KR20230127020A - SiOx carbon coated particles and manufacturing method thereof - Google Patents

SiOx carbon coated particles and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
KR20230127020A
KR20230127020A KR1020220024565A KR20220024565A KR20230127020A KR 20230127020 A KR20230127020 A KR 20230127020A KR 1020220024565 A KR1020220024565 A KR 1020220024565A KR 20220024565 A KR20220024565 A KR 20220024565A KR 20230127020 A KR20230127020 A KR 20230127020A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
siox
carbon
fume
coated particles
particles
Prior art date
Application number
KR1020220024565A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
정진수
김정현
이정한
Original Assignee
주식회사 제이솔루션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 제이솔루션 filed Critical 주식회사 제이솔루션
Priority to KR1020220024565A priority Critical patent/KR20230127020A/en
Publication of KR20230127020A publication Critical patent/KR20230127020A/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/14Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
    • C01B33/146After-treatment of sols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/40Electric properties

Abstract

본 발명은 SiOx 탄소 코팅 입자 및 상기 SiOx 탄소 코팅 입자의 제조방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 실리콘 성장로에서 발생하는 실리콘 산화물(SiOx) 흄(fume)을 재활용하는 방법으로, 실리콘 성장로에서 포집한 흄을 탄소로 코팅한 SiOx 탄소 코팅 입자 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to SiOx carbon-coated particles and a method for preparing the SiOx carbon-coated particles. More specifically, as a method of recycling silicon oxide (SiOx) fume generated in a silicon growth furnace, it relates to SiOx carbon-coated particles in which fume collected from a silicon growth furnace is coated with carbon and a method for manufacturing the same .

Description

SiOx 탄소 코팅 입자 및 이의 제조방법{SiOx carbon coated particles and manufacturing method thereof}SiOx carbon coated particles and manufacturing method thereof {SiOx carbon coated particles and manufacturing method thereof}

본 발명은 SiOx 탄소 코팅 입자 및 상기 SiOx 탄소 코팅 입자의 제조방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 실리콘 성장로에서 발생하는 실리콘 산화물(SiOx) 흄(fume)을 재활용하는 방법으로, 실리콘 성장로에서 포집한 흄을 탄소로 코팅한 SiOx 탄소 코팅 입자 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to SiOx carbon-coated particles and a method for preparing the SiOx carbon-coated particles. More specifically, as a method of recycling silicon oxide (SiOx) fume generated in a silicon growth furnace, it relates to SiOx carbon-coated particles in which fume collected from a silicon growth furnace is coated with carbon and a method for manufacturing the same .

태양 전지는 광전지 효과 (photovoltaic effect)를 사용하여 빛의 에너지를 전기로 전환하는 장치이다. 태양열 발전 (Solar power)은, 지속 가능하고 오염되지 않은 부산물만을 생성하기 때문에 매력적인 친환경 에너지원이다. 따라서, 물질 및 제조 비용을 지속적으로 낮추면서 향상된 효율을 갖는 태양 전지를 개발하는 데 많은 연구가 진행되고 있다. A solar cell is a device that converts the energy of light into electricity using the photovoltaic effect. Solar power is an attractive green energy source because it is sustainable and generates only non-polluting by-products. Accordingly, much research is being done to develop solar cells with improved efficiencies while continuing to lower material and manufacturing costs.

태양전지는 그 구성 물질에 따라서 실리콘 태양전지, 박막 태양전지, 염료감응 태양전지 및 유기고분자 태양전지 등으로 구분되는데, 결정질 실리콘 태양전지가 전세계 태양전지의 총 생산량의 대부분을 차지하고 있으며, 효율이 다른 전지에 비해서 높고, 계속 제조단가를 낮추는 기술이 개발되고 있기 때문에 가장 대중적인 태양전지라고 할 수 있다.Solar cells are classified into silicon, solar cells, thin-film solar cells, dye-sensitized solar cells, and organic polymer solar cells, depending on their constituent materials. It can be said to be the most popular   solar cell because it is higher than that of a battery and technology to lower the manufacturing cost continues to be developed.

일반적으로, 태양전지의 전극은 전극용 페이스트(paste)의 도포, 패터닝(patterning) 및 소성에 의해 웨이퍼 표면에 형성되게 된다. 태양전지의 전극을 위한 전도성 페이스트는 전형적으로 전도성 분말, 유리 프릿(glass frit), 유기 매질, 및 첨가제를 포함한다. 기판 상에서 전기적 신호를 전달하는 패턴으로 형성되기 위해 전도성 페이스트는 선형 또는 다른 패턴으로서 기판 위로 인쇄된 다음 소성(fire)된다.In general, the electrodes of a solar cell are formed on the surface of a wafer by coating, patterning, and firing an electrode paste. A conductive paste for an electrode of a solar cell typically includes a "conductive" powder, a glass frit, an organic medium, and additives. To be formed into patterns that carry electrical signals on a substrate, the “conductive” paste is printed onto the substrate as a linear or other pattern and then fired.

전도성 페이스트에서 해결해야할 과제는 크게 인쇄성, 접착성, 전기전도성 과제로 구분된다. 즉, 원하는 인쇄 방식을 통해 원하는 선폭으로 패턴이 인쇄될 수 있도록 하여야 하며, 전도성 페이스트가 형성하는 전극 등이 기판상에 내구성을 가지면서 부착되어 접착력이 높아야 하며, 저항을 낮추는 것이 필요하다. 인쇄성은 미세화되는 선폭 및 이에 대응하는 인쇄기술에 적합한 물성을 가지는 조성에 대한 연구가 필요하며, 이에는 주로 전도성 분말의 크기나 유기매질의 성질이 중요하다. 접착성은 기판에 전도성 페이스트 조성물이 장시간 안정적으로 부착되기 위한 연구가 필요하며, 이에는 주로 유리프릿의 조성이 중요하다. 또한 전기전도성은 선폭감소에 따른 선저항 및 오믹컨택을 위한 연구가 필요하며, 이에는 주로 전도성 분말 및 프릿의 조성이 중요하다.The challenges to be solved in the conductive paste are largely divided into printability, adhesiveness, and electrical conductivity. That is, a pattern must be printed with a desired line width through a desired printing method, and the electrodes formed by the conductive paste must be attached to the substrate with durability to have high adhesive strength and low resistance. Printability requires research on a composition having physical properties suitable for line widths that are miniaturized and the corresponding printing technology, and the size of “conductive” powder or the properties of organic medium are mainly important for this. Adhesion requires research to stably attach the conductive paste composition to the substrate for a long time, and the composition of the glass frit is mainly important for this. In addition, electrical conductivity requires research on line resistance and ohmic contact according to line width reduction, and the composition of "conductive" powder and frit is mainly important for this.

전도성 페이스트 조성물은 기술적 해결과제인 인쇄성, 접착성, 전기전도성을 달성하기 위한 기술요소인 전도성 분말, 유리 프릿(glass frit), 및 유기 매질은 서로 길항적인 영향을 주어 각 기술요소에 대한 균형잡힌 기술개발이 요구되고 있다.The conductive paste composition is a technical solution to achieve printability, adhesiveness, and electrical conductivity, which are technical elements such as conductive powder, glass frit, and organic medium, which have antagonistic effects on each other to create a balanced solution for each technical element. Technology development is required.

한편, 일본공개특허 제2005-243500호에는 유기 바인더와, 용제와, 유리 프리트와, 도전성 분말과, Ti, Bi, Zn, Y, In 및 Mo으로부터 선택된 적어도 1종의 금속 또는 그 금속 화합물을 포함하는 도전성 페이스트에 있어서, 금속 또는 그 금속 화합물의 평균 입경이 0.001㎛ 이상 0.1㎛ 미만인 도전성 페이스트가 개시되어 있다.Meanwhile, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-243500 includes an organic binder, a solvent, a glass frit, conductive powder, and at least one metal selected from Ti, Bi, Zn, Y, In, and Mo, or a metal compound thereof. A conductive paste in which an average particle diameter of a metal or a metal compound thereof is 0.001 μm or more and less than 0.1 μm is disclosed.

일본공개특허 제2005-243500호Japanese Laid-open Patent No. 2005-243500

본 발명은 실리콘 성장로에서 발생하는 실리콘 산화물(SiOx) 흄(fume)을 재활용하는 방법으로, 실리콘 성장로에서 포집한 흄을 탄소로 코팅한 SiOx 탄소 코팅 입자 및 이를 제조하는 방법을 제공하고자 한다.The present invention is a method of recycling silicon oxide (SiOx) fume generated in a silicon growth furnace, and to provide SiOx carbon-coated particles in which fume collected from a silicon growth furnace is coated with carbon and a method for manufacturing the same.

상기 과제를 해결하기 위하여,In order to solve the above problem,

본 발명은 실리콘 성장로에서 발생하는 실리콘 산화물(SiOx) 흄(fume)을 재활용하여, 상기 실리콘 산화물(SiOx) 흄을 탄소로 코팅한 SiOx 탄소 코팅 입자를 제공한다.The present invention provides SiOx carbon-coated particles obtained by recycling silicon oxide (SiOx) fumes generated in a silicon growth furnace and coating the silicon oxide (SiOx) fumes with carbon.

상기 SiOx 탄소 코팅 입자는 다중 공극 구조인 것일 수 있다.The SiOx carbon coating particles may have a multi-pore structure.

또한, 본 발명은 실리콘 성장로에서 발생하는 흄(fume)을 포집하는 단계; 상기 포집한 흄을 균질화하는 단계; 상기 균질화된 흄을 불소수지와 혼합하여 용매에 용해시켜 슬러리를 제조하는 단계; 및 상기 슬러리를 건조 후 탄화시켜 SiOx 탄소 코팅 입자를 형성하는 단계를 포함하는 SiOx 탄소 코팅 입자의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention comprises the steps of collecting fume (fume) generated in the silicon growth furnace; Homogenizing the collected fume; preparing a slurry by mixing the homogenized fume with a fluororesin and dissolving it in a solvent; and carbonizing the slurry after drying to form SiOx carbon-coated particles.

상기 흄은 실리콘 산화물(SiOx) 흄을 포함할 수 있다.The fume may include silicon oxide (SiOx) fume.

상기 균질화된 흄 및 불소수지는 0.5:1 내지 3:1의 비율로 혼합하는 것일 수 있다.The homogenized fume and the fluororesin may be mixed in a ratio of 0.5:1 to 3:1.

상기 불소수지는 탄소 전구체며, 폴리비닐리덴 플루오라이드(Polyvinylidene fluoride, PVDF), 폴리테트라플루오로에틸렌(Polytetrafluoroethylene, PTFE), 폴리비닐플로오라이드(Polyvinylfluoride, PVF) 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것일 수 있다.The fluororesin is a carbon precursor, and is selected from the group consisting of polyvinylidene fluoride (PVDF), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinylfluoride (PVF), and combinations thereof. may be selected.

상기 탄화시키는 단계는, 불활성 가스 분위기 하에서 600 내지 800℃로 열처리하는 것일 수 있다.The carbonizing step may be heat treatment at 600 to 800° C. under an inert gas atmosphere.

상기 탄화시키는 단계 이후, 밀링하여 분말을 제조하는 단계를 추가 포함할 수 있다.After the carbonization step, a step of preparing a powder by milling may be further included.

본 발명에 따른 SiOx 탄소 코팅 입자는 실리콘 성장로에서 포집한 흄을 탄소 전구체로서 불소수지를 이용하여 코팅함으로써 제조할 수 있다. 상기 SiOx 탄소 코팅 입자는 기존에 버려지던 실리콘 성장로에서 발생하는 실리콘 산화물(SiOx) 흄을 재활용함으로써, 친환경적으로 폐기물 처리가 가능하며 국산화가 시급한 태양전지 또는 2차전지 음극재의 국내외 제조기술을 확보할 수 있을 뿐만 아니라, 전도성 첨가제로 사용할 수 있다.SiOx carbon coated particles according to the present invention can be prepared by coating fume collected in a silicon growth furnace with a fluororesin as a carbon precursor. The SiOx carbon coating particles recycle silicon oxide (SiOx) fumes generated from previously discarded silicon growth furnaces, enabling eco-friendly waste treatment and securing domestic and foreign manufacturing technology for solar cells or secondary battery anode materials that are urgently needed for localization. It can also be used as a conductive additive.

또한, 기존의 실리콘 잉곳 가공 과정에서 발생하는 슬러지에서 실리콘을 추출하는 형태로의 재활용 기술은 슬러지 형태이므로 후처리가 어려운 단점이 있으나, 본 발명에 따른 SiOx 탄소 코팅 입자는 실리콘 성장로에서 발생하는 SiOx 흄은 슬러지가 아닌 건조된 분말로 수득할 수 있으므로 슬러지 재활용 기술보다 후처리가 쉬운 장점이 있다.In addition, the recycling technology in the form of extracting silicon from the sludge generated in the existing silicon ingot processing process has the disadvantage of difficult post-treatment because it is in the form of sludge, but the SiOx carbon coating particles according to the present invention are SiOx generated in the silicon growth furnace Since fume can be obtained as dried powder rather than sludge, post-treatment is easier than sludge recycling technology.

더불어, 본 발명에 따른 SiOx 탄소 코팅 입자는 저렴한 제조비용을 바탕으로 가격경쟁력을 앞세워 국내 시장 진출을 물론 해외 시장 진출까지 가능한 특징이 있다.In addition, the SiOx carbon coating particles according to the present invention have a feature that allows them to enter the domestic market as well as overseas markets with price competitiveness based on low manufacturing cost.

도 1은 본 발명의 SiOx 탄소 코팅 입자를 제조하는 단계를 나타낸 모식도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에서 SiOx 탄소 코팅 입자의 제조 공정을 나타낸 모식도이다.
도 3의 (a) 및 (b)는 본 발명의 일 실시예에 따른 유량 1 LPM의 조건에서 열처리한 샘플을 나타낸 SEM 이미지이다.
도 4의 (a) 및 (b)는 본 발명의 일 실시예에 따른 2 시간 동안 열처리한 샘플을 나타낸 SEM 이미지이다.
도 5의 (a) 및 (b)는 본 발명의 일 실시예에 따른 700℃ 조건에서 열처리한 샘플을 나타낸 SEM 이미지이다.
도 6의 (a) 내지 (d)는 상기 도 5의 입자의 EDS mapping 및 EDS spectrum 분석 결과를 나타낸 것이다.
도 7의 (a) 내지 (c)는 본 발명의 일 실시예에 따른 탄소가 코팅된 실리카 입자의 TEM 이미지 및 원소분포를 나타낸 것이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 탄소가 코팅된 실리카 입자의 제조 시 실리카 입자와 PVDF 혼합비 변화에 따른 방전용량 변화를 나타낸 것이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 탄소가 코팅된 실리카 입자의 제조 시 실리카 입자와 PVDF 혼합비 변화에 따른 저항 특성 변화를 나타낸 것이다.
1 is a schematic diagram showing steps for preparing SiOx carbon-coated particles of the present invention.
Figure 2 is a schematic diagram showing a manufacturing process of SiOx carbon coated particles in one embodiment of the present invention.
3 (a) and (b) are SEM images showing samples heat-treated under conditions of a flow rate of 1 LPM according to an embodiment of the present invention.
4 (a) and (b) are SEM images showing samples heat-treated for 2 hours according to an embodiment of the present invention.
5 (a) and (b) are SEM images showing samples heat-treated at 700° C. according to an embodiment of the present invention.
6 (a) to (d) show the results of EDS mapping and EDS spectrum analysis of the particles of FIG. 5.
7 (a) to (c) show TEM images and elemental distributions of carbon-coated silica particles according to an embodiment of the present invention.
8 shows the change in discharge capacity according to the change in the mixing ratio of silica particles and PVDF in the manufacture of carbon-coated silica particles according to an embodiment of the present invention.
FIG. 9 shows a change in resistance characteristics according to a change in the mixing ratio of silica particles and PVDF in the manufacture of carbon-coated silica particles according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 구체적으로 설명하고자 한다.Since the present invention can make various changes and have various embodiments, specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description.

그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

본 발명에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In the present invention, the term "comprises" or "has" is intended to designate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, but one or more other features It should be understood that the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof is not precluded.

본 발명에서, "실리콘 산화물(SiOx) 흄"은 실리콘(Si), 페로실리콘(FeSi), 실리콘 합금 등을 제조할 때에 발생되는 폐가스 중에 포함되어 있는 실리콘 산화물(SiOx)을 집진기로 수집 여과하여 얻어지는 마이크로 실리카 입자로서 고강도 시멘트 및 콘크리트 제품, 내화물, 그리고 기타 석면 등의 대체 등 다양한 분야에 응용하는 물질을 의미한다. 근래의 수중콘크리트나 내구성이 요구되는 콘크리트, 특히 고강도 콘크리트 제조에 필수적인 재료로 알려져 있다. 실리콘 산화물 흄의 물리적 특성 중 색상은 일반적으로 회색이며 흑색과 백색의 것도 있으며, 색의 차이는 철분의 함유랑에 영향을 받기는 하지만 주로 탄소량의 다소에 따라 결정된다.In the present invention, "silicon oxide (SiOx) fume" is obtained by collecting and filtering silicon oxide (SiOx) contained in waste gas generated when manufacturing silicon (Si), ferrosilicon (FeSi), silicon alloy, etc. with a dust collector As a micro-silica particle, it means a material applied to various fields such as high-strength cement and concrete products, refractories, and other substitutes for asbestos. It is known as an essential material for manufacturing recent underwater concrete or concrete requiring durability, especially high-strength concrete. Among the physical properties of silicon oxide fume, the color is generally gray, and there are also black and white colors. The difference in color is mainly determined by the amount of carbon, although it is affected by the content of iron.

이하, 본 발명에 대하여 구체적으로 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명은 실리콘 성장로에서 발생하는 실리콘 산화물(SiOx) 흄(fume)을 재활용하여, 상기 실리콘 산화물(SiOx) 흄을 탄소로 코팅한 SiOx 탄소 코팅 입자를 제공한다.The present invention provides SiOx carbon-coated particles obtained by recycling silicon oxide (SiOx) fumes generated in a silicon growth furnace and coating the silicon oxide (SiOx) fumes with carbon.

상기 SiOx 탄소 코팅 입자는 다중 공극 구조인 것일 수 있다. 이는, 상기 실리콘 산화물 흄에 탄소 코팅 시 불소수지를 탄소 전구체로 이용하여 나타나는 것일 수 있다.The SiOx carbon coating particles may have a multi-pore structure. This may be caused by using a fluororesin as a carbon precursor when carbon is coated on the silicon oxide fume.

본 발명에 따른 SiOx 탄소 코팅 입자는 실리콘 입자를 포함하고 있어 음극재로 사용할 수 있다.The SiOx carbon coating particle according to the present invention contains silicon particles and can be used as an anode material.

본 발명에 따른 SiOx 탄소 코팅 입자는 태양전지 간의 직접 접촉으로 저항을 줄인 shingled 모듈에 사용되는 전도성 접착제의 SiOx 탄소 코팅 입자로 사용할 수 있다. 또한, 태양전지의 발전 과정 중 생성된 전자가 이동하는 라인(finger line)의 첨가제로도 사용할 수 있다.The SiOx carbon coating particles according to the present invention can be used as SiOx carbon coating particles for conductive adhesives used in shingled modules with reduced resistance due to direct contact between solar cells. In addition, it can be used as an additive for a finger line through which electrons generated during the solar cell power generation process move.

기존의 실리콘 잉곳 가공 과정에서 발생하는 슬러지에서 실리콘을 추출하는 형태로의 재활용 기술은 슬러지 형태이므로 후처리가 어려운 단점이 있으나, 본 발명에 따른 SiOx 탄소 코팅 입자는 실리콘 성장로에서 발생하는 SiOx 흄은 슬러지가 아닌 건조된 분말로 수득할 수 있으므로 슬러지 재활용 기술보다 후처리가 쉬운 장점이 있다.The recycling technology in the form of extracting silicon from the sludge generated in the existing silicon ingot processing process has the disadvantage of difficult post-treatment because it is in the form of sludge, but the SiOx carbon coating particles according to the present invention are SiOx fume generated from the silicon growth furnace Since it can be obtained as dried powder rather than sludge, it has the advantage of being easier to post-process than sludge recycling technology.

더불어, 본 발명에 따른 SiOx 탄소 코팅 입자는 저렴한 제조비용을 바탕으로 가격경쟁력을 앞세워 국내 시장 진출을 물론 해외 시장 진출까지 가능한 특징이 있다.In addition, the SiOx carbon coating particles according to the present invention have a feature that allows them to enter the domestic market as well as overseas markets with price competitiveness based on low manufacturing cost.

또한, 본 발명은 실리콘 성장로에서 발생하는 흄(fume)을 포집하는 단계; 상기 포집한 흄을 균질화하는 단계; 상기 균질화된 흄을 불소수지와 혼합하여 용매에 용해시켜 슬러리를 제조하는 단계; 및 상기 슬러리를 건조 후 탄화시켜 SiOx 탄소 코팅 입자를 형성하는 단계를 포함하는 SiOx 탄소 코팅 입자의 제조방법을 제공한다. 도 1은 상기 SiOx 탄소 코팅 입자를 제조하는 단계를 나타낸 모식도이다. In addition, the present invention comprises the steps of collecting fume (fume) generated in the silicon growth furnace; Homogenizing the collected fume; preparing a slurry by mixing the homogenized fume with a fluororesin and dissolving it in a solvent; and carbonizing the slurry after drying to form SiOx carbon-coated particles. 1 is a schematic diagram showing steps for preparing the SiOx carbon-coated particles.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 SiOx 탄소 코팅 입자는 실리콘 성장로에서 포집한 흄을 탄소 전구체로서 불소수지를 이용하여 코팅함으로써 제조할 수 있다. 상기 SiOx 탄소 코팅 입자는 기존에 버려지던 실리콘 성장로에서 발생하는 실리콘 산화물(SiOx) 흄을 재활용함으로써, 친환경적으로 폐기물 처리가 가능하며 국산화가 시급한 음극재의 국내외 제조기술을 확보할 수 있을 뿐만 아니라, 전도성 첨가제로 사용할 수 있다.Referring to FIG. 1, SiOx carbon coated particles according to the present invention can be prepared by coating fumes collected in a silicon growth furnace with a fluororesin as a carbon precursor. The SiOx carbon coating particles are environmentally friendly waste treatment by recycling silicon oxide (SiOx) fumes generated from previously discarded silicon growth furnaces, and it is possible to secure domestic and foreign manufacturing technologies for anode materials that urgently need to be localized. Can be used as an additive.

구체적으로, 본 발명은 실리콘 성장로에 연결된 집진기에 의해 상기 실리콘 성장로에서 발생하는 흄(fume)을 포집할 수 있다. 상기 포집한 흄을 균질화한 후 균질화된 흄을 탄소 전구체인 불소수지와 혼합하여 용매에 용해시킨 후 건조시킬 수 있다. Specifically, in the present invention, fume generated in the silicon growth furnace may be collected by a dust collector connected to the silicon growth furnace. After homogenizing the collected fume, the homogenized fume may be mixed with a fluororesin as a carbon precursor, dissolved in a solvent, and then dried.

상기 포집한 흄의 균질화는 포집한 입자들의 입도를 고르게 하는 과정으로, 다양한 입도 분포를 가진 분말의 편차를 최소화 하는 과정일 수 있으며, 밀링하는 방법을 포함할 수 있다.Homogenization of the collected fume is a process of equalizing the particle size of the collected particles, and may be a process of minimizing the variation of powders having various particle size distributions, and may include a milling method.

상기 밀링은 볼 밀링(ball milling), 어트리션 밀링(attrition milling) 및 자이로(gyro) 볼 밀링 중 어느 하나의 밀링에 의해 수행되는 것일 수 있다.The milling may be performed by any one of ball milling, attrition milling, and gyro ball milling.

상기 흄은 실리콘 산화물(SiOx) 흄을 포함할 수 있다.The fume may include silicon oxide (SiOx) fume.

상기 균질화된 흄 및 불소수지는 0.5:1 내지 3:1의 비율로 혼합하는 것일 수 있다. 예를 들어, 상기 균질화된 흄 및 불소수지는 0.5:1 내지 1.5:1, 0.5:1 내지 1:1, 1:1 내지 3:1, 1:1 내지 2:1, 1:1 내지 1.5:1 또는 1.5:1 내지 2:1의 비율로 혼합하는 것일 수 있다.The homogenized fume and the fluororesin may be mixed in a ratio of 0.5:1 to 3:1. For example, the homogenized fume and fluororesin are 0.5: 1 to 1.5: 1, 0.5: 1 to 1: 1, 1: 1 to 3: 1, 1: 1 to 2: 1, 1: 1 to 1.5: It may be mixing in a ratio of 1 or 1.5:1 to 2:1.

상기 불소수지는 탄소 전구체며, 폴리비닐리덴 플루오라이드(Polyvinylidene fluoride, PVDF), 폴리테트라플루오로에틸렌(Polytetrafluoroethylene, PTFE), 폴리비닐플로오라이드(Polyvinylfluoride, PVF) 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것일 수 있다. 또한, 상기 불소수지는 상기 입자들을 탄소 복합 입자로 제조하기 위한 탄소 전구체이며, 탄소와 불소가 중합된 고분자를 포함할 수 있다. The fluororesin is a carbon precursor, and is selected from the group consisting of polyvinylidene fluoride (PVDF), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinylfluoride (PVF), and combinations thereof. may be selected. In addition, the fluororesin is a carbon precursor for preparing the particles into carbon composite particles, and may include a polymer in which carbon and fluorine are polymerized.

상기 불소수지는 상기 열처리 과정에서 불소가 배출되어 식각 효과를 나타내어 실리콘 산화물의 불순물을 제거할 수 있고, 이에 따라 불순물을 정제하는 과정을 생략할 수 있다. 상기 식각은 열처리 과정 중 열에 의해 상기 불소수지에서 HF(hydrogen fluoride)가 발생하고 상기 HF와 실리콘 산화물이 반응해 SiF4와 H2O로 변함으로써 된다.In the fluororesin, fluorine is discharged in the heat treatment process to exhibit an etching effect, so that impurities in silicon oxide can be removed, and accordingly, a process of purifying the impurities can be omitted. The etching is performed by generating hydrogen fluoride (HF) from the fluorine resin by heat during the heat treatment process, and reacting the HF and silicon oxide to form SiF 4 and H 2 O.

상기 불소수지를 탄소 전구체로 이용하여 제조된 탄소 복합 입자는 다중 공극 구조일 수 있다.Carbon composite particles prepared using the fluororesin as a carbon precursor may have a multi-pore structure.

상기 균질화된 흄과 불소수지를 혼합하여 용해시키기 위한 용매는 유기용매를 포함할 수 있고, 더욱 상세하게는 아세톤 보다 탄소가가 높은 유기 용매를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 유기용매는 N-메틸피롤리돈(N-methyl pyrrolidone, NMP)을 포함할 수 있다.The solvent for mixing and dissolving the homogenized fume and the fluororesin may include an organic solvent, and more specifically, an organic solvent having a higher carbon number than acetone. For example, the organic solvent may include N-methyl pyrrolidone (NMP).

상기 건조 후, 예를 들어, 전기로에서 불활성 가스 분위기 하에서 600 내지 800℃로 열처리하여 탄화시킬 수 있다. 예를 들어, 상기 열처리는 600 내지 750℃, 600 내지 700℃, 600 내지 650℃, 650 내지 800℃, 700 내지 800℃ 또는 750 내지 800℃로 열처리하는 것일 수 있다. After the drying, for example, carbonization may be performed by heat treatment at 600 to 800° C. under an inert gas atmosphere in an electric furnace. For example, the heat treatment may be heat treatment at 600 to 750 °C, 600 to 700 °C, 600 to 650 °C, 650 to 800 °C, 700 to 800 °C, or 750 to 800 °C.

상기 열처리는 1 내지 5 시간 동안 수행하는 것일 수 있다. 예를 들어, 상기 열처리는 2 내지 3 시간 동안 수행하는 것일 수 있다.The heat treatment may be performed for 1 to 5 hours. For example, the heat treatment may be performed for 2 to 3 hours.

상기 불활성 가스는 Ar, N2, Ne, 또는 He 중 하나 이상을 포함할 수 있다.The inert gas may include one or more of Ar, N 2 , Ne, or He.

상기 탄화시키는 단계 이후, 탄화된 흄을 밀링하여 분말을 제조하는 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 탄화 후 탄화된 분말은 덩어리로 형성되어 상기 밀링을 통해 분발 상태로 제조할 수 있으며, SiOx 탄소 코팅 입자를 전도성 첨가제로 사용하기 위해 필수로 거쳐야하는 단계이다.After the carbonizing step, a step of preparing powder by milling the carbonized fume may be further included. After the carbonization, the carbonized powder is formed into a lump and can be prepared in a powdered state through the milling, which is an essential step to use the SiOx carbon coating particles as a conductive additive.

상기 밀링은 볼 밀링(ball milling), 어트리션 밀링(attrition milling) 및 자이로(gyro) 볼 밀링 중 어느 하나의 밀링에 의해 수행되는 것일 수 있다.The milling may be performed by any one of ball milling, attrition milling, and gyro ball milling.

이하 본 발명에 따르는 실시예 등을 통해 본 발명을 보다 상세히 설명하나, 본 발명의 범위가 하기 제시된 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples and the like according to the present invention, but the scope of the present invention is not limited by the examples presented below.

[실시예][Example]

제조예 manufacturing example

도 2는 본 제조예의 SiOx 탄소 코팅 입자의 제조 공정을 나타낸 모식도이다.2 is a schematic diagram showing a manufacturing process of SiOx carbon-coated particles of this production example.

도 2를 참조하면, 실리카 흄을 볼 밀링으로 균질화한 실리카 입자에 탄소를 코팅하기 위해 탄소 코팅용 소스인 폴리비닐리덴 플루오라이드(Polyvinylidene fluoride, PVDF)와 PVDF를 녹일 용매인 N-메틸피롤리돈(N-methyl-2-pyrolidone, NMP)를 혼합한 후 건조하여 불활성 가스인 질소를 흘려보내면서 600 내지 800℃에서 2 내지 4시간 동안 열처리하였다. 열처리한 후, 밀링을 수행하여 탄화 과정을 거칠 때 고분자인 PVDF와 섞이면서 덩어리가 된 실리카 입자들을 분말 상태로 제조하였다.Referring to Figure 2, in order to coat carbon on silica particles homogenized by ball milling silica fume, polyvinylidene fluoride (PVDF), a source for carbon coating, and N-methylpyrrolidone, a solvent for dissolving PVDF (N-methyl-2-pyrolidone, NMP) was mixed, dried, and heat-treated at 600 to 800 ° C. for 2 to 4 hours while flowing nitrogen, an inert gas. After heat treatment, milling was performed to prepare silica particles that became agglomerates in a powder state while being mixed with PVDF, which is a polymer, during the carbonization process.

상기 질소 가스의 유량과 열처리 온도에 따라 탄화 여부가 달라지므로, 우선 열처리 온도와 가스의 유량을 정하기 위해 실리카와 PVDF의 혼합비를 1:1로 하여 열처리 온도와 가스의 유량만 변화시키면서 상기 탄화물을 분석하였다.Since the carbonization depends on the flow rate of the nitrogen gas and the heat treatment temperature, first, the mixing ratio of silica and PVDF is set to 1: 1 to determine the heat treatment temperature and gas flow rate, and only the heat treatment temperature and gas flow rate are changed while analyzing the carbide did

실험예Experimental Example

상기 탄화물의 탄화 조건 선정을 위해, 여러 선행연구를 참고하여 하기 표 1에 나타낸 공정조건으로 실험하였다. In order to select the carbonization conditions of the carbide, the experiment was performed under the process conditions shown in Table 1 with reference to several previous studies.

각 조건에 따라 변수들을 선택해 총 샘플을 27개 만들어 SEM과 TEM 분석으로 층상 구조의 탄소 코팅층이 형성되는 조건을 찾았다.A total of 27 samples were made by selecting variables according to each condition, and conditions for forming a layered carbon coating layer were found through SEM and TEM analysis.

열처리 시간heat treatment time
[hr][hr]
불활성 가스 inert gas
유량 [LPM]Flow rate [LPM]
열처리 온도heat treatment temperature
[℃][℃]
22 0.50.5 650650 2.52.5 1One 700700 33 1.51.5 750750

도 3의 (a) 및 (b)는 상기 샘플 중 하나의 SEM 이미지이다. 질소 가스 유량이 1 LPM 이상의 조건으로 제조된 샘플에서는 탄소 코팅층이 입자 표면을 덮지 않은 입자들이 확인되었다. 비정질 탄소층이라도 입자의 표면을 덮고 있으면 입자 표면이 보이지 않는 것을 고려했을 때 1 LPM 이상의 유량 조건은 코팅층이 안정적이지 않은 것으로 판단하였다.3 (a) and (b) are SEM images of one of the samples. In the sample prepared under the condition of a nitrogen gas flow rate of 1 LPM or more, particles whose surface was not covered with a carbon coating layer were confirmed. Considering that even if the amorphous carbon layer covers the surface of the particle, the particle surface is not visible, it was determined that the coating layer was not stable under a flow rate condition of 1 LPM or more.

상기 실험에 따라, 질소 가스 유량을 0.5 LPM으로 고정한 후 탄소 코팅층의 형성 조건을 보다 확인하기 쉽게 ㎛ 크기의 구형 실리카 입자에 탄소를 코팅해서 변수 최적화를 진행하였다. ㎛ 크기의 입자는 ㎚ 크기의 실리카 입자보다 크기가 커 SEM 분석 시 코팅층을 관찰할 때 ㎚ 크기의 입자보다 명확하게 구분되고 표면을 자세히 보기도 쉽다는 장점이 있어, ㎛ 크기의 실리카로 변수 최적화 후 ㎚ 크기의 입자에 적용하였다.According to the above experiment, after fixing the nitrogen gas flow rate to 0.5 LPM, parameters were optimized by coating carbon on ㎛-sized spherical silica particles to make it easier to check the formation conditions of the carbon coating layer. ㎛-sized particles are larger than NM-sized silica particles, so when observing the coating layer during SEM analysis, they have the advantage of being more clearly distinguished than NM-sized particles and making it easier to see the surface in detail. It was applied to nanometer-sized particles.

제외한 유량 조건(1 LPM 이상)으로 제조한 샘플은 도 3의 (a) 및 (b)에서 나타낸 바와 같이, 코팅층 붕괴가 명확해 코팅층 표면을 자세히 살펴볼 필요가 없었으나, 나머지 조건으로 제조한 샘플은 코팅층이 덮여있어 표면 분석이 필요하였다.As shown in (a) and (b) of FIG. 3, the samples prepared under the flow conditions except for the flow rate conditions (1 LPM or more) did not require a detailed examination of the surface of the coating layer because the collapse of the coating layer was clear, but the samples prepared under the other conditions A surface analysis was required because the coating layer was covered.

도 4의 (a) 및 (b)는 열처리 시간 2 및 2.5 시간으로 만들어진 샘플의 입자 중 하나를 보여주는 SEM 사진으로, 표면에 탄소 코팅층이 형성은 됐으나 일부 벗겨진 것을 확인할 수 있었다. 도 3의 (a) 및 (b)의 입자처럼 코팅층이 완전히 벗겨지지 않고 일부 벗겨진 상태인 것이 확인할 수 있었다.4 (a) and (b) are SEM pictures showing one of the particles of the sample made with the heat treatment time of 2 and 2.5 hours, and it was confirmed that the carbon coating layer was formed on the surface, but partially peeled off. As shown in the particles in (a) and (b) of FIG. 3 , it was confirmed that the coating layer was not completely peeled off and was partially peeled off.

열처리 시간 3시간 샘플 중 온도가 650℃의 샘플에서도 도 4의 (a) 및 (b)에서 나타낸 바와 같은 샘플이 일부 발견되어, 700℃ 이상의 온도에서는 코팅에 문제가 없는 것으로 판단하였다.Among the samples with a heat treatment time of 3 hours, some samples as shown in (a) and (b) of FIG. 4 were found even at a temperature of 650 ° C, and it was determined that there was no problem with the coating at a temperature of 700 ° C or higher.

도 5의 (a) 및 (b)는 열처리 온도 700℃ 이상 조건에서의 샘플들의 입자를 나타낸 SEM 이미지이다. 입자 표면을 탄소층이 완전히 덮고 있는 것을 확인할 수 있었다. 700℃와 750℃의 차이는 코팅층의 형성이 아닌 결정질과 비정질 또는 형성된 층의 두께 등에서 차이가 있을 것으로 예상된다.Figures 5 (a) and (b) are SEM images showing the particles of the samples under the conditions of heat treatment temperature of 700 ℃ or more. It was confirmed that the carbon layer completely covered the particle surface. The difference between 700 ° C and 750 ° C is expected to be a difference in crystalline and amorphous or the thickness of the formed layer, not the formation of the coating layer.

도 5의 (a) 및 (b)에 나타낸 입자 표면에 코팅된 탄소의 비율을 확인하기 위해 입자를 대상으로 EDS 분석을 했으나 오차범위를 고려했을 때 두 입자는 유사하다고 판단하였다.In order to confirm the ratio of carbon coated on the surface of the particles shown in (a) and (b) of FIG. 5, EDS analysis was performed on the particles, but the two particles were judged to be similar when considering the error range.

도 6의 (a) 내지 (d)는 상기 도 5의 (a) 및 (b)에 나타낸 입자의 EDS 분석 결과를 나타낸 것이다. 도 6의 (a) 내지 (d)에 나타낸 바와 같이, 두 입자의 수치는 유사해 코팅층은 두께나 결정질 형성 여부에서 차이가 없을 것으로 판단하였다. Figures 6 (a) to (d) show the EDS analysis results of the particles shown in Figure 5 (a) and (b). As shown in (a) to (d) of FIG. 6, the values of the two particles were similar, so it was determined that there would be no difference in thickness or crystalline formation of the coating layer.

두 샘플을 비교했을 때 수치상 유사했기 때문에 제조 단가 면에서 에너지를 보다 적게 사용하는 700℃ 조건으로 열처리 온도를 선정하였고, 탄화를 위한 최적의 조건으로 열처리 시간 3시간, 유량은 0.5 LPM, 열처리 온도는 700℃인 것으로 결정하였다.When comparing the two samples, since they were numerically similar, the heat treatment temperature was selected under the condition of 700 ° C, which uses less energy in terms of manufacturing unit cost. It was determined to be 700°C.

상기 결정한 제조공정 조건을 3 ㎛ 크기의 실리카 입자에 적용하여 PVDF의 식각 효과를 확인하였다.The manufacturing process conditions determined above were applied to silica particles having a size of 3 μm to confirm the etching effect of PVDF.

도 7의 (a) 내지 (c)는 3 ㎛ 크기의 실리카 입자에 열처리 시간 3시간, 질소 가스 유량 0.5 LPM, 열처리 온도 700℃로 탄화시켜 제조된 전도성 입자를 나타낸 TEM 이미지(a 및 b) 및 원소 분포(c)를 나타낸 것이다. 도 7에 나타낸 바와 같이, 큰 입자(a)의 내부가 식각되어 빈 공간이 생긴 것을 알 수 있으며, 약 300㎚ 크기의 입자(a)뿐만 아니라 약 70 ㎚ 크기의 입자(b)에서도 비슷한 형태의 입자가 만들어진 것을 알 수 있다. 이는 불화수소에 의해 원래 입자보다 외부가 식각되어 입자 크기가 작아진 것을 확인할 수 있었다.7 (a) to (c) are TEM images (a and b) showing conductive particles prepared by carbonizing 3 μm-sized silica particles with a heat treatment time of 3 hours, a nitrogen gas flow rate of 0.5 LPM, and a heat treatment temperature of 700 ° C. It shows the elemental distribution (c). As shown in FIG. 7, it can be seen that the inside of the large particle (a) is etched to create an empty space, and not only the particle (a) with a size of about 300 nm but also the particle (b) with a size of about 70 nm has a similar shape. It can be seen that particles are formed. It was confirmed that the outside of the original particle was etched by hydrogen fluoride and the particle size was reduced.

상기 식각은 하기 화학식 1에서와 같이, 처리 과정 중 열에 의해 PVDF를 포함한 불소수지에서 HF가 발생하고, 이 HF과 SiO2가 반응해 SiF4와 H2O로 변함으로써 이루어진다. As shown in Chemical Formula 1 below, HF is generated from the fluororesin including PVDF by heat during the treatment process, and the HF and SiO 2 react to change into SiF 4 and H 2 O.

[화학식 1][Formula 1]

또한, 도 7의 (c)에서 나타낸 바와 같이, 원소 분포에서 탄소를 포함하고 있는 것을 통해 입자를 탄소가 코팅하고 있는 것을 확인할 수 있었다.In addition, as shown in (c) of FIG. 7, it was confirmed that carbon coated the particles through the presence of carbon in the element distribution.

도 8은 상기 제조예에서 실리카 입자와 PVDF의 혼합비 변화에 따른 방전용량 변화를 나타낸 것이다. 샘플로는 실리카 입자, 실리카:PVDF의 혼합비 1:1 및 3:1로하여 제조된 탄소 코팅 입자를 측정하였다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 실리카 입자의 혼합비가 높을수록 초기 방전용량이 높은 것을 알 수 있었다.Figure 8 shows the change in discharge capacity according to the change in the mixing ratio of silica particles and PVDF in the above preparation example. As samples, silica particles and silica:PVDF mixing ratios of 1:1 and 3:1 were used to measure carbon-coated particles. As shown in FIG. 8, it was found that the higher the mixing ratio of the silica particles, the higher the initial discharge capacity.

도 9는 상기 제조예에서 실리카 입자와 PVDF의 혼합비 변화에 따른 저항 특성 변화를 나타낸 것이다. 샘플로는 실리카 입자, 실리카:PVDF의 혼합비 1:1 및 3:1로하여 제조된 탄소 코팅 입자를 측정하였다. 도 9에 나타낸 바와 같이, 실리카의 혼합비가 높을수록 저항 특성은 낮은 저항값을 갖는 것으로 나타났으며, 이는 전기전도도가 향상되어 안정성이 향상되었기 때문임을 확인할 수 있었다.9 shows a change in resistance characteristics according to a change in the mixing ratio of silica particles and PVDF in the above Preparation Example. As samples, silica particles and silica:PVDF mixing ratios of 1:1 and 3:1 were used to measure carbon-coated particles. As shown in FIG. 9, it was found that the higher the mixing ratio of silica, the lower the resistance value, and this was because the electrical conductivity was improved and the stability was improved.

Claims (8)

실리콘 성장로에서 발생하는 실리콘 산화물(SiOx) 흄(fume)을 재활용하여,
상기 실리콘 산화물(SiOx) 흄을 탄소로 코팅한 SiOx 탄소 코팅 입자.
By recycling the silicon oxide (SiOx) fume generated in the silicon growth furnace,
SiOx carbon-coated particles obtained by coating the silicon oxide (SiOx) fume with carbon.
제 1 항에 있어서,
상기 SiOx 탄소 코팅 입자는 다중 공극 구조인 것을 특징으로 하는 SiOx 탄소 코팅 입자.
According to claim 1,
The SiOx carbon coated particles are SiOx carbon coated particles, characterized in that the multi-pore structure.
실리콘 성장로에서 발생하는 흄(fume)을 포집하는 단계;
상기 포집한 흄을 균질화하는 단계;
상기 균질화된 흄을 불소수지와 혼합하여 용매에 용해시켜 슬러리를 제조하는 단계; 및
상기 슬러리를 건조 후 탄화시켜 SiOx 탄소 코팅 입자를 형성하는 단계를 포함하는 SiOx 탄소 코팅 입자의 제조방법.
Collecting fume generated from a silicon growth furnace;
Homogenizing the collected fume;
preparing a slurry by mixing the homogenized fume with a fluororesin and dissolving it in a solvent; and
Method for producing SiOx carbon-coated particles comprising the step of carbonizing the slurry after drying to form SiOx carbon-coated particles.
제 1 항에 있어서,
상기 흄은 실리콘 산화물(SiOx) 흄을 포함하는 것을 특징으로 하는 SiOx 탄소 코팅 입자의 제조방법.
According to claim 1,
The fume is a method for producing SiOx carbon coated particles, characterized in that it comprises silicon oxide (SiOx) fume.
제 1 항에 있어서,
상기 균질화된 흄 및 불소수지는 0.5:1 내지 3:1의 비율로 혼합하는 것을 특징으로 하는 SiOx 탄소 코팅 입자의 제조방법.
According to claim 1,
The homogenized fume and the fluororesin are mixed in a ratio of 0.5: 1 to 3: 1, characterized in that the manufacturing method of SiOx carbon coating particles.
제 1 항에 있어서,
상기 불소수지는 탄소 전구체이며, 폴리비닐리덴 플루오라이드(Polyvinylidene fluoride, PVDF), 폴리테트라플루오로에틸렌(Polytetrafluoroethylene, PTFE), 폴리비닐플로오라이드(Polyvinylfluoride, PVF) 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 SiOx 탄소 코팅 입자의 제조방법.
According to claim 1,
The fluororesin is a carbon precursor, and is selected from the group consisting of polyvinylidene fluoride (PVDF), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinylfluoride (PVF), and combinations thereof. Method for producing SiOx carbon coated particles, characterized in that selected.
제 1 항에 있어서,
상기 탄화시키는 단계는,
불활성 가스 분위기 하에서 600 내지 800℃로 열처리하는 것을 특징으로 하는 SiOx 탄소 코팅 입자의 제조방법.
According to claim 1,
In the carbonization step,
Method for producing SiOx carbon coated particles, characterized in that heat treatment at 600 to 800 ℃ in an inert gas atmosphere.
제 1 항에 있어서,
상기 탄화시키는 단계 이후,
밀링하여 분말을 제조하는 단계를 더 포함하는 SiOx 탄소 코팅 입자의 제조방법.
According to claim 1,
After the carbonization step,
Method for producing SiOx carbon-coated particles further comprising the step of milling to prepare a powder.
KR1020220024565A 2022-02-24 2022-02-24 SiOx carbon coated particles and manufacturing method thereof KR20230127020A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220024565A KR20230127020A (en) 2022-02-24 2022-02-24 SiOx carbon coated particles and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220024565A KR20230127020A (en) 2022-02-24 2022-02-24 SiOx carbon coated particles and manufacturing method thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230127020A true KR20230127020A (en) 2023-08-31

Family

ID=87847672

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220024565A KR20230127020A (en) 2022-02-24 2022-02-24 SiOx carbon coated particles and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20230127020A (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005243500A (en) 2004-02-27 2005-09-08 Kyocera Chemical Corp Conductive paste, solar cell and manufacturing method of solar cell

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005243500A (en) 2004-02-27 2005-09-08 Kyocera Chemical Corp Conductive paste, solar cell and manufacturing method of solar cell

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Cai et al. Ultrafine Co3Se4 nanoparticles in nitrogen‐doped 3D carbon matrix for high‐stable and long‐cycle‐life lithium sulfur batteries
US20070092429A1 (en) Methods of preparing carbon-coated particles and using same
CN109244546B (en) Solid composite electrolyte film, preparation method thereof and all-solid-state battery
WO2007082217A2 (en) A process of making carbon-coated lithium metal polyanionic powders
CN107681147B (en) Preparation method and application of solid electrolyte coated modified lithium ion battery positive electrode material
JP2020001941A (en) Core-shell structure, manufacturing method thereof, composition for negative electrode using the core-shell structure as negative electrode active material, negative electrode, and secondary battery
CN110278709A (en) Hydrogen polysilsesquioxane sintered body-metal oxide complex and its manufacturing method, negative electrode for lithium ion battery active material, negative electrode for lithium ion battery and lithium ion battery containing silicon nano
CN111081976B (en) Silicon-carbon-polymer composite electrode of lithium secondary battery and preparation method thereof
CN111564610B (en) Carbon-coated cuprous phosphide-copper composite particle modified by carbon nanotube and preparation method and application thereof
CN110931730B (en) Titanium niobate negative electrode material and preparation method and application thereof
CN108242546B (en) Amorphous carbon negative electrode material, preparation method thereof and battery
CN112499682A (en) V-shaped groove4+Self-doping of V2O5Nanowire and preparation method and application thereof
CN106328953A (en) Current collector and preparation method thereof
KR20230127020A (en) SiOx carbon coated particles and manufacturing method thereof
CN111554914A (en) Lithium iron phosphate-sodium vanadium phosphate-carbon composite material and preparation method and application thereof
KR20220146756A (en) Conductive additive for solar cell module and manufacturing method thereof
KR102285734B1 (en) Conductive additive for solar cell module and manufacturing method thereof
CN112968176B (en) Chromium oxide/carbon nano tube composite material and application thereof
CN112510254B (en) Novel sulfide solid electrolyte and preparation method and application thereof
CN110323436B (en) Lithium titanate composite material and preparation method thereof, electrode plate of lithium ion battery and preparation method thereof, and lithium ion battery
KR101727457B1 (en) Method Of Protective layer Of Metal Interconnect Of Solid Oxide Fuel Cell, And Protective Layer Manufactured Using The Same
Jin et al. A poly-(styrene-acrylonitrile) copolymer-derived hierarchical architecture in electrode materials for lithium-ion batteries
CN108134085B (en) Graphite lithium ion battery cathode material with multilayer graphene on surface and preparation method thereof
KR101519947B1 (en) Multi layered silicon compound coated carbon-based composite, preparation method thereof and electrocatalyst for fuel cell manufactured by using the same
KR101919715B1 (en) Manufacturing method for negative electrode materials