KR20230155868A - Chemical Supply Unit and Central Chemical Supply System Including the Same - Google Patents

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KR20230155868A
KR20230155868A KR1020220055646A KR20220055646A KR20230155868A KR 20230155868 A KR20230155868 A KR 20230155868A KR 1020220055646 A KR1020220055646 A KR 1020220055646A KR 20220055646 A KR20220055646 A KR 20220055646A KR 20230155868 A KR20230155868 A KR 20230155868A
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Abstract

본 발명은 케미컬 공급 유닛 및 이를 포함하는 중앙 케미컬 공급 시스템(Central Chemical Supply System)에 관한 것으로서, 일 실시형태에 따른 케미컬 공급 유닛은, 외부 또는 저장 탱크로부터 공급되는 케미컬을 받아들여, 필요로 하는 사용처로 공급하는 케미컬 공급 유닛으로서, 내부에 배관이 배치되는 내부 공간을 한정하고, 천정에는 배기 라인에 연통되는 배기구가 마련된 부스; 및 배기구에 설치되어 배기구를 개폐하는 배기 댐퍼를 포함하고, 상기 배기 댐퍼는 자동으로 개폐조작이 가능한 전동 배기 댐퍼인 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 배기 댐퍼의 개폐 조작을 편리하고 안전하게 할 수 있으며, 원활하고 안정적인 배기가 가능한 케미컬 공급 유닛 및 중앙 케미컬 공급 시스템을 제공할 수 있다.The present invention relates to a chemical supply unit and a central chemical supply system including the same. The chemical supply unit according to one embodiment receives chemicals supplied from the outside or a storage tank and supplies them to the user where they are needed. A chemical supply unit supplying a booth, which defines an internal space in which pipes are placed, and has an exhaust port connected to an exhaust line on the ceiling; and an exhaust damper installed in the exhaust port to open and close the exhaust port, wherein the exhaust damper is an electric exhaust damper that can be automatically opened and closed. According to the present invention, the opening and closing operation of the exhaust damper can be conveniently and safely performed, and a chemical supply unit and a central chemical supply system capable of smooth and stable exhaust can be provided.

Description

케미컬 공급 유닛 및 이를 포함하는 중앙 케미컬 공급 시스템{Chemical Supply Unit and Central Chemical Supply System Including the Same}Chemical supply unit and central chemical supply system including the same {Chemical Supply Unit and Central Chemical Supply System Including the Same}

본 발명은 케미컬 공급 유닛 및 이를 포함하는 중앙 케미컬 공급 시스템 (Central Chemical Supply System)에 관한 것으로, 특히 케미컬 공급 유닛의 배기 구조에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical supply unit and a central chemical supply system including the same, and particularly to an exhaust structure of the chemical supply unit.

다종 다량의 케미컬을 사용하는 반도체 공장이나 화학 공장 등에서는, 원하는 케미컬을 필요로 하는 공정 라인 등으로 공급하고, 폐액을 회수하기 위한 중앙 케미컬 공급 시스템(이하, 간단히 CCSS라 한다)가 마련되어 있다. 이러한 CCSS에는 배관, 밸브, 피팅, 필터, 펌프 등의 일반적인 배관 설비 이외에도, 저장 탱크, 케미컬을 원하는 농도로 희석하거나 다른 케미컬과 혼합하는 혼합기, 탱크로리로 운반되어 온 케미컬을 저장 탱크로 이송하기 위한 호스 연결 시스템인 ACQC(Auto Clean Quick Coupler) 유닛, 드럼에 저장된 케미컬을 저장 탱크로 이송하기 위한 드럼 커플러, 공급되는 케미컬을 채취하여 검사하기 위한 샘플링 장비 등 다양한 설비가 포함된다.In semiconductor factories or chemical factories that use large amounts of various chemicals, a central chemical supply system (hereinafter simply referred to as CCSS) is provided to supply desired chemicals to process lines that require them and to recover waste liquid. In addition to general piping equipment such as piping, valves, fittings, filters, and pumps, these CCSS include storage tanks, mixers that dilute chemicals to the desired concentration or mix them with other chemicals, and hoses that transport chemicals transported in tank trucks to storage tanks. It includes various facilities such as the ACQC (Auto Clean Quick Coupler) unit, which is a connection system, a drum coupler for transferring chemicals stored in drums to a storage tank, and sampling equipment for collecting and inspecting supplied chemicals.

여기서, 케미컬이란, 각종 산이나 알칼리성 용액, 초순수 등을 포함하는 액체 상태의 것을 주로 의미하지만, 액체에 고체 입자가 분산된 슬러리나 페이스트 상태의 것, 나아가 질소, 산소, 공기 등의 기체 상태의 것도 포함하여, 배관을 통해 흐를 수 있는 유체를 포함하는 개념이다.Here, chemicals mainly mean things in a liquid state, including various acids, alkaline solutions, ultrapure water, etc., but also things in a slurry or paste state with solid particles dispersed in liquid, and also things in a gaseous state such as nitrogen, oxygen, and air. It is a concept that includes fluids that can flow through pipes.

한편, 대규모의 공장에 마련되는 CCSS는 케미컬의 종류에 따라, 또는 공정 라인에 따라 유닛화 또는 모듈화되어 되어 있는 경우가 많다. 이렇게 CCSS를 유닛화함으로써 공정 라인의 증설이나 변경에 유연하고 신속하게 대처할 수 있다.Meanwhile, CCSS installed in large-scale factories are often unitized or modularized according to the type of chemical or processing line. By unitizing the CCSS in this way, it is possible to respond flexibly and quickly to expansion or changes in the process line.

일반적으로, 유닛화된 CCSS 유닛은 부스 형태로 이루어진다. 구체적으로, 일반적인 CCSS 유닛은 대략 직육면체 형상의 부스로 이루어지고, 부스 내부는 격벽에 의해 몇 개의 영역으로 분할된다.Typically, unitized CCSS units are in the form of a booth. Specifically, a typical CCSS unit consists of a roughly rectangular-shaped booth, and the interior of the booth is divided into several areas by partition walls.

한편, 이러한 부스 내부, 특히 부스 내외부로 케미컬을 주고받는 배관, 피팅, 밸브 등이 복잡하게 배치되는 배관 영역에는 배관의 연결 부위 등에서 새어나오는 케미컬 퓸(fume)이 존재할 수 있다. 이에 부스에 배기구를 형성하고 개폐가능한 배기 댐퍼를 개재하여 부스 내부와 공장 내 배기 라인을 연통하고, 배기 펌프를 이용하여 부스 내부를 배기하도록 구성하기도 한다. 이러한 배기 시스템을 마련함으로써 부스 내부의 발생할 수 있는 케미컬 퓸을 배기하고, 부스 내부를 적정한 음압 상태로 만들어 케미컬 퓸이 부스 밖으로 유출되지 않도록 할 수 있다.Meanwhile, inside such a booth, especially in the piping area where piping, fittings, valves, etc. that exchange chemicals between the inside and outside of the booth are complexly arranged, there may be chemical fume leaking from connection parts of the pipes. Accordingly, an exhaust port is formed in the booth, an exhaust damper that can be opened and closed is used to communicate the exhaust line inside the booth and the factory, and an exhaust pump is used to exhaust the inside of the booth. By providing such an exhaust system, it is possible to exhaust chemical fumes that may be generated inside the booth and create an appropriate negative pressure inside the booth to prevent chemical fumes from leaking out of the booth.

그런데, 배기 댐퍼는 통상적으로 부스 천정에 설치되기 때문에, 배기 댐퍼의 개폐 조작이나 개폐량의 조절을 위해서는 상당한 높이(예컨대 2m 이상의 높이)의 부스 위로 올라가 고소 작업을 해야 하는 불편함과 안전상의 문제가 있다.However, since the exhaust damper is usually installed on the ceiling of the booth, in order to open and close the exhaust damper or adjust the opening and closing amount, it is inconvenient and a safety issue to have to climb up a booth at a considerable height (e.g., more than 2 m high) and work at height. there is.

본 발명은 이러한 실정을 감안하여 이루어진 것으로서, 배기 댐퍼의 개폐 조작을 위한 불편함과 안전상의 문제가 해결되고, 원활하고 안정적인 배기가 가능한 케미컬 공급 유닛(CCSS 유닛) 및 중앙 케미컬 공급 시스템(CCSS)을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention was made in consideration of this situation, and solves the inconvenience and safety problems of opening and closing the exhaust damper, and provides a chemical supply unit (CCSS unit) and a central chemical supply system (CCSS) that enable smooth and stable exhaust. The purpose is to provide

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따른 케미컬 공급 유닛은, 외부 또는 저장 탱크로부터 공급되는 케미컬을 받아들여, 필요로 하는 사용처로 공급하는 케미컬 공급 유닛으로서, 내부에 배관이 배치되는 내부 공간을 한정하고, 천정에는 배기 라인에 연통되는 배기구가 마련된 부스; 및 상기 배기구에 설치되어 상기 배기구를 개폐하는 배기 댐퍼를 포함하고, 상기 배기 댐퍼는 자동으로 개폐조작이 가능한 전동 배기 댐퍼인 것을 특징으로 한다.The chemical supply unit according to one aspect of the present invention for achieving the above object is a chemical supply unit that receives chemicals supplied from the outside or from a storage tank and supplies them to the required user, and has an internal piping installed inside. A booth with limited space and an exhaust port connected to an exhaust line on the ceiling; and an exhaust damper installed in the exhaust port to open and close the exhaust port, wherein the exhaust damper is an electric exhaust damper that can be automatically opened and closed.

여기서, 상기 배기 댐퍼는 개도 조절이 가능할 수 있다.Here, the opening degree of the exhaust damper may be adjustable.

실시예에 따르면, 상기 케미컬 공급 유닛은, 상기 부스 내의 배관을 경유하여 외부 또는 저장 탱크로부터 케미컬을 공급받아 저장하고, 상기 부스 내의 배관을 경유하여 상기 사용처로 케미컬을 공급하도록 구성된 공급 탱크를 더 포함하고, 상기 배기구는 상기 부스 내부 공간의 공기를 배기하는 제1 배기구, 및 상기 공급 탱크 내부의 기체를 배기하는 제2 배기구를 포함하며, 상기 제2 배기구 및 제2 배기 댐퍼를 경유하는 상기 공급 탱크 내부의 기체의 배기 경로는 상기 제1 배기구 및 제1 배기 댐퍼를 경유하는 상기 부스 내부 공간의 배기 경로와 독립되어, 두 배기 경로를 통해 배기되는 기체는 상기 부스 내부에서 서로 섞이지 않도록 구성된다.According to an embodiment, the chemical supply unit further includes a supply tank configured to receive and store chemicals from an external or storage tank via piping within the booth, and to supply the chemical to the user via piping within the booth. And, the exhaust port includes a first exhaust port for exhausting air in the interior space of the booth, and a second exhaust port for exhausting gas inside the supply tank, and the supply tank passes through the second exhaust port and the second exhaust damper. The exhaust path of the internal gas is independent of the exhaust path of the interior space of the booth via the first exhaust port and the first exhaust damper, so that the gases exhausted through the two exhaust paths do not mix with each other inside the booth.

이 경우, 상기 공급 탱크는 고압의 불활성 기체의 압력에 의해 케미컬을 압송하는 방식으로 케미컬을 상기 사용처로 공급하도록 구성될 수 있고, 상기 제2 배기구 및 제2 배기 댐퍼를 경유하여 배기되는 기체에는 상기 공급 탱크에 충전된 상기 불활성 기체가 포함될 수 있다. In this case, the supply tank may be configured to supply the chemical to the place of use by pumping the chemical through the pressure of a high-pressure inert gas, and the gas exhausted through the second exhaust port and the second exhaust damper includes the chemical. The inert gas charged in the supply tank may be included.

한편, 상기 부스의 내외부는 외벽 및/또는 도어에 의해 차단되고, 상기 외벽 및/또는 도어에는 공기가 통과가능한 통기구가 형성될 수 있다. 이 경우, 상기 통기구에는 공기 중의 먼지 또는 이물질을 거르는 필터가 장착될 수 있다.Meanwhile, the inside and outside of the booth are blocked by an outer wall and/or a door, and a vent through which air can pass may be formed in the outer wall and/or the door. In this case, the vent may be equipped with a filter that filters out dust or foreign substances in the air.

또한, 실시예에 따르면, 케미컬 공급 유닛은, 상기 부스 내부 공간에 설치되어 케미컬 퓸을 감지하는 센서; 및 상기 센서 및 상기 배기 댐퍼와 동작가능하게 연결된 제어부를 더 구비하고, 상기 제어부는, 상기 센서에 의해 상기 부스 내부 공간에 케미컬 퓸이 감지된 경우, 상기 배기 댐퍼를 개방하여 상기 부스 내부 공간의 배기를 실행하도록 구성될 수 있다.In addition, according to an embodiment, the chemical supply unit includes a sensor installed in the interior space of the booth to detect chemical fume; and a control unit operably connected to the sensor and the exhaust damper, wherein when chemical fume is detected in the booth interior space by the sensor, the control unit opens the exhaust damper to exhaust the booth interior space. Can be configured to run.

또한, 이 경우, 상기 부스의 외벽에는 작업자가 상기 부스에 출입가능하도록 개폐되며, 도어락이 구비된 도어가 마련되고, 상기 제어부는 상기 도어락과도 동작가능하게 연결되며, 상기 제어부는, 상기 센서에 의해 상기 부스 내부 공간에 케미컬 퓸이 감지된 경우, 상기 배기 댐퍼를 개방하여 상기 내부 공간을 배기한 다음, 상기 센서에 의해 감지되는 상기 케미컬 퓸이 기준치 이하가 되면, 상기 도어락을 해제하도록 구성될 수 있다.In addition, in this case, the outer wall of the booth is provided with a door that is opened and closed so that workers can enter and exit the booth, and is equipped with a door lock, the control unit is operably connected to the door lock, and the control unit is connected to the sensor. When chemical fume is detected in the interior space of the booth, the exhaust damper is opened to exhaust the interior space, and then, when the chemical fume detected by the sensor falls below a standard value, the door lock can be configured to unlock. there is.

또한, 본 발명의 다른 측면에 따른 중앙 케미컬 공급 시스템은, 전술한 어느 하나의 케미컬 공급 유닛을 복수개 설치하여 이루어진다. 이때, 상기 배기 라인은 상기 복수개의 케미컬 공급 유닛의 각각의 배기구와 연통되는 공통의 배기 라인이며, 상기 공통의 배기 라인에는 공통의 배기 펌프가 설치된다.In addition, the central chemical supply system according to another aspect of the present invention is achieved by installing a plurality of any of the above-described chemical supply units. At this time, the exhaust line is a common exhaust line that communicates with each exhaust port of the plurality of chemical supply units, and a common exhaust pump is installed in the common exhaust line.

본 발명에 의하면, 배기 댐퍼의 개폐 조작을 편리하고 안전하게 할 수 있으며, 원활하고 안정적인 배기가 가능한 케미컬 공급 유닛 및 중앙 케미컬 공급 시스템을 제공할 수 있다.According to the present invention, the opening and closing operation of the exhaust damper can be conveniently and safely performed, and a chemical supply unit and a central chemical supply system capable of smooth and stable exhaust can be provided.

또한, 실시예에 의하면, 상대적으로 고농도의 케미컬 퓸이 함유된 기체가 내부 구성요소를 오염시키거나 부식시키는 등의 부작용 없이 운영할 수 있는 케미컬 공급 유닛 및 중앙 케미컬 공급 시스템을 제공할 수 있다.In addition, according to the embodiment, a chemical supply unit and a central chemical supply system that can be operated without side effects such as contaminating or corroding internal components of a gas containing a relatively high concentration of chemical fume can be provided.

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 후술되는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 CCSS 유닛을 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 CCSS 유닛의 내부 구성을 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 3은 도 1에 도시된 CCSS 유닛의 배기 댐퍼를 개략적으로 도시한 사시도로서, (a)는 닫힌 상태를 (b)는 절반쯤 열린 상태를 나타낸다.
도 4는 본 발명의 실시예(a)와 비교예(b)에 따른 배기 댐퍼에 의한 배기 유동 해석 결과를 도시한 도면이다.
도 5는 도 1에 도시된 CCSS 유닛의 내부 구성을 도 2와는 다른 방향에서 바라본 절개 사시도이다.
도 6은 도 1에 도시된 CCSS 유닛에서 제2 배기 댐퍼와 관련된 배관의 연결관계를 개략적으로 도시한 배관도이다.
The following drawings attached to this specification illustrate preferred embodiments of the present invention, and serve to further understand the technical idea of the present invention together with the detailed description of the invention described later, so the present invention includes the matters described in such drawings. It should not be interpreted as limited to only .
Figure 1 is a perspective view schematically showing a CCSS unit according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view schematically showing the internal configuration of the CCSS unit shown in FIG. 1.
Figure 3 is a perspective view schematically showing the exhaust damper of the CCSS unit shown in Figure 1, where (a) shows a closed state and (b) shows a half-open state.
Figure 4 is a diagram showing the results of exhaust flow analysis by an exhaust damper according to Example (a) and Comparative Example (b) of the present invention.
FIG. 5 is a cut-away perspective view of the internal configuration of the CCSS unit shown in FIG. 1 viewed from a different direction than that of FIG. 2.
FIG. 6 is a piping diagram schematically showing the connection relationship of piping related to the second exhaust damper in the CCSS unit shown in FIG. 1.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 상세히 설명하기로 한다. 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과하고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings. Terms or words used in this specification and claims should not be construed as limited to their common or dictionary meanings, and the inventor may appropriately define the concept of terms in order to explain his or her invention in the best way. It must be interpreted with meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that it is. Therefore, the embodiments described in this specification and the configurations shown in the drawings are only one of the most preferred embodiments of the present invention and do not represent the entire technical idea of the present invention, so at the time of filing the present application, various alternatives may be used to replace them. It should be understood that equivalents and variations may exist.

도면에서 각 구성요소 또는 그 구성요소를 이루는 특정 부분의 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 따라서, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그러한 설명은 생략하도록 한다.In the drawings, the size of each component or specific part constituting the component is exaggerated, omitted, or schematically shown for convenience and clarity of explanation. Therefore, the size of each component does not entirely reflect the actual size. If it is determined that specific descriptions of related known functions or configurations may unnecessarily obscure the gist of the present invention, such descriptions will be omitted.

본 명세서에서 사용되는 '결합', '장착', '고정' 또는 '연결'이라는 용어는, 하나의 부재와 다른 부재가 직접 결합, 장착, 고정 또는 연결되는 경우뿐만 아니라 하나의 부재가 중간 부재를 개재하여 다른 부재에 간접적으로 결합, 장착, 고정 또는 연결되는 경우도 포함한다.As used herein, the terms 'coupled', 'mounted', 'fixed' or 'connected' refer to cases where one member is directly coupled, mounted, fixed or connected to another member, as well as when one member connects an intermediate member. It also includes cases where it is indirectly coupled, mounted, fixed, or connected to another member.

또한, 본 명세서에서는 상, 하, 좌, 우, 전, 후 등과 같이 방향을 나타내는 용어를 사용하나, 이러한 방향은 사물이 놓여진 방향과 관찰 방향에 따라 달라질 수 있다. 다만, 이하의 설명에서는 편의상 도 1 및 도 2의 화살표 A 방향에서 바라본 것을 전방(정면)으로 하여 설명한다.Additionally, in this specification, terms indicating direction such as up, down, left, right, front, back, etc. are used, but these directions may vary depending on the direction in which the object is placed and the direction of observation. However, in the following description, for convenience, the view from the direction of arrow A in FIGS. 1 and 2 will be described as the front (front).

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 CCSS 유닛을 개략적으로 도시한 사시도이고, 도 2는 부스의 외벽과 천정을 생략하고 그 내부 구성과 배기 댐퍼를 개략적으로 도시한 사시도이다.Figure 1 is a perspective view schematically showing a CCSS unit according to an embodiment of the present invention, and Figure 2 is a perspective view schematically showing the internal structure and exhaust damper, omitting the outer wall and ceiling of the booth.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 실시예에 따른 케미컬 공급 유닛(CCSS 유닛)(1)은 외부 또는 저장 탱크(도시 생략)로부터 공급되는 케미컬을 받아들여, 이를 필요로 하는 사용처(Point of Use)로 공급하는 CCSS 유닛이다. CCSS 유닛(1)은 외부로부터 공급되는 케미컬을 사용처로 단지 중계(전송)하는 역할만 할 수도 있으나, 통상 외부로부터 공급되는 케미컬에 혼합, 희석, 필터링 처리 등의 사전처리를 한 후 사용처로 공급하도록 구성된다.Referring to Figures 1 and 2, the chemical supply unit (CCSS unit) 1 according to this embodiment receives chemicals supplied from the outside or a storage tank (not shown) and supplies them to a point of use (Point of Use) that requires them. ) is a CCSS unit supplied. The CCSS unit (1) may only serve to relay (transmit) chemicals supplied from outside to the point of use, but usually supplies them to the point of use after pre-processing the chemicals supplied from outside, such as mixing, dilution, and filtering. It is composed.

CCSS 유닛(1)은 부스(10) 형태로 이루어진다. 부스(10)는 그 내부에 배관(30) 등이 배치되는 내부 공간을 한정한다. 부스(10)는 프레임(11), 외벽(12) 및/또는 도어(14)을 포함하여 대략 직육면체의 형태를 가질 수 있고, 부스(10)의 내외부는 외벽(12) 및/또는 도어(14)에 의해 차단될 수 있다. 또한, 외벽(12) 및/또는 도어(14)에는 공기가 통과가능한 통기구(15)가 형성될 수 있으며, 이 경우 통기구(15)에는 공기 중의 먼지 또는 이물질을 거르는 필터가 장착될 수 있다.The CCSS unit (1) is in the form of a booth (10). The booth 10 defines an internal space in which the pipes 30 and the like are placed. The booth 10 may have a substantially rectangular shape including a frame 11, an outer wall 12, and/or a door 14, and the inside and outside of the booth 10 includes an outer wall 12 and/or a door 14. ) can be blocked. Additionally, a vent 15 through which air can pass may be formed in the outer wall 12 and/or the door 14. In this case, a filter that filters out dust or foreign substances in the air may be installed in the vent 15.

또한, 부스(10)에는 배기구(16)가 마련되고, 이 배기구(16)는 공장의 배기 라인(도시 생략)에 연통되어 부스(10) 내부 공간의 공기를 배기할 수 있다. 구체적으로, 본 실시예에서 배기구(16)는 부스(10)의 천정에 마련될 수 있으며, 하나 또는 복수개, 본 실시예에서는 두 개(16a, 16b)가 마련될 수 있다.In addition, the booth 10 is provided with an exhaust port 16, and this exhaust port 16 is connected to the factory exhaust line (not shown) to exhaust the air in the interior space of the booth 10. Specifically, in this embodiment, the exhaust port 16 may be provided on the ceiling of the booth 10, and one or more exhaust ports 16 may be provided, and in this embodiment, two exhaust ports 16a and 16b may be provided.

또한, 배기구(16)에는 배기구(16)를 개폐하는 배기 댐퍼(40)가 설치되어 배기구(16)는 배기 댐퍼(40)를 개재하여 배기 라인에 연통될 수 있다. 배기 댐퍼(40)는, 특히 본 실시예와 같이 작업자가 접근하기 어려운 부스(10) 상부에 설치되는 경우, 자동으로 개폐조작이 가능한 전동 배기 댐퍼로 이루어지는 것이 바람직하며, 배기량의 조절이 가능하도록 개도(개방 정도)를 조절할 수 있는 것이 더 바람직하다. 본 실시예에 적용되는 배기 댐퍼(40)에 대해 상세히는 후술한다.In addition, an exhaust damper 40 is installed in the exhaust port 16 to open and close the exhaust port 16, so that the exhaust port 16 can communicate with the exhaust line through the exhaust damper 40. The exhaust damper 40, especially when installed at the top of the booth 10, which is difficult for workers to access, as in this embodiment, is preferably made of an electric exhaust damper that can be automatically opened and closed, and can be opened so that the exhaust amount can be adjusted. It is more desirable to be able to adjust the (degree of opening). The exhaust damper 40 applied to this embodiment will be described in detail later.

한편, 부스(10)의 내부 공간은 몇 개의 영역(20)으로 분할되어 각 영역(20)에는 배관(30) 및/또는 케미컬에 대해 소정의 처리를 하고 공급하는 데에 필요한 설비가 배치된다. 이때 영역(20)들은 격벽(13)에 의해 물리적으로 격리될 수도 있고 격벽 없이 단지 공간적으로(개념적으로) 분할될 수도 있다. 영역(20)은 전형적으로 배관 영역(21), 필터 영역(22), 공압 영역(23), 전기 영역(24) 등을 포함할 수 있다.Meanwhile, the internal space of the booth 10 is divided into several areas 20, and equipment necessary to process and supply the pipe 30 and/or chemicals is placed in each area 20. At this time, the areas 20 may be physically isolated by the partition wall 13 or may be simply spatially (conceptually) divided without the partition wall. Zone 20 may typically include a piping zone 21, a filter zone 22, a pneumatic zone 23, an electrical zone 24, etc.

배관 영역(21)은 CCSS 유닛(1)의 핵심적인 영역으로서 다른 영역에 비해 넓고 크게 할당되며 부스(10)의 중앙에 할당될 수 있다. 배관 영역(21)에는 저장 탱크나 외부로부터 공급되는 케미컬을 받아들이고 케미컬을 사용처로 내보내기 위한 배관(30)과 밸브(31) 등이 배치된다.The piping area 21 is a core area of the CCSS unit 1 and is allocated wider and larger than other areas and can be allocated to the center of the booth 10. In the piping area 21, a piping 30 and a valve 31 are disposed to receive chemicals supplied from a storage tank or from outside and to export the chemicals to the point of use.

필터 영역(22)은 부스(10)의 외부나 저장 탱크로부터 배관 영역(21)을 경유하여 공급되는 케미컬에 포함된 불순물이나 규정 크기 이상의 입자를 걸러내는 하나 이상의 필터(F)가 배치되는 영역으로서, 배관 영역(21)에 인접하여 부스(10)의 일측면(본 실시예에서는 좌측)에 할당될 수 있다.The filter area 22 is an area where one or more filters F are placed to filter out impurities contained in chemicals supplied from the outside of the booth 10 or from the storage tank via the piping area 21 or particles of a specified size or larger. , may be assigned to one side (left side in this embodiment) of the booth 10 adjacent to the piping area 21.

공압 영역(23)은 고압의 불활성 기체(예컨대, 질소)나 공기, 청정 건조 공기(CDA; Clean Dry Air) 등 기체를 외부로부터 받아들여 필요한 설비로 공급/차단하기 위한 컴프레서, 밸브, 배관 등의 요소들이 배치되는 영역으로서, 배관 영역(21)에 인접하여(본 실시예에서는 부스(10)의 전방 우측 하부에) 할당될 수 있다. 고압의 불활성 기체나 공기는, 후술하는 바와 같이 탱크에 저장된 케미컬을 기체압에 의해 밀어내는 방식으로 케미컬을 이송하는 데에 사용될 수 있다. 또한, 청정 건조 공기는 배관 등의 내부를 초순수로 세정한 다음 건조하는 데에 사용될 수 있고, 부스(10) 내부 공간으로 불어넣어져 내부 공간의 공기나 케미컬 퓸과 함께 배기될 수 있다.The pneumatic area 23 is equipped with compressors, valves, piping, etc. to receive gases such as high-pressure inert gas (e.g., nitrogen), air, and clean dry air (CDA) from the outside and supply/block them to necessary facilities. As an area where elements are arranged, it can be allocated adjacent to the piping area 21 (in this embodiment, in the lower front right corner of the booth 10). High-pressure inert gas or air can be used to transport chemicals by pushing the chemicals stored in the tank by gas pressure, as will be described later. In addition, clean dry air can be used to clean the inside of pipes, etc. with ultra-pure water and then dry it, and can be blown into the interior space of the booth 10 and exhausted together with the air or chemical fume in the interior space.

전기 영역(24)은 컴프레서나 전자 밸브, 센서 등 부스(10) 내부의 전력에 의해 구동되는 요소들에 전력을 공급/차단하기 위한 배전반, 각종 스위치, 나아가 CCSS 유닛(1)의 전체 동작을 제어하는 제어부를 포함하는 회로기판(도시 생략), 조작 패널(29) 등이 배치되는 영역으로서, 부스(10)의 일측면(본 실시예에서는 공압 영역(23)의 상부)에 할당될 수 있다.The electrical area 24 controls the distribution board for supplying/blocking power to elements driven by power inside the booth 10, such as compressors, electromagnetic valves, and sensors, various switches, and even the overall operation of the CCSS unit 1. This is an area where a circuit board (not shown) including a control unit, an operation panel 29, etc. are placed, and may be allocated to one side of the booth 10 (in this embodiment, the upper part of the pneumatic area 23).

또한, CCSS 유닛(1)의 특별한 사양이나 요구 조건, 케미컬에 따라서는, 전술한 요소들 이외의 요소가 배치될 수 있고, 필요하다면 전술한 영역들(21~24) 이외의 추가적인 영역(25)이 할당될 수 있다. 이러한 추가적인 영역에는, 예컨대, CCSS 유닛(1)이 취급하는 케미컬이 슬러리인 경우 슬러리에 포함된 규정 크기 이상의 입자를 관리하기 위한 파티클 카운터(도시 생략)나, 전자 밸브들이 배치될 수 있다. 물론, 이러한 추가 영역(25)은 선택적인 것으로서 불필요한 경우에는 생략될 수 있다.In addition, depending on the special specifications, requirements, or chemistry of the CCSS unit 1, elements other than the above-mentioned elements may be arranged, and if necessary, additional areas 25 other than the above-mentioned areas 21 to 24. This can be assigned. In this additional area, for example, when the chemical handled by the CCSS unit 1 is slurry, particle counters (not shown) or electronic valves may be placed to manage particles of a specified size or larger contained in the slurry. Of course, this additional area 25 is optional and may be omitted if unnecessary.

또한, 이들 영역(21~25)에는 각 영역에 배치된 배관(30) 등 설비를 유지보수하기 위해 작업자가 접근할 수 있도록 개폐되는 도어(14)가 설치될 수 있다. 특히, 배관 영역(21)에 설치된 도어(14)는 작업자가 부스(10) 내부로 출입가능하도록 상대적으로 크게 형성되며, 도어(14)에는 도어락이 구비될 수 있다.Additionally, doors 14 that can be opened and closed to allow workers access to maintain facilities such as the pipes 30 arranged in each area may be installed in these areas 21 to 25. In particular, the door 14 installed in the piping area 21 is relatively large to allow workers to enter and exit the booth 10, and the door 14 may be provided with a door lock.

한편, 본 실시예의 CCSS 유닛에 적용되는 배기 댐퍼(40)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 구동 모터(41)에 의해 조리개(42)가 개폐되는 전동 배기 댐퍼로 구현될 수 있다. 특히, 구동 모터(41)는 서보 모터일 수 있고, 조리개(42)의 개도를 전부 닫힌 상태(도 3의 (a))와 전부 열린 상태(도시 생략) 사이에서 임의로 조절가능하다(도 3의 (b)는 절반쯤 열린 상태).Meanwhile, the exhaust damper 40 applied to the CCSS unit of this embodiment may be implemented as an electric exhaust damper in which the aperture 42 is opened and closed by the drive motor 41, as shown in FIG. 3. In particular, the drive motor 41 may be a servo motor, and the opening degree of the aperture 42 can be arbitrarily adjusted between a fully closed state ((a) in FIG. 3) and a fully open state (not shown) (see FIG. 3). (b) is half-open).

이와 같이, 배기 댐퍼(40)를 전동 배기 댐퍼로 구성함으로써, 작업자에 의한 수동 개폐조작이 불필요하여, 고소 작업을 해야 하는 불편함과 안전상의 문제가 해결된다.In this way, by configuring the exhaust damper 40 as an electric exhaust damper, manual opening and closing operations by the operator are unnecessary, thereby solving the inconvenience of working at heights and safety problems.

나아가, 도 3에 도시된 조리개 타입의 전동 배기 댐퍼를 이용함으로써 부스(10) 내부의 고르고 원활한 배기가 가능하고, 종래의 수동 댐퍼에 비해 부스(10)의 전체 높이를 낮출 수 있어 부스를 공장에 반출입시 상부 공간이 확보되어 부스의 설치나 철거가 편리하다.Furthermore, by using the aperture-type electric exhaust damper shown in Figure 3, even and smooth exhaust inside the booth 10 is possible, and the overall height of the booth 10 can be lowered compared to a conventional manual damper, allowing the booth to be transported to the factory. The upper space is secured when carrying in and out, making it convenient to install or remove the booth.

구체적으로, 본 발명의 실시예(a)와 비교예(b)에 따른 배기 댐퍼에 의한 배기 유동 해석 결과를 도시한 도 4를 참조하면, 수동의 버터플라이 밸브 타입, 즉 원통형 덕트 내부를 원반 형상의 디스크(42')가 디스크 평면의 중심선을 중심축으로 회동하면서 개폐되는 타입의 비교예에 따른 배기 댐퍼(40')에 비해, 본 실시예에 따른 전동 배기 댐퍼(40)의 경우, 배기 유속이 고른 분포를 보이고 전체 높이도 훨씬 작음을 알 수 있다.Specifically, referring to FIG. 4 showing the results of exhaust flow analysis by the exhaust damper according to Example (a) and Comparative Example (b) of the present invention, it is a manual butterfly valve type, that is, a disk-shaped inside of a cylindrical duct. Compared to the exhaust damper 40' according to the comparative example of a type in which the disk 42' opens and closes while rotating around the center line of the disk plane, in the case of the electric exhaust damper 40 according to the present embodiment, the exhaust flow rate It can be seen that this is evenly distributed and the overall height is much smaller.

한편, 본 실시예에 따른 CCSS 유닛(1)은, 외부 또는 저장 탱크(도시 생략)로부터 공급된 케미컬을 공급받아 저장하고, 부스(10) 내의 배관(30)을 경유하여 사용처로 케미컬을 공급하도록 구성된 공급 탱크(50; 도 6 참조)를 더 포함할 수 있다. 여기서, 저장 탱크는 외부에서 탱크로리나 드럼을 통해 공급되는 다량의 케미컬을 특별한 처리 없이 저장하는 대용량의 탱크이고, 공급 탱크(50)는 공정 라인(사용처)별로 필요로 하는 시기와 양에 맞추어, 나아가 필요로 하는 처리(필터링, 혼합, 희석 등)를 하여 공급하기 위해 케미컬을 저장하는 상대적으로 소용량의 탱크이다.Meanwhile, the CCSS unit 1 according to this embodiment receives and stores chemicals supplied from the outside or a storage tank (not shown), and supplies the chemicals to the point of use via the pipe 30 in the booth 10. It may further include a configured supply tank (50; see FIG. 6). Here, the storage tank is a large-capacity tank that stores a large amount of chemicals supplied from the outside through tank trucks or drums without special treatment, and the supply tank 50 is tailored to the time and amount required for each process line (use), and further It is a relatively small-capacity tank that stores chemicals for supply after necessary processing (filtering, mixing, dilution, etc.).

CCSS 유닛이 이와 같은 공급 탱크(50)를 포함하는 경우, 특히 본 실시예와 같이 케미컬을 필터(F)에 의해 필터링한 후 사용처로 공급하는 경우, 외부 또는 저장 탱크로부터 케미컬을 공급받아 공급 탱크(50)에 저장하는 과정, 케미컬을 필터링하는 과정, 케미컬을 공급 탱크(50)로부터 사용처로 공급하는 과정은 모두 CCSS 유닛(1)의 제어하에 배관 영역(21)의 배관(30)을 경유하여 이루어질 수 있다. 여기서, 공급 탱크(50)에는 필터링 후의 케미컬이 저장되거나 필터링 전의 케미컬이 저장될 수 있는데, 본 실시예에서는 공급 탱크(50)에 필터링 전의 케미컬이 저장되어 있다가 사용처로 공급할 때 필터(F)에 의한 필터링 후 사용처로 공급하는 것으로 한다. 또한, 공급 탱크(50)로부터 사용처로 케미컬을 공급하는 것은, 펌프를 이용할 수도 있으나, 본 실시예에서는 전술한 공압 영역(23)을 통해 공급되는 질소와 같은 불활성 기체의 기체압에 의해 압송하는 방식으로 이루어진다.When the CCSS unit includes such a supply tank 50, especially when the chemicals are filtered by a filter (F) and then supplied to the point of use as in this embodiment, chemicals are supplied from the outside or a storage tank and supplied to the supply tank ( The process of storing the chemical in 50, the process of filtering the chemical, and the process of supplying the chemical from the supply tank 50 to the point of use are all carried out via the piping 30 in the piping area 21 under the control of the CCSS unit 1. You can. Here, the supply tank 50 may store chemicals after filtering or chemicals before filtering. In this embodiment, the chemicals before filtering are stored in the supply tank 50 and are then stored in the filter (F) when supplied to the point of use. After filtering, it is supplied to the point of use. In addition, a pump may be used to supply chemicals from the supply tank 50 to the place of use, but in this embodiment, the chemical is pumped by the gas pressure of an inert gas such as nitrogen supplied through the pneumatic area 23 described above. It consists of

이하, 도 5 및 도 6을 참조하여 공급 탱크(50)를 포함하는 구성에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the configuration including the supply tank 50 will be described in detail with reference to FIGS. 5 and 6.

본 실시예에서 공급 탱크(50)는 부스(10)의 외부에 2개(50a, 50b)가 설치된다. 물론, 공급 탱크는 하나만 설치되거나 3개 이상이 설치될 수도 있고, 부스(10) 내부에 설치될 수도 있다.In this embodiment, two supply tanks 50 (50a, 50b) are installed outside the booth 10. Of course, only one supply tank or three or more supply tanks may be installed, or they may be installed inside the booth 10.

부스(10)와 공급 탱크(50)는, 외부 또는 저장 탱크로부터 공급되는 케미컬을 각각의 공급 탱크(50a, 50b)로 충전하기 위한 충전 배관(51a, 51b), 각각의 공급 탱크(50a, 50b)로부터 공급되는 케미컬을 사용처로 공급하기 위한 공급 배관(52a, 52b), 및 각각의 공급 탱크(50a, 50b)에 저장된 케미컬을 압송하기 위한 불활성 기체(예컨대, 질소)를 각각의 공급 탱크(50a, 50b)로 공급하기 위한 불활성 기체 배관(53a, 53b)에 의해 유체 연결된다.The booth 10 and the supply tank 50 include charging pipes 51a and 51b for charging chemicals supplied from an external source or a storage tank into each supply tank 50a and 50b, respectively, and supply tanks 50a and 50b. ) supply pipes 52a, 52b for supplying chemicals supplied from the supply tank 50a, 52b to the point of use, and an inert gas (e.g. nitrogen) for transporting the chemicals stored in each supply tank 50a, 50b to each supply tank 50a. , 50b) are fluidly connected by inert gas piping (53a, 53b).

또한, 부스(10) 내부에는 불활성 기체 배관(53a, 53b)에 밸브(34)를 개재하여 연통되는 부스 내부 불활성 기체 배관(33a, 33b)이 마련된다. 이 부스 내부 불활성 기체 배관(33a, 33b)에서 부스 외부 불활성 기체 배관(53a, 53b)과 반대쪽 단부는 전술한 공압 영역(23)에 연통되어 고압의 질소가 공급된다. 또한, 부스 내부 불활성 기체 배관(33a, 33b)은 부스 내부에서 각각 배기관(35a, 35b)으로 분기되어 밸브(36) 및 배기 덕트(45)를 개재하여 제2 배기구(16b)와 연통된다.In addition, inside the booth 10, booth internal inert gas pipes 33a and 33b are provided, which communicate with the inert gas pipes 53a and 53b through a valve 34. The ends of the booth internal inert gas pipes 33a and 33b opposite to the booth external inert gas pipes 53a and 53b are connected to the above-mentioned pneumatic area 23, and high-pressure nitrogen is supplied. In addition, the booth internal inert gas pipes 33a and 33b branch into exhaust pipes 35a and 35b, respectively, inside the booth and communicate with the second exhaust port 16b through the valve 36 and the exhaust duct 45.

한편, 도 6에는 도시를 생략하였지만, 부스(10) 내에는 충전 배관(51a, 51b)과 공급 배관(52a, 52b)의 부스(10)측 단부에 연결되는 배관(30) 및 밸브(31) 등이 마련되어, 외부 또는 저장 탱크, 필터(F), 사용처와 케미컬을 주고 받을 수 있게 구성된다.Meanwhile, although not shown in Figure 6, in the booth 10, a pipe 30 and a valve 31 connected to the booth 10 side ends of the filling pipes 51a and 51b and the supply pipes 52a and 52b. etc. are provided so that chemicals can be exchanged with the external or storage tank, filter (F), and user.

이와 같이 구성되는 공급 탱크(50)와 배관을 이용하여 공급 탱크(50)의 케미컬을 사용처로 공급하는 과정 및 공급 탱크(50)에 케미컬을 충전하는 과정을 설명한다.The process of supplying chemicals from the supply tank 50 to a user using the supply tank 50 and piping configured as described above and the process of filling the supply tank 50 with chemicals will be described.

먼저, 공급 탱크(50)에 충전되어 있는 케미컬을 사용처로 공급하기 위해, 부스 내부 불활성 기체 배관(33a, 33b)의 밸브(34)를 개방하고, 배기관(35a, 35b)의 밸브(36)를 닫고 불활성 기체 배관(33a, 33b 및 53a, 53b)을 통해 고압의 불활성 기체를 공급 탱크(50)로 공급한다. 그러면, 불활성 기체의 기체압에 의해 공급 탱크(50) 내부의 케미컬이 공급 배관(52a, 52b)을 통해 부스(10) 내부의 배관(30), 필터(F)를 경유하여 부스(10) 외부의 사용처로 공급된다.First, in order to supply the chemicals charged in the supply tank 50 to the point of use, the valve 34 of the inert gas pipes 33a and 33b inside the booth is opened, and the valve 36 of the exhaust pipes 35a and 35b is opened. Close and supply high-pressure inert gas to the supply tank 50 through the inert gas pipes 33a, 33b and 53a, 53b. Then, the chemicals inside the supply tank 50 due to the gas pressure of the inert gas pass through the supply pipes 52a and 52b to the outside of the booth 10 via the pipe 30 and the filter F inside the booth 10. It is supplied to the place of use.

한편, 공급 탱크(50)에 케미컬을 충전하기 위해서는, 공급 배관(51a, 51b)에 연결된 부스 내부의 배관(30)의 밸브(31)를 개방하여, 외부 또는 저장 탱크로부터 케미컬이 부스 내부의 배관(30) 및 공급 배관(51a, 51b)을 경유하여 공급 탱크(50)로 공급되게 한다. 이때, 부스 내부 불활성 기체 배관(33a, 33b)의 밸브(34)는 폐쇄하고, 배기관(35a, 35b)의 밸브(36)는 개방하여, 공급 탱크(50) 내부를 채우고 있던 기체, 즉 케미컬 퓸이 포함된 불활성 기체는 불활성 기체 배관(53a, 53b 및 33a, 33b), 배기관(35a, 35b), 배기 덕트(45), 제2 배기구(16b) 및 제2 배기 댐퍼(40b)를 경유하여 공장 내 배기 라인(도시 생략)으로 배기된다.Meanwhile, in order to fill the supply tank 50 with chemicals, the valve 31 of the pipe 30 inside the booth connected to the supply pipes 51a and 51b is opened to allow chemicals from the outside or the storage tank to enter the pipe inside the booth. (30) and supply pipes (51a, 51b) to supply to the supply tank (50). At this time, the valves 34 of the inert gas pipes 33a and 33b inside the booth are closed, and the valves 36 of the exhaust pipes 35a and 35b are opened, so that the gas filling the inside of the supply tank 50, that is, chemical fume, is closed. This contained inert gas is discharged from the factory via the inert gas pipes (53a, 53b and 33a, 33b), exhaust pipes (35a, 35b), exhaust duct (45), second exhaust port (16b), and second exhaust damper (40b). It is exhausted to my exhaust line (not shown).

이와 같이, 본 실시예에서는, 배기구(16)를 부스(10) 내부 공간의 공기를 배기하는 제1 배기구(16a)와 공급 탱크(50) 내부의 기체를 배기하는 제2 배기구(16b)로 나누고, 제2 배기구(16b), 배기 덕트(45) 및 제2 배기 댐퍼(40b)를 경유하는 공급 탱크(50) 내부의 기체의 배기 경로를, 제1 배기구(16a) 및 제1 배기 댐퍼(40a)를 경유하는 부스(10) 내부 공간의 배기 경로와 독립시켜, 두 배기 경로를 통해 배기되는 기체가 부스(10) 내부에서 서로 섞이지 않도록 구성된다.As such, in this embodiment, the exhaust port 16 is divided into a first exhaust port 16a that exhausts the air in the interior space of the booth 10 and a second exhaust port 16b that exhausts the gas inside the supply tank 50. , the exhaust path of the gas inside the supply tank 50 via the second exhaust port 16b, the exhaust duct 45, and the second exhaust damper 40b, and the first exhaust port 16a and the first exhaust damper 40a. ) and is independent of the exhaust path of the interior space of the booth 10 passing through the booth 10, so that the gases exhausted through the two exhaust paths do not mix with each other inside the booth 10.

이러한 구성에 의하면 상대적으로 고농도의 케미컬 퓸이 함유된 기체가 부스(10) 내부 구성요소를 오염시키거나 부식시키는 등의 부작용 없이 CCSS 유닛(1)의 배기 시스템을 운영할 수 있다.According to this configuration, the exhaust system of the CCSS unit 1 can be operated without side effects such as gas containing a relatively high concentration of chemical fume contaminating or corroding the internal components of the booth 10.

한편, 배기 덕트(45)의 하부에는 케미컬 퓸이 응결되어 생기거나 공급 탱크(50)로부터 오버플로우된 케미컬을 배출하기 위한 드레인관(37)과 밸브(38)가 마련될 수 있다.Meanwhile, a drain pipe 37 and a valve 38 may be provided at the lower part of the exhaust duct 45 to discharge chemicals generated by condensation of chemical fume or overflowed from the supply tank 50.

한편, 본 실시예에 따른 CCSS 유닛(1)은 부스(10) 내부 공간에 설치되어 케미컬 퓸을 감지하는 센서(도시 생략)를 더 구비할 수 있다. 이 경우, 센서는 전술한 제어부에 동작가능하게 유선 또는 무선 연결되어, 제어부의 지시에 따라 또는 주도적으로 감지 결과를 제어부에 전송할 수 있다. 또한, 이 경우 전동 배기 댐퍼(40)도 제어부에 동작가능하게 연결되는 것이 바람직하다.Meanwhile, the CCSS unit 1 according to this embodiment may be installed in the interior space of the booth 10 and may further include a sensor (not shown) that detects chemical fume. In this case, the sensor is operably connected to the control unit, wired or wirelessly, and can transmit detection results to the control unit according to instructions from the control unit or on its own initiative. Additionally, in this case, it is preferable that the electric exhaust damper 40 is also operably connected to the control unit.

이와 같이 구성되는 경우, 제어부는, 상기 센서에 의해 부스(10) 내부 공간에 케미컬 퓸이 감지된 경우, 배기 댐퍼(50)를 개방하여 내부 공간의 배기를 실행하도록 제어할 수 있다.In this case, when chemical fume is detected in the interior space of the booth 10 by the sensor, the control unit may control the exhaust damper 50 to be opened to exhaust the interior space.

나아가, 전술한 바와 같이, 특히 작업자가 부스(10)에 출입가능한 도어(14)에 도어락이 구비된 경우라면, 전술한 센서 및 배기 댐퍼(50)에 더해 이 도어락도 제어부에 동작가능하게 연결될 수 있다. Furthermore, as described above, especially if a door lock is provided on the door 14 through which workers can enter the booth 10, this door lock can also be operably connected to the control unit in addition to the sensor and exhaust damper 50 described above. there is.

이와 같이 구성되는 경우, 제어부는, 센서에 의해 부스(10) 내부 공간에 케미컬 퓸이 감지된 경우, 배기 댐퍼(50)를 개방하여 내부 공간을 배기한 다음, 센서에 의해 감지되는 케미컬 퓸이 기준치 이하가 되면, 도어락을 해제하도록 제어할 수 있다. 이와 같이 함으로써, 유지보수를 위해 부스(10)에 출입하는 작업자의 안전을 도모할 수 있다.In this case, when chemical fume is detected in the internal space of the booth 10 by the sensor, the control unit opens the exhaust damper 50 to exhaust the internal space, and then the chemical fume detected by the sensor is set to the standard value. When the value falls below, the door lock can be controlled to be unlocked. By doing this, the safety of workers entering the booth 10 for maintenance can be promoted.

한편, 본 발명의 다른 측면에 따른 중앙 케미컬 공급 시스템(CCSS)은, 전술한 바와 같은 CCSS 유닛(1)을 복수개 설치하여 이루어질 수 있다. 이 경우, 전술한 배기 라인은 복수개의 CCSS 유닛(1)의 각각의 배기구(16)와 연통되는 공통의 배기 라인이 되고, 이 공통의 배기 라인에는 공통의 배기 펌프(도시 생략)가 설치되어 있다. 이러한 CCSS는 전술한 CCSS 유닛(1)의 구성과 장점을 그대로 가지고 있어, 전체 CCSS의 원활하고 안정적인 배기가 가능하다.Meanwhile, a central chemical supply system (CCSS) according to another aspect of the present invention can be achieved by installing a plurality of CCSS units 1 as described above. In this case, the above-described exhaust line becomes a common exhaust line communicating with each exhaust port 16 of the plurality of CCSS units 1, and a common exhaust pump (not shown) is installed in this common exhaust line. . This CCSS has the same configuration and advantages of the aforementioned CCSS unit (1), enabling smooth and stable exhaust of the entire CCSS.

이상 본 발명의 바람직한 실시형태를 첨부된 도면들을 참조로 설명하였다. 그러나, 본 명세서에 기재된 실시형태와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시형태에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. Preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the attached drawings. However, the embodiments described in this specification and the configurations shown in the drawings are only one of the most preferred embodiments of the present invention and do not represent the entire technical idea of the present invention, so at the time of filing the present application, there are various options that can replace them. It should be understood that equivalents and variations may exist.

1: 케미컬 공급 유닛(CCSS 유닛)
10: 부스
11: 프레임
12: 외벽
13: 격벽
14: 도어
15: 통기구
16, 16a, 16b: 배기구
20: 영역
21: 배관 영역
22: 필터 영역
23: 공압 영역
24: 전기 영역
25: 추가 영역
30: 배관
31: 밸브
40, 40a, 40b: 배기 댐퍼
50, 50a, 50b: 공급 탱크
1: Chemical supply unit (CCSS unit)
10: Booth
11: frame
12: Exterior wall
13: Bulkhead
14: door
15: Ventilation hole
16, 16a, 16b: exhaust port
20: area
21: Piping area
22: Filter area
23: Pneumatic area
24: Electrical area
25: Additional area
30: Plumbing
31: valve
40, 40a, 40b: exhaust damper
50, 50a, 50b: supply tank

Claims (8)

외부 또는 저장 탱크로부터 공급되는 케미컬을 받아들여, 필요로 하는 사용처로 공급하는 케미컬 공급 유닛으로서,
내부에 배관이 배치되는 내부 공간을 한정하고, 천정에는 배기 라인에 연통되는 배기구가 마련된 부스; 및
상기 배기구에 설치되어 상기 배기구를 개폐하는 배기 댐퍼를 포함하고,
상기 배기 댐퍼는 자동으로 개폐조작이 가능한 전동 배기 댐퍼인 것을 특징으로 하는 케미컬 공급 유닛.
As a chemical supply unit that receives chemicals supplied from outside or from a storage tank and supplies them to the required user,
A booth that defines an internal space where pipes are placed and has an exhaust port connected to an exhaust line on the ceiling; and
It includes an exhaust damper installed in the exhaust port to open and close the exhaust port,
A chemical supply unit, wherein the exhaust damper is an electric exhaust damper that can be automatically opened and closed.
제1항에 있어서,
상기 배기 댐퍼는 개도 조절이 가능한 것을 특징으로 하는 케미컬 공급 유닛.
According to paragraph 1,
A chemical supply unit, characterized in that the opening degree of the exhaust damper is adjustable.
제1항에 있어서,
상기 케미컬 공급 유닛은, 상기 부스 내의 배관을 경유하여 외부 또는 저장 탱크로부터 케미컬을 공급받아 저장하고, 상기 부스 내의 배관을 경유하여 상기 사용처로 케미컬을 공급하도록 구성된 공급 탱크를 더 포함하고,
상기 배기구는 상기 부스 내부 공간의 공기를 배기하는 제1 배기구, 및 상기 공급 탱크 내부의 기체를 배기하는 제2 배기구를 포함하며,
상기 제2 배기구 및 제2 배기 댐퍼를 경유하는 상기 공급 탱크 내부의 기체의 배기 경로는 상기 제1 배기구 및 제1 배기 댐퍼를 경유하는 상기 부스 내부 공간의 배기 경로와 독립되어, 두 배기 경로를 통해 배기되는 기체는 상기 부스 내부에서 서로 섞이지 않도록 구성된 것을 특징으로 하는 케미컬 공급 유닛.
According to paragraph 1,
The chemical supply unit further includes a supply tank configured to receive and store chemicals from an external or storage tank via piping within the booth, and to supply the chemicals to the user via piping within the booth,
The exhaust port includes a first exhaust port for exhausting air from the interior space of the booth, and a second exhaust port for exhausting gas inside the supply tank,
The exhaust path of the gas inside the supply tank via the second exhaust port and the second exhaust damper is independent of the exhaust path of the interior space of the booth via the first exhaust port and the first exhaust damper, and is provided through two exhaust paths. A chemical supply unit characterized in that the exhausted gases are not mixed with each other inside the booth.
제3항에 있어서,
상기 공급 탱크는 고압의 불활성 기체의 압력에 의해 케미컬을 압송하는 방식으로 케미컬을 상기 사용처로 공급하도록 구성되고,
상기 제2 배기구 및 제2 배기 댐퍼를 경유하여 배기되는 기체에는 상기 공급 탱크에 충전된 상기 불활성 기체가 포함되는 것을 특징으로 하는 케미컬 공급 유닛.
According to paragraph 3,
The supply tank is configured to supply the chemical to the user by pumping the chemical through the pressure of a high-pressure inert gas,
A chemical supply unit, wherein the gas exhausted via the second exhaust port and the second exhaust damper includes the inert gas charged in the supply tank.
제1항에 있어서,
상기 부스의 내외부는 외벽 및/또는 도어에 의해 차단되고,
상기 외벽 및/또는 도어에는 공기가 통과가능한 통기구가 형성되어 있으며,
상기 통기구에는 공기 중의 먼지 또는 이물질을 거르는 필터가 장착되는 것을 특징으로 하는 케미컬 공급 유닛.
According to paragraph 1,
The inside and outside of the booth are blocked by an exterior wall and/or door,
The outer wall and/or door are formed with ventilation holes through which air can pass,
A chemical supply unit, characterized in that the ventilation hole is equipped with a filter that filters dust or foreign substances in the air.
제1항에 있어서,
상기 부스 내부 공간에 설치되어 케미컬 퓸을 감지하는 센서; 및
상기 센서 및 상기 배기 댐퍼와 동작가능하게 연결된 제어부를 더 구비하고,
상기 제어부는, 상기 센서에 의해 상기 부스 내부 공간에 케미컬 퓸이 감지된 경우, 상기 배기 댐퍼를 개방하여 상기 부스 내부 공간의 배기를 실행하도록 구성된 것을 특징으로 하는 케미컬 공급 유닛.
According to paragraph 1,
A sensor installed in the interior space of the booth to detect chemical fume; and
Further comprising a control unit operably connected to the sensor and the exhaust damper,
The control unit is configured to open the exhaust damper to exhaust the booth interior space when chemical fume is detected in the booth interior space by the sensor.
제6항에 있어서,
상기 부스의 외벽에는 작업자가 상기 부스에 출입가능하도록 개폐되며, 도어락이 구비된 도어가 마련되고,
상기 제어부는 상기 도어락과도 동작가능하게 연결되며,
상기 제어부는, 상기 센서에 의해 상기 부스 내부 공간에 케미컬 퓸이 감지된 경우, 상기 배기 댐퍼를 개방하여 상기 내부 공간을 배기한 다음, 상기 센서에 의해 감지되는 상기 케미컬 퓸이 기준치 이하가 되면, 상기 도어락을 해제하도록 구성된 것을 특징으로 하는 케미컬 공급 유닛.
According to clause 6,
The outer wall of the booth is provided with a door that opens and closes to allow workers to enter the booth and is equipped with a door lock,
The control unit is operably connected to the door lock,
The control unit, when chemical fume is detected in the interior space of the booth by the sensor, opens the exhaust damper to exhaust the interior space, and then, when the chemical fume detected by the sensor falls below the standard value, the A chemical supply unit configured to unlock a door lock.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 케미컬 공급 유닛을 복수개 설치하여 이루어지고,
상기 배기 라인은 상기 복수개의 케미컬 공급 유닛의 각각의 배기구와 연통되는 공통의 배기 라인이며,
상기 공통의 배기 라인에는 공통의 배기 펌프가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 중앙 케미컬 공급 시스템.
It is achieved by installing a plurality of chemical supply units according to any one of claims 1 to 7,
The exhaust line is a common exhaust line communicating with each exhaust port of the plurality of chemical supply units,
A central chemical supply system, characterized in that a common exhaust pump is installed in the common exhaust line.
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