KR20230107792A - Polarizing film and manufacturing method of polarizing film - Google Patents

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타다시 코지마
타쿠야 남바라
슈사쿠 고토
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 외관이 우수하고, 화상 표시 장치의 표시 특성의 향상에 기여할 수 있는 편광막을 제공한다. 본 발명의 실시형태에 따른 편광막은, 요오드를 포함하는 수지 필름으로 구성되고, 두께가 7㎛ 이하이며, 표면의, 흡수축 방향의 파장 680nm의 광의 반사율 Rc680에 대한 흡수축 방향의 파장 400nm의 광의 반사율 Rc400의 비(Rc400 /Rc680)는 1을 초과한다.The present invention provides a polarizing film that is excellent in appearance and can contribute to improvement of display characteristics of an image display device. A polarizing film according to an embodiment of the present invention is composed of a resin film containing iodine, has a thickness of 7 μm or less, and has a surface reflectance Rc 680 of light having a wavelength of 680 nm in the direction of the absorption axis with respect to a wavelength of 400 nm in the direction of the absorption axis. The ratio of reflectance Rc 400 of light (Rc 400 /Rc 680 ) exceeds 1.

Description

편광막 및 편광막의 제조 방법Polarizing film and manufacturing method of polarizing film

본 발명은 편광막 및 편광막의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polarizing film and a method for manufacturing the polarizing film.

대표적인 화상 표시 장치인 액정 표시 장치에는, 그 화상 형성 방식에 기인하여, 액정 셀의 양측에 편광막이 배치되어 있다. 또한, 박형 디스플레이의 보급과 함께, 유기 일렉트로루미네선스(EL) 패널을 탑재한 디스플레이(OLED)나, 양자점 등의 무기 발광 재료를 이용한 표시 패널을 이용한 디스플레이(QLED)가 제안되어 있다. 이들 패널은 반사성이 높은 금속층을 포함하고 있고, 외광 반사나 배경의 비침 등의 문제가 발생하기 쉽다. 이에, 편광막과 λ/4판을 포함하는 원편광판을 시인 측에 마련함으로써, 이들 문제를 방지하는 것이 알려져 있다. 편광막의 제조 방법으로서는, 예컨대, 수지 기재와 폴리비닐알코올(PVA)계 수지층을 포함하는 적층체를 연신하고, 다음으로 염색하고, 수지 기재 위에 편광막을 얻는 방법이 제안되어 있다(예컨대, 특허문헌 1). 이와 같은 방법에 의하면, 두께가 얇은 편광막이 얻어지므로, 근래의 화상 표시 장치의 박형화에 기여할 수 있다고 하여 주목받고 있다. 그러나, 두께가 얇은 편광막은 외관이 열등하고, 화상 표시 장치에 이용한 경우에 충분한 표시 특성이 얻어지지 않는 경우가 있다.In a liquid crystal display device, which is a representative image display device, polarizing films are disposed on both sides of a liquid crystal cell due to the image forming method. In addition, along with the spread of thin displays, displays (OLED) equipped with organic electroluminescence (EL) panels and displays (QLED) using display panels using inorganic light emitting materials such as quantum dots have been proposed. These panels contain a highly reflective metal layer, and problems such as reflection of external light and reflection of the background tend to occur. Accordingly, it is known to prevent these problems by providing a circular polarizing plate including a polarizing film and a λ/4 plate on the viewing side. As a method for producing a polarizing film, for example, a method of obtaining a polarizing film on a resin substrate by stretching a laminate comprising a resin substrate and a polyvinyl alcohol (PVA)-based resin layer and then dyeing it has been proposed (eg, patent literature One). According to such a method, since a polarizing film having a thin thickness can be obtained, it is attracting attention as being able to contribute to thinning of recent image display devices. However, a polarizing film having a thin thickness is inferior in appearance, and sufficient display characteristics may not be obtained when used in an image display device.

일본 공개특허공보 제2001-343521호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-343521

본 발명은 상기 과제를 해결하기 위하여 이루어진 것으로, 그 주된 목적은, 외관이 우수하고, 화상 표시 장치의 표시 특성의 향상에 기여할 수 있는 편광막을 제공하는 것에 있다.The present invention has been made to solve the above problems, and its main object is to provide a polarizing film that is excellent in appearance and can contribute to improving display characteristics of an image display device.

본 발명의 실시형태에 따르면, 편광막이 제공된다. 이 편광막은, 요오드를 포함하는 수지 필름으로 구성되고, 두께가 7㎛ 이하이며, 표면의 흡수축 방향의 파장 680nm의 광의 반사율(Rc680)에 대한 흡수축 방향의 파장 400nm의 광의 반사율(Rc400)의 비(Rc400/Rc680)는 1을 초과한다.According to an embodiment of the present invention, a polarizing film is provided. This polarizing film is composed of a resin film containing iodine, has a thickness of 7 µm or less, and has a reflectance (Rc 400 ) of light having a wavelength of 400 nm in the direction of the absorption axis relative to a reflectance (Rc 680 ) of light having a wavelength of 680 nm in the direction of the absorption axis of the surface. ) (Rc 400 /Rc 680 ) exceeds 1.

하나의 실시형태에서는, 상기 표면의 Rc680은 5% 이하이다.In one embodiment, the Rc 680 of the surface is 5% or less.

하나의 실시형태에서는, 상기 표면의 Rc400은 4.8% 이상이다.In one embodiment, the Rc 400 of the surface is greater than or equal to 4.8%.

하나의 실시형태에서는, 상기 편광막은 상기 표면 측의 단부에 표면으로부터 이면을 향하여 요오드량이 많아지는 경사 분포 영역을 포함한다.In one embodiment, the polarizing film includes a gradient distribution region in which the amount of iodine increases from the front surface to the rear surface at an end portion on the surface side.

하나의 실시형태에서는, 상기 편광막에서, 상기 표면 측의 요오드량이 이면 측의 요오드량보다도 적다.In one embodiment, in the polarizing film, the amount of iodine on the surface side is smaller than the amount of iodine on the back surface side.

하나의 실시형태에서는, 상기 편광막은 단체 투과율이 42.0% 이상이고, 편광도가 99.98% 이상이다.In one embodiment, the polarizing film has a single transmittance of 42.0% or more and a polarization degree of 99.98% or more.

본 발명의 다른 국면에 따르면, 상기 편광막의 제조 방법이 제공된다. 이 제조 방법은 요오드를 포함하고, 수분율이 15중량% 이하의 수지막의 표면을 수세하는 것을 포함한다.According to another aspect of the present invention, a method for manufacturing the polarizing film is provided. This manufacturing method includes washing the surface of a resin film containing iodine and having a moisture content of 15% by weight or less with water.

하나의 실시형태에서는, 상기 수지막의 요오드 농도는 5중량% 이상이다.In one embodiment, the iodine concentration of the resin film is 5% by weight or more.

하나의 실시형태에서는, 상기 수지막은 수지 기재 위에 형성된 수지층이다.In one embodiment, the resin film is a resin layer formed on a resin substrate.

하나의 실시형태에서는, 상기 제조 방법은 상기 수지층을 67℃ 이하에서 수중 연신하는 것을 포함한다.In one embodiment, the manufacturing method includes stretching the resin layer in water at 67° C. or lower.

하나의 실시형태에서는, 상기 제조 방법은 가열 롤을 이용하여 상기 수지층을 가열하는 것을 포함한다.In one embodiment, the manufacturing method includes heating the resin layer using a heating roll.

본 발명의 또 다른 국면에 따르면, 편광판이 제공된다. 이 편광판은, 상기 편광막과, 상기 편광막의 적어도 편측에 배치되는 보호층 또는 위상차층을 포함한다.According to another aspect of the present invention, a polarizing plate is provided. This polarizing plate includes the polarizing film and a protective layer or a retardation layer disposed on at least one side of the polarizing film.

본 발명에 따르면, 표면의 반사 특성이 제어되어 있음으로써, 외관이 우수한 편광막을 얻을 수 있다. 또한, 이와 같은 편광막에 의하면, 화상 표시 장치의 표시 특성의 향상에 기여할 수 있다.According to the present invention, a polarizing film having excellent appearance can be obtained by controlling the reflection characteristics of the surface. In addition, such a polarizing film can contribute to improvement of display characteristics of an image display device.

도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 편광막의 모식적인 단면도이다.
도 2는 가열 롤을 이용한 건조의 일례를 나타내는 개략도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 편광판의 개략의 구성을 나타내는 모식적인 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 편광판의 개략의 구성을 나타내는 모식적인 단면도이다.
도 5는 실시예 1, 비교예 1 및 참고예 2의 편광막의 두께 방향에서의 요오드의 이온 강도를 나타내는 그래프이다.
1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing film according to one embodiment of the present invention.
2 is a schematic view showing an example of drying using a heating roll.
3 is a schematic cross-sectional view showing the schematic configuration of a polarizing plate according to the first embodiment of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view showing the schematic configuration of a polarizing plate according to a second embodiment of the present invention.
5 is a graph showing the ionic strength of iodine in the thickness direction of the polarizing films of Example 1, Comparative Example 1, and Reference Example 2.

이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태로 한정되지 않는다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although embodiment of this invention is described, this invention is not limited to these embodiment.

(용어 및 기호의 정의)(Definition of Terms and Symbols)

본 명세서에서의 용어 및 기호의 정의는 하기와 같다.Definitions of terms and symbols in this specification are as follows.

(1) 굴절률(nx, ny, nz)(1) Refractive index (nx, ny, nz)

'nx'는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절률이고, 'ny'는 면내에서 지상축과 직교하는 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절률이며, 'nz'는 두께 방향의 굴절률이다.'nx' is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximized (ie, the slow axis direction), 'ny' is the refractive index in the direction orthogonal to the slow axis within the plane (ie, the fast axis direction), and 'nz' is is the refractive index in the thickness direction.

(2) 면내 위상차(Re)(2) In-plane phase difference (Re)

'Re(λ)'는 23℃에서의 파장 λnm의 광으로 측정한 면내 위상차이다. 예컨대, 'Re(550)'는 23℃에서의 파장 550nm의 광으로 측정한 면내 위상차이다. Re(λ)는, 층(필름)의 두께를 d(nm)로 하였을 때, 식: Re(λ)=(nx-ny)×d에 의해 구하여진다.'Re(λ)' is an in-plane retardation measured with light having a wavelength of λ nm at 23°C. For example, 'Re(550)' is an in-plane retardation measured with light having a wavelength of 550 nm at 23°C. Re(λ) is obtained by the formula: Re(λ)=(nx-ny)×d when the thickness of the layer (film) is d(nm).

(3) 두께 방향의 위상차(Rth)(3) Phase difference in thickness direction (Rth)

'Rth(λ)'는, 23℃에서의 파장 λnm의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. 예컨대, 'Rth(550)'은 23℃에서의 파장 550nm의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. Rth(λ)는, 층(필름)의 두께를 d(nm)로 한 경우, 식: Rth(λ)=(nx-nz)×d에 의해 구하여진다.'Rth(λ)' is the phase difference in the thickness direction measured with light having a wavelength of λ nm at 23°C. For example, 'Rth(550)' is the phase difference in the thickness direction measured with light having a wavelength of 550 nm at 23°C. Rth(λ) is obtained by the formula: Rth(λ)=(nx-nz)×d when the thickness of the layer (film) is d(nm).

(4) Nz 계수(4) Nz factor

Nz 계수는 Nz=Rth/Re에 의해 구하여진다.The Nz coefficient is obtained by Nz=Rth/Re.

(5) 각도(5) Angle

본 명세서에서 각도를 언급할 때는, 당해 각도는 기준 방향에 대하여 시계 방향 및 반 시계 방향의 양쪽을 포함한다. 따라서, 예컨대 '45°'는 ±45°를 의미한다.When an angle is referred to in this specification, the angle includes both clockwise and counterclockwise directions with respect to the reference direction. Thus, for example, '45°' means ±45°.

A. 편광막A. Polarizer

도 1은, 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 편광막의 모식적인 단면도이다. 또한, 도 1에서는, 도면을 보기 쉽게 하기 위하여 편광막의 단면은 해칭을 생략하고 있다. 편광막(10)은, 제1 주면(표면)(10a) 및 제2 주면(이면(裏面))(10b)을 포함한다. 편광막(10)은, 표면(10a) 측의 단부에, 표면(10a)으로부터 이면(10b)을 향하여 요오드량이 많아지는 경사 분포 영역을 포함한다.1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing film according to one embodiment of the present invention. In addition, in FIG. 1, cross-sections of the polarizing film are omitted from hatching for ease of viewing the drawing. The polarizing film 10 includes a first main surface (surface) 10a and a second main surface (back surface) 10b. The polarizing film 10 includes a gradient distribution region in which the amount of iodine increases from the front surface 10a toward the rear surface 10b at an end portion on the front surface 10a side.

편광막(10)은, 요오드를 포함하는 수지 필름으로 구성된다. 수지 필름으로서는, 예컨대, 폴리비닐알코올(PVA)계 필름, 부분 포르말화 PVA계 필름, 에틸렌·초산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름이 이용된다.The polarizing film 10 is composed of a resin film containing iodine. As the resin film, a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol (PVA)-based film, a partially formalized PVA-based film, or an ethylene/vinyl acetate copolymer-based partially saponified film is used, for example.

편광막(10)의 두께는, 7㎛ 이하이고, 바람직하게는 6㎛ 이하이다. 이와 같은 두께의 편광막은 요오드 농도가 높은 경향이 있다. 한편, 편광막의 두께는, 바람직하게는 1㎛ 이상이고, 보다 바람직하게는 2㎛ 이상이다.The thickness of the polarizing film 10 is 7 μm or less, preferably 6 μm or less. A polarizing film of such a thickness tends to have a high iodine concentration. On the other hand, the thickness of the polarizing film is preferably 1 μm or more, more preferably 2 μm or more.

편광막(10)은, 바람직하게는 파장 380nm∼780nm의 어느 파장에서 흡수 이색성(二色性)을 나타낸다. 편광막(10)의 단체 투과율(Ts)은, 바람직하게는 41.0% 이상이고, 보다 바람직하게는 42.0% 이상이며, 더욱 바람직하게는 42.5% 이상이다. 한편, 편광막(10)의 단체 투과율은, 예컨대 44.2% 이하이다. 편광막(10)의 편광도(P)는, 바람직하게는 99.95% 이상이고, 보다 바람직하게는 99.98% 이상이며, 더욱 바람직하게는 99.99% 이상이다. 한편, 편광막(10)의 편광도는 예컨대 99.996% 이하이다.The polarizing film 10 preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength of 380 nm to 780 nm. The single transmittance (Ts) of the polarizing film 10 is preferably 41.0% or more, more preferably 42.0% or more, still more preferably 42.5% or more. On the other hand, the single transmittance of the polarizing film 10 is, for example, 44.2% or less. The degree of polarization P of the polarizing film 10 is preferably 99.95% or higher, more preferably 99.98% or higher, still more preferably 99.99% or higher. On the other hand, the degree of polarization of the polarization film 10 is, for example, 99.996% or less.

상기 단체 투과율은, 대표적으로는, 자외 가시 분광 광도계를 이용하여 측정하고, 시감도 보정을 행한 Y값이다. 상기 편광도는, 대표적으로는 자외 가시 분광 광도계를 이용하여 측정하고 시감도 보정을 행한 평행 투과율(Tp) 및 직교 투과율(Tc)에 기초하여 하기 식에 의해 구하여진다.The single transmittance is typically a Y value measured using an ultraviolet and visible spectrophotometer and corrected for visibility. The degree of polarization is typically obtained by the following equation based on the parallel transmittance (Tp) and the orthogonal transmittance (Tc) obtained by measuring using a spectrophotometer for ultraviolet and visible light and performing visibility correction.

편광도(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100Polarization degree (%) = {(Tp-Tc)/(Tp+Tc)} 1/2 × 100

편광막(10)의 표면(10a)의, 흡수축 방향의 파장 680nm의 광의 반사율(Rc680)에 대한 흡수축 방향의 파장 400nm의 광의 반사율(Rc400)의 비(Rc400/Rc680)는, 1을 초과하고, 바람직하게는 1.3 이상이며, 보다 바람직하게는 1.5 이상이다. 이와 같은 관계를 충족함으로써, 반사 색상이 양호하게 제어되고 외관이 우수할 수 있다. 구체적으로는, 붉은 기가 억제되어 외관이 우수할 수 있다. 그 결과, 예컨대, 시인성이 우수한 화상 표시 장치를 제공할 수 있다. 여기서, 편광막(10)은, 그 표면(10a)이 화상 표시 장치의 시인 측이 되도록 배치하여도 되고 시인 측과는 반대 측이 되도록 배치하여도 되며, 어느 배치에서도 외관이 우수할 수 있다. 편광막(10)의 표면(10a)이 화상 표시 장치의 시인 측이 되도록 배치함으로써, 외관 및 표시 특성에서 지극히 우수할 수 있다. 한편, 편광막(10)의 표면(10a)의 Rc400/Rc680은, 예컨대 2 이하이다.The ratio (Rc 400 /Rc 680 ) of the reflectance (Rc 400 ) of light having a wavelength of 400 nm in the absorption axis direction to the reflectance (Rc 680 ) of light having a wavelength of 680 nm in the absorption axis direction of the surface 10a of the polarizing film 10 is , greater than 1, preferably greater than or equal to 1.3, more preferably greater than or equal to 1.5. By satisfying this relationship, the reflection color can be well controlled and the appearance can be excellent. Specifically, redness can be suppressed and the appearance can be excellent. As a result, for example, an image display device with excellent visibility can be provided. Here, the polarizing film 10 may be disposed so that its surface 10a is on the viewing side of the image display device or on the opposite side to the viewing side, and the appearance can be excellent in either arrangement. By arranging the surface 10a of the polarizing film 10 to be on the viewing side of the image display device, it can be extremely excellent in appearance and display characteristics. On the other hand, Rc 400 /Rc 680 of the surface 10a of the polarizing film 10 is 2 or less, for example.

편광막(10)의 표면(10a)의 Rc400은, 예컨대 4.8% 이상이고, 바람직하게는 4.9% 이상이며, 보다 바람직하게는 5% 이상이고, 더욱 바람직하게는 5.3% 이상이다. 한편, 편광막(10)의 표면(10a)의 Rc400은, 예컨대 6% 이하이다. 편광막(10)의 표면(10a)의 Rc680은, 예컨대 5% 이하이고, 바람직하게는 4.9% 이하이며, 보다 바람직하게는 4.5% 이하이고, 더욱 바람직하게는 4% 이하이다. 한편, 편광막(10)의 표면(10a)의 Rc680은, 예컨대 3% 이상이다.Rc 400 of the surface 10a of the polarizing film 10 is, for example, 4.8% or more, preferably 4.9% or more, more preferably 5% or more, still more preferably 5.3% or more. On the other hand, Rc 400 of the surface 10a of the polarizing film 10 is, for example, 6% or less. Rc 680 of the surface 10a of the polarizing film 10 is, for example, 5% or less, preferably 4.9% or less, more preferably 4.5% or less, still more preferably 4% or less. On the other hand, Rc 680 of the surface 10a of the polarizing film 10 is, for example, 3% or more.

편광막(10)의 표면(10a)의 투과축 방향의 파장 400nm의 광의 반사율(Rp400)은, 예컨대 4.5%∼5%이다. 편광막(10)의 표면(10a)의 투과축 방향의 파장 680nm의 광의 반사율 Rp680은, 예컨대 4.3%∼4.8%이다.The reflectance (Rp 400 ) of light having a wavelength of 400 nm in the direction of the transmission axis of the surface 10a of the polarizing film 10 is, for example, 4.5% to 5%. The reflectance Rp 680 of light having a wavelength of 680 nm in the direction of the transmission axis of the surface 10a of the polarizing film 10 is, for example, 4.3% to 4.8%.

상기 Rc 및 Rp는 각각, 편광막(수지 필름)의 표면에 소정의 각도로 광을 입사시켜서 흡수축 방향 및 투과축 방향의 반사광을 검출한 경우의, 입사광 강도에 대한 반사광 강도의 비율이다.Rc and Rp are the ratio of the reflected light intensity to the incident light intensity when light is incident on the surface of the polarizing film (resin film) at a predetermined angle and the reflected light in the direction of the absorption axis and the transmission axis is detected.

예컨대, 편광막(10)은, 표면(10a) 측의 요오드량이 이면(10b) 측의 요오드량보다도 적다. 구체적으로는, 편광막(10)은, 표면측으로부터, 요오드의 분포 상태가 상이한 제1 영역(11)과 제2 영역(12)을 이 순서대로 포함한다. 제1 영역(11)은, 표면(10a)으로부터 이면(10b)을 향하여 요오드량이 많아지는 경사 분포 영역이다. 제2 영역(12)에서는 요오드는 균일하게 분포되어 있다. 여기서 균일이란, 예컨대, 분석에 의해 검출되는 요오드에서 유래되는(예컨대, 요오드 이온의) 강도가 평균값보다 -20%∼+20%의 범위 내인 것을 말한다. 제1 영역(11)의 두께는 편광막(10)의 두께의 2% 이상 50% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10% 이상 40% 이하이다. 제1 영역(11)의 두께는 편광막(10)의 두께의 20% 이상이어도 된다. 구체적으로는, 제1 영역(11)의 두께는 100㎚ 이상 2.7㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 500㎚ 이상 2㎛ 이하이다. 제1 영역(11)의 두께는 1㎛ 이상이어도 된다. 이와 같은 범위에 의하면, 예컨대, 우수한 광학 특성(상기 단체 투과율 및 편광도)과 우수한 외관을 달성할 수 있다.For example, in the polarizing film 10, the amount of iodine on the front surface 10a side is smaller than the amount of iodine on the back surface 10b side. Specifically, the polarizing film 10 includes, in this order, a first region 11 and a second region 12 in which iodine distribution is different from the surface side. The first region 11 is a gradient distribution region in which the amount of iodine increases from the front surface 10a toward the rear surface 10b. In the second region 12, iodine is uniformly distributed. Here, uniformity means that the intensity derived from iodine (for example, of iodine ions) detected by analysis, for example, is within the range of -20% to +20% of the average value. The thickness of the first region 11 is preferably 2% or more and 50% or less of the thickness of the polarizing film 10, more preferably 10% or more and 40% or less. The thickness of the first region 11 may be 20% or more of the thickness of the polarizing film 10 . Specifically, the thickness of the first region 11 is preferably 100 nm or more and 2.7 μm or less, more preferably 500 nm or more and 2 μm or less. The thickness of the first region 11 may be 1 μm or more. According to this range, excellent optical characteristics (the single transmittance and polarization degree) and excellent external appearance can be achieved, for example.

도시하지 않지만, 예컨대, 편광막은, 표면 측으로부터, 요오드의 분포 상태가 상이한 제1 영역, 제2 영역 및 제3 영역을 이 순서대로 포함하고 있어도 된다. 구체적으로는, 편광막은, 표면으로부터 이면을 향하여 요오드량이 많아지는 제1 영역, 요오드가 균일하게 분포하는 제2 영역, 및 표면 측으로부터 이면을 향하여 요오드량이 적어지는 제3 영역을 포함하고 있어도 된다.Although not shown, for example, the polarizing film may include, in this order, a first region, a second region, and a third region in which iodine distribution is different from the surface side. Specifically, the polarizing film may include a first region in which the amount of iodine increases from the front surface to the back surface, a second region in which iodine is uniformly distributed, and a third region in which the amount of iodine decreases from the front surface side to the back surface.

B. 제조 방법B. Manufacturing method

상기 편광막은, 요오드를 포함하고, 소정의 수분율을 갖는 수지막의 표면을 수세함으로써 얻어진다. 수지막의 수분율(수세 전)은 15중량% 이하이고, 바람직하게는 12중량% 이하이며, 보다 바람직하게는 9중량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 6중량% 이하이다. 한편, 수지막의 수분율은, 예컨대 3중량% 이상이다. 이와 같은 수분율을 갖는 수지막에 대하여 수세를 행함으로써, 상기 편광막을 양호하게 제작할 수 있다. 구체적으로는, 우수한 광학 특성을 유지시키면서 표면의 반사 특성(예컨대, 반사율, 색상)을 양호하게 제어할 수 있다. 예컨대, 파장 550nm 이상의 장파장 영역의 반사율을 낮추어 붉은 기를 억제하여, 육안으로 푸른 기를 인식 가능하게 할 수 있다.The polarizing film is obtained by washing the surface of a resin film containing iodine and having a predetermined moisture content. The water content of the resin film (before washing with water) is 15% by weight or less, preferably 12% by weight or less, more preferably 9% by weight or less, still more preferably 6% by weight or less. On the other hand, the moisture content of the resin film is, for example, 3% by weight or more. By washing the resin film having such a moisture content with water, the polarizing film can be produced satisfactorily. Specifically, it is possible to favorably control the reflective properties (eg reflectance, color) of the surface while maintaining excellent optical properties. For example, by lowering the reflectance in the long-wavelength region of 550 nm or more, the red color can be suppressed, and the blue color can be recognized with the naked eye.

상기 수지막의 요오드 농도는, 예컨대 5중량% 이상이고, 5.5중량% 이상이어도 되며, 6중량% 이상이어도 된다. 수지막의 요오드 농도는, 예컨대 8중량% 이하이다. 상기 수지막의 두께는, 예컨대 7㎛ 이하이고, 6㎛ 이하이어도 된다. 수지막의 두께는 바람직하게는 1㎛ 이상이고, 보다 바람직하게는 2㎛ 이상이다. 이와 같은 요오드 농도, 두께에서 우수한 외관을 달성할 수 있는 것이 본 발명의 특징 중 하나이다.The iodine concentration of the resin film may be, for example, 5% by weight or more, 5.5% by weight or more, or 6% by weight or more. The iodine concentration of the resin film is, for example, 8% by weight or less. The thickness of the resin film is, for example, 7 μm or less, and may be 6 μm or less. The thickness of the resin film is preferably 1 μm or more, more preferably 2 μm or more. It is one of the characteristics of the present invention that an excellent appearance can be achieved at such an iodine concentration and thickness.

B-1. 수지막B-1. resin film

상기 소정의 수분율을 갖는 수지막은, 예컨대, 수지 기재 위에 수지층(대표적으로는, 폴리비닐알코올계 수지층)을 형성하여 적층체를 제작하고, 이 적층체(수지층)를 연신 및 요오드로 염색(예컨대, 요오드의 흡착에 의해 염색)하고, 그 후, 적층체(수지층)를 건조함으로써 얻을 수 있다.For the resin film having a predetermined water content, for example, a resin layer (typically, a polyvinyl alcohol-based resin layer) is formed on a resin substrate to produce a laminate, and the laminate (resin layer) is stretched and dyed with iodine. It can be obtained by (for example, dyeing by adsorption of iodine) and then drying the layered product (resin layer).

B-1-1. 적층체B-1-1. laminate

하나의 실시형태에서는, 열가소성 수지 기재(예컨대, 장척상의) 위에, 폴리비닐알코올(PVA)계 수지와 할로겐화물을 포함하는 PVA계 수지층을 형성하여 상기 적층체를 제작한다. 구체적으로는, 열가소성 수지 기재 위에, PVA계 수지와 할로겐화물을 포함하는 도포액을 도포하고, 건조함으로써, 적층체를 제작한다.In one embodiment, the laminate is produced by forming a PVA-based resin layer containing a polyvinyl alcohol (PVA)-based resin and a halide on a thermoplastic resin substrate (for example, a long image). Specifically, a laminate is produced by applying a coating liquid containing a PVA-based resin and a halide onto a thermoplastic resin base material and drying it.

상기 열가소성 수지 기재의 두께는, 바람직하게는 20㎛∼300㎛이고, 보다 바람직하게는 50㎛∼200㎛이다. 20㎛ 미만이면, PVA계 수지층의 형성이 곤란해질 우려가 있다. 300㎛를 초과하면, 예컨대, 후술하는 수중 연신에서, 열가소성 수지 기재가 물을 흡수하는데 시간을 요함과 함께, 연신에 과대한 부하를 요할 우려가 있다.The thickness of the thermoplastic resin substrate is preferably 20 μm to 300 μm, more preferably 50 μm to 200 μm. If it is less than 20 μm, there is a possibility that formation of the PVA-based resin layer becomes difficult. When it exceeds 300 µm, for example, in underwater stretching described later, time is required for the thermoplastic resin substrate to absorb water, and there is a risk that an excessive load may be required for stretching.

열가소성 수지 기재의 흡수율은 바람직하게는 0.2% 이상이고, 더욱 바람직하게는 0.3% 이상이다. 이와 같은 열가소성 수지 기재는, 물을 흡수하고, 물이 가소제적인 작용을 하여 가소화할 수 있다. 그 결과, 연신 응력을 대폭으로 저하시키고, 고배율로 연신할 수 있다. 한편, 열가소성 수지 기재의 흡수율은 바람직하게는 3.0% 이하이고, 보다 바람직하게는 1.0% 이하이다. 이와 같은 흡수율에 의하면, 제조 시에 열가소성 수지 기재의 치수 안정성이 현저하게 저하되고, 얻어지는 편광막의 품질이 악화되는 등의 문제를 방지할 수 있다. 또한, 수중 연신 시에 열가소성 수지 기재가 파단되거나, PVA계 수지층이 박리되는 것을 방지할 수 있다. 열가소성 수지 기재의 흡수율은, 예컨대, 구성 재료에 변성기를 도입함으로써 조정할 수 있다. 또한, 흡수율은 JIS K 7209에 준하여 구하여지는 값이다.The water absorption of the thermoplastic resin substrate is preferably 0.2% or more, more preferably 0.3% or more. Such a thermoplastic resin substrate can absorb water and can be plasticized by the water acting as a plasticizer. As a result, the drawing stress can be greatly reduced and the drawing can be performed at a high magnification. On the other hand, the water absorption of the thermoplastic resin substrate is preferably 3.0% or less, more preferably 1.0% or less. According to such an absorption rate, problems such as significantly deteriorating the dimensional stability of the thermoplastic resin substrate during production and deterioration of the quality of the resulting polarizing film can be prevented. In addition, it is possible to prevent breakage of the thermoplastic resin substrate or peeling of the PVA-based resin layer during underwater stretching. The water absorption of the thermoplastic resin substrate can be adjusted, for example, by introducing a modifier into the constituent material. In addition, water absorption is a value calculated according to JIS K 7209.

열가소성 수지 기재의 유리전이온도(Tg)는 바람직하게는 120℃ 이하이다. 이와 같은 열가소성 수지 기재를 이용함으로써, PVA계 수지층의 결정화를 억제하면서, 적층체의 연신성을 충분히 확보할 수 있다. 또한, 물에 의한 열가소성 수지 기재의 가소화와, 수중 연신을 양호하게 행하는 것을 고려하면, Tg는 보다 바람직하게는 100℃ 이하이고, 더욱 바람직하게는 90℃ 이하이다. 한편, 열가소성 수지 기재의 Tg는 바람직하게는 60℃ 이상이다. 이와 같은 Tg에 의하면, 상기 도포액을 도포·건조할 때에, 열가소성 수지 기재가 변형(예컨대, 요철이나 처짐, 주름 등의 발생)하는 등의 문제를 방지하고, 양호하게 적층체를 제작할 수 있다. 또한, 상기 수지층의 연신을 적합한 온도(예컨대, 60℃ 정도)에서 양호하게 행할 수 있다. 열가소성 수지 기재의 Tg는, 예컨대, 구성 재료에 변성기를 도입하는, 결정화 재료를 이용하여 가열함으로써 조정할 수 있다. 또한, 유리전이온도(Tg)는 JIS K 7121에 준하여 구하여지는 값이다.The glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate is preferably 120°C or less. By using such a thermoplastic resin substrate, the stretchability of the laminate can be sufficiently secured while suppressing crystallization of the PVA-based resin layer. Further, considering that plasticization of the thermoplastic resin base material with water and stretching in water are satisfactorily performed, the Tg is more preferably 100°C or less, still more preferably 90°C or less. On the other hand, the Tg of the thermoplastic resin substrate is preferably 60°C or higher. According to such Tg, problems such as deformation of the thermoplastic resin substrate (eg, occurrence of unevenness, sagging, wrinkles, etc.) can be prevented and a laminate can be produced satisfactorily when the coating liquid is applied and dried. Also, the stretching of the resin layer can be satisfactorily performed at a suitable temperature (eg, about 60° C.). The Tg of the thermoplastic resin substrate can be adjusted by, for example, heating using a crystallization material that introduces a modifier into the constituent material. In addition, the glass transition temperature (Tg) is a value obtained according to JIS K 7121.

열가소성 수지 기재의 구성 재료로서는, 임의의 적절한 열가소성 수지가 채용될 수 있다. 열가소성 수지로서는, 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 등의 에스테르계 수지, 노보넨계 수지 등의 시클로올레핀계 수지, 폴리프로필렌 등의 올레핀계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 이들의 공중합체 수지를 들 수 있다. 이들 중에서도, 바람직하게는 노보넨계 수지, 비정질의 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지이다.As a constituent material of the thermoplastic resin substrate, any suitable thermoplastic resin can be employed. As the thermoplastic resin, for example, ester-based resins such as polyethylene terephthalate-based resins, cycloolefin-based resins such as norbornene-based resins, olefin-based resins such as polypropylene, polyamide-based resins, polycarbonate-based resins, and copolymer resins thereof can be heard Among these, norbornene-type resin and amorphous polyethylene terephthalate-type resin are preferable.

하나의 실시형태에서는, 비정질의(결정화되지 않은) 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지가 바람직하게 이용된다. 그 중에서도, 비정질의(결정화되기 어려운) 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지가 특히 바람직하게 이용된다. 비정성의 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지의 구체예로서는, 디카르복실산으로서 이소프탈산 및/또는 시클로헥산디카르복실산을 더 포함하는 공중합체나, 글리콜로서 시클로헥산디메탄올이나 디에틸렌글리콜을 더 포함하는 공중합체를 들 수 있다.In one embodiment, an amorphous (non-crystallized) polyethylene terephthalate-based resin is preferably used. Among them, amorphous (hard to crystallize) polyethylene terephthalate-based resins are particularly preferably used. Specific examples of the amorphous polyethylene terephthalate-based resin include copolymers further containing isophthalic acid and/or cyclohexanedicarboxylic acid as dicarboxylic acid, and further containing cyclohexanedimethanol or diethylene glycol as glycol. A copolymer is mentioned.

다른 실시형태에서는, 이소프탈산 유닛을 갖는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지가 바람직하게 이용된다. 연신성이 지극히 우수함과 함께, 연신 시의 결정화가 억제될 수 있기 때문이다. 이것은 이소프탈산 유닛을 도입함으로써, 주쇄에 큰 굴곡을 부여하는 것에 의한 것으로 생각된다. 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지는 테레프탈산 유닛 및 에틸렌글리콜 유닛을 갖는다. 이소프탈산 유닛의 함유 비율은, 전체 반복 단위의 합계에 대하여, 바람직하게는 0.1몰% 이상이고, 보다 바람직하게는 1.0몰% 이상이다. 연신성이 지극히 우수한 열가소성 수지 기재가 얻어지기 때문이다. 한편, 이소프탈산 유닛의 함유 비율은, 전체 반복 단위의 합계에 대하여, 바람직하게는 20몰% 이하이고, 보다 바람직하게는 10몰% 이하이다. 후술하는 건조에서 결정화도를 양호하게 증가시킬 수 있기 때문이다.In another embodiment, a polyethylene terephthalate-based resin having an isophthalic acid unit is preferably used. This is because the stretchability is extremely excellent and crystallization during stretching can be suppressed. This is considered to be due to imparting large waviness to the main chain by introducing an isophthalic acid unit. The polyethylene terephthalate-based resin has a terephthalic acid unit and an ethylene glycol unit. The content of the isophthalic acid unit is preferably 0.1 mol% or more, and more preferably 1.0 mol% or more, with respect to the total of all repeating units. This is because a thermoplastic resin substrate extremely excellent in stretchability can be obtained. On the other hand, the content of the isophthalic acid unit is preferably 20 mol% or less, more preferably 10 mol% or less, with respect to the total of all repeating units. This is because the degree of crystallinity can be favorably increased in drying described later.

열가소성 수지 기재는 미리(예컨대, PVA계 수지층을 형성하기 전에) 연신되어 있어도 된다. 하나의 실시형태에서는, 장척상의 열가소성 수지 기재의 횡방향으로 연신되어 있다. 횡방향은 바람직하게는 후술하는 적층체의 연신 방향에 직교하는 방향이다. 또한, 본 명세서에서, '직교'란, 실질적으로 직교하는 경우도 포함한다. 여기서, '실질적으로 직교'란, 90°±5.0°인 경우를 포함하고, 바람직하게는 90°±3.0°, 더욱 바람직하게는 90°±1.0°이다. 열가소성 수지 기재의 연신 온도는, 열가소성 수지 기재의 유리전이온도(Tg)에 대하여, 바람직하게는 Tg -10℃∼Tg +50℃이다. 열가소성 수지 기재의 연신 배율은 바람직하게는 1.5배∼3.0배이다. 열가소성 수지 기재의 연신 방법으로서는, 임의의 적절한 방법이 채용될 수 있다. 구체적으로는, 고정단 연신이어도 되고, 자유단 연신이어도 된다. 연신 방식은 건식이어도 되고, 습식이어도 된다. 연신은 1단계로 행하여도 되고, 다단계로 행하여도 된다. 다단계로 행하는 경우, 상기 연신 배율은 각 단계의 연신 배율의 곱이다.The thermoplastic resin substrate may be stretched in advance (eg, before forming the PVA-based resin layer). In one embodiment, it is stretched in the transverse direction of a long thermoplastic resin base material. The transverse direction is preferably a direction orthogonal to the stretching direction of the laminate described later. In addition, in this specification, 'orthogonal' also includes the case of being substantially orthogonal. Here, 'substantially orthogonal' includes the case of 90°±5.0°, preferably 90°±3.0°, more preferably 90°±1.0°. The stretching temperature of the thermoplastic resin substrate is preferably Tg -10°C to Tg +50°C relative to the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate. The draw ratio of the thermoplastic resin substrate is preferably 1.5 to 3.0 times. As a method for stretching the thermoplastic resin substrate, any suitable method may be employed. Specifically, fixed-end stretching may be used or free-end stretching may be used. The stretching method may be dry or wet. Stretching may be performed in one step or in multiple steps. In the case of performing in multiple steps, the draw ratio is the product of the draw ratios of each step.

상기 도포액은, 대표적으로는, PVA계 수지와 할로겐화물을 용매에 용해시킨 용액이다. 용매로서는, 예컨대, 물, 디메틸설폭사이드, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 각종 글리콜류, 트리메틸올프로판 등의 다가 알코올류, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민 등의 아민류를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다. 이들 중에서도 바람직하게는 물이다. 도포액에서의 PVA계 수지의 함유량은, 용매 100중량부에 대하여, 바람직하게는 3중량부∼20중량부이다. 이와 같은 범위에 의하면, 열가소성 수지 기재에 밀착된 균일한 도포막을 형성할 수 있다. 도포액에서의 할로겐화물의 함유량은, PVA계 수지 100중량부에 대하여 바람직하게는 5중량부∼20중량부이다.The coating liquid is typically a solution in which a PVA-based resin and a halide are dissolved in a solvent. Examples of the solvent include water, dimethylsulfoxide, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, various glycols, polyhydric alcohols such as trimethylolpropane, and amines such as ethylenediamine and diethylenetriamine. can be heard These can be used individually or in combination of 2 or more types. Among these, water is preferable. The content of the PVA-based resin in the coating liquid is preferably 3 parts by weight to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solvent. According to such a range, a uniform coating film adhering to the thermoplastic resin substrate can be formed. The content of the halide in the coating liquid is preferably 5 parts by weight to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the PVA-based resin.

상기 PVA계 수지로서는, 예컨대, 폴리비닐알코올, 에틸렌-비닐알코올 공중합체를 들 수 있다. 폴리비닐알코올은 폴리비닐아세테이트를 비누화함으로써 얻어진다. 에틸렌-비닐알코올 공중합체는 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체를 비누화함으로써 얻어진다. PVA계 수지의 비누화도는 통상적으로 85몰%∼100몰%이고, 바람직하게는 95.0몰%∼99.95몰%이며, 보다 바람직하게는 99.0몰%∼99.93몰%이다. 이와 같은 비누화도의 PVA계 수지를 이용함으로써, 내구성이 우수한 편광막을 얻을 수 있다. 비누화도가 지나치게 높은 경우에는 겔화되어버릴 우려가 있다. 또한, 비누화도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다.As said PVA-type resin, polyvinyl alcohol and an ethylene-vinyl alcohol copolymer are mentioned, for example. Polyvinyl alcohol is obtained by saponifying polyvinyl acetate. An ethylene-vinyl alcohol copolymer is obtained by saponifying an ethylene-vinyl acetate copolymer. The degree of saponification of the PVA-based resin is usually 85 mol% to 100 mol%, preferably 95.0 mol% to 99.95 mol%, and more preferably 99.0 mol% to 99.93 mol%. By using a PVA-based resin having such a degree of saponification, a polarizing film having excellent durability can be obtained. When the degree of saponification is too high, there is a possibility of gelation. In addition, the degree of saponification can be obtained according to JIS K 6726-1994.

PVA계 수지의 평균 중합도는 통상적으로 1000∼10000이고, 바람직하게는 1200∼4500이며, 보다 바람직하게는 1500∼4300이다. 또한, 평균 중합도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다.The average degree of polymerization of the PVA-based resin is usually 1000 to 10000, preferably 1200 to 4500, and more preferably 1500 to 4300. In addition, the average degree of polymerization can be obtained according to JIS K 6726-1994.

상기 할로겐화물로서는, 임의의 적절한 할로겐화물이 채용될 수 있다. 예컨대, 요오드화칼륨, 요오드화나트륨, 요오드화리튬 등의 요오드화물, 염화나트륨 등의 염화물을 들 수 있다. 이들 중에서도 바람직하게는 요오드화 칼륨이다. 할로겐화물을 이용함으로써, 우수한 광학 특성을 갖는 편광막을 얻을 수 있다. 구체적으로는, 후술하는 공중 보조 연신 후의 PVA계 수지의 결정화가 촉진되고, 그 후의 습식 처리(예컨대, 후술하는 염색, 수중 연신)에서, 폴리비닐알코올 분자의 배향의 흐트러짐 및 배향성의 저하가 억제되어, 우수한 광학 특성을 갖는 편광막을 얻을 수 있다.As the halide, any suitable halide can be employed. For example, iodides, such as potassium iodide, sodium iodide, and lithium iodide, and chlorides, such as sodium chloride, are mentioned. Among these, potassium iodide is preferable. By using a halide, a polarizing film having excellent optical properties can be obtained. Specifically, crystallization of the PVA-based resin after air-assisted stretching described later is promoted, and in subsequent wet treatment (e.g., dyeing, underwater stretching described later), disorder of orientation of polyvinyl alcohol molecules and decrease in orientation are suppressed. , a polarizing film having excellent optical properties can be obtained.

도포액의 조제에서, PVA계 수지 100중량부에 대하여, 할로겐화물을 5중량부∼20중량부 배합하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10중량부∼15중량부이다. 구체적으로는, 얻어지는 PVA계 수지층에서의 할로겐화물의 함유량은, PVA계 수지 100중량부에 대하여, 바람직하게는 5중량부∼20중량부이고, 보다 바람직하게는 10중량부∼15중량부이다. PVA계 수지에 대한 할로겐화물의 양이 많으면, 예컨대, 할로겐화물이 블리드 아웃되어, 얻어지는 편광막이 백탁되는 경우가 있다.In preparation of the coating liquid, it is preferable to blend 5 parts by weight to 20 parts by weight of the halide, more preferably 10 parts by weight to 15 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the PVA-based resin. Specifically, the content of the halide in the obtained PVA-based resin layer is preferably 5 parts by weight to 20 parts by weight, more preferably 10 parts by weight to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the PVA-based resin. . When the amount of the halide relative to the PVA-based resin is large, the halide bleeds out, for example, and the obtained polarizing film may become cloudy.

도포액에 첨가제를 배합하여도 된다. 첨가제로서는, 예컨대, 가소제, 계면활성제를 들 수 있다. 가소제로서는, 예컨대, 에틸렌글리콜이나 글리세린 등의 다가 알코올을 들 수 있다. 계면활성제로서는, 예컨대, 비이온 계면활성제를 들 수 있다. 이들은, 예컨대, 얻어지는 PVA계 수지층의 균일성이나 염색성, 연신성을 향상시키는 목적으로 사용된다.You may mix|blend additives with a coating liquid. As an additive, a plasticizer and surfactant are mentioned, for example. Examples of the plasticizer include polyhydric alcohols such as ethylene glycol and glycerin. As surfactant, a nonionic surfactant is mentioned, for example. These are used, for example, for the purpose of improving the uniformity, dyeability, and stretchability of the obtained PVA-based resin layer.

상기 도포액의 도포 방법으로서는, 예컨대, 롤 코트법, 스핀 코트법, 와이어 바 코트법, 딥 코트법, 다이 코트법, 커튼 코트법, 스프레이 코트법, 나이프 코트법(콤마 코트법 등)을 들 수 있다. 도포액의 도포·건조 온도는, 바람직하게는 50℃ 이상이다.Examples of the coating method for applying the coating solution include a roll coating method, a spin coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, a die coating method, a curtain coating method, a spray coating method, and a knife coating method (comma coating method etc.). can The coating/drying temperature of the coating liquid is preferably 50°C or higher.

상기 PVA계 수지층의 두께는, 바람직하게는 3㎛∼40㎛이고, 더욱 바람직하게는 3㎛∼20㎛이다.The thickness of the PVA-based resin layer is preferably 3 μm to 40 μm, more preferably 3 μm to 20 μm.

PVA계 수지층을 형성하기 전에, 열가소성 수지 기재에 표면 처리(예컨대, 코로나 처리 등)를 실시하여도 되고, 열가소성 수지 기재 위에 이(易) 접착층을 형성하여도 된다. 이와 같은 처리를 행함으로써, 열가소성 수지 기재와 PVA계 수지층의 밀착성을 향상시킬 수 있다.Before forming the PVA-based resin layer, surface treatment (for example, corona treatment) may be performed on the thermoplastic resin substrate, or an easily adhesive layer may be formed on the thermoplastic resin substrate. By performing such a process, the adhesiveness of a thermoplastic resin base material and a PVA system resin layer can be improved.

B-1-2. 연신B-1-2. stretching

상기 연신은, 상기 적층체를 건식 연신(공중 보조 연신)한 후, 수중 연신함으로써 행하는 것이 바람직하다. 보조 연신에 의해, 상기 열가소성 수지 기재의 결정화를 억제하면서 연신할 수 있고, 붕산 수중 연신에서 열가소성 수지 기재의 과도한 결정화에 의해 연신성이 저하된다는 문제를 해결하고, 적층체를 보다 고배율로 연신할 수 있다. 또한, 열가소성 수지 기재를 이용하는 경우, 상기 도포 온도가 낮게 설정될 수 있는 점에서, PVA계 수지의 결정화가 상대적으로 낮아져 충분한 광학 특성을 얻을 수 없다는 문제가 생길 수 있다. 이에 대하여, 보조 연신을 도입함으로써, 열가소성 수지를 이용하는 경우에도, PVA계 수지의 결정성을 높일 수 있다. 또한, PVA계 수지의 배향성을 사전에 높임으로써, 이후의 습식 처리 시에 PVA계 수지의 배향성의 저하나 용해 등의 문제를 방지할 수 있다. 이와 같이 하여, 우수한 광학 특성을 갖는 편광막이 얻어질 수 있다.It is preferable to carry out the above-mentioned stretching by underwater stretching after dry stretching (air assisted stretching) of the above-mentioned layered product. By auxiliary stretching, the thermoplastic resin substrate can be stretched while suppressing crystallization, and in boric acid water stretching, the problem of deterioration in stretchability due to excessive crystallization of the thermoplastic resin substrate can be solved, and the laminate can be stretched at a higher magnification. there is. In addition, in the case of using a thermoplastic resin substrate, since the application temperature can be set low, the crystallization of the PVA-based resin is relatively low, resulting in a problem that sufficient optical properties cannot be obtained. In contrast, by introducing auxiliary stretching, the crystallinity of the PVA-based resin can be enhanced even when a thermoplastic resin is used. In addition, by increasing the orientation of the PVA-based resin in advance, it is possible to prevent problems such as a decrease in the orientation of the PVA-based resin or dissolution during a subsequent wet treatment. In this way, a polarizing film having excellent optical properties can be obtained.

공중 보조 연신의 방법은, 고정단 연신(예컨대, 텐터 연신기를 이용하여 연신하는 방법)이어도 되고, 자유단 연신(예컨대, 주속(周速)이 다른 롤 사이에 적층체를 통과시켜 일축 연신하는 방법)이어도 된다. 바람직하게는, 자유단 연신이 채용된다. 예컨대, 상기 적층체를 그의 긴 길이방향으로 반송하면서, 가열 롤 사이의 주속 차에 의해 연신하는 가열 롤 연신이 채용된다. 하나의 실시형태에서는, 공중 보조 연신은 열 공간(존)에서의 존 연신 공정과 가열 롤 연신 공정을 포함한다. 존 연신 공정과 가열 롤 연신 공정의 순서는 한정되지 않지만, 예컨대, 존 연신 공정 및 가열 롤 연신 공정이 이 순서대로 행하여진다. 다른 실시형태에서는, 텐터 연신기에서, 필름 단부를 파지하고, 텐터 간의 거리를 흐름 방향으로 넓히는 것으로 연신된다(텐터 간의 거리의 넓혀짐이 연신 배율이 됨). 이 때, 폭 방향(흐름 방향에 대하여 수직 방향)의 텐터의 거리는, 바람직하게는 흐름 방향의 연신 배율에 대하여 자유단 연신에 보다 가까워지도록 설정된다. 자유단 연신의 경우, 폭 방향의 수축률은 식: 폭 방향의 수축률=(1/연신 배율)1/2로 계산된다.The method of air-assisted stretching may be fixed end stretching (eg, a method of stretching using a tenter stretching machine), or free end stretching (eg, a method of uniaxial stretching by passing a laminate between rolls having different circumferential speeds) ) may be Preferably, free end stretching is employed. For example, heating roll stretching is employed in which the laminate is stretched by a difference in circumferential speed between heating rolls while conveying the laminate in its longitudinal direction. In one embodiment, air assisted stretching includes a zone stretching process in a heat space (zone) and a heated roll stretching process. The order of the zone stretching process and the hot roll stretching process is not limited, but, for example, the zone stretching process and the hot roll stretching process are performed in this order. In another embodiment, in a tenter stretching machine, an end portion of the film is held and the film is stretched by extending the distance between tenters in the flow direction (the widening of the distance between tenters becomes the stretching ratio). At this time, the distance of the tenter in the width direction (direction perpendicular to the flow direction) is preferably set so as to be closer to free end stretching with respect to the stretching ratio in the flow direction. In the case of free end stretching, the shrinkage rate in the width direction is calculated by the formula: Shrinkage rate in the width direction = (1/stretch ratio) 1/2 .

공중 보조 연신의 연신 배율은, 바람직하게는 2.0배∼3.5배이다. 공중 보조 연신은 1단계로 행하여도 되고, 다단계로 행하여도 된다. 다단계로 행하는 경우, 연신 배율은 각 단계의 연신 배율의 곱이다. 공중 보조 연신에서의 연신 방향은, 바람직하게는 후술하는 수중 연신의 연신 방향과 대략 동일하다.The draw ratio of air assisted stretching is preferably 2.0 to 3.5 times. Air assisted stretching may be performed in one step or may be performed in multiple steps. When performing in multiple steps, the draw ratio is the product of the draw ratios of each step. The stretching direction in air assisted stretching is preferably substantially the same as the stretching direction in underwater stretching described later.

공중 보조 연신의 연신 온도는, 예컨대, 이용하는 열가소성 수지 기재, 연신 방식 등에 따라 임의의 적절한 값으로 설정된다. 연신 온도는, 바람직하게는 열가소성 수지 기재의 유리전이온도(Tg) 이상이고, 보다 바람직하게는 Tg +10℃ 이상이며, 더욱 바람직하게는 Tg +15℃ 이상이다. 한편, 연신 온도의 상한은 바람직하게는 170℃이다. 이와 같은 온도에서 연신함으로써, PVA계 수지의 결정화가 급속하게 진행되는 것을 억제하여, 당해 결정화에 의한 결함(예컨대, 연신에 의한 PVA계 수지층의 배향을 방해하는)을 억제할 수 있다.The stretching temperature of the air-assisted stretching is set to any appropriate value depending on, for example, the thermoplastic resin substrate used, the stretching method, and the like. The stretching temperature is preferably equal to or higher than the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate, more preferably equal to or higher than Tg +10°C, still more preferably equal to or higher than Tg +15°C. On the other hand, the upper limit of the stretching temperature is preferably 170°C. By stretching at such a temperature, rapid crystallization of the PVA-based resin can be suppressed, and defects caused by the crystallization (eg, obstruction of orientation of the PVA-based resin layer by stretching) can be suppressed.

상기 수중 연신은, 대표적으로는 적층체를 연신욕에 침지시켜서 행한다. 수중 연신에 의하면, 상기 열가소성 수지 기재나 PVA계 수지층의 유리전이온도(대표적으로는, 80℃ 정도)보다도 낮은 온도에서 연신할 수 있고, PVA계 수지층을 그의 결정화를 억제하면서 고배율로 연신할 수 있다. 그 결과, 우수한 광학 특성을 갖는 편광막을 얻을 수 있다.The underwater stretching is typically performed by immersing the laminate in a stretching bath. In water stretching, stretching can be performed at a temperature lower than the glass transition temperature (typically, about 80° C.) of the thermoplastic resin substrate or the PVA-based resin layer, and the PVA-based resin layer can be stretched at a high magnification while suppressing its crystallization. can As a result, a polarizing film having excellent optical properties can be obtained.

수중 연신의 방법은, 고정단 연신이어도 되고, 자유단 연신(예컨대, 주속이 상이한 롤 사이에 적층체를 통과시켜 일축 연신하는 방법)이어도 된다. 바람직하게는, 자유단 연신이 채용된다. 적층체의 연신은, 1단계로 행하여도 되고, 다단계로 행하여도 된다. 다단계로 행하는 경우, 후술하는 적층체의 연신 배율은, 각 단계의 연신 배율의 곱이다.The method of underwater stretching may be fixed-end stretching or free-end stretching (for example, a method of uniaxially stretching a laminate by passing it between rolls having different circumferential speeds). Preferably, free end stretching is employed. Stretching of the laminate may be performed in one step or may be performed in multiple steps. When performing in multiple steps, the draw ratio of the laminated body mentioned later is the product of the draw ratio of each step.

수중 연신은, 바람직하게는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜서 행한다(붕산 수중 연신). 연신욕으로서 붕산 수용액을 이용함으로써, PVA계 수지층에 연신 시에 가해지는 장력에 견디는 강성과, 물에 용해되지 않는 내수성을 부여할 수 있다. 구체적으로는, 붕산은 수용액 중에서 테트라하이드록시붕산 음이온을 생성하여 PVA계 수지와 수소 결합에 의해 가교할 수 있다. 그 결과, PVA계 수지층에 강성과 내수성을 부여하여, 양호하게 연신할 수 있고, 우수한 광학 특성을 갖는 편광막을 얻을 수 있다.Stretching in water is preferably performed by immersing the layered product in an aqueous boric acid solution (stretching in boric acid water). By using a boric acid aqueous solution as a stretching bath, rigidity that can withstand the tension applied during stretching and water resistance that does not dissolve in water can be imparted to the PVA-based resin layer. Specifically, boric acid can generate tetrahydroxyboric acid anion in an aqueous solution and cross-link it with PVA-based resin through hydrogen bonding. As a result, rigidity and water resistance are imparted to the PVA-based resin layer, and a polarizing film that can be stretched satisfactorily and has excellent optical properties can be obtained.

상기 붕산 수용액은, 바람직하게는 용매인 물에 붕산 및/또는 붕산염을 용해시킴으로써 얻어진다. 붕산 농도는, 물 100중량부에 대하여, 바람직하게는 1중량부∼10중량부이고, 보다 바람직하게는 2.5중량부∼6중량부이며, 더욱 바람직하게는 3중량부∼5중량부이다. 붕산 농도를 1중량부 이상으로 함으로써, PVA계 수지층의 용해를 효과적으로 억제할 수 있어, 보다 고특성의 편광막을 제조할 수 있다. 또한, 붕산 또는 붕산염 이외에, 붕사 등의 붕소 화합물, 글리옥살, 글루타르알데히드 등을 용매에 용해하여 얻어진 수용액도 이용할 수 있다.The aqueous solution of boric acid is preferably obtained by dissolving boric acid and/or a boric acid salt in water as a solvent. The concentration of boric acid is preferably 1 part by weight to 10 parts by weight, more preferably 2.5 parts by weight to 6 parts by weight, still more preferably 3 parts by weight to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of water. By setting the boric acid concentration to 1 part by weight or more, dissolution of the PVA-based resin layer can be effectively suppressed, and a polarizing film with higher characteristics can be manufactured. In addition to boric acid or borate salts, an aqueous solution obtained by dissolving a boron compound such as borax, glyoxal, glutaraldehyde, or the like in a solvent can also be used.

바람직하게는, 상기 연신욕(붕산 수용액)에 요오드화물을 배합한다. 요오드화물을 배합함으로써, PVA계 수지층에 흡착시킨 요오드의 용출을 억제할 수 있다. 요오드화물로서는, 예컨대, 요오드화칼륨, 요오드화리튬, 요오드화나트륨, 요오드화아연, 요오드화알루미늄, 요오드화납, 요오드화구리, 요오드화바륨, 요오드화칼슘, 요오드화주석, 요오드화티탄을 들 수 있다. 요오드화물의 농도는, 물 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.05중량부∼15중량부이고, 보다 바람직하게는 0.5중량부∼8중량부이다.Preferably, iodide is incorporated into the stretching bath (boric acid aqueous solution). By blending iodide, elution of iodine adsorbed to the PVA-based resin layer can be suppressed. Examples of the iodide include potassium iodide, lithium iodide, sodium iodide, zinc iodide, aluminum iodide, lead iodide, copper iodide, barium iodide, calcium iodide, tin iodide, and titanium iodide. The concentration of iodide is preferably from 0.05 parts by weight to 15 parts by weight, more preferably from 0.5 parts by weight to 8 parts by weight, based on 100 parts by weight of water.

연신 온도(연신욕의 액온)는, 바람직하게는 40℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 60℃ 이상이다. 이와 같은 온도이면, PVA계 수지층의 용해를 억제하면서 고배율로 연신할 수 있다. 구체적으로는, 상술한 바와 같이, 열가소성 수지 기재의 유리전이온도(Tg)는, PVA계 수지층의 형성과의 관계에서, 바람직하게는 60℃ 이상이다. 이 경우, 연신 온도가 40℃를 하회하면, 물에 의한 열가소성 수지 기재의 가소화를 고려하여도, 양호하게 연신할 수 없을 우려가 있다. 한편, 연신 온도는, 예컨대, 70℃ 이하이고, 바람직하게는 67℃ 이하이며, 보다 바람직하게는 65℃ 이하이다. 연신 온도가 고온이 될수록, PVA계 수지층의 용해성이 높아져, 우수한 광학 특성이 얻어지지 못할 우려가 있다. 또한, 이와 같은 연신 온도에 의하면, 후술하는 수세에서 PVA계 수지층이 팽윤·용해되는 것을 억제하여, 표면 성상이 우수한 편광막을 얻을 수 있다. 적층체의 연신욕에의 침지 시간은, 바람직하게는 15초∼5분이다.The stretching temperature (liquid temperature of the stretching bath) is preferably 40°C or higher, and more preferably 60°C or higher. At such a temperature, it can be extended at a high magnification while suppressing dissolution of the PVA-based resin layer. Specifically, as described above, the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate is preferably 60°C or higher in relation to formation of the PVA-based resin layer. In this case, if the stretching temperature is lower than 40°C, there is a risk that satisfactory stretching may not be possible even if plasticization of the thermoplastic resin substrate by water is taken into consideration. On the other hand, the stretching temperature is, for example, 70°C or lower, preferably 67°C or lower, and more preferably 65°C or lower. The higher the stretching temperature, the higher the solubility of the PVA-based resin layer, and there is a risk that excellent optical properties cannot be obtained. In addition, according to such a stretching temperature, it is possible to suppress swelling and dissolution of the PVA-based resin layer in water washing described later, and obtain a polarizing film having excellent surface properties. The immersion time of the laminate in the stretching bath is preferably 15 seconds to 5 minutes.

수중 연신에 의한 연신 배율은 바람직하게는 1.5배 이상이고, 보다 바람직하게는 3.0배 이상이다. 적층체의 총 연신 배율(공중 보조 연신과 수중 연신을 조합한 연신 배율)은, 적층체의 원래 길이에 대하여, 바람직하게는 5.0배 이상이고, 보다 바람직하게는 5.5배 이상이며, 더욱 바람직하게는 6.0배 이상이다. 이와 같은 높은 연신 배율을 달성함으로써, 광학 특성이 지극히 우수한 편광막을 제조할 수 있다. 이와 같은 높은 연신 배율은, 수중 연신 방식(붕산 수중 연신)을 채용함으로써 달성할 수 있다.The draw ratio by underwater stretching is preferably 1.5 times or more, and more preferably 3.0 times or more. The total stretching ratio of the laminate (stretch ratio combining air assisted stretching and underwater stretching) is preferably 5.0 times or more, more preferably 5.5 times or more, and still more preferably 5.5 times or more of the original length of the laminate. It is more than 6.0 times. By achieving such a high draw ratio, a polarizing film having extremely excellent optical properties can be manufactured. Such a high draw ratio can be achieved by adopting an underwater stretching method (boric acid underwater stretching).

B-1-3. 염색B-1-3. dyeing

상기 염색은, 대표적으로는 PVA계 수지층에 요오드를 흡착시킴으로써 행한다. 요오드의 흡착 방법으로서는, 예컨대, 요오드를 포함하는 염색액에 PVA계 수지층(적층체)을 침지시키는 방법, PVA계 수지층에 당해 염색액을 도공하는 방법, 당해 염색액을 PVA계 수지층에 분무하는 방법을 들 수 있다. 바람직하게는, 염색액(염색욕)에 적층체를 침지시키는 방법이다. 요오드가 양호하게 흡착될 수 있기 때문이다.The dyeing is typically performed by adsorbing iodine to the PVA-based resin layer. As a method for adsorbing iodine, for example, a method of immersing a PVA-based resin layer (laminate) in a dye containing iodine, a method of coating the dye solution on a PVA-based resin layer, and a method of applying the dye solution to a PVA-based resin layer. A method of spraying may be mentioned. Preferably, it is the method of immersing a layered product in a dyeing solution (dyeing bath). This is because iodine can be favorably adsorbed.

상기 염색액은 바람직하게는 요오드 수용액이다. 요오드의 배합량은, 물 100중량부에 대하여 바람직하게는 0.05중량부∼0.5중량부이다. 요오드의 물에 대한 용해도를 높이기 위하여, 요오드 수용액에 요오드화물을 배합하는 것이 바람직하다. 요오드화물의 구체예로서는 상술한 바와 같다. 바람직하게는 요오드화 칼륨이 이용된다. 요오드화물의 배합량은 물 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.1중량부∼10중량부이고, 보다 바람직하게는 0.3중량부∼5중량부이다. 염색액의 염색 시의 액온은, PVA계 수지의 용해를 억제하기 위하여, 바람직하게는 20℃∼50℃이다. 염색액에 PVA계 수지층을 침지시키는 경우, 침지 시간은, PVA계 수지층의 투과율을 확보하기 위하여, 바람직하게는 5초∼5분이며, 보다 바람직하게는 30초∼90초이다.The staining solution is preferably an iodine aqueous solution. The blending amount of iodine is preferably 0.05 to 0.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of water. In order to increase the solubility of iodine in water, it is preferable to blend iodide in an aqueous solution of iodine. Specific examples of iodide are as described above. Preferably potassium iodide is used. The blending amount of iodide is preferably from 0.1 part by weight to 10 parts by weight, more preferably from 0.3 part by weight to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of water. The liquid temperature at the time of dyeing of the dyeing solution is preferably 20°C to 50°C in order to suppress dissolution of the PVA-based resin. In the case of immersing the PVA-based resin layer in the dye solution, the immersion time is preferably 5 seconds to 5 minutes, more preferably 30 seconds to 90 seconds, in order to ensure the transmittance of the PVA-based resin layer.

염색 조건(농도, 액온, 침지 시간)은, 예컨대, 최종적으로 얻어지는 편광막의 단체 투과율이 42.0% 이상이고, 또한, 편광도가 99.98% 이상이 되도록 설정할 수 있다. 이와 같은 염색 조건으로서는, 예컨대, 염색액인 요오드 수용액에서, 요오드 및 요오드화칼륨의 함유량의 비를 1:5∼1:20으로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1:5∼1:10이다.Dyeing conditions (concentration, liquid temperature, immersion time) can be set such that, for example, the finally obtained polarizing film has a single transmittance of 42.0% or more and a polarization degree of 99.98% or more. As such a dyeing condition, for example, in an iodine aqueous solution as a dyeing solution, the ratio of the contents of iodine and potassium iodide is preferably 1:5 to 1:20, more preferably 1:5 to 1:10.

붕산을 함유하는 처리욕에 적층체를 침지시키는 처리(예컨대, 후술하는 불용화 처리) 후에 연속하여 염색을 행하는 경우, 붕산이 염색욕에 혼입되어 염색욕의 붕산 농도가 변화하고, 염색성이 불안정해지는 경우가 있다. 이와 같은 염색성의 불안정화를 억제하기 위하여, 염색욕의 붕산 농도는, 물 100중량부에 대하여 바람직하게는 4 중량부 이하, 보다 바람직하게는 2중량부 이하가 되도록 조정된다. 한편으로, 염색욕의 붕산 농도는 물 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.1중량부 이상이고, 보다 바람직하게는 0.2중량부 이상이며, 더욱 바람직하게는 0.5중량부 이상이다. 하나의 실시형태에서는, 미리 붕산을 포함하는 염색욕을 이용하여 염색한다. 이와 같은 형태에 의하면, 붕산이 염색욕에 혼입된 경우의 붕산 농도의 변화의 비율을 저감할 수 있다. 미리 염색욕에 배합하는 붕산의 배합량(상기 처리욕에서 유래되지 않는 붕산의 함유량)은, 물 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.1중량부∼2중량부이고, 보다 바람직하게는 0.5중량부∼1.5중량부이다.When dyeing is performed continuously after a treatment in which the laminate is immersed in a treatment bath containing boric acid (eg, insolubilization treatment described later), boric acid is mixed in the dye bath, the concentration of boric acid in the dye bath changes, and dyeability becomes unstable There are cases. In order to suppress such destabilization of dyeability, the concentration of boric acid in the dyeing bath is preferably adjusted to 4 parts by weight or less, more preferably 2 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of water. On the other hand, the concentration of boric acid in the dyeing bath is preferably 0.1 part by weight or more, more preferably 0.2 part by weight or more, and even more preferably 0.5 part by weight or more with respect to 100 parts by weight of water. In one embodiment, dyeing is performed using a dyeing bath containing boric acid in advance. According to such an aspect, the rate of change in boric acid concentration when boric acid is mixed in a dyeing bath can be reduced. The amount of boric acid blended in advance in the dyeing bath (content of boric acid not derived from the treatment bath) is preferably 0.1 part by weight to 2 parts by weight, more preferably 0.5 part by weight to 100 parts by weight of water. 1.5 parts by weight.

B-1-4. 그외의 처리B-1-4. other processing

필요에 따라, 상기 공중 보조 연신 후, 수중 연신 및 염색 전에 불용화 처리를 행한다. 불용화 처리는, 대표적으로는, 붕산 수용액에 PVA계 수지층을 침지시킴으로써 행한다. 불용화 처리를 실시함으로써, PVA계 수지층에 내수성을 부여하고, 물에 침지하였을 때의 PVA의 배향 저하를 방지할 수 있다. 불용화 처리에서의 붕산 수용액의 농도는, 물 100중량부에 대하여 바람직하게는 1중량부∼4중량부이다. 불용화 처리의 온도(붕산 수용액의 액온)는, 바람직하게는 20℃∼50℃이다.If necessary, insolubilization treatment is performed after the air-assisted stretching and before underwater stretching and dyeing. The insolubilization treatment is typically performed by immersing the PVA-based resin layer in boric acid aqueous solution. By performing the insolubilization treatment, water resistance can be imparted to the PVA-based resin layer, and a decrease in the orientation of PVA when immersed in water can be prevented. The concentration of the boric acid aqueous solution in the insolubilization treatment is preferably 1 part by weight to 4 parts by weight with respect to 100 parts by weight of water. The temperature of the insolubilization treatment (liquid temperature of boric acid aqueous solution) is preferably 20°C to 50°C.

필요에 따라 염색 후 수중 연신 전에 가교 처리를 행한다. 가교 처리는, 대표적으로는, 붕산 수용액에 PVA계 수지층을 침지시킴으로써 행한다. 가교 처리를 실시함으로써, PVA계 수지층에 내수성을 부여하고, 이후의 수중 연신에서 PVA의 배향 저하를 방지할 수 있다. 가교 처리에서의 붕산 수용액의 농도는, 물 100중량부에 대하여 바람직하게는 1중량부∼5중량부이다. 붕산 수용액에 요오드화물을 배합하는 것이 바람직하다. 요오드화물을 배합함으로써, PVA계 수지층에 흡착시킨 요오드의 용출을 억제할 수 있다. 요오드화물의 구체예는 상술한 바와 같다. 요오드화물의 배합량은, 물 100중량부에 대하여 바람직하게는 1중량부∼5중량부이다. 가교 처리의 온도(붕산 수용액의 액온)는, 바람직하게는 20℃∼50℃이다.If necessary, a crosslinking treatment is performed after dyeing and before stretching in water. The crosslinking treatment is typically performed by immersing the PVA-based resin layer in boric acid aqueous solution. By carrying out the crosslinking treatment, water resistance can be imparted to the PVA-based resin layer, and a decrease in orientation of the PVA can be prevented in subsequent underwater stretching. The concentration of the boric acid aqueous solution in the crosslinking treatment is preferably 1 part by weight to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of water. It is preferable to blend iodide in an aqueous solution of boric acid. By blending iodide, elution of iodine adsorbed to the PVA-based resin layer can be suppressed. Specific examples of iodide are as described above. The blending amount of iodide is preferably 1 part by weight to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of water. The temperature of the crosslinking treatment (liquid temperature of the boric acid aqueous solution) is preferably 20°C to 50°C.

바람직하게는, 수중 연신 후 후술하는 건조 전에 세정을 행한다. 세정은, 대표적으로는 요오드화칼륨 수용액에 PVA계 수지층을 침지시킴으로써 행한다.Preferably, washing is performed after stretching in water and before drying described later. Washing is typically performed by immersing the PVA-based resin layer in an aqueous solution of potassium iodide.

B-1-5. 건조B-1-5. dry

상기 건조는, 상기 소정의 수분율을 갖는 수지막이 얻어질 수 있는 한, 임의의 적절한 방식 및 조건에서 행할 수 있다. 구체적으로는, 존 전체를 가열하는 것(존 가열 방식)에 의해 행하여도 되고, 반송 롤을 가열하는 것(가열 롤 방식)에 의해 행하여도 된다. 바람직하게는 가열 롤 방식을 채용하고, 보다 바람직하게는 그 양쪽을 채용한다. 가열 롤을 이용함으로써, 효율적으로 적층체의 가열 컬을 억제하여, 품질이 우수한 편광막을 제조할 수 있다. 구체적으로는, 가열 롤에 적층체를 따르게 한 상태에서 건조함으로써, 상기 열가소성 수지 기재의 결정화를 효율적으로 촉진시켜 결정화도를 증가시킬 수 있고, 비교적 낮은 건조 온도이어도, 열가소성 수지 기재의 결정화도를 양호하게 증가시킬 수 있다. 그 결과, 열가소성 수지 기재는, 그 강성이 증가하고, 건조에 의한 PVA계 수지층의 수축에 견딜 수 있는 상태가 되며, 컬이 억제된다. 또한, 가열 롤을 이용함으로써, 적층체를 평탄한 상태로 유지하면서 건조할 수 있으므로, 컬뿐만 아니라 주름의 발생도 억제할 수 있다.The drying may be performed in any suitable method and condition as long as a resin film having the predetermined moisture content can be obtained. Specifically, it may be performed by heating the entire zone (zone heating method) or by heating the conveying roll (heating roll method). Preferably, a heating roll system is employed, and more preferably, both are employed. By using a heating roll, heating curling of the layered product can be efficiently suppressed, and a polarizing film having excellent quality can be manufactured. Specifically, by drying in a state where the laminate is attached to a heating roll, the crystallization of the thermoplastic resin substrate can be efficiently promoted to increase the crystallinity, and even at a relatively low drying temperature, the crystallinity of the thermoplastic resin substrate can be increased satisfactorily. can make it As a result, the rigidity of the thermoplastic resin substrate is increased, and it is in a state capable of withstanding shrinkage of the PVA-based resin layer due to drying, and curl is suppressed. In addition, since the laminate can be dried while maintaining a flat state by using a heating roll, not only curling but also occurrence of wrinkles can be suppressed.

건조에 의해 적층체를 폭 방향으로 수축시켜, 광학 특성을 향상시킬 수 있다. PVA 및 PVA/요오드 착체의 배향성을 효과적으로 높일 수 있기 때문이다. 건조에 의한 적층체의 폭 방향의 수축률은, 바람직하게는 1%∼10%이고, 보다 바람직하게는 2%∼8%이며, 더욱 바람직하게는 4%∼6%이다. 가열 롤을 이용함으로써, 적층체를 반송하면서 연속적으로 폭 방향으로 수축시킬 수 있어 높은 생산성을 실현할 수 있다.By drying, the laminate can be contracted in the width direction to improve optical properties. This is because the orientation properties of PVA and PVA/iodine complexes can be effectively increased. The shrinkage rate of the laminate in the width direction by drying is preferably 1% to 10%, more preferably 2% to 8%, still more preferably 4% to 6%. By using a heating roll, the laminate can be continuously contracted in the width direction while conveying, and high productivity can be realized.

도 2는, 가열 롤을 이용한 건조의 일례를 나타내는 개략도이다. 도시예에서는, 소정의 온도로 가열된 반송 롤(R1∼R6)과 가이드 롤(G1∼G4)에 의해 적층체(200)를 반송하면서 건조시킨다. 도시예에서는, PVA계 수지층의 면과 열가소성 수지 기재의 면을 교대로 연속 가열하도록 반송 롤(R1∼R6)이 배치되어 있지만, 예컨대, 적층체(200)의 한쪽의 면(예컨대, 열가소성 수지 기재면)만을 연속적으로 가열하도록 반송 롤(R1∼R6)을 배치하여도 된다.Fig. 2 is a schematic view showing an example of drying using a heating roll. In the illustrated example, the laminate 200 is dried while being conveyed by conveyance rolls R1 to R6 and guide rolls G1 to G4 heated to a predetermined temperature. In the illustrated example, conveyance rolls R1 to R6 are arranged so that the surface of the PVA-based resin layer and the surface of the thermoplastic resin substrate are continuously heated alternately. The conveying rolls R1 to R6 may be disposed so as to continuously heat only the substrate surface).

반송 롤의 가열 온도(가열 롤의 온도), 가열 롤의 수, 가열 롤과의 접촉 시간 등을 조정함으로써, 건조 조건을 제어할 수 있다. 가열 롤의 온도는, 바람직하게는 60℃∼120℃이고, 보다 바람직하게는 65℃∼100℃이며, 더욱 바람직하게는 70℃∼80℃이다. 이와 같은 온도에 의하면, 열가소성 수지의 결정화도를 증가시켜서 컬을 억제할 수 있음과 함께, 적층체에 지극히 우수한 내구성을 부여할 수 있다. 또한, 상기 수지막의 수분율을 양호하게 달성할 수 있다. 또한, 가열 롤의 온도는 접촉식 온도계에 의해 측정할 수 있다. 도시예에서는, 6개의 반송 롤이 마련되어 있지만, 반송 롤이 복수 개이면 특별히 제한은 없다. 반송 롤은 통상적으로 2개∼40개, 바람직하게는 4개∼30개 마련된다. 적층체와 가열 롤의 접촉 시간(총 접촉 시간)은, 바람직하게는 1초∼300초이고, 보다 바람직하게는 1∼20초이며, 더욱 바람직하게는 1∼10초이다.Drying conditions can be controlled by adjusting the heating temperature of the conveyance rolls (temperature of the heating rolls), the number of heating rolls, and the contact time with the heating rolls. The temperature of the heating roll is preferably 60°C to 120°C, more preferably 65°C to 100°C, still more preferably 70°C to 80°C. According to such a temperature, while being able to suppress curl by increasing the crystallinity of a thermoplastic resin, extremely excellent durability can be provided to a laminated body. In addition, the moisture content of the resin film can be achieved satisfactorily. In addition, the temperature of a heating roll can be measured with a contact thermometer. In the illustrated example, although six conveyance rolls are provided, there is no particular restriction as long as there are a plurality of conveyance rolls. The conveyance rolls are usually provided in 2 to 40 pieces, preferably 4 to 30 pieces. The contact time (total contact time) between the laminate and the heating roll is preferably 1 second to 300 seconds, more preferably 1 to 20 seconds, still more preferably 1 to 10 seconds.

가열 롤은, 가열로(예컨대, 오븐) 내에 마련하여도 되고, 통상의 제조 라인(실온 환경하)에 마련하여도 된다. 바람직하게는, 송풍 수단을 구비하는 가열로 내에 마련된다. 가열 롤에 의한 건조와 열풍 건조를 병용함으로써, 가열 롤 사이에서의 급준한 온도 변화를 억제할 수 있고, 폭 방향의 수축을 용이하게 제어할 수 있다. 열풍 건조의 온도는 바람직하게는 30℃∼100℃이다. 또한, 열풍 건조 시간은 바람직하게는 1초∼300초이다. 열풍의 풍속은 바람직하게는 10m/s∼30m/s 정도이다. 또한, 당해 풍속은 가열로 내에서의 풍속이고, 미니베인형 디지털 풍속계에 의해 측정할 수 있다.The heating roll may be provided in a heating furnace (for example, an oven) or may be provided in a normal production line (in a room temperature environment). Preferably, it is provided in a heating furnace equipped with a blowing means. By using both heating roll drying and hot air drying, rapid temperature change between the heating rolls can be suppressed, and shrinkage in the width direction can be easily controlled. The temperature of hot air drying is preferably 30°C to 100°C. In addition, the hot air drying time is preferably 1 second to 300 seconds. The wind speed of the hot air is preferably about 10 m/s to 30 m/s. In addition, the said wind speed is the wind speed in a heating furnace, and can be measured with a mini-vane type digital anemometer.

B-2. 수세B-2. Suse

상기 수세는, 예컨대, 상기 수지막의 표면에 물을 접촉시킴으로써 행한다. 예컨대, 수지막을 수욕에 침지시킴으로써 수세를 행한다. 수지막을 수욕에 침지시킬 때, 수지막의 이면은 임의의 적절한 보호 기재로 보호되어 있는 것이 바람직하다. 하나의 실시형태에서는, 보호 기재로서 상기 수지 기재를 이용한다. 구체적으로는, 수지막으로부터 수지 기재를 박리시키지 않고(상기 적층체의 상태로), 수지막을 수욕에 침지시킨다. 다른 실시형태에서는, 보호 기재로서 후술하는 보호층을 이용한다. 예컨대, 상기 적층체의 수지막 표면에 보호층을 적층한 후, 수지막으로부터 수지 기재를 박리하여 보호층과 수지막의 적층물을 제작하고, 이 적층물을 수욕에 침지시킨다. 수욕에 침지시킬 때, 수지막은 장척상이어도 되고, 매엽상(枚葉狀)이어도 된다.The washing with water is performed, for example, by bringing water into contact with the surface of the resin film. For example, water washing is performed by immersing the resin film in a water bath. When the resin film is immersed in a water bath, the back surface of the resin film is preferably protected with any suitable protective substrate. In one embodiment, the above resin substrate is used as the protective substrate. Specifically, the resin film is immersed in a water bath without peeling the resin substrate from the resin film (in the state of the laminate). In another embodiment, a protective layer described later is used as the protective substrate. For example, after laminating a protective layer on the surface of the resin film of the laminate, the resin substrate is separated from the resin film to produce a laminate of the protective layer and the resin film, and the laminate is immersed in a water bath. When immersed in a water bath, the resin film may be long or sheet-shaped.

상기 수욕(접촉시키는 물)의 온도는, 예컨대 20℃ 이상이고, 바람직하게는 25℃ 이상이며, 보다 바람직하게는 30℃ 이상이고, 더욱 바람직하게는 35℃ 이상이며, 특히 바람직하게는 40℃ 이상이다. 이와 같은 온도에 의하면, 예컨대, 단시간에 상기 반사율을 만족하는 편광막을 제작할 수 있다. 한편, 수욕(접촉시키는 물)의 온도는, 바람직하게는 60℃ 이하이고, 보다 바람직하게는 50℃ 이하이다. 이와 같은 온도에 의하면, 예컨대, 얻어지는 편광막은 표면 성상이 우수하고, 우수한 광학 특성을 유지할 수 있다.The temperature of the water bath (water to be contacted) is, for example, 20°C or higher, preferably 25°C or higher, more preferably 30°C or higher, still more preferably 35°C or higher, and particularly preferably 40°C or higher. am. At such a temperature, for example, a polarizing film satisfying the above reflectance can be produced in a short time. On the other hand, the temperature of the water bath (water to be contacted) is preferably 60°C or lower, more preferably 50°C or lower. At such a temperature, for example, the obtained polarizing film has excellent surface properties and can maintain excellent optical properties.

수욕에의 침지 시간(접촉 시간)은, 예컨대, 상기 온도, 수지막의 두께 등에 따라 설정된다. 수욕에의 침지 시간은, 바람직하게는 15초∼5분이고, 보다 바람직하게는 30초∼3분이다.The immersion time (contact time) in the water bath is set according to the temperature, the thickness of the resin film, and the like, for example. The immersion time in the water bath is preferably 15 seconds to 5 minutes, more preferably 30 seconds to 3 minutes.

수욕(접촉시키는 물)은, 붕산 등의 첨가제를 포함하고 있어도 된다.The water bath (water to be brought into contact with) may contain additives such as boric acid.

상기 수세 후, 편광막은 건조 처리에 제공될 수 있다. 건조 온도는 예컨대 30℃∼60℃이다. 건조 시간은 예컨대 15초∼3분이다.After washing with water, the polarizing film may be subjected to a drying treatment. The drying temperature is, for example, 30°C to 60°C. The drying time is, for example, 15 seconds to 3 minutes.

C. 편광판C. Polarizer

본 발명의 하나의 실시형태에 따른 편광판은, 상기 편광막과, 이 편광막의 적어도 편측에 배치되는 보호층 또는 위상차층을 포함한다.A polarizing plate according to one embodiment of the present invention includes the polarizing film and a protective layer or a retardation layer disposed on at least one side of the polarizing film.

도 3은, 본 발명의 제1 실시형태에 따른 편광판의 개략의 구성을 나타내는 모식적인 단면도이다. 편광판(위상차층 부착 편광판)(100)은, 편광막(10), 보호층(20), 위상차층(30) 및 점착제층(40)을 이 순서대로 포함한다. 편광판(100)에서, 편광막(10)의 이면(10b) 측에만 보호층(20)이 배치되고, 표면(10a) 측(예컨대, 시인 측)에는 보호층은 배치되어 있지 않지만, 실용적으로는, 편광막(10)의 표면(10a)은 임의의 적절한 보호재(도시하지 않음)로 보호된다. 예컨대, 편광판(100)의 편광막(10)에 대하여 가공이 실시된 후에, 편광막(10)에 보호재가 적층된다. 위상차층(30)은 단일층이어도 되고, 2층 이상이 적층된 적층 구조를 포함하고 있어도 된다.3 is a schematic cross-sectional view showing a schematic configuration of a polarizing plate according to a first embodiment of the present invention. A polarizing plate (polarizing plate with a retardation layer) 100 includes a polarizing film 10, a protective layer 20, a retardation layer 30, and an adhesive layer 40 in this order. In the polarizing plate 100, the protective layer 20 is disposed only on the back surface 10b side of the polarizing film 10, and the protective layer is not disposed on the surface 10a side (e.g., the viewer side), but practically , the surface 10a of the polarizing film 10 is protected with any suitable protective material (not shown). For example, after processing is performed on the polarizing film 10 of the polarizing plate 100, a protective material is laminated on the polarizing film 10. The retardation layer 30 may be a single layer or may include a laminated structure in which two or more layers are laminated.

도 4는, 본 발명의 제2 실시형태에 따른 편광판의 개략 구성을 나타내는 모식적인 단면도이다. 편광판(위상차층 부착 편광판)(110)은, 편광막(10)의 이면(10b) 측에 배치된 보호층(20), 편광막(10), 편광막(10)의 표면(10a) 측에 배치된 위상차층(30) 및 점착제층(40)을 시인 측으로부터 이 순서대로 포함한다. 본 실시형태에서는, 위상차층(30)이 편광막(10)의 보호층으로서 기능할 수 있고, 위상차층(30)이 편광막(10)의 표면(10a) 측에 배치되는 점이 상기 제1 실시형태와 상이하다.4 is a schematic cross-sectional view showing a schematic configuration of a polarizing plate according to a second embodiment of the present invention. The polarizing plate (polarizing plate with a retardation layer) 110 includes the protective layer 20 disposed on the back surface 10b side of the polarizing film 10, the polarizing film 10, and the surface 10a side of the polarizing film 10. The disposed retardation layer 30 and the pressure-sensitive adhesive layer 40 are included in this order from the viewing side. In the present embodiment, the retardation layer 30 can function as a protective layer of the polarizing film 10, and the retardation layer 30 is disposed on the surface 10a side of the polarizing film 10 according to the first embodiment. different from the form

도시하지 않지만, 편광판은 그 외의 기능층을 더 포함하고 있어도 된다. 편광판이 포함할 수 있는 기능층의 종류, 특성, 수, 조합, 배치 등은 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다. 예컨대, 편광판은 도전층 또는 도전층 부착 등방성 기재를 더 포함하고 있어도 된다. 도전층 또는 도전층 부착 등방성 기재를 포함하는 편광판(위상차층 부착 편광판)은, 예컨대, 화상 표시 패널 내부에 터치 센서가 내장된, 이른바 이너 터치 패널형 입력 표시 장치에 적용된다. 다른 예로서는, 편광판은 그 외의 위상차층을 더 포함하고 있어도 된다. 그 외의 위상차층의 광학 특성(예컨대, 굴절률 특성, 면내 위상차, Nz 계수, 광탄성 계수), 두께, 배치 등은 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다. 구체예로서, 편광막(10)의 시인 측에는, 편광 선글라스를 통하여 시인하는 경우의 시인성을 개선하는 그 외의 위상차층(대표적으로는, (타)원 편광 기능을 부여하는 층, 초고위상차를 부여하는 층)이 마련되어 있어도 된다. 이와 같은 층을 포함함으로써, 편광 선글라스 등의 편광 렌즈를 통하여 표시 화면을 시인한 경우에도, 우수한 시인성을 실현할 수 있다. 따라서, 얻어지는 편광판(위상차층 부착 편광판)은 옥외에서 이용될 수 있는 화상 표시 장치에도 적합하게 적용될 수 있다.Although not shown, the polarizing plate may further contain other functional layers. The type, characteristics, number, combination, arrangement, etc. of functional layers that can be included in the polarizing plate may be appropriately set according to the purpose. For example, the polarizing plate may further contain a conductive layer or an isotropic substrate with a conductive layer. A polarizing plate (polarizing plate with a retardation layer) containing a conductive layer or an isotropic base material with a conductive layer is applied, for example, to a so-called inner touch panel type input display device in which a touch sensor is incorporated inside an image display panel. As another example, the polarizing plate may further contain other retardation layers. Other optical characteristics (eg, refractive index characteristics, in-plane retardation, Nz coefficient, photoelastic coefficient), thickness, arrangement, etc. of the retardation layer may be appropriately set depending on the purpose. As a specific example, on the viewing side of the polarizing film 10, another retardation layer (typically, a layer imparting a (other) circular polarization function) that improves visibility when viewed through polarized sunglasses, a layer imparting an ultra-high phase difference layer) may be provided. By including such a layer, excellent visibility can be realized even when the display screen is visually recognized through polarized lenses such as polarized sunglasses. Therefore, the obtained polarizing plate (polarizing plate with retardation layer) can be suitably applied also to an image display device that can be used outdoors.

편광판을 구성하는 각 부재는 임의의 적절한 접착층(도시하지 않음)을 개재하여 적층될 수 있다. 접착층의 구체예로서는, 접착제층, 점착제층을 들 수 있다. 구체적으로는, 위상차층(30)은 접착제층을 개재하여(바람직하게는 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하여) 편광막(10) 또는 보호층(20)에 첩합되어도 되고, 점착제층을 개재하여 편광막(10) 또는 보호층(20)에 첩합되어도 된다. 위상차층(30)이 2층 이상의 적층 구조를 포함하는 경우, 각각의 위상차층은, 예컨대, 접착제층을 개재하여(바람직하게는, 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하여) 첩합되어 있다.Each member constituting the polarizing plate may be laminated with an arbitrary appropriate adhesive layer (not shown) interposed therebetween. As a specific example of an adhesive layer, an adhesive bond layer and an adhesive layer are mentioned. Specifically, the retardation layer 30 may be bonded to the polarizing film 10 or the protective layer 20 via an adhesive layer (preferably using an active energy ray curable adhesive), or via an adhesive layer to It may be bonded to the film 10 or the protective layer 20 . When the retardation layer 30 includes a laminated structure of two or more layers, each retardation layer is bonded through an adhesive layer (preferably, using an active energy ray curable adhesive), for example.

도시하지 않지만, 점착제층(40)의 표면에는, 실용적으로는, 박리 필름(세퍼레이터)이 첩합된다. 박리 필름은 편광판이 사용에 제공될 때까지 가착될 수 있다. 박리 필름을 이용함으로써, 예컨대, 점착제층을 보호함과 함께, 편광판의 롤 형성이 가능해진다.Although not shown, a peeling film (separator) is bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 40 practically. The peeling film may be temporarily adhered until the polarizing plate is put into use. By using a peeling film, roll formation of a polarizing plate becomes possible while protecting an adhesive layer, for example.

편광판은, 장척상이어도 되고, 매엽상이어도 된다. 본 명세서에서, '장척상'이란, 폭에 대하여 길이가 충분히 긴 세장(細長) 형상을 말하고, 예컨대, 폭에 대하여 길이가 10배 이상, 바람직하게는 20배 이상의 세장 형상을 말한다. 장척상의 편광판은 롤 형상으로 권회 가능하다.The polarizing plate may be long or sheeted. In this specification, "elongated shape" refers to an elongated shape in which the length is sufficiently long relative to the width, for example, an elongated shape in which the length is 10 times or more, preferably 20 times or more, with respect to the width. A polarizing plate of the shape of a long picture can be wound in roll shape.

C-1. 보호층C-1. protective layer

보호층(20)은, 편광막의 보호층으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 형성될 수 있다. 당해 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로서는, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지나, 폴리에스테르계, 폴리비닐알코올계, 폴리카보네이트계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리에테르설폰계, 폴리설폰계, 폴리스티렌계, 폴리노보넨계 등의 시클로올레핀계, 폴리올레핀계, (메트)아크릴계, 아세테이트계 등의 투명 수지를 들 수 있다.The protective layer 20 may be formed of any suitable film that can be used as a protective layer of a polarizing film. Specific examples of the material serving as the main component of the film include cellulose-based resins such as triacetyl cellulose (TAC), polyester-based, polyvinyl alcohol-based, polycarbonate-based, polyamide-based, polyimide-based, polyethersulfone-based, Transparent resins, such as cycloolefin types, such as a polysulfone type, polystyrene type, and polynorbornene type, a polyolefin type, (meth)acryl type, and an acetate type, are mentioned.

상기 편광판은, 대표적으로는 화상 표시 장치의 시인 측에 배치된다. 따라서, 보호층(20)에는 필요에 따라(예컨대, 도 4에 나타내는 형태에서는), 하드 코트(HC) 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리, 안티글레어 처리 등의 표면 처리가 실시되어 있어도 된다.The said polarizing plate is typically arrange|positioned on the viewing side of an image display apparatus. Therefore, surface treatment such as hard coat (HC) treatment, antireflection treatment, anti-sticking treatment, antiglare treatment, etc. may be applied to the protective layer 20 as needed (for example, in the form shown in FIG. 4). .

보호층(20)의 두께는, 바람직하게는 5㎛∼80㎛, 보다 바람직하게는 10㎛∼40㎛, 더욱 바람직하게는 10㎛∼30㎛이다. 또한, 상기 표면 처리가 실시되어 있는 경우, 보호층(20)의 두께는, 표면 처리층의 두께를 포함시킨 두께이다.The thickness of the protective layer 20 is preferably 5 μm to 80 μm, more preferably 10 μm to 40 μm, still more preferably 10 μm to 30 μm. In addition, when the said surface treatment is performed, the thickness of the protective layer 20 is the thickness including the thickness of the surface treatment layer.

편광막(10)과 위상차층(30)의 사이에 배치되는 보호층은, 하나의 실시형태에서는 광학적으로 등방성인 것이 바람직하다. 본 명세서에서 '광학적으로 등방성이다'란, 면내 위상차 Re(550)가 0nm∼10nm이고, 두께 방향의 위상차 Rth(550)가 -10nm∼+10nm인 것을 말한다.The protective layer disposed between the polarizing film 10 and the retardation layer 30 is preferably optically isotropic in one embodiment. In this specification, 'optically isotropic' means that the in-plane retardation Re (550) is 0 nm to 10 nm and the thickness direction retardation Rth (550) is -10 nm to +10 nm.

하나의 실시형태에서는, 상기 수지 기재를 편광막의 보호층으로서 이용할 수 있다. 예컨대, 도 3에 나타내는 형태에서는, 수지 기재를 그대로 보호층으로서 이용함으로써, 제조 공정을 적게 할 수 있다.In one embodiment, the resin substrate may be used as a protective layer of a polarizing film. For example, in the form shown in Fig. 3, the manufacturing process can be reduced by using the resin substrate as it is as a protective layer.

C-2. 위상차층C-2. phase contrast layer

위상차층(30)으로서는, 임의의 적절한 구성이 채용될 수 있다. 하나의 실시형태에서는, 위상차층(30)으로서 액정 화합물의 배향 고화층(액정 배향 고화층)이 이용된다. 액정 화합물을 이용함으로써, 얻어지는 위상차층의 nx와 ny의 차를 비액정 재료에 비하여 현격히 크게 할 수 있으므로, 소망하는 면내 위상차를 얻기 위한 위상차층의 두께를 현격히 작게 할 수 있다. 본 명세서에서 '배향 고화층'이란, 액정 화합물이 층 내에서 소정의 방향으로 배향하고, 그의 배향 상태가 고정되어 있는 층을 말한다. 또한, '배향 고화층'은, 후술하는 바와 같이 액정 모노머를 경화시켜서 얻어지는 배향 경화층을 포함하는 개념이다. 위상차층에서는, 대표적으로는, 막대 형상의 액정 화합물이 위상차층의 지상축 방향으로 늘어선 상태로 배향되어 있다(호모지니어스 배향) .As the retardation layer 30, any appropriate structure can be employed. In one embodiment, as the retardation layer 30, an orientation fixation layer of liquid crystal compounds (liquid crystal orientation fixation layer) is used. By using a liquid crystal compound, the difference between nx and ny of the retardation layer obtained can be significantly increased compared to non-liquid crystal materials, so that the thickness of the retardation layer for obtaining a desired in-plane retardation can be significantly reduced. In this specification, the 'alignment fixed layer' refers to a layer in which liquid crystal compounds are aligned in a predetermined direction within the layer and the alignment state is fixed. In addition, the 'alignment hardened layer' is a concept including an alignment hardened layer obtained by curing a liquid crystal monomer as will be described later. In the retardation layer, rod-shaped liquid crystal compounds are typically aligned in a state aligned in the direction of the slow axis of the retardation layer (homogeneous orientation).

상기 위상차층의 두께는, 그 구성(단일층인지 적층 구조를 포함하는지)에 의하지만, 바람직하게는 8㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 5㎛ 이하이다. 한편, 위상차층의 두께는, 예컨대 1㎛ 이상이다. 또한, 위상차층이 적층 구조인 경우, '위상차층의 두께'는, 각 위상차층의 두께의 합계를 의미한다. 구체적으로는, '위상차층의 두께'에는 접착층의 두께는 포함되지 않는다.The thickness of the retardation layer depends on its structure (whether it is a single layer or a laminated structure), but is preferably 8 μm or less, and more preferably 5 μm or less. On the other hand, the thickness of the retardation layer is, for example, 1 μm or more. In addition, when the retardation layer has a laminated structure, 'the thickness of the retardation layer' means the sum of the thicknesses of each retardation layer. Specifically, the thickness of the adhesive layer is not included in the 'thickness of the retardation layer'.

상기 액정 배향 고화층은, 소정의 기재의 표면에 배향 처리를 실시하고, 당해 표면에 액정 화합물을 포함하는 도공액을 도공하여 당해 액정 화합물을 상기 배향 처리에 대응하는 방향으로 배향시키고, 당해 배향 상태를 고정함으로써 형성될 수 있다. 배향 처리로서는, 임의의 적절한 배향 처리가 채용될 수 있다. 구체적으로는, 기계적인 배향 처리, 물리적인 배향 처리, 화학적인 배향 처리를 들 수 있다. 기계적인 배향 처리의 구체예로서는, 러빙 처리, 연신 처리를 들 수 있다. 물리적 배향 처리의 구체예로서는, 자장(磁場) 배향 처리, 전장(電場) 배향 처리를 들 수 있다. 화학적인 배향 처리의 구체예로서는, 사방 증착법, 광 배향 처리를 들 수 있다. 각종 배향 처리의 처리 조건은 목적에 따라 임의의 적절한 조건이 채용될 수 있다.The liquid-crystal alignment hardening layer performs orientation treatment on the surface of a predetermined base material, applies a coating solution containing a liquid crystal compound to the surface, aligns the liquid crystal compound in a direction corresponding to the orientation treatment, and is aligned in the orientation state. It can be formed by fixing. As the orientation treatment, any suitable orientation treatment can be employed. Specifically, a mechanical orientation treatment, a physical orientation treatment, and a chemical orientation treatment are mentioned. Specific examples of the mechanical orientation treatment include rubbing treatment and stretching treatment. Specific examples of the physical orientation treatment include magnetic field orientation treatment and electric field orientation treatment. Specific examples of the chemical orientation treatment include an oblique deposition method and an optical orientation treatment. Arbitrary appropriate conditions may be employed for the treatment conditions of various alignment treatments depending on the purpose.

액정 화합물의 배향은, 액정 화합물의 종류에 따라 액정상을 나타내는 온도에서 처리함으로써 행하여진다. 이와 같은 온도 처리를 행함으로써, 액정 화합물이 액정 상태를 취하고, 기재 표면의 배향 처리 방향에 따라 당해 액정 화합물이 배향된다.The alignment of the liquid crystal compound is performed by treating at a temperature at which a liquid crystal phase is exhibited depending on the type of the liquid crystal compound. By performing such a temperature treatment, the liquid crystal compound assumes a liquid crystal state, and the liquid crystal compound is oriented along the orientation treatment direction of the surface of the substrate.

배향 상태의 고정은, 하나의 실시형태에서는, 상기와 같이 배향한 액정 화합물을 냉각함으로써 행하여진다. 액정 화합물이 중합성 모노머 또는 가교성 모노머인 경우에는, 배향 상태의 고정은, 상기와 같이 배향한 액정 화합물에 중합 처리 또는 가교 처리를 실시함으로써 행하여진다.In one embodiment, the alignment state is fixed by cooling the liquid crystal compound aligned as described above. When the liquid crystal compound is a polymerizable monomer or a crosslinkable monomer, the alignment state is fixed by subjecting the liquid crystal compound aligned as described above to a polymerization treatment or a crosslinking treatment.

액정 화합물의 구체예 및 배향 고화층의 형성 방법의 상세는 일본 공개특허공보 제2006-163343호에 기재되어 있다. 당해 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.The specific example of a liquid crystal compound and the detail of the formation method of an alignment hardening layer are described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-163343. The description of the publication is incorporated herein by reference.

위상차층(30)이 단일층인 경우, 위상차층(30)은, 예컨대, λ/4판으로서 기능할 수 있다. 구체적으로는, 위상차층의 Re(550)는, 바람직하게는 100nm∼180nm이고, 보다 바람직하게는 110nm∼170nm이며, 더욱 바람직하게는 110nm∼160nm이다. 위상차층의 두께는 λ/4판의 소망하는 면내 위상차가 얻어지도록 조정될 수 있다. 위상차층이 상술한 액정 배향 고화층인 경우, 그 두께는, 예컨대 1.0㎛∼2.5㎛이다. 본 실시형태에서는, 위상차층의 지상축과 편광막의 흡수축이 이루는 각도는, 바람직하게는 40°∼50°이고, 보다 바람직하게는 42°∼48°이며, 더욱 바람직하게는 44°∼46°이다. 본 실시형태에서는, 위상차층은, 바람직하게는 측정광의 파장에 따라 위상차값이 커지는 역분산 파장 특성을 나타낸다. 또한, 이 실시형태에서는, 편광판은 nz>nx=ny의 굴절률 특성을 나타내는 층(그 외의 위상차층, 도시하지 않음)을 더 포함할 수 있다.When the retardation layer 30 is a single layer, the retardation layer 30 can function as a λ/4 plate, for example. Specifically, Re(550) of the retardation layer is preferably 100 nm to 180 nm, more preferably 110 nm to 170 nm, still more preferably 110 nm to 160 nm. The thickness of the retardation layer can be adjusted so that a desired in-plane retardation of the λ/4 plate is obtained. When the retardation layer is the above-mentioned liquid crystal orientation solidified layer, the thickness is, for example, 1.0 μm to 2.5 μm. In the present embodiment, the angle between the slow axis of the retardation layer and the absorption axis of the polarizing film is preferably 40° to 50°, more preferably 42° to 48°, still more preferably 44° to 46°. am. In this embodiment, the retardation layer preferably exhibits reverse dispersion wavelength characteristics in which the retardation value increases depending on the wavelength of the measurement light. Further, in this embodiment, the polarizing plate may further include a layer exhibiting a refractive index characteristic of nz>nx=ny (other retardation layers, not shown).

위상차층(30)이 적층 구조를 포함하는 경우, 위상차층(30)은, 예컨대, 편광막(10) 측으로부터 순서대로 H층과 Q층이 배치된, 2층의 적층 구조를 포함한다. H층은 대표적으로는 λ/2판으로서 기능할 수 있고, Q층은 대표적으로는 λ/4판으로서 기능할 수 있다. 구체적으로는, H층의 Re(550)는 바람직하게는 200nm∼300nm이고, 보다 바람직하게는 220nm∼290nm이며, 더욱 바람직하게는 230nm∼280nm이고; Q층의 Re(550)는 바람직하게는 100nm∼180nm이며, 보다 바람직하게는 110nm∼170nm이고, 더욱 바람직하게는 110nm∼150nm이다. H층의 두께는, λ/2판의 소망하는 면내 위상차가 얻어지도록 조정될 수 있다. H층이 상술한 액정 배향 고화층인 경우, 그 두께는, 예컨대 2.0㎛∼4.0㎛이다. Q층의 두께는 λ/4판의 소망하는 면내 위상차가 얻어지도록 조정될 수 있다. Q층이 상술한 액정 배향 고화층인 경우, 그 두께는 예컨대 1.0㎛∼2.5㎛이다. 본 실시형태에서는, H층의 지상축과 편광막의 흡수축이 이루는 각도는, 바람직하게는 10°∼20°이고, 보다 바람직하게는 12°∼18°이며, 더욱 바람직하게는 12°∼16°이고; Q층의 지상축과 편광막의 흡수축이 이루는 각도는, 바람직하게는 70°∼80°이며, 보다 바람직하게는 72°∼78°이고, 더욱 바람직하게는 72°∼76°이다. 위상차층(30)이 적층 구조를 포함하는 경우, 각각의 층(예컨대, H층 및 Q층)은 위상차값이 측정광의 파장에 따라 커지는 역분산 파장 특성을 나타내어도 되고, 위상차값이 측정광의 파장에 따라 작아지는 양의 파장 분산 특성을 나타내어도 되며, 위상차값이 측정광의 파장에 의해서도 거의 변화하지 않는 플랫한 파장 분산 특성을 나타내어도 된다.When the retardation layer 30 includes a laminated structure, the retardation layer 30 includes, for example, a two-layer laminated structure in which an H layer and a Q layer are sequentially disposed from the polarizing film 10 side. The H layer can typically function as a λ/2 plate, and the Q layer can typically function as a λ/4 plate. Specifically, Re(550) of the H layer is preferably 200 nm to 300 nm, more preferably 220 nm to 290 nm, still more preferably 230 nm to 280 nm; Re(550) of the Q layer is preferably 100 nm to 180 nm, more preferably 110 nm to 170 nm, still more preferably 110 nm to 150 nm. The thickness of the H layer can be adjusted so that a desired in-plane retardation of the λ/2 plate is obtained. When H layer is the above-mentioned liquid-crystal orientation hardening layer, the thickness is 2.0 micrometer - 4.0 micrometer, for example. The thickness of the Q layer can be adjusted to obtain the desired in-plane retardation of the λ/4 plate. When the Q layer is the above-mentioned liquid crystal alignment solidified layer, the thickness thereof is, for example, 1.0 μm to 2.5 μm. In the present embodiment, the angle between the slow axis of the H layer and the absorption axis of the polarizing film is preferably 10° to 20°, more preferably 12° to 18°, still more preferably 12° to 16°. ego; The angle between the slow axis of the Q layer and the absorption axis of the polarizing film is preferably 70° to 80°, more preferably 72° to 78°, still more preferably 72° to 76°. When the retardation layer 30 includes a laminated structure, each layer (e.g., H layer and Q layer) may exhibit a reverse dispersion wavelength characteristic in which the retardation value increases with the wavelength of the measurement light, and the retardation value corresponds to the wavelength of the measurement light. It may exhibit a positive wavelength dispersion characteristic that decreases with , or may exhibit a flat wavelength dispersion characteristic in which the retardation value hardly changes even with the wavelength of the measurement light.

위상차층(30)(적층 구조를 포함하는 경우에는 각각의 층)은, 대표적으로는 굴절률 특성이 nx>ny=nz의 관계를 나타낸다. 또한, 'ny=nz'는 ny와 nz가 완전히 동일한 경우뿐만 아니라 실질적으로 동일한 경우를 포함한다. 따라서, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 ny>nz 또는 ny<nz가 되는 경우가 있을 수 있다. 위상차층의 Nz 계수는 바람직하게는 0.9∼1.5이고, 보다 바람직하게는 0.9∼1.3이다.The refractive index characteristic of the retardation layer 30 (each layer in the case of including a laminated structure) typically shows a relationship of nx>ny=nz. In addition, 'ny=nz' includes not only a case where ny and nz are completely equal, but also a case where ny and nz are substantially equal. Therefore, there may be cases where ny>nz or ny<nz is satisfied within a range that does not impair the effect of the present invention. The Nz coefficient of the retardation layer is preferably 0.9 to 1.5, more preferably 0.9 to 1.3.

상술한 바와 같이, 위상차층은 바람직하게는 액정 배향 고화층이다. 상기 액정 화합물로서, 예컨대, 액정상이 네마틱상인 액정 화합물(네마틱 액정)을 들 수 있다. 이와 같은 액정 화합물로서, 예컨대, 액정 폴리머나 액정 모노머가 사용 가능하다. 액정 화합물의 액정성의 발현 기구는, 리오트로픽이어도 서모트로픽이어도 어느 쪽이어도 된다. 액정 폴리머 및 액정 모노머는, 각각 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여도 된다.As described above, the retardation layer is preferably a liquid crystal alignment solidified layer. Examples of the liquid crystal compound include a liquid crystal compound (nematic liquid crystal) in which the liquid crystal phase is a nematic phase. As such a liquid crystal compound, for example, a liquid crystal polymer or a liquid crystal monomer can be used. The liquid crystalline expression mechanism of the liquid crystal compound may be either lyotropic or thermotropic. The liquid crystal polymer and the liquid crystal monomer may be used alone or in combination.

액정 화합물이 액정 모노머인 경우, 당해 액정 폴리머는 중합성 모노머 및 가교성 모노머인 것이 바람직하다. 액정 모노머를 중합 또는 가교(즉, 경화)시킴으로써, 액정 모노머의 배향 상태를 고정할 수 있기 때문이다. 액정 모노머를 배향시킨 후에, 예컨대, 액정 모노머끼리를 중합 또는 가교시키면, 이로써 상기 배향 상태를 고정할 수 있다. 여기서, 중합에 의해 폴리머가 형성되고, 가교에 의해 3차원 망목 구조가 형성되게 되지만, 이들은 비액정성이다. 따라서, 형성된 위상차층은, 예컨대, 액정성 화합물에 특유의 온도 변화에 의한 액정상, 유리상, 결정상으로의 전이가 일어나지 않는다. 그 결과, 위상차층은 온도 변화에 영향 받지 않는, 매우 안정성이 우수한 위상차층이 된다.When the liquid crystal compound is a liquid crystal monomer, the liquid crystal polymer is preferably a polymerizable monomer and a crosslinkable monomer. This is because the alignment state of the liquid crystal monomer can be fixed by polymerizing or crosslinking (ie, curing) the liquid crystal monomer. After aligning the liquid crystal monomers, for example, by polymerizing or crosslinking the liquid crystal monomers, the alignment state can be fixed. Here, a polymer is formed by polymerization and a three-dimensional network structure is formed by crosslinking, but they are non-liquid crystal. Therefore, the formed retardation layer does not undergo transition to a liquid crystal phase, a glass phase, or a crystal phase due to a temperature change peculiar to a liquid crystal compound, for example. As a result, the retardation layer becomes a very stable retardation layer that is not affected by temperature change.

액정 모노머가 액정성을 나타내는 온도 범위는 그의 종류에 따라 상이하다. 구체적으로는, 당해 온도 범위는, 바람직하게는 40℃∼120℃이고, 더욱 바람직하게는 50℃∼100℃이며, 가장 바람직하게는 60℃∼90℃이다.The temperature range in which the liquid crystal monomer exhibits liquid crystallinity differs depending on its type. Specifically, the temperature range is preferably 40°C to 120°C, more preferably 50°C to 100°C, and most preferably 60°C to 90°C.

상기 액정 모노머로서는, 임의의 적절한 액정 모노머가 채용될 수 있다. 예컨대, 일본 특허출원공표 2002-533742(WO00/37585), EP358208(US5211877), EP66137(US4388453), WO93/22397, EP0261712, DE19504224, DE4408171, 및 GB2280445 등에 기재된 중합성 메소겐 화합물 등이 사용될 수 있다. 이와 같은 중합성 메소겐 화합물의 구체예로서는, 예컨대, 바스프(BASF)사의 상품명 LC242, 머크(Merck)사의 상품명 E7, 바커케미칼(Wacker-Chem)사의 상품명 LC-Sillicon-CC3767을 들 수 있다. 액정 모노머로서는, 네마틱성 액정 모노머가 바람직하다.As the liquid crystal monomer, any suitable liquid crystal monomer can be employed. For example, the polymerizable mesogens described in Japanese Patent Application Publication Nos. 2002-533742 (WO00/37585), EP358208 (US5211877), EP66137 (US4388453), WO93/22397, EP0261712, DE19504224, DE4408171, and GB2280445. compounds and the like can be used. Specific examples of such a polymerizable mesogenic compound include, for example, BASF's trade name LC242, Merck's trade name E7, and Wacker-Chem's trade name LC-Sillicon-CC3767. As the liquid crystal monomer, a nematic liquid crystal monomer is preferable.

C-3. 점착제층C-3. adhesive layer

점착제층(40)으로서는, 임의의 적절한 구성이 채용될 수 있다. 구체예로서는 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 우레탄계 점착제, 에폭시계 점착제, 및 폴리에테르계 점착제를 들 수 있다. 점착제의 베이스 수지를 형성하는 폴리머의 종류, 수, 조합 및 배합비, 및 가교제의 배합량, 반응 온도, 반응 시간 등을 조정함으로써, 목적에 따른 소망하는 특성을 갖는 점착제를 조제할 수 있다. 점착제의 베이스 수지는, 단독으로 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다. 베이스 수지는 바람직하게는 아크릴 수지이다(구체적으로는, 점착제층은 바람직하게는 아크릴계 점착제로 구성됨). 점착제층의 두께는, 예컨대 10㎛∼20㎛이다.As the pressure-sensitive adhesive layer 40, any appropriate structure can be employed. Specific examples include acrylic adhesives, rubber-based adhesives, silicone-based adhesives, polyester-based adhesives, urethane-based adhesives, epoxy-based adhesives, and polyether-based adhesives. By adjusting the type, number, combination and blending ratio of the polymers forming the base resin of the pressure-sensitive adhesive, and the blending amount, reaction temperature, reaction time, etc. of the crosslinking agent, the pressure-sensitive adhesive having desired properties according to the purpose can be prepared. The base resin of the pressure-sensitive adhesive may be used alone or in combination of two or more. The base resin is preferably an acrylic resin (specifically, the pressure-sensitive adhesive layer is preferably composed of an acrylic pressure-sensitive adhesive). The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is, for example, 10 μm to 20 μm.

C-4. 편광판의 제작C-4. Fabrication of polarizer

편광판은, 대표적으로는 상기 수세 후 편광막에 위상차층 등의 각종 층을 적층함으로써 얻을 수 있다.A polarizing plate can typically be obtained by laminating various layers such as a retardation layer on the polarizing film after washing with water.

도 3에 나타내는 편광판(100)은, 예컨대, 상기 수세 후의 수지 기재와 편광막의 적층체의 수지 기재를 그대로 보호층(20)으로서 이용하고, 수지 기재에 위상차층(30) 및 점착제층(40)을 순차 적층함으로써 얻을 수 있다. 또한, 예컨대, 상기 수지 기재와 수지막의 적층체의 수지막 측에 보호층(20)을 적층하고, 수지막으로부터 수지 기재를 박리하여 얻어진 적층물을 수세하고, 보호층(20) 측에 위상차층(30) 및 점착제층(40)을 순차 적층함으로써 얻을 수 있다. 또한, 예컨대, 상기 보호층(20)과 수지막의 적층물에 위상차층(30) 또는 위상차층(30)과 점착제층(40)을 적층한 후에, 상기 수세를 행함으로써, 편광판(100)을 얻어도 된다.In the polarizing plate 100 shown in FIG. 3, for example, the resin substrate of the laminate of the resin substrate and the polarizing film after washing with water is used as the protective layer 20 as it is, and the retardation layer 30 and the pressure-sensitive adhesive layer 40 are formed on the resin substrate. It can be obtained by sequentially stacking. Further, for example, the protective layer 20 is laminated on the resin film side of the laminate of the resin substrate and the resin film, the laminate obtained by peeling the resin substrate from the resin film is washed with water, and the retardation layer is placed on the protective layer 20 side. (30) and the pressure-sensitive adhesive layer (40) can be sequentially laminated. Further, for example, after laminating the retardation layer 30 or the retardation layer 30 and the pressure-sensitive adhesive layer 40 on the laminate of the protective layer 20 and the resin film, the polarizing plate 100 is obtained by washing with water. can also

도 4에 나타내는 편광판(110)은, 예컨대, 상기 수지 기재와 수지막의 적층체의 수지막 측에 보호층(20)을 적층하고, 수지막으로부터 수지 기재를 박리하여 얻어진 적층물을 수세하고, 편광막(10) 측에 위상차층(30) 및 점착제층(40)을 순차 적층함으로써 얻을 수 있다.In the polarizing plate 110 shown in FIG. 4, for example, the protective layer 20 is laminated on the resin film side of the laminate of the resin substrate and the resin film, and the laminate obtained by peeling the resin substrate from the resin film is washed with water to polarize the polarized light. It can be obtained by sequentially laminating the retardation layer 30 and the pressure-sensitive adhesive layer 40 on the film 10 side.

[실시예][Example]

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 두께, 수지막의 요오드 농도 및 수분율은 하기의 측정 방법에 의해 측정한 값이다. 또한, 특별히 명기하지 않는 한, 실시예 및 비교예에서의 '부' 및 '%'는 중량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by examples, but the present invention is not limited by these examples. In addition, the thickness, the iodine concentration of the resin film, and the moisture content are values measured by the following measuring method. In addition, unless otherwise specified, 'parts' and '%' in Examples and Comparative Examples are based on weight.

1. 두께1. Thickness

10㎛ 이하의 두께는, 주사형 전자 현미경(일본전자사 제조, 제품명 'JSM-7100F')을 이용하여 측정하였다. 10㎛를 초과하는 두께는, 디지털 마이크로미터(안리츠사 제조, 제품명 'KC-351C')를 이용하여 측정하였다.The thickness of 10 µm or less was measured using a scanning electron microscope (manufactured by Nippon Electronics Co., Ltd., product name 'JSM-7100F'). The thickness exceeding 10 µm was measured using a digital micrometer (manufactured by Anritz Corporation, product name 'KC-351C').

2. 수지막의 요오드 농도2. Iodine concentration of resin film

형광 X선 분석 장치(리가쿠사 제조, 제품명 'ZSX Primus IV', 측정 직경:ψ20mm)를 이용하여 요오드 원소의 형광 X선 강도(kcps) 강도를 측정하고, 하기 식에 의해 요오드 농도(중량%)를 산출하였다. 여기서, 요오드 농도를 산출할 때의 계수는 검량선을 이용하여 구하였다.The fluorescence X-ray intensity (kcps) intensity of elemental iodine was measured using a fluorescence X-ray analyzer (manufactured by Rigaku, product name 'ZSX Primus IV', measurement diameter: ψ20 mm), and the iodine concentration (% by weight) was obtained by the following formula: was calculated. Here, the coefficient for calculating the iodine concentration was obtained using a calibration curve.

요오드 농도(중량%)=20.5×형광 X선 강도/수지막의 두께(kcps/㎛)Iodine concentration (% by weight) = 20.5 × fluorescence X-ray intensity / thickness of resin film (kcps / μm)

3. 수지막의 수분율3. Water content of resin film

 수지막 단체(수지 기재로부터 박리한 상태의 수지막)를 120℃, 2시간의 조건으로 건조하고, 건조 전후의 중량 변화량을 측정함으로써 수지막에 포함되는 수분량을 구하여 수분율을 산출하였다.The resin film alone (resin film peeled from the resin substrate) was dried at 120° C. for 2 hours, and the amount of moisture contained in the resin film was determined by measuring the weight change before and after drying, and the moisture content was calculated.

[실시예 1][Example 1]

(수지막의 제작)(Production of resin film)

열가소성 수지 기재로서, 장척상이고, 흡수율 0.75%, Tg 약 75℃인, 비정질의 이소프탈 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(두께: 100㎛)을 이용하였다. 수지 기재의 편면에 코로나 처리를 실시하였다.As the thermoplastic resin base material, an amorphous isophthalic copolymerized polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) was used, which was long and had a water absorption of 0.75% and a Tg of about 75°C. Corona treatment was performed on one side of the resin substrate.

폴리비닐알코올(중합도 4200, 비누화도 99.2몰%) 및 아세트아세틸 변성 PVA(일본합성화학공업사 제조, 상품명 '고세 파이머 Z410')를 9:1로 혼합한 PVA계 수지 100중량부에 요오드화칼륨 13중량부를 첨가하여 PVA 수용액(도포액)을 조제하였다.Potassium iodide 13 in 100 parts by weight of a PVA-based resin obtained by mixing polyvinyl alcohol (degree of polymerization 4200, degree of saponification 99.2 mol%) and acetacetyl-modified PVA (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name: 'Kose Pharma Z410') at a ratio of 9:1 Part by weight was added to prepare a PVA aqueous solution (coating liquid).

수지 기재의 코로나 처리면에, 상기 PVA 수용액을 도포하여 60℃에서 건조함으로써, 두께 13㎛의 PVA계 수지층을 형성하고 적층체를 제작하였다.A PVA-based resin layer having a thickness of 13 μm was formed by applying the PVA aqueous solution to the corona-treated surface of the resin substrate and drying at 60° C. to prepare a laminate.

얻어진 적층체를, 130℃의 오븐 내에서 주속이 상이한 롤 사이에서 종방향(긴 길이방향)으로 2.4배로 자유단 일축 연신하였다(공중 보조 연신).The obtained layered product was uniaxially stretched at the free end 2.4 times in the machine direction (longitudinal direction) between rolls having different circumferential speeds in a 130°C oven (air assisted stretching).

이어서, 적층체를 액온 40℃의 불용화욕(물 100중량부에 대하여, 붕산을 4중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).Next, the laminate was immersed in an insolubilization bath (boric acid aqueous solution obtained by blending 4 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 40°C for 30 seconds (insolubilization treatment).

이어서, 액온 30℃의 염색욕(물 100중량부에 대하여, 요오드와 요오드화칼륨을 1:7의 중량비로 배합하여 얻어진 요오드 수용액)에, 최종적으로 얻어지는 편광막의 단체 투과율(Ts)이 43% 이상이 되도록 농도를 조정하면서 60초간 침지시켰다(염색).Next, in a dyeing bath (100 parts by weight of water, an iodine aqueous solution obtained by blending iodine and potassium iodide in a weight ratio of 1:7 with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 30 ° C., the finally obtained polarizing film has a single transmittance (Ts) of 43% or more It was immersed for 60 seconds while adjusting the concentration as much as possible (dyeing).

이어서, 액온 40℃의 가교욕(물 100중량부에 대하여, 요오드화칼륨을 3중량부 배합하고, 붕산을 5중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).Next, it was immersed in a crosslinking bath (a boric acid aqueous solution obtained by blending 3 parts by weight of potassium iodide and 5 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 40°C for 30 seconds (crosslinking treatment).

그 후, 적층체를, 액온 64℃의 붕산 수용액(붕산 농도 4.0중량%)에 침지시키면서, 주속이 상이한 롤 사이에서 종 방향(긴 길이방향)으로 총 연신 배율이 5.5배가 되도록 일축 연신을 행하였다(수중 연신).Thereafter, the laminate was immersed in an aqueous boric acid solution (boric acid concentration: 4.0% by weight) at a solution temperature of 64° C., and uniaxial stretching was performed between rolls having different circumferential speeds so that the total draw ratio was 5.5 times in the machine direction (longitudinal direction). (underwater stretching).

그 후, 적층체를 액온 20℃의 세정욕(물 100중량부에 대하여 요오드화칼륨을 4중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시켰다(세정).Thereafter, the laminate was immersed in a washing bath (an aqueous solution obtained by blending 4 parts by weight of potassium iodide with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 20°C (washing).

그 후, 90℃로 유지된 오븐 중에서 건조하면서, 표면 온도가 75℃로 유지된 SUS제의 가열 롤에 약 2초 접촉시켰다(건조). 건조 수축 처리에 의한 적층체의 폭 방향의 수축률은 5.2%이었다.Thereafter, while drying in an oven maintained at 90°C, it was brought into contact with a heating roll made of SUS whose surface temperature was maintained at 75°C for about 2 seconds (drying). The shrinkage rate in the width direction of the layered product by the drying shrinkage treatment was 5.2%.

이와 같이 하여, 수지 기재 위에 두께 5.4㎛, 요오드 농도 6.4%, 수분율 4.4%의 수지막을 형성하였다.In this way, a resin film having a thickness of 5.4 μm, an iodine concentration of 6.4%, and a moisture content of 4.4% was formed on the resin substrate.

(수세 1)(SuSE 1)

이어서, 얻어진 수지막의 편면(수지 기재가 배치되어 있지 않은 면)에, 자외선 경화형 접착제를 개재하여, 두께 20㎛의 락톤환 구조를 포함하는 아크릴 필름을 첩합한 후 수지막으로부터 수지 기재를 박리하고, 아크릴 필름과 수지막의 적층물을 43℃의 수욕에 2분간 침지시키고, 수지막의 편면(박리면)을 수세하고, 50℃에서 건조함으로써, 아크릴 필름과 편광막의 적층물을 얻었다.Subsequently, an acrylic film containing a lactone ring structure having a thickness of 20 μm was bonded to one side of the obtained resin film (the side on which the resin substrate was not disposed) via an ultraviolet curable adhesive, and then the resin substrate was peeled off from the resin film, A laminate of the acrylic film and the polarizing film was obtained by immersing the laminate of the acrylic film and the resin film in a water bath at 43°C for 2 minutes, washing one side (peeling surface) of the resin film with water, and drying at 50°C.

(수세 2)(SuSE 2)

이어서, 얻어진 수지막의 편면(수지 기재가 배치되어 있지 않은 면)에, 자외선 경화형 접착제를 개재하여, 두께 27㎛의 HC-COP 필름을 첩합한 후에 수지막으로부터 수지 기재를 박리하고, HC-COP 필름과 수지막의 적층물을 43℃의 수욕에 2분간 침지시키고, 수지막의 편면(박리면)을 수세하고, 50℃에서 건조함으로써, HC- COP 필름과 편광막의 적층물을 얻었다. 또한, HC-COP 필름은, 시클로올레핀계 수지(COP) 필름(두께 25㎛)에 HC층(두께 2㎛)이 형성된 필름이고, COP 필름이 수지막 측이 되도록 하여 첩합하였다.Subsequently, a HC-COP film having a thickness of 27 μm was bonded to one side of the obtained resin film (the side on which the resin substrate was not disposed) via an ultraviolet curable adhesive, and then the resin substrate was peeled off from the resin film, and the HC-COP film A laminate of HC-COP film and polarizing film was obtained by immersing the laminate of the resin film in a water bath at 43° C. for 2 minutes, washing one side (release side) of the resin film with water, and drying at 50° C. In addition, the HC-COP film is a film in which an HC layer (thickness of 2 μm) is formed on a cycloolefin resin (COP) film (thickness of 25 μm), and the COP film is bonded with the resin film side.

(위상차층의 제작)(Manufacture of phase difference layer)

네마틱 액정상을 나타내는 중합성 액정(바스프(BASF)사 제조: 상품명 'Paliocolor LC242', 하기 식으로 나타냄) 10g과, 당해 중합성 액정 화합물에 대한 광중합 개시제(바스프(BASF)사 제조: 상품명 '일가큐어 907') 3g을 톨루엔 40g에 용해하여 액정 조성물(도공액)을 조제하였다.10 g of a polymerizable liquid crystal exhibiting a nematic liquid crystal phase (manufactured by BASF: trade name 'Paliocolor LC242', represented by the following formula) and a photopolymerization initiator for the polymerizable liquid crystal compound (manufactured by BASF: trade name ' 3 g of Irgacure 907') was dissolved in 40 g of toluene to prepare a liquid crystal composition (coating liquid).

폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(두께 38㎛) 표면을, 러빙 천을 이용하여 러빙하고, 배향 처리를 실시하였다. 배향 처리의 방향은, 편광판에 첩합할 때의 편광막의 흡수축의 방향에 대하여 시인 측으로부터 보아 15° 방향이 되도록 하였다. 이 배향 처리 표면에, 상기 액정 도공액을 바코터에 의해 도공하고, 90℃에서 2분간 가열 건조함으로써 액정 화합물을 배향시켰다. 이와 같이 하여 형성된 액정층에, 메탈 할라이드 램프를 이용하여 1mJ/㎠의 광을 조사하고, 당해 액정층을 경화시킴으로써 PET 필름 위에 액정 배향 고화층(A)(H층)을 형성하였다. 액정 배향 고화층(A)의 두께는 2.5㎛, 면내 위상차 Re(550)는 270nm이었다. 또한, 액정 배향 고화층(A)은, nx>ny=nz의 굴절률 특성을 나타내었다.The surface of a polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 38 μm) was rubbed using a rubbing cloth to perform alignment treatment. The direction of the orientation treatment was made to be 15° direction when viewed from the visual side with respect to the direction of the absorption axis of the polarizing film when bonding to the polarizing plate. The liquid crystal compound was aligned by applying the liquid crystal coating solution to the orientation treated surface with a bar coater and heating and drying at 90°C for 2 minutes. The liquid crystal layer formed in this way was irradiated with light of 1 mJ/cm 2 using a metal halide lamp to cure the liquid crystal layer, thereby forming a liquid crystal alignment hardened layer (A) (layer H) on the PET film. The thickness of the liquid crystal alignment hardened layer (A) was 2.5 μm, and the in-plane retardation Re (550) was 270 nm. Moreover, the liquid-crystal alignment hardened layer (A) exhibited the refractive index characteristic of nx>ny=nz.

도공 두께를 변경한 것, 및 배향 처리 방향을 편광막의 흡수축의 방향에 대하여 시인 측으로부터 보아 75° 방향이 되도록 한 것 이외에는 상기와 마찬가지로 하여, PET 필름 위에 액정 배향 고화층(B)(Q층)을 형성하였다. 액정 배향 고화층(B)의 두께는 1.5㎛, 면내 위상차 Re(550)는 140nm이었다. 또한, 액정 배향 고화층(B)은, nx>ny=nz의 굴절률 특성을 나타내었다.Liquid crystal alignment fixed layer (B) (Q layer) on PET film was formed. The thickness of the liquid crystal alignment fixed layer (B) was 1.5 μm, and the in-plane retardation Re (550) was 140 nm. Moreover, the liquid-crystal orientation hardening layer (B) showed the refractive index characteristic of nx>ny=nz.

(편광판(A)의 제작)(Production of polarizing plate (A))

상기 아크릴 필름과 편광막의 적층물의 아크릴 필름 측에, 얻어진 액정 배향 고화층(A)(H층) 및 액정 배향 고화층(B)(Q층)을 이 순서대로 전사하였다. 이 때, 편광막의 흡수축과 배향 고화층(A)의 지상축이 이루는 각도가 15°, 편광막의 흡수축과 배향 고화층(B)의 지상축이 이루는 각도가 75°가 되도록 하여 전사(첩합)를 행하였다. 각각의 전사는 자외선 경화형 접착제(두께 1.0㎛)를 개재하여 행하였다. 그 후, 액정 배향 고화층(B) 위에 두께 15㎛의 점착제층을 형성하여 편광판(A)을 얻었다.The obtained liquid crystal alignment fixed layer (A) (H layer) and liquid crystal alignment fixed layer (B) (Q layer) were transferred in this order to the acrylic film side of the laminate of the acrylic film and the polarizing film. At this time, the angle formed by the absorption axis of the polarizing film and the slow axis of the orientation hardening layer (A) is 15 °, and the angle formed by the absorption axis of the polarizing film and the slow axis of the orientation hardening layer (B) is 75 °. ) was performed. Each transfer was performed through an ultraviolet curable adhesive (thickness: 1.0 µm). Then, a 15-micrometer-thick adhesive layer was formed on the liquid-crystal alignment hardening layer (B), and the polarizing plate (A) was obtained.

(편광판(B)의 제작)(Production of polarizing plate (B))

상기 HC-COP 필름과 편광막의 적층물의 편광막 측에, 얻어진 액정 배향 고화층(A)(H층) 및 액정 배향 고화층(B)(Q층)을 이 순서대로 전사하였다. 이 때, 편광막의 흡수축과 배향 고화층(A)의 지상축이 이루는 각도가 15°, 편광막의 흡수축과 배향 고화층(B)의 지상축이 이루는 각도가 75°가 되도록 하여 전사(첩합)를 행하였다. 각각의 전사는 자외선 경화형 접착제(두께 1.0㎛)를 개재하여 행하였다. 그 후, 액정 배향 고화층(B) 위에 두께 15㎛의 점착제층을 형성하여 편광판(B)을 얻었다.The obtained liquid crystal alignment fixed layer (A) (H layer) and liquid crystal alignment fixed layer (B) (Q layer) were transferred in this order to the polarizing film side of the laminate of the HC-COP film and the polarizing film. At this time, the angle formed by the absorption axis of the polarizing film and the slow axis of the orientation hardening layer (A) is 15 °, and the angle formed by the absorption axis of the polarizing film and the slow axis of the orientation hardening layer (B) is 75 °. ) was performed. Each transfer was performed through an ultraviolet curable adhesive (thickness: 1.0 µm). Then, a 15-micrometer-thick adhesive layer was formed on the liquid-crystal alignment hardening layer (B), and the polarizing plate (B) was obtained.

[실시예 2][Example 2]

적층체를 40℃의 수욕에 2분간 침지시킴으로써 수세한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 편광막 및 편광판을 얻었다.A polarizing film and a polarizing plate were obtained in the same manner as in Example 1 except that the laminate was immersed in a 40°C water bath for 2 minutes and washed with water.

[실시예 3][Example 3]

적층체를 액온 70℃의 붕산 수용액에 침지시켜서 수중 연신하여 두께 5.4㎛, 요오드 농도 6.6%, 수분율 4.5%의 수지막을 제작한 것, 및 적층체를 25℃의 수욕에 5분간 침지시킴으로써 수세한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 편광막 및 편광판을 얻었다. 또한, 수세 후의 편광막의 표면 성상(팽윤)에 의해 편광판(B)은 제작하지 않았다.A laminate was immersed in an aqueous solution of boric acid at a liquid temperature of 70°C and stretched in water to produce a resin film having a thickness of 5.4 µm, an iodine concentration of 6.6%, and a moisture content of 4.5%, and a laminate was washed with water by immersing in a water bath at 25°C for 5 minutes. Other than that, in the same manner as in Example 1, a polarizing film and a polarizing plate were obtained. In addition, the polarizing plate (B) was not produced due to the surface properties (swelling) of the polarizing film after washing with water.

[실시예 4][Example 4]

적층체를 액온 67℃의 붕산 수용액에 침지시켜서 수중 연신하여 두께 4.8㎛, 요오드 농도 5.5%, 수분율 4%의 수지막을 제작한 것, 및 적층체를 43℃의 수욕에 1분간 침지시킴으로써 수세한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 편광막 및 편광판을 얻었다.A laminate was immersed in an aqueous solution of boric acid at a liquid temperature of 67°C and stretched in water to produce a resin film having a thickness of 4.8 μm, an iodine concentration of 5.5%, and a moisture content of 4%, and a laminate was washed by immersing the laminate in a water bath at 43°C for 1 minute. Other than that, in the same manner as in Example 1, a polarizing film and a polarizing plate were obtained.

[실시예 5][Example 5]

적층체를 액온 67℃의 붕산 수용액에 침지시켜서 수중 연신하여 두께 4.8㎛, 요오드 농도 5.5%, 수분율 4%의 수지막을 제작한 것, 및 적층체를 35℃의 수욕에 2분간 침지시킴으로써 수세한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 편광막 및 편광판을 얻었다.A laminate was immersed in an aqueous solution of boric acid at a liquid temperature of 67°C and stretched in water to produce a resin film having a thickness of 4.8 μm, an iodine concentration of 5.5%, and a moisture content of 4%, and a laminate was washed with water by immersing in a water bath at 35°C for 2 minutes. Other than that, in the same manner as in Example 1, a polarizing film and a polarizing plate were obtained.

[비교예 1][Comparative Example 1]

수지막을 수세하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 편광막 및 편광판을 얻었다.A polarizing film and a polarizing plate were obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin film was not washed with water.

[비교예 2][Comparative Example 2]

수지막을 수세하지 않은 것 이외에는 실시예 4와 마찬가지로 하여, 편광막 및 편광판을 얻었다.A polarizing film and a polarizing plate were obtained in the same manner as in Example 4 except that the resin film was not washed with water.

[비교예 3][Comparative Example 3]

수지막을 수세하지 않은 것 이외에는 실시예 3과 마찬가지로 하여, 편광막 및 편광판을 얻었다.A polarizing film and a polarizing plate were obtained in the same manner as in Example 3 except that the resin film was not washed with water.

[참고예 1][Reference Example 1]

(수지막의 제작)(Production of resin film)

두께 30㎛의 PVA계 수지 필름의 장척 롤을, 롤 연신기에 의해 총 연신 배율이 6.5배가 되도록, 긴 길이방향으로 66℃에서 일축 연신하면서, 동시에 팽윤, 염색, 가교 및 세정 처리를 실시하고, 마지막으로 건조 처리를 실시함으로써 두께 12㎛, 요오드 농도 2.9%, 수분율 11%의 수지막을 제작하였다.A long roll of PVA-based resin film having a thickness of 30 μm was uniaxially stretched in the longitudinal direction at 66° C. so that the total draw ratio was 6.5 times by a roll stretching machine, while simultaneously swelling, dyeing, crosslinking and washing treatment were performed, and finally A resin film having a thickness of 12 μm, an iodine concentration of 2.9%, and a moisture content of 11% was produced by performing a drying treatment with .

(수세 1)(SuSE 1)

얻어진 수지막의 편면에, 자외선 경화형 접착제를 개재하여 두께 20㎛의 락톤환 구조를 포함하는 아크릴 필름을 첩합하여 적층물을 제작하고, 필름과 수지막의 적층물을 43℃의 수욕에 2분간 침지시키며, 얻어진 수지막의 표면(필름이 첩합되어 있지 않은 면)을 수세하고, 50℃에서 건조함으로써, 필름과 편광막의 적층물을 얻었다.To one side of the obtained resin film, an acrylic film containing a lactone ring structure having a thickness of 20 μm is bonded through an ultraviolet curable adhesive to prepare a laminate, and the laminate of the film and the resin film is immersed in a water bath at 43 ° C. for 2 minutes, A laminate of the film and the polarizing film was obtained by washing the surface (surface to which the film was not bonded) of the obtained resin film with water and drying at 50°C.

(수세 2)(SuSE 2)

얻어진 수지막의 편면에, 자외선 경화형 접착제를 개재하여, 두께 27㎛의 HC-COP 필름을 첩합하여 적층물을 제작하고, 필름과 수지막의 적층물을 43℃의 수욕에 2분간 침지시키고, 얻어진 수지막의 표면(필름이 첩합되어 있지 않은 면)을 수세하고, 50℃에서 건조함으로써, 필름과 편광막의 적층물을 얻었다.An HC-COP film having a thickness of 27 μm was bonded to one side of the obtained resin film through an ultraviolet curing adhesive to prepare a laminate, and the laminate of the film and the resin film was immersed in a water bath at 43 ° C. for 2 minutes. A laminate of the film and the polarizing film was obtained by washing the surface (the surface to which the film was not bonded) with water and drying at 50°C.

(편광판(A)의 제작)(Production of polarizing plate (A))

상기 아크릴 필름과 편광막의 적층물의 아크릴 필름 측에, 얻어진 액정 배향 고화층(A)(H층) 및 액정 배향 고화층(B)(Q층)을 이 순서대로 전사하였다. 이 때, 편광막의 흡수축과 배향 고화층(A)의 지상축이 이루는 각도가 15°, 편광막의 흡수축과 배향 고화층(B)의 지상축이 이루는 각도가 75°가 되도록 하여 전사(첩합)를 행하였다. 각각의 전사는 자외선 경화형 접착제(두께 1.0㎛)를 개재하여 행하였다. 그 후, 액정 배향 고화층(B) 위에 두께 15㎛의 점착제층을 형성하여 편광판(A)을 얻었다.The obtained liquid crystal alignment fixed layer (A) (H layer) and liquid crystal alignment fixed layer (B) (Q layer) were transferred in this order to the acrylic film side of the laminate of the acrylic film and the polarizing film. At this time, the angle formed by the absorption axis of the polarizing film and the slow axis of the orientation hardening layer (A) is 15 °, and the angle formed by the absorption axis of the polarizing film and the slow axis of the orientation hardening layer (B) is 75 °. ) was performed. Each transfer was performed through an ultraviolet curable adhesive (thickness: 1.0 µm). Then, a 15-micrometer-thick adhesive layer was formed on the liquid-crystal alignment hardening layer (B), and the polarizing plate (A) was obtained.

(편광판(B)의 제작)(Production of polarizing plate (B))

상기 HC-COP 필름과 편광막의 적층물의 편광막 측에, 얻어진 액정 배향 고화층(A)(H층) 및 액정 배향 고화층(B)(Q층)을 이 순서대로 전사하였다. 이 때, 편광막의 흡수축과 배향 고화층(A)의 지상축이 이루는 각도가 15°, 편광막의 흡수축과 배향 고화층(B)의 지상축이 이루는 각도가 75°가 되도록 하여 전사(첩합)를 행하였다. 각각의 전사는 자외선 경화형 접착제(두께 1.0㎛)를 개재하여 행하였다. 그 후, 액정 배향 고화층(B) 위에 두께 15㎛의 점착제층을 형성하여 편광판(B)을 얻었다.The obtained liquid crystal alignment fixed layer (A) (H layer) and liquid crystal alignment fixed layer (B) (Q layer) were transferred in this order to the polarizing film side of the laminate of the HC-COP film and the polarizing film. At this time, the angle formed by the absorption axis of the polarizing film and the slow axis of the orientation hardening layer (A) is 15 °, and the angle formed by the absorption axis of the polarizing film and the slow axis of the orientation hardening layer (B) is 75 °. ) was performed. Each transfer was performed through an ultraviolet curable adhesive (thickness: 1.0 µm). Then, a 15-micrometer-thick adhesive layer was formed on the liquid-crystal alignment hardening layer (B), and the polarizing plate (B) was obtained.

[참고예 2][Reference Example 2]

적층체를 수세하지 않은 것 이외에는 참고예 1과 마찬가지로 하여, 편광막 및 편광판을 얻었다.A polarizing film and a polarizing plate were obtained in the same manner as in Reference Example 1 except that the laminate was not washed with water.

실시예 및 비교예에 대하여, 하기의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 1 및 표 2에 정리한다.About Examples and Comparative Examples, the following evaluation was performed. The evaluation results are summarized in Table 1 and Table 2.

<평가><evaluation>

1. 단체 투과율 및 편광도1. Single Transmittance and Polarization Degree

실시예 및 비교예의 편광막(편광막/아크릴 필름 또는 HC-COP 필름)에 대하여, 자외 가시 분광 광도계(일본분광사 제조, V-7100)를 이용하여 측정한 단체 투과율(Ts), 평행 투과율(Tp), 직교 투과율(Tc)을 각각 편광막의 Ts, Tp 및 Tc로 하였다. 이들 Ts, Tp 및 Tc는, JIS Z8701의 2도 시야(C 광원)에 의해 측정하여 시감도 보정을 행한 Y값이다.For the polarizing films (polarizing film / acrylic film or HC-COP film) of Examples and Comparative Examples, single transmittance (Ts) and parallel transmittance ( Tp) and orthogonal transmittance (Tc) were respectively taken as Ts, Tp and Tc of the polarizing film. These Ts, Tp, and Tc are Y values measured with a JIS Z8701 2-degree field of view (C light source) and corrected for visibility.

얻어진 Tp 및 Tc로부터, 하기 식에 의해 편광도(P)를 구하였다.From the obtained Tp and Tc, the polarization degree (P) was calculated|required by the following formula.

편광도(P)(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100Polarization degree (P) (%) = {(Tp-Tc)/(Tp+Tc)} 1/2 × 100

2. 반사율(Rc 및 Rp)2. Reflectance (Rc and Rp)

실시예 및 비교예의 편광막의 표면(수세한 면)의 반사율을, 분광 광도계(히타치하이테크사 제조, U-4100)에 의해, 흡수축 방향의 반사율(Rc) 및 투과축 방향의 반사율(Rp)을 측정하였다. 그 때, 수세한 면과는 반대 측의 면을 흑판에 첩합하여 표면 반사만을 측정할 수 있도록 하였다. 또한, 광원(편광)의 입사 각도를 5°로 하고, 측정 파장을 380nm∼780nm로 하였다.The reflectance of the surface (washed surface) of the polarizing film of Examples and Comparative Examples was determined by using a spectrophotometer (U-4100, manufactured by Hitachi High-Tech Co., Ltd.) to determine the reflectance (Rc) in the absorption axis direction and the reflectance (Rp) in the transmission axis direction. measured. At that time, the surface on the opposite side to the washed surface was bonded to the blackboard so that only the surface reflection could be measured. In addition, the angle of incidence of the light source (polarized light) was set to 5°, and the measurement wavelength was set to 380 nm to 780 nm.

3. 표면 성상3. Surface properties

실시예 및 비교예의 편광막의 표면 성상(수지막의 팽윤에 의한 요철의 발생의 유무)을, 육안으로 관찰하였다.The surface properties (presence or absence of irregularities due to swelling of the resin film) of the polarizing films of Examples and Comparative Examples were visually observed.

(평가 기준)(Evaluation standard)

양호: 요철은 확인되지 않음Good: No irregularities were observed

불량: 요철이 확인됨Defective: Convex and concave confirmed

4. 편광판의 색조(a* 및 b*)4. Tint of polarizer (a * and b * )

 실시예 및 비교예의 편광판(원편광판)을 알루미늄 시트 위에 첩합하고, 분광 측색계(코니카미놀타사 제조, cm-2600d)에 의해, SCE 모드에서 반사 색상을 측정하였다.The polarizing plates (circular polarizing plates) of Examples and Comparative Examples were bonded on an aluminum sheet, and the reflected color was measured in SCE mode with a spectrophotometer (cm-2600d manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.).

[표 1][Table 1]

[표 2][Table 2]

실시예, 비교예 모두, 우수한 광학 특성(단체 투과율 및 편광도)이 얻어진다. 실시예에서는 붉은 기가 억제되어 우수한 외관이 얻어진다.Excellent optical characteristics (single transmittance and polarization degree) were obtained in both the Examples and Comparative Examples. In Examples, redness is suppressed and an excellent appearance is obtained.

실시예 1, 비교예 1 및 참고예 2에서 얻어진 편광막에 대하여, 두께 방향에서의 요오드의 이온 강도를 측정하였다. 측정은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)(ION-TOF 제조, 제품명: TOF-SIMS 5)를 이용하고, 1차 이온에는 Bi32 +를 이용하여 행하였다. 측정 결과(횡축을 편광막의 두께로 환산한 그래프)를 도 5에 나타낸다. 도 5에 나타내는 바와 같이, 실시예 1의 편광막에서는, 표면 측의 단부에, 표면으로부터 이면을 향하여 요오드량이 많아지는 경사 분포 영역을 포함하는 것이 확인되었다. 또한, 횡축의 요오드의 이온 강도는 요오드 농도에 대응한다.For the polarizing films obtained in Example 1, Comparative Example 1, and Reference Example 2, the ionic strength of iodine in the thickness direction was measured. The measurement was performed using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS) (manufactured by ION-TOF, product name: TOF-SIMS 5) and using Bi 32+ as the primary ion. The measurement results (a graph obtained by converting the horizontal axis to the thickness of the polarizing film) are shown in FIG. 5 . As shown in Fig. 5, in the polarizing film of Example 1, it was confirmed that an inclined distribution region in which the amount of iodine increased from the front surface toward the rear surface was included at the end portion on the front surface side. In addition, the ionic strength of iodine on the horizontal axis corresponds to the iodine concentration.

본 발명의 하나의 실시형태에 따른 편광막은, 예컨대, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, 무기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 적합하게 이용된다.A polarizing film according to one embodiment of the present invention is suitably used for image display devices such as, for example, liquid crystal display devices, organic EL display devices, and inorganic EL display devices.

10: 편광막
20: 보호층
30: 위상차층
40: 점착제층
100: 편광판
110: 편광판
10: polarizing film
20: protective layer
30: phase difference layer
40: adhesive layer
100: polarizer
110: polarizer

Claims (12)

요오드를 포함하는 수지 필름으로 구성되고,
두께가 7㎛ 이하이며,
표면의, 흡수축 방향의 파장 680nm의 광의 반사율 Rc680에 대한 흡수축 방향의 파장 400nm의 광의 반사율 Rc400의 비(Rc400 /Rc680)가 1을 초과하는,
편광막.
It is composed of a resin film containing iodine,
The thickness is less than 7㎛,
The ratio (Rc 400 /Rc 680 ) of the reflectance Rc 400 of light having a wavelength of 400 nm in the direction of the absorption axis to the reflectance Rc 680 of light having a wavelength of 680 nm in the direction of the absorption axis of the surface exceeds 1,
polarizing film.
제1항에 있어서,
상기 표면의 Rc680이 5% 이하인, 편광막.
According to claim 1,
A polarizing film wherein Rc 680 of the surface is 5% or less.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 표면의 Rc400 4.8% 이상인, 편광막.The method of claim 1 or 2, wherein Rc 400 of the surface is 4.8% or more, a polarizing film. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 표면 측의 단부에, 표면으로부터 이면을 향하여 요오드량이 많아지는 경사 분포 영역을 포함하는, 편광막.The polarizing film according to any one of claims 1 to 3, comprising an inclined distribution region in which the amount of iodine increases from the front surface to the rear surface at an end portion on the front surface side. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 표면 측의 요오드량이 이면 측의 요오드량보다도 적은, 편광막.The polarizing film according to any one of claims 1 to 4, wherein the amount of iodine on the surface side is smaller than the amount of iodine on the back surface side. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 단체 투과율이 42.0% 이상이고, 편광도가 99.98% 이상인, 편광막.The polarizing film according to any one of claims 1 to 5, having a single transmittance of 42.0% or more and a polarization degree of 99.98% or more. 요오드를 포함하고, 수분율이 15중량% 이하의 수지막의 표면을 수세하는 것을 포함하는, 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 편광막의 제조 방법.The method for producing a polarizing film according to any one of claims 1 to 6, comprising washing the surface of a resin film containing iodine and having a moisture content of 15% by weight or less with water. 제7항에 있어서, 상기 수지막의 요오드 농도가 5중량% 이상인, 제조 방법.The manufacturing method according to claim 7, wherein the iodine concentration of the resin film is 5% by weight or more. 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 수지막이 수지 기재 위에 형성된 수지층인, 제조 방법.The manufacturing method according to claim 7 or 8, wherein the resin film is a resin layer formed on a resin substrate. 제9항에 있어서, 상기 수지층을 67℃ 이하에서 수중 연신하는 것을 포함하는, 제조 방법.The manufacturing method according to claim 9, comprising stretching the resin layer in water at 67°C or lower. 제9항 또는 제10항에 있어서, 가열 롤을 이용하여 상기 수지층을 가열하는 것을 포함하는, 제조 방법.The manufacturing method according to claim 9 or 10, comprising heating the resin layer using a heating roll. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 편광막과,
상기 편광막의 적어도 편측에 배치되는 보호층 또는 위상차층을 포함하는, 편광판.
The polarizing film according to any one of claims 1 to 6;
A polarizing plate comprising a protective layer or a retardation layer disposed on at least one side of the polarizing film.
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