KR20230116314A - AN APPARATUS FOR CONTROLLING THE MOVEMENT OF PARTICLES Bz USING A CONTROL OF A MAGNETIC FIELD, AND A METHOD FOR CONTROLLING THE MOVEMENT OF PARTICLES USING THE SAME - Google Patents
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Abstract
본 발명의 일 실시 예는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치 및 이를 이용한 입자 이동 제어방법을 제공한다. 본 발명의 실시 예에 따른 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치는, 상부를 통과하는 미세입자를 향해 자기장 영역이 일정하게 제공되는 자기장인 고정자기장을 발생시키는 고정자기장발생부; 및 고정자기장발생부의 상단에 형성되고, 자기장 영역이 가변되는 자기장인 조작자기장을 발생시켜 미세입자에 제공하는 조작자기장발생부를 포함한다.An embodiment of the present invention provides a particle movement control device using magnetic field control and a particle movement control method using the same. Particle movement control device using magnetic field control according to an embodiment of the present invention includes a stationary magnetic field generator for generating a stationary magnetic field, which is a magnetic field in which a magnetic field area is constantly provided toward fine particles passing through the top; and a manipulation magnetic field generating unit formed at an upper end of the stationary magnetic field generating unit and generating an operating magnetic field, which is a magnetic field having a variable magnetic field area, and providing it to the microparticles.
Description
본 발명은 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치 및 이를 이용한 입자 이동 제어방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 기존의 자성체 기반 미세입자 조작을 위해서 움직이고자 하는 축에 대하여 최소 두 개의 자석이 필요하던 구조를 벗어나 평면상에서 자기장 발생장치 다양한 조합을 통해 2차원 또는 3차원 방향의 비드 동작을 제어할 수 있도록 하는 기술에 관한 것이다.The present invention relates to a particle movement control device using magnetic field control and a particle movement control method using the same, and more particularly, to a structure in which at least two magnets are required for an axis to be moved in order to manipulate conventional magnetic material-based microparticles. It relates to a technique for controlling bead operation in a two-dimensional or three-dimensional direction through various combinations of magnetic field generators on a plane out of the way.
영구자석 또는 전자석에서 발생하는 자기력을 통해서 미세입자의 동작을 제어하는 기술은, 바이오어플리케이션(약물전달, 다양한 병원균 조기진단 등), 자기영동, 마이크로 로봇, 금속프린팅 등 다양한 분야의 원천기술로 개발되고 있다. 그러나, 기존 기술은 자기적 인력 또는 척력 중 하나만 이용할 수 있으므로, 미세입자의 동작을 조작하는 것에 제한이 있다.The technology to control the motion of fine particles through magnetic force generated from permanent magnets or electromagnets is being developed as a source technology in various fields such as bio-applications (drug delivery, early diagnosis of various pathogens, etc.), magnetophoresis, micro-robots, and metal printing. there is. However, since the existing technology can only use either magnetic attraction or repulsion, there is a limitation in manipulating the motion of the microparticles.
원래 자기적 상호작용에는 인력과 척력이 모두 존재한다. 그러나, 기존의 외부자기장을 이용한 미세입자(강자성, 초상자성)의 이송(transfer) 및 분리(separation)는 미세입자의 자기적 특성에 따라 외부에서 자기장을 인가하였을 때, 자구(magnetic domain) 방향이 외부 자기장의 인가 방향으로 회전하거나(Neel relaxation), 유체의 마찰력이 외부 자기장에 의한 회전력보다 작으면 입자 자체가 자기장 방향으로 회전하여(Brownian relaxation) 항상 인력만 작용하게 되어 자기장 세기가 큰 쪽으로 끌려오게 된다.Originally, magnetic interactions have both attractive and repulsive forces. However, in the transfer and separation of microparticles (ferromagnetism, superparamagnetism) using an existing external magnetic field, the direction of the magnetic domain changes when an external magnetic field is applied according to the magnetic characteristics of the microparticles. When the fluid rotates in the direction of application of the external magnetic field (Neel relaxation) or when the frictional force of the fluid is smaller than the rotational force caused by the external magnetic field, the particles themselves rotate in the direction of the magnetic field (Brownian relaxation). do.
따라서 미세입자의 동작을 제어하기 위해서는 원하는 방향으로 최소한 1개의 자석이 필요하며 2차원 또는 3차원 움직임을 만들기 위해서는 4개, 6개 이상의 자석이 필요하다.Therefore, in order to control the motion of the microparticles, at least one magnet is required in a desired direction, and four or more magnets are required to make a two-dimensional or three-dimensional movement.
미국 공개특허 제 2020-0147604호(발명의 명칭: Apparatus for manipulating magnetic particles)에서는, 소정의 공간 내에서 자기 입자가 이동 가능하도록 위치하고, 이와 같은 자기 입자에 자석이 인접하게 설치되며, 자석의 자기력 변화에 따라 자기 입자의 이동이 수행되는 사항 및, 유층이 충진되고 유층 내 자기 입자가 위치하도록 하는 공간을 제공하는 컨테이너가 형성되며, 이와 같은 컨테이너의 외부에 자석이 위치하고, 자석이 자기 입자에 자기력을 제공하는 상태에서 자석이 이동함으로써 자기 입자가 이동되는 사항이 개시되어 있다.In US Patent Publication No. 2020-0147604 (title of invention: Apparatus for manipulating magnetic particles), magnetic particles are positioned to be movable in a predetermined space, a magnet is installed adjacent to the magnetic particles, and the magnetic force of the magnet changes. Depending on the movement of the magnetic particles, a container is formed that provides a space for filling the oil layer and positioning the magnetic particles in the oil layer, a magnet is located outside the container, and the magnet applies magnetic force to the magnetic particles. As the magnet moves in the provided state, the movement of the magnetic particles is disclosed.
그리고, 대한민국 등록특허 제10-1576624호(발명의 명칭: 미세자기영동 채널회로 및 자성구조체를 이용한 바이오물질의 이송, 트래핑 및 탈출 장치)에서는, 자성구조체가 이동할 수 있는 공간 주위에 자석이 배치되어 형성되고, 각각의 자석의 자기력을 임의로 제어함으로써 자성구조체의 이동이 평면 상 가변되도록 제어하는 사항 및, 자성구조체의 이동 공간에는 기판 상 연자성 미세 구조체가 형성되고, 이와 같은 연자성 미세 구조체 주위에 복수 개의 자기력 인가부가 배치되며, 각각의 자기력 인가부의 자기력을 제어함으로써 자성구조체의 이동을 제어하게 되는 사항이 개시되어 있다.And, in Republic of Korea Patent Registration No. 10-1576624 (title of invention: transfer, trapping and escape device for biomaterials using micromagnetophoretic channel circuit and magnetic structure), magnets are arranged around the space where the magnetic structure can move Formed, by arbitrarily controlling the magnetic force of each magnet, the movement of the magnetic structure is controlled to be variable on the plane, and a soft magnetic microstructure is formed on the substrate in the movement space of the magnetic structure, and around such a soft magnetic microstructure A plurality of magnetic force applying units are disposed, and the movement of the magnetic structure is controlled by controlling the magnetic force of each magnetic force applying unit.
상기와 같은 종래기술에서는, 자력을 이용하여 입자를 이동시키기 위해 자석 자체를 이동시키거나 복수 개의 자기력 인가부를 각각 별도로 형성시켜 각각에 대한 제어를 수행하여야 하므로, 구성이 복잡하고 효율이 저하되는 문제가 있다.In the prior art as described above, in order to move the particles using magnetic force, the magnet itself must be moved or a plurality of magnetic force applying parts must be separately formed to control each, so the configuration is complicated and the efficiency is reduced. there is.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 기존의 미세입자 조작을 위해서 움직이고자 하는 축에 대하여 최소 두 개의 자석이 필요하던 구조를 벗어나 평면상에서 자기장 발생장치 다양한 조합을 통해 2차원 또는 3차원 방향의 비드 동작을 제어할 수 있도록 하는 것이다.An object of the present invention to solve the above problems is to move away from the existing structure in which at least two magnets are required for an axis to be moved for manipulation of fine particles, and a two-dimensional or three-dimensional magnetic field generator through various combinations on a plane. It is to be able to control the bead operation in the dimensional direction.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is not limited to the above-mentioned technical problem, and other technical problems not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the description below. There will be.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구성은, 상부를 통과하는 미세입자를 향해 자기장 영역이 일정하게 제공되는 자기장인 고정자기장을 발생시키는 고정자기장발생부; 및 상기 고정자기장발생부의 상단에 형성되고, 자기장 영역이 가변되는 자기장인 조작자기장을 발생시켜 상기 미세입자에 제공하는 조작자기장발생부를 포함하고, 상기 조작자기장발생부에서 생성된 조작자기장의 제어에 의하여, 상기 고정자기장발생부의 표면 상 위치한 자속밀도 국소 최대점이 이동하게 되는 것을 특징으로 한다.The configuration of the present invention for achieving the above object is a stationary magnetic field generator for generating a stationary magnetic field, which is a magnetic field in which a magnetic field area is constantly provided toward the fine particles passing through the top; and a manipulation magnetic field generator formed at an upper end of the stationary magnetic field generator and configured to generate a manipulation magnetic field, which is a magnetic field having a variable magnetic field area, and provide the manipulation magnetic field to the microparticles, by controlling the manipulation magnetic field generated by the manipulation magnetic field generator. , characterized in that the local maximum point of magnetic flux density located on the surface of the stationary magnetic field generator is moved.
본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 자속밀도 국소 최대점은, 상기 조작자기장의 영역 내에서 자속밀도가 가장 최대인 지점일 수 있다.In an embodiment of the present invention, the local maximum point of the magnetic flux density may be a point at which the magnetic flux density is the highest within the region of the operating magnetic field.
본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 조작자기장발생부는, 전자석으로 형성되는 조작자기장발생기를 적어도 하나 이상 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the manipulation magnetic field generator may include at least one manipulation magnetic field generator formed of an electromagnet.
본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 조작자기장발생기는, 링 형상의 전도체를 적어도 하나 이상 구비할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the operating magnetic field generator may include at least one ring-shaped conductor.
본 발명의 실시 예에 있어서, 복수 개의 전도체 각각은 서로 상이한 직경을 구비하고, 상기 복수 개의 전도체는 동심원 배열될 수 있다.In an embodiment of the present invention, each of the plurality of conductors may have a different diameter, and the plurality of conductors may be concentrically arranged.
본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 조작자기장발생기는, 상기 고정자기장발생부의 상부면에 수평한 방향으로 복수 개 배치될 수 있다.In an embodiment of the present invention, a plurality of manipulation magnetic field generators may be disposed in a horizontal direction on an upper surface of the stationary magnetic field generator.
본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 조작자기장발생기는, 상기 고정자기장발생부의 상부면에 수직한 방향으로 복수 개 배치될 수 있다.In an embodiment of the present invention, a plurality of manipulation magnetic field generators may be disposed in a direction perpendicular to an upper surface of the stationary magnetic field generator.
본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 고정자기장발생부는, 지속적으로 자기장을 발생시키는 고정자기장발생기를 적어도 하나 이상 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the stationary magnetic field generating unit may include at least one stationary magnetic field generator continuously generating a magnetic field.
본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 고정자기장발생기는, 전자석 또는 영구자석을 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the stationary magnetic field generator may include an electromagnet or a permanent magnet.
본 발명의 실시 예에 있어서, 복수 개의 고정자기장발생기는 수직한 방향으로 배치되어 각각 결합할 수 있다.In an embodiment of the present invention, a plurality of stationary magnetic field generators may be arranged in a vertical direction and coupled to each other.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구성은, 상기 고정자기장발생부와 복수 개의 조작자기장발생부가 결합시켜 마련하는 제1단계; 상기 복수 개의 조작자기장발생부 중 일부 조작자기장발생부에 인가되는 전기를 제어하여 하나의 위치에 자속밀도 국소 최대점을 형성시키는 제2단계; 하나의 위치로 상기 미세입자가 이동하는 제3단계; 상기 복수 개의 조작자기장발생부 중 나머지 조작자기장발생부에 인가되는 전기를 제어하여 상기 하나의 위치에 있는 자속밀도 국소 최대점을 다른 위치로 이동시키는 제4단계; 및 상기 미세입자가 하나의 위치에서 다른 위치로 이동하는 제5단계를 포함한다.The configuration of the present invention for achieving the above object is a first step of preparing the stationary magnetic field generating unit and a plurality of operating magnetic field generating units by coupling; a second step of forming a local maximum point of magnetic flux density at one position by controlling electricity applied to some of the plurality of manipulation magnetic field generators; A third step of moving the microparticles to one location; a fourth step of moving a local maximum point of magnetic flux density at one position to another position by controlling electricity applied to the remaining manipulation magnetic field generators among the plurality of manipulation magnetic field generators; and a fifth step of moving the microparticles from one location to another.
상기와 같은 구성에 따른 본 발명의 효과는, 고정자기장발생부에 포함된 복수 개의 고정자기장발생기와 조작자기장발생부에 포함된 복수 개의 조작자기장발생기에서 극성(자기장 방향: S극, N극) 조합을 통해 고정자기장발생부의 표면에 위치하던 자속밀도(자기장 세기) 국소 최대점의 위치를 자유롭게 이동시킴으로써, 평면 상의 자기장 발생 조합만으로 미세입자를 3축(x, y, z축)으로 이동 제어할 수 있다는 것이다.The effect of the present invention according to the configuration as described above is a combination of polarity (magnetic field direction: S pole, N pole) in a plurality of stationary magnetic field generators included in the stationary magnetic field generator and a plurality of manipulation magnetic field generators included in the manipulation magnetic field generator. By freely moving the position of the local maximum point of the magnetic flux density (magnetic field strength) located on the surface of the stationary magnetic field generator through, the movement of the fine particles in three axes (x, y, z axes) can be controlled only with a combination of magnetic field generation on a plane. that there is
본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The effects of the present invention are not limited to the above effects, and should be understood to include all effects that can be inferred from the detailed description of the present invention or the configuration of the invention described in the claims.
도 1과 도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 입자 이동 제어장치의 모식도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 입자 이동 제어장치의 실시상태도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 고정자기장발생부의 자기장 영역에 대한 이미지이다.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 입자 이동 제어장치의 자기장 영역에 대한 이미지이다.
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 입자 이동 제어장치의 사용에 대한 이미지이다.1 and 2 are schematic diagrams of a device for controlling particle movement according to an embodiment of the present invention.
3 is an exemplary state diagram of a particle movement control device according to an embodiment of the present invention.
4 is an image of a magnetic field region of a stationary magnetic field generator according to an embodiment of the present invention.
5 is an image of a magnetic field region of a particle movement control device according to an embodiment of the present invention.
6 is an image of the use of the particle movement control device according to an embodiment of the present invention.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시 예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the present invention can be implemented in many different forms, and therefore is not limited to the embodiments described herein. And in order to clearly explain the present invention in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and similar reference numerals are attached to similar parts throughout the specification.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결(접속, 접촉, 결합)"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is said to be "connected (connected, contacted, combined)" with another part, this is not only "directly connected", but also "indirectly connected" with another member in between. "Including cases where In addition, when a part "includes" a certain component, it means that it may further include other components without excluding other components unless otherwise stated.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Terms used in this specification are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, terms such as "include" or "have" are intended to indicate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, but one or more other features It should be understood that the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof is not precluded.
이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명에 대하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1과 도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 입자 이동 제어장치의 모식도이다. 구체적으로, 도 1의 (a)는 전도체(111) 2개가 동심원 배열된 입자 이동 제어장치에 대한 것이고, 도 1의 (b)는 전도체(111) 4개가 동심원 배열된 입자 이동 제어장치에 대한 것이다. 그리고, 도 2의 (a)는 5개의 전도체(111)가 수평 방향으로 배치된 것에 대한 것이며, 도 2의 (b)는 3개의 전도체(111)가 수직 방향으로 배치된 입자 이동 제어장치에 대한 것이다.1 and 2 are schematic diagrams of a device for controlling particle movement according to an embodiment of the present invention. Specifically, FIG. 1 (a) is for a particle movement control device in which two conductors 111 are concentrically arranged, and FIG. 1 (b) is for a particle movement control device in which four conductors 111 are concentrically arranged. . In addition, FIG. 2 (a) is for the case where five conductors 111 are arranged in the horizontal direction, and FIG. 2 (b) is for the particle movement control device in which the three conductors 111 are arranged in the vertical direction. will be.
도 1 및 도 2에서 보는 바와 같이, 본 발명의 입자 이동 제어장치는, 상부를 통과하는 미세입자(10)를 향해 자기장 영역이 일정하게 제공되는 자기장인 고정자기장을 발생시키는 고정자기장발생부(200); 및 고정자기장발생부(200)의 상단에 형성되고, 자기장 영역이 가변되는 자기장인 조작자기장을 발생시켜 미세입자(10)에 제공하는 조작자기장발생부(100)를 포함한다. 여기서, 미세입자(10)가 자성체, 강자성체, 초상자성체 또는 금속체를 포함할 수 있다.As shown in FIGS. 1 and 2, the particle movement control apparatus of the present invention is a stationary magnetic field generator (200 ); and an operating magnetic field generating unit 100 formed at an upper end of the stationary magnetic field generating unit 200 and generating an operating magnetic field, which is a magnetic field having a variable magnetic field area, and providing the magnetic manipulation field to the microparticles 10 . Here, the fine particles 10 may include a magnetic material, a ferromagnetic material, a superparamagnetic material, or a metal material.
그리고, 조작자기장발생부(100)에서 생성된 조작자기장의 제어에 의하여, 고정자기장발생부(200)의 표면 상 위치한 자속밀도 국소 최대점이 이동하게 될 수 있다. 여기서, 자속밀도 국소 최대점은, 조작자기장의 영역 내에서 자속밀도가 가장 최대인 지점일 수 있다.Also, by controlling the manipulation magnetic field generated by the manipulation magnetic field generator 100, the local maximum point of magnetic flux density located on the surface of the stationary magnetic field generator 200 may be moved. Here, the local maximum point of magnetic flux density may be a point where the magnetic flux density is the highest in the region of the operating magnetic field.
본 발명의 입자 이동 제어장치에서는, 고정자기장발생부(200)에 포함된 복수 개의 고정자기장발생기(210)와 조작자기장발생부(100)에 포함된 복수 개의 조작자기장발생기(110)에서 극성(자기장 방향: S극, N극) 조합을 통해 고정자기장발생부(200)의 표면에 위치하던 자속밀도(자기장 세기) 국소 최대점의 위치를 자유롭게 이동시킴으로써, 평면 상의 자기장 발생 조합만으로 미세입자(10)를 3축(x,z,y축)으로 이동 제어할 수 있다.In the particle movement control device of the present invention, the polarity (magnetic field Direction: S pole, N pole) By freely moving the position of the local maximum point of magnetic flux density (magnetic field strength) located on the surface of the stationary magnetic field generator 200 through a combination, fine particles 10 only with a combination of generating a magnetic field on a plane can be controlled to move in 3 axes (x, z, y axes).
구체적으로, 미세입자(10)는 자속밀도 국소 최대점을 향해 이동하게 되고, 고정자기장발생부(200)만 있는 경우에는, 자속밀도 국소 최대점이 고정자기장발생부(200)의 표면에 형성되고 고정되므로, 미세입자(10)는 고정된 자속밀도 국소 최대점을 향해 이동할 수 있다.Specifically, the fine particles 10 move toward the local maximum point of magnetic flux density, and when there is only the stationary magnetic field generator 200, the local maximum point of magnetic flux density is formed on the surface of the stationary magnetic field generator 200 and is fixed. Therefore, the microparticles 10 can move toward a fixed local maximum of magnetic flux density.
그런데, 본 발명의 입자 이동 제어장치와 같은 구성에 의하여, 복수 개의 극성 조합 및 각각의 극성에 대한 제어를 통해 자속밀도 국소 최대점을 이동시킬 수 있고, 이를 이용하여 자속밀도 국소 최대점을 향해 이동하는 미세입자(10)의 이동을 제어할 수 있는 것이다.By the way, according to the configuration of the particle movement control device of the present invention, it is possible to move the local maximum point of magnetic flux density through a plurality of polar combinations and control of each polarity, and move toward the local maximum point of magnetic flux density using this. It is possible to control the movement of the fine particles 10 to do.
고정자기장발생부(200)는, 지속적으로 자기장을 발생시키는 고정자기장발생기(210)를 적어도 하나 이상 포함할 수 있다. 여기서, 고정자기장발생기(210)는, 전자석 또는 영구자석을 포함할 수 있다.The stationary magnetic field generator 200 may include at least one stationary magnetic field generator 210 that continuously generates a magnetic field. Here, the stationary magnetic field generator 210 may include an electromagnet or a permanent magnet.
고정자기장발생기(210)가 영구자석으로 형성되는 경우, 도 1 및 도 2에서 보는 바와 같이, 고정자기장발생기(210)는 원기둥의 형상으로 형성될 수 있다. 다만, 영구자석으로 형성되는 고정자기장발생기(210)의 형상이 이에 한정되는 것은 아니고 다른 형상을 구비할 수도 있다.When the stationary magnetic field generator 210 is formed of a permanent magnet, as shown in FIGS. 1 and 2 , the stationary magnetic field generator 210 may be formed in a cylindrical shape. However, the shape of the stationary magnetic field generator 210 formed of permanent magnets is not limited thereto and may have other shapes.
그리고, 고정자기장발생기(210)가 전자석을 포함하는 경우, 고정자기장발생기(210)는, 내부공간을 구비하는 원통 형상으로 형성되는 케이스 및, 케이스의 내부에 형성되고 전기 인가 시 자기장을 생성하는 전자석인 고정전자석을 구비할 수 있다.And, when the stationary magnetic field generator 210 includes an electromagnet, the stationary magnetic field generator 210 includes a case formed in a cylindrical shape having an inner space, and an electromagnet formed inside the case and generating a magnetic field when electricity is applied. A phosphorus stationary electromagnet may be provided.
이 때, 고정전자석은 원통 형상인 케이스의 상부면에 상기와 같은 자속밀도 국소 최대점이 형성되도록 케이스 내부에 배치되어 형성될 수 있다. 본 발명의 실시 예에서는, 케이스가 원통 형상으로 형성된다고 설명하고 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고, 케이스는 다른 형상을 구비할 수도 있다.At this time, the stationary electromagnet may be disposed and formed inside the case so that the local maximum point of magnetic flux density is formed on the upper surface of the case having a cylindrical shape. In the embodiment of the present invention, it has been described that the case is formed in a cylindrical shape, but is not limited thereto, and the case may have other shapes.
복수 개의 고정자기장발생기(210)는 수직한 방향(y축)으로 배치되어 각각 결합할 수 있다. 구체적으로, 도 1과 도 2에서 보는 바와 같이, 하나의 고정자기장발생기(210) 상에 다른 고정자기장발생기(210)가 적층되어 형성될 수 있다.A plurality of stationary magnetic field generators 210 may be arranged in a vertical direction (y-axis) and coupled to each other. Specifically, as shown in FIGS. 1 and 2 , another stationary magnetic field generator 210 may be stacked on one stationary magnetic field generator 210 .
이와 같이 고정자기장발생기(210)가 적층되어 고정자기장발생부(200)가 형성되는 경우, 고정자기장의 세기를 증가시킬 수 있다. 다만, 고정자기장발생부(200)에서 고정자기장발생기(210)의 배치에 이에 한정되는 것은 아니고, 용도에 따라, 고정자기장발생기(210)는 수평 방향(x, z축)을 따라 배치될 수도 있다.In this way, when the stationary magnetic field generator 210 is stacked to form the stationary magnetic field generator 200, the intensity of the stationary magnetic field can be increased. However, the arrangement of the stationary magnetic field generator 210 in the stationary magnetic field generator 200 is not limited thereto, and depending on the purpose, the stationary magnetic field generator 210 may be disposed along the horizontal direction (x, z axis). .
조작자기장발생부(100)는, 전자석으로 형성되는 조작자기장발생기(110)를 적어도 하나 이상 포함할 수 있다. 여기서, 조작자기장발생기(110)는, 링 형상의 전도체(111)를 적어도 하나 이상 구비할 수 있다. 조작자기장발생기(110)에서 자기장을 생성시키기 위하여 각각의 전도체(111)에는 각각 별도로 전기가 선택적으로 인가될 수 있다.The manipulation magnetic field generator 100 may include at least one manipulation magnetic field generator 110 formed of an electromagnet. Here, the manipulation magnetic field generator 110 may include at least one ring-shaped conductor 111 . In order to generate a magnetic field in the manipulation magnetic field generator 110, electricity may be selectively applied to each of the conductors 111 separately.
즉, 복수 개의 전도체(111) 각각에 인가되는 전기가 제어될 수 있으며, 이를 이용하여 조작자기장발생기(110)에서 생성되는 자기장의 세기를 제어할 수 있고, That is, electricity applied to each of the plurality of conductors 111 can be controlled, and the strength of the magnetic field generated by the manipulation magnetic field generator 110 can be controlled using this,
본 발명의 실시 예에서는, 조작자기장발생기(110)가 링 형상의 전도체(111)를 구비하여 형성되는 것으로 설명하고 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 다른 구조의 전자석이 이용될 수도 있다.In the embodiment of the present invention, the operating magnetic field generator 110 has been described as being formed with a ring-shaped conductor 111, but it is not necessarily limited thereto, and an electromagnet having a different structure may be used.
다만, 본 발명에서와 같이 링 형상의 전도체(111)를 조합하여 조작자기장발생기(110)를 형성하는 경우, 조작자기장발생기(110)를 고정자기장발생부(200)의 상부에 결합시키기에 용이하고, 고정자기장과의 조합이 용이한 조작자기장을 생성할 수 있어, 자속밀도 국소 최대점에 대한 제어 효율이 증대될 수 있다.However, when the manipulation magnetic field generator 110 is formed by combining the ring-shaped conductors 111 as in the present invention, it is easy to couple the manipulation magnetic field generator 110 to the top of the stationary magnetic field generator 200, , it is possible to generate a manipulation magnetic field that can be easily combined with a stationary magnetic field, so that the control efficiency for the local maximum point of magnetic flux density can be increased.
도 1의 (a)와 (b)에서 보는 바와 같이, 복수 개의 전도체(111) 각각은 서로 상이한 직경을 구비하고, 복수 개의 전도체(111)는 동심원 배열될 수 있다. 본 발명의 실시 예에서는, 링 형상의 전도체(111)가 동심원 배열된 구조의 조작자기장발생기(110)를 개시하고 있으나, 조작자기장발생기(110)는 하나의 전도체(111)로만 형성될 수도 있다.As shown in (a) and (b) of FIG. 1 , each of the plurality of conductors 111 may have a different diameter, and the plurality of conductors 111 may be concentrically arranged. In the embodiment of the present invention, the manipulation magnetic field generator 110 having a structure in which ring-shaped conductors 111 are concentrically arranged is disclosed, but the manipulation magnetic field generator 110 may be formed of only one conductor 111.
도 1의 (a)에서는 서로 다른 직경을 구비하는 2개의 전도체(111)가 동심원으로 배열되어 조작자기장발생기(110)를 형성하고 있으며, 도 1의 (b)에서는 서로 다른 직경을 구비하는 4개의 전도체(111)가 동심원으로 배열되어 조작자기장발생기(110)를 형성하고 있다. 그리고, 가장 작은 직경을 구비하는 전도체(111)가 고정자기장발생부(200)의 상부 중심에 위치할 수 있다.In (a) of FIG. 1, two conductors 111 having different diameters are concentrically arranged to form an operating magnetic field generator 110, and in (b) of FIG. 1, four conductors 111 having different diameters are arranged concentrically. The conductors 111 are concentrically arranged to form the operating magnetic field generator 110 . Also, the conductor 111 having the smallest diameter may be located at the upper center of the stationary magnetic field generator 200 .
상기와 같은 전도체(111) 수의 조절에 따라, 조작자기장발생기(110)에서 발생되는 조작자기장의 세기를 조절할 수 있다.According to the control of the number of conductors 111 as described above, the strength of the manipulation magnetic field generated by the manipulation magnetic field generator 110 can be adjusted.
상기와 같이 조작자기장발생기(110)가 형성되고 조작자기장발생기(110)에 의해 조작자기장이 생성되는 경우, 자속밀도 국소 최대점은, 고정자기장발생부(200)의 상부 중심이 아닌, 본 발명의 입자 이동 제어장치의 가장자리 측 또는 외부에 생성될 수 있다. 그리고, 상기와 같은 자속밀도 국소 최대점의 이동을 이용하여 미세입자(10)를 하나의 축(x축) 방향을 따라 이동시킬 수 있다.When the manipulation magnetic field generator 110 is formed as described above and the manipulation magnetic field is generated by the manipulation magnetic field generator 110, the local maximum point of the magnetic flux density is not the upper center of the stationary magnetic field generator 200, but the present invention. Can be created on the edge side or outside the particle movement control device. In addition, the fine particles 10 may be moved along one axis (x-axis) direction by using the movement of the local maximum point of magnetic flux density as described above.
구체적으로, 조작자기장발생기(110)에 전기가 인가 전이면, 고정자기장발생기(210)의 자기장에 의한 자속밀도 국소 최대점에 의해, 미세입자(10)가 본 발명의 입자 이동 제어장치 상부 중앙으로 위치하거나 이동할 수 있다.Specifically, when electricity is applied to the operating magnetic field generator 110, the fine particles 10 move toward the upper center of the particle movement control device according to the present invention due to the local maximum point of the magnetic flux density by the magnetic field of the stationary magnetic field generator 210. can be located or moved.
다음으로, 조작자기장발생기(110)에 전기가 인가되면, 고정자기장과 조작자기장의 조합에 의하여 자속밀도 국소 최대점이 본 발명의 입자 이동 제어장치의 가장자리 또는 외부 등의 다른 위치로 이동할 수 있으며, 이와 같은 자속밀도 국소 최대점의 이동에 의해, 본 발명의 입자 이동 제어장치 상부 중앙에 위치하던 미세입자(10)가 다른 위치로 이동할 수 있다.Next, when electricity is applied to the operating magnetic field generator 110, the local maximum point of magnetic flux density can be moved to another location such as the edge or outside of the particle movement control device of the present invention by the combination of the stationary magnetic field and the operating magnetic field. By the movement of the local maximum point of the same magnetic flux density, the fine particles 10 located in the upper center of the particle movement control device of the present invention can move to a different location.
반대인 경우도 가능한데, 조작자기장발생기(110)에 전기가 인가된 상태에서는 본 발명의 입자 이동 제어장치의 가장자리 또는 외부로 위치하거나 이동한 미세입자(10)가, 조작자기장발생기(110)에 대한 전기 인가 해제 후, 자속밀도 국소 최대점을 따라 본 발명의 입자 이동 제어장치의 가장자리 또는 외부로부터 본 발명의 입자 이동 제어장치의 중앙으로 이동할 수 있다.The opposite case is also possible. In a state in which electricity is applied to the manipulation magnetic field generator 110, the fine particles 10 located or moved to the edge or outside of the particle movement control device of the present invention are affected by the manipulation magnetic field generator 110. After the electrical application is released, it can move from the edge or outside of the particle movement control device of the present invention to the center of the particle movement control device of the present invention along the local maximum point of magnetic flux density.
상기와 같이, 고정자기장발생부(200)에 하나의 조작자기장발생기(110)가 형성된 경우에서의 자속밀도 국소 최대점의 이동에 대한 원리는, 하기와 같이 복수 개의 조작자기장발생기(110)가 형성된 경우에도 동일하게 적용될 수 있다.As described above, the principle of the movement of the local maximum point of magnetic flux density in the case where one manipulation magnetic field generator 110 is formed in the stationary magnetic field generator 200 is as follows. The same can be applied in any case.
도 2의 (a)에서 보는 바와 같이, 조작자기장발생기(110)는, 고정자기장발생부(200)의 상부면에 수평한 방향(x축, z축)으로 복수 개 배치될 수 있다. 그리고, 이와 같이 형성된 복수 개의 조작자기장발생기(110) 각각에 대한 전기 인가에 대한 제어가 수행될 수 있으며, 복수 개의 조작자기장발생기(110) 전체 또는 일부에 대한 전기 인가 또는 전기 인가 해제를 제어하여 자속밀도 국소 최대점을 이동시킬 수 있다.As shown in (a) of FIG. 2 , a plurality of manipulation magnetic field generators 110 may be disposed in a horizontal direction (x-axis, z-axis) on the upper surface of the stationary magnetic field generator 200 . In addition, control of the application of electricity to each of the plurality of manipulation magnetic field generators 110 formed in this way can be performed, and the application of electricity to or release of electricity to all or part of the plurality of manipulation magnetic field generators 110 is controlled to control the magnetic flux. Density local maxima can be moved.
구체적인 일 실시 예로써, 고정자기장발생부(200)의 상부 중앙에 하나의 조작자기장발생기(110)가 형성되고, x축과 z축 각각의 축 방향을 따라 양 측에 조작자기장발생기(110)가 형성될 수 있다. 이는, 하나의 실시 예로써, 조작자기장발생기(110)의 수와 배치가 상이하게 형성될 수 있음은 당연하다.As a specific embodiment, one manipulation magnetic field generator 110 is formed in the upper center of the stationary magnetic field generator 200, and the manipulation magnetic field generators 110 are formed on both sides along the x-axis and z-axis directions, respectively. can be formed As an example, it is natural that the number and arrangement of the manipulation magnetic field generators 110 may be formed differently.
이와 같은 경우, 모든 조작자기장발생기(110)에 전기가 인가 전이면, 고정자기장발생기(210)의 자기장에 의한 자속밀도 국소 최대점에 의해, 미세입자(10)가 본 발명의 입자 이동 제어장치 상부 중앙으로 위치하거나 이동할 수 있다.In this case, before electricity is applied to all the operating magnetic field generators 110, the fine particles 10 are moved to the upper part of the particle movement control device of the present invention by the local maximum point of the magnetic flux density by the magnetic field of the stationary magnetic field generator 210. It can be centrally located or moved.
다음으로, 적어도 하나 이상의 조작자기장발생기(110)에 전기가 인가되면, 고정자기장과 조작자기장의 조합에 의하여 자속밀도 국소 최대점이 다른 위치로 이동할 수 있으며, 이와 같은 자속밀도 국소 최대점의 이동에 의해, 본 발명의 입자 이동 제어장치 상부 중앙에 위치하던 미세입자(10)가 다른 위치로 이동할 수 있다.Next, when electricity is applied to at least one operating magnetic field generator 110, the local maximum point of magnetic flux density can be moved to a different position by the combination of the stationary magnetic field and the operating magnetic field. , The fine particles 10 located in the upper center of the particle movement control device of the present invention can move to another location.
반대인 경우도 가능한데, 조작자기장발생기(110)에 전기가 인가된 상태에서는 본 발명의 입자 이동 제어장치의 가장자리 또는 외부로 위치하거나 이동한 미세입자(10)가, 조작자기장발생기(110)에 대한 전기 인가 해제 후, 자속밀도 국소 최대점을 따라 본 발명의 입자 이동 제어장치의 가장자리 또는 외부로부터 본 발명의 입자 이동 제어장치의 중앙으로 이동할 수 있다.The opposite case is also possible. In a state in which electricity is applied to the manipulation magnetic field generator 110, the fine particles 10 located or moved to the edge or outside of the particle movement control device of the present invention are affected by the manipulation magnetic field generator 110. After the electrical application is released, it can move from the edge or outside of the particle movement control device of the present invention to the center of the particle movement control device of the present invention along the local maximum point of magnetic flux density.
다른 실시 예로써, 일부 조작자기장발생기(110)에 전기가 인가되고 나머지 조작자기장발생기(110)에 전기가 인가되지 않은 경우이면, 미세입자(10)가 자속밀도 국소 최대점의 영향에 의한 하나의 위치에 있거나 이동할 수 있다.As another embodiment, when electricity is applied to some of the manipulation magnetic field generators 110 and electricity is not applied to the remaining manipulation magnetic field generators 110, the microparticles 10 form one magnetic flux density due to the influence of the local maximum point. It can be in position or move.
그리고, 다음으로, 나머지 조작자기장발생기(110) 중 전체 또는 일부에 전기를 인가하거나 전기가 인가된 조작자기장발생기(110) 중 일부에서 전기 인가가 해제되면, x축 방향 또는 z축 방향을 따라 자속밀도 국소 최대점의 위치가 이동하고, 이와 같은 자속밀도 국소 최대점의 이동에 의해 미세입자(10)가 하나의 위치에서 다른 위치로 이동할 수 있다.And, next, when electricity is applied to all or part of the remaining manipulation magnetic field generators 110 or electricity is released from some of the applied manipulation magnetic field generators 110, the magnetic flux along the x-axis direction or the z-axis direction The location of the local maximum point of density is moved, and the microparticles 10 may move from one location to another location by the movement of the local maximum point of magnetic flux density.
도 2의 (b)에서 보는 바와 같이, 조작자기장발생기(110)는, 고정자기장발생부(200)의 상부면에 수직한 방향(y축)으로 복수 개 배치될 수 있다. 그리고, 이와 같이 형성된 복수 개의 조작자기장발생기(110) 각각에 대한 전기 인가에 대한 제어가 수행될 수 있으며, 복수 개의 조작자기장발생기(110) 전체 또는 일부에 대한 전기 인가 또는 전기 인가 해제를 제어하여 자속밀도 국소 최대점을 이동시킬 수 있다. As shown in (b) of FIG. 2 , a plurality of manipulation magnetic field generators 110 may be disposed in a direction (y-axis) perpendicular to the upper surface of the stationary magnetic field generator 200 . In addition, control of the application of electricity to each of the plurality of manipulation magnetic field generators 110 formed in this way can be performed, and the application of electricity to or release of electricity to all or part of the plurality of manipulation magnetic field generators 110 is controlled to control the magnetic flux. Density local maxima can be moved.
구체적인 일 실시 예로써, 고정자기장발생부(200)이 상부 중앙에서 y축 방향을 따라 복수 개의 조작자기장발생기(110)가 적층되어 형성될 수 있다. 이는, 하나의 실시 예로써, 조작자기장발생기(110)의 수와 배치가 상이하게 형성될 수 있음은 당연하다.As a specific example, the stationary magnetic field generator 200 may be formed by stacking a plurality of manipulation magnetic field generators 110 along the y-axis direction at the center of the upper portion. As an example, it is natural that the number and arrangement of the manipulation magnetic field generators 110 may be formed differently.
이와 같은 경우, 조작자기장발생기(110)에 전기가 인가 전이면, 고정자기장발생기(210)의 자기장에 의한 자속밀도 국소 최대점에 의해, 미세입자(10)가 본 발명의 입자 이동 제어장치 상부 중앙으로 위치하거나 이동할 수 있다.In this case, before electricity is applied to the operating magnetic field generator 110, the fine particles 10 are moved to the upper center of the particle movement control device according to the present invention by the local maximum point of the magnetic flux density by the magnetic field of the stationary magnetic field generator 210. can be located or moved.
다음으로, 일부 또는 전체 조작자기장발생기(110)에 전기가 인가되면, 고정자기장과 조작자기장의 조합에 의하여 자속밀도 국소 최대점이 본 발명의 입자 이동 제어장치 상부의 다른 위치로 이동할 수 있으며, 이와 같은 자속밀도 국소 최대점의 이동에 의해, 본 발명의 입자 이동 제어장치 상부 중앙에 위치하던 미세입자(10)가 다른 위치로 이동할 수 있다.Next, when electricity is applied to some or all of the operating magnetic field generator 110, the local maximum point of magnetic flux density can be moved to a different position above the particle movement controller of the present invention by a combination of the stationary magnetic field and the operating magnetic field. By the movement of the local maximum point of magnetic flux density, the microparticles 10 located in the upper center of the particle movement control device of the present invention may move to a different position.
반대인 경우도 가능한데, 조작자기장발생기(110)에 전기가 인가된 상태에서는 본 발명의 입자 이동 제어장치의 상부로 위치하거나 이동한 미세입자(10)가, 조작자기장발생기(110)에 대한 전기 인가 해제 후, 자속밀도 국소 최대점을 따라 다른 위치부터 본 발명의 입자 이동 제어장치의 중앙으로 이동할 수 있다.The opposite case is also possible. In a state in which electricity is applied to the manipulation magnetic field generator 110, the fine particles 10 located or moved to the top of the particle movement control device of the present invention apply electricity to the manipulation magnetic field generator 110. After release, it can move from another location along the local maximum point of magnetic flux density to the center of the particle movement control device of the present invention.
다른 실시 예로써, 상기와 같이 복수 개의 조작자기장발생기(110)가 적층되어 있으므로, 일부 조작자기장발생기(110)에 전기가 인가되고 나머지 조작자기장발생기(110)에 전기가 인가되지 않은 경우이면, 미세입자(10)가 자속밀도 국소 최대점의 영향에 의한 하나의 위치에 있거나 이동할 수 있다.As another embodiment, since the plurality of manipulation magnetic field generators 110 are stacked as described above, if electricity is applied to some manipulation magnetic field generators 110 and electricity is not applied to the remaining manipulation magnetic field generators 110, fine Particles 10 may be in one position or move due to the influence of the local maximum of magnetic flux density.
그리고, 다음으로, 나머지 조작자기장발생기(110) 중 전체 또는 일부에 전기를 인가하거나 전기가 인가된 조작자기장발생기(110) 중 일부에서 전기 인가가 해제되면, x축 방향 또는 z축 방향을 따라 자속밀도 국소 최대점의 위치가 이동하고, 이와 같은 자속밀도 국소 최대점의 이동에 의해 미세입자(10)가 하나의 위치에서 다른 위치로 이동할 수 있다.And, next, when electricity is applied to all or part of the remaining manipulation magnetic field generators 110 or electricity is released from some of the applied manipulation magnetic field generators 110, the magnetic flux along the x-axis direction or the z-axis direction The location of the local maximum point of density is moved, and the microparticles 10 may move from one location to another location by the movement of the local maximum point of magnetic flux density.
상기와 같은 복수 개의 조작자기장발생기(110)의 수평 방향(x축, z축) 배치와 수직 방향(y축) 배치는 조합되어 복합적으로 이용될 수 있으며, 이와 같은 배치에 따라 자속밀도 국소 최대점의 3차원 이동이 가능하여, 미세입자(10)의 3차원 이동이 가능할 수 있다.The horizontal direction (x-axis, z-axis) arrangement and the vertical direction (y-axis) arrangement of the plurality of operating magnetic field generators 110 as described above may be combined and used in combination, and according to such arrangement, the local maximum point of magnetic flux density 3-dimensional movement is possible, so the 3-dimensional movement of the fine particles 10 may be possible.
이와 같이 미세입자(10)를 3차원 이동시킬 수 있는 기능을 이용하여, 상기와 같은 본 발명의 입자 이동 제어장치를 포함하는 미세입자(10) 분리 시스템을 제작할 수 있다. 그리고, 도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 입자 이동 제어장치의 실시상태도이며, 미세입자(10) 분리 시스템은 도 3에서와 같은 3개의 관(A, B 및 C관)을 구비한 분배관을 구비할 수 있다.Using the function of three-dimensionally moving the microparticles 10 as described above, it is possible to manufacture a microparticle 10 separation system including the particle movement control device of the present invention as described above. 3 is an embodiment of the particle movement control device according to an embodiment of the present invention, and the fine particle 10 separation system has three tubes (A, B and C tubes) as shown in FIG. Piping may be provided.
분배관의 하부에는 본 발명의 입자 이동 제어장치가 형성될 수 있으며, A관으로 미세입자(10)가 유입된 경우, 복수 개의 조작자기장발생기(110) 중 일부 조작자기장발생기(110)에 전기를 인가하여 A관 측에 자속밀도 국소 최대점을 위치시켜 미세입자(10)가 A관을 따라 이동하게 할 수 있다.The particle movement control device of the present invention may be formed at the lower part of the distribution pipe, and when the fine particles 10 flow into pipe A, electricity is supplied to some of the manipulation magnetic field generators 110 among the plurality of manipulation magnetic field generators 110. By applying it, the local maximum point of magnetic flux density can be located on the side of tube A, so that the microparticles 10 can move along tube A.
그 후, 다른 조작자기장발생기(110)에 전기를 인가하는 등으로 복수 개의 조작자기장발생기(110) 각각에 대한 전기 인가를 제어하여 자속밀도 국소 최대점을 B관 또는 C관 측으로 이동시킴으로써, A관을 통과한 미세입자(10)가 B관 또는 C관으로 이동하도록 할 수 있다. After that, by controlling the application of electricity to each of the plurality of manipulation magnetic field generators 110 by applying electricity to other manipulation magnetic field generators 110, etc., the local maximum point of magnetic flux density is moved to the side of B-tube or C-tube, The fine particles 10 passing through can be moved to the B tube or the C tube.
그리고, 이와 같은 미세입자(10)의 이동 제어를 통해 각각의 미세입자(10)를 분리시킬 수 있으며, 각각의 미세입자(10)에 대한 분리를 수행하는 시스템을 형성할 수 있다.In addition, each of the fine particles 10 can be separated through the movement control of the fine particles 10, and a system for separating each of the fine particles 10 can be formed.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 고정자기장발생부(200)의 자기장 영역에 대한 이미지이다. 도 4에서, 흰색 화살표는 자기 에너지의 기울기 방향으로 미세입자(10)의 이동 방향을 의미할 수 있다.4 is an image of a magnetic field region of the stationary magnetic field generator 200 according to an embodiment of the present invention. In FIG. 4 , a white arrow may indicate a movement direction of the microparticles 10 in a direction of a gradient of magnetic energy.
구체적으로, 도 4에서, 포텐셜 에너지 공식 U=-mXB을 고려할 때, 점선은 필드가 낮은 곳(=에너지 최대점; 하얀색 영역)에서 높은 곳(=에너지 최저점; 검은색 영역)으로 향하는 자기력의 예상 방향을 나타내며, 이와 같은 경우에는 미세입자들이 고정자기장발생부(200)의 표면으로 끌려 내려올 수 있다.Specifically, in FIG. 4, when considering the potential energy formula U=-mXB, the dotted line indicates the prediction of magnetic force from a low field (= energy maximum point; white area) to a high field (= energy minimum point; black area). direction, and in this case, fine particles may be drawn down to the surface of the stationary magnetic field generator 200.
도 4에서 보는 바와 같이, 고정자기장발생부(200)가 생성하는 고정자기장은, 고정자기장발생부(200)의 상부 표면에서 가장 높은 자속밀도(가장 낮은 포텐셜 에너지)를 가지므로, 미세입자(10)는 고정자기장발생부(200)의 상부 표면을 향해 이동할 수 있다.As shown in FIG. 4, since the stationary magnetic field generated by the stationary magnetic field generator 200 has the highest magnetic flux density (lowest potential energy) on the upper surface of the stationary magnetic field generator 200, the fine particles 10 ) may move toward the upper surface of the stationary magnetic field generator 200.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 입자 이동 제어장치의 자기장 영역에 대한 이미지이다. 도 5에서, 흰색 화살표는 자기 에너지의 기울기 방향으로 미세입자(10)의 이동 방향을 의미할 수 있다.5 is an image of a magnetic field region of a particle movement control device according to an embodiment of the present invention. In FIG. 5 , a white arrow may indicate a movement direction of the microparticles 10 in a direction of a gradient of magnetic energy.
구체적으로, 도 5에서, 포텐셜 에너지 공식 U=-mXB을 고려할 때, 점선은 필드가 낮은 곳(=에너지 최대점; 하얀색 영역)에서 높은 곳(=에너지 최저점; 검은색 영역)으로 향하는 자기력의 예상 방향을 나타낼 수 있다. Specifically, in FIG. 5, when considering the potential energy formula U=-mXB, the dotted line indicates the prediction of magnetic force from a low field (= energy maximum point; white area) to a high field (= energy minimum point; black area). direction can be indicated.
만약, 미세입자(10) 솔루션을 담은 병과 같이 물리적인 벽이 있고, 이와 같은 병이 도 5와 같은 자기장을 생성하는 본 발명의 입자 이동 제어장치의 중앙에 위치하는 경우, 미세입자(10)는 병 중심 높이 근처로 끌려온 뒤 병의 내부 벽면 쪽으로 붙을 수 있다.If there is a physical wall, such as a bottle containing a solution of microparticles 10, and if such a bottle is located in the center of the particle movement control device of the present invention that generates a magnetic field as shown in FIG. 5, the microparticles 10 After being dragged near the bottle center height, it can stick to the inside wall of the bottle.
도 5에서 보는 바와 같이, 조작자기장발생부(100)와 고정자기장발생부(200)가 조합된 본 발명의 입자 이동 제어장치가 생성하는 자기장은, 본 발명의 입자 이동 제어장치의 외부에 자속밀도 국소 최대점이 있으며, 자기 에너지가 본 발명의 입자 이동 제어장치의 외부로 나가는 방향으로 기울어져 있음을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 5, the magnetic field generated by the particle movement control device of the present invention in which the manipulation magnetic field generator 100 and the stationary magnetic field generator 200 are combined has a magnetic flux density outside the particle movement control device of the present invention. It can be seen that there is a local maximum and that the magnetic energy is inclined toward the outside of the particle movement control device of the present invention.
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 입자 이동 제어장치의 사용에 대한 이미지이다. 여기서, 도 6의 (a)는 고정자기장만 형성된 상태에 대한 것이고, 도 6의 (b)는 고정자기장과 조작자기장이 형성된 상태에 대한 것이다.6 is an image of the use of the particle movement control device according to an embodiment of the present invention. Here, (a) of FIG. 6 is for a state in which only a stationary magnetic field is formed, and (b) of FIG. 6 is for a state in which a stationary magnetic field and an operating magnetic field are formed.
도 6에서 보는 바와 같이, 고정자기장과 조작자기장 각각의 조합을 이용하여 자속밀도 국소 최대점을 하나의 위치에서 다른 위치로 이동시킬 수 있으며, 이를 이용하여 미세입자(10)를 하나의 위치에서 다른 위치로 이동시킬 수 있음을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 6, the local maximum point of magnetic flux density can be moved from one location to another using a combination of a stationary magnetic field and an operating magnetic field, and by using this, the microparticles 10 are moved from one location to another. You can confirm that it can be moved to the location.
이하, 본 발명의 입자 이동 제어장치를 이용한 입자 이동 제어방법에 대해서 설명하기로 한다.Hereinafter, a particle movement control method using the particle movement control device of the present invention will be described.
제1단계에서, 고정자기장발생부(200)와 복수 개의 조작자기장발생부(100)가 결합시켜 마련할 수 있다. 그리고, 제2단계에서, 복수 개의 조작자기장발생부(100) 중 일부 조작자기장발생부(100)에 인가되는 전기를 제어하여 하나의 위치에 자속밀도 국소 최대점을 형성시킬 수 있다. 이에 따라, 제3단계에서, 하나의 위치로 미세입자(10)가 이동할 수 있다.In the first step, the stationary magnetic field generating unit 200 and the plurality of operating magnetic field generating units 100 may be combined and provided. In the second step, a local maximum point of magnetic flux density may be formed at one position by controlling electricity applied to some of the plurality of manipulation magnetic field generators 100 . Accordingly, in the third step, the fine particles 10 may move to one position.
다음으로, 제4단계에서, 복수 개의 조작자기장발생부(100) 중 나머지 조작자기장발생부(100)에 인가되는 전기를 제어하여 하나의 위치에 있는 자속밀도 국소 최대점을 다른 위치로 이동시킬 수 있다. 그 후, 제5단계에서, 미세입자(10)가 하나의 위치에서 다른 위치로 이동할 수 있다.Next, in the fourth step, the local maximum point of magnetic flux density in one position can be moved to another position by controlling the electricity applied to the remaining manipulation magnetic field generators 100 among the plurality of manipulation magnetic field generators 100. there is. Then, in the fifth step, the microparticles 10 may move from one location to another.
본 발명의 입자 이동 제어방법에 대한 나머지 상세한 사항은, 상기된 본 발명의 입자 이동 제어장치에 기재된 사항과 동일하다.The remaining details of the particle movement control method of the present invention are the same as those described in the particle movement control device of the present invention described above.
전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The above description of the present invention is for illustrative purposes, and those skilled in the art can understand that it can be easily modified into other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. Therefore, the embodiments described above should be understood as illustrative in all respects and not limiting. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and similarly, components described as distributed may be implemented in a combined form.
본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is indicated by the following claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and equivalent concepts should be interpreted as being included in the scope of the present invention.
10 : 미세입자
100 : 조작자기장발생부
110 : 조작자기장발생기
111 : 전도체
200 : 고정자기장발생부
210 : 고정자기장발생기 10: fine particles
100: operating magnetic field generating unit
110: manipulation magnetic field generator
111: conductor
200: stationary magnetic field generator
210: stationary magnetic field generator
Claims (12)
상기 고정자기장발생부의 상단에 형성되고, 자기장 영역이 가변되는 자기장인 조작자기장을 발생시켜 상기 미세입자에 제공하는 조작자기장발생부를 포함하고,
상기 조작자기장발생부에서 생성된 조작자기장의 제어에 의하여, 상기 고정자기장발생부의 표면 상 위치한 자속밀도 국소 최대점이 이동하게 되는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치.
a stationary magnetic field generating unit generating a stationary magnetic field, which is a magnetic field in which a magnetic field area is constantly provided toward the microparticles passing through the top; and
An operating magnetic field generating unit formed at an upper end of the fixed magnetic field generating unit and generating an operating magnetic field, which is a magnetic field having a variable magnetic field area, and providing it to the fine particles;
Particle movement control device using magnetic field control, characterized in that the local maximum point of magnetic flux density located on the surface of the stationary magnetic field generator is moved by the control of the manipulation magnetic field generated by the manipulation magnetic field generator.
상기 자속밀도 국소 최대점은, 상기 조작자기장의 영역 내에서 자속밀도가 가장 최대인 지점인 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치.
The method of claim 1,
The magnetic flux density local maximum point is a particle movement control device using magnetic field control, characterized in that the maximum magnetic flux density in the region of the operating magnetic field.
상기 조작자기장발생부는, 전자석으로 형성되는 조작자기장발생기를 적어도 하나 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치.
The method of claim 1,
Particle movement control device using magnetic field control, characterized in that the manipulation magnetic field generating unit includes at least one manipulation magnetic field generator formed of an electromagnet.
상기 조작자기장발생기는, 링 형상의 전도체를 적어도 하나 이상 구비하는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치.
The method of claim 3,
Particle movement control device using magnetic field control, characterized in that the manipulation magnetic field generator includes at least one ring-shaped conductor.
복수 개의 전도체 각각은 서로 상이한 직경을 구비하고, 상기 복수 개의 전도체는 동심원 배열되는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치.
The method of claim 4,
Particle movement control device using magnetic field control, characterized in that each of the plurality of conductors has a different diameter, and the plurality of conductors are concentrically arranged.
상기 조작자기장발생기는, 상기 고정자기장발생부의 상부면에 수평한 방향으로 복수 개 배치되는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치.
The method of claim 3,
Particle movement control device using magnetic field control, characterized in that a plurality of manipulation magnetic field generators are disposed in a horizontal direction on the upper surface of the stationary magnetic field generator.
상기 조작자기장발생기는, 상기 고정자기장발생부의 상부면에 수직한 방향으로 복수 개 배치되는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치.
The method of claim 3,
Particle movement control device using magnetic field control, characterized in that the plurality of manipulation magnetic field generators are disposed in a direction perpendicular to the upper surface of the stationary magnetic field generator.
상기 고정자기장발생부는, 지속적으로 자기장을 발생시키는 고정자기장발생기를 적어도 하나 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치.
The method of claim 1,
Particle movement control device using magnetic field control, characterized in that the stationary magnetic field generator includes at least one stationary magnetic field generator that continuously generates a magnetic field.
상기 고정자기장발생기는, 전자석 또는 영구자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치.
The method of claim 8,
The stationary magnetic field generator includes an electromagnet or a permanent magnet. Particle movement control device using magnetic field control.
복수 개의 고정자기장발생기는 수직한 방향으로 배치되어 각각 결합하는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치.
The method of claim 8,
A particle movement control device using magnetic field control, characterized in that the plurality of stationary magnetic field generators are arranged in a vertical direction and coupled to each other.
A fine particle separation system comprising the particle movement control device using the magnetic field control according to any one of claims 1 to 10.
상기 고정자기장발생부와 복수 개의 조작자기장발생부가 결합시켜 마련하는 제1단계;
상기 복수 개의 조작자기장발생부 중 일부 조작자기장발생부에 인가되는 전기를 제어하여 하나의 위치에 자속밀도 국소 최대점을 형성시키는 제2단계;
하나의 위치로 상기 미세입자가 이동하는 제3단계;
상기 복수 개의 조작자기장발생부 중 나머지 조작자기장발생부에 인가되는 전기를 제어하여 상기 하나의 위치에 있는 자속밀도 국소 최대점을 다른 위치로 이동시키는 제4단계; 및
상기 미세입자가 하나의 위치에서 다른 위치로 이동하는 제5단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 이동 제어방법. In the particle movement control method using the particle movement control device using magnetic field control of claim 1,
A first step of combining the stationary magnetic field generator and the plurality of manipulation magnetic field generators;
a second step of forming a local maximum point of magnetic flux density at one position by controlling electricity applied to some of the plurality of manipulation magnetic field generators;
A third step of moving the microparticles to one location;
a fourth step of moving a local maximum point of magnetic flux density at one position to another position by controlling electricity applied to the remaining manipulation magnetic field generators among the plurality of manipulation magnetic field generators; and
A particle movement control method comprising a fifth step of moving the fine particles from one location to another.
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS503681B1 (en) * | 1970-12-28 | 1975-02-08 | ||
| KR19990067263A (en) * | 1995-11-03 | 1999-08-16 | 윌리암 제이. 버크 | Magnet |
| KR101576624B1 (en) | 2013-08-29 | 2015-12-10 | 충남대학교 산학협력단 | Transporting, trapping and escaping manipulation device for magnetic bead biomaterial comprising micro-magnetophoretic circuit |
| KR102102192B1 (en) * | 2018-11-15 | 2020-04-22 | 한국생산기술연구원 | Manufacturing method of porous magnetic materials using magnetic field and the porous magnetic materials manufactured by the method |
| US20200147604A1 (en) | 2018-11-14 | 2020-05-14 | Shimadzu Corporation | Apparatus for manipulating magnetic particles |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8373528B2 (en) | 2006-07-13 | 2013-02-12 | Hitachi Metals, Ltd. | Magnetic field control method and magnetic field generator |
-
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS503681B1 (en) * | 1970-12-28 | 1975-02-08 | ||
| KR19990067263A (en) * | 1995-11-03 | 1999-08-16 | 윌리암 제이. 버크 | Magnet |
| KR101576624B1 (en) | 2013-08-29 | 2015-12-10 | 충남대학교 산학협력단 | Transporting, trapping and escaping manipulation device for magnetic bead biomaterial comprising micro-magnetophoretic circuit |
| US20200147604A1 (en) | 2018-11-14 | 2020-05-14 | Shimadzu Corporation | Apparatus for manipulating magnetic particles |
| KR102102192B1 (en) * | 2018-11-15 | 2020-04-22 | 한국생산기술연구원 | Manufacturing method of porous magnetic materials using magnetic field and the porous magnetic materials manufactured by the method |
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