 제1 실시 형태와 마찬가지로, 양자 효율의 저하를 억제할 수 있다.An imaging device according to the ninth embodiment is shown in FIG. 18. In the imaging device shown in FIG. 1, pixel transistors and a
(제10 실시 형태)(10th embodiment)
제10 실시 형태에 의한 촬상 장치를 도 19에 나타낸다. 도 1에 나타내는 촬상 장치에 있어서는, 도전체(14)는 예를 들어 다결정 실리콘을 포함하고 있었다. 제10 실시 형태의 촬상 장치에 있어서는, 도전체(14)로서, 광전 변환부에 포함되는 재료보다도 저굴절률의 도전 금속 재료, 예를 들어 산화탄탈, 텅스텐 등이 사용된다. 제10 형태의 촬상 장치도 제1 실시 형태와 마찬가지로, 양자 효율의 저하를 억제할 수 있다.An imaging device according to the tenth embodiment is shown in FIG. 19. In the imaging device shown in FIG. 1, the
(응용예)(Application example)
본 개시에 관한 기술은 각종 제품에 응용할 수 있다. 예를 들어, 본 개시에 관한 기술은, 자동차, 전기 자동차, 하이브리드 전기 자동차, 자동 이륜차, 자전거, 퍼스널 모빌리티, 비행기, 드론, 선박, 로봇, 건설 기계, 농업 기계(트랙터) 등의 어느 종류의 이동체에 탑재되는 장치로서 실현되어도 된다.The technology of this disclosure can be applied to various products. For example, the technology related to the present disclosure applies to any type of moving vehicle such as a car, electric vehicle, hybrid electric vehicle, two-wheeled vehicle, bicycle, personal mobility, airplane, drone, ship, robot, construction machine, or agricultural machine (tractor). It may be realized as a device mounted on.
도 20은, 본 개시에 관한 기술이 적용될 수 있는 이동체 제어 시스템의 일례인 차량 제어 시스템(7000)의 개략적인 구성예를 나타내는 블록도이다. 차량 제어 시스템(7000)은 통신 네트워크(7010)를 통해 접속된 복수의 전자 제어 유닛을 구비한다. 도 19에 나타낸 예에서는, 차량 제어 시스템(7000)은 구동계 제어 유닛(7100), 보디계 제어 유닛(7200), 배터리 제어 유닛(7300), 차밖 정보 검출 유닛(7400), 차내 정보 검출 유닛(7500) 및 통합 제어 유닛(7600)을 구비한다. 이들의 복수의 제어 유닛을 접속하는 통신 네트워크(7010)는, 예를 들어 CAN(Controller Area Network), LIN(Local Interconnect Network), LAN(Local Area Network) 또는 FlexRay(등록 상표) 등의 임의의 규격에 준거한 차량 탑재 통신 네트워크이면 된다.FIG. 20 is a block diagram showing a schematic configuration example of a
각 제어 유닛은, 각종 프로그램에 따라서 연산 처리를 행하는 마이크로컴퓨터와, 마이크로컴퓨터에 의해 실행되는 프로그램 또는 각종 연산에 사용되는 파라미터 등을 기억하는 기억부와, 각종 제어 대상의 장치를 구동하는 구동 회로를 구비한다. 각 제어 유닛은, 통신 네트워크(7010)를 통해 다른 제어 유닛 사이에서 통신을 행하기 위한 네트워크 I/F를 구비함과 함께, 차 내외의 장치 또는 센서 등 사이에서, 유선 통신 또는 무선 통신에 의해 통신을 행하기 위한 통신 I/F를 구비한다. 도 20에서는, 통합 제어 유닛(7600)의 기능 구성으로서, 마이크로컴퓨터(7610), 범용 통신 I/F(7620), 전용 통신 I/F(7630), 측위부(7640), 비콘 수신부(7650), 차내 기기 I/F(7660), 음성 화상 출력부(7670), 차량 탑재 네트워크 I/F(7680) 및 기억부(7690)가 도시되어 있다. 다른 제어 유닛도 마찬가지로, 마이크로컴퓨터, 통신 I/F 및 기억부 등을 구비한다.Each control unit includes a microcomputer that performs calculation processing according to various programs, a storage unit that stores programs executed by the microcomputer or parameters used in various calculations, and a driving circuit that drives various control target devices. Equipped with Each control unit is provided with a network I/F for communication between other control units through the
구동계 제어 유닛(7100)은 각종 프로그램에 따라서 차량의 구동계에 관련되는 장치의 동작을 제어한다. 예를 들어, 구동계 제어 유닛(7100)은, 내연 기관 또는 구동용 모터 등의 차량의 구동력을 발생시키기 위한 구동력 발생 장치, 구동력을 차륜에 전달하기 위한 구동력 전달 기구, 차량의 타각을 조절하는 스티어링 기구, 및 차량의 제동력을 발생시키는 제동 장치 등의 제어 장치로서 기능한다. 구동계 제어 유닛(7100)은 ABS(Antilock Brake System) 또는 ESC(Electronic Stability Control) 등의 제어 장치로서의 기능을 가져도 된다.The drive
구동계 제어 유닛(7100)에는, 차량 상태 검출부(7110)가 접속된다. 차량 상태 검출부(7110)에는, 예를 들어 차체의 축 회전 운동의 각속도를 검출하는 자이로 센서, 차량의 가속도를 검출하는 가속도 센서, 혹은 액셀러레이터 페달의 조작량, 브레이크 페달의 조작량, 스티어링 휠의 조타각, 엔진 회전수 또는 차륜의 회전 속도 등을 검출하기 위한 센서 중 적어도 1개가 포함된다. 구동계 제어 유닛(7100)은 차량 상태 검출부(7110)로부터 입력되는 신호를 사용하여 연산 처리를 행하여, 내연 기관, 구동용 모터, 전동 파워스티어링 장치 또는 브레이크 장치 등을 제어한다.A vehicle
보디계 제어 유닛(7200)은 각종 프로그램에 따라서 차체에 장비된 각종 장치의 동작을 제어한다. 예를 들어, 보디계 제어 유닛(7200)은 키리스 엔트리 시스템, 스마트키 시스템, 파워 윈도우 장치, 혹은 헤드 램프, 백 램프, 브레이크 램프, 방향 지시 등 또는 포그 램프 등의 각종 램프의 제어 장치로서 기능한다. 이 경우, 보디계 제어 유닛(7200)에는, 키를 대체하는 휴대기로부터 발신되는 전파 또는 각종 스위치의 신호가 입력될 수 있다. 보디계 제어 유닛(7200)은 이들 전파 또는 신호의 입력을 접수하여, 차량의 도어록 장치, 파워 윈도우 장치, 램프 등을 제어한다.The body
배터리 제어 유닛(7300)은 각종 프로그램에 따라서 구동용 모터의 전력 공급원인 이차 전지(7310)를 제어한다. 예를 들어, 배터리 제어 유닛(7300)에는, 이차 전지(7310)를 구비한 배터리 장치로부터, 배터리 온도, 배터리 출력 전압 또는 배터리의 잔존 용량 등의 정보가 입력된다. 배터리 제어 유닛(7300)은 이들 신호를 사용하여 연산 처리를 행하여, 이차 전지(7310)의 온도 조절 제어 또는 배터리 장치에 구비된 냉각 장치 등의 제어를 행한다.The
차밖 정보 검출 유닛(7400)은 차량 제어 시스템(7000)을 탑재한 차량의 외부의 정보를 검출한다. 예를 들어, 차밖 정보 검출 유닛(7400)에는, 촬상부(7410) 및 차밖 정보 검출부(7420) 중 적어도 한쪽이 접속된다. 촬상부(7410)에는, ToF(Time Of Flight) 카메라, 스테레오 카메라, 단안 카메라, 적외선 카메라 및 그 밖의 카메라 중 적어도 1개가 포함된다. 차밖 정보 검출부(7420)에는, 예를 들어 현재의 천후 또는 기상을 검출하기 위한 환경 센서, 혹은 차량 제어 시스템(7000)을 탑재한 차량의 주위 다른 차량, 장해물 또는 보행자 등을 검출하기 위한 주위 정보 검출 센서 중 적어도 1개가 포함된다.The outside-the-vehicle
환경 센서는, 예를 들어 우천을 검출하는 빗방울 센서, 안개를 검출하는 안개 센서, 일조 정도를 검출하는 일조 센서, 및 강설을 검출하는 눈 센서 중 적어도 하나이면 된다. 주위 정보 검출 센서는 초음파 센서, 레이더 장치 및 LIDAR(Light Detection and Ranging, Laser Imaging Detection and Ranging) 장치 중 적어도 하나이면 된다. 이들 촬상부(7410) 및 차밖 정보 검출부(7420)는 각각 독립된 센서 내지 장치로서 구비되어도 되고, 복수의 센서 내지 장치가 통합된 장치로서 구비되어도 된다.The environmental sensor may be at least one of, for example, a raindrop sensor that detects rain, a fog sensor that detects fog, a sunlight sensor that detects the degree of sunlight, and a snow sensor that detects snowfall. The surrounding information detection sensor may be at least one of an ultrasonic sensor, a radar device, and a LIDAR (Light Detection and Ranging, Laser Imaging Detection and Ranging) device. These
여기서, 도 21은 촬상부(7410) 및 차밖 정보 검출부(7420)의 설치 위치의 예를 나타낸다. 촬상부(7910, 7912, 7914, 7916, 7918)는, 예를 들어 차량(7900)의 프론트 노즈, 사이드미러, 리어 범퍼, 백 도어 및 차 실내의 프론트 글래스의 상부 중 적어도 1개의 위치에 마련된다. 프론트 노즈에 구비되는 촬상부(7910) 및 차 실내의 프론트 글래스의 상부에 구비되는 촬상부(7918)는, 주로 차량(7900)의 전방의 화상을 취득한다. 사이드미러에 구비되는 촬상부(7912, 7914)는 주로 차량(7900)의 측방의 화상을 취득한다. 리어 범퍼 또는 백 도어에 구비되는 촬상부(7916)는 주로 차량(7900)의 후방의 화상을 취득한다. 차 실내의 프론트 글래스의 상부에 구비되는 촬상부(7918)는, 주로 선행 차량, 또는 보행자, 장해물, 신호기, 교통 표지 또는 차선 등의 검출에 사용된다.Here, FIG. 21 shows an example of the installation positions of the
또한, 도 21에는, 각각의 촬상부(7910, 7912, 7914, 7916)의 촬영 범위의 일례가 나타내져 있다. 촬상 범위 a는 프론트 노즈에 마련된 촬상부(7910)의 촬상 범위를 나타내고, 촬상 범위 b, c는 각각 사이드미러에 마련된 촬상부(7912, 7914)의 촬상 범위를 나타내고, 촬상 범위 d는 리어 범퍼 또는 백 도어에 마련된 촬상부(7916)의 촬상 범위를 나타낸다. 예를 들어, 촬상부(7910, 7912, 7914, 7916)에 의해 촬상된 화상 데이터가 중첩시켜짐으로써, 차량(7900)을 상방으로부터 본 부감 화상이 얻어진다.Additionally, FIG. 21 shows an example of the imaging range of each
차량(7900)의 프론트, 리어, 사이드, 코너 및 차 실내의 프론트 글래스의 상부에 마련되는 차밖 정보 검출부(7920, 7922, 7924, 7926, 7928, 7930)는, 예를 들어 초음파 센서 또는 레이더 장치이면 된다. 차량(7900)의 프론트 노즈, 리어 범퍼, 백 도어 및 차 실내의 프론트 글래스의 상부에 마련되는 차밖 정보 검출부(7920, 7926, 7930)는, 예를 들어 LIDAR 장치이면 된다. 이들 차밖 정보 검출부(7920 내지 7930)는 주로 선행 차량, 보행자 또는 장해물 등의 검출에 사용된다.The out-of-vehicle
도 20으로 되돌아가서 설명을 계속한다. 차밖 정보 검출 유닛(7400)은 촬상부(7410)에 차밖의 화상을 촬상시킴과 함께, 촬상된 화상 데이터를 수신한다. 또한, 차밖 정보 검출 유닛(7400)은 접속되어 있는 차밖 정보 검출부(7420)로부터 검출 정보를 수신한다. 차밖 정보 검출부(7420)가 초음파 센서, 레이더 장치 또는 LIDAR 장치인 경우에는, 차밖 정보 검출 유닛(7400)은 초음파 또는 전자파 등을 발신시킴과 함께, 수신된 반사파의 정보를 수신한다. 차밖 정보 검출 유닛(7400)은 수신한 정보에 기초하여, 사람, 차, 장해물, 표지 또는 노면 상의 문자 등의 물체 검출 처리 또는 거리 검출 처리를 행해도 된다. 차밖 정보 검출 유닛(7400)은 수신한 정보에 기초하여, 강우, 안개 또는 노면 상황 등을 인식하는 환경 인식 처리를 행해도 된다. 차밖 정보 검출 유닛(7400)은 수신한 정보에 기초하여, 차밖의 물체까지의 거리를 산출해도 된다.The explanation continues by returning to Figure 20. The outside-the-vehicle
또한, 차밖 정보 검출 유닛(7400)은 수신한 화상 데이터에 기초하여, 사람, 차, 장해물, 표지 또는 노면 상의 문자 등을 인식하는 화상 인식 처리 또는 거리 검출 처리를 행해도 된다. 차밖 정보 검출 유닛(7400)은 수신한 화상 데이터에 대하여 변형 보정 또는 위치 정렬 등의 처리를 행함과 함께, 다른 촬상부(7410)에 의해 촬상된 화상 데이터를 합성하여, 부감 화상 또는 파노라마 화상을 생성해도 된다. 차밖 정보 검출 유닛(7400)은 다른 촬상부(7410)에 의해 촬상된 화상 데이터를 사용하여, 시점 변환 처리를 행해도 된다.Additionally, the outside-the-vehicle
차내 정보 검출 유닛(7500)은 차내의 정보를 검출한다. 차내 정보 검출 유닛(7500)에는, 예를 들어 운전자의 상태를 검출하는 운전자 상태 검출부(7510)가 접속된다. 운전자 상태 검출부(7510)는, 운전자를 촬상하는 카메라, 운전자의 생체 정보를 검출하는 생체 센서 또는 차 실내의 음성을 집음하는 마이크 등을 포함해도 된다. 생체 센서는, 예를 들어 시트면 또는 스티어링 휠 등에 마련되어, 좌석에 앉은 탑승자 또는 스티어링 휠을 쥐는 운전자의 생체 정보를 검출한다. 차내 정보 검출 유닛(7500)은 운전자 상태 검출부(7510)로부터 입력되는 검출 정보에 기초하여, 운전자의 피로 정도 또는 집중 정도를 산출해도 되고, 운전자가 졸고 있지 않는지를 판별해도 된다. 차내 정보 검출 유닛(7500)은 집음된 음성 신호에 대하여 노이즈 캔슬링 처리 등의 처리를 행해도 된다.The in-vehicle
통합 제어 유닛(7600)은 각종 프로그램에 따라서 차량 제어 시스템(7000) 내의 동작 전반을 제어한다. 통합 제어 유닛(7600)에는, 입력부(7800)가 접속되어 있다. 입력부(7800)는, 예를 들어 터치 패널, 버튼, 마이크로폰, 스위치 또는 레버 등, 탑승자에 의해 입력 조작될 수 있는 장치에 의해 실현된다. 통합 제어 유닛(7600)에는, 마이크로폰에 의해 입력되는 음성을 음성 인식함으로써 얻은 데이터가 입력되어도 된다. 입력부(7800)는, 예를 들어 적외선 또는 기타 전파를 이용한 리모트 컨트롤 장치여도 되고, 차량 제어 시스템(7000)의 조작에 대응한 휴대 전화 또는 PDA(Personal Digital Assistant) 등의 외부 접속 기기여도 된다. 입력부(7800)는 예를 들어 카메라여도 되고, 그 경우 탑승자는 제스처에 의해 정보를 입력할 수 있다. 혹은, 탑승자가 장착한 웨어러블 장치의 움직임을 검출함으로써 얻어진 데이터가 입력되어도 된다. 또한, 입력부(7800)는, 예를 들어 상기 입력부(7800)를 사용하여 탑승자 등에 의해 입력된 정보에 기초하여 입력 신호를 생성하고, 통합 제어 유닛(7600)에서 출력하는 입력 제어 회로 등을 포함해도 된다. 탑승자 등은 이 입력부(7800)를 조작함으로써, 차량 제어 시스템(7000)에 대하여 각종 데이터를 입력하거나 처리 동작을 지시하거나 한다.The
기억부(7690)는 마이크로컴퓨터에 의해 실행되는 각종 프로그램을 기억하는 ROM(Read Only Memory), 및 각종 파라미터, 연산 결과 또는 센서값 등을 기억하는 RAM(Random Access Memory)을 포함하고 있어도 된다. 또한, 기억부(7690)는 HDD(Hard Disc Drive) 등의 자기 기억 디바이스, 반도체 기억 디바이스, 광 기억 디바이스 또는 광 자기 기억 디바이스 등에 의해 실현해도 된다.The
범용 통신 I/F(7620)는 외부 환경(7750)에 존재하는 각종 기기와의 사이의 통신을 중개하는 범용적인 통신 I/F이다. 범용 통신 I/F(7620)는 GSM(등록 상표)(Global System of Mobile communications), WiMAX(등록 상표), LTE(등록 상표)(Long Term Evolution) 혹은 LTE-A(LTE-Advanced) 등의 셀룰러 통신 프로토콜, 또는 무선 LAN(Wi-Fi(등록 상표)라고도 함), Bluetooth(등록 상표) 등의 기타 무선 통신 프로토콜을 실장해도 된다. 범용 통신 I/F(7620)는, 예를 들어 기지국 또는 액세스 포인트를 통해, 외부 네트워크(예를 들어, 인터넷, 클라우드 네트워크 또는 사업자 고유의 네트워크) 상에 존재하는 기기(예를 들어, 애플리케이션 서버 또는 제어 서버)에 접속해도 된다. 또한, 범용 통신 I/F(7620)는, 예를 들어 P2P(Peer To Peer) 기술을 사용하여, 차량의 근방에 존재하는 단말기(예를 들어, 운전자, 보행자 혹은 점포의 단말기, 또는 MTC(Machine Type Communication) 단말기)와 접속해도 된다.The general-purpose communication I/
전용 통신 I/F(7630)는 차량에 있어서의 사용을 목적으로 하여 책정된 통신 프로토콜을 서포트하는 통신 I/F이다. 전용 통신 I/F(7630)는, 예를 들어 하위 레이어의 IEEE802.11p와 상위 레이어의 IEEE1609의 조합인 WAVE(Wireless Access in Vehicle Environment), DSRC(Dedicated Short Range Communications), 또는 셀룰러 통신 프로토콜과 같은 표준 프로토콜을 실장해도 된다. 전용 통신 I/F(7630)은 전형적으로는 차차간(Vehicle to Vehicle) 통신, 노차간(Vehicle to Infrastructure) 통신, 차량과 집 사이(Vehicle to Home)의 통신 및 보차간(Vehicle to Pedestrian) 통신 중 하나 이상을 포함하는 개념인 V2X 통신을 수행한다.The dedicated communication I/
측위부(7640)는, 예를 들어 GNSS(Global Navigation Satellite System) 위성으로부터의 GNSS 신호(예를 들어, GPS(Global Positioning System) 위성으로부터의 GPS 신호)를 수신하여 측위를 실행하고, 차량의 위도, 경도 및 고도를 포함하는 위치 정보를 생성한다. 또한, 측위부(7640)는 무선 액세스 포인트와의 신호의 교환에 의해 현재 위치를 특정해도 되고, 또는 측위 기능을 갖는 휴대 전화, PHS 혹은 스마트폰과 같은 단말기로부터 위치 정보를 취득해도 된다.The
비콘 수신부(7650)는, 예를 들어 도로 상에 설치된 무선국 등으로부터 발신되는 전파 혹은 전자파를 수신하고, 현재 위치, 정체, 통행 금지 또는 소요 시간 등의 정보를 취득한다. 또한, 비콘 수신부(7650)의 기능은 상술한 전용 통신 I/F(7630)에 포함되어도 된다. For example, the
차내 기기 I/F(7660)는 마이크로컴퓨터(7610)와 차 내에 존재하는 각종 차내 기기(7760) 사이의 접속을 중개하는 통신 인터페이스이다. 차내 기기 I/F(7660)는 무선 LAN, Bluetooth(등록 상표), NFC(Near Field Communication) 또는 WUSB(Wireless USB)라는 무선 통신 프로토콜을 사용하여 무선 접속을 확립해도 된다. 또한, 차내 기기 I/F(7660)는 도시하지 않은 접속 단자(및 필요하다면 케이블)를 통해, USB(Universal Serial Bus), HDMI(등록 상표)(High-Definition Multimedia Interface, 또는 MHL(Mobile High-definition Link) 등의 유선 접속을 확립해도 된다. 차내 기기(7760)는, 예를 들어 탑승자가 갖는 모바일 기기 혹은 웨어러블 기기, 또는 차량에 반입되거나 혹은 설치되는 정보 기기 중 적어도 하나를 포함하고 있어도 된다. 또한, 차내 기기(7760)는 임의의 목적지까지의 경로 탐색을 행하는 내비게이션 장치를 포함하고 있어도 된다. 차내 기기 I/F(7660)는 이들 차내 기기(7760) 사이에서 제어 신호 또는 데이터 신호를 교환한다.The in-vehicle device I/
차량 탑재 네트워크 I/F(7680)는 마이크로컴퓨터(7610)와 통신 네트워크(7010) 사이의 통신을 중개하는 인터페이스이다. 차량 탑재 네트워크 I/F(7680)는 통신 네트워크(7010)에 의해 서포트되는 소정의 프로토콜에 의거하여, 신호 등을 송수신한다.The vehicle-mounted network I/F (7680) is an interface that mediates communication between the microcomputer (7610) and the communication network (7010). The vehicle-mounted network I/
통합 제어 유닛(7600)의 마이크로컴퓨터(7610)는, 범용 통신 I/F(7620), 전용 통신 I/F(7630), 측위부(7640), 비콘 수신부(7650), 차내 기기 I/F(7660) 및 차량 탑재 네트워크 I/F(7680) 중 적어도 하나를 통해 취득되는 정보에 기초하여, 각종 프로그램에 따라서, 차량 제어 시스템(7000)을 제어한다. 예를 들어, 마이크로컴퓨터(7610)는 취득되는 차 내외의 정보에 기초하여, 구동력 발생 장치, 스티어링 기구 또는 제동 장치의 제어 목표값을 연산하여, 구동계 제어 유닛(7100)에 대하여 제어 지령을 출력해도 된다. 예를 들어, 마이크로컴퓨터(7610)는 차량의 충돌 회피 혹은 충격 완화, 차간 거리에 기초하는 추종 주행, 차속 유지 주행, 차량의 충돌 경고, 또는 차량의 레인 일탈 경고 등을 포함하는 ADAS(Advanced Driver Assistance System)의 기능 실현을 목적으로 한 협조 제어를 행해도 된다. 또한, 마이크로컴퓨터(7610)는 취득되는 차량의 주위 정보에 기초하여 구동력 발생 장치, 스티어링 기구 또는 제동 장치 등을 제어함으로써, 운전자의 조작에 따르지 않고 자율적으로 주행하는 자동 운전 등을 목적으로 한 협조 제어를 행해도 된다.The
마이크로컴퓨터(7610)는 범용 통신 I/F(7620), 전용 통신 I/F(7630), 측위부(7640), 비콘 수신부(7650), 차내 기기 I/F(7660) 및 차량 탑재 네트워크 I/F(7680) 중 적어도 하나를 통해 취득되는 정보에 기초하여, 차량과 주변의 구조물이나 인물 등의 물체 사이에 3차원 거리 정보를 생성하여, 차량의 현재 위치의 주변 정보를 포함하는 로컬 지도 정보를 작성해도 된다. 또한, 마이크로컴퓨터(7610)는 취득되는 정보에 기초하여, 차량의 충돌, 보행자 등의 근접 또는 통행 금지의 도로에의 진입 등의 위험을 예측하여, 경고용 신호를 생성해도 된다. 경고용 신호는, 예를 들어 경고음을 발생시키거나, 경고 램프를 점등시키거나 하기 위한 신호이면 된다.The microcomputer (7610) includes a general-purpose communication I/F (7620), a dedicated communication I/F (7630), a positioning unit (7640), a beacon receiver (7650), an in-vehicle device I/F (7660), and a vehicle-mounted network I/F. Based on information acquired through at least one of F (7680), 3D distance information is generated between the vehicle and objects such as surrounding structures or people, and local map information including surrounding information of the current location of the vehicle is generated. You may write it. Additionally, based on the acquired information, the
음성 화상 출력부(7670)는 차량의 탑승자 또는 차밖에 대하여, 시각적 또는 청각적으로 정보를 통지하는 것이 가능한 출력 장치에 음성 및 화상 중 적어도 한쪽의 출력 신호를 송신한다. 도 19의 예에서는, 출력 장치로서, 오디오 스피커(7710), 표시부(7720) 및 인스트루먼트 패널(7730)이 예시되어 있다. 표시부(7720)는, 예를 들어 온보드 디스플레이 및 헤드업 디스플레이 중 적어도 하나를 포함하고 있어도 된다. 표시부(7720)는 AR(Augmented Reality) 표시 기능을 갖고 있어도 된다. 출력 장치는 이들 장치 이외의, 헤드폰, 탑승자가 장착하는 안경형 디스플레이 등의 웨어러블 디바이스, 프로젝터 또는 램프 등의 다른 장치여도 된다. 출력 장치가 표시 장치인 경우, 표시 장치는, 마이크로컴퓨터(7610)가 행한 각종 처리에 의해 얻어진 결과 또는 다른 제어 유닛으로부터 수신된 정보를, 텍스트, 이미지, 표, 그래프 등, 각종 형식으로 시각적으로 표시한다. 또한, 출력 장치가 음성 출력 장치인 경우, 음성 출력 장치는 재생된 음성 데이터 또는 음향 데이터 등으로 이루어지는 오디오 신호를 아날로그 신호으로 변환하여 청각적으로 출력한다.The audio and
또한, 도 20에 나타낸 예에 있어서, 통신 네트워크(7010)를 통해 접속된 적어도 2개의 제어 유닛이 하나의 제어 유닛으로서 일체화되어도 된다. 혹은, 개개의 제어 유닛이 복수의 제어 유닛에 의해 구성되어도 된다. 또한, 차량 제어 시스템(7000)이 도시되지 않은 다른 제어 유닛을 구비해도 된다. 또한, 상기 설명에 있어서, 어느 제어 유닛이 담당하는 기능의 일부 또는 전부를, 다른 제어 유닛에 갖게 해도 된다. 즉, 통신 네트워크(7010)를 통해 정보의 송수신이 되도록 되어 있으면, 소정의 연산 처리가 어느 제어 유닛에서 행해지도록 되어도 된다. 마찬가지로, 어느 제어 유닛에 접속되어 있는 센서 또는 장치가, 다른 제어 유닛에 접속됨과 함께, 복수의 제어 유닛이 통신 네트워크(7010)를 통해 서로 검출 정보를 송수신해도 된다.Additionally, in the example shown in FIG. 20, at least two control units connected via the
또한, 도 20에 나타내는 촬상부(7410) 또는 도 21에 나타내는 촬상부(7910 내지 7916)로서 제1 내지 제10 실시 형태 중 어느 촬상 장치를 사용할 수 있다.Additionally, any of the imaging devices of the first to tenth embodiments can be used as the
이상, 첨부 도면을 참조하여 본 개시의 실시 형태에 대하여 상세하게 설명했지만, 본 개시의 기술적 범위는 이러한 예에 한정되지는 않는다. 본 개시의 기술 분야에 있어서의 통상의 지식을 가진 자라면, 특허 청구 범위에 기재된 기술적 사상의 범주 내에서, 각종 변경예 또는 수정예에 상도할 수 있는 것은 명백하다. 이들에 대해서도, 당연히 본 개시의 기술적 범위에 속하는 것으로 이해된다.Although embodiments of the present disclosure have been described in detail with reference to the accompanying drawings, the technical scope of the present disclosure is not limited to these examples. It is obvious to those skilled in the art of the present disclosure that various changes or modifications can be made within the scope of the technical idea described in the claims. These are naturally understood to fall within the technical scope of the present disclosure.
또한, 본 명세서에 기재된 효과는, 어디까지나 설명적 또는 예시적인 것이며 한정적이지는 않다. 즉, 본 개시에 관한 기술은, 상기 효과와 함께 또는 상기 효과 대신에, 본 명세서의 기재로부터 당업자에게 명확한 다른 효과를 발휘할 수 있다.In addition, the effects described in this specification are illustrative or illustrative only and are not limited. In other words, the technology related to the present disclosure can exert other effects that are apparent to those skilled in the art from the description of this specification, in addition to or instead of the above effects.
또한, 이하와 같은 구성도 본 개시의 기술적 범위에 속한다.Additionally, the following configurations also fall within the technical scope of the present disclosure.
(1) 화소마다 마련되며 각각이 광 입사측의 제1 단부와 상기 제1 단부와 반대 측의 제2 단부를 갖는 복수의 광전 변환부와, 상기 복수의 광전 변환부의 각각의 경계를 따라서 상기 제1 단부로부터 상기 제2 단부로의 제1 방향으로 배치된 제1 부재와, 상기 복수의 광전 변환부의 각각과 상기 제1 부재 사이에서 또한 상기 제1 단부 측에 마련되며 상기 광전 변환부보다도 굴절률이 낮은 재료를 포함하는 제2 부재를 구비한 촬상 장치.(1) a plurality of photoelectric conversion units provided for each pixel and each having a first end on the light incident side and a second end on an opposite side to the first end, and the second end along the boundaries of each of the plurality of photoelectric conversion units. A first member disposed in a first direction from the first end to the second end, and between each of the plurality of photoelectric conversion units and the first member and also on the first end side and having a refractive index greater than that of the photoelectric conversion unit. An imaging device having a second member comprising a low material.
(2) 상기 제2 부재는 도전체를 포함하는, (1) 기재의 촬상 장치.(2) The imaging device according to (1), wherein the second member includes a conductor.
(3) 상기 제2 부재는 밀봉된 공기를 포함하는, (1) 기재의 촬상 장치.(3) The imaging device of (1), wherein the second member contains sealed air.
(4) 상기 제2 부재는 상기 제1 방향을 따라서 두께가 얇아지는, (1) 기재의 촬상 장치.(4) The imaging device of (1), wherein the second member becomes thinner along the first direction.
(5) 상기 광전 변환부에 있어서 상기 제2 부재가 배치된 이외의 영역에, 상기 광전 변환부와 다른 도전형의 반도체층을 더 구비한, (1) 기재의 촬상 장치.(5) The imaging device according to (1), further comprising a semiconductor layer of a conductivity type different from that of the photoelectric conversion section in a region of the photoelectric conversion section other than where the second member is disposed.
(6) 상기 제2 부재는 상기 제1 방향을 따라서 상기 제2 단부 측까지 연장되고 또한 상기 제1 방향을 따라서 상기 제1 부재의 두께와 상기 제2 부재의 두께의 합이 균일한, (1) 기재의 촬상 장치.(6) The second member extends along the first direction to the second end side and the sum of the thickness of the first member and the thickness of the second member along the first direction is uniform, (1 ) The imaging device of the substrate.
(7) 상기 제2 부재는 상기 제1 단부 측에 있어서의 두께가 상기 제2 단부 측에 있어서의 두께보다도 얇은, (6) 기재의 촬상 장치.(7) The imaging device according to (6), wherein the thickness of the second member on the first end side is thinner than the thickness on the second end side.
(8) 상기 복수의 광전 변환부는 각각 제1 부분과 제2 부분을 갖고, 상기 제1 부분과 상기 제2 부분은, 평면에서 보았을 때에 중앙부의 일부분 이외의 경계가 상기 제1 부재에 의해 둘러싸이고 또한 상기 일부분에서 접해 있는, (1) 기재의 촬상 장치.(8) The plurality of photoelectric conversion units each have a first part and a second part, and the boundaries of the first part and the second part other than a portion of the central part are surrounded by the first member when viewed from the top. Also, the imaging device described in (1), which is in contact with the above portion.
(9) 상기 복수의 광전 변환부는 각각 평면에서 보았을 때에 대략 사각형의 형상을 갖고, 상기 제2 부재는 상기 대략 사각형의 코너부에 있어서의 두께가 다른 부분에 있어서의 두께보다도 두꺼운, 청구항 1 기재의 촬상 장치.(9) The plurality of photoelectric conversion units each have a substantially rectangular shape in plan view, and the second member has a thickness at a corner portion of the substantially rectangular portion that is thicker than a thickness at other portions. Imaging device.
(10) 상기 제2 부재의 두께는 20nm 이상이며, 상기 제2 부재의 깊이 방향의 길이는 1000nm 이상인, (1) 내지 (9) 중 어느 것에 기재된 촬상 장치.(10) The imaging device according to any one of (1) to (9), wherein the thickness of the second member is 20 nm or more, and the length of the second member in the depth direction is 1000 nm or more.
(11) 상기 제2 부재는 상기 복수의 광전 변환부의 각각의 주위를 둘러싸도록 배치되는, (1) 내지 (10) 중 어느 것에 기재된 촬상 장치.(11) The imaging device according to any one of (1) to (10), wherein the second member is arranged to surround each of the plurality of photoelectric conversion units.
(12) 상기 제1 부재는 폴리실리콘을 포함하는, (1) 내지 (11) 중 어느 것에 기재된 촬상 장치.(12) The imaging device according to any one of (1) to (11), wherein the first member contains polysilicon.
(13) 상기 복수의 광전 변환부의 각각에 대응하여 마련된 마이크로 렌즈를 더 구비한, (1) 내지 (12) 중 어느 것에 기재된 촬상 장치.(13) The imaging device according to any one of (1) to (12), further comprising a micro lens provided corresponding to each of the plurality of photoelectric conversion units.
(14) 상기 복수의 광전 변환부의 각각과 상기 마이크로 렌즈 사이에 마련된 컬러 필터를 더 구비한, (13) 기재의 촬상 장치.(14) The imaging device according to (13), further comprising a color filter provided between each of the plurality of photoelectric conversion units and the micro lens.
(15) 상기 복수의 광전 변환부는 어레이상으로 배열된 군으로 나뉘고, 각 군에 대응하여 마련된 마이크로 렌즈를 더 구비한, (1) 내지 (12) 중 어느 것에 기재된 촬상 장치.(15) The imaging device according to any one of (1) to (12), wherein the plurality of photoelectric conversion units are divided into groups arranged in an array, and are further provided with micro lenses provided corresponding to each group.
(16) 상기 제2 단부 측에 배치되고, 화소 트랜지스터를 갖는 회로를 더 구비한, (1) 내지 (15) 중 어느 것에 기재된 촬상 장치.(16) The imaging device according to any one of (1) to (15), further comprising a circuit disposed on the second end side and having a pixel transistor.
(17) 상기 복수의 광전 변환부는 각각 실리콘을 포함하고, 상기 제2 부재는 산화실리콘을 포함하는, (1) 내지 (16) 중 어느 것에 기재된 촬상 장치.(17) The imaging device according to any one of (1) to (16), wherein the plurality of photoelectric conversion units each contain silicon, and the second member contains silicon oxide.
(18) 촬상 장치와, 상기 촬상 장치에 의해 촬상된 화소 신호에 기초하여 신호 처리를 행하는 신호 처리부를 구비하고, 상기 촬상 장치는, 화소마다 마련되며 각각이 광 입사측의 제1 단부와 상기 제1 단부와 반대 측의 제2 단부를 갖는 복수의 광전 변환부와, 상기 복수의 광전 변환부의 각각의 경계를 따라서 상기 제1 단부로부터 상기 제2 단부로의 제1 방향으로 배치된 제1 부재와, 상기 복수의 광전 변환부의 각각과 상기 제1 부재 사이에서 또한 상기 제1 단부 측에 마련되며 상기 광전 변환부보다도 굴절률이 낮은 재료를 포함하는 제2 부재를 구비한, 전자 기기.(18) comprising an imaging device and a signal processing unit that performs signal processing based on a pixel signal imaged by the imaging device, wherein the imaging device is provided for each pixel and each has a first end on the light incident side and the second end. A plurality of photoelectric conversion units having a second end opposite to the first end, and a first member disposed in a first direction from the first end to the second end along each boundary of the plurality of photoelectric conversion units; , An electronic device comprising a second member provided between each of the plurality of photoelectric conversion units and the first member and on a side of the first end and containing a material with a lower refractive index than the photoelectric conversion unit.
10a, 10b, 10c, 10d: 화소
12: 광전 변환층,
12a, 12b, 12c, 12d: 광전 변환부
13: 트렌치
14: 도전체
15, 15a, 15c, 15d: 광흡수 억제부
16: 화소간 차광부,
17a, 17b: 컬러 필터
18: 마이크로 렌즈
20: 회로
22: 적층 배선부
24: 제2 단차부
26: 제1 단차부
30: 산화실리콘
32: 다결정 실리콘
34: 고정 전하막
36: 산화막
38: 요철 구조
39: 저굴절 도파로
400: 마스크
402: 영역
410: 산화실리콘
420: 고정 전하막
430: 산화막
7000: 차량 제어 시스템
7010: 통신 네트워크
7100: 구동계 제어 유닛
7110: 차량 상태 검출부
7200: 보디계 제어 유닛
7300: 배터리 제어 유닛
7310: 이차 전지
7400: 차밖 정보 검출 유닛
7410: 촬상부
7420: 차밖 정보 검출부
7500: 차내 정보 검출 유닛
7510: 운전자 상태 검출부
7600: 통합 제어 유닛
7610: 마이크로컴퓨터
7620: 범용 통신 I/F
7630: 전용 통신 I/F
7640: 측위부
7650: 비콘 수신부
7660: 차내 기기 I/F
7670: 음성 화상 출력부
7680: 차량 탑재 네트워크 I/F
7690: 기억부
7710: 오디오 스피커
7720: 표시부
7730: 인스트루먼트 패널
7750: 외부 환경
7760: 차내 기기
7800: 입력부
7900: 차량
7910 내지 7916: 촬상부
7920 내지 7930: 차밖 정보 검출부10a, 10b, 10c, 10d: pixel
12: photoelectric conversion layer,
12a, 12b, 12c, 12d: photoelectric conversion unit
13: Trench
14: conductor
15, 15a, 15c, 15d: Light absorption suppressor
16: Light blocking area between pixels,
17a, 17b: Color filter
18: micro lens
20: circuit
22: Laminated wiring section
24: Second step portion
26: first step portion
30: Silicon oxide
32: Polycrystalline silicon
34: fixed charge film
36: Oxide film
38: uneven structure
39: Low-index waveguide
400: mask
402: Area
410: Silicon oxide
420: fixed charge film
430: Oxide film
7000: Vehicle control system
7010: Telecommunications network
7100: Drivetrain control unit
7110: Vehicle status detection unit
7200: Body system control unit
7300: Battery control unit
7310: Secondary battery
7400: Out-of-vehicle information detection unit
7410: Imaging unit
7420: Information detection unit outside the car
7500: In-vehicle information detection unit
7510: Driver status detection unit
7600: Integrated control unit
7610: Microcomputer
7620: General purpose communication I/F
7630: Dedicated communication I/F
7640: Positioning unit
7650: Beacon receiver
7660: In-car device I/F
7670: Audio video output unit
7680: Vehicle-mounted network I/F
7690: memory unit
7710: Audio Speaker
7720: Display unit
7730: Instrument panel
7750: External environment
7760: In-car devices
7800: Input section
7900: Vehicle
7910 to 7916: imaging unit
7920 to 7930: Information detection unit outside the vehicle
Claims (18)
상기 복수의 광전 변환부의 각각의 경계를 따라서 상기 제1 단부로부터 상기 제2 단부로의 제1 방향으로 배치된 제1 부재와,
상기 복수의 광전 변환부의 각각과 상기 제1 부재 사이에서 또한 상기 제1 단부 측에 마련되며 상기 광전 변환부보다도 굴절률이 낮은 재료를 포함하는 제2 부재
를 구비한 촬상 장치.A plurality of photoelectric conversion units provided for each pixel, each having a first end on the light incident side and a second end on the side opposite to the first end,
a first member disposed in a first direction from the first end to the second end along each boundary of the plurality of photoelectric conversion units;
A second member provided between each of the plurality of photoelectric conversion units and the first member and on the side of the first end, and comprising a material having a lower refractive index than the photoelectric conversion unit.
An imaging device having a.
상기 촬상 장치에 의해 촬상된 화소 신호에 기초하여 신호 처리를 행하는 신호 처리부를 구비하고,
상기 촬상 장치는,
화소마다 마련되며 각각이 광 입사측의 제1 단부와 상기 제1 단부와 반대 측의 제2 단부를 갖는 복수의 광전 변환부와,
상기 복수의 광전 변환부의 각각의 경계를 따라서 상기 제1 단부로부터 상기 제2 단부로의 제1 방향으로 배치된 제1 부재와,
상기 복수의 광전 변환부의 각각과 상기 제1 부재 사이에서 또한 상기 제1 단부 측에 마련되며 상기 광전 변환부보다도 굴절률이 낮은 재료를 포함하는 제2 부재
를 구비한, 전자 기기.an imaging device,
A signal processing unit that performs signal processing based on a pixel signal captured by the imaging device,
The imaging device,
A plurality of photoelectric conversion units provided for each pixel, each having a first end on the light incident side and a second end on the opposite side to the first end,
a first member disposed in a first direction from the first end to the second end along each boundary of the plurality of photoelectric conversion units;
A second member provided between each of the plurality of photoelectric conversion units and the first member and on the side of the first end, and comprising a material having a lower refractive index than the photoelectric conversion unit.
Equipped with an electronic device.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2021-105906 | 2021-06-25 | ||
JP2021105906 | 2021-06-25 | ||
PCT/JP2022/015788 WO2022270110A1 (en) | 2021-06-25 | 2022-03-30 | Imaging device and electronic apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20240023514A true KR20240023514A (en) | 2024-02-22 |
Family
ID=84545430
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020237042725A KR20240023514A (en) | 2021-06-25 | 2022-03-30 | Imaging devices and electronic devices |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP4362099A1 (en) |
JP (1) | JPWO2022270110A1 (en) |
KR (1) | KR20240023514A (en) |
CN (1) | CN117296154A (en) |
WO (1) | WO2022270110A1 (en) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018150902A1 (en) | 2017-02-17 | 2018-08-23 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Image-capture element and electronic device |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2022
- 2022-03-30 WO PCT/JP2022/015788 patent/WO2022270110A1/en active Application Filing
- 2022-03-30 EP EP22828029.3A patent/EP4362099A1/en active Pending
- 2022-03-30 JP JP2023529614A patent/JPWO2022270110A1/ja active Pending
- 2022-03-30 CN CN202280035036.6A patent/CN117296154A/en active Pending
- 2022-03-30 KR KR1020237042725A patent/KR20240023514A/en unknown
Patent Citations (1)
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---|---|---|---|---|
WO2018150902A1 (en) | 2017-02-17 | 2018-08-23 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Image-capture element and electronic device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN117296154A (en) | 2023-12-26 |
JPWO2022270110A1 (en) | 2022-12-29 |
EP4362099A1 (en) | 2024-05-01 |
WO2022270110A1 (en) | 2022-12-29 |
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