KR20240019757A - Heat resistant adhesive film - Google Patents

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Abstract

고온의 열처리 공정에 이용되는 점착 필름에 있어서, 고온 환경을 거쳐 피착체에 대한 점착력이 높아지는 경우여도, 피착체에서의 점착제 잔류 없이 박리할 수 있는 내열성 점착 필름을 제공한다. 기재와, 상기 기재의 적어도 한쪽 면에, 이접착층, 실리콘계 점착제층을 이 순서로 적층한 점착 필름으로, 상기 이접착층이, 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i) 및 글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)로 이루어지는 군에서 선택되는 에폭시 화합물(A), 산무수물(B) 및 폴리올 화합물(C)를 포함한 조성물을 열 경화시킨 경화물인 것을 특징으로 하는 점착 필름으로 한다.In an adhesive film used in a high-temperature heat treatment process, a heat-resistant adhesive film is provided that can be peeled off without adhesive remaining on the adherend even when the adhesive strength to the adherend increases through a high-temperature environment. An adhesive film in which a substrate, an easily adhesive layer, and a silicone-based adhesive layer are laminated on at least one side of the substrate in this order, wherein the easily adhesive layer includes a cycloalkene oxide-type alicyclic epoxy compound (A-i) and a glycidylamine-type epoxy. An adhesive film characterized in that it is a cured product obtained by heat curing a composition containing an epoxy compound (A), an acid anhydride (B), and a polyol compound (C) selected from the group consisting of compound (A-ii).

Description

내열성 점착 필름Heat resistant adhesive film

본 발명은, 고온의 열처리 공정에 이용되는 내열성 점착 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a heat-resistant adhesive film used in a high-temperature heat treatment process.

종래부터 내열성 점착 필름으로서, 폴리에스테르 필름이나 폴리이미드 필름 등의 플라스틱 필름, 동박이나 알루미늄박 등의 금속박에, 내열성이 우수한 실리콘계 점착제를 도공 적층하여 구성된 것이 사용되고 있다.Conventionally, as a heat-resistant adhesive film, a silicone-based adhesive film with excellent heat resistance is used to laminate a plastic film such as a polyester film or a polyimide film, or a metal foil such as a copper foil or an aluminum foil.

이들 내열성 점착 필름은, 반도체 장치 관련의 고온 환경이 되는 제조 공정 등에 있어서도, 전자 부품의 보호용이나 고정용으로서 적절히 사용되고 있다.These heat-resistant adhesive films are appropriately used for protecting and fixing electronic components even in manufacturing processes involving high-temperature environments related to semiconductor devices.

예를 들면, 특허문헌 1에는 반도체 패키지 형태의 하나인 QFN(QuadFlat Non-leaded package) 패키지의 제조 공정시에 이용되는 내열성 점착 필름이 개시되어 있다. 이 반도체 패키지 제조 공정용으로 사용하는 내열성 점착 필름은, 반도체 칩을 수지 밀봉할 때에, 리드 프레임에 접착(貼着)하여 사용되는 점착 필름이며, 상온에 있어서는 리드 프레임에 대한 부착성과 리워크성의 관점에서 저점착력이면서 175 ~ 200℃의 고온의 수지 밀봉 공정에서는 수지 누설을 발생시키지 않도록, 고온 환경에서 점착력이 상승하는 것이 바람직하다고 여겨지고 있다.For example, Patent Document 1 discloses a heat-resistant adhesive film used during the manufacturing process of a QFN (QuadFlat Non-leaded package) package, which is a type of semiconductor package. The heat-resistant adhesive film used in the semiconductor package manufacturing process is an adhesive film used to adhere to a lead frame when resin sealing a semiconductor chip, and is used in terms of adhesion to the lead frame and reworkability at room temperature. It is considered desirable for the adhesive strength to increase in a high-temperature environment to prevent resin leakage in the high-temperature resin sealing process of 175 to 200°C with low adhesive strength.

통상적으로, 실리콘계 점착제층은 플라스틱 필름이나 금속박 등의 기재(base material)와의 밀착성이 나쁘기 때문에, 기재와 실리콘계 점착제층 사이에 밀착성을 높이는 프라이머층(이접착층)을 형성하는 것이 일반적이다(특허문헌 2 참조).Typically, the silicone-based adhesive layer has poor adhesion to a base material such as a plastic film or metal foil, so it is common to form a primer layer (easy-adhesion layer) to increase adhesion between the base material and the silicone-based adhesive layer (Patent Document 2) reference).

그러나, 피착체에 부착 후, 고온 환경에 노출된 경우나, 또한 고온 환경에서 점착력이 상승하는 실리콘계 점착제층으로 한 경우, 냉각 후에 점착 필름을 박리했을 때에, 피착체측에 점착제층이 부착되는 현상인 "점착제 잔류"가 발생해 버리는 경우가 많았다.However, when exposed to a high-temperature environment after adhesion to an adherend, or when a silicone-based adhesive layer whose adhesive strength increases in a high-temperature environment is used, a phenomenon occurs in which the adhesive layer adheres to the adherend when the adhesive film is peeled off after cooling. There were many cases where “adhesive residue” occurred.

특허문헌 3, 특허문헌 4에는, 특정 재료로 구성되는 이접착층을 기재와 실리콘계 점착제층 사이에 형성함으로써, 고온 환경에 노출된 후에도 피착체로부터 보호 시트를 박리했을 때에, 피착체에 대한 점착제의 잔류 없이 떼어낼 수 있는 보호 시트로 한 내열성 첩착용 시트가 개시되어 있다. 그러나, 고온 환경에서 점착력이 상승하는 실리콘계 점착제층을 사용한 경우, 고온의 처리 조건이나 피착체에 따라서는 점착제 잔류가 발생해 버리는 경우가 있어, 추가적인 개선이 필요했다.In Patent Document 3 and Patent Document 4, an easily adhesive layer made of a specific material is formed between the substrate and the silicone-based adhesive layer, so that when the protective sheet is peeled from the adherend even after exposure to a high temperature environment, the adhesive remains on the adherend. A heat-resistant adhesive sheet using a removable protective sheet is disclosed. However, when a silicone-based adhesive layer whose adhesive strength increases in a high temperature environment is used, adhesive residue may occur depending on the high temperature processing conditions or the adherend, so further improvement is necessary.

특허문헌 1: 일본 특허 공개 제 2012-151360 호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Publication No. 2012-151360 특허문헌 2: 일본 특허 공개 제 2002-338890 호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Publication No. 2002-338890 특허문헌 3: 일본 특허 공개 제 2014-213545 호 공보Patent Document 3: Japanese Patent Publication No. 2014-213545 특허문헌 4: 일본 특허 공개 제 2014-221877 호 공보Patent Document 4: Japanese Patent Publication No. 2014-221877

본 발명은, 반도체 장치 제조 공정 등의 고온 환경의 열처리 공정에 사용되는 내열성 점착 필름에 있어서, 고온 환경에서 피착체에 대한 점착력이 높아지는 실리콘 점착제층이어도, 피착체로부터의 박리시에 있어서의 피착체에 대한 점착제 잔류 억제 효과가 우수한 내열성 점착 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention relates to a heat-resistant adhesive film used in a heat treatment process in a high-temperature environment such as a semiconductor device manufacturing process, and even if it is a silicone adhesive layer that increases the adhesive force to the adherend in a high-temperature environment, the adhesive film is used in a heat treatment process in a high-temperature environment such as a semiconductor device manufacturing process. The purpose is to provide a heat-resistant adhesive film with excellent adhesive residue suppression effect.

본 발명자는, 상기 목적을 달성하기 위해 예의 검토한 결과, 기재의 한쪽 면에, 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i) 및 글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)로 이루어지는 군에서 선택되는 에폭시 화합물(A), 산무수물(B), 및 폴리올 화합물(C)을 포함하는 조성물을 열경화시킨 경화물을 포함하는 이접착층을 형성하고, 그 위에 실리콘계 점착제 조성물을 적층 도공하고, 열가교에 의해 실리콘계 점착제층을 형성함으로써, 상기 이접착층 중에 과잉으로 포함되는 미반응의 수산기가, 상기 실리콘계 점착제 조성물 중의 반응성 관능기와 반응하기 때문에, 기재와 실리콘계 점착제층이 매우 강고하게 밀착하는 것, 또한, 상기 이접착층의 경화물은 내열성이 높고, 고온 환경에 노출되어도 밀착성을 유지할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that, on one side of the substrate, a cycloalkene oxide-type alicyclic epoxy compound (A-i) and a glycidylamine-type epoxy compound (A-ii) are selected from the group consisting of An easily adhesive layer is formed containing a cured product obtained by heat curing a composition containing an epoxy compound (A), an acid anhydride (B), and a polyol compound (C), and a silicone-based adhesive composition is laminated and coated thereon, followed by thermal crosslinking. By forming a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer, unreacted hydroxyl groups excessively contained in the easily adhesive layer react with reactive functional groups in the silicone-based pressure-sensitive adhesive composition, so that the substrate and the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer adhere very strongly. It was discovered that the cured product of the easily adhesive layer has high heat resistance and can maintain adhesion even when exposed to a high temperature environment, leading to completion of the present invention.

제 1 발명은, 기재와, 상기 기재의 적어도 한쪽 면에, 이접착층(easily-adhesive layer), 실리콘계 점착제층을 이 순서로 적층한 점착 필름으로서, 상기 이접착층이, 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i) 및 글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)로 이루어지는 군에서 선택되는 에폭시 화합물(A), 산무수물(B), 및 폴리올 화합물(C)을 포함하는 조성물을 열경화시킨 경화물인 것을 특징으로 하는 점착 필름이다.The first invention is an adhesive film in which a substrate, an easily-adhesive layer, and a silicone-based adhesive layer are laminated on at least one side of the substrate in this order, wherein the easily-adhesive layer is a cycloalkene oxide-type alicyclic epoxy Curing by thermosetting a composition containing an epoxy compound (A), an acid anhydride (B), and a polyol compound (C) selected from the group consisting of compound (A-i) and glycidylamine-type epoxy compound (A-ii). It is an adhesive film characterized by being water.

제 2 발명은, 상기 폴리올 화합물(C)이, 실리케이트 가수 분해물인 것을 특징으로 하는 제 1 발명에 기재된 점착 필름이다.The second invention is the adhesive film according to the first invention, wherein the polyol compound (C) is a silicate hydrolyzate.

제 3 발명은, 상기 폴리올 화합물(C)이 아크릴폴리올인 것을 특징으로 하는 제 1 발명에 기재된 점착 필름이다.The third invention is the adhesive film according to the first invention, wherein the polyol compound (C) is acrylic polyol.

제 4 발명은, 상기 이접착층을 형성하는 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i) 및 글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)로 이루어지는 군에서 선택되는 에폭시 화합물(A), 산무수물(B), 및 폴리올 화합물(C)을 포함하는 조성물에 있어서, 에폭시 화합물(A)과 산무수물(B)의 합계 질량과, 폴리올 화합물(C)의 질량의 질량비{[(A)+(B)]:(C)}가 10 : 90 ~ 90 : 10인 것을 특징으로 하는 제 1 발명 내지 제 3 발명 중 어느 하나에 기재된 점착 필름이다.The fourth invention is an epoxy compound (A) selected from the group consisting of cycloalkene oxide type alicyclic epoxy compound (A-i) and glycidylamine type epoxy compound (A-ii), which forms the easily adhesive layer, and an acid anhydride ( B) and a polyol compound (C), wherein the mass ratio of the total mass of the epoxy compound (A) and the acid anhydride (B) and the mass of the polyol compound (C) {[(A) + (B) ]:(C)} is the adhesive film according to any one of the first to third inventions, wherein the ratio is 10:90 to 90:10.

제 5 발명은, 상기 이접착층을 형성하는 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i) 및 글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)로 이루어지는 군에서 선택되는 에폭시 화합물(A), 산무수물(B), 및 폴리올 화합물(C)을 포함하는 조성물에 있어서, 에폭시 화합물(A)의 에폭시기와, 산무수물(B)의 산기의 몰비{[(A)의 에폭시기]:[(B)의 산기]}가, 20 : 80 ∼ 80 : 20인 것을 특징으로 하는 제 1 발명 내지 제 4 발명 중 어느 하나에 기재된 점착 필름이다.The fifth invention is an epoxy compound (A) selected from the group consisting of cycloalkene oxide type alicyclic epoxy compound (A-i) and glycidylamine type epoxy compound (A-ii), which forms the easily adhesive layer, and an acid anhydride ( In the composition containing B) and the polyol compound (C), the molar ratio of the epoxy group of the epoxy compound (A) and the acid group of the acid anhydride (B) {[epoxy group of (A)]:[acid group of (B)] } is an adhesive film according to any one of the first to fourth inventions, wherein the ratio is 20:80 to 80:20.

제 6 발명은, 상기 이접착층의 막두께가 0.05 ∼ 3.00㎛인 것을 특징으로 하는 제 1 발명 내지 제 5 발명 중 어느 하나에 기재된 점착 필름이다.The sixth invention is the adhesive film according to any one of the first to fifth inventions, wherein the easily adhesive layer has a film thickness of 0.05 to 3.00 μm.

본 발명에 의하면, 기재의 한쪽 면에, 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i) 및 글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)로 이루어지는 군에서 선택되는 에폭시 화합물(A), 산무수물(B), 및 폴리올 화합물(C)을 포함하는 조성물을 열경화시킨 경화물을 포함하는 이접착층을 형성하고, 그 위에 실리콘계 점착제 조성물을 적층 도공하고, 열가교에 의해 실리콘계 점착제층을 형성함으로써, 상기 이접착층 중에 과잉으로 포함되는 미반응의 수산기가, 상기 실리콘계 점착제 조성물 중의 반응성 관능기와 반응하기 때문에, 기재와 실리콘계 점착제층이 매우 강고하게 밀착되고, 또한, 상기 이접착층의 경화물은 내열성이 높고, 고온 환경에 노출되어도 밀착성을 유지할 수 있기 때문에, 고온 환경에서 피착체에 대한 점착력이 상승하는 경우에 있어서도, 피착체로부터의 박리시에 있어서의 피착체에 대한 점착제 잔류 억제 효과가 우수한 내열성 점착 필름을 제공하는 것이 가능해졌다.According to the present invention, on one side of the substrate, an epoxy compound (A) selected from the group consisting of a cycloalkene oxide type alicyclic epoxy compound (A-i) and a glycidylamine type epoxy compound (A-ii), an acid anhydride ( B) and a polyol compound (C) are formed by forming an easily adhesive layer containing a cured product obtained by heat curing the composition, laminating and coating a silicone-based adhesive composition thereon, and forming a silicone-based adhesive layer by thermal crosslinking, Since unreacted hydroxyl groups excessively contained in the easily adhesive layer react with reactive functional groups in the silicone-based adhesive composition, the substrate and the silicone-based adhesive layer adhere very strongly, and the cured product of the easily adhesive layer has high heat resistance, Because it can maintain adhesion even when exposed to a high-temperature environment, a heat-resistant adhesive film has an excellent effect of suppressing adhesive residue on the adherend when peeled from the adherend even when the adhesion to the adherend increases in a high-temperature environment. It has become possible to provide

도 1은 본 발명의 내열성 점착 필름의 일 실시형태를 나타내는 단면 개략도이다.1 is a cross-sectional schematic diagram showing one embodiment of the heat-resistant adhesive film of the present invention.

이하에서는, 본 발명의 실시형태에 대하여 설명한다.Below, embodiments of the present invention will be described.

본 발명의 내열성 점착 필름은, 적어도 기재의 한쪽 면에, 이접착층, 실리콘계 점착제층을 이 순서로 적층한 구성이며, 상기 이접착층은, 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i) 및 글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)로 이루어지는 군에서 선택되는 에폭시 화합물(A), 산무수물(B), 및 폴리올 화합물(C)을 포함하는 조성물을 열경화시킨 경화물을 포함하는 점착 필름이다.The heat-resistant adhesive film of the present invention is configured by laminating an easily adhesive layer and a silicone-based adhesive layer in this order on at least one side of a substrate, and the easily adhesive layer includes a cycloalkene oxide type alicyclic epoxy compound (A-i) and glycidyl It is an adhesive film containing a cured product obtained by thermosetting a composition containing an epoxy compound (A), an acid anhydride (B), and a polyol compound (C) selected from the group consisting of amine-type epoxy compounds (A-ii).

(기재(base material))(base material)

본 발명의 내열성 점착 필름을 구성하는 기재로서는, 고온 가열에 견딜 수 있는 플라스틱 필름이나 금속박을 사용할 수 있지만, 점착 필름으로서의 취급 용이성이나, 유연성의 관점에서 플라스틱 필름을 사용하는 것이 바람직하다.As a base material constituting the heat-resistant adhesive film of the present invention, a plastic film or metal foil that can withstand high temperature heating can be used, but it is preferable to use a plastic film from the viewpoint of ease of handling and flexibility as an adhesive film.

플라스틱 필름을 기재로서 사용하는 경우, 그 재질로서는, 융점이 250℃ 이상인 내열성을 갖는 합성 수지가 바람직하고, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리이미드(PI), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리술폰(PSF), 폴리에테르술폰(PES), 폴리페닐렌설파이드(PPS), 폴리에테르에테르케톤(PEEK)등을 들 수 있다. 이들 내열성을 갖는 합성 수지의 필름 중에서도, 고온하의 치수 안정성이 우수한 폴리이미드 필름을 사용하는 것이 보다 바람직하다.When using a plastic film as a base material, a heat-resistant synthetic resin with a melting point of 250°C or higher is preferable, for example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyimide (PI), Examples include polyetherimide (PEI), polysulfone (PSF), polyethersulfone (PES), polyphenylene sulfide (PPS), and polyetheretherketone (PEEK). Among these heat-resistant synthetic resin films, it is more preferable to use polyimide film, which has excellent dimensional stability at high temperatures.

기재의 두께로는, 점착 필름의 가공성이나 핸들링성의 관점에서 5 ∼ 250㎛의 범위인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 ∼ 150㎛이고, 더욱 바람직하게는 20 ∼ 100㎛이다. 기재의 두께가 5㎛ 이상, 바람직하게는 10㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 20㎛ 이상임으로써, 기재에 탄력이 구비되어 점착제층의 도공성이 향상되고, 점착 필름의 부착시의 취급성도 향상된다. 한편, 기재의 두께가 250㎛ 이하, 바람직하게는 150㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 100㎛ 이하임으로써, 리워크시에 기재의 적당한 유연성에 의해 박리성이 향상되고, 박리시의 피착체의 보호성이 높아지면서 기재 비용도 억제된다.The thickness of the base material is preferably in the range of 5 to 250 μm, more preferably 10 to 150 μm, and still more preferably 20 to 100 μm from the viewpoint of processability and handling of the adhesive film. When the thickness of the substrate is 5 μm or more, preferably 10 μm or more, and more preferably 20 μm or more, the substrate is provided with elasticity, the coatability of the adhesive layer is improved, and the handleability when attaching the adhesive film is also improved. On the other hand, when the thickness of the substrate is 250 μm or less, preferably 150 μm or less, and more preferably 100 μm or less, the peelability is improved due to the appropriate flexibility of the substrate during rework, and the adherend is protected during peeling. As performance increases, equipment costs are also suppressed.

기재의 이접착층, 점착제층을 형성하는 면에는, 필요에 따라 코로나 방전 처리, 자외선 조사 처리, 플라즈마 처리 등의 처리를 실시해도 된다.The surface of the base material on which the easily adhesive layer and the adhesive layer are formed may be subjected to corona discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, plasma treatment, etc. as needed.

(이접착층)(Easily adhesive layer)

본 발명의 내열성 점착 필름을 구성하는 이접착층은, 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i) 및 글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)로 이루어지는 군에서 선택되는 에폭시 화합물(A), 산무수물(B), 및 폴리올 화합물(C)을 포함하는 조성물을 열경화시킨 경화물이다.The easily adhesive layer constituting the heat-resistant adhesive film of the present invention is an epoxy compound (A) selected from the group consisting of a cycloalkene oxide type alicyclic epoxy compound (A-i) and a glycidylamine type epoxy compound (A-ii), an acid It is a cured product obtained by thermosetting a composition containing an anhydride (B) and a polyol compound (C).

상기 (A), (B), (C)를 포함하는 이접착층 조성물을, 용제 등을 혼합하여 도공액으로 하고, 기재 상에 균일하게 도공, 용제 건조, 열경화시켜 이접착층을 형성한다. 상기 이접착층은 열경화에 의해, 에폭시 화합물(A)과 산무수물(B), 및 산무수물(B)과 폴리올 화합물(C)가 각각 반응하여 경화물이 된다.The easily adhesive layer composition containing the above (A), (B), and (C) is mixed with a solvent and the like to form a coating solution, and is uniformly applied onto a substrate, solvent dried, and heat cured to form an easily adhesive layer. In the easily adhesive layer, the epoxy compound (A) and the acid anhydride (B), and the acid anhydride (B) and the polyol compound (C) react respectively to form a cured product through thermal curing.

상기 이접착층은 합성 수지나 금속에 대한 접착성이 높은 에폭시 경화물을 포함하기 때문에, 플라스틱 필름이나 금속박 등의 기재와 강고하게 밀착된다.Since the easily adhesive layer contains an epoxy cured product with high adhesiveness to synthetic resins or metals, it adheres firmly to substrates such as plastic films and metal foils.

이어서, 열경화된 상기 이접착층 상에 실리콘계 점착제 조성물을 적층 도공하고, 열가교에 의해 실리콘계 점착제층을 형성하지만, 그 실리콘계 점착제층의 열가교 공정에서, 상기 이접착층 중의 폴리올 화합물에 과잉으로 포함되는 미반응의 수산기가, 상기 실리콘계 점착제 조성물 중의 주제 또는 가교제 성분의 반응성 관능기(실란올(SiOH)기, 하이드로실릴(SiH)기 등)와 반응하여, 상기 이접착층과 상기 실리콘계 점착제층이 강고하게 밀착된다. 따라서, 기재와 실리콘계 점착제층의 밀착성이 강고해지는 것이다.Next, a silicone-based adhesive composition is laminated and coated on the heat-cured easily adhesive layer, and a silicone-based adhesive layer is formed by thermal crosslinking. However, in the heat crosslinking process of the silicone-based adhesive layer, the polyol compound in the easily adhesive layer is excessively contained. The unreacted hydroxyl group reacts with the reactive functional group (silanol (SiOH) group, hydrosilyl (SiH) group, etc.) of the main agent or crosslinking agent component in the silicone-based adhesive composition, so that the easily adhesive layer and the silicone-based adhesive layer adhere tightly. do. Therefore, the adhesion between the substrate and the silicone-based adhesive layer becomes stronger.

또한, 상기 이접착층은, 내열성이 높은 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물 및/또는 글리시딜아민형 에폭시 화합물과 산무수물의 경화물을 포함하기 때문에, 고온 환경에 노출되어도 기재 및 실리콘계 점착제층과의 밀착성을 유지할 수 있다.In addition, since the easily adhesive layer contains a cured product of a highly heat-resistant cycloalkene oxide-type alicyclic epoxy compound and/or a glycidylamine-type epoxy compound and an acid anhydride, it can adhere to the substrate and the silicone-based adhesive layer even when exposed to a high-temperature environment. Adhesion can be maintained.

본 발명의 이접착층은 실제의 롤투롤(roll to roll)의 생산성의 관점에서, 단시간에 경화되어, 표면이 택프리(tack-free)(끈적거림이 없는 상태)가 되는 것이 필요하다. 상기 이접착층의 조성물은, 범용되는 비글리시딜아민형의 비스페놀형의 에폭시 수지보다 반응성이 높은 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물 및/또는 글리시딜아민형 에폭시 화합물을 사용하고 있기 때문에, 저온 속경화성이 있어, 용이하게 표면이 택프리의 이접착층을 형성할 수 있다.From the viewpoint of actual roll-to-roll productivity, the easily adhesive layer of the present invention needs to be cured in a short time and have a tack-free surface. Since the composition of the easily adhesive layer uses a cycloalkene oxide-type alicyclic epoxy compound and/or a glycidylamine-type epoxy compound, which are more reactive than the widely used non-glycidylamine-type bisphenol-type epoxy resin, it can be used at low temperatures. It has curability and can easily form a tack-free, easily adhesive layer on the surface.

상기 이접착층 조성물에 사용하는 에폭시 화합물(A) 중, 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i)은, 에폭시기가 지환(지방족 탄화수소환)을 구성하는 인접한 2개의 탄소 원자간에 형성되어 있는 에폭시 화합물이며, 1분자 중에 에폭시기를 1개 이상 갖는 것이다. 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i)의 구체적인 예로서는, 예를 들어, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3',4'-에폭시사이클로헥실카복실레이트, 3,4-에폭시-6-메틸사이클로헥실메틸-3',4'-에폭시-6'-메틸사이클로헥실카복실레이트, 2,3-에폭시사이클로헥실메틸-3',4'-에폭시사이클로헥실카복실레이트, 4-(3,4-에폭시-5-메틸사이클로헥실)부틸-3',4'-에폭시사이클로헥실카복실레이트, 3,4-에폭시사이클로헥실에틸렌옥사이드, 사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥실카복실레이트, 3,4-에폭시-6-메틸사이클로헥실메틸-6'-메틸실록헥실카복실레이트, 비스-에폭시디사이클로펜타디에닐에테르, 비스-에폭시사이클로헥실아디페이트, 3,4-디메틸-1,2-에폭시사이클로헥산, 3,5-디메틸-1,2-에폭시사이클로헥산, 3-메틸-5-t-부틸-1,2-에폭시사이클로헥산, 옥타데실-2,2-디메틸-3,4-에폭시사이클로헥실카복실레이트, N-부틸-2,2-디메틸-3,4-에폭시사이클로헥실카복실레이트, 사이클로헥실-2-메틸-3,4-에폭시사이클로헥실카복실레이트, N-부틸-2-이소프로필-3,4-에폭시-5-메틸사이클로헥실카복실레이트, 옥타데실-3,4-에폭시사이클로헥실카복실레이트, 2-에틸헥실-3',4'-에폭시사이클로헥실카복실레이트, 4,6-디메틸-2,3-에폭시사이클로헥실-3',4'-에폭시사이클로헥실카복실레이트, 디에틸-4,5-에폭시-시스-1,2-사이클로헥실디카복실레이트, 디-n-부틸-3-t-부틸-4,5-에폭시-시스-1,2-사이클로헥실디카복실레이트, 에폭시기를 갖는 다환식 포화 탄화수소(당해 다환식 포화 탄화수소 골격은, 환식 포화 탄화수소끼리가 2원자 이상을 통해 결합하고 있는 것이 바람직하고, 그러한 다환식 포화 탄화수소 골격으로서는, 하이드로인단, 디사이클로노르보르난 등을 들 수 있다. 에폭시기를 갖는 다환식 포화 탄화수소는, 이들 다환식 포화 탄화수소 골격에 에폭시기가 결합되어 있고, 특히 바람직한 예로서는, 테트라하이드로인덴의 디에폭사이드 등을 들 수 있다), 에폭시기를 갖는 실란커플링제(예를 들어, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있다.) 등을 들 수 있다. 이들 중, 1분자 중에 에폭시기를 2개 이상 갖는 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i)은, 이들을 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Among the epoxy compounds (A) used in the easily adhesive layer composition, the cycloalkene oxide type alicyclic epoxy compound (A-i) is an epoxy compound in which an epoxy group is formed between two adjacent carbon atoms constituting an alicyclic (aliphatic hydrocarbon ring). , which has one or more epoxy groups in one molecule. Specific examples of the cycloalkene oxide type alicyclic epoxy compound (A-i) include, for example, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3',4'-epoxycyclohexylcarboxylate, 3,4-epoxy-6-methylcyclo. Hexylmethyl-3',4'-epoxy-6'-methylcyclohexylcarboxylate, 2,3-epoxycyclohexylmethyl-3',4'-epoxycyclohexylcarboxylate, 4-(3,4-epoxy- 5-methylcyclohexyl)butyl-3',4'-epoxycyclohexylcarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylethylene oxide, cyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexylcarboxylate, 3,4-epoxy- 6-methylcyclohexylmethyl-6'-methylsiloxylcarboxylate, bis-epoxydicyclopentadienyl ether, bis-epoxycyclohexyl adipate, 3,4-dimethyl-1,2-epoxycyclohexane, 3, 5-dimethyl-1,2-epoxycyclohexane, 3-methyl-5-t-butyl-1,2-epoxycyclohexane, octadecyl-2,2-dimethyl-3,4-epoxycyclohexylcarboxylate, N -Butyl-2,2-dimethyl-3,4-epoxycyclohexylcarboxylate, cyclohexyl-2-methyl-3,4-epoxycyclohexylcarboxylate, N-butyl-2-isopropyl-3,4-epoxy -5-methylcyclohexylcarboxylate, octadecyl-3,4-epoxycyclohexylcarboxylate, 2-ethylhexyl-3',4'-epoxycyclohexylcarboxylate, 4,6-dimethyl-2,3-epoxy Cyclohexyl-3',4'-epoxycyclohexylcarboxylate, diethyl-4,5-epoxy-cis-1,2-cyclohexyldicarboxylate, di-n-butyl-3-t-butyl-4, 5-epoxy-cis-1,2-cyclohexyldicarboxylate, a polycyclic saturated hydrocarbon having an epoxy group (the polycyclic saturated hydrocarbon skeleton preferably has cyclic saturated hydrocarbons bonded to each other through two or more atoms, such Examples of the polycyclic saturated hydrocarbon skeleton include hydroindan, dicyclonorbornane, etc. The polycyclic saturated hydrocarbon having an epoxy group has an epoxy group bonded to the polycyclic saturated hydrocarbon skeleton, and a particularly preferable example is tetrahydroyne. (examples include diepoxide, etc.), silane coupling agents having an epoxy group (examples include 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, etc.), etc. there is. Among these, it is more preferable to use a cycloalkene oxide type alicyclic epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule. In addition, the cycloalkene oxide type alicyclic epoxy compound (A-i) can be used alone or in combination of two or more types.

사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i)의 에폭시 당량으로서는, 경화제와의 경화성의 관점에서 80 ~ 500g/eq인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 100 ~ 400g/eq이고, 더욱 바람직하게는 120 ~ 300g/eq, 한층 바람직하게는 120 ~ 250g/eq이다.The epoxy equivalent weight of the cycloalkene oxide type alicyclic epoxy compound (A-i) is preferably 80 to 500 g/eq, more preferably 100 to 400 g/eq, and still more preferably 120 to 500 g/eq from the viewpoint of curability with the curing agent. 300 g/eq, more preferably 120 to 250 g/eq.

상기 이접착층 조성물에 사용하는 에폭시 화합물(A) 중, 글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)는, 질소 원자에 결합한 글리시딜기를 갖는 에폭시 화합물이며, 1분자 중에 에폭시기를 2개 이상, 제 3 급 질소 원자를 1개 이상 갖는 것이다. 글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)는, 방향족 에폭시 화합물이어도 되고, 지환식 에폭시 화합물이어도 된다. 글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)의 구체적인 예로서는, 예를 들어, N,N-디글리시딜아닐린, N,N-디글리시딜-2-메틸벤젠아민, N,N-디글리시딜-4-(글리시딜옥시)아닐린, N,N,N',N'- 테트라글리시딜-1,3-벤젠디(메탄아민), 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린), 4,4'-[1,4-페닐렌비스(디메틸메틸렌)]비스(N,N-디글리시딜아닐린), 4,4'-[(1,4-페닐렌)비스옥시]비스(N,N-디글리시딜아닐린), 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜-2-메틸아닐린), 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜-3-메틸아닐린), 4,4'-[1,4-페닐렌비스(디메틸메틸렌)]비스(N,N-비스글리시딜-2,6-디메틸아닐린), 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)사이클로헥산 등을 들 수 있다. 이들 중, 1분자 중에 에폭시기를 3개 이상 갖는 글리시딜아민형 에폭시 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)는, 이들을 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Among the epoxy compounds (A) used in the easily adhesive layer composition, the glycidylamine type epoxy compound (A-ii) is an epoxy compound having a glycidyl group bonded to a nitrogen atom, and contains two or more epoxy groups in one molecule, It has one or more tertiary nitrogen atoms. The glycidylamine type epoxy compound (A-ii) may be an aromatic epoxy compound or an alicyclic epoxy compound. Specific examples of the glycidylamine type epoxy compound (A-ii) include, for example, N,N-diglycidylaniline, N,N-diglycidyl-2-methylbenzenamine, and N,N-di. Glycidyl-4-(glycidyloxy)aniline, N,N,N',N'-tetraglycidyl-1,3-benzenedi(methanamine), 4,4'-methylenebis(N, N-diglycidylaniline), 4,4'-[1,4-phenylenebis(dimethylmethylene)]bis(N,N-diglycidylaniline), 4,4'-[(1,4 -Phenylene)bisoxy]bis(N,N-diglycidylaniline), 4,4'-methylenebis(N,N-diglycidyl-2-methylaniline), 4,4'-methylenebis (N,N-diglycidyl-3-methylaniline), 4,4'-[1,4-phenylenebis(dimethylmethylene)]bis(N,N-bisglycidyl-2,6-dimethyl aniline), 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane, etc. Among these, it is more preferable to use a glycidylamine-type epoxy compound having three or more epoxy groups in one molecule. In addition, the glycidylamine type epoxy compound (A-ii) can be used individually or in combination of two or more types.

글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)의 에폭시 당량으로서는, 경화제와의 경화성의 관점에서 80 ~ 500g/eq의 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 85 ~ 400g/eq이고, 더욱 바람직하게는 90 ~ 300g/eq, 한층 바람직하게는 95 ~ 150g/eq이다.The epoxy equivalent weight of the glycidylamine type epoxy compound (A-ii) is preferably 80 to 500 g/eq, more preferably 85 to 400 g/eq, and still more preferably 90 g/eq from the viewpoint of curability with the curing agent. ~ 300 g/eq, more preferably 95 ~ 150 g/eq.

상기 이접착층 조성물에 사용하는 산무수물(B)은, 각종 에폭시 경화제로서 사용되는 공지된 산무수물을 바람직하게 사용할 수 있다.As the acid anhydride (B) used in the easily adhesive layer composition, a known acid anhydride used as various epoxy curing agents can be preferably used.

산무수물(B)로서는, 예를 들어, 프탈산무수물, 숙신산무수물, 헤트산(HET acid)무수물, 하이믹산무수물, 말레산무수물, 테트라하이드로프탈산무수물, 헥사하이드라프탈산무수물, 테트라브로모프탈산무수물, 테트라클로로프탈산무수물, 트리멜리트산무수물, 피로멜리트산무수물, 벤조페논테트라카복실산무수물, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카복실산2무수물, 사이클로헥산-1,2-디카복실산무수물, 4-메틸사이클로헥산-1,2-디카복실산무수물, 5-(2,5-옥소테트라하이드로푸릴)-3-메틸-3-사이클로헥센-1,2-디카복실산무수물, 산무수물기와 알콕시실란기를 갖는 실란커플링제(예를 들어, 3-트리메톡시실릴프로필숙신산무수물 등을 들 수 있다.) 등을 들 수 있다.Examples of the acid anhydride (B) include phthalic anhydride, succinic anhydride, HET acid anhydride, hymic acid anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydraphthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, Tetrachlorophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic acid anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride, 4-methylcyclo Hexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride, 5-(2,5-oxotetrahydrofuryl)-3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, silane coupling agent having an acid anhydride group and an alkoxysilane group (Examples include 3-trimethoxysilylpropylsuccinic anhydride, etc.).

산무수물(B)은, 상기의 산무수물을 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The acid anhydride (B) can be used individually or in combination of two or more of the above acid anhydrides.

산무수물(B)의 에폭시 화합물(A)의 총량에 대한 배합 비율은, 이접착층의 택프리성을 향상시키는 관점에서, 에폭시 화합물(A)의 에폭시기와, 산무수물(B)의 산기의 몰비{[(A)의 에폭시기]:[(B)의 산기]}가 20 : 80 ∼ 80 : 20의 범위가 바람직하다.The mixing ratio of the acid anhydride (B) to the total amount of the epoxy compound (A) is the molar ratio of the epoxy group of the epoxy compound (A) and the acid group of the acid anhydride (B) from the viewpoint of improving the tack-free property of the easily adhesive layer. [Epoxy group of (A)]:[Acid group of (B)]} is preferably in the range of 20:80 to 80:20.

상기 이접착층 조성물에 사용하는 폴리올 화합물(C)은, 1분자 내에 2개 이상의 수산기를 갖는 화합물이다. 폴리올 화합물(C)이 갖는 수산기는, 상기 이접착층 조성물의 산무수물(B) 및 실리콘계 점착제 조성물의 성분이 갖고 있는 실라놀기(SiOH기)나 하이드로실릴기(SiH기) 등의 반응성 관능기와 각각 반응하여, 상기 이접착층과 실리콘계 점착제층을 강고하게 밀착시키는 것에 기여하는 것이다.The polyol compound (C) used in the easily adhesive layer composition is a compound having two or more hydroxyl groups in one molecule. The hydroxyl group of the polyol compound (C) reacts with the acid anhydride (B) of the easily adhesive layer composition and reactive functional groups such as silanol group (SiOH group) and hydrosilyl group (SiH group) of the components of the silicone adhesive composition, respectively. Thus, it contributes to firmly adhering the easily adhesive layer and the silicone-based adhesive layer.

폴리올 화합물(C)로서는, 중합체(올리고머 또는 폴리머)인 것이 바람직하고, 예를 들어 유기 폴리머계에서는, 아크릴폴리올, 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올 등을 들 수 있다. 유기 폴리머계의 폴리올 화합물(C)로서는, 점착제 잔류 억제 효과를 보다 한층 향상시키는 관점에서 아크릴폴리올이 보다 바람직하다. 또한, 무기계의 폴리올 화합물(C)로서, 실리케이트 가수 분해물을 들 수 있다.The polyol compound (C) is preferably a polymer (oligomer or polymer), and examples of organic polymers include acrylic polyol, polyester polyol, and polyether polyol. As the organic polymer-based polyol compound (C), acrylic polyol is more preferable from the viewpoint of further improving the effect of suppressing adhesive residue. Additionally, examples of the inorganic polyol compound (C) include silicate hydrolysates.

상기 아크릴폴리올로서는, 예를 들어 분자 내에 1개 이상의 수산기를 갖는 중합성 단량체와, 이에 공중합 가능한 다른 단량체를 공중합시킴으로써 얻어지는 공중합체를 들 수 있고, 수산기를 갖는 중합성 단량체로서는, 예를 들어 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2,2-디하이드록시메틸부틸(메타)아크릴레이트, 폴리하이드록시알킬말레에이트, 폴리하이드록시알킬푸마레이트 등을 들 수 있다. 또한, 이들과 공중합 가능한 단량체로서는, 예를 들어 (메타)아크릴산, (메타)아크릴산알킬(C1 내지 C12), 말레산, 말레산 알킬, 푸마르산, 푸마르산 알킬, 이타콘산, 이타콘산 알킬, 스티렌, α-메틸스티렌, 아세트산비닐, (메타)아크릴로니트릴, 3-(2-이소시아네이트-2-프로필)-α-메틸스티렌, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그리고, 이들 단량체를, 적당한 용제 및 중합 개시제의 존재하에서 공중합시킴으로써, 아크릴폴리올을 얻을 수 있다.Examples of the acrylic polyol include a copolymer obtained by copolymerizing a polymerizable monomer having one or more hydroxyl groups in the molecule and another monomer copolymerizable therewith, and examples of the polymerizable monomer having a hydroxyl group include, for example, 2- Hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxybutyl (meth)acrylate, 2,2-dihydroxymethylbutyl (meth)acrylate, polyhydroxyalkyl maleate, poly Hydroxyalkyl fumarate, etc. can be mentioned. In addition, monomers that can be copolymerized with these include, for example, (meth)acrylic acid, alkyl (meth)acrylate (C1 to C12), maleic acid, alkyl maleate, fumaric acid, alkyl fumarate, itaconic acid, alkyl itaconic acid, styrene, α. -Methyl styrene, vinyl acetate, (meth)acrylonitrile, 3-(2-isocyanate-2-propyl)-α-methyl styrene, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate etc. can be mentioned. Then, acrylic polyol can be obtained by copolymerizing these monomers in the presence of an appropriate solvent and polymerization initiator.

상기 폴리에스테르폴리올로서는, 예를 들어 폴리올과 폴리카복실산(다염기산)의 축합 중합에 의해 얻어지는 폴리에스테르폴리올이나, 락톤류의 개환 중합에 의해 얻어지는 폴리에스테르폴리올 등을 들 수 있다.Examples of the polyester polyol include polyester polyol obtained by condensation polymerization of a polyol and polycarboxylic acid (polybasic acid), and polyester polyol obtained by ring-opening polymerization of lactones.

상기 폴리에스테르폴리올을 얻기 위한 축합 중합에 사용하는 폴리올로서는, 예를 들어 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 2-메틸-1,3-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,3-부탄디올, 2,3-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 2-메틸-1,5-펜탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,3,5-트리메틸-1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2-에틸-1,6-헥산디올, 2,2,4-트리메틸-1,6-헥산디올, 2,6-헥산디올, 1,8-옥탄디올, 1,4-사이클로헥산디메탄올, 1,2-디메틸올사이클로헥산, 1,3-디메틸올사이클로헥산, 1,4-디메틸올사이클로헥산, 1,12-도데칸디올, 폴리부타디엔디올, 네오펜틸글리콜, 테트라메틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 글리세린, 트리메틸올프로판, 1,3-디하이드록시아세톤, 헥실렌글리콜, 1,2,6-헥산트리올, 디트리메틸올프로판, 만니톨, 소르비톨, 및 펜타에리트리톨 등을 들 수 있다.Polyols used in condensation polymerization to obtain the polyester polyol include, for example, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,2-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,3-butanediol, 2,3-butanediol, 1,5-pentanediol, 2-methyl-1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,3 ,5-trimethyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2-ethyl-1,6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl-1,6-hexanediol, 2,6-hexane Diol, 1,8-octanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,2-dimethylolcyclohexane, 1,3-dimethylolcyclohexane, 1,4-dimethylolcyclohexane, 1,12-dode Candiol, polybutadienediol, neopentyl glycol, tetramethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, 1,3-dihydroxyacetone, hexylene glycol, 1,2,6-hexanetriol , ditrimethylolpropane, mannitol, sorbitol, and pentaerythritol.

상기 폴리에스테르폴리올을 얻기 위한 축합 중합에 사용하는 폴리카복실산으로서는, 예를 들어 옥살산, 아디프산, 세바스산, 푸마르산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아젤라산, 시트르산, 2,6-나프탈렌디카복실산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 시트라콘산, 1,10-데칸디카복실산, 메틸헥사하이드로 무수 프탈산, 헥사하이드로 무수 프탈산, 메틸테트라하이드로프탈산무수물, 테트라하이드로프탈산무수물, 무수 피로멜리트산 및 무수 트리멜리트산을 들 수 있다.Examples of polycarboxylic acids used in condensation polymerization to obtain the polyester polyol include oxalic acid, adipic acid, sebacic acid, fumaric acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, azelaic acid, citric acid, and 2,6-naphthalenedi. Carboxylic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, citraconic acid, 1,10-decanedicarboxylic acid, methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride and trihydrocytic acid. Examples include mellitic acid.

상기 폴리에스테르폴리올을 얻기 위한 개환 중합에 사용하는 락톤류로서는, 예를 들어 ε-카프로락톤, δ-발레로락톤 및 γ-부틸로락톤을 들 수 있다.Examples of lactones used in ring-opening polymerization to obtain the polyester polyol include ε-caprolactone, δ-valerolactone, and γ-butyrolactone.

상기 폴리에테르폴리올로서는, 예를 들어 폴리올류에 대한 환상 에테르 화합물의 부가 반응에 의해 얻어지는 폴리에테르폴리올, 및 알킬렌옥사이드의 개환 중합에 의해 얻어지는 폴리에테르폴리올을 들 수 있다.Examples of the polyether polyol include polyether polyol obtained by addition reaction of a cyclic ether compound to polyols, and polyether polyol obtained by ring-opening polymerization of alkylene oxide.

상기 폴리에테르폴리올로서는, 보다 구체적으로는, 예를 들어 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올(프로필렌글리콜), 2-메틸-1,3-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올(테트라메틸렌글리콜), 1,3-부탄디올, 2,3-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 2-메틸-1,5-펜탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,3,5-트리메틸-1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2-에틸-1,6-헥산디올, 2,2,4-트리메틸-1,6-헥산디올, 2,6-헥산디올, 1,8-옥탄디올, 1,4-사이클로헥산디메탄올, 1,2-디메틸올사이클로헥산, 1,3-디메틸올사이클로헥산, 1,4-디메틸올사이클로헥산, 1,12-도데칸디올, 폴리부타디엔디올, 네오펜틸글리콜, 디프로필렌글리콜, 글리세린, 트리메틸올프로판, 1,3-디하이드록시아세톤, 헥실렌글리콜, 1,2,6-헥산트리올, 디트리메틸올프로판, 만니톨, 소르비톨, 및 펜타에리트리톨 등의 폴리올류의 다량체; 상기 폴리올류와, 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드, 1,2-부틸렌옥사이드, 1,3-부틸렌옥사이드, 2,3-부틸렌옥사이드, 테트라하이드로푸란 및 에피클로로히드린 등의 알킬렌옥사이드의 부가물; 및 테트라하이드로푸란류 등의 환상 에테르의 개환 중합체(예를 들어, 폴리테트라메틸렌글리콜)를 들 수 있다.More specifically, the polyether polyol includes, for example, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,2-propanediol (propylene glycol), 2-methyl-1,3-propanediol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol (tetramethylene glycol), 1,3-butanediol, 2,3-butanediol, 1,5-pentanediol, 2-methyl-1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentane Diol, 2,3,5-trimethyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2-ethyl-1,6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl-1,6-hexanediol, 2,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,2-dimethylolcyclohexane, 1,3-dimethylolcyclohexane, 1,4-dimethylolcyclohexane, 1,12-Dodecanediol, polybutadienediol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, 1,3-dihydroxyacetone, hexylene glycol, 1,2,6-hexanetriol, di Polyol polymers such as trimethylolpropane, mannitol, sorbitol, and pentaerythritol; Addition of the above polyols and alkylene oxides such as ethylene oxide, propylene oxide, 1,2-butylene oxide, 1,3-butylene oxide, 2,3-butylene oxide, tetrahydrofuran, and epichlorohydrin. water; and ring-opening polymers of cyclic ethers such as tetrahydrofurans (for example, polytetramethylene glycol).

폴리올 화합물(C)의 수평균 분자량은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 200 ~ 100,000의 범위 내에 있는 것이 바람직하고, 500 ~ 50,000의 범위 내에 있는 것이 보다 바람직하고, 1,000 ~ 10,000의 범위 내에 있는 것이 더욱 바람직하고, 2,000 ~ 7,000의 범위 내에 있는 것이 한층 바람직하다. 수평균 분자량이 200 이상, 바람직하게는 500 이상, 더욱 바람직하게는 1,000 이상, 한층 바람직하게는 2,000 이상임으로써, 이접착층의 유연성이 향상되어, 가공시에 있어서의 이접착층의 내크랙성이 향상된다. 한편, 수평균 분자량이 100,000 이하, 바람직하게는 50,000 이하, 더욱 바람직하게는 10,000 이하, 한층 바람직하게는 7,000 이하임으로써, 이접착층 조성물에 있어서의 폴리올 화합물의 석출 억제 효과, 폴리올 화합물의 다른 성분에 대한 용해성이 향상된다. 또한, 폴리올 화합물(C)의 수평균 분자량은, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정되는 표준 폴리스티렌 환산의 수평균 분자량을 의미한다.The number average molecular weight of the polyol compound (C) is not particularly limited, but for example, it is preferably within the range of 200 to 100,000, more preferably within the range of 500 to 50,000, and preferably within the range of 1,000 to 10,000. More preferably, it is further preferably within the range of 2,000 to 7,000. When the number average molecular weight is 200 or more, preferably 500 or more, more preferably 1,000 or more, and even more preferably 2,000 or more, the flexibility of the easily adhesive layer is improved, and the crack resistance of the easily adhesive layer during processing is improved. . On the other hand, when the number average molecular weight is 100,000 or less, preferably 50,000 or less, more preferably 10,000 or less, and even more preferably 7,000 or less, the effect of suppressing precipitation of the polyol compound in the easily adhesive layer composition and other components of the polyol compound are reduced. Solubility is improved. In addition, the number average molecular weight of the polyol compound (C) means the number average molecular weight in terms of standard polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).

폴리올 화합물(C)의 중량 평균 분자량은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 200 ~ 300,000의 범위 내에 있는 것이 바람직하고, 1,000 ~ 100,000의 범위 내에 있는 것이 보다 바람직하고, 10,000 ~ 40,000의 범위 내에 있는 것이 더욱 바람직하다. 중량 평균 분자량이 200 이상, 바람직하게는 1,000 이상, 더욱 바람직하게는 10,000 이상임으로써, 이접착층의 유연성이 향상되어, 가공시에 있어서의 이접착층의 내크랙성이 향상된다. 한편, 중량 평균 분자량이 300,000 이하, 바람직하게는 100,000 이하, 더욱 바람직하게는 40,000 이하임으로써, 이접착층 조성물에 있어서의 폴리올 화합물의 석출 억제 효과, 폴리올 화합물의 다른 성분에 대한 용해성이 향상된다. 또한, 폴리올 화합물(C)의 중량 평균 분자량은, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정되는 표준 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량을 의미한다.The weight average molecular weight of the polyol compound (C) is not particularly limited, but for example, it is preferably within the range of 200 to 300,000, more preferably within the range of 1,000 to 100,000, and preferably within the range of 10,000 to 40,000. It is more desirable. When the weight average molecular weight is 200 or more, preferably 1,000 or more, and more preferably 10,000 or more, the flexibility of the easily adhesive layer improves and the crack resistance of the easily adhesive layer during processing improves. On the other hand, when the weight average molecular weight is 300,000 or less, preferably 100,000 or less, and more preferably 40,000 or less, the effect of suppressing precipitation of the polyol compound in the easily adhesive layer composition and the solubility of the polyol compound in other components are improved. In addition, the weight average molecular weight of the polyol compound (C) means the weight average molecular weight in terms of standard polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).

폴리올 화합물(C)은, 수산기가가 10 ~ 200KOHmg/g의 범위 내에 있는 것이 바람직하고, 15 ~ 100KOHmg/g의 범위 내에 있는 것이 보다 바람직하고, 35 ~ 85KOHmg/g의 범위 내에 있는 것이 더욱 바람직하고, 50 ~ 70KOHmg/g의 범위 내에 있는 것이 한층 바람직하다. 수산기가가 10KOHmg/g 이상, 바람직하게는 15KOHmg/g 이상, 더욱 바람직하게는 35KOHmg/g 이상, 한층 바람직하게는 50KOHmg/g 이상임으로써, 이접착층 조성물 중의 산무수물(B)과의 반응 후에도 수산기가 잔존하기 때문에 실리콘계 점착제층과의 밀착성에 기여하는 수산기를 유효하게 확보할 수 있어, 이접착층과 실리콘계 점착제층과의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 한편, 수산기가가 200KOHmg/g 이하, 바람직하게는 100KOHmg/g 이하, 더욱 바람직하게는 85KOHmg/g 이하, 한층 바람직하게는 70KOHmg/g 이하임으로써, 실리콘계 점착제층의 가교에 기여하는 반응성 관능기와 폴리올 화합물의 수산기와의 반응을 적절하게 할 수 있어, 실리콘계 점착제층의 가교성을 향상시킬 수 있고, 그 결과, 실리콘 점착제층의 가교를 충분하게 함으로써 응집력이 향상되어, 점착제 잔류 억제 효과를 향상시킬 수 있다.The polyol compound (C) preferably has a hydroxyl value in the range of 10 to 200 KOH mg/g, more preferably in the range of 15 to 100 KOH mg/g, and even more preferably in the range of 35 to 85 KOH mg/g. , it is more preferable to be within the range of 50 to 70KOHmg/g. The hydroxyl value is 10KOHmg/g or more, preferably 15KOHmg/g or more, more preferably 35KOHmg/g or more, and even more preferably 50KOHmg/g or more, so that the hydroxyl value remains even after reaction with the acid anhydride (B) in the easily adhesive layer composition. Because it remains, hydroxyl groups that contribute to adhesion to the silicone-based adhesive layer can be effectively secured, and the adhesion between the easily adhesive layer and the silicone-based adhesive layer can be improved. On the other hand, the hydroxyl value is 200KOHmg/g or less, preferably 100KOHmg/g or less, more preferably 85KOHmg/g or less, and even more preferably 70KOHmg/g or less, so that the reactive functional group and polyol that contribute to crosslinking of the silicone adhesive layer By appropriately reacting with the hydroxyl group of the compound, the crosslinking property of the silicone adhesive layer can be improved. As a result, by sufficiently crosslinking the silicone adhesive layer, cohesion can be improved and the effect of suppressing adhesive residue can be improved. there is.

폴리올 화합물(C)로서는, 무기계의 실리케이트 가수 분해물을 이용할 수 있다. 실리케이트 가수 분해물은, 다수의 수산기(실라놀기)와 알콕시기를 갖고 있고, 실라놀기는 이접착층 도막 형성시에 산무수물(B)과 경화 반응한다. 또한, 실리케이트 가수 분해물의 대부분의 알콕시기는 이접착층 도막 형성시에 탈알코올하여 수산기(실라놀기)가 되고, 이어서 자기 축합하여 실리케이트 폴리머 구조를 형성하기 때문에, 내열성을 더욱 향상시킬 수 있다. 또한, 실리케이트 가수 분해물의 실리케이트 폴리머 구조의 표면에 있는 수산기(실라놀기)는 실리콘계 점착제의 성분이 가지고 있는 실라놀기나 하이드로실릴기 등의 반응성 관능기와도 반응하여, 이접착층과 실리콘계 점착제층과의 밀착성에 기여하는 것이다.As the polyol compound (C), an inorganic silicate hydrolyzate can be used. The silicate hydrolyzate has a large number of hydroxyl groups (silanol groups) and alkoxy groups, and the silanol groups undergo a curing reaction with the acid anhydride (B) when forming an easily adhesive layer coating film. In addition, most of the alkoxy groups of the silicate hydrolyzate are dealcoholized to become hydroxyl groups (silanol groups) when forming an easily adhesive layer coating film, and then self-condensate to form a silicate polymer structure, so heat resistance can be further improved. In addition, the hydroxyl group (silanol group) on the surface of the silicate polymer structure of the silicate hydrolyzate also reacts with reactive functional groups such as silanol groups and hydrosilyl groups contained in the components of the silicone adhesive, reducing the adhesion between the easily adhesive layer and the silicone adhesive layer. contributes to.

상기 실리케이트 가수 분해물은, 알코올 용매 등의 유기 용매 중, 특정량의 물 및 축합 촉매(산 또는 염기)의 존재하에서, 알킬실리케이트를 가수분해 축합시켜 얻을 수 있다. 상기 실리케이트 가수 분해물을 형성하는 원료로서는, 예를 들면 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란 등을 사용할 수 있다. 또한, 테트라메톡시실란의 4량체, 테트라에톡시실란의 5량체 등의 실리케이트 올리고머를 사용할 수도 있다.The silicate hydrolyzate can be obtained by hydrolyzing and condensing an alkyl silicate in an organic solvent such as an alcohol solvent in the presence of a specific amount of water and a condensation catalyst (acid or base). As a raw material for forming the silicate hydrolyzate, for example, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, etc. can be used. Additionally, silicate oligomers such as tetramer of tetramethoxysilane and pentamer of tetraethoxysilane can also be used.

상기 실리케이트 가수 분해물로서는, 시판의 실리케이트 가수 분해물을 포함하는 실리케이트 가수분해액을 적절히 이용해도 된다.As the silicate hydrolyzate, a silicate hydrolyzate liquid containing a commercially available silicate hydrolyzate may be appropriately used.

상기 이접착층 조성물에 있어서의 폴리올 화합물(C)의 배합량은, 기재 및 실리콘계 점착제와의 밀착성 확보의 관점에서, 에폭시 화합물(A)과 산무수물(B)의 합계 질량과, 폴리올 화합물(C)의 질량비{[(A)+(B)]:(C)}가, 10 : 90 ~ 90 : 10의 범위인 것이 바람직하고, 30 : 70 ~ 90 : 10의 범위인 것이 보다 바람직하며, 40 : 60 ~ 90 : 10의 범위인 것이 더욱 바람직하고, 45 : 55 ~ 90 : 10의 범위인 것이 보다 한층 바람직하다. 에폭시 화합물(A)과 산무수물(B)의 합계 배합량을 10 : 90 이상, 바람직하게는 30 : 70 이상, 더욱 바람직하게는 40 : 60 이상, 한층 바람직하게는 45 : 55 이상으로 함으로써, 기재와 이접착층의 밀착성이 향상되고, 또한, 에폭시 화합물(A)과 산무수물(B)의 합계 배합량을 90 : 10 이하로 함으로써 폴리올 화합물(C)의 배합량이 유효하게 확보되어, 이접착층과 실리콘 점착제층의 밀착성이 향상되어, 고온의 열처리 공정 후의 피착체에 대한 점착제 잔류 억제 효과가 향상된다. 또한, (C)성분으로서 실리케이트 가수 분해물을 이용하는 경우는, 이접착층 형성시에 실리케이트 폴리머 구조(SiO2)가 되기 때문에, 실리케이트 가수 분해물 중의SiO2량을 폴리올 화합물(C)의 질량으로서 질량비를 구하는 것으로 한다.The compounding amount of the polyol compound (C) in the easily adhesive layer composition is the total mass of the epoxy compound (A) and the acid anhydride (B) and the polyol compound (C) from the viewpoint of ensuring adhesion between the substrate and the silicone adhesive. The mass ratio {[(A)+(B)]:(C)} is preferably in the range of 10:90 to 90:10, more preferably in the range of 30:70 to 90:10, and 40:60. It is more preferable that it is in the range of - 90:10, and it is still more preferable that it is in the range of 45:55 - 90:10. By setting the total mixing amount of the epoxy compound (A) and the acid anhydride (B) to 10:90 or more, preferably 30:70 or more, more preferably 40:60 or more, and even more preferably 45:55 or more, the base material The adhesion of the easily adhesive layer is improved, and by setting the total mixing amount of the epoxy compound (A) and the acid anhydride (B) to 90:10 or less, the mixing amount of the polyol compound (C) is effectively secured, thereby forming the easily adhesive layer and the silicone adhesive layer. Adhesion is improved, and the effect of suppressing adhesive residue on the adherend after a high-temperature heat treatment process is improved. In addition, when using a silicate hydrolyzate as the component (C), a silicate polymer structure (SiO 2 ) is formed at the time of forming the easily adhesive layer, so the mass ratio is obtained by using the amount of SiO 2 in the silicate hydrolyzate as the mass of the polyol compound (C). Let's do it.

본 발명의 이접착층에는, 본 발명의 효과가 얻어지는 한, 산화 방지제, 대전 방지제, 레벨링제, 소포제 등의 각종 첨가제를 배합할 수 있다. 이들 첨가제의 종류나 양은, 본 발명의 효과가 얻어지는 범위 내에서 적절히 선정할 수 있다.Various additives such as antioxidants, antistatic agents, leveling agents, and antifoaming agents can be blended into the easily adhesive layer of the present invention as long as the effects of the present invention are obtained. The types and amounts of these additives can be appropriately selected within the range that achieves the effects of the present invention.

본 발명의 이접착층의 막두께는, 기재 및 실리콘계 점착제와의 밀착성, 이접착층막의 유연성의 관점에서, 0.05 ∼ 3.00㎛의 범위가 바람직하고, 0.1 ∼ 3.00㎛의 범위가 보다 바람직하고, 0.15 ∼ 3.00㎛의 범위가 더욱 바람직하다. 이접착층의 막두께를 0.05㎛ 이상, 바람직하게는 0.1㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 0.15㎛ 이상으로 함으로써 밀착성이 향상되어, 고온의 열처리 공정 후의 피착체에 대한 점착제 잔류 억제 효과가 향상된다. 한편, 이접착층의 막두께가 3.00㎛ 이하임으로써, 이접착층의 경화막에 바람직한 유연성이 구비되어 필름 굽힘 추종성이 향상되어, 이접착층의 균열 억제성이 향상되기 때문에, 고온의 열처리 공정 후의 피착체에 대한 점착제 잔류 억제 효과가 향상된다.The film thickness of the easily adhesive layer of the present invention is preferably in the range of 0.05 to 3.00 μm, more preferably in the range of 0.1 to 3.00 μm, and 0.15 to 3.00 from the viewpoint of adhesion to the substrate and silicone adhesive and flexibility of the easily adhesive layer film. The range of ㎛ is more preferable. By setting the film thickness of the easily adhesive layer to 0.05 μm or more, preferably 0.1 μm or more, and more preferably 0.15 μm or more, adhesion is improved, and the effect of suppressing adhesive residue on the adherend after a high temperature heat treatment process is improved. On the other hand, when the film thickness of the easily adhesive layer is 3.00 μm or less, the cured film of the easily adhesive layer is provided with desirable flexibility, the film bending followability is improved, and the crack suppression of the easily adhesive layer is improved, so that the adherend after the high temperature heat treatment process is improved. The effect of suppressing adhesive residue is improved.

(점착제층)(Adhesive layer)

본 발명의 내열성 점착 필름을 구성하는 점착제층은, 내열성이 우수한 점에서 특히 실리콘계 점착제를 사용한다. 실리콘계 점착제로서는, 주로 실리콘 고무(D단위[(CH3)2SiO2/2]로 이루어지는 구조를 갖는 폴리디메틸실록산의 장쇄의 중합체)와 MQ 레진(M단위[R3SiO1/2: R은 메틸기, 페닐기 등의 1가의 유기기)와 Q단위[SiO4/2]로 이루어지는 구조를 갖는 3차원 구조의 실리콘 레진의 중합체)를 함유하는 점착제를 들 수 있다. 이러한 실리콘 고무와 MQ 레진을 함유하는 점착제는, 실리콘 고무 단일체에 비해 점착성이 우수하다. 또한, 점착제 중의 실리콘 고무의 분자량이나 가교 밀도, MQ 레진의 비율을 바꿈으로써 점착력·유지력·택 등의 기본적인 점착 물성을 컨트롤할 수 있다.The adhesive layer constituting the heat-resistant adhesive film of the present invention is particularly made of a silicone-based adhesive because it has excellent heat resistance. Silicone-based adhesives mainly include silicone rubber (a long-chain polymer of polydimethylsiloxane with a structure consisting of D units [(CH 3 ) 2 SiO 2/2 ]) and MQ resin (M units [R 3 SiO 1/2 : R is Examples include adhesives containing a monovalent organic group such as a methyl group or a phenyl group) and a polymer of a three-dimensional silicone resin having a structure composed of Q units [SiO 4/2 ]. The adhesive containing such silicone rubber and MQ resin has superior adhesiveness compared to silicone rubber monolith. In addition, basic adhesive properties such as adhesive strength, holding power, and tack can be controlled by changing the molecular weight of silicone rubber, crosslinking density, and ratio of MQ resin in the adhesive.

실리콘계 점착제는, 그 경화 기구에 의해, 부가 경화형 실리콘 점착제, 과산화물 경화형 실리콘 점착제, 축합 반응 경화형 실리콘 점착제를 들 수 있지만, 비교적 저온에서 경화하여 가교시킬 수 있고, 경화 시에 부생성물 생성을 억제할 수 있는 점에서 부가 경화형 실리콘 점착제가 바람직하다.Silicone-based adhesives include addition curing type silicone adhesives, peroxide curing type silicone adhesives, and condensation reaction curing type silicone adhesives, depending on their curing mechanism. However, they can be crosslinked by curing at a relatively low temperature, and the production of by-products can be suppressed during curing. In this regard, an addition curing type silicone adhesive is preferable.

상기 부가 경화형 실리콘 점착제로서, 예를 들어 1분자 중에 2개 이상의 알케닐기를 갖는 디오르가노폴리실록산과, 가교제로서 오르가노하이드로젠폴리실록산을 포함하는 실리콘 조성물을 부가 반응에 의해 경화하여 이루어지는 것이 적절하게 사용된다. 상기 실리콘 조성물을 균일하게 도공하고, 열경화시켜 실리콘 조성물을 가교함으로써 바람직하게 점착제층을 얻을 수 있다.As the above addition curing type silicone adhesive, for example, one obtained by curing by addition reaction a silicone composition containing diorganopolysiloxane having two or more alkenyl groups in one molecule and organohydrogenpolysiloxane as a crosslinking agent is suitably used. . An adhesive layer can preferably be obtained by uniformly coating the silicone composition, heat curing the silicone composition, and crosslinking the silicone composition.

상기 실리콘 조성물의 1분자 중에 2개 이상의 알케닐기를 갖는 디오르가노폴리실록산으로서는, 예를 들어 양 말단에만 비닐기를 갖는 직쇄상 폴리디오르가노실록산, 양 말단 및 측쇄에 비닐기를 갖는 직쇄상 폴리오르가노실록산, 말단에만 비닐기를 갖는 분지상 폴리오르가노실록산, 말단 및 측쇄에 비닐기를 갖는 분지상 폴리오르가노실록산을 들 수 있다.Examples of the diorganopolysiloxane having two or more alkenyl groups in one molecule of the silicone composition include, for example, linear polydiorganosiloxane having vinyl groups only at both terminals, linear polyorganosiloxane having vinyl groups at both terminals and side chains, Examples include branched polyorganosiloxanes having vinyl groups only at the terminals, and branched polyorganosiloxanes having vinyl groups at the terminals and side chains.

상기 실리콘 조성물의 1분자 중에 2개 이상의 알케닐기를 갖는 디오르가노폴리실록산의 중량 평균 분자량으로서는, 20,000 ~ 700,000의 범위의 것이 바람직하고, 50,000 ~ 400,000의 범위의 것이 보다 바람직하고, 70,000 ~ 100,000의 범위의 것이 더욱 바람직하다. 상기 디오르가노폴리실록산의 중량 평균 분자량이 20,000 이상, 바람직하게는 50,000 이상, 더욱 바람직하게는 70,000 이상임으로써, 경화성이 향상되고, 가교 밀도가 바람직하기 때문에 피착체에 대한 점착력이 향상된다. 또한, 상기 디오르가노폴리실록산의 중량 평균 분자량이 700,000 이하, 바람직하게는 400,000 이하, 더욱 바람직하게는 100,000 이하임으로써, 실리콘 조성물의 점도가 바람직하기 때문에 제조성이 향상된다. 또한, 중량 평균 분자량은, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정되는 표준 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량을 의미한다.The weight average molecular weight of the diorganopolysiloxane having two or more alkenyl groups in one molecule of the silicone composition is preferably in the range of 20,000 to 700,000, more preferably in the range of 50,000 to 400,000, and in the range of 70,000 to 100,000. It is more desirable. When the weight average molecular weight of the diorganopolysiloxane is 20,000 or more, preferably 50,000 or more, and more preferably 70,000 or more, curability is improved and adhesion to the adherend is improved because the crosslinking density is preferable. In addition, when the weight average molecular weight of the diorganopolysiloxane is 700,000 or less, preferably 400,000 or less, and more preferably 100,000 or less, the viscosity of the silicone composition is desirable, and thus manufacturability is improved. In addition, the weight average molecular weight means the weight average molecular weight in terms of standard polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).

상기 실리콘 조성물의 가교제는 공지된 것을 사용할 수 있다. 상기 가교제로서 사용되는 오르가노하이드로젠폴리실록산은 1분자 중에 규소 원자에 결합한 수소 원자를 적어도 3개 갖는 것이며, 분자의 형상으로서는, 직쇄상, 분지상, 환상의 것을 사용할 수 있다. 상기 오르가노하이드로젠폴리실록산에 포함되는 하이드로실릴(SiH)기가 상기 실리콘 조성물의 알케닐기를 갖는 디오르가노폴리실록산의 알케닐기와 부가 반응함과 동시에, 본 발명의 이접착층에 포함되는 수산기와도 반응하여 이접착층과 실리콘계 점착제층과의 강고한 밀착성이 얻어진다.A known crosslinking agent for the silicone composition may be used. The organohydrogenpolysiloxane used as the crosslinking agent has at least three hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule, and linear, branched, or cyclic shapes can be used as the molecule. The hydrosilyl (SiH) group contained in the organohydrogenpolysiloxane reacts with the alkenyl group of the diorganopolysiloxane having an alkenyl group of the silicone composition, and also reacts with the hydroxyl group contained in the easily adhesive layer of the present invention. Strong adhesion between the adhesive layer and the silicone-based adhesive layer is obtained.

상기 실리콘 조성물의 알케닐기를 갖는 디오르가노폴리실록산 중의 알케닐기에 대한, 오르가노하이드로젠폴리실록산 중의 SiH기의 몰비(SiH기/알케닐기)의 범위는, 예를 들어 0.5 ~ 3.0, 보다 바람직하게는 1.0 ~ 2.0, 더욱 바람직하게는 1.0 ~ 1.5, 한층 바람직하게는 1.1 ~ 1.4이다. 몰비(SiH기/알케닐기)가 0.5 이상, 바람직하게는 1.0 이상, 더욱 바람직하게는 1.1 이상임으로써 실리콘 조성물의 가교 밀도가 향상되어 응집력이 높아지고, 점착제 잔류 억제 효과가 향상되고, 또한 상기 이접착층의 수산기와 SiH기의 반응에 의한 밀착성이 향상된다. 한편, 몰비(SiH기/알케닐기)가 3.0 이하, 바람직하게는 2.0 이하, 더욱 바람직하게는 1.5 이하, 한층 바람직하게는 1.4 이하임으로써 미반응의 하이드로실릴기의 경화물 중의 잔존을 억제하여, 물성의 경시 변화나 경화물의 내열성의 저하 등에 대한 억제성이 향상되고, 또한, 경화물 중에 탈수소 반응에 의한 발포에 대한 억제성도 향상된다.The range of the molar ratio (SiH group/alkenyl group) of the SiH group in the organohydrogenpolysiloxane to the alkenyl group in the diorganopolysiloxane having an alkenyl group of the silicone composition (SiH group/alkenyl group) is, for example, 0.5 to 3.0, more preferably 1.0. ~ 2.0, more preferably 1.0 ~ 1.5, even more preferably 1.1 ~ 1.4. When the molar ratio (SiH group/alkenyl group) is 0.5 or more, preferably 1.0 or more, and more preferably 1.1 or more, the crosslinking density of the silicone composition is improved, the cohesion is increased, the adhesive residual suppression effect is improved, and the easily adhesive layer of the easily adhesive layer is improved. Adhesion is improved due to the reaction between hydroxyl groups and SiH groups. On the other hand, the molar ratio (SiH group/alkenyl group) is 3.0 or less, preferably 2.0 or less, more preferably 1.5 or less, and even more preferably 1.4 or less to suppress the remaining unreacted hydrosilyl group in the cured product, Inhibition against changes in physical properties over time and deterioration of heat resistance of the cured product is improved, and inhibition of foaming due to dehydrogenation reaction in the cured product is also improved.

상기 실리콘 조성물에는, 점착력 향상의 관점에서 M단위(R3SiO1/2: R은 메틸기, 페닐기 등의 1가의 유기기), D단위(R2SiO2/2), T단위(RSiO3/2), Q단위(SiO4/2)로 이루어지는 군에서 선택되는 단위를 포함하는 실리콘 레진을 사용할 수 있지만, 점착층의 점착력을 향상시키는 효과가 크다는 점에서, M단위와 Q단위로 이루어지는 종래 공지된 MQ 레진을 함유하는 것이 바람직하다. MQ 레진의 배합량은, 필요의 점착력에 따라 적절히 배합한다.In the silicone composition, from the viewpoint of improving adhesion, M unit (R 3 SiO 1/2 : R is a monovalent organic group such as methyl group or phenyl group), D unit (R 2 SiO 2/2 ), T unit (RSiO 3/ 2 ), a silicone resin containing a unit selected from the group consisting of Q units (SiO 4/2 ) can be used, but in that the effect of improving the adhesive strength of the adhesive layer is large, a conventionally known silicone resin consisting of M units and Q units is used. It is preferable to contain MQ resin. The mixing amount of MQ resin is appropriately mixed according to the required adhesive strength.

상기 실리콘 조성물의 가교 반응에 사용하는 백금계 촉매는 공지된 것이면 되고, 이로서는 염화제1백금산, 염화제2백금산 등의 염화백금산, 염화백금산의 알코올 화합물, 알데히드 화합물 혹은 염화백금산과 각종 올레핀과의 쇄염 등을 들 수 있다.The platinum-based catalyst used in the crosslinking reaction of the silicone composition may be any known catalyst, and examples thereof include chloroplatinic acids such as chloroplatinic acid and diplatinic acid, alcohol compounds of chloroplatinic acid, aldehyde compounds, or chloroplatinic acid and various olefins. Examples include striae.

본 발명의 실리콘계 점착제층의 실리콘 조성물에는, 그 외의 특성의 향상을 목적으로 하여 첨가제를 적절히 첨가해도 된다. 첨가제로서는, 유기/무기 입자, 착색제, 실리콘 오일, 실리콘 레진, 실란커플링제, 산화 방지제 등을 들 수 있다.Additives may be appropriately added to the silicone composition of the silicone-based adhesive layer of the present invention for the purpose of improving other properties. Additives include organic/inorganic particles, colorants, silicone oil, silicone resin, silane coupling agents, antioxidants, etc.

본 발명의 실리콘계 점착제층의 막두께는, 피착체에 대한 접착력, 유지력을 확보하기 위해서 적어도 5㎛ 이상, 통상적으로는 10 ∼ 100㎛가 바람직하다. 점착제층의 막두께가 5㎛ 이상임으로써, 피착체에 대한 접착력에 대해, 전단 방향의 유지력이 양호해지고, 피착체에 대한 밀착성이 향상된다. 또한, 점착제층의 막두께가 100㎛ 이하임으로써, 점착제층을 구성하는 실리콘 조성물의 사용량을 억제할 수 있기 때문에, 제조 비용이 억제된다.The film thickness of the silicone-based adhesive layer of the present invention is preferably at least 5 μm or more, and usually 10 to 100 μm, in order to ensure adhesion and holding power to the adherend. When the film thickness of the adhesive layer is 5 μm or more, the holding power in the shear direction becomes good with respect to the adhesive force to the adherend, and the adhesion to the adherend improves. Additionally, when the film thickness of the adhesive layer is 100 μm or less, the amount of silicone composition used in the adhesive layer can be suppressed, thereby suppressing manufacturing costs.

본 발명의 실리콘계 점착제층의 형성 방법으로서는, 실리콘 조성물을 그대로, 또는 용제 등으로 점도를 조정한 도공액으로서, 기재 상에 형성된 본 발명의 상기 이접착층 상에, 상기 도공액을 소정의 두께가 되도록 균일하게 도공하고, 용제 건조하고, 추가로 가열하여 실리콘 조성물을 가교함으로써, 실리콘계 점착제층을 형성할 수 있다.As a method for forming a silicone-based adhesive layer of the present invention, the silicone composition is used as is or a coating liquid whose viscosity is adjusted with a solvent or the like, and the coating liquid is applied to the easily adhesive layer of the present invention formed on a substrate to a predetermined thickness. A silicone-based adhesive layer can be formed by uniformly coating, solvent drying, and further heating to crosslink the silicone composition.

본 발명의 이접착층, 실리콘계 점착제층의 도공액의 도공법으로는, 예를 들어, 그라비아 코터, 바 코터, 콤마 나이프 코터, 다이 코터, 리버스 코터 등을 들 수 있다.Examples of the coating method of the coating liquid for the easily adhesive layer and the silicone-based adhesive layer of the present invention include a gravure coater, bar coater, comma knife coater, die coater, and reverse coater.

(세퍼레이터)(separator)

본 발명에 있어서는, 실리콘계 점착제층의 표면의 오염이나 이물 부착을 방지하거나, 점착 필름의 핸들링을 향상시킬 목적으로, 플라스틱 필름으로 이루어지는 세퍼레이터를 실리콘계 점착제층면에 접합하여 사용하는 것이 적합하다. 상기 세퍼레이터는, 박리성이 높은 플라스틱 필름으로 이루어지고, 소망에 따라, 상기 플라스틱 필름의 표면에 박리제를 형성한 것을 적절히 사용할 수 있다.In the present invention, for the purpose of preventing contamination or adhesion of foreign substances to the surface of the silicone-based adhesive layer, or improving handling of the adhesive film, it is suitable to use a separator made of a plastic film by bonding it to the surface of the silicone-based adhesive layer. The separator is made of a plastic film with high peelability, and if desired, a release agent formed on the surface of the plastic film can be used as appropriate.

실시예Example

이하에 실시예와 비교예를 나타내어 본 발명의 내열성 점착 필름을 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 제한되는 것은 아니다.The heat-resistant adhesive film of the present invention will be described in detail below by showing examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.

<이접착층 도공액의 조제><Preparation of easily adhesive layer coating solution>

이접착층 도공액 재료로서, 이하의 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i), 산무수물(B), 폴리올 화합물(C)을 사용하여, 실시예 1-1 ∼ 1-19, 비교예 1-1 ∼ 1-3, 실시예 2-1 ∼ 2-19, 비교예 2-1 ∼ 2-3의 각 이접착층 도공액을 제작했다. 각 이접착층 도공액의 사용 재료, 배합량은 표 1 ∼ 표 8에 나타낸다. 이접착층 도공액 재료와 용제를 표 1 ∼ 표 8에 기재된 배합량대로 혼합하여, 이접착층 도공액으로 했다.Examples 1-1 to 1-19, Comparative Example 1-, using the following cycloalkene oxide type alicyclic epoxy compound (A-i), acid anhydride (B), and polyol compound (C) as the easily adhesive layer coating solution material. Each easily adhesive layer coating liquid of 1 to 1-3, Examples 2-1 to 2-19, and Comparative Examples 2-1 to 2-3 was produced. The materials used and compounding amounts of each easily adhesive layer coating liquid are shown in Tables 1 to 8. The easily adhesive layer coating liquid material and solvent were mixed according to the mixing ratio shown in Tables 1 to 8 to obtain an easily adhesive layer coating liquid.

[에폭시 화합물(A)][Epoxy compound (A)]

[사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i)][Cycloalkene oxide type alicyclic epoxy compound (A-i)]

A-i-1: 가부시키가이샤다이셀제 셀록사이드 2021P(3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3',4'-에폭시사이클로헥실카복실레이트, 불휘발분 100%, 에폭시 당량 130.5g/eq), A-i-2: 에네오스가부시키가이샤제 에포카릭 THI-DE(테트라하이드로인덴의 디에폭사이드, 불휘발분 100%, 에폭시 당량 80g/eq), A-i-3: 신에츠카가쿠코교가부시키가이샤제 KBM-303(2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 불휘발분 100%, 에폭시 당량 246.4g/eq)A-i-1: Celoxide 2021P (3,4-epoxycyclohexylmethyl-3',4'-epoxycyclohexylcarboxylate, non-volatile matter 100%, epoxy equivalent 130.5 g/eq), manufactured by Daicel Co., Ltd., A-i-2 : Epokaric THI-DE manufactured by Eneos Co., Ltd. (diepoxide of tetrahydroindene, non-volatile matter 100%, epoxy equivalent weight 80g/eq), A-i-3: KBM manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. -303 (2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, non-volatile matter 100%, epoxy equivalent weight 246.4 g/eq)

[글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)][Glycidylamine type epoxy compound (A-ii)]

A-ii-1: 미츠비시케미컬가부시키가이샤제 TETRAD-C(1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)사이클로헥산, 불휘발분 100%, 에폭시 당량 102.5g/eq), A-ⅱ-2: 미츠비시케미컬가부시키가이샤제 jER630(N,N-디글리시딜-4-(글리시딜옥시)아닐린, 불휘발 성분 100%, 에폭시 당량 98g/eq), A-ii-3: 닛폰카야쿠가부시키가이샤제 GAN(N,N-디글리시딜아닐린, 불휘발 성분 100%, 에폭시 당량 125g/eq)A-ii-1: TETRAD-C manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation (1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane, non-volatile matter 100%, epoxy equivalent weight 102.5 g/eq), A -ⅱ-2: jER630 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation (N,N-diglycidyl-4-(glycidyloxy)aniline, non-volatile component 100%, epoxy equivalent weight 98 g/eq), A-ii-3 : GAN manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (N,N-diglycidylaniline, non-volatile component 100%, epoxy equivalent weight 125g/eq)

[비교예용 에폭시 화합물][Epoxy compound for comparative example]

A-4: 비교예로서, 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물도 글리시딜아민형 에폭시 화합물도 아닌, 비스페놀형 에폭시 화합물의 미츠비시케미컬가부시키가이샤제 jER828(불휘발분 100%, 에폭시 당량 189g/eq)A-4: As a comparative example, jER828 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, a bisphenol-type epoxy compound that is neither a cycloalkene oxide-type alicyclic epoxy compound nor a glycidylamine-type epoxy compound (non-volatile matter 100%, epoxy equivalent weight 189 g/eq) )

[산무수물(B)][Acid anhydride (B)]

B-1: 신니혼리카가부시키사이샤제 리카시드 MH-700(사이클로헥산-1,2-디카복실산무수물 및 4-메틸사이클로헥산-1,2-디카복실산무수물을 함유하는 혼합물, 불휘발분 100%, 산무수물 당량 163.5g/eq), B-2: 신에츠카가쿠코교가부시키가이샤제 X-12-967C(3-트리메톡시실릴프로필숙신산무수물, 불휘발분 100%, 산무수물 당량 131.05g/eq)B-1: Shin Nihon Chemical Co., Ltd. Rikacid MH-700 (mixture containing cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride and 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride, non-volatile content 100 %, acid anhydride equivalent 163.5g/eq), B-2: /eq)

[폴리올 화합물(C)][Polyol compound (C)]

C-1: 코르코트가부시키가이샤제 HAS-1(SiO2 농도 21%, 에틸실리케이트 가수 분해물), C-2: 디아이씨가부시키가이샤제 아크리딕 A-817(불휘발분 50%, 아크릴폴리올, 스티렌-아크릴 공중합체, 수산기가 60㎎KOH/g, 유리 전이 온도 95℃, 중량 평균 분자량 20,000), C-3: 도요보가부시키가이샤제 바이론 GK-810(불휘발분 100%, 폴리에스테르폴리올, 수산기가 19㎎KOH/g, 유리 전이 온도 46℃, 수평균 분자량 4,600)C-1: HAS-1 manufactured by Corcoat Co., Ltd. (SiO 2 concentration 21%, ethyl silicate hydrolyzate), C-2: Acridic A-817 manufactured by DC Co., Ltd. (non-volatile matter 50%, acrylic polyol) , styrene-acrylic copolymer, hydroxyl value: 60 mg KOH/g, glass transition temperature: 95° C., weight average molecular weight: 20,000), C-3: Byron GK-810 manufactured by Toyobo Corporation (100% non-volatile matter, polyester polyol) , hydroxyl value is 19㎎KOH/g, glass transition temperature is 46℃, number average molecular weight is 4,600)

<이접착층 성분의 질량비><Mass ratio of easily adhesive layer components>

실시예 1-1 ∼ 1-19, 비교예 1-1 ∼ 1-3, 실시예 2-1 ∼ 2-19, 비교예 2-1 ∼ 2-3의 이접착층 성분 중의 에폭시 화합물(A)과 산무수물(B)의 합계 질량[(A)+(B)]과 폴리올 화합물(C)의 질량을 이하의 계산식 1, 2로 환산하여, 질량비{[(A)+(B)]:(C)}를 표 1 ~ 표 8에 각각 나타낸다.Epoxy compound (A) in the easily adhesive layer component of Examples 1-1 to 1-19, Comparative Examples 1-1 to 1-3, Examples 2-1 to 2-19, and Comparative Examples 2-1 to 2-3, and The total mass of the acid anhydride (B) [(A) + (B)] and the mass of the polyol compound (C) are converted to the following calculation formulas 1 and 2, and the mass ratio {[(A) + (B)]: (C )} are shown in Tables 1 to 8, respectively.

(계산식 1) {에폭시 화합물(A)과 산무수물(B)의 합계 질량[(A)+(B)]}=[(A)의 질량부+(B)의 질량부]÷[(A)의 질량부+(B)의 질량부+(C)의 질량부(불휘발분)]×100(Calculation Formula 1) {Total mass of epoxy compound (A) and acid anhydride (B) [(A) + (B)]} = [mass part of (A) + mass part of (B)] ÷ [(A) Mass part of + mass part of (B) + mass part of (C) (non-volatile matter)] × 100

(계산식 2) [폴리올 화합물(C)의 질량]=[(C)의 질량부(불휘발분)]÷[(A)의 질량부+(B)의 질량부+(C)의 질량부(불휘발분)]×100(Calculation Formula 2) [Mass of polyol compound (C)] = [Mass part of (C) (non-volatile matter)] ÷ [Mass part of (A) + Mass part of (B) + Mass part of (C) (non-volatile matter) Volatile matter)]×100

<이접착층 성분의 몰비><Molar ratio of easily adhesive layer components>

실시예 1-1 ∼ 1-19, 비교예 1-1 ∼ 1-3, 실시예 2-1 ∼ 2-19, 비교예 2-1 ∼ 2-3의 이접착층 성분 중의 에폭시 화합물(A)의 에폭시기와, 산무수물(B)의 산기의 몰수를 이하의 계산식 3, 4로 환산하여, 몰비{[(A)의 에폭시기]:[(B)의 산기]}를 표 1 ~ 표 4에 각각 나타낸다.Of the epoxy compound (A) in the easily adhesive layer component of Examples 1-1 to 1-19, Comparative Examples 1-1 to 1-3, Examples 2-1 to 2-19, and Comparative Examples 2-1 to 2-3 The moles of the epoxy group and the acid group of the acid anhydride (B) are converted into the following calculation formulas 3 and 4, and the molar ratio {[epoxy group of (A)]:[acid group of (B)]} is shown in Tables 1 to 4, respectively. .

(계산식 3) [에폭시 화합물(A)의 에폭시기의 몰수]=[(A)의 질량부÷(A)의 에폭시 당량]÷[(A)의 질량부÷(A)의 에폭시 당량+(B)의 질량부÷(B)의 산무수물 당량]×100(Calculation Formula 3) [Number of moles of epoxy group of epoxy compound (A)] = [Part by mass of (A) ÷ Epoxy equivalent of (A)] ÷ [Part by mass of (A) ÷ Epoxy equivalent of (A) + (B) Part by mass ÷ Acid anhydride equivalent of (B)] × 100

(계산식 4) [산무수물(B)의 산기의 몰수]=[(B)의 질량부÷(B)의 산무수물 당량]÷[(A)의 질량부÷(A)의 에폭시 당량+(B)의 질량부÷(B)의 산무수물 당량]×100(Calculation formula 4) [Number of moles of acid group of acid anhydride (B)] = [Mass part of (B) ÷ Acid anhydride equivalent of (B)] ÷ [Mass part of (A) ÷ Epoxy equivalent of (A) + (B) ) mass part ÷ acid anhydride equivalent of (B)] × 100

<이접착층 도공 기재의 제작><Production of easily adhesive layer coated substrate>

실시예 1-1 ∼ 1-19, 비교예 1-1 ∼ 1-3, 실시예 2-1 ∼ 2-19, 비교예 2-1 ∼ 2-3의 각 도공액을, 표 1 ∼ 표 8에 기재된 각 기재 필름 상에, 용제 건조 후의 이접착층 두께가, 표 1 ∼ 표 4에 기재된 두께가 되도록 메이어 바로 각각 도공했다. 각 이접착층 도공액을 도공한 기재는, 즉시 120℃의 기어 오븐에서 1분간 가열하여, 용제 건조, 열경화시켜, 이접착층 도공 기재로 했다.The coating solutions of Examples 1-1 to 1-19, Comparative Examples 1-1 to 1-3, Examples 2-1 to 2-19, and Comparative Examples 2-1 to 2-3 are shown in Tables 1 to 8. On each base film described in , the easily adhesive layer thickness after solvent drying was respectively applied with Meyer bar so that it became the thickness shown in Tables 1 to 4. The substrate to which each easily adhesive layer coating liquid was applied was immediately heated in a gear oven at 120°C for 1 minute, solvent dried, and heat cured to obtain an easily adhesive layer coated substrate.

<이접착층의 경화성 평가><Evaluation of hardenability of easily adhesive layer>

실시예 1-1 ∼ 1-19, 비교예 1-1 ∼ 1-3, 실시예 2-1 ∼ 2-19, 비교예 2-1 ∼ 2-3의 각 이접착층 도공 기재의 이접착층의 표면을 5회 손가락 문질렀을 때의, 표면 상태 및 손가락에 대한 이접착층 성분 이행을 육안 확인하고, 다음의 기준에 의해 평가했다. 평가 결과를 표 1 ∼ 표 8에 각각 나타낸다.Surface of each easily adhesive layer coating substrate of Examples 1-1 to 1-19, Comparative Examples 1-1 to 1-3, Examples 2-1 to 2-19, and Comparative Examples 2-1 to 2-3 When the surface was rubbed with a finger five times, the surface condition and the transfer of easily adhesive layer components to the finger were visually confirmed and evaluated according to the following criteria. The evaluation results are shown in Tables 1 to 8, respectively.

○: 도막 표면에 변화 없이, 손가락 표면에도 이행 성분 없음○: No change in the surface of the coating film and no transitional components on the surface of the finger.

△: 도막 표면에 약간의 백화는 있지만, 손가락 표면에는 이행 성분 없음△: There is some whitening on the surface of the coating film, but there is no transitional component on the surface of the finger.

×: 도막 표면이 백화되고, 손가락 표면에도 이행 성분 있음×: The surface of the coating film is whitened, and transitional components are also present on the surface of the finger.

비교예 1-3, 비교예 2-3은 이접착층의 경화성 평가가 "×"로 되고, 이후의 평가는 할 수 없었다.In Comparative Example 1-3 and Comparative Example 2-3, the sclerosis evaluation of the easily adhesive layer was "×", and subsequent evaluation could not be performed.

<기재와 이접착층의 밀착성 평가><Evaluation of adhesion between substrate and easily adhesive layer>

실시예 1-1 ∼ 1-19, 비교예 1-1, 1-2, 실시예 2-1 ∼ 2-19, 비교예 2-1, 2-2의 각 이접착층 도공 기재의 이접착층의 표면을 손가락 문질러, 기재와 이접착층의 밀착성을 육안으로 관찰하고, 다음의 기준에 의해 평가했다. 평가 결과를 표 1 ∼ 표 8에 각각 나타낸다.Surface of the easily adhesive layer of each easily adhesive layer coating substrate of Examples 1-1 to 1-19, Comparative Examples 1-1, 1-2, Examples 2-1 to 2-19, and Comparative Examples 2-1 and 2-2 was rubbed with a finger, the adhesion between the base material and the easily adhesive layer was observed with the naked eye, and evaluated according to the following standards. The evaluation results are shown in Tables 1 to 8, respectively.

◎: 손가락 문지름 50회에서 기재로부터의 탈락 없음◎: No peeling from the substrate after 50 finger rubs.

○: 손가락 문지름 10회 이상, 50회 이하에서 기재로부터 탈락 있음○: Falling off from substrate after finger rubbing more than 10 times and less than 50 times

×: 손가락 문지름 10회 미만에서, 기재로부터의 탈락 있음×: Falling off from the substrate occurs after finger rubbing less than 10 times.

<점착 필름의 제작><Production of adhesive film>

점착제층 도공액으로서, 표 9에 기재된 배합량으로 각 재료를 혼합하여 점착제층 도공액 1 ~ 3을 제작했다. 실시예 1-1 ∼ 1-19, 비교예 1-1, 1-2, 실시예 2-1 ∼ 2-19, 비교예 2-1, 2-2의 각 이접착층 도공 기재의 이접착층을 형성한 면에, 표 1 ∼ 표 8에 기재된 점착제층 도공액을 용제 건조 후의 점착제층 두께가 10㎛가 되도록 어플리케이터로 도공했다. 각 점착제층 도공액을 적층 도공한 기재는, 즉시 150℃의 기어 오븐에서 1분간 가열하여, 용제 건조, 열경화시켜, 각 점착 필름으로 했다.As the adhesive layer coating liquid, each material was mixed in the mixing ratio shown in Table 9 to produce adhesive layer coating liquids 1 to 3. Examples 1-1 to 1-19, Comparative Examples 1-1, 1-2, Examples 2-1 to 2-19, and Comparative Examples 2-1 and 2-2. Forming an easily adhesive layer on the coated substrate. The adhesive layer coating liquid shown in Tables 1 to 8 was applied to one side using an applicator so that the adhesive layer thickness after solvent drying was 10 μm. The substrate onto which each adhesive layer coating liquid was laminated was immediately heated in a gear oven at 150°C for 1 minute, solvent-dried, and heat-cured to prepare each adhesive film.

<이접착층과 점착제층의 밀착성 평가><Evaluation of adhesion between easily adhesive layer and adhesive layer>

상기 제작한 실시예 1-1 ∼ 1-19, 비교예 1-1, 1-2, 실시예 2-1 ∼ 2-19, 비교예 2-1, 2-2의 각 점착 필름으로부터, 가로세로 50㎜의 샘플을 잘라내고, 잘라낸 샘플의 점착제층의 커트 단면을 손가락 문질러, 이접착층과 점착제층의 밀착성을 육안으로 관찰하고, 다음의 기준에 의해 평가했다. 평가 결과를 표 1 ∼ 표 8에 각각 나타낸다.From each of the adhesive films produced above in Examples 1-1 to 1-19, Comparative Examples 1-1 and 1-2, Examples 2-1 to 2-19, and Comparative Examples 2-1 and 2-2, horizontal and vertical A 50 mm sample was cut out, the cut cross section of the adhesive layer of the cut sample was rubbed with a finger, the adhesion between the easily adhesive layer and the adhesive layer was observed with the naked eye, and evaluated according to the following criteria. The evaluation results are shown in Tables 1 to 8, respectively.

◎: 손가락 문지름 15회에서 기재로부터의 탈락 없음◎: No peeling from the substrate after 15 finger rubs.

○: 손가락 문지름 5회 이상, 15회 이하에서 기재로부터 탈락 있음○: Finger rubbing occurs 5 times or more, but falls off from the substrate after 15 times or less.

×: 손가락 문지름 5회 미만에서, 기재로부터의 탈락 있음×: There is separation from the substrate after finger rubbing less than 5 times.

<압연 동박 접착 샘플의 제작><Production of rolled copper foil adhesive samples>

상기 제작한 실시예 1-1 ∼ 1-19, 비교예 1-1, 1-2, 실시예 2-1 ∼ 2-19, 비교예 2-1, 2-2의 각 점착 필름으로부터, 폭 25㎜, 길이 120㎜의 사이즈의 샘플을 잘라내고, 잘라낸 샘플의 점착제층면을, 폭 50㎜, 길이 150㎜, 두께 50㎛의 압연 동박 상에 부착하고, 상온에서 20 ∼ 40분 방치한 것을 평가용의 압연 동박 부착 샘플로 했다. 유연성 평가용으로서 1매, 내열성 점착제 잔류 평가용으로서 5매, 합계 6매의 부착 샘플을 각각의 점착 필름으로 제작했다.From each of the adhesive films produced above in Examples 1-1 to 1-19, Comparative Examples 1-1 and 1-2, Examples 2-1 to 2-19, and Comparative Examples 2-1 and 2-2, a width of 25 A sample of size 120 mm in length was cut, the adhesive layer side of the cut sample was attached to a rolled copper foil with a width of 50 mm, a length of 150 mm, and a thickness of 50 μm, and left at room temperature for 20 to 40 minutes for evaluation. was used as a sample with rolled copper foil attached. A total of 6 adhesive samples, 1 for flexibility evaluation and 5 for heat resistance adhesive residual evaluation, were produced from each adhesive film.

<유연성 평가><Flexibility evaluation>

상기 제작한 실시예 1-1 ∼ 1-19, 비교예 1-1, 1-2, 실시예 2-1 ∼ 2-19, 비교예 2-1, 2-2의 각 압연 동박 부착 샘플의 점착 필름을, 상온에서 180도 방향으로 300㎜/min의 속도로 압연 동박으로부터 박리했을 때에, 각 점착 필름의 이접착층의 균열 발생을 육안으로 확인하고, 다음의 기준으로 평가를 했다. 평가 결과를 표 1 ∼ 표 8에 각각 나타낸다.Adhesion of the rolled copper foil-attached samples of Examples 1-1 to 1-19, Comparative Examples 1-1 and 1-2, Examples 2-1 to 2-19, and Comparative Examples 2-1 and 2-2 produced above. When the film was peeled from the rolled copper foil at a speed of 300 mm/min in the 180 degree direction at room temperature, the occurrence of cracks in the easily adhesive layer of each adhesive film was visually confirmed and evaluated based on the following criteria. The evaluation results are shown in Tables 1 to 8, respectively.

○: 박리시에 이접착층에 균열이 발생하지 않고, 용이하게 박리할 수 있었음○: No cracks occurred in the easily adhesive layer during peeling, and the layer could be easily peeled off.

△: 박리시에 이접착층에 부분적으로 균열이 발생했음△: Partial cracks occurred in the easily adhesive layer during peeling.

×: 박리시에 이접착층의 전체면에 균열이 발생했음×: Cracks occurred on the entire surface of the easily adhesive layer during peeling.

<내열성, 점착제 잔류 평가><Evaluation of heat resistance and adhesive residue>

상기 제작한 실시예 1-1 ∼ 1-19, 비교예 1-1, 1-2, 실시예 2-1 ∼ 2-19, 비교예 2-1, 2-2의 각 압연 동박 부착 샘플 5매를, 175℃의 기어 오븐에 넣어 열처리를 행했다. 각 압연 동박 부착 샘플 5매에 대하여, 2, 4, 6, 8, 10분간 경과한 시점에서 각 1매를 꺼내, 상온에서 5분 이상 방치하여 냉각했다. 상기 열처리, 냉각한 각 압연 동박 부착 샘플의 점착 필름을, 상온에서 180도 방향으로 300㎜/min의 속도로 압연 동박으로부터 박리했을 때에, 점착 필름 박리 후의 압연 동박면에 대한 점착제 잔류의 유무를 육안으로 확인하고, 이하의 기준으로 평가를 했다. 평가 결과를 표 1 ∼ 표 8에 각각 나타낸다.Five rolled copper foil-coated samples of Examples 1-1 to 1-19, Comparative Examples 1-1 and 1-2, Examples 2-1 to 2-19, and Comparative Examples 2-1 and 2-2 produced above. was placed in a gear oven at 175°C and subjected to heat treatment. For each of the five rolled copper foil-coated samples, one sheet was taken out after 2, 4, 6, 8, and 10 minutes, and left at room temperature for 5 minutes or more to cool. When the adhesive film of each heat-treated and cooled rolled copper foil-attached sample was peeled from the rolled copper foil at a speed of 300 mm/min in a direction of 180 degrees at room temperature, the presence or absence of adhesive residue on the rolled copper foil surface after peeling the adhesive film was visually observed. It was confirmed and evaluated based on the following criteria. The evaluation results are shown in Tables 1 to 8, respectively.

◎: 열처리 175℃×10분에서 점착제 잔류가 발생하지 않았음◎: No adhesive residue occurred at heat treatment at 175°C x 10 minutes.

○: 열처리 175℃×4 ∼ 10분에서 점착제 잔류가 발생했음○: Adhesive residue occurred after heat treatment at 175°C for 4 to 10 minutes.

×: 열처리 175℃×2분에서 점착제 잔류가 발생했음×: Adhesive residue occurred after heat treatment at 175°C x 2 minutes.

<열처리 전후의 점착력의 확인><Confirmation of adhesion before and after heat treatment>

상기 제작한 실시예 1-1 ∼ 1-3, 실시예 2-1 ∼ 2-3(점착제층 도공액 1 ∼ 3의 대표 샘플)의 점착 필름으로부터, 폭 25㎜, 길이 250㎜의 사이즈의 샘플을 잘라내고, 잘라낸 샘플의 점착제층면을, 폭 50㎜, 길이 120㎜, 두께 50㎛의 압연 동박 상에 부착하고, 그 위로부터 2㎏ 롤러로 압착하여 부착 샘플을 제작했다. 상기 부착 샘플은 각 2매씩 제작하고, 한쪽은 23℃, 50%RH에서 30분간 방치한 것(열처리 전), 다른 한쪽은 23℃, 50%RH에서 30분간 방치하고, 계속해서 175℃의 기어 오븐에 10분간 넣어 열처리를 행하고, 추가적으로 23℃, 50%RH에서 5분간 방치한 것(열처리 후)을 각각 점착력 측정 샘플로 했다.From the adhesive films of Examples 1-1 to 1-3 and Examples 2-1 to 2-3 (representative samples of adhesive layer coating solutions 1 to 3) produced above, a sample with a width of 25 mm and a length of 250 mm was obtained. was cut out, and the adhesive layer side of the cut sample was attached to a rolled copper foil with a width of 50 mm, a length of 120 mm, and a thickness of 50 μm, and was pressed from thereon with a 2 kg roller to produce an attached sample. Two of each of the above-mentioned attachment samples were produced, one side was left at 23°C and 50%RH for 30 minutes (before heat treatment), the other side was left at 23°C and 50%RH for 30 minutes, and then the gear was placed at 175°C. Heat treatment was performed by placing in an oven for 10 minutes, and additionally left at 23°C and 50%RH for 5 minutes (after heat treatment) were used as samples for measuring adhesion.

상기 점착력 측정용 샘플에 대해, JIS Z0237: 2009에 준하여, 23℃, 50%RH 환경하에서, 인장 시험기를 사용하여, 박리 각도 180도, 300㎜/min의 박리 속도로, 압연 동박으로부터 점착 필름을 박리했을 때의 힘을 측정하고, 이를 점착력(N/25㎜)으로 했다. 측정 결과를 표 1, 표 5에 나타낸다.For the sample for measuring adhesion, in accordance with JIS Z0237: 2009, an adhesive film was prepared from rolled copper foil using a tensile tester in an environment of 23°C and 50%RH, at a peeling angle of 180 degrees and a peeling speed of 300 mm/min. The force at the time of peeling was measured, and this was taken as adhesive force (N/25 mm). The measurement results are shown in Tables 1 and 5.

1: 점착 필름
2: 기재
3: 이접착층
4: 실리콘계 점착제층
5: 세퍼레이터
1: Adhesive film
2: Description
3: Easily adhesive layer
4: Silicone-based adhesive layer
5: Separator

Claims (6)

기재와, 상기 기재의 적어도 한쪽 면에, 이접착층, 실리콘계 점착제층을 이 순서로 적층한 점착 필름으로서, 상기 이접착층이, 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i) 및 글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)로 이루어지는 군에서 선택되는 에폭시 화합물(A), 산무수물(B), 그리고 폴리올 화합물(C)을 포함하는 조성물을 열경화시킨 경화물인 것을 특징으로 하는 점착 필름.An adhesive film in which a substrate, an easily adhesive layer, and a silicone-based adhesive layer are laminated on at least one side of the substrate in this order, wherein the easily adhesive layer includes a cycloalkene oxide-type alicyclic epoxy compound (A-i) and a glycidylamine-type epoxy. An adhesive film, characterized in that it is a cured product obtained by thermosetting a composition containing an epoxy compound (A), an acid anhydride (B), and a polyol compound (C) selected from the group consisting of compound (A-ii). 제 1 항에 있어서,
상기 폴리올 화합물(C)이 실리케이트 가수 분해물인 것을 특징으로 하는 점착 필름.
According to claim 1,
An adhesive film, characterized in that the polyol compound (C) is a silicate hydrolyzate.
제 1 항에 있어서,
상기 폴리올 화합물(C)이 아크릴폴리올인 것을 특징으로 하는 점착 필름.
According to claim 1,
An adhesive film, characterized in that the polyol compound (C) is acrylic polyol.
제 1 항에 있어서,
상기 이접착층을 형성하는 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i) 및 글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)로 이루어지는 군에서 선택되는 에폭시 화합물(A), 산무수물(B), 및 폴리올 화합물(C)을 포함하는 조성물에 있어서, 에폭시 화합물(A)과 산무수물(B)의 합계 질량과, 폴리올 화합물(C)의 질량의 질량비{[(A)+(B)]:(C)}가 10 : 90 ~ 90 : 10인 것을 특징으로 하는 점착 필름.
According to claim 1,
An epoxy compound (A), an acid anhydride (B), and a polyol selected from the group consisting of cycloalkene oxide type alicyclic epoxy compound (Ai) and glycidylamine type epoxy compound (A-ii) forming the easily adhesive layer. In the composition containing compound (C), the mass ratio of the total mass of the epoxy compound (A) and the acid anhydride (B) and the mass of the polyol compound (C) {[(A) + (B)]: (C) An adhesive film characterized in that } is 10:90 to 90:10.
제 1 항에 있어서,
상기 이접착층을 형성하는 사이클로알켄옥사이드형 지환식 에폭시 화합물(A-i) 및 글리시딜아민형 에폭시 화합물(A-ii)로 이루어지는 군에서 선택되는 에폭시 화합물(A), 산무수물(B), 및 폴리올 화합물(C)을 포함하는 조성물에 있어서, 에폭시 화합물(A)의 에폭시기와, 산무수물(B)의 산기의 몰비{[(A)의 에폭시기]:[(B)의 산기]}가, 20 : 80 ∼ 80 : 20인 것을 특징으로 하는 점착 필름.
According to claim 1,
An epoxy compound (A), an acid anhydride (B), and a polyol selected from the group consisting of cycloalkene oxide type alicyclic epoxy compound (Ai) and glycidylamine type epoxy compound (A-ii) forming the easily adhesive layer. In the composition containing compound (C), the molar ratio between the epoxy group of epoxy compound (A) and the acid group of acid anhydride (B) {[epoxy group of (A)]:[acidic group of (B)]} is 20: An adhesive film characterized in that the ratio is 80 to 80:20.
제 1 항에 있어서,
상기 이접착층의 막두께가 0.05 ∼ 3.00㎛인 것을 특징으로 하는 점착 필름.
According to claim 1,
An adhesive film, characterized in that the film thickness of the easily adhesive layer is 0.05 to 3.00 μm.
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