KR20230146960A - HOCl acid water producing method - Google Patents

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Abstract

본 발명은 미산성 차아염소산수 제조 기술과 관련한다. 차아염소산(HClO)을 함유하는 차아염소산수(Hypochlorous acid water)는 소취 및 살균소독의 기능을 갖는 수용액이다. 통상적으로 미산성 차아염소산수의 생산은 희석 염산을 무격막 전해조에서 전기분해하여 생성된 염소가스를 물과 혼합하여 이루어진다. pH 5~6.5 사이의 영역의 차아염소산수를 미산성 차아염소산수라 하며, 살균력이 우수하면서 유해성분도 발산하지 않기 때문에 널리 사용되고 있다. 본 발명은 전해조의 전해공간에서 희석 염산이 효율적으로 유동하면서 상승하도록 유도되어서 전체 유동거리를 증가시키고 염소가스를 포함하는 생성가스의 배출이 원할하므로 전해공간에서 희석 염산의 전기분해 효율이 향상된다.The present invention relates to technology for producing slightly acidic hypochlorous acid water. Hypochlorous acid water containing hypochlorous acid (HClO) is an aqueous solution that has the function of deodorizing and disinfecting. Typically, slightly acidic hypochlorous acid water is produced by electrolyzing diluted hydrochloric acid in a non-diaphragm electrolyzer and mixing chlorine gas generated with water. Hypochlorous acid water in the range of pH 5 to 6.5 is called slightly acidic hypochlorous acid water, and is widely used because it has excellent sterilizing power and does not emit harmful substances. In the present invention, diluted hydrochloric acid is induced to flow and rise efficiently in the electrolytic space of the electrolyzer, thereby increasing the total flow distance and smooth discharge of the produced gas containing chlorine gas, thereby improving the electrolysis efficiency of diluted hydrochloric acid in the electrolytic space.

Description

미산성 차아염소산수 제조 방법{HOCl acid water producing method}Method for producing slightly acidic hypochlorous acid water {HOCl acid water producing method}

차아염소산(HClO)을 함유하는 차아염소산수(Hypochlorous acid water)는 소취 및 살균소독의 기능을 갖는 수용액이다. 통상적으로 미산성 차아염소산수의 생산은 희석 염산을 무격막 전해조에서 전기분해하여 생성된 염소가스를 물과 혼합하여 이루어진다. pH 5~6.5 사이의 영역의 차아염소산수를 미산성 차아염소산수라 하며, 살균력이 우수하면서 유해성분도 발산하지 않기 때문에 널리 사용되고 있다. 본 발명은 미산성 차아염소산수 제조 기술에 관한 것이다.Hypochlorous acid water containing hypochlorous acid (HClO) is an aqueous solution that has the function of deodorizing and disinfecting. Typically, slightly acidic hypochlorous acid water is produced by electrolyzing diluted hydrochloric acid in a non-diaphragm electrolyzer and mixing chlorine gas generated with water. Hypochlorous acid water in the range of pH 5 to 6.5 is called slightly acidic hypochlorous acid water, and is widely used because it has excellent sterilizing power and does not emit harmful substances. The present invention relates to a technology for producing slightly acidic hypochlorous acid water.

배경기술로서 미산성 차아염소산수 제조용 전해조에 관한 등록특허 제1391193호는 사각 프레임의 스페이서와, 스페이서의 양측에 배치되어 스페이서와 함께 전해공간을 구성하는 한 쌍의 전극을 구비한다. 이러한 미산성 차아염소산수 제조용 전해조는 희석염산이 전해조의 아래에서 공급되고 상부로 배출되는 구조인데, 이러한 종래의 구조에서 전기분해에 의해 발생되는 염소가스, 수소가스, 산소가스 등의 가스가 전해공간에서 상승하면서 전해공간 내부의 희석염산의 유속을 상승시키게 되고, 이는 전해질의 전기분해 효율을 떨어뜨린다. 미산성 차아염소산수 제조용 전해조 및 이를 구비하는 미산성 차아염소산수 제조 장치에 관한 등록특허 제2008987호(2019.08.02.)가 개시되어 있는 바 도 1 및 도 2와 함께 추후 설명한다.As background technology, Patent No. 1391193, which relates to an electrolyzer for producing slightly acidic hypochlorous acid water, includes a spacer in a square frame and a pair of electrodes disposed on both sides of the spacer and forming an electrolytic space together with the spacer. This type of electrolyzer for producing slightly acidic hypochlorous acid water is structured so that diluted hydrochloric acid is supplied from the bottom of the electrolyzer and discharged from the top. In this conventional structure, gases such as chlorine gas, hydrogen gas, and oxygen gas generated by electrolysis enter the electrolysis space. As it rises, the flow rate of diluted hydrochloric acid inside the electrolyte space increases, which reduces the electrolysis efficiency of the electrolyte. Registered Patent No. 2008987 (2019.08.02.), which relates to an electrolyzer for producing slightly acidic hypochlorous acid water and an apparatus for producing slightly acidic hypochlorous acid water equipped with the same, is disclosed and will be described later along with FIGS. 1 and 2.

미산성 차아염소산수 제조 기술을 제공함에 있어서, 희석 염산의 전기분해 효율을 향상시키는 미산성 차아염소산수 제조용 전해조 및 관련된 시스템을 제공한다.In providing a technology for producing slightly acidic hypochlorous acid water, an electrolyzer and related system for producing slightly acidic hypochlorous acid water that improve the electrolysis efficiency of diluted hydrochloric acid are provided.

전해조를 포함하는 미산성 차아염소산수 제조장치를 이용하는 미산성 차아염소산수 제조 방법으로서,A method for producing slightly acidic hypochlorous acid water using a slightly acidic hypochlorous acid water production device including an electrolyzer,

전해조는 내부에 전해공간이 마련되고, 전해공간을 사이에 두고 연통되는 유입구와 배출구가 구비되고, 전해공간에서 유입구와 배출구의 사이의 높이에 위치하여 설치되는 배플판을 포함하고,The electrolyzer has an electrolytic space inside, is provided with an inlet and an outlet communicating across the electrolytic space, and includes a baffle plate installed at a height between the inlet and the outlet in the electrolytic space,

배플판은 전해공간의 제1 측부로부터 제1 측부의 반대측인 제2 측부 쪽으로 연장되고 제2 측부와는 이격되는 제1 배플판과, 제2 측부로부터 제1 측부 쪽으로 연장되고 제1 측부와는 이격되는 제2 배플판과, 다시 제1 측부로부터 제1 측부의 반대측인 제2 측부 쪽으로 연장되고 제2 측부와는 이격되는 제3 배플판이 차례로 높이방향으로 교대하여 이격되게 배치되고, 인접한 다른 배플판의 끝단을 지나서 더 연장되는 형태를 취하여 준비되어서,The baffle plate includes a first baffle plate extending from a first side of the electrolysis space toward a second side opposite the first side and spaced apart from the second side, and a first baffle plate extending from the second side toward the first side and being spaced apart from the first side. A second baffle plate that is spaced apart, and a third baffle plate that extends from the first side toward the second side opposite the first side and is spaced apart from the second side are sequentially arranged to be alternately spaced apart in the height direction, and another baffle plate adjacent to the other baffle plate is spaced apart from each other. It is prepared in a shape that extends beyond the end of the plate,

유입구로 희석 염산이 유입된 후에, 배플판에 의해서 전해공간 내 희석 염산의 유동이 지그재그 방향을 바꾸면서 거리가 증가되어 충분한 전기분해 시간을 확보한 후, 배출구를 향해 상승하여 배출되되는 것을 특징으로 하는 미산성 차아염소산수 제조 방법을 제공한다.After diluted hydrochloric acid flows into the inlet, the flow of diluted hydrochloric acid in the electrolysis space changes zigzag direction by the baffle plate, increasing the distance to secure sufficient electrolysis time, and then rising toward the outlet and being discharged. A method for producing slightly acidic hypochlorous acid water is provided.

즉, 미산성 차아염소산수를 제조하기 위하여 희석 염산을 전기분해하여 염소가스를 발생시키는 전해조로서,That is, it is an electrolyzer that generates chlorine gas by electrolyzing diluted hydrochloric acid to produce slightly acidic hypochlorous acid water,

내부에 전해공간을 제공하고, 전해공간과 연통되어서 희석 염산이 전해공간으로 유입되는 유입구와 전해공간과 연통되어서 염소가스가 배출되고 유입구와 위에 위치하는 배출구가 형성되는 케이스와;A case that provides an electrolytic space therein and is in communication with the electrolytic space to form an inlet through which diluted hydrochloric acid flows into the electrolytic space and an inlet through which chlorine gas is discharged and an outlet located above the case;

전해공간에서 희석 염산의 전기분해를 위해 설치되는 제1 전극과 제2 전극을 구비하는 전극 구조물과;an electrode structure including a first electrode and a second electrode installed for electrolysis of diluted hydrochloric acid in an electrolysis space;

희석 염산의 전해공간 내 유동 거리 증가를 위하여, 유입구를 통해 유입된 희석 염산이 수평방향을 따라 방향을 전환하여 유동하면서 배출구를 향해 상승하도록 전해공간에서 유입구와 배출구의 사이의 높이에 위치하여 설치되는 배플판을 구비하는 배플 구조물을; 포함하며,In order to increase the flow distance of diluted hydrochloric acid in the electrolytic space, a device is installed at a height between the inlet and outlet in the electrolytic space so that the diluted hydrochloric acid flowing in through the inlet changes direction along the horizontal direction and flows upward toward the outlet. a baffle structure including a baffle plate; Includes,

배플판에는 가스가 통과하는 가스 통과 홀들이 형성되며,Gas passing holes are formed in the baffle plate through which gas passes,

배플판에는 가스 통과 홀을 통해 액체가 통과하지 못하도록 소수성 코팅층이 형성되며, 가스 통과 홀은 액체가 통과할 수 없는 크기로 형성된다.A hydrophobic coating layer is formed on the baffle plate to prevent liquid from passing through the gas passage hole, and the gas passage hole is formed to a size that liquid cannot pass through.

전해조의 전해공간에서 희석 염산이 지그재그 형태로 유동하면서 상승하도록 하여 전체 유동거리를 증가시켜서 전해공간에서 희석 염산의 전기분해 효율이 향상된다. 배플판에 가스는 통과시키고 액체는 통과시키지 않도록 형성된 관통 홀이 구비되므로 전해공간에서 발생한 염소가스는 신속하게 배출되어서 전체적인 염소가스 생산 효율이 향상된다.The electrolysis efficiency of diluted hydrochloric acid in the electrolytic space is improved by increasing the total flow distance by allowing the diluted hydrochloric acid to flow and rise in a zigzag pattern in the electrolytic space of the electrolytic cell. Since the baffle plate is provided with a through hole formed to allow gas to pass through but not liquid to pass through, chlorine gas generated in the electrolysis space is quickly discharged, thereby improving overall chlorine gas production efficiency.

도 1은 미산성 차아염소산수 제조 장치의 구성을 도시한 전해조의 외형 사시도 및 전체 구성의 흐름을 보인 블럭도이다.
도 2는 전해조의 A-A'선에 대한 단면도 및 도 2 B는 B-B'선에 대한 단면도이다.
도 3은 본 발명 실시예의 전해조 단면도이다.
Figure 1 is a block diagram showing the overall configuration flow and a perspective view of an electrolyzer showing the configuration of a slightly acidic hypochlorous acid water production device.
Figure 2 is a cross-sectional view taken along line A-A' of the electrolytic cell, and Figure 2B is a cross-sectional view taken along line B-B'.
Figure 3 is a cross-sectional view of an electrolyzer in an embodiment of the present invention.

도 1, 도 2와 함께 미산성 차아염소산수 제조장치 관련 기술을 살펴본다. 미산성 차아염소산수 제조장치(100)는 미산성 차아염소산수의 원료인 염산{HCl(aq)}이 저장되는 염산탱크(110)와, 염산탱크(110)로부터 공급되는 염산을 전기분해하여 염소가스(Cl2)를 발생시키는 전해조(120)와, 미산성 차아염소산수의 제조에 필요한 수돗물 등의 원수(源水)를 공급하는 원수공급부(130)와, 전해조(120)로부터 공급되는 염소가스와 원수공급부(130)로부터 공급되는 원수를 반응시켜서 미산성 차아염소산수를 생성하는 차아염소산 생성조(140)와, 차아염소산 생성조(140)에서 생성된 미산성 차아염소산수가 저장되는 저장탱크(150)를 포함한다.Let's look at the technology related to the device for producing slightly acidic hypochlorous acid water with Figures 1 and 2. The slightly acidic hypochlorous acid water production device 100 includes a hydrochloric acid tank 110 in which hydrochloric acid {HCl(aq)}, which is the raw material of slightly acidic hypochlorous acid water, is stored, and hydrochloric acid supplied from the hydrochloric acid tank 110 is electrolyzed to produce chlorine. An electrolyzer 120 that generates gas (Cl2), a raw water supply unit 130 that supplies raw water such as tap water necessary for the production of slightly acidic hypochlorous acid water, and chlorine gas supplied from the electrolyzer 120. A hypochlorous acid production tank (140) that reacts the raw water supplied from the raw water supply unit (130) to produce slightly acidic hypochlorous acid water, and a storage tank (150) in which the slightly acidic hypochlorous acid water produced in the hypochlorous acid production tank (140) is stored. ) includes.

염산탱크(110)에는 미산성 차아염소산수의 원료인 염산이 저장된다. 염산탱크(110)에 저장된 염산은 대체로 2 내지 6% 염산의 희석 염산이다. 염산탱크(110)에 저장된 희석 염산은 펌프(미도시)에 의해 전해조(120)로 공급되어서 전기분해된다.Hydrochloric acid, which is a raw material for slightly acidic hypochlorous acid water, is stored in the hydrochloric acid tank 110. The hydrochloric acid stored in the hydrochloric acid tank 110 is generally diluted hydrochloric acid of 2 to 6% hydrochloric acid. The diluted hydrochloric acid stored in the hydrochloric acid tank 110 is supplied to the electrolyzer 120 by a pump (not shown) and is electrolyzed.

전해조(120)는 염산탱크(110)에 저장된 희석 염산을 공급받아서 전기분해하여 염소가스를 발생한다. 전해조(120)는 케이스(121)와, 케이스(121)의 내부에 수용되는 전극구조물(124)과, 케이스(121)의 내부에 수용되는 배플(baffle)형태의 배플구조물(125)(baffle structure)을 구비한다.The electrolyzer 120 receives diluted hydrochloric acid stored in the hydrochloric acid tank 110 and electrolyzes it to generate chlorine gas. The electrolyzer 120 includes a case 121, an electrode structure 124 accommodated inside the case 121, and a baffle-shaped baffle structure 125 accommodated inside the case 121. ) is provided.

케이스(121)는 내부에 전극구조물(124)과 배플구조물(125)이 수용되는 수용 공간을 제공한다. 케이스(121)의 하부에는 유입관부(121a)가 형성되고, 케이스(121)의 상부에는 배출관부(121b)가 형성된다. 유입관부(121a)에는 염산탱크(110)로부터 희석 염산이 유입되는 유입구(122a)가 형성되며, 배출관부(121b)에는 전해조(120)로부터 염소가스가 배출되는 배출구(122b)가 형성된다. 케이스(121)의 내부에는 희석 염산에 대한 전기분해가 일어나는 전해공간(120a)이 형성된다. 전해공간(120a)의 상하단 일측에는 유입구(122a)가 연통되고, 전해공간(120a)의 상하단 타측에는 배출구(122b)가 연통된다.The case 121 provides an accommodating space within which the electrode structure 124 and the baffle structure 125 are accommodated. An inlet pipe portion 121a is formed in the lower part of the case 121, and an outlet pipe portion 121b is formed in the upper part of the case 121. An inlet 122a through which diluted hydrochloric acid flows from the hydrochloric acid tank 110 is formed in the inlet pipe 121a, and an outlet 122b through which chlorine gas is discharged from the electrolyzer 120 is formed in the outlet pipe 121b. Inside the case 121, an electrolytic space 120a is formed where electrolysis of diluted hydrochloric acid occurs. An inlet 122a communicates with one side of the upper and lower ends of the electrolytic space 120a, and an outlet 122b communicates with the other side of the upper and lower ends of the electrolytic space 120a.

전극구조물(124)은 케이스(121)의 내부에 형성된 수용 공간에 수용되어서 설치된다. 전극구조물(124)은 벽 형태로 세워져서 서로 대향하며 일정 거리 이격 배치되는 제1 전극(124a)과 제2 전극(124b)을 구비한다. 제1 전극(124a)과 제2 전극(124b)으로 희석 염산의 전기분해를 위한 외부 전원이 인가된다(미도시). 제1 전극(124a)과 제2 전극(124b)의 사이의 공간이 전해공간(120a)을 형성하며, 전해공간(120a)에 배플구조물(125)이 설치된다. 제1 전극(124a)과 제2 전극(124b)에 의한 희석염산에 대한 전기분해에 의해 전해공간(120a)에서 염소가스가 발생하며, 이때 수소가스(H2)와 산소가스(O2) 등을 함께 발생하는데 이 모두를 생성가스라 한다. 전해공간(120a)에서 발생한 이러한 생성가스는 함께 상승하여 배출구(122b)를 통해 배출된다.The electrode structure 124 is accommodated and installed in the receiving space formed inside the case 121. The electrode structure 124 is erected in the form of a wall and includes a first electrode 124a and a second electrode 124b that face each other and are spaced a certain distance apart. An external power source for electrolysis of diluted hydrochloric acid is applied to the first electrode 124a and the second electrode 124b (not shown). The space between the first electrode 124a and the second electrode 124b forms an electrolytic space 120a, and a baffle structure 125 is installed in the electrolytic space 120a. Chlorine gas is generated in the electrolysis space (120a) by electrolysis of diluted hydrochloric acid by the first electrode (124a) and the second electrode (124b), and at this time, hydrogen gas (H2) and oxygen gas (O2) are combined. All of this is called produced gas. These generated gases generated in the electrolysis space 120a rise together and are discharged through the outlet 122b.

배플구조물(125)은 케이스(121)의 내부에 형성된 전해공간(120a)에 설치되어서, 희석 염산의 지그재그 유동(流動) 형태를 만든다. 배플구조물(125)은 제1 전극(124a)과 제2 전극(124b)에 배치되어서 스페이서(spacer)로서의 기능도 한다. 배플구조물(125)은 개방된 내부영역을 제공하는 테두리부(125a)와, 테부리부(125a)로부터 연장되어서 개방된 내부영역에 위치하는 복수 개의 배플판(126, 127, 128)을 구비한다.The baffle structure 125 is installed in the electrolytic space 120a formed inside the case 121 to create a zigzag flow form of diluted hydrochloric acid. The baffle structure 125 is disposed on the first electrode 124a and the second electrode 124b and also functions as a spacer. The baffle structure 125 includes an edge portion 125a that provides an open inner area, and a plurality of baffle plates 126, 127, and 128 extending from the edge portion 125a and located in the open inner region. .

테두리부(125a)는 단일폐곡선으로 연장되는 형태로서, 테두리부(125a)의 내부 공간은 테두리부(125a)와 두 전극(124a, 124b)에 의해 밀폐되어서 전해공간(120a)을 형성한다. 테두리부(125a)의 하부에는 유입구(122a)와 통하는 하부 구멍(1251a)가 형성되고, 테두리부(125a)의 상부에는 배출구(122b)와 통하는 상부 구멍(1251b)이 형성된다. 테두리부(125a)의 상부의 내하면(내부의 하면)은 상부 구멍(1251b) 쪽으로 갈수록 높아지도록 경사져서 생성가스의 배출이 용이하도록 한다.The edge portion 125a extends in a single closed curve, and the internal space of the edge portion 125a is sealed by the edge portion 125a and the two electrodes 124a and 124b to form an electrolytic space 120a. A lower hole 1251a communicating with the inlet 122a is formed at the bottom of the edge portion 125a, and an upper hole 1251b communicating with the outlet 122b is formed at the top of the edge portion 125a. The upper inner surface (inner lower surface) of the edge portion 125a is inclined to become higher toward the upper hole 1251b to facilitate discharge of the generated gas.

배플판(126, 127, 128) 각각은 전해공간(120a)에 위치하도록 테두리부(125a)로부터 연장되어서 형성된 판상의 형태이다. 복수의 배플판(126, 127, 128) 각각은 수평방향으로 연장되어서 전해공간(120a)에서 희석 염산이 곧바로 수직 상방으로 유동하는 것을 막는다. 배플판(126, 127, 128)은 연직방향을 따라서 차례대로 이격되어서 배치된다. 배플판(126, 127, 128)은 전해공간(120a)에서 테두리부(125a)의 제1 측부(1252a)로부터 반대측인 제2 측부(1252b)을 향해 수평으로 연장되는 두 제1 배플판(126, 128)과, 전해공간(120a)에서 테두리부(125a)의 제2 측부(1252b)으로부터 반대측인 제1 측부(1252a)을 향해 수평으로 연장되는 하나의 제2 배플판(127)을 구비한다. 도면에는 두 제1 배플판(126, 128)과 하나의 제2 배플판(127)이 연직방향을 따라서 교대로 배치되어 있다.Each of the baffle plates 126, 127, and 128 has a plate shape extending from the edge portion 125a to be located in the electrolysis space 120a. Each of the plurality of baffle plates 126, 127, and 128 extends in the horizontal direction to prevent diluted hydrochloric acid from flowing vertically upward in the electrolysis space 120a. The baffle plates 126, 127, and 128 are arranged to be sequentially spaced apart along the vertical direction. The baffle plates 126, 127, and 128 are two first baffle plates 126 extending horizontally from the first side 1252a of the edge portion 125a in the electrolysis space 120a toward the second side 1252b on the opposite side. , 128) and a second baffle plate 127 extending horizontally from the second side 1252b of the edge portion 125a toward the opposite first side 1252a in the electrolysis space 120a. . In the drawing, two first baffle plates 126 and 128 and one second baffle plate 127 are alternately arranged along the vertical direction.

배플판(126, 127, 128) 각각의 양측은 두 전극(124a, 124b)과 각각 밀착한다. 또한, 배플판(126, 127, 128) 각각의 연장방향 끝단은 테두리부(125a)의 대향하는 측부(1252a, 1252b)와 이격된다. 그에 따라, 전해공간(120a)에서 희석 염산은 배플판(126, 127, 128) 각각의 끝단부에 마련되는 통로부(126b, 127b, 128b)을 통해서만 유동하게 된다. 배플판(126, 127, 128))은 다른 인접한 배플판(126, 127, 128)의 끝단보다 더 연장되도록 형성되어서, 제1 배플판(126, 127)과 제2 배플판(128)은 중앙부에 일부 겹치는 부분이 형성됨으로써, 전해공간(120a)에서 희석 염산은 지그재그 형태로 유동하며 상부로 상승하게 된다. Both sides of each of the baffle plates 126, 127, and 128 are in close contact with the two electrodes 124a and 124b, respectively. Additionally, the extending ends of each of the baffle plates 126, 127, and 128 are spaced apart from the opposing side portions 1252a and 1252b of the edge portion 125a. Accordingly, the diluted hydrochloric acid in the electrolysis space 120a flows only through the passage portions 126b, 127b, and 128b provided at the ends of each of the baffle plates 126, 127, and 128. The baffle plates (126, 127, 128) are formed to extend further than the ends of other adjacent baffle plates (126, 127, 128), so that the first baffle plates (126, 127) and the second baffle plates (128) are located at the center portion. As some overlapping portions are formed, the diluted hydrochloric acid flows in a zigzag shape in the electrolysis space 120a and rises upward.

배플판(126, 127, 128) 각각에는 가스통과홀(126a, 127a, 128a)이 분포 형성된다. 가스통과홀(126a, 127a, 128a)을 통해 전해공간(120a)에서 발생한 생성가스가 통과하여 위로 이동(배출)된다. 배플판(126, 127, 128) 각각에는 소수성 코팅층(126c, 127c, 128c)(hydrophobic coating layer)이 형성된다. 배플판(126, 127, 128) 각각에 형성된 소수성 코팅층(126c, 127c, 128c)에 의해 가스통과홀(126a, 127a, 128a)을 액체가 통과하지 못한다. 전해공간(120a)에서 액체의 희석 염산은 배플판(126, 127, 128)에 의해 형성된 지그재그 형태의 유로를 통해서만 유동하여 전기분해되고, 전기분해를 통해 발생한 기체 형태의 생성가스는 가스통과홀(126a, 127a, 128a)을 통해 상승하고, 이에 따라, 전해공간(120a)에서 희석 염산과 두 전극(124a, 124b)의 접촉 효율이 극대화된다.Gas passage holes 126a, 127a, and 128a are distributed in each of the baffle plates 126, 127, and 128. The generated gas generated in the electrolysis space 120a passes through the gas passage holes 126a, 127a, and 128a and moves upward (emitted). Hydrophobic coating layers 126c, 127c, and 128c are formed on each of the baffle plates 126, 127, and 128. Liquid cannot pass through the gas passage holes 126a, 127a, and 128a due to the hydrophobic coating layers 126c, 127c, and 128c formed on each of the baffle plates 126, 127, and 128. In the electrolysis space 120a, the liquid diluted hydrochloric acid is electrolyzed by flowing only through the zigzag-shaped flow path formed by the baffle plates 126, 127, and 128, and the gas generated through electrolysis is passed through the gas passage hole ( It rises through 126a, 127a, and 128a, and thus, the contact efficiency between the diluted hydrochloric acid and the two electrodes 124a and 124b in the electrolysis space 120a is maximized.

소수성 코팅층(126c, 127c, 128c)은 예를 들어서 소수성계면활성제의 도포에 의해 형성될 수 있는데, 소수성계면활성제로는 폴리옥시에틸렌 스테아릴 에테르 유도체(Polyoxyethylene Stearyl Ether Derivatives), 솔비탄 지방산 에스테르 유도체(Sorbitan Fatty Acid Ester Derivatives) 및 폴리옥시에틸렌 올레일 아민 유도체(Polyoxyethylene Oleylamine Derivatives) 중 선택된 1 또는 혼합물인 것이 사용될 수 있다. 도면에서는 소수성 코팅층(126c, 127c, 128c)이 배플판(126, 127, 128)의 전체에 형성되었으나, 아래면에만 형성되거나, 가스통과홀(126a, 127a, 128a)이 위치하는 부분에만 형성될 수 있다. 소수성 코팅층(126c, 127c, 128c) 대신에 배플판(126, 127, 128) 자체가 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리비닐리덴플루오라이드 및 테프론 등의 소수성 소재로 채택될 수 있다.The hydrophobic coating layers 126c, 127c, and 128c may be formed, for example, by applying a hydrophobic surfactant, such as polyoxyethylene stearyl ether derivatives (Polyoxyethylene Stearyl Ether Derivatives) and sorbitan fatty acid ester derivatives ( Sorbitan Fatty Acid Ester Derivatives) and Polyoxyethylene Oleylamine Derivatives (Polyoxyethylene Oleylamine Derivatives) or a mixture thereof may be used. In the drawing, the hydrophobic coating layers (126c, 127c, and 128c) are formed on the entire baffle plate (126, 127, and 128), but may be formed only on the lower surface or only on the portion where the gas passage holes (126a, 127a, and 128a) are located. You can. Instead of the hydrophobic coating layers 126c, 127c, and 128c, the baffle plates 126, 127, and 128 themselves may be made of hydrophobic materials such as polytetrafluoroethylene, polyvinylidene fluoride, and Teflon.

원수공급부(130)는 미산성 차아염소산수의 제조에 필요한 원수를 차아염소산 생성조(140)로 공급한다. 차아염소산 생성조(140)는 전해조(120)로부터 공급되는 염소가스를 원수공급부(130)로부터 공급되는 원수와 반응시키고 희석시켜서 미산성 차아염소산수를 생성한다. 저장탱크(150)에는 차아염소산 생성조(140)에서 생성된 미산성 차아염소산수를 공급받아서 저장한다.The raw water supply unit 130 supplies raw water necessary for the production of slightly acidic hypochlorous acid water to the hypochlorous acid generating tank 140. The hypochlorous acid generation tank 140 reacts the chlorine gas supplied from the electrolyzer 120 with the raw water supplied from the raw water supply unit 130 and dilutes it to generate slightly acidic hypochlorous acid water. The storage tank 150 receives and stores slightly acidic hypochlorous acid water generated in the hypochlorous acid generation tank 140.

도 3 이하에서 전해조(120)의 다른 실시예를 알아본다. 전해조(120) 내에서 부수적으로 발생한 염소가스, 수소가스, 산소가스 등으로 이루어진 생성가스(g10)는 가스통과홀(126a, 127a, 128a)을 통과하여 상승하도록 되어 있으나 실제로는 그 양이 많아지는 경우 모두 용이하게 통과하기 어려워져 전해조(120)의 전기분해를 방해하여 기능 저하, 효율을 떨어뜨릴 수 있다. 이에 따라, 전해조(120)의 전기분해 효율을 높이고, 발생하는 생성가스(g10)를 효과적으로 이동(g10)하여 외부로 배출할 수 있는 방법, 수단이 필요하다.3 and below, another embodiment of the electrolytic cell 120 will be described. The generated gas (g10) consisting of chlorine gas, hydrogen gas, oxygen gas, etc. generated incidentally in the electrolyzer 120 is supposed to rise through the gas passage holes (126a, 127a, 128a), but in reality, the amount increases. In both cases, it becomes difficult to pass through easily, which may interfere with electrolysis of the electrolyzer 120, thereby reducing function and efficiency. Accordingly, a method or means is needed to increase the electrolysis efficiency of the electrolyzer 120 and to effectively move (g10) the generated gas (g10) and discharge it to the outside.

이를 위하여, 각 배플판(126, 127, 128)에 주어지는 경사 즉, 배플판 기울임(t1, t2, t3)을 각각 다르게 부여할 수 있다. 도 3에서, 전해조(120) 내에 설치되는 복수의 각 배플판(126, 127, 128)은 수평(t0)에 대하여 배플판 기울임(t1, t2, t3)이 주어져 경사(tilt)지게 구비된다. 즉, 배플판(126, 127, 128)이 수평(t0)인 경우에 비하여 배플판이 시작하는 위치에서 끝나는 위치로 갈수록 올라가는(높아지는) 기울기로 경사지게 구성된다. 이러한 배플판 기울임(t1, t2, t3) 구조를 통하여, 생성가스(g10)를 포함한 유체는 배플판 기울임(t1, t2, t3)이 주어진 배플판(126, 127, 128)의 저면을 용이하게 따라올라가면서 상승하여 신속하게 빠져나가 이동(g10)하여서 전해조(120)의 상부에 도달할 수 있다. 이와 함께, 생성된 차아염소산수 또한 배플판(126, 127, 128)의 배플판 기울임(t1, t2, t3) 구조에 의해 제공되는 유로를 따라서 상승할 수 있어서 보다 더 용이하게 유동이 가능하다.To this end, the inclination given to each baffle plate 126, 127, and 128, that is, the baffle plate inclination t1, t2, and t3, can be given differently. In FIG. 3, each of the plurality of baffle plates 126, 127, and 128 installed in the electrolytic cell 120 is provided to be tilted by giving a baffle plate inclination (t1, t2, and t3) with respect to the horizontal (t0). That is, compared to the case where the baffle plates 126, 127, and 128 are horizontal (t0), the baffle plates are configured to be inclined at a slope that increases from the starting position to the ending position. Through this baffle plate inclination (t1, t2, t3) structure, the fluid containing the produced gas (g10) can easily move the bottom of the baffle plate (126, 127, 128) given the baffle plate inclination (t1, t2, t3). It rises as it goes up and quickly exits and moves (g10) to reach the upper part of the electrolyzer 120. In addition, the generated hypochlorous acid water can also rise along the flow path provided by the baffle plate tilt (t1, t2, t3) structure of the baffle plates (126, 127, and 128), allowing it to flow more easily.

보다 더 상세하게, 제1 배플판(126)의 제1 배플판 기울임(t1)보다 제2 배플판(127)의 제2 배플판 기울임(t2)이 더 크고, 제2 배플판(127)의 제2 배플판 기울임(t2)보다 제3 배플판(128)의 제3 배플판 기울임(t3)이 더 크게 하는 방법으로 구성할 수 있다. 유입관부(121a){즉, 유입구(122a)}를 통하여 전해조(120) 내로 공급되는 희석 염산은 유입구(122a) 측의 맨 아래에서부터 점차 상승하여 유로를 따라 유동하면서 전기분해의 과정을 격게 되는데 이 과정에서 위로 유동함에 따라 점차 생성가스가 증가하고 또한 이미 발생된 생성가스가 더하여지므로, 아래의 유입구(122a) 측보다 위의 배출구(122b) 측으로 갈수록 생성가스의 이동(배출)이 보다 신속하게 이루어져야 한다. 이를 위하여, 위쪽으로 갈수록 배플판(126, 127, 128)에 주어지는 배플판 기울임(t1, t2, t3)이 점차 커지는 구조로 설계되는데, 제1 배플판 기울임(t1) < 제2 배플판 기울임(t2) < 제3 배플판 기울임(t3) 크기의 관계식을 갖는다.In more detail, the second baffle plate inclination (t2) of the second baffle plate 127 is greater than the first baffle plate inclination (t1) of the first baffle plate 126, and the It can be configured in such a way that the third baffle plate inclination (t3) of the third baffle plate 128 is greater than the second baffle plate inclination (t2). The diluted hydrochloric acid supplied into the electrolyzer 120 through the inlet pipe 121a (i.e., the inlet 122a) gradually rises from the bottom of the inlet 122a and flows along the flow path to undergo the process of electrolysis. As it flows upward in the process, the generated gas gradually increases and already generated gas is added, so the movement (discharge) of the generated gas must be more rapid toward the upper outlet (122b) than the lower inlet (122a) side. do. To this end, the structure is designed so that the baffle plate inclinations (t1, t2, t3) given to the baffle plates 126, 127, and 128 gradually increase upward, where the first baffle plate inclination (t1) < the second baffle plate inclination ( It has a relationship of t2) < the size of the third baffle plate inclination (t3).

이에 따라, 아직 생성가스의 발생이 시작단계에 있는 제1 배플판(126)과 관하여서는, 유입구(122a)를 통하여 이제 막 유입된 희석 염산의 전기분해가 이루어지기 시작하는 시점으로서 생성가스 발생이 이제 시작단계이어서 소량이므로, 제1 배플판 기울임(t1)은 없거나 최소한으로 할 수 있고, 생성가스의 이동 양과 속도가 최저인데 이를 제1 이동속도(g11)이라 한다. 그리고 전기분해가 진행됨에 따라 점차 생성가스 발생이 증가하게 되는 과정의 진행로(길목, 통로)인 전해조(120)의 중간에 배치되는 제2 배플판(127)에 주어지는 제2 배플판 기울임(t2)은 상대적으로 중간 정도로 정하여져서(약간 기울어서) 전기분해 과정에 필요한 시간 및 공간과 생성가스 배출 속도를 모두 충족하는 구조를 취하며, 생성가스의 이동 양과 속도가 중간 정도로 이루어질 수 있고, 이를 제2 이동속도(g12)이라 한다. 이러한 과정을 거쳐서 전기분해가 거의, 어느정도 이루어진 후에 전해조(120)의 맨 위쪽에 배치되는 제3 배플판(128)에 주어지는 제3 배플판 기울임(t3)은 최대로 설치되어서, 생성가스의 이동 양과 속도가 최대가 될 수 있어 신속하게 배출관부(121b)/배출구(122b)}로 이동 배출되며, 이를 제3 이동속도(g13)이라 한다. 즉, 제1 이동속도(g11) < 제2 이동속도(g12) < 제3 이동속도(g13) 크기의 관계식을 가진다.Accordingly, with respect to the first baffle plate 126, where the generation of generated gas is still at the beginning stage, the generated gas is generated at the point when electrolysis of the diluted hydrochloric acid just introduced through the inlet 122a begins to occur. Since this is the starting stage and the amount is small, the first baffle plate inclination (t1) can be absent or minimal, and the amount and speed of movement of the generated gas are the lowest, which is referred to as the first movement speed (g11). And, as the electrolysis progresses, the generation of generated gas gradually increases. The second baffle plate tilt (t2) is given to the second baffle plate 127 disposed in the middle of the electrolyzer 120, which is the progress path (way, passage) of the process. ) is set to a relatively medium level (slightly inclined) and takes on a structure that satisfies both the time and space required for the electrolysis process and the generated gas discharge rate, and the amount and speed of movement of the generated gas can be achieved at a medium level, and this can be controlled by 2 It is called movement speed (g12). After electrolysis has been achieved to some extent through this process, the third baffle plate inclination t3 given to the third baffle plate 128 disposed at the top of the electrolyzer 120 is set to the maximum, so that the amount of movement of the produced gas and Since the speed can be maximum, it is quickly moved to the discharge pipe (121b)/discharge port (122b) and discharged, which is called the third moving speed (g13). That is, it has a relational expression of first movement speed (g11) < second movement speed (g12) < third movement speed (g13).

원래 테두리부(125a)의 상부의 내하면(125f2)에는 테두리상부 기울임(f2)이 부여되는데, 이에 더하여 본 발명은 테두리부(125a)의 하부의 내상면(125f1)에도 테두리하부 기울임(f1)을 부여할 수 있다. 제1 배플판 기울임(t1)이 주어진 경우에 이와 대응하는 경사를 갖는 테두리하부 기울임(f1)을 통하여, 제1 배플판 기울임(t1)과 원래의 수평(t0) 사이에서 발생하는 이격공간의 증가를 상쇄할 수 있어서, 내상면(125f1)과 제1 배플판(126)의 간격을 일정하게 유지할 수 있다. 또한, 제1 배플판 기울임(t1)에 대한 제2 배플판 기울임(t2), 제2 배플판 기울임(t2)대한 제3 배플판 기울임(t3), 제3 배플판 기울임(t3)에 대한 테두리상부 기울임(f2)에 의해 각각 발생하는 이격공간의 증가를 상쇄하기 위하여 각각은 상대하는 기울임에 대해 대응하는 경사를 갖는 상쇄부를 구비할 수 있다. 보다 상세하게는, 제2 배플판 기울임(t2)에 대응하는 기울기를 갖도록 취해져서 제1 배플판(126)의 상측을 덮어씌울 수 있는 부재로 제공되는 제1 상쇄부(126f), 제3 배플판 기울임(t3)에 대응하는 경사를 갖도록 취해져서 제2 배플판(127)의 상측을 덮어씌울 수 있는 부재로 제공되는 제2 상쇄부(127f), 테두리상부 기울임(f2)에 대응된 기울기로 취해져서 제3 배플판(128)의 상측을 덮어씌우는 부재로 제공되는 제3 상쇄부(128f)가 각각 구성되어서 서로 평행하게 배치되어 희석염소가 유동하고 생성가스가 이동하는 유로(통로)의 일정한 간격을 유지한다. 이를 통하여 유체(염소, 생성가스 등)가 통과(유동, 이동)하는 간격이 불일정하여 발생하는 난류를 줄이고, 주된 통로에서 벗어나 맴돌이가 되면서 배출구(122b)로 도달하지 못하는 현상을 방지할 수가 있다.Originally, the upper inner surface 125f2 of the edge portion 125a is given an edge upper inclination (f2), but in addition, the present invention provides an edge lower inclination (f1) to the lower inner surface 125f1 of the edge portion 125a. can be granted. When the first baffle plate inclination (t1) is given, the separation space that occurs between the first baffle plate inclination (t1) and the original horizontal (t0) increases through the edge lower inclination (f1) having a corresponding inclination. can be offset, so that the distance between the inner upper surface 125f1 and the first baffle plate 126 can be kept constant. In addition, the second baffle plate inclination (t2) with respect to the first baffle plate inclination (t1), the third baffle plate inclination (t3) with respect to the second baffle plate inclination (t2), and the border with respect to the third baffle plate inclination (t3). In order to offset the increase in the separation space caused by the upper tilt f2, each may be provided with an offset portion having a corresponding tilt to the relative tilt. More specifically, the first offset portion 126f and the third baffle are taken to have an inclination corresponding to the second baffle plate inclination t2 and are provided as a member that can cover the upper side of the first baffle plate 126. The second offset portion 127f is taken to have an inclination corresponding to the plate inclination t3 and is provided as a member that can cover the upper side of the second baffle plate 127, and has an inclination corresponding to the edge upper inclination f2. The third offset portions 128f, which are provided as members covering the upper side of the third baffle plate 128, are each configured and arranged parallel to each other, so that the flow path through which the diluted chlorine flows and the produced gas moves is constant. Maintain spacing. Through this, it is possible to reduce turbulence caused by uneven intervals through which fluids (chlorine, generated gas, etc.) pass (flow, move), and prevent the phenomenon of not reaching the outlet (122b) as it deviates from the main passage and becomes an eddy. .

한편, 원래 유입관부(121a)/유입구(122a)위 위치 및 배출관부(121b)/배출구(122b)의 설치 위치가 전해조(120)의 상하측에서 그 중앙이었으나, 도 3의 실시예에서는 가운데가 아닌 우측의 제1측부로 옮겨져 배치되어 있다. 도면에서, 제1 배플판(126) 및 제3 배플판(128)은 우측의 제1측로부터 좌측의 제2측부로 연장되어 있으므로, 전해공간 내 유로 즉, 유동/이동 거리의 활용을 높이기 위해서, 유입관부(121a) 및 배출관부(121b)도 제1측부가 위치한 우측에 배치되는 것이 바람직하다.Meanwhile, the original installation positions of the inlet pipe (121a)/inlet (122a) and the discharge pipe (121b)/outlet (122b) were at the center of the upper and lower sides of the electrolyzer 120, but in the embodiment of FIG. 3, the center is Instead, it has been moved to the first side on the right. In the drawing, the first baffle plate 126 and the third baffle plate 128 extend from the first side on the right to the second side on the left, so as to increase the utilization of the flow path in the electrolysis space, that is, the flow/movement distance. , it is preferable that the inlet pipe portion 121a and the discharge pipe portion 121b are also disposed on the right side where the first side portion is located.

110:염산 탱크 120:전해조 124:전극 구조물 125:배플 구조물 125a:테두리부 126, 127, 128:배플판 130:원수 공급부 140:차아염소산 생성조 150:저장탱크110: Hydrochloric acid tank 120: Electrolyzer 124: Electrode structure 125: Baffle structure 125a: Edge portion 126, 127, 128: Baffle plate 130: Raw water supply portion 140: Hypochlorous acid production tank 150: Storage tank

Claims (1)

전해조를 포함하는 미산성 차아염소산수 제조장치를 이용하는 미산성 차아염소산수 제조 방법으로서,
전해조는 내부에 전해공간이 마련되고, 전해공간을 사이에 두고 연통되는 유입구와 배출구가 구비되고, 전해공간에서 유입구와 배출구의 사이의 높이에 위치하여 설치되는 배플판을 포함하고,
배플판은 전해공간의 제1 측부로부터 제1 측부의 반대측인 제2 측부 쪽으로 연장되고 제2 측부와는 이격되는 제1 배플판과, 제2 측부로부터 제1 측부 쪽으로 연장되고 제1 측부와는 이격되는 제2 배플판과, 다시 제1 측부로부터 제1 측부의 반대측인 제2 측부 쪽으로 연장되고 제2 측부와는 이격되는 제3 배플판이 차례로 높이방향으로 교대하여 이격되게 배치되고, 인접한 다른 배플판의 끝단을 지나서 더 연장되는 형태를 취하여 준비되어서,
유입구로 희석 염산이 유입된 후에, 배플판에 의해서 전해공간 내 희석 염산의 유동이 지그재그 방향을 바꾸면서 거리가 증가되어 충분한 전기분해 시간을 확보한 후, 배출구를 향해 상승하여 배출되되는 것을 특징으로 하는 미산성 차아염소산수 제조 방법.
A method for producing slightly acidic hypochlorous acid water using a slightly acidic hypochlorous acid water production device including an electrolyzer,
The electrolyzer has an electrolytic space inside, is provided with an inlet and an outlet communicating across the electrolytic space, and includes a baffle plate installed at a height between the inlet and the outlet in the electrolytic space,
The baffle plate includes a first baffle plate extending from a first side of the electrolysis space toward a second side opposite the first side and spaced apart from the second side, and a first baffle plate extending from the second side toward the first side and being spaced apart from the first side. A second baffle plate that is spaced apart, and a third baffle plate that extends from the first side toward the second side opposite the first side and is spaced apart from the second side are sequentially arranged to be alternately spaced apart in the height direction, and another baffle plate adjacent to the other baffle plate is spaced apart from each other. It is prepared in a shape that extends beyond the end of the plate,
After diluted hydrochloric acid flows into the inlet, the flow of diluted hydrochloric acid in the electrolysis space changes zigzag direction by the baffle plate, increasing the distance to secure sufficient electrolysis time, and then rising toward the outlet and being discharged. Method for producing slightly acidic hypochlorous acid water.
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