KR20230168774A - End block for supporting an end of object - Google Patents
End block for supporting an end of object Download PDFInfo
- Publication number
- KR20230168774A KR20230168774A KR1020220069459A KR20220069459A KR20230168774A KR 20230168774 A KR20230168774 A KR 20230168774A KR 1020220069459 A KR1020220069459 A KR 1020220069459A KR 20220069459 A KR20220069459 A KR 20220069459A KR 20230168774 A KR20230168774 A KR 20230168774A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- frame
- cover member
- fixed
- end block
- support
- Prior art date
Links
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims description 22
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 16
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 15
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 13
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 25
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 7
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 5
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 5
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 229920004738 ULTEM® Polymers 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3435—Target holders (includes backing plates and endblocks)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3488—Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
작업 환경에서 지지 대상물의 단부를 지지하기 위한 엔드 블록은, 작업 환경의 소정 위치에 고정되는 고정 프레임과, 고정 프레임에 전기 절연되어 체결되고, 지지 대상물의 지지 구조체를 지지하는 지지 프레임과, 고정 프레임 및 지지 프레임 사이의 틈새를 커버하는 커버 부재를 포함하고, 커버 부재는, 지지 프레임과 고정 프레임을 서로 분해하지 않고, 지지 프레임 또는 고정 프레임에 대해 탈부착 가능한 교체식 커버 부재를 포함하고, 교체식 커버 부재는, 적어도 지지 프레임 및 고정 프레임에 접촉하는 부분이 전기 절연성 재료로 이루어진다. An end block for supporting the end of a support object in a working environment includes a fixed frame fixed to a predetermined position in the working environment, a support frame electrically insulated and fastened to the fixed frame, and supporting the support structure of the supported object, and a fixed frame. and a cover member that covers the gap between the support frames, wherein the cover member includes a replaceable cover member that is attachable and detachable to the support frame or the fixed frame without disassembling the support frame and the fixed frame, and the replaceable cover. The member is made of an electrically insulating material at least at a portion that contacts the support frame and the fixing frame.
Description
본 발명은 지지 대상물의 단부를 지지하기 위한 엔드 블록에 관한 것으로서, 특히, 스퍼터링 증착 장치에 적합한 엔드 블록에 관한 것이다. The present invention relates to an end block for supporting an end of a support object, and particularly to an end block suitable for a sputtering deposition apparatus.
스퍼터링(sputtering)은 증착 물질인 타겟 물질에 전기에너지로 가속화된 기체이온(예를 들어, 아르곤)을 충돌시켜서 방출된 타겟 물질의 입자를 증착 대상물에 증착시키는 박막 증착법의 하나이다. Sputtering is a thin film deposition method in which gas ions (for example, argon) accelerated by electrical energy collide with a target material, which is a deposition material, and deposit the released particles of the target material on the deposition object.
스퍼터링 증착법은, 반도체, 디스플레이, 자동차 휠, 글래스 등에 우수한 대면적의 증착(코팅)을 수행하는데 널리 활용되고 있다. The sputtering deposition method is widely used to perform excellent large-area deposition (coating) on semiconductors, displays, automobile wheels, glass, etc.
스퍼터링 증착 장치 중에서, 대표적으로 소위 "원통형 스퍼터링 캐소드 장치"가 알려져 있다. Among sputtering deposition devices, the so-called "cylindrical sputtering cathode device" is typically known.
원통형 스퍼터링 캐소드 장치에서는, 챔버 내에서 타겟 물질이 원통형의 튜브의 표면에 도포 형성된 타겟 튜브에 음극의 고전압을 인가한다. 타겟 튜브 내에는 자석이 배치되는데, 음극의 전기장과 자석의 자기장이 직교하는 영역을 중심으로 플라즈마가 형성된다. 플라즈마 형성 영역에서 중점적으로, 챔버 내의 양극의 기체이온이 타겟 물질에 충돌하면서 타겟 물질의 입자가 방출되고, 방출된 타겟 물질의 입자가 증착 대상물에 골고루 증착된다. 이 때, 타겟 물질이 전체적으로 침식되어 타겟을 효율적으로 사용할 수 있도록, 타겟 튜브를 회전시킨다. In a cylindrical sputtering cathode device, a high cathode voltage is applied to a target tube in which a target material is applied to the surface of the cylindrical tube in a chamber. A magnet is placed within the target tube, and plasma is formed centered on an area where the electric field of the cathode and the magnetic field of the magnet are orthogonal. Focusing on the plasma formation area, the gas ions of the anode in the chamber collide with the target material to release particles of the target material, and the released particles of the target material are evenly deposited on the deposition object. At this time, the target tube is rotated so that the entire target material is eroded so that the target can be used efficiently.
이러한 원통형 스퍼터링 캐소드 장치에서, 타겟 튜브의 단부를 지지하고, 나아가 회전시키기 위한 구성을 소위 "엔드 블록"이라고 칭한다. In this cylindrical sputtering cathode device, a structure for supporting and further rotating the end of the target tube is called an “end block.”
엔드 블록에는, 챔버 내외의 소정 위치에 고정되는 부분(고정부)과, 타겟 튜브를 지지하고 회전시키도록 타겟 튜브에 연결되는 부분(지지부)이 존재한다. The end block includes a part (fixed part) that is fixed at a predetermined position inside and outside the chamber and a part (support part) that is connected to the target tube to support and rotate the target tube.
상기 지지부는, 타겟 튜브가 음극으로 도전됨에 따라서 함께 음극으로 도전된다. 이 때, 지지부와 고정부가 전기적으로 접속되어 있으면, 고정부 역시 음극으로 도전되고, 고정부에 연결된 챔버 부분이 음극으로 도전될 수 있다. The support conducts to the cathode as the target tube conducts to the cathode. At this time, if the support part and the fixing part are electrically connected, the fixing part may also be conducted to the cathode, and the chamber part connected to the fixing part may be conducted to the cathode.
따라서, 엔드 블록에서 고정부와 지지부는 적절히 전기적으로 절연될 필요가 있다. Therefore, the fixing portion and the support portion in the end block need to be appropriately electrically insulated.
종래에, 고정부와 지지부 사이에 전기 절연체를 단순 개제하는 구조가 알려져 있다. 이러한 구성에서, 사용이 계속되면, 전기 절연체의 표면에 타겟 물질이 증착하는데, 이에 따라서, 고정부와 지지부가 전기적으로 연결될 위험이 있는 경우, 전기 절연체를 교환한다. 종래에는, 전기 절연체를 교환하기 위해서, 고정부와 지지부를 분해한 뒤 전기 절연체를 분해하여야 하는 번거로움이 있었다. 따라서, 유지 보수에 많은 시간과 노력이 소요되고, 공정의 수율에 악영향이 발생한다. Conventionally, a structure in which an electrical insulator is simply inserted between a fixing part and a supporting part is known. In this configuration, as use continues, a target material is deposited on the surface of the electrical insulator, so that the electrical insulator is replaced if there is a risk that the fixing portion and the support portion become electrically connected. Conventionally, in order to replace the electrical insulator, there was the inconvenience of having to disassemble the fixing part and the support part and then disassemble the electrical insulator. Therefore, a lot of time and effort is required for maintenance, and the yield of the process is adversely affected.
본 발명은 상기 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 엔드 블록의 고정부와 지지부를 분해하지 않고도, 유지 보수가 가능한 엔드 블록을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention is intended to solve the problems of the prior art, and aims to provide an end block that can be maintained without disassembling the fixing portion and support portion of the end block.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 측면에 따르면, 작업 환경에서 지지 대상물의 단부를 지지하기 위한 엔드 블록으로서, 상기 작업 환경의 소정 위치에 고정되는 고정 프레임과, 상기 고정 프레임에 전기 절연되어 체결되고, 상기 지지 대상물의 지지 구조체를 지지하는 지지 프레임과, 상기 고정 프레임 및 상기 지지 프레임 사이의 틈새를 커버하는 커버 부재를 포함하고, 상기 커버 부재는, 상기 지지 프레임과 상기 고정 프레임을 서로 분해하지 않고, 상기 지지 프레임 또는 상기 고정 프레임에 대해 탈부착 가능한 교체식 커버 부재를 포함하고, 상기 교체식 커버 부재는, 적어도 상기 지지 프레임 및 상기 고정 프레임에 접촉하는 부분이 전기 절연성 재료로 이루어지는 엔드 블록이 제공된다. In order to achieve the above object, according to one aspect of the present invention, there is provided an end block for supporting an end of a support object in a working environment, a fixed frame fixed to a predetermined position in the working environment, and electrical insulation from the fixed frame. It is fastened and includes a support frame that supports the support structure of the support object, and a cover member that covers a gap between the fixed frame and the support frame, wherein the cover member separates the support frame and the fixed frame from each other. and a replaceable cover member detachable from the support frame or the fixed frame, wherein the replaceable cover member includes an end block in which at least a portion in contact with the support frame and the fixed frame is made of an electrically insulating material. provided.
일 실시예에 따르면, 상기 커버 부재는, 상기 지지 프레임 및 상기 고정 프레임의 사이에서, 상기 고정 프레임의 하면과 상기 지지 프레임의 상면에 밀착하는 고정식 커버 부재를 포함하고, 상기 교체식 커버 부재가 상기 고정식 커버 부재의 사방의 측면을 둘러싸도록 배치된다. According to one embodiment, the cover member includes a fixed cover member between the support frame and the fixed frame and in close contact with a lower surface of the fixed frame and an upper surface of the support frame, and the replaceable cover member is It is arranged to surround all sides of the fixed cover member.
일 실시예에 따르면, 상기 교체식 커버 부재 및 상기 고정식 커버 부재는, 전체가 전기 절연성 재료로 이루어진다. According to one embodiment, the replaceable cover member and the fixed cover member are entirely made of electrically insulating material.
일 실시예에 따르면, 상기 교체식 커버 부재 및 상기 고정식 커버 부재는 동일한 재질의 전기 절연성 재료로 이루어진다. According to one embodiment, the replaceable cover member and the fixed cover member are made of the same electrically insulating material.
일 실시예에 따르면, 상기 교체식 커버 부재의 외면에는, 상기 지지 프레임 및 상기 고정 프레임 사이의 틈의 연장 방향으로 골이 연장되는 요철이 형성된다. According to one embodiment, irregularities in which valleys extend in an extension direction of a gap between the support frame and the fixing frame are formed on the outer surface of the replaceable cover member.
일 실시예에 따르면, 엔드 블록은 복수의 교체식 커버 부재를 구비하고, 복수의 상기 교체식 커버 부재 중 일부는, 상기 지지 프레임와 상기 고정 프레임 중 적어도 하나에 형성된 슬롯에 끼워지는 돌기를 구비한다. According to one embodiment, the end block includes a plurality of replaceable cover members, and some of the plurality of replaceable cover members include protrusions that fit into slots formed in at least one of the support frame and the fixing frame.
일 실시예에 따르면, 엔드 블록은 복수의 교체식 커버 부재를 구비하고, 복수의 상기 교체식 커버 부재 중 일부는, 상기 지지 프레임을 형성하는 복수의 프레임 부재끼리의 연결부 중 적어도 일부를 가리도록 형성된다. According to one embodiment, the end block is provided with a plurality of replaceable cover members, and some of the plurality of replaceable cover members are formed to cover at least a portion of the connection portions between the plurality of frame members forming the support frame. do.
일 실시예에 따르면, 상기 지지 대상물은, 스퍼터링 증착을 위한 타겟 물질이 원통 튜브에 배치된 타겟 튜브이고, 상기 엔드 블록은 상기 타겟 튜브를 회전 가능하게 지지한다. According to one embodiment, the support object is a target tube in which a target material for sputtering deposition is disposed in a cylindrical tube, and the end block rotatably supports the target tube.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 엔드 블록의 사시도이다.
도 2는 도 1의 엔드 블록에 지지 대상물을 지지시킨 상태의 도면이다.
도 3은 도 1에서 엔드 블록에서 일부 구성을 제거한 도면이다.
도 4는 도 3에서 엔드 블록에서 일부 구성을 제거한 도면이다.
도 5는 엔드 블록에 형성되는 고정식 커버 부재를 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 엔드 블록에 형성되는 교체식 커버 부재를 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 도 1의 엔드 블록의 일부를 확대 도시한 확대도이다. 1 is a perspective view of an end block according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a diagram showing a state in which a support object is supported on the end block of Figure 1.
FIG. 3 is a view with some components removed from the end block in FIG. 1.
FIG. 4 is a view with some components removed from the end block in FIG. 3.
Figure 5 is a diagram for explaining a fixed cover member formed on an end block.
Figure 6 is a diagram for explaining a replaceable cover member formed on an end block.
FIG. 7 is an enlarged view showing a portion of the end block of FIG. 1.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 하나의 실시예로서 설명되는 것이며, 이것에 의해 본 발명의 기술적 사상과 그 핵심 구성 및 작용은 제한되지 않는다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the attached drawings. The present invention has been described with reference to the embodiment shown in the drawings, but this is described as one embodiment, and the technical idea of the present invention and its core configuration and operation are not limited thereby.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 엔드 블록(1)의 사시도이다. Figure 1 is a perspective view of an
도 1에 도시된 바와 같이 엔드 블록(1)은 대략 사각 형태의 프레임(10)과 프레임(10)의 일단에서 지지 대상물의 단부를 지지하여 회전시키는 회전체(20)를 포함한다.As shown in FIG. 1, the
본 실시예에 따른 엔드 블록(1)은 배경기술에서 소개한 스퍼터링 증착 장치에 이용되는 엔드 블록이고, 지지 대상물인 타겟 튜브(600)(도 2 참조)의 일단을 지지하여 회전시킨다. The
프레임(10)에는 프레임(10)의 상판에 관통한 개구(112)를 통해 프레임(10)의 내부로 연장되는 공급원 모듈(30)이 형성된다. The
공급원 모듈(30)은 타겟 튜브(600)로 물을 공급하는 유체 공급관(31)과, 타겟 튜브(600)로부터 유출되는 물을 배출하는 유체 배출관(32)을 포함한다. 또한, 공급원 모듈(30)은 유체 공급관(31)과 유체 배출관(32)을 감싸도록 형성된 전원 블록(33)을 포함한다. The
전원 블록(33)은 외부의 전원과 전기적으로 접속된다. 외부의 전원을 통해 전원 블록(33)에 음극의 고전압이 인가되면, 해당 전압이 타겟 튜브(600)에 전달되어, 타겟 튜브(600)에 음극의 고전압이 인가된다. The
회전체(20)는 원통형의 몸체(21)를 구비한다. 몸체(21)의 중앙에는 유체 공급관(31)과 유체 연통되는 유체 입구(23)와, 유체 배출관(32)과 유체 연통되는 유체 출구(22)가 형성된다. The rotating
도 2는 타겟 튜브(600)가 지지된 엔드 블록(1)에 지지된 모습을 도시한 것이다. Figure 2 shows the
도 2를 참조하면, 타겟 튜브(600)는 튜브체(610)의 외면에 타겟 물질(T)이 소정 두께로 도포 형성된 구조를 가진다. Referring to FIG. 2 , the
본 실시예에서, 회전체(20)는 타겟 튜브(600)의 단부를 막은 일종의 엔드 캡으로서 역할을 한다. In this embodiment, the
타겟 튜브(600)는 회전체(20)에 체결구(611)에 의해 체결된다. 회전체(20)의 유체 출구(22)에는 내관(612)이 연결되어 있다. 튜브체(600)의 외각과 내관(612) 사이의 공간은 유체 입구(23)와 연통되어 있다. The
따라서, 유체 공급관(31)을 통해 공급된 물이 유체 입구(23)를 통해 튜브체(600)의 내부를 채우고, 도시하지 않은 타겟 튜브(600)의 타단 부근에서 내관(612)에 형성된 개구를 통해 물이 내관(612)을 통해 유체 출구(22)로 유출되어 유체 배출관(32)으로 배출되며 순환한다. Therefore, the water supplied through the fluid supply pipe 31 fills the inside of the
또한, 회전체(20)는 전원 블록(33)에 전기적으로 접속되어 있다. 전원 블록(33)에 의해 음극의 고전압이 인가되면, 회전체(20)를 통해 타겟 튜브(600)에 음극의 고전압이 인가된다. Additionally, the rotating
본 실시예에 따르면, 회전체(20)는 타겟 튜브(600)의 단부를 막은 일종의 엔드 캡으로서 설명 및 도시되어 있지만, 이에 한정되지 않는다. According to this embodiment, the rotating
타겟 튜브(600)는 별도의 엔드 캡을 구비하여도 좋고, 타겟 튜브(600)는 회전체(20)에 고정되어서, 그 내부로 물이 공급될 수 있고, 튜브체(610)에 전압이 인가될 수 있는 구조라면 좋다. 타겟 튜브(600)와 회전체(20)의 구조 및 그의 연결 방식의 상세는 본 발명의 사상을 벗어나는 것이므로, 여기서는 더 자세한 설명을 생략한다. The
또한, 본 도면에서는 타겟 튜브(600)의 구조가 간략화되어 도시되었다는 점이 이해되어야 할 것이다. 타겟 튜브(600)의 내부에는 플라즈마 발생을 위한 자석이 위치할 수 있고, 그 밖에 스퍼터링 증착 방법을 수행하기 위한 공지의 구조가 포함될 수 있다는 점이 이해되어야 할 것이다.Additionally, it should be understood that the structure of the
이하에서, 도 3 및 도 4를 참조하여, 프레임(10)의 구성 및 엔드 블록(1)의내부 구성에 대해 더 자세히 설명한다. Below, with reference to FIGS. 3 and 4, the configuration of the
도 3은 도 1의 엔드 블록(1)에서 일부 구성(커버 부재(400, 510 ~ 540))을 제거한 도면이고, 도 4는 도 3의 엔드 블록(1)에서 일부 구성(몸체 프레임(220))을 제거한 도면이다. FIG. 3 is a view showing some components (cover
도 3에 도시된 바와 같이, 프레임(10)은 대략 판 형상의 고정 프레임(100)과, 고정 프레임(100)에 체결되는 지지 프레임(200)을 포함한다. As shown in FIG. 3, the
고정 프레임(100)은 스퍼터링 장치의 챔버(미도시)의 내벽이나, 챔버 외부의 고정 위치 등 고정되어 소정의 위치에 엔드 블록(1)을 고정시킨다. The fixing
고정 프레임(100)에는 두 개의 통공(111, 112)이 천공되어 있다. 통공(111)에는 구동 벨트(2)가 통과하고, 다른 통공(112)에는 상술한 공급원 모듈(30)이 통과한다. Two through holes 111 and 112 are drilled in the fixed
고정 프레임(100)은 그 상면이 챔버 내벽 등의 고정면(미도시)에 밀착되어 고정되므로, 타겟 물질(T)의 입자가 프레임(10)의 내부로 유입되지 않는다. Since the upper surface of the fixed
도 3을 참조하면, 지지 프레임(200)은, 블록 형태의 몸체 프레임(220)과, 몸체 프레임(220)의 전후 측면에 각각 결합되는 전방 프레임(240) 및 후방 프레임(230)과, 몸체 프레임(220)의 상부에 결합되는 상부 프레임(210)으로 이루어진 복수의 프레임의 결합 구조체이다.Referring to FIG. 3, the
몸체 프레임(220)은, 중앙에 소정의 반경을 가지고 길게 형성되는 통공(미도시)을 구비하고, 당해 통공 내부에는 타겟 튜브(600)를 지지하기 위한 지지 구조체(300)가 삽입된다. The
도 4를 참조하면, 지지 구조체(300)는, 전방 측면 프레임(240)을 관통하여 연장되는 회전축(310)과, 회전축(310)에 끼움 결합되는 베어링(320) 및 피동 풀리(330)와, 후방 측면 프레임(230)에 맞닿고 회전축(310)의 길이 방향 유격을 보상하는 보상기(340)를 포함한다. Referring to FIG. 4, the
베어링(320)의 외륜은 몸체 프레임(220)의 중앙의 통공의 내경에 억지 끼움되어, 회전축(310)이 몸체 프레임(220)에 대해 회전 가능하게 고정된다.The outer ring of the
상부 프레임(210)과 몸체 프레임(220)의 상판에는 고정 프레임(100)의 통공(111)에 대응하는 위치에 통공이 형성되어 있고, 벨트(2)가 고정 프레임(100), 상부 프레임(210) 및 몸체 프레임(220)의 통공을 통과해, 피동 풀리(300)에 연결되어 있다. A hole is formed in the upper plate of the
피동 풀리(330)의 외면에는 톱니가 형성되어 있고, 벨트(2)의 내면에 그에 대응하는 톱니가 형성되어 있다. Teeth are formed on the outer surface of the driven
고정 프레임(100)를 통과해 외부로 연장되는 벨트(2)에는 도시하지 않은 구동 풀리가 연결된다. 구동 풀리는 모터 등의 구동 수단을 통해 회전하고, 구동 풀리의 회전력은 벨트(2)를 통해 피동 풀리(330)에 전달되어, 회전축(310)이 회전한다.A drive pulley (not shown) is connected to the
전방 측면 프레임(240)을 관통하여 연장되는 회전축(310)의 단부에는 회전체(20)가 연결되고, 회전축(310)이 회전함에 따라서, 회전체(20)와 그에 연결된 타겟 튜브(600)가 회전한다. A rotating
또한, 상부 프레임(210)에는 고정 프레임(100)의 통공(112)에 대응하는 위치에 통공이 형성되어 있다. 도면에서는 자세히 도시하지 않았지만, 몸체 프레임(220)에는 유체 공급관(31)으로부터 유체 입구(23) 및 유체 출구(24)로부터 유체 배출관(32)으로 이어지는 유체 경로가 형성되어 있다. In addition, a hole is formed in the
전원 블록(33)은 고정 프레임(100) 너머로 연장되어 상부 프레임(210)에 전기적으로 접속된다. 따라서, 본 실시예에 따르면, 전원 블록(33)에서 지지 프레임(200)으로, 지지 프레임(200)에서 지지 구조체(300)로, 지지 구조체(300)에서 회전체(20)를 통한 타겟 튜브(600)로의 전기적인 접속 경로가 형성된다. The
다만, 상기 유체 경로와 상기 전기적인 접속 경로는 일례에 불과하고, 본 발명의 사상을 벗어나는 것이므로, 여기서, 더 구체적인 설명은 생략한다. However, since the fluid path and the electrical connection path are only examples and go beyond the scope of the present invention, further detailed descriptions will be omitted here.
특히, 전기적인 접속 경로는 반드시 전원 블록(33)을 통해 지지 프레임(200)으로 전원이 인가될 필요는 없으며, 지지 프레임(200)이 타겟 튜브(600)와 전기적으로 접속이 이루어져서, 타겟 튜브(600)에 음극의 고전압이 인가되고, 그에 따라서 지지 프레임(200)에도 전압이 함께 인가되는 구조일 수도 있다. 즉, 지지 프레임(200)에 타겟 튜브(600)와 동일한 극성의 전압이 인가되면 구조라면, 전기적인 접속 경로에는 제한이 없다. In particular, the electrical connection path does not necessarily require power to be applied to the
상술한 바와 같이, 고정 프레임(100)은 스퍼터링 장치의 챔버(미도시)의 내벽과 같은 고정 위치에 고정되므로, 지지 프레임(200)과는 전기적으로 절연될 필요가 있다. As described above, the fixed
도 3에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따르면, 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200)의 상부 프레임(210)은 복수의 볼트(121, 122)(본 실시예에서는 4개의 볼트)에 의해 체결된다.As shown in FIG. 3, according to this embodiment, the
고정 프레임(100)과 지지 프레임(200)의 전기적인 절연을 1차적으로 이루기 위해서, 본 실시예에 따르면, 고정 프레임(100)의 볼트 체결공의 내부에 전기 절연 물질을 도포하거나, 나사산이 형성된 전기 절연성 재료로 이루어진 부재(113)를 부착한다. 도면에는 자세히 도시하지 않았지만, 상부 프레임(210)에서 당해 볼트가 체결되는 체결공에도 동일하게 전기 절연 물질을 도포하거나, 나사산이 형성된 전기 절연성 재료로 이루어진 부재를 부착한다. 다시 말해서, 볼트는 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200)에 대해 전기 절연 재료를 개재하여 고정되므로, 볼트의 연결부를 제외하고 서로 이격된 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200)은 서로 전기적인 절연이 이루어진다.In order to primarily achieve electrical insulation between the fixing
다만, 도 3에 도시된 상태에서는, 벨트(2)나 유체 공급관(31) 등이 통과하는 통공이 지지 프레임(200)의 상부 프레임(210) 및 몸체 프레임(220)의 상판에 형성되어 있으므로, 스퍼터링 증착 장치의 가동 시, 타겟 물질(T)의 입자가 지지 프레임(200) 내부로 유입되어 지지 구조체(300) 등에 증착될 수 있다. 아울러, 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200)을 체결하는 볼트(121, 122)에 타겟 물질(T)이 증착하여, 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200)이 전기적으로 접속되어 버리는 경우가 발생할 수 있다. However, in the state shown in FIG. 3, the through hole through which the
이에 따라서, 본 실시예에 따르면, 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200) 사이의 틈새를 커버하기 위한 커버 부재가 형성된다. 본 실시예에 따르면, 커버 부재는 고정식 커버 부재(400) 및 교체식 커버 부재(510 ~ 540)를 포함한다.Accordingly, according to this embodiment, a cover member is formed to cover the gap between the fixing
도 5는 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200) 사이에 고정식 커버 부재(400)가 체결된 모습을 도시한 것이다. Figure 5 shows the fixed
고정식 커버 부재(400)의 하면에는 상부 프레임(210)이 수용될 수 있는 홈이 형성되어서, 상부 프레임(210)을 덮으면서, 몸체 프레임(220)의 상면에 얹어지도록 형성된다.A groove in which the
고정식 커버 부재(400)는 고정 프레임(100)의 하면과, 몸체 프레임(220)의 상면에 밀착하는 두께로 형성된다. 따라서, 고정식 커버 부재(400)에 의해 상부 프레임(210) 및 몸체 프레임(220)의 상판에 형성된 통공으로 타겟 물질(T)이 유입되는 것을 방지할 수 있다. The fixed
본 실시예에 따르면, 고정식 커버 부재(400)는 전체가 전기 절연성 재료로 이루어져서, 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200)의 전기 절연을 보장한다. According to this embodiment, the fixed
다만, 고정식 커버 부재(400)만이 구비되는 경우, 타겟 물질(T)이 고정식 커버 부재(400)의 외면에 증착하여, 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200)의 전기 절연이 훼손될 수 있다.However, when only the fixed
따라서, 본 실시예에 따르면, 고정식 커버 부재(400)의 사방의 측면을 둘러싸는 교체식 커버 부재(510 ~ 540)가 형성된다. Therefore, according to this embodiment, replaceable cover members 510 to 540 are formed to surround all sides of the fixed
도 6은 교체식 커버 부재의 구성을 설명하기 위한 도면이다. Figure 6 is a diagram for explaining the configuration of a replaceable cover member.
엔드 블록(1)에는 복수의 교체식 커버 부재(510 ~ 540)가 형성되며, 본 실시예에서는 4개의 교체식 커버 부재(510 ~ 540)가 형성된다. A plurality of replaceable cover members 510 to 540 are formed in the
도 1 및 도 6을 참조하면, 교체식 커버 부재(510 ~ 540)는, 프레임(10)의 좌우 측면에 각각 결합되는 좌방 교체식 커버 부재(510)와 우방 교체식 커버 부재(520), 및 프레임(10)의 전후 측면에 각각 결합되는 후방 교체식 커버 부재(530)와 전방 교체식 커버 부재(540)를 포함한다. Referring to Figures 1 and 6, the replaceable cover members 510 to 540 include a left replaceable cover member 510 and a right replaceable cover member 520 respectively coupled to the left and right sides of the
전방 교체식 커버 부재(540)는 고정 프레임(100)과 전방 프레임(240) 사이의 간격의 길이와 높이에 대응하는 길이와 높이를 가지고, 전방 프레임(240)의 두께에 대략 대응하는 두께를 가진다. The front replaceable cover member 540 has a length and height corresponding to the length and height of the gap between the fixed
전방 교체식 커버 부재(540)의 하단면에는 전방 프레임(240)의 상단면에 형성된 슬롯(241)에 끼워질 수 있는 돌기(542)가 형성되어 있다. The lower surface of the front replaceable cover member 540 is formed with a protrusion 542 that can be inserted into the slot 241 formed on the upper surface of the
즉, 전방 교체식 커버 부재(540)는 그에 형성된 돌기(542)가 슬롯(241)에 끼워지는 삽입식 체결부에 의해 프레임(10)에 체결된다. 따라서, 전방 교체식 커버 부재(240)는 프레임(10)의 좌측면 또는 우측면으로부터 밀어 넣어져 체결 가능하므로, 회전체(20) 등에 의해 간섭 받지 않고, 프레임(10)에 체결될 수 있다. That is, the front replaceable cover member 540 is fastened to the
본 실시예에 따르면, 슬롯(241)은 전방 프레임(240)의 상단에 형성되어 있지만, 이에 한정되지 않는다. 슬롯이 고정 부재(100)의 하단에 형성되고, 돌기가 전방 교체식 커버 부재(540)의 상단면에 형성되어 있어도 좋다, 또한, 고정 부재(100)의 하단과 전방 프레임(240)의 상단에 모두 형성되어 있어도 좋다.According to this embodiment, the slot 241 is formed at the top of the
후방 교체식 커버 부재(530)의 구조 및 체결 방식은 전방 교체식 커버 부재(540)의 구조와 실질적으로 동일하므로, 여기서 중복되는 설명은 생략한다. Since the structure and fastening method of the rear replaceable cover member 530 are substantially the same as those of the front replaceable cover member 540, overlapping descriptions will be omitted here.
좌방 교체식 커버 부재(510)는 대략 고정 프레임(100)의 하면에서 대략 몸체 프레임(220)의 하면에 이르는 높이를 가지고, 전방 프레임(240)의 외면에서 후방 프레임(230)의 외면까지 이르는 길이를 가진다. The left replaceable cover member 510 has a height approximately from the lower surface of the fixed
따라서, 좌방 교체식 커버 부재(510)는 전방 교체식 커버 부재(540) 및 후방 교체식 커버 부재(530)가 좌측 방향으로 빠져 나오는 것을 억제한다. 또한, 좌방 교체식 커버 부재(510)는 전방 측면 프레임(240) 및 후방 측면 프레임(230)과 몸체 프레임(220) 사이의 틈새를 가려서, 지지 프레임(200)의 이루는 프레임들의 틈새로 타겟 물질(T)이 침투하는 것을 최대한 억제한다. Accordingly, the left replaceable cover member 510 prevents the front replaceable cover member 540 and the rear replaceable cover member 530 from coming out in the left direction. In addition, the left replaceable cover member 510 covers the gap between the
좌방 교체식 커버 부재(510)는 몸체 프레임(220)의 좌측 판에 대해 복수의 볼트의 의해 고정된다. 다만, 이에 한정되지 않고, 좌방 교체식 커버 부재(510) 역시 슬롯과 돌기에 의한 체결 구조로 프레임(10)에 체결되어도 좋다.The left replaceable cover member 510 is fixed to the left side plate of the
우방 교체식 커버 부재(520)의 구조와 체결 방식은 전방 교체식 커버 부재(510)와 실질적으로 동일하므로, 중복되는 설명은 생략한다. 우방 교체식 커버 부재(520)는 전방 교체식 커버 부재(540) 및 후방 교체식 커버 부재(530)가 우측 방향으로 빠져 나오는 것을 억제한다.Since the structure and fastening method of the right replaceable cover member 520 are substantially the same as those of the front replaceable cover member 510, overlapping descriptions will be omitted. The right replaceable cover member 520 prevents the front replaceable cover member 540 and the rear replaceable cover member 530 from coming out in the right direction.
고정 프레임(100)과 지지 프레임(200)에 동시 접촉하는 교체식 커버 부재(510 ~ 540)에 의해서, 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200)의 전기 절연이 훼손되지 않아야 하므로, 본 실시예에 따르면, 교체식 커버 부재(510 ~ 540)에서, 적어도 고정 프레임(100) 및 지지 프레임(200)과 접촉하는 부분은 전기 절연성 재료로 형성된다. Since the electrical insulation of the fixed
다만, 교체식 커버 부재(510 ~ 540)의 수명을 증가시키고, 제조의 용이성을 위해서, 본 실시예에 따르면, 교체식 커버 부재(510 ~ 540) 역시 고정식 커버 부재(400)와 같이 전체가 전기 절연성 재료로 형성된다. However, in order to increase the lifespan of the replaceable cover members 510 to 540 and to facilitate manufacturing, according to this embodiment, the replaceable cover members 510 to 540, like the fixed
교체식 커버 부재(510 ~ 540)와 고정식 커버 부재(400)는 반드시 동일한 전기 절연성 물질로 이루어질 필요는 없지만, 서로 다른 열팽창에 의한 뒤틀림 등을 방지하기 위해서, 본 실시예에 따르면, 교체식 커버 부재(510 ~ 540)와 고정식 커버 부재(400)는 동일한 재료의 전기 절연성 재료로 형성된다. 커버 부재를 형성하는 전기 절연성 재료는 예를 들어, 울템, 테프론, PTFE 등이다.The replaceable cover members 510 to 540 and the fixed
본 실시예에 따르면, 교체식 커버 부재(510 ~ 540)가 고정식 커버 부재(400)의 사방을 감싸고 있으므로, 타겟 물질(T)이 고정식 커버 부재(400)에 증착, 나아가 프레임(10) 내부로 유입되어 증착되는 것을 방지할 수 있다. According to this embodiment, since the replaceable cover members 510 to 540 surround all sides of the fixed
또한, 교체식 커버 부재(510 ~ 540)는 볼팅 또는 삽입 등의 간단한 탈부착 작업으로, 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200)을 서로 분해하지 않고도, 프레임(10)에 대해 간단하게 교체 가능하다. 따라서, 사용이 지속되어, 교체식 커버 부재(510 ~ 540)의 외면에 타겟 물질(T)이 증착되어 교체가 필요한 경우에, 교체식 커버 부재(510 ~ 540)만을 간단하게 교체하면 되므로, 유지 보수가 매우 용이하다. 따라서, 고정식 커버 부재(400)는 거의 반영구적으로 사용할 수 있다. In addition, the replaceable cover members 510 to 540 can be simply replaced with the
본 실시예에 따르면, 4개의 교체식 커버 부재(510 ~ 540)가 구비되지만, 이에 한정되지 않는다. 4개보다 많거나 적은 수의 교체식 커버 부재가 적절한 형태로 프레임(10)에 결합될 수 있다는 것이 이해될 것이다. According to this embodiment, four replaceable cover members 510 to 540 are provided, but the present invention is not limited thereto. It will be appreciated that more or less than four replaceable cover members may be coupled to
아울러, 교체식 커버 부재는 프레임(10)의 모서리에 대응해 절곡 가능한 형태의 하나의 부재로 형성되고, 교체식 커버 부재를 프레임(10)의 외면을 따라 두루는 구성도 가능하다. 다만, 복수의 교체식 커버 부재를 형성함에 따라서, 교체가 필요한 부분에 대해서만 교체를 수행하는 효율적인 유지 보수가 가능하다.In addition, the replaceable cover member is formed as a member that can be bent in response to the edge of the
또한, 교체식 커버 부재(510 ~ 540)도 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200) 사이의 틈새를 덮고, 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200)의 전기 절연을 유지하는 기능을 수행하고 있다. 따라서, 중앙에 고정식 커버 부재(400)가 반드시 형성될 필요는 없다. 다만, 고정식 커버 부재(400)는 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200) 사이에 밀착 형성되므로, 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200)을 체결하는 볼트에 응력이 집중되는 것을 방지하여, 프레임(10)의 견고성을 높일 수 있다. 아울러, 고정식 커버 부재(400)에 의해 프레임(10)의 내부로 연장되는 각종 구성(예를 들어, 유체 공급관(31) 및 유체 배출관(32) 등)간의 전기적 절연을 효과적으로 이룰 수 있다. In addition, the replaceable cover members 510 to 540 also cover the gap between the fixed
한편, 도 6에 도시된 바와 같이, 복수의 교체식 커버 부재(510 ~ 540)의 외면에는, 고정 프레임(100)과 지지 프레임(200) 사이의 틈의 연장 방향으로 골이 연장되는 요철(511, 521, 531, 541)이 형성되어 있다. 각각의 교체식 커버 부재(510 ~ 540)에 형성된 요철의 구조 및 그 작용은 실질저으로 동일하므로, 후방 교체식 커버 부재(530)를 대표로 설명한다. Meanwhile, as shown in FIG. 6, the outer surfaces of the plurality of replaceable cover members 510 to 540 have irregularities 511 extending in the direction of the extension of the gap between the fixing
도 7은 후방 교체식 커버 부재(530)의 인근을 확대하여 도시한 것이다.Figure 7 is an enlarged view of the vicinity of the rear replaceable cover member 530.
요철(531)은 내측 방향으로 움푹하게 홈이 형성됨으로써 형성된다. 즉, 요철(531)은 프레임(10)의 외면과 대략 동일한 높이로 형성된다. The unevenness 531 is formed by forming a recessed groove in the inner direction. That is, the unevenness 531 is formed at approximately the same height as the outer surface of the
도 7에 도시된 바와 같이, 타겟 물질(T)이 후방 교체식 커버 부재(530)의 표면에 증착이 되더라도, 요철(531)의 홈 깊숙이까지는 침투하지 못할 가능성이 크다. 따라서, 도 7에 도시된 바와 같이, 증착된 타겟 물질(T)은 군데군데 끊긴 형태로 증착될 것이다. 즉, 요철(531)의 구조에 의해서, 고정 프레임(100)과 지지 프레(200)이 타겟 물질(T)에 의해 전기적으로 접속되어 버릴 가능성이 적어진다. As shown in FIG. 7 , even if the target material T is deposited on the surface of the rear replaceable cover member 530, there is a high possibility that it will not penetrate deep into the groove of the unevenness 531. Therefore, as shown in FIG. 7, the deposited target material T will be deposited in a broken form. That is, the structure of the unevenness 531 reduces the possibility that the fixing
실제 사용 시, 엔드 블록(1)을 보호하는 별도의 보호 커버(700)를 씌우지만, 본 실시예에 따르면, 교체식 커버 부재의 절연 유지 성능이 매우 우수하므로, 도 7에 도시된 바와 같이, 보호 커버(700)를 엔드 블록(1)의 프레임(10)에 정교하게 밀착하지 않아도 무방해진다. 따라서, 장치의 생산 코스트를 절감할 수 있다. In actual use, a separate protective cover 700 is placed to protect the
본 실시예에 따른 엔드 블록(1)은 벨트(2) 및 풀리 등의 구동 수단을 구비하여, 지지 대상물을 지지하여 회전시키는 것이 가능하지만, 이에 한정되지는 않는다. 스퍼터링 증착 장치에서, 타겟 튜브(600)의 타단을 고정하는 엔드 블록이 구비되며, 해당 엔드 블록은 구동 수단을 구비하지 않고, 단지 타겟 튜브(600)를 회전 가능하게 지지하고 있다. 이와 같이, 타겟 튜브(600)의 타단을 고정하는 엔드 블록에서도, 지지부와 고정부를 절연할 필요가 있고, 그 경우에도 본 발명에 따른 엔드 블록의 구조가 적용될 수 있다. 또한, 지지 대상물을 회전 가능하지 않고 고정 지지하는 경우에도 적용 가능하다. The
또한, 엔드 블록(1)이 적용되는 작업 환경은 반드시 스퍼터링 증착 작업 환경이 아니라도 좋고, 지지부와 고정부를 절연하면서, 고정부에 의해 지지 대상물을 지지하여야 할 경우 본 발명에 따른 엔드 블록이 적용될 수 있다.In addition, the work environment to which the
Claims (8)
상기 작업 환경의 소정 위치에 고정되는 고정 프레임과,
상기 고정 프레임에 전기 절연되어 체결되고, 상기 지지 대상물의 지지 구조체를 지지하는 지지 프레임과,
상기 고정 프레임 및 상기 지지 프레임 사이의 틈새를 커버하는 커버 부재를 포함하고,
상기 커버 부재는, 상기 지지 프레임과 상기 고정 프레임을 서로 분해하지 않고, 상기 지지 프레임 또는 상기 고정 프레임에 대해 탈부착 가능한 교체식 커버 부재를 포함하고,
상기 교체식 커버 부재는, 적어도 상기 지지 프레임 및 상기 고정 프레임에 접촉하는 부분이 전기 절연성 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 엔드 블록.As an end block for supporting the end of a support object in a working environment,
a fixed frame fixed to a predetermined position in the work environment;
a support frame that is electrically insulated and fastened to the fixed frame and supports the support structure of the support object;
It includes a cover member that covers the gap between the fixed frame and the support frame,
The cover member includes a replaceable cover member that is attachable and detachable to the support frame or the fixed frame without disassembling the support frame and the fixed frame,
An end block, wherein the replaceable cover member has at least a portion in contact with the support frame and the fixing frame made of an electrically insulating material.
상기 커버 부재는, 상기 지지 프레임 및 상기 고정 프레임의 사이에서, 상기 고정 프레임의 하면과 상기 지지 프레임의 상면에 밀착하는 고정식 커버 부재를 포함하고,
상기 교체식 커버 부재가 상기 고정식 커버 부재의 사방의 측면을 둘러싸도록 배치되는 것을 특징으로 하는 엔드 블록.According to paragraph 1,
The cover member includes a fixed cover member between the support frame and the fixed frame and in close contact with a lower surface of the fixed frame and an upper surface of the support frame,
An end block, wherein the replaceable cover member is arranged to surround all sides of the fixed cover member.
상기 교체식 커버 부재 및 상기 고정식 커버 부재는, 전체가 전기 절연성 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 엔드 블록.According to paragraph 2,
An end block, wherein the replaceable cover member and the fixed cover member are entirely made of an electrically insulating material.
상기 교체식 커버 부재 및 상기 고정식 커버 부재는 동일한 재질의 전기 절연성 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 엔드 블록.According to paragraph 3,
An end block, wherein the replaceable cover member and the fixed cover member are made of the same electrically insulating material.
상기 교체식 커버 부재의 외면에는, 상기 지지 프레임 및 상기 고정 프레임 사이의 틈의 연장 방향으로 골이 연장되는 요철이 형성된 것을 특징으로 하는 엔드 블록.According to paragraph 1,
An end block, characterized in that the outer surface of the replaceable cover member is formed with irregularities extending in the direction of the extension of the gap between the support frame and the fixing frame.
복수의 교체식 커버 부재를 구비하고,
복수의 상기 교체식 커버 부재 중 일부는, 상기 지지 프레임와 상기 고정 프레임 중 적어도 하나에 형성된 슬롯에 끼워지는 돌기를 구비하는 것을 특징으로 하는 엔드 블록.According to paragraph 1,
Provided with a plurality of replaceable cover members,
An end block, wherein some of the plurality of replaceable cover members have a protrusion fitted into a slot formed in at least one of the support frame and the fixing frame.
복수의 교체식 커버 부재를 구비하고,
복수의 상기 교체식 커버 부재 중 일부는, 상기 지지 프레임을 형성하는 복수의 프레임 부재끼리의 연결부 중 적어도 일부를 가리도록 형성되는 것을 특징으로 하는 엔드 블록.According to paragraph 1,
Provided with a plurality of replaceable cover members,
An end block, wherein some of the plurality of replaceable cover members are formed to cover at least a portion of connection portions between the plurality of frame members forming the support frame.
상기 지지 대상물은, 스퍼터링 증착을 위한 타겟 물질이 원통 튜브에 배치된 타겟 튜브이고,
상기 엔드 블록은 상기 타겟 튜브를 회전 가능하게 지지하는 것을 특징으로 하는 엔드 블록.According to paragraph 1,
The support object is a target tube in which a target material for sputtering deposition is placed in the cylindrical tube,
The end block is characterized in that the end block rotatably supports the target tube.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020220069459A KR102672810B1 (en) | 2022-06-08 | 2022-06-08 | End block for supporting an end of object |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020220069459A KR102672810B1 (en) | 2022-06-08 | 2022-06-08 | End block for supporting an end of object |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20230168774A true KR20230168774A (en) | 2023-12-15 |
KR102672810B1 KR102672810B1 (en) | 2024-06-25 |
Family
ID=89125093
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020220069459A KR102672810B1 (en) | 2022-06-08 | 2022-06-08 | End block for supporting an end of object |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102672810B1 (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101298768B1 (en) | 2011-03-29 | 2013-08-21 | (주)에스엔텍 | Cylindrical sputtering cathode device |
KR20160114839A (en) * | 2015-03-25 | 2016-10-06 | 주식회사 에스에프에이 | Apparatus to sputter |
KR102036059B1 (en) * | 2018-05-15 | 2019-10-24 | 엘에스통신 주식회사 | Terminal assembly |
-
2022
- 2022-06-08 KR KR1020220069459A patent/KR102672810B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101298768B1 (en) | 2011-03-29 | 2013-08-21 | (주)에스엔텍 | Cylindrical sputtering cathode device |
KR20160114839A (en) * | 2015-03-25 | 2016-10-06 | 주식회사 에스에프에이 | Apparatus to sputter |
KR102036059B1 (en) * | 2018-05-15 | 2019-10-24 | 엘에스통신 주식회사 | Terminal assembly |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102672810B1 (en) | 2024-06-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101358820B1 (en) | Flat end-block for carrying a rotatable sputtering target | |
US6287435B1 (en) | Method and apparatus for ionized physical vapor deposition | |
TWI557251B (en) | Cooling ring for physical vapor deposition chamber target, target assembly for use in a physical vapor deposition system, and method of processing a substrate in a physical vapor deposition chamber | |
JP5004942B2 (en) | Single right angle end block | |
KR101833144B1 (en) | Rotary-type plasma head for treatment of organic or inorganic substance | |
US20120097526A1 (en) | Rotary magnetron | |
KR102354877B1 (en) | Sputtering apparatus and method of using the same | |
JP2007191728A (en) | Vacuum processing device | |
KR102672810B1 (en) | End block for supporting an end of object | |
KR101385589B1 (en) | Apparatus to sputter | |
KR20120137801A (en) | Sputtering source and sputtering apparatus including the same | |
TWI713449B (en) | Shielding device for rotatable cathode and rotatable target and method for shielding a dark space region in a deposition apparatus | |
KR20130136856A (en) | Sputtering source and cylindrical sputtering apparatus including the same | |
KR20130136858A (en) | Sputtering apparatus | |
KR101800202B1 (en) | plasma deposition apparatus | |
TW201617469A (en) | Target arrangement, processing apparatus with target arrangement and method for manufacturing a tagret arrangement | |
JP4986350B2 (en) | Magnetron unit of sputtering apparatus and sputtering apparatus | |
KR101267366B1 (en) | Helium module of plasma processing apparatus | |
KR101800199B1 (en) | plasma deposition apparatus having a plurality Cathode electrode | |
KR20220162478A (en) | Coupling assembly for coupling subceptor, and substrate processing equipment having the same | |
KR20070097767A (en) | Shower electrode assembly and plasma processing apparatus | |
KR19980066357A (en) | Spindle Shaft Structure of Plasma CVD System | |
JPH1136068A (en) | Cathode magnet mounting structure for sputtering | |
KR20170076319A (en) | driving means of electrode case for plasma deposition apparatus | |
KR20180039384A (en) | Plasma treatment apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E701 | Decision to grant or registration of patent right |