KR20230104539A - Polarizing plate and image display device using the same - Google Patents
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Abstract
저저항 점착제층을 가짐에도 불구하고, 박형이고, 내구성이 우수하고, 외관 불량이 억제되고, 또한 이형 가공할 때의 크랙이 억제된 편광판이 제공된다. 본 발명의 실시 형태에 의한 편광판은, 편광자와, 편광자의 한쪽 측에 마련된 보호층과, 편광자의 다른 한쪽 측에 마련된 요오드 투과 억제층과, 요오드 투과 억제층의 편광자와 반대측에 마련된 점착제층을 갖는다. 요오드 투과 억제층은, 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물 또는 열경화물이다. 점착제층을 구성하는 점착제 조성물은 베이스 폴리머와 대전 방지제를 포함하고, 베이스 폴리머는, 유리 전이 온도가 -50℃ 이하이고, 및, 100㎑에 있어서의 유전율이 5.0 이상이고, 점착제층의 표면 저항값은 1.0×109Ω/□ 이하이다.In spite of having a low-resistance pressure-sensitive adhesive layer, a polarizing plate having a thin shape, excellent durability, poor appearance is suppressed, and cracks during release processing are suppressed. A polarizing plate according to an embodiment of the present invention includes a polarizer, a protective layer provided on one side of the polarizer, an iodine permeation suppression layer provided on the other side of the polarizer, and an adhesive layer provided on the opposite side of the iodine permeation suppression layer to the polarizer. . The iodine permeation inhibiting layer is a solidified product or a thermoset product of a coating film of an organic solvent solution of a resin. The pressure-sensitive adhesive composition constituting the pressure-sensitive adhesive layer contains a base polymer and an antistatic agent, the base polymer has a glass transition temperature of -50°C or less, and a dielectric constant of 5.0 or more at 100 kHz, and a surface resistance value of the pressure-sensitive adhesive layer. is less than 1.0×10 9 Ω/□.
Description
본 발명은, 편광판 및 그것을 사용한 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a polarizing plate and an image display device using the same.
액정 표시 장치 및 일렉트로루미네센스(EL) 표시 장치(예를 들어, 유기 EL 표시 장치, 무기 EL 표시 장치)로 대표되는 화상 표시 장치가 급속하게 보급되고 있다. 화상 표시 장치에 있어서는, 대표적으로는, 편광판이 점착제층을 통해 표시 패널에 접합되어 있다. 근년, 화상 표시 장치의 프레임 폭 협소화, 표시 패널 내에 터치 패널용 도전층을 내장한, 소위 인셀형 화상 표시 장치의 발전 등에 수반하여, 화상 표시 장치의 대전 방지 성능의 개선이 요구되고 있다. 그 결과, 점착제층의 대전 방지 성능의 개선 및 저저항화가 요구되고 있다. 그러나, 이러한 점착제층을 사용한 편광판에 있어서는, 편광판의 내구성의 저하, 외관 불량, 편광판을 직사각형 이외의 이형으로 가공할 때의 크랙의 발생 등의 문제가 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION Image display devices typified by liquid crystal display devices and electroluminescent (EL) display devices (eg, organic EL display devices and inorganic EL display devices) are rapidly spreading. In an image display device, typically, a polarizing plate is bonded to a display panel via an adhesive layer. In recent years, with the narrowing of the frame width of image display devices and the development of so-called in-cell type image display devices incorporating conductive layers for touch panels in display panels, improvement in antistatic performance of image display devices has been demanded. As a result, improvement in the antistatic performance of the pressure-sensitive adhesive layer and reduction in resistance are required. However, in a polarizing plate using such an adhesive layer, there are problems such as decrease in durability of the polarizing plate, poor appearance, and generation of cracks when processing the polarizing plate into a release shape other than rectangular.
본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위해 이루어진 것이고, 그 주된 목적은, 저저항 점착제층을 가짐에도 불구하고, 박형이고, 내구성이 우수하고, 외관 불량이 억제되고, 또한 이형 가공할 때의 크랙이 억제된 편광판을 제공하는 데 있다.The present invention has been made to solve the above conventional problems, and its main object is, despite having a low-resistance adhesive layer, it is thin, has excellent durability, suppresses appearance defects, and cracks during mold release processing It is to provide this suppressed polarizing plate.
본 발명의 실시 형태에 의한 편광판은, 편광자와, 해당 편광자의 한쪽 측에 마련된 보호층과, 해당 편광자의 다른 한쪽 측에 마련된 요오드 투과 억제층과, 해당 요오드 투과 억제층의 해당 편광자와 반대측에 마련된 점착제층을 갖는다. 해당 요오드 투과 억제층은, 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물 또는 열경화물이다. 해당 점착제층을 구성하는 점착제 조성물은 베이스 폴리머와 대전 방지제를 포함하고, 해당 베이스 폴리머는, 유리 전이 온도가 -50℃ 이하이고, 및, 100㎑에 있어서의 유전율이 5.0 이상이고, 해당 점착제층의 표면 저항값은 1.0×109Ω/□ 이하이다.A polarizing plate according to an embodiment of the present invention includes a polarizer, a protective layer provided on one side of the polarizer, an iodine permeation inhibiting layer provided on the other side of the polarizer, and an iodine permeation inhibiting layer provided on the opposite side of the polarizer. It has an adhesive layer. The said iodine permeation suppression layer is a solidified material or thermoset material of the coating film of the organic solvent solution of resin. The pressure-sensitive adhesive composition constituting the pressure-sensitive adhesive layer contains a base polymer and an antistatic agent, the base polymer has a glass transition temperature of -50°C or less, and a dielectric constant of 5.0 or more at 100 kHz, and the The surface resistance value is 1.0×10 9 Ω/□ or less.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 베이스 폴리머는, 모노머 성분으로서 알콕시기 함유 모노머를 포함한다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 베이스 폴리머는, 전체 모노머 성분 100중량부에 대하여 상기 알콕시기 함유 모노머를 20중량부 내지 99중량부 포함한다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 알콕시기 함유 모노머는 하기 식으로 표현된다:In one embodiment, the base polymer contains an alkoxy group-containing monomer as a monomer component. In one embodiment, the base polymer contains 20 parts by weight to 99 parts by weight of the alkoxy group-containing monomer with respect to 100 parts by weight of all monomer components. In one embodiment, the alkoxy group-containing monomer is represented by the following formula:
식 중, R1은 알킬기이고, n은 1 내지 15의 정수이다.In formula, R <1> is an alkyl group, and n is an integer of 1-15.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 베이스 폴리머는, 모노머 성분으로서 히드록실기 함유 모노머를 더 포함한다.In one embodiment, the base polymer further contains a hydroxyl group-containing monomer as a monomer component.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 점착제 조성물에 있어서의 상기 대전 방지제의 함유량은, 상기 베이스 폴리머 100중량부에 대하여 10중량부 이하이다.In one embodiment, the content of the antistatic agent in the pressure-sensitive adhesive composition is 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the base polymer.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 대전 방지제는 리튬비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(플루오로술포닐)이미드 또는 트리부틸메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드를 포함한다.In one embodiment, the antistatic agent is lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-3-methylimidazolium bis (fluorosulfonyl) imide or tributylmethylammonium bis ( trifluoromethanesulfonyl)imide.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 점착제 조성물은, 실란 커플링제를 더 포함한다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 점착제 조성물은, 산화 방지제를 더 포함한다.In one embodiment, the said adhesive composition further contains a silane coupling agent. In one embodiment, the said adhesive composition further contains antioxidant.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 점착제층의 유리에 대한 점착력은 1.0N/25㎜ 이상이다.In one embodiment, the adhesive force with respect to glass of the said adhesive layer is 1.0 N/25 mm or more.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 요오드 투과 억제층을 구성하는 수지는, 50중량부를 초과하는 (메트)아크릴계 단량체와 0중량부를 초과하고 50중량부 미만인 식 (1)로 표현되는 단량체를 포함하는 모노머 혼합물을 중합함으로써 얻어지는 공중합체를 포함한다:In one embodiment, the resin constituting the iodine permeation inhibiting layer is a monomer containing more than 50 parts by weight of a (meth)acrylic monomer and more than 0 part by weight and less than 50 parts by weight of a monomer represented by formula (1) It includes copolymers obtained by polymerizing the mixture:
(식 중, X는 비닐기, (메트)아크릴기, 스티릴기, (메트)아크릴아미드기, 비닐에테르기, 에폭시기, 옥세탄기, 히드록실기, 아미노기, 알데히드기, 및 카르복실기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 반응성기를 포함하는 관능기를 나타내고, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 지방족 탄화수소기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 헤테로환기를 나타내고, R1 및 R2는 서로 연결하여 환을 형성해도 된다).(Wherein, X is selected from the group consisting of a vinyl group, a (meth)acrylic group, a styryl group, a (meth)acrylamide group, a vinylether group, an epoxy group, an oxetane group, a hydroxyl group, an amino group, an aldehyde group, and a carboxyl group represents a functional group containing at least one reactive group, and R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a hetero which may have a substituent represents ventilation, and R 1 and R 2 may be connected to each other to form a ring).
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 편광판은, 총 두께가 60㎛ 이하이다.In one embodiment, the polarizing plate has a total thickness of 60 μm or less.
본 발명의 다른 국면에 의하면, 화상 표시 장치가 제공된다. 이 화상 표시 장치는, 상기한 편광판을 구비한다.According to another aspect of the present invention, an image display device is provided. This image display device is provided with the polarizing plate described above.
본 발명의 실시 형태에 따르면, 저저항 점착제층을 갖는 편광판에 있어서 당해 점착제층을 특정한 구성으로 함으로써, 박형이고, 내구성이 우수하고, 외관 불량(대표적으로는, 편광판에 포함되는 보호층의 부분적 팽창 및 기능층의 크랙)이 억제되고, 또한 이형 가공할 때의 크랙이 억제된 편광판을 실현할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, in a polarizing plate having a low-resistance pressure-sensitive adhesive layer, by making the pressure-sensitive adhesive layer a specific configuration, it is thin, has excellent durability, and has poor appearance (typically, partial swelling of the protective layer included in the polarizing plate) and cracks in the functional layer) are suppressed, and a polarizing plate in which cracks are suppressed during release processing can be realized.
도 1은 본 발명의 하나의 실시 형태에 의한 편광판의 개략 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate according to one embodiment of the present invention.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시 형태에 한정되지는 않는다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although embodiment of this invention is described, this invention is not limited to these embodiment.
A. 편광판의 전체 구성A. Overall composition of the polarizer
도 1은, 본 발명의 하나의 실시 형태에 의한 편광판의 개략 단면도이다. 도시예의 편광판(100)은, 편광자(11)와, 편광자(11)의 한쪽 측에 마련된 보호층(12)과, 편광자(11)의 다른 한쪽 측에 마련된 요오드 투과 억제층(40)과, 요오드 투과 억제층(40)의 편광자(11)와 반대측에 마련된 점착제층(30)을 갖는다. 요오드 투과 억제층(40)은, 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물 또는 열경화물이다. 편광자(11)와 요오드 투과 억제층(40) 사이에, 별도의 보호층(도시하지 않음)이 마련되어도 된다. 바람직하게는 도시예와 같이, 보호층(12)이 편광자(11)의 한쪽 측에만 마련되어 있다. 이 경우, 요오드 투과 억제층(40)은 편광자(11)의 다른 한쪽 측에서 편광자(11)에 직접 마련되어 있다. 본 명세서에 있어서 「편광자에 직접 마련되어 있다」란, 접착층(대표적으로는, 접착제층, 점착제층)을 개재시키지 않고 편광자 표면에 직접 형성되어 있는 것을 의미한다. 점착제층(30)은 최외층으로서 마련되고, 편광판은 화상 표시 장치(실질적으로는, 화상 표시 패널)에 첩부 가능하게 되어 있다. 실용적으로는, 점착제층(30)의 표면에는, 편광판이 사용에 제공될 때까지, 박리 필름이 가착되어 있는 것이 바람직하다. 박리 필름을 가착함으로써, 점착제층을 보호함과 함께, 편광판의 롤 형성이 가능해진다.1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate according to one embodiment of the present invention. The polarizing
본 발명의 실시 형태에 있어서는, 점착제층(30)을 구성하는 점착제 조성물은, 베이스 폴리머와 대전 방지제를 포함한다. 베이스 폴리머는, 유리 전이 온도가 -50℃ 이하이고, 및, 100㎑에 있어서의 유전율이 5.0 이상이다. 이러한 베이스 폴리머를 사용함으로써, 대전 방지제의 함유량이 적음에도 불구하고 표면 저항값이 작은 점착제층을 실현할 수 있다. 즉, 본 발명의 실시 형태에 있어서는, 점착제 조성물에 있어서의 대전 방지제의 함유량이 베이스 폴리머 100중량부에 대하여 10중량부 미만이면서, 점착제층의 표면 저항값을 1.0×109Ω/□ 이하로 할 수 있다. 그 결과, 박형이고, 내구성이 우수하고, 편광판에 포함되는 기능층(예를 들어, 요오드 투과 억제층)의 외관 불량이 억제되고, 또한 이형 가공할 때의 크랙이 억제된 편광판을 실현할 수 있다.In the embodiment of the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition constituting the pressure-sensitive
본 발명의 실시 형태에 의한 편광판은, 요오드 투과 억제층 이외의 기능층을 더 포함하고 있어도 된다. 이러한 기능층의 대표예로서는, 위상차층을 들 수 있다. 위상차층의 광학적 특성(예를 들어, 굴절률 특성, 면내 위상차, Nz 계수, 광탄성 계수), 두께, 배치 위치 등은, 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다.The polarizing plate according to the embodiment of the present invention may further include functional layers other than the iodine permeation suppression layer. A typical example of such a functional layer is a phase difference layer. Optical characteristics (eg, refractive index characteristics, in-plane retardation, Nz coefficient, photoelastic coefficient), thickness, placement position, etc. of the retardation layer may be appropriately set depending on the purpose.
본 발명의 실시 형태에 의한 편광판은, 매엽 형상이어도 되고 긴 형상이어도 된다. 본 명세서에 있어서 「긴 형상」이란, 폭에 비해 길이가 충분히 긴 가늘고 긴 형상을 의미하고, 예를 들어 폭에 비해 길이가 10배 이상, 바람직하게는 20배 이상인 가늘고 긴 형상을 포함한다. 긴 형상의 편광판은, 롤 형상으로 권회 가능하다.The polarizing plate according to the embodiment of the present invention may have a sheet shape or a long shape. In this specification, "elongated shape" means an elongated shape whose length is sufficiently long compared to the width, and includes, for example, an elongated shape whose length is 10 times or more, preferably 20 times or more compared to the width. The elongated polarizing plate can be wound in a roll shape.
본 발명의 실시 형태에 의한 편광판은, 직사각형 이외의 이형을 갖고 있어도 된다. 본 명세서에 있어서 「직사각형 이외의 이형을 갖는다」란, 편광판의 평면으로 본 형상이 직사각형 이외의 형상을 갖는 것을 말한다. 이형은, 대표적으로는, 이형 가공된 이형 가공부이다. 따라서, 「직사각형 이외의 이형을 갖는 편광판」은, 편광판 전체(즉, 필름의 평면으로 본 형상을 규정하는 외연)가 직사각형 이외인 경우뿐만 아니라, 직사각형의 편광판의 외연으로부터 내측으로 이격된 부분에 이형 가공부가 형성되어 있는 경우도 포함한다. 표면 저항값이 작은 점착제층(저저항 점착제층)을 사용하는 경우, 첨가한 대전 방지제가 가소제로서 작용하고, 이러한 이형 가공부에 있어서 고온 환경 하에서 편광판이 수축하는 것에 기인하여 편광자에 크랙이 발생하기 쉬운 점에서, 본 발명의 실시 형태에 따르면, 그러한 크랙을 현저하게 억제할 수 있다. 이형(이형 가공부)으로서는, 예를 들어 관통 구멍, 구석부의 모따기, 평면으로 본 경우에 오목부가 되는 절삭 가공부를 들 수 있다. 오목부의 대표예로서는, 배 모양에 근사한 형상, 욕조에 근사한 형상, V자 노치, U자 노치를 들 수 있다. 이형(이형 가공부)의 다른 예로서는, 자동차의 미터 패널에 대응한 형상을 들 수 있다. 당해 형상은, 외연이 미터 바늘의 회전 방향을 따른 원호 형상으로 형성되고, 또한 외연이 면 방향 내측으로 볼록한 V자 형상(R 형상을 포함함)을 이루는 부위를 포함한다. 이형의 형상은, 상기한 예에 한정되지 않고, 목적에 따른 임의의 적절한 형상이 채용될 수 있다. 예를 들어, 관통 구멍의 형상으로서는, 원형, 타원형, 삼각형, 사각형, 오각형, 육각형, 팔각형이 채용될 수 있다. 또한, 관통 구멍은, 목적에 따라 임의의 적절한 위치에 마련된다. 관통 구멍은, 직사각 형상의 편광판의 긴 변 방향 단부의 대략 중앙부에 마련되어도 되고, 긴 변 방향 단부의 소정의 위치에 마련되어도 되고, 편광판의 구석부에 마련되어도 되고; 직사각 형상의 편광판의 짧은 변 방향 단부에 마련되어도 되고; 전체가 이형 형상을 갖는 편광판의 중앙부에 마련되어도 된다. 이형 가공부는, 상기 예시의 형태를 조합하여 형성해도 된다. 예를 들어, 관통 구멍과 V자 노치 및/또는 U자 노치를 조합하여 형성해도 된다.The polarizing plate according to the embodiment of the present invention may have a release shape other than a rectangle. In this specification, "it has a non-rectangular shape" means that the planar view shape of a polarizing plate has a shape other than a rectangle. The mold release is typically a mold release processing part subjected to mold release processing. Therefore, "a polarizing plate having a release shape other than rectangular" is not only a case where the entire polarizing plate (ie, the outer edge defining the planar view shape of the film) is other than a rectangular shape, but also a release shape in a portion spaced inward from the outer edge of the rectangular polarizing plate. The case where a processing part is formed is also included. In the case of using a pressure-sensitive adhesive layer (low-resistance pressure-sensitive adhesive layer) having a small surface resistance value, the added antistatic agent acts as a plasticizer, and cracks occur in the polarizer due to shrinkage of the polarizer in a high-temperature environment in such a release processing part. In terms of simplicity, according to the embodiment of the present invention, such cracks can be remarkably suppressed. As a release (release processing part), a through-hole, chamfering of a corner part, and a cutting part used as a concave part in planar view are mentioned, for example. Representative examples of the concave portion include a shape approximating a pear shape, a shape approximating a bathtub, a V-shaped notch, and a U-shaped notch. Another example of the mold release (release processing part) is a shape corresponding to an automobile meter panel. The shape includes a region where the outer edge is formed in an arc shape along the rotational direction of the meter needle and the outer edge forms a V-shape (including an R shape) convex inward in the plane direction. The shape of the release is not limited to the above example, and any suitable shape may be employed depending on the purpose. For example, as the shape of the through hole, a circle, an ellipse, a triangle, a quadrangle, a pentagon, a hexagon, or an octagon may be employed. In addition, the through hole is provided in an arbitrary appropriate position depending on the purpose. The through hole may be provided at a substantially central portion of the longitudinal direction end portion of the rectangular polarizing plate, may be provided at a predetermined position at the longitudinal direction end portion, or may be provided at a corner portion of the polarizing plate; It may be provided at the short side end of the rectangular polarizing plate; The whole may be provided in the central part of the polarizing plate which has a release shape. The mold release processing part may be formed by combining the forms of the above examples. For example, you may form combining a through hole, a V-shaped notch, and/or a U-shaped notch.
편광판의 총 두께는, 바람직하게는 60㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 55㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 50㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 40㎛ 이하이다. 총 두께의 하한은, 예를 들어 28㎛일 수 있다. 본 발명의 실시 형태에 따르면, 저저항 점착제층을 갖고, 또한 편광자의 한쪽 측에만 보호층을 갖는 구성에 있어서, 편광자의 양측에 보호층을 갖는 구성과 동등한 효과를 얻을 수 있다. 그 결과, 한쪽의 보호층을 생략할 수 있으므로, 현저한 박형화를 실현할 수 있다. 편광판의 총 두께가 이러한 범위라면, 소위 딜레이 버블이라고 칭해지는 기포의 발생을 현저하게 억제할 수 있다. 딜레이 버블이란, 이하와 같은 상황에서 발생하는 기포를 말한다. 예를 들어, 관통 구멍이 형성된 편광판을 화상 표시 패널의 시인측에 접합한 경우, 당해 편광판의 시인측에 커버 유리가 접합되는 경우가 있다. 커버 유리는, 소정의 점착제를 통해 진공 라미네이트에 의해 접합된다. 이때, 관통 구멍은 당해 점착제로 충전될 수 있다. 진공 라미네이트 직후는 충전 부분에 인식 가능한 기포는 존재하지 않는 경우가 많은 한편, 그 후의 화상 표시 장치의 가열 내구성 시험에 있어서 기포가 발생하는 경우가 있다. 이러한 기포는, 대표적으로는, 충전부에 편광판의 수축 응력이 가해짐으로써 발생할 수 있다. 이러한 기포를 딜레이 버블이라고 칭한다. 딜레이 버블은, 미세한 것은 아니고, 관통 구멍의 평면으로 본 면적의 일정 비율 이상을 차지하는 큰 것이고, 외관의 관점에서도 관통 구멍에 대응하는 위치에 마련되는 카메라부의 카메라 성능의 관점에서도 허용 곤란하다. 따라서, 딜레이 버블의 억제는, 공업적인 가치가 높다. 또한, 편광판의 총 두께란, 편광자, 보호층, 요오드 투과 억제층 및 이것들을 적층하기 위한 접착제층 또는 점착제층의 두께의 합계를 말한다(즉, 편광판의 총 두께는, 점착제층(30) 및 그 표면에 가착될 수 있는 박리 필름의 두께를 포함하지 않는다).The total thickness of the polarizing plate is preferably 60 μm or less, more preferably 55 μm or less, still more preferably 50 μm or less, and particularly preferably 40 μm or less. The lower limit of the total thickness may be, for example, 28 μm. According to embodiment of this invention, in the structure which has a low-resistance adhesive layer and has a protective layer only on one side of a polarizer, the effect equivalent to the structure which has a protective layer on both sides of a polarizer can be acquired. As a result, since one protective layer can be omitted, remarkable thinning can be realized. If the total thickness of the polarizing plate is within this range, generation of air bubbles, so-called delay bubbles, can be remarkably suppressed. A delay bubble refers to a bubble generated in the following situations. For example, when a polarizing plate with a through hole is bonded to the viewing side of an image display panel, a cover glass may be bonded to the viewing side of the polarizing plate. The cover glass is bonded by vacuum lamination via a predetermined pressure sensitive adhesive. At this time, the through hole may be filled with the adhesive. Immediately after vacuum lamination, there are many cases where there are no recognizable bubbles in the filling portion, but there are cases where bubbles are generated in the subsequent heating endurance test of the image display device. Such bubbles can typically be generated when shrinkage stress of the polarizing plate is applied to the filling part. Such bubbles are called delay bubbles. Delay bubbles are not minute, but large, occupying a certain percentage or more of the planar area of the through hole, and are difficult to accept from the viewpoint of appearance and camera performance of the camera unit provided at the position corresponding to the through hole. Therefore, suppression of delay bubbles has high industrial value. In addition, the total thickness of the polarizing plate refers to the total thickness of the polarizer, the protective layer, the iodine permeation suppression layer, and the adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer for laminating them (ie, the total thickness of the polarizing plate is the pressure-
이하, 편광판의 구성 요소에 대하여, 더 상세하게 설명한다.Hereinafter, the components of the polarizing plate will be described in more detail.
B. 편광자B. Polarizer
편광자는, 대표적으로는, 2색성 물질(대표적으로는, 요오드)을 포함하는 수지 필름으로 구성된다. 수지 필름으로서는, 편광자로서 사용될 수 있는 임의의 적절한 수지 필름을 채용할 수 있다. 수지 필름은, 대표적으로는, 폴리비닐알코올계 수지(이하, 「PVA계 수지」라고 칭함) 필름이다. 수지 필름은, 단층의 수지 필름이어도 되고, 2층 이상의 적층체여도 된다.The polarizer is typically made of a resin film containing a dichroic substance (typically, iodine). As the resin film, any suitable resin film that can be used as a polarizer can be employed. The resin film is typically a polyvinyl alcohol-based resin (hereinafter referred to as "PVA-based resin") film. The resin film may be a single layer resin film or a laminate of two or more layers.
단층의 수지 필름으로 구성되는 편광자의 구체예로서는, PVA계 수지 필름에 요오드에 의한 염색 처리 및 연신 처리(대표적으로는, 1축 연신)가 실시된 것을 들 수 있다. 상기 요오드에 의한 염색은, 예를 들어 PVA계 필름을 요오드 수용액에 침지시킴으로써 행해진다. 상기 1축 연신의 연신 배율은, 바람직하게는 3 내지 7배이다. 연신은, 염색 처리 후에 행해도 되고, 염색하면서 행해도 된다. 또한, 연신하고 나서 염색해도 된다. 필요에 따라, PVA계 수지 필름에, 팽윤 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리 등이 실시된다. 예를 들어, 염색 전에 PVA계 수지 필름을 물에 침지하여 수세함으로써, PVA계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있을 뿐만 아니라, PVA계 수지 필름을 팽윤시켜 염색 불균일 등을 방지할 수 있다.As a specific example of the polarizer comprised from the resin film of a single layer, the thing to which the dyeing process by iodine and the extending|stretching process (typically uniaxial stretching) were given to the PVA system resin film is mentioned. The dyeing with iodine is performed, for example, by immersing the PVA-based film in an aqueous solution of iodine. The draw ratio of the uniaxial stretching is preferably 3 to 7 times. Stretching may be performed after dyeing treatment, or may be performed while dyeing. Moreover, you may dye after extending|stretching. Swelling treatment, crosslinking treatment, washing treatment, drying treatment and the like are given to the PVA-based resin film as necessary. For example, by immersing the PVA-based resin film in water and washing it with water before dyeing, not only can dirt and anti-blocking agents on the surface of the PVA-based film be washed, but also swelling of the PVA-based resin film can prevent uneven coloring and the like. .
적층체를 사용하여 얻어지는 편광자의 구체예로서는, 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA계 수지층(PVA계 수지 필름)의 적층체, 혹은 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층의 적층체를 사용하여 얻어지는 편광자를 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층의 적층체를 사용하여 얻어지는 편광자는, 예를 들어 PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고, 건조시켜 수지 기재 상에 PVA계 수지층을 형성하여, 수지 기재와 PVA계 수지층의 적층체를 얻는 것; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 편광자로 하는 것;에 의해 제작될 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 바람직하게는 수지 기재의 편측에, 할로겐화물과 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 폴리비닐알코올계 수지층을 형성한다. 연신은, 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은, 필요에 따라, 붕산 수용액 중에서의 연신 전에 적층체를 고온(예를 들어, 95℃ 이상)에서 공중 연신하는 것을 더 포함할 수 있다. 또한, 본 실시 형태에 있어서는, 바람직하게는 적층체는, 길이 방향으로 반송하면서 가열함으로써 폭 방향으로 2% 이상 수축시키는 건조 수축 처리에 제공된다. 대표적으로는, 본 실시 형태의 제조 방법은, 적층체에, 공중 보조 연신 처리와 염색 처리와 수중 연신 처리와 건조 수축 처리를 이 순으로 실시하는 것을 포함한다. 보조 연신을 도입함으로써, 열가소성 수지 상에 PVA를 도포하는 경우라도, PVA의 결정성을 높이는 것이 가능해져, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능해진다. 또한, 동시에 PVA의 배향성을 사전에 높임으로써, 이후의 염색 공정이나 연신 공정에서 물에 침지되었을 때, PVA의 배향성의 저하나 용해 등의 문제를 방지할 수 있어, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능해진다. 또한, PVA계 수지층을 액체에 침지한 경우에 있어서, PVA계 수지층이 할로겐화물을 포함하지 않는 경우에 비해, 폴리비닐알코올 분자의 배향의 흐트러짐, 및 배향성의 저하가 억제될 수 있다. 이에 의해, 염색 처리 및 수중 연신 처리 등, 적층체를 액체에 침지하여 행하는 처리 공정을 거쳐서 얻어지는 편광자의 광학 특성을 향상시킬 수 있다. 또한, 건조 수축 처리에 의해 적층체를 폭 방향으로 수축시킴으로써, 광학 특성을 향상시킬 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체는 그대로 사용해도 되고(즉, 수지 기재를 편광자의 보호층으로 해도 되고), 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리하고, 당해 박리면에 목적에 따른 임의의 적절한 보호층을 적층하여 사용해도 된다. 이러한 편광자의 제조 방법의 상세는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2012-73580호 공보, 일본 특허 제6470455호에 기재되어 있다. 이들 공보는, 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.As a specific example of a polarizer obtained using a laminate, a laminate of a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer (PVA-based resin film) laminated on the resin substrate, or a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer applied and formed on the resin substrate A polarizer obtained using a sieve is exemplified. A polarizer obtained by using a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer coated and formed on the resin substrate, for example, by applying a PVA-based resin solution to the resin substrate, drying it, and forming a PVA-based resin layer on the resin substrate. , Obtaining a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer; It can be produced by: stretching and dyeing the layered product to make the PVA-based resin layer a polarizer. In the present embodiment, preferably, a polyvinyl alcohol-based resin layer containing a halide and a polyvinyl alcohol-based resin is formed on one side of the resin substrate. Stretching typically involves immersing the layered product in an aqueous solution of boric acid, followed by stretching. Further, the stretching may further include, if necessary, air stretching of the laminate at a high temperature (eg, 95° C. or higher) before stretching in a boric acid aqueous solution. Further, in the present embodiment, the laminate is preferably subjected to a drying shrinkage treatment in which the laminate is shrunk by 2% or more in the width direction by heating while conveying in the longitudinal direction. Typically, the manufacturing method of this embodiment includes giving the laminated body an air assisted stretching treatment, a dyeing treatment, an underwater stretching treatment, and a drying shrinkage treatment in this order. By introducing auxiliary stretching, even when applying PVA on a thermoplastic resin, it becomes possible to improve the crystallinity of PVA and achieve high optical properties. In addition, by simultaneously increasing the orientation of PVA in advance, it is possible to prevent problems such as deterioration in orientation or dissolution of PVA when immersed in water in a subsequent dyeing step or drawing step, and to achieve high optical properties. It happens. Further, in the case where the PVA-based resin layer is immersed in a liquid, the disorder of the orientation of polyvinyl alcohol molecules and the decrease in orientation can be suppressed compared to the case where the PVA-based resin layer does not contain a halide. Thereby, the optical characteristics of the polarizer obtained through the processing process performed by immersing a layered product in liquid, such as a dyeing process and an underwater extension process, can be improved. In addition, optical properties can be improved by shrinking the laminate in the width direction by drying shrinkage treatment. The obtained laminate of the resin substrate/polarizer may be used as it is (that is, the resin substrate may be used as a protective layer for the polarizer), and the resin substrate is peeled from the laminate of the resin substrate/polarizer, and the peeling surface is optionally used according to the purpose. An appropriate protective layer of may be laminated and used. The detail of the manufacturing method of such a polarizer is described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-73580 and Japanese Patent No. 6470455, for example. As for these publications, the entire description is incorporated herein by reference.
편광자의 두께는, 바람직하게는 1㎛ 내지 10㎛이고, 보다 바람직하게는 1㎛ 내지 8㎛이고, 더욱 바람직하게는 2㎛ 내지 5㎛이다. 편광자의 두께가 이러한 범위라면, 편광판의 박형화에 크게 공헌할 수 있다.The thickness of the polarizer is preferably 1 μm to 10 μm, more preferably 1 μm to 8 μm, still more preferably 2 μm to 5 μm. If the thickness of the polarizer is within this range, it can greatly contribute to the thinning of the polarizing plate.
편광자는, 바람직하게는 파장 380㎚ 내지 780㎚의 어느 파장에서 흡수 2색성을 나타낸다. 편광자의 단체 투과율은, 바람직하게는 41.5% 내지 46.0%이고, 보다 바람직하게는 43.0% 내지 46.0%이고, 더욱 바람직하게는 44.5% 내지 46.0%이다. 편광자의 편광도는, 바람직하게는 97.0% 이상이고, 보다 바람직하게는 99.0% 이상이고, 더욱 바람직하게는 99.9% 이상이다.The polarizer preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength of 380 nm to 780 nm. The single transmittance of the polarizer is preferably 41.5% to 46.0%, more preferably 43.0% to 46.0%, still more preferably 44.5% to 46.0%. The degree of polarization of the polarizer is preferably 97.0% or more, more preferably 99.0% or more, still more preferably 99.9% or more.
C. 보호층C. protective layer
보호층(12)(및, 존재하는 경우에는 별도의 보호층)은, 편광자의 보호층으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 형성된다. 당해 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로서는, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지나, 폴리에스테르계, 폴리비닐알코올계, 폴리카르보네이트계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리에테르술폰계, 폴리술폰계, 폴리스티렌계, 폴리노르보르넨계, 폴리올레핀계, (메트)아크릴계, 아세테이트계 등의 투명 수지 등을 들 수 있다. 또한, (메트)아크릴계, 우레탄계, (메트)아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화형 수지 또는 자외선 경화형 수지 등도 들 수 있다. 이 밖에도, 예를 들어 실록산계 폴리머 등의 유리질계 폴리머도 들 수 있다. 또한, 일본 특허 공개 제2001-343529호 공보(WO01/37007)에 기재된 폴리머 필름도 사용할 수 있다. 이 필름의 재료로서는, 예를 들어 측쇄에 치환 또는 비치환의 이미드기를 갖는 열가소성 수지와, 측쇄에 치환 또는 비치환의 페닐기, 그리고 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 수지 조성물을 사용할 수 있고, 예를 들어 이소부텐과 N-메틸말레이미드로 이루어지는 교호 공중합체와, 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체를 갖는 수지 조성물을 들 수 있다. 당해 폴리머 필름은, 예를 들어 상기 수지 조성물의 압출 성형물일 수 있다.The protective layer 12 (and another protective layer, if present) is formed of any appropriate film that can be used as a protective layer for a polarizer. Specific examples of the material used as the main component of the film include cellulose-based resins such as triacetyl cellulose (TAC), polyester-based, polyvinyl alcohol-based, polycarbonate-based, polyamide-based, polyimide-based, and polyether alcohol. and transparent resins such as phonon-based, polysulfone-based, polystyrene-based, polynorbornene-based, polyolefin-based, (meth)acrylic-based, and acetate-based resins. Further, thermosetting resins such as (meth)acrylic, urethane-based, (meth)acrylurethane-based, epoxy-based, and silicone-based resins or ultraviolet curable resins may be used. In addition, glassy type polymers, such as a siloxane type polymer, are also mentioned, for example. Moreover, the polymer film of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-343529 (WO01/37007) can also be used. As the material of this film, for example, a resin composition containing a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted imide group in its side chain, a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted phenyl group and a nitrile group in its side chain can be used. For example, and a resin composition comprising an alternating copolymer of isobutene and N-methylmaleimide, and an acrylonitrile/styrene copolymer. The polymer film may be, for example, an extrusion molding of the resin composition.
편광판이 화상 표시 장치의 시인측에 배치되는 경우에는, 보호층(12)은, 대표적으로는 그 시인측에 배치된다. 이 경우, 보호층(12)에는, 필요에 따라, 하드 코트 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리, 안티글레어 처리 등의 표면 처리가 실시되어 있어도 된다.When the polarizing plate is disposed on the viewing side of the image display device, the
보호층의 두께는, 바람직하게는 10㎛ 내지 50㎛, 보다 바람직하게는 15㎛ 내지 35㎛이다. 또한, 표면 처리가 실시되어 있는 경우, 외측 보호층의 두께는, 표면 처리층의 두께를 포함한 두께이다.The thickness of the protective layer is preferably 10 μm to 50 μm, more preferably 15 μm to 35 μm. In addition, when the surface treatment is performed, the thickness of the outer protective layer is the thickness including the thickness of the surface treatment layer.
D. 요오드 투과 억제층D. Iodine Permeation Inhibiting Layer
본 발명의 실시 형태에 있어서는, 요오드 투과 억제층을 마련함으로써, 고온 환경 하 및/또는 고온·고습 환경 하에 있어서의 점착제층의 표면 저항값의 상승을 억제할 수 있고, 또한 이형 가공할 때의 크랙을 억제할 수 있다. 요오드 투과 억제층은, 상기한 바와 같이, 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물 또는 열경화물이다. 이와 같은 구성이라면, 두께를 매우 얇게(예를 들어, 10㎛ 이하로) 할 수 있다. 요오드 투과 억제층의 두께는, 바람직하게는 0.05㎛ 내지 10㎛이고, 보다 바람직하게는 0.08㎛ 내지 5㎛이고, 더욱 바람직하게는 0.1㎛ 내지 1㎛이고, 특히 바람직하게는 0.2㎛ 내지 0.7㎛이다. 또한, 이러한 구성이라면, 요오드 투과 억제층을 편광자에 직접(즉, 접착제층 또는 점착제층을 개재시키지 않고) 형성할 수 있다. 본 발명의 실시 형태에 따르면, 상기한 바와 같이 편광자 및 요오드 투과 억제층이 매우 얇고, 또한 요오드 투과 억제층을 적층하기 위한 접착제층 또는 점착제층을 생략할 수 있으므로, 편광판의 총 두께를 매우 얇게 할 수 있다. 또한, 이러한 요오드 투과 억제층은, 수용액 또는 수 분산체와 같은 수계의 도포막의 고화물에 비해 흡습성 및 투습성이 작으므로 가습 내구성이 우수하다는 이점을 갖는다. 그 결과, 고온 고습 환경 하에 있어서도 광학 특성을 유지할 수 있는, 내구성이 우수한 편광판을 실현할 수 있다. 또한, 이러한 요오드 투과 억제층은, 예를 들어 자외선 경화성 수지의 경화물에 비해 자외선 조사에 의한 편광판(편광자)에 대한 악영향을 억제할 수 있다. 요오드 투과 억제층은, 바람직하게는 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물이다. 고화물은, 경화물에 비해 필름 성형 시의 수축이 작고, 및, 잔존 모노머 등이 포함되지 않으므로 필름 자체의 열화가 억제되고, 또한 잔존 모노머 등에 기인하는 편광판(편광자)에 대한 악영향을 억제할 수 있다.In the embodiment of the present invention, by providing an iodine permeation suppression layer, it is possible to suppress an increase in the surface resistance value of the pressure-sensitive adhesive layer in a high-temperature environment and/or a high-temperature/high-humidity environment, and cracks during release processing. can suppress As described above, the iodine permeation inhibiting layer is a solidified product or a thermoset product of a coating film of an organic solvent solution of a resin. With such a configuration, the thickness can be made very thin (for example, 10 μm or less). The thickness of the iodine permeation inhibiting layer is preferably 0.05 μm to 10 μm, more preferably 0.08 μm to 5 μm, still more preferably 0.1 μm to 1 μm, and particularly preferably 0.2 μm to 0.7 μm. . In addition, with such a structure, the iodine permeation suppression layer can be formed directly on the polarizer (ie, without an adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer interposed therebetween). According to the embodiment of the present invention, as described above, since the polarizer and the iodine permeation suppression layer are very thin, and the adhesive layer or the pressure-sensitive adhesive layer for laminating the iodine permeation suppression layer can be omitted, the total thickness of the polarizing plate can be made very thin. can In addition, such an iodine permeation inhibiting layer has an advantage of excellent humidification durability because it has lower hygroscopicity and moisture permeability than a solidified product of an aqueous coating film such as an aqueous solution or an aqueous dispersion. As a result, a polarizing plate excellent in durability capable of maintaining optical properties even under a high-temperature, high-humidity environment can be realized. In addition, such an iodine permeation suppression layer can suppress adverse effects on a polarizing plate (polarizer) by ultraviolet irradiation compared to, for example, a cured product of an ultraviolet curable resin. The iodine permeation inhibiting layer is preferably a solidified product of a coating film of an organic solvent solution of a resin. The solidified material has less shrinkage during film molding than the cured material, and since no residual monomer or the like is contained, deterioration of the film itself is suppressed, and adverse effects on the polarizing plate (polarizer) due to the residual monomer or the like can be suppressed. there is.
요오드 투과 억제층을 구성하는 수지의 유리 전이 온도(Tg)는, 대표적으로는 85℃ 이상이고, 바람직하게는 90℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 100℃ 이상이고, 더욱 바람직하게는 110℃ 이상이고, 특히 바람직하게는 120℃ 이상이다. Tg의 상한은, 예를 들어 200℃일 수 있다. 당해 수지의 중량 평균 분자량 Mw는, 대표적으로는 25000 이상이고, 바람직하게는 30000 이상이고, 보다 바람직하게는 35000 이상이고, 더욱 바람직하게는 40000 이상이다. Mw의 상한은, 예를 들어 150000일 수 있다. 당해 수지의 Tg 및 Mw가 이러한 범위라면, 요오드 투과 억제층을 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물 또는 열경화물로 구성하는 것에 의한 효과와의 상승적인 효과에 의해, 매우 얇음에도 불구하고, 편광자 중의 요오드의 화상 표시 패널로의 이행을 현저하게 억제할 수 있다. 결과적으로, 편광판을 화상 표시 장치에 적용한 경우에 화상 표시 장치의 금속 부재의 부식을 현저하게 억제할 수 있다.The glass transition temperature (Tg) of the resin constituting the iodine permeation inhibiting layer is typically 85°C or higher, preferably 90°C or higher, more preferably 100°C or higher, still more preferably 110°C or higher. , particularly preferably 120°C or higher. The upper limit of Tg may be, for example, 200°C. The weight average molecular weight Mw of the resin is typically 25000 or more, preferably 30000 or more, more preferably 35000 or more, still more preferably 40000 or more. The upper limit of Mw may be, for example, 150000. If the Tg and Mw of the resin are within these ranges, the polarizer, despite being very thin, has a synergistic effect with the effect of constituting the iodine permeation suppression layer with a solidified product or a thermoset product of a coating film of an organic solvent solution of the resin. The transfer of iodine to the image display panel can be remarkably suppressed. As a result, when the polarizing plate is applied to the image display device, corrosion of the metal member of the image display device can be remarkably suppressed.
요오드 투과 억제층을 구성하는 수지로서는, 임의의 적절한 열가소성 수지 또는 열경화성 수지를 사용할 수 있다. 바람직하게는, 열가소성 수지이다. 열가소성 수지로서는, 예를 들어 아크릴계 수지, 에폭시계 수지를 들 수 있다. 아크릴계 수지와 에폭시계 수지를 조합하여 사용해도 된다. 이하, 요오드 투과 억제층에 사용될 수 있는 아크릴계 수지 및 에폭시계 수지의 대표예를 설명한다.As the resin constituting the iodine permeation inhibiting layer, any suitable thermoplastic resin or thermosetting resin can be used. Preferably, it is a thermoplastic resin. As a thermoplastic resin, an acrylic resin and an epoxy resin are mentioned, for example. An acrylic resin and an epoxy resin may be used in combination. Hereinafter, representative examples of acrylic resins and epoxy resins that can be used for the iodine permeation inhibiting layer will be described.
아크릴계 수지는, 대표적으로는, 직쇄 또는 분지 구조를 갖는 (메트)아크릴산에스테르계 단량체 유래의 반복 단위를 주성분으로서 함유한다. 본 명세서에 있어서, (메트)아크릴이란, 아크릴 및/또는 메타크릴을 말한다. 아크릴계 수지는, 목적에 따른 임의의 적절한 공중합 단량체 유래의 반복 단위를 함유할 수 있다. 공중합 단량체(공중합 모노머)로서는, 예를 들어 카르복실기 함유 모노머, 히드록실기 함유 모노머, 아미드기 함유 모노머, 방향환 함유 (메트)아크릴레이트, 복소환 함유 비닐계 모노머를 들 수 있다. 모노머 단위의 종류, 수, 조합 및 공중합비 등을 적절하게 설정함으로써, 상기 소정의 Mw를 갖는 아크릴계 수지가 얻어질 수 있다.Acrylic resin typically contains, as a main component, a repeating unit derived from a (meth)acrylic acid ester monomer having a linear or branched structure. In this specification, a (meth)acryl refers to an acryl and/or methacryl. The acrylic resin may contain a repeating unit derived from any suitable copolymerizable monomer depending on the purpose. Examples of copolymerization monomers (copolymerization monomers) include carboxyl group-containing monomers, hydroxyl group-containing monomers, amide group-containing monomers, aromatic ring-containing (meth)acrylates, and heterocyclic-containing vinyl monomers. By appropriately setting the type, number, combination and copolymerization ratio of monomer units, an acrylic resin having the predetermined Mw can be obtained.
<붕소 함유 아크릴계 수지><Boron-containing acrylic resin>
아크릴계 수지는, 하나의 실시 형태에 있어서는, 50중량부를 초과하는 (메트)아크릴계 단량체와 0중량부를 초과하고 50중량부 미만인 식 (1)로 표현되는 단량체(이하, 공중합 단량체라고 칭하는 경우가 있음)를 포함하는 모노머 혼합물을 중합함으로써 얻어지는 공중합체(이하, 붕소 함유 아크릴계 수지라고 칭하는 경우가 있음)를 포함한다:In one embodiment, the acrylic resin is a (meth)acrylic monomer exceeding 50 parts by weight and a monomer represented by formula (1) exceeding 0 parts by weight and less than 50 parts by weight (hereinafter sometimes referred to as a copolymerization monomer) It includes a copolymer (hereinafter sometimes referred to as a boron-containing acrylic resin) obtained by polymerizing a monomer mixture containing:
(식 중, X는 비닐기, (메트)아크릴기, 스티릴기, (메트)아크릴아미드기, 비닐에테르기, 에폭시기, 옥세탄기, 히드록실기, 아미노기, 알데히드기, 및 카르복실기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 반응성기를 포함하는 관능기를 나타내고, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 지방족 탄화수소기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 헤테로환기를 나타내고, R1 및 R2는 서로 연결하여 환을 형성해도 된다).(Wherein, X is selected from the group consisting of a vinyl group, a (meth)acrylic group, a styryl group, a (meth)acrylamide group, a vinylether group, an epoxy group, an oxetane group, a hydroxyl group, an amino group, an aldehyde group, and a carboxyl group represents a functional group containing at least one reactive group, and R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a hetero which may have a substituent represents ventilation, and R 1 and R 2 may be connected to each other to form a ring).
붕소 함유 아크릴계 수지는, 대표적으로는 하기 식으로 표현되는 반복 단위를 갖는다. 식 (1)로 표현되는 공중합 단량체와 (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 모노머 혼합물을 중합함으로써, 붕소 함유 아크릴계 수지는 측쇄에 붕소를 포함하는 치환기(예를 들어, 하기 식 중 k의 반복 단위)를 갖는다. 이에 의해, 요오드 투과 억제층을 편광자에 인접하여 배치한 경우에 편광자와의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 이 붕소를 포함하는 치환기는, 붕소 함유 아크릴계 수지에 연속해서(즉, 블록 형상으로) 포함되어 있어도 되고, 랜덤하게 포함되어 있어도 된다.Boron-containing acrylic resin typically has a repeating unit represented by the following formula. By polymerizing a monomer mixture containing a copolymerization monomer represented by Formula (1) and a (meth)acrylic monomer, the boron-containing acrylic resin has a boron-containing substituent in the side chain (for example, a repeating unit of k in the following formula) have Thereby, when an iodine transmission suppression layer is arrange|positioned adjacent to a polarizer, adhesiveness with a polarizer can be improved. The boron-containing substituent may be continuously (ie, in a block shape) or randomly included in the boron-containing acrylic resin.
(식 중, R6은 임의의 관능기를 나타내고, j 및 k는 1 이상의 정수를 나타낸다).(In the formula, R 6 represents an arbitrary functional group, and j and k represent integers greater than or equal to 1).
<(메트)아크릴계 단량체><(meth)acrylic monomer>
(메트)아크릴계 단량체로서는 임의의 적절한 (메트)아크릴계 단량체를 사용할 수 있다. 예를 들어, 직쇄 또는 분지 구조를 갖는 (메트)아크릴산에스테르계 단량체, 및 환상 구조를 갖는 (메트)아크릴산에스테르계 단량체를 들 수 있다.Any appropriate (meth)acrylic monomer can be used as the (meth)acrylic monomer. For example, a (meth)acrylic acid ester type monomer having a linear or branched structure and a (meth)acrylic acid ester type monomer having a cyclic structure are exemplified.
직쇄 또는 분지 구조를 갖는 (메트)아크릴산에스테르계 단량체로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산n-프로필, (메트)아크릴산이소프로필, (메트)아크릴산n-부틸, (메트)아크릴산이소부틸, (메트)아크릴산t-부틸, (메트)아크릴산메틸2-에틸헥실, (메트)아크릴산2-히드록시에틸 등을 들 수 있다. 바람직하게는, (메트)아크릴산메틸이 사용된다. (메트)아크릴산에스테르계 단량체는, 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Examples of the (meth)acrylic acid ester monomer having a straight chain or branched structure include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, and n (meth)acrylate. -Butyl, isobutyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, methyl 2-ethylhexyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and the like. Preferably, methyl (meth)acrylate is used. The (meth)acrylic acid ester monomer may be used alone or in combination of two or more.
환상 구조를 갖는 (메트)아크릴산에스테르계 단량체로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산시클로헥실, (메트)아크릴산벤질, (메트)아크릴산이소보르닐, (메트)아크릴산1-아다만틸, (메트)아크릴산디시클로펜테닐, (메트)아크릴산디시클로펜테닐옥시에틸, (메트)아크릴산디시클로펜타닐, 비페닐(메트)아크릴레이트, o-비페닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, o-비페닐옥시에톡시에틸(메트)아크릴레이트, m-비페닐옥시에틸아크릴레이트, p-비페닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, o-비페닐옥시-2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, p-비페닐옥시-2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, m-비페닐옥시-2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, N-(메트)아크릴로일옥시에틸-o-비페닐=카르바메이트, N-(메트)아크릴로일옥시에틸-p-비페닐=카르바메이트, N-(메트)아크릴로일옥시에틸-m-비페닐=카르바메이트, o-페닐페놀글리시딜에테르아크릴레이트 등의 비페닐기 함유 모노머, 터페닐(메트)아크릴레이트, o-터페닐옥시에틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 바람직하게는, (메트)아크릴산1-아다만틸, (메트)아크릴산디시클로펜타닐이 사용된다. 이들 단량체를 사용함으로써, 유리 전이 온도가 높은 중합체가 얻어진다. 이들 단량체는 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Examples of the (meth)acrylic acid ester monomer having a cyclic structure include cyclohexyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, 1-adamantyl (meth)acrylate, and (meth)acrylate. Dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, biphenyl (meth)acrylate, o-biphenyloxyethyl (meth)acrylate, o-biphenyloxy Ethoxyethyl (meth)acrylate, m-biphenyloxyethyl acrylate, p-biphenyloxyethyl (meth)acrylate, o-biphenyloxy-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, p-bi Phenyloxy-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, m-biphenyloxy-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, N-(meth)acryloyloxyethyl-o-biphenyl = carbamate , N-(meth)acryloyloxyethyl-p-biphenyl=carbamate, N-(meth)acryloyloxyethyl-m-biphenyl=carbamate, o-phenylphenol glycidyl ether acrylate Biphenyl group-containing monomers, such as a rate, terphenyl (meth)acrylate, o-terphenyloxyethyl (meth)acrylate, etc. are mentioned. Preferably, 1-adamantyl (meth)acrylate and dicyclopentanyl (meth)acrylate are used. By using these monomers, a polymer having a high glass transition temperature is obtained. These monomers may be used alone or in combination of two or more.
또한, 상기 (메트)아크릴산에스테르계 단량체 대신에, (메트)아크릴로일기를 갖는 실세스퀴옥산 화합물을 사용해도 된다. 실세스퀴옥산 화합물을 사용함으로써, 유리 전이 온도가 높은 아크릴계 중합체가 얻어진다. 실세스퀴옥산 화합물은, 다양한 골격 구조, 예를 들어 바구니형 구조, 사다리형 구조, 랜덤 구조 등의 골격을 갖는 것이 알려져 있다. 실세스퀴옥산 화합물은, 이들 구조를 1종만을 갖는 것이어도 되고, 2종 이상을 갖는 것이어도 된다. 실세스퀴옥산 화합물은 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Moreover, you may use the silsesquioxane compound which has a (meth)acryloyl group instead of the said (meth)acrylic acid ester type monomer. By using a silsesquioxane compound, an acrylic polymer with a high glass transition temperature is obtained. Silsesquioxane compounds are known to have various skeleton structures, for example, cage structures, ladder structures, and random structures. A silsesquioxane compound may have only 1 type of these structures, and may have 2 or more types. Silsesquioxane compounds may be used alone or in combination of two or more.
(메트)아크릴로일기를 함유하는 실세스퀴옥산 화합물로서, 예를 들어, 도아 고세 가부시키가이샤 SQ 시리즈의 MAC 그레이드 및 AC 그레이드를 사용할 수 있다. MAC 그레이드는, 메타크릴로일기를 함유하는 실세스퀴옥산 화합물이고, 구체적으로는, 예를 들어 MAC-SQ TM-100, MAC-SQ SI-20, MAC-SQ HDM 등을 들 수 있다. AC 그레이드는, 아크릴로일기를 함유하는 실세스퀴옥산 화합물이고, 구체적으로는, 예를 들어 AC-SQ TA-100, AC-SQ SI-20 등을 들 수 있다.As a silsesquioxane compound containing a (meth)acryloyl group, MAC grade and AC grade of Toagosei Co., Ltd. SQ series can be used, for example. MAC grade is a silsesquioxane compound containing a methacryloyl group, and specifically, MAC-SQ TM-100, MAC-SQ SI-20, MAC-SQ HDM etc. are mentioned. AC grade is a silsesquioxane compound containing an acryloyl group, and specifically, AC-SQ TA-100, AC-SQ SI-20 etc. are mentioned.
(메트)아크릴계 단량체는, 모노머 혼합물 100중량부에 대하여, 50중량부를 초과하여 사용된다.The (meth)acrylic monomer is used in an amount exceeding 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer mixture.
<공중합 단량체><Copolymerization monomer>
공중합 단량체로서는, 상기 식 (1)로 표현되는 단량체가 사용된다. 이러한 공중합 단량체를 사용함으로써, 얻어지는 중합체의 측쇄에 붕소를 포함하는 치환기가 도입된다. 공중합 단량체는 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.As a copolymerization monomer, the monomer represented by said Formula (1) is used. By using such a copolymerization monomer, a substituent containing boron is introduced into the side chain of the resulting polymer. A copolymerization monomer may use only 1 type, and may use it in combination of 2 or more types.
상기 식 (1)에 있어서의 지방족 탄화수소기로서는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3 내지 20의 환상 알킬기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기를 들 수 있다. 상기 아릴기로서는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 6 내지 20의 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 10 내지 20의 나프틸기 등을 들 수 있다. 헤테로환기로서는, 치환기를 갖고 있어도 되는 적어도 하나의 헤테로 원자를 포함하는 5원환기 또는 6원환기를 들 수 있다. 또한, R1 및 R2는 서로 연결하여 환을 형성해도 된다. R1 및 R2는, 바람직하게는 수소 원자, 혹은 탄소수 1 내지 3의 직쇄 또는 분지의 알킬기이고, 보다 바람직하게는 수소 원자이다.As the aliphatic hydrocarbon group in the above formula (1), a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a cyclic alkyl group having 3 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms. can be heard As said aryl group, the C6-C20 phenyl group which may have a substituent, the C10-C20 naphthyl group which may have a substituent, etc. are mentioned. As a heterocyclic group, the 5-membered ring group or the 6-membered ring group containing at least 1 hetero atom which may have a substituent is mentioned. In addition, R 1 and R 2 may be connected to each other to form a ring. R 1 and R 2 are preferably a hydrogen atom or a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom.
X로 표현되는 관능기가 포함하는 반응성기는, 비닐기, (메트)아크릴기, 스티릴기, (메트)아크릴아미드기, 비닐에테르기, 에폭시기, 옥세탄기, 히드록실기, 아미노기, 알데히드기, 및 카르복실기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이다. 바람직하게는, 반응성기는 (메트)아크릴기 및/또는 (메트)아크릴아미드기이다. 이들 반응성기를 가짐으로써, 요오드 투과 억제층을 편광자에 인접하여 배치한 경우에 편광자와의 밀착성을 더 향상시킬 수 있다.The reactive group included in the functional group represented by X is a vinyl group, a (meth)acrylic group, a styryl group, a (meth)acrylamide group, a vinyl ether group, an epoxy group, an oxetane group, a hydroxyl group, an amino group, an aldehyde group, and a carboxyl group. It is at least one kind selected from the group consisting of. Preferably, the reactive group is a (meth)acrylic group and/or a (meth)acrylamide group. By having these reactive groups, when the iodine permeation suppression layer is disposed adjacent to the polarizer, adhesion to the polarizer can be further improved.
하나의 실시 형태에 있어서는, X로 표현되는 관능기는, Z-Y-로 표현되는 관능기인 것이 바람직하다. 여기서, Z는 비닐기, (메트)아크릴기, 스티릴기, (메트)아크릴아미드기, 비닐에테르기, 에폭시기, 옥세탄기, 히드록실기, 아미노기, 알데히드기, 및 카르복실기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 반응성기를 포함하는 관능기를 나타내고, Y는 페닐렌기 또는 알킬렌기를 나타낸다.In one embodiment, it is preferable that the functional group represented by X is a functional group represented by Z-Y-. Here, Z is at least selected from the group consisting of a vinyl group, a (meth)acrylic group, a styryl group, a (meth)acrylamide group, a vinylether group, an epoxy group, an oxetane group, a hydroxyl group, an amino group, an aldehyde group, and a carboxyl group. represents a functional group containing one kind of reactive group, and Y represents a phenylene group or an alkylene group.
공중합 단량체로서는, 구체적으로는 이하의 화합물을 사용할 수 있다.As a copolymerization monomer, the following compounds can be specifically used.
공중합 단량체는, 모노머 혼합물 100중량부에 대하여, 0중량부를 초과하고 50중량부 미만인 함유량으로 사용된다. 바람직하게는 0.01중량부 이상 50중량부 미만이고, 보다 바람직하게는 0.05중량부 내지 20중량부이고, 더욱 바람직하게는 0.1중량부 내지 10중량부이고, 특히 바람직하게는 0.5중량부 내지 5중량부이다.The copolymerization monomer is used in a content of more than 0 parts by weight and less than 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer mixture. Preferably it is 0.01 part by weight or more and less than 50 parts by weight, more preferably 0.05 part by weight to 20 parts by weight, even more preferably 0.1 part by weight to 10 parts by weight, particularly preferably 0.5 part by weight to 5 parts by weight. am.
<락톤환 등 함유 아크릴계 수지><Acrylic resin containing lactone ring etc.>
아크릴계 수지는, 다른 실시 형태에 있어서는, 락톤환 단위, 무수 글루타르산 단위, 글루타르이미드 단위, 무수 말레산 단위 및 말레이미드(N-치환 말레이미드) 단위로부터 선택되는 환 구조를 포함하는 반복 단위를 갖고 있어도 된다. 환 구조를 포함하는 반복 단위는, 1종류만이 아크릴계 수지의 반복 단위에 포함되어 있어도 되고, 2종류 이상이 포함되어 있어도 된다. 아크릴계 수지에 있어서의 환 구조를 포함하는 반복 단위의 함유 비율은, 바람직하게는 1몰% 내지 50몰%, 보다 바람직하게는 10몰% 내지 40몰%, 더욱 바람직하게는 20몰% 내지 30몰%이다. 또한, 아크릴계 수지는, 주된 반복 단위로서, 상기한 (메트)아크릴계 단량체 유래의 반복 단위를 포함한다.In another embodiment, the acrylic resin is a repeating unit containing a ring structure selected from a lactone ring unit, a glutaric anhydride unit, a glutarimide unit, a maleic anhydride unit, and a maleimide (N-substituted maleimide) unit. may have As for the repeating unit containing ring structure, only 1 type may be included in the repeating unit of acrylic resin, and 2 or more types may be included. The content of the repeating unit containing a ring structure in the acrylic resin is preferably 1 mol% to 50 mol%, more preferably 10 mol% to 40 mol%, still more preferably 20 mol% to 30 mol%. %am. Moreover, acrylic resin contains the repeating unit derived from the said (meth)acrylic-type monomer as a main repeating unit.
<에폭시 수지><Epoxy resin>
에폭시 수지로서는, 바람직하게는 방향족환을 갖는 에폭시 수지가 사용된다. 방향족환을 갖는 에폭시 수지를 에폭시 수지로서 사용함으로써, 요오드 투과 억제층을 편광자에 인접하여 배치한 경우에 편광자와의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 또한, 요오드 투과 억제층에 인접하여 점착제층을 배치한 경우에, 점착제층의 투묘력을 향상시킬 수 있다. 방향족환을 갖는 에폭시 수지로서는, 예를 들어 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지 등의 비스페놀형 에폭시 수지; 페놀 노볼락 에폭시 수지, 크레졸 노볼락 에폭시 수지, 히드록시벤즈알데히드페놀 노볼락 에폭시 수지 등의 노볼락형의 에폭시 수지; 테트라히드록시페닐메탄의 글리시딜에테르, 테트라히드록시벤조페논의 글리시딜에테르, 에폭시화폴리비닐페놀 등의 다관능형의 에폭시 수지, 나프톨형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지가 사용된다. 에폭시 수지는 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.As the epoxy resin, an epoxy resin having an aromatic ring is preferably used. By using an epoxy resin having an aromatic ring as the epoxy resin, when the iodine permeation suppression layer is disposed adjacent to the polarizer, adhesion to the polarizer can be improved. Further, when the pressure-sensitive adhesive layer is disposed adjacent to the iodine permeation inhibiting layer, the anchoring force of the pressure-sensitive adhesive layer can be improved. Examples of the epoxy resin having an aromatic ring include bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and bisphenol S type epoxy resin; novolak-type epoxy resins such as phenol novolak epoxy resins, cresol novolak epoxy resins, and hydroxybenzaldehyde phenol novolak epoxy resins; Polyfunctional type epoxy resins such as glycidyl ether of tetrahydroxyphenylmethane, glycidyl ether of tetrahydroxybenzophenone, epoxidized polyvinylphenol, naphthol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin etc. can be mentioned. Preferably, bisphenol A type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, and bisphenol F type epoxy resin are used. An epoxy resin may use only 1 type, and may use it in combination of 2 or more types.
요오드 투과 억제층은, 상기와 같은 수지의 유기 용매 용액을 도포하여 도포막을 형성하고, 당해 도포막을 고화 또는 열경화시킴으로써 형성될 수 있다. 도포 방법, 고화 또는 경화 조건으로서는, 임의의 적절한 방법 및 조건이 채용될 수 있다.The iodine permeation inhibiting layer may be formed by applying an organic solvent solution of the above resin to form a coating film, and solidifying or thermally curing the coating film. As the application method, solidification or curing conditions, any suitable method and conditions can be employed.
요오드 투과 억제층(실질적으로는, 상기 수지의 유기 용매 용액)은, 목적에 따라 임의의 적절한 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 첨가제의 종류, 수, 조합, 첨가량 등은, 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다.The iodine permeation suppression layer (actually, the organic solvent solution of the resin) may contain any suitable additive depending on the purpose. The type, number, combination, addition amount, etc. of additives can be appropriately set according to the purpose.
E. 점착제층E. Adhesive layer
점착제층(30)의 표면 저항값은, 상기한 바와 같이 1.0×109Ω/□ 이하이고, 바람직하게는 5.0×108Ω/□ 이하이고, 보다 바람직하게는 1.0×108Ω/□ 이하이고, 더욱 바람직하게는 7.0×107Ω/□ 이하이고, 특히 바람직하게는 1.0×107Ω/□ 이하이다. 표면 저항값의 하한은, 예를 들어 5.0×105Ω/□ 이하일 수 있다. 상기한 바와 같이, 본 발명의 실시 형태에 따르면, 대전 방지제의 함유량이 적음에도 불구하고 표면 저항값이 작은 점착제층을 실현할 수 있다.As described above, the surface resistance of the pressure-
점착제층의 유리에 대한 점착력은, 바람직하게는 1.0N/25㎜ 이상이고, 보다 바람직하게는 1.5N/25㎜ 이상이고, 더욱 바람직하게는 2.0N/25㎜ 이상이다. 점착력이 이러한 범위라면, 화상 표시 패널에 대한 밀착성이 우수하고, 또한 리워크성이 우수하다. 점착력의 상한은, 예를 들어 6.0N/25㎜일 수 있다.The adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer to glass is preferably 1.0 N/25 mm or more, more preferably 1.5 N/25 mm or more, still more preferably 2.0 N/25 mm or more. If the adhesive force is within this range, the adhesion to the image display panel is excellent, and the reworkability is excellent. The upper limit of adhesive force may be, for example, 6.0 N/25 mm.
점착제층의 두께는, 바람직하게는 2㎛ 내지 55㎛이고, 보다 바람직하게는 2㎛ 내지 30㎛이고, 더욱 바람직하게는 5㎛ 내지 25㎛이고, 특히 바람직하게는 10㎛ 내지 20㎛이다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 2 μm to 55 μm, more preferably 2 μm to 30 μm, still more preferably 5 μm to 25 μm, and particularly preferably 10 μm to 20 μm.
점착제층을 구성하는 점착제 조성물은, 상기한 바와 같이, 베이스 폴리머와 대전 방지제를 포함한다. 베이스 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)는, 상기한 바와 같이 -50℃ 이하이고, 바람직하게는 -52℃ 이하이고, 보다 바람직하게는 -55℃ 이하이다. 베이스 폴리머의 Tg의 하한은, 예를 들어 -75℃일 수 있다. 베이스 폴리머의 100㎑에 있어서의 유전율은, 상기한 바와 같이 5.0 이상이고, 바람직하게는 5.5 이상이고, 보다 바람직하게는 6.0 이상이고, 더욱 바람직하게는 6.5 이상이고, 특히 바람직하게는 7.0 이상이다. 베이스 폴리머의 유전율의 상한은, 예를 들어 10.0일 수 있다. 이러한 베이스 폴리머를 사용함으로써, 대전 방지제의 함유량이 적음에도 불구하고 표면 저항값이 작은 점착제층을 실현할 수 있다. 또한, 베이스 폴리머의 Tg는, 각각의 모노머 성분의 Tg로부터 중합비를 사용하여 환산한 폴리머의 Tg로서 산출될 수 있다.As described above, the pressure-sensitive adhesive composition constituting the pressure-sensitive adhesive layer contains a base polymer and an antistatic agent. As described above, the base polymer has a glass transition temperature (Tg) of -50°C or lower, preferably -52°C or lower, and more preferably -55°C or lower. The lower limit of Tg of the base polymer may be, for example, -75°C. As described above, the dielectric constant of the base polymer at 100 kHz is 5.0 or more, preferably 5.5 or more, more preferably 6.0 or more, still more preferably 6.5 or more, and particularly preferably 7.0 or more. The upper limit of the permittivity of the base polymer may be, for example, 10.0. By using such a base polymer, it is possible to realize a pressure-sensitive adhesive layer having a small surface resistance value in spite of the small content of the antistatic agent. In addition, the Tg of the base polymer can be calculated as the Tg of the polymer converted from the Tg of each monomer component using a polymerization ratio.
베이스 폴리머로서는, 예를 들어 (메트)아크릴계 폴리머, 우레탄계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 고무계 폴리머를 들 수 있다. 바람직하게는, (메트)아크릴계 폴리머이다. 본 명세서에 있어서는, 베이스 폴리머로서의 (메트)아크릴계 폴리머를, (메트)아크릴계 베이스 폴리머라고 칭하는 경우가 있다.Examples of the base polymer include (meth)acrylic polymers, urethane polymers, silicone polymers, and rubber polymers. Preferably, it is a (meth)acrylic polymer. In this specification, a (meth)acrylic polymer as a base polymer is sometimes referred to as a (meth)acrylic base polymer.
(메트)아크릴계 베이스 폴리머는, 바람직하게는 모노머 성분으로서 알콕시기 함유 모노머를 포함한다. 알콕시기 함유 모노머로서는, 예를 들어 하기 식으로 표현되는 모노머를 들 수 있다:The (meth)acrylic base polymer preferably contains an alkoxy group-containing monomer as a monomer component. Examples of the alkoxy group-containing monomer include monomers represented by the following formula:
식 중, R1은 알킬기이고, 예를 들어 메틸기 또는 에틸기이고, n은 1 내지 15의 정수이다. 상기 식으로부터 명확한 바와 같이, 알콕시기는 바람직하게는 직쇄상이다. 직쇄상 알콕시기라면, 얻어지는 (메트)아크릴계 베이스 폴리머의 Tg를 상기 원하는 범위로 할 수 있고, 당해 베이스 폴리머의 유전율을 상기 원하는 범위로 할 수 있다. 환 구조를 갖는 모노머를 포함하는 베이스 폴리머는, Tg가 과도하게 높아지거나, 및/또는, 유전율이 과도하게 작아지는 경우가 있다. 알콕시기 함유 모노머의 구체예로서는, 메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 에톡시에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 이것들은, 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 모노머 성분으로서 알콕시기 함유 모노머를 사용함으로써, 원하는 Tg 및 유전율을 갖는 베이스 폴리머를 얻을 수 있다. 그 결과, 대전 방지제의 함유량이 적음에도 불구하고 표면 저항값이 작은 점착제층을 실현할 수 있다. 베이스 폴리머에 있어서의 알콕시기 함유 모노머의 함유량은, 전체 모노머 성분 100중량부에 대하여, 바람직하게는 30중량부 내지 99중량부이다. 알콕시기 함유 모노머의 함유량은, 예를 들어 30중량부 내지 60중량부여도 되고, 또한 예를 들어 30중량부 내지 50중량부여도 되고, 또한 예를 들어 50중량부 내지 99중량부여도 되고, 또한 예를 들어 60중량부 내지 99중량부여도 된다.In formula, R <1> is an alkyl group, for example, a methyl group or an ethyl group, and n is an integer of 1-15. As is clear from the above formula, the alkoxy group is preferably linear. If it is a linear alkoxy group, the Tg of the (meth)acrylic base polymer obtained can be made into the said desired range, and the dielectric constant of the said base polymer can be made into the said desired range. A base polymer containing a monomer having a ring structure may have excessively high Tg and/or excessively low dielectric constant. Specific examples of the alkoxy group-containing monomer include methoxyethyl (meth)acrylate, ethoxyethoxyethyl (meth)acrylate, methoxytriethylene glycol (meth)acrylate, and methoxypolyethylene glycol (meth)acrylate. can These may be used independently or may be used in combination of 2 or more types. By using an alkoxy group-containing monomer as a monomer component, a base polymer having a desired Tg and dielectric constant can be obtained. As a result, a pressure-sensitive adhesive layer having a small surface resistance value can be realized despite the low content of the antistatic agent. The content of the alkoxy group-containing monomer in the base polymer is preferably 30 parts by weight to 99 parts by weight with respect to 100 parts by weight of all monomer components. The content of the alkoxy group-containing monomer may be, for example, 30 parts by weight to 60 parts by weight, further, for example, 30 parts by weight to 50 parts by weight, or, for example, 50 parts by weight to 99 parts by weight, and For example, 60 weight part - 99 weight part may be sufficient.
(메트)아크릴계 베이스 폴리머는, 바람직하게는 모노머 성분으로서 히드록실기 함유 모노머를 포함한다. 히드록실기 함유 모노머로서는, 예를 들어 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메트)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸(메트)아크릴레이트, 10-히드록시데실(메트)아크릴레이트, 12-히드록시라우릴(메트)아크릴레이트, (4-히드록시메틸시클로헥실)-메틸아크릴레이트를 들 수 있다. 점착제층의 내구성을 향상시키는 관점에서, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트가 바람직하고, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트가 보다 바람직하다. 베이스 폴리머에 있어서의 히드록실기 함유 모노머의 함유량은, 전체 모노머 성분 100중량부에 대하여, 바람직하게는 1중량부 내지 5중량부이고, 보다 바람직하게는 1중량부 내지 3중량부이다.The (meth)acrylic base polymer preferably contains a hydroxyl group-containing monomer as a monomer component. Examples of the hydroxyl group-containing monomer include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate. )Acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, 12-hydroxylauryl (meth)acrylate, (4-hydroxymethylcyclohexyl)-methylacrylic rates can be cited. From the viewpoint of improving the durability of the pressure-sensitive adhesive layer, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate are preferred, and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate is more preferred. The content of the hydroxyl group-containing monomer in the base polymer is preferably 1 part by weight to 5 parts by weight, more preferably 1 part by weight to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of all monomer components.
(메트)아크릴계 베이스 폴리머는, 모노머 성분으로서 알킬(메트)아크릴레이트를 포함해도 된다. 알킬(메트)아크릴레이트로서는, 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬기 탄소수 1 내지 18의 것을 들 수 있다. 알킬기로서는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, 아밀기, 헥실기, 시클로헥실기, 헵틸기, 2-에틸헥실기, 이소옥틸기, 노닐기, 데실기, 이소데실기, 도데실기, 이소미리스틸기, 라우릴기, 트리데실기, 펜타데실기, 헥사데실기, 헵타데실기, 옥타데실기 등을 들 수 있다. 알킬(메트)아크릴레이트는 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 알킬기의 평균 탄소수는, 바람직하게는 3개 내지 8개이고, 보다 바람직하게는 3개 내지 6개이다. 베이스 폴리머에 있어서의 알킬(메트)아크릴레이트의 함유량은, 당해 알킬(메트)아크릴레이트 이외의 모노머 성분의 잔부로서 임의로 설정할 수 있다.The (meth)acrylic base polymer may also contain an alkyl (meth)acrylate as a monomer component. Examples of the alkyl (meth)acrylate include straight-chain or branched-chain alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, an amyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, a heptyl group, a 2-ethylhexyl group, an isooctyl group, a nonyl group, and A sil group, an isodecyl group, a dodecyl group, an isomyristyl group, a lauryl group, a tridecyl group, a pentadecyl group, a hexadecyl group, a heptadecyl group, an octadecyl group, etc. are mentioned. Alkyl (meth)acrylates may be used alone or in combination. The average carbon number of the alkyl group is preferably 3 to 8, more preferably 3 to 6. The content of the alkyl (meth)acrylate in the base polymer can be arbitrarily set as the remainder of the monomer components other than the alkyl (meth)acrylate.
(메트)아크릴계 베이스 폴리머는, 필요에 따라, 다른 모노머 성분(공중합 모노머)을 더 포함해도 된다. 공중합 모노머의 대표예로서는, 방향족 탄화수소기 함유 모노머(예를 들어, 페닐(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트), 카르복실기 함유 모노머(예를 들어, (메트)아크릴산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산), 아미노기 함유 모노머(예를 들어, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트), 아미드기 함유 모노머(예를 들어, (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드), 니트릴기 함유 모노머(예를 들어, (메트)아크릴로니트릴), 다관능성 모노머(예를 들어, 헥산디올디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트), 에폭시기 함유 모노머(예를 들어, 글리시딜(메트)아크릴레이트), 복소환 함유 모노머(예를 들어, 아크릴로일모르폴린)를 들 수 있다. 공중합 모노머의 종류, 수, 조합, 배합량(함유량)은, 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다.The (meth)acrylic base polymer may further contain other monomer components (copolymerization monomers) as needed. Representative examples of the copolymerization monomer include aromatic hydrocarbon group-containing monomers (e.g., phenyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate), carboxyl group-containing monomers (e.g., (meth)acrylate, ) acrylic acid, carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid), amino group-containing monomers (e.g., N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylic acid) rate), amide group-containing monomers (eg, (meth)acrylamide, N,N-dimethyl(meth)acrylamide, N,N-diethyl(meth)acrylamide), nitrile group-containing monomers (eg, , (meth)acrylonitrile), polyfunctional monomers (eg, hexanedioldi(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate), an epoxy group-containing monomer (eg, glycidyl (meth)acrylate), and a heterocycle-containing monomer (eg, acryloylmorpholine). The type, number, combination, and blending amount (content) of the copolymerization monomers can be appropriately set depending on the purpose.
(메트)아크릴계 베이스 폴리머의 중량 평균 분자량 Mw는, 바람직하게는 100만 내지 300만이고, 보다 바람직하게는 200만 내지 300만이고, 더욱 바람직하게는 200만 내지 280만이다. 중량 평균 분자량 Mw가 100만 미만이면, 크랙의 억제가 불충분해지는 경우가 있다. 중량 평균 분자량 Mw가 300만을 초과하면, 점도의 상승 및/또는 폴리머 중합 중에 있어서의 겔화가 발생하는 경우가 있다.The weight average molecular weight Mw of the (meth)acrylic base polymer is preferably 1 million to 3 million, more preferably 2 million to 3 million, still more preferably 2 million to 2.8 million. When the weight average molecular weight Mw is less than 1,000,000, suppression of cracks may become insufficient. When the weight average molecular weight Mw exceeds 3,000,000, a rise in viscosity and/or gelation during polymer polymerization may occur.
대전 방지제로서는, 대표적으로는, 무기 양이온염, 유기 양이온염을 들 수 있다.As an antistatic agent, inorganic cation salt and organic cation salt are mentioned typically.
무기 양이온염은, 구체적으로는, 무기 양이온-음이온염이다. 무기 양이온염의 양이온부를 구성하는 양이온으로서는, 대표적으로는, 알칼리 금속 이온을 들 수 있다. 구체예로서는, 리튬 이온, 나트륨 이온, 칼륨 이온을 들 수 있다. 바람직하게는 리튬 이온이다. 따라서, 바람직한 무기 양이온염은 리튬염이다.The inorganic cation salt is, specifically, an inorganic cation-anion salt. As a cation which comprises the cation part of an inorganic cation salt, alkali metal ion is mentioned typically. As a specific example, lithium ion, sodium ion, and potassium ion are mentioned. preferably lithium ion. Accordingly, preferred inorganic cation salts are lithium salts.
무기 양이온염의 음이온부를 구성하는 음이온으로서는, 예를 들어 Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)3C-, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, (CN)2N-, C4F9SO3 -, C3F7COO-, (CF3SO2)(CF3CO)N-, -O3S(CF2)3SO3 - 및 하기 일반식 (1) 내지 (4)Examples of the anion constituting the anionic portion of the inorganic cation salt include Cl - , Br - , I - , AlCl 4 - , Al 2 Cl 7 - , BF 4 - , PF 6 - , ClO 4 - , NO 3 - , CH 3 COO - , CF 3 COO - , CH 3 SO 3 - , CF 3 SO 3 - , (CF 3 SO 2 ) 3 C - , AsF 6 - , SbF 6 - , NbF 6 - , TaF 6 - , (CN) 2 N - , C 4 F 9 SO 3 - , C 3 F 7 COO - , (CF 3 SO 2 )(CF 3 CO)N - , - O 3 S(CF 2 ) 3 SO 3 - and the following general formula (1 ) to (4)
(1): (CnF2n+1SO2)2N- (n은 1 내지 10의 정수),(1): (C n F 2n+1 SO 2 ) 2 N - (n is an integer from 1 to 10);
(2): CF2(CmF2mSO2)2N- (m은 1 내지 10의 정수), (2): CF 2 (C m F 2m SO 2 ) 2 N - (m is an integer from 1 to 10);
(3): -O3S(CF2)lSO3 - (l은 1 내지 10의 정수), (3): - O 3 S(CF 2 ) l SO 3 - (l is an integer from 1 to 10);
(4): (CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2), (p, q는 1 내지 10의 정수),(4): (C p F 2p+1 SO 2 ) N- (C q F 2q+1 SO 2 ), (p, q are integers from 1 to 10),
로 표현되는 음이온을 들 수 있다. 불소 함유 음이온이 바람직하고, 불소 함유 이미드 음이온이 보다 바람직하다.An anion represented by Fluorine-containing anions are preferred, and fluorine-containing imide anions are more preferred.
불소 함유 이미드 음이온으로서는, 예를 들어 퍼플루오로알킬기를 갖는 이미드 음이온을 들 수 있다. 구체예로서는, 상기한 (CF3SO2)(CF3CO)N-, 그리고 일반식 (1), (2) 및 (4)Examples of the fluorine-containing imide anion include imide anions having a perfluoroalkyl group. As specific examples, the above (CF 3 SO 2 )(CF 3 CO)N - and general formulas (1), (2) and (4)
(1): (CnF2n+1SO2)2N- (n은 1 내지 10의 정수),(1): (C n F 2n+1 SO 2 ) 2 N - (n is an integer from 1 to 10);
(2): CF2(CmF2mSO2)2N- (m은 1 내지 10의 정수),(2): CF 2 (C m F 2m SO 2 ) 2 N - (m is an integer from 1 to 10);
(4): (CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2), (p, q는 1 내지 10의 정수),(4): (C p F 2p+1 SO 2 ) N- (C q F 2q+1 SO 2 ), (p, q are integers from 1 to 10),
로 표현되는 음이온을 들 수 있다. 바람직하게는, (CF3SO2)2N-, (C2F5SO2)2N- 등의 일반식 (1)로 표현되는 (퍼플루오로알킬술포닐)이미드이고, 보다 바람직하게는, (CF3SO2)2N-로 표현되는 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드이다. 따라서, 본 발명의 실시 형태에 있어서 사용될 수 있는 바람직한 무기 양이온염은, 리튬비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드이다.An anion represented by Preferably, it is a (perfluoroalkylsulfonyl)imide represented by general formula (1) such as (CF 3 SO 2 ) 2 N - , (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N - , and more preferably is a bis(trifluoromethanesulfonyl)imide represented by (CF 3 SO 2 ) 2 N - . Therefore, a preferable inorganic cation salt that can be used in the embodiment of the present invention is lithium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide.
유기 양이온염은, 구체적으로는, 유기 양이온-음이온염이다. 유기 양이온염의 양이온부를 구성하는 양이온으로서는, 대표적으로는, 유기기에 의한 치환에 의해 오늄 이온을 형성한 유기 오늄을 들 수 있다. 유기 오늄에 있어서의 오늄으로서는, 예를 들어 질소 함유 오늄, 황 함유 오늄, 인 함유 오늄을 들 수 있다. 바람직하게는, 질소 함유 오늄, 황 함유 오늄이다. 질소 함유 오늄으로서는, 암모늄 양이온, 피페리디늄 양이온, 피롤리디늄 양이온, 피리디늄 양이온, 피롤린 골격을 갖는 양이온, 피롤 골격을 갖는 양이온, 이미다졸륨 양이온, 테트라히드로피리미디늄 양이온, 디히드로피리미디늄 양이온, 피라졸륨 양이온, 피라졸리늄 양이온을 들 수 있다. 황 함유 오늄으로서는, 예를 들어 술포늄 양이온을 들 수 있다. 인 함유 오늄으로서는, 예를 들어 포스포늄 양이온을 들 수 있다. 유기 오늄에 있어서의 유기기로서는, 예를 들어 알킬기, 알콕실기, 알케닐기를 들 수 있다. 바람직한 유기 오늄의 구체예로서는, 테트라알킬암모늄 양이온(예를 들어, 트리부틸메틸암모늄 양이온), 알킬피페리디늄 양이온, 알킬피롤리디늄 양이온을 들 수 있다. 유기 양이온염의 음이온부를 구성하는 음이온은, 무기 양이온의 음이온부를 구성하는 음이온에 관하여 설명한 바와 같다. 본 발명의 실시 형태에 있어서 사용될 수 있는 바람직한 유기 양이온염은, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(플루오로술포닐)이미드, 트리메틸부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드이다.The organic cation salt is, specifically, an organic cation-anion salt. As a cation constituting the cation portion of the organic cation salt, typically, organic onium in which an onium ion is formed by substitution with an organic group is exemplified. Examples of the onium in the organic onium include nitrogen-containing onium, sulfur-containing onium, and phosphorus-containing onium. Preferably, they are nitrogen-containing onium and sulfur-containing onium. As the nitrogen-containing onium, ammonium cation, piperidinium cation, pyrrolidinium cation, pyridinium cation, cation having a pyrroline skeleton, cation having a pyrrole skeleton, imidazolium cation, tetrahydropyrimidinium cation, dihydropyridinium A midinium cation, a pyrazolium cation, and a pyrazolinium cation are mentioned. Examples of the sulfur-containing onium include sulfonium cations. As phosphorus containing onium, a phosphonium cation is mentioned, for example. As an organic group in organic onium, an alkyl group, an alkoxyl group, and an alkenyl group are mentioned, for example. Specific examples of preferable organic oniums include tetraalkylammonium cations (for example, tributylmethylammonium cations), alkylpiperidinium cations, and alkylpyrrolidinium cations. The anion constituting the anion portion of the organic cation salt is as described for the anion constituting the anion portion of the inorganic cation. Preferred organic cationic salts that can be used in the embodiment of the present invention are 1-ethyl-3-methylimidazolium bis(fluorosulfonyl)imide and trimethylbutylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide. am.
무기 양이온염과 유기 양이온염을 조합하여 사용해도 된다.You may use it combining inorganic cation salt and organic cation salt.
점착제 조성물에 있어서의 대전 방지제의 함유량은, 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 상기한 바와 같이 10중량부 미만이고, 바람직하게는 7중량부 이하이고, 보다 바람직하게는 5중량부 이하이고, 더욱 바람직하게는 3중량부 이하이다. 본 발명의 실시 형태에 따르면, 대전 방지제의 함유량이 이렇게 적음에도 불구하고 표면 저항값이 작은 점착제층을 실현할 수 있다. 대전 방지제의 함유량의 하한은, 예를 들어 0.5중량부일 수 있다. 대전 방지제의 함유량이 너무 적으면, 원하는 표면 저항값이 얻어지지 않는 경우가 있다.The content of the antistatic agent in the pressure-sensitive adhesive composition is less than 10 parts by weight, preferably 7 parts by weight or less, more preferably 5 parts by weight or less, and still more preferably 5 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the base polymer. It is preferably 3 parts by weight or less. According to the embodiment of the present invention, it is possible to realize a pressure-sensitive adhesive layer having a small surface resistance value in spite of such a small content of the antistatic agent. The lower limit of the content of the antistatic agent may be, for example, 0.5 parts by weight. When the content of the antistatic agent is too small, a desired surface resistance value may not be obtained.
점착제 조성물은, 대표적으로는, 실란 커플링제, 가교제, 및/또는 산화 방지제를 함유한다. 실란 커플링제로서는, 대표적으로는, 관능기 함유 실란 커플링제를 들 수 있다. 관능기로서는, 예를 들어 에폭시기, 머캅토기, 아미노기, 이소시아네이트기, 이소시아누레이트기, 비닐기, 스티릴기, 아세토아세틸기, 우레이도기, 티오우레아기, (메트)아크릴기, 복소환기, 산 무수물기 및 이것들의 조합을 들 수 있다. 관능기 함유 실란 커플링제는 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 가교제로서는, 이소시아네이트계 가교제, 과산화물계 가교제를 들 수 있다. 가교제도 또한, 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 실란 커플링제를 함유함으로써이하의 이점이 얻어질 수 있다. 알콕시기 함유 모노머를 포함하는 베이스 폴리머를 사용한 점착제 조성물은 극성이 높아지므로, 비극성의 피착체와의 점착성이 불충분해지는 경우가 있다. 실란 커플링제를 함유함으로써, 다양한 피착체에 대하여 충분한 점착력이 얻어져, 박리가 억제될 수 있다. 또한, 산화 방지제를 함유함으로써 이하의 이점이 얻어질 수 있다. 알콕시기 함유 모노머를 포함하는 베이스 폴리머는 Tg가 낮아져, 유연해진다. 산화 방지제를 함유함으로써, 편광판 단부면 및 점착제층 단부면으로부터의 산화 열화에 의한 수축을 억제할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition typically contains a silane coupling agent, a crosslinking agent, and/or an antioxidant. As a silane coupling agent, a functional group containing silane coupling agent is mentioned typically. Examples of the functional group include an epoxy group, a mercapto group, an amino group, an isocyanate group, an isocyanurate group, a vinyl group, a styryl group, an acetoacetyl group, a ureido group, a thiourea group, a (meth)acrylic group, a heterocyclic group, and an acid anhydride. groups and combinations thereof. The functional group-containing silane coupling agent can be used alone or in combination. As a crosslinking agent, an isocyanate type crosslinking agent and a peroxide type crosslinking agent are mentioned. A crosslinking agent may also be used alone or in combination. The following advantages can be obtained by containing a silane coupling agent. Since a pressure-sensitive adhesive composition using a base polymer containing an alkoxy group-containing monomer has high polarity, adhesion to non-polar adherends may be insufficient. By containing a silane coupling agent, sufficient adhesive force can be obtained with respect to various adherends, and peeling can be suppressed. In addition, the following advantages can be obtained by containing an antioxidant. The base polymer containing the alkoxy group-containing monomer has a low Tg and becomes flexible. By containing an antioxidant, shrinkage due to oxidative deterioration from the end face of the polarizing plate and the end face of the pressure-sensitive adhesive layer can be suppressed.
점착제 조성물은, 첨가제를 함유하고 있어도 된다. 첨가제의 구체예로서는, 착색제, 안료 등의 분체, 염료, 계면 활성제, 가소제, 점착성 부여제, 표면 윤활제, 레벨링제, 연화제, 노화 방지제, 광안정제, 자외선 흡수제, 중합 금지제, 무기 또는 유기의 충전제, 금속 분말, 입자상, 박상물을 들 수 있다. 또한, 제어할 수 있는 범위 내에서, 환원제를 더한 산화 환원계를 채용해도 된다. 첨가제의 종류, 수, 조합, 함유량 등은, 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다.The adhesive composition may contain additives. Specific examples of additives include powders such as colorants and pigments, dyes, surfactants, plasticizers, tackifiers, surface lubricants, leveling agents, softeners, anti-aging agents, light stabilizers, ultraviolet absorbers, polymerization inhibitors, inorganic or organic fillers, Metal powder, granular form, and thin material are mentioned. Further, within a controllable range, a redox system in which a reducing agent is added may be employed. The type, number, combination, content, etc. of additives can be appropriately set according to the purpose.
F. 화상 표시 장치F. Image display device
상기 A항 내지 E항에 기재된 편광판은, 화상 표시 장치에 적용될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시 형태는, 그러한 편광판을 사용한 화상 표시 장치를 포함한다. 화상 표시 장치의 대표예로서는, 액정 표시 장치, 일렉트로루미네센스(EL) 표시 장치(예를 들어, 유기 EL 표시 장치, 무기 EL 표시 장치)를 들 수 있다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 화상 표시 장치는, 협폭 프레임(바람직하게는, 베젤리스)의 화상 표시 장치 또는 인셀형 화상 표시 장치이다. 이러한 화상 표시 장치에 있어서, 본 발명의 실시 형태에 의한 효과가 현저하다.The polarizing plate according to the above items A to E can be applied to an image display device. Accordingly, an embodiment of the present invention includes an image display device using such a polarizing plate. Representative examples of the image display device include a liquid crystal display device and an electroluminescence (EL) display device (for example, an organic EL display device and an inorganic EL display device). In one embodiment, the image display device is a narrow frame (preferably, bezel-less) image display device or an in-cell type image display device. In such an image display device, the effect according to the embodiment of the present invention is remarkable.
실시예Example
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 각 특성의 측정 방법은 이하와 같다. 또한, 특별히 명기하지 않는 한, 실시예 및 비교예에 있어서의 「부」 및 「%」는 중량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by examples, but the present invention is not limited by these examples. The measurement method of each characteristic is as follows. In addition, unless otherwise specified, "parts" and "%" in Examples and Comparative Examples are based on weight.
(1) 두께(1) Thickness
10㎛ 이하의 두께는, 간섭 막 두께 측정기(오츠카 덴시사제, 제품명 「MCPD-3000」)를 사용하여 측정했다. 10㎛를 초과하는 두께는, 디지털 마이크로미터(안리츠사제, 제품명 「KC-351C」)를 사용하여 측정했다.The thickness of 10 μm or less was measured using an interference film thickness meter (manufactured by Otsuka Electronics, product name “MCPD-3000”). The thickness exceeding 10 μm was measured using a digital micrometer (manufactured by Anritz Corporation, product name “KC-351C”).
(2) 표면 저항값(2) Surface resistance value
실시예 및 비교예에서 얻어진 편광판(점착제층을 갖는 편광판)의 점착제층 표면의 저항값을, 미츠비시 가가쿠 아날리텍사제 MCP-HT450을 사용하여 측정하여, 초기 저항값으로 했다. 또한, 점착제층을 갖는 편광판을 다른 2개의 조건의 신뢰성 시험(85℃의 환경 하에 500시간과 60℃·95% RH의 환경 하에 500시간)에 제공한 후, 상기와 마찬가지로 하여 저항값을 측정했다. 이하의 식에 의해 저항값 상승률을 산출했다.The resistance value of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing plate (polarizing plate having a pressure-sensitive adhesive layer) obtained in Examples and Comparative Examples was measured using MCP-HT450 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, and used as the initial resistance value. Further, after subjecting the polarizing plate having an adhesive layer to a reliability test under two different conditions (500 hours in an environment of 85°C and 500 hours in an environment of 60°C/95% RH), the resistance value was measured in the same manner as above. . The resistance value increase rate was calculated by the following formula.
저항값 상승률(%)={(신뢰성 시험 후의 저항값-초기 저항값)/초기 저항값}×100Resistance value increase rate (%) = {(resistance value after reliability test - initial resistance value)/initial resistance value} × 100
또한, 이하의 기준으로 평가했다. Moreover, it was evaluated according to the following criteria.
○: 저항값 상승률이 50% 미만○: Resistance value increase rate is less than 50%
△: 저항값 상승률이 50% 이상 1000% 미만△: Resistance value increase rate is 50% or more and less than 1000%
×: 저항값 상승률이 1000% 이상×: resistance value increase rate is 1000% or more
(3) ESD 시험(3) ESD test
실시예 및 비교예에서 얻어진 편광판(점착제층을 갖는 편광판)을 70㎜×150㎜로 잘라내고, 점착제층을 통해 액정 패널에 접합했다. 이어서, 접합한 점착제층을 갖는 편광판의 측면부에, 은 페이스트를 점착제층을 갖는 편광판의 측면부의 두께 방향 전역을 덮도록 하여 도포하고, 외부로부터의 접지 전극과 접속했다. 이어서, 점착제층을 갖는 편광판의 표면에, 정전기 발생 장치인 ESD(ESD-8012A, SANKI사제)를 사용하여(인가 전압 15㎸), 편광판 면내에서 원을 그리듯이 1초 간격으로 합계 10회 발사(인가)하여, 액정 패널의 액정의 배향 흐트러짐을 일으켰다. 전기에 의해 백점화된 부분이 소실될 때까지의 시간을 측정하여, 하기의 기준으로 평가했다.The polarizing plate (polarizing plate having an adhesive layer) obtained in Examples and Comparative Examples was cut out to 70 mm × 150 mm, and bonded to the liquid crystal panel through the adhesive layer. Subsequently, silver paste was applied to the side surface of the polarizing plate with the pressure-sensitive adhesive layer to cover the entire thickness direction of the side surface of the polarizing plate with the pressure-sensitive adhesive layer, and connected to a ground electrode from the outside. Subsequently, a total of 10 shots were fired at intervals of 1 second on the surface of the polarizing plate having the pressure-sensitive adhesive layer, using an ESD (ESD-8012A, manufactured by SANKI) as an electrostatic generator (applied voltage of 15 kV), drawing a circle in the plane of the polarizing plate ( application), causing disorientation of the liquid crystal of the liquid crystal panel. The time until the part whitened by electricity disappears was measured and evaluated according to the following criteria.
○: 백점이 5초 이내에 소실되었다○: The white point disappeared within 5 seconds
△: 백점이 10초 이내에 소실되었다△: The white spot disappeared within 10 seconds
×: 백점이 10초 이상 남았다×: 10 seconds or more left
(4) 딜레이 버블(4) Delay bubble
실시예 및 비교예에서 얻어진 편광판의 구석부에 엔드밀을 사용하여 직경 3.9㎜의 관통 구멍을 형성했다. 이 편광판을, 점착제층을 통해 유리판에 접합하여, 편광판/유리판의 적층체 A를 얻었다. 한편, 통상의 광학 점착제 시트를 커버 유리(마츠나미 가라스사제, 두께 0.8㎜)에 롤 라미네이터에 의해 접합하여, 커버 유리/광학 점착제의 적층체 B를 얻었다. 적층체 A의 편광판과 적층체 B의 광학 점착제가 대향하도록 하여 적층체 A와 적층체 B를 진공 라미네이터를 사용하여 밀착시킴과 함께, 광학 점착제로 관통 구멍을 충전했다. 이와 같이 하여, 화상 표시 장치 대응품을 제작했다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 오토클레이브 처리한 후에 가열 시험(85℃, 24h)에 제공하고, 시험 후의 기포의 상태를 눈으로 보기 또는 광학 현미경에 의해 관찰하여, 이하의 기준으로 평가했다.A through hole having a diameter of 3.9 mm was formed using an end mill at a corner of the polarizing plate obtained in Examples and Comparative Examples. This polarizing plate was bonded to the glass plate via the pressure-sensitive adhesive layer to obtain a laminate A of polarizing plate/glass plate. On the other hand, a normal optical adhesive sheet was bonded to a cover glass (manufactured by Matsunami Glass Co., Ltd., thickness: 0.8 mm) by a roll laminator to obtain a laminate B of cover glass/optical adhesive. While the polarizing plate of layered product A and the optical adhesive of layered body B were made to face, laminated body A and layered body B were adhere|attached using a vacuum laminator, and the through-hole was filled with the optical adhesive. In this way, an image display device compatible product was produced. The resulting image display device-compatible product was subjected to a heating test (85° C., 24 h) after an autoclave treatment, and the bubble state after the test was visually observed or observed with an optical microscope, and evaluated according to the following criteria.
○: 충전부에 기포는 확인되지 않았다○: Air bubbles were not confirmed in the charging part.
×: 충전부에 기포가 확인되었다x: Air bubbles were confirmed in the charging part.
(5) 색 빠짐(5) color loss
실시예 및 비교예에서 얻어진 편광판으로부터, 흡수축 방향 및 흡수축 방향에 직교하는 방향을 각각 대향하는 2변으로 하는 시험편(50㎜×50㎜)을 잘라냈다. 점착제층을 통해 시험편을 유리판에 접합하고, 이것을 65℃ 및 90% RH의 오븐 내에서 120시간 방치하여 가습하고, 표준 편광판과 크로스니콜의 상태로 배치했을 때의, 가습 후의 편광판(실질적으로는, 편광자)의 단부의 색 빠짐 상태를 현미경에 의해 조사했다. 구체적으로는, 편광자 단부로부터의 색 빠짐의 크기(색 빠짐량: ㎛)를 측정했다. 현미경으로서 Olympus사제, MX61L을 사용하여, 배율 10배로 촬영한 화상으로부터 모퉁이부의 색 빠짐량을 측정했다.From the polarizing plates obtained in Examples and Comparative Examples, test pieces (50 mm × 50 mm) having two sides facing each other in the direction of the absorption axis and in the direction orthogonal to the direction of the absorption axis were cut out. A test piece is bonded to a glass plate through an adhesive layer, left in an oven at 65° C. and 90% RH for 120 hours to be humidified, and a polarizing plate after humidification (substantially, The color loss state of the end portion of the polarizer) was examined under a microscope. Specifically, the size of color omission from the end portion of the polarizer (amount of color omission: µm) was measured. Using an MX61L manufactured by Olympus as a microscope, the color loss amount of the corner portion was measured from an image taken at a magnification of 10 times.
(6) 외관(6) Appearance
실시예 및 비교예에서 얻어진 편광판(50㎜×50㎜ 사이즈로 잘라낸 것)을 신뢰성 시험(65℃·90% RH의 환경 하에 72시간)에 제공한 후, 외관(보호층의 팽창, 요오드 투과 억제층의 상태 등을 포함하는 편광판 전체의 외관)을 눈으로 보아 관찰하여, 이하의 기준으로 평가했다.After subjecting the polarizing plate (cut to a size of 50 mm × 50 mm) obtained in Examples and Comparative Examples to a reliability test (72 hours in an environment of 65 ° C. 90% RH), appearance (swelling of the protective layer, suppression of iodine permeation) The overall appearance of the polarizing plate including the state of the layer, etc.) was visually observed and evaluated according to the following criteria.
○: 팽창, 박리, 크랙 및 이물 모두 확인되지 않았다○: Expansion, peeling, cracks, and foreign matter were not confirmed.
△: 팽창, 박리, 크랙 또는 이물이 몇군데 확인되었다△: Swelling, peeling, cracks, or foreign matter were observed in several places.
×: 팽창, 박리, 크랙 또는 이물이 전체에 다수 확인되었다×: A large number of swelling, peeling, cracks, or foreign materials were confirmed throughout.
(7) 이형 가공부의 크랙(7) Cracks in the molded part
실시예 및 비교예에서 얻어진 편광판의 구석부에 엔드밀을 사용하여 직경 3.9㎜의 관통 구멍을 형성했다. 관통 구멍이 형성된 편광판을, 점착제층을 통해 유리판에 접합하여, 시험 샘플로 했다. 이 시험 샘플을, 85℃에서 30분 유지한 후 -40℃에서 30분 유지하는 것을 300사이클 반복하는 히트 쇼크 시험에 제공하고, 시험 후의 관통 구멍 부분의 외관을 눈으로 보아 관찰하여, 이하의 기준으로 평가했다. 또한, 어느 실시예 및 비교예에 있어서도, 풀 부족(점착제층의 단부가 결손되는 현상)은 발생하지 않았다.A through hole having a diameter of 3.9 mm was formed using an end mill at a corner of the polarizing plate obtained in Examples and Comparative Examples. A polarizing plate with a through hole was bonded to a glass plate through an adhesive layer to obtain a test sample. This test sample was subjected to a heat shock test in which 300 cycles of holding at 85°C for 30 minutes and then holding at -40°C for 30 minutes were repeated, and the appearance of the through hole portion after the test was visually observed, and the following criteria were followed. evaluated as In addition, in any Example and Comparative Example, lack of glue (a phenomenon in which the end portion of the pressure-sensitive adhesive layer is missing) did not occur.
○: 크랙은 확인되지 않았다○: Cracks were not confirmed
×: 크랙이 확인되었다×: crack was confirmed
[제조예 1: (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A1의 조제][Production Example 1: Preparation of (meth)acrylic base polymer A1]
교반 블레이드, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, 부틸아크릴레이트(BA) 39부, 메톡시에틸아크릴레이트(MEA) 60부, 및 4-히드록시부틸아크릴레이트(4HBA) 1부를 함유하는 모노머 혼합물을 투입했다. 또한, 이 모노머 혼합물 100부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1부를 아세트산에틸 100부와 함께 투입하고, 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액온을 55℃ 부근으로 유지하여 8시간 중합 반응을 행하여, (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A1의 용액을 조제했다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A1의 Tg 및 유전율을 표 1에 나타낸다. 또한, 유전율은 통상의 방법에 의해 측정했다. Tg는, 각각의 모노머의 Tg로부터 중합비를 사용하여 환산한 값을 산출했다.39 parts of butyl acrylate (BA), 60 parts of methoxyethyl acrylate (MEA), and 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA) A monomer mixture containing 1 part was charged. Further, to 100 parts of this monomer mixture, 0.1 part of 2,2'-azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator was introduced together with 100 parts of ethyl acetate, and nitrogen gas was introduced with gentle stirring to replace the flask with nitrogen. A solution of (meth)acrylic base polymer A1 was prepared by carrying out a polymerization reaction for 8 hours while maintaining the temperature of the liquid inside at around 55°C. Table 1 shows the Tg and dielectric constant of the (meth)acrylic base polymer A1. In addition, the permittivity was measured by a conventional method. Tg calculated the value converted using the polymerization ratio from Tg of each monomer.
[제조예 2: (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A2의 조제][Production Example 2: Preparation of (meth)acrylic base polymer A2]
MEA 60부 대신에 에톡시에톡시에틸아크릴레이트(EEEA) 60부를 사용한 것 이외는 제조예 1과 마찬가지로 하여, (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A2의 용액을 조제했다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A2의 Tg 및 유전율을 표 1에 나타낸다.A solution of (meth)acrylic base polymer A2 was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that 60 parts of ethoxyethoxyethyl acrylate (EEEA) was used instead of 60 parts of MEA. Table 1 shows the Tg and dielectric constant of the (meth)acrylic base polymer A2.
[제조예 3: (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A3의 조제][Production Example 3: Preparation of (meth)acrylic base polymer A3]
MEA 60부 대신에 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트(MTGA) 60부를 사용한 것 이외는 제조예 1과 마찬가지로 하여, (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A3의 용액을 조제했다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A3의 Tg 및 유전율을 표 1에 나타낸다.A solution of (meth)acrylic base polymer A3 was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that 60 parts of methoxytriethylene glycol acrylate (MTGA) was used instead of 60 parts of MEA. Table 1 shows the Tg and dielectric constant of the (meth)acrylic base polymer A3.
[제조예 4: (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A4의 조제][Production Example 4: Preparation of (meth)acrylic base polymer A4]
MTGA를 99부 및 4HBA를 1부 함유하는 모노머 혼합물을 사용한 것 이외는 제조예 1과 마찬가지로 하여, (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A4의 용액을 조제했다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A4의 Tg 및 유전율을 표 1에 나타낸다.A solution of (meth)acrylic base polymer A4 was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that a monomer mixture containing 99 parts of MTGA and 1 part of 4HBA was used. Table 1 shows the Tg and dielectric constant of the (meth)acrylic base polymer A4.
[제조예 5: (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A5의 조제][Production Example 5: Preparation of (meth)acrylic base polymer A5]
BA를 49부, MTGA를 50부 및 4HBA를 1부 함유하는 모노머 혼합물을 사용한 것 이외는 제조예 1과 마찬가지로 하여, (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A5의 용액을 조제했다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A5의 Tg 및 유전율을 표 1에 나타낸다.A solution of (meth)acrylic base polymer A5 was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that a monomer mixture containing 49 parts of BA, 50 parts of MTGA, and 1 part of 4HBA was used. Table 1 shows the Tg and dielectric constant of the (meth)acrylic base polymer A5.
[제조예 6: (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A6의 조제][Production Example 6: Preparation of (meth)acrylic base polymer A6]
BA를 69부, MTGA를 30부 및 4HBA를 1부 함유하는 모노머 혼합물을 사용한 것 이외는 제조예 1과 마찬가지로 하여, (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A6의 용액을 조제했다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A6의 Tg 및 유전율을 표 1에 나타낸다.A solution of (meth)acrylic base polymer A6 was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that a monomer mixture containing 69 parts of BA, 30 parts of MTGA, and 1 part of 4HBA was used. Table 1 shows the Tg and dielectric constant of the (meth)acrylic base polymer A6.
[제조예 7: (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A7의 조제][Production Example 7: Preparation of (meth)acrylic base polymer A7]
MTGA 50부 대신에 메톡시폴리에틸렌글리콜아크릴레이트(MPEA) 50부를 사용한 것 이외는 제조예 5와 마찬가지로 하여, (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A7의 용액을 조제했다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A7의 Tg 및 유전율을 표 1에 나타낸다.A solution of (meth)acrylic base polymer A7 was prepared in the same manner as in Production Example 5, except that 50 parts of methoxypolyethylene glycol acrylate (MPEA) was used instead of 50 parts of MTGA. Table 1 shows the Tg and dielectric constant of the (meth)acrylic base polymer A7.
[제조예 8: (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A8의 조제][Production Example 8: Preparation of (meth)acrylic base polymer A8]
BA를 79부, MEA를 20부 및 4HBA를 1부 함유하는 모노머 혼합물을 사용한 것 이외는 제조예 1과 마찬가지로 하여, (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A8의 용액을 조제했다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A8의 Tg 및 유전율을 표 1에 나타낸다.A solution of (meth)acrylic base polymer A8 was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that a monomer mixture containing 79 parts of BA, 20 parts of MEA, and 1 part of 4HBA was used. Table 1 shows the Tg and dielectric constant of the (meth)acrylic base polymer A8.
[제조예 9: (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A9의 조제][Production Example 9: Preparation of (meth)acrylic base polymer A9]
MTGA 50부 대신에 페녹시에틸아크릴레이트(PEA) 50부를 사용한 것 이외는 제조예 5와 마찬가지로 하여, (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A9의 용액을 조제했다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A9의 Tg 및 유전율을 표 1에 나타낸다.A solution of (meth)acrylic base polymer A9 was prepared in the same manner as in Production Example 5 except that 50 parts of phenoxyethyl acrylate (PEA) was used instead of 50 parts of MTGA. Table 1 shows the Tg and dielectric constant of the (meth)acrylic base polymer A9.
[제조예 10: (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A10의 조제][Production Example 10: Preparation of (meth)acrylic base polymer A10]
MTGA 50부 대신에 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트 50부를 사용한 것 이외는 제조예 5와 마찬가지로 하여, (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A10의 용액을 조제했다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A10의 Tg 및 유전율을 표 1에 나타낸다.A solution of (meth)acrylic base polymer A10 was prepared in the same manner as in Production Example 5, except that 50 parts of tetrahydrofurfuryl acrylate was used instead of 50 parts of MTGA. Table 1 shows the Tg and dielectric constant of the (meth)acrylic base polymer A10.
[제조예 11: (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A11의 조제][Production Example 11: Preparation of (meth)acrylic base polymer A11]
MTGA 50부 대신에 (2-메틸-2-에틸-1,3-디옥솔란-4-일)메틸아크릴레이트 50부를 사용한 것 이외는 제조예 5와 마찬가지로 하여, (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A11의 용액을 조제했다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A11의 Tg 및 유전율을 표 1에 나타낸다.A solution of (meth)acrylic base polymer A11 in the same manner as in Production Example 5 except that 50 parts of (2-methyl-2-ethyl-1,3-dioxolan-4-yl)methylacrylate was used instead of 50 parts of MTGA. prepared Table 1 shows the Tg and dielectric constant of the (meth)acrylic base polymer A11.
[제조예 12: (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A12의 조제][Production Example 12: Preparation of (meth)acrylic base polymer A12]
MTGA 50부 대신에 (3-에틸옥세탄-3-일)메틸아크릴레이트 50부를 사용한 것 이외는 제조예 5와 마찬가지로 하여, (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A12의 용액을 조제했다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A12의 Tg 및 유전율을 표 1에 나타낸다.A solution of (meth)acrylic base polymer A12 was prepared in the same manner as in Production Example 5, except that 50 parts of (3-ethyloxetan-3-yl)methylacrylate was used instead of 50 parts of MTGA. Table 1 shows the Tg and dielectric constant of the (meth)acrylic base polymer A12.
[제조예 13: (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A13의 조제][Production Example 13: Preparation of (meth)acrylic base polymer A13]
MTGA 50부 대신에 환상 트리메틸올프로판포르말아크릴레이트 50부를 사용한 것 이외는 제조예 5와 마찬가지로 하여, (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A13의 용액을 조제했다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A13의 Tg 및 유전율을 표 1에 나타낸다. A solution of (meth)acrylic base polymer A13 was prepared in the same manner as in Production Example 5, except that 50 parts of cyclic trimethylolpropane formal acrylate was used instead of 50 parts of MTGA. Table 1 shows the Tg and dielectric constant of the (meth)acrylic base polymer A13.
[제조예 14: (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A14의 조제][Production Example 14: Preparation of (meth)acrylic base polymer A14]
BA를 80.3부, 아크릴산(AA)을 0.2부, PEA를 16부, N-비닐피롤리돈(NVP)을 3부 및 4HBA를 0.5부 함유하는 모노머 혼합물을 사용한 것 이외는 제조예 1과 마찬가지로 하여, (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A14의 용액을 조제했다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A14의 Tg 및 유전율을 표 1에 나타낸다.In the same manner as in Production Example 1 except that a monomer mixture containing 80.3 parts of BA, 0.2 parts of acrylic acid (AA), 16 parts of PEA, 3 parts of N-vinylpyrrolidone (NVP), and 0.5 part of 4HBA was used. , A solution of (meth)acrylic base polymer A14 was prepared. Table 1 shows the Tg and dielectric constant of the (meth)acrylic base polymer A14.
[제조예 15: (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A15의 조제][Production Example 15: Preparation of (meth)acrylic base polymer A15]
BA를 99부 및 4HBA를 1부 함유하는 모노머 혼합물을 사용한 것 이외는 제조예 1과 마찬가지로 하여, (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A15의 용액을 조제했다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A15의 Tg 및 유전율을 표 1에 나타낸다.A solution of (meth)acrylic base polymer A15 was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that a monomer mixture containing 99 parts of BA and 1 part of 4HBA was used. Table 1 shows the Tg and dielectric constant of the (meth)acrylic base polymer A15.
[제조예 16: 편광판 P1의 제작][Production Example 16: Production of Polarizing Plate P1]
1. 편광자의 제작1. Fabrication of polarizer
열가소성 수지 기재로서, 긴 형상이고, 흡수율 0.75%, Tg 약 75℃인, 비정질의 이소프탈 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(두께: 100㎛)을 사용했다. 수지 기재의 편면에, 코로나 처리를 실시했다.As the thermoplastic resin substrate, an amorphous isophthalic copolymerized polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) having a long shape, water absorption of 0.75%, and Tg of about 75° C. was used. Corona treatment was performed on one side of the resin substrate.
폴리비닐알코올(중합도 4200, 비누화도 99.2몰%) 및 아세토아세틸 변성 PVA(닛폰 고세 가가쿠 고교사제, 상품명 「고세파이머 Z410」)를 9:1로 혼합한 PVA계 수지 100중량부에, 요오드화칼륨 13중량부를 첨가한 것을 물에 녹여, PVA 수용액(도포액)을 조제했다.Polyvinyl alcohol (polymerization degree 4200, saponification degree 99.2 mol%) and acetoacetyl-modified PVA (manufactured by Nippon Kosei Chemical Industry Co., Ltd., trade name "Gosefimer Z410") were mixed in a ratio of 9:1 to 100 parts by weight of a PVA-based resin, iodinated What added 13 parts by weight of potassium was dissolved in water to prepare a PVA aqueous solution (coating liquid).
수지 기재의 코로나 처리면에, 상기 PVA 수용액을 도포하여 60℃에서 건조시킴으로써, 두께 13㎛의 PVA계 수지층을 형성하여, 적층체를 제작했다.The PVA-based resin layer having a thickness of 13 μm was formed by applying the PVA aqueous solution to the corona-treated surface of the resin substrate and drying it at 60° C., thereby producing a laminate.
얻어진 적층체를, 130℃의 오븐 내에서 주속이 다른 롤 사이에서 세로 방향(긴 변 방향)으로 2.4배로 자유단 1축 연신했다(공중 보조 연신 처리).The obtained layered product was uniaxially stretched at the free end by 2.4 times in the longitudinal direction (long side direction) between rolls having different circumferential speeds in a 130°C oven (air assisted stretching treatment).
이어서, 적층체를, 액온 40℃의 불용화욕(물 100중량부에 대하여, 붕산을 4중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).Next, the laminate was immersed in an insolubilization bath (boric acid aqueous solution obtained by blending 4 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 40°C for 30 seconds (insolubilization treatment).
이어서, 액온 30℃의 염색욕(물 100중량부에 대하여, 요오드와 요오드화칼륨을 1:7의 중량비로 배합하여 얻어진 요오드 수용액)에, 최종적으로 얻어지는 편광자의 단체 투과율(Ts)이 소정의 값이 되도록 농도를 조정하면서 60초간 침지시켰다(염색 처리).Next, in a dyeing bath (100 parts by weight of water, an iodine aqueous solution obtained by blending iodine and potassium iodide at a weight ratio of 1:7) at a solution temperature of 30 ° C., the single transmittance (Ts) of the polarizer finally obtained is a predetermined value. It was immersed for 60 seconds while adjusting the concentration as much as possible (dyeing treatment).
이어서, 액온 40℃의 가교욕(물 100중량부에 대하여, 요오드화칼륨을 3중량부 배합하고, 붕산을 5중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).Next, it was immersed in a crosslinking bath (a boric acid aqueous solution obtained by blending 3 parts by weight of potassium iodide and 5 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 40°C for 30 seconds (crosslinking treatment).
그 후, 적층체를, 액온 70℃의 붕산 수용액(붕산 농도 4.0중량%, 요오드화칼륨 농도 5중량%)에 침지시키면서, 주속이 다른 롤 사이에서 세로 방향(긴 변 방향)으로 총 연신 배율이 5.5배로 되도록 1축 연신을 행하였다(수중 연신 처리).Thereafter, the laminate was immersed in an aqueous solution of boric acid at a liquid temperature of 70°C (boric acid concentration: 4.0% by weight, potassium iodide concentration: 5% by weight), while the total draw ratio was 5.5 in the longitudinal direction (long side direction) between rolls having different circumferential speeds. Uniaxial stretching was performed so as to double (underwater stretching treatment).
그 후, 적층체를 액온 20℃의 세정욕(물 100중량부에 대하여, 요오드화칼륨을 4중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시켰다(세정 처리).Thereafter, the laminate was immersed in a washing bath (aqueous solution obtained by blending 4 parts by weight of potassium iodide with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 20°C (washing treatment).
그 후, 90℃로 유지된 오븐 내에서 건조시키면서, 표면 온도가 75℃로 유지된 SUS제의 가열 롤에 약 2초 접촉시켰다(건조 수축 처리). 건조 수축 처리에 의한 적층체의 폭 방향의 수축률은 5.2%였다.Thereafter, while drying in an oven maintained at 90°C, it was brought into contact with a heating roll made of SUS whose surface temperature was maintained at 75°C for about 2 seconds (dry shrinkage treatment). The shrinkage rate in the width direction of the layered product by the drying shrinkage treatment was 5.2%.
이와 같이 하여, 수지 기재 상에 두께 5㎛의 편광자를 형성했다.In this way, a polarizer having a thickness of 5 μm was formed on the resin substrate.
2. 편광판의 제작2. Fabrication of polarizer
상기에서 얻어진 편광자의 표면(수지 기재와는 반대측의 면)에, 보호층으로서 HC-TAC 필름을, 자외선 경화형 접착제를 통해 접합했다. 구체적으로는, 경화형 접착제의 총 두께가 1.0㎛로 되도록 도공하고, 롤기를 사용하여 접합했다. 그 후, UV 광선을 보호층측으로부터 조사하여 접착제를 경화시켰다. 또한, HC-TAC 필름은, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(두께 25㎛)에 하드 코트(HC)층(두께 7㎛)이 형성된 필름이고, TAC 필름이 편광자측이 되도록 하여 접합했다. 이어서, 수지 기재를 박리하고, 당해 박리면에 요오드 투과 억제층(두께 0.3㎛)을 형성했다. 또한, 요오드 투과 억제층은 이하와 같이 하여 형성했다.An HC-TAC film was bonded to the surface of the polarizer obtained above (surface on the opposite side to the resin substrate) as a protective layer through an ultraviolet curable adhesive. Specifically, the coating was applied so that the total thickness of the curable adhesive was 1.0 µm, and bonding was performed using a roll machine. Thereafter, UV rays were irradiated from the protective layer side to cure the adhesive. In addition, the HC-TAC film is a film in which a hard coat (HC) layer (thickness of 7 μm) is formed on a triacetyl cellulose (TAC) film (thickness of 25 μm), and the TAC film is bonded so as to be on the polarizer side. Next, the resin substrate was peeled off, and an iodine permeation inhibiting layer (thickness: 0.3 µm) was formed on the peeled surface. In addition, the iodine permeation suppression layer was formed as follows.
메타크릴산메틸(MMA, 후지 필름 와코 준야쿠사제, 상품명 「메타크릴산메틸 모노머」) 97.0부, 상기 일반식 (1e)로 표현되는 공중합 단량체 3.0부, 중합 개시제(후지 필름 와코 준야쿠사제, 상품명 「2,2'-아조비스(이소부티로니트릴)」) 0.2부를 톨루엔 200부에 용해했다. 이어서, 질소 분위기 하에서 70℃로 가열하면서 5.5시간 중합 반응을 행하여, 붕소 함유 아크릴계 수지 용액(고형분 농도: 33%)을 얻었다. 얻어진 붕소 함유 아크릴계 중합체의 Tg는 110℃, Mw는 80000이었다. 이 붕소 함유 아크릴계 중합체 20부를 메틸에틸케톤 80부에 용해하여, 수지 용액(20%)을 얻었다. 이 수지 용액을, 상기한 수지 기재 박리면에 와이어 바를 사용하여 도포하고, 도포막을 60℃에서 5분간 건조시켜, 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물로서 구성되는 요오드 투과 억제층을 형성했다.97.0 parts of methyl methacrylate (MMA, manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., trade name "methyl methacrylate monomer"), 3.0 parts of copolymerization monomer represented by the general formula (1e), polymerization initiator (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 0.2 part of brand name "2,2'-azobis (isobutyronitrile)") was dissolved in 200 parts of toluene. Then, a polymerization reaction was performed for 5.5 hours while heating at 70°C in a nitrogen atmosphere to obtain a boron-containing acrylic resin solution (solid content concentration: 33%). Tg of the obtained boron-containing acrylic polymer was 110°C and Mw was 80000. 20 parts of this boron-containing acrylic polymer was dissolved in 80 parts of methyl ethyl ketone to obtain a resin solution (20%). This resin solution was applied to the peeling surface of the resin substrate using a wire bar, and the coated film was dried at 60° C. for 5 minutes to form an iodine permeation suppression layer composed of a solidified product of the coated film of the organic solvent solution of the resin.
이와 같이 하여, 보호층(HC층/TAC 필름)/접착제층/편광자/요오드 투과 억제층의 구성을 갖는 편광판 P1을 얻었다.In this way, a polarizing plate P1 having a configuration of protective layer (HC layer/TAC film)/adhesive layer/polarizer/iodine permeation suppression layer was obtained.
[제조예 17: 편광판 P2의 제작][Production Example 17: Production of Polarizing Plate P2]
두께 30㎛의 폴리비닐알코올 필름을, 속도비가 다른 롤 사이에 있어서, 30℃, 0.3% 농도의 요오드 용액 중에서 1분간 염색하면서, 3배까지 연신했다. 그 후, 60℃, 4% 농도의 붕산, 10% 농도의 요오드화칼륨을 포함하는 수용액 중에 0.5분간 침지하면서 총 연신 배율이 6배까지 연신했다. 이어서, 30℃, 1.5% 농도의 요오드화칼륨을 포함하는 수용액 중에 10초간 침지함으로써 세정한 후, 50℃에서 4분간 건조를 행하여, 두께 12㎛의 편광자를 얻었다. 당해 편광자의 편면에, 제조예 15와 마찬가지로 하여 HC-TAC 필름을 접합했다. 또한, 편광자의 다른 한쪽의 면에, 락톤환 구조를 갖는 아크릴 필름(두께 20㎛)을, 자외선 경화형 접착제(두께 1.0㎛)를 통해 접합했다. 또한, 아크릴 필름의 표면에, 제조예 16과 마찬가지로 하여 요오드 투과 억제층(두께 0.3㎛)을 형성했다. 이와 같이 하여, 보호층(HC층/TAC 필름)/접착제층/편광자/접착제층/보호층(아크릴 필름)/요오드 투과 억제층의 구성을 갖는 편광판 P2를 얻었다.A polyvinyl alcohol film having a thickness of 30 μm was stretched up to 3 times between rolls at different speed ratios, dyeing for 1 minute in a 0.3% concentration iodine solution at 30°C. Then, the total draw ratio was extended|stretched to 6 times, immersing for 0.5 minute in the aqueous solution containing 60 degreeC, 4% concentration boric acid, and 10% concentration potassium iodide. Next, after washing by immersing for 10 seconds in an aqueous solution containing potassium iodide at 30°C and a concentration of 1.5%, drying was performed at 50°C for 4 minutes to obtain a polarizer having a thickness of 12 μm. An HC-TAC film was bonded to one side of the polarizer in the same manner as in Production Example 15. Furthermore, an acrylic film (thickness: 20 μm) having a lactone ring structure was bonded to the other surface of the polarizer via an ultraviolet curable adhesive (thickness: 1.0 μm). Further, an iodine permeation suppression layer (thickness: 0.3 µm) was formed on the surface of the acrylic film in the same manner as in Production Example 16. In this way, polarizing plate P2 having a configuration of protective layer (HC layer/TAC film)/adhesive layer/polarizer/adhesive layer/protective layer (acrylic film)/iodine permeation suppression layer was obtained.
[제조예 18: 편광판 P3의 제작][Production Example 18: Production of Polarizing Plate P3]
아크릴 필름 대신에 환상 올레핀계 수지(COP) 필름(두께 13㎛)을 사용한 것 이외는 제조예 17과 마찬가지로 하여 편광판 P3을 얻었다.A polarizing plate P3 was obtained in the same manner as in Production Example 17 except that a cyclic olefin resin (COP) film (thickness: 13 µm) was used instead of the acrylic film.
[실시예 1][Example 1]
1. 점착제 조성물의 조제1. Preparation of pressure-sensitive adhesive composition
제조예 1에서 얻어진 (메트)아크릴계 베이스 폴리머 A1의 용액의 고형분 100부에 대하여, 대전 방지제(상품명: LiTFSi30EA, 미츠비시 마테리얼사제) 3부, 가교제로서의 벤조일퍼옥사이드(상품명: 나이퍼 BMT 40SV, 니혼 유시(주)제) 0.3부, 이소시아네이트계 가교제(상품명: 타케네이트 D110N, 미츠이 가가쿠(주)제) 0.2부, 리워크 향상제(상품명: 사이릴 SAT10, 가네카사제) 0.03부, 산화 방지제(상품명: Irganox 1010, 힌더드 페놀계, BASF 재팬사제) 0.3부, 및 실란 커플링제(상품명: A-100, 소켄 가가쿠사제, 아세토아세틸기 함유 실란 커플링제) 0.2부를 배합하여, 아크릴계 점착제 조성물의 용액을 조제했다.Based on 100 parts of the solid content of the solution of the (meth)acrylic base polymer A1 obtained in Production Example 1, 3 parts of an antistatic agent (trade name: LiTFSi30EA, manufactured by Mitsubishi Materials Co., Ltd.), benzoyl peroxide as a crosslinking agent (trade name: Nyper BMT 40SV, Nippon Yushi Co., Ltd.) 0.3 part, isocyanate-based crosslinking agent (trade name: Takenate D110N, manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd.) 0.2 part, rework improver (trade name: Cyrill SAT10, manufactured by Kaneka Co., Ltd.) 0.03 part, antioxidant (trade name) : 0.3 part of Irganox 1010, hindered phenolic, manufactured by BASF Japan Co., Ltd., and 0.2 part of silane coupling agent (trade name: A-100, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., silane coupling agent containing an acetoacetyl group) are blended to form a solution of an acrylic pressure-sensitive adhesive composition prepared
2. 점착제층을 갖는 편광판의 제작2. Fabrication of polarizing plate with pressure-sensitive adhesive layer
상기에서 얻어진 아크릴계 점착제 조성물의 용액을, 실리콘계 박리제로 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(미츠비시 가가쿠 폴리에스테르 필름제, 상품명 「MRF38」, 세퍼레이터 필름)의 편면에, 건조 후의 점착제층의 두께가 15㎛로 되도록 도포하고, 155℃에서 1분간 건조를 행하여, 세퍼레이터 필름의 표면에 점착제층을 형성했다. 이어서, 제조예 16에서 제작한 편광판 P1의 요오드 투과 억제층 표면에, 세퍼레이터 필름 상에 형성한 점착제층을 전사하여, 점착제층을 갖는 편광판을 제작했다. 얻어진 점착제층을 갖는 편광판을 상기 (2) 내지 (7)의 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.The solution of the acrylic pressure-sensitive adhesive composition obtained above was applied to one side of a polyethylene terephthalate film (manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film, trade name "MRF38", separator film) treated with a silicone-based release agent, and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer after drying was 15 μm. It was applied as much as possible, and dried at 155°C for 1 minute to form an adhesive layer on the surface of the separator film. Subsequently, the pressure-sensitive adhesive layer formed on the separator film was transferred to the surface of the iodine permeation suppression layer of the polarizing plate P1 prepared in Production Example 16, thereby producing a polarizing plate having a pressure-sensitive adhesive layer. The polarizing plate having the obtained pressure-sensitive adhesive layer was used for evaluation of the above (2) to (7). The results are shown in Table 1.
[실시예 2 내지 24 및 비교예 1 내지 12][Examples 2 to 24 and Comparative Examples 1 to 12]
표 1에 나타내는 편광판 및 점착제층의 조합으로 점착제층을 갖는 편광판을 제작했다. 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 표 1에 있어서의 대전 방지제의 약칭은 이하와 같다.A polarizing plate having an adhesive layer was produced with a combination of the polarizing plate and the pressure-sensitive adhesive layer shown in Table 1. The results are shown in Table 1. In addition, the abbreviation of the antistatic agent in Table 1 is as follows.
LiTFSI: 리튬비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드LiTFSI: lithium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide
EMI-FSI: 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(플루오로술포닐)이미드EMI-FSI: 1-ethyl-3-methylimidazolium bis(fluorosulfonyl)imide
TBMA-TFSI: 트리부틸메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드TBMA-TFSI: tributylmethylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide
[평가][evaluation]
표 1로부터 명확한 바와 같이, 본 발명의 실시예의 편광판은, ESD 시험에 있어서 양호한 결과를 나타내고, 신뢰성 시험 후에도 낮은 표면 저항값을 유지하고 있다. 또한, 본 발명의 실시예의 편광판은, 딜레이 버블, 가습 시의 색 빠짐, 신뢰성 시험 후의 외관 불량 및 이형 가공 시의 크랙이 모두 양호하게 억제되어 있다.As is clear from Table 1, the polarizing plate of the examples of the present invention shows good results in the ESD test and maintains a low surface resistance value even after the reliability test. In addition, in the polarizing plate of the embodiment of the present invention, delay bubbles, color loss during humidification, poor appearance after reliability test, and cracks during release processing are all well suppressed.
본 발명의 편광판은, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치 및 무기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 적합하게 사용된다.The polarizing plate of the present invention is suitably used for image display devices such as liquid crystal display devices, organic EL display devices, and inorganic EL display devices.
11: 편광자
12: 보호층
30: 점착제층
40: 요오드 투과 억제층
100: 편광판11: polarizer
12: protective layer
30: adhesive layer
40: iodine permeation inhibitory layer
100: polarizer
Claims (13)
해당 요오드 투과 억제층이, 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물 또는 열경화물이고,
해당 점착제층을 구성하는 점착제 조성물이, 베이스 폴리머와 대전 방지제를 포함하고,
해당 베이스 폴리머는, 유리 전이 온도가 -50℃ 이하이고, 및, 100㎑에 있어서의 유전율이 5.0 이상이고,
해당 점착제층의 표면 저항값이 1.0×109Ω/□ 이하인, 편광판.A polarizer, a protective layer provided on one side of the polarizer, an iodine permeation inhibiting layer provided on the other side of the polarizer, and an adhesive layer provided on the opposite side of the iodine permeation inhibiting layer to the polarizer,
The iodine permeation inhibiting layer is a solidified material or a thermoset material of a coating film of an organic solvent solution of a resin,
The pressure-sensitive adhesive composition constituting the pressure-sensitive adhesive layer contains a base polymer and an antistatic agent,
The base polymer has a glass transition temperature of -50°C or less, and a dielectric constant of 5.0 or more at 100 kHz,
A polarizing plate having a surface resistance value of the pressure-sensitive adhesive layer of 1.0×10 9 Ω/□ or less.
식 중, R1은 알킬기이고, n은 1 내지 15의 정수이다.The polarizing plate according to claim 3, wherein the alkoxy group-containing monomer is represented by the following formula:
In formula, R <1> is an alkyl group, and n is an integer of 1-15.
(식 중, X는 비닐기, (메트)아크릴기, 스티릴기, (메트)아크릴아미드기, 비닐에테르기, 에폭시기, 옥세탄기, 히드록실기, 아미노기, 알데히드기, 및 카르복실기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 반응성기를 포함하는 관능기를 나타내고, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 지방족 탄화수소기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 헤테로환기를 나타내고, R1 및 R2는 서로 연결하여 환을 형성해도 된다).The method according to any one of claims 1 to 10, wherein the resin constituting the iodine permeation inhibiting layer is a (meth)acrylic monomer of more than 50 parts by weight and more than 0 parts by weight and less than 50 parts by weight of formula (1) A polarizing plate comprising a copolymer obtained by polymerizing a monomer mixture containing the monomers represented:
(Wherein, X is selected from the group consisting of a vinyl group, a (meth)acrylic group, a styryl group, a (meth)acrylamide group, a vinylether group, an epoxy group, an oxetane group, a hydroxyl group, an amino group, an aldehyde group, and a carboxyl group represents a functional group containing at least one reactive group, and R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a hetero which may have a substituent represents ventilation, and R 1 and R 2 may be connected to each other to form a ring).
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