KR20240015592A - Release film and method of producing semiconductor package - Google Patents

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KR20240015592A
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료 타무라
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사토시 야부시타
테츠야 타니구치
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Abstract

[과제] 이형층의 파단이 억제되고, 또한 반도체 패키지 표면의 시일재의 플로 마크를 저감할 수 있는 이형 필름, 및 이 이형 필름을 이용하는 반도체 패키지의 제조 방법을 제공한다.
[해결 수단] 이형층과 기재층을 포함하며, 상기 이형층의 파단 신장률이 100% 이상이고, 또한 상기 이형층의 표면 거칠기 Ra가 0.2㎛ 이상인 이형 필름.
[Problem] To provide a release film that can suppress fracture of the release layer and reduce flow marks of the seal material on the surface of the semiconductor package, and a method of manufacturing a semiconductor package using this release film.
[Solution] A release film comprising a release layer and a base layer, wherein the release layer has an elongation at break of 100% or more, and the release layer has a surface roughness Ra of 0.2 μm or more.

Description

이형 필름 및 반도체 패키지의 제조 방법{RELEASE FILM AND METHOD OF PRODUCING SEMICONDUCTOR PACKAGE}Manufacturing method of release film and semiconductor package {RELEASE FILM AND METHOD OF PRODUCING SEMICONDUCTOR PACKAGE}

[0001] 본 발명은, 이형 필름 및 반도체 패키지의 제조 방법에 관한 것이다.[0001] The present invention relates to a method of manufacturing a release film and a semiconductor package.

[0002] 반도체 칩은 통상, 바깥 공기로부터의 차폐 및 보호를 위해 수지로 시일(seal, 封止)되고, 패키지라 불리는 성형품으로서 기판 상에 실장(實裝)된다. 성형품은, 수지를 포함하는 시일재를 금형에 주입함으로써 제작된다. 금형에는 복수의 캐비티가 형성되고, 시일재의 유로로서의 러너를 통해 복수의 캐비티가 연결되어 있다. 그리고, 성형품이 금형으로부터 이형되기 쉽도록, 금형의 구조, 시일 수지에 대한 이형제의 첨가 등의 방법이 강구되고 있다.[0002] Semiconductor chips are usually sealed with resin for shielding and protection from outside air, and are mounted on a substrate as a molded product called a package. Molded articles are produced by injecting a sealant containing resin into a mold. A plurality of cavities are formed in the mold, and the plurality of cavities are connected through runners that serve as flow paths for the sealing material. In order to make it easier for the molded product to be released from the mold, methods such as mold structure and addition of a mold release agent to the seal resin are being devised.

[0003] 한편, 패키지의 소형화, 다핀(multi-pin)화 등의 요청으로부터, Ball Grid Array(BGA) 방식, Quad Flat Non-leaded(QFN) 방식, 웨이퍼 레벨 Chip Size Package(WL-CSP) 방식 등의 패키지 방식이 증가하고 있다. QFN 방식에서는, 스탠드 오프의 확보 및 단자부에서의 시일재에 의한 버(burr)의 발생을 방지하기 위해, 그리고, BGA 방식 및 WL-CSP 방식에서는, 금형으로부터의 패키지의 이형성 향상을 위해, 금형의 내측에 금형을 따르도록 수지제(製)의 이형 필름을 배치하고, 그 내부에 시일재를 주입하여 성형하는 것이 행해지고 있다(예컨대, 특허문헌 1 참조). 이형 필름을 사용하여 성형하는 방법을, 「필름 어시스트 성형법」이라고 한다.[0003] Meanwhile, from requests for package miniaturization and multi-pin design, Ball Grid Array (BGA) method, Quad Flat Non-leaded (QFN) method, wafer level Chip Size Package (WL-CSP) method Package methods such as these are increasing. In the QFN method, to ensure standoff and prevent the generation of burrs due to the sealing material in the terminal part, and in the BGA method and WL-CSP method, to improve the release property of the package from the mold, A resin-made release film is placed inside a mold along the mold, and a sealing material is injected into the mold for molding (for example, see Patent Document 1). The method of molding using a release film is called the “film assist molding method.”

[0004] 1. 일본 특허공개공보 제2002-158242호[0004] 1. Japanese Patent Publication No. 2002-158242

[0005] 상기의 이형 필름을 사용하면, 성형한 패키지 표면에 시일재의 플로 마크(flow mark)가 남는 경우가 있어, 외관이 저하되는 경우가 있다. 플로 마크의 저감을 위해, 이형 필름의 이형층에 필러를 첨가하는 것 등을 생각할 수 있다.[0005] When the above-mentioned release film is used, flow marks of the sealing material may remain on the surface of the molded package, and the appearance may deteriorate. In order to reduce flow marks, it is conceivable to add filler to the release layer of the release film.

또한, 최근, 복수의 패키지를 기판에 실장하고, 그 후에 일괄적으로 시일하는 기술이 검토되고 있다. 이 경우, 기판 상에는 다양한 형상의 패키지가 존재하기 때문에, 이형 필름에 대해 우수한 신장성이 요구된다.Additionally, recently, a technique for mounting a plurality of packages on a board and then sealing them all at once has been examined. In this case, since packages of various shapes exist on the substrate, excellent extensibility is required for the release film.

[0006] 이형 필름이 신장되면, 기재(基材)의 신장에 추종하여 이형층도 신장되는데, 이형층이 완전히 추종하지 못하고 파단(破斷)되어, 성형품이 금형으로부터 빠지지 않거나, 혹은 빼기 어려워지는 경우가 있다.[0006] When the release film is stretched, the release layer also stretches to follow the elongation of the base material, but the release layer does not follow completely and breaks, making it difficult for the molded product to be removed from the mold or to be removed. There are cases.

특히, 플로 마크를 저감하기 위해 이형층에 필러를 첨가한 이형 필름에서는, 이형층의 신장률이 저하되어, 이형층이 파단되기 쉬운 경향이 있다.In particular, in a release film in which a filler is added to the release layer to reduce flow marks, the elongation of the release layer decreases, and the release layer tends to break easily.

[0007] 이러한 사정을 감안하여, 본 개시는, 이형층의 파단이 억제되고, 또한 반도체 패키지 표면의 시일재의 플로 마크를 저감할 수 있는 이형 필름, 및 이 이형 필름을 이용하는 반도체 패키지의 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.[0007] In view of these circumstances, the present disclosure provides a release film capable of suppressing fracture of the release layer and reducing flow marks of the seal material on the surface of the semiconductor package, and a method of manufacturing a semiconductor package using the release film. The task is to provide.

[0008] 상기 과제를 해결하기 위한 수단에는, 이하의 실시양태가 포함된다.[0008] Means for solving the above problems include the following embodiments.

<1> 이형층과 기재층을 포함하며,<1> Includes a release layer and a base layer,

상기 이형층의 파단 신장률이 100% 이상이고, 또한 상기 이형층의 표면 거칠기 Ra가 0.2㎛ 이상인 이형 필름.A release film in which the release layer has an elongation at break of 100% or more, and the release layer has a surface roughness Ra of 0.2 μm or more.

<2> 상기 이형층이 2종 이상의 폴리머를 포함하며,<2> The release layer contains two or more types of polymers,

적어도 2종의 상기 폴리머의 SP값의 차이(差)가 0.3 이상인 <1>에 기재된 이형 필름.The release film according to <1>, wherein the difference in SP values of at least two types of the polymer is 0.3 or more.

<3> 상기 이형층이 2종 이상의 폴리머를 포함하며,<3> The release layer contains two or more types of polymers,

상기 폴리머 중 적어도 1종은 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머인 <1> 또는 <2>에 기재된 이형 필름.The release film according to <1> or <2>, wherein at least one type of the polymer is a nitrile group-containing (meth)acrylic polymer.

<4> 상기 이형층이 2종 이상의 폴리머를 포함하고, 상기 2종 이상의 폴리머가, (메타)아크릴로일 모노머에서 유래하는 구성 단위를 가지는 (메타)아크릴 폴리머인 <1>∼<3> 중 어느 한 항에 기재된 이형 필름.<4> Among <1> to <3>, wherein the release layer contains two or more types of polymers, and the two or more types of polymers are (meth)acrylic polymers having a structural unit derived from a (meth)acryloyl monomer. The release film according to any one of the above.

<5> 하기 (1) 또는 (2) 중 적어도 하나를 만족하는, <1>∼<4> 중 어느 한 항에 기재된 이형 필름.<5> The release film according to any one of <1> to <4>, which satisfies at least one of the following (1) or (2).

(1) 상기 이형층은, 성분 비율이 상이한 복수 종(種)의 영역을 가지며, 상기 상이한 복수 종의 영역에 있어서 라만 분광 측정을 행하였을 때, 상이한 복수 종의 영역의 적어도 일부에 있어서 각각 상이한 피크 강도를 나타냄.(1) The release layer has a plurality of regions with different component ratios, and when Raman spectroscopic measurement is performed on the different plurality of species regions, at least a portion of the different plurality of species regions are each different. Indicates peak intensity.

(2) 상기 이형층의 표면은 요철 형상을 가지며, 볼록부와 오목부에 있어서 라만 분광 측정을 행하였을 때, 상기 볼록부의 적어도 일부와 상기 오목부의 적어도 일부에 있어서 각각 상이한 피크 강도를 나타냄.(2) The surface of the release layer has a concavo-convex shape, and when Raman spectroscopic measurement is performed on the convex portion and the concave portion, at least a portion of the convex portion and at least a portion of the concave portion exhibit different peak intensities.

<6> 상기 상이한 복수 종의 영역의 적어도 일부에 있어서, 또는 상기 볼록부의 적어도 일부와 상기 오목부의 적어도 일부에 있어서, 폴리머의 성분 비율이 상이한, <5>에 기재된 이형 필름.<6> The release film according to <5>, wherein the polymer component ratios are different in at least part of the plurality of different types of regions, or in at least part of the convex part and at least part of the concave part.

<7> 상기 상이한 복수 종의 영역의 적어도 일부에 있어서, 또는 상기 볼록부의 적어도 일부와 상기 오목부의 적어도 일부에 있어서, 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 함유량이 상이한 <5> 또는 <6>에 기재된 이형 필름.<7> <5> or <6> in which the content of the nitrile group-containing (meth)acrylic polymer is different in at least a portion of the different plurality of regions, or in at least a portion of the convex portion and at least a portion of the concave portion. The release film described.

<8> 상기 상이한 피크 강도를 나타내는 피크가, 니트릴기에서 유래하는 피크인 <5>∼<7> 중 어느 한 항에 기재된 이형 필름.<8> The release film according to any one of <5> to <7>, wherein the peak showing the different peak intensity is a peak derived from a nitrile group.

<9> 상기 이형층의 표면은 요철 형상을 가지며, 상기 볼록부의 적어도 일부에 있어서의 니트릴기 유래의 피크 강도가, 상기 오목부의 적어도 일부에 있어서의 니트릴기 유래의 피크 강도보다 큰, <5>∼<8> 중 어느 한 항에 기재된 이형 필름.<9> The surface of the release layer has an uneven shape, and the peak intensity derived from the nitrile group in at least part of the convex part is greater than the peak intensity derived from the nitrile group in at least part of the concave part. <5> The release film according to any one of to <8>.

<10> 상기 이형층의 표면은 요철 형상을 가지며, 상기 볼록부의 적어도 일부에 있어서의 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 질량 기준에서의 함유량은, 상기 오목부의 적어도 일부에 있어서의 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 질량 기준에서의 함유량보다 많은 <5>∼<9> 중 어느 한 항에 기재된 이형 필름.<10> The surface of the release layer has an uneven shape, and the mass-based content of the nitrile group-containing (meth)acrylic polymer in at least part of the convex part is the nitrile group content in at least part of the concave part ( The release film according to any one of <5> to <9>, where the content of the meth)acrylic polymer is greater than that on a mass basis.

<11> 상기 이형층이 2종 이상의 폴리머를 포함하며,<11> The release layer contains two or more types of polymers,

상기 폴리머 중 적어도 1종은, (메타)아크릴로니트릴 모노머에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 폴리머이고,At least one type of the polymer is a polymer containing a structural unit derived from a (meth)acrylonitrile monomer,

상기 폴리머 중 적어도 2종에 있어서, (메타)아크릴로니트릴 모노머에서 유래하는 구성 단위가 차지하는 비율의 차이가 1질량% 이상인 <1>∼<10> 중 어느 한 항에 기재된 이형 필름.The release film according to any one of <1> to <10>, wherein at least two of the polymers have a difference in proportions of structural units derived from (meth)acrylonitrile monomers of 1% by mass or more.

<12> 상기 이형층에 있어서 가장 함유량이 많은 폴리머의 함유율이, 상기 폴리머의 총 함유량에 대해 95질량% 이하인 <1>∼<11> 중 어느 한 항에 기재된 이형 필름.<12> The release film according to any one of <1> to <11>, wherein the content of the polymer with the highest content in the release layer is 95% by mass or less with respect to the total content of the polymer.

<13> 상기 기재층이, 폴리에스테르 필름인 <1>∼<12> 중 어느 한 항에 기재된 이형 필름.<13> The release film according to any one of <1> to <12>, wherein the base material layer is a polyester film.

<14> 상기 이형층의 두께가 1㎛∼50㎛인, <1>∼<13> 중 어느 한 항에 기재된 이형 필름.<14> The release film according to any one of <1> to <13>, wherein the release layer has a thickness of 1 μm to 50 μm.

<15> 상기 이형 필름이, 트랜스퍼 몰딩 또는 컴프레션 몰딩에 이용되는, <1>∼<14> 중 어느 한 항에 기재된 이형 필름.<15> The release film according to any one of <1> to <14>, wherein the release film is used for transfer molding or compression molding.

<16> <1>∼<15> 중 어느 한 항에 기재된 이형 필름을 이용하여, 트랜스퍼 몰딩 공정 또는 컴프레션 몰딩 공정을 행하는, 반도체 패키지의 제조 방법.<16> A method of manufacturing a semiconductor package, comprising performing a transfer molding process or a compression molding process using the release film according to any one of <1> to <15>.

[0009] 본 개시에 의하면, 이형층의 파단이 억제되고, 또한 반도체 패키지 표면의 시일재의 플로 마크를 저감할 수 있는 이형 필름, 및 이 이형 필름을 이용하는 반도체 패키지의 제조 방법이 제공된다.[0009] According to the present disclosure, a release film that can suppress fracture of the release layer and reduce flow marks of the seal material on the surface of the semiconductor package, and a method of manufacturing a semiconductor package using the release film are provided.

[0010] 도 1은, 이형 필름의 구성을 나타낸 개략적인 단면도이다.
도 2는, 이형층의 표면의 레이저 현미경에 의한 사진 및 해석 그래프이다.
도 3은, 도 2의 샘플 G2에 있어서의 비연속상(非連續相)(도상(島相), 볼록부)과 연속상(連續相)(해상(海相), 오목부)에 대해 현미(顯微) 라만 분광법에 의해 성분 분석한 스펙트럼 결과이다.
도 4는, 도 2의 샘플 G3에 있어서의 비연속상(도상, 오목부)과 연속상(해상, 볼록부)에 대해 현미 라만 분광법에 의해 성분 분석한 스펙트럼 결과이다.
도 5는, 이형 필름의 파단 신장률의 측정에 이용하는 시험편(片)의 형상을 나타낸 평면도이다.
[0010] Figure 1 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a release film.
Figure 2 is a photograph and analysis graph of the surface of the release layer using a laser microscope.
Figure 3 shows microscopic images of the discontinuous phase (island phase, convex portion) and the continuous phase (sea phase, concave portion) in sample G2 in Fig. 2. This is the spectrum result of component analysis using Raman spectroscopy.
FIG. 4 shows the spectrum results of component analysis by micro-Raman spectroscopy for the discontinuous phase (island phase, concave portion) and continuous phase (resolution, convex portion) in sample G3 in FIG. 2.
Figure 5 is a plan view showing the shape of a test piece used to measure the breaking elongation of the release film.

[0011] 이하, 본 개시를 실시하기 위한 형태에 대해 상세하게 설명한다. 단, 본 개시는 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 이하의 실시형태에 있어서, 그 구성 요소(요소 스텝 등도 포함함)는, 특별히 명시한 경우를 제외하고는, 필수적인 것은 아니다. 수치 및 그 범위에 대해서도 마찬가지이며, 본 개시를 제한하는 것은 아니다.[0011] Hereinafter, modes for carrying out the present disclosure will be described in detail. However, the present disclosure is not limited to the following embodiments. In the following embodiments, the components (including element steps, etc.) are not essential, unless specifically stated. The same applies to the numerical values and their ranges, and do not limit the present disclosure.

[0012] 본 개시에 있어서 「공정」이라는 단어에는, 다른 공정으로부터 독립된 공정뿐만 아니라, 다른 공정과 명확하게 구별할 수 없는 경우라 하더라도 그 공정의 목적이 달성된다면, 해당 공정도 포함된다.[0012] In the present disclosure, the word “process” includes not only processes that are independent from other processes, but also processes that are independent from other processes, as long as the purpose of the process is achieved, even if the process cannot be clearly distinguished from other processes.

본 개시에 있어서 「∼」를 이용하여 나타내어진 수치 범위에는, 「∼」의 전후에 기재되는 수치가 각각 최소치 및 최대치로서 포함된다.In the present disclosure, the numerical range indicated using “~” includes the numerical values written before and after “~” as the minimum and maximum values, respectively.

본 개시 중에 단계적으로 기재되어 있는 수치 범위에 있어서, 하나의 수치 범위로 기재된 상한치 또는 하한치는, 다른 단계적인 기재의 수치 범위의 상한치 또는 하한치로 치환해도 된다. 또한, 본 개시 중에 기재되어 있는 수치 범위에 있어서, 그 수치 범위의 상한치 또는 하한치는, 실시예에 나타내어져 있는 값으로 치환해도 된다.In the numerical range described stepwise during the present disclosure, the upper or lower limit value described as one numerical range may be replaced with the upper limit or lower limit value of another numerical range described stepwise. In addition, in the numerical range described in the present disclosure, the upper or lower limit of the numerical range may be replaced with the value shown in the examples.

본 개시에 있어서, 각 성분에는, 해당하는 물질이 복수 종 포함되어 있어도 된다. 조성물 중에 각 성분에 해당하는 물질이 복수 종 존재하는 경우, 각 성분의 함유율 또는 함유량은, 특별히 언급하지 않는 한, 조성물 중에 존재하는 해당 복수 종의 물질의 합계의 함유율 또는 함유량을 의미한다.In the present disclosure, each component may contain multiple types of corresponding substances. When multiple types of substances corresponding to each component exist in the composition, the content rate or content of each component means the total content rate or content of the multiple types of materials present in the composition, unless otherwise specified.

본 개시에 있어서 「층」이라는 단어에는, 해당 층이 존재하는 영역을 관찰하였을 때, 해당 영역의 전체에 형성되어 있는 경우뿐만 아니라, 해당 영역의 일부에만 형성되어 있는 경우도 포함된다.In the present disclosure, the word “layer” includes not only the case where the layer is formed in the entire area when observing the area where the layer exists, but also the case where the layer is formed only in a part of the area.

[0013] 본 개시에 있어서 이형 필름 또는 이형 필름을 구성하는 각 층의 두께는, 공지된 방법으로 측정할 수 있다. 예컨대, 다이얼 게이지 등을 이용하여 측정해도 되고, 이형 필름의 단면(斷面) 화상으로부터 측정해도 된다. 혹은, 층을 구성하는 재료를 용제 등을 이용하여 제거하고, 제거 전후의 질량, 재료의 밀도, 층의 면적 등으로부터 산출해도 된다. 층의 두께가 일정하지 않을 경우에는, 임의의 5점(다섯 군데의 지점)에서 측정한 값의 산술 평균치를 층의 두께로 한다.[0013] In the present disclosure, the thickness of the release film or each layer constituting the release film can be measured by a known method. For example, the measurement may be performed using a dial gauge or the like, or may be measured from a cross-sectional image of the release film. Alternatively, the material constituting the layer may be removed using a solvent or the like and calculated from the mass before and after removal, the density of the material, the area of the layer, etc. If the thickness of the layer is not constant, the arithmetic average of the values measured at five random points (five points) is taken as the thickness of the layer.

본 개시에 있어서 「(메타)아크릴」은 아크릴 및 메타크릴 중 어느 하나(一方) 또는 둘 다(兩方)를 의미하며, 「(메타)아크릴레이트」는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 중 어느 하나 또는 둘 다를 의미하고, 「(메타)아크릴로일」은 아크릴로일 및 메타크릴로일 중 어느 하나 또는 둘 다를 의미한다.In the present disclosure, “(meth)acrylic” means either or both of acrylic and methacrylate, and “(meth)acrylate” means either acrylate or methacrylate. It means both, and “(meth)acryloyl” means either or both of acryloyl and methacryloyl.

본 개시에 있어서 도면을 참조하여 실시형태를 설명하는 경우, 해당 실시형태의 구성은 도면에 나타내어진 구성에 한정되지 않는다. 또한, 각 도면에 있어서의 부재의 크기는 개념적인 것이며, 부재 간의 크기의 상대적인 관계는 이에 한정되지 않는다.In the present disclosure, when an embodiment is described with reference to the drawings, the configuration of the embodiment is not limited to the configuration shown in the drawings. Additionally, the sizes of members in each drawing are conceptual, and the relative size relationship between members is not limited to this.

[0014] <이형 필름>[0014] <Release Film>

본 개시의 이형 필름은, 이형층과 기재층을 포함하며, 상기 이형층의 파단 신장률이 100% 이상이고, 또한 상기 이형층의 표면 거칠기 Ra가 0.2㎛ 이상이다.The release film of the present disclosure includes a release layer and a base layer, the release layer has an elongation at break of 100% or more, and the release layer has a surface roughness Ra of 0.2 μm or more.

[0015] 종래의 이형 필름에서는, 이형층에 필러를 첨가하여 이형층의 표면에 요철을 발생시켜 반도체 패키지 표면의 시일재의 플로 마크를 저감하고 있다. 그러나, 이러한 종래의 이형 필름에서는, 필러를 기점으로 이형층이 파단되기 쉽다.[0015] In a conventional release film, filler is added to the release layer to generate irregularities on the surface of the release layer to reduce flow marks of the seal material on the surface of the semiconductor package. However, in such a conventional release film, the release layer is prone to fracture starting from the filler.

[0016] 이에 대해, 본 개시의 이형 필름은 이형층의 파단 신장률이 100% 이상이므로, 이형층의 파단이 억제된다. 또한, 본 개시의 이형 필름은 이형층의 표면 거칠기 Ra가 0.2㎛ 이상이므로, 성형된 반도체 패키지 표면의 플로 마크의 저감이 가능해진다.[0016] In contrast, since the release film of the present disclosure has a break elongation of the release layer of 100% or more, breakage of the release layer is suppressed. In addition, since the release film of the present disclosure has a surface roughness Ra of 0.2 μm or more of the release layer, flow marks on the surface of the molded semiconductor package can be reduced.

[0017] 본 개시의 이형 필름의 일례로서, 도 1에 이형 필름의 단면 구성을 개략적으로 나타낸다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 이형 필름(30)은, 기재층(10)과 이형층(20)을 포함한다. 이형 필름(30)은 기타의 층을 가지고 있어도 된다. 기타의 층으로서는, 제2 이형층, 앵커링(anchoring) 향상층, 대전 방지층, 착색층 등을 들 수 있다.[0017] As an example of the release film of the present disclosure, Figure 1 schematically shows the cross-sectional configuration of the release film. As shown in FIG. 1, the release film 30 includes a base material layer 10 and a release layer 20. The release film 30 may have other layers. Other layers include a second release layer, an anchoring improvement layer, an antistatic layer, and a colored layer.

[0018] [이형층][0018] [Heterogeneous layer]

이형층은, 100% 이상의 파단 신장률과, 0.2㎛ 이상의 표면 거칠기 Ra를 가지면, 특별히 한정되지 않는다. 바람직한 양태의 예로서, 예컨대, 이형층이 2종 이상의 폴리머를 포함하며, 하기 (1)∼(4) 중 적어도 하나를 만족하는 것을 들 수 있다.The release layer is not particularly limited as long as it has a breaking elongation of 100% or more and a surface roughness Ra of 0.2 μm or more. As an example of a preferable aspect, for example, the release layer contains two or more types of polymers and satisfies at least one of the following (1) to (4).

[0019] (1) 상기 이형층은, 성분 비율이 상이한 복수 종의 영역을 가지고, 상기 상이한 복수 종의 영역에 있어서 라만 분광 측정을 행하였을 때, 상이한 복수 종의 영역의 적어도 일부에 있어서 각각 상이한 피크 강도를 나타냄.[0019] (1) The release layer has a plurality of regions with different component ratios, and when Raman spectroscopic measurement is performed on the different plurality of species, at least a portion of the different plurality of species has different regions, respectively. Indicates peak intensity.

(2) 상기 이형층의 표면은 요철 형상을 가지며, 볼록부와 오목부에 있어서 라만 분광 측정을 행하였을 때, 상기 볼록부의 적어도 일부와 상기 오목부의 적어도 일부에 있어서 각각 상이한 피크 강도를 나타냄.(2) The surface of the release layer has a concavo-convex shape, and when Raman spectroscopic measurement is performed on the convex portion and the concave portion, at least a portion of the convex portion and at least a portion of the concave portion exhibit different peak intensities.

(3) 적어도 2종의 상기 폴리머의 SP값의 차이가 0.3 이상임.(3) The difference in SP values of at least two types of the above polymers is 0.3 or more.

(4) 폴리머 중 적어도 1종은 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머임.(4) At least one of the polymers is a (meth)acrylic polymer containing a nitrile group.

[0020] 본 개시에 있어서, 「폴리머」란, 유기 필러를 포함하지 않는 고분자량 성분을 말한다. 여기서 유기 필러란, 이형층 형성용 조성물의 조정에 사용될 수 있는 유기 용매(예컨대, 톨루엔, 메틸에틸케톤, 및 아세트산에틸)에 불용성 또는 난용성이다. 여기서, 유기 용매에 불용성 또는 난용성이란, JIS K6769(2013)에 준거하는 겔분율 시험에 있어서, 톨루엔 등의 유기 용매 중에 수지 입자를 분산시켜 50℃에서 24시간 유지한 후의 겔분율이 97질량% 이상인 것을 말한다.[0020] In the present disclosure, “polymer” refers to a high molecular weight component that does not contain an organic filler. Here, the organic filler is insoluble or poorly soluble in organic solvents (such as toluene, methyl ethyl ketone, and ethyl acetate) that can be used in adjusting the composition for forming a release layer. Here, insolubility or poor solubility in organic solvents means that in a gel fraction test based on JIS K6769 (2013), the gel fraction after dispersing resin particles in an organic solvent such as toluene and maintaining it at 50°C for 24 hours is 97% by mass. It says something more than that.

[0021] 본 개시에 있어서 「폴리머의 종류가 상이하다」란, 구성하는 모노머의 종류가 상이하거나, 또는 구성하는 모노머의 종류는 동일하지만, 적어도 1종의 모노머에서 유래하는 구성 단위의 함유율이 1질량% 이상 상이한 것을 말한다.[0021] In the present disclosure, “the types of polymers are different” means that the types of constituting monomers are different, or the types of constituting monomers are the same, but the content of structural units derived from at least one type of monomer is 1. It refers to differences in mass% or more.

[0022] 본 개시에 있어서 「라만 분광 측정을 행하였을 때 상이한 피크 강도를 나타낸다」란, 라만 분광 측정에 의해 얻어지는 라만 스펙트럼에 있어서, 어느 하나의 위치에 나타나는 피크의 강도가 상이한 것을 말하며, 어느 하나의 위치에 있어서의 피크의 유무의 상이함도 피크 강도가 상이한 것에 포함된다.[0022] In the present disclosure, “different peak intensities are shown when Raman spectroscopic measurement is performed” means that the intensity of the peak appearing at a certain position in the Raman spectrum obtained by Raman spectroscopic measurement is different, and one Differences in the presence or absence of a peak at the position of are also included in the difference in peak intensity.

[0023] 상기 구성을 취하는 이형층이, 100% 이상의 파단 신장률과, 0.2㎛ 이상의 표면 거칠기 Ra를 가지는 이유는 명백하지는 않지만, 이하와 같이 추측된다. 또한, 본 개시의 이형 필름은, 이하의 추측에 의해 한정되는 것은 전혀 아니다.[0023] The reason why the release layer having the above configuration has an elongation at break of 100% or more and a surface roughness Ra of 0.2 μm or more is not clear, but is assumed as follows. In addition, the release film of this disclosure is not limited at all by the following speculation.

[0024] (1)에 기재된 바와 같이, 성분 비율이 상이한 복수 종의 영역을 가지며, 상이한 복수 종의 영역에 있어서 라만 분광 측정을 행하였을 때, 상이한 복수 종의 영역의 적어도 일부에 있어서 각각 상이한 피크 강도를 나타냄으로써, 하나의 영역에서는, 폴리머끼리 응집되어 밀도가 높아져 부분적으로 부풀어 올라, 이형층의 표면에 요철 형상을 형성한다. 라만 분광 측정을 행하였을 때 각각 상이한 피크 강도를 나타내는 영역이 있다는 것은 즉, 이들 상이한 피크 강도를 나타내는 영역끼리의 성분 비율이 다르다고도 할 수 있다.[0024] As described in (1), there are multiple types of regions with different component ratios, and when Raman spectroscopic measurement is performed on the different multiple types of regions, different peaks are present in at least a portion of the different multiple types of regions. By showing strength, in one area, the polymers aggregate with each other, the density increases, and the polymer partially swells, forming an uneven shape on the surface of the release layer. When Raman spectroscopic measurement is performed, it can be said that there are regions showing different peak intensities, that is, the component ratios of the areas showing different peak intensities are different.

그리고, (2)에 기재된 바와 같이, 이형층의 표면은 요철 형상을 가지며, 볼록부와 오목부에 있어서 라만 분광 측정을 행하였을 때, 상기 볼록부의 적어도 일부와 상기 오목부의 적어도 일부에 있어서 각각 상이한 피크 강도를 나타내는 것으로 할 수 있다. 볼록부의 적어도 일부와 오목부의 적어도 일부에 있어서 라만 분광 측정을 행하였을 때 각각 상이한 피크 강도를 나타낸다란, 적어도 일부의 볼록부와 적어도 일부의 오목부에 있어서의 라만 분광 측정을 행하였을 때 각각 상이한 피크 강도를 나타내는 것이면 된다. 볼록부를 복수 가지는 경우의 각각의 볼록부끼리는, 피크 강도는 동일해도 되고 상이해도 된다. 오목부를 복수 가지는 경우의 각각의 오목부끼리는, 피크 강도가 동일해도 되고 상이해도 된다.And, as described in (2), the surface of the release layer has a concave-convex shape, and when Raman spectroscopic measurement is performed on the convex portion and the concave portion, at least a portion of the convex portion and at least a portion of the concave portion are different, respectively. It can be used to indicate peak intensity. Showing different peak intensities when Raman spectroscopic measurement is performed on at least part of the convex part and at least part of the concave part means different peak intensities when Raman spectroscopic measurement is performed on at least part of the convex part and at least part of the concave part. Anything that shows intensity is sufficient. In the case of having a plurality of convex portions, the peak intensities of each convex portion may be the same or different. In the case of having a plurality of recessed parts, the peak intensities of each recessed part may be the same or different.

이에 따라, (1) 또는 (2)에 기재된 이형 필름은, 이형층에 필러를 첨가하지 않고도 이형 필름의 표면에 요철을 발생시킬 수 있다. 따라서, 본 개시의 이형 필름에서는 명확한 계면이 확인되지 않는 볼록부를 형성하는 것도 가능하다. 명확한 계면이 확인되지 않는 볼록부란, 레이저 현미경으로 관찰하였을 때, 필러를 첨가한 경우와 같은 입자 계면이 확인되지 않는 것을 말한다.Accordingly, the release film according to (1) or (2) can generate irregularities on the surface of the release film without adding a filler to the release layer. Therefore, in the release film of the present disclosure, it is also possible to form a convex portion in which a clear interface is not visible. A convex portion in which a clear interface is not confirmed refers to a particle interface in the same manner as in the case where a filler is added, when observed with a laser microscope.

[0025] 폴리머의 성분 비율이 상이한 복수 종의 영역을 형성하는 구체적인 방법 중 하나로서, (3)에 기재된 바와 같이, SP값의 차이가 0.3 이상인 2종 이상의 폴리머를 이용한다. SP값의 차이가 0.3 이상인 폴리머는 상용성(相溶性)이 낮기 때문에 서로 분리되면서, 동종(同種)의 폴리머끼리 응집되어, (1) 및 (2)의 이형 필름을 얻을 수 있다. 특히, (4)에 기재된 바와 같이, 폴리머 중 적어도 1종이 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머이면, 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머끼리 응집되어 볼록부를 형성하기 쉬운 경향이 있다.[0025] As one of the specific methods of forming multiple types of regions with different polymer component ratios, as described in (3), two or more types of polymers with a difference in SP value of 0.3 or more are used. Polymers with a difference in SP value of 0.3 or more have low compatibility, so while they separate from each other, polymers of the same type aggregate with each other, and release films (1) and (2) can be obtained. In particular, as described in (4), if at least one of the polymers is a nitrile group-containing (meth)acrylic polymer, the nitrile group-containing (meth)acrylic polymers tend to aggregate together to form convex portions.

[0026] (1)∼(4) 중 적어도 하나를 만족하는 이형 필름에서는, 필러를 첨가하지 않고도 표면에 요철이 나타나게 할 수 있기 때문에, 필러의 첨가가 불필요해지도록 하거나 또는 필러의 양을 저감할 수 있어, 결과적으로, 신장성이 우수하다. 또한, 본 개시의 이형 필름은, 표면에 요철 형상이 나타나기 때문에, 반도체 패키지 표면의 시일재의 플로 마크가 저감된다.[0026] In the release film that satisfies at least one of (1) to (4), irregularities can be made to appear on the surface without adding filler, so the addition of filler becomes unnecessary or the amount of filler can be reduced. As a result, the extensibility is excellent. In addition, since the release film of the present disclosure has an uneven shape on the surface, flow marks of the seal material on the surface of the semiconductor package are reduced.

또한, 본 개시의 이형 필름은 표면 거칠기 Ra가 0.2㎛ 이상이기 때문에, 이형성도 우수하다. 나아가, (1)∼(4) 중 적어도 하나를 만족하는 이형 필름에서는 필러를 첨가하지 않아도 되기 때문에, 필러의 탈락과 같은 문제의 발생을 억제하는 것도 가능하다.In addition, since the release film of the present disclosure has a surface roughness Ra of 0.2 μm or more, it is also excellent in release property. Furthermore, since it is not necessary to add a filler in a release film that satisfies at least one of (1) to (4), it is possible to suppress the occurrence of problems such as peeling of the filler.

[0027] 상기 (3)에 나타낸 바와 같이, 이형층에 포함되는 적어도 2종의 폴리머는, SP값의 차이가 0.3 이상인 것이 바람직하고, 0.5 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.8 이상인 것이 더욱 바람직하다. 상기 SP값의 차이의 상한치는 특별히 제한되지 않지만, 5.0 이하인 것이 바람직하고, 4.0 이하인 것이 보다 바람직하고, 3.0 이하인 것이 더욱 바람직하다.[0027] As shown in (3) above, the difference in SP values of at least two types of polymers contained in the release layer is preferably 0.3 or more, more preferably 0.5 or more, and even more preferably 0.8 or more. The upper limit of the difference in SP values is not particularly limited, but is preferably 5.0 or less, more preferably 4.0 or less, and even more preferably 3.0 or less.

본 개시에 있어서, 이형층에 포함되는 폴리머가 2종류일 경우, SP값의 차이란, 각 폴리머 간의 SP값의 차이를 말한다. 이형층에 포함되는 폴리머가 3종류 이상일 경우, SP값의 차이란, 이형층에 포함되는 폴리머 중 가장 SP값이 높은 폴리머와 가장 SP값이 낮은 폴리머 간의 SP값의 차이를 말한다.In the present disclosure, when there are two types of polymers included in the release layer, the difference in SP values refers to the difference in SP values between each polymer. When there are three or more types of polymers included in the release layer, the difference in SP values refers to the difference in SP values between the polymer with the highest SP value and the polymer with the lowest SP value among the polymers included in the release layer.

[0028] SP값은, 화학 구조식의 부분 구조 단위로부터 유도되는 용해도 파라미터이며, Fedors법에 의해 구한 값이다.[0028] The SP value is a solubility parameter derived from the partial structural unit of the chemical structural formula, and is a value obtained by the Fedors method.

[0029] 폴리머의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 이형층의 점착성, 이형성, 내열성 등을 고려하여 선택하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 폴리머는, (메타)아크릴로일 모노머에서 유래하는 구성 단위를 가지는 (메타)아크릴 폴리머, 실리콘, 우레탄 폴리머 등을 들 수 있다. 폴리머 중 적어도 1종은 (메타)아크릴 폴리머인 것이 바람직하고, 2종 이상의 (메타)아크릴 폴리머를 이용하는 것이 보다 바람직하다.[0029] The type of polymer is not particularly limited, and is preferably selected taking into account the adhesiveness, release properties, heat resistance, etc. of the release layer. Specifically, polymers include (meth)acrylic polymer, silicone, and urethane polymer, which have structural units derived from (meth)acryloyl monomer. It is preferable that at least one type of polymer is a (meth)acrylic polymer, and it is more preferable to use two or more types of (meth)acrylic polymer.

전체 폴리머 중 (메타)아크릴 폴리머가 차지하는 비율은, 20질량% 이상인 것이 바람직하고, 40질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 60질량% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 80질량% 이상, 85질량% 이상, 90질량% 이상, 95질량% 이상이어도 된다. 상한치는 특별히 한정되지 않으며, 해당 비율은, 100질량%여도 되고, 95질량% 이하여도 되고, 90질량% 이하, 85질량% 이하여도 된다.The proportion of the (meth)acrylic polymer in the total polymer is preferably 20% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, 80% by mass or more, 85% by mass or more, 90% by mass or more. It may be more than % by mass or more than 95% by mass. The upper limit is not particularly limited, and the ratio may be 100 mass%, 95 mass% or less, 90 mass% or less, and 85 mass% or less.

[0030] (메타)아크릴 폴리머는, 단독 중합체여도 되고 공중합체여도 되고, 단독 중합체와 공중합체를 병용해도 된다. (메타)아크릴 폴리머 중 적어도 1종은 공중합체인 것이 바람직하다. 공중합체는, 관능기를 갖지 않는 모노머 A에서 유래하는 구성 단위를 포함해도 되고, 관능기를 가지는 모노머 B에서 유래하는 구성 단위를 포함해도 된다.[0030] The (meth)acrylic polymer may be a homopolymer or a copolymer, or a combination of a homopolymer and a copolymer may be used. It is preferable that at least one type of (meth)acrylic polymer is a copolymer. The copolymer may contain structural units derived from monomer A, which does not have a functional group, or may contain structural units derived from monomer B, which has a functional group.

[0031] 모노머 A는, 유리 전이 온도(Tg)가 비교적 낮은(예컨대, -20℃ 이하) 모노머인 것이 바람직하다. 또한, Tg가 비교적 낮은 모노머란, 그 모노머로 단독 중합체를 합성하였을 때의 유리 전이 온도가 비교적 낮은 모노머를 말한다. 모노머 A로서는, (메타)아크릴산부틸, (메타)아크릴산에틸, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 공중합체는, 모노머 A에서 유래하는 구성 단위를 1종 단독으로 포함하고 있어도 되고, 2종 이상의 조합으로 포함하고 있어도 된다.[0031] Monomer A is preferably a monomer with a relatively low glass transition temperature (Tg) (eg, -20°C or lower). In addition, a monomer with a relatively low Tg refers to a monomer that has a relatively low glass transition temperature when a homopolymer is synthesized from the monomer. Examples of monomer A include butyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, and 2-ethylhexyl (meth)acrylate. The copolymer may contain structural units derived from monomer A individually, or may contain them in combination of two or more types.

[0032] 공중합체가 모노머 A에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 경우, 공중합체에 있어서의 모노머 A에서 유래하는 구성 단위의 총 함유율은, 50질량% 초과인 것이 바람직하고, 55질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 60질량% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 해당 총 함유율은, 99질량% 이하인 것이 바람직하고, 98질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 97질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.[0032] When the copolymer contains structural units derived from monomer A, the total content of structural units derived from monomer A in the copolymer is preferably more than 50% by mass, and more preferably 55% by mass or more. It is preferable, and it is more preferable that it is 60 mass % or more. Moreover, the total content is preferably 99% by mass or less, more preferably 98% by mass or less, and even more preferably 97% by mass or less.

[0033] 적어도 1종의 폴리머는, 관능기를 가지는 모노머 B에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 공중합체인 것이 바람직하다. 관능기로서는, 카르복실산기, 수산기, 아미드기, 니트릴기 등을 들 수 있다. 관능기는, 가교성 관능기여도 되고, 비(非)가교성 관능기여도 된다. 가교성 관능기로서는, 카르복실산기, 수산기, 아미드기 등을 들 수 있고, 비가교성 관능기로서는 니트릴기 등을 들 수 있다. 공중합체는, 모노머 B에서 유래하는 구성 단위를, 1종 단독으로 포함하고 있어도 되고, 2종 이상의 조합으로 포함하고 있어도 된다. 적어도 1종의 폴리머는, 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머인 것이 보다 바람직하다.[0033] At least one type of polymer is preferably a copolymer containing structural units derived from monomer B having a functional group. Functional groups include carboxylic acid groups, hydroxyl groups, amide groups, and nitrile groups. The functional group may be a crosslinkable functional group or a non-crosslinkable functional group. Examples of crosslinkable functional groups include carboxylic acid groups, hydroxyl groups, and amide groups, and examples of non-crosslinkable functional groups include nitrile groups. The copolymer may contain structural units derived from monomer B individually or in combinations of two or more types. It is more preferable that at least one type of polymer is a nitrile group-containing (meth)acrylic polymer.

[0034] 가교성 관능기를 가지는 가교형 폴리머는, 적어도 일부가 가교되어, 이형 필름에 포함되어 있어도 된다. 본 개시에서는, 2종 이상의 폴리머가 가교되어 있는 경우도, 이형 필름이 2종 이상의 폴리머를 포함하는 형태에 포함된다.[0034] The crosslinked polymer having a crosslinkable functional group may be at least partially crosslinked and included in the release film. In this disclosure, even when two or more types of polymers are crosslinked, the release film is included in a form containing two or more types of polymers.

[0035] 폴리머가 가교되어 있는 경우에는, 가교점의 결합의 분해를 거침으로써, 가교 전의 폴리머를 분석 또는 추정하는 것이 가능하다. 예컨대, 폴리머가 수산기를 가지고, 가교제로서 이소시아네이트 화합물을 이용하였을 경우에는, 우레탄 결합을 형성하여 가교되는 것이 추측되고, 우레탄 결합은 피리딘에 의해 선택적으로 분해하는 것이 가능하다.[0035] When the polymer is crosslinked, it is possible to analyze or estimate the polymer before crosslinking by decomposing the bonds at the crosslinking points. For example, when the polymer has a hydroxyl group and an isocyanate compound is used as a crosslinking agent, it is assumed that the polymer is crosslinked by forming a urethane bond, and the urethane bond can be selectively decomposed by pyridine.

[0036] 가교형 폴리머는, 가교형 (메타)아크릴 폴리머인 것이 바람직하고, 가교형 (메타)아크릴 공중합체인 것이 보다 바람직하다.[0036] The crosslinked polymer is preferably a crosslinked (meth)acrylic polymer, and more preferably is a crosslinked (meth)acrylic copolymer.

[0037] 가교성 관능기를 가지는 모노머 B1로서는, (메타)아크릴산, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 비가교성 관능기를 가지는 모노머 B2로서는, (메타)아크릴로니트릴 등을 들 수 있다.[0037] Examples of monomer B1 having a crosslinkable functional group include (meth)acrylic acid, hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, and (meth)acrylamide. Examples of monomer B2 having a non-crosslinkable functional group include (meth)acrylonitrile.

[0038] 적어도 1종의 폴리머는, 모노머 B1에서 유래하는 구성 단위의 총 함유율이, 0.1질량% 이상인 것이 바람직하고, 0.5질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 1.0질량% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 해당 총 함유율은, 30질량% 이하인 것이 바람직하고, 25질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 20질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.[0038] The total content of structural units derived from monomer B1 of at least one type of polymer is preferably 0.1 mass% or more, more preferably 0.5 mass% or more, and even more preferably 1.0 mass% or more. Moreover, the total content is preferably 30 mass% or less, more preferably 25 mass% or less, and even more preferably 20 mass% or less.

[0039] 적어도 1종의 폴리머는, 모노머 B2에서 유래하는 구성 단위의 총 함유율이, 1질량% 이상인 것이 바람직하고, 3질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 5질량% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 해당 함유율은, 40질량% 이하인 것이 바람직하고, 35질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 30질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.[0039] The total content of structural units derived from monomer B2 of at least one type of polymer is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more. Moreover, the content is preferably 40 mass% or less, more preferably 35 mass% or less, and even more preferably 30 mass% or less.

[0040] 폴리머 중 적어도 1종은, 니트릴기를 가지는 모노머에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 공중합체인 것이 바람직하고, (메타)아크릴로니트릴 모노머에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 공중합체인 것이 보다 바람직하다. 병용하는 폴리머는, 니트릴기를 가지는 모노머에서 유래하는 구성 단위를 포함하지 않는 단독 중합체여도 되고, 니트릴기를 가지는 모노머에서 유래하는 구성 단위를 포함하지 않는 공중합체여도 된다.[0040] At least one type of polymer is preferably a copolymer containing a structural unit derived from a monomer having a nitrile group, and more preferably a copolymer containing a structural unit derived from a (meth)acrylonitrile monomer. The polymer used in combination may be a homopolymer containing no structural units derived from a monomer having a nitrile group, or a copolymer containing no structural units derived from a monomer having a nitrile group.

[0041] 니트릴기를 가지는 모노머에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 공중합체에 있어서의, 니트릴기를 가지는 모노머에서 유래하는 구성 단위의 함유율은, 1질량% 이상인 것이 바람직하고, 3질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 5질량% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 해당 함유율은, 40질량% 이하인 것이 바람직하고, 35질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 30질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.[0041] In a copolymer containing a structural unit derived from a monomer having a nitrile group, the content of the structural unit derived from a monomer having a nitrile group is preferably 1% by mass or more, and more preferably 3% by mass or more. , it is more preferable that it is 5% by mass or more. Moreover, the content is preferably 40 mass% or less, more preferably 35 mass% or less, and even more preferably 30 mass% or less.

[0042] 니트릴기를 가지는 모노머에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 공중합체에 있어서의, 모노머 A에서 유래하는 구성 단위의 총 함유율은, 50질량% 이상인 것이 바람직하고, 55질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 60질량% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 해당 총 함유율은, 94질량% 이하인 것이 바람직하고, 92질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 90질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.[0042] In a copolymer containing structural units derived from a monomer having a nitrile group, the total content of structural units derived from monomer A is preferably 50% by mass or more, and more preferably 55% by mass or more, It is more preferable that it is 60% by mass or more. Moreover, the total content is preferably 94 mass% or less, more preferably 92 mass% or less, and even more preferably 90 mass% or less.

[0043] 니트릴기를 가지는 모노머에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 공중합체에 있어서의, 모노머 B1에서 유래하는 구성 단위의 총 함유율은, 0.1질량% 이상인 것이 바람직하고, 0.5질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 1.0질량% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 해당 총 함유율은, 30질량% 이하인 것이 바람직하고, 25질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 20질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.[0043] In a copolymer containing structural units derived from a monomer having a nitrile group, the total content of structural units derived from monomer B1 is preferably 0.1% by mass or more, and more preferably 0.5% by mass or more, It is more preferable that it is 1.0 mass% or more. Moreover, the total content is preferably 30 mass% or less, more preferably 25 mass% or less, and even more preferably 20 mass% or less.

[0044] 니트릴기를 가지는 모노머에서 유래하는 구성 단위를 포함하지 않는 공중합체에 있어서의, 모노머 A에서 유래하는 구성 단위의 총 함유율은, 70질량% 이상인 것이 바람직하고, 75질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 80질량% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 해당 총 함유율은, 99질량% 이하인 것이 바람직하고, 98질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 97질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.[0044] In the copolymer that does not contain structural units derived from monomers having a nitrile group, the total content of structural units derived from monomer A is preferably 70% by mass or more, and more preferably 75% by mass or more. , it is more preferable that it is 80% by mass or more. Moreover, the total content is preferably 99% by mass or less, more preferably 98% by mass or less, and even more preferably 97% by mass or less.

[0045] 니트릴기를 가지는 모노머에서 유래하는 구성 단위를 포함하지 않는 공중합체에 있어서의, 모노머 B1에서 유래하는 구성 단위의 총 함유율은, 0.1질량% 이상인 것이 바람직하고, 0.5질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 1.0질량% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 해당 총 함유율은, 30질량% 이하인 것이 바람직하고, 25질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 20질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.[0045] In the copolymer that does not contain structural units derived from monomers having a nitrile group, the total content of structural units derived from monomer B1 is preferably 0.1% by mass or more, and more preferably 0.5% by mass or more. , it is more preferable that it is 1.0% by mass or more. Moreover, the total content is preferably 30 mass% or less, more preferably 25 mass% or less, and even more preferably 20 mass% or less.

[0046] 폴리머 중 적어도 2종에 있어서, (메타)아크릴로니트릴 모노머에서 유래하는 구성 단위가 차지하는 비율의 차이는, 1질량% 이상인 것이 바람직하고, 3질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 5질량% 이상인 것이 더욱 바람직하다. (메타)아크릴로니트릴 모노머에서 유래하는 구성 단위가 차지하는 비율의 차이의 상한치는 특별히 제한되지 않지만, 40질량% 이하인 것이 바람직하고, 35질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 30질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.[0046] In at least two types of polymers, the difference in the proportion of structural units derived from (meth)acrylonitrile monomer is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and 5% by mass. It is more desirable to have more than this. The upper limit of the difference in the proportion occupied by the structural unit derived from the (meth)acrylonitrile monomer is not particularly limited, but is preferably 40% by mass or less, more preferably 35% by mass or less, and even more preferably 30% by mass or less. .

[0047] 2종의 (메타)아크릴 폴리머의 바람직한 조합으로서는, 예컨대 하기 (I) 및 (II)를 들 수 있으며, (I)이 바람직하다.[0047] Preferred combinations of two types of (meth)acrylic polymers include (I) and (II) below, with (I) being preferred.

(I) 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머와, 니트릴기를 포함하지 않는 (메타)아크릴 폴리머의 조합 (I) Combination of (meth)acrylic polymer containing nitrile group and (meth)acrylic polymer not containing nitrile group

(II) 2종 모두 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머이며, (메타)아크릴로니트릴 모노머에서 유래하는 구성 단위의 함유율이 서로 다름.(II) Both types are (meth)acrylic polymers containing nitrile groups, and the content of structural units derived from (meth)acrylonitrile monomer is different.

[0048] 폴리머의 수 평균 분자량(Mn)은, 예컨대 1.0×103 이상이어도 되고, 1×104 이상이어도 된다. 또한, 예컨대 1.0×106 이하여도 되고, 5.0×105 이하여도 된다.[0048] The number average molecular weight (Mn) of the polymer may be, for example, 1.0×10 3 or more, or 1×10 4 or more. Also, for example, it may be 1.0×10 6 or less, or 5.0×10 5 or less.

폴리머의 중량 평균 분자량(Mw)은, 예컨대 1.0×103 이상이어도 되고, 1.0×104 이상이어도 된다. 또한, 예컨대 5.0×106 이하여도 되고, 1.0×106 이하여도 된다.The weight average molecular weight (Mw) of the polymer may be, for example, 1.0×10 3 or more, or 1.0×10 4 or more. Also, for example, it may be 5.0×10 6 or less, and may be 1.0×10 6 or less.

폴리머의 Mn 및 Mw는, GPC(겔 투과 크로마토그래피)를 이용한 통상의 방법에 의해 측정된다.Mn and Mw of the polymer are measured by a conventional method using GPC (gel permeation chromatography).

[0049] 이형층에 있어서 가장 함유량이 많은 폴리머의 함유율은, 폴리머의 총 함유량에 대해 95질량% 이하인 것이 바람직하고, 90질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 85질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 가장 함유량이 많은 폴리머의 함유율이 95질량% 이하이면, 이형 필름의 표면에 요철이 형성되기 쉬운 경향이 있다.[0049] The content of the polymer with the highest content in the release layer is preferably 95% by mass or less, more preferably 90% by mass or less, and even more preferably 85% by mass or less, relative to the total polymer content. If the content of the polymer with the highest content is 95% by mass or less, irregularities tend to be easily formed on the surface of the release film.

[0050] 폴리머가 가교형 폴리머인 경우에는, 가교제를 이용하는 것이 바람직하다. 가교제로서는, 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 에폭시 화합물 등의 공지된 가교제를 들 수 있다. 또한, 느슨하게 퍼진 그물코(網目) 형상의 구조를 형성하는 관점에서 보면, 가교제는 삼관능, 사관능 등의 다관능 가교제인 것이 보다 바람직하다.[0050] When the polymer is a cross-linked polymer, it is preferable to use a cross-linking agent. Examples of the crosslinking agent include known crosslinking agents such as isocyanate compounds, melamine compounds, and epoxy compounds. Furthermore, from the viewpoint of forming a loosely spread network-like structure, it is more preferable that the crosslinking agent is a polyfunctional crosslinking agent such as tri- or tetra-functional.

[0051] 이소시아네이트 가교제는 특별히 제한되지 않으며, 공지된 이소시아네이트기를 가지는 화합물(이소시아네이트 화합물)로부터 선택할 수 있다. 반응성 의 관점에서 보면, 이관능 이소시아네이트 화합물(2개의 이소시아네이트기를 가지는 화합물) 및 다관능 이소시아네이트 화합물(3개 이상의 이소시아네이트기를 가지는 화합물)이 바람직하고, 다관능 이소시아네이트 화합물이 보다 바람직하다.[0051] The isocyanate crosslinking agent is not particularly limited and can be selected from compounds having a known isocyanate group (isocyanate compound). From the viewpoint of reactivity, difunctional isocyanate compounds (compounds having two isocyanate groups) and polyfunctional isocyanate compounds (compounds having three or more isocyanate groups) are preferable, and polyfunctional isocyanate compounds are more preferable.

[0052] 이관능 이소시아네이트 화합물로서는, 지방족 디이소시아네이트 화합물, 지환식 디이소시아네이트 화합물, 방향족 디이소시아네이트 화합물, 이들 디이소시아네이트 화합물의 카르보디이미드 변성물, 이들 디이소시아네이트 화합물을 분자 중에 가지는 고분자 화합물 등을 들 수 있다.[0052] Examples of the difunctional isocyanate compound include aliphatic diisocyanate compounds, alicyclic diisocyanate compounds, aromatic diisocyanate compounds, carbodiimide modified products of these diisocyanate compounds, and polymer compounds having these diisocyanate compounds in their molecules. there is.

[0053] 지방족 디이소시아네이트 화합물로서는, 1,5-펜타메틸렌디이소시아네이트, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI), 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트(TMHDI), 리신디이소시아네이트, 노보난디이소시아네이트메틸(NBDI) 등을 들 수 있다.[0053] As aliphatic diisocyanate compounds, 1,5-pentamethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate (HDI), trimethylhexamethylene diisocyanate (TMHDI), lysine diisocyanate, and methyl norbornane diisocyanate (NBDI). etc. can be mentioned.

[0054] 지환식 디이소시아네이트 화합물로서는, 트랜스 시클로헥산-1,4-디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트(IPDI), H6-XDI(수소 첨가 XDI), H12-MDI(수소 첨가 MDI) 등을 들 수 있다.[0054] Examples of alicyclic diisocyanate compounds include trans-cyclohexane-1,4-diisocyanate, isophorone diisocyanate (IPDI), H6-XDI (hydrogenated XDI), H12-MDI (hydrogenated MDI), etc. there is.

[0055] 방향족 디이소시아네이트 화합물로서는, 다이머산디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트(2,4-TDI), 2,6-톨릴렌디이소시아네이트(2,6-TDI), 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트(4,4'-MDI), 2,4'-디페닐메탄디이소시아네이트(2,4'-MDI), 1,4-페닐렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트(XDI), 테트라메틸크실릴렌디이소시아네이트(TMXDI), 톨리딘디이소시아네이트(TODI), 1,5-나프탈렌디이소시아네이트(NDI) 등을 들 수 있다.[0055] As aromatic diisocyanate compounds, dimer acid diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate (2,4-TDI), 2,6-tolylene diisocyanate (2,6-TDI), 4,4'-diphenyl Methane diisocyanate (4,4'-MDI), 2,4'-diphenylmethane diisocyanate (2,4'-MDI), 1,4-phenylene diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), tetramethyl methylcellulose Examples include silylene diisocyanate (TMXDI), tolidine diisocyanate (TODI), and 1,5-naphthalene diisocyanate (NDI).

[0056] 다관능 이소시아네이트 화합물로서는, 이관능 이소시아네이트 화합물의 삼량체, 이관능 이소시아네이트 화합물의 삼량체를 분자 중에 가지는 고분자 화합물 등을 들 수 있다.[0056] Examples of the polyfunctional isocyanate compound include a trimer of a difunctional isocyanate compound and a polymer compound having a trimer of a difunctional isocyanate compound in the molecule.

이관능 이소시아네이트 화합물의 삼량체로서는, 이관능 이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 이관능 이소시아네이트 화합물의 어덕트체(부가체), 이관능 이소시아네이트 화합물의 뷰렛체 등을 들 수 있다.Examples of the trimer of the difunctional isocyanate compound include the isocyanurate form of the difunctional isocyanate compound, the adduct form (adduct) of the difunctional isocyanate compound, and the biuret form of the difunctional isocyanate compound.

[0057] 이형층에 포함되는 가교제의 함유량은, 예컨대, 이형층에 포함되는 폴리머의 고형분 100질량부에 대해 0.1질량부∼50질량부여도 되고, 1질량부∼40질량부여도 된다.[0057] The content of the crosslinking agent contained in the release layer may be, for example, 0.1 parts by mass to 50 parts by mass, or 1 part by mass to 40 parts by mass, based on 100 parts by mass of the solid content of the polymer contained in the release layer.

[0058] 이형층은, 필요에 따라, 앵커링 향상제, 가교 촉진제, 착색제, 대전 방지제 등을 포함하고 있어도 된다. 예컨대, 이형층이 대전 방지제를 포함함으로써, 박리할 때 방전이 발생하기 어려워, 전자 부품의 정전 파괴가 억제된다.[0058] If necessary, the release layer may contain an anchoring enhancer, a crosslinking accelerator, a colorant, an antistatic agent, etc. For example, when the release layer contains an antistatic agent, discharge is less likely to occur during peeling, and electrostatic destruction of electronic components is suppressed.

[0059] 이형층은, 성분 비율이 상이한 복수 종의 영역을 가지며, 상기 상이한 복수 종의 영역에 있어서 라만 분광 측정을 행하였을 때, 상이한 복수 종의 영역의 적어도 일부에 있어서 각각 상이한 피크 강도를 나타내는 것이 바람직하다. 또한, 이형층의 표면이 요철 형상을 가지며, 볼록부와 오목부에 있어서 라만 분광 측정을 행하였을 때, 상기 볼록부의 적어도 일부와 상기 오목부의 적어도 일부에 있어서 각각 상이한 피크 강도를 나타내는 것이 바람직하다.[0059] The release layer has a plurality of regions with different component ratios, and when Raman spectroscopy is performed on the different plurality of regions, at least a portion of the different plurality of regions exhibits different peak intensities. It is desirable. In addition, the surface of the release layer has a concavo-convex shape, and when Raman spectroscopic measurement is performed on the convex portion and the concave portion, it is preferable that at least a portion of the convex portion and at least a portion of the concave portion exhibit different peak intensities.

일례로서, 상이한 복수 종의 영역의 적어도 일부에 있어서, 또는 볼록부의 적어도 일부와 오목부의 적어도 일부에 있어서, 폴리머의 성분 비율이 상이한 것을 들 수 있다. 더욱 구체적인 일례로서는, 상이한 복수 종의 영역의 적어도 일부에 있어서, 또는 볼록부의 적어도 일부와 오목부의 적어도 일부에 있어서, 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 함유량이 상이한 것이 바람직하다. 또한, 상이한 피크 강도를 나타내는 피크가, 니트릴기에서 유래하는 피크인 것이 바람직하다.As an example, polymer component ratios may be different in at least a portion of a plurality of different regions, or in at least a portion of a convex portion and at least a portion of a concave portion. As a more specific example, it is preferable that the content of the nitrile group-containing (meth)acrylic polymer is different in at least part of the different plural types of regions, or in at least part of the convex portion and at least part of the concave portion. Additionally, it is preferable that the peaks showing different peak intensities are peaks originating from nitrile groups.

[0060] 이형층에 있어서, 적어도 하나의 영역은 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머를 포함하는 것이 바람직하고, 다른 하나의 영역에서는, 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머를 포함하고 있어도 되고, 포함하지 않아도 된다. 이형층의 표면에 요철을 창출시키기 쉽게 하는 관점에서 보면, 다른 하나의 영역에서는, 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머를 포함하지 않는 것이 바람직하다. 또한, 하나의 영역에서 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머를 포함하지 않는지의 여부는, 그 영역에 대해 후술하는 현미 라만 분광법으로 성분 분석을 행하였을 때, 니트릴기에 대응하는 스펙트럼 피크가 검출되지 않음으로써 확인할 수 있다.[0060] In the release layer, at least one region preferably contains a nitrile group-containing (meth)acrylic polymer, and the other region may or may not contain a nitrile group-containing (meth)acrylic polymer. You don't have to. From the viewpoint of making it easier to create irregularities on the surface of the release layer, it is preferable that the other area does not contain a (meth)acrylic polymer containing a nitrile group. In addition, whether a region does not contain a nitrile group-containing (meth)acrylic polymer can be determined by not detecting a spectral peak corresponding to a nitrile group when the region is subjected to component analysis using micro-Raman spectroscopy, which will be described later. You can check it.

[0061] 각각의 영역은, 이형층의 표면을 평면 관찰하였을 때, 층 내부가 상분리(相分離) 상태를 나타내어 연속상 및 비연속상이 형성되어 있어도 된다. 연속상과 비연속상의 면적 비율은, 이형층에 함유되는 폴리머의 배합 비율에 의해 조정할 수 있다. 이형층 중의 함유 비율이 적은 폴리머는 비연속상에 포함되고, 함유 비율이 많은 폴리머는 연속상에 포함된다.[0061] In each region, when the surface of the release layer is observed planarly, the inside of the layer may exhibit a phase separation state, and a continuous phase and a discontinuous phase may be formed. The area ratio of the continuous phase and the discontinuous phase can be adjusted by the mixing ratio of the polymer contained in the release layer. The polymer with a small content in the release layer is contained in the discontinuous phase, and the polymer with a large content in the release layer is contained in the continuous phase.

[0062] 또한, 이형층의 표면이 요철 형상을 가지며, 볼록부의 적어도 일부에 있어서의 니트릴기 유래의 피크 강도가, 오목부의 적어도 일부에 있어서의 니트릴기 유래의 피크 강도보다 큰 것이 바람직하다. 나아가, 이형층의 표면은 요철 형상을 가지며, 볼록부의 적어도 일부에 있어서의 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 질량 기준에서의 함유량은, 오목부의 적어도 일부에 있어서의 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 질량 기준에서의 함유량보다 많은 것이 바람직하다.[0062] Additionally, it is preferable that the surface of the release layer has a concavo-convex shape, and that the peak intensity derived from the nitrile group in at least part of the convex part is greater than the peak intensity derived from the nitrile group in at least part of the concave part. Furthermore, the surface of the release layer has an uneven shape, and the mass-based content of the nitrile group-containing (meth)acrylic polymer in at least part of the convex part is the nitrile group-containing (meth)acrylic polymer in at least part of the concave part. It is preferable to exceed the content based on mass.

[0063] 각각의 영역 및 요철부에 있어서의 라만 분광 측정은, 라만 분광 장치를 이용한다. 라만 분광 장치로서, 예컨대, Thermo Fischer Scientific Inc.에서 제조된 「DXR2xi」를 이용하여, 하기 조건에서 측정을 행한다.[0063] Raman spectroscopy measurement in each region and concavo-convex portion uses a Raman spectroscopy device. As a Raman spectroscopy device, for example, “DXR2xi” manufactured by Thermo Fischer Scientific Inc. is used, and measurement is performed under the following conditions.

·파장: 532㎚·Wavelength: 532㎚

·출력: 10㎽·Output: 10㎽

·노광 시간: 0.05초·Exposure time: 0.05 seconds

·스캔 횟수: 1000회·Number of scans: 1000 times

·애퍼처: 25㎛ 핀홀·Aperture: 25㎛ pinhole

·대물렌즈: 100배·Objective lens: 100x

[0064] 각각의 영역 및 요철부에 있어서의 성분 비율은, 레이저를 조사한 부분(個所)에 대해 1점씩 라만 분광법에 의해 스펙트럼을 얻음으로써 측정된다. 예컨대, 이형층을 구성하는 특정 성분(예컨대 니트릴기)에 대해 라만 스펙트럼의 피크를 미리 동정(同定)해 두고, 그 신호 강도에 근거하여, 하나의 부분과 다른 하나의 부분에서의 특정 성분의 상대적인 함유량을 확인한다.[0064] The component ratio in each region and concavo-convex portion is measured by obtaining a spectrum by Raman spectroscopy at one point for each portion irradiated with the laser. For example, the peak of the Raman spectrum is identified in advance for a specific component (such as a nitrile group) constituting the release layer, and based on the signal intensity, the relative difference between the specific component in one part and the other part is determined. Check the content.

[0065] 도 2는, 이형층의 표면의 레이저 현미경에 의한 사진 및 해석 그래프이다. 레이저 현미경으로서 KEYENCE CORPORATION에서 제조된 「VK-X3000」을 이용하여, 50배의 대물렌즈에 의해 관찰을 행하고 있다. 도 2에서는 상술한 레이저 현미경을 이용하고 있지만, 이형층의 표면은 다른 레이저 현미경을 이용해도 된다.[0065] Figure 2 is a photograph and analysis graph of the surface of the release layer using a laser microscope. Observation is performed with a 50x objective lens using a “VK-X3000” manufactured by KEYENCE CORPORATION as a laser microscope. Although the above-described laser microscope is used in Figure 2, another laser microscope may be used for the surface of the release layer.

[0066] 도 2에 있어서, 샘플 G1은 필러를 포함하는 종래의 이형층이며, 샘플 G2 및 G3은 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머(폴리머 A)와 니트릴기를 갖지 않는 (메타)아크릴 폴리머(폴리머 B)를 병용한 본 개시에 따른 이형층이다. 샘플 G2는, 전체 폴리머 중의 폴리머 A의 함유율이 15질량%이며, 폴리머 B의 함유율이 85질량%이다. 샘플 G3은, 전체 폴리머 중의 폴리머 A가 85질량%이며, 폴리머 B의 함유율이 15질량%이다.[0066] In Figure 2, sample G1 is a conventional release layer containing a filler, and samples G2 and G3 are a (meth)acrylic polymer (polymer A) containing a nitrile group and a (meth)acrylic polymer (polymer A) without a nitrile group. This is a release layer according to the present disclosure using B) in combination. Sample G2 has a polymer A content of 15 mass% and a polymer B content of 85 mass% in all polymers. Sample G3 contains 85 mass% of polymer A and 15 mass% of polymer B in all polymers.

[0067] 도 2의 1단째 및 2단째는 이형층의 표면을 평면 관찰하였을 때의 평면 사진이며, 3단째는 2단째의 사진에 있어서 화살표로 나타낸 직선에서의 표면의 요철 형상을 해석한 단면 곡선이다.[0067] The first and second rows of Figure 2 are planar photos when the surface of the release layer is observed flat, and the third row is a cross-sectional curve that interprets the uneven shape of the surface along the straight line indicated by the arrow in the second row photo. am.

도 2에 나타내어진 바와 같이, 샘플 G2 및 G3에서는, 이형층은 복수의 영역이 형성되어 있다.As shown in Fig. 2, in samples G2 and G3, the release layer is formed in a plurality of regions.

[0068] 샘플 G2는 전체 폴리머 중의 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 함유율이 절반 미만이며, 이 경우에는 전체 면(全面)에서 차지하는 볼록부의 영역이 절반 미만이다. 한편, 샘플 G3은 전체 폴리머 중의 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 함유율이 절반을 초과하고 있으며, 이 경우에는, 전체 면에서 차지하는 볼록부의 영역이 절반을 초과하고 있다. 이로부터, 볼록부는 오목부에 비해 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 함유율이 많게 되어 있음을 알 수 있다.[0068] Sample G2 contains less than half of the nitrile group-containing (meth)acrylic polymer in the entire polymer, and in this case, the area of the convex portions on the entire surface is less than half. On the other hand, in sample G3, the content of nitrile group-containing (meth)acrylic polymer exceeds half of the total polymer, and in this case, the area of the convex portions occupying the entire surface exceeds half. From this, it can be seen that the convex portion has a higher content of nitrile group-containing (meth)acrylic polymer than the concave portion.

[0069] 또한, 도 2에 나타내어진 바와 같이, 종래의 샘플 G1에서는 필러가 응집되어 있기 때문에, 볼록부의 형상, 크기 등의 균일성이 낮은 것을 알 수 있다.[0069] Additionally, as shown in FIG. 2, in the conventional sample G1, it can be seen that the uniformity of the shape, size, etc. of the convex portions is low because the filler is aggregated.

[0070] 도 3은, 도 2의 샘플 G2에 있어서의 비연속상(도상, 볼록부)과 연속상(해상, 오목부)에 대해 현미 라만 분광법에 의해 성분 분석한 스펙트럼 결과이다. 여기서 비연속상이란 관찰면에 있어서 차지하는 면적이 적은 영역을 말하고, 연속상이란 관찰면에 있어서 차지하는 면적이 많은 영역을 말한다.[0070] FIG. 3 is a spectrum result of component analysis by micro-Raman spectroscopy for the discontinuous phase (island phase, convex portion) and continuous phase (resolution, concave portion) in sample G2 of FIG. 2. Here, the discontinuous phase refers to an area that occupies a small area on the observation surface, and the continuous phase refers to an area that occupies a large area in the observation surface.

[0071] 도 3에서는, 비연속상(볼록부)에서는 니트릴기에서 유래하는 피크가 검출되고 있는 데 반해, 연속상(오목부)에서는 니트릴기에서 유래하는 피크가 검출되고 있지 않다. 이 결과로부터, 비연속상(볼록부)과 연속상(오목부)에서는, 폴리머의 성분 비율이 상이한 것을 알 수 있다. 또한, 볼록부 쪽이 오목부보다 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 함유량이 많은 것을 알 수 있다.[0071] In Figure 3, while the peak derived from the nitrile group is detected in the discontinuous phase (convex portion), the peak derived from the nitrile group is not detected in the continuous phase (concave portion). From these results, it can be seen that the polymer component ratios are different in the discontinuous phase (convex portion) and the continuous phase (concave portion). In addition, it can be seen that the convex portion has a higher content of nitrile group-containing (meth)acrylic polymer than the concave portion.

[0072] 도 4는, 도 2의 샘플 G3에 있어서의 볼록부(해상, 연속상)와 오목부(도상, 비연속상)에 대해 현미 라만 분광법에 의해 성분 분석한 스펙트럼 결과이다. 볼록부에서는 니트릴기에서 유래하는 피크가 검출되고 있는 데 반해, 오목부에서는 니트릴기에서 유래하는 피크가 검출되고 있지 않다. 이 결과로부터, 볼록부와 오목부에서는, 폴리머의 성분 비율이 상이한 것을 알 수 있다. 또한, 볼록부 쪽이 오목부보다 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 함유량이 많은 것을 알 수 있다.[0072] FIG. 4 is a spectrum result of component analysis by micro-Raman spectroscopy for the convex portions (resolution, continuous phase) and concave portions (island phase, discontinuous phase) of sample G3 in FIG. 2. While the peak derived from the nitrile group is detected in the convex part, the peak derived from the nitrile group is not detected in the concave part. From these results, it can be seen that the polymer component ratios are different in the convex portion and the concave portion. In addition, it can be seen that the convex portion has a higher content of nitrile group-containing (meth)acrylic polymer than the concave portion.

도 4에서는, 전체 폴리머 중에서 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머는, 50질량%를 초과하여 주성분으로서 포함되어 있어 연속상을 형성하고 있지만, 이 연속상은 볼록부를 형성하고 있다. 도 3에서는 연속상은 오목부를 형성하고 있는 데 반해 도 4에서는 역전되어 있다. 그러나, 도 3 및 도 4의 어느 경우에도, 볼록부 쪽이 오목부보다 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 함유량이 많다.In Fig. 4, among all polymers, the nitrile group-containing (meth)acrylic polymer is contained as a main component in excess of 50% by mass and forms a continuous phase, but this continuous phase forms a convex portion. In Figure 3, the continuous phase forms a concave portion, whereas in Figure 4, it is reversed. However, in both cases of Figures 3 and 4, the convex portion has a higher content of nitrile group-containing (meth)acrylic polymer than the concave portion.

[0073] 도 3과 같이 비연속상이 볼록부를 형성하고 있어도 되고, 도 4와 같이 비연속상이 오목부를 형성하고 있어도 되며, 이형성의 관점에서 보면 비연속상이 볼록부를 형성하는 것이 바람직하다. 레이저 현미경으로 이형층의 표면을 평면 관찰하였을 때, 이형층의 표면에 있어서의 볼록부가 차지하는 비율은, 60면적% 이하인 것이 바람직하고, 55면적% 이하인 것이 보다 바람직하고, 50면적% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 이형층의 표면에 있어서의 볼록부가 차지하는 비율은, 5면적% 이상인 것이 바람직하고, 10면적% 이상인 것이 보다 바람직하고, 15면적% 이상인 것이 더욱 바람직하다.[0073] The discontinuous phase may form a convex part as shown in FIG. 3, or the discontinuous phase may form a concave part as shown in FIG. 4. From the viewpoint of release properties, it is preferable that the discontinuous phase forms a convex part. When the surface of the release layer is observed flat with a laser microscope, the proportion occupied by the convex portions on the surface of the release layer is preferably 60 area% or less, more preferably 55 area% or less, and even more preferably 50 area% or less. do. Moreover, the ratio occupied by the convex portions on the surface of the release layer is preferably 5 area% or more, more preferably 10 area% or more, and even more preferably 15 area% or more.

[0074] 이형층의 표면을 평면 관찰하였을 때, 볼록부의 최대 직경은 50㎛ 이하인 것이 바람직하고, 45㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 40㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 이형층이 이형성을 나타내면, 볼록부의 최대 직경의 하한치는 특별히 제한되지 않으며, 예컨대, 1㎛ 이상이어도 되고, 2㎛ 이상이어도 되고, 5㎛ 이상이어도 된다.[0074] When the surface of the release layer is observed flat, the maximum diameter of the convex portion is preferably 50 μm or less, more preferably 45 μm or less, and even more preferably 40 μm or less. If the release layer exhibits release properties, the lower limit of the maximum diameter of the convex portion is not particularly limited, and may be, for example, 1 μm or more, 2 μm or more, or 5 μm or more.

볼록부의 최대 직경은, 레이저 현미경으로 400배에 있어서의 하나의 시야로 관찰하였을 때의 값이다.The maximum diameter of the convex portion is the value when observed with a laser microscope in one field of view at 400 times magnification.

도 2의 샘플 G1에 나타낸 바와 같이, 필러를 첨가하는 종래의 이형 필름의 경우에는, 필러끼리 응집되기 쉬워 볼록부의 최대 직경은 커지기 쉽다.As shown in sample G1 in FIG. 2, in the case of a conventional release film to which filler is added, the fillers tend to agglomerate and the maximum diameter of the convex portion tends to become large.

[0075] 볼록부의 최대 직경은, 레이저 현미경으로 400배에 있어서의 하나의 시야로 관찰하였을 때, 가장 큰 직경을 가지는 볼록부에 대해 직경을 측정하여 얻은 값이다.[0075] The maximum diameter of the convex part is a value obtained by measuring the diameter of the convex part with the largest diameter when observed with a laser microscope in one field of view at 400 times magnification.

[0076] 레이저 현미경으로 이형층의 표면을 평면 관찰하였을 때, 볼록부의 원형도는 0.7 이상인 것이 바람직하고, 0.8 이상인 것이 보다 바람직하다. 「원형도」는, 하기 식에 의해 구해지는 값이며, 입자 형상의 복잡함을 나타내는 지표이다. 원형도가 1에 가까울수록 입자 형상이 진원에 가까운 것을 의미한다.[0076] When the surface of the release layer is observed on a plane using a laser microscope, the circularity of the convex portion is preferably 0.7 or more, and more preferably 0.8 or more. “Circularity” is a value obtained by the following formula, and is an index showing the complexity of the particle shape. The closer the circularity is to 1, the closer the particle shape is to the perfect circle.

원형도=4π×(면적)÷(주위 길이)2 Circularity = 4π × (area) ÷ (peripheral length) 2

[0077] 볼록부의 원형도는, 레이저 현미경으로 관찰하였을 때, 10개의 볼록부에 대해 원형도를 측정하고, 그 산술 평균치로 한다. 볼록부의 원형도는, 필요에 따라 공지된 화상 해석 수단을 이용하여 산출할 수 있다.[0077] The circularity of the convex portion is measured for 10 convex portions when observed with a laser microscope, and is taken as the arithmetic average value. The circularity of the convex portion can be calculated using known image analysis means, if necessary.

[0078] 도 2의 샘플 G1에 나타낸 바와 같이, 필러를 첨가하는 종래의 이형 필름의 경우에는, 필러끼리 응집되기 쉬워 볼록부의 원형도가 낮아지기 쉽다.[0078] As shown in sample G1 in FIG. 2, in the case of a conventional release film to which fillers are added, the fillers tend to agglomerate and the circularity of the convex portions tends to decrease.

[0079] 이형층의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 1㎛ 이상인 것이 바람직하고, 3㎛ 이상인 것이 보다 바람직하고, 5㎛ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 이형층의 두께가 1㎛ 이상이면, 전자 부품에 대한 점착력이 충분히 얻어져, 시일재의 침입이 효과적으로 억제된다.[0079] The thickness of the release layer is not particularly limited, and is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more, and even more preferably 5 μm or more. If the thickness of the release layer is 1 μm or more, sufficient adhesion to the electronic component is obtained and penetration of the seal material is effectively suppressed.

이형층의 두께는 50㎛ 이하여도 되고, 25㎛ 이하여도 된다. 이형층의 두께가 50㎛ 이하이면, 이형층의 열경화 시의 열수축 응력이 발생하기 어려워, 이형 필름의 평탄성이 유지되기 쉽다. 또한, 이형 필름이 도전층을 가지고 있는 경우에는, 이형층 표면의 도전층으로부터의 거리가 너무 멀지 않아 표면 저항률이 낮게 유지되어, 전자 부품의 정전 파괴가 효과적으로 억제된다.The thickness of the release layer may be 50 μm or less and may be 25 μm or less. If the thickness of the release layer is 50 μm or less, heat shrinkage stress is unlikely to occur during heat curing of the release layer, and the flatness of the release film is likely to be maintained. Additionally, when the release film has a conductive layer, the surface resistivity of the release layer is not too far from the conductive layer, so the surface resistivity is maintained low, and electrostatic destruction of the electronic component is effectively suppressed.

이형층의 형성 용이성(도포성 등), 점착력의 확보 등을 종합적으로 고려하면, 이형층의 두께는 1㎛∼50㎛인 것이 바람직하고, 3㎛∼25㎛인 것이 보다 바람직하다.When comprehensively considering the ease of forming the release layer (applicability, etc.) and ensuring adhesive strength, the thickness of the release layer is preferably 1 μm to 50 μm, and more preferably 3 μm to 25 μm.

[0080] 본 개시의 실시형태의 효과를 최대화하는 관점에서 보면, 이형층은 필러를 포함하지 않는 것이 바람직하지만, 필러를 포함해도 된다. 필러를 이용하는 경우에는, 유기 필러 및 무기 필러 중 적어도 하나(一方)면 된다. 필러의 함유율은, 예컨대, 이형층 중에 있어서 1체적% 이하, 0.5체적% 이하, 0.1체적% 이하면 된다.[0080] From the viewpoint of maximizing the effect of the embodiment of the present disclosure, the release layer preferably does not contain a filler, but may contain a filler. When using a filler, at least one of an organic filler and an inorganic filler may be used. The filler content may be, for example, 1 volume% or less, 0.5 volume% or less, and 0.1 volume% or less in the release layer.

이형층에 있어서의 필러의 함유율(체적%)은, 아르키메데스법에 따라 측정한 밀도 및 수지 성분 및 필러의 비중에 근거하여 산출할 수 있다.The filler content (volume %) in the release layer can be calculated based on the density measured according to the Archimedes method and the specific gravity of the resin component and filler.

[0081] (이형층의 파단 신장률)[0081] (Elongation at break of release layer)

이형층의 파단 신장률은, 100% 이상이며, 120% 이상인 것이 바람직하고, 150% 이상인 것이 보다 바람직하다. 이형층의 파단 신장률은, 예컨대, 이형층이 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머를 적어도 1종 함유하는 경우는, 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 배합량에 의해 조정할 수 있다. 이형층의 파단 신장률의 상한치는 특별히 한정되지 않으며, 예컨대, 800% 이하여도 되고, 500% 이하여도 되고, 300% 이하여도 된다.The breaking elongation of the release layer is 100% or more, preferably 120% or more, and more preferably 150% or more. The breaking elongation of the release layer can be adjusted, for example, by the compounding amount of the nitrile group-containing (meth)acrylic polymer when the release layer contains at least one type of nitrile group-containing (meth)acrylic polymer. The upper limit of the breaking elongation of the release layer is not particularly limited, and may be, for example, 800% or less, 500% or less, or 300% or less.

[0082] 이형 필름의 이형층의 파단 신장률(%)은 하기와 같이 하여 측정된다. 우선, 이형 필름을 이용하여 도 5에 나타낸 바와 같은 형상의 시험편을 제작한다. 이 시험편의 양단(兩端)을 시험기로 잡아 인장 시험을 실시한다. 측정은 170℃의 조건하에서 행하고, 인장 속도는 200㎜/분으로 한다. 시험 전의 샘플의 표점(標點) 간 거리 A(도 5에 나타낸 시험편의 폭이 10㎜인 부분의 길이: 40㎜)와 이형층이 파단되었을 때의 표점 간 거리 B로부터, 하기 식에 의해 이형층의 파단 신장률을 산출한다.[0082] The elongation at break (%) of the release layer of the release film is measured as follows. First, a test piece of the shape shown in FIG. 5 is produced using a release film. A tensile test is performed by holding both ends of this test piece with a testing machine. The measurement is conducted under conditions of 170°C, and the tensile speed is 200 mm/min. From the distance A between the gauges of the sample before the test (the length of the portion where the width of the test piece shown in Figure 5 is 10 mm: 40 mm) and the distance B between the gauges when the release layer is fractured, the release layer is obtained by the following formula: Calculate the elongation at break.

[0083][0083]

[0084] 이형 필름의 이형층의 파단 신장률의 측정에는, 예컨대, ORIENTEC CO., LTD.에서 제조된 「TENSILON 인장 시험기 RTA-100형」, A&D Company, Limited에서 제조된 「TENSILON 만능 시험기 RTG-1210」 또는 이와 유사한 시험기로서, 집는 도구를 가지는 것을 사용한다.[0084] To measure the elongation at break of the release layer of the release film, for example, "TENSILON tensile tester RTA-100 type" manufactured by ORIENTEC CO., LTD., and "TENSILON universal tester RTG-1210" manufactured by A&D Company, Limited. 」 or a similar testing machine with a gripping tool is used.

[0085] (이형층의 표면 거칠기)[0085] (Surface roughness of release layer)

이형층의 외표면(기재층과 대향(對向)하는 면과는 반대 측의 면)의 산술 평균 거칠기(Ra)는, 0.2㎛ 이상이며, 0.25㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.3㎛ 이상인 것이 보다 바람직하다. 산술 평균 거칠기(Ra)의 상한치는 특별히 한정되지 않으며, 예컨대, 2.5㎛ 이하여도 되고, 2.0㎛ 이하여도 되고, 1.5㎛ 이하여도 된다.The arithmetic mean roughness (Ra) of the outer surface of the release layer (the surface opposite to the surface facing the base layer) is 0.2 μm or more, preferably 0.25 μm or more, and more preferably 0.3 μm or more. do. The upper limit of the arithmetic mean roughness (Ra) is not particularly limited, and may be, for example, 2.5 μm or less, 2.0 μm or less, or 1.5 μm or less.

[0086] 이형층의 외표면의 산술 평균 거칠기(Ra)는, 표면 거칠기 측정 장치(예컨대, Kosaka Laboratory Ltd., 형번 SE-3500)를 이용하여, 촉침(觸針) 선단 직경 2㎛, 이송 속도 0.5㎜/s 및 주사(走査) 거리 8㎜의 조건에서 측정한 결과를, JIS B0601(1994) 또는 ISO 4287(1997)에 의해 해석하여 얻을 수 있다.[0086] The arithmetic average roughness (Ra) of the outer surface of the release layer was measured using a surface roughness measuring device (e.g., Kosaka Laboratory Ltd., model number SE-3500), with a stylus tip diameter of 2 μm and a transfer speed. The results measured under the conditions of 0.5 mm/s and a scanning distance of 8 mm can be obtained by analyzing according to JIS B0601 (1994) or ISO 4287 (1997).

이형층의 외표면의 산술 평균 거칠기(Ra)는, 이형층에 포함되는 폴리머의 배합 비율, 이형층의 두께, 가교제를 이용하는 경우에는 가교제량, 촉매를 이용하는 경우에는 촉매량 등에 의해 조절할 수 있다.The arithmetic mean roughness (Ra) of the outer surface of the release layer can be adjusted by the mixing ratio of the polymer contained in the release layer, the thickness of the release layer, the amount of the crosslinking agent when using a crosslinking agent, and the amount of catalyst when using a catalyst.

[0087] [기재층] [0087] [Base layer]

기재층으로서는 특별히 한정되지 않으며, 해당 기술 분야에서 사용되고 있는 기재층으로부터 적절히 선택할 수 있다. 금형의 형상에 대한 추종성을 향상시키는 관점에서 보면, 연신성(延伸性)이 우수한 수지 함유 기재층을 사용하는 것이 바람직하다.The base layer is not particularly limited and can be appropriately selected from base layers used in the relevant technical field. From the viewpoint of improving followability to the shape of the mold, it is preferable to use a resin-containing base layer with excellent stretchability.

기재층은, 시일재의 성형을 위한 가열 온도(100℃∼200℃ 정도)를 고려하여, 이 가열 온도 이상의 내열성을 가지는 것이 바람직하다. 또한, 이형 필름을 금형에 장착할 때 및 시일재가 유동할 때에 주름, 찢어짐 등의 발생을 억제하는 관점에서 보면, 가열 시의 탄성률, 신장 등을 고려하여 기재층의 재료를 선택하는 것이 바람직하다.Considering the heating temperature (about 100°C to 200°C) for forming the seal material, the base material layer preferably has heat resistance equal to or higher than this heating temperature. Additionally, from the viewpoint of suppressing the occurrence of wrinkles, tears, etc. when the release film is mounted on the mold and when the seal material flows, it is desirable to select the material of the base layer in consideration of the elastic modulus and elongation during heating.

[0088] 기재층의 재료는, 내열성 및 가열 시의 탄성률의 관점에서 보면, 폴리에스테르 수지인 것이 바람직하다. 폴리에스테르 수지의 예로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트 수지 및 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지 그리고 이들의 공중합체 및 변성 수지를 들 수 있다.[0088] The material of the base layer is preferably polyester resin from the viewpoint of heat resistance and elastic modulus when heated. Examples of polyester resins include polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, and polybutylene terephthalate resin, as well as copolymers and modified resins thereof.

[0089] 기재층은 시트 형상인 것이 바람직하고, 폴리에스테르 수지를 시트 형상으로 성형한 것이 바람직하고, 폴리에스테르 필름인 것이 보다 바람직하고, 금형에 대한 추종성의 관점에서 보면, 2축 연신 폴리에스테르 필름인 것이 바람직하다.[0089] The base layer is preferably in the form of a sheet, preferably is a polyester resin molded into a sheet shape, is more preferably a polyester film, and from the viewpoint of followability to the mold, is a biaxially stretched polyester film. It is desirable to be

[0090] 기재층의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 5㎛∼200㎛인 것이 바람직하고, 10㎛∼100㎛인 것이 보다 바람직하다. 두께가 5㎛ 이상이면, 취급성이 우수하고, 주름이 생기기 어려운 경향이 있다. 두께가 100㎛ 이하이면, 성형 시의 금형에 대한 추종성이 우수하기 때문에, 성형된 반도체 패키지의 주름 등의 발생이 억제되는 경향이 있다.[0090] The thickness of the base layer is not particularly limited, and is preferably 5 μm to 200 μm, and more preferably 10 μm to 100 μm. If the thickness is 5 μm or more, handling is excellent and wrinkles tend to be difficult to form. If the thickness is 100 μm or less, the followability to the mold during molding is excellent, so the occurrence of wrinkles, etc. in the molded semiconductor package tends to be suppressed.

[0091] [기타의 구성] [0091] [Other composition]

기재층의 재질에 따라서는, 금형으로부터 이형 시트를 박리하기 용이하도록 설계하는 것이 바람직하다. 예컨대, 기재층의 이형층과 접하는 반대의 면, 즉 기재층의 금형 측의 면에, 새틴 마무리(satin finish) 가공 등의 표면 가공을 실시하거나, 다른 이형층(제2 이형층)을 형성하거나 해도 된다. 제2 이형층의 재료로서는, 금형으로부터의 박리성, 내열성 등을 만족하는 재료이면 특별히 한정하지 않으며, 상술한 이형층(이하 「특정 이형층」이라고도 함)과 동일한 재료를 사용해도 된다. 제2 이형층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 0.1㎛∼100㎛인 것이 바람직하다.Depending on the material of the base layer, it is desirable to design the release sheet so that it is easy to peel from the mold. For example, surface processing such as satin finish processing is performed on the surface opposite to the base layer in contact with the release layer, that is, the mold side surface of the base layer, or another release layer (second release layer) is formed. You can do it. The material of the second release layer is not particularly limited as long as it satisfies peelability from the mold, heat resistance, etc., and the same material as the above-mentioned release layer (hereinafter also referred to as “specific release layer”) may be used. The thickness of the second release layer is not particularly limited, but is preferably 0.1 μm to 100 μm.

[0092] 또한, 필요에 따라, 특정 이형층과 기재층 사이, 기재층과 제2 이형층 사이 등에, 앵커링 향상층, 대전 방지층, 착색층 등을 형성해도 된다.[0092] Additionally, if necessary, an anchoring improvement layer, an antistatic layer, a colored layer, etc. may be formed between a specific release layer and the base material layer, between the base material layer and the second release layer, etc.

[0093] <이형 필름의 제조 방법>[0093] <Method for manufacturing release film>

본 개시의 이형 필름은, 공지된 방법에 의해 제조할 수 있다. 예컨대, 이형층 형성용 조성물을 기재층에 부여하고, 건조시킴으로써, 본 개시의 이형 필름을 제조할 수 있다. 이형층 형성용 조성물은, 상술한 적어도 2종의 폴리머를 포함하며, 나아가 기타의 수지 성분, 및 원하는 바에 따라 첨가되는 기타의 성분을 포함하고 있어도 된다.The release film of this disclosure can be manufactured by a known method. For example, the release film of the present disclosure can be manufactured by applying the composition for forming a release layer to the base layer and drying it. The composition for forming a release layer contains at least two types of polymers described above, and may further contain other resin components and other components added as desired.

[0094] [이형층 형성용 조성물의 조제] [0094] [Preparation of composition for forming release layer]

이형층 형성용 조성물의 조제 방법은 특별히 제한되지 않으며, 공지된 조성물 조제 방법을 사용할 수 있다. 이형층 형성용 조성물의 조제에 사용하는 용매는 특별히 한정되지 않으며, 폴리머를 용해할 수 있는 유기 용매인 것이 바람직하다. 유기 용매로서는, 톨루엔, 메틸에틸케톤, 아세트산에틸 등을 들 수 있다.The method for preparing the composition for forming a release layer is not particularly limited, and known composition preparation methods can be used. The solvent used in preparing the composition for forming a release layer is not particularly limited, and it is preferable that it is an organic solvent capable of dissolving the polymer. Examples of organic solvents include toluene, methyl ethyl ketone, and ethyl acetate.

[0095] [부여 및 건조] [0095] [Grant and Dry]

이형층 형성용 조성물을 기재층에 부여하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 롤 코팅법, 바 코팅, 키스 코팅 등의 공지된 도포 방법을 사용할 수 있다. 이형층 형성용 조성물의 부여량은, 건조 후에 형성되는 조성물층의 두께가 목적으로 하는 이형층의 두께(예컨대, 1㎛∼50㎛)에 가까워지도록 적절히 조정하는 것이 바람직하다.The method of applying the composition for forming a release layer to the base layer is not particularly limited, and known application methods such as roll coating, bar coating, and kiss coating can be used. The amount of the composition for forming a release layer is preferably adjusted appropriately so that the thickness of the composition layer formed after drying is close to the thickness of the target release layer (for example, 1 μm to 50 μm).

부여된 이형층 형성용 조성물을 건조시키는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 공지된 건조 방법을 사용할 수 있다. 예컨대, 50℃∼150℃에서 0.1분∼60분간 건조시키는 방법이어도 된다.The method of drying the provided composition for forming a release layer is not particularly limited, and a known drying method can be used. For example, drying at 50°C to 150°C for 0.1 to 60 minutes may be used.

[0096] <이형 필름의 용도>[0096] <Use of release film>

본 개시의 이형 필름은, 반도체 칩을 시일재로 시일할 때 이용한다. 본 개시의 이형 필름은, 트랜스퍼 몰딩 또는 컴프레션 몰딩에 이용되는 것이 바람직하다.The release film of the present disclosure is used when sealing a semiconductor chip with a sealant. The release film of the present disclosure is preferably used for transfer molding or compression molding.

[0097] 본 개시의 이형 필름을 이용함으로써, 반도체 패키지에 대한 손상을 억제하면서 금형으로부터 반도체 패키지(성형품)를 용이하게 꺼내는 것이 가능하다. 또한, 본 개시의 이형 필름을 이용함으로써, 반도체 패키지(성형품)의 표면에 있어서 시일재의 플로 마크가 억제되어, 외관의 균일성이 우수하다. 나아가, 이형 필름에 대해 신장성이 요구되는 상황에서의 사용에 있어서도, 이형층의 파단이 억제되기 때문에, 이러한 사용 형태여도 반도체 패키지에 대한 손상을 억제하면서 금형으로부터 반도체 패키지(성형품)를 용이하게 꺼내는 것이 가능하다.[0097] By using the release film of the present disclosure, it is possible to easily take out the semiconductor package (molded product) from the mold while suppressing damage to the semiconductor package. In addition, by using the release film of the present disclosure, flow marks of the seal material are suppressed on the surface of the semiconductor package (molded product), and the uniformity of the appearance is excellent. Furthermore, even when used in situations where extensibility of the release film is required, rupture of the release layer is suppressed, so even in this form of use, the semiconductor package (molded product) can be easily removed from the mold while suppressing damage to the semiconductor package. It is possible.

[0098] <반도체 패키지의 제조 방법>[0098] <Method of manufacturing semiconductor package>

본 개시의 반도체 패키지의 제조 방법에서는, 본 발명의 이형 필름을 이용하여, 트랜스퍼 몰딩 공정 또는 컴프레션 몰딩 공정을 행한다.In the semiconductor package manufacturing method of the present disclosure, a transfer molding process or a compression molding process is performed using the release film of the present invention.

[0099] 반도체 패키지의 제조 방법에서는, 우선, 성형 장치의 금형에 상술한 본 개시의 이형 필름을 배치하고, 이형 필름을 금형의 형상에 추종시킨다. 이형 필름을 금형의 형상에 추종시키는 방법으로서는, 진공 흡착 등을 들 수 있다.[0099] In the method of manufacturing a semiconductor package, first, the release film of the present disclosure described above is placed on a mold of a molding device, and the release film is made to follow the shape of the mold. A method of making the release film follow the shape of the mold includes vacuum adsorption.

[0100] 그리고, 이형 필름을 추종시킨 금형 내에서 반도체 칩을 시일재로 시일한다. 금형 내에 반도체 칩과 이형 필름을 배치한 상태에서, 반도체 칩을 시일재로 시일함으로써 반도체 패키지를 제조할 수 있다. 반도체 패키지의 제조 후, 금형을 개방하여 성형된 반도체 패키지를 꺼낸다.[0100] Then, the semiconductor chip is sealed with a sealant within the mold following the release film. A semiconductor package can be manufactured by placing a semiconductor chip and a release film in a mold and sealing the semiconductor chip with a sealant. After manufacturing the semiconductor package, the mold is opened and the molded semiconductor package is taken out.

[0101] 본 개시의 반도체 패키지의 제조 방법에서는, 본 개시의 이형 필름을 이용하기 때문에, 반도체 패키지의 표면에 있어서 시일재의 플로 마크가 억제되어, 외관의 균일성이 우수한 반도체 패키지를 얻을 수 있다. 또한, 이형 필름에 대해 신장성이 요구되는 상황에서 사용해도 이형층의 파단이 억제되기 때문에, 반도체 패키지에 대한 손상을 억제하면서 금형으로부터 반도체 패키지를 용이하게 꺼내는 것이 가능하다.[0101] In the method for manufacturing a semiconductor package of the present disclosure, since the release film of the present disclosure is used, flow marks of the seal material are suppressed on the surface of the semiconductor package, and a semiconductor package with excellent uniformity in appearance can be obtained. In addition, since fracture of the release layer is suppressed even when used in situations where extensibility of the release film is required, it is possible to easily remove the semiconductor package from the mold while suppressing damage to the semiconductor package.

[0102] 상기 방법에 있어서 사용되는 반도체 칩으로서는, 예컨대, 반도체 소자, 콘덴서, 단자 등을 들 수 있다. 상기 방법에 있어서 사용하는 시일재의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예컨대, 에폭시 수지, 아크릴 수지 등을 포함하는 수지 조성물을 들 수 있다.[0102] Examples of semiconductor chips used in the above method include semiconductor elements, condensers, terminals, etc. The type of sealing material used in the above method is not particularly limited, and examples include resin compositions containing epoxy resin, acrylic resin, etc.

[실시예][Example]

[0103] 이하, 실시예를 참조하여 본 발명을 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이들 실시예에 제한되는 것은 아니다.[0103] Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

[0104] (합성 수지 1∼4의 합성)[0104] (Synthesis of synthetic resins 1 to 4)

하기 표 1에 나타낸 모노머를 표 1에 나타낸 배합량(질량부)만큼 이용하여, 용액 중합에 의해 공중합시켜 합성 수지 1∼4를 얻었다.The monomers shown in Table 1 below were used in the amounts (parts by mass) shown in Table 1, and were copolymerized by solution polymerization to obtain synthetic resins 1 to 4.

얻어진 합성 수지 1∼4에 대해, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 있어서 표준 폴리스티렌 환산에 의해 수 평균 분자량 Mn과 중량 평균 분자량 Mw를 측정하였다.For the obtained synthetic resins 1 to 4, the number average molecular weight Mn and the weight average molecular weight Mw were measured by standard polystyrene conversion using gel permeation chromatography (GPC).

얻어진 합성 수지 1∼4에 대한 SP값을 표 1에 나타낸다.The SP values for the obtained synthetic resins 1 to 4 are shown in Table 1.

[0105] [표 1] [0105] [Table 1]

[0106] 표 1 중의 모노머는 이하를 나타낸다.[0106] The monomers in Table 1 are shown below.

·BA: 아크릴산부틸BA: Butyl acrylate

·4-HBA: 아크릴산4-히드록시부틸4-HBA: 4-hydroxybutyl acrylate

·MMA: 메타크릴산메틸MMA: Methyl methacrylate

·2-HEA: 아크릴산2-히드록시에틸2-HEA: 2-hydroxyethyl acrylate

·2-HEMA: 메타크릴산2-히드록시에틸2-HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate

·AN: 아크릴산니트릴·AN: Acrylic acid nitrile

[0107] <실시예 1>[0107] <Example 1>

합성 수지 1(85질량부)과 합성 수지 3(15질량부)의 합계 배합량 100질량부에 대해, 가교제로서의 CORONATE L(Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., 상품명) 20질량부를 톨루엔에 첨가하여 고형분 15질량%의 톨루엔 용액으로 하여, 이형층 형성용 조성물을 조제하였다. 기재층으로서, 두께가 38㎛인 2축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(UNITIKA LTD.: S-38)을 이용하여, 코로나 처리하였다. 그 후, 기재층의 한쪽 면(片面)에, 롤 코터를 이용하여, 건조 후의 평균 두께가 20㎛가 되도록 이형층 형성용 조성물을 도포 및 건조해서 이형층을 형성하여, 이형 필름을 얻었다.For a total of 100 parts by mass of synthetic resin 1 (85 parts by mass) and synthetic resin 3 (15 parts by mass), 20 parts by mass of CORONATE L (Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., brand name) as a crosslinking agent was added to toluene to adjust the solid content. A composition for forming a release layer was prepared as a 15% by mass toluene solution. As a base layer, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (UNITIKA LTD.: S-38) with a thickness of 38 μm was used and subjected to corona treatment. After that, the composition for forming a release layer was applied and dried on one side of the base material layer using a roll coater so that the average thickness after drying was 20 μm to form a release layer, thereby obtaining a release film.

[0108] <실시예 2>[0108] <Example 2>

이형층의 건조 후의 평균 두께를 10㎛로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 1, except that the average thickness of the release layer after drying was 10 μm.

[0109] <실시예 3>[0109] <Example 3>

이형층의 건조 후의 평균 두께를 5㎛로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the average thickness after drying of the release layer was 5 μm.

[0110] <실시예 4>[0110] <Example 4>

합성 수지 1(90질량부) 및 합성 수지 3(10질량부)으로 한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 3 except that synthetic resin 1 (90 parts by mass) and synthetic resin 3 (10 parts by mass) were used.

[0111] <실시예 5>[0111] <Example 5>

합성 수지 1(80질량부)과 합성 수지 3(20질량부)의 합계 배합량 100질량부에 대해, 가교제를 10질량부로 한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 3, except that the crosslinking agent was used in an amount of 100 parts by mass for a total of 100 parts by mass of synthetic resin 1 (80 parts by mass) and synthetic resin 3 (20 parts by mass).

[0112] <실시예 6>[0112] <Example 6>

합성 수지 1(80질량부)과 합성 수지 3(20질량부)의 합계 배합량 100질량부에 대해, 가교제를 30질량부로 한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 3, except that the crosslinking agent was changed to 30 parts by mass for a total of 100 parts by mass of synthetic resin 1 (80 parts by mass) and synthetic resin 3 (20 parts by mass).

<실시예 7><Example 7>

합성 수지 1(50질량부) 및 합성 수지 3(50질량부)으로 한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 3 except that synthetic resin 1 (50 parts by mass) and synthetic resin 3 (50 parts by mass) were used.

[0113] <실시예 8>[0113] <Example 8>

합성 수지 1(20질량부) 및 합성 수지 3(80질량부)으로 한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 3 except that synthetic resin 1 (20 parts by mass) and synthetic resin 3 (80 parts by mass) were used.

[0114] <실시예 9>[0114] <Example 9>

합성 수지 1(10질량부) 및 합성 수지 3(90질량부)으로 한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 3 except that synthetic resin 1 (10 parts by mass) and synthetic resin 3 (90 parts by mass) were used.

[0115] <실시예 10>[0115] <Example 10>

합성 수지 1(80질량부) 및 합성 수지 4(20질량부)로 한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 3 except that synthetic resin 1 (80 parts by mass) and synthetic resin 4 (20 parts by mass) were used.

[0116] <실시예 11>[0116] <Example 11>

합성 수지 1(80질량부)과 합성 수지 4(20질량부)의 합계 배합량 100질량부에 대해, 가교제를 30질량부로 한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 3, except that the crosslinking agent was changed to 30 parts by mass for a total of 100 parts by mass of synthetic resin 1 (80 parts by mass) and synthetic resin 4 (20 parts by mass).

[0117] <실시예 12>[0117] <Example 12>

합성 수지 1(50질량부)과 합성 수지 4(50질량부)의 합계 배합량 100질량부에 대해, 가교제를 20질량부로 한 것 이외에는, 실시예 3과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 3, except that the crosslinking agent was changed to 20 parts by mass for a total of 100 parts by mass of synthetic resin 1 (50 parts by mass) and synthetic resin 4 (50 parts by mass).

[0118] <실시예 13>[0118] <Example 13>

합성 수지 1(20질량부)과 합성 수지 4(80질량부)의 합계 배합량 100질량부에 대해, 가교제를 20질량부로 한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 3, except that the crosslinking agent was changed to 20 parts by mass for a total of 100 parts by mass of synthetic resin 1 (20 parts by mass) and synthetic resin 4 (80 parts by mass).

[0119] <실시예 14>[0119] <Example 14>

합성 수지 3(22질량부)과 합성 수지 4(78질량부)의 합계 배합량 100질량부에 대해, 가교제를 2.2질량부로 한 것 이외에는, 실시예 3과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 3, except that the crosslinking agent was changed to 2.2 parts by mass for a total of 100 parts by mass of synthetic resin 3 (22 parts by mass) and synthetic resin 4 (78 parts by mass).

[0120] <비교예 1>[0120] <Comparative Example 1>

합성 수지 1(80질량부)과 합성 수지 2(20질량부)의 합계 배합량 100질량부에 대해, 가교제를 10질량부로 한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 3, except that the crosslinking agent was used in an amount of 100 parts by mass for a total of 100 parts by mass of synthetic resin 1 (80 parts by mass) and synthetic resin 2 (20 parts by mass).

[0121] <비교예 2>[0121] <Comparative Example 2>

합성 수지 2(100질량부)에 대해, 가교제를 40질량부와, 필러로서 MX-500(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd., 상품명, 아크릴 입자, 평균 입자 직경 5㎛)을 15질량부로 한 것 이외에는, 실시예 3과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.With respect to synthetic resin 2 (100 parts by mass), 40 parts by mass of a crosslinking agent and 15 parts by mass of MX-500 (Soken Chemical & Engineering Co., Ltd., brand name, acrylic particles, average particle diameter of 5 μm) as a filler. Except for this, a release film was produced in the same manner as in Example 3.

[0122] <비교예 3>[0122] <Comparative Example 3>

합성 수지 1(100질량부)에 대해, 가교제를 10질량부로 한 것 이외에는, 실시예 3과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 3, except that the crosslinking agent was adjusted to 10 parts by mass relative to synthetic resin 1 (100 parts by mass).

[0123] <비교예 4>[0123] <Comparative Example 4>

합성 수지 3(100질량부)에 대해, 가교제를 20질량부로 한 것 이외에는, 실시예 3과 동일하게 하여, 이형 필름을 제작하였다.A release film was produced in the same manner as in Example 3, except that the crosslinking agent was adjusted to 20 parts by mass relative to synthetic resin 3 (100 parts by mass).

[0124] <평가 시험>[0124] <Evaluation test>

(이형층의 표면 거칠기(Ra))(Surface roughness (Ra) of release layer)

상술한 방법에 의해, 이형 필름의 이형층의 표면 거칠기(Ra)를 측정하였다. 측정에는 Kosaka Laboratory Ltd.에서 제조된 「표면 거칠기 측정기 SE-3500」을 사용하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.The surface roughness (Ra) of the release layer of the release film was measured by the method described above. For the measurement, “Surface Roughness Meter SE-3500” manufactured by Kosaka Laboratory Ltd. was used. The results are shown in Table 2.

[0125] (이형층의 파단 신장률)[0125] (Elongation at break of release layer)

상술한 방법에 의해, 이형 필름의 이형층의 파단 신장률을 측정하였다. 측정에는 ORIENTEC CO., LTD.에서 제조된 「TENSILON 인장 시험기 RTA-100형」을 사용하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.The breaking elongation of the release layer of the release film was measured by the method described above. For the measurement, “TENSILON tensile tester RTA-100 type” manufactured by ORIENTEC CO., LTD. was used. The results are shown in Table 2.

[0126] (EMC에 대한 이형성의 평가)[0126] (Evaluation of release properties for EMC)

이형 필름의 시일재와의 성형 후의 이형성의 지표로서, 박리 각도 180°, 박리 속도 1000㎜/분으로 박리 시험을 행하였을 때의 박리력을 측정하였다. 결과를, 이하의 기준에 의해 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.As an index of the release properties of the release film after molding with the sealant, the peeling force was measured when a peeling test was performed at a peeling angle of 180° and a peeling speed of 1000 mm/min. The results were evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 2.

[0127] -평가 기준-[0127] -Evaluation criteria-

A: 150mN/50㎜ 미만 A: Less than 150mN/50mm

B: 150mN/50㎜ 이상 250mN/50㎜ 미만 B: More than 150mN/50mm but less than 250mN/50mm

C: 250mN/50㎜ 이상C: More than 250mN/50㎜

[0128] (이형층 파단의 평가)[0128] (Evaluation of release layer rupture)

이형 필름의 기재층 측에 SUS판(폭 50㎜, 두께 0.6㎜)을 대었다. 이형층 측에는 테플론(등록 상표)을 배치하고, 이형층과 테플론 사이에 시일재(Showa Denko Materials co., Ltd.: 상품명 「CEL-9750 ZHF10」)를 살포하였다. 또한 이형 필름의 이형층 측이 시일재에 닿도록 대고, 170℃, 12.6㎫의 가열 가압 처리를 5분간 행하였다.A SUS plate (width 50 mm, thickness 0.6 mm) was placed on the base layer side of the release film. Teflon (registered trademark) was placed on the release layer side, and a sealant (Showa Denko Materials co., Ltd.: brand name “CEL-9750 ZHF10”) was sprayed between the release layer and Teflon. Additionally, the release layer side of the release film was placed in contact with the sealant, and heat and pressure treatment at 170°C and 12.6 MPa was performed for 5 minutes.

성형한 패키지를 SUN ADVANCE CORPORATION에서 제조된 「탁상 핸드 커터 KPS-4002」로 절단하여, 에폭시 수지로 주형(注型)하였다. 주형한 패키지를 입도(粒度) P800, 1500, 2200의 연마지를 이용해서 연마하여 단면을 노출시켰다. 연마한 패키지 단면을 KEYENCE CORPORATION에서 제조된 「디지털 현미경 VHX-7000」으로 관찰하여, 이형층의 파단의 유무를 확인하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.The molded package was cut with a “tabletop hand cutter KPS-4002” manufactured by SUN ADVANCE CORPORATION, and molded with epoxy resin. The molded package was polished using abrasive paper with grain sizes of P800, 1500, and 2200 to expose the cross section. The polished package cross section was observed with a “digital microscope VHX-7000” manufactured by KEYENCE CORPORATION to confirm the presence or absence of fracture of the release layer. The results are shown in Table 2.

[0129] (플로 마크의 평가)[0129] (Evaluation of Flow Mark)

이형 필름의 이형층 측에 시일재(Showa Denko Materials co., Ltd.: 상품명 「CEL-9750 ZHF10」)를 대고, 180℃, 32㎫의 가열 가압 처리를 5분간 실시하였다. 처리 후의 패키지를 육안으로 관찰하여, 시일재에 의한 플로 마크의 유무를 확인하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.A sealant (Showa Denko Materials co., Ltd.: brand name "CEL-9750 ZHF10") was applied to the release layer side of the release film, and heat and pressure treatment at 180°C and 32 MPa was performed for 5 minutes. The package after treatment was observed with the naked eye to confirm the presence or absence of flow marks caused by the sealant. The results are shown in Table 2.

[0130] [표 2] [0130] [Table 2]

[0131] 표 2 중의 합성 수지, 가교제, 필러의 수치는, 배합량(질량부)을 나타낸다.[0131] The numerical values of synthetic resin, crosslinking agent, and filler in Table 2 represent the blending amount (parts by mass).

[0132] 표 2의 결과에 나타낸 바와 같이, 실시예 1∼14의 이형 필름은, 필러를 첨가한 비교예 2의 이형 필름과 동일한 정도 이상의 Ra를 가지며, 표면에 요철 형상을 가지고 있었다.[0132] As shown in the results in Table 2, the release films of Examples 1 to 14 had Ra of the same level or more as the release film of Comparative Example 2 to which filler was added, and had an uneven shape on the surface.

표 2의 결과에 나타낸 바와 같이, 실시예 1∼14의 이형 필름은, 비교예 1∼4의 이형 필름에 비해, 이형층의 파단이 없고, 플로 마크의 평가도 양호하였다.As shown in the results in Table 2, the release films of Examples 1 to 14 had no fracture of the release layer compared to the release films of Comparative Examples 1 to 4, and the flow mark evaluation was also good.

[0133] 10 : 기재층
20 : 이형층
30 : 이형 필름
[0133] 10: base layer
20: release layer
30: release film

Claims (16)

이형층과 기재층(基材層)을 포함하며,
상기 이형층의 파단 신장률이 100% 이상이고, 또한 상기 이형층의 표면 거칠기 Ra가 0.2㎛ 이상인 이형 필름.
Includes a release layer and a base layer,
A release film in which the release layer has an elongation at break of 100% or more, and the release layer has a surface roughness Ra of 0.2 μm or more.
제1항에 있어서,
상기 이형층이 2종 이상의 폴리머를 포함하며,
적어도 2종의 상기 폴리머의 SP값의 차이(差)가 0.3 이상인 이형 필름.
According to paragraph 1,
The release layer includes two or more polymers,
A release film in which the difference in SP values of at least two types of the above-mentioned polymers is 0.3 or more.
제1항에 있어서,
상기 이형층이 2종 이상의 폴리머를 포함하며,
상기 폴리머 중 적어도 1종은 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머인 이형 필름.
According to paragraph 1,
The release layer includes two or more types of polymers,
A release film wherein at least one of the polymers is a (meth)acrylic polymer containing a nitrile group.
제1항에 있어서,
상기 이형층이 2종 이상의 폴리머를 포함하고, 상기 2종 이상의 폴리머가, (메타)아크릴로일 모노머에서 유래하는 구성 단위를 가지는 (메타)아크릴 폴리머인 이형 필름.
According to paragraph 1,
A release film in which the release layer contains two or more types of polymers, and the two or more types of polymers are (meth)acrylic polymers having a structural unit derived from a (meth)acryloyl monomer.
제1항에 있어서,
하기 (1) 또는 (2) 중 적어도 하나를 만족하는, 이형 필름.
(1) 상기 이형층은, 성분 비율이 상이한 복수 종(種)의 영역을 가지며, 상기 상이한 복수 종의 영역에 있어서 라만 분광 측정을 행하였을 때, 상이한 복수 종의 영역의 적어도 일부에 있어서 각각 상이한 피크 강도를 나타냄.
(2) 상기 이형층의 표면은 요철 형상을 가지며, 볼록부와 오목부에 있어서 라만 분광 측정을 행하였을 때, 상기 볼록부의 적어도 일부와 상기 오목부의 적어도 일부에 있어서 각각 상이한 피크 강도를 나타냄.
According to paragraph 1,
A release film that satisfies at least one of the following (1) or (2).
(1) The release layer has a plurality of regions with different component ratios, and when Raman spectroscopic measurement is performed on the different plurality of species, at least a portion of the different plurality of species has different regions, respectively. Indicates peak intensity.
(2) The surface of the release layer has a concavo-convex shape, and when Raman spectroscopy is performed on the convex portion and the concave portion, different peak intensities are shown in at least a portion of the convex portion and at least a portion of the concave portion.
제5항에 있어서,
상기 상이한 복수 종의 영역의 적어도 일부에 있어서, 또는 상기 볼록부의 적어도 일부와 상기 오목부의 적어도 일부에 있어서, 폴리머의 성분 비율이 상이한, 이형 필름.
According to clause 5,
A release film in which polymer component ratios are different in at least a portion of the different types of regions, or in at least a portion of the convex portion and at least a portion of the concave portion.
제5항에 있어서,
상기 상이한 복수 종의 영역의 적어도 일부에 있어서, 또는 상기 볼록부의 적어도 일부와 상기 오목부의 적어도 일부에 있어서, 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 함유량이 상이한 이형 필름.
According to clause 5,
A release film in which the content of the nitrile group-containing (meth)acrylic polymer is different in at least a portion of the different types of regions, or in at least a portion of the convex portion and at least a portion of the concave portion.
제5항에 있어서,
상기 상이한 피크 강도를 나타내는 피크가, 니트릴기에서 유래하는 피크인 이형 필름.
According to clause 5,
A release film wherein the peaks showing the different peak intensities are peaks derived from a nitrile group.
제5항에 있어서,
상기 이형층의 표면은 요철 형상을 가지며, 상기 볼록부의 적어도 일부에 있어서의 니트릴기 유래의 피크 강도가, 상기 오목부의 적어도 일부에 있어서의 니트릴기 유래의 피크 강도보다 큰, 이형 필름.
According to clause 5,
A release film in which the surface of the release layer has a concave-convex shape, and the peak intensity derived from the nitrile group in at least part of the convex part is greater than the peak intensity derived from the nitrile group in at least part of the concave part.
제5항에 있어서,
상기 이형층의 표면은 요철 형상을 가지며, 상기 볼록부의 적어도 일부에 있어서의 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 질량 기준에서의 함유량은, 상기 오목부의 적어도 일부에 있어서의 니트릴기 함유 (메타)아크릴 폴리머의 질량 기준에서의 함유량보다 많은 이형 필름.
According to clause 5,
The surface of the release layer has an uneven shape, and the mass-based content of the nitrile group-containing (meth)acrylic polymer in at least part of the convex part is the nitrile group-containing (meth)acrylic polymer in at least part of the concave part. A release film containing more than the polymer content by mass.
제1항에 있어서,
상기 이형층이 2종 이상의 폴리머를 포함하며,
상기 폴리머 중 적어도 1종은, (메타)아크릴로니트릴 모노머에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 폴리머이고,
상기 폴리머 중 적어도 2종에 있어서, (메타)아크릴로니트릴 모노머에서 유래하는 구성 단위가 차지하는 비율의 차이가 1질량% 이상인 이형 필름.
According to paragraph 1,
The release layer includes two or more types of polymers,
At least one type of the polymer is a polymer containing a structural unit derived from a (meth)acrylonitrile monomer,
A release film in which at least two of the above polymers have a difference in proportions of structural units derived from (meth)acrylonitrile monomer of 1% by mass or more.
제1항에 있어서,
상기 이형층에 있어서 가장 함유량이 많은 폴리머의 함유율이, 상기 폴리머의 총 함유량에 대해 95질량% 이하인 이형 필름.
According to paragraph 1,
A release film in which the content of the polymer with the highest content in the release layer is 95% by mass or less with respect to the total content of the polymer.
제1항에 있어서,
상기 기재층이, 폴리에스테르 필름인 이형 필름.
According to paragraph 1,
A release film wherein the base material layer is a polyester film.
제1항에 있어서,
상기 이형층의 두께가 1㎛∼50㎛인, 이형 필름.
According to paragraph 1,
A release film wherein the release layer has a thickness of 1 μm to 50 μm.
제1항에 있어서,
상기 이형 필름이, 트랜스퍼 몰딩 또는 컴프레션 몰딩에 이용되는, 이형 필름.
According to paragraph 1,
The release film is used for transfer molding or compression molding.
제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 기재된 이형 필름을 이용하여, 트랜스퍼 몰딩 공정 또는 컴프레션 몰딩 공정을 행하는, 반도체 패키지의 제조 방법.A method of manufacturing a semiconductor package, comprising performing a transfer molding process or a compression molding process using the release film according to any one of claims 1 to 15.
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