KR20230129966A - Fixing equipment of cathode plate for electrolytic-polishing and electrolytic-polishing apparatus including the same - Google Patents
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Abstract
Description
실시예는 전해연마용 음극판 고정부재 및 이를 포함하는 전해연마장치에 관한 것이다.The embodiment relates to a negative plate fixing member for electrolytic polishing and an electrolytic polishing device including the same.
전해연마(Electrolytic-polishing)는 전해액에 용해되는 금속 제품을 양극(Anode)으로 사용하고 전해액에 불용성인 금속을 음극(Cathode)으로 사용하여, 양극과 음극 사이에 전압을 인가함으로써 전해연마 대상재인 금속 제품의 표면에서 전기분해를 일으켜 금속 제품의 표면을 연마하는 방법이다.Electrolytic-polishing uses a metal product soluble in an electrolyte as an anode and a metal insoluble in an electrolyte as a cathode, and applies a voltage between the anode and cathode to apply electrolytic polishing to the metal. This is a method of polishing the surface of a metal product by causing electrolysis on the surface of the product.
일반적으로 전해연마를 이용하여 금속을 연마하기 위해서는 전해조에 전해액을 채우고, 연마하고자 하는 금속을 양극으로 설치하고 전해액에 용해하지 않는 금속을 음극으로 설치한 다음 양극과 음극에 직류를 인가한다.Generally, to polish a metal using electrolytic polishing, an electrolytic cell is filled with an electrolyte, the metal to be polished is installed as the anode, a metal that does not dissolve in the electrolyte is installed as the cathode, and direct current is applied to the anode and cathode.
전해연마가 진행되면 양극으로부터 용해된 금속이온을 다량 함유한 고점도 액체층(점성층)이 양극인 전해연마 대상재를 둘러싼다. 금속이온으로 포화된 액체층에서는 금속이 더 이상 용해되지 않고 높은 양극 전위를 형성하므로 산소와 활발히 결합하여 산화물 피막을 형성한다. 이때, 용해된 금속이온은 금속 표면의 오목한 부분에 주로 축적되며 오목한 부분에서는 금속이온의 이동과 확산이 적어 전기가 잘 통하지 않으므로 금속이 용해되지 않는다. 반면, 전해연마 대상재의 금속 표면의 볼록 부분에서는 금속 이온층이 얇게 형성되므로 전류가 집중되어 금속 표면을 쉽게 용해시켜 전체적으로 전해연마 대상재의 금속표면이 평활하게 된다.When electrolytic polishing progresses, a high-viscosity liquid layer (viscous layer) containing a large amount of metal ions dissolved from the anode surrounds the electrolytic polishing target material, which is the anode. In a liquid layer saturated with metal ions, the metal no longer dissolves and forms a high anode potential, so it actively combines with oxygen to form an oxide film. At this time, dissolved metal ions are mainly accumulated in the concave part of the metal surface, and in the concave part, the movement and diffusion of metal ions are low and electricity does not conduct well, so the metal does not dissolve. On the other hand, since the metal ion layer is formed thinly in the convex part of the metal surface of the electrolytic polishing target material, current is concentrated and easily dissolves the metal surface, making the overall metal surface of the electrolytic polishing target material smooth.
한편, 전해연마는 전해연마장치를 통해 수행하게 되는데, 종래기술에 따른 전해연마장치는 '전해조' 내에 양극 전위를 갖는 전해연마 대상재를 배치하고 음극판을 전해연마 대상재의 연마면에 이격되도록 배치시킨다. 음극판은 전해연마 대상재의 형상에 따라 변경되어야 하기 때문에 전해연마 대상재의 형상에 따라 조립 후 전해조 내에 설치하게 된다.Meanwhile, electrolytic polishing is performed through an electrolytic polishing device. In the electrolytic polishing device according to the prior art, an electrolytic polishing target material with a positive potential is placed in an 'electrolytic cell' and a negative electrode plate is arranged to be spaced apart from the polishing surface of the electrolytic polishing target material. . Since the cathode plate must be changed according to the shape of the electrolytic polishing target material, it is installed in the electrolytic cell after assembly according to the shape of the electrolytic polishing target material.
상기와 같이 조립된 음극판은 전기적 단락방지를 위해 전해연마 대상재와 직접 접촉되지 않도록 전해조 내에 설치되어야 한다. 그런데 음극판은 전해연마 대상재와 근접하게 일정한 거리를 유지하면서 배치되어야 균일한 연마가 가능하여 전해연마 품질이 향상된다.The cathode plate assembled as above must be installed in the electrolytic cell so as not to come into direct contact with the electrolytic polishing target material to prevent electrical short circuit. However, the cathode plate must be placed close to the electrolytic polishing target material while maintaining a certain distance to enable uniform polishing and improve electrolytic polishing quality.
그러나 종래기술에서는 음극판을 전해연마 대상재와 근접하게 일정한 거리를 유지하도록 견고하게 배치하지 못하는 실정이었다.However, in the prior art, it was not possible to firmly arrange the cathode plate to maintain a constant distance from the electrolytic polishing target material.
이에 전해연마 대상재에 형성된 탭 홀(또는 볼트 홀)에 음극 거치대를 장착하고, 음극 거치대와 절연된 상태로 전해연마 대상재의 일측에 근접하면서도 균일하게 음극판을 음극 거치대 상에 고정시키는 발명을 출원하여 특허등록을 받은 바 있다(한국등록특허 10-1183218호, 이하 '선행특허 1'이라 함) 참조).Accordingly, we applied for an invention in which a cathode holder is mounted on a tab hole (or bolt hole) formed in the electrolytic polishing target material, and the cathode plate is uniformly fixed on the cathode holder while being close to one side of the electrolytic polishing target material while insulated from the cathode holder. It has been patented (see Korean Patent No. 10-1183218, hereinafter referred to as ‘Prior Patent 1’).
이후 전해연마 대상재의 규격을 고려하여 미리 제작된 모듈형태의 격자형 음극판을 통해 전해연마 대상재의 전해연마가 이루어짐으로써, 전해연마를 하기 위한 음극판의 설치시간을 현저히 단축할 수 있으며, 이로 인해 전체적인 전해연마 공정의 시간단축이 가능함과 아울러 전해연마 품질의 균일성을 높일 수 있는 발명을 출원하여 특허등록을 받은 바 있다(한국등록특허 10-1769924호, 이하 '선행특허 2'이라 함).Afterwards, electrolytic polishing of the electrolytic polishing target material is performed through a grid-shaped cathode plate in the form of a module pre-manufactured in consideration of the specifications of the electrolytic polishing target material, thereby significantly shortening the installation time of the negative plate for electrolytic polishing, thereby reducing the overall electrolytic polishing time. An invention that can shorten the time of the polishing process and increase the uniformity of electropolishing quality has been applied for and registered as a patent (Korean Patent No. 10-1769924, hereinafter referred to as 'Prior Patent 2').
도 1은 선행특허 2가 적용된 종래 기술에 따른 전해연마 장치의 개념도이다.Figure 1 is a conceptual diagram of an electrolytic polishing device according to the prior art to which prior patent 2 is applied.
종래 기술에 따른 전해연마 장치는 전해연마 대상재의 연마부에 격자형 음극판이 음극거치 고정대를 이용하여 장착될 수 있다.In the electrolytic polishing device according to the prior art, a grid-shaped cathode plate can be mounted on the polishing part of the electrolytic polishing target material using a cathode holder.
예를 들어, 전해연마 대상재에 내재된 볼트홀 또는 탭홀에 음극거치 고정대가 나사결합되며, 절연판(미도시)이 개재된 상태에서 음극거치 고정대 상에 격자형 음극판이 거치된 상태에서 고정부재, 예를 들어 C형 클램프 등에 의해 고정되어 장착된다. For example, the cathode holder is screwed to the bolt hole or tap hole inherent in the electrolytic polishing target material, and with an insulating plate (not shown) interposed, a grid-shaped cathode plate is mounted on the cathode holder, and the fixing member, For example, it is fixed and mounted using a C-type clamp.
이때 격자형 음극판은 수평방향으로 배치된 수평 음극판과 수직방향으로 배치된 수직 음극판을 포함하며, 수평 음극판과 수직 음극판은 리벳, 볼트 또는 C형 클램프 등의 고정부재에 의해 일체화되어 연마부에 대응되는 모양과 크기로 모듈 형태로 미리 제작되어 준비된 후 음극거치 고정대 상에 장착될 수 있다.At this time, the grid-type cathode plate includes a horizontal cathode plate arranged in the horizontal direction and a vertical cathode plate arranged in the vertical direction, and the horizontal cathode plate and the vertical cathode plate are integrated by a fixing member such as a rivet, bolt, or C-type clamp to correspond to the polishing unit. It can be pre-manufactured and prepared in modular form in shape and size and then mounted on the cathode holder fixture.
그런데 최근 전해연마 기술(Electrolytic Polishing Technology)은 스퍼터링, CVD, 진공증착, 성막설비 등의 LCD, LED, OLED 등 디스플레이 산업에서 사용되는 진공챔버 및 그 부품에 주로 적용되고 있는다.However, recently, electrolytic polishing technology is mainly applied to vacuum chambers and their components used in the display industry such as LCD, LED, and OLED, including sputtering, CVD, vacuum deposition, and film forming equipment.
예를 들어, 전해연마 대상재가 OLED용 챔버이거나 LED용 MOCVD 챔버 등의 경우에는 그 중량은 수백 kg에서 수 톤(ton)에 이르는 거대한 경우가 많다. 이러한 거대한 전해연마 대상재를 전해연마 하기 위한 격자형 음극판도 거대해 지며 격자형 음극판의 무게도 수백 kg에 이르고 있고, 격자형 음극판의 중량의 증가는 전해연마 공정의 난이도를 증가시키며 전해연마 공정의 불량을 발생시킬 수도 있다.For example, in the case where the electrolytic polishing object is a chamber for OLED or a MOCVD chamber for LED, the weight is often huge, ranging from hundreds of kg to several tons. The grid-shaped cathode plate for electropolishing such a large electrolytic polishing target material is also becoming large, and the weight of the grid-shaped cathode plate reaches hundreds of kg. The increase in the weight of the grid-shaped cathode plate increases the difficulty of the electropolishing process and causes defects in the electropolishing process. may occur.
한편, 전해연마에서 격자형 음극판의 결합수단으로 사용되는 고정부재 중에 C형 클램프가 사용되고 있는데 종래 C형 클램프는 주조방식 등으로 제조됨으로 재질을 개선에도 불구하고 중량을 줄이는데 한계가 있다. Meanwhile, C-type clamps are used among the fixing members used as a means of connecting grid-shaped cathode plates in electrolytic polishing. Conventional C-type clamps are manufactured using a casting method, so there is a limit to reducing weight despite improvements in material.
또한 종래 C형 클램프는 프레임과 프레임에 나사결합되는 체결부를 포함하는데, C형 클램프의 중량을 줄이기 위해 프레임을 얇은 박형으로 제조하는 경우 강도가 약하여 비틀어지거나 휨이 발생할 수 있는 기술적 모순에 직면하고 있다.In addition, the conventional C-type clamp includes a frame and a fastening part that is screwed to the frame, but when the frame is manufactured in a thin shape to reduce the weight of the C-type clamp, it faces a technical contradiction in that its strength is weak and twisting or bending may occur. .
또한 종래 C형 클램프의 체결부의 고정부가 차지하는 중량을 줄이기 위해 체결부의 고정부를 좁게 형성하는 경우 고정력이 낮아지는 기술적 모순에 직면하고 있다.In addition, in order to reduce the weight occupied by the fixing part of the conventional C-type clamp, when the fixing part of the fastening part is formed narrowly, it faces a technical contradiction in that the fixing force is lowered.
도 1에서와 같이 격자형 음극판의 결합수단으로 수많은 고정부재가 필요하므로 고정부재의 중량을 줄이는 것은 중요한 기술적 문제이며, 또한 음극거치 고정대에서 결합수단으로 사용되는 고정부재의 중량을 줄이는 것도 중요한 문제이다.As shown in FIG. 1, numerous fixing members are required as coupling means for the grid-type cathode plate, so reducing the weight of the fixing members is an important technical issue. Also, reducing the weight of the fixing members used as coupling means in the cathode holder is also an important issue. .
실시예의 기술적 과제 중의 하나는 전해연마에 사용되는 격자형 음극판의 결합수단으로 사용되는 고정부재의 중량을 줄이면서도 강도가 우수한 전해연마용 음극판 고정부재 및 이를 포함하는 전해연마장치를 제공하고자 함이다.One of the technical challenges of the embodiment is to provide a cathode plate fixing member for electrolytic polishing that has excellent strength while reducing the weight of the fixing member used as a coupling means for a grid-shaped negative electrode plate used in electrolytic polishing, and an electrolytic polishing device including the same.
또한 실시예의 기술적 과제 중의 하나는 전해연마용 음극판 고정부재의 고정부 영역이 차지하는 영역을 넓게 확보하여 고정력을 높이면서도 중량을 줄일 수 있는 전해연마용 음극판 고정부재 및 이를 포함하는 전해연마장치를 제공하고자 함이다.In addition, one of the technical tasks of the embodiment is to provide a negative electrode plate fixing member for electrolytic polishing that can reduce the weight while increasing fixing force by securing a wide area occupied by the fixing part of the negative electrode plate fixing member for electrolytic polishing, and an electrolytic polishing device including the same. It is Ham.
실시예의 기술적 과제는 본 항목에 기재된 것에 한정되는 것이 아니며, 발명의 설명을 통해 파악될 수 있는 것을 포함한다.The technical problems of the embodiments are not limited to those described in this item, but include those that can be understood through the description of the invention.
실시에에 따른 전해연마용 음극판 고정부재는, 상호 결합되는 프레임 유닛(122)과 체결 유닛(124)을 포함할 수 있다.The cathode plate fixing member for electrolytic polishing according to the embodiment may include a frame unit 122 and a fastening unit 124 that are coupled to each other.
상기 프레임 유닛(122)은, 프레임부(122a)와, 상기 프레임부(122a)의 일측으로 연장되어 형성된 프레임 고정부(122b)와 상기 프레임부(122a)의 타측으로 연장되어 형성된 프레임 결합부(122c)를 포함할 수 있다.The frame unit 122 includes a frame portion 122a, a frame fixing portion 122b extending to one side of the frame portion 122a, and a frame coupling portion extending to the other side of the frame portion 122a ( 122c) may be included.
상기 체결 유닛(124)은, 상기 프레임 결합부(122c)에 삽입되는 체결 프레임(124a)과, 상기 체결 프레임(124a) 일단에 형성된 체결 고정부(124b)와, 상기 체결 프레임(124a) 타측에 형성된 조임부(124c)를 포함할 수 있다.The fastening unit 124 includes a fastening frame 124a inserted into the frame coupling portion 122c, a fastening fixture 124b formed on one end of the fastening frame 124a, and a fastening fixture 124b on the other side of the fastening frame 124a. It may include a formed fastener (124c).
상기 프레임 유닛(122)의 프레임부(122a)는, 상호 접합된 제1 수평 프레임(122a1)과 제2 수평 프레임(122a2) 사이에 캐비티(C)를 포함할 수 있다.The frame portion 122a of the frame unit 122 may include a cavity C between the first horizontal frame 122a1 and the second horizontal frame 122a2 joined to each other.
상기 프레임 유닛(122)의 프레임부(122a)는, 상기 제1 수평 프레임(122a1) 사이에는 배치되는 제1 곡률 프레임(122r1) 및 상기 제2 수평 프레임(122a2) 사이에 배치되는 제2 곡률 프레임(122r2)을 포함할 수 있다.The frame portion 122a of the frame unit 122 includes a first curved frame 122r1 disposed between the first horizontal frame 122a1 and a second curved frame disposed between the second horizontal frame 122a2. It may include (122r2).
상기 체결 고정부(124b)는 상기 체결 프레임(124a) 일단에 컵 모양을 구비할 수 있다.The fastening fixture 124b may have a cup shape at one end of the fastening frame 124a.
상기 체결 유닛(124)은, 상기 체결 프레임(124a) 일단의 최 끝단에 형성된 체결 걸림부(124d)를 포함할 수 있다.The fastening unit 124 may include a fastening locking portion 124d formed at the extreme end of one end of the fastening frame 124a.
상기 체결 걸림부(124d)는, 걸림부 몸체(124d1)와 상기 걸림부 몸체로부터 연장된 걸림부 확장부(124d2)를 포함할 수 있다.The fastening locking portion 124d may include a locking portion body 124d1 and a locking portion extension 124d2 extending from the locking portion body.
상기 걸림부 확장부(124d2)의 제2 직경(D2)은 상기 걸림부 몸체(124d1)의 제1 직경(D1)에 비해 클 수 있다.The second diameter D2 of the engaging portion extension 124d2 may be larger than the first diameter D1 of the engaging portion body 124d1.
상기 체결 유닛은, 상기 체결 고정부의 중심을 관통하여 상기 체결 프레임 일단의 최 끝단에 배치되는 체결 걸림부를 포함할 수 있다.The fastening unit may include a fastening locking portion that passes through the center of the fastening fixture and is disposed at an extreme end of one end of the fastening frame.
상기 체결 걸림부는, 내부에 홈이 구비된 중공 형상의 걸림부 몸체와 상기 걸림부 몸체 끝단으로부터 측면 연장된 걸림부 확장부를 포함할 수 있다.The fastening locking portion may include a hollow locking body having a groove therein and a locking portion extension extending laterally from an end of the locking body.
상기 걸림부 몸체와 일체로 형성되는 상기 걸림부 확장부의 제2 직경은 상기 걸림부 몸체의 제1 직경에 비해 클 수 있다.The second diameter of the engaging portion extension portion formed integrally with the engaging portion body may be larger than the first diameter of the engaging portion body.
상기 조임부는, 상기 체결 프레임 타측 끝단을 관통하는 조임부 바디와, 상기 조임부 바디 양측 끝단에 각각 길이방향으로 연장되어 형성된 조임부 걸림부를 포함하고, 상기 조임부 걸림부의 폭은 상기 조임부 바디보다 클 수 있다.The tightening part includes a tightening part body penetrating the other end of the fastening frame, and a tightening part locking part extending in the longitudinal direction at both ends of the tightening part body, and the width of the tightening part catching part is wider than the tightening part body. It can be big.
상기 체결 걸림부는, 내부에 홈이 구비된 원형 중공 형상의 걸림부 몸체와 상기 원형 중공 형상의 걸림부 몸체의 원형 외곽 끝단으로부터 방사형으로 측면 연장된 걸림부 확장부를 포함할 수 있다.The fastening engaging portion may include a circular hollow engaging body having a groove therein and a engaging extending portion extending radially laterally from a circular outer end of the circular hollow engaging body.
상기 원형 중공 형상의 걸림부 몸체와 일체로 형성되는 상기 걸림부 확장부의 원형 외곽의 제2 직경은 상기 걸림부 몸체의 원형 외곽의 제1 직경에 비해 클 수 있다.The second diameter of the circular outline of the engaging portion extension, which is formed integrally with the circular hollow engaging portion body, may be larger than the first diameter of the circular outer portion of the engaging portion body.
실시예에 따른 전해연마장치는, 전해 연마용 제1 음극판과 제2 음극판과, 상기 제1 음극판과 제2 음극판을 결합하는 상기 어느 하나의 전해연마용 음극판 고정부재를 포함할 수 있다.The electrolytic polishing device according to the embodiment may include a first cathode plate and a second cathode plate for electrolytic polishing, and one of the cathode plate fixing members for electrolytic polishing that couples the first cathode plate and the second cathode plate.
실시예에 의하면, 전해연마에 사용되는 격자형 음극판의 결합수단으로 사용되는 고정부재의 중량을 줄이면서도 강도가 우수한 전해연마용 음극판 고정부재 및 이를 포함하는 전해연마장치를 제공할 수 있는 기술적 효과가 있다.According to the embodiment, the technical effect of providing a cathode plate fixing member for electrolytic polishing with excellent strength while reducing the weight of the fixing member used as a coupling means for a grid-type negative electrode plate used in electrolytic polishing and an electrolytic polishing device including the same is achieved. there is.
또한 실시예에 의하면 전해연마용 음극판 고정부재는 고정부 영역이 차지하는 영역을 넓게 확보하여 고정력을 높이면서도 중량을 줄일 수 있는 전해연마용 음극판 고정부재 및 이를 포함하는 전해연마장치를 제공할 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, according to an embodiment, a negative electrode plate fixing member for electrolytic polishing can secure a wide area occupied by the fixing part area to increase fixing force while reducing weight, and a technical method capable of providing an electrolytic polishing device including the same. It works.
특히 실시예에 의하면 경량이면서 강도와 고정력이 우수한 전해연마용 음극판 고정부재를 사용함으로써 실시예에 따라 에어포켓을 차단 또는 제거하기 위해 전해연마 대상재와 이에 장착된 격자형 음극판을 틸팅하는 경우 기존보다 중량이 경량화되며 격자형 음극판의 음극판 간의 결합력 향상 및 격자형 음극판이 음극 거치 고정대에 보다 견고히 결합될 수 있다.In particular, according to the embodiment, by using a cathode plate fixing member for electrolytic polishing that is lightweight and has excellent strength and fixing power, when tilting the electrolytic polishing target material and the lattice-type cathode plate mounted thereto to block or remove air pockets, it is more effective than before. The weight is reduced, the bonding strength between the negative electrode plates of the grid-shaped negative electrode plate is improved, and the grid-shaped negative electrode plate can be more firmly coupled to the negative electrode holder.
또한 실시예에 의하면, 일측 틸팅 후 방향 전환을 위해 타측으로 틸팅하는 경우 경량으로 인해 에어 포켓을 제거하기 위해 틸팅 공정 효율이 향상될 수 있다.Additionally, according to an embodiment, when tilting to one side and then tilting to the other side to change direction, the efficiency of the tilting process can be improved to eliminate air pockets due to the light weight.
뿐만 아니라 실시예에 의하면, 격자형 음극판 자체 및 전해연마 대상재와 격자형 음극판의 보다 견고한 결합력에 의해 격자형 음극판과 전해연마 대상재 간의 접촉에 의한 쇼트가 발생되지 않으므로 공정, 제품 신뢰성이 매우 향상된 전해연마 공정을 진행할 수 있는 특별한 기술적 효과가 있다.In addition, according to the embodiment, the process and product reliability are greatly improved because short circuits do not occur due to contact between the grid-shaped negative electrode plate and the electrolytic polishing target material due to the stronger bond between the grid-shaped negative electrode plate itself and the electrolytic polishing target material and the grid-shaped negative electrode plate. There is a special technical effect that allows the electropolishing process to proceed.
또한 실시예에 의하면, 전해연마용 음극판 고정부재의 프레임 유닛(122)의 프레임부(122a)는 상호 접합된 제1 수평 프레임(122a1)과 제2 수평 프레임(122a2) 사이에 캐비티(C)를 포함함으로써 중량을 줄이면서도 강도가 우수한 전해연마용 음극판 고정부재를 제공할 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, according to the embodiment, the frame portion 122a of the frame unit 122 of the cathode plate fixing member for electrolytic polishing has a cavity C between the first horizontal frame 122a1 and the second horizontal frame 122a2 joined to each other. By including it, there is a technical effect of providing a negative plate fixing member for electrolytic polishing with excellent strength while reducing weight.
특히 실시예에서 상기 캐비티(C)는 공기(air)가 채워진 상태에서 밀폐 공간일 수 있다. 이를 통해 상기 프레임 유닛(122)의 프레임부(122a) 캐비티(C) 내부로 외부로부터 유체가 유입되지 않을 수 있다.In particular, in an embodiment, the cavity C may be a closed space filled with air. Through this, fluid may not flow from the outside into the cavity C of the frame portion 122a of the frame unit 122.
그러므로 실시예에 의하면 캐비티(C)를 구비한 전해연마용 고정부재(120)는 중량을 줄이면서도 강도가 우수한 전해연마용 음극판 고정부재를 제공할 수 있으며, 특히 전해액에 침지되었을 때 부력의 효과 외에 전해연마용 고정부재(120)의 프레임 유닛(122)의 캐비티(C) 내부에 밀폐된 공기(air)에 의해 전해액 내에서 전해액과 공기(air)의 밀도차에 의한 상측 상승력을 받게 되어 중량이 감소되는 특별한 기술적 효과가 있다.Therefore, according to the embodiment, the fixing member 120 for electrolytic polishing with a cavity (C) can provide a fixing member for an electrolytic polishing cathode plate with excellent strength while reducing weight, and in particular, when immersed in an electrolyte solution, in addition to the effect of buoyancy The air sealed inside the cavity (C) of the frame unit 122 of the electrolytic polishing fixing member 120 receives an upward upward force due to the density difference between the electrolyte and the air within the electrolyte, causing the weight to increase. There are special technical effects that are reduced.
실시예의 기술적 효과는 본 항목에 기재된 것에 한정되는 것이 아니며, 발명의 설명을 통해 파악될 수 있는 것을 포함한다.The technical effects of the embodiments are not limited to those described in this item, but include those that can be understood through the description of the invention.
도 1은 종래 기술에 따른 전해연마 장치의 개념도.
도 2는 실시예에 따른 전해연마장치를 도시한 도면이다.
도 3a는 대상재가 제1 구간 동안 상하로 틸팅되는 모습의 개념도.
도 3b는 대상재가 제2 구간 동안 상하로 틸팅되는 모습의 개념도.
도 4는 실시예에 따른 전해연마용 음극판 고정부재의 평면 입체도.
도 5는 도 4에 도시된 실시예에 따른 전해연마용 음극판 고정부재의 A1-A1 선을 따른 단면도.
도 6은 실시예에 따른 전해연마용 음극판 고정부재의 사시도.
도 7은 도 6에 도시된 실시예에 따른 전해연마용 음극판 고정부재에서 체결부의 고정부의 확대도.1 is a conceptual diagram of an electrolytic polishing device according to the prior art.
Figure 2 is a diagram showing an electrolytic polishing device according to an embodiment.
Figure 3a is a conceptual diagram showing the object being tilted up and down during the first section.
Figure 3b is a conceptual diagram showing the object being tilted up and down during the second section.
Figure 4 is a three-dimensional plan view of a negative electrode plate fixing member for electrolytic polishing according to an embodiment.
Figure 5 is a cross-sectional view taken along line A1-A1 of the negative electrode plate fixing member for electrolytic polishing according to the embodiment shown in Figure 4.
Figure 6 is a perspective view of a negative electrode plate fixing member for electrolytic polishing according to an embodiment.
Figure 7 is an enlarged view of the fixing part of the fastening part in the fixing member for the negative electrode plate for electrolytic polishing according to the embodiment shown in Figure 6.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명의 기술 사상은 설명되는 일부 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있고, 본 발명의 기술 사상 범위 내에서라면, 실시 예들간 그 구성 요소들 중 하나 이상을 선택적으로 결합, 치환하여 사용할 수 있다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings. However, the technical idea of the present invention is not limited to some of the described embodiments, but may be implemented in various different forms, and as long as it is within the scope of the technical idea of the present invention, one or more of the components may be optionally used between the embodiments. It can be used by combining and replacing.
본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함할 수 있고, “B 및(와) C 중 적어도 하나(또는 한 개 이상)”로 기재되는 경우 A, B, C로 조합할 수 있는 모든 조합 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 그리고, 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 '연결', '결합' 또는 '접속'된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결, 결합 또는 접속되는 경우 뿐만 아니라, 그 구성 요소와 그 다른 구성요소 사이에 있는 또 다른 구성 요소로 인해 '연결', '결합' 또는 '접속'되는 경우도 포함할 수 있다. 또한, 각 구성 요소의 " 상(위) 또는 하(아래)"에 형성 또는 배치되는 것으로 기재되는 경우, 상(위) 또는 하(아래)는 두개의 구성 요소들이 서로 직접 접촉되는 경우뿐만 아니라 하나 이상의 또 다른 구성 요소가 두 개의 구성 요소들 사이에 형성 또는 배치되는 경우도 포함한다. 또한 “상(위) 또는 하(아래)”으로 표현되는 경우 하나의 구성 요소를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.In this specification, the singular can also include the plural unless specifically stated in the phrase, and when described as “at least one (or more than one) of B and C”, it can be combined with A, B, and C. It may contain one or more of all possible combinations. And, when a component is described as being 'connected', 'coupled' or 'connected' to another component, the component is not only directly connected, coupled or connected to that other component, but also is connected to that component. It may also include cases where other components are 'connected', 'coupled', or 'connected' by another component between them. In addition, when described as being formed or disposed "on top or bottom" of each component, top or bottom refers not only to cases where two components are in direct contact with each other, but also to one component. This also includes cases where another component described above is formed or placed between two components. Additionally, when expressed as “top (above) or bottom (bottom),” it can include the meaning of not only the upward direction but also the downward direction based on one component.
실시예에서 고정부재는 격자형태의 음극판을 형성하기 위해 음극판을 서로 결합하는 용도로 사용되는 것을 중심으로 설명하나 이에 한정되는 것은 아니며, 음극판을 음극거치 고정대 상에 결합하는 용도로 사용되는 것을 포함한다.In the embodiment, the fixing member is mainly described as being used to connect negative electrode plates to each other to form a lattice-shaped negative electrode plate, but is not limited thereto, and includes being used to couple the negative electrode plate to the negative electrode holder. .
(실시예)(Example)
도 2는 실시예에 따른 전해연마장치(1000)의 사시도이다.Figure 2 is a perspective view of an electrolytic polishing device 1000 according to an embodiment.
도 2를 참조하면, 실시예에 따른 전해연마장치(1000)는 전해액(25)을 수용하는 전해조(20)와, 상기 전해조(20)의 전해액에 침지되는 전해연마 대상재(11)와, 상기 전해연마 대상재(11)에 장착된 음극판(100)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2, the electrolytic polishing device 1000 according to the embodiment includes an electrolytic cell 20 containing an electrolytic solution 25, an electrolytic polishing target material 11 immersed in the electrolytic solution of the electrolytic cell 20, and the electrolytic polishing device 1000 according to the embodiment. It may include a negative electrode plate 100 mounted on the electrolytic polishing target material 11.
상기 전해조(20)는 전해연마 대상재(11)를 전해연마할 수 있는 전해액(25)이 수용될 수 있다. 상기 전해조(20)는 내부에 빈 공간이 형성되고, 이 빈 공간에 전해액(25)이 채워질 수 있다. The electrolytic cell 20 may contain an electrolyte solution 25 capable of electrolytically polishing the electrolytic polishing target material 11. The electrolytic cell 20 has an empty space formed inside, and this empty space can be filled with the electrolyte solution 25.
상기 전해조(20)는 전해연마 대상재(11)의 크기나 형상에 따라 달라질 수 있다. 전해조(20)는 사각 형상을 가지고, 그 내부에 형성된 공간도 사각 형상을 가질 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 전해조(20)는 바닥부와 바닥부의 에지를 따라 수직으로 연장되는 측부를 가질 수 있다. 이러한 바닥부와 측부에 의해 빈 공간이 형성되고, 이 공간에 전해액(25)이 채워질 수 있다. The electrolytic cell 20 may vary depending on the size or shape of the electrolytic polishing target material 11. The electrolytic cell 20 may have a rectangular shape, and the space formed therein may also have a rectangular shape, but this is not limited. Electrolyzer 20 may have a bottom and sides extending vertically along an edge of the bottom. An empty space is formed by these bottom and side parts, and this space can be filled with the electrolyte solution 25.
상기 음극판(100)은 정류기(미도시)의 음극단자로부터 제공된 음(-)의 전원을 인가받을 수 있다.The negative plate 100 can receive negative power provided from the negative terminal of a rectifier (not shown).
상기 음극판(100)은 도 2에 도시된 전해연마 대상재(11)에 이격되어 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 음극판(100)은 전해연마 대상재(11)에 존재하는 소정의 볼트 홀 또는 탭 홀에 음극거치 고정대(미도시)를 결합하고, 상기 음극거치 고정대 상에 절연재를 개재하고 음극판(100)을 거치할 수 있다.The negative electrode plate 100 may be arranged to be spaced apart from the electrolytic polishing target material 11 shown in FIG. 2. For example, the cathode plate 100 is formed by attaching a cathode holder (not shown) to a predetermined bolt hole or tab hole existing in the electrolytic polishing target material 11, interposing an insulating material on the cathode holder, and forming the cathode plate. (100) can be mounted.
상기 음극판(100)과 상기 음극거치 고정대는 실시예에 따른 전해연마용 음극판 고정부재(120)에 의해 고정될 수 있다.The negative electrode plate 100 and the negative electrode holder may be fixed by the negative electrode plate fixing member 120 for electrolytic polishing according to the embodiment.
상기 음극판(100)는 전해연마 대상재(11)에 전 영역에 배치될 수 있다. 예컨대, 음극판(100)는 서로 격자 형상으로 결합된 복수의 수평 플레이트(102)와 수직 플레이트(104)를 포함할 수 있다. 상기 음극판(100)은 음극 부스바 플레이트(105)와 연결되어 정류기로부터 음(-) 전원을 인가받을 수 있고, 상기 전해연마 대상재(11)는 양극 부스바 플레이트(미도시)와 연결되어 정류기로부터 양(+) 전원을 인가받을 수 있다.The negative electrode plate 100 may be disposed on the entire area of the electrolytic polishing target material 11. For example, the negative electrode plate 100 may include a plurality of horizontal plates 102 and vertical plates 104 coupled to each other in a grid shape. The cathode plate 100 is connected to the cathode busbar plate 105 to receive negative (-) power from a rectifier, and the electrolytic polishing target material 11 is connected to the anode busbar plate (not shown) to operate the rectifier. Positive (+) power can be received from .
상기 음극판(100)과 상기 음극 부스바 플레이트(105)는 실시예에 따른 전해연마용 음극판 고정부재(120)에 의해 고정될 수 있다.The cathode plate 100 and the cathode busbar plate 105 may be fixed by a cathode plate fixing member 120 for electrolytic polishing according to the embodiment.
도 2를 참조하면, 전해연마 대상재(11)가 거대하므로, 전해연마 대상재(11)는 크레인장치의 호이스트장치(미도시)에 의해 승강될 수 있다. 상기 크레인장치는 호이스트부를 포함할 수 있다. 호이스트부는 전해연마 대상재(11)에 연결되어 전해연마 대상재(11)가 상하로 틸팅되거나 수평방향으로 이동되도록 구동할 수 있다. 호이스트부는 원격조정기(remote controller)와 원격 통신되어, 원격조정기로부터의 통신 신호에 의해 구동될 수 있다. Referring to FIG. 2, since the electrolytic polishing target material 11 is large, the electrolytic polishing target material 11 can be lifted and lowered by a hoist device (not shown) of a crane device. The crane device may include a hoist unit. The hoist part is connected to the electrolytic polishing target material 11 and can drive the electrolytic polishing target material 11 to tilt up and down or move in the horizontal direction. The hoist unit is in remote communication with a remote controller and can be driven by a communication signal from the remote controller.
예컨대, 전해연마 대상재(11)가 호이스트장치에 연결된 제1 연결와이어(170), 제2 연결와이어(172)에 의해 체결된 후, 호이스트장치의 구동에 의해 전해조(20)의 전해액(25)에 수용되거나 전해액(25)으로부터 꺼내질 수 있다. For example, after the electrolytic polishing target material 11 is fastened by the first connection wire 170 and the second connection wire 172 connected to the hoist device, the electrolyte solution 25 in the electrolyzer 20 is driven by the hoist device. It can be received in or taken out from the electrolyte solution (25).
호이스트장치에 의해 전해연마 대상재(11)는 전해연마를 위해 이전 공정으로부터 전해조(20)로 이동되거나 세정공정 등을 위해 전해조(20)로부터 다음 공정 장치로 이동될 수 있다. By a hoist device, the electrolytic polishing target material 11 may be moved from the previous process to the electrolytic cell 20 for electrolytic polishing, or may be moved from the electrolytic cell 20 to the next processing device for a cleaning process, etc.
한편, 최근 전해연마 대상재가 OLED용 챔버이거나 LED용 MOCVD 챔버 등의 경우에는 육면체 등 다면체 형태이므로 챔버 내측에 반도체 증착 공정 등을 진행을 위한 빈 공간이 형성되고, 내측 상단은 모서리 영역이 있으므로 챔버형태의 전해연마 대상재에 대해 전해액에 침지된 상태로 전해연마가 수행되는 경우, 전해연마 대상재 내측 상단 모서리 영역에 에어포켓(air pocket)이 형성되고 있다.Meanwhile, in the case of recent electrolytic polishing target materials such as OLED chambers or MOCVD chambers for LEDs, they have a polyhedral shape such as a hexahedron, so an empty space is formed inside the chamber for the semiconductor deposition process, etc., and the inner top has a corner area, so the chamber shape is When electropolishing is performed on the electrolytic polishing target material while immersed in an electrolyte solution, an air pocket is formed in the inner upper corner area of the electrolytic polishing target material.
이러한 에어 포켓은 전해액이 전해연마 대상재와의 접촉을 방해함으로써 전해연마가 진행되지 못해 전해연마 품질이 저하되는 문제가 발생될 수 있다.These air pockets may prevent the electrolyte from coming into contact with the electrolytic polishing target material, preventing electrolytic polishing from proceeding, resulting in a decrease in electrolytic polishing quality.
예를 들어, 전해연마 대상재가 전해액 속에 침지된 후 전해연마 대상재에 양(+) 전원이 인가되고 음극판에 음(-) 전원이 인가되는 경우, 양극인 전해연마 대상재에서는 산소(O2) 가스가 발생되고 전해연마 대상재의 내측에 배치된 음극판에는 수소(H2) 가스가 발생되며, 산소 가스와 수소 가스가 전해액 속에서 부유하면서 위로 올라간다. For example, when the electrolytic polishing target material is immersed in an electrolyte solution and then positive (+) power is applied to the electrolytic polishing target material and negative (-) power is applied to the negative electrode plate, oxygen (O 2 ) is released from the electrolytic polishing target material, which is the anode. Gas is generated and hydrogen (H 2 ) gas is generated on the negative electrode plate placed inside the electrolytic polishing target material, and oxygen gas and hydrogen gas float in the electrolyte solution and rise upward.
이때 전해연마 대상재 외측에서 발생된 산소 가스와 수소 가스는 전해액의 표면을 통해 공기 중으로 기화되지만, 전해연마 대상재 내측 공간에서 발생된 산소 가스와 수소 가스는 전해연마 대상재의 내측 상단 모서리에 막혀 외부 공기 중으로 기화되지 못하고 전해연마 대상재 내측의 모서리 영역에서 에어포켓(air pocket) 형성을 유발한다.At this time, the oxygen gas and hydrogen gas generated on the outside of the electrolytic polishing target material are vaporized into the air through the surface of the electrolyte solution, but the oxygen gas and hydrogen gas generated in the inner space of the electrolytic polishing target material are blocked at the upper inner corner of the electrolytic polishing target material and are external to the electrolytic polishing target material. It cannot evaporate into the air and causes air pockets to form in the corner area inside the electrolytic polishing target material.
특히, 전해연마 대상재의 상측이 완전히 막혀 있거나 전해연마 대상재가 육면체와 같은 입체 형상을 가는 경우, 이와 같은 에어포켓의 발생이 빈번하다. In particular, when the upper side of the electrolytic polishing target material is completely blocked or the electrolytic polishing target material has a three-dimensional shape such as a cube, the occurrence of such air pockets is frequent.
이러한 에어포켓은 전해액이 전해연마 대상재의 상측의 내면에 접촉되는 것을 방해하여 결국 전해연마 대상재의 상측 내면에 대한 전해연마가 이루어지지 않아 연마 품질 저하의 치명적 문제를 유발하고 있다.These air pockets prevent the electrolyte from contacting the inner surface of the upper side of the electrolytic polishing target material, which ultimately prevents electrolytic polishing of the upper inner surface of the electrolytic polishing target material, causing a fatal problem of deterioration in polishing quality.
이러한 문제를 해결하기 위해 내부기술로 여러 대의 진공 펌프와 연결된 호스를 전해연마 대상재 내부의 상부에 설치하여 가스를 배출하고 있다. 그러나, 진공 펌프에 의한 가스 배출에 많은 시간이 소요되고, 진공 펌프가 빈번하게 고장나 진공 펌프를 수시로 교체해야 하는 번거로움이 발생되고, 비용도 크게 증가되는 문제가 있다. 특히 전해연마 대상재의 내측 모서리에 계속 발생되는 에어포켓을 완전히 제거하는 것은 거의 불가능에 가까우며 에어포켓 자체의 발생을 차단하거나 방지할 방안이 필요하다.To solve this problem, internal technology uses hoses connected to multiple vacuum pumps to be installed at the top of the electrolytic polishing target material to discharge gas. However, there is a problem that it takes a lot of time to discharge the gas by the vacuum pump, the vacuum pump frequently breaks down, causing the inconvenience of having to replace the vacuum pump from time to time, and the cost also increases significantly. In particular, it is almost impossible to completely remove air pockets that continue to occur at the inner corners of the electrolytic polishing target material, and a method to block or prevent the occurrence of air pockets themselves is needed.
이에 따라 실시예에 따르면, 전해연마 대상재(11)가 크레인장치(미도시)의 제1 연결와이어(170), 제2 연결와이어(172)에 연결된 후 전해조(20)에 담궈질 수 있다. 이후, 크레인장치에 의해 전해조(20)의 전해액(25) 속에서 전해연마 대상재(11)가 상하방향으로 틸팅될 수 있다. 또한, 크레인 장치에 의해 전해연마 대상재(11)가 수평방향으로 이동될 수 있다. 이와 같이, 전해연마 대상재(11)가 상하방향으로 틸팅되거나 수평방향으로 이동됨으로써, 전해연마 대상재(11) 내부의 상측에 형성된 에어포켓의 가스가 전해연마 대상재(11) 외부로 빠져나가 공기 중으로 기화되어 전해연마 대상재(11) 내부에 에어포켓이 제거될 수 있다. 이에 따라, 에어포켓에 의해 해당 에어포켓에 접하는 전해연마 대상재(11)에 대한 전해연마가 수행되지 않아 발생되는 불량이 방지되어 제품 품질이 향상될 수 있다. Accordingly, according to the embodiment, the electrolytic polishing target material 11 may be connected to the first connection wire 170 and the second connection wire 172 of a crane device (not shown) and then immersed in the electrolytic bath 20. Thereafter, the electrolytic polishing target material 11 may be tilted in the vertical direction in the electrolyte 25 of the electrolytic cell 20 by a crane device. Additionally, the electropolishing target material 11 can be moved in the horizontal direction by the crane device. In this way, as the electrolytic polishing target material 11 is tilted vertically or moved in the horizontal direction, the gas in the air pocket formed on the upper side of the electrolytic polishing target material 11 escapes to the outside of the electrolytic polishing target material 11. By vaporizing into the air, air pockets inside the electrolytic polishing target material 11 can be removed. Accordingly, defects that occur due to air pockets not performing electrolytic polishing on the electrolytic polishing target material 11 in contact with the air pockets can be prevented, thereby improving product quality.
실시예에 따르면, 전해연마 중에 간단히 전해연마 대상재(11)만 상하방향으로 틸팅하거나 수평방향으로 이동하여 에어포켓이 용이하게 제거되어, 공정 시간과 비용이 현저히 단축될 수 있다. According to the embodiment, air pockets can be easily removed by simply tilting the electropolishing target material 11 in the vertical direction or moving it horizontally during electrolytic polishing, and process time and cost can be significantly shortened.
예를 들어, 도 3a는 대상재(1)가 제1 구간 동안 상하로 틸팅되는 모습의 개념도이며, 도 3b는 대상재(1)가 제2 구간 동안 상하로 틸팅되는 모습의 개념도이다.For example, FIG. 3A is a conceptual diagram showing the object 1 being tilted up and down during a first section, and FIG. 3B is a conceptual diagram showing the object 1 being tilted up and down during the second section.
예를 들어, 도 3a를 참조하면, 실시예에서 크레인장치는 한 주기의 제1 구간 동안 전해연마 대상재(11)를 수평 위치에서 전해조(20)의 좌측이 우측에 비해 더 낮게 위치되도록 조절할 수 있다.For example, referring to FIG. 3A, in the embodiment, the crane device may adjust the electrolytic polishing target material 11 in a horizontal position so that the left side of the electrolytic cell 20 is positioned lower than the right side during the first section of one cycle. there is.
다음으로, 도 3b를 참조하면, 실시예에서 크레인장치는 한 주기의 제2 구간 동안 전해연마 대상재(11)를 수평 위치에서 전해조(20)의 우측이 좌측에 비해 더 낮게 위치되도록 조절할 수 있다.Next, referring to FIG. 3B, in the embodiment, the crane device can adjust the electropolishing target material 11 in a horizontal position so that the right side of the electrolytic cell 20 is positioned lower than the left side during the second section of one cycle. .
이를 통해 실시예는 전해연마 대상재(11) 내부 상측에 형성된 에어포켓이 전해연마 대상재(11) 외부로 배출되도록 할 수 있다.Through this, the embodiment can allow the air pocket formed on the inner upper side of the electrolytic polishing target material 11 to be discharged to the outside of the electrolytic polishing target material 11.
이와 같은 동작으로, 전해연마 대상재(11)가 상하로 틸팅됨으로써, 전해연마 대상재(11) 내부에 형성된 에어포켓이 전해연마 대상재(11) 외부로 배출할 수 있다.Through this operation, the electrolytic polishing target material 11 is tilted up and down, so that the air pocket formed inside the electrolytic polishing target material 11 can be discharged to the outside of the electrolytic polishing target material 11.
실시예에 따르면, 전해연마 대상재(11)를 주기적으로 상하로 틸팅시켜 줌으로써, 전해연마 대상재(11) 내부에 형성된 에어포켓을 용이하게 제거하여 공정 시간과 비용이 현저하게 단축되고 에어포켓으로 인한 전해연마 불량을 방지할 수 있다. According to the embodiment, by periodically tilting the electrolytic polishing target material 11 up and down, the air pockets formed inside the electrolytic polishing target material 11 are easily removed, and the process time and cost are significantly shortened, and the air pockets are formed. Electrolytic polishing defects can be prevented.
또한 실시예는 전해연마 대상재(11)를 상하방향으로 틸팅시키고 또한 수평방향으로 이동시켜 전해연마 대상재(11) 내부에 형성된 에어포켓을 제거할 수 있다. 수평방향으로의 이동은 수평방향으로의 왕복이동을 의미할 수 있다.In addition, the embodiment may tilt the electrolytic polishing target material 11 in the vertical direction and move it in the horizontal direction to remove air pockets formed inside the electrolytic polishing target material 11. Movement in the horizontal direction may mean round-trip movement in the horizontal direction.
이에 따라 실시예에 의하면, 에어포켓의 형성을 차단 또는 제거할 수 있는 전해연마장치 및 이를 이용한 전해연마 방법을 제공할 수 있는 기술적 효과가 있다.Accordingly, according to the embodiment, there is a technical effect of providing an electrolytic polishing device that can block or remove the formation of air pockets and an electrolytic polishing method using the same.
예를 들어, 실시예에 의하면 대상재가 상하방향으로 틸팅되거나 수평방향으로 이동됨으로써, 대상재 내부의 상측에 형성된 에어포켓의 가스가 대상재 외부로 빠져나가 공기 중으로 기화되어 대상재 내부에 에어포켓이 제거될 수 있다. 이를 통해 에어포켓에 의해 해당 에어포켓에 접하는 대상재에 대한 전해연마가 수행되지 않아 발생되는 불량이 방지되어 제품 품질이 향상될 수 있다.For example, according to the embodiment, when the object is tilted vertically or moved horizontally, the gas in the air pocket formed on the upper side inside the object escapes to the outside of the object and is vaporized into the air, creating an air pocket inside the object. can be removed Through this, product quality can be improved by preventing defects that occur due to air pockets not performing electrolytic polishing on the target material in contact with the air pocket.
또한 실시예에 의하면, 전해연마 중에 간단히 대상재만 상하방향으로 틸팅하거나 수평방향으로 이동하여 에어포켓이 용이하게 제거되어, 공정 시간과 비용이 현저히 단축될 수 있다는 장점이 있다.Additionally, according to the embodiment, there is an advantage that air pockets can be easily removed by simply tilting the target material in the vertical direction or moving it horizontally during electropolishing, thereby significantly reducing process time and cost.
한편, 종래 기술에서 전해연마용 음극판의 고정부재 중 하나인 C형 Clamp는 주조방법에 의해서 제조되어 왔다.Meanwhile, in the prior art, the C-type clamp, which is one of the fixing members of the cathode plate for electrolytic polishing, has been manufactured using a casting method.
한편, 전해연마의 음극판 조립 시 사용되는 C형 Clamp는 중량이 가벼워야 하는데, 기존에 사용하던 주조에 의한 제조방법으로는 C형 Clamp의 경량화가 힘든 단점이 있다. 또한 전해연마장치의 전해액은 인산과 황산의 혼합액인 강산인데, 종래 C형 Clamp는 강산인 전해액에 취약한 주강이 주 원료이므로 제품 수명이 짧아서 수회 사용하면 폐기해야 하는 문제가 있다.On the other hand, the C-type clamp used when assembling the cathode plate of electrolytic polishing must be light in weight, but there is a disadvantage in that it is difficult to reduce the weight of the C-type clamp using the existing casting manufacturing method. In addition, the electrolyte of the electrolytic polishing device is a strong acid, which is a mixture of phosphoric acid and sulfuric acid, and since the main raw material of the conventional C-type clamp is cast steel, which is vulnerable to the strong acid electrolyte, the product has a short lifespan and must be discarded after several uses.
이에 앞서 기술한 바와 같이, 실시예의 기술적 과제 중의 하나는 전해연마에 사용되는 격자형 음극판의 결합수단으로 사용되는 고정부재의 중량을 줄이면서도 강도가 우수한 전해연마용 음극판 고정부재 및 이를 포함하는 전해연마장치를 제공하고자 함이다.As previously described, one of the technical problems of the embodiment is a cathode plate fixing member for electrolytic polishing that reduces the weight of the fixing member used as a coupling means for the grid-shaped negative electrode plate used in electrolytic polishing and has excellent strength, and electrolytic polishing including the same. The purpose is to provide a device.
또한 실시예의 기술적 과제 중의 하나는 전해연마용 음극판 고정부재의 고정부 영역이 차지하는 영역을 넓게 확보하여 고정력을 높이면서도 중량을 줄일 수 있는 전해연마용 음극판 고정부재 및 이를 포함하는 전해연마장치를 제공하고자 함이다.In addition, one of the technical tasks of the embodiment is to provide a negative electrode plate fixing member for electrolytic polishing that can reduce the weight while increasing fixing force by securing a wide area occupied by the fixing part of the negative electrode plate fixing member for electrolytic polishing, and an electrolytic polishing device including the same. It is Ham.
도 4는 상기 기술적 과제를 해결하기 위한 실시예에 따른 전해연마용 음극판 고정부재(120)의 평면 입체도이며, 도 5는 도 4에 도시된 실시예에 따른 전해연마용 음극판 고정부재(120)의 A1-A1 선을 따른 단면도이다.Figure 4 is a plan three-dimensional view of the negative electrode plate fixing member 120 for electrolytic polishing according to an embodiment for solving the above technical problem, and Figure 5 is a plan view of the negative electrode plate fixing member 120 for electrolytic polishing according to the embodiment shown in Figure 4. This is a cross-sectional view along line A1-A1.
도 4를 참조하면, 실시예에 따른 전해연마용 음극판 고정부재(120)는, 상호 결합되는 프레임 유닛(122)과 체결 유닛(124)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4, the negative electrode plate fixing member 120 for electrolytic polishing according to the embodiment may include a frame unit 122 and a fastening unit 124 that are coupled to each other.
상기 프레임 유닛(122)은, 프레임부(122a)와, 상기 프레임부(122a)의 일측으로 연장되어 형성된 프레임 고정부(122b)와 상기 프레임부(122a)의 타측으로 연장되어 형성된 프레임 결합부(122c)를 포함할 수 있다.The frame unit 122 includes a frame portion 122a, a frame fixing portion 122b extending to one side of the frame portion 122a, and a frame coupling portion extending to the other side of the frame portion 122a ( 122c) may be included.
상기 프레임 유닛(122)은, 'ㄷ' 자 형상 또는 'C' 자 형상일 수 있으나 이에 한정되지 않는다. The frame unit 122 may have a 'L' shape or a 'C' shape, but is not limited thereto.
상기 체결 유닛(124)은, 상기 프레임 결합부(122c)에 삽입되는 체결 프레임(124a)과, 상기 체결 프레임(124a) 일단에 형성된 체결 고정부(124b)와, 상기 체결 프레임(124a) 타측에 형성된 조임부(124c)를 포함할 수 있다.The fastening unit 124 includes a fastening frame 124a inserted into the frame coupling portion 122c, a fastening fixture 124b formed on one end of the fastening frame 124a, and a fastening fixture 124b on the other side of the fastening frame 124a. It may include a formed fastener (124c).
상기 프레임 유닛(122)과 체결 유닛(124)의 각 구성들은 같은 재질로 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.Each component of the frame unit 122 and the fastening unit 124 may be formed of the same material, but is not limited thereto.
실시예에 따른 전해연마용 음극판 고정부재(120)의 재질은 산에 강한 스테인레스강일 수 있으며, 주조형 C형 크램프에 비하여 가볍고 산에 대한 내식성이 높아 수명이 긴 장점이 있다.The material of the cathode plate fixing member 120 for electrolytic polishing according to the embodiment may be stainless steel, which is resistant to acids, and has the advantage of being lighter and more resistant to acid corrosion than a cast C-type clamp, and thus having a long lifespan.
실시예에서 프레임 유닛(122)의 제조방법을 설명하면 다음과 같다. 냉연강판을 전단가공, 프레스 성형, 절곡가공 등을 거처서 프레임부(122a), 프레임부(122a)의 일측으로 연장되어 형성된 프레임 고정부(122b) 및 프레임부(122a)의 타측으로 연장되어 형성된 프레임 결합부(122c)를 좌우 한쌍을 만든 후 용접 등으로 접합하여 프레임 유닛(122)을 제조할 수 있다. 상기 프레임 결합부(122c)에는 나사가공을 통해 조립홀이 형성될 수 있다.The manufacturing method of the frame unit 122 in the embodiment will be described as follows. A frame formed by processing a cold rolled steel sheet through shearing, press forming, bending, etc. to form a frame portion 122a, a frame fixing portion 122b extending to one side of the frame portion 122a, and a frame extending to the other side of the frame portion 122a. The frame unit 122 can be manufactured by forming a pair of left and right coupling portions 122c and then joining them by welding, etc. An assembly hole may be formed in the frame coupling portion 122c through screw processing.
실시예에서 체결 유닛(124)은, 상기 프레임 결합부(122c)에 삽입되는 체결 프레임(124a)은 나사산을 구비한 봉 형태일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. In the embodiment, the fastening unit 124, the fastening frame 124a inserted into the frame coupling portion 122c, may be in the form of a rod with threads, but is not limited thereto.
상기 체결 프레임(124a) 타측에는 돌림 손잡이 기능을 하는 조임부(124c)가 형성될 수 있다.A tightening part 124c that functions as a turning handle may be formed on the other side of the fastening frame 124a.
상기 체결 프레임(124a)이 상기 프레임 결합부(122c)에 끼워진 후 상기 체결 프레임(124a) 일단에 컵 모양의 누름쇠 기능을 하는 체결 고정부(124b)가 조립될 수 있다.After the fastening frame 124a is inserted into the frame coupling part 122c, a fastening fixing part 124b that functions as a cup-shaped pusher may be assembled to one end of the fastening frame 124a.
다음으로 도 5는 도 4에 도시된 실시예에 따른 전해연마용 음극판 고정부재(120)의 A1-A1 선을 따른 단면도이다.Next, FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line A1-A1 of the negative electrode plate fixing member 120 for electrolytic polishing according to the embodiment shown in FIG. 4.
실시예에서 프레임 유닛(122)의 프레임부(122a)는 상호 접합된 제1 수평 프레임(122a1)과 제2 수평 프레임(122a2)을 포함할 수 있다. In an embodiment, the frame portion 122a of the frame unit 122 may include a first horizontal frame 122a1 and a second horizontal frame 122a2 joined to each other.
또한 상기 프레임 유닛(122)의 프레임부(122a)는 상호 접합된 제1 수평 프레임(122a1)과 제2 수평 프레임(122a2) 사이에 캐비티(C)를 포함할 수 있다.Additionally, the frame portion 122a of the frame unit 122 may include a cavity C between the first horizontal frame 122a1 and the second horizontal frame 122a2 joined to each other.
상기 제1 수평 프레임(122a1)은 상호 이격되어 복수로 배치될 수 있고, 상기 제2 수평 프레임(122a2)도 상호 이격되어 복수로 배치될 수 있다.The first horizontal frames 122a1 may be arranged in plural numbers spaced apart from each other, and the second horizontal frames 122a2 may also be arranged in plural numbers spaced apart from each other.
상기 제1 수평 프레임(122a1) 사이에는 제1 곡률 프레임(122r1)이 배치될 수 있고, 상기 제2 수평 프레임(122a2) 사이에도 제2 곡률 프레임(122r2)이 배치될 수 있다.A first curved frame 122r1 may be disposed between the first horizontal frames 122a1, and a second curved frame 122r2 may be disposed between the second horizontal frames 122a2.
상기 제1 수평 프레임(122a1)과 상기 제1 곡률 프레임(122r1)은 일체로 형성될 수 있으며, 상기 제2 수평 프레임(122a2)과 상기 제2 곡률 프레임(122r2)도 일체로 형성될 수 있다.The first horizontal frame 122a1 and the first curved frame 122r1 may be formed integrally, and the second horizontal frame 122a2 and the second curved frame 122r2 may also be formed integrally.
이를 통해 실시예에 의하면 상기 제1 수평 프레임(122a1) 사이에 상기 제1 곡률 프레임(122r1)을 구비하고, 상기 제2 수평 프레임(122a2) 사이에 제2 곡률 프레임(122r2)을 구비함으로써 프레임 유닛(122)의 프레임부(122a)의 단면계수를 크게 함으로써 비틀림 또는 휨에 대한 강도나 강도를 현저히 향상시킬 수 있다. Through this, according to the embodiment, the first curved frame 122r1 is provided between the first horizontal frames 122a1, and the second curved frame 122r2 is provided between the second horizontal frames 122a2, thereby forming a frame unit. By increasing the section modulus of the frame portion 122a of (122), the strength or strength against torsion or bending can be significantly improved.
그러므로 실시예에 의하면, 전해연마에 사용되는 격자형 음극판의 결합수단으로 사용되는 고정부재(120)의 중량을 줄이면서도 강도나 강도가 우수한 전해연마용 음극판 고정부재 및 이를 포함하는 전해연마장치를 제공할 수 있는 기술적 효과가 있다.Therefore, according to the embodiment, a negative electrode plate holding member for electrolytic polishing with excellent strength and strength while reducing the weight of the holding member 120 used as a coupling means for a grid-type negative electrode plate used in electrolytic polishing and an electrolytic polishing device including the same are provided. There are technical effects that can be achieved.
또한 실시예에서 상기 프레임 유닛(122)의 프레임부(122a)는 상호 접합된 제1 수평 프레임(122a1)과 제2 수평 프레임(122a2) 사이에 캐비티(C)를 포함함으로써 중량을 줄이면서도 강도가 우수한 전해연마용 음극판 고정부재를 제공할 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, in the embodiment, the frame portion 122a of the frame unit 122 includes a cavity C between the first horizontal frame 122a1 and the second horizontal frame 122a2 joined to each other, thereby reducing weight and increasing strength. There is a technical effect of providing an excellent cathode plate fixing member for electrolytic polishing.
또한 실시예에서 상기 캐비티(C)는 공기(air)가 채워진 상태에서 밀폐 공간일 수 있다. 이를 통해 상기 프레임 유닛(122)의 프레임부(122a) 캐비티(C) 내부로 외부로부터 유체가 유입되지 않을 수 있다.Additionally, in an embodiment, the cavity C may be a closed space filled with air. Through this, fluid may not flow from the outside into the cavity C of the frame portion 122a of the frame unit 122.
한편, 도 2에 도시된 바와 같이 격자형 음극판의 결합수단으로 수많은 고정부재(120)가 필요하며, 실시예에 따른 전해연마용 고정부재(120)가 캐비티(C)를 구비하여 그 자체의 중량이 감소하는 기술적 효과가 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 2, numerous fixing members 120 are required as coupling means for the grid-shaped negative electrode plate, and the fixing member 120 for electrolytic polishing according to the embodiment is provided with a cavity C to reduce its own weight. This has a diminishing technical effect.
특히 수많은 전해연마용 고정부재(120)가 음극판들을 고정한 상태에서 전해조의 전해액에 침지되었을 때 전해연마용 고정부재(120)의 프레임 유닛(122)의 캐비티(C) 내부에 밀폐된 공기(air)에 의해 전해액 내에서는 밀도차에 의한 상측으로 상승력을 받게 되므로 고정부재(120)가 결합된 음극판 구조물의 중량이 감소되는 특별한 기술적 효과가 있다. In particular, when the numerous electrolytic polishing fixing members 120 are immersed in the electrolyte solution of the electrolytic cell while fixing the negative electrode plates, the air sealed inside the cavity C of the frame unit 122 of the electrolytic polishing fixing members 120 There is a special technical effect in that the weight of the negative plate structure to which the fixing member 120 is coupled is reduced because an upward force is received within the electrolyte due to the density difference.
그러므로 캐비티(C)를 구비한 전해연마용 고정부재(120)는 중량을 줄이면서도 강도가 우수한 전해연마용 음극판 고정부재를 제공할 수 있으며, 특히 전해액에 침지되었을 때 부력의 효과 외에 전해연마용 고정부재(120)의 프레임 유닛(122)의 캐비티(C) 내부에 밀폐된 공기(air)에 의해 전해액 내에서 전해액과 공기(air)의 밀도차에 의한 상측 상승력을 받게 되어 중량이 감소되는 특별한 기술적 효과가 있다.Therefore, the fixing member 120 for electrolytic polishing with a cavity (C) can provide a negative plate fixing member for electrolytic polishing with excellent strength while reducing the weight, and in particular, when immersed in an electrolyte solution, in addition to the effect of buoyancy, it can provide a fixing member for electrolytic polishing. A special technology that reduces the weight by receiving an upward upward force due to the density difference between the electrolyte and the air within the electrolyte by air sealed inside the cavity (C) of the frame unit 122 of the member 120. It works.
다음으로 도 6은 실시예에 따른 전해연마용 음극판 고정부재(120)의 사시도이며, 도 7은 도 6에 도시된 실시예에 따른 전해연마용 음극판 고정부재(120)의 B1 영역인 체결부의 고정부의 확대도이다.Next, Figure 6 is a perspective view of the negative electrode plate fixing member 120 for electrolytic polishing according to an embodiment, and Figure 7 is a high view of the fastening portion in area B1 of the negative electrode plate fixing member 120 for electrolytic polishing according to the embodiment shown in Figure 6. It is also an expansion of the government.
도 6을 참조하면, 실시예에서 상기 체결 유닛(124)은, 상기 프레임 결합부(122c)에 삽입되는 체결 프레임(124a)과, 상기 체결 프레임(124a) 일단에 형성된 체결 고정부(124b)와, 상기 체결 프레임(124a) 타측에 형성된 조임부(124c) 및 상기 체결 프레임(124a) 일단의 말단에 형성된 체결 걸림부(124d)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 6, in the embodiment, the fastening unit 124 includes a fastening frame 124a inserted into the frame coupling portion 122c, a fastening fixture 124b formed at one end of the fastening frame 124a, and , a fastening portion 124c formed on the other side of the fastening frame 124a, and a fastening locking portion 124d formed on one end of the fastening frame 124a.
도 7을 참조하면, 실시예에서 체결 유닛(124)의 체결 고정부(124b)는, 누름쇠를 컵형으로 만들어 그립(grip)이 미끄러지지 않고 견고하게 고정할 수 있다.Referring to FIG. 7, in the embodiment, the fastening fixing portion 124b of the fastening unit 124 can be firmly fixed without the grip slipping by making the pusher cup-shaped.
실시예에 의하면 전해연마용 음극판 고정부재는 고정부 영역이 차지하는 체결 유닛(124)의 체결 고정부(124b)를 컵 형상으로 넓게 확보하여 지지부 영역을 확장함으로써 고정력을 높이면서도 중량을 줄일 수 있는 전해연마용 음극판 고정부재 및 이를 포함하는 전해연마장치를 제공할 수 있는 기술적 효과가 있다.According to the embodiment, the cathode plate fixing member for electrolytic polishing is an electrolytic material that can increase fixing force and reduce weight by securing the fastening fixing part 124b of the fastening unit 124 occupied by the fixing part area in a wide cup shape to expand the support area. There is a technical effect of providing a negative electrode plate fixing member for polishing and an electrolytic polishing device including the same.
또한 실시예에서 체결 프레임(124a) 일단의 말단에 형성된 체결 걸림부(124d)는 걸림부 몸체(124d1)와 걸림부 확장부(124d2)를 포함할 수 있다.Additionally, in the embodiment, the fastening locking portion 124d formed at one end of the fastening frame 124a may include a locking portion body 124d1 and a locking portion extension 124d2.
상기 걸림부 몸체(124d1)의 제1 직경(D1)은 걸림부 확장부(124d2)의 제2 직경(D2)에 비해 작을 수 있다. 상기 걸림부 확장부(124d2)는 플레어링(flaring) 공정에 의해 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The first diameter D1 of the engaging portion body 124d1 may be smaller than the second diameter D2 of the engaging portion extension portion 124d2. The engaging portion expansion portion 124d2 may be formed through a flaring process, but is not limited thereto.
실시예에 의하면 상기 체결 프레임(124a) 일단에 체결 고정부(124b)를 결합시킨 후 걸림부 확장부(124d2)를 형성할 수 있다.According to the embodiment, the locking portion expansion portion 124d2 may be formed after coupling the fastening fixing portion 124b to one end of the fastening frame 124a.
이를 통해 실시예에 의하면 고정부 기능을 하는 체결 유닛(124)의 체결 고정부(124b)를 컵 형상으로 넓게 확보하여 지지부 영역을 확장함으로써 고정력을 높이면서도 컵 형상으로 인해 중량을 줄일 수 있고, 나아가 걸림부 확장부(124d2)를 통해 컵 형상의 체결 고정부(124b)를 지지하여 그 이탈을 방지함으로써 기구적 신뢰성을 향상시킬 수 있는 복합적인 기술적 효과가 있다.Through this, according to the embodiment, the fastening fixing part 124b of the fastening unit 124, which functions as a fixing part, is secured in a wide cup shape to expand the support area, thereby increasing the fixing force and reducing the weight due to the cup shape. There is a complex technical effect of improving mechanical reliability by supporting the cup-shaped fastening part 124b through the locking part extension 124d2 and preventing its separation.
실시예에 의하면, 전해연마에 사용되는 격자형 음극판의 결합수단으로 사용되는 고정부재의 중량을 줄이면서도 강도가 우수한 전해연마용 음극판 고정부재 및 이를 포함하는 전해연마장치를 제공할 수 있는 기술적 효과가 있다.According to the embodiment, the technical effect of providing a cathode plate fixing member for electrolytic polishing with excellent strength while reducing the weight of the fixing member used as a coupling means for a grid-type negative electrode plate used in electrolytic polishing and an electrolytic polishing device including the same is achieved. there is.
또한 실시예에 의하면 전해연마용 음극판 고정부재는 고정부 영역이 차지하는 영역을 넓게 확보하여 고정력을 높이면서도 중량을 줄일 수 있는 전해연마용 음극판 고정부재 및 이를 포함하는 전해연마장치를 제공할 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, according to an embodiment, a negative electrode plate fixing member for electrolytic polishing can secure a wide area occupied by the fixing part area to increase fixing force while reducing weight, and a technical method capable of providing an electrolytic polishing device including the same. It works.
특히 실시예에 의하면 경량이면서 강도와 고정력이 우수한 전해연마용 음극판 고정부재를 사용함으로써 실시예에 따라 에어포켓을 차단 또는 제거하기 위해 전해연마 대상재와 이에 장착된 격자형 음극판을 틸팅하는 경우 기존보다 중량이 경량화되며 격자형 음극판의 음극판 간의 결합력 향상 및 격자형 음극판이 음극 거치 고정대에 보다 견고히 결합될 수 있다.In particular, according to the embodiment, by using a cathode plate fixing member for electrolytic polishing that is lightweight and has excellent strength and fixing power, when tilting the electrolytic polishing target material and the lattice-type cathode plate mounted thereto to block or remove air pockets, it is more effective than before. The weight is reduced, the bonding strength between the negative electrode plates of the grid-shaped negative electrode plate is improved, and the grid-shaped negative electrode plate can be more firmly coupled to the negative electrode holder.
또한 실시예에 의하면, 일측 틸팅 후 방향 전환을 위해 타측으로 틸팅하는 경우 경량으로 인해 에어 포켓을 제거하기 위해 틸팅 공정 효율이 향상될 수 있다.Additionally, according to an embodiment, when tilting to one side and then tilting to the other side to change direction, the efficiency of the tilting process can be improved to eliminate air pockets due to the light weight.
뿐만 아니라 실시예에 의하면, 격자형 음극판 자체 및 전해연마 대상재와 격자형 음극판의 보다 견고한 결합력에 의해 격자형 음극판과 전해연마 대상재 간의 접촉에 의한 쇼트가 발생되지 않으므로 공정, 제품 신뢰성이 매우 향상된 전해연마 공정을 진행할 수 있는 특별한 기술적 효과가 있다.In addition, according to the embodiment, the process and product reliability are greatly improved because short circuits do not occur due to contact between the grid-shaped negative electrode plate and the electrolytic polishing target material due to the stronger bond between the grid-shaped negative electrode plate itself and the electrolytic polishing target material and the grid-shaped negative electrode plate. There is a special technical effect that allows the electropolishing process to proceed.
상기의 상세한 설명은 모든 면에서 제한적으로 해석되어서는 아니되고 예시적인 것으로 고려되어야 한다. 실시예의 범위는 첨부된 청구항의 합리적 해석에 의해 결정되어야 하고, 실시예의 등가적 범위 내에서의 모든 변경은 실시예의 범위에 포함된다.The above detailed description should not be construed as restrictive in any respect and should be considered illustrative. The scope of the embodiments should be determined by reasonable interpretation of the appended claims, and all changes within the equivalent scope of the embodiments are included in the scope of the embodiments.
Claims (9)
상기 프레임 유닛은,
프레임부와, 상기 프레임부의 일측으로 연장되어 형성된 프레임 고정부와 상기 프레임부의 타측으로 연장되어 형성된 프레임 결합부를 포함하고,
상기 체결 유닛은,
상기 프레임 결합부에 삽입되는 체결 프레임과, 상기 체결 프레임 일단에 형성된 체결 고정부를 포함하며,
상기 체결 유닛은, 상기 체결 고정부의 중심을 관통하여 상기 체결 프레임 일단의 최 끝단에 배치되는 체결 걸림부를 포함하며,
상기 체결 걸림부는, 내부에 홈이 구비된 원형 중공 형상의 걸림부 몸체와 상기 원형 중공 형상의 걸림부 몸체의 원형 외곽 끝단으로부터 방사형으로 측면 연장된 걸림부 확장부를 포함하는, 전해연마용 음극판 고정부재.It includes a frame unit and a fastening unit that are coupled to each other,
The frame unit is,
It includes a frame portion, a frame fixing portion extending to one side of the frame portion, and a frame coupling portion extending to the other side of the frame portion,
The fastening unit is,
It includes a fastening frame inserted into the frame coupling portion, and a fastening fixture formed on one end of the fastening frame,
The fastening unit includes a fastening locking portion that passes through the center of the fastening fixture and is disposed at an extreme end of one end of the fastening frame,
The fastening engaging portion is a negative plate fixing member for electrolytic polishing, including a circular hollow engaging portion body having a groove therein and a engaging portion extension portion extending radially laterally from a circular outer end of the circular hollow engaging portion body. .
상기 프레임 유닛의 프레임부는, 상호 접합된 제1 수평 프레임과 제2 수평 프레임 사이에 캐비티를 포함하는, 전해연마용 음극판 고정부재.According to paragraph 1,
The frame portion of the frame unit includes a cavity between the first horizontal frame and the second horizontal frame bonded to each other.
상기 원형 중공 형상의 걸림부 몸체와 일체로 형성되는 상기 걸림부 확장부의 원형 외곽의 제2 직경은 상기 걸림부 몸체의 원형 외곽의 제1 직경에 비해 큰 것을 특징으로 하는, 전해연마용 음극판 고정부재.According to paragraph 1,
A negative electrode plate fixing member for electrolytic polishing, characterized in that the second diameter of the circular outline of the engaging portion extension, which is formed integrally with the circular hollow-shaped engaging portion body, is larger than the first diameter of the circular outer portion of the engaging portion body. .
상기 프레임 유닛의 프레임부는,
상기 제1 수평 프레임 사이에는 배치되는 제1 곡률 프레임 및
상기 제2 수평 프레임 사이에 배치되는 제2 곡률 프레임을 포함하는 것으로 특징으로 하는 전해연마용 음극판 고정부재.According to paragraph 3,
The frame portion of the frame unit,
A first curved frame disposed between the first horizontal frames and
A negative electrode plate fixing member for electrolytic polishing, characterized in that it includes a second curved frame disposed between the second horizontal frames.
상기 체결 고정부는 상기 체결 프레임 일단에 컵 모양을 구비하는 것을 특징으로 하는 전해연마용 음극판 고정부재.According to paragraph 1,
A negative electrode plate fixing member for electrolytic polishing, wherein the fastening fixing part has a cup shape at one end of the fastening frame.
상호 접합된 상기 제1 수평 프레임과 상기 제2 수평 프레임 사이의 상기 캐비티는 공기(air)가 채워진 상태에서 밀폐 공간인 것을 특징으로 하는 전해연마용 음극판 고정부재.According to paragraph 2,
A negative electrode plate fixing member for electrolytic polishing, wherein the cavity between the first and second horizontal frames joined to each other is a closed space filled with air.
상기 체결 유닛은, 상기 체결 프레임 타측에 형성된 조임부를 포함하는, 전해연마용 음극판 고정부재.According to paragraph 1,
The fastening unit is a negative electrode plate fixing member for electrolytic polishing, including a fastening part formed on the other side of the fastening frame.
상기 조임부는, 상기 체결 프레임 타측 끝단을 관통하는 조임부 바디와, 상기 조임부 바디 양측 끝단에 각각 길이방향으로 연장되어 형성된 조임부 걸림부를 포함하고, 상기 조임부 걸림부의 폭은 상기 조임부 바디의 폭보다 큰 것을 특징으로 하는 전해연마용 음극판 고정부재.In clause 7,
The tightening part includes a tightening part body penetrating the other end of the fastening frame, and a tightening part locking part extending in the longitudinal direction at both ends of the tightening part body, and the width of the tightening part catching part is that of the tightening part body. A negative plate fixing member for electrolytic polishing, characterized in that it is larger than the width.
상기 제1 음극판과 제2 음극판을 결합하는 제1항 내지 제8항 중 어느 하나의 전해연마용 음극판 고정부재를 포함하는 전해연마장치.A first cathode plate and a second cathode plate for electropolishing;
An electrolytic polishing device comprising the cathode plate fixing member for electrolytic polishing according to any one of claims 1 to 8, which couples the first cathode plate and the second cathode plate.
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KR20160000331U (en) * | 2014-07-21 | 2016-01-29 | 주식회사 태창테크 | Clamp bolt assembly for clamp device |
KR20190037066A (en) * | 2018-03-29 | 2019-04-05 | 황재상 | Variable electrode frame for electro polishing |
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JP3104669B2 (en) * | 1998-03-20 | 2000-10-30 | 日本電気株式会社 | Urine sugar measurement sensor cartridge |
JP3104669U (en) * | 2004-04-16 | 2004-10-07 | 株式会社コンヨ | Clamp |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010138962A (en) * | 2008-12-10 | 2010-06-24 | Okabe Co Ltd | Clamp hardware for sandwiching steel frame flange |
KR20160000331U (en) * | 2014-07-21 | 2016-01-29 | 주식회사 태창테크 | Clamp bolt assembly for clamp device |
KR20190037066A (en) * | 2018-03-29 | 2019-04-05 | 황재상 | Variable electrode frame for electro polishing |
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