KR20230172475A - optical laminate - Google Patents

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KR20230172475A
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유스케 기타가와
노부유키 하타나카
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스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
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Abstract

박형이면서, 피전사체에 전사할 때에 첩합 어긋남이나 주름의 발생을 억제하여, 임의의 피전사체에 용이하게 전사 가능한 광학 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다. 제 1 기재 필름, 제 1 응력 완화층, 편광층, 점접착층, 위상차층, 제 2 응력 완화층, 및 제 2 기재 필름을 이 순서대로 포함하는 광학 적층체로서, 제 1 응력 완화층과 제 2 응력 완화층 사이에 위치하는 층의 합계 두께가 20 ㎛ 이하이고, 제 1 응력 완화층의 저장 탄성률이 1.5 MPa 이하이고, 제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름이 모두 박리 가능한 기재 필름인, 광학 적층체.The purpose is to provide an optical laminated body that is thin and can be easily transferred to any transfer target body by suppressing the occurrence of bonding misalignment or wrinkles when transferring to a transfer target body. An optical laminate comprising a first base film, a first stress relief layer, a polarizing layer, a point adhesive layer, a retardation layer, a second stress relief layer, and a second base film in this order, wherein the first stress relief layer and the second Optical lamination, wherein the total thickness of the layers located between the stress relief layers is 20 μm or less, the storage modulus of the first stress relief layer is 1.5 MPa or less, and both the first base film and the second base film are peelable base films. sifter.

Description

광학 적층체optical laminate

본 발명은, 전사 가능한 광학 적층체에 관한 것이다.The present invention relates to a transferable optical laminate.

유기 EL 표시 장치 등의 플랫 패널 표시 장치 (FPD) 에는, 편광막과 위상차막을 포함하는 원 편광판이 널리 사용되고 있다. 이와 같은 원 편광판으로서, 편광막 및/또는 위상차막이, 중합성 액정 화합물을 기재 상에 도포하여 중합시킴으로써 얻어지는 코팅층으로 이루어지는 광학 이방성층인 광학 적층체가 알려져 있다 (특허문헌 1 ∼ 5).A circularly polarizing plate containing a polarizing film and a retardation film is widely used in flat panel displays (FPD) such as organic EL displays. As such a circularly polarizing plate, an optical laminate in which the polarizing film and/or the retardation film is an optically anisotropic layer composed of a coating layer obtained by applying a polymerizable liquid crystal compound onto a substrate and polymerizing it is known (Patent Documents 1 to 5).

일본 공개특허공보 2014-63143호Japanese Patent Publication No. 2014-63143 일본 공개특허공보 2017-83843호Japanese Patent Publication No. 2017-83843 일본 공개특허공보 2020-56834호Japanese Patent Publication No. 2020-56834 일본 공개특허공보 2019-91088호Japanese Patent Publication No. 2019-91088 일본 공개특허공보 2020-13164호Japanese Patent Publication No. 2020-13164

상기 특허문헌에 개시되는 바와 같은 광학 적층체는, 기재 상에 형성된 광학 이방성층을 피전사체에 전사하는 것, 즉, 상기 기재를 박리하고, 점접착층 등을 개재하여 피전사체에 첩합 (貼合) 함으로써 표시 장치 등에 장착할 수 있다.The optical laminate as disclosed in the above patent document transfers an optically anisotropic layer formed on a substrate to a transfer target, that is, peeling the substrate and bonding it to the transfer target through a point adhesive layer or the like. By doing so, it can be mounted on a display device, etc.

그러나, 광학 적층체가 박형화되면 핸들링이 어려워지는 경향이 있고, 기재를 박리하고 광학 이방성층을 피전사체에 전사할 때, 첩합 어긋남이나 주름이 생기는 등의 문제가 발생하는 경우가 있다.However, as the optical laminate becomes thinner, handling tends to become difficult, and when peeling the substrate and transferring the optically anisotropic layer to the transfer target, problems such as bonding misalignment or wrinkles may occur.

본 발명은, 박형이면서, 피전사체에 전사할 때에 첩합 어긋남이나 주름의 발생을 억제하여, 임의의 피전사체에 용이하게 전사 가능한 광학 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다.The purpose of the present invention is to provide an optical laminated body that is thin and can be easily transferred to any transfer target by suppressing the occurrence of misalignment or wrinkles when transferring to a transfer target.

본 발명자 등은, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토한 결과, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명은, 이하의 양태를 포함한다.As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors and others have completed the present invention. That is, the present invention includes the following aspects.

[1] 제 1 기재 필름, 제 1 응력 완화층, 편광층, 점접착층, 위상차층, 제 2 응력 완화층, 및 제 2 기재 필름을 이 순서대로 포함하는 광학 적층체로서,[1] An optical laminate comprising a first base film, a first stress relief layer, a polarizing layer, a point adhesive layer, a retardation layer, a second stress relief layer, and a second base film in this order,

제 1 응력 완화층과 제 2 응력 완화층 사이에 위치하는 층의 합계 두께가 20 ㎛ 이하이고,The total thickness of the layers located between the first stress relief layer and the second stress relief layer is 20 μm or less,

제 1 응력 완화층의 저장 탄성률이 1.5 MPa 이하이고,The storage modulus of the first stress relief layer is 1.5 MPa or less,

제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름이 모두 박리 가능한 기재 필름인, 광학 적층체.An optical laminate wherein both the first base film and the second base film are peelable base films.

[2] 제 1 응력 완화층과 편광층 사이에 추가로 확산 방지층을 포함하는, [1] 에 기재된 광학 적층체.[2] The optical laminate according to [1], further comprising a diffusion prevention layer between the first stress relief layer and the polarizing layer.

[3] 편광층이, 스멕틱 액정상을 나타내는 중합성 액정 화합물과 이색성 색소를 포함하는 중합성 액정 조성물의 액정 경화층인, [1] 또는 [2] 에 기재된 광학 적층체.[3] The optical laminate according to [1] or [2], wherein the polarizing layer is a liquid crystal cured layer of a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound exhibiting a smectic liquid crystalline phase and a dichroic dye.

[4] 위상차층이, 중합성 액정 화합물이 기재면 내에 대해 수평 방향으로 배향한 상태에서 경화된 수평 배향 액정 경화층인, [1] ∼ [3] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.[4] The optical laminate according to any one of [1] to [3], wherein the retardation layer is a horizontally aligned liquid crystal cured layer cured in a state in which a polymerizable liquid crystal compound is oriented horizontally with respect to the substrate surface.

[5] 제 1 기재 필름의 23 ℃ 에 있어서의 탄성률이 2,500 ∼ 6,000 MPa 인, [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.[5] The optical laminate according to any one of [1] to [4], wherein the first base film has an elastic modulus of 2,500 to 6,000 MPa at 23°C.

[6] 제 1 응력 완화층의 두께가 10 ∼ 80 ㎛ 인, [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.[6] The optical laminate according to any one of [1] to [5], wherein the first stress relief layer has a thickness of 10 to 80 μm.

[7] 제 1 응력 완화층의 두께 (T1) 와 제 2 응력 완화층의 두께 (T2) 가 식 (1) :[7] The thickness of the first stress relief layer (T1) and the thickness of the second stress relief layer (T2) are equation (1):

T1/T2 ≥ 1.0 (1) T1/T2 ≥ 1.0 (1)

을 만족하는, [1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.The optical laminate according to any one of [1] to [6], which satisfies the above.

[8] 광학 적층체로부터 제 1 기재 필름을 박리할 때의 박리력 (F1) 과 광학 적층체로부터 제 2 기재 필름을 박리할 때의 박리력 (F2) 이 식 (2) :[8] The peeling force (F1) when peeling the first base film from the optical laminate and the peeling force (F2) when peeling the second base film from the optical laminate are expressed in equation (2):

0.02 (N/25 ㎜) ≤ |F1 - F2| (2) 0.02 (N/25 ㎜) ≤ |F1 - F2| (2)

를 만족하는, [1] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.The optical laminate according to any one of [1] to [7], which satisfies the above.

[9] 확산 방지층의 두께가 5 ㎛ 이하인, [2] ∼ [8] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.[9] The optical laminate according to any one of [2] to [8], wherein the diffusion prevention layer has a thickness of 5 μm or less.

[10] 중합성 액정 화합물이 기재면 내에 대해 수직 방향으로 배향한 상태에서 경화된 수직 배향 액정 경화층을, 편광층과 제 2 응력 완화층 사이에 추가로 포함하는, [1] ∼ [9] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.[10] [1] to [9] further comprising a vertically oriented liquid crystal cured layer in which the polymerizable liquid crystal compound is oriented in a direction perpendicular to the substrate surface between the polarizing layer and the second stress relief layer. The optical laminate according to any one of the above.

본 발명에 의하면, 박형이면서, 피전사체에 전사할 때에 첩합 어긋남이나 주름의 발생을 억제하여, 임의의 피전사체에 용이하게 전사 가능한 광학 적층체를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide an optical laminated body that is thin and can be easily transferred to an arbitrary transfer target body by suppressing the occurrence of bonding misalignment or wrinkles when transferring to a transfer target body.

도 1 은, 본 발명의 광학 적층체의 층 구성의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 2 는, 본 발명의 광학 적층체의 층 구성의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the optical laminate of the present invention.
Fig. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the optical laminate of the present invention.

이하, 본 발명의 실시형태에 대하여, 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기서 설명하는 실시형태에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 취지를 저해하지 않는 범위에서 다양한 변경을 할 수 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In addition, the scope of the present invention is not limited to the embodiments described herein, and various changes can be made without impairing the spirit of the present invention.

본 발명의 광학 적층체는, 제 1 기재 필름, 제 1 응력 완화층, 편광층, 점접착층, 위상차층, 제 2 응력 완화층, 및 제 2 기재 필름을 이 순서대로 포함한다. 이하, 본 발명의 광학 적층체의 층 구성의 일례를 도 1 및 도 2 에 기초하여 설명하지만, 본 발명의 적층체는 이들의 양태에 한정되는 것은 아니다.The optical laminate of the present invention includes a first base film, a first stress relief layer, a polarizing layer, a point adhesive layer, a retardation layer, a second stress relief layer, and a second base film in this order. Hereinafter, an example of the layer structure of the optical laminated body of the present invention will be described based on FIGS. 1 and 2, but the laminated body of the present invention is not limited to these aspects.

도 1 에 나타내는 광학 적층체 (11) 는, 제 1 기재 필름 (1), 제 1 응력 완화층 (2), 편광층 (3), 점접착층 (4), 위상차층 (5), 제 2 응력 완화층 (6) 및 제 2 기재 필름 (7) 을 이 순서대로 적층하여 이루어진다. 도 1 에 나타내는 광학 적층체 (11) 에 있어서, 제 1 기재 필름 (1) 및 제 2 기재 필름 (7) 은, 각각 박리 가능하고, 광학 적층체 (11) 로부터, 박리 가능한 제 2 기재 필름 (7) 을 박리하고, 제 1 기재 필름 (1), 제 1 응력 완화층 (2), 편광층 (3), 점접착층 (4), 위상차층 (5), 제 2 응력 완화층 (6) 으로 이루어지는 적층체 구조 (12) 를, 예를 들어, OLED 기판 등의 피전사체 (기판) 에 전사할 수 있다. 그 후, 제 1 기재 필름 (1) 을 박리하고, 제 1 응력 완화층 (2) 을 개재하여 전면판 등과 첩합함으로써, 제 1 응력 완화층 (2), 편광층 (3), 점접착층 (4), 위상차층 (5), 제 2 응력 완화층 (6) 으로 이루어지는 적층체 구조 (13) 를 포함하는 표시 장치가 얻어진다. 또한, 본 발명의 광학 적층체로부터 제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름을 박리하는 순서는, 반드시 한정되는 것은 아니지만, 기판에 첩합하는 측의 기재 필름을 먼저 박리하는 경우에 본 발명의 효과가 보다 현저하게 얻어지기 때문에, 본 발명의 일 실시양태에 있어서는, 제 2 기재 필름을 먼저 박리하여 기판에 첩합 후, 제 1 기재 필름이 박리된다.The optical laminate 11 shown in FIG. 1 includes a first base film 1, a first stress relief layer 2, a polarizing layer 3, a point adhesive layer 4, a retardation layer 5, and a second stress relief layer. This is achieved by laminating the relief layer 6 and the second base film 7 in this order. In the optical layered body 11 shown in FIG. 1, the first base film 1 and the second base film 7 are each peelable, and a second peelable base film ( 7) is peeled off to form the first base film (1), first stress relief layer (2), polarizing layer (3), point adhesive layer (4), retardation layer (5), and second stress relief layer (6). The resulting laminate structure 12 can be transferred to a transfer target (substrate) such as an OLED substrate, for example. Thereafter, the first base film (1) is peeled and bonded to the front plate or the like via the first stress relief layer (2), thereby forming the first stress relief layer (2), the polarizing layer (3), and the adhesive layer (4). ), the retardation layer 5, and the second stress relief layer 6. A display device including a laminate structure 13 is obtained. In addition, the order of peeling the first base film and the second base film from the optical laminate of the present invention is not necessarily limited, but the effect of the present invention is more effective when the base film on the side bonded to the substrate is peeled first. Because it is significantly obtained, in one embodiment of the present invention, the second base film is first peeled and bonded to the substrate, and then the first base film is peeled.

본 발명의 바람직한 일 실시양태에 있어서, 본 발명의 광학 적층체는, 제 1 응력 완화층과 편광층 사이에 추가로 확산 방지층을 포함한다. 도 2 에 나타내는 광학 적층체 (11) 는, 제 1 응력 완화층 (2) 과 편광층 (3) 사이에 확산 방지층 (8) 을 갖는다. 편광자로부터의 이색성 색소의 확산 억제 효과를 향상시키기 위해서, 편광층 (3) 의 제 1 응력 완화층 (2) 과는 반대측의 면에도 확산 방지층 (9) 을 갖고 있어도 된다.In a preferred embodiment of the present invention, the optical laminate of the present invention further includes an anti-diffusion layer between the first stress relief layer and the polarizing layer. The optical laminate 11 shown in FIG. 2 has a diffusion prevention layer 8 between the first stress relief layer 2 and the polarizing layer 3. In order to improve the effect of suppressing the diffusion of the dichroic dye from the polarizer, the surface of the polarizing layer 3 opposite to the first stress relaxation layer 2 may also have a diffusion prevention layer 9.

본 발명의 광학 적층체는, 제 1 기재 필름, 제 1 응력 완화층, 편광층, 점접착층, 위상차층, 제 2 응력 완화층 및 제 2 기재 필름 및 확산 방지층에 더하여, 본 발명의 효과에 영향을 미치지 않는 한에 있어서, 추가로 다른 층을 포함하여 구성되어 있어도 된다. 다른 층으로는, 예를 들어, 편광층을 형성하기 위한 배향막, 위상차층을 형성하기 위한 배향막, 제 2 위상차층, 편광층 및 위상차층간의 점접착층 이외의 점접착층, UV 흡수능을 갖는 수지층 등을 들 수 있다.The optical laminate of the present invention, in addition to the first base film, the first stress relief layer, the polarizing layer, the point adhesive layer, the retardation layer, the second stress relief layer, the second base film, and the diffusion prevention layer, influences the effect of the present invention. As long as it does not affect, it may be configured to further include other layers. Other layers include, for example, an alignment film for forming a polarizing layer, an alignment film for forming a retardation layer, a second retardation layer, a point adhesive layer other than the point adhesive layer between the polarizing layer and the retardation layer, a resin layer having UV absorption ability, etc. can be mentioned.

이하, 본 발명의 광학 적층체의 각 구성에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, each configuration of the optical laminate of the present invention will be described in detail.

〔제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름〕[First base film and second base film]

제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름은, 각각 박리 가능하게 광학 적층체에 적층되는 층이다. 제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름은, 예를 들어, 광학 필름의 분야에 있어서 종래 공지된 수지 필름 등을 사용할 수 있다. 제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름을 구성하는 수지로는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 및 노르보르넨계 폴리머와 같은 폴리올레핀 ; 고리형 올레핀계 수지 ; 폴리비닐알코올 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 ; 폴리메타크릴산에스테르 ; 폴리아크릴산에스테르 ; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 및 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트와 같은 셀룰로오스계 수지 ; 폴리카보네이트 ; 폴리술폰 ; 폴리에테르술폰 ; 폴리에테르케톤 ; 폴리페닐렌술파이드 및 폴리페닐렌옥사이드와 같은 플라스틱을 들 수 있다. 그 중에서도, 평활성이나 도포 기재로서의 품질의 관점에서, 셀룰로오스계 수지, 고리형 올레핀계 수지 및 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지에서 선택되는 적어도 1 종이 바람직하다. 이들은, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 이와 같은 수지를, 용매 캐스트법, 용융 압출법 등의 공지된 수단에 의해 제막하여 수지 필름으로 할 수 있다. 제 1 기재 필름과 제 2 기재 필름은, 동일해도 되고, 상이해도 된다. 또한, 본 명세서에 있어서, 간단히「기재 필름」이라고 기재하는 경우, 그「기재 필름」으로는 제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름이 포함되는 것으로 한다.The first base film and the second base film are layers laminated on the optical laminate so that peeling is possible. As the first base film and the second base film, for example, conventionally known resin films in the field of optical films can be used. Resins constituting the first base film and the second base film include, for example, polyolefins such as polyethylene, polypropylene, and norbornene-based polymers; Cyclic olefin resin; polyvinyl alcohol; Polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; Polymethacrylic acid ester; Polyacrylic acid ester; Cellulose-based resins such as triacetylcellulose, diacetylcellulose, and cellulose acetate propionate; polycarbonate; polysulfone; polyethersulfone; polyether ketone; Plastics such as polyphenylene sulfide and polyphenylene oxide can be mentioned. Among them, at least one selected from cellulose resin, cyclic olefin resin, and polyethylene terephthalate resin is preferable from the viewpoint of smoothness and quality as a coating substrate. These may be used individually, or may be used in combination of two or more types. Such a resin can be formed into a film by known means such as a solvent casting method or a melt extrusion method to form a resin film. The first base film and the second base film may be the same or different. In addition, in this specification, when simply referring to “base film”, the “base film” includes the first base film and the second base film.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 제 1 기재 필름의 23 ℃ 에 있어서의 탄성률은 2,500 ∼ 6,000 MPa 인 것이 바람직하다. 제 1 기재 필름에 있어서의 그 탄성률이 상기 하한 이상이면, 제 2 기재 필름을 박리하여 기판에 전사할 때에 기포나 주름이 발생하기 어렵고, 기판과의 첩합 어긋남을 억제하는 효과가 우수한 경향이 있다. 또, 탄성률이 상기 상한 이하이면, 응력에 대한 강도이나 강성의 밸런스가 좋고, 적당한 휨을 가짐으로써 (요컨대, 적당한 탄력성이 있어 굽혀도 파단 등이 발생하기 어려움으로써), 제 2 기재 필름을 박리하여 기판에 전사할 때에 기판과의 첩합 어긋남을 억제하는 효과가 우수한 경향이 있다. 본 발명에 있어서, 제 1 기재 필름의 23 ℃ 에 있어서의 탄성률은, 보다 바람직하게는 3000 MPa 이상, 더욱 바람직하게는 3500 MPa 이상이고, 보다 바람직하게는 5500 MPa 이하이다.In one embodiment of the present invention, the elastic modulus of the first base film at 23°C is preferably 2,500 to 6,000 MPa. If the elastic modulus of the first base film is more than the above lower limit, bubbles and wrinkles are unlikely to be generated when peeling off the second base film and transferring it to the substrate, and the effect of suppressing misalignment with the substrate tends to be excellent. In addition, if the modulus of elasticity is below the above upper limit, the balance of strength and rigidity against stress is good and has appropriate bending (in other words, it has appropriate elasticity and fracture is difficult to occur even when bent), so that the second base film can be peeled off to form a substrate. When transferring, the effect of suppressing misalignment with the substrate tends to be excellent. In the present invention, the elastic modulus of the first base film at 23°C is more preferably 3000 MPa or more, further preferably 3500 MPa or more, and even more preferably 5500 MPa or less.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 제 2 기재 필름의 23 ℃ 에 있어서의 탄성률은 2500 ∼ 6000 MPa 인 것이 바람직하다. 제 2 기재 필름에 있어서의 그 탄성률이 상기 범위 내이면, 제 2 기재 필름을 박리할 때의 박리성을 확보하기 쉽고, 기판으로의 양호한 첩합을 실현하기 쉽다. 본 발명에 있어서, 제 2 기재 필름의 23 ℃ 에 있어서의 탄성률은, 보다 바람직하게는 3000 MPa 이상, 더욱 바람직하게는 3500 MPa 이상이고, 보다 바람직하게는 5500 MPa 이하이다.In one embodiment of the present invention, the elastic modulus of the second base film at 23°C is preferably 2500 to 6000 MPa. If the elastic modulus of the second base film is within the above range, it is easy to ensure peelability when peeling the second base film, and it is easy to achieve good bonding to the substrate. In the present invention, the elastic modulus of the second base film at 23°C is more preferably 3000 MPa or more, further preferably 3500 MPa or more, and even more preferably 5500 MPa or less.

기재 필름의 탄성률은, 인장 시험기를 사용하여 측정할 수 있다. 상세하게는, 예를 들어, 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The elastic modulus of the base film can be measured using a tensile tester. In detail, for example, it can be measured by the method described in the Examples described later.

필름 표면에 원하는 이형성이나 밀착성을 부여하고, 기재 필름의 박리성을 제어하기 쉽게 하기 위해서, 인접하는 층의 구성 등에 따라, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 프레임 처리 등에 의해 기재 필름 표면에 개질 처리를 실시해도 된다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서, 제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름을 표면 개질 처리하는 경우, 그 처리 방법은, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.In order to provide the desired release property and adhesion to the film surface and to make it easier to control the peelability of the base film, the surface of the base film may be modified by corona treatment, plasma treatment, frame treatment, etc., depending on the composition of adjacent layers, etc. do. In the optical laminate of the present invention, when the first base film and the second base film are subjected to surface modification treatment, the treatment methods may be the same or different from each other.

제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름의 두께는, 기재 필름의 구성, 그 기재 필름에 인접하는 층의 구성 등에 따라 적절히 결정하면 되는데, 도포·건조시에 있어서의 막면 품질의 관점에서, 각각, 바람직하게는 20 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 30 ㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 40 ㎛ 이상이고, 또, 바람직하게는 120 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 100 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 80 ㎛ 이하이다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서, 제 1 기재 필름과 제 2 기재 필름의 두께는, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.The thickness of the first base film and the second base film may be appropriately determined depending on the structure of the base film, the structure of the layer adjacent to the base film, etc., but each is preferable from the viewpoint of film surface quality during application and drying. Preferably it is 20 ㎛ or more, more preferably 30 ㎛ or more, further preferably 40 ㎛ or more, and preferably 120 ㎛ or less, more preferably 100 ㎛ or less, and even more preferably 80 ㎛ or less. In the optical laminate of the present invention, the thicknesses of the first base film and the second base film may be the same or different from each other.

기재 필름의 두께는 레이저 현미경이나 막후계 등에 의해 측정할 수 있고, 이하, 광학 적층체를 구성하는 편광층이나 위상차층 등의 각 층이나 막의 두께의 측정도 동일하다.The thickness of the base film can be measured by a laser microscope, a film thickness meter, etc., and hereinafter, the same applies to measuring the thickness of each layer or film, such as a polarizing layer or retardation layer, that constitutes the optical laminate.

기재 필름의 응력 완화층에 인접하는 측에, 광학 적층체로부터 기재 필름을 박리할 때의 박리력을 제어하는 기능을 갖는 층 (이하,「박리력 조정층」이라고도 한다) 을 형성해도 된다. 박리력 조정층을 형성하는 경우, 제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름에 형성되는 박리력 조정층은, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.A layer (hereinafter also referred to as “peel force adjustment layer”) having a function of controlling the peeling force when peeling the base film from the optical laminate may be formed on the side adjacent to the stress relief layer of the base film. When forming a peeling force adjustment layer, the peeling force adjusting layer formed on the first base film and the second base film may be the same or different from each other.

박리력 조정층은, 예를 들어, 기재가 되는 수지 필름의 표면에, 그 기재 필름에 적층되는 응력 완화층에 대한 기재 필름의 밀착성을 조정할 수 있는 성분을 포함하는 박리력 조정층 형성용 조성물을 도포함으로써 형성할 수 있다. 박리력 조정층은, 원하는 박리력을 확보할 수 있는 한, 당해 분야에서 종래 공지된 재료 등을 사용할 수 있다. 본 발명에 있어서 박리력 조정층을 형성할 수 있는 박리력 조정층 형성용 조성물로는, 예를 들어, 실란 화합물을 포함하는 용액 ; 실리카 분말 등을 함유하는 용액 ; 경화성 수지 조성물 ; 불소계 재료, 장사슬 알킬계 재료, 지방산 아미드계 재료 등의 이형 재료를 포함하는 조성물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 박막이고, 원하는 박리력을 부여할 수 있는 층을 용이하게 형성하기 쉬운 관점에서, 실란 화합물을 포함하는 용액으로 형성하는 것이 바람직하다.The peeling force adjusting layer is, for example, a composition for forming a peeling force adjusting layer containing a component that can adjust the adhesion of the base film to the stress relief layer laminated on the surface of the resin film serving as the base film. It can be formed by applying it. As the peeling force adjustment layer, materials conventionally known in the field can be used as long as the desired peeling force can be secured. In the present invention, the composition for forming a peeling force adjusting layer capable of forming a peeling force adjusting layer includes, for example, a solution containing a silane compound; A solution containing silica powder, etc.; Curable resin composition; and compositions containing release materials such as fluorine-based materials, long-chain alkyl-based materials, and fatty acid amide-based materials. Among these, it is preferable to form a thin film from a solution containing a silane compound from the viewpoint of easily forming a layer that can provide the desired peeling force.

박리력 조정층을 구성할 수 있는 실란 화합물로는, 예를 들어, 폴리실란과 같은 규소 폴리머, 실리콘 오일 및 실리콘 레진과 같은 실리콘 수지, 그리고 실리콘 올리고머, 실세스실록산 및 알콕시실란과 같은 유기 무기 실란 화합물, 보다 구체적으로는 실란 커플링제 등의 Si 원소를 포함하는 비이온성의 화합물을 들 수 있다. 이들의 실란 화합물은, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 그 중에서도, 실란 커플링제가 바람직하다.Silane compounds that can form the peeling force adjustment layer include, for example, silicon polymers such as polysilanes, silicone resins such as silicone oils and silicone resins, and organic-inorganic silanes such as silicone oligomers, silcesiloxanes, and alkoxysilanes. Compounds, more specifically, nonionic compounds containing Si elements such as silane coupling agents, can be mentioned. These silane compounds may be used individually, or may be used in combination of two or more types. Among them, silane coupling agents are preferable.

실란 커플링제로는, 비닐기, 아미노기, 우레이도기, 메르캅토기, (메트)아크릴로일기, 이소시아네이트기, 이미다졸기 및 에폭시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 관능기를 갖는 실란 화합물이 바람직하고, 상기 적어도 1 종의 관능기와, 적어도 1 개의 알콕시실릴기 또는 실란올기를 갖는 Si 원소를 포함하는 화합물인 것이 보다 바람직하다. 비닐기, 아미노기, 우레이도기, 메르캅토기, (메트)아크릴로일기, 이소시아네이트기, 이미다졸기 및 에폭시기는 극성을 갖고, 이들의 관능기를 적절히 선정함으로써, 기재 필름과 응력 완화층의 밀착성을 제어할 수 있다. 이러한 관점에서는, 실란 커플링제가 알콕시실릴기와 상기 적어도 1 종의 관능기를 갖는 실란 커플링제인 것이 바람직하다. 또한, 상기 관능기는, 실란 커플링제의 반응성을 제어하기 위해서 적절히 치환기 또는 보호기를 갖고 있어도 된다.The silane coupling agent is preferably a silane compound having at least one functional group selected from the group consisting of vinyl group, amino group, ureido group, mercapto group, (meth)acryloyl group, isocyanate group, imidazole group, and epoxy group. And, it is more preferable that it is a compound containing a Si element having at least one functional group and at least one alkoxysilyl group or silanol group. The vinyl group, amino group, ureido group, mercapto group, (meth)acryloyl group, isocyanate group, imidazole group, and epoxy group have polarity, and the adhesion between the base film and the stress relief layer is controlled by appropriately selecting these functional groups. can do. From this viewpoint, it is preferable that the silane coupling agent is a silane coupling agent having an alkoxysilyl group and at least one functional group described above. Additionally, the functional group may have a substituent or protecting group as appropriate in order to control the reactivity of the silane coupling agent.

실란 커플링제로는, 구체적으로 예를 들어, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸-부틸리덴)프로필아민, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필디메톡시메틸실란, 및 3-글리시독시프로필에톡시디메틸실란을 들 수 있다.Silane coupling agents specifically include, for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(2-methoxyethoxy)silane, and N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyl. Dimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-(1,3-dimethyl-butylidene ) Propylamine, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxy Silane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-glycylate Doxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyldimethoxymethylsilane, and 3-glycidoxypropylethoxydimethylsilane.

시판되는 실란 커플링제를 사용해도 되고, 예를 들어, KP321, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341, X22-161A, KF6001, KBM-1003, KBE-1003, KBM-303, KBM-402, KBM-403, KBE-402, KBE-403, KBM-1403, KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503, KBM-5103, KBM-602, KBM-603, KBM-903, KBE-903, KBE-9103, KBM-573, KBM-575, KBM-9659, KBE-585, KBM-802, KBM-803, KBE-846, 및 KBE-9007 과 같은 신에츠 화학 공업 (주) 제조의 실란 커플링제를 들 수 있다.A commercially available silane coupling agent may be used, for example, KP321, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341, 403, KBE-402, KBE-403, KBM-1403, KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503, KBM-5103, KBM-602, KBM-603, KBM-903, KBE-903, Silane coupling agents manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., such as KBE-9103, KBM-573, KBM-575, KBM-9659, KBE-585, KBM-802, KBM-803, KBE-846, and KBE-9007. I can hear it.

박리력 조정층으로서 기능하는 실란 화합물을 포함하는 층은, 예를 들어, 실란 화합물을 적당한 용제에 혼합 용해시킨 실란 화합물 함유 용액으로 형성할 수 있다.The layer containing a silane compound that functions as a peeling force adjustment layer can be formed, for example, from a silane compound-containing solution obtained by mixing and dissolving a silane compound in an appropriate solvent.

실란 화합물 함유 용액에 사용하는 용제는, 사용하는 실란 화합물의 용해성 등에 따라 적절히 선택할 수 있다. 구체적으로는 예를 들어, 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올 용제, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 락트산에틸 등의 에스테르 용제, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제, 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용제, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소 용제, 아세토니트릴 등의 니트릴 용제, 테트라하이드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 용제, 및 클로로포름, 클로로벤젠 등의 염소화 탄화수소 용제 등을 들 수 있다. 이들의 용제는, 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다.The solvent used in the silane compound-containing solution can be appropriately selected depending on the solubility of the silane compound to be used. Specifically, for example, alcohol solvents such as water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, and propylene glycol monomethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate, and ethylene. Ester solvents such as glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate, and ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl amyl ketone, and methyl isobutyl ketone. , aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, nitrile solvents such as acetonitrile, ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane, and chlorinated hydrocarbons such as chloroform and chlorobenzene. Solvents, etc. can be mentioned. These solvents can be used individually or in combination of two or more types.

실란 화합물 함유 용액에 있어서의 실란 화합물의 함유량은, 박리력을 제어하기 쉬운 관점에서, 실란 화합물 함유 용액의 총 질량에 대하여, 바람직하게는 0.01 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.1 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 0.2 질량% 이상이다. 실란 화합물의 함유량은, 실란 화합물 함유 용액의 총 질량에 대하여, 바람직하게는 30 질량% 이하, 보다 바람직하게는 10 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 5 질량% 이하이다.The content of the silane compound in the silane compound-containing solution is preferably 0.01 mass% or more, more preferably 0.1 mass% or more, relative to the total mass of the silane compound-containing solution, from the viewpoint of easy control of the peeling force. Preferably it is 0.2 mass% or more. The content of the silane compound is preferably 30% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or less, based on the total mass of the solution containing the silane compound.

박리력 조정층으로서 기능하는 실란 화합물을 포함하는 층은, 예를 들어, 실란 화합물 함유 용액을 기재 필름의 박리력 조정층을 형성하는 면에 도포한 후, 용제를 건조, 제거함으로써 형성할 수 있다.The layer containing a silane compound that functions as a peeling force adjustment layer can be formed, for example, by applying a silane compound-containing solution to the surface of the base film on which the peeling force adjusting layer is to be formed, and then drying and removing the solvent. .

박리력 조정층을 형성하는 면에 실란 화합물 함유 용액을 도포하는 방법으로는, 예를 들어, 스핀 코팅법, 익스트루전법, 그라비어 코팅법, 다이 코팅법, 바 코팅법, 어플리케이터법 등의 도포법, 플렉소법 등의 인쇄법 등의 공지된 방법을 들 수 있다.Methods for applying a solution containing a silane compound to the surface forming the peeling force adjustment layer include, for example, spin coating, extrusion, gravure coating, die coating, bar coating, and applicator methods. and known methods such as printing methods such as the flexographic method.

실란 화합물 함유 용액으로부터 얻어지는 도막 중에 포함되는 용제를 제거하는 건조 방법으로는, 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조 및 감압 건조법 등을 들 수 있다. 건조 온도 및 건조 시간 등의 각 조건은, 실란 화합물 함유 용액의 조성, 기재 필름의 재료 등에 따라 적절히 결정할 수 있다.Drying methods for removing the solvent contained in the coating film obtained from the silane compound-containing solution include natural drying, ventilation drying, heat drying, and reduced pressure drying. Each condition, such as drying temperature and drying time, can be appropriately determined depending on the composition of the silane compound-containing solution, the material of the base film, etc.

박리력 조정층으로서 기능하는 실란 화합물을 포함하는 층의 두께는, 통상적으로 10 ㎚ ∼ 1000 ㎚ 이고, 바람직하게는 10 ㎚ ∼ 500 ㎚, 보다 바람직하게는 30 ㎚ ∼ 300 ㎚ 이다.The thickness of the layer containing the silane compound that functions as a peeling force adjustment layer is usually 10 nm to 1000 nm, preferably 10 nm to 500 nm, and more preferably 30 nm to 300 nm.

〔제 1 응력 완화층 및 제 2 응력 완화층〕[First stress relief layer and second stress relief layer]

본 발명의 광학 적층체는, 제 1 기재 필름의 편광층측의 면에 제 1 응력 완화층을, 제 2 기재 필름의 위상차층측의 면에 제 2 응력 완화층을 갖는다. 본 발명에 있어서 응력 완화층이란, 제 1 기재 필름의 편광층측의 면 및 제 2 기재 필름의 위상차층측의 면에 형성되는 층으로서, 광학 적층체로부터 제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름을 박리할 때에 광학 적층체에 가해지는 응력을 완화하는 기능을 갖는 층을 의미한다. 본 발명에 있어서는, 제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름이 각각 응력 완화층을 개재하여 광학 적층체를 구성하고 있고, 표시 장치 내에 장착되는 (전사되는) 적층체 구조의 양측의 외층에 응력 완화층이 존재한다. 본 발명의 광학 적층체는, 이와 같은 구조에 의해, 박형의 광학 적층체로부터 기재 필름을 박리하여 기판에 전사할 때에 발생할 수 있는 주름이나, 첩합 어긋남, 기포의 발생 등의 억제 효과가 우수하다. 그 이유는 확실하지 않지만, 광학 적층체로부터 기재 필름을 박리할 때에 광학 적층체에 가해지는 응력을 각 응력 완화층이 서로 작용하여 완화함으로써, 응력 완화층이 존재하지 않거나, 또는, 일방의 측에만 응력 완화층이 존재하는 광학 적층체보다 첩합 어긋남이나 주름 등의 발생 억제 효과가 높아지는 것으로 생각된다. 이러한 효과를 충분히 얻기 위해서, 본 발명의 광학 적층체에 있어서, 제 1 기재 필름과 제 1 응력 완화층, 및 제 2 기재 필름과 제 2 응력 완화층은, 각각 인접하여, 또는 박리력 조정층만을 개재하여 배치되는 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, 간단히「응력 완화층」이라고 기재하는 경우, 그「응력 완화층」으로는 제 1 응력 완화층 및 제 2 응력 완화층이 포함되는 것으로 한다.The optical laminate of the present invention has a first stress relaxation layer on the surface of the first base film on the polarizing layer side, and a second stress relaxation layer on the surface of the second base film on the retardation layer side. In the present invention, the stress relief layer is a layer formed on the surface on the polarizing layer side of the first base film and the surface on the retardation layer side of the second base film, and is used to peel the first base film and the second base film from the optical laminate. It refers to a layer that has the function of relieving the stress applied to the optical laminate. In the present invention, the first base film and the second base film each constitute an optical laminate with a stress relief layer interposed therebetween, and a stress relief layer is provided on the outer layers on both sides of the laminate structure mounted (transferred) in the display device. This exists. Due to this structure, the optical laminate of the present invention is excellent in suppressing wrinkles, bonding misalignment, and bubble generation that may occur when peeling the base film from a thin optical laminate and transferring it to a substrate. The reason is not clear, but when the base film is peeled from the optical laminate, the stress relief layers interact with each other to relieve the stress applied to the optical laminate, so that the stress relief layer does not exist or is only applied to one side. It is thought that the effect of suppressing the occurrence of bonding misalignment, wrinkles, etc. is higher than that of an optical laminate in which a stress relief layer is present. In order to sufficiently obtain this effect, in the optical laminate of the present invention, the first base film and the first stress relief layer, and the second base film and the second stress relief layer are respectively adjacent to each other, or only the peeling force adjustment layer is provided. It is preferable that they are disposed interposed. Additionally, in this specification, when simply referring to a “stress relaxation layer”, the “stress relaxation layer” includes the first stress relaxation layer and the second stress relaxation layer.

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 제 1 응력 완화층의 저장 탄성률은 1.5 MPa 이하이다. 제 1 응력 완화층의 저장 탄성률이 1.5 MPa 를 초과하면, 제 2 기재 필름을 박리하여 기판에 전사할 때에 기포나 주름이 발생하기 쉬워, 기판과의 첩합 어긋남을 발생시키기 쉬워지는 경향이 있다. 본 발명에 있어서, 제 1 응력 완화층의 저장 탄성률은, 바람직하게는 0.8 MPa 이하, 보다 바람직하게는 0.5 MPa 이하, 더욱 바람직하게는 0.4 MPa 이하, 특히 바람직하게는 0.3 MPa 이하이다. 저장 탄성률이 상기 상한 이하이면, 제 2 기재 필름을 박리하여 기판에 전사할 때의 첩합 어긋남이나 주름, 기포 등의 억제 효과가 향상됨과 함께, 제 1 기재 필름과 첩합되어 있는 동안에는 제 1 기재 필름의 들뜸을 억제하면서, 그 제 1 기재 필름을 박리할 때의 박리성을 확보할 수 있다. 제 1 응력 완화층의 저장 탄성률의 하한값은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상적으로 0.005 MPa 이상이고, 바람직하게는 0.01 MPa 이상, 보다 바람직하게는 0.02 MPa 이상, 더욱 바람직하게는 0.04 MPa 이상이다.In the optical laminate of the present invention, the storage modulus of the first stress relief layer is 1.5 MPa or less. If the storage elastic modulus of the first stress relief layer exceeds 1.5 MPa, bubbles and wrinkles are likely to occur when the second base film is peeled off and transferred to the substrate, and bonding misalignment with the substrate tends to occur. In the present invention, the storage modulus of the first stress relief layer is preferably 0.8 MPa or less, more preferably 0.5 MPa or less, further preferably 0.4 MPa or less, particularly preferably 0.3 MPa or less. If the storage elastic modulus is below the above upper limit, the effect of suppressing bonding misalignment, wrinkles, bubbles, etc. when peeling and transferring the second base film to the substrate is improved, and while it is bonded to the first base film, the first base film While suppressing lifting, peelability can be ensured when peeling the first base film. The lower limit of the storage modulus of the first stress relief layer is not particularly limited, but is usually 0.005 MPa or more, preferably 0.01 MPa or more, more preferably 0.02 MPa or more, and still more preferably 0.04 MPa or more.

제 2 응력 완화층의 저장 탄성률은, 바람직하게는 0.8 MPa 이하, 보다 바람직하게는 0.5 MPa 이하, 더욱 바람직하게는 0.4 MPa 이하, 특히 바람직하게는 0.3 MPa 이하이다. 저장 탄성률이 상기 상한 이하이면, 제 2 기재 필름의 들뜸을 억제하면서, 그 제 2 기재 필름을 박리할 때의 박리성을 확보하기 쉽다. 제 2 응력 완화층의 저장 탄성률의 하한값은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상적으로 0.005 MPa 이상이고, 바람직하게는 0.01 MPa 이상, 보다 바람직하게는 0.02 MPa 이상, 더욱 바람직하게는 0.04 MPa 이상이다.The storage modulus of the second stress relief layer is preferably 0.8 MPa or less, more preferably 0.5 MPa or less, further preferably 0.4 MPa or less, particularly preferably 0.3 MPa or less. If the storage elastic modulus is below the above upper limit, it is easy to ensure peelability when peeling the second base film while suppressing the lifting of the second base film. The lower limit of the storage modulus of the second stress relief layer is not particularly limited, but is usually 0.005 MPa or more, preferably 0.01 MPa or more, more preferably 0.02 MPa or more, and still more preferably 0.04 MPa or more.

응력 완화층의 저장 탄성률은, 점탄성 측정 장치를 사용하여 측정할 수 있다. 상세하게는, 예를 들어, 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The storage modulus of the stress relief layer can be measured using a viscoelasticity measuring device. In detail, for example, it can be measured by the method described in the Examples described later.

응력 완화층은, 기재 필름을 박리할 때에는 박리시에 광학 적층체에 발생하는 응력을 완화할 수 있고, 기재 필름을 박리 후에는, 기판이나 전면판 등의 피전사체와 첩합하기 위한 점착층으로서 기능하는 층인 것이 바람직하다. 응력 완화층에 있어서의 응력의 완화성 및 피전사체에 대한 점착성은, 응력 완화층을 구성하는 성분의 종류, 그 함유량비, 두께 등에 따라 제어할 수 있다. 그러한 기능을 갖는 응력 완화층은, 당해 분야에서 종래 공지된 재료 등을 사용하여 조제할 수 있다. 예를 들어, (메트)아크릴계, 고무계, 우레탄계, 에스테르계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계와 같은 수지를 주성분으로 하는 조성물 (이하,「응력 완화층 형성용 조성물」이라고도 한다) 을 들 수 있다. 그 중에서도, 투명성, 점착성, 내후성, 내열성 등이 우수한 관점에서, 응력 완화층은 (메트)아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 하는 조성물로 형성되는 것이 바람직하다.The stress relief layer can relieve the stress generated in the optical laminate at the time of peeling the base film, and after peeling the base film, it functions as an adhesive layer for bonding to a transfer object such as a substrate or front plate. It is preferable that it is a layer that does. The stress relief properties of the stress relief layer and the adhesion to the transfer object can be controlled depending on the type, content ratio, thickness, etc. of the components constituting the stress relief layer. A stress relief layer having such a function can be prepared using materials conventionally known in the field. For example, a composition containing a resin such as (meth)acrylic, rubber, urethane, ester, silicone, or polyvinyl ether as the main component (hereinafter also referred to as “composition for forming a stress relief layer”) can be mentioned. Among them, from the viewpoint of excellent transparency, adhesion, weather resistance, heat resistance, etc., it is preferable that the stress relief layer is formed of a composition containing a (meth)acrylic resin as a base polymer.

응력 완화층 형성용 조성물에 사용되는 (메트)아크릴계 수지 (베이스 폴리머) 로는, 예를 들어, (메트)아크릴산부틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산이소옥틸, (메트)아크릴산2-에틸헥실과 같은 (메트)아크릴산에스테르의 1 종 또는 2 종 이상을 모노머로 하는 중합체 또는 공중합체가 바람직하게 사용된다. 베이스 폴리머에는, 극성 모노머를 공중합시키는 것이 바람직하다. 극성 모노머로는, 예를 들어, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산2-하이드록시프로필, (메트)아크릴산하이드록시에틸, (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트와 같은, 카르복실기, 수산기, 아미드기, 아미노기, 에폭시기 등을 갖는 모노머를 들 수 있다.Examples of the (meth)acrylic resin (base polymer) used in the composition for forming a stress relief layer include butyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, and 2-ethyl (meth)acrylate. A polymer or copolymer containing one or more types of (meth)acrylic acid ester such as hexyl as a monomer is preferably used. It is preferable to copolymerize a polar monomer with the base polymer. Polar monomers include, for example, (meth)acrylic acid, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, (meth)acrylamide, and N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate. , monomers having a carboxyl group, a hydroxyl group, an amide group, an amino group, an epoxy group, etc., such as glycidyl (meth)acrylate.

본 발명의 일 실시양태에 있어서 응력 완화층을 구성하는 (메트)아크릴계 수지에 있어서의 (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구조 단위는, (메트)아크릴계 수지를 구성하는 전체 구조 단위의 총 질량에 대하여, 바람직하게는 80 ∼ 99.9 질량% 이고, 보다 바람직하게는 85 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 90 질량% 이상이다. 또, (메트)아크릴계 수지가 극성 모노머에서 유래하는 구조 단위를 포함하여 이루어지는 경우, 그 극성 모노머에서 유래하는 구조 단위는, (메트)아크릴계 수지를 구성하는 전체 구조 단위의 총 질량에 대해 0.1 ∼ 5 질량% 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5 질량% 이상이고, 또, 보다 바람직하게는 3 질량% 이하이다.In one embodiment of the present invention, the structural unit derived from (meth)acrylic acid ester in the (meth)acrylic resin constituting the stress relief layer is relative to the total mass of all structural units constituting the (meth)acrylic resin. , Preferably it is 80 to 99.9 mass%, more preferably 85 mass% or more, and even more preferably 90 mass% or more. In addition, when the (meth)acrylic resin includes a structural unit derived from a polar monomer, the structural unit derived from the polar monomer is 0.1 to 5 with respect to the total mass of all structural units constituting the (meth)acrylic resin. It is preferably mass%, more preferably 0.5 mass% or more, and even more preferably 3 mass% or less.

응력 완화층을 구성하는 (메트)아크릴계 수지는, 예를 들어, 용액 중합법, 유화 중합법, 괴상 중합법, 현탁 중합법 등, 공지된 각종 방법에 의해 제조할 수 있다. 이 아크릴 수지의 제조에 있어서는, 통상적으로 중합 개시제가 사용된다. 중합 개시제의 함유량은, (메트)아크릴계 수지의 제조에 사용되는 모든 단량체의 합계 100 질량부에 대하여, 0.001 ∼ 5 질량부인 것이 바람직하다.The (meth)acrylic resin constituting the stress relief layer can be manufactured by various known methods, such as solution polymerization, emulsion polymerization, bulk polymerization, and suspension polymerization. In the production of this acrylic resin, a polymerization initiator is usually used. The content of the polymerization initiator is preferably 0.001 to 5 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of all monomers used in the production of (meth)acrylic resin.

중합 개시제로는, 열 중합 개시제나 광 중합 개시제 등이 사용된다. 열 중합 개시제로서 예를 들어, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸-4-메톡시발레로니트릴), 디메틸-2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 및 2,2'-아조비스(2-하이드록시메틸프로피오니트릴) 등의 아조계 화합물 ; 라우릴퍼옥사이드, tert-부틸하이드로퍼옥사이드, 과산화벤조일, tert-부틸퍼옥시벤조에이트, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필퍼옥시디카보네이트, 디프로필퍼옥시디카보네이트, tert-부틸퍼옥시네오데카노에이트, tert-부틸퍼옥시피발레이트, 및 (3,5,5-트리메틸헥사노일)퍼옥사이드 등의 유기 과산화물 ; 과황산칼륨, 과황산암모늄, 및 과산화수소 등의 무기 과산화물 등을 들 수 있다. 광 중합 개시제로서 예를 들어, 4-(2-하이드록시에톡시)페닐(2-하이드록시-2-프로필)케톤 등을 들 수 있다.As a polymerization initiator, a thermal polymerization initiator, a photo polymerization initiator, etc. are used. As a thermal polymerization initiator, for example, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis(2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis(cyclohexane-1-carbonitrile) Tril), 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis(2,4-dimethyl-4-methoxyvaleronitrile), dimethyl-2,2' -Azo compounds such as azobis(2-methylpropionate) and 2,2'-azobis(2-hydroxymethylpropionitrile); Lauryl peroxide, tert-butyl hydroperoxide, benzoyl peroxide, tert-butyl peroxybenzoate, cumene hydroperoxide, diisopropyl peroxydicarbonate, dipropyl peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyneodecanoate. organic peroxides such as , tert-butylperoxypivalate, and (3,5,5-trimethylhexanoyl)peroxide; Examples include inorganic peroxides such as potassium persulfate, ammonium persulfate, and hydrogen peroxide. Examples of the photopolymerization initiator include 4-(2-hydroxyethoxy)phenyl(2-hydroxy-2-propyl)ketone.

아크릴계 수지를 용액 중합법에 의해 조제하는 경우, 예를 들어, 원하는 단량체 및 유기 용매를 혼합하고, 질소 분위기하에서 열 중합 개시제를 첨가하고, 40 ∼ 90 ℃, 바람직하게는 50 ∼ 80 ℃ 에서 교반하는 방법을 들 수 있다. 또, 반응을 제어하기 위해서, 단량체나 중합 개시제를 중합 중에 연속적 또는 간헐적으로 첨가하거나, 유기 용매에 용해시킨 상태에서 첨가하거나 해도 된다. 여기서, 유기 용매로는, 예를 들어, 톨루엔이나 자일렌 등의 방향족 탄화수소계 용제 ; 아세트산에틸이나 아세트산부틸 등의 에스테르계 용제 ; 프로필알코올이나 이소프로필알코올 등의 지방족 알코올계 용제 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 및 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용제 등을 사용할 수 있다.When preparing an acrylic resin by solution polymerization, for example, the desired monomer and organic solvent are mixed, a thermal polymerization initiator is added under a nitrogen atmosphere, and the mixture is stirred at 40 to 90°C, preferably 50 to 80°C. There are ways to do this. Additionally, in order to control the reaction, the monomer or polymerization initiator may be added continuously or intermittently during polymerization, or may be added while dissolved in an organic solvent. Here, examples of the organic solvent include aromatic hydrocarbon-based solvents such as toluene and xylene; Ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; Aliphatic alcohol-based solvents such as propyl alcohol and isopropyl alcohol; Ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone can be used.

응력 완화층은, 상기 아크릴계 수지만을 포함하는 것이어도 되지만, 가교제를 병용하여 형성되는 것이어도 된다. 가교제로는, 2 가 이상의 금속 이온으로서, 카르복실기와의 사이에서 카르복실산 금속염을 형성하는 것 ; 폴리아민 화합물로서, 카르복실기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 것 ; 폴리에폭시 화합물이나 폴리올로서, 카르복실기와의 사이에서 에스테르 결합을 형성하는 것 ; 폴리이소시아네이트 화합물로서, 카르복실기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 것이 예시된다.The stress relief layer may contain only the acrylic resin described above, but may also be formed by using a crosslinking agent in combination. The crosslinking agent is a divalent or higher metal ion that forms a carboxylic acid metal salt between carboxyl groups; A polyamine compound that forms an amide bond between carboxyl groups; A polyepoxy compound or polyol that forms an ester bond between carboxyl groups; As a polyisocyanate compound, one that forms an amide bond between carboxyl groups is exemplified.

응력 완화층은, 예를 들어, 주성분으로서 상기 서술한 바와 같은 아크릴계 수지를 용제에 용해시킨 응력 완화층 형성용 조성물을, 응력 완화층을 적층하고자 하는 기재 필름 또는 박리력 조정층 상에 바 코트법 등에 의해 도포하고, 건조시키는 방법에 의해 형성할 수 있다. 용제로는, 아크릴계 수지의 조제 방법에 있어서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.The stress relief layer is, for example, a composition for forming a stress relief layer in which the above-described acrylic resin as the main component is dissolved in a solvent, and is applied by a bar coating method on the base film or peeling force adjustment layer on which the stress relief layer is to be laminated. It can be formed by applying and drying. Examples of the solvent include the same solvents as those exemplified in the method for preparing acrylic resin.

응력 완화층의 두께는, 응력 완화층의 구성, 표시 장치의 구성이나 크기 등에 따라 적절히 결정하면 된다.The thickness of the stress relief layer may be appropriately determined depending on the structure of the stress relief layer, the structure or size of the display device, etc.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 제 1 응력 완화층의 두께는, 바람직하게는 5 ∼ 80 ㎛ 이고, 보다 바람직하게는 10 ㎛ 이상, 더욱 바람직하게 20 ㎛ 이상이고, 또, 보다 바람직하게는 70 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 60 ㎛ 이하이다. 또, 제 2 응력 완화층의 두께는, 바람직하게는 5 ∼ 80 ㎛ 이고, 보다 바람직하게는 10 ㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 20 ㎛ 이상이고, 또, 보다 바람직하게는 60 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 40 ㎛ 이하이다. 제 1 응력 완화층의 두께와 제 2 응력 완화층의 두께는 동일해도 되고, 상이해도 된다.In one embodiment of the present invention, the thickness of the first stress relief layer is preferably 5 to 80 μm, more preferably 10 μm or more, further preferably 20 μm or more, and even more preferably 70 μm or more. It is ㎛ or less, more preferably 60 ㎛ or less. Moreover, the thickness of the second stress relief layer is preferably 5 to 80 μm, more preferably 10 μm or more, further preferably 20 μm or more, further preferably 60 μm or less, even more preferably is 40 ㎛ or less. The thickness of the first stress relief layer and the thickness of the second stress relief layer may be the same or different.

제 1 응력 완화층의 두께가 제 2 응력 완화층의 두께보다 두꺼우면 제 2 기재 필름을 박리하여 기판에 전사할 때의 첩합 어긋남, 주름이나 기포의 발생 등을 억제하는 효과가 높아지는 경향이 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 제 1 응력 완화층의 두께 (T1) 와 제 2 응력 완화층의 두께 (T2) 가 식 (1) :If the thickness of the first stress relief layer is thicker than the thickness of the second stress relief layer, the effect of suppressing misalignment, wrinkles, and bubbles, etc. when peeling and transferring the second base film to the substrate tends to increase. Accordingly, in one embodiment of the present invention, the thickness of the first stress relief layer (T1) and the thickness of the second stress relief layer (T2) are expressed in equation (1):

T1/T2 ≥ 1.0 (1) T1/T2 ≥ 1.0 (1)

을 만족하는 것이 바람직하다. 제 1 응력 완화층의 두께와 제 2 응력 완화층의 두께가 상기 식 (1) 의 관계를 만족하면, 박형의 광학 적층체로부터 제 2 기재 필름을 박리하여 기판에 전사할 때에 발생할 수 있는 주름이나, 끌려옴에 의한 첩합 어긋남, 기포의 발생 등의 억제 효과가 보다 향상되기 쉬워진다. 제 1 응력 완화층의 두께와 제 2 응력 완화층의 두께가 상이한 경우, T1/T2 의 값은, 보다 바람직하게는 1.5 이상이고, 더욱 바람직하게는 2.0 이상이고, 3.0 이상이어도 된다.It is desirable to satisfy. If the thickness of the first stress relief layer and the thickness of the second stress relief layer satisfy the relationship of the above equation (1), wrinkles that may occur when peeling the second base film from the thin optical laminate and transferring it to the substrate are eliminated. , the effect of suppressing bonding misalignment due to pulling and the generation of air bubbles is more likely to be improved. When the thickness of the first stress relief layer and the thickness of the second stress relief layer are different, the value of T1/T2 is more preferably 1.5 or more, further preferably 2.0 or more, and may be 3.0 or more.

〔편광층〕[Polarizing layer]

본 발명에 있어서, 편광층은 편광 기능을 갖는 층 (편광자) 이다. 편광층은, 흡수 이방성을 갖는 색소인 이색성 색소를 포함하고, 광학 적층체의 박형화에 유리한 관점에서, 본 발명의 광학 적층체에 있어서 편광층은 코팅층이고, 적어도 1 종의 액정 화합물을 포함하는, 바람직하게는 중합성 액정 화합물과 이색성 색소를 포함하는 중합성 액정 조성물 (이하,「편광층 형성용 조성물」이라고도 한다) 로 형성되는 경화층인 것이 바람직하다.In the present invention, the polarizing layer is a layer (polarizer) having a polarizing function. The polarizing layer contains a dichroic dye, which is a dye having absorption anisotropy, and from the viewpoint of being advantageous for thinning the optical laminate, the polarizing layer in the optical laminate of the present invention is a coating layer and contains at least one type of liquid crystal compound. , preferably a cured layer formed of a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye (hereinafter also referred to as “composition for forming a polarizing layer”).

본 발명의 편광층을 형성하는 편광층 형성용 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물 (이하,「중합성 액정 화합물 (A)」라고도 한다) 은, 적어도 1 개의 중합성기를 갖는 화합물이다. 여기서, 중합성기란, 중합 개시제로부터 발생하는 활성 라디칼이나 산 등에 의해 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 말한다. 중합성 액정 화합물 (A) 가 갖는 중합성기로는, 예를 들어, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, (메트)아크릴로일기, 옥시라닐기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 라디칼 중합성기가 바람직하고, (메트)아크릴로일기, 비닐기, 비닐옥시기가 보다 바람직하고, (메트)아크릴로일기가 더욱 바람직하다. 편광층을 형성하는 중합성 액정 화합물이, 후술하는 편광층을 형성하기 위한 배향막을 형성하는 화합물이 갖는 관능기와 동일한 관능기 (중합성기), 예를 들어 (메트)아크릴로일기를 가지면, 배향막 및 편광층간의 상용성이 높고, 층간의 우수한 밀착성을 발현할 수 있다.The polymerizable liquid crystal compound (hereinafter also referred to as “polymerizable liquid crystal compound (A)”) contained in the composition for forming a polarizing layer that forms the polarizing layer of the present invention is a compound having at least one polymerizable group. Here, the polymerizable group refers to a group that can participate in the polymerization reaction by active radicals or acids generated from the polymerization initiator. Examples of the polymerizable group possessed by the polymerizable liquid crystal compound (A) include vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, (meth)acryloyl group, and oxiranyl group. , oxetanyl group, etc. Among these, a radical polymerizable group is preferable, a (meth)acryloyl group, a vinyl group, and a vinyloxy group are more preferable, and a (meth)acryloyl group is still more preferable. If the polymerizable liquid crystal compound forming the polarizing layer has the same functional group (polymerizable group) as the compound having the same functional group as the compound forming the alignment film for forming the polarizing layer described later, for example, a (meth)acryloyl group, the alignment film and the polarizing light The compatibility between layers is high, and excellent adhesion between layers can be achieved.

본 발명에 있어서, 중합성 액정 화합물 (A) 는 스멕틱 액정성을 나타내는 화합물인 것이 바람직하다. 스멕틱 액정성을 나타내는 중합성 액정 화합물을 사용함으로써, 배향 질서도가 높은 편광층을 형성할 수 있다. 보다 높은 배향 질서도를 실현할 수 있는 관점에서, 중합성 액정 화합물 (A) 가 나타내는 액정 상태는, 고차 스멕틱상 (고차 스멕틱 액정 상태) 인 것이 보다 바람직하다. 여기서, 고차 스멕틱상이란, 스멕틱 B 상, 스멕틱 D 상, 스멕틱 E 상, 스멕틱 F 상, 스멕틱 G 상, 스멕틱 H 상, 스멕틱 I 상, 스멕틱 J 상, 스멕틱 K 상 및 스멕틱 L 상을 의미하고, 이들 중에서도, 스멕틱 B 상, 스멕틱 F 상 및 스멕틱 I 상이 보다 바람직하다. 액정성은 서모트로픽성 액정이어도 되고 리오트로픽성 액정이어도 되지만, 치밀한 막두께 제어가 가능한 점에서 서모트로픽성 액정이 바람직하다. 또, 중합성 액정 화합물 (A) 는 모노머여도 되지만, 중합성기가 중합한 올리고머여도 되고 폴리머여도 된다.In the present invention, the polymerizable liquid crystal compound (A) is preferably a compound that exhibits smectic liquid crystallinity. By using a polymerizable liquid crystal compound exhibiting smectic liquid crystallinity, a polarizing layer with a high degree of orientation order can be formed. From the viewpoint of realizing a higher degree of orientation order, it is more preferable that the liquid crystal state exhibited by the polymerizable liquid crystal compound (A) is a high-order smectic phase (high-order smectic liquid crystal state). Here, the higher order Smectic phase means Smectic B phase, Smectic D phase, Smectic E phase, Smectic F phase, Smectic G phase, Smectic H phase, Smectic I phase, Smectic J phase, and Smectic phase. K phase and Smectic L phase, and among these, Smectic B phase, Smectic F phase and Smectic I phase are more preferable. The liquid crystal may be thermotropic liquid crystal or lyotropic liquid crystal, but thermotropic liquid crystal is preferable because it allows precise film thickness control. In addition, the polymerizable liquid crystal compound (A) may be a monomer, but may be an oligomer polymerized by a polymerizable group or a polymer.

중합성 액정 화합물 (A) 로는, 적어도 1 개의 중합성기를 갖는 액정 화합물이면 특별히 한정되지 않고, 공지된 중합성 액정 화합물을 사용할 수 있지만, 스멕틱 액정성을 나타내는 화합물이 바람직하다. 그러한 중합성 액정 화합물로는, 예를 들어, 하기 식 (A1) 로 나타내는 화합물 (이하,「중합성 액정 화합물 (A1)」이라고 하는 경우가 있다) 을 들 수 있다.The polymerizable liquid crystal compound (A) is not particularly limited as long as it is a liquid crystal compound having at least one polymerizable group. A known polymerizable liquid crystal compound can be used, but a compound exhibiting smectic liquid crystallinity is preferred. Examples of such a polymerizable liquid crystal compound include a compound represented by the following formula (A1) (hereinafter sometimes referred to as “polymerizable liquid crystal compound (A1)”).

U1-V1-W1-(X1-Y1)n-X2-W2-V2-U2 (A1) U 1 -V 1 -W 1 -(X 1 -Y 1 ) n -X 2 -W 2 -V 2 -U 2 (A1)

[식 (A1) 중,[In equation (A1),

X1 및 X2 는, 서로 독립적으로, 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 여기서, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 구성하는 탄소 원자가, 산소 원자 또는 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 된다. 단, X1 및 X2 중 적어도 1 개는, 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-페닐렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 시클로헥산-1,4-디일기이다.X 1 and It may be substituted with an alkyl group of 4, a fluoroalkyl group of 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group of 1 to 4 carbon atoms, a cyano group or a nitro group, and the carbon atom constituting the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group may be an oxygen atom. Alternatively, it may be substituted with a sulfur atom or a nitrogen atom. However, at least one of X 1 and X 2 is a 1,4-phenylene group which may have a substituent or a cyclohexane-1,4-diyl group which may have a substituent.

Y1 은, 단결합 또는 2 가의 연결기이다.Y 1 is a single bond or a divalent linking group.

n 은 1 ∼ 3 이고, n 이 2 이상인 경우, 복수의 X1 은 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. X2 는, 복수의 X1 중 어느 것 또는 전부와 동일해도 되고, 상이해도 된다. 또, n 이 2 이상인 경우, 복수의 Y1 은 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. 액정성의 관점에서 n 은 2 이상이 바람직하다.n is 1 to 3, and when n is 2 or more, plural X 1 may be the same or different. X 2 may be the same as or different from any or all of a plurality of X 1 . Moreover, when n is 2 or more, a plurality of Y 1 may be the same or different from each other. From the viewpoint of liquid crystallinity, n is preferably 2 or more.

U1 은, 수소 원자 또는 중합성기를 나타낸다.U 1 represents a hydrogen atom or a polymerizable group.

U2 는, 중합성기를 나타낸다.U 2 represents a polymerizable group.

W1 및 W2 는, 서로 독립적으로, 단결합 또는 2 가의 연결기이다.W 1 and W 2 are independently a single bond or a divalent linking group.

V1 및 V2 는, 서로 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기를 구성하는 -CH2- 는, -O-, -CO-, -S- 또는 NH- 로 치환되어 있어도 된다.]V 1 and V 2 independently represent an alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2 - constituting the alkanediyl group is -O-, -CO-, -S It may be substituted with - or NH-.]

중합성 액정 화합물 (A1) 에 있어서, X1 및 X2 는, 서로 독립적으로, 바람직하게는, 치환기를 가지고 있어도 되는 1,4-페닐렌기, 또는, 치환기를 가지고 있어도 되는 시클로헥산-1,4-디일기이고, X1 및 X2 중의 적어도 1 개는, 치환기를 가지고 있어도 되는 1,4-페닐렌기, 또는, 치환기를 가지고 있어도 되는 시클로헥산-1,4-디일기이고, 트랜스-시클로헥산-1,4-디일기인 것이 바람직하다. 치환기를 가지고 있어도 되는 1,4-페닐렌기, 또는, 치환기를 가지고 있어도 되는 시클로헥산-1,4-디일기가 임의로 갖는 치환기로는, 메틸기, 에틸기 및 부틸기 등의 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 시아노기 및 염소 원자, 불소 원자 등의 할로겐 원자를 들 수 있다. 바람직하게는 무치환이다.In the polymerizable liquid crystal compound (A1), X 1 and -diyl group, and at least one of X 1 and -1,4-diyl group is preferred. The substituents that the 1,4-phenylene group, which may have a substituent, or the cyclohexane-1,4-diyl group, which may have a substituent, optionally have, include alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, and butyl group, Halogen atoms such as cyano group, chlorine atom, and fluorine atom can be mentioned. Preferably, it is unsubstituted.

또, 중합성 액정 화합물 (A1) 은, 식 (A1) 중, 식 (A1-1) :In addition, the polymerizable liquid crystal compound (A1) has the formula (A1-1) in formula (A1):

-(X1-Y1)n-X2- (A1-1) -(X 1 -Y 1 ) n -X 2 - (A1-1)

[식 중, X1, Y1, X2 및 n 은 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.][In the formula, X 1 , Y 1 , X 2 and n each have the same meaning as above.]

로 나타내는 부분 (이하, 부분 구조 (A1-1) 이라고도 한다) 이 비대칭 구조인 것이, 스멕틱 액정성을 발현하기 쉬운 점에서 바람직하다.It is preferable that the portion represented by (hereinafter also referred to as partial structure (A1-1)) has an asymmetric structure because it is easy to develop smectic liquid crystallinity.

부분 구조 (A1-1) 이 비대칭 구조인 중합성 액정 화합물 (A1) 로는, 예를 들어, n 이 1 이고, 1 개의 X1 과 X2 가 서로 상이한 구조인 중합성 액정 화합물 (A1) 을 들 수 있다. 또, n 이 2 이고, 2 개의 Y1 이 서로 동일한 구조인 화합물로서, 2 개의 X1 이 서로 동일한 구조이고, 1 개의 X2 는 이들 2 개의 X1 과는 상이한 구조인 중합성 액정 화합물 (A1), 2 개의 X1 중 W1 에 결합하는 X1 이, 타방의 X1 및 X2 와는 상이한 구조이고, 타방의 X1 과 X2 와는 서로 동일한 구조인 중합성 액정 화합물 (A1) 도 들 수 있다. 또한, n 이 3 이고, 3 개의 Y1 이 서로 동일한 구조인 화합물로서, 3 개의 X1 및 1 개의 X2 중 어느 1 개가 다른 3 개의 전부와 상이한 구조인 중합성 액정 화합물 (A1) 을 들 수 있다.Examples of the polymerizable liquid crystal compound (A1) whose partial structure (A1-1) is an asymmetric structure include polymerizable liquid crystal compound (A1) where n is 1 and one X 1 and one X 2 have different structures. You can. In addition, a polymerizable liquid crystal compound in which n is 2, two Y 1s have the same structure, two X 1s have the same structure, and one X 2 has a different structure from the two X 1s (A1) ), a polymerizable liquid crystal compound ( A1 ) in which X 1 bonded to W 1 among the two there is. In addition, as a compound in which n is 3 and three Y 1 have the same structure, a polymerizable liquid crystal compound (A1) in which any one of the three X 1 and one X 2 has a structure different from all the other three can be mentioned. there is.

Y1 은, -CH2CH2-, -CH2O-, -CH2CH2O-, -COO-, -OCOO-, 단결합, -N=N-, -CRa=CRb-, -C≡C-, -CRa=N- 또는 -CO-NRa- 가 바람직하다. Ra 및 Rb 는, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다. Y1 은, -CH2CH2-, -COO- 또는 단결합인 것이 보다 바람직하고, 복수의 Y1 이 존재하는 경우, X2 와 결합하는 Y1 은, -CH2CH2- 또는 CH2O- 인 것이 보다 바람직하다. X1 및 X2 가 전부 동일 구조인 경우, 서로 상이한 결합 방식인 2 이상의 Y1 이 존재하는 것이 바람직하다. 서로 상이한 결합 방식인 복수의 Y1 이 존재하는 경우에는, 비대칭 구조가 되기 때문에, 스멕틱 액정성이 발현되기 쉬운 경향이 있다.Y 1 is -CH 2 CH 2 -, -CH 2 O-, -CH 2 CH 2 O-, -COO-, -OCOO-, single bond, -N=N-, -CR a =CR b -, -C≡C-, -CR a =N- or -CO-NR a - are preferred. R a and R b each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Y 1 is more preferably -CH 2 CH 2 -, -COO- or a single bond, and when a plurality of Y 1 exists, Y 1 bonded to X 2 is -CH 2 CH 2 - or CH 2 It is more preferable that it is O-. When both X 1 and X 2 have the same structure, it is preferable that two or more Y 1s with different bonding methods exist. When a plurality of Y 1s with different bonding methods exist, an asymmetric structure is formed, and smectic liquid crystallinity tends to occur.

U2 는, 중합성기이다. U1 은, 수소 원자 또는 중합성기이고, 바람직하게는 중합성기이다. U1 및 U2 가 모두 중합성기인 것이 바람직하고, 모두 라디칼 중합성기인 것이 바람직하다. 중합성기로는, 중합성 액정 화합물 (A) 가 갖는 중합성기로서 앞서 예시한 기와 동일한 것을 들 수 있다. U1 로 나타내는 중합성기와 U2 로 나타내는 중합성기는, 서로 상이해도 되지만, 동일한 종류의 기인 것이 바람직하고, U1 및 U2 중 적어도 일방이 (메트)아크릴로일기인 것이 바람직하고, 양방이 (메트)아크릴로일기인 것이 보다 바람직하다. 또, 중합성기는 중합되어 있는 상태여도 되고, 미중합의 상태여도 되지만, 바람직하게는 미중합의 상태이다.U 2 is a polymerizable group. U 1 is a hydrogen atom or a polymerizable group, and is preferably a polymerizable group. It is preferable that both U 1 and U 2 are polymerizable groups, and it is preferable that both are radical polymerizable groups. Examples of the polymerizable group include the same groups as those previously exemplified as the polymerizable group possessed by the polymerizable liquid crystal compound (A). The polymerizable group represented by U 1 and the polymerizable group represented by U 2 may be different from each other, but are preferably groups of the same type, and at least one of U 1 and U 2 is preferably a (meth)acryloyl group, and both are It is more preferable that it is a (meth)acryloyl group. In addition, the polymerizable group may be in a polymerized state or in an unpolymerized state, but is preferably in an unpolymerized state.

V1 및 V2 로 나타내는 알칸디일기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 데칸-1,10-디일기, 테트라데칸-1,14-디일기 및 이코산-1,20-디일기 등을 들 수 있다. V1 및 V2 는, 바람직하게는 탄소수 2 ∼ 12 의 알칸디일기이고, 보다 바람직하게는 탄소수 6 ∼ 12 의 알칸디일기이다.Alkanediyl groups represented by V 1 and V 2 include methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1, 5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, decane-1,10-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group and icosane-1,20-diyl group. V 1 and V 2 are preferably an alkanediyl group having 2 to 12 carbon atoms, and more preferably an alkanediyl group having 6 to 12 carbon atoms.

그 알칸디일기가 임의로 갖는 치환기로는, 시아노기 및 할로겐 원자 등을 들 수 있지만, 그 알칸디일기는, 무치환인 것이 바람직하고, 무치환의 직사슬형 알칸디일기인 것이 보다 바람직하다.Substituents that the alkanediyl group optionally has include a cyano group and a halogen atom, but the alkanediyl group is preferably unsubstituted, and more preferably is an unsubstituted linear alkanediyl group.

W1 및 W2 는, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -S-, -COO- 또는 -OCOO- 가 바람직하고, 단결합 또는 -O- 가 보다 바람직하다.W 1 and W 2 are, independently of each other, preferably a single bond, -O-, -S-, -COO-, or -OCOO-, and more preferably a single bond or -O-.

중합성 액정 화합물 (A) 로는, 적어도 1 개의 중합성기를 갖는 중합성 액정 화합물이면 특별히 한정되지 않고, 공지된 중합성 액정 화합물을 사용할 수 있지만, 스멕틱 액정성을 나타내는 것이 바람직하고, 스멕틱 액정성을 나타내기 쉬운 구조로는, 분자 구조 중에 비대칭성의 분자 구조를 갖는 것이 바람직하고, 구체적으로는 하기 (A-a) ∼ (A-i) 의 부분 구조를 갖는 중합성 액정 화합물로서 스멕틱 액정성을 나타내는 중합성 액정 화합물인 것이 보다 바람직하다. 고차 스멕틱 액정성을 나타내기 쉽다는 관점에서 (A-a), (A-b) 또는 (A-c) 의 부분 구조를 갖는 것이 보다 바람직하다. 또한, 하기 (A-a) ∼ (A-i) 에 있어서, * 는 결합손 (단결합) 을 나타낸다.The polymerizable liquid crystal compound (A) is not particularly limited as long as it is a polymerizable liquid crystal compound having at least one polymerizable group. Known polymerizable liquid crystal compounds can be used, but those that exhibit smectic liquid crystallinity are preferred, and smectic liquid crystals are preferred. As a structure that tends to exhibit a property, it is preferable to have an asymmetric molecular structure in the molecular structure, and specifically, a polymerizable liquid crystal compound having the following partial structures (A-a) to (A-i), which exhibits smectic liquid crystallinity. It is more preferable that it is a liquid crystal compound. From the viewpoint of easy to exhibit high-order smectic liquid crystallinity, it is more preferable to have a partial structure of (A-a), (A-b), or (A-c). In addition, in (A-a) to (A-i) below, * represents a bond (single bond).

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

중합성 액정 화합물 (A) 로는, 구체적으로는 예를 들어, 식 (A-1) ∼ 식 (A-25) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다. 중합성 액정 화합물 (A) 가 시클로헥산-1,4-디일기를 갖는 경우, 그 시클로헥산-1,4-디일기는, 트랜스체인 것이 바람직하다.Specific examples of the polymerizable liquid crystal compound (A) include compounds represented by formulas (A-1) to (A-25). When the polymerizable liquid crystal compound (A) has a cyclohexane-1,4-diyl group, the cyclohexane-1,4-diyl group is preferably a trans body.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

이들 중에서도, 식 (A-2), 식 (A-3), 식 (A-4), 식 (A-5), 식 (A-6), 식 (A-7), 식 (A-8), 식 (A-13), 식 (A-14), 식 (A-15), 식 (A-16) 및 식 (A-17) 로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이 바람직하다. 중합성 액정 화합물 (A) 로서, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Among these, formula (A-2), formula (A-3), formula (A-4), formula (A-5), formula (A-6), formula (A-7), formula (A-8) ), at least one member selected from the group consisting of compounds represented by formula (A-13), formula (A-14), formula (A-15), formula (A-16) and formula (A-17) is preferred. . As the polymerizable liquid crystal compound (A), one type may be used individually, or two or more types may be used in combination.

중합성 액정 화합물 (A) 는, 예를 들어, Lub 등, Recl. Trav. Chim. Pays-Bas, 115, 321-328 (1996), 또는 일본 특허 제4719156호 등에 기재된 공지된 방법으로 제조할 수 있다.Polymerizable liquid crystal compounds (A) are described, for example, in Lub et al., Recl. Trav. Chim. It can be produced by a known method described in Pays-Bas, 115, 321-328 (1996), or Japanese Patent No. 4719156.

본 발명에 있어서, 편광층 형성용 조성물은, 중합성 액정 화합물 (A) 이외의 다른 중합성 액정 화합물을 포함하고 있어도 되지만, 배향 질서도가 높은 편광층을 얻는 관점에서, 편광층 형성용 조성물에 포함되는 전체 중합성 액정 화합물의 총 질량에 대한 중합성 액정 화합물 (A) 의 비율은, 바람직하게는 51 질량% 이상이고, 보다 바람직하게는 70 질량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 90 질량% 이상이다.In the present invention, the composition for forming a polarizing layer may contain a polymerizable liquid crystal compound other than the polymerizable liquid crystal compound (A), but from the viewpoint of obtaining a polarizing layer with a high degree of orientation order, the composition for forming a polarizing layer The ratio of the polymerizable liquid crystal compound (A) to the total mass of all polymerizable liquid crystal compounds contained is preferably 51 mass% or more, more preferably 70 mass% or more, and even more preferably 90 mass% or more. am.

편광층 형성용 조성물이 2 종 이상의 중합성 액정 화합물 (A) 를 포함하는 경우, 그 중 적어도 1 종이 중합성 액정 화합물 (A1) 이어도 되고, 그 전체가 중합성 액정 화합물 (A1) 이어도 된다. 복수의 중합성 액정 화합물을 조합함으로써, 액정-결정 상전이 온도 이하의 온도에서도 일시적으로 액정성을 유지할 수 있는 경우가 있다.When the composition for forming a polarizing layer contains two or more types of polymerizable liquid crystal compounds (A), at least one of them may be the polymerizable liquid crystal compound (A1), or all of them may be the polymerizable liquid crystal compounds (A1). By combining a plurality of polymerizable liquid crystal compounds, liquid crystallinity may be temporarily maintained even at a temperature below the liquid crystal-crystal phase transition temperature.

편광층 형성용 조성물에 있어서의 중합성 액정 화합물의 함유량은, 편광층 형성용 조성물의 고형분에 대하여, 바람직하게는 40 ∼ 99.9 질량% 이고, 보다 바람직하게는 60 ∼ 99 질량% 이고, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 99 질량% 이다. 중합성 액정 화합물의 함유량이 상기 범위 내이면, 중합성 액정 화합물의 배향성이 높아지는 경향이 있다. 또한, 여기서 말하는「고형분」이란, 편광층 형성용 조성물로부터 용제 등의 휘발 성분을 제외한 성분을 말하고, 이하, 본 명세서에 있어서「고형분」이라고 하는 경우에는, 동일하게, 대상으로 하는 조성물로부터 용제 등의 휘발성 성분을 제외한 성분을 말한다.The content of the polymerizable liquid crystal compound in the composition for forming a polarizing layer is preferably 40 to 99.9% by mass, more preferably 60 to 99% by mass, and still more preferably is 70 to 99% by mass. When the content of the polymerizable liquid crystal compound is within the above range, the orientation of the polymerizable liquid crystal compound tends to increase. In addition, the "solid content" herein refers to components excluding volatile components such as solvents from the composition for forming a polarizing layer, and hereinafter, when referred to as "solid content" in this specification, the same applies to solvents, etc. from the target composition. Refers to ingredients excluding volatile ingredients.

본 발명에 있어서, 편광층을 형성하는 편광층 형성용 조성물은, 통상적으로 이색성 색소를 포함한다.In the present invention, the composition for forming a polarizing layer that forms a polarizing layer usually contains a dichroic dye.

여기서, 이색성 색소란, 분자의 장축 방향에 있어서의 흡광도와, 단축 방향에 있어서의 흡광도가 상이한 성질을 갖는 색소를 의미한다. 본 발명에 있어서 사용할 수 있는 이색성 색소는, 상기 성질을 갖는 것이면 특별히 제한되지 않고, 염료여도 되고, 안료여도 된다. 또, 2 종 이상의 염료 또는 안료를 각각 조합하여 사용해도 되고, 염료와 안료를 조합하여 사용해도 된다. 또, 이색성 색소는, 중합성을 갖고 있어도 되고, 액정성을 갖고 있어도 된다.Here, a dichroic dye means a dye having properties where the absorbance in the major axis direction of the molecule and the absorbance in the minor axis direction are different. The dichroic dye that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it has the above properties, and may be a dye or a pigment. Moreover, two or more types of dyes or pigments may be used in combination, or a dye and a pigment may be used in combination. Moreover, the dichroic dye may have polymerizability or may have liquid crystallinity.

이색성 색소로는, 300 ∼ 700 ㎚ 의 범위에 극대 흡수 파장 (λMAX) 을 갖는 것이 바람직하다. 이와 같은 이색성 색소로는, 예를 들어, 아크리딘 색소, 옥사진 색소, 시아닌 색소, 나프탈렌 색소, 아조 색소 및 안트라퀴논 색소 등을 들 수 있다.As a dichroic dye, it is preferable to have a maximum absorption wavelength ( λMAX ) in the range of 300 to 700 nm. Examples of such dichroic dyes include acridine dye, oxazine dye, cyanine dye, naphthalene dye, azo dye, and anthraquinone dye.

아조 색소로는, 모노아조 색소, 비스아조 색소, 트리스아조 색소, 테트라키스아조 색소 및 스틸벤아조 색소 등을 들 수 있고, 비스아조 색소 및 트리스아조 색소가 바람직하며, 예를 들어, 식 (I) 로 나타내는 화합물 (이하,「화합물 (I)」이라고도 한다) 을 들 수 있다.Examples of azo dyes include monoazo dyes, bisazo dyes, trisazo dyes, tetrakis azo dyes, and stilbenazo dyes, and bisazo dyes and trisazo dyes are preferred, for example, formula (I ) (hereinafter also referred to as “compound (I)”) represented by .

K1(-N=N-K2)p-N=N-K3 (I)K 1 (-N=NK 2 ) p -N=NK 3 (I)

[식 (I) 중, K1 및 K3 은, 서로 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기, 치환기를 갖고 있어도 되는 벤조산페닐에스테르기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 1 가의 복소 고리기를 나타낸다. K2 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 p-페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프탈렌-1,4-디일기, 치환기를 갖고 있어도 되는 4,4'-스틸베닐렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 복소 고리기를 나타낸다. p 는 0 ∼ 4 의 정수를 나타낸다. p 가 2 이상의 정수인 경우, 복수의 K2 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. 가시역에 흡수를 나타내는 범위에서 -N=N- 결합이 -C=C-, -COO-, -NHCO-, -N=CH- 결합으로 치환되어 있어도 된다.][In formula (I), K 1 and K 3 are independently of each other a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a benzoic acid phenyl ester group which may have a substituent, or a monovalent group which may have a substituent. Represents a heterocyclic group. K 2 is a p-phenylene group which may have a substituent, a naphthalene-1,4-diyl group which may have a substituent, a 4,4'-stilbenylene group which may have a substituent, or a divalent heterogeneous group which may have a substituent. It represents a ring group. p represents an integer from 0 to 4. When p is an integer of 2 or more, a plurality of K 2 may be the same or different from each other. In the range that shows absorption in the visible region, the -N=N- bond may be substituted with a -C=C-, -COO-, -NHCO-, or -N=CH- bond.]

1 가의 복소 고리기로는, 예를 들어, 퀴놀린, 티아졸, 벤조티아졸, 티에노 티아졸, 이미다졸, 벤조이미다졸, 옥사졸, 벤조옥사졸 등의 복소 고리 화합물로부터 1 개의 수소 원자를 제거한 기를 들 수 있다. 2 가의 복소 고리기로는, 상기 복소 고리 화합물로부터 2 개의 수소 원자를 제거한 기를 들 수 있다.Monovalent heterocyclic groups include, for example, those with one hydrogen atom removed from heterocyclic compounds such as quinoline, thiazole, benzothiazole, thienothiazole, imidazole, benzoimidazole, oxazole, and benzooxazole. You can raise your flag. Examples of the divalent heterocyclic group include groups obtained by removing two hydrogen atoms from the above heterocyclic compound.

K1 및 K3 에 있어서의 페닐기, 나프틸기, 벤조산페닐에스테르기 및 1 가의 복소 고리기, 그리고 K2 에 있어서의 p-페닐렌기, 나프탈렌-1,4-디일기, 4,4'-스틸베닐렌기 및 2 가의 복소 고리기가 임의로 갖는 치환기로는, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 중합성기를 갖는 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알케닐기 ; 메톡시기, 에톡시기, 부톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 20 의 알콕시기 ; 중합성기를 갖는 탄소수 1 ∼ 20 의 알콕시기 ; 트리플루오로메틸기 등의 탄소수 1 ∼ 4 의 불화알킬기 ; 시아노기 ; 니트로기 ; 할로겐 원자 ; 아미노기, 디에틸아미노기, 피롤리디노기 등의 치환 또는 무치환 아미노기 (치환 아미노기란, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 1 개 또는 2 개 갖는 아미노기, 중합성기를 갖는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 1 개 또는 2 개 갖는 아미노기, 혹은 2 개의 치환 알킬기가 서로 결합하여 탄소수 2 ∼ 8 의 알칸디일기를 형성하고 있는 아미노기를 의미한다. 무치환 아미노기는 -NH2 이다.) 등을 들 수 있다. 또한, 상기 중합성기로는, (메트)아크릴로일기, (메트)아크릴로일옥시기 등을 들 수 있다.phenyl group, naphthyl group, benzoic acid phenyl ester group and monovalent heterocyclic group for K 1 and K 3 , and p-phenylene group, naphthalene-1,4-diyl group and 4,4'-steel group for K 2 The substituents that the benylene group and the divalent heterocyclic group optionally have include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a polymerizable group, and an alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms; Alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms, such as methoxy group, ethoxy group, and butoxy group; An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms and having a polymerizable group; fluorinated alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, such as trifluoromethyl group; Cyano group; nitro group; halogen atom; Substituted or unsubstituted amino groups such as amino groups, diethylamino groups, and pyrrolidino groups (a substituted amino group refers to an amino group having one or two alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having a polymerizable group) Alternatively, it means an amino group in which two amino groups, or two substituted alkyl groups are bonded together to form an alkanediyl group having 2 to 8 carbon atoms. An unsubstituted amino group is -NH 2. ), and the like. In addition, examples of the polymerizable group include (meth)acryloyl group and (meth)acryloyloxy group.

화합물 (I) 중에서도, 이하의 식 (I-1) ∼ 식 (I-8) 중 어느 것으로 나타내는 화합물이 바람직하다.Among compounds (I), compounds represented by any of the following formulas (I-1) to (I-8) are preferable.

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

[식 (I-1) ∼ (I-8) 중,[In formulas (I-1) to (I-8),

B1 ∼ B30 은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알케닐기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 시아노기, 니트로기, 치환 또는 무치환의 아미노기 (치환 아미노기 및 무치환 아미노기의 정의는 상기와 같다), 염소 원자 또는 트리플루오로메틸기를 나타낸다.B 1 to B 30 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, or a substituted or unsubstituted amino group ( The definitions of substituted amino group and unsubstituted amino group are as above), chlorine atom or trifluoromethyl group.

n1 ∼ n4 는, 서로 독립적으로 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.n1 to n4 independently represent integers from 0 to 3.

n1 이 2 이상인 경우, 복수의 B2 는 서로 동일해도 되고 상이해도 되고,When n1 is 2 or more, the plurality of B 2 may be the same or different from each other,

n2 가 2 이상인 경우, 복수의 B6 은 서로 동일해도 되고 상이해도 되고,When n2 is 2 or more, a plurality of B 6 may be the same or different from each other,

n3 이 2 이상인 경우, 복수의 B9 는 서로 동일해도 되고 상이해도 되고,When n3 is 2 or more, a plurality of B 9 may be the same or different from each other,

n4 가 2 이상인 경우, 복수의 B14 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.]When n4 is 2 or more, the plurality of B 14 may be the same or different from each other.]

상기 안트라퀴논 색소로는, 식 (I-9) 로 나타내는 화합물이 바람직하다.As the anthraquinone dye, a compound represented by formula (I-9) is preferable.

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

[식 (I-9) 중,[In formula (I-9),

R1 ∼ R8 은, 서로 독립적으로, 수소 원자, -Rx, -NH2, -NHRx, -NRx 2, -SRx 또는 할로겐 원자를 나타낸다.R 1 to R 8 independently represent a hydrogen atom, -R x , -NH 2 , -NHR x , -NR x 2 , -SR x or a halogen atom.

Rx 는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 또는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타낸다.]R x represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.]

상기 옥사존 색소로는, 식 (I-10) 으로 나타내는 화합물이 바람직하다.As the oxazone dye, a compound represented by formula (I-10) is preferable.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

[식 (I-10) 중,[In formula (I-10),

R9 ∼ R15 는, 서로 독립적으로, 수소 원자, -Rx, -NH2, -NHRx, -NRx 2, -SRx 또는 할로겐 원자를 나타낸다.R 9 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, -R x , -NH 2 , -NHR x , -NR x 2 , -SR x or a halogen atom.

Rx 는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 또는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타낸다.]R x represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.]

상기 아크리딘 색소로는, 식 (I-11) 로 나타내는 화합물이 바람직하다.As the acridine dye, a compound represented by formula (I-11) is preferable.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

[식 (I-11) 중,[In formula (I-11),

R16 ∼ R23 은, 서로 독립적으로, 수소 원자, -Rx, -NH2, -NHRx, -NRx 2, -SRx 또는 할로겐 원자를 나타낸다.R 16 to R 23 independently represent a hydrogen atom, -R x , -NH 2 , -NHR x , -NR x 2 , -SR x or a halogen atom.

Rx 는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 또는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타낸다.]R x represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.]

식 (I-9), 식 (I-10) 및 식 (I-11) 에 있어서, Rx 의 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기 및 헥실기 등을 들 수 있고, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로는, 페닐기, 톨루일기, 자일릴기 및 나프틸기 등을 들 수 있다.In formula (I-9), formula (I-10) and formula (I-11), the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms for R x is methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group and hexyl group. and the like, and examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include phenyl group, toluyl group, xylyl group, and naphthyl group.

상기 시아닌 색소로는, 식 (I-12) 로 나타내는 화합물 및 식 (I-13) 으로 나타내는 화합물이 바람직하다.As the cyanine dye, a compound represented by formula (I-12) and a compound represented by formula (I-13) are preferable.

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

[식 (I-12) 중,[In formula (I-12),

D1 및 D2 는, 서로 독립적으로, 식 (I-12a) ∼ 식 (I-12d) 중 어느 것으로 나타내는 기를 나타낸다.D 1 and D 2 independently represent a group represented by any of formulas (I-12a) to (I-12d).

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

n5 는 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.]n5 represents an integer from 1 to 3.]

[화학식 11][Formula 11]

Figure pct00011
Figure pct00011

[식 (I-13) 중,[In formula (I-13),

D3 및 D4 는, 서로 독립적으로, 식 (I-13a) ∼ 식 (1-13h) 중 어느 것으로 나타내는 기를 나타낸다.D 3 and D 4 each independently represent a group represented by any of formulas (I-13a) to (1-13h).

[화학식 12][Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

n6 은 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.]n6 represents an integer from 1 to 3.]

이들의 이색성 색소 중에서도, 아조 색소는 직선성이 높기 때문에 편광 성능이 우수한 편광층의 제작에 바람직하다. 따라서, 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 편광층을 형성하는 편광층 형성용 조성물에 포함되는 이색성 색소는, 바람직하게는 아조 색소이다.Among these dichroic dyes, azo dyes have high linearity and are therefore preferable for producing a polarizing layer with excellent polarization performance. Therefore, in one embodiment of the present invention, the dichroic dye contained in the composition for forming a polarizing layer that forms the polarizing layer is preferably an azo dye.

본 발명에 있어서, 이색성 색소의 중량 평균 분자량은, 통상적으로 300 ∼ 2000 이고, 바람직하게는 400 ∼ 1000 이다.In this invention, the weight average molecular weight of a dichroic dye is normally 300-2000, Preferably it is 400-1000.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 편광층을 형성하는 편광층 형성용 조성물에 포함되는 이색성 색소는 소수성인 것이 바람직하다. 이색성 색소가 소수성이면, 이색성 색소와 중합성 액정 화합물의 상용성이 향상되고, 이색성 색소와 중합성 액정 화합물이 균일한 상 상태를 형성하고, 높은 배향 질서도를 갖는 편광층을 얻을 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서, 소수성의 이색성 색소란, 25 ℃, 100 g 의 물에 대한 용해도가 1 g 이하인 색소를 의미한다.In one embodiment of the present invention, the dichroic dye contained in the composition for forming a polarizing layer is preferably hydrophobic. If the dichroic dye is hydrophobic, the compatibility between the dichroic dye and the polymerizable liquid crystal compound is improved, the dichroic dye and the polymerizable liquid crystal compound form a uniform phase state, and a polarizing layer with a high degree of orientation order can be obtained. there is. In addition, in this invention, a hydrophobic dichroic dye means a dye whose solubility in 100 g of water at 25°C is 1 g or less.

편광층 형성용 조성물에 있어서의 이색성 색소의 함유량은, 사용하는 이색성 색소의 종류 등에 따라 적절히 결정할 수 있지만, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 ∼ 50 질량부이고, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 20 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.1 ∼ 12 질량부이다. 이색성 색소의 함유량이 상기 범위 내이면, 중합성 액정 화합물의 배향을 흐트러뜨리기 어려워, 높은 배향 질서도를 갖는 편광층을 얻을 수 있다.The content of the dichroic dye in the composition for forming a polarizing layer can be appropriately determined depending on the type of dichroic dye used, etc., but is preferably 0.1 to 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. Preferably it is 0.1 to 20 parts by mass, and more preferably 0.1 to 12 parts by mass. If the content of the dichroic dye is within the above range, it is difficult to disturb the orientation of the polymerizable liquid crystal compound, and a polarizing layer with a high degree of orientation order can be obtained.

본 발명에 있어서, 편광층을 형성하기 위한 편광층 형성용 조성물은, 중합 개시제를 함유하고 있어도 된다. 중합 개시제는, 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 개시할 수 있는 화합물이며, 보다 저온 조건하에서 중합 반응을 개시할 수 있는 점에 있어서 광 중합 개시제가 바람직하다. 구체적으로는, 광의 작용에 의해 활성 라디칼 또는 산을 발생시킬 수 있는 광 중합 개시제를 들 수 있고, 그 중에서도, 광의 작용에 의해 라디칼을 발생시키는 광 중합 개시제가 바람직하다. 중합 개시제는 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다.In the present invention, the composition for forming a polarizing layer for forming a polarizing layer may contain a polymerization initiator. The polymerization initiator is a compound that can initiate the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound, and a photopolymerization initiator is preferable because it can initiate the polymerization reaction under lower temperature conditions. Specifically, photopolymerization initiators that can generate active radicals or acids by the action of light can be mentioned, and among these, photopolymerization initiators that can generate radicals by the action of light are preferable. The polymerization initiator can be used alone or in combination of two or more types.

광 중합 개시제로는, 공지된 광 중합 개시제를 사용할 수 있고, 예를 들어, 활성 라디칼을 발생시키는 광 중합 개시제로는, 자기 개열형의 광 중합 개시제, 수소 인발형의 광 중합 개시제가 있다.As the photopolymerization initiator, a known photopolymerization initiator can be used. For example, photopolymerization initiators that generate active radicals include a self-cleavage type photoinitiator and a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator.

자기 개열형의 광 중합 개시제로서, 자기 개열형의 벤조인계 화합물, 아세토페논계 화합물, 하이드록시아세토페논계 화합물, α-아미노아세토페논계 화합물, 옥심에스테르계 화합물, 아실포스핀옥사이드계 화합물, 아조계 화합물 등을 사용할 수 있다. 또, 수소 인발형 광 중합 개시제로서, 수소 인발형의 벤조페논계 화합물, 벤조인에테르계 화합물, 벤질케탈계 화합물, 디벤조수베론계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 크산톤계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 할로게노아세토페논계 화합물, 디알콕시아세토페논계 화합물, 할로게노비스이미다졸계 화합물, 할로게노트리아진계 화합물, 트리아진계 화합물 등을 사용할 수 있다.As a self-cleavage type photopolymerization initiator, self-cleavage type benzoin-based compounds, acetophenone-based compounds, hydroxyacetophenone-based compounds, α-aminoacetophenone-based compounds, oxime ester-based compounds, acylphosphine oxide-based compounds, A crude compound, etc. can be used. In addition, as a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator, hydrogen abstraction type benzophenone-based compounds, benzoin ether-based compounds, benzyl ketal-based compounds, dibenzosuberone-based compounds, anthraquinone-based compounds, xanthone-based compounds, and thioxanthone-based compounds Compounds, halogenoacetophenone-based compounds, dialkoxyacetophenone-based compounds, halogenobisimidazole-based compounds, halogenotriazine-based compounds, triazine-based compounds, etc. can be used.

산을 발생시키는 광 중합 개시제로는, 요오도늄염 및 술포늄염 등을 사용할 수 있다.As photopolymerization initiators that generate acid, iodonium salts, sulfonium salts, etc. can be used.

이 중에서도, 색소의 용해를 방지하는 관점에서 저온에서의 반응이 바람직하고, 저온에서의 반응 효율의 관점에서 자기 개열형의 광 중합 개시제가 바람직하고, 특히 아세토페논계 화합물, 하이드록시아세토페논계 화합물, α-아미노아세토페논계 화합물, 옥심에스테르계 화합물이 바람직하다.Among these, reaction at low temperature is preferable from the viewpoint of preventing dissolution of the dye, and self-cleavage type photopolymerization initiator is preferable from the viewpoint of reaction efficiency at low temperature, especially acetophenone-based compounds and hydroxyacetophenone-based compounds. , α-aminoacetophenone-based compounds, and oxime ester-based compounds are preferred.

광 중합 개시제로는, 구체적으로는 예를 들어, 이하의 것을 들 수 있다.Specific examples of photopolymerization initiators include the following.

벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 및 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인계 화합물 ;Benzoin-based compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether;

2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1,2-디페닐-2,2-디메톡시에탄-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]프로판-1-온, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤 및 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등의 하이드록시아세토페논계 화합물 ;2-Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1,2-diphenyl-2,2-dimethoxyethane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-[4 -(2-hydroxyethoxy)phenyl]propan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone and 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propane- Hydroxyacetophenone-based compounds such as 1-one oligomers;

2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-2-벤질-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등의 α-아미노아세토페논계 화합물 ;2-methyl-2-morpholino-1-(4-methylthiophenyl)propan-1-one, 2-dimethylamino-2-benzyl-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, etc. α-aminoacetophenone-based compounds;

1,2-옥탄디온,1-[4-(페닐티오)-,2-(O-벤조일옥심)], 에타논,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(O-아세틸옥심) 등의 옥심에스테르계 화합물 ; 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 및 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드계 화합물 ;1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-,2-(O-benzoyloxime)], ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-car oxime ester-based compounds such as basol-3-yl]-,1-(O-acetyloxime); Acylphosphine oxide-based compounds such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide;

벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논 및 2,4,6-트리메틸벤조페논 등의 벤조페논 화합물 ;Benzophenone, o-benzoylmethylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3',4,4'-tetra(tert-butylperoxycarbonyl)benzophenone and benzophenone compounds such as 2,4,6-trimethylbenzophenone;

디에톡시아세토페논 등의 디알콕시아세토페논계 화합물 ;Dialkoxyacetophenone-based compounds such as diethoxyacetophenone;

2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 및 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등의 트리아진계 화합물. 광 중합 개시제는, 예를 들어 상기의 광 중합 개시제로부터 편광층 형성용 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물과의 관계에 있어서 적절히 선택하면 된다.2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxynaphthyl) )-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloro methyl)-6-[2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(furan- 2-yl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(4-diethylamino-2-methylphenyl)ethenyl]-1, Triazine-based compounds such as 3,5-triazine and 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine. The photopolymerization initiator may be appropriately selected from the above photopolymerization initiators in relation to the polymerizable liquid crystal compound contained in the composition for forming a polarizing layer.

또, 시판되는 광 중합 개시제를 사용해도 된다. 시판되는 중합 개시제로는, 이르가큐어 (Irgacure) (등록상표) 907, 184, 651, 819, 250, 및 369, 379, 127, 754, OXE01, OXE02, OXE03 (BASF 사 제조) ; Omnirad BCIM, Esacure 1001M, Esacure KIP160 (IDM Resins B.V. 사 제조) ; 세이크올 (등록상표) BZ, Z, 및 BEE (세이코 화학 주식회사 제조) ; 카야큐어 (kayacure) (등록상표) BP100, 및 UVI-6992 (다우·케미컬 주식회사 제조) ; 아데카옵토마 SP-152, N-1717, N-1919, SP-170, 아데카아크루즈 NCI-831, 아데카아크루즈 NCI-930 (주식회사 ADEKA 제조) ; TAZ-A, 및 TAZ-PP (니혼 시이벨 헤그너 주식회사 제조) ; 그리고, TAZ-104 (주식회사 산와 케미컬 제조) ; 등을 들 수 있다.Additionally, you may use a commercially available photopolymerization initiator. Commercially available polymerization initiators include Irgacure (registered trademark) 907, 184, 651, 819, 250, and 369, 379, 127, 754, OXE01, OXE02, and OXE03 (manufactured by BASF); Omnirad BCIM, Esacure 1001M, Esacure KIP160 (manufactured by IDM Resins B.V.); Seikol (registered trademark) BZ, Z, and BEE (manufactured by Seiko Chemical Co., Ltd.); Kayacure (registered trademark) BP100, and UVI-6992 (manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.); Adeka Optoma SP-152, N-1717, N-1919, SP-170, Adeka Cruise NCI-831, Adeka Cruise NCI-930 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.); TAZ-A, and TAZ-PP (manufactured by Japan Siebel Hegner Co., Ltd.); And TAZ-104 (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.); etc. can be mentioned.

편광층을 형성하기 위한 편광층 형성용 조성물에 있어서의 중합 개시제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 1 ∼ 10 질량부이고, 보다 바람직하게는 1 ∼ 8 질량부, 더욱 바람직하게는 2 ∼ 8 질량부, 특히 바람직하게는 4 ∼ 8 질량부이다. 중합 개시제의 함유량이 상기의 범위 내이면, 중합성 액정 화합물의 배향을 크게 흐트러뜨리지 않고, 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 실시할 수 있다.The content of the polymerization initiator in the composition for forming a polarizing layer is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 1 to 8 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. More preferably, it is 2 to 8 parts by mass, and particularly preferably, it is 4 to 8 parts by mass. If the content of the polymerization initiator is within the above range, the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound can be performed without significantly disturbing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound.

또, 본 발명에 있어서 중합성 액정 화합물의 중합률은, 제조시의 라인 오염이나 취급의 관점에서, 60 % 이상인 것이 바람직하고, 65 % 이상이 보다 바람직하고, 70 % 이상이 더욱 바람직하다.Moreover, in the present invention, the polymerization rate of the polymerizable liquid crystal compound is preferably 60% or more, more preferably 65% or more, and still more preferably 70% or more from the viewpoint of line contamination during production and handling.

편광층 형성용 조성물은 광 증감제를 추가로 함유하고 있어도 된다. 광 증감제를 사용함으로써 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 보다 촉진시킬 수 있다. 광 증감제로는, 크산톤, 티오크산톤 등의 크산톤 화합물 (예를 들어, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤 등) ; 안트라센, 알콕시기 함유 안트라센 (예를 들어, 디부톡시안트라센 등) 등의 안트라센 화합물 ; 페노티아진 및 루브렌 등을 들 수 있다. 광 증감제는 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다.The composition for forming a polarizing layer may further contain a photosensitizer. By using a photosensitizer, the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound can be further promoted. Examples of the photosensitizer include xanthone compounds such as xanthone and thioxanthone (for example, 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, etc.); Anthracene compounds such as anthracene and alkoxy group-containing anthracene (for example, dibutoxyanthracene, etc.); Phenothiazine, rubrene, etc. can be mentioned. Photosensitizers can be used individually or in combination of two or more types.

편광층 형성용 조성물이 광 증감제를 포함하는 경우, 그 함유량은, 중합 개시제 및 중합성 액정 화합물의 종류 및 그 양에 따라 적절히 결정하면 되지만, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 0.1 ∼ 30 질량부가 바람직하고, 0.5 ∼ 10 질량부가 보다 바람직하고, 0.5 ∼ 8 질량부가 더욱 바람직하다.When the composition for forming a polarizing layer contains a photosensitizer, its content may be appropriately determined depending on the type and amount of the polymerization initiator and the polymerizable liquid crystal compound, but is 0.1 to 30 parts by mass based on 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. Parts by mass are preferable, 0.5 to 10 parts by mass are more preferable, and 0.5 to 8 parts by mass are still more preferable.

또, 편광층 형성용 조성물은 레벨링제를 포함하고 있어도 된다. 레벨링제는, 편광층 형성용 조성물의 유동성을 조정하여, 그 편광층 형성용 조성물을 도포함으로써 얻어지는 도막을 보다 평탄하게 하는 기능을 갖고, 구체적으로는, 계면 활성제를 들 수 있다. 레벨링제로는, 폴리아크릴레이트 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제 및 불소 원자 함유 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이 바람직하다. 레벨링제는 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다.Moreover, the composition for forming a polarizing layer may contain a leveling agent. The leveling agent has a function of adjusting the fluidity of the composition for forming a polarizing layer and making the coating film obtained by applying the composition for forming a polarizing layer more flat, and specifically includes a surfactant. The leveling agent is preferably at least one selected from the group consisting of a leveling agent containing a polyacrylate compound as a main component and a leveling agent containing a fluorine atom-containing compound as a main component. The leveling agent can be used alone or in combination of two or more types.

폴리아크릴레이트 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제로는, 예를 들어, "BYK-350", "BYK-352", "BYK-353", "BYK-354", "BYK-355", "BYK-358N", "BYK-361N", "BYK-380", "BYK-381" 및 "BYK-392" (BYK Chemie 사) 를 들 수 있다.Leveling agents containing polyacrylate compounds as a main component include, for example, "BYK-350", "BYK-352", "BYK-353", "BYK-354", "BYK-355", and "BYK-358N. ", "BYK-361N", "BYK-380", "BYK-381", and "BYK-392" (BYK Chemie).

불소 원자 함유 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제로는, 예를 들어,"메가팍 (등록상표) R-08", 동 "R-30", 동 “R-90", 동 “F-410", 동 “F-411", 동 “F-443", 동 “F-445", 동 “F-470", 동 “F-471", 동 “F-477", 동 “F-479", 동 “F-482” 및 동 “F-483" (DIC (주)) ; "서플론 (등록상표) S-381", 동 “S-382", 동 “S-383", 동 “S-393", 동 “SC-101", 동 “SC-105", "KH-40” 및 "SA-100" (AGC 세이미 케미칼 (주)) ; "E1830", "E5844" ((주) 다이킨 파인 케미컬 연구소) ; "에프톱 EF301”, “에프톱 EF303”, “에프톱 EF351” 및 "에프톱 EF352" (미츠비시 머티리얼 전자 화성 (주)) 를 들 수 있다.Leveling agents containing fluorine atom-containing compounds as main ingredients include, for example, “Megapak (registered trademark) R-08”, “R-30”, “R-90”, “F-410”, etc. “F-411”, “F-443”, “F-445”, “F-470”, “F-471”, “F-477”, “F-479”, “F-470” F-482” and “F-483” (DIC Co., Ltd.) ; “Suplon (registered trademark) S-381”, “S-382”, “S-383”, “S-393”, “SC-101”, “SC-105”, “KH- 40” and “SA-100” (AGC Semi Chemical Co., Ltd.) ; "E1830", "E5844" (Daikin Fine Chemical Research Institute Co., Ltd.); Examples include “Ftop EF301”, “Ftop EF303”, “Ftop EF351”, and “Ftop EF352” (Mitsubishi Material Electronics Co., Ltd.).

편광층 형성용 조성물이 레벨링제를 함유하는 경우, 그 함유량은, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 0.05 ∼ 5 질량부가 바람직하고, 0.05 ∼ 3 질량부가 보다 바람직하다. 레벨링제의 함유량이 상기의 범위 내이면, 중합성 액정 화합물을 배향시키기 쉽고, 또한, 불균일이 발생하기 어렵고, 보다 평활한 편광층을 얻을 수 있는 경향이 있다.When the composition for forming a polarizing layer contains a leveling agent, the content is preferably 0.05 to 5 parts by mass, and more preferably 0.05 to 3 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. If the content of the leveling agent is within the above range, it is easy to orient the polymerizable liquid crystal compound, non-uniformity is less likely to occur, and a smoother polarizing layer tends to be obtained.

편광층 형성용 조성물은, 광 증감제 및 레벨링제 이외의 다른 첨가제를 함유해도 된다. 다른 첨가제로는, 예를 들어, 산화 방지제, 이형제, 안정제, 블루잉제 등의 착색제, 난연제 및 활제 등을 들 수 있다. 편광층 형성용 조성물이 다른 첨가제를 함유하는 경우, 다른 첨가제의 함유량은, 편광층 형성용 조성물의 고형분에 대하여, 0 % 를 초과하고 20 질량% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0 % 를 초과하고 10 질량% 이하이다.The composition for forming a polarizing layer may contain additives other than the photosensitizer and leveling agent. Other additives include, for example, antioxidants, mold release agents, stabilizers, colorants such as bluing agents, flame retardants, and lubricants. When the composition for forming a polarizing layer contains other additives, the content of the other additive is preferably more than 0% and 20% by mass or less, more preferably more than 0%, with respect to the solid content of the composition for forming a polarizing layer. And it is 10% by mass or less.

편광층 형성용 조성물은, 종래 공지된 편광층 형성용 조성물의 조제 방법에 의해 제조할 수 있고, 통상, 중합성 액정 화합물 및 이색성 색소, 그리고, 필요에 따라 중합 개시제 및 상기 첨가제 등을 혼합, 교반함으로써 조제할 수 있다. 또, 일반적으로 스멕틱 액정성을 나타내는 화합물은 점도가 높기 때문에, 편광층 형성용 조성물의 도포성을 향상시켜 편광층의 형성을 용이하게 하는 관점에서, 편광층 형성용 조성물에 용제를 첨가함으로써 점도 조정을 실시해도 된다.The composition for forming a polarizing layer can be prepared by a conventionally known method for preparing a composition for forming a polarizing layer, and is usually mixed with a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye, and, if necessary, a polymerization initiator and the above additives. It can be prepared by stirring. In addition, since compounds exhibiting smectic liquid crystallinity generally have high viscosity, from the viewpoint of improving the applicability of the composition for forming a polarizing layer and facilitating the formation of the polarizing layer, the viscosity is increased by adding a solvent to the composition for forming a polarizing layer. Adjustments may be made.

편광층 형성용 조성물에 사용하는 용제는, 사용하는 중합성 액정 화합물 및 이색성 색소의 용해성 등에 따라 적절히 선택할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어, 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올 용제, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 락트산에틸 등의 에스테르 용제, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제, 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용제, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소 용제, 아세토니트릴 등의 니트릴 용제, 테트라하이드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 용제, 및 클로로포름, 클로로벤젠 등의 염소화 탄화수소 용제 등을 들 수 있다. 이들 용제는, 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 용제의 함유량은, 편광층 형성용 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 100 ∼ 1900 질량부이고, 보다 바람직하게는 150 ∼ 900 질량부이고, 더욱 바람직하게는 180 ∼ 600 질량부이다.The solvent used in the composition for forming a polarizing layer can be appropriately selected depending on the solubility of the polymerizable liquid crystal compound and the dichroic dye used. Specifically, for example, alcohol solvents such as water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate, Ester solvents such as ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl amyl ketone, and methyl isobutyl ketone Solvents, aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, nitrile solvents such as acetonitrile, ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane, and chlorination such as chloroform and chlorobenzene. Hydrocarbon solvents, etc. can be mentioned. These solvents can be used individually or in combination of two or more types. The content of the solvent is preferably 100 to 1900 parts by mass, more preferably 150 to 900 parts by mass, and even more preferably 180 to 600 parts by mass, based on 100 parts by mass of solid content of the composition for forming a polarizing layer.

본 발명에 있어서, 편광층은 배향 질서도가 높은 편광자인 것이 바람직하다. 배향 질서도가 높은 편광자는, X 선 회절 측정에 있어서 헥사틱상이나 크리스탈상과 같은 고차 구조 유래의 브래그 피크가 얻어진다. 브래그 피크란, 분자 배향의 면 주기 구조에서 유래하는 피크를 의미한다. 따라서, 본 발명의 광학 적층체를 구성하는 편광층은 X 선 회절 측정에 있어서 브래그 피크를 나타내는 것이 바람직하다. 즉, 본 발명의 광학 적층체를 구성하는 편광층에 있어서는, 중합성 액정 화합물 또는 그 중합체가, X 선 회절 측정에 있어서 그 편광층이 브래그 피크를 나타내도록 배향하고 있는 것이 바람직하고, 광을 흡수하는 방향으로 중합성 액정 화합물의 분자가 배향하는「수평 배향」하고 있는 것이 보다 바람직하다. 본 발명에 있어서는 분자 배향의 면 주기 간격이 3.0 ∼ 6.0 Å 인 편광자가 바람직하다. 브래그 피크를 나타내는 높은 배향 질서도는, 사용하는 중합성 액정 화합물의 종류, 이색성 색소의 종류나 그 양, 및 중합 개시제의 종류나 그 양 등을 제어함으로써 실현할 수 있다.In the present invention, it is preferable that the polarizing layer is a polarizer with a high degree of orientation order. For a polarizer with a high degree of orientation order, a Bragg peak derived from a higher-order structure such as a hexatic phase or a crystal phase is obtained in an X-ray diffraction measurement. Bragg peak refers to a peak derived from the plane periodic structure of molecular orientation. Therefore, it is preferable that the polarizing layer constituting the optical laminate of the present invention exhibits a Bragg peak in X-ray diffraction measurement. That is, in the polarizing layer constituting the optical laminate of the present invention, the polymerizable liquid crystal compound or its polymer is preferably oriented so that the polarizing layer exhibits a Bragg peak in X-ray diffraction measurement and absorbs light. It is more preferable that the molecules of the polymerizable liquid crystal compound are oriented in a “horizontal orientation”. In the present invention, a polarizer whose plane periodic interval of molecular orientation is 3.0 to 6.0 Å is preferable. A high degree of alignment order showing a Bragg peak can be realized by controlling the type of polymerizable liquid crystal compound used, the type and amount of dichroic dye, and the type and amount of polymerization initiator.

본 발명에 있어서 편광층은, 예를 들어, 기재 또는 후술하는 배향막 상에 편광층 형성용 조성물의 도막을 형성하는 것, 그 도막으로부터 용제를 제거하는 것, 중합성 액정 화합물이 액체상으로 상전이하는 온도 이상까지 승온한 후 강온하고, 그 중합성 액정 화합물을 액정상 (스멕틱상) 으로 상전이시키는 것, 및 상기 액정상을 유지한 채로 중합성 액정 화합물을 중합시키는 것을 포함하는 방법에 의해 얻을 수 있다.In the present invention, the polarizing layer is, for example, formed by forming a coating film of a composition for forming a polarizing layer on a substrate or an orientation film described later, removing a solvent from the coating film, and temperature at which the polymerizable liquid crystal compound undergoes a phase transition to the liquid phase. It can be obtained by a method including raising the temperature to the above level, lowering the temperature, causing a phase transition of the polymerizable liquid crystal compound to a liquid crystal phase (smectic phase), and polymerizing the polymerizable liquid crystal compound while maintaining the liquid crystal phase.

편광층 형성용 조성물을 기재 또는 배향막에 도포하는 방법으로는, 예를 들어, 스핀 코팅법, 익스트루전법, 그라비어 코팅법, 다이 코팅법, 바 코팅법, 어플리케이터법 등의 도포법, 플렉소법 등의 인쇄법 등의 공지된 방법을 들 수 있다.Methods for applying the composition for forming a polarizing layer to a substrate or alignment film include, for example, spin coating, extrusion, gravure coating, die coating, bar coating, applicator coating, flexo, etc. Known methods such as the printing method may be mentioned.

이어서, 편광층 형성용 조성물로부터 얻어진 도막 중에 포함되는 중합성 액정 화합물이 중합하지 않는 조건으로, 용제를 건조 등에 의해 제거함으로써, 건조 도막이 형성된다. 건조 방법으로는, 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조 및 감압 건조법 등을 들 수 있다.Next, the solvent is removed by drying or the like under the condition that the polymerizable liquid crystal compound contained in the coating film obtained from the composition for forming a polarizing layer does not polymerize, thereby forming a dry coating film. Drying methods include natural drying, ventilation drying, heat drying, and reduced pressure drying.

또한, 중합성 액정 화합물을 액체상으로 상전이시키기 위해, 중합성 액정 화합물이 액체상으로 상전이하는 온도 이상까지 승온시킨 후 강온시키고, 그 중합성 액정 화합물을 액정상 (스멕틱상) 으로 상전이시킨다. 이러한 상전이는, 상기 도막 중의 용제 제거 후에 실시해도 되고, 용제의 제거와 동시에 실시해도 된다.Additionally, in order to phase transfer the polymerizable liquid crystal compound to a liquid phase, the temperature is raised to a temperature higher than that at which the polymerizable liquid crystal compound undergoes a phase transition to a liquid phase, and then the temperature is lowered, and the polymerizable liquid crystal compound is phase transferred to a liquid crystal phase (smectic phase). This phase transition may be performed after removal of the solvent in the coating film, or may be performed simultaneously with removal of the solvent.

중합성 액정 화합물의 액정 상태를 유지한 채로, 중합성 액정 화합물을 중합시킴으로써, 편광층 형성용 조성물의 경화물로서 편광층이 형성된다. 중합 방법으로는 광 중합법이 바람직하다. 광 중합에 있어서, 건조 도막에 조사하는 광으로는, 당해 건조 도막에 포함되는 중합성 액정 화합물의 종류 (특히, 그 중합성 액정 화합물이 갖는 중합성기의 종류), 중합 개시제의 종류 및 그것들의 양 등에 따라 적절히 선택된다. 그 구체예로는, 가시광, 자외광, 적외광, X 선, α 선, β 선 및 γ 선으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 광이나 활성 전자선을 들 수 있다. 그 중에서도, 중합 반응의 진행을 제어하기 쉬운 점이나, 광 중합 장치로서 당 분야에서 광범위하게 사용되고 있는 것을 사용할 수 있다는 점에서, 자외광이 바람직하고, 자외광에 의해, 광 중합 가능하도록, 편광층 형성용 조성물에 함유되는 중합성 액정 화합물이나 중합 개시제의 종류를 선택해 두는 것이 바람직하다. 또, 중합시에 적절한 냉각 수단에 의해 건조 도막을 냉각시키면서 광 조사함으로써, 중합 온도를 제어할 수도 있다. 광 중합시에, 마스킹이나 현상을 실시하거나 하는 것 등에 의해, 패터닝된 편광층을 얻을 수도 있다.By polymerizing the polymerizable liquid crystal compound while maintaining its liquid crystal state, a polarizing layer is formed as a cured product of the composition for forming a polarizing layer. As a polymerization method, photopolymerization is preferred. In photopolymerization, the light irradiated to the dry coating film includes the type of polymerizable liquid crystal compound contained in the dry coating film (in particular, the type of polymerizable group that the polymerizable liquid crystal compound has), the type of polymerization initiator, and their amounts. It is appropriately selected depending on the etc. Specific examples include one or more types of light or active electron beams selected from the group consisting of visible light, ultraviolet light, infrared light, X-ray, α-ray, β-ray, and γ-ray. Among them, ultraviolet light is preferable because it is easy to control the progress of the polymerization reaction and because it is possible to use a photopolymerization device that is widely used in the field, and a polarizing layer is used to enable photopolymerization by ultraviolet light. It is desirable to select the type of polymerizable liquid crystal compound or polymerization initiator contained in the forming composition. Additionally, the polymerization temperature can also be controlled by irradiating the dried coating film with light while cooling it using an appropriate cooling means during polymerization. A patterned polarizing layer can also be obtained by performing masking or development during photopolymerization.

상기 활성 에너지선의 광원으로는, 저압 수은 램프, 중압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 크세논 램프, 할로겐 램프, 카본 아크등, 텅스텐 램프, 갈륨 램프, 엑시머 레이저, 파장 범위 380 ∼ 440 ㎚ 를 발광하는 LED 광원, 케미컬 램프, 블랙 라이트 램프, 마이크로 웨이브 여기 수은등, 메탈 할라이드 램프 등을 들 수 있다.Light sources of the active energy rays include low-pressure mercury lamps, medium-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high pressure mercury lamps, xenon lamps, halogen lamps, carbon arc lamps, tungsten lamps, gallium lamps, excimer lasers, and a wavelength range of 380 to 440 nm. Examples include luminescent LED light sources, chemical lamps, black light lamps, microwave-excited mercury lamps, and metal halide lamps.

자외선 조사 강도는, 통상적으로 10 ∼ 3,000 ㎽/㎠ 이다. 자외선 조사 강도는, 바람직하게는 광 중합 개시제의 활성화에 유효한 파장 영역에 있어서의 강도이다. 광을 조사하는 시간은, 통상 0.1 초 ∼ 10 분이고, 바람직하게는 1 초 ∼ 5 분, 보다 바람직하게는 5 초 ∼ 3 분, 더욱 바람직하게는 10 초 ∼ 1 분이다. 이와 같은 자외선 조사 강도로 1 회 또는 복수 회 조사하면, 그 적산 광량은, 10 ∼ 3,000 mJ/㎠, 바람직하게는 50 ∼ 2,000 mJ/㎠, 보다 바람직하게는 100 ∼ 1,000 mJ/㎠ 이다.The ultraviolet irradiation intensity is usually 10 to 3,000 mW/cm2. The ultraviolet irradiation intensity is preferably an intensity in the wavelength range effective for activation of the photopolymerization initiator. The time for irradiating light is usually 0.1 seconds to 10 minutes, preferably 1 second to 5 minutes, more preferably 5 seconds to 3 minutes, and even more preferably 10 seconds to 1 minute. When irradiated with such ultraviolet irradiation intensity once or multiple times, the accumulated light amount is 10 to 3,000 mJ/cm2, preferably 50 to 2,000 mJ/cm2, and more preferably 100 to 1,000 mJ/cm2.

광 중합을 실시함으로써, 중합성 액정 화합물은, 액정상, 특히 스멕틱상, 바람직하게는 고차 스멕틱상의 액정 상태를 유지한 채로 중합하여, 편광층이 형성된다. 중합성 액정 화합물이 스멕틱상의 액정 상태를 유지한 채로 중합하여 얻어지는 편광층은, 상기 이색성 색소의 작용에도 수반하여, 종래의 호스트 게스트형 편광 필름, 즉, 네마틱상의 액정 상태로 이루어지는 편광층과 비교하여, 편광 성능이 높다는 이점이 있다. 또한, 이색성 색소나 리오트로픽 액정만을 도포한 것과 비교하여, 강도가 우수하다는 이점도 있다.By performing photopolymerization, the polymerizable liquid crystal compound polymerizes while maintaining the liquid crystal state of a liquid crystal phase, especially a smectic phase, preferably a high-order smectic phase, and a polarizing layer is formed. A polarizing layer obtained by polymerizing a polymerizable liquid crystal compound while maintaining the smectic liquid crystal state is also accompanied by the action of the dichroic dye, and is similar to a conventional host-guest type polarizing film, that is, a polarizing layer in the nematic liquid crystal state. Compared to , it has the advantage of high polarization performance. Additionally, there is an advantage of superior strength compared to applying only dichroic dyes or lyotropic liquid crystals.

편광층의 두께는, 적용되는 표시 장치에 따라 적절히 선택할 수 있고, 바람직하게는 0.1 ∼ 5 ㎛, 보다 바람직하게는 0.3 ∼ 4 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.5 ∼ 3 ㎛ 이다. 편광층의 막두께가 상기의 하한값 이상이면, 필요한 광 흡수를 얻을 수 없게 되는 것을 방지하기 쉽고, 상기의 상한값 이하이면, 배향막에 의한 배향 규칙력의 저하에 의한 배향 결함의 발생을 억제하기 쉽다.The thickness of the polarizing layer can be appropriately selected depending on the display device to be applied, and is preferably 0.1 to 5 μm, more preferably 0.3 to 4 μm, and still more preferably 0.5 to 3 μm. If the film thickness of the polarizing layer is more than the above lower limit, it is easy to prevent the necessary light absorption from being unable to be obtained, and if it is less than the above upper limit, it is easy to suppress the occurrence of orientation defects due to a decrease in the orientation regularization force caused by the alignment film.

편광층은, 배향막 상에 형성되어 있어도 된다. 배향막은, 중합성 액정 화합물을 원하는 방향으로 액정 배향시키는 배향 규제력을 갖는 것이고, 배향막 상에 편광층 형성용 조성물을 도포함으로써 양호한 정밀도로 배향한 편광층을 얻기 쉽다. 배향막으로는, 상기 편광층 형성용 조성물의 도포 등에 의해 용해되지 않는 용제 내성을 갖고, 또, 용제의 제거나 중합성 액정 화합물의 배향을 위한 가열 처리에 있어서의 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서, 배향막으로는, 배향각의 정밀도 및 품질, 그리고, 배향막을 포함하는 광학 적층체의 내수성이나 내굴곡성 등의 관점에서 광 배향막이 바람직하다. 광 배향막은, 조사하는 편광의 편광 방향을 선택함으로써, 배향 규제력의 방향을 임의로 제어할 수 있는 점에서도 유리하다.The polarizing layer may be formed on the alignment film. The alignment film has an orientation regulating force that aligns the liquid crystal of the polymerizable liquid crystal compound in a desired direction, and it is easy to obtain a polarizing layer oriented with good precision by applying a composition for forming a polarizing layer on the alignment film. The alignment film preferably has solvent resistance that does not dissolve when the composition for forming the polarizing layer is applied, etc., and also has heat resistance in heat treatment for removing the solvent or aligning the polymerizable liquid crystal compound. In the present invention, the alignment film is preferably a photo-alignment film from the viewpoints of precision and quality of the orientation angle, and water resistance and bending resistance of the optical laminate containing the alignment film. The photo-alignment film is also advantageous in that the direction of the orientation regulating force can be arbitrarily controlled by selecting the polarization direction of the polarized light to be irradiated.

광 배향막은, 통상, 광 반응성기를 갖는 폴리머, 올리고머 또는 모노머 (이하,「광 반응성기를 갖는 폴리머 등」이라고도 한다) 와 용제를 포함하는 조성물 (이하,「광 배향막 형성용 조성물」이라고도 한다) 을, 기재 또는 필요에 따라 기재 상에 형성된 확산 방지층 상에 도포하고, 편광 (바람직하게는, 편광 UV) 을 조사함으로써 얻어진다. 광 배향막형이 형성되는 기재로는, 본 발명의 광학 적층체의 기재 필름과 동일한 것을 들 수 있다. 광 배향막 형성용 조성물에 포함되는 폴리머 등이, 편광층을 형성하는 중합성 액정 화합물이 갖는 중합성기가 갖는 관능기와 동일한 반응성기 (예를 들어, (메트)아크릴로일기) 를 가지면, 편광층과의 사이의 밀착성이 향상되는 경향이 있다.A photo-alignment film is usually a composition containing a polymer, oligomer or monomer having a photo-reactive group (hereinafter also referred to as “polymer having a photo-reactive group, etc.”) and a solvent (hereinafter also referred to as “composition for forming a photo-alignment film”). It is obtained by applying it on a substrate or, if necessary, a diffusion prevention layer formed on the substrate, and irradiating polarized light (preferably polarized UV). The substrate on which the photo-alignment film type is formed includes the same substrate as the substrate film of the optical laminate of the present invention. If the polymer contained in the composition for forming a photo-alignment film has a reactive group (for example, a (meth)acryloyl group) that is the same as the functional group of the polymerizable group of the polymerizable liquid crystal compound forming the polarizing layer, the polarizing layer and Adhesion between the tends to improve.

광 반응성기란, 광 조사함으로써 액정 배향능을 발생시키는 기를 말한다. 구체적으로는, 광 조사에 의해 발생하는 분자의 배향 야기 또는 이성화 반응, 이량화 반응, 광 가교 반응 혹은 광 분해 반응 등의 액정 배향능의 기원이 되는 광 반응에 관여하는 기를 들 수 있다. 그 중에서도, 이량화 반응 또는 광 가교 반응에 관여하는 기가, 배향성이 우수한 점에서 바람직하다. 광 반응성기로서, 불포화 결합, 특히 이중 결합을 갖는 기가 바람직하고, 탄소-탄소 이중 결합 (C=C 결합), 탄소-질소 이중 결합 (C=N 결합), 질소-질소 이중 결합 (N=N 결합) 및 탄소-산소 이중 결합 (C=O 결합) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개를 갖는 기가 특히 바람직하다.A photoreactive group refers to a group that generates liquid crystal alignment ability by irradiating light. Specifically, groups involved in photoreactions that cause orientation of molecules generated by light irradiation or are the origin of liquid crystal alignment ability, such as isomerization reaction, dimerization reaction, photocrosslinking reaction, or photodecomposition reaction, can be mentioned. Among these, groups involved in dimerization reactions or photo-crosslinking reactions are preferable because they have excellent orientation. As the photoreactive group, groups having an unsaturated bond, especially a double bond, are preferred, such as a carbon-carbon double bond (C=C bond), a carbon-nitrogen double bond (C=N bond), a nitrogen-nitrogen double bond (N=N A group having at least one selected from the group consisting of a carbon-oxygen double bond (C=O bond) and a carbon-oxygen double bond (C=O bond) is particularly preferred.

C=C 결합을 갖는 광 반응성기로는, 비닐기, 폴리엔기, 스틸벤기, 스틸바졸기, 스틸바졸륨기, 칼콘기 및 신나모일기 등을 들 수 있다. C=N 결합을 갖는 광 반응성기로는, 방향족 시프염기, 방향족 하이드라존 등의 구조를 갖는 기를 들 수 있다. N=N 결합을 갖는 광 반응성기로는, 아조벤젠기, 아조나프탈렌기, 방향족 복소 고리 아조기, 비스아조기, 포르마잔기, 및, 아족시벤젠 구조를 갖는 기 등을 들 수 있다. C=O 결합을 갖는 광 반응성기로는, 벤조페논기, 쿠마린기, 안트라퀴논기 및 말레이미드기 등을 들 수 있다. 이들의 기는, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 알릴옥시기, 시아노기, 알콕시카르보닐기, 하이드록실기, 술폰산기, 할로겐화알킬기 등의 치환기를 갖고 있어도 된다.Photoreactive groups having a C=C bond include vinyl group, polyene group, stilbene group, stilbazol group, stilbazolium group, chalcone group, and cinnamoyl group. Examples of the photoreactive group having a C=N bond include groups having structures such as aromatic Schiff base and aromatic hydrazone. Examples of the photoreactive group having an N=N bond include an azobenzene group, azonaphthalene group, aromatic heterocyclic azo group, bisazo group, forma residue group, and group having an azoxybenzene structure. Examples of photoreactive groups having a C=O bond include benzophenone group, coumarin group, anthraquinone group, and maleimide group. These groups may have substituents such as an alkyl group, alkoxy group, aryl group, allyloxy group, cyano group, alkoxycarbonyl group, hydroxyl group, sulfonic acid group, and halogenated alkyl group.

그 중에서도, 광 이량화 반응에 관여하는 광 반응성기가 바람직하며, 광 배향에 필요한 편광 조사량이 비교적 적고, 또한 열 안정성이나 경시 안정성이 우수한 광 배향막이 얻어지기 쉽다는 점에서, 신나모일기 및 칼콘기가 바람직하다. 광 반응성기를 갖는 폴리머 등으로는, 폴리머 측사슬의 말단부가 신남산 구조가 되는 신나모일기를 갖는 것이 특히 바람직하다.Among them, the photoreactive group involved in the photodimerization reaction is preferable, and the amount of polarized light irradiation required for photoalignment is relatively small, and a photoalignment film with excellent thermal stability and stability over time is easy to obtain, so cinnamoyl group and chalcone group. desirable. As a polymer or the like having a photoreactive group, one having a cinnamoyl group whose terminal portion of the polymer side chain has a cinnamic acid structure is particularly preferable.

광 배향막 형성용 조성물을, 예를 들어, 기재 또는 기재 상에 형성된 확산 방지층 상에 도포함으로써 광 배향 야기층을 형성할 수 있다. 그 조성물에 포함되는 용제로는, 편광층을 형성할 때에 사용할 수 있는 용제로서 앞서 예시한 용제와 동일한 것을 들 수 있고, 광 반응성기를 갖는 폴리머 등의 용해성에 따라 적절히 선택할 수 있다.A photo-alignment layer can be formed by applying the composition for forming a photo-alignment layer, for example, onto a substrate or a diffusion prevention layer formed on the substrate. Solvents contained in the composition include the same solvents as those previously exemplified as solvents that can be used when forming the polarizing layer, and can be appropriately selected depending on the solubility of the polymer or the like having a photoreactive group.

광 배향막 형성용 조성물 중의 광 반응성기를 갖는 폴리머 등의 함유량은, 폴리머 등의 종류나 목적으로 하는 광 배향막의 두께에 따라 적절히 조절할 수 있지만, 광 배향막 형성용 조성물의 질량에 대해, 적어도 0.2 질량% 로 하는 것이 바람직하고, 0.3 ∼ 10 질량% 의 범위가 보다 바람직하다. 광 배향막의 특성이 현저하게 저해되지 않는 범위에서, 광 배향막 형성용 조성물은, 폴리비닐알코올이나 폴리이미드 등의 고분자 재료나 광 증감제를 포함하고 있어도 된다.The content of the polymer or the like having a photo-reactive group in the composition for forming a photo-alignment film can be appropriately adjusted depending on the type of polymer or the like and the thickness of the desired photo-alignment film, but should be at least 0.2% by mass relative to the mass of the composition for forming a photo-alignment film. It is preferable, and the range of 0.3 to 10 mass% is more preferable. To the extent that the properties of the photo-alignment film are not significantly impaired, the composition for forming a photo-alignment film may contain a polymer material such as polyvinyl alcohol or polyimide or a photosensitizer.

광 배향막 형성용 조성물을 기재 상 또는 확산 방지층 상에 도포하는 방법, 및 도포된 광 배향막 형성용 조성물로부터 용제를 제거하는 방법으로는, 편광층 형성용 조성물을 기재 등에 도포하는 방법 및 용제를 제거하는 방법과 동일한 방법을 들 수 있다.Methods of applying a composition for forming a photo-alignment layer on a substrate or a diffusion prevention layer, and methods of removing a solvent from the applied composition for forming a photo-alignment layer include a method of applying the composition for forming a polarizing layer to a substrate, etc., and a method of removing the solvent. The same method as the method may be mentioned.

편광의 조사는, 광 배향막 형성용 조성물의 도막으로부터 용제를 제거한 것에 직접 편광 UV 를 조사하는 형식이어도 되고, 기재측으로부터 편광을 조사하여, 편광을 투과시켜 조사하는 형식이어도 된다.Irradiation of polarized light may be in the form of irradiating polarized UV directly onto a coating film of the composition for forming a photo-alignment film from which the solvent has been removed, or in the form of irradiating polarized light from the substrate side and transmitting the polarized light.

또, 당해 편광은, 실질적으로 평행광이면 특히 바람직하다. 조사하는 편광의 파장은, 광 반응성기를 갖는 폴리머 등의 광 반응성기가, 광 에너지를 흡수할 수 있는 파장 영역의 것이 좋다. 구체적으로는, 파장 250 ∼ 400 ㎚ 의 범위의 UV (자외선) 가 특히 바람직하다. 당해 편광 조사에 사용하는 광원으로는, 크세논 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, KrF, ArF 등의 자외광 레이저 등을 들 수 있고, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프 및 메탈 할라이드 램프가 보다 바람직하다. 이것들 중에서도, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프 및 메탈 할라이드 램프가, 파장 313 ㎚ 의 자외선의 발광 강도가 크기 때문에 바람직하다. 상기 광원으로부터의 광을, 적당한 편광자를 통과시켜 조사함으로써, 편광 UV 를 조사할 수 있다. 이와 같은 편광자로는, 편광 필터나 글랜 톰슨, 글랜 테일러 등의 편광 프리즘이나 와이어 그리드 타입의 편광자를 사용할 수 있다.Moreover, it is particularly preferable that the polarized light is substantially parallel light. The wavelength of the polarized light to be irradiated is preferably in a wavelength range where a photoreactive group such as a polymer having a photoreactive group can absorb light energy. Specifically, UV (ultraviolet rays) with a wavelength in the range of 250 to 400 nm is particularly preferable. Light sources used for the polarization irradiation include xenon lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, ultraviolet lasers such as KrF and ArF, and high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, and metal halide lamps. is more preferable. Among these, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, and metal halide lamps are preferable because they have a high emission intensity of ultraviolet rays with a wavelength of 313 nm. Polarized UV can be irradiated by passing the light from the light source through an appropriate polarizer and irradiating it. As such a polarizer, a polarizing filter, a polarizing prism such as Glenn Thompson or Glenn Taylor, or a wire grid type polarizer can be used.

또한, 편광 조사를 실시할 때에, 마스킹을 실시하면, 액정 배향의 방향이 상이한 복수의 영역 (패턴) 을 형성할 수도 있다.In addition, when performing polarized light irradiation, if masking is performed, a plurality of regions (patterns) with different directions of liquid crystal orientation can be formed.

광 배향막의 수평균 분자량은, 바람직하게는 20000 ∼ 100000 이고, 보다 바람직하게는 25000 이상이고, 또, 보다 바람직하게는 90000 이하, 더욱 바람직하게는 80000 이하이다. 광 배향막의 수평균 분자량이 상기 범위 내이면, 광 배향막에 인접하는 층과의 밀착성이 향상되기 쉽다. 광 배향막의 수 평균 분자량은, 광 배향막 형성용 조성물에 사용하는 모노머의 양, 중합 개시제의 종류나 양 등에 의해 제어할 수 있다.The number average molecular weight of the photo-alignment film is preferably 20,000 to 100,000, more preferably 25,000 or more, and even more preferably 90,000 or less, and even more preferably 80,000 or less. If the number average molecular weight of the photo-alignment film is within the above range, adhesion to the layer adjacent to the photo-alignment film is likely to improve. The number average molecular weight of the photo-alignment film can be controlled by the amount of monomer used in the composition for forming a photo-alignment film, the type and amount of the polymerization initiator, etc.

또한, 여기서 말하는「광 배향막의 수 평균 분자량」이란, 실질적으로, 경화한 광 배향막을 구성하고 있는 폴리머의 수 평균 분자량에 상당하고, 겔 침투 크로마토그래피 등의 측정 기기를 사용하여, 경화한 광 배향막 자체를 측정함으로써 산출되는 분자량이다.In addition, the "number average molecular weight of the photo-alignment film" referred to herein substantially corresponds to the number average molecular weight of the polymer constituting the cured photo-alignment film, and is measured using a measuring instrument such as a gel permeation chromatography. It is the molecular weight calculated by measuring itself.

광 배향막의 두께는, 바람직하게는 10 ∼ 5000 ㎚ 이고, 보다 바람직하게는 10 ∼ 1000 ㎚ 이고, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 300 ㎚ 이다. 광 배향막의 두께가 상기 범위이면, 편광층과의 계면에 있어서 양호한 밀착성을 발현하면서, 배향 규칙력을 발휘할 수 있고, 높은 배향 질서로 편광층을 형성할 수 있다.The thickness of the photo-alignment film is preferably 10 to 5000 nm, more preferably 10 to 1000 nm, and still more preferably 30 to 300 nm. If the thickness of the photo-alignment film is within the above range, an alignment regularization force can be exerted while exhibiting good adhesion at the interface with the polarizing layer, and a polarizing layer can be formed with high alignment order.

〔확산 방지층〕[Diffusion prevention layer]

본 발명의 광학 적층체는, 제 1 응력 완화층과 편광층 사이에 추가로 확산 방지층을 포함하고 있어도 된다. 제 1 응력 완화층과 편광층 사이에 확산 방지층이 존재함으로써, 편광층 중의 이색성 색소의 다른 층으로의 확산을 효과적으로 억제할 수 있고, 본 발명의 광학 적층체를 표시 장치 등에 장착한 경우에, 이색성 색소의 확산에서 기인하는 경시적인 광학 특성의 저하를 억제할 수 있다. 이러한 효과를 충분히 얻는 관점에서, 확산 방지층은 편광층의 제 1 응력 완화층측에 편광층과 인접하여 형성되어 있는 것이 바람직하고, 편광층의 제 1 응력 완화층측과 위상차층측의 양방에, 각각 편광층과 인접하거나, 또는, 편광층을 형성하는 배향막만을 개재하여 형성되어 있는 것이 보다 바람직하다. 확산 방지층이 편광층의 제 1 응력 완화층측 및 위상차층측의 양방에 형성되는 경우, 그것들은 동일해도 되고, 상이해도 된다.The optical laminate of the present invention may further include a diffusion prevention layer between the first stress relief layer and the polarizing layer. By the presence of a diffusion prevention layer between the first stress relief layer and the polarizing layer, diffusion of the dichroic dye in the polarizing layer to other layers can be effectively suppressed, and when the optical laminate of the present invention is mounted on a display device, etc. Deterioration of optical properties over time resulting from diffusion of dichroic dyes can be suppressed. From the viewpoint of sufficiently obtaining this effect, the diffusion prevention layer is preferably formed adjacent to the polarizing layer on the first stress relieving layer side of the polarizing layer, and the polarizing layer is formed on both the first stress relieving layer side and the retardation layer side of the polarizing layer, respectively. It is more preferable that it is adjacent to or is formed through only the alignment film that forms the polarizing layer. When the diffusion prevention layer is formed on both the first stress relief layer side and the retardation layer side of the polarizing layer, they may be the same or different.

확산 방지층으로는, 이색성 색소의 확산 방지 기능을 갖는 층인 한 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 수용성 폴리머를 포함하는 수지 조성물로 형성되는 층, 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 경화성 조성물로 형성되는 층 등을 들 수 있다.The diffusion prevention layer is not particularly limited as long as it is a layer that has the function of preventing the diffusion of the dichroic dye. For example, a layer formed from a resin composition containing a water-soluble polymer, and a layer formed from a curable composition containing an active energy ray curable resin. layers, etc. can be mentioned.

수용성 폴리머는 이색성 색소와 극성이 크게 상이하기 때문에 이색성 색소의 확산을 방해할 수 있다. 확산 방지층을 형성할 수 있는 수용성 폴리머로는, 예를 들어, 폴리아크릴아미드계 폴리머 ; 폴리비닐알코올, 및 에틸렌-비닐알코올 공중합체, (메트)아크릴산 또는 그 무수물-비닐알코올 공중합체 등의 비닐알코올계 폴리머 ; 카르복시비닐계 폴리머 ; 폴리비닐피롤리돈 ; 전분류 ; 알긴산나트륨 ; 또는 폴리에틸렌옥사이드계 폴리머 등을 들 수 있다. 이들 폴리머는 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Because the polarity of water-soluble polymers is significantly different from that of dichroic dyes, they may hinder the diffusion of dichroic dyes. Examples of water-soluble polymers that can form a diffusion prevention layer include polyacrylamide-based polymers; Vinyl alcohol-based polymers such as polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, (meth)acrylic acid or its anhydride-vinyl alcohol copolymer; Carboxyvinyl-based polymer; polyvinylpyrrolidone; All classifications; Sodium alginate; Or a polyethylene oxide-based polymer, etc. can be mentioned. These polymers may be used individually, or may be used in combination of two or more types.

확산 방지층이 수용성 폴리머를 포함하는 수지 조성물 (이하,「수용성 폴리머 함유 수지 조성물」이라고도 한다) 로 형성되는 층인 경우, 그 층에 있어서의 수용성 폴리머의 함유량은, 바람직하게는 75 질량% 이상이고, 보다 바람직하게는 80 질량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 85 질량% 이상이다.When the diffusion prevention layer is a layer formed of a resin composition containing a water-soluble polymer (hereinafter also referred to as “water-soluble polymer-containing resin composition”), the content of the water-soluble polymer in the layer is preferably 75% by mass or more, and Preferably it is 80 mass% or more, and more preferably, it is 85 mass% or more.

확산 방지층이 수용성 폴리머 함유 수지 조성물로 형성되는 층인 경우, 그 층의 치밀성을 높이고, 이색성 색소의 확산 방지 기능을 향상시키기 위해 가교제를 사용함으로써 가교 구조를 도입해도 된다. 그러한 가교제로는, 예를 들어, 글리옥실산염 등의 이온 결합성 가교제나 에폭시계 가교제 등의 수용성 첨가제나 가교제 외에, 내수성 부여를 목적으로 하여, 이소시아네이트계 가교제, 글리옥살이나 글리옥살 유도체 등의 다가 알데히드계 가교제, 염화지르코늄계 또는 티타늄락테이트계 등의 금속 화합물계 가교제 등의 소수성 가교제를 사용해도 된다.When the diffusion prevention layer is a layer formed of a water-soluble polymer-containing resin composition, a crosslinking structure may be introduced by using a crosslinking agent to increase the density of the layer and improve the diffusion prevention function of the dichroic dye. Such crosslinking agents include, for example, water-soluble additives and crosslinking agents such as ion-binding crosslinking agents such as glyoxylate and epoxy-based crosslinking agents, as well as isocyanate-based crosslinking agents, polyvalent agents such as glyoxal and glyoxal derivatives for the purpose of imparting water resistance. Hydrophobic cross-linking agents such as aldehyde-based cross-linking agents and metal compound-based cross-linking agents such as zirconium chloride-based or titanium lactate-based cross-linking agents may be used.

확산 방지층에 가교 구조를 도입하기 위해서 가교제를 사용하는 경우, 그 첨가량은 사용하는 가교제의 종류 등에 따라서 적절히 결정하면 된다. 예를 들어, 수용성 폴리머 100 질량부에 대하여, 0.1 ∼ 100 질량부여도 되고, 바람직하게는 1 ∼ 50 질량부, 보다 바람직하게는 10 ∼ 30 질량부이다. 가교제의 함유량이 상기 범위이면, 확산 방지층이 치밀해져, 광 흡수 이방성막 중의 이색성 색소에 대한 차폐 효과가 향상되기 쉽다.When a cross-linking agent is used to introduce a cross-linking structure into the diffusion prevention layer, the amount added may be appropriately determined depending on the type of cross-linking agent used. For example, the amount may be 0.1 to 100 parts by mass, preferably 1 to 50 parts by mass, more preferably 10 to 30 parts by mass, based on 100 parts by mass of the water-soluble polymer. If the content of the crosslinking agent is within the above range, the diffusion prevention layer becomes dense, and the shielding effect against the dichroic dye in the light-absorbing anisotropic film is likely to improve.

확산 방지층을 형성할 수 있는 수용성 폴리머 함유 수지 조성물은, 통상, 수용성 폴리머를 용제에 용해시킨 용액으로서 조제된다. 용제는, 사용하는 수용성 폴리머에 따라서 선택하면 되는데, 전형적으로는 물, 알코올, 물과 알코올의 혼합물 등을 들 수 있고, 물이 바람직하다.A water-soluble polymer-containing resin composition capable of forming a diffusion prevention layer is usually prepared as a solution in which a water-soluble polymer is dissolved in a solvent. The solvent may be selected depending on the water-soluble polymer to be used, and typically include water, alcohol, and a mixture of water and alcohol, with water being preferred.

수용성 폴리머나 가교제 등의 확산 방지층을 구성하는 성분에 용제를 첨가함으로써 얻어지는 수용성 폴리머 함유 수지 조성물의 고형분 농도는, 바람직하게는 1 ∼ 50 질량%, 보다 바람직하게는 2 ∼ 30 질량% 이다. 수용성 폴리머 함유 수지 조성물의 고형분 농도가 상기 범위 내이면 그 조성물의 점도가 낮아지는 점에서, 도공성이나 취급성이 양호해진다.The solid content concentration of the water-soluble polymer-containing resin composition obtained by adding a solvent to the components constituting the diffusion prevention layer, such as water-soluble polymer and crosslinking agent, is preferably 1 to 50 mass%, more preferably 2 to 30 mass%. When the solid content concentration of the water-soluble polymer-containing resin composition is within the above range, the viscosity of the composition is lowered, and coatability and handleability become good.

수용성 폴리머 함유 수지 조성물은, 수용성 폴리머, 가교제 및 물 등의 용제에 추가하여, 첨가제 등의 다른 성분을 포함하고 있어도 된다. 그러한 다른 성분으로는, 예를 들어, 방부제, 레벨링제 등을 들 수 있다. 수용성 폴리머 함유 수지 조성물이 첨가제 등의 다른 성분을 포함하는 경우, 그 양은, 그 수지 조성물의 고형분에 기초하여, 바람직하게는 10 질량% 이하, 보다 바람직하게는 5 질량% 이하이다.The water-soluble polymer-containing resin composition may contain other components such as additives in addition to the water-soluble polymer, crosslinking agent, and solvent such as water. Other such ingredients include, for example, preservatives, leveling agents, and the like. When the water-soluble polymer-containing resin composition contains other components such as additives, the amount is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, based on the solid content of the resin composition.

예를 들면, 확산 방지층을 형성하는 면에 수용성 폴리머 함유 수지 조성물을 도공하고, 그 도막을 건조하여 경화시킴으로써 확산 방지층을 얻을 수 있다.For example, the anti-diffusion layer can be obtained by coating a water-soluble polymer-containing resin composition on the surface where the anti-diffusion layer is to be formed, drying and hardening the coating film.

수용성 폴리머 함유 수지 조성물을 도포하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 편광층 형성용 조성물을 기재 등에 도포하는 방법과 동일한 공지된 방법을 들 수 있다.The method for applying the water-soluble polymer-containing resin composition is not particularly limited, and includes known methods similar to those for applying the composition for forming a polarizing layer to a substrate or the like.

수용성 폴리머 함유 수지 조성물의 도막으로부터 확산 방지층을 형성하기 위한 건조 온도나 시간 등은 특별히 한정되지 않고, 사용하는 수용성 폴리머 함유 수지 조성물의 조성 등에 따라서 적절히 결정하면 된다. 건조 처리는, 예를 들어, 열풍을 분사하는 것 등에 의해 실시할 수 있고, 그 온도는, 통상적으로 40 ∼ 100 ℃, 바람직하게는 60 ∼ 100 ℃ 의 범위 내이다. 또한, 건조 시간은 통상, 10 ∼ 600 초이다.The drying temperature or time for forming the diffusion prevention layer from the coating film of the water-soluble polymer-containing resin composition is not particularly limited and may be appropriately determined depending on the composition of the water-soluble polymer-containing resin composition to be used. Drying treatment can be performed, for example, by spraying hot air, and the temperature is usually in the range of 40 to 100°C, preferably 60 to 100°C. Additionally, the drying time is usually 10 to 600 seconds.

활성 에너지선 경화성 수지는 고도로 중합할 수 있기 때문에 이색성 색소의 확산 방지 기능이 우수한 경향이 있다. 확산 방지층을 형성할 수 있는 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 경화성 조성물 (이하,「확산 방지층 형성용 경화성 조성물」이라고도 한다) 로는, 경화성 화합물로서 카티온 중합성 화합물을 포함하는 카티온 중합형의 경화성 조성물, 경화성 화합물로서 라디칼 중합성 화합물을 포함하는 라디칼 중합형의 경화성 조성물, 카티온 중합성 화합물 및 라디칼 중합성 화합물의 양방을 포함하는 하이브리드형의 경화성 조성물 등을 들 수 있다. 카티온 중합성 화합물의 구체예로는, 분자 내에 1 개 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물, 분자 내에 1 개 이상의 옥세탄 고리를 갖는 옥세탄 화합물, 비닐 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 라디칼 중합성 화합물의 구체예로는, 분자 내에 1 개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 (메트)아크릴계 화합물, 비닐 화합물 등을 들 수 있다. 확산 방지층 형성용 경화성 조성물은, 카티온 중합성 화합물을 1 종 또는 2 종 이상 포함할 수 있고, 및/또는, 라디칼 중합성 화합물을 1 종 또는 2 종 이상 포함할 수 있다.Since active energy ray-curable resins can be highly polymerized, they tend to have an excellent function of preventing the diffusion of dichroic dyes. The curable composition containing an active energy ray-curable resin capable of forming an anti-diffusion layer (hereinafter also referred to as “curable composition for forming an anti-diffusion layer”) includes a cationically polymerizable curable composition containing a cationically polymerizable compound as a curable compound. composition, a radically polymerizable curable composition containing a radically polymerizable compound as the curable compound, and a hybrid type curable composition containing both a cationically polymerizable compound and a radically polymerizable compound. Specific examples of cationically polymerizable compounds include epoxy compounds having one or more epoxy groups in the molecule, oxetane compounds having one or more oxetane rings in the molecule, and vinyl compounds. In addition, specific examples of radically polymerizable compounds include (meth)acrylic compounds and vinyl compounds having one or more (meth)acryloyl groups in the molecule. The curable composition for forming a diffusion prevention layer may contain one or two or more types of cationically polymerizable compounds, and/or may contain one or two or more types of radically polymerizable compounds.

카티온 중합형의 경화성 조성물의 주성분인 카티온 중합성 화합물은, 자외선, 가시광, 전자선, X 선 등의 활성 에너지선의 조사나 가열에 의해 카티온 중합 반응이 진행되어, 경화되는 화합물 또는 올리고머를 말하고, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 비닐 화합물 등을 예시할 수 있다. 그 중에서도, 바람직한 카티온 중합성 화합물은 에폭시 화합물이다.A cationically polymerizable compound, which is the main component of a cationically polymerizable type curable composition, refers to a compound or oligomer that undergoes a cationic polymerization reaction and hardens when irradiated or heated with active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, or X-rays. , epoxy compounds, oxetane compounds, vinyl compounds, etc. can be exemplified. Among them, a preferable cationically polymerizable compound is an epoxy compound.

에폭시 화합물이란, 분자 내에 1 개 이상, 바람직하게는 2 개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물이다. 에폭시 화합물은, 1 종만을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 에폭시 화합물로는, 지환식 에폭시 화합물, 방향족 에폭시 화합물, 수소화 에폭시 화합물, 지방족 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 내후성, 경화 속도 및 접착성의 관점에서, 에폭시 화합물은, 지환식 에폭시 화합물이나 지방족 에폭시 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.An epoxy compound is a compound having one or more, preferably two or more, epoxy groups in the molecule. Epoxy compounds may be used individually as one type, or may be used in combination of two or more types. Examples of the epoxy compound include alicyclic epoxy compounds, aromatic epoxy compounds, hydrogenated epoxy compounds, and aliphatic epoxy compounds. Among them, from the viewpoint of weather resistance, curing speed, and adhesiveness, it is preferable that the epoxy compound contains an alicyclic epoxy compound or an aliphatic epoxy compound.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 확산 방지층 형성용 경화성 조성물이 카티온 중합성 화합물로서 에폭시 화합물을 포함하는 경우, 에폭시 화합물의 함유량은, 경화성 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 10 질량부 이상, 보다 바람직하게는 15 질량부 이상, 더욱 바람직하게는 20 질량부 이상이고, 바람직하게는 70 질량부 이하, 보다 바람직하게는 60 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 50 질량부 이하이다.In one embodiment of the present invention, when the curable composition for forming a diffusion prevention layer contains an epoxy compound as a cationically polymerizable compound, the content of the epoxy compound is preferably 10 parts by mass based on 100 parts by mass of solid content of the curable composition. parts or more, more preferably 15 parts by mass or more, further preferably 20 parts by mass or more, preferably 70 parts by mass or less, more preferably 60 parts by mass or less, and even more preferably 50 parts by mass or less.

카티온 중합성 화합물을 포함하는 확산 방지층 형성용 경화성 조성물 (하이브리드형의 경우를 포함한다) 에 포함되는 경화성 화합물의 전체량을 100 질량% 로 할 때, 카티온 중합성 화합물의 함유량 (2 종 이상의 카티온 중합성 화합물이 포함되는 경우에는 그들의 합계 함유량) 은, 바람직하게는 50 질량% 이상, 보다 바람직하게는 60 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 70 질량% 이상이다. 또한, 카티온 중합형의 경화성 조성물은, 폴리머 성분 (열가소성 수지 등) 을 추가로 포함하고 있어도 된다.When the total amount of the curable compound contained in the curable composition for forming a diffusion prevention layer containing a cationically polymerizable compound (including the case of a hybrid type) is 100% by mass, the content of the cationically polymerizable compound (two or more types The total content (when cationically polymerizable compounds are included) is preferably 50 mass% or more, more preferably 60 mass% or more, and even more preferably 70 mass% or more. In addition, the cationic polymerization type curable composition may further contain a polymer component (such as a thermoplastic resin).

확산 방지층 형성용 경화성 조성물이 카티온 중합성 화합물을 포함하는 경우, 광 카티온 중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다. 광 카티온 중합 개시제는, 가시광선, 자외선, X 선 또는 전자선과 같은 활성 에너지선의 조사에 의해, 카티온종 또는 루이스산을 발생하여, 카티온 경화성 화합물의 중합 반응을 개시시키는 것이다. 광 카티온 중합 개시제는, 광에 의해 촉매적으로 작용하기 때문에, 광 카티온 경화성 화합물에 혼합해도 보존 안정성이나 작업성이 우수하다. 활성 에너지선의 조사에 의해 카티온종 또는 루이스산을 발생하는 화합물로서, 예를 들어, 방향족 요오도늄염이나 방향족 술포늄염과 같은 오늄염, 방향족 디아조늄염, 철-아렌 착물 등을 들 수 있다.When the curable composition for forming a diffusion prevention layer contains a cationically polymerizable compound, it is preferable to contain a photo cationic polymerization initiator. A photocationic polymerization initiator generates cationic species or Lewis acids through irradiation of active energy rays such as visible light, ultraviolet rays, X-rays, or electron beams, and initiates the polymerization reaction of the cation-curable compound. Since the photocationic polymerization initiator acts catalytically by light, it is excellent in storage stability and workability even when mixed with a photocationic curable compound. Examples of compounds that generate cationic species or Lewis acids upon irradiation of active energy rays include onium salts such as aromatic iodonium salts and aromatic sulfonium salts, aromatic diazonium salts, and iron-arene complexes.

광 카티온 중합 개시제는, 1 종만을 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 병용해도 된다. 그 중에서도, 방향족 술포늄염은, 300 ㎚ 부근의 파장 영역에서도 자외선 흡수 특성을 갖는 점에서, 경화성이 우수하고, 양호한 기계적 강도나 접착 강도를 갖는 경화물을 부여할 수 있기 때문에 바람직하게 사용된다.Photocationic polymerization initiators may be used individually as one type or may be used in combination of two or more types. Among them, aromatic sulfonium salts are preferably used because they have ultraviolet absorption characteristics even in the wavelength range around 300 nm, are excellent in curability, and can provide a cured product with good mechanical and adhesive strength.

확산 방지층 형성용 경화성 조성물에 있어서의 광 카티온 중합 개시제의 함유량은, 경화성 화합물의 고형분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 1 ∼ 10 질량부, 보다 바람직하게는 2 ∼ 8 질량부이다. 광 카티온 중합 개시제의 함유량이 상기 범위 내이면, 카티온 중합성 화합물을 충분히 경화시킬 수 있어, 얻어지는 확산 방지층에 높은 기계적 강도나 접착 강도를 부여할 수 있다.The content of the photocationic polymerization initiator in the curable composition for forming a diffusion prevention layer is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 2 to 8 parts by mass, based on 100 parts by mass of the solid content of the curable compound. If the content of the photocationic polymerization initiator is within the above range, the cationically polymerizable compound can be sufficiently cured, and high mechanical strength and adhesive strength can be provided to the resulting diffusion prevention layer.

카티온 중합형의 경화성 조성물에, 카티온 중합성 화합물에 추가하여 라디칼 중합성 화합물을 함유시킴으로써 하이브리드형의 경화성 조성물로 할 수도 있다. 라디칼 중합성 화합물을 병용함으로써, 확산 방지층의 경도나 기계적 강도를 높이는 효과를 기대할 수 있고, 나아가서는 경화성 조성물의 점도나 경화 속도 등의 조정을 보다 실시하기 쉬워진다.The cationically polymerizable curable composition can also be made into a hybrid type curable composition by containing a radically polymerizable compound in addition to the cationically polymerizable compound. By using a radically polymerizable compound in combination, the effect of increasing the hardness and mechanical strength of the diffusion prevention layer can be expected, and furthermore, it becomes easier to adjust the viscosity, curing speed, etc. of the curable composition.

라디칼 중합형의 경화성 조성물의 주성분인 라디칼 중합성 화합물은, 자외선, 가시광, 전자선, X 선 등의 활성 에너지선의 조사나 가열에 의해 라디칼 중합 반응이 진행되어, 경화되는 화합물 또는 올리고머를 말하고, 구체적으로는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물을 들 수 있다. 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물로는, 분자 내에 1 개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 (메트)아크릴계 화합물 외에, 스티렌, 스티렌술폰산, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, N-비닐-2-피롤리돈과 같은 비닐 화합물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 바람직한 라디칼 중합성 화합물은 (메트)아크릴계 화합물이다.A radically polymerizable compound, which is the main component of a radically polymerizable curable composition, refers to a compound or oligomer that undergoes a radical polymerization reaction and hardens by irradiation or heating of active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, or X-rays. includes compounds having an ethylenically unsaturated bond. Compounds having an ethylenically unsaturated bond include (meth)acrylic compounds having one or more (meth)acryloyl groups in the molecule, as well as styrene, styrenesulfonic acid, vinyl acetate, vinyl propionate, and N-vinyl-2-pyrrolidone. Vinyl compounds such as these can be mentioned. Among them, preferable radically polymerizable compounds are (meth)acrylic compounds.

(메트)아크릴계 화합물은, 분자 내에 적어도 1 개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물이고, 모노머, 올리고머 또는 폴리머여도 된다. (메트)아크릴 화합물로는, 예를 들어 단관능 (메트)아크릴레이트 화합물, 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물 등의 (메트)아크릴레이트 화합물 ; 다관능 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물 등의 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물 ; 다관능 에폭시(메트)아크릴레이트 화합물 등의 에폭시(메트)아크릴레이트 화합물 ; 카르복실기 변성 에폭시(메트)아크릴레이트 화합물, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트 화합물 등을 들 수 있다. (메트)아크릴계 화합물은, 1 종만을 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 병용해도 된다.A (meth)acrylic compound is a compound having at least one (meth)acryloyloxy group in the molecule, and may be a monomer, oligomer, or polymer. Examples of the (meth)acrylate compound include (meth)acrylate compounds such as monofunctional (meth)acrylate compounds and polyfunctional (meth)acrylate compounds; Urethane (meth)acrylate compounds such as polyfunctional urethane (meth)acrylate compounds; Epoxy (meth)acrylate compounds such as polyfunctional epoxy (meth)acrylate compounds; Carboxyl group-modified epoxy (meth)acrylate compounds, polyester (meth)acrylate compounds, etc. can be mentioned. As for the (meth)acrylic compound, only 1 type may be used individually, or 2 or more types may be used together.

(메트)아크릴레이트 화합물로는, 분자 내에 1 개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 단관능 (메트)아크릴레이트 화합물, 분자 내에 2 개 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물을 들 수 있다.(meth)acrylate compounds include monofunctional (meth)acrylate compounds having one (meth)acryloyloxy group in the molecule, and polyfunctional (meth)acrylate compounds having two or more (meth)acryloyloxy groups in the molecule. Acrylate compounds can be mentioned.

다관능 (메트)아크릴레이트 화합물을 사용하는 경우, 그 화합물의 가교점간 분자량 및 가교점 수를 제어함으로써, 확산 방지층의 가교 밀도를 조정할 수 있다. 보다 상세하게는, 가교점간 분자량이 작아질수록 가교 밀도가 높아지고, 또한 가교점 수가 많아질수록 가교 밀도가 치밀해져, 광 흡수 이방성막 중의 이색성 색소에 대한 차폐성을 높일 수 있다.When using a polyfunctional (meth)acrylate compound, the crosslinking density of the diffusion prevention layer can be adjusted by controlling the molecular weight and number of crosslinking points between crosslinking points of the compound. More specifically, as the molecular weight between crosslinking points decreases, the crosslinking density increases, and as the number of crosslinking points increases, the crosslinking density becomes denser, thereby improving the shielding ability against the dichroic dye in the light-absorbing anisotropic film.

우레탄(메트)아크릴레이트 화합물은, 일반적으로, 이소시아네이트 화합물과 폴리올 화합물과 (메트)아크릴레이트 화합물의 반응물을 의미하고, 분자 내에 2 개 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 다관능 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물인 것이 바람직하다. 다관능 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물은 가교 구조를 형성할 수 있기 때문에, 확산 방지층의 이색성 색소 확산 방지 기능을 향상시키는 관점에서 유리함과 함께, 적당한 인성 (靭性) 을 부여할 수 있다. 다관능 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물의 관능기수는, 바람직하게는 2 ∼ 5 이다.A urethane (meth)acrylate compound generally refers to a reaction product of an isocyanate compound, a polyol compound, and a (meth)acrylate compound, and is a polyfunctional urethane (meth) having two or more (meth)acryloyloxy groups in the molecule. It is preferable that it is an acrylate compound. Since the polyfunctional urethane (meth)acrylate compound can form a crosslinked structure, it is advantageous from the viewpoint of improving the dichroic dye diffusion prevention function of the diffusion prevention layer and can impart appropriate toughness. The number of functional groups of the polyfunctional urethane (meth)acrylate compound is preferably 2 to 5.

에폭시(메트)아크릴레이트 화합물로는, 예를 들어, 폴리글리시딜에테르와 (메트)아크릴산의 부가 반응에 의해 얻을 수 있고, 분자 내에 적어도 2 개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 다관능 에폭시(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The epoxy (meth)acrylate compound is, for example, a polyfunctional epoxy that can be obtained by the addition reaction of polyglycidyl ether and (meth)acrylic acid and has at least two (meth)acryloyloxy groups in the molecule. (meth)acrylate, etc. can be mentioned.

폴리에스테르(메트)아크릴레이트 화합물로는, 예를 들어, 분자 내에 에스테르 결합과 적어도 2 개의 (메트)아크릴로일기 (전형적으로는 (메트)아크릴로일옥시기) 를 갖는 화합물을 들 수 있다.Examples of polyester (meth)acrylate compounds include compounds having an ester bond and at least two (meth)acryloyl groups (typically (meth)acryloyloxy groups) in the molecule.

본 발명의 일 실시양태에 있어서 확산 방지층 형성용 경화성 조성물이 라디칼 중합성 화합물을 함유하는 경우, 라디칼 중합성 화합물로서 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 이 경우, 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물의 함유량은, 경화성 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 50 질량부 이상, 보다 바람직하게는 60 질량부 이상, 더욱 바람직하게는 70 질량부 이상이고, 바람직하게는 100 질량부 이하, 보다 바람직하게는 95 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 90 질량부 이하이다.In one embodiment of the present invention, when the curable composition for forming a diffusion prevention layer contains a radically polymerizable compound, it is preferable to include a polyfunctional (meth)acrylate compound as the radically polymerizable compound. In this case, the content of the polyfunctional (meth)acrylate compound is preferably 50 parts by mass or more, more preferably 60 parts by mass or more, and even more preferably 70 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the solid content of the curable composition. and is preferably 100 parts by mass or less, more preferably 95 parts by mass or less, and even more preferably 90 parts by mass or less.

또, 본 발명의 일 실시양태에 있어서 확산 방지층 형성용 경화성 조성물이 라디칼 중합성 화합물을 함유하는 경우, 라디칼 중합성 화합물로서 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물과 다관능 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 이 경우, 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물과 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물을, 바람직하게는 95 : 5 ∼ 50 : 50, 보다 바람직하게는 90 : 10 ∼ 70 : 30 의 비율 (다관능 (메트)아크릴레이트 화합물 : 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물, 질량비) 로 포함하는 것이 바람직하다.Additionally, in one embodiment of the present invention, when the curable composition for forming a diffusion prevention layer contains a radically polymerizable compound, a polyfunctional (meth)acrylate compound and a polyfunctional urethane (meth)acrylate compound are used as the radically polymerizable compound. It is desirable to include it. In this case, the ratio of the polyfunctional (meth)acrylate compound and the urethane (meth)acrylate compound is preferably 95:5 to 50:50, more preferably 90:10 to 70:30 (polyfunctional (meth)acrylate compound). ) Acrylate compound: It is preferable to include urethane (meth)acrylate compound, mass ratio).

확산 방지층 형성용 경화성 조성물이 라디칼 중합성 화합물을 함유하는 경우, 광 라디칼 중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다. 광 라디칼 중합 개시제는, 가시광선, 자외선, X 선, 또는 전자선과 같은 활성 에너지선의 조사에 의해, 라디칼 경화성 화합물의 중합 반응을 개시시키는 것이다. 광 라디칼 중합 개시제는, 1 종만을 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 병용해도 된다.When the curable composition for forming a diffusion prevention layer contains a radically polymerizable compound, it is preferable to contain a radical photopolymerization initiator. A radical photopolymerization initiator initiates the polymerization reaction of a radically curable compound by irradiation of active energy rays such as visible light, ultraviolet rays, X-rays, or electron beams. The radical photopolymerization initiator may be used individually as one type or may be used in combination of two or more types.

광 라디칼 중합 개시제의 구체예로는, 아세토페논, 3-메틸아세토페논, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 및 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온 등의 아세토페논계 개시제 ; 벤조페논, 4-클로로벤조페논 및 4,4'-디아미노벤조페논 등의 벤조페논계 개시제 ; 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 1-하이드록시-시클로헥실-페닐-케톤 등의 알킬페논계 개시제 ; 벤조인프로필에테르 및 벤조인에틸에테르 등의 벤조인에테르계 개시제 ; 4-이소프로필티오크산톤 등의 티오크산톤계 개시제 ; 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드계 개시제 ; 그 밖에, 크산톤, 플루오레논, 캠퍼퀴논, 벤즈알데히드, 안트라퀴논 등을 들 수 있다.Specific examples of radical photopolymerization initiators include acetophenone, 3-methylacetophenone, benzyldimethylketal, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, and 2-methyl. Acetophenone-based initiators such as -1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one; Benzophenone-based initiators such as benzophenone, 4-chlorobenzophenone, and 4,4'-diaminobenzophenone; Alkylphenone initiators such as 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one and 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone; Benzoin ether-based initiators such as benzoin propyl ether and benzoin ethyl ether; Thioxanthone-based initiators such as 4-isopropylthioxanthone; Acylphosphine oxide-based initiators such as bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide; In addition, xanthone, fluorenone, camphorquinone, benzaldehyde, anthraquinone, etc. can be mentioned.

확산 방지층 형성용 경화성 조성물에 있어서의 광 라디칼 중합 개시제의 함유량은, 경화성 화합물의 고형분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 1 ∼ 10 질량부, 보다 바람직하게는 2 ∼ 8 질량부이다. 광 라디칼 중합 개시제의 함유량이 상기 범위 내이면, 중합 개시능을 충분히 발현시켜, 경화성을 향상시키면서, 광 라디칼 중합 개시제가 잔존하기 어려워지기 때문에, 가시광선 투과율의 저하 등을 억제하기 쉬워진다.The content of the radical photopolymerization initiator in the curable composition for forming a diffusion prevention layer is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 2 to 8 parts by mass, based on 100 parts by mass of the solid content of the curable compound. If the content of the radical photopolymerization initiator is within the above range, the polymerization initiation ability is sufficiently expressed, curability is improved, and it becomes difficult for the radical photopolymerization initiator to remain, making it easy to suppress a decrease in visible light transmittance, etc.

본 발명에 있어서, 확산 방지층 형성용 경화성 조성물은, 예를 들어, 채용하는 도공 방식에 적합한 점도로 조정하기 위해서 유기 용제를 함유해도 되고, 실질적으로 용제를 포함하지 않는 것 (무용제이다) 이어도 된다. 또한,「실질적으로 포함하지 않는다」란, 용제가 불가피적으로 혼입하는 경우를 배제하지 않는 것을 의미한다.In the present invention, the curable composition for forming a diffusion prevention layer may contain an organic solvent to adjust the viscosity to a viscosity suitable for the coating method employed, for example, or may be substantially solvent-free (solvent-free). In addition, “substantially not included” means that the case where solvent is inevitably mixed is not excluded.

용제로는, 확산 방지층을 구성하는 성분을 용해시킬 수 있는 것이면 되고, 편광층 형성용 조성물에 사용할 수 있는 용제와 동일한 것이 예시된다. 이들 용제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The solvent may be any solvent that can dissolve the components constituting the diffusion prevention layer, and examples of the solvent are the same as those that can be used in the composition for forming a polarizing layer. These solvents may be used individually, or may be used in combination of two or more types.

용제의 종류 및 함유량은, 확산 방지층을 구성하는 성분의 종류나 함유량, 형상, 도포 방법, 확산 방지층의 두께 등에 따라서 적절히 선택된다. 용제를 포함하는 경우에 그 양은, 예를 들어, 경화성 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 3 ∼ 1000 질량부, 보다 바람직하게는 5 ∼ 100 질량부, 더욱 바람직하게는 7 ∼ 50 질량부이다.The type and content of the solvent are appropriately selected depending on the type, content, shape, application method, thickness of the diffusion prevention layer, etc. of the components constituting the diffusion prevention layer. When a solvent is included, the amount is, for example, preferably 3 to 1000 parts by mass, more preferably 5 to 100 parts by mass, and even more preferably 7 to 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of solid content of the curable composition. It is wealth.

확산 방지층 형성용 경화성 조성물은, 필요에 따라서, 카티온 중합 촉진제, 광 증감제, 이온 트랩제, 산화 방지제, 연쇄 이동제, 점착 부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동 조정제, 가소제, 소포제, 대전 방지제, 레벨링제 등의 첨가제를 함유해도 된다.The curable composition for forming an anti-diffusion layer may, if necessary, contain a cationic polymerization accelerator, a photosensitizer, an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, a tackifier, a thermoplastic resin, a filler, a flow regulator, a plasticizer, an antifoaming agent, an antistatic agent, It may contain additives such as a leveling agent.

예를 들어, 확산 방지층을 형성하는 면에 확산 방지층 형성용 경화성 조성물을 도공하고, 그 도막에 활성 에너지선을 조사하여, 그 조성물을 경화시킴으로써 확산 방지층을 얻을 수 있다. 확산 방지층 형성용 경화성 조성물을 도포하는 방법, 경화에 사용하는 활성 에너지선의 종류, 광원, 조사 조건 등으로는, 편광층 형성용 조성물을 도포하는 방법 및 경화시키는 방법과 동일한 방법 및 조건 등을 채용할 수 있다.For example, a diffusion prevention layer can be obtained by coating a curable composition for forming a diffusion prevention layer on the surface where the diffusion prevention layer is to be formed, irradiating the coating film with active energy rays, and curing the composition. As for the method of applying the curable composition for forming the anti-diffusion layer, the type of active energy ray used for curing, the light source, the irradiation conditions, etc., the same methods and conditions as the method of applying and curing the composition for forming the polarizing layer can be adopted. You can.

확산 방지층의 두께는, 바람직하게는 0.1 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.3 ㎛ 이상 4 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상 3 ㎛ 이하이다. 상기 범위 내이면, 편광층 중의 이색성 색소의 다른 층으로의 확산을 효과적으로 억제할 수 있다. 편광층의 제 1 응력 완화층측 및 위상차층측의 양방에 확산 방지층을 포함하는 경우, 그 두께는 동일해도 되고, 상이해도 된다.The thickness of the diffusion prevention layer is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less, more preferably 0.3 μm or more and 4 μm or less, and further preferably 0.5 μm or more and 3 μm or less. If it is within the above range, diffusion of the dichroic dye in the polarizing layer to other layers can be effectively suppressed. When the anti-diffusion layer is included on both the first stress relief layer side and the retardation layer side of the polarizing layer, its thickness may be the same or different.

〔위상차층〕[Phase difference layer]

본 발명의 광학 적층체에 포함되는 위상차층은, 위상차를 발현하는 층이다. 광학 적층체의 박형화의 관점에서 위상차층은, 바람직하게는 코팅층이고, 보다 바람직하게는, 적어도 1 종의 중합성 액정 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물의 경화층으로 이루어진다. 본 발명의 광학 적층체는, 제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름을 박리하여 나타나는 2 개의 외층면을 각각 전사하여 표시 장치에 장착할 때의, 첩합 어긋남이나 주름 등의 발생을 억제하는 효과가 우수하기 때문에, 양면 전사에 의해 표시 장치 등에 장착한 후에도 높은 원 편광 기능을 기대할 수 있다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서 위상차층은 1 개여도 되고, 2 개 이상 포함되어 있어도 된다.The retardation layer included in the optical laminate of the present invention is a layer that expresses retardation. From the viewpoint of reducing the thickness of the optical laminate, the retardation layer is preferably a coating layer, and more preferably consists of a cured layer of a polymerizable liquid crystal composition containing at least one type of polymerizable liquid crystal compound. The optical laminate of the present invention is excellent in the effect of suppressing the occurrence of misalignment, wrinkles, etc. when the two outer layer surfaces revealed by peeling the first base film and the second base film are respectively transferred and mounted on a display device. Therefore, a high circular polarization function can be expected even after mounting on a display device, etc. by double-sided transfer. In the optical laminate of the present invention, the number of retardation layers may be one, or two or more may be included.

본 발명의 광학 적층체는, 하기 식 (3) 을 만족하는 위상차층을 포함하는 것이 바람직하다.The optical laminate of the present invention preferably includes a retardation layer that satisfies the following formula (3).

120 ㎚ ≤ Re(550) ≤ 170 ㎚ (3) 120 ㎚ ≤ Re(550) ≤ 170 ㎚ (3)

〔식 중, Re(λ) 는 파장 λ ㎚ 에 있어서의 위상차층의 면내 위상차값을 나타낸다.〕[In the equation, Re(λ) represents the in-plane retardation value of the retardation layer at the wavelength λ nm.]

위상차층의 면내 위상차 Re(550) 이 식 (3) 의 범위 내이면, 그 위상차층은 1/4 파장판으로서 기능하는 위상차층이 되고, 그 위상차층을 포함하는 광학 적층체 (원 편광판) 를 유기 EL 표시 장치 등에 적용했을 경우의 정면 반사 색상을 향상시키는 효과 (착색을 억제시키는 효과) 가 높아지기 쉽다. 면내 위상차값의 더욱 바람직한 범위는, 130 ㎚ ≤ Re(550) ≤ 150 ㎚ 이다.If the in-plane retardation Re(550) of the retardation layer is within the range of equation (3), the retardation layer becomes a retardation layer that functions as a 1/4 wave plate, and an optical laminate (circular polarizer) containing the retardation layer is formed. When applied to an organic EL display device, etc., the effect of improving the front reflected color (effect of suppressing coloring) is likely to increase. A more preferable range of the in-plane retardation value is 130 nm ≤ Re(550) ≤ 150 nm.

또, 상기 식 (3) 을 만족하는 위상차층이, 하기 식 (4) 및 (5) 를 만족하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the retardation layer that satisfies the above formula (3) satisfies the following formulas (4) and (5).

Re(450)/Re(550) ≤ 1.00 (4) Re(450)/Re(550) ≤ 1.00 (4)

1.00 ≤ Re(650)/Re(550) (5) 1.00 ≤ Re(650)/Re(550) (5)

〔식 중, Re(λ) 는 파장 λ ㎚ 에 있어서의 위상차층의 면내 위상차값을 나타낸다.〕[In the formula, Re(λ) represents the in-plane retardation value of the retardation layer at the wavelength λ nm.]

위상차층이 식 (4) 및 (5) 를 만족하는 경우, 당해 위상차층은, 단파장에서의 면내 위상차값이 장파장에서의 면내 위상차값보다 작아지는, 이른바 역파장 분산성을 나타낸다. 이와 같은 위상차층을 갖는 광학 적층체 (원 편광판) 는, 유기 EL 표시 장치 등에 장착했을 경우의 정면 색상이 우수한 경향이 있다. 역파장 분산성이 향상되고, 정면 방향의 반사 색상의 향상 효과를 보다 높일 수 있는 관점에서, Re(450)/Re(550) 은, 바람직하게는 0.70 이상, 보다 바람직하게는 0.78 이상이고, 또, 바람직하게는 0.92 이하, 보다 바람직하게는 0.90 이하, 더욱 바람직하게는 0.87 이하, 특히 바람직하게는 0.86 이하, 보다 특히 바람직하게는 0.85 이하이다. 또, Re(650)/Re(550) 은, 바람직하게는 1.01 이상, 보다 바람직하게는 1.02 이상이다.When the retardation layer satisfies equations (4) and (5), the retardation layer exhibits so-called reverse wavelength dispersion, in which the in-plane retardation value at a short wavelength becomes smaller than the in-plane retardation value at a long wavelength. An optical laminate (circular polarizer) having such a phase contrast layer tends to have excellent front color when mounted on an organic EL display device or the like. From the viewpoint of improving reverse wavelength dispersion and further enhancing the effect of improving the reflection color in the front direction, Re(450)/Re(550) is preferably 0.70 or more, more preferably 0.78 or more, and , preferably 0.92 or less, more preferably 0.90 or less, further preferably 0.87 or less, particularly preferably 0.86 or less, and more particularly preferably 0.85 or less. Moreover, Re(650)/Re(550) is preferably 1.01 or more, more preferably 1.02 or more.

상기 면내 위상차값은, 위상차층의 막두께 d 에 의해 조정할 수 있다. 면내 위상차값은, 상기 식 Re(λ) = (nx(λ) - ny(λ)) × d 에 의해 결정되므로, 원하는 면내 위상차값 (Re(λ) : 파장 λ (㎚) 에 있어서의 위상차층의 면내 위상차값) 을 얻기 위해서는, 3 차원 굴절률과 막두께 d 를 조정하면 된다. 또한, 상기 식에 있어서, d 는 대상으로 하는 위상차층의 두께를 나타내고, nx 는, 그 위상차층이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 위상차층의 평면에 평행한 방향의 파장 λ ㎚ 에 있어서의 주굴절률을 나타내고, ny 는, 위상차층이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 위상차층의 평면에 대해 평행하고, 또한, 상기 nx 의 방향에 대해 직교하는 방향의 파장 λ ㎚ 에 있어서의 굴절률을 나타낸다.The in-plane retardation value can be adjusted by the film thickness d of the retardation layer. Since the in-plane retardation value is determined by the above equation Re(λ) = (nx(λ) - ny(λ)) × d, the desired in-plane retardation value (Re(λ): retardation layer at wavelength λ (nm) In order to obtain the in-plane retardation value of , the three-dimensional refractive index and film thickness d can be adjusted. In addition, in the above formula, d represents the thickness of the target retardation layer, and nx is the main refractive index at the wavelength λ nm in the direction parallel to the plane of the retardation layer in the refractive index ellipsoid formed by the retardation layer. represents the refractive index ellipsoid formed by the retardation layer, and ny represents the refractive index at a wavelength λ nm in a direction parallel to the plane of the retardation layer and orthogonal to the direction of nx.

본 발명의 광학 적층체는, 중합성 액정 화합물이 기재면 내에 대해 수평 방향으로 배향한 상태에서 경화된「수평 배향 액정 경화층」으로 이루어지는 위상차층을 포함하는 것이 바람직하고, 상기 식 (3) ∼ (5) 를 만족하는 수평 배향 액정 경화층을 포함하는 것이 보다 바람직하다. 본 발명의 광학 적층체가 1 개의 위상차층을 포함하는 경우, 통상, 그 위상차층을 구성하는 위상차층은「수평 배향 액정 경화층」이다.The optical laminate of the present invention preferably includes a retardation layer made of a “horizontally aligned liquid crystal cured layer” cured in a state where the polymerizable liquid crystal compound is oriented horizontally with respect to the substrate surface, and the above formula (3) - It is more preferable to include a horizontally aligned liquid crystal cured layer that satisfies (5). When the optical laminate of the present invention includes one retardation layer, the retardation layer constituting the retardation layer is usually a “horizontal alignment liquid crystal cured layer.”

본 발명의 광학 적층체는, 수평 배향 액정 경화층인 위상차층에 더하여, 추가로 포지티브 C 플레이트인 액정 경화층 (위상차층) 인 위상차층을 포함하고 있어도 된다. 포지티브 C 플레이트인 액정 경화층은, 중합성 액정 화합물이 기재면에 대해 연직 방향으로 배향한 상태에서 경화된「수직 배향 액정 경화층」이다. 수평 배향 액정 경화층인 위상차층과 수직 배향 액정 경화층인 위상차층을 조합하여 포함함으로써, 그 광학 적층체를 유기 EL 표시 장치 등에 적용했을 경우에 정면 반사 색상의 향상에 더하여 사방 반사 색상의 향상도 기대할 수 있다. 본 발명의 광학 적층체가 수직 배향 액정 경화층을 포함하는 경우, 그 수직 배향 액정 경화층인 위상차층은 편광층과 제 2 응력 완화층 사이에 배치되는 것이 바람직하다.In addition to the retardation layer that is a horizontally aligned liquid crystal cured layer, the optical laminate of the present invention may further include a retardation layer that is a liquid crystal cured layer (retardation layer) that is a positive C plate. The liquid crystal cured layer, which is a positive C plate, is a “vertically aligned liquid crystal cured layer” in which a polymerizable liquid crystal compound is cured in a state aligned perpendicular to the substrate surface. By including a combination of a retardation layer, which is a horizontally aligned liquid crystal cured layer, and a retardation layer, which is a vertically aligned liquid crystal cured layer, when the optical laminate is applied to an organic EL display device, etc., in addition to improving the front reflected color, the color reflected from all directions is also improved. You can expect it. When the optical laminate of the present invention includes a vertically aligned liquid crystal cured layer, the retardation layer, which is the vertically aligned liquid crystal cured layer, is preferably disposed between the polarizing layer and the second stress relaxation layer.

본 발명의 광학 적층체가 수직 배향 액정 경화층을 포함하는 경우, 그 액정 경화층은, 식 (6) 을 만족하는 것이 바람직하다.When the optical laminate of the present invention includes a vertically aligned liquid crystal cured layer, it is preferable that the liquid crystal cured layer satisfies the formula (6).

-100 ㎚ ≤ Rth(550) ≤ -40 ㎚ (6)-100 ㎚ ≤ Rth(550) ≤ -40 ㎚ (6)

〔식 중, Rth(550) 은 액정 경화층의 파장 550 ㎚ 에 있어서의 두께 방향의 위상차값을 나타내고, Rth = ((nx(λ) + ny(λ))/2 - nz) × d 이다 (d 는 액정 경화층의 두께를 나타내고, nx 는, 액정 경화층이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 액정 경화층의 평면에 평행한 방향의 파장 λ ㎚ 에 있어서의 주굴절률을 나타내고, ny 는, 액정 경화층이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 액정 경화층의 평면에 대해 평행하고, 또한, 상기 nx 의 방향에 대해 직교하는 방향의 파장 λ ㎚ 에 있어서의 굴절률을 나타내고, nz 는, 액정 경화층이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 액정 경화층의 평면에 대해 수직인 방향의 파장 λ ㎚ 에 있어서의 굴절률을 나타낸다).〕 [In the formula, Rth(550) represents the phase difference value in the thickness direction of the liquid crystal cured layer at a wavelength of 550 nm, and Rth = ((nx(λ) + ny(λ))/2 - nz) × d ( d represents the thickness of the liquid crystal cured layer, nx represents the main refractive index at the wavelength λ nm in the direction parallel to the plane of the liquid crystal cured layer in the refractive index ellipsoid formed by the liquid crystal cured layer, and ny represents the liquid crystal cured layer. In the refractive index ellipsoid formed by the layer, it represents the refractive index at a wavelength λ nm in a direction parallel to the plane of the liquid crystal cured layer and orthogonal to the direction of nx, and nz is the index formed by the liquid crystal cured layer. In the refractive index ellipsoid, it represents the refractive index at the wavelength λ nm in the direction perpendicular to the plane of the liquid crystal hardening layer.]

수직 배향 액정 경화층이 식 (6) 을 만족하는 경우, 그 액정 경화층을 포함하는 광학 적층체 (원 편광판) 를 유기 EL 표시 장치에 적용했을 경우의 사방 반사 색상을 향상시킬 수 있다. 상기 액정 경화층의 막두께 방향의 위상차값 Rth(550) 은, 보다 바람직하게는 -90 ㎚ 이상, 더욱 바람직하게는 -80 ㎚ 이상이고, 또, 보다 바람직하게는 -50 ㎚ 이하이다.When the vertically aligned liquid crystal cured layer satisfies equation (6), the omnidirectional reflection color can be improved when an optical laminate (circular polarizer) containing the liquid crystal cured layer is applied to an organic EL display device. The retardation value Rth (550) of the liquid crystal cured layer in the film thickness direction is more preferably -90 nm or more, further preferably -80 nm or more, and even more preferably -50 nm or less.

본 발명에 있어서 위상차층 (수평 배향 액정 경화층 및 수직 배향 액정 경화층) 은, 적어도 1 종의 중합성 액정 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물 (이하,「위상차층 형성용 조성물」이라고도 한다) 의 경화층으로 이루어진다. 중합성 액정 화합물로는, 원하는 광학 특성에 따라, 위상차 필름의 분야에 있어서 종래 공지된 중합성 액정 화합물에서 적절히 선택할 수 있다.In the present invention, the retardation layer (horizontally aligned liquid crystal cured layer and vertically aligned liquid crystal cured layer) is a polymerizable liquid crystal composition (hereinafter also referred to as “composition for forming a retardation layer”) containing at least one type of polymerizable liquid crystal compound. It consists of a hardened layer. The polymerizable liquid crystal compound may be appropriately selected from polymerizable liquid crystal compounds conventionally known in the field of retardation films, depending on the desired optical properties.

중합성 액정 화합물은, 중합성기를 갖는 액정 화합물이다. 중합성 액정 화합물로는, 일반적으로, 그 중합성 액정 화합물을 단독으로 특정 방향으로 배향한 상태에서 중합시킴으로써 얻어지는 중합체 (경화물) 가, 정파장 분산성을 나타내는 중합성 액정 화합물과 역파장 분산성을 나타내는 중합성 액정 화합물을 들 수 있다. 본 발명에 있어서는, 어느 일방의 종류의 중합성 액정 화합물만을 사용해도 되고, 양방의 종류의 중합성 액정 화합물을 혼합하여 사용해도 된다.A polymerizable liquid crystal compound is a liquid crystal compound having a polymerizable group. The polymerizable liquid crystal compound generally includes a polymer (cured product) obtained by polymerizing the polymerizable liquid crystal compound alone while oriented in a specific direction, and a polymerizable liquid crystal compound exhibiting forward wavelength dispersion and reverse wavelength dispersion. A polymerizable liquid crystal compound representing . In the present invention, only one type of polymerizable liquid crystal compound may be used, or a mixture of both types of polymerizable liquid crystal compounds may be used.

또, 광학 적층체가 수평 배향 액정 경화층과 수직 배향 액정 경화층을 포함하는 경우, 이들을 구성하는 중합성 액정 화합물은 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. 광학 적층체로서의 광학 특성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 수평 배향 액정 경화층은, 이른바 역파장 분산성을 나타내는 중합성 액정 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물의 경화층인 것이 바람직하다.Additionally, when the optical laminate includes a horizontally aligned liquid crystal cured layer and a vertically aligned liquid crystal cured layer, the polymerizable liquid crystal compounds constituting them may be the same or different from each other. From the viewpoint of easily improving the optical properties as an optical laminate, in one embodiment of the present invention, the horizontally aligned liquid crystal cured layer is a cured layer of a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound exhibiting so-called reverse wavelength dispersion. It is desirable to be

본 발명에 있어서 위상차층을 형성하는 중합성 액정 화합물이 갖는 중합성기는, 바람직하게는 광 중합성기이다. 광 중합성기란, 중합성기로서, 광 중합 개시제로부터 발생한 반응 활성종, 예를 들어 활성 라디칼이나 산 등에 의해 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 말한다. 광 중합성기로는, 예를 들어 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, (메트)아크릴로일기, 옥시라닐기, 옥세타닐기를 들 수 있다. 그 중에서도, (메트)아크릴로일기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일기가 보다 바람직하다.In the present invention, the polymerizable group contained in the polymerizable liquid crystal compound forming the retardation layer is preferably a photopolymerizable group. A photopolymerizable group refers to a polymerizable group that can participate in a polymerization reaction through reactive species generated from a photopolymerization initiator, such as active radicals or acids. Examples of the photopolymerizable group include vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, (meth)acryloyl group, oxiranyl group, and oxetanyl group. Among them, (meth)acryloyl group, vinyloxy group, oxiranyl group, and oxetanyl group are preferable, and acryloyl group is more preferable.

중합성 액정 화합물이 나타내는 액정성은 서모트로픽성 액정이어도 되고, 리오트로픽성 액정이어도 되지만, 치밀한 막두께 제어가 가능한 점에서 서모트로픽성 액정이 바람직하다. 또한, 서모트로픽성 액정에 있어서의 상질서 구조로는 네마틱 액정이어도 되고 스멕틱 액정이어도 되고 디스코틱 액정이어도 된다. 중합성 액정 화합물은 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다.The liquid crystallinity exhibited by the polymerizable liquid crystal compound may be thermotropic liquid crystal or lyotropic liquid crystal, but thermotropic liquid crystal is preferable because it allows precise film thickness control. Additionally, the phase order structure in the thermotropic liquid crystal may be nematic liquid crystal, smectic liquid crystal, or discotic liquid crystal. The polymerizable liquid crystal compound can be used alone or in combination of two or more types.

이른바 T 자형 또는 H 형의 분자 구조를 갖는 중합성 액정 화합물은, 중합하여 경화시켰을 때에 역파장 분산성을 발현하기 쉽고, T 자형의 분자 구조를 갖는 중합성 액정 화합물은 보다 강한 역파장 분산성을 발현하는 경향이 있다.Polymerizable liquid crystal compounds with a so-called T-shaped or H-type molecular structure tend to exhibit reverse wavelength dispersion when polymerized and cured, and polymerizable liquid crystal compounds with a T-shaped molecular structure exhibit stronger reverse wavelength dispersion. tends to emerge.

역파장 분산성을 나타내는 중합성 액정 화합물로는, 하기 (A) ∼ (D) 의 특징을 갖는 화합물인 것이 바람직하다.The polymerizable liquid crystal compound exhibiting reverse wavelength dispersion is preferably a compound having the following characteristics (A) to (D).

(A) 네마틱상 또는 스멕틱상을 형성할 수 있는 화합물이다.(A) It is a compound that can form a nematic phase or smectic phase.

(B) 그 중합성 액정 화합물의 장축 방향 (a) 상에 π 전자를 갖는다.(B) The polymerizable liquid crystal compound has π electrons in the long axis direction (a).

(C) 장축 방향 (a) 에 대하여 교차하는 방향 [교차 방향 (b)] 상에 π 전자를 갖는다.(C) It has π electrons in the direction crossing the major axis direction (a) [crossing direction (b)].

(D) 장축 방향 (a) 에 존재하는 π 전자의 합계를 N(πa), 장축 방향에 존재하는 분자량의 합계를 N(Aa) 로 하여 하기 식 (ⅰ) 로 정의되는 중합성 액정 화합물의 장축 방향 (a) 의 π 전자 밀도 :(D) The long axis of the polymerizable liquid crystal compound defined by the following formula (i), with the sum of π electrons existing in the long axis direction (a) being N(πa) and the sum of molecular weights existing in the long axis direction being N(Aa). π electron density in direction (a):

D(πa) = N(πa)/N(Aa) (i)D(πa) = N(πa)/N(Aa) (i)

과, 교차 방향 (b) 에 존재하는 π 전자의 합계를 N(πb), 교차 방향 (b) 에 존재하는 분자량의 합계를 N(Ab) 로 하여, 하기 식 (ii) 에서 정의되는 중합성 액정 화합물의 교차 방향 (b) 의 π 전자 밀도 :and the sum of π electrons existing in the crossing direction (b) is N(πb), and the sum of molecular weights existing in the crossing direction (b) is N(Ab). A polymerizable liquid crystal defined in the formula (ii) below. π electron density in the cross direction (b) of the compound:

D(πb) = N(πb)/N(Ab) (ii)D(πb) = N(πb)/N(Ab) (ii)

가, 식 (ⅲ)A, Equation (iii)

0 ≤ 〔D(πa)/D(πb)〕< 1 (iii)0 ≤ 〔D(πa)/D(πb)〕< 1 (iii)

의 관계에 있다〔즉, 교차 방향 (b) 의 π 전자 밀도가, 장축 방향 (a) 의 π 전자 밀도보다 크다〕. 상기 기재된 바와 같이 장축 및 그에 대해 교차 방향 상에 π 전자를 갖는 중합성 액정 화합물은, 일반적으로 T 자 구조가 되기 쉽다.There is a relationship [that is, the π electron density in the cross direction (b) is greater than the π electron density in the major axis direction (a)]. As described above, a polymerizable liquid crystal compound having π electrons on the long axis and in a direction crossing thereto generally tends to have a T-shaped structure.

상기 (A) ∼ (D) 의 특징에 있어서, 장축 방향 (a) 및 π 전자수 N 은 이하와 같이 정의된다.In the above features (A) to (D), the major axis direction (a) and the number of π electrons N are defined as follows.

·장축 방향 (a) 는, 예를 들어 봉상 구조를 갖는 화합물이면, 그 봉상의 장축 방향이다.· The long axis direction (a) is, for example, the long axis direction of the rod shape if it is a compound having a rod-shaped structure.

·장축 방향 (a) 상에 존재하는 π 전자수 N(πa) 에는, 중합 반응에 의해 소실되는 π 전자는 포함하지 않는다.· The number of π electrons N(πa) present in the long axis direction (a) does not include π electrons lost through polymerization reaction.

·장축 방향 (a) 상에 존재하는 π 전자수 N(πa) 에는, 장축 상의 π 전자 및 이것과 공액하는 π 전자의 합계수이고, 예를 들어, 장축 방향 (a) 상에 존재하는 고리로서, 휘켈칙을 만족하는 고리에 존재하는 π 전자의 수가 포함된다.・The number of π electrons N(πa) existing on the long axis direction (a) is the total number of π electrons on the long axis and π electrons conjugated thereto, for example, as a ring existing on the long axis direction (a) , the number of π electrons present in the ring that satisfies Hückel's law is included.

·교차 방향 (b) 에 존재하는 π 전자수 N(πb) 에는, 중합 반응에 의해 소실되는 π 전자는 포함하지 않는다.· The number of π electrons N(πb) present in the crossing direction (b) does not include π electrons lost through the polymerization reaction.

상기를 만족하는 중합성 액정 화합물은, 장축 방향에 메소겐 구조를 갖고 있다. 이 메소겐 구조에 의해, 액정상 (네마틱상, 스멕틱상) 을 발현한다.The polymerizable liquid crystal compound that satisfies the above has a mesogenic structure in the major axis direction. This mesogenic structure produces a liquid crystalline phase (nematic phase, smectic phase).

상기 (A) ∼ (D) 를 만족하는 중합성 액정 화합물을, 상전이 온도 이상으로 가열함으로써, 네마틱상이나 스멕틱상을 형성하는 것이 가능하다. 이 중합성 액정 화합물이 배향하여 형성된 네마틱상 또는 스멕틱상에서는 통상, 중합성 액정 화합물의 장축 방향이 서로 평행이 되도록 배향되어 있고, 이 장축 방향이 네마틱상 또는 스멕틱상의 배향 방향이 된다. 이와 같은 중합성 액정 화합물을 막상으로 하고, 네마틱상 또는 스멕틱상의 상태로 중합시키면, 장축 방향 (a) 로 배향된 상태로 중합한 중합체로 이루어지는 중합체막을 형성할 수 있다. 이 중합체막은, 장축 방향 (a) 상의 π 전자와 교차 방향 (b) 상의 π 전자에 의해 자외선을 흡수한다. 여기서, 교차 방향 (b) 상의 π 전자에 의해 흡수되는 자외선의 흡수 극대 파장을 λbmax 라고 한다. λbmax 는 통상적으로 300 ㎚ ∼ 400 ㎚ 이다. π 전자의 밀도는, 상기 식 (iii) 을 만족하고 있고, 교차 방향 (b) 의 π 전자 밀도가 장축 방향 (a) 의 π 전자 밀도보다 크기 때문에, 교차 방향 (b) 로 진동면을 갖는 직선 편광 자외선 (파장은 λbmax) 의 흡수가, 장축 방향 (a) 로 진동면을 갖는 직선 편광 자외선 (파장은 λbmax) 의 흡수보다 큰 중합체막이 된다. 그 비 (직선 편광 자외선의 교차 방향 (b) 의 흡광도/장축 방향 (a) 의 흡광도의 비) 는, 예를 들어 1.0 초과, 바람직하게는 1.2 이상, 통상적으로 30 이하이고, 예를 들어 10 이하이다.It is possible to form a nematic phase or smectic phase by heating the polymerizable liquid crystal compound satisfying the above (A) to (D) above the phase transition temperature. In the nematic phase or smectic phase formed by aligning the polymerizable liquid crystal compounds, the major axes of the polymerizable liquid crystal compounds are generally oriented parallel to each other, and this major axis direction becomes the orientation direction of the nematic phase or smectic phase. When such a polymerizable liquid crystal compound is formed into a film and polymerized in a nematic or smectic phase, a polymer film composed of the polymer polymerized in a state oriented in the major axis direction (a) can be formed. This polymer film absorbs ultraviolet rays by π electrons in the major axis direction (a) and π electrons in the cross direction (b). Here, the maximum absorption wavelength of ultraviolet rays absorbed by π electrons in the crossing direction (b) is called λbmax. λbmax is usually 300 nm to 400 nm. The density of π electrons satisfies the above formula (iii), and since the π electron density in the crossing direction (b) is greater than the π electron density in the major axis direction (a), linearly polarized light having a vibration plane in the crossing direction (b) The polymer film has a greater absorption of ultraviolet rays (wavelength: λbmax) than absorption of linearly polarized ultraviolet rays (wavelength: λbmax) that has a vibration plane in the major axis direction (a). The ratio (ratio of absorbance in the crossing direction (b) of linearly polarized ultraviolet rays/absorbance in the major axis direction (a)) is, for example, greater than 1.0, preferably 1.2 or more, usually 30 or less, for example 10 or less. am.

상기 특징을 갖는 중합성 액정 화합물은, 일반적으로, 일방향으로 배향된 상태로 중합시켰을 때에 그 중합체의 복굴절률이 역파장 분산성을 나타내는 것인 경우가 많다. 구체적으로는, 예를 들어, 하기 식 (X) 로 나타내는 화합물 (이하,「중합성 액정 화합물 (X)」라고도 한다) 을 들 수 있다.In general, polymerizable liquid crystal compounds having the above characteristics often exhibit reverse wavelength dispersion in their birefringence when polymerized in a unidirectional state. Specifically, for example, a compound represented by the following formula (X) (hereinafter also referred to as “polymerizable liquid crystal compound (X)”) can be mentioned.

[화학식 13][Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

식 (X) 중, Ar 은 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족기를 갖는 2 가의 기를 나타낸다. 여기서 말하는 방향족기란, 예를 들면 후술하는 (Ar-1) ∼ (Ar-23) 으로 예시되는 기를 들 수 있다. 또한 Ar 은 방향족기를 2 개 이상 가지고 있어도 된다. 그 방향족기 중에는 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 중 적어도 1 개 이상이 포함되어 있어도 된다. Ar 에 포함되는 방향족기가 2 개 이상인 경우, 2 개 이상의 방향족기는 서로 단결합, -CO-O-, -O- 등의 2 가의 결합기로 결합되어 있어도 된다.In formula (X), Ar represents a divalent group having an aromatic group that may have a substituent. The aromatic group referred to herein includes, for example, groups exemplified by (Ar-1) to (Ar-23) described later. Additionally, Ar may have two or more aromatic groups. The aromatic group may contain at least one of a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. When there are two or more aromatic groups contained in Ar, the two or more aromatic groups may be bonded to each other through a single bond or a divalent bonding group such as -CO-O- or -O-.

식 (X) 중, G1 및 G2 는 각각 독립적으로, 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타낸다. 여기서, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 구성하는 탄소 원자가, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 된다.In formula (X), G 1 and G 2 each independently represent a divalent aromatic group or a divalent alicyclic hydrocarbon group. Here, the hydrogen atom contained in the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom, an alkyl group with 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group with 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group with 1 to 4 carbon atoms, a cyano group, or It may be substituted with a nitro group, and the carbon atom constituting the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom.

식 (X) 중, L1, L2, B1 및 B2 는 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 가의 연결기이다.In formula (X), L 1 , L 2 , B 1 and B 2 each independently represent a single bond or a divalent linking group.

식 (X) 중, k, l 은, 각각 독립적으로 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고, 1 ≤ k + l 의 관계를 만족한다. 여기서, 2 ≤ k + l 인 경우, B1 및 B2, G1 및 G2 는, 각각 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.In formula (X), k and l each independently represent an integer from 0 to 3 and satisfy the relationship of 1 ≤ k + l. Here, when 2 ≤ k + l, B 1 and B 2 , G 1 and G 2 may be the same or different from each other.

식 (X) 중, E1 및 E2 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기를 나타내고, 탄소수 4 ∼ 12 의 알칸디일기가 보다 바람직하다. 또, 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2- 는, -O-, -S-, -C(=O)- 로 치환되어 있어도 된다.In formula (X), E 1 and E 2 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, and an alkanediyl group having 4 to 12 carbon atoms is more preferable. In addition, the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a halogen atom, and -CH 2 - contained in the alkanediyl group may be substituted with -O-, -S-, or -C(=O)-. You can stay.

식 (X) 중, P1 및 P2 는 서로 독립적으로, 중합성기 또는 수소 원자를 나타내고, 적어도 1 개는 중합성기이다.In formula (X), P 1 and P 2 each independently represent a polymerizable group or a hydrogen atom, and at least one is a polymerizable group.

G1 및 G2 는, 각각 독립적으로, 바람직하게는, 할로겐 원자 및 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 치환기로 치환되어 있어도 되는 1,4-페닐렌디일기, 할로겐 원자 및 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 치환기로 치환되어 있어도 되는 1,4-시클로헥산디일기이고, 보다 바람직하게는 메틸기로 치환된 1,4-페닐렌디일기, 무치환의 1,4-페닐렌디일기, 또는 무치환의 1,4-trans-시클로헥산디일기이고, 특히 바람직하게는 무치환의 1,4-페닐렌디일기, 또는 무치환의 1,4-trans-시클로헥산디일기이다.G 1 and G 2 are each independently, preferably a 1,4-phenylenediyl group, a halogen atom, and It is a 1,4-cyclohexanediyl group which may be substituted with at least one substituent selected from the group consisting of alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a 1,4-phenylenediyl group substituted with a methyl group, or an unsubstituted group. 1,4-phenylenediyl group, or unsubstituted 1,4-trans-cyclohexanediyl group, especially preferably unsubstituted 1,4-phenylenediyl group, or unsubstituted 1,4-trans-cyclo It is a hexanediyl group.

또한, 복수 존재하는 G1 및 G2 중 적어도 1 개는 2 가의 지환식 탄화수소기인 것이 바람직하고, 또한, L1 또는 L2 에 결합하는 G1 및 G2 중 적어도 1 개는 2 가의 지환식 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다.In addition, it is preferable that at least one of the plurality of G 1 and G 2 is a divalent alicyclic hydrocarbon group, and at least one of G 1 and G 2 bonded to L 1 or L 2 is a divalent alicyclic hydrocarbon group. It is more preferable that it is

L1 및 L2 는 각각 독립적으로, 바람직하게는, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, -O-, -S-, -Ra1ORa2-, -Ra3COORa4-, -Ra5OCORa6-, -Ra7OC=OORa8-, -N=N-, -CRc=CRd-, 또는 -C≡C- 이다. 여기서, Ra1 ∼ Ra8 은 각각 독립적으로 단결합, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타내고, Rc 및 Rd 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다. L1 및 L2 는 각각 독립적으로, 보다 바람직하게는 단결합, -ORa2-1-, -CH2-, -CH2CH2-, -COORa4-1-, 또는 -OCORa6-1- 이다. 여기서, Ra2-1, Ra4-1, Ra6-1 은 각각 독립적으로 단결합, -CH2-, -CH2CH2- 중 어느 것을 나타낸다. L1 및 L2 는 각각 독립적으로, 더욱 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2CH2-, -COO-, -COOCH2CH2-, 또는 -OCO- 이다.L 1 and L 2 are each independently, preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, -O-, -S-, -R a1 OR a2 -, -R a3 COOR a4 -, -R a5 OCOR a6 -, -R a7 OC=OOR a8 -, -N=N-, -CR c =CR d -, or -C≡C-. Here, R a1 to R a8 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R c and R d represent an alkyl group or a hydrogen atom having 1 to 4 carbon atoms. L 1 and L 2 are each independently, more preferably a single bond, -OR a2-1 -, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -COOR a4-1 -, or -OCOR a6-1 - am. Here, R a2-1 , R a4-1 , and R a6-1 each independently represent a single bond, -CH 2 -, or -CH 2 CH 2 -. L 1 and L 2 are each independently, more preferably a single bond, -O-, -CH 2 CH 2 -, -COO-, -COOCH 2 CH 2 -, or -OCO-.

B1 및 B2 는 각각 독립적으로, 바람직하게는, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, -O-, -S-, -Ra9ORa10-, -Ra11COORa12-, -Ra13OCORa14-, 또는 -Ra15OC=OORa16- 이다. 여기서, Ra9 ∼ Ra16 은 각각 독립적으로 단결합, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타낸다. B1 및 B2 는 각각 독립적으로, 보다 바람직하게는 단결합, -ORa10-1-, -CH2-, -CH2CH2-, -COORa12-1-, 또는 -OCORa14-1- 이다. 여기서, Ra10-1, Ra12-1, Ra14-1 은 각각 독립적으로 단결합, -CH2-, -CH2CH2- 중 어느 것을 나타낸다. B1 및 B2 는 각각 독립적으로, 더욱 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2CH2-, -COO-, -COOCH2CH2-, -OCO-, 또는 -OCOCH2CH2- 이다.B 1 and B 2 are each independently, preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, -O-, -S-, -R a9 OR a10 -, -R a11 COOR a12 -, -R a13 OCOR a14 -, or -R a15 OC=OOR a16 -. Here, R a9 to R a16 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. B 1 and B 2 are each independently, more preferably a single bond, -OR a10-1 -, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -COOR a12-1 -, or -OCOR a14-1 - am. Here, R a10-1 , R a12-1 , and R a14-1 each independently represent a single bond, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -. B 1 and B 2 are each independently, more preferably a single bond, -O-, -CH 2 CH 2 -, -COO-, -COOCH 2 CH 2 -, -OCO-, or -OCOCH 2 CH 2 - am.

k 및 l 은, 역파장 분산성 발현의 관점에서 2 ≤ k+l ≤ 6 의 범위가 바람직하고, k+l = 4 인 것이 바람직하고, k = 2 또한 l = 2 인 것이 보다 바람직하다. k = 2 또한 l = 2 이면 대칭 구조가 되기 때문에 바람직하다.From the viewpoint of developing reverse wavelength dispersion, k and l are preferably in the range of 2 ≤ k + l ≤ 6, preferably k + l = 4, and more preferably k = 2 and l = 2. k = 2 and l = 2 are also desirable because it results in a symmetrical structure.

P1 또는 P2 로 나타내는 중합성기로는, 에폭시기, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, (메트)아크릴로일기, 옥시라닐기, 및 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, (메트)아크릴로일기, 비닐기 및 비닐옥시기가 바람직하고, (메트)아크릴로일기가 보다 바람직하다.Polymerizable groups represented by P 1 or P 2 include epoxy group, vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, (meth)acryloyl group, oxiranyl group, and oxeta. Nil group, etc. can be mentioned. Among them, (meth)acryloyl group, vinyl group, and vinyloxy group are preferable, and (meth)acryloyl group is more preferable.

Ar 은 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화수소 고리, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 복소 고리, 및 전자 흡인성기에서 선택되는 적어도 1 개를 갖는 것이 바람직하다. 당해 방향족 탄화수소 고리로는, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리 등을 들 수 있고, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리가 바람직하다. 당해 방향족 복소 고리로는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 피롤 고리, 인돌 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리미딘 고리, 트리아졸 고리, 트리아진 고리, 피롤린 고리, 이미다졸 고리, 피라졸 고리, 티아졸 고리, 벤조티아졸 고리, 티에노티아졸 고리, 옥사졸 고리, 벤조옥사졸 고리, 및 페난트롤린 고리 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 티아졸 고리, 벤조티아졸 고리, 또는 벤조푸란 고리를 갖는 것이 바람직하고, 벤조티아졸 고리를 갖는 것이 더욱 바람직하다. 또, Ar 에 질소 원자가 포함되는 경우, 당해 질소 원자는 π 전자를 갖는 것이 바람직하다.Ar preferably has at least one selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring that may have a substituent, an aromatic heterocycle that may have a substituent, and an electron-withdrawing group. Examples of the aromatic hydrocarbon ring include a benzene ring, a naphthalene ring, and anthracene ring, with a benzene ring and a naphthalene ring being preferred. The aromatic heterocyclic ring includes a furan ring, a benzofuran ring, a pyrrole ring, an indole ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, a triazole ring, a triazine ring, and a pyrroline ring. , an imidazole ring, a pyrazole ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, a thienothiazole ring, an oxazole ring, a benzoxazole ring, and a phenanthroline ring. Among them, those having a thiazole ring, a benzothiazole ring, or a benzofuran ring are preferable, and those having a benzothiazole ring are more preferable. Additionally, when Ar contains a nitrogen atom, the nitrogen atom preferably has π electrons.

식 (X) 중, Ar 로 나타내는 기가 갖는 π 전자의 합계수 Nπ 는, 통상 6 이상이고, 8 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 이상이고, 더욱 바람직하게는 14 이상이고, 특히 바람직하게는 16 이상이다. 또, 바람직하게는 36 이하이고, 보다 바람직하게는 32 이하이고, 더욱 바람직하게는 26 이하이고, 특히 바람직하게는 24 이하이다.In formula (X), the total number N π of π electrons possessed by the group represented by Ar is usually 6 or more, preferably 8 or more, more preferably 10 or more, further preferably 14 or more, and especially preferably is 16 or more. Moreover, it is preferably 36 or less, more preferably 32 or less, further preferably 26 or less, and especially preferably 24 or less.

Ar 에 포함되는 방향족기로는, 예를 들면 이하의 기를 들 수 있다.Examples of aromatic groups contained in Ar include the following groups.

[화학식 14][Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

식 (Ar-1) ∼ 식 (Ar-23) 중, * 표시는 연결부를 나타내고, Z0, Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬술포닐기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 12 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 12 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 12 의 N-알킬술파모일기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기를 나타낸다. 또, Z0, Z1 및 Z2 는, 중합성기를 포함하고 있어도 된다.In formulas (Ar-1) to (Ar-23), * represents a connecting portion, and Z 0 , Z 1 and Z 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or No group, nitro group, alkylsulfinyl group with 1 to 12 carbon atoms, alkylsulfonyl group with 1 to 12 carbon atoms, carboxyl group, fluoroalkyl group with 1 to 12 carbon atoms, alkoxy group with 1 to 12 carbon atoms, alkylthio group with 1 to 12 carbon atoms , N-alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, N,N-dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, N-alkylsulfamoyl group having 1 to 12 carbon atoms, or N,N-dialkylsulfamoyl group having 2 to 12 carbon atoms. represents. Additionally, Z 0 , Z 1 and Z 2 may contain a polymerizable group.

식 (Ar-1) ∼ 식 (Ar-23) 중, Q1 및 Q2 는, 각각 독립적으로, -CR2'R3'-, -S-, -NH-, -NR2'-, -CO- 또는 -O- 를 나타내고, R2' 및 R3' 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.In formulas (Ar-1) to (Ar-23), Q 1 and Q 2 are each independently -CR 2' R 3' -, -S-, -NH-, -NR 2' -, - CO- or -O- is represented, and R 2' and R 3' each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

식 (Ar-1) ∼ 식 (Ar-23) 중, J1 및 J2 는, 각각 독립적으로, 탄소 원자, 또는 질소 원자를 나타낸다.In formulas (Ar-1) to (Ar-23), J 1 and J 2 each independently represent a carbon atom or a nitrogen atom.

식 (Ar-1) ∼ 식 (Ar-23) 중, Y1, Y2 및 Y3 은, 각각 독립적으로, 치환되어 있어도 되는 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기를 나타낸다.In formulas (Ar-1) to (Ar-23), Y 1 , Y 2 and Y 3 each independently represent an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group.

식 (Ar-1) ∼ 식 (Ar-23) 중, W1 및 W2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 시아노기, 메틸기 또는 할로겐 원자를 나타내고, m 은 0 ∼ 6 의 정수를 나타낸다.In formulas (Ar-1) to (Ar-23), W 1 and W 2 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, a methyl group, or a halogen atom, and m represents an integer from 0 to 6.

Y1, Y2 및 Y3 에 있어서의 방향족 탄화수소기로는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 비페닐기 등의 탄소수 6 ∼ 20 의 방향족 탄화수소기를 들 수 있고, 페닐기, 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다. 방향족 복소 고리기로는, 푸릴기, 피롤릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기 등의 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 등의 헤테로 원자를 적어도 1 개 포함하는 탄소수 4 ∼ 20 의 방향족 복소 고리기를 들 수 있고, 푸릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기가 바람직하다.Examples of the aromatic hydrocarbon group for Y 1 , Y 2 and Y 3 include aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group and biphenyl group, and phenyl group and naphthyl group are preferred, and a phenyl group is more preferred. The aromatic heterocyclic group includes at least one heteroatom such as a nitrogen atom such as a furyl group, pyrrolyl group, thienyl group, pyridinyl group, thiazolyl group, and benzothiazolyl group, an oxygen atom, and a sulfur atom, and has 4 to 4 carbon atoms. Examples of aromatic heterocyclic groups of 20 include furyl group, thienyl group, pyridinyl group, thiazolyl group, and benzothiazolyl group.

Y1, Y2 및 Y3 은, 각각 독립적으로, 치환되어 있어도 되는 다고리계 방향족 탄화수소기 또는 다고리계 방향족 복소 고리기여도 된다. 다고리계 방향족 탄화수소기는, 축합 다고리계 방향족 탄화수소기, 또는 방향 고리 집합에서 유래하는 기를 말한다. 다고리계 방향족 복소 고리기는, 축합 다고리계 방향족 복소 고리기, 또는 방향 고리 집합에서 유래하는 기를 말한다.Y 1 , Y 2 and Y 3 may each independently be a polycyclic aromatic hydrocarbon group or a polycyclic aromatic heterocyclic group that may be substituted. The polycyclic aromatic hydrocarbon group refers to a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group or a group derived from a set of aromatic rings. The polycyclic aromatic heterocyclic group refers to a fused polycyclic aromatic heterocyclic group or a group derived from a set of aromatic rings.

Z0, Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기인 것이 바람직하고, Z0 은, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 시아노기가 더욱 바람직하고, Z1 및 Z2 는, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 메틸기, 시아노기가 더욱 바람직하다. 또한, Z0, Z1 및 Z2 는 중합성기를 포함하고 있어도 된다.Z 0 , Z 1 and Z 2 are each independently preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group with 1 to 12 carbon atoms, a cyano group, a nitro group or an alkoxy group with 1 to 12 carbon atoms, and Z 0 is a hydrogen atom. , an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyano group are more preferable, and Z 1 and Z 2 are more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, or a cyano group. Additionally, Z 0 , Z 1 and Z 2 may contain a polymerizable group.

Q1 및 Q2 는, -NH-, -S-, -NR2'-, -O- 가 바람직하고, R2' 는 수소 원자가 바람직하다. 그 중에서도 -S-, -O-, -NH- 가 특히 바람직하다.Q 1 and Q 2 are preferably -NH-, -S-, -NR 2' -, and -O-, and R 2' is preferably a hydrogen atom. Among them, -S-, -O-, and -NH- are particularly preferable.

식 (Ar-1) ∼ (Ar-23) 중에서도, 식 (Ar-6) 및 식 (Ar-7) 이 분자의 안정성의 관점에서 바람직하다.Among formulas (Ar-1) to (Ar-23), formulas (Ar-6) and (Ar-7) are preferable from the viewpoint of molecular stability.

식 (Ar-16) ∼ (Ar-23) 에 있어서, Y1 은, 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z0 과 함께, 방향족 복소 고리기를 형성하고 있어도 된다. 방향족 복소 고리기로는, Ar 이 갖고 있어도 되는 방향족 복소 고리로서 상기한 것을 들 수 있지만, 예를 들어, 피롤 고리, 이미다졸 고리, 피롤린 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리미딘 고리, 인돌 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 푸린 고리, 피롤리딘 고리 등을 들 수 있다. 이 방향족 복소 고리기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. 또, Y1 은, 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z0 과 함께, 전술한 치환되어 있어도 되는 다고리계 방향족 탄화수소기 또는 다고리계 방향족 복소 고리기여도 된다. 예를 들어, 벤조푸란 고리, 벤조티아졸 고리, 벤조옥사졸 고리 등을 들 수 있다.In formulas (Ar-16) to (Ar-23), Y 1 may form an aromatic heterocyclic group together with the nitrogen atom to which it is bonded and Z 0 . Examples of the aromatic heterocyclic ring group include the aromatic heterocyclic rings that Ar may have, and examples include pyrrole ring, imidazole ring, pyrroline ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, indole ring, A quinoline ring, an isoquinoline ring, a purine ring, a pyrrolidine ring, etc. can be mentioned. This aromatic heterocyclic group may have a substituent. Additionally, Y 1 , together with the nitrogen atom to which it is bonded and Z 0 , may be the polycyclic aromatic hydrocarbon group or polycyclic aromatic heterocyclic group that may be substituted as described above. For example, a benzofuran ring, a benzothiazole ring, a benzoxazole ring, etc. can be mentioned.

식 (X) 로 나타내는 화합물은, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2010-31223호에 기재된 방법에 준하여 제조할 수 있다.The compound represented by formula (X) can be produced, for example, according to the method described in Japanese Patent Application Publication No. 2010-31223.

본 발명에 있어서 위상차층을 형성하는 중합성 액정 화합물로서, 예를 들어, 하기 식 (Y) 로 나타내는 기를 포함하는 화합물 (이하,「중합성 액정 화합물 (Y)」라고도 한다) 을 사용해도 된다. 중합성 액정 화합물 (Y) 는 일반적으로 정파장 분산성을 나타내는 경향이 있다. 이들의 중합성 액정 화합물은 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As the polymerizable liquid crystal compound forming the phase contrast layer in the present invention, for example, a compound containing a group represented by the following formula (Y) (hereinafter also referred to as “polymerizable liquid crystal compound (Y)”) may be used. The polymerizable liquid crystal compound (Y) generally tends to exhibit constant wavelength dispersion. These polymerizable liquid crystal compounds can be used individually or in combination of two or more types.

P11-B11-E11-B12-A11-B13- (Y) P11-B11-E11-B12-A11-B13- (Y)

[식 (Y) 중, P11 은, 중합성기를 나타낸다.[In formula (Y), P11 represents a polymerizable group.

A11 은, 2 가의 지환식 탄화수소기 또는 2 가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다.A11 represents a divalent alicyclic hydrocarbon group or a divalent aromatic hydrocarbon group.

B11 은, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR16-, -NR16-CO-, -CO-, -CS- 또는 단결합을 나타낸다. R16 은, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다.B11 is -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR 16 -, -NR 16 -CO-, -CO-, - CS- represents a single bond. R 16 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

B12 및 B13 은, 각각 독립적으로, -C≡C-, -CH=CH-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C(=O)-O-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -C(=O)-NR16-, -NR16-C(=O)-, -OCH2-, -OCF2-, -CH2O-, -CF2O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH-, -H, -C≡N 또는 단결합을 나타낸다.B12 and B13 are each independently -C≡C-, -CH=CH-, -CH 2 -CH 2 -, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O )-O-, -OC(=O)-, -OC(=O)-O-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -C(=O)-NR 16 -, -NR 16 -C(=O)-, -OCH 2 -, -OCF 2 -, -CH 2 O-, -CF 2 O-, -CH=CH-C(=O)-O-, - OC(=O)-CH=CH-, -H, -C≡N or represents a single bond.

E11 은, 탄소수 1 ∼ 12 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 되고, 그 알콕시기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 또, 그 알칸디일기를 구성하는 -CH2- 는, -O- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 된다.]E11 represents an alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkoxy group may be substituted with a halogen atom. You can stay. Additionally, -CH 2 - constituting the alkanediyl group may be substituted with -O- or -CO-.]

A11 의 방향족 탄화수소기 및 지환식 탄화수소기의 탄소수는, 3 ∼ 18 의 범위인 것이 바람직하고, 5 ∼ 12 의 범위인 것이 보다 바람직하고, 5 또는 6 인 것이 특히 바람직하다. A11 로 나타내는 2 가의 지환식 탄화수소기 및 2 가의 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 및 그 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다. A11 로는, 시클로헥산-1,4-디일기, 1,4-페닐렌기가 바람직하다.The carbon number of the aromatic hydrocarbon group and the alicyclic hydrocarbon group of A11 is preferably in the range of 3 to 18, more preferably in the range of 5 to 12, and especially preferably in the range of 5 or 6. The hydrogen atom contained in the divalent alicyclic hydrocarbon group and divalent aromatic hydrocarbon group represented by A11 may be substituted with a halogen atom, an alkyl group with 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group with 1 to 6 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group. The hydrogen atom contained in the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms may be substituted with a fluorine atom. As A11, cyclohexane-1,4-diyl group and 1,4-phenylene group are preferable.

E11 로는, 직사슬형의 탄소수 1 ∼ 12 의 알칸디일기가 바람직하다. 그 알칸디일기를 구성하는 -CH2- 는, -O- 로 치환되어 있어도 된다.As E11, a linear alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms is preferable. -CH 2 - constituting the alkanediyl group may be substituted with -O-.

구체적으로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 데칸-1,10-디일기, 운데칸-1,11-디일기 및 도데칸-1,12-디일기 등의 탄소수 1 ∼ 12 의 직사슬형 알칸디일기 ; -CH2-CH2-O-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2- 및 -CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2- 등을 들 수 있다.Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1, 7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group and dodecane-1,12-diyl group. linear alkanediyl groups having 1 to 12 carbon atoms, such as diyl groups; -CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 - and -CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 - and the like.

B11 로는, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO- 가 바람직하고, 그 중에서도, -CO-O- 가 보다 바람직하다.As B11, -O-, -S-, -CO-O-, and -O-CO- are preferable, and among them, -CO-O- is more preferable.

B12 및 B13 으로는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C(=O)-O- 가 바람직하고, 그 중에서도, -O- 또는 -O-C(=O)-O- 가 보다 바람직하다.As B12 and B13, each independently -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C(=O) -O- is preferable, and among these, -O- or -O-C(=O)-O- is more preferable.

P11 로 나타내는 중합성기로는, 중합 반응성, 특히 광 중합 반응성이 높다는 점에서, 라디칼 중합성기 또는 카티온 중합성기가 바람직하고, 취급이 용이한 데다가, 액정 화합물의 제조 자체도 용이한 점에서, 중합성기는, 하기의 식 (P-11) ∼ 식 (P-15) 로 나타내는 기인 것이 바람직하다.The polymerizable group represented by P11 is preferably a radical polymerizable group or a cationic polymerizable group because of its high polymerization reactivity, especially photopolymerization reactivity, and because it is easy to handle and the production of the liquid crystal compound itself is easy. The base group is preferably a group represented by the following formulas (P-11) to (P-15).

[화학식 15][Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

[식 (P-11) ∼ (P-15) 중,[In formulas (P-11) to (P-15),

R17 ∼ R21 은 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다.]R 17 to R 21 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a hydrogen atom.]

식 (P-11) ∼ 식 (P-15) 로 나타내는 기의 구체예로는, 하기 식 (P-16) ∼ 식 (P-20) 으로 나타내는 기를 들 수 있다.Specific examples of groups represented by formulas (P-11) to (P-15) include groups represented by the following formulas (P-16) to (P-20).

[화학식 16][Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

P11 은, 식 (P-14) ∼ 식 (P-20) 으로 나타내는 기인 것이 바람직하고, 비닐기, p-스틸벤기, 에폭시기 또는 옥세타닐기가 보다 바람직하다.P11 is preferably a group represented by formulas (P-14) to (P-20), and more preferably a vinyl group, p-stilbene group, epoxy group, or oxetanyl group.

P11-B11- 로 나타내는 기가, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기인 것이 더욱 바람직하다.It is more preferable that the group represented by P11-B11- is an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group.

중합성 액정 화합물 (Y) 로는, 식 (Ⅰ), 식 (Ⅱ), 식 (Ⅲ), 식 (Ⅳ), 식 (Ⅴ) 또는 식 (Ⅵ) 으로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Examples of the polymerizable liquid crystal compound (Y) include compounds represented by formula (I), formula (II), formula (III), formula (IV), formula (V), or formula (VI).

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 (I) P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 (I)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 (Ⅱ) P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 (Ⅱ)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 (Ⅲ) P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 (Ⅲ)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 (Ⅳ) P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 (Ⅳ)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 (V) P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 (V)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 (Ⅵ) P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 (Ⅵ)

[식 중,[During the ceremony,

A11, B11 ∼ B13 및 P11 은 상기와 동일한 의미이고,A11, B11 to B13 and P11 have the same meaning as above,

A12 ∼ A14 는 각각 독립적으로, A11 과 동일한 의미이고, B14 ∼ B16 은 각각 독립적으로, B12 와 동일한 의미이고, B17 은 B11 과 동일한 의미이고, E12 는 E11 과 동일한 의미이고, P12 는 P11 과 동일한 의미이다.A12 to A14 each independently have the same meaning as A11, B14 to B16 each independently have the same meaning as B12, B17 has the same meaning as B11, E12 has the same meaning as E11, and P12 has the same meaning as P11. am.

F11 은, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 13 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 13 의 알콕시기, 시아노기, 니트로기, 트리플루오로메틸기, 디메틸아미노기, 하이드록실기, 메틸올기, 포르밀기, 술포기 (-SO3H), 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기 또는 할로겐 원자를 나타내고, 그 알킬기 및 알콕시기를 구성하는 -CH2- 는, -O- 로 치환되어 있어도 된다.]F11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 13 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 13 carbon atoms, cyano group, nitro group, trifluoromethyl group, dimethylamino group, hydroxyl group, methylol group, formyl group, sulfo group (-SO 3 H), represents a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom, and -CH 2 - constituting the alkyl group and alkoxy group may be substituted with -O-.]

중합성 액정 화합물 (Y) 의 구체예로는, 액정 편람 (액정 편람 편집 위원회편, 마루젠 (주) 2000년 10월 30일 발행) 의「3.8.6 네트워크 (완전 가교형)」,「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물 중에서 중합성기를 갖는 화합물, 일본 공개특허공보 2010-31223호, 일본 공개특허공보 2010-270108호, 일본 공개특허공보 2011-6360호 및 일본 공개특허공보 2011-207765호에 기재된 중합성 액정을 들 수 있다.Specific examples of the polymerizable liquid crystal compound (Y) include “3.8.6 Network (fully cross-linked)” and “6.5” in the Liquid Crystal Handbook (Liquid Crystal Handbook Editorial Committee edition, published by Maruzen Co., Ltd. on October 30, 2000). .1 liquid crystal material b. Among the compounds described in “Polymerizable nematic liquid crystal materials,” compounds having a polymerizable group, JP-A-2010-31223, JP-A-2010-270108, JP-A-2011-6360 and JP-A-2011- Examples include polymerizable liquid crystals described in No. 207765.

중합성 액정 화합물 (X) 및 중합성 액정 화합물 (Y) 는, 모두, 수평 배향시켜 사용할 수도 있고 수직 배향하여 사용할 수도 있다. 또, 중합성 액정 화합물 (X) 및 중합성 액정 화합물 (Y) 는, 각각 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 사용해도 되고, 양자를 조합하여 사용해도 된다.Both the polymerizable liquid crystal compound (X) and the polymerizable liquid crystal compound (Y) may be used horizontally aligned or vertically aligned. In addition, the polymerizable liquid crystal compound (X) and the polymerizable liquid crystal compound (Y) may each be used individually, two or more types may be used, or both may be used in combination.

위상차층 형성용 조성물 중의 중합성 액정 화합물의 함유량은, 위상차층 형성용 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여, 예를 들어 70 ∼ 99.5 질량부이고, 바람직하게는 80 ∼ 99 질량부이고, 보다 바람직하게는 85 ∼ 98 질량부이고, 더욱 바람직하게는 90 ∼ 95 질량부이다. 중합성 액정 화합물의 함유량이 상기 범위 내이면, 얻어지는 위상차층의 배향성의 관점에서 유리하다. 또한, 위상차층 형성용 조성물이 2 종 이상의 중합성 액정 화합물을 포함하는 경우, 위상차층 형성용 조성물에 포함되는 모든 액정 화합물의 총량이 상기 함유량의 범위 내인 것이 바람직하다.The content of the polymerizable liquid crystal compound in the composition for forming a retardation layer is, for example, 70 to 99.5 parts by mass, preferably 80 to 99 parts by mass, more preferably 80 to 99 parts by mass, based on 100 parts by mass of solid content of the composition for forming a retardation layer. is 85 to 98 parts by mass, more preferably 90 to 95 parts by mass. If the content of the polymerizable liquid crystal compound is within the above range, it is advantageous from the viewpoint of the orientation of the resulting retardation layer. In addition, when the composition for forming a phase contrast layer includes two or more types of polymerizable liquid crystal compounds, it is preferable that the total amount of all liquid crystal compounds included in the composition for forming a phase contrast layer is within the above content range.

위상차층 형성용 조성물은, 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 개시하기 위한 중합 개시제를 포함하고 있어도 된다. 중합 개시제로는, 당해 분야에서 종래 사용되고 있는 것에서 적절히 선택하여 사용할 수 있으며, 열 중합 개시제여도 되고, 광 중합 개시제여도 되지만, 보다 저온 조건하에서 중합 반응을 개시할 수 있는 점에서, 광 중합 개시제가 바람직하다. 바람직하게는, 편광층 형성용 조성물에 있어서 사용할 수 있는 광 중합 개시제로서 앞서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.The composition for forming a phase contrast layer may contain a polymerization initiator for initiating the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound. The polymerization initiator can be appropriately selected from those conventionally used in the field, and may be a thermal polymerization initiator or a photo polymerization initiator. However, a photo polymerization initiator is preferable because the polymerization reaction can be initiated under lower temperature conditions. do. Preferably, photopolymerization initiators that can be used in the composition for forming a polarizing layer include the same photopolymerization initiators as those exemplified above.

위상차층 형성용 조성물은, 통상, 용제에 용해시킨 상태에서 기재 필름 등에 도포되기 때문에, 용제를 포함하는 것이 바람직하다. 용제로는, 중합성 액정 화합물을 용해할 수 있는 용제가 바람직하고, 또, 중합성 액정 화합물의 중합 반응에 불활성인 용제인 것이 바람직하다. 용제로는, 편광층 형성용 조성물에 있어서 사용할 수 있는 것으로서 앞서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.Since the composition for forming a retardation layer is usually applied to a base film or the like in a state dissolved in a solvent, it is preferable that it contains a solvent. The solvent is preferably a solvent that can dissolve the polymerizable liquid crystal compound, and is preferably a solvent that is inert to the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound. Examples of the solvent that can be used in the composition for forming a polarizing layer include the same solvents as those exemplified above.

또, 위상차층 형성용 조성물은, 필요에 따라, 광 증감제, 레벨링제 및 편광층 형성용 조성물에 포함되는 첨가제로서 예시한 첨가제 등을 함유해도 된다. 광 증감제 및 레벨링제로는, 편광층 형성용 조성물에 있어서 사용할 수 있는 것으로서 앞서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.Additionally, the composition for forming a retardation layer may contain, if necessary, a photosensitizer, a leveling agent, and the additives exemplified as additives contained in the composition for forming a polarizing layer. The photosensitizer and leveling agent that can be used in the composition for forming a polarizing layer include the same ones as those exemplified above.

위상차층 형성용 조성물은, 예를 들어, 중합성 액정 화합물 및 필요에 따라 중합 개시제, 용매, 첨가제 등을 혼합 및 교반함으로써 조제할 수 있다.The composition for forming a phase contrast layer can be prepared, for example, by mixing and stirring a polymerizable liquid crystal compound and, if necessary, a polymerization initiator, solvent, additives, etc.

위상차층은, 예를 들어, 위상차층 형성용 조성물을, 기재 또는 배향막 상에 도포하여, 얻어지는 도막을 건조시키고, 또한, 그 위상차층 형성용 조성물 중의 중합성 액정 화합물을 배향시킨 후, 배향 상태를 유지한 채로 광 조사 등에 의해 중합성 액정 화합물을 중합시킴으로써 얻을 수 있다. 기재로는, 본 발명의 광학 적층체를 구성하는 기재 필름과 동일한 것을 들 수 있다. 배향막으로는, 본 발명의 편광층을 제조할 때에 사용할 수 있는 것으로서 앞서 예시한 광 배향막 외에, 배향성 폴리머를 포함하는 배향막, 표면에 요철 패턴이나 복수의 홈을 갖는 그루브 배향막 등을 들 수 있고, 원하는 배향 규제력 등에 따라 적절히 선택하면 된다.The retardation layer is formed, for example, by applying a composition for forming a retardation layer onto a substrate or an alignment film, drying the obtained coating film, and aligning the polymerizable liquid crystal compound in the composition for forming a retardation layer, and then maintaining the orientation state. It can be obtained by polymerizing the polymerizable liquid crystal compound by irradiation of light or the like while holding it. Examples of the base material include those similar to the base film constituting the optical laminated body of the present invention. Examples of the alignment film that can be used when manufacturing the polarizing layer of the present invention include, in addition to the photo-alignment film exemplified above, an alignment film containing an orientation polymer, a groove alignment film having a concavo-convex pattern or a plurality of grooves on the surface, and the like, as desired. It can be selected appropriately depending on the orientation regulation force, etc.

배향성 폴리머로는, 예를 들어, 분자 내에 아미드 결합을 갖는 폴리아미드나 젤라틴류, 분자 내에 이미드 결합을 갖는 폴리이미드 및 그 가수 분해물인 폴리아믹산, 폴리비닐알코올, 알킬 변성 폴리비닐알코올, 폴리아크릴아미드, 폴리옥사졸, 폴리에틸렌이민, 폴리스티렌, 폴리비닐피롤리돈, 폴리아크릴산 및 폴리아크릴산에스테르류를 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리비닐알코올이 바람직하다. 배향성 폴리머는 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Orienting polymers include, for example, polyamides and gelatins that have an amide bond in the molecule, polyimides that have an imide bond in the molecule and their hydrolyzates, polyamic acid, polyvinyl alcohol, alkyl-modified polyvinyl alcohol, and polyacrylic. Amides, polyoxazole, polyethyleneimine, polystyrene, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid, and polyacrylic acid esters can be mentioned. Among them, polyvinyl alcohol is preferable. Orientation polymers can be used individually or in combination of two or more types.

배향성 폴리머를 포함하는 배향막은, 통상, 배향성 폴리머가 용제에 용해된 조성물 (이하,「배향성 폴리머 조성물」이라고도 한다) 을 기재 필름 등의 배향막을 형성해야 할 표면에 도포하여, 용제를 제거하거나, 또는 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하여, 용제를 제거하고, 러빙함 (러빙법) 으로써 얻어진다. 용제로는, 편광층 형성용 조성물에 사용할 수 있는 용제로서 앞서 예시한 용제와 동일한 것을 들 수 있다.An alignment film containing an orientation polymer is usually created by applying a composition in which the orientation polymer is dissolved in a solvent (hereinafter also referred to as “orientation polymer composition”) to a surface on which an orientation film, such as a base film, is to be formed, and then removing the solvent, or It is obtained by applying the oriented polymer composition to a substrate, removing the solvent, and rubbing (rubbing method). Examples of the solvent include the same solvents as those previously exemplified as solvents that can be used in the composition for forming a polarizing layer.

배향성 폴리머 조성물 중의 배향성 폴리머의 농도는, 배향성 폴리머 재료가, 용제에 완전히 용해될 수 있는 범위이면 되는데, 용액에 대하여 고형분 환산으로 0.1 ∼ 20 % 가 바람직하고, 0.1 ∼ 10 % 정도가 더욱 바람직하다.The concentration of the orientation polymer in the orientation polymer composition should be within a range in which the orientation polymer material can be completely dissolved in the solvent, but is preferably 0.1 to 20%, and more preferably about 0.1 to 10%, in terms of solid content relative to the solution.

배향성 폴리머 조성물로서, 시판되는 배향막 재료를 그대로 사용해도 된다. 시판되는 배향막 재료로는, 선에버 (등록 상표, 닛산 화학 공업 (주) 제조), 옵티머 (등록 상표, JSR (주) 제조) 등을 들 수 있다.As the alignment polymer composition, commercially available alignment film materials may be used as is. Commercially available alignment film materials include SunEver (registered trademark, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), Optimer (registered trademark, manufactured by JSR Corporation), and the like.

배향성 폴리머 조성물을 기재 등의 배향막을 형성해야 할 표면에 도포하는 방법 및 도막 중의 용제를 제거하는 방법으로는, 편광층 형성용 조성물을 기재 필름 등에 도포하는 방법 및 도막중의 용제를 제거하는 방법과 동일한 방법을 채용할 수 있다.Methods of applying an orientation polymer composition to a surface such as a base material on which an alignment film is to be formed and methods of removing the solvent in the coating film include a method of applying a composition for forming a polarizing layer to a base film, etc., and a method of removing the solvent in the coating film. The same method can be adopted.

얻어진 배향성 폴리머 조성물의 건조 도막에 대해 러빙 처리를 실시함으로써 러빙 배향막이 얻어진다. 러빙 처리 방법으로는, 예를 들어, 러빙포가 감겨져 회전하고 있는 러빙 롤에, 상기 배향성 폴리머 조성물의 건조 도막을 접촉시키는 방법을 들 수 있다. 러빙 처리를 실시할 때, 마스킹을 실시하면, 배향의 방향이 상이한 복수의 영역 (패턴) 을 배향막에 형성할 수도 있다.A rubbing oriented film is obtained by subjecting the dried film of the obtained oriented polymer composition to a rubbing treatment. As a rubbing treatment method, for example, a method of bringing a dry coating film of the above-mentioned oriented polymer composition into contact with a rubbing roll on which a rubbing cloth is wound and rotating is mentioned. When performing the rubbing treatment, if masking is performed, a plurality of regions (patterns) with different orientation directions can be formed in the alignment film.

그루브 (groove) 배향막은, 막 표면에 요철 패턴 또는 복수의 그루브 (홈) 를 갖는 막이다. 등간격으로 나란한 복수의 직선상의 그루브를 갖는 막에 중합성 액정 화합물을 도포한 경우, 그 홈을 따른 방향으로 액정 분자가 배향한다.A groove alignment film is a film having an uneven pattern or a plurality of grooves (grooves) on the film surface. When a polymerizable liquid crystal compound is applied to a film having a plurality of linear grooves aligned at equal intervals, the liquid crystal molecules are oriented in a direction along the grooves.

그루브 배향막을 얻는 방법으로는, 감광성 폴리이미드막 표면에 패턴 형상의 슬릿을 갖는 노광용 마스크를 개재하여 노광 후, 현상 및 린스 처리를 실시하여 요철 패턴을 형성하는 방법, 표면에 홈을 갖는 판상의 원반에, 경화 전의 UV 경화성 수지의 층을 형성하고, 형성된 수지층을 기재 등으로 옮기고 나서 경화시키는 방법, 및 배향막을 형성해야 할 표면에 형성한 경화 전의 UV 경화성 수지의 막에, 복수의 홈을 갖는 롤상의 원반을 눌러 대어 요철을 형성하고, 그 후 경화시키는 방법 등을 들 수 있다.Methods for obtaining a groove alignment film include a method of exposing the surface of a photosensitive polyimide film through an exposure mask having pattern-shaped slits, followed by development and rinsing to form a convex-convex pattern, and using a plate-shaped disk with grooves on the surface. A method of forming a layer of UV-curable resin before curing, transferring the formed resin layer to a substrate, etc. and then curing it, and having a plurality of grooves in the UV-curable resin film before curing formed on the surface where the alignment film is to be formed. Examples include a method of pressing a roll-shaped disk to form irregularities and then hardening it.

위상차층을 형성하기 위한 배향막 (배향성 폴리머를 포함하는 배향막 또는 광 배향막) 의 두께는, 통상 10 ∼ 10000 ㎚ 의 범위이고, 바람직하게는 10 ∼ 2500 ㎚ 의 범위이고, 보다 바람직하게는 10 ∼ 1000 ㎚ 이하이고, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 500 ㎚, 특히 바람직한 50 ∼ 250 ㎚ 의 범위이다.The thickness of the alignment film (alignment film or photo-alignment film containing an orientation polymer) for forming the phase contrast layer is usually in the range of 10 to 10,000 nm, preferably in the range of 10 to 2,500 nm, and more preferably in the range of 10 to 1,000 nm. It is below, more preferably 10 to 500 nm, and particularly preferably 50 to 250 nm.

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 위상차층의 두께는 적용되는 표시 장치에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 박막화의 관점에서, 바람직하게는 0.1 ∼ 10 ㎛, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 5 ㎛, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 3 ㎛ 이다. 본 발명의 광학 적층체가 복수의 위상차층을 포함하는 경우, 그 위상차층에 포함되는 각 위상차층의 두께는 서로 동일해도 되고 상이해도 되지만, 각각 상기 범위 내에 있는 것이 바람직하다.In the optical laminate of the present invention, the thickness of the retardation layer can be appropriately selected depending on the display device to which it is applied, but from the viewpoint of thinning, it is preferably 0.1 to 10 ㎛, more preferably 0.5 to 5 ㎛, even more preferably. is 1 to 3 ㎛. When the optical laminate of the present invention includes a plurality of retardation layers, the thickness of each retardation layer included in the retardation layer may be the same or different, but is preferably within the above range.

본 발명의 광학 적층체가 수평 배향 액정 경화층으로 이루어지는 위상차층과 수직 배향 액정 경화층으로 이루어지는 위상차층을 포함하는 경우, 수직 배향 액정 경화층은 편광층과 제 2 응력 완화층 사이에 배치되는 것이 바람직하다. 수평 배향 액정 경화층으로 이루어지는 위상차층과 수직 배향 액정 경화층으로 이루어지는 위상차층을 포함하는 경우, 편광층, 점접착층, 제 1 위상차층, 제 2 위상차층 및 제 2 응력 완화층의 순서로 적층되어 있는 것이 바람직하다. 이 경우, 수평 배향 액정 경화층인 위상차층 및 수직 배향 액정 경화층인 위상차층 중 어느 것이 편광층측에 배치 (즉, 제 1 위상차층) 되어도 된다. 수평 배향 액정 경화층으로 이루어지는 위상차층과 수직 배향 액정 경화층으로 이루어지는 위상차층은 점접착층을 개재하여 첩합되어 있어도 되고, 수평 배향 액정 경화층 상에, 수직 배향 규제력을 갖는 배향막을 개재하거나 또는 개재하지 않고, 수직 배향 액정 경화층이 적층되어 있거나, 또는 수직 배향 액정 경화층 상에, 수평 배향 규제력을 갖는 배향막을 개재하거나 또는 개재하지 않고 수평 배향 액정 경화층이 적층되어 있어도 된다.When the optical laminate of the present invention includes a retardation layer made of a horizontally aligned liquid crystal cured layer and a retardation layer made of a vertically aligned liquid crystal hardened layer, the vertically aligned liquid crystal cured layer is preferably disposed between the polarizing layer and the second stress relief layer. do. When comprising a retardation layer made of a horizontally aligned liquid crystal cured layer and a retardation layer made of a vertically aligned liquid crystal cured layer, the polarizing layer, the point adhesive layer, the first retardation layer, the second retardation layer, and the second stress relief layer are laminated in that order. It is desirable to have In this case, either a retardation layer that is a horizontally aligned liquid crystal cured layer or a retardation layer that is a vertically aligned liquid crystal cured layer may be disposed on the polarizing layer side (that is, the first retardation layer). The retardation layer made of a horizontally aligned liquid crystal cured layer and the retardation layer made of a vertically aligned liquid crystal cured layer may be bonded through a point adhesive layer, and an alignment film having a vertical alignment regulating force may or may not be interposed on the horizontally aligned liquid crystal cured layer. Alternatively, a vertically aligned liquid crystal hardened layer may be laminated, or a horizontally aligned liquid crystal hardened layer may be laminated on the vertically aligned liquid crystal cured layer, with or without an alignment film having a horizontal alignment regulating force interposed therebetween.

〔점접착층〕[Point adhesive layer]

본 발명에 있어서 편광층과 위상차층 사이에 배치되는 점접착층은, 점접착제로 형성되는 층이다. 그 점접착층은, 편광층과 위상차층을 첩합하는 층으로서 기능할 수 있는 것이면 공지된 점접착제로 형성할 수 있다. 점착제 또는 접착제는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 종래 공지된 점착제 및 접착제를 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 점착제로는, 예를 들어, 아크릴계, 고무계, 우레탄계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계 등의 베이스 폴리머를 갖는 점착제를 들 수 있다. 또, 에너지선 경화형 점착제, 열 경화형 점착제 등이어도 된다. 접착제로는, 활성 에너지선 경화형 접착제, 수계 접착제, 유기 용제계 접착제, 및 무용제계 접착제를 들 수 있다.In the present invention, the adhesive layer disposed between the polarizing layer and the retardation layer is a layer formed of an adhesive. The point adhesive layer can be formed with a known point adhesive as long as it can function as a layer for bonding the polarizing layer and the retardation layer. The adhesive or adhesive is not particularly limited, and conventionally known adhesives and adhesives can be used without particular limitation. Examples of the adhesive include adhesives having base polymers such as acrylic, rubber, urethane, silicone, and polyvinyl ether. Additionally, an energy ray curable adhesive, a heat curable adhesive, etc. may be used. Adhesives include active energy ray-curable adhesives, water-based adhesives, organic solvent-based adhesives, and solvent-free adhesives.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 그 점접착층은 점착제로 형성된다.In one embodiment of the present invention, the adhesive layer is formed of an adhesive.

점접착층의 두께는, 통상 1 ∼ 40 ㎛ 이고, 바람직하게는 3 ∼ 25 ㎛ 이다.The thickness of the adhesive layer is usually 1 to 40 μm, and preferably 3 to 25 μm.

편광층과 위상차층을 적층하는 경우, 위상차층의 지상축 (광축) 과 편광층의 흡수축을 실질적으로 45°가 되도록 적층하는 것이 바람직하다. 위상차층의 지상축 (광축) 과 편광층의 흡수축을 실질적으로 45°가 되도록 적층함으로써, 원 편광판으로서의 기능을 얻을 수 있다. 또한, 실질적으로 45°란 통상 45 ± 5°의 범위이다.When laminating a polarizing layer and a retardation layer, it is preferable to laminate them so that the slow axis (optical axis) of the retardation layer and the absorption axis of the polarizing layer are substantially 45°. By laminating the slow axis (optical axis) of the retardation layer so that the absorption axis of the polarizing layer is substantially 45°, the function as a circularly polarizing plate can be obtained. In addition, in reality, 45° is usually in the range of 45 ± 5°.

〔광학 적층체〕[Optical laminated body]

본 발명의 광학 적층체는, 그 용도 등에 따라 원하는 구성이 되도록, 제 1 기재 필름, 제 1 응력 완화층, 편광층, 점접착층, 위상차층, 제 2 응력 완화층, 및 제 2 기재 필름, 그리고, 필요에 따라 배향막, 확산 방지층 등을, 각 층에 대해 앞서 기재한 제조 방법 등에 따라, 적절한 순서로 형성, 적층함으로써 제조할 수 있다.The optical laminate of the present invention has a desired configuration according to its use, etc., comprising a first base film, a first stress relief layer, a polarizing layer, a point adhesive layer, a retardation layer, a second stress relief layer, and a second base film, and , it can be manufactured by forming and stacking an alignment film, a diffusion prevention layer, etc., as needed, in an appropriate order according to the manufacturing method described above for each layer.

예를 들어, 확산 방지층을 갖는 경우, 이하와 같은 순서로 제조할 수 있다 : 기재 필름 상에 형성된 확산 방지층 상에 배향막을 형성하고, 그 배향막 상에 편광층을 형성 후, 추가로 그 편광층 상에 확산 방지층을 형성하여, 2 개의 확산 방지층 사이에 편광층을 형성한 적층체를 제조한다 ; 이것과는 별도로, 기재 필름 상에 배향막을 개재하여 위상차층을 형성함으로써, 위상차층을 갖는 적층체를 제조하고, 그 위상차층을 갖는 적층체와 상기 편광층을 갖는 적층체를 점접착제에 의해 접착시킴으로써, 기재 필름/확산 방지층/배향막/편광층/확산 방지층/점접착제층/위상차층/배향막/기재 필름을 이 순서로 포함하는 적층체 (A) 를 제조한다 ; 또한, 제 1 기재 필름 상에 제 1 응력 완화층을 형성하여, 제 1 기재 필름/제 1 응력 완화층/기재 필름으로 이루어지는 적층체 (B) 와, 제 2 기재 필름 상에 제 2 응력 완화층을 형성하여, 제 2 기재 필름/제 2 응력 완화층/기재 필름으로 이루어지는 적층체 (C) 를 제조한다 ; 적층체 (A) 의 기재 필름과 적층체 (B) 의 기재 필름을 박리하여, 확산 방지층과 제 1 응력 완화층을 첩합하고, 적층체 (A) 의 양 외층의 기재 필름, 적층체 (B) 의 기재 필름 및 적층체 (C) 의 기재 필름을 각각 박리하고, 확산 방지층과 제 1 응력 완화층, 위상차층과 제 2 응력 완화층을 각각 첩합함으로써, 제 1 기재 필름/제 1 응력 완화층/확산 방지층/배향막/편광층/확산 방지층/점접착제층/위상차층/배향막/제 2 응력 완화층/제 2 기재 필름을 이 순서로 포함하는 광학 적층체가 얻어진다.For example, in the case of having a diffusion prevention layer, it can be manufactured in the following order: forming an alignment film on the diffusion prevention layer formed on the base film, forming a polarizing layer on the alignment film, and then further forming the polarization layer on the polarization layer. A diffusion prevention layer is formed to manufacture a laminate in which a polarizing layer is formed between the two diffusion prevention layers; Separately from this, a laminate having a retardation layer is manufactured by forming a retardation layer on a base film through an alignment film, and the laminate having the retardation layer and the laminate having the polarizing layer are bonded using an adhesive. By doing so, a laminate (A) containing the base film/diffusion prevention layer/alignment film/polarizing layer/diffusion prevention layer/adhesive layer/phase contrast layer/alignment film/base film in this order is manufactured; In addition, a first stress relief layer is formed on the first base film to form a laminate (B) consisting of the first base film/first stress relief layer/base film, and the second stress relief layer on the second base film. is formed to produce a laminate (C) consisting of the second base film/second stress relief layer/base film; The base film of the laminate (A) and the base film of the laminate (B) are peeled, the diffusion prevention layer and the first stress relief layer are bonded, and the base films of both outer layers of the laminate (A) and the laminate (B) are bonded. The base film of and the base film of the laminate (C) are peeled off, respectively, and the diffusion prevention layer, the first stress relief layer, the retardation layer, and the second stress relief layer are bonded, respectively, to form a first base film/first stress relief layer/ An optical laminate containing the diffusion prevention layer/alignment film/polarizing layer/diffusion prevention layer/adhesive layer/phase contrast layer/alignment film/second stress relief layer/second base film in this order is obtained.

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 제 1 응력 완화층과 제 2 응력 완화층 사이에 위치하는 층의 합계 두께는 20 ㎛ 이하이다. 본 발명은, 박형의 광학 적층체에 있어서 전사시에 발생하기 쉬운 첩합 어긋남이나 주름의 발생을 억제하는 데에 적합한 구성을 하고 있고, 제 1 응력 완화층과 제 2 응력 완화층 사이에 배치되는, 편광층 및 위상차층 등으로 이루어지는 원 편광 기능을 가져오기 위한 구조 (적층체) 의 두께가 얇은 적층체에 있어서, 본 발명의 보다 현저한 효과가 얻어지기 쉽다. 본 발명에 있어서, 제 1 응력 완화층과 제 2 응력 완화층 사이에 위치하는 층의 합계 두께는, 원하는 층 구성에 따라서도 상이하지만, 바람직하게는 18 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 16 ㎛ 이하이다. 제 1 응력 완화층과 제 2 응력 완화층 사이에 위치하는 층의 합계 두께의 하한은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상 5 ㎛ 이상이다.In the optical laminate of the present invention, the total thickness of the layers located between the first stress relief layer and the second stress relief layer is 20 μm or less. The present invention has a structure suitable for suppressing the occurrence of bonding misalignment or wrinkles that tend to occur during transfer in a thin optical laminate, and is disposed between the first stress relief layer and the second stress relief layer, In a laminate having a thin structure (laminated body) for bringing about a circularly polarized light function including a polarizing layer and a retardation layer, it is easy to obtain a more remarkable effect of the present invention. In the present invention, the total thickness of the layers located between the first stress relief layer and the second stress relief layer varies depending on the desired layer configuration, but is preferably 18 μm or less, more preferably 16 μm or less. . The lower limit of the total thickness of the layers located between the first stress relief layer and the second stress relief layer is not particularly limited, but is usually 5 μm or more.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 광학 적층체로부터 제 1 기재 필름을 박리할 때의 박리력 (F1) 과, 광학 적층체로부터 제 2 기재 필름을 박리할 때의 박리력 (F2) 가, 식 (2) :In one embodiment of the present invention, the peeling force (F1) when peeling the first base film from the optical laminate and the peeling force (F2) when peeling the second base film from the optical laminate are expressed by the formula (2) :

0.02 (N/25 ㎜) ≤ |F1 - F2| (2) 0.02 (N/25 ㎜) ≤ |F1 - F2| (2)

를 만족하는 것이 바람직하다.It is desirable to satisfy.

박리력 F1 과 박리력 F2 가 상기 식 (2) 로 나타내는 관계를 만족하면, 광학 적층체에 있어서의 제 1 기재 필름의 밀착력과, 광학 적층체에 있어서의 제 2 기재 필름의 밀착력 사이에 적당한 강약 관계가 발생한다. 이 때문에, 상기 관계를 만족하는 경우, 광학 적층체로부터 제 1 기재 및 제 2 기재를 원하는 순서로 용이하게 박리할 수 있다. 특히, 광학 적층체로부터 먼저 박리되는 기재 필름의 박리력이, 후에 박리되는 기재 필름의 박리력보다 작으면, 기재 필름이 박리되기 쉽고, 피전사체에 전사할 때의 첩합 어긋남이나 주름이 발생하기 어려워진다. 이로써, 전사에서 기인하여 발생하는 광학 적층체의 광학 성능의 저하를 억제하는 효과를 기대할 수 있다. 이러한 효과가 보다 향상되기 쉬워지는 점에서, 본 발명에 있어서의 F1 - F2 의 절대값은, 바람직하게는 0.03 N/25 ㎜ 이상, 보다 바람직하게는 0.04 N/25 ㎜ 이상이다. 또, F1 - F2 의 절대값의 상한값은, 통상 0.3 N/25 ㎜ 이하이고, 바람직하게는 0.2 N/25 ㎜ 이하, 보다 바람직하게는 0.08 N/25 ㎜ 이하이다. F1 - F2 의 값은, 박리력 F1 과 박리력 F2 를 각각 조정함으로써 제어할 수 있다.If the peeling force F1 and the peeling force F2 satisfy the relationship shown in the above equation (2), there is an appropriate strength/weakness between the adhesion force of the first base film in the optical laminate and the adhesion power of the second base film in the optical laminate. A relationship arises. For this reason, when the above relationship is satisfied, the first substrate and the second substrate can be easily peeled from the optical laminate in a desired order. In particular, if the peeling force of the base film that is peeled first from the optical laminate is smaller than the peeling force of the base film that is peeled off later, the base film is likely to peel, and it is difficult for bonding misalignment or wrinkles to occur when transferring to the transfer object. Lose. As a result, the effect of suppressing the deterioration of the optical performance of the optical laminated body resulting from transfer can be expected. Since this effect can be more easily improved, the absolute value of F1 - F2 in the present invention is preferably 0.03 N/25 mm or more, more preferably 0.04 N/25 mm or more. Moreover, the upper limit of the absolute value of F1 - F2 is usually 0.3 N/25 mm or less, preferably 0.2 N/25 mm or less, and more preferably 0.08 N/25 mm or less. The value of F1 - F2 can be controlled by adjusting the peel force F1 and peel force F2, respectively.

통상적으로 박리력 F1 및 박리력 F2 는, 먼저 박리되는 기재측의 박리력이 후에 박리되는 기재측의 박리력보다 작아지도록 설계된다.Typically, the peel force F1 and the peel force F2 are designed so that the peel force on the side of the substrate that is peeled first is smaller than the peel force on the side of the substrate that is peeled later.

본 발명에 있어서, 박리력 F1 은, 바람직하게는 0.30 N/25 ㎜ 미만, 보다 바람직하게는 0.25 N/25 ㎜ 이하, 더욱 바람직하게는 0.15 N/25 ㎜ 이하이다. 박리력 F1 의 상한이 상기 범위 내이면, 광학 적층체로부터 제 1 기재 필름을 박리하기 쉽고, 박리력 F2 와의 관계에 있어서 첩합 어긋남이나 주름의 발생 등의 억제에 효과적인 범위로 박리력 F1 을 제어하기 쉽다. 또, 박리력 F1 은, 바람직하게는 0.04 N/25 ㎜ 이상, 보다 바람직하게는 0.06 N/25 ㎜ 이상, 더욱 바람직하게는 0.08 N/25 ㎜ 이상이다.In the present invention, the peeling force F1 is preferably less than 0.30 N/25 mm, more preferably less than 0.25 N/25 mm, and even more preferably less than 0.15 N/25 mm. If the upper limit of the peeling force F1 is within the above range, it is easy to peel the first base film from the optical laminate, and in relation to the peeling force F2, the peeling force F1 is controlled to a range effective in suppressing bonding misalignment or wrinkles, etc. easy. Moreover, the peeling force F1 is preferably 0.04 N/25 mm or more, more preferably 0.06 N/25 mm or more, and even more preferably 0.08 N/25 mm or more.

박리력 F1 이 상기 하한 이상이면, 광학 적층체로부터 제 1 기재 필름을 박리할 때의 박리 용이성을 확보하면서, 적층체를 표시 장치 등에 장착하는 전사 전의 의도하지 않은 제 1 기재 필름의 박리를 억제할 수 있다.If the peeling force F1 is more than the above lower limit, ease of peeling when peeling the first base film from the optical laminate is ensured, and unintentional peeling of the first base film before transfer for mounting the laminate on a display device, etc. can be suppressed. You can.

본 발명에 있어서, 박리력 F2 는, 바람직하게는 0.30 N/25 ㎜ 미만, 보다 바람직하게는 0.25 N/25 ㎜ 이하, 더욱 바람직하게는 0.15 N/25 ㎜ 이하이다. 박리력 F2 의 상한이 상기 범위 내이면, 광학 적층체로부터 제 2 기재 필름을 박리하기 쉽고, 제 2 기재 필름을 박리하여 기판에 전사할 때에 발생할 수 있는 주름이나, 첩합 어긋남, 기포의 발생 등의 억제 효과가 향상되기 쉽다. 또, 박리력 F2 는, 바람직하게는 0.01 N/25 ㎜ 이상, 보다 바람직하게는 0.02 N/25 ㎜ 이상, 더욱 바람직하게는 0.03 N/25 ㎜ 이상이다. 박리력 F2 가 상기 하한 이상이면, 광학 적층체로부터 제 2 기재 필름을 박리할 때의 박리 용이성을 확보하면서, 적층체를 표시 장치 등에 장착하는 전사 전의 의도하지 않은 제 2 기재 필름의 박리를 억제할 수 있다.In the present invention, the peeling force F2 is preferably less than 0.30 N/25 mm, more preferably less than 0.25 N/25 mm, and even more preferably less than 0.15 N/25 mm. If the upper limit of the peeling force F2 is within the above range, it is easy to peel the second base film from the optical laminate, and wrinkles, bonding misalignment, and bubbles that may occur when peeling and transferring the second base film to the substrate are prevented. The suppression effect is easy to improve. Moreover, the peeling force F2 is preferably 0.01 N/25 mm or more, more preferably 0.02 N/25 mm or more, and even more preferably 0.03 N/25 mm or more. If the peeling force F2 is more than the above lower limit, ease of peeling is ensured when peeling the second base film from the optical laminate, and unintentional peeling of the second base film before transfer for mounting the laminate on a display device, etc. can be suppressed. You can.

박리력 F1 및 F2 는, 각각, 측정 대상으로 하는 광학 적층체의, 박리력을 측정하는 기재 필름과 반대측의 기재 필름 (예를 들어, F1 측정시에는 제 2 기재 필름, F2 측정시에는 제 1 기재 필름) 을 박리한 면을, 점접착제에 의해 유리판에 첩합하거나 하여 고정한 시험편에 있어서, 박리력을 측정하는 제 1 기재 필름 또는 제 2 기재 필름을 시험편의 광학 적층체로부터 박리하기 위해서 필요해지는 박리력으로서 측정되는 값이다. 상기 박리력의 측정은, JIS K6854-1 : 1999 에 규정되는 90°박리 시험법에 준하여 실시할 수 있다. 박리력 F1 및 F2 의 상세한 측정 방법은, 후술하는 실시예에 기재한다.The peeling forces F1 and F2 are, respectively, the base film on the opposite side to the base film for measuring the peeling force of the optical laminated body to be measured (for example, the second base film when measuring F1, the first base film when measuring F2) In a test piece in which the surface from which the base film was peeled is bonded to a glass plate with an adhesive and fixed, the peeling required to peel the first base film or the second base film for which the peeling force is to be measured from the optical laminate of the test piece. It is a value measured as force. The measurement of the peeling force can be performed according to the 90° peeling test method specified in JIS K6854-1:1999. The detailed measurement method of peel force F1 and F2 is described in the Examples described later.

박리력 F1 및 박리력 F2 는, 예를 들어, 제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름과 각각 인접하는 층의 구성 및 그 두께, 제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름의 종류나 그 두께, 제 1 기재 필름, 제 2 기재 필름 및/또는 이들의 기재 필름과 인접하는 층의 표면 처리 등에 의해 조정할 수 있다. 예를 들어, 제 1 기재 필름 및/또는 제 2 기재 필름 표면 상에 개질 처리를 실시하거나, 제 1 기재 필름 또는 제 2 기재 필름과 인접하는 층으로서 박리력 조정층을 형성하거나 함으로써, 제 1 기재 필름 또는 제 2 기재 필름의 광학 적층체로부터의 박리력을 제어할 수 있다.Peeling force F1 and peeling force F2 are, for example, the configuration of the layer adjacent to the first base film and the second base film and its thickness, the type and thickness of the first base film and the second base film, and the first base film and the second base film. It can be adjusted by surface treatment of the base film, the second base film, and/or the layer adjacent to these base films. For example, by performing a modification treatment on the surface of the first base film and/or the second base film, or forming a peeling force adjustment layer as a layer adjacent to the first base film or the second base film, the first base film The peeling force of the film or the second base film from the optical laminate can be controlled.

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 그 광학 적층체를 구성하는 박리 가능한 제 1 기재 필름 및 박리 가능한 제 2 기재 필름은 모두 박리되고, 원 편광판 기능을 갖는 적층체 구조만을 피전사체에 전사하여 이용하는 것이다. 본 발명의 광학 적층체는, 제 1 응력 완화층 및 제 2 응력 완화층을 구비하고 있고, 기재 필름을 박리하여 기판에 전사할 때의 첩합 어긋남이나 주름의 발생을 억제하는 효과가 우수하다. 본 발명의 광학 적층체는, 광학 필름이나 광학 적층체 등을 제조하기 위해서 당해 분야에서 종래 널리 사용되고 있는 일반적인 장치를 사용하여, 제 1 기재 또는 제 2 기재를 원하는 순서로 광학 적층체로부터 연속적으로 용이하게 박리할 수 있다.In the optical laminate of the present invention, the peelable first base film and the peelable second base film constituting the optical laminate are both peeled, and only the laminate structure having a circular polarizer function is transferred to the transfer target and used. . The optical laminate of the present invention is provided with a first stress relief layer and a second stress relief layer, and is excellent in the effect of suppressing the occurrence of bonding misalignment and wrinkles when peeling the base film and transferring it to a substrate. The optical laminate of the present invention can be easily manufactured by sequentially forming the first or second substrates from the optical laminate in a desired order using a general apparatus that has been widely used in the field for producing optical films, optical laminates, etc. It can be easily peeled off.

본 발명의 광학 적층체는, 박형이면서, 기재 필름 박리에서 기인하는 첩합 어긋남이나 주름이 잘 발생하지 않고, 전사 후의 적층체에 있어서의 높은 광학 성능을 기대할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 광학 적층체는, 여러 가지 표시 장치의 제조에 바람직하게 사용할 수 있다.Although the optical laminate of the present invention is thin, bonding misalignment or wrinkles resulting from peeling of the base film are unlikely to occur, and high optical performance in the laminate after transfer can be expected. For this reason, the optical laminated body of the present invention can be suitably used in the manufacture of various display devices.

표시 장치란, 표시 소자를 갖는 장치이고, 발광원으로서 발광 소자 또는 발광 장치를 포함한다. 표시 장치로는, 액정 표시 장치, 유기 일렉트로 루미네선스 (EL) 표시 장치, 무기 일렉트로 루미네선스 (EL) 표시 장치, 터치 패널 표시 장치, 전자 방출 표시 장치 (예를 들어, 전기장 방출 표시 장치 (FED), 표면 전계 방출 표시 장치 (SED)), 전자 페이퍼 (전자 잉크나 전기 영동 소자를 사용한 표시 장치, 플라즈마 표시 장치, 투사형 표시 장치 (예를 들어 그레이팅 라이트 밸브 (GLV) 표시 장치, 디지털 마이크로 미러 디바이스 (DMD) 를 갖는 표시 장치) 및 압전 세라믹 디스플레이 등을 들 수 있다. 액정 표시 장치는, 투과형 액정 표시 장치, 반투과형 액정 표시 장치, 반사형 액정 표시 장치, 직시형 액정 표시 장치 및 투사형 액정 표시 장치 등의 모두를 포함한다. 이들 표시 장치는, 2 차원 화상을 표시하는 표시 장치여도 되고, 3 차원 화상을 표시하는 입체 표시 장치여도 된다.A display device is a device that has a display element and includes a light-emitting element or light-emitting device as a light-emitting source. The display device includes a liquid crystal display device, an organic electroluminescence (EL) display device, an inorganic electroluminescence (EL) display device, a touch panel display device, and an electromagnetic emission display device (e.g., an electric field emission display device ( FED), Surface Field Emission Display (SED)), electronic paper (display devices using electronic ink or electrophoretic elements, plasma display devices, projection display devices (e.g. Grating Light Valve (GLV) display devices, digital micromirrors) display devices (display devices having DMD) and piezoelectric ceramic displays, etc. Liquid crystal displays include transmissive liquid crystal displays, transflective liquid crystal displays, reflective liquid crystal displays, direct-view liquid crystal displays, and projection-type liquid crystal displays. This includes all devices, etc. These display devices may be display devices that display two-dimensional images, or may be stereoscopic display devices that display three-dimensional images.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 실시예 및 비교예 중의「%」및「부」는, 특별히 기재하지 않는 한,「질량%」및「질량부」이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples and comparative examples. “%” and “part” in examples and comparative examples are “% by mass” and “part by mass” unless otherwise specified.

1. 적층체 A1 의 제조1. Preparation of laminate A1

(1) 수용성 폴리머 (1) 의 조제(1) Preparation of water-soluble polymer (1)

이하의 합성 스킴에 따라, 하기 구조 단위로 이루어지는 수용성 폴리머 (1) 을 얻었다.According to the following synthesis scheme, water-soluble polymer (1) consisting of the following structural units was obtained.

[화학식 17][Formula 17]

Figure pct00017
Figure pct00017

디메틸술폭사이드 400 g 중에, 분자량 1000 의 폴리비닐알코올 (와코 순약 공업 주식회사 제조) 20 g 과, 구핵제로서 N,N-디메틸-4-아미노피리딘을 0.55 mg, 트리에틸아민 4.6 g 을 용해시키고, 교반하면서 60 ℃ 까지 승온시켰다. 그 후, 디메틸술폭사이드 50 g 중에 메타크릴산 무수물 10.5 g 을 용해시킨 용액을 1 시간에 걸쳐 적하하고, 60 ℃ 에서 14 시간 가열 교반함으로써 반응시켰다. 얻어진 반응 용액을 실온까지 냉각 후, 반응 용액 중에 메탄올 481 g 을 첨가하여 완전히 혼합되도록 교반함으로써, 반응 용액과 메탄올의 비율 (질량) 이 1 : 1 이 되도록 조정하였다. 이 용액 중에 1500 mL 의 아세톤을 서서히 첨가함으로써, 수용성 폴리머 (1) 을 정석법에 의해 결정화시켰다. 얻어진 백색 결정을 포함하는 용액을 여과하고, 아세톤으로 잘 세정한 후에 진공 건조시킴으로써, 수용성 폴리머 (1) 을 20.2 g 얻었다. 얻어진 수용성 폴리머 (1) 을 물에 용해시켜, 3 질량% 의 수용성 폴리머 (1) 수용액을 조제하였다.In 400 g of dimethyl sulfoxide, 20 g of polyvinyl alcohol with a molecular weight of 1000 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 0.55 mg of N,N-dimethyl-4-aminopyridine as a nucleating agent, and 4.6 g of triethylamine were dissolved, The temperature was raised to 60°C while stirring. After that, a solution in which 10.5 g of methacrylic anhydride was dissolved in 50 g of dimethyl sulfoxide was added dropwise over 1 hour, and the reaction was carried out by heating and stirring at 60°C for 14 hours. After cooling the obtained reaction solution to room temperature, 481 g of methanol was added to the reaction solution and stirred to completely mix, thereby adjusting the ratio (mass) of the reaction solution to methanol to be 1:1. By gradually adding 1500 mL of acetone to this solution, the water-soluble polymer (1) was crystallized by a crystallization method. The solution containing the obtained white crystals was filtered, washed well with acetone, and then vacuum dried to obtain 20.2 g of water-soluble polymer (1). The obtained water-soluble polymer (1) was dissolved in water to prepare a 3% by mass aqueous solution of water-soluble polymer (1).

(2) 광 배향막 형성용 조성물의 조제(2) Preparation of composition for forming photo-alignment film

하기 성분을 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써, 광 배향막 형성용 조성물을 얻었다.The following components were mixed, and the resulting mixture was stirred at 80°C for 1 hour to obtain a composition for forming a photo-alignment film.

·광 배향성 폴리머 : 일본 공개특허공보 2013-033249호에 기재된 폴리머 (수평균 분자량 : 약 28200, Mw/Mn : 1.82) 2 부Photo-alignment polymer: 2 parts of polymer described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-033249 (number average molecular weight: about 28200, Mw/Mn: 1.82)

[화학식 18][Formula 18]

Figure pct00018
Figure pct00018

·용제 : o-자일렌 98 부· Solvent: o-xylene 98 parts

(3) 편광층 형성용 조성물의 조제(3) Preparation of composition for forming polarizing layer

이하의 각 성분을 혼합하고, 80 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써 편광층 형성용 조성물을 얻었다. 이색성 색소에는, 일본 공개특허공보 2013-101328호의 실시예에 기재된 아조 색소를 사용하였다.The composition for forming a polarizing layer was obtained by mixing each of the following components and stirring at 80°C for 1 hour. As the dichroic dye, the azo dye described in the examples of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-101328 was used.

·중합성 액정 화합물 : A1 75 부·Polymerizable liquid crystal compound: A1 75 parts

[화학식 19][Formula 19]

Figure pct00019
Figure pct00019

·중합성 액정 화합물 : A2 25 부·Polymerizable liquid crystal compound: A2 25 parts

[화학식 20][Formula 20]

Figure pct00020
Figure pct00020

·이색성 색소 : 아조 색소 1 2.5 부・Dichroic dye: Azo dye 1 2.5 parts

[화학식 21][Formula 21]

Figure pct00021
Figure pct00021

·이색성 색소 : 아조 색소 2 2.5 부・Dichroic dye: Azo dye 2 2.5 parts

[화학식 22][Formula 22]

Figure pct00022
Figure pct00022

·이색성 색소 : 아조 색소 3 2.5 부・Dichroic dye: Azo dye 3 2.5 parts

[화학식 23][Formula 23]

Figure pct00023
Figure pct00023

·중합 개시제 : 2-디메틸아미노-2-벤질-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 (이르가큐어 369 ; 치바·스페셜티·케미컬즈 (주) 제조) 6 부Polymerization initiator: 2-dimethylamino-2-benzyl-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one (Irgacure 369; manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 6 parts

·레벨링제 : 폴리아크릴레이트 화합물 (BYK-361N ; BYK-Chemie 사 제조) 1.2 부Leveling agent: 1.2 parts of polyacrylate compound (BYK-361N; manufactured by BYK-Chemie)

·용제 : o-자일렌 250 부· Solvent: o-xylene 250 parts

(4) 위상차층 형성용 조성물의 조제(4) Preparation of composition for forming phase contrast layer

이하의 각 성분을 혼합하고, 80 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써, 위상차층 형성용 조성물을 얻었다.The composition for forming a phase difference layer was obtained by mixing each of the following components and stirring at 80°C for 1 hour.

·중합성 액정 화합물 : X1 100 부·Polymerizable liquid crystal compound: X1 100 parts

[화학식 24][Formula 24]

Figure pct00024
Figure pct00024

·중합성 액정 화합물 : X2 33 부·Polymerizable liquid crystal compound: X2 33 parts

[화학식 25][Formula 25]

Figure pct00025
Figure pct00025

·중합 개시제 : 2-디메틸아미노-2-벤질-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 (이르가큐어 (등록상표) 369 ; BASF 재팬사 제조) 8 부Polymerization initiator: 2-dimethylamino-2-benzyl-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one (Irgacure (registered trademark) 369; manufactured by BASF Japan) 8 parts

·레벨링제 : 폴리아크릴레이트 화합물 (BYK-361N ; BYK-Chemie 사 제조) 0.1 부Leveling agent: 0.1 part of polyacrylate compound (BYK-361N; manufactured by BYK-Chemie)

·그 밖의 첨가제 : LALOMER LR9000 (BASF 재팬사 제조) 6.7 부・Other additives: LALOMER LR9000 (manufactured by BASF Japan) 6.7 parts

·용제 : 시클로펜타논 546 부Solvent: Cyclopentanone 546 parts

·용제 : N-메틸피롤리돈 364 부Solvent: N-methylpyrrolidone 364 parts

(5) 편광판 (1) 의 제조(5) Manufacturing of polarizer (1)

기재 1 로서 이형 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (유니티카 (주) 제조「FF-50」, 편면 이형 처리 PET 필름, 기재의 두께 : 50 ㎛) 의 이형 처리면에, 상기에서 조제한 3 질량% 의 수용성 폴리머 (1) 수용액을 바 코터로 도포하고, 100 ℃ 에서 2 분간 건조시켜 수용성 폴리머 (1) 의 막으로 이루어지는 2 ㎛ 의 확산 방지층 A 를 형성하였다.As base material 1, 3% by mass prepared above was applied to the release-treated surface of a release polyethylene terephthalate (PET) film (“FF-50” manufactured by Unitica Co., Ltd., PET film with one-side release treatment, base material thickness: 50 μm). The water-soluble polymer (1) aqueous solution was applied with a bar coater and dried at 100°C for 2 minutes to form a 2 µm anti-diffusion layer A consisting of a water-soluble polymer (1) film.

얻어진 확산 방지층 A 의 표면에 플라즈마 처리를 실시한 후, 바 코터를 사용하여 상기 광 배향막 형성용 조성물을 도포하여 도포막을 형성하였다. 이 도포막을 100 ℃ 에서 2 분간 건조시킴으로써 용제를 제거하여 건조 피막을 형성하였다. 그 건조 피막에 편광 UV 광을 20 mJ/㎠ (313 ㎚ 기준) 의 강도가 되도록 조사함으로써 배향 규제력을 부여하여, 50 ㎚ 의 광 배향막 A 를 형성하였다.After plasma treatment was performed on the surface of the obtained diffusion prevention layer A, the composition for forming a photo-alignment film was applied using a bar coater to form a coating film. This coating film was dried at 100°C for 2 minutes to remove the solvent and form a dry film. The dried film was irradiated with polarized UV light at an intensity of 20 mJ/cm2 (based on 313 nm) to provide an orientation regulating force, thereby forming a 50 nm photo-alignment film A.

얻어진 광 배향막 A 상에, 바 코터를 사용하여 상기 편광층 형성용 조성물을 도포하여, 도포막을 형성하였다. 또한, 110 ℃ 에서 2 분간 건조시킴으로써 용제를 제거함과 함께, 중합성 액정 화합물을 액체상으로 상전이시킨 후, 실온까지 냉각시켜 그 중합성 액정 화합물을 스멕틱 액정 상태로 상전이시켰다. 그 후, 얻어진 건조 피막에 고압 수은등을 사용하여 자외광을 1000 mJ/㎠ (365 ㎚ 기준) 로 조사하고, 상기 건조 피막에 포함되는 중합성 액정 화합물의 스멕틱 액정 상태를 유지한 채로 중합시킴으로써 3 ㎛ 의 편광층을 형성하였다.On the obtained photo-alignment film A, the composition for forming a polarizing layer was applied using a bar coater to form a coating film. Additionally, the solvent was removed by drying at 110°C for 2 minutes and the polymerizable liquid crystal compound was phase-transformed into a liquid phase, and then cooled to room temperature to phase-transfer the polymerizable liquid crystal compound into a smectic liquid crystal state. Thereafter, the obtained dry film was irradiated with ultraviolet light at 1000 mJ/cm2 (based on 365 nm) using a high-pressure mercury lamp, and polymerized while maintaining the smectic liquid crystal state of the polymerizable liquid crystal compound contained in the dry film, thereby producing 3 A ㎛ polarizing layer was formed.

이어서, 형성한 편광층 상에 플라즈마 처리를 실시한 후, 바 코터를 사용하여 3 질량% 의 수용성 폴리머 (1) 수용액을 바 코터로 도포하고, 100 ℃ 에서 2 분간 건조시켜 수용성 폴리머 (1) 의 막으로 이루어지는 2 ㎛ 의 확산 방지층 B 를 형성하여, 기재 1/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B 로 이루어지는 편광판 (1) 을 얻었다.Next, after performing plasma treatment on the formed polarizing layer, a 3% by mass aqueous solution of water-soluble polymer (1) was applied using a bar coater and dried at 100° C. for 2 minutes to form a film of water-soluble polymer (1). A 2 µm anti-diffusion layer B was formed, and a polarizing plate (1) consisting of base material 1/diffusion prevention layer A/photo-alignment film A/polarizing layer/diffusion prevention layer B was obtained.

(6) 위상차 필름 (1) 의 제조(6) Preparation of retardation film (1)

기재 2 로서 이형 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (유니티카 (주) 제조「FF-50」, 편면 이형 처리 PET 필름, 기재의 두께 : 50 ㎛) 의 이형 처리면과는 반대측의 표면에 코로나 처리를 실시한 후에, 상기 광 배향막 형성용 조성물을 바 코터에 의해 도포하였다. 얻어진 도포막을 120 ℃ 에서 2 분간 건조시킨 후, 실온까지 냉각시켜 건조 피막을 형성하였다. 그 후, 편광 자외광 100 mJ (313 ㎚ 기준) 를 조사하여, 100 ㎚ 의 광 배향막 B 를 형성하였다.As base material 2, a release polyethylene terephthalate (PET) film (“FF-50” manufactured by Unitica Co., Ltd., PET film with release treatment on one side, thickness of base material: 50 μm) was subjected to corona treatment on the surface opposite to the release treatment surface. After this, the composition for forming a photo-alignment layer was applied using a bar coater. The obtained coating film was dried at 120°C for 2 minutes and then cooled to room temperature to form a dry film. After that, 100 mJ (based on 313 nm) of polarized ultraviolet light was irradiated to form a 100 nm photo-alignment film B.

얻어진 광 배향막 B 상에, 상기 위상차층 형성용 조성물을 바 코터에 의해 도포하여, 도포막을 형성하였다. 이 도포막을 120 ℃ 에서 2 분간 가열 건조 후, 실온까지 냉각시켜 건조 피막을 얻었다. 이어서, 자외광 조사 장치를 사용하여, 노광량 1000 mJ/㎠ (365 ㎚ 기준) 의 자외광을 상기 건조 피막에 조사함으로써, 중합성 액정 화합물이 기재면 내에 대해 수평 방향으로 배향한 상태에서 경화된 2 ㎛ 의 위상차층을 형성하여, 기재 2/광 배향막 B/위상차층 (수평 배향 액정 경화층) 으로 이루어지는 위상차 필름 (1) 을 얻었다.On the obtained photo-alignment film B, the composition for forming a phase difference layer was applied using a bar coater to form a coating film. This coating film was dried by heating at 120°C for 2 minutes and then cooled to room temperature to obtain a dry film. Next, using an ultraviolet light irradiation device, the dried film is irradiated with ultraviolet light at an exposure amount of 1000 mJ/cm2 (based on 365 nm), thereby curing the polymerizable liquid crystal compound in a state of orientation in the horizontal direction with respect to the substrate surface. A µm-thick retardation layer was formed to obtain a retardation film (1) consisting of base material 2/photo-alignment film B/retardation layer (horizontally aligned liquid crystal cured layer).

(7) 적층체 A1 의 제조(7) Production of laminate A1

상기에서 제조한 편광판 (1) 의 확산 방지층 B 면과, 위상차 필름 (1) 의 위상차층면을, 점착제 (린텍사 제조, 감압식 점착제 5 ㎛ 두께) 를 개재하여, 편광판 (1) 의 흡수축과 위상차 필름 (1) 의 지상축이 이루는 각도가 45°가 되도록 첩합하여, 기재 1/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/기재 2 로 이루어지는 적층체 A1 을 얻었다.The diffusion prevention layer B side of the polarizing plate (1) prepared above and the retardation layer side of the retardation film (1) are interposed through an adhesive (manufactured by Lintec, pressure-sensitive adhesive, 5 μm thick), and the absorption axis of the polarizing plate (1) is retardated. The film (1) is bonded so that the angle formed by the slow axis is 45°, and consists of base material 1/diffusion prevention layer A/photo-alignment layer A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/phase contrast layer/photo-alignment layer B/base material 2. Laminate A1 was obtained.

2. 적층체 A2 의 제조2. Preparation of laminate A2

(1) 배향성 폴리머 조성물 (1) 의 조제(1) Preparation of oriented polymer composition (1)

표 1 에 나타내는 조성에 따라, 시판되는 배향성 폴리머인 산에버 SE-610 (닛산 화학 공업 주식회사 제조) 에 2-부톡시에탄올을 첨가하여 배향성 폴리머 조성물 (1) 을 조제하였다. 또한, 표 1 에 있어서의 값은, 조제한 조성물의 전체량에 대한 각 성분의 함유 비율을 나타낸다. SE-610 에 대해서는, 고형분량을 납품 사양서에 기재된 농도로부터 환산하였다.According to the composition shown in Table 1, 2-butoxyethanol was added to SanEver SE-610 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), a commercially available orientation polymer, to prepare an orientation polymer composition (1). In addition, the values in Table 1 represent the content ratio of each component with respect to the total amount of the prepared composition. For SE-610, the solid content was converted from the concentration stated in the delivery specification.

Figure pct00026
Figure pct00026

(2) 수직 배향 액정 경화층 형성용 조성물의 조제(2) Preparation of composition for forming vertically aligned liquid crystal cured layer

수직 배향 액정 경화층 형성용 조성물의 조성을 표 2 에 나타낸다. 각 성분을 혼합하고, 얻어진 용액을 80 ℃ 에서 1 시간 교반한 후, 실온까지 냉각시켜, 수직 배향 액정 경화층 형성용 조성물을 얻었다.The composition of the composition for forming a vertically aligned liquid crystal cured layer is shown in Table 2. Each component was mixed, and the resulting solution was stirred at 80°C for 1 hour and then cooled to room temperature to obtain a composition for forming a vertically aligned liquid crystal cured layer.

Figure pct00027
Figure pct00027

표 2 에 있어서의 괄호 안의 값은, 조제한 조성물의 전체량에 대한 각 성분의 함유 비율을 나타낸다.The values in parentheses in Table 2 represent the content ratio of each component relative to the total amount of the prepared composition.

표 2 중의 LR9000 은, BASF 재팬사 제조의 Laromer (등록상표) LR-9000 을, Irg907 은, BASF 재팬사 제조의 이르가큐어 (등록상표) 907 을, BYK361N 은, 빅 케미 재팬 제조의 레벨링제를, LC242 는, 하기 식으로 나타내는 BASF 사 제조의 중합성 액정을, PGMEA 는, 프로필렌글리콜1-모노메틸에테르2-아세테이트를 나타낸다.In Table 2, LR9000 is Laromer (registered trademark) LR-9000 manufactured by BASF Japan, Irg907 is Irgacure (registered trademark) 907 manufactured by BASF Japan, and BYK361N is a leveling agent manufactured by Big Chemi Japan. , LC242 represents a polymerizable liquid crystal manufactured by BASF represented by the following formula, and PGMEA represents propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate.

[화학식 26][Formula 26]

Figure pct00028
Figure pct00028

(3) 수직 배향 액정 경화층을 포함하는 적층체의 제조(3) Production of a laminate containing a vertically aligned liquid crystal cured layer

기재 3 으로서, 시클로올레핀 폴리머 필름 (COP) (ZF-14, 닛폰 제온 주식회사 제조) 의 표면을, 코로나 처리 장치를 사용하여 출력 0.3 kW, 처리 속도 3 m/분의 조건으로 1 회 처리하였다. 코로나 처리를 실시한 표면에, 배향성 폴리머 조성물 (1) 을 바 코터를 사용하여 도포하고, 90 ℃ 에서 1 분간 건조시켜 배향막 C 를 얻었다. 얻어진 배향막 C 의 막두께를 레이저 현미경으로 측정한 결과 1 ㎛ 였다. 이어서, 배향막 C 상에 수직 배향 액정 경화층 형성용 조성물을 바 코터를 사용하여 도포하고, 90 ℃ 에서 1 분간 건조시킨 후, 고압 수은 램프를 사용하여 자외선을 조사 (질소 분위기하, 파장 365 ㎚ 에 있어서의 적산 광량 : 1000 mJ/㎠) 함으로써, 중합성 액정 화합물이 기재면 내에 대해 수직 방향으로 배향한 상태에서 경화된 두께 500 ㎚ 의 수직 배향 액정 경화층을 형성하여, 기재 3/배향막 C/수직 배향 액정 경화층으로 이루어지는 적층체를 얻었다.As the base material 3, the surface of a cycloolefin polymer film (COP) (ZF-14, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) was treated once using a corona treatment device under the conditions of an output of 0.3 kW and a processing speed of 3 m/min. The orientation polymer composition (1) was applied to the corona-treated surface using a bar coater and dried at 90°C for 1 minute to obtain an orientation film C. The film thickness of the obtained alignment film C was measured using a laser microscope and was found to be 1 μm. Next, the composition for forming a vertically aligned liquid crystal cured layer was applied onto the alignment film C using a bar coater, dried at 90°C for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp (under a nitrogen atmosphere, at a wavelength of 365 nm). (i.e., integrated light amount: 1000 mJ/cm2), thereby forming a vertically aligned liquid crystal cured layer with a thickness of 500 nm cured in a state where the polymerizable liquid crystal compound is aligned in the direction perpendicular to the inside of the substrate surface, and substrate 3/alignment film C/vertical A laminate consisting of an aligned liquid crystal cured layer was obtained.

(4) 접착층 형성용 경화성 조성물의 조제(4) Preparation of curable composition for forming adhesive layer

하기에 기재된 카티온 중합성 화합물 및 카티온 중합 개시제를 혼합한 후, 탈포하여, 카티온 중합형의 접착층 형성용 경화성 조성물을 조제하였다.The cationically polymerizable compound and the cationic polymerization initiator described below were mixed and then defoamed to prepare a cationically polymerizable curable composition for forming an adhesive layer.

또한, 카티온 중합 개시제는, 50 질량% 프로필렌카보네이트 용액으로서 배합하고, 그 고형분량을 나타냈다.In addition, the cationic polymerization initiator was blended as a 50% by mass propylene carbonate solution, and its solid content was shown.

·1,6-헥산디올디글리시딜에테르 (상품명 : EX-212L, 나가세 켐텍스 (주) 제조) 25 부・1,6-hexanediol diglycidyl ether (Product name: EX-212L, manufactured by Nagase Chemtex Co., Ltd.) 25 parts

·4-하이드록시부틸비닐에테르 10 부10 parts of 4-hydroxybutyl vinyl ether

·비스페놀 F 형 에폭시 수지 (상품명 : EXA-830CRP, DIC (주) 제조) 65 부·Bisphenol F type epoxy resin (Product name: EXA-830CRP, manufactured by DIC Co., Ltd.) 65 parts

·카티온 중합 개시제 (상품명 : CPI-100P, 산아프로 (주) 제조, 50 질량% 용액) 3 부・Cationic polymerization initiator (Product name: CPI-100P, manufactured by San-Apro Co., Ltd., 50 mass% solution) 3 parts

(5) 적층체 A2 의 제조(5) Production of laminate A2

상기에서 제조한 기재 3/배향막 C/수직 배향 액정 경화층으로 이루어지는 적층체의 수직 배향 액정 경화층의 표면에 코로나 처리를 실시한 후, 적층체 A1 의 기재 2 를 박리하여 노출된 면과, 상기 코로나 처리를 실시한 수직 배향 액정 경화층의 면을, 접착층 형성용 경화성 조성물을 개재하여 첩합하고, UV 조사 장치 (SPOT CURE SP-7 ; 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여 노광량 500 mJ/㎠ (365 ㎚ 기준) 의 자외선을 조사하였다. 이로써, 기재 1/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/접착층/수직 배향 액정 경화층/배향막 C/기재 3 으로 이루어지는 적층체 A2 를 얻었다. 또한, 접착층의 두께는 2 ㎛ 였다.After corona treatment was applied to the surface of the vertically aligned liquid crystal cured layer of the laminate consisting of the base material 3/alignment film C/vertically aligned liquid crystal cured layer prepared above, the base material 2 of the laminate A1 was peeled off, and the exposed surface and the corona The treated surfaces of the vertically aligned liquid crystal cured layer were bonded together via a curable composition for forming an adhesive layer, and exposed using a UV irradiation device (SPOT CURE SP-7; manufactured by Ushio Electric Co., Ltd.) at an exposure dose of 500 mJ/cm2 (based on 365 nm). ) was irradiated with ultraviolet rays. As a result, a laminate A2 consisting of base material 1/diffusion prevention layer A/photo-alignment film A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/phase contrast layer/photo-alignment film B/adhesive layer/vertically aligned liquid crystal cured layer/alignment film C/base material 3 was obtained. . Additionally, the thickness of the adhesive layer was 2 μm.

3. 응력 완화층을 포함하는 적층체의 제조3. Manufacturing of a laminate containing a stress relief layer

(1) 중합예 1 : 아크릴 수지 용액 (1) 의 조제(1) Polymerization Example 1: Preparation of acrylic resin solution (1)

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응기에, 아세톤 81.8 부, 아크릴산부틸 98.4 부, 아크릴산 0.6 부, 및 아크릴산2-하이드록시에틸 1.0 부의 혼합 용액을 주입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소 불함유로 하면서, 내온을 55 ℃ 로 높였다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴 (중합 개시제) 0.14 부를 아세톤 10 부에 녹인 용액을 전체량 첨가하였다. 중합 개시제를 첨가한 1 시간 후에, 단량체를 제외한 아크릴계 수지의 농도가 35 % 가 되도록, 첨가 속도 17.3 부/hr 로 아세톤을 연속적으로 반응기에 첨가하면서, 내온 54 ∼ 56 ℃ 에서 12 시간 보온하고, 마지막으로 아세트산에틸을 첨가하여, 아크릴 수지의 농도가 20 % 가 되도록 조절하였다. 이와 같이 하여, 아크릴 수지 용액 (1) 을 얻었다.A mixed solution of 81.8 parts of acetone, 98.4 parts of butyl acrylate, 0.6 parts of acrylic acid, and 1.0 part of 2-hydroxyethyl acrylate was injected into a reactor equipped with a cooling pipe, a nitrogen introduction pipe, a thermometer, and a stirrer, and the air in the device was purged with nitrogen gas. was replaced to make it oxygen-free, and the internal temperature was raised to 55°C. After that, the entire solution of 0.14 parts of azobisisobutyronitrile (polymerization initiator) dissolved in 10 parts of acetone was added. 1 hour after adding the polymerization initiator, acetone was continuously added to the reactor at an addition rate of 17.3 parts/hr so that the concentration of the acrylic resin excluding the monomer was 35%, and the reaction was kept at an internal temperature of 54 to 56°C for 12 hours, and finally Ethyl acetate was added to adjust the concentration of the acrylic resin to 20%. In this way, acrylic resin solution (1) was obtained.

(2) 중합예 2 : 아크릴 수지 용액 (2) 의 조제(2) Polymerization Example 2: Preparation of acrylic resin solution (2)

단량체의 조성을, 아크릴산부틸 78.0 부, 메타크릴산메틸 20 부, 아크릴산 1.0 부, 및 아크릴산2-하이드록시에틸 1.0 부로 변경한 것 이외에는, 중합예 1 과 동일하게 하여 아크릴 수지 용액 (2) 를 얻었다.Acrylic resin solution (2) was obtained in the same manner as in Polymerization Example 1, except that the composition of the monomers was changed to 78.0 parts of butyl acrylate, 20 parts of methyl methacrylate, 1.0 part of acrylic acid, and 1.0 part of 2-hydroxyethyl acrylate.

(3) 중합예 3 : 아크릴 수지 용액 (3) 의 조제(3) Polymerization Example 3: Preparation of acrylic resin solution (3)

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응 용기에, 아세트산에틸 91 부, 아크릴산2-에틸헥실 43 부, 아크릴산부틸 55 부, 아크릴산2-하이드록시에틸 2.0 부의 혼합 용액을 주입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소 불함유로 하면서 내온을 55 ℃ 로 높였다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴 (중합 개시제) 0.14 부를 아세트산에틸 10 부에 녹인 용액을 전체량 첨가하였다. 중합 개시제를 첨가한 후, 1 시간 이 온도로 유지하고, 이어서 내온을 54 ∼ 56 ℃ 로 유지하면서 아세트산에틸을 반응 용기 내에 연속적으로 첨가하고, (메트)아크릴계 수지의 농도가 35 % 가 된 시점에서 아세트산에틸의 첨가를 멈추고, 또한 아세트산에틸의 첨가 개시부터 10 시간 경과할 때까지 이 온도에서 보온하였다.A mixed solution of 91 parts of ethyl acetate, 43 parts of 2-ethylhexyl acrylate, 55 parts of butyl acrylate, and 2.0 parts of 2-hydroxyethyl acrylate was injected into a reaction vessel equipped with a cooling pipe, a nitrogen introduction pipe, a thermometer, and a stirrer, and nitrogen The air in the device was replaced with gas to make it oxygen-free, and the internal temperature was raised to 55°C. After that, the entire solution of 0.14 parts of azobisisobutyronitrile (polymerization initiator) dissolved in 10 parts of ethyl acetate was added. After adding the polymerization initiator, this temperature was maintained for 1 hour, and then ethyl acetate was continuously added into the reaction vessel while maintaining the internal temperature at 54 to 56°C, when the concentration of the (meth)acrylic resin reached 35%. The addition of ethyl acetate was stopped, and the temperature was maintained at this temperature until 10 hours had elapsed from the start of the addition of ethyl acetate.

마지막으로 아세트산에틸을 첨가하여 (메트)아크릴계 수지의 농도가 20 % 가 되도록 조절하여, 아크릴 수지 용액 (3) 을 조제하였다.Finally, ethyl acetate was added to adjust the concentration of the (meth)acrylic resin to 20% to prepare an acrylic resin solution (3).

(4) 중합예 4 : 아크릴 수지 용액 (4) 의 조제(4) Polymerization Example 4: Preparation of acrylic resin solution (4)

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응 용기에, 아세트산에틸 81.8 부, 아크릴산부틸 98.0 부, 아크릴산 2.0 부를 주입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소 불함유로 하면서, 내온을 55 ℃ 로 높였다. 그 후, 중합 개시제인 아조비스이소부티로니트릴 0.14 부를 아세트산에틸 10 부에 녹인 용액을 전체량 첨가하였다.81.8 parts of ethyl acetate, 98.0 parts of butyl acrylate, and 2.0 parts of acrylic acid were injected into a reaction vessel equipped with a cooling pipe, a nitrogen introduction pipe, a thermometer, and a stirrer, and the air in the device was replaced with nitrogen gas to make it oxygen-free, and the internal temperature was adjusted to Raised to 55°C. After that, the entire solution of 0.14 parts of azobisisobutyronitrile, which is a polymerization initiator, dissolved in 10 parts of ethyl acetate was added.

개시제의 첨가 후 1 시간 이 온도에서 유지하고, 다음으로 내온을 54 ∼ 56 ℃ 로 유지하면서, 아세트산에틸을 첨가 속도 17.3 부/hr 로 반응 용기 내에 연속적으로 첨가하고, 아크릴 수지의 농도가 35 % 가 된 시점에서 아세트산에틸의 첨가를 멈추고, 또한 아세트산에틸의 첨가 개시부터 12 시간 경과할 때까지 이 온도에서 보온하였다. 마지막으로 아세트산에틸을 첨가하고, 아크릴 수지의 농도가 20 % 가 되도록 조절하여, 아크릴 수지 용액 (4) 를 조제하였다.After adding the initiator, this temperature was maintained for 1 hour, and then, while maintaining the internal temperature at 54 to 56°C, ethyl acetate was continuously added into the reaction vessel at an addition rate of 17.3 parts/hr until the acrylic resin concentration was 35%. At this point, the addition of ethyl acetate was stopped, and the temperature was maintained at this temperature until 12 hours had elapsed from the start of the addition of ethyl acetate. Finally, ethyl acetate was added and the acrylic resin concentration was adjusted to 20% to prepare an acrylic resin solution (4).

(5) 박리력 조정층 형성용 조성물 (1) 의 조제(5) Preparation of composition (1) for forming peeling force adjustment layer

실란 커플링제인 KBM-5103 (신에츠 실리콘 제조) 을 o-자일렌에 대해 0.25 중량% 가 되도록 용해시켜, 박리력 조정층 형성용 조성물 (1) 을 조제하였다.KBM-5103 (manufactured by Shin-Etsu Silicone), a silane coupling agent, was dissolved in o-xylene in an amount of 0.25% by weight to prepare a composition (1) for forming a peeling force adjustment layer.

(6) 박리력 조정층 형성용 조성물 (2) 의 조제(6) Preparation of composition (2) for forming peeling force adjustment layer

실란 커플링제인 KBE-903 (신에츠 실리콘 제조) 을 o-자일렌에 대해 0.25 중량% 가 되도록 용해시켜, 박리력 조정층 형성용 조성물 (2) 를 조제하였다.KBE-903 (manufactured by Shin-Etsu Silicone), a silane coupling agent, was dissolved in o-xylene in an amount of 0.25% by weight to prepare a composition (2) for forming a peeling force adjustment layer.

(7) 응력 완화층 A 를 포함하는 적층체 A3 의 제조(7) Production of laminate A3 containing stress relief layer A

(i) 응력 완화층 형성용 조성물 (1) 의 조제(i) Preparation of composition (1) for forming stress relief layer

하기 조성에 따라, 응력 완화층 형성용 조성물 (1) 을 조제하였다.According to the following composition, composition (1) for forming a stress relief layer was prepared.

·중합예 1 에서 얻어진 아크릴 수지 (1) : 100 부 (불휘발분량) Acrylic resin (1) obtained in Polymerization Example 1: 100 parts (non-volatile content)

·이소시아네이트계 화합물 : 콜로네이트 L, 톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체의 아세트산에틸 용액 (고형분 농도 75 %) (토소 주식회사 제조) 0.5 부· Isocyanate-based compound: Colonate L, ethyl acetate solution of trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate (solids concentration 75%) (manufactured by Tosoh Corporation) 0.5 part

·실란계 화합물 : KBM-403, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 (신에츠 화학 공업 주식회사 제조) 0.5 부・Silane-based compound: KBM-403, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.5 part

를 혼합하고, 고형분 농도가 10 % 가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 응력 완화층 형성용 조성물 (1) 을 얻었다.were mixed, and ethyl acetate was added so that the solid content concentration was 10%, to obtain a composition for forming a stress relief layer (1).

(ii) 박리력 조정층이 부착된 기재 (기재 A) (ii) Substrate to which peeling force adjustment layer is attached (Substrate A)

편면이 이형 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (두께 38 ㎛) 의 이형 처리되어 있지 않은 측의 면에, 박리력 조정층 형성용 조성물 (1) 을 바 코트법에 의해 도포하고, 오븐에서 120 ℃ 에서 1 분간 건조시켜, 박리력 조정층이 부착된 기재 (기재 A) 를 얻었다.The composition (1) for forming a peeling force adjustment layer was applied to the non-release-treated side of a polyethylene terephthalate film (thickness 38 µm) on one side of which had been release-treated, by a bar coat method, and heated in an oven at 120°C. After drying for a minute, a base material with a peeling force adjustment layer (substrate A) was obtained.

(iii) 응력 완화층을 포함하는 적층체 A3 의 제조(iii) Preparation of laminate A3 containing stress relief layer

응력 완화층 형성용 조성물 (1) 을, 기재 A 의 박리력 조정층을 갖는 면에, 어플리케이터를 이용하여 건조 후의 두께가 15 ㎛ 가 되도록 도포하였다. 도포층을 100 ℃ 에서 1 분간 건조시켜, 응력 완화층 A 를 구비하는 필름을 얻었다. 그 후, 응력 완화층 A 상에, 이형 처리된 다른 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (두께 38 ㎛) (기재 B) 을 첩합하고, 온도 23 ℃, 상대 습도 50 %RH 의 조건에서 7 일간 양생시켜, 기재 A/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는, 응력 완화층 A 를 구비하는 적층체 A3 을 얻었다.The composition for forming a stress relief layer (1) was applied to the surface of the base material A having the peeling force adjustment layer using an applicator so that the thickness after drying was 15 μm. The application layer was dried at 100°C for 1 minute, and a film provided with the stress relief layer A was obtained. Thereafter, another polyethylene terephthalate film (thickness 38 μm) (base material B) that had been subjected to release treatment was bonded onto the stress relief layer A, and cured for 7 days under conditions of a temperature of 23°C and a relative humidity of 50%RH, forming base material A. Laminate A3 provided with stress relief layer A, consisting of /stress relief layer A/base material B, was obtained.

(8) 응력 완화층 B 를 포함하는 적층체 A4 의 제조(8) Production of laminate A4 containing stress relief layer B

응력 완화층의 두께가 25 ㎛ 인 것 이외에는 기재 A/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 적층체 A3 의 제조와 동일하게 하여, 기재 A/응력 완화층 B/기재 B 로 이루어지는, 응력 완화층 B 를 구비하는 적층체 A4 를 제조하였다.Stress relief layer B was made of base material A/stress relief layer B/base B in the same manner as the production of laminate A3 consisting of base material A/stress relief layer A/base material except that the thickness of the stress relief layer was 25 μm. A laminate A4 having was manufactured.

(9) 응력 완화층 C 를 포함하는 적층체 A5 의 제조(9) Production of laminate A5 containing stress relief layer C

응력 완화층의 두께가 50 ㎛ 인 것 이외에는 기재 A/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 적층체 A3 의 제조와 동일하게 하여, 기재 A/응력 완화층 C/기재 B 로 이루어지는, 응력 완화층 C 를 구비하는 적층체 A5 를 제조하였다.Stress relief layer C consisting of base material A/stress relief layer C/base B was manufactured in the same manner as the production of laminate A3 consisting of base material A/stress relief layer A/base material B except that the thickness of the stress relief layer was 50 μm. A laminate A5 having was manufactured.

(10) 응력 완화층 D 를 포함하는 적층체 A6 의 제조(10) Production of laminate A6 containing stress relief layer D

(i) 응력 완화층 형성용 조성물 (2) 의 조제(i) Preparation of composition (2) for forming stress relief layer

하기 조성에 따라, 응력 완화층 형성용 조성물 (2) 를 조제하였다.Composition (2) for forming a stress relief layer was prepared according to the following composition.

·중합예 2 에서 얻어진 아크릴 수지 : 100 부 (불휘발분량) Acrylic resin obtained in Polymerization Example 2: 100 parts (non-volatile amount)

·콜로네이트 L : 3.0 부·Colonate L: 3.0 parts

·KBM-403 : 0.5 부·KBM-403: 0.5 parts

를 혼합하였다. 고형분 농도가 10 % 가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 응력 완화층 형성용 조성물 (2) 를 얻었다. 또한, 콜로네이트 L 및 KBM-403 은 응력 완화층 형성용 조성물 (1) 의 제조에 사용한 것과 동일하다.was mixed. Ethyl acetate was added so that the solid content concentration was 10%, and composition (2) for forming a stress relief layer was obtained. Additionally, Colonate L and KBM-403 are the same as those used in the production of composition (1) for forming a stress relief layer.

(ii) 응력 완화층 D 를 포함하는 적층체 A6 의 제조(ii) Preparation of laminate A6 containing stress relief layer D

얻어진 응력 완화층 형성용 조성물 (2) 를 사용하여, 기재 A/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 적층체 A3 의 제조와 동일하게 하여, 두께 15 ㎛ 의 응력 완화층 D 를 구비하는, 기재 A/응력 완화층 D/기재 B 로 이루어지는 적층체 A6 을 제조하였다.Using the obtained composition for forming a stress relief layer (2), in the same manner as the production of laminate A3 consisting of base material A/stress relief layer A/base material B, base material A is provided with a stress relief layer D having a thickness of 15 μm. Laminate A6 consisting of /stress relief layer D/base material B was manufactured.

(11) 응력 완화층 B 를 포함하는 적층체 A7 의 제조(11) Production of laminate A7 containing stress relief layer B

응력 완화층 형성용 조성물 (1) 을 이형 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (두께 38 ㎛) (기재 B) 의 이형 처리면에 도포한 것 이외에는, 기재 A/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 적층체 A3 의 제조와 동일하게 하여, 기재 B/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 적층체 A7 을 제조하였다.A laminate consisting of base material A/stress relief layer A/base material B, except that the composition for forming a stress relief layer (1) was applied to the release-treated surface of a polyethylene terephthalate film (thickness 38 μm) (base material B) that had been subjected to release treatment. In the same manner as the production of A3, laminate A7 consisting of base material B/stress relief layer A/base material B was manufactured.

(12) 응력 완화층 A 를 포함하는 적층체 A8 의 제조(12) Production of laminate A8 containing stress relief layer A

편면이 이형 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (두께 38 ㎛) 의 이형 처리되어 있지 않은 측의 면에, 박리력 조정층 형성용 조성물 (2) 를 바 코트법에 의해 도포하고, 오븐에서 120 ℃ 에서 1 분간 건조시켜, 박리력 조정층이 부착된 기재 (기재 C) 를 얻었다. 응력 완화층 형성용 조성물 (1) 을, 기재 C 의 박리력 조정층을 갖는 면에 도포한 것 이외에는, 기재 A/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 적층체 A3 의 제조와 마찬가지로, 기재 C/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 적층체 A8 을 제조하였다.The composition (2) for forming a peeling force adjustment layer was applied to the non-release-treated side of a polyethylene terephthalate film (thickness 38 µm) on one side of which had been release-treated, by a bar coat method, and heated in an oven at 120°C for 1 time. After drying for a minute, a base material with a peeling force adjustment layer (substrate C) was obtained. Except that the composition for forming a stress relief layer (1) was applied to the surface of the base C having the peeling force adjustment layer, the base material C/ Laminate A8 consisting of stress relief layer A/base material B was manufactured.

(13) 응력 완화층 E 를 포함하는 적층체 A9 의 제조(13) Production of laminate A9 containing stress relief layer E

(i) 응력 완화층 형성용 조성물 (3) 의 조제(i) Preparation of composition (3) for forming stress relief layer

하기 조성에 따라, 응력 완화층 형성용 조성물 (3) 을 조제하였다.According to the following composition, composition (3) for forming a stress relief layer was prepared.

·중합예 3 에서 얻어진 아크릴 수지 : 100 부 (불휘발분량)Acrylic resin obtained in Polymerization Example 3: 100 parts (non-volatile amount)

·콜로네이트 L : 0.3 부·Colonate L: 0.3 part

·KBM-403 : 0.25 부·KBM-403: 0.25 parts

를 혼합하였다. 고형분 농도가 15 % 가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 응력 완화층 형성용 조성물 (3) 을 얻었다.was mixed. Ethyl acetate was added so that the solid content concentration was 15%, and composition (3) for forming a stress relief layer was obtained.

(ii) 응력 완화층 E 를 포함하는 적층체 A9 의 제조(ii) Preparation of laminate A9 comprising stress relief layer E

얻어진 응력 완화층 형성용 조성물 (3) 을 사용하여, 기재 A/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 적층체 A3 의 제조와 동일하게 하여, 두께 15 ㎛ 의 응력 완화층 E 를 구비하는, 기재 A/응력 완화층 E/기재 B 로 이루어지는 적층체 A9 를 제조하였다.Using the obtained composition for forming a stress relief layer (3), in the same manner as the production of laminate A3 consisting of base material A/stress relief layer A/substrate B, base material A is provided with a stress relief layer E with a thickness of 15 μm. Laminate A9 consisting of /stress relief layer E/base material B was manufactured.

(14) 응력 완화층 F 를 포함하는 적층체 A10 의 제조(14) Production of laminate A10 containing stress relief layer F

(i) 응력 완화층 형성용 조성물 (4) 의 조제(i) Preparation of composition (4) for forming stress relief layer

하기 조성에 따라, 응력 완화층 형성용 조성물 (4) 를 조제하였다.According to the following composition, composition (4) for forming a stress relief layer was prepared.

·중합예 4 에서 얻어진 아크릴 수지 : 80 부 (불휘발분량) Acrylic resin obtained in Polymerization Example 4: 80 parts (non-volatile amount)

·신나카무라 화학 공업 (주) 로부터 입수한 2 관능 아크릴레이트인 A-DOG : 고형분 20 부・A-DOG, a bifunctional acrylate obtained from Shinnakamura Chemical Industry Co., Ltd.: solid content 20 parts

·콜로네이트 L : 3.0 부·Colonate L: 3.0 parts

·KBM-403 : 0.5 부·KBM-403: 0.5 parts

·광 중합 개시제 (이르가큐어 500) : 1.5 부· Photopolymerization initiator (Irgacure 500): 1.5 parts

를 혼합하였다. 고형분 농도가 13 % 가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 응력 완화층 형성용 조성물 (4) 를 얻었다. was mixed. Ethyl acetate was added so that the solid content concentration was 13%, and composition (4) for forming a stress relief layer was obtained.

또한, A-DOG 는, 하이드록시피발알데히드와 트리메틸올프로판의 아세탈 화합물의 디아크릴레이트로서, 하기 식의 구조를 갖는다.In addition, A-DOG is a diacrylate of an acetal compound of hydroxypivaldehyde and trimethylolpropane, and has the structure shown below.

Figure pct00029
Figure pct00029

(ii) 응력 완화층 F 를 포함하는 적층체 A10 의 제조(ii) Preparation of laminate A10 containing stress relief layer F

응력 완화층 형성용 조성물 (4) 를, 기재 A 의 박리력 조정층을 갖는 면에, 어플리케이터를 이용하여 건조 후의 두께가 15 ㎛ 가 되도록 도포하고, 도포층을 100 ℃ 에서 1 분간 건조시켰다. 그 후, 도포층 상에, 이형 처리된 다른 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (두께 38 ㎛) (기재 B) 을 첩합하고, Fusion UV 램프 시스템 (퓨전 UV 시스템즈사 제조) 의 D 밸브에 의해, 자외선을 적산 광량 1500 mJ/㎠ 로 조사하여, 도포층을 경화시켰다. 이어서, 온도 23 ℃, 상대 습도 50 %RH 의 조건에서 7 일간 양생시켜, 기재 A/응력 완화층 F/기재 B 로 이루어지는, 응력 완화층 F 를 구비하는 적층체 A10 을 얻었다.The composition (4) for forming a stress relief layer was applied to the surface of the base material A having the peeling force adjustment layer using an applicator so that the thickness after drying was 15 μm, and the applied layer was dried at 100°C for 1 minute. After that, another polyethylene terephthalate film (thickness 38 μm) (base material B) that has been subjected to release treatment is bonded onto the application layer, and the integrated light amount of ultraviolet rays is adjusted by the D valve of the Fusion UV lamp system (manufactured by Fusion UV Systems). The applied layer was cured by irradiation at 1500 mJ/cm2. Next, it was cured for 7 days under conditions of a temperature of 23°C and a relative humidity of 50%RH to obtain a laminate A10 including a stress relief layer F composed of base material A/stress relief layer F/base material B.

(15) 응력 완화층 B 를 포함하는 적층체 A11 의 제조(15) Production of laminate A11 containing stress relief layer B

응력 완화층의 두께가 25 ㎛ 인 것 이외에는 기재 B/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 적층체 A7 의 제조와 동일하게 하여, 기재 B/응력 완화층 B/기재 B 로 이루어지는, 응력 완화층 B 를 구비하는 적층체 A11 을 제조하였다.Stress relief layer B was made of base material B/stress relief layer B/base material in the same manner as the production of laminate A7 made of base material B/stress relief layer A/base material except that the thickness of the stress relief layer was 25 μm. Laminate A11 having was manufactured.

(16) 응력 완화층 C 를 포함하는 적층체 A12 의 제조(16) Production of laminate A12 containing stress relief layer C

응력 완화층의 두께가 50 ㎛ 인 것 이외에는 기재 B/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 적층체 A7 의 제조와 동일하게 하여, 기재 B/응력 완화층 C/기재 B 로 이루어지는, 응력 완화층 C 를 구비하는 적층체 A12 를 제조하였다.Stress relief layer C consisting of base material B/stress relief layer C/base B was manufactured in the same manner as the production of laminate A7 consisting of base material B/stress relief layer A/base material except that the thickness of the stress relief layer was 50 μm. A laminate A12 having was manufactured.

4. 광학 적층체의 제조4. Fabrication of optical laminates

(1) 실시예 1(1) Example 1

기재 1/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/기재 2 로 이루어지는 적층체 A1 의 기재 2 를 박리하여 노출된 면과, 기재 B/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 적층체 A7 의 기재 B 를 박리하여 노출된 면을 첩합하여, 기재 1/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 광학 적층체 B1 을 제조하였다. 또한, 상기 광학 적층체 B1 의 기재 1 을 박리하여 노출된 면과, 기재 A/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 적층체 A3 의 기재 B 를 박리하여 노출된 면을 첩합하여, 기재 A/응력 완화층 A/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 광학 적층체 (1) 을 얻었다.The surface exposed by peeling off the base material 2 of the laminate A1 consisting of base material 1/diffusion prevention layer A/photo-alignment layer A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/retardation layer/photo-alignment layer B/substrate 2, and base material B/stress The base material B of the laminate A7 made of relief layer A/substrate B is peeled off and the exposed surfaces are bonded to form a base material 1/diffusion prevention layer A/photo-alignment layer A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/phase contrast layer/photo-alignment layer. An optical laminate B1 consisting of B/stress relief layer A/base material B was manufactured. In addition, the surface exposed by peeling the base material 1 of the optical laminate B1 and the surface exposed by peeling the base material B of the laminate A3 consisting of base material A/stress relief layer A/substrate B are bonded to each other to form base material A/stress relief layer. An optical laminate (1) consisting of relaxation layer A/diffusion prevention layer A/photo-alignment film A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/phase contrast layer/photo-alignment film B/stress relaxation layer A/substrate B was obtained.

(2) 실시예 2(2) Example 2

적층체 A3 대신에 적층체 A4 를 사용하고, 광학 적층체 B1 의 기재 1 을 박리하여 노출된 면과, 적층체 A4 의 기재 B 를 박리하여 노출된 면을 첩합한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 기재 A/응력 완화층 B/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 광학 적층체 (2) 를 얻었다.In the same manner as in Example 1, except that laminate A4 was used instead of laminate A3, and the surface exposed by peeling off the base material 1 of optical laminate B1 was bonded to the surface exposed by peeling the base material B of laminate A4. Thus, an optical laminate (2) consisting of base material A/stress relief layer B/diffusion prevention layer A/photo-alignment layer A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/phase contrast layer/photo alignment layer B/stress relief layer A/substrate B. got it

(3) 실시예 3(3) Example 3

적층체 A3 대신에 적층체 A5 를 사용하고, 광학 적층체 B1 의 기재 1 을 박리하여 노출된 면과, 적층체 A5 의 기재 B 를 박리하여 노출된 면을 첩합한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 기재 A/응력 완화층 C/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 광학 적층체 (3) 을 얻었다.Laminate A5 was used instead of laminate A3, and the surface exposed by peeling off the base material 1 of the optical laminate B1 was bonded to the surface exposed by peeling the base material B of the laminate A5. Thus, an optical laminate (3) consisting of base material A/stress relief layer C/diffusion prevention layer A/photo-alignment layer A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/phase contrast layer/photo-alignment layer B/stress relief layer A/substrate B. got it

(4) 실시예 4(4) Example 4

적층체 A7 대신에 적층체 A8 을 사용하고, 적층체 A1 의 기재 2 를 박리하여 노출된 면과, 적층체 A8 의 기재 B 를 박리하여 노출된 면을 첩합한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 기재 A/응력 완화층 A/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/응력 완화층 A/기재 C 로 이루어지는 광학 적층체 (4) 를 얻었다.The same procedure as in Example 1 was carried out except that Laminate A8 was used instead of Laminate A7, and the surface exposed by peeling off the base material 2 of Laminate A1 was bonded to the surface exposed by peeling off the base material B of Laminate A8. , Base A/Stress Relief Layer A/Diffusion Prevention Layer A/Photo-Alignment Film A/Polarizing Layer/Diffusion Prevention Layer B/Adhesive Layer/Phase Contrast Layer/Photo-Alignment Film B/Stress Relief Layer A/Base C. got it

(5) 실시예 5(5) Example 5

적층체 A3 대신에 적층체 A6 을 사용하고, 광학 적층체 B1 의 기재 1 을 박리하여 노출된 면과, 적층체 A6 의 기재 B 를 박리하여 노출된 면을 첩합한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 기재 A/응력 완화층 D/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 광학 적층체 (5) 를 얻었다.Laminate A6 was used instead of laminate A3, and the surface exposed by peeling off the base material 1 of the optical laminate B1 was bonded to the surface exposed by peeling the base material B of the laminate A6. Thus, an optical laminate made of base material A/stress relief layer D/diffusion prevention layer A/photo-alignment layer A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/phase contrast layer/photo-alignment layer B/stress relief layer A/substrate B (5) got it

(6) 실시예 6(6) Example 6

기재 1/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/접착층/수직 배향 액정 경화층/배향막 C/기재 3 으로 이루어지는 적층체 A2 의 기재 3 을 박리하여 노출된 면과, 기재 B/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 적층체 A7 의 기재 B 를 박리하여 노출된 면을 첩합하여, 기재 1/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/접착층/수직 배향 액정 경화층/배향막 C/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 광학 적층체 B2 를 제조하였다. 또한, 상기 광학 적층체 B2 의 기재 1 을 박리하여 노출된 면과, 기재 A/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 적층체 A3 의 기재 B 를 박리하여 노출된 면을 첩합하여, 기재 A/응력 완화층 A/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/접착층/수직 배향 액정 경화층/배향막 C/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 광학 적층체 (6) 을 얻었다.Base material 3 of laminate A2 consisting of base material 1/diffusion prevention layer A/photo-alignment film A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/phase contrast layer/photo-alignment film B/adhesive layer/vertically aligned liquid crystal cured layer/alignment film C/base material 3 The peeled and exposed surface and the peeled and exposed surface of the base material B of the laminate A7 consisting of base material B/stress relief layer A/substrate B are bonded to each other, and the base material 1/diffusion prevention layer A/photo-alignment layer A/polarizing layer/diffusion layer is bonded. An optical laminate B2 consisting of prevention layer B/adhesive layer/retardation layer/photo-alignment film B/adhesive layer/vertically aligned liquid crystal cured layer/alignment film C/stress relief layer A/substrate B was manufactured. In addition, the surface exposed by peeling the base material 1 of the optical laminate B2 and the surface exposed by peeling the base material B of the laminate A3 consisting of base material A/stress relief layer A/substrate B are bonded to each other, so that the base material A/stress relief layer A/substrate B is bonded. Optics made of relaxation layer A/diffusion prevention layer A/light alignment layer A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/phase contrast layer/light alignment layer B/adhesive layer/vertically aligned liquid crystal cured layer/alignment layer C/stress relief layer A/substrate B Laminate (6) was obtained.

(7) 실시예 7(7) Example 7

적층체 A7 대신에 적층체 A11 을 사용하고, 광학 적층체 A1 의 기재 2 를 박리하여 노출된 면과, 적층체 A11 의 기재 B 를 박리하여 노출된 면을 첩합한 것 이외에는 실시예 2 와 동일하게 하여, 기재 A/응력 완화층 B/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/응력 완화층 B/기재 B 로 이루어지는 광학 적층체 (7) 을 얻었다.In the same manner as in Example 2, except that laminate A11 was used instead of laminate A7, and the surface exposed by peeling off the base material 2 of optical laminate A1 was bonded to the surface exposed by peeling the base material B of laminate A11. Thus, an optical laminate made of base material A/stress relief layer B/diffusion prevention layer A/photo-alignment layer A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/phase contrast layer/photo-alignment layer B/stress relief layer B/substrate B (7) got it

(8) 실시예 8(8) Example 8

적층체 A7 대신에 적층체 A12 를 사용하고, 광학 적층체 A1 의 기재 2 를 박리하여 노출된 면과, 적층체 A12 의 기재 B 를 박리하여 노출된 면을 첩합한 것 이외에는 실시예 2 와 동일하게 하여, 기재 A/응력 완화층 B/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/응력 완화층 C/기재 B 로 이루어지는 광학 적층체 (8) 을 얻었다.In the same manner as in Example 2, except that laminate A12 was used instead of laminate A7, and the surface exposed by peeling off the base material 2 of optical laminate A1 was bonded to the surface exposed by peeling the base material B of laminate A12. Thus, an optical laminate consisting of base material A/stress relief layer B/diffusion prevention layer A/photo-alignment layer A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/phase contrast layer/photo-alignment layer B/stress relief layer C/substrate B (8) got it

(9) 실시예 9(9) Example 9

적층체 A3 대신에 적층체 A9 를 사용하고, 광학 적층체 B1 의 기재 1 을 박리하여 노출된 면과, 적층체 A9 의 기재 B 를 박리하여 노출된 면을 첩합한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 기재 A/응력 완화층 E/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 광학 적층체 (9) 를 얻었다.Laminate A9 was used instead of laminate A3, and the surface exposed by peeling off the base material 1 of the optical laminate B1 was bonded to the surface exposed by peeling the base material B of the laminate A9. Thus, an optical laminate (9) made of base material A/stress relief layer E/diffusion prevention layer A/photo-alignment layer A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/phase contrast layer/photo alignment layer B/stress relief layer A/substrate B. got it

(10) 실시예 10(10) Example 10

적층체 A3 대신에 적층체 A10 을 사용하고, 광학 적층체 B1 의 기재 1 을 박리하여 노출된 면과, 적층체 A10 의 기재 B 를 박리하여 노출된 면을 첩합한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 기재 A/응력 완화층 F/확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/광 배향막 B/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 광학 적층체 (10) 을 얻었다.In the same manner as in Example 1, except that laminate A10 was used instead of laminate A3, and the surface exposed by peeling off the base material 1 of optical laminate B1 was bonded to the surface exposed by peeling the base material B of laminate A10. Thus, an optical laminate (10) made of base material A/stress relief layer F/diffusion prevention layer A/photo-alignment layer A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/phase contrast layer/photo-alignment layer B/stress relief layer A/substrate B. got it

(11) 비교예 1(11) Comparative Example 1

실시예 1 에 있어서의 순서와 동일하게 하여 제조한 광학 적층체 B1 의 기재 1 을 박리하여, 확산 방지층 A/광 배향막 A/편광층/확산 방지층 B/점착층/위상차층/배향막 B/응력 완화층 A/기재 B 로 이루어지는 광학 적층체 (11) 을 얻었다.The base material 1 of the optical laminate B1 manufactured in the same manner as in Example 1 was peeled, and diffusion prevention layer A/photo-alignment film A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/phase contrast layer/alignment film B/stress relaxation was carried out. An optical laminate (11) consisting of layer A/substrate B was obtained.

5. 광학 적층체의 물성/특성 평가5. Evaluation of physical properties/properties of optical laminate

(1) 응력 완화층의 저장 탄성률(1) Storage modulus of stress relief layer

저장 탄성률은, 두께 30 ㎛ 의 점착제를 적층하고, 8 ㎜φ × 3 ㎜ 두께의 원기둥상의 시험편을 제조하여, 비틀림 전단법에 의해, 하기의 조건으로 측정하였다.The storage elastic modulus was measured by laminating an adhesive with a thickness of 30 μm, producing a cylindrical test piece with a thickness of 8 mmϕ × 3 mm, and using a torsional shear method under the following conditions.

측정 장치 : 레오메트릭사 제조 동적 점탄성 측정 장치「DYNAMIC ANALYZER RDA II」Measuring device: Dynamic viscoelasticity measuring device “DYNAMIC ANALYZER RDA II” manufactured by Rheometric.

주파수 : 1 HzFrequency: 1 Hz

온도 : 23 ℃ Temperature: 23℃

(2) 제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름의 박리력(2) Peeling force of the first base film and the second base film

실시예 1 ∼ 10 및 비교예 1 에서 제조한 광학 적층체 (1) ∼ (11) 에 있어서, 편광층측의 기재를 제 1 기재 필름, 위상차측의 기재를 제 2 기재 필름으로 하여, 제 1 기재 필름을 광학 적층체로부터 박리할 때의 박리력 F1, 및 제 2 기재 필름을 광학 적층체로부터 박리할 때의 박리력 F2 는, 각각, 이하의 방법에 의해 측정하였다. 결과를 표 3 에 나타낸다.In the optical laminates (1) to (11) manufactured in Examples 1 to 10 and Comparative Example 1, the base material on the polarizing layer side was the first base film, the base material on the retardation side was the second base film, and the first base material The peeling force F1 when peeling the film from the optical layered body and the peeling force F2 when peeling the second base film from the optical layered body were each measured by the following method. The results are shown in Table 3.

인장 시험기를 사용하여, 시험편 (폭 25 ㎜ × 길이 약 150 ㎜) 의 길이 방향의 일단을 잡고, 온도 23 ℃, 상대 습도 60 % 의 분위기하, 크로스 헤드 스피드 (파지 이동 속도) 200 ㎜/분으로, JIS K 6854-1 : 1999「접착제-박리 접착 강도 시험 방법-제 1 부 : 90 도 박리」에 준거한 90°박리 시험을 실시하여 측정하였다.Using a tensile tester, one end of a test piece (width 25 mm , JIS K 6854-1: 1999 "Adhesive - Peel adhesion strength test method - Part 1: 90 degree peel" was performed and measured.

(3) 제 1 기재 필름의 탄성률 (23 ℃) (3) Elasticity modulus of the first base film (23°C)

기재 필름으로부터 MD 길이 100 ㎜ × TD 길이 25 ㎜ 의 시험편을 잘라내었다. 이어서, 인장 시험기〔(주) 시마즈 제작소 제조 AUTOGRAPH AG-1S 시험기〕의 상하 파지구로, 파지구의 간격이 5 ㎝ 가 되도록 상기 시험편의 장변 방향 양단을 사이에 두고, 온도 23 ℃, 상대 습도 55 % 의 환경하, 인장 속도 1 ㎜/분으로 시험편을 장변 방향으로 인장하고, 얻어지는 응력-변형 곡선에 있어서의 초기의 직선의 기울기로부터, 23 ℃ 에서의 MD 에 있어서의 인장 탄성률〔MPa〕을 산출하였다. 실시예 1 ∼ 10 에 있어서의 제 1 기재 필름 (기재 A) 의 탄성률 (23 ℃) 은, 4800 MPa 였다.A test piece with an MD length of 100 mm x a TD length of 25 mm was cut from the base film. Next, with the upper and lower grippers of a tensile tester (AUTOGRAPH AG-1S tester manufactured by Shimadzu Corporation), both ends of the long side of the test piece are sandwiched so that the interval between the grippers is 5 cm, and the temperature is 23°C and the relative humidity is 55%. Under the environment, the test piece was stretched in the longitudinal direction at a tensile speed of 1 mm/min, and the tensile modulus [MPa] in MD at 23°C was calculated from the slope of the initial straight line in the obtained stress-strain curve. The elastic modulus (23°C) of the first base film (base material A) in Examples 1 to 10 was 4800 MPa.

(4) 첩합 시험(4) Bonding test

실시예 및 비교예에서 제조한 각 광학 적층체 (1) ∼ (11) 을, 각각, 160 ㎜ × 80 ㎜ 의 시트로 잘라내고, 할텍 (산쿄사 제조 "할텍 HAL650") 을 사용하여, 제 1 기재 필름의 면을 흡착시킨 상태에서 제 2 기재 필름을 박리하고, 노출된 제 2 응력 완화층의 면을 유리에 첩합하였다. 그 후, 외관을 검사하여 외관 불량 (첩합 기포, 주름, 제 1 기재의 들뜸, 찢어짐) 이 확인된 경우에는 첩합 실패, 외관 불량이 확인되지 않았던 경우를 첩합 성공으로 하고, 시험을 20 회 실시하였다. 성공률로부터 시험 결과를 분류하였다. 결과를 표 3 에 나타낸다.Each of the optical laminates (1) to (11) manufactured in the Examples and Comparative Examples was cut into sheets of 160 mm × 80 mm, and the first The second base film was peeled off with the side of the base film adsorbed, and the exposed side of the second stress relief layer was bonded to the glass. Afterwards, the appearance was inspected, and if appearance defects (bubble, wrinkles, lifting, tearing of the first base material) were confirmed, the bonding failed, and if no appearance defects were confirmed, the bonding was considered successful, and the test was performed 20 times. . Test results were classified based on success rate. The results are shown in Table 3.

<평가 기준><Evaluation criteria>

○ : 성공율 90 % 이상○: Success rate 90% or more

△ : 성공율 60 % 이상 90 % 미만△: Success rate 60% or more but less than 90%

× : 성공율 60 % 미만×: Success rate less than 60%

(5) 굴곡 시험(5) bending test

실시예 및 비교예에서 제조한 각 광학 적층체 (1) ∼ (11) 을, 각각, 가로세로 25 ㎜ × 200 ㎜ 로 잘라내고, 원통형 맨드릴법 내굴곡성 시험기 타입 II 형 (TP 기연 주식회사 제조) 을 사용하여, 잘라낸 필름을 온도 25 ℃, 상대 습도 55 %RH 의 조건하에서, 직경이 2 ㎜ (굴곡 반경 R = 1 ㎜) 인 맨드릴봉에, 제 1 수지층 형성용 조성물의 경화층을 외측으로 하여 감고 굴곡성 시험을 실시하였다. 시험 후의 필름을 사용하고, 암실 환경하에서 조명 투과광으로 육안 확인하여, 크랙의 발생 상황을 관찰하고, 관찰 결과를 분류하였다.Each of the optical laminates (1) to (11) manufactured in Examples and Comparative Examples was cut into 25 mm x 200 mm, and tested with a cylindrical mandrel method bending resistance tester Type II (manufactured by TP Engineering Co., Ltd.). Using this, the cut film is placed on a mandrel rod with a diameter of 2 mm (bending radius R = 1 mm) under the conditions of a temperature of 25°C and a relative humidity of 55% RH, with the cured layer of the composition for forming the first resin layer facing the outside. A coiled flexibility test was conducted. The film after the test was used, and visually inspected with transmitted light in a dark room environment, the occurrence of cracks was observed, and the observation results were classified.

<평가 기준><Evaluation criteria>

○ : 균열이 시인되지 않았다.○: Cracks were not recognized.

△ : 균열을 거의 볼 수 없었다.△: Almost no cracks were seen.

× : 균열이 현저하게 확인되었다.×: Significant cracking was confirmed.

Figure pct00030
Figure pct00030

표 3 중, 제 1 응력 완화층과 제 2 응력 완화층 사이의 층의 두께에는, 제 1 응력 완화층 및 제 2 응력 완화층의 두께는 모두 포함되지 않는다 (표 중의 두께는 소수점 제 1 위치를 사사오입한 값이다).In Table 3, the thickness of the layer between the first stress relief layer and the second stress relief layer does not include the thicknesses of the first stress relief layer and the second stress relief layer (thicknesses in the table are set to the first decimal place). (This is a rounded value).

1 : 제 1 기재 필름
2 : 제 1 응력 완화층
3 : 편광층
4 : 점접착층
5 : 위상차층
6 : 제 2 응력 완화층
7 : 제 2 기재 필름
8, 9 : 확산 방지층
11 : 광학 적층체
12, 13 : 적층체 구조
1: First base film
2: first stress relief layer
3: Polarizing layer
4: Point adhesive layer
5: Phase difference layer
6: second stress relief layer
7: Second base film
8, 9: Anti-diffusion layer
11: Optical laminate
12, 13: Laminate structure

Claims (10)

제 1 기재 필름, 제 1 응력 완화층, 편광층, 점접착층, 위상차층, 제 2 응력 완화층, 및 제 2 기재 필름을 이 순서대로 포함하는 광학 적층체로서,
제 1 응력 완화층과 제 2 응력 완화층 사이에 위치하는 층의 합계 두께가 20 ㎛ 이하이고,
제 1 응력 완화층의 저장 탄성률이 1.5 MPa 이하이고,
제 1 기재 필름 및 제 2 기재 필름이 모두 박리 가능한 기재 필름인, 광학 적층체.
An optical laminate comprising a first base film, a first stress relief layer, a polarizing layer, a point adhesive layer, a retardation layer, a second stress relief layer, and a second base film in this order,
The total thickness of the layers located between the first stress relief layer and the second stress relief layer is 20 μm or less,
The storage modulus of the first stress relief layer is 1.5 MPa or less,
An optical laminate wherein both the first base film and the second base film are peelable base films.
제 1 항에 있어서,
제 1 응력 완화층과 편광층 사이에 추가로 확산 방지층을 포함하는, 광학 적층체.
According to claim 1,
An optical laminate, comprising an additional anti-diffusion layer between the first stress relief layer and the polarizing layer.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
편광층이, 스멕틱 액정상을 나타내는 중합성 액정 화합물과 이색성 색소를 포함하는 중합성 액정 조성물의 액정 경화층인, 광학 적층체.
The method of claim 1 or 2,
An optical laminate wherein the polarizing layer is a liquid crystal cured layer of a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound exhibiting a smectic liquid crystalline phase and a dichroic dye.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
위상차층이, 중합성 액정 화합물이 기재면 내에 대해 수평 방향으로 배향한 상태에서 경화된 수평 배향 액정 경화층인, 광학 적층체.
The method according to any one of claims 1 to 3,
An optical laminate wherein the retardation layer is a horizontally aligned liquid crystal cured layer cured in a state in which a polymerizable liquid crystal compound is oriented horizontally with respect to the substrate surface.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
제 1 기재 필름의 23 ℃ 에 있어서의 탄성률이 2,500 ∼ 6,000 MPa 인, 광학 적층체.
The method according to any one of claims 1 to 4,
An optical laminate wherein the first base film has an elastic modulus of 2,500 to 6,000 MPa at 23°C.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
제 1 응력 완화층의 두께가 10 ∼ 80 ㎛ 인, 광학 적층체.
The method according to any one of claims 1 to 5,
An optical laminate wherein the first stress relief layer has a thickness of 10 to 80 μm.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
제 1 응력 완화층의 두께 (T1) 와 제 2 응력 완화층의 두께 (T2) 가 식 (1) :
T1/T2 ≥ 1.0 (1)
을 만족하는, 광학 적층체.
The method according to any one of claims 1 to 6,
The thickness of the first stress relief layer (T1) and the thickness of the second stress relief layer (T2) are expressed in Equation (1):
T1/T2 ≥ 1.0 (1)
An optical laminate that satisfies the above.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
광학 적층체로부터 제 1 기재 필름을 박리할 때의 박리력 (F1) 과 광학 적층체로부터 제 2 기재 필름을 박리할 때의 박리력 (F2) 이 식 (2) :
0.02 (N/25 ㎜) ≤ |F1 - F2| (2)
를 만족하는, 광학 적층체.
The method according to any one of claims 1 to 7,
The peeling force (F1) when peeling the first base film from the optical laminate and the peeling force (F2) when peeling the second base film from the optical laminate are expressed in Equation (2):
0.02 (N/25 ㎜) ≤ |F1 - F2| (2)
An optical laminate that satisfies the above.
제 2 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
확산 방지층의 두께가 5 ㎛ 이하인, 광학 적층체.
According to any one of claims 2 to 8,
An optical laminate wherein the anti-diffusion layer has a thickness of 5 μm or less.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
중합성 액정 화합물이 기재면 내에 대해 수직 방향으로 배향한 상태에서 경화된 수직 배향 액정 경화층을, 편광층과 제 2 응력 완화층 사이에 추가로 포함하는, 광학 적층체.
The method according to any one of claims 1 to 9,
An optical laminate further comprising a vertically aligned liquid crystal cured layer in which the polymerizable liquid crystal compound is oriented in a direction perpendicular to the substrate surface between the polarizing layer and the second stress relief layer.
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