KR20230102485A - Dental implant assembly - Google Patents
Dental implant assembly Download PDFInfo
- Publication number
- KR20230102485A KR20230102485A KR1020210192661A KR20210192661A KR20230102485A KR 20230102485 A KR20230102485 A KR 20230102485A KR 1020210192661 A KR1020210192661 A KR 1020210192661A KR 20210192661 A KR20210192661 A KR 20210192661A KR 20230102485 A KR20230102485 A KR 20230102485A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- implant
- abutment
- groove
- dental implant
- grooves
- Prior art date
Links
- 239000004053 dental implant Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 239000007943 implant Substances 0.000 claims abstract description 91
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 claims abstract description 17
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims abstract description 12
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 12
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 4
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 3
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 3
- 238000010883 osseointegration Methods 0.000 abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 9
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 7
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 208000006386 Bone Resorption Diseases 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000024279 bone resorption Effects 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000035876 healing Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000036755 cellular response Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000001054 cortical effect Effects 0.000 description 1
- 230000007123 defense Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 230000018984 mastication Effects 0.000 description 1
- 238000010077 mastication Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000001356 surgical procedure Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C8/00—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools
- A61C8/0018—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools characterised by the shape
- A61C8/0022—Self-screwing
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C8/00—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools
- A61C8/0018—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools characterised by the shape
- A61C8/0037—Details of the shape
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C8/00—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools
- A61C8/0048—Connecting the upper structure to the implant, e.g. bridging bars
- A61C8/005—Connecting devices for joining an upper structure with an implant member, e.g. spacers
- A61C8/006—Connecting devices for joining an upper structure with an implant member, e.g. spacers with polygonal positional means, e.g. hexagonal or octagonal
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C8/00—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools
- A61C8/0048—Connecting the upper structure to the implant, e.g. bridging bars
- A61C8/005—Connecting devices for joining an upper structure with an implant member, e.g. spacers
- A61C8/0068—Connecting devices for joining an upper structure with an implant member, e.g. spacers with an additional screw
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C8/00—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools
- A61C8/0048—Connecting the upper structure to the implant, e.g. bridging bars
- A61C8/005—Connecting devices for joining an upper structure with an implant member, e.g. spacers
- A61C8/0069—Connecting devices for joining an upper structure with an implant member, e.g. spacers tapered or conical connection
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/352—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/352—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
- B23K26/355—Texturing
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C8/00—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools
- A61C8/0018—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools characterised by the shape
- A61C8/0037—Details of the shape
- A61C2008/0046—Textured surface, e.g. roughness, microstructure
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Dentistry (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Orthopedic Medicine & Surgery (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Dental Prosthetics (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 치과용 임플란트 조립체에 관한 것이다.The present invention relates to dental implant assemblies.
치조골에 삽입되는 치과용 임플란트(이하, '임플란트'라 간략히 칭함)는 오랜 기간 사용되어 왔으며, 현재 일반적으로 사용되고 있는 임플란트는 생체적합성이 우수한 티타늄, 티타늄 합금 재질 또는 세라믹 재질로 선택되어 사용되고 있다. Dental implants (hereinafter simply referred to as 'implants') inserted into the alveolar bone have been used for a long time, and the currently commonly used implants are selected from titanium, titanium alloy material, or ceramic material having excellent biocompatibility.
임플란트는 기능적으로 실제 치아의 역할을 대행할 수 있어야 할 뿐만 아니라 치아에 가해지는 하중을 적절히 분산시켜 실제 치아만큼 장시간 사용이 가능하도록 제작되어야 한다.Implants should not only be functionally capable of acting as real teeth, but also be manufactured to properly distribute the load applied to the teeth so that they can be used for a long time as real teeth.
치조골에 식립되는 임플란트는 어버트먼트와 결합되는 형태에 따라 외부연결방식과 내부연결방식으로 대별되는데, 외부연결방식은 골내에 삽입된 임플란트가 상대적으로 견고하다는 장점은 있으나, 식립 후 초기 단계에서 임플란트와 어버트먼트 사이의 간극이 넓어 세균이 서식할 확률이 높아 경계부의 골흡수가 일어난다는 단점이 있다.Implants placed in the alveolar bone are roughly divided into an external connection method and an internal connection method according to the shape of the combination with the abutment. The gap between the abutment and the abutment is wide, and there is a high probability that bacteria will inhabit, leading to bone resorption at the boundary.
때문에 최근에는 내부연결방식이 주로 이용되는데, 내부연결방식은 정육각형의 홈(일반적으로 헥사부(Hexa)라 칭함)을 임플란트 내부에 형성하고, 어버트먼트가 임플란트와 만나는 부분을 원뿔(Cone) 형상으로 형성하여 세균이 서식할 공간을 배제하여 초기 골흡수를 최소화시킴으로써 식립 성공률이 높다는 장점을 갖는다. 그러나 임플란트 내부로 들어가는 어버트먼트로 인한 구조적 한계로 골내에 삽입된 임플란트의 파절 가능성이 상대적으로 높다는 단점이 있다.Therefore, the internal connection method is mainly used recently. In the internal connection method, a regular hexagonal groove (generally called a hexa part) is formed inside the implant, and the part where the abutment meets the implant is formed in a cone shape. It has the advantage of high implantation success rate by minimizing the initial bone resorption by excluding the space for bacteria to inhabit. However, there is a disadvantage in that the possibility of fracture of the implant inserted into the bone is relatively high due to structural limitations caused by the abutment entering the implant.
파절은 피로 현상에서 비롯되는 것인데, 피로(fatigue)는 재료 및 구조물에 반복응력이 발생할 때, 응력의 반복횟수가 증가함으로써 재료 또는 구조물의 강도가 저하되고 궁극적으로 파괴가 일어나는 현상을 말한다. 저작 운동시 어버트먼트에는 임플란트에 축선 방향으로의 수직 저작력만이 작용하는 것이 아니라 축선 방향에 수직한 수평 저작력도 복합적으로 작용하고, 어버트먼트 하단이 헥사부에 닿아 반복적인 힘을 가할 수 있어, 이로 인해 기하학적으로 불연속점인 헥사부 모서리에 인장응력이 주기적으로 가해져 세로 파절 또는 가로 파절 형태로 피로 파절이 초래될 수 있는 문제점이 있다.Fracture is derived from a fatigue phenomenon. Fatigue refers to a phenomenon in which the strength of a material or structure is lowered and ultimately failure occurs as the number of repetitions of stress increases when repeated stress occurs in materials and structures. During mastication movement, not only the vertical masticatory force in the axial direction of the implant acts on the abutment, but also the horizontal masticatory force perpendicular to the axial direction in combination, and the lower part of the abutment touches the hexa part to apply repeated force. , there is a problem in that, due to this, tensile stress is periodically applied to the edge of the hexagonal part, which is a geometrically discontinuous point, and fatigue fracture may be caused in the form of a longitudinal fracture or a transverse fracture.
한편, 임플란트 시술에 있어서, 임플란트의 골융합(Osteo-integration) 특성은 매우 중요하다. 우수한 골융합 특성은 임플란트를 뼈에 고정시켜 초기 안정성을 이룬 후 짧은 치료기간 내에 임플란트와 뼈 사이에 영구적인 결합이 생성되는 것을 의미한다.On the other hand, in the implant procedure, the bone fusion (Osteo-integration) characteristics of the implant is very important. Excellent osseointegration properties mean that a permanent bond is created between the implant and the bone within a short treatment period after achieving initial stability by fixing the implant to the bone.
이와 같이 골융합 특성을 향상시키기 위해 임플란트 표면의 적절한 처리를 수행하여 부여할 수 있다. 표면처리 방법은 예를 들어, 샌드블라스팅(Sandblasting), 양극산화 또는 에칭 등에 의해 화학적으로 거칠게 처리된다. 다른 방법으로, 생체적합성이 우수한 물질을 코팅하거나 침지하는 방법 등의 첨가식 방법으로 표면이 처리되기도 한다. 전술된 표면 처리 방법으로 표면처리된 임플란트는 시술 후 치유 기간을 단축시킬 수 있다.In this way, in order to improve osseointegration characteristics, the implant surface may be properly treated and imparted. The surface treatment method is chemically roughened by, for example, sandblasting, anodic oxidation or etching. Alternatively, the surface may be treated by an additive method such as coating or immersing a material having excellent biocompatibility. Implants surface-treated by the aforementioned surface treatment method can shorten the healing period after surgery.
특히 종래 표면처리 방법의 한 예시로, 임플란트의 표면에 샌드블라스팅 및 에칭 처리함으로써 표면 거칠기를 부여하여 골융합 특성을 향상시키는 방법이 제안되었으나, 전술된 종래 방법으로 표면 처리된 임플란트는 표면에 불규칙한 형상으로 표면 거칠기가 부여되어 골융합 특성이 충분히 구현되지 못하는 문제점이 있다.In particular, as an example of a conventional surface treatment method, a method of improving osseointegration characteristics by imparting surface roughness to the surface of an implant by sandblasting and etching treatment has been proposed. There is a problem in that osseointegration characteristics are not sufficiently implemented due to surface roughness.
본 발명은 전술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 피로 파절에 대한 강건성이 높아지고, 표면 위치별로 다른 표면 거칠기를 갖도록 구성되어 골융합 특성이 우수한 치과용 임플란트 조립체를 제공하는 것이다.The present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a dental implant assembly having high durability against fatigue fracture and having different surface roughness for each surface position and having excellent osseointegration characteristics. .
상기와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일 측면은 축선에 대한 회전 동작에 따라 치조골에 삽입되어 인공치근을 형성하는 임플란트와 상기 임플란트에 결합되어 보철물을 지지하며 내부에 상단으로부터 하단까지 연장되며 체결나사가 삽입되는 체결나사 삽입공이 형성되는 어버트먼트를 포함하는 치과용 임플란트 조립체에 있어서, 상기 임플란트는, 보철물 지지를 위한 어버트먼트가 결합될 수 있도록 상단면에 형성되는 내부 홈, 및 상단에서부터 하단까지 나사산이 형성되는 외부 표면을 포함하고, 상기 어버트먼트는, 상기 임플란트의 외부로 돌출되어 상기 보철물이 부착되는 상측부, 및 상기 상측부의 하측에 배치되며 상기 내부 홈에 삽입되는 하측부를 포함하며, 상기 외부 표면은, 기 설정된 높이에 따라 상부 영역 및 하부 영역으로 구획되고, 레이저 가공에 의해 표면처리 되어 하나 이상의 제1 홈이 형성되되, 상기 하부 영역의 제1 홈의 평균 폭 및 평균 깊이 중 적어도 하나는 상기 상부 영역의 제1 홈 대비 크게 형성되는, 치과용 임플란트 조립체를 제공한다.In order to achieve the above object, one aspect of the present invention is an implant inserted into the alveolar bone to form an artificial tooth root according to a rotational motion about an axis and coupled to the implant to support a prosthesis and extend from the top to the bottom inside, A dental implant assembly including an abutment in which a fastening screw insertion hole into which a fastening screw is inserted is formed, wherein the implant includes an inner groove formed on an upper surface to which an abutment for supporting a prosthesis can be coupled, and an upper upper end and an outer surface on which a thread is formed from the bottom to the bottom, wherein the abutment includes an upper portion protruding out of the implant and attaching the prosthesis, and a lower portion disposed below the upper portion and inserted into the inner groove. The outer surface is divided into an upper region and a lower region according to a predetermined height, and the surface is treated by laser processing to form one or more first grooves, the average width and average width of the first grooves in the lower region At least one of the depths is formed larger than the first groove of the upper region, providing a dental implant assembly.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 내부 홈은, 상기 상단면 입구에서부터 일정 깊이 아래쪽으로는 단면이 원형이며 아래쪽으로 갈수록 내경이 좁아지는 상측 경사부, 상기 상측 경사부의 일정 깊이 아래쪽으로는 단면 형상이 다각형인 다각형부, 상기 다각형부의 일정 깊이 아래쪽으로는 상기 다각형부의 다각형에 외접하는 원의 직경 이상의 직경을 갖고, 상기 다각형부 보다 앞서 형성되는 원형의 보링 구간, 상기 보링 구간의 일정 깊이 아래쪽으로는 상기 보링 구간 보다 작은 직경을 갖는 제2 원형수직부, 및 상기 제2 원형수직부의 일정 깊이 아래쪽으로는 상기 다각형부의 다각형에 내접하는 원보다 작은 직경을 갖는 어버트먼트 결합용 나사산이 형성된 내부 나사부를 포함하는, 치과용 임플란트 조립체일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the inner groove has a circular cross section downward from the upper surface inlet at a certain depth, and an upper inclined portion having a narrow inner diameter toward the bottom, and a cross-sectional shape downward at a certain depth of the upper inclined portion. The polygon part, which is a polygon, has a diameter greater than or equal to the diameter of a circle circumscribed to the polygon of the polygon part below a certain depth of the polygon part, and a circular boring section formed ahead of the polygon part, below a certain depth of the boring section A second circular vertical portion having a smaller diameter than the boring section, and an internal thread formed with an abutment coupling thread having a smaller diameter than a circle inscribed in the polygon of the polygonal portion below a predetermined depth of the second circular vertical portion. Including, it may be a dental implant assembly.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 어버트먼트는, 상기 하측부의 하단에 배치되며 상기 어버트먼트가 상기 임플란트에 삽입되었을 때 탄성변형되면서 상기 제2 원형수직부의 내주면에 억지끼움되어 상기 어버트먼트를 상기 픽스쳐 내부에 임시적으로 고정시키는 홀딩부를 더 포함하는, 치과용 임플란트 조립체일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the abutment is disposed at the lower end of the lower part and is elastically deformed when the abutment is inserted into the implant and is forcibly fitted to the inner circumferential surface of the second circular vertical part to form the abutment. It may be a dental implant assembly further comprising a holding part for temporarily fixing the ment to the inside of the fixture.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 외부 표면은 레이저 가공 이후, 에칭에 의해 표면처리 되어 하나 이상의 제2 홈이 형성되는 것을 특징으로 하는, 치과용 임플란트 조립체일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the outer surface may be a dental implant assembly, characterized in that one or more second grooves are formed by surface treatment by etching after laser processing.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 홈은 상기 제1 홈의 표면에 형성되는 것을 특징으로 하는, 치과용 임플란트 조립체일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the second groove may be a dental implant assembly, characterized in that formed on the surface of the first groove.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 보링 구간은, 제1 원형수직부, 및 상기 제1 원형수직부의 아래쪽으로 일정 곡률을 갖는 라운드부를 포함하고, 상기 제1 원형수직부의 직경이 상기 다각형부의 외접원의 직경 이상인 것을 특징으로 하는, 치과용 임플란트 조립체일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the boring section includes a first circular vertical portion and a round portion having a predetermined curvature below the first circular vertical portion, and the diameter of the first circular vertical portion is a circumscribed circle of the polygonal portion. It may be a dental implant assembly, characterized in that more than the diameter of.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 외부 표면은 나사산이 단일 피치로 형성되며, 상단으로부터 일정 거리까지는 얕은 골 깊이의 나사산이 형성된 상부 나사산 구간으로 구성되고, 상기 상부 나사산 구간 아래쪽으로는 깊은 골 깊이의 나사산이 형성된 하부 나사산 구간으로 구성되는 것을 특징으로 하는, 치과용 임플란트 조립체일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the outer surface is composed of an upper thread section in which threads are formed at a single pitch and a shallow thread depth is formed up to a certain distance from the upper end, and a deep thread depth is formed below the upper thread section. It may be a dental implant assembly, characterized in that composed of a lower thread section in which the thread of the is formed.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 보링 구간은 상기 상부 나사산 구간의 하단 경계에서부터 제1 산의 위쪽 또는 제2 산의 위쪽 또는 제3 산의 위쪽에 위치하는 것을 특징으로 하는, 치과용 임플란트 일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the boring section is a dental implant work, characterized in that located above the first mountain or above the second mountain or above the third mountain from the lower boundary of the upper thread section. can
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 홈의 평균 폭은 5~100㎛이고, 평균 깊이는 5~50㎛이고, 상기 제2 홈의 평균 폭 및 평균 깊이는 1~10㎛인, 치과용 임플란트일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the average width of the first groove is 5 ~ 100㎛, the average depth is 5 ~ 50㎛, the average width and average depth of the second groove is 1 ~ 10㎛, dental It may be a dental implant.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 다른 측면은 축선에 대한 회전 동작에 따라 치조골에 삽입되어 인공치근을 형성하는 임플란트와 상기 임플란트에 결합되어 보철물을 지지하며 내부에 상단으로부터 하단까지 연장되며 체결나사가 삽입되는 체결나사 삽입공이 형성되는 어버트먼트를 포함하는 치과용 임플란트 조립체에 있어서, 상기 임플란트는, 보철물 지지를 위한 어버트먼트가 결합될 수 있도록 상단면에 형성되는 내부 홈, 및 상단에서부터 하단까지 나사산이 형성되는 외부 표면을 포함하고, 상기 어버트먼트는, 상기 임플란트의 외부로 돌출되어 상기 보철물이 부착되는 상측부, 및 상기 상측부의 하측에 배치되며 상기 내부 홈에 삽입되는 하측부를 포함하며, 상기 외부 표면은, 기 설정된 높이에 따라 상부 영역, 제1 하부 영역, 및 제2 하부 영역으로 구획되고, 레이저 가공에 의해 표면처리 되어 하나 이상의 제1 홈이 형성되되, 상기 제1 하부 영역의 제1 홈의 평균 폭 및 평균 깊이 중 적어도 하나는 상기 상부 영역의 제1 홈 대비 크게 형성되고, 상기 제2 하부 영역의 제1 홈의 평균 폭 및 평균 깊이 중 적어도 하나는 상기 제2 하부 영역의 제1 홈 대비 크게 형성되는, 치과용 임플란트 조립체를 제공한다.In order to achieve the above object, another aspect of the present invention is an implant that is inserted into the alveolar bone to form an artificial tooth root according to a rotational motion about the axis and coupled to the implant to support the prosthesis and extends from the top to the bottom inside, A dental implant assembly including an abutment in which a fastening screw insertion hole into which a fastening screw is inserted is formed, wherein the implant includes an inner groove formed on an upper surface to which an abutment for supporting a prosthesis can be coupled, and an upper upper end and an outer surface on which a thread is formed from the bottom to the bottom, wherein the abutment includes an upper portion protruding out of the implant and attaching the prosthesis, and a lower portion disposed below the upper portion and inserted into the inner groove. The outer surface is divided into an upper region, a first lower region, and a second lower region according to a predetermined height, and is surface-treated by laser processing to form one or more first grooves, wherein the first lower region is formed. At least one of the average width and average depth of the first grooves of the upper region is greater than that of the first grooves of the upper region, and at least one of the average width and average depth of the first grooves of the second lower region is greater than that of the first grooves of the second lower region. Provided is a dental implant assembly formed larger than the first groove of the region.
본 발명의 일 측면에 따르면, 치과용 임플란트의 내부 홈이 보링 구간을 포함하여, 다각형부 가공시 펀칭 툴에 의해 모재가 다각형부 아래 쪽으로 몰려 압축 잔류 응력과 균열핵이 집중되는 현상을 방지할 수 있다.According to one aspect of the present invention, the inner groove of the dental implant includes a boring section, so that the base material is driven to the bottom of the polygonal portion by a punching tool during polygonal portion processing, thereby preventing the concentration of compressive residual stress and crack nuclei. there is.
또한, 외부 표면의 상부 영역은 상대적으로 낮은 거칠기를 갖게 되어 박테리아의 증식을 억제할 수 있고, 동시에 하부 영역은 상대적으로 큰 거칠기를 갖게 되어 골유착 성능을 개선할 수 있다. In addition, the upper region of the outer surface has a relatively low roughness to inhibit the growth of bacteria, while the lower region has a relatively high roughness to improve osseointegration performance.
본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The effects of the present invention are not limited to the above effects, and should be understood to include all effects that can be inferred from the detailed description of the present invention or the configuration of the invention described in the claims.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트 조립체의 분해 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트 조립체의 결합 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 및 임플란트의 표면 형상을 나타낸다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트의 사시 단면도를 나타낸다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트의 부분 확대도를 나타낸다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트의 정면도를 나타낸다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트의 단면도를 나타낸다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 다각형부 가공 방법의 세부를 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 어버트먼트의 정면도이다.
도 10은 도 9의 사시도이다.
도 11은 도 2의 부분 확대도이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트의 표면처리 방법을 도식화한 것이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 외부 표면의 상부 영역 및 하부 영역의 SEM 이미지이다.
도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 임플란트 및 임플란트의 표면 형상을 나타낸다.
도 15는 본 발명의 다른 실시예에 외부 표면의 상부 영역, 제1 하부 영역, 및 제2 하부 영역의 SEM 이미지이다.1 is an exploded perspective view of a dental implant assembly according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a combined cross-sectional view of a dental implant assembly according to an embodiment of the present invention.
3 shows an implant and a surface shape of the implant according to an embodiment of the present invention.
4 shows a perspective cross-sectional view of an implant according to an embodiment of the present invention.
5 shows a partially enlarged view of an implant according to an embodiment of the present invention.
6 shows a front view of an implant according to an embodiment of the present invention.
7 shows a cross-sectional view of an implant according to an embodiment of the present invention.
8 is a view for explaining details of a polygonal part processing method according to an embodiment of the present invention.
9 is a front view of an abutment according to an embodiment of the present invention.
Figure 10 is a perspective view of Figure 9;
11 is a partially enlarged view of FIG. 2 .
12 is a schematic diagram of a surface treatment method of an implant according to an embodiment of the present invention.
13 is a SEM image of the upper and lower regions of the exterior surface in one embodiment of the present invention.
14 shows an implant and a surface shape of the implant according to another embodiment of the present invention.
15 is a SEM image of an upper region, a first lower region, and a second lower region of an exterior surface in another embodiment of the present invention.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the present invention may be embodied in many different forms and, therefore, is not limited to the embodiments described herein. And in order to clearly explain the present invention in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and similar reference numerals are attached to similar parts throughout the specification.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is said to be "connected" to another part, this includes not only the case where it is "directly connected" but also the case where it is "indirectly connected" with another member interposed therebetween. . In addition, when a part "includes" a certain component, it means that it may further include other components without excluding other components unless otherwise stated.
이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트 조립체의 분해 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트 조립체의 결합 단면도이며, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 및 임플란트의 표면 형상을 나타내고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트의 사시 단면도를 나타내며, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트의 부분 확대도를 나타내고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트의 정면도를 나타내며, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트의 단면도를 나타내고, 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 다각형부 가공 방법의 세부를 설명하기 위한 도면이다.1 is an exploded perspective view of a dental implant assembly according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a combined cross-sectional view of a dental implant assembly according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is an embodiment of the present invention Figure 4 shows a perspective cross-sectional view of an implant according to an embodiment of the present invention, Figure 5 shows a partially enlarged view of an implant according to an embodiment of the present invention, Figure 6 is a Shows a front view of an implant according to an embodiment of the present invention, Figure 7 shows a cross-sectional view of an implant according to an embodiment of the present invention, Figure 8 describes the details of a polygonal portion processing method according to an embodiment of the present invention It is a drawing for
도 1 및 도 2를 참조하면, 치과용 임플란트 조립체(1000)는 임플란트(100) 및 어버트먼트(200)를 포함한다. Referring to FIGS. 1 and 2 , a
보다 구체적으로, 치과용 임플란트 조립체(1000)는 축선에 대한 회전 동작에 따라 치조골에 삽입되어 인공치근을 형성하는 임플란트(100)와 상기 임플란트(100)에 결합되어 보철물을 지지하며 내부에 상단으로부터 하단까지 연장되며 체결나사(300)가 삽입되는 체결나사 삽입공(201)이 형성되는 어버트먼트(200)를 포함하여 구성된다.More specifically, the
도 1 내지 도 7을 참조하면, 임플란트(100)는 축선에 대한 회전 동작에 따라 치조골에 삽입되어 인공치근의 역할을 수행하는 것으로서, 보철물 지지를 위한 어버트먼트가 결합될 수 있도록 상단면에 형성되는 내부 홈(110) 및 상단에서부터 하단까지 나사산이 형성되는 외부 표면(120)을 포함한다.1 to 7, the
이러한 임플란트(100)의 내부 홈(110)은 상단에서부터 상측 경사부(111), 다각형부(112), 보링 구간(113), 및 내부 나사부(116)를 포함하여 구성된다.The
보다 구체적으로, 내부 홈(110)은 임플란트 상단면 입구에서부터 일정 깊이 아래쪽으로는 단면이 원형이며 아래쪽으로 갈수록 내경이 좁아지는 상측 경사부(111), 상기 상측 경사부(111)의 일정 깊이 아래쪽으로는 단면 형상이 다각형인 다각형부(112), 상기 다각형부(112)의 일정 깊이 아래쪽으로는 상기 다각형부(112)의 다각형에 내접하는 원보다 작은 직경을 갖는 어버트먼트 결합용 나사산이 형성된 내부 나사부(116), 및 상기 다각형부(112)의 하단과 상기 내부 나사부(116) 상단 사이에는 상기 다각형부(112)의 다각형에 외접하는 원의 직경 이상의 직경을 갖고, 상기 다각형부(112) 보다 앞서 형성되는 원형의 보링 구간(113)을 포함하여 구성된다.More specifically, the
한편, 상기 내부 홈(110)은 상기 보링 구간(113)의 일정 깊이 아래쪽으로는 상기 보링 구간(113) 보다 작은 직경을 갖는 제2 원형수직부(114), 및 상기 제2 원형수직부(114)의 일정 깊이 아래쪽으로는 단면이 원형이며 아래쪽으로 갈수록 내경이 좁아지는 내측 경사부(115)를 더 포함할 수 있다. 이때, 내부 나사부(116)는 상기 내측 경사부(115)의 아래쪽에 위치할 수 있다.On the other hand, the
상측 경사부(111)는 임플란트(100)의 상단으로부터 하측으로 연장되어 있는 것으로서, 하측으로 갈수록 직경이 좁아지는 테이퍼 형상을 가지고 있게 된다.The upper
다각형부(112)는 상기 상측 경사부(111)와 상기 제1 보링 구간(113) 사이에 배치되며 내부 홈(110)에 삽입된 어버트먼트가 축선(CL)에 대하여 회전되는 것을 방지한다. 본 실시예에서 다각형부(112)는 육각형태를 가지고 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 다양한 형상을 가질 수 있다. The
내부 나사부(116)는 상기 내측 경사부(115)의 하측에 배치되는 부분으로서, 내주면에 나사산이 형성되어 있다. 이러한 내부 나사부(116)에는 어버트먼트의 체결나사 삽입공에 삽입되는 체결나사가 나사결합 될 수 있다.The inner threaded
한편, 도 8을 참조하면, 보링 구간(113)은 상기 다각형부(112)의 외접원의 직경 이상으로, 상기 다각형부(112) 보다 앞서 형성될 수 있다. Meanwhile, referring to FIG. 8 , the
이러한 보링 구간(113)은 다각형부(112) 가공시 펀칭 툴(10)에 의해 소성 변형되는 상측 경사부(111)의 모재가 다각형부(112) 아래 쪽으로 몰려 압축 잔류 응력과 균열핵이 집중되는 현상이 방지하기 위한 것이다. 즉, 보링 구간(113)이 형성됨에 따라 상측 경사부(111)의 모재는 주로 펀칭 툴(10)의 가격(striking)에 의해 떨어져 나가거나 일부가 반경 바깥 방향으로 밀려 들어갈 뿐, 모재가 심하게 변형되며 밀려 들어가 다각형부(112) 아래 쪽으로 몰려 균열핵을 유발시키는 문제가 발생하지 않게 된다.In this
다시 말해, 모재에 극심한 소성변형이 초래되지 않도록 보링 구간(113)을 가공한 후, 펀칭을 통해 다각형부(112)를 형성한다는 것으로서, 상기 다각형부(112)의 하단과 내부 나사부(116) 상단 사이에는 상기 다각형부의 정다각에 외접하는 원의 직경 이상의 직경을 갖는 원형의 보링 구간(113)을 다각형부(112) 펀칭 공정에 앞서 가공해 놓는 것이다.In other words, after processing the
보링 구간(113)은 상기한 역할을 수행할 수만 있다면 그 형상에 크게 구애받지는 않으나, 보다 바람직하게는 상기 보링 구간은 제1 원형수직부(131)와 상기 제1 원형수직부(131) 아래 쪽의 일정 곡률을 갖는 라운드부(132)를 포함할 수 있다. The
보다 상세하게는 도 8 (a)에 나타낸 바와 같이, 상측 경사부(111) 하단부에 보링 공구로 보링 구간(113)이 가공되되, 보링 구간(113)은 제1 원형수직부(131)와 제1 원형수직부(131) 아래 쪽의 일정 곡률을 갖는 라운드부(132)로 이루어질 수 있으며, 보링 구간(113)의 반경은 다각형부(112) 가공 공정에서 사용되는 펀칭 툴(10)의 횡단면상 기하학적 중심에서 모서리까지의 길이(결과적으로 이 길이는 다각형부 외접원의 반경에 해당함) 이상으로 설정되어야 한다. 즉, 제1 원형수직부(131)의 직경이 상기 다각형부(112)의 외접원의 직경 이상으로 형성될 수 있다.More specifically, as shown in FIG. 8 (a), a
도 8 (b)에 나타낸 바와 같이 기존에는 모재의 피가공물이 상부에서 진입하는 펀칭 툴에 의해 아래쪽으로 소성 변형되며 우겨 넣어지는 상황이 될 수밖에 없어 모재가 심하게 변형되고, 아울러 균열핵이 다수 분포하게 되는 것이나, 도 8 (c)에 나타낸 바와 같이 본 발명에 의하면 피가공 부위를 펀칭 툴이 마치 칼이나 가위와 같이 잘라 내어지는 양상 또는 피가공 부위의 측면이 아래 모서리로 몰릴 수 없는 양상(모서리로 몰린다 하더라도 일반적인 디버링 작업에 의해 쉽게 제거됨)으로 가공이 되므로, 앞서 살펴본 기존 기술의 문제점이 제거될 수 있다.As shown in FIG. 8 (b), in the past, the workpiece of the base material is plastically deformed downward by the punching tool entering from the top and is forced into the situation, so the base metal is severely deformed and a large number of crack nuclei are distributed. However, as shown in FIG. 8 (c), according to the present invention, the punching tool cuts the workpiece area like a knife or scissors, or the side of the workpiece area cannot be driven to the lower corner (to the corner Even if it is driven, it is easily removed by a general deburring operation), so the problems of the existing technology discussed above can be eliminated.
한편, 도 6 및 도 7을 참조하면, 외부 표면(120)은 나사산이 단일 피치(P)로 형성되며, 상단으로부터 일정 거리까지는 얕은 골 깊이(D1)의 나사산(121a)이 형성된 상부 나사산 구간(121)으로 구성되고, 상기 상부 나사산(210) 구간 아래쪽으로는 깊은 골 깊이(D2)의 나사산(122a)이 형성된 하부 나사산 구간(122)으로 구성될 수 있다. 또한, 상부 나사산 구간(121) 나사산(121a)의 정점과 하부 나사산 구간(122) 나사산(122a)의 정점을 잇는 선은 임플란트(100)의 상단에서 하단까지 연속되는 것일 수 있다.On the other hand, referring to FIGS. 6 and 7, the
보링 구간(113)의 라운드부(132) 하단면은 상기 상부 나사산 구간(121)의 하단 경계에서부터 제1 산의 위쪽 또는 제2 산의 위쪽 또는 제3 산의 위쪽에 위치할 수 있다. 이와 같이 구성하면, 보링 구간(113)으로 인해 얇아진 벽체 두께 부분을 직접 보강한 것은 아니지만, 보링 구간(113) 아래쪽으로 구조적 강성을 더욱 증대시킬 수 있어, 피로 파절 상황에 대한 보다 양호한 방어 수단으로 기능할 수 있다.The lower surface of the round portion 132 of the
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 어버트먼트의 정면도이고, 도 10은 도 9의 사시도이며, 도 11은 도 2의 부분 확대도이다.9 is a front view of an abutment according to an embodiment of the present invention, FIG. 10 is a perspective view of FIG. 9 , and FIG. 11 is a partially enlarged view of FIG. 2 .
도 2, 도 9 내지 도 11을 참조하면, 어버트먼트(200)는 상기 임플란트(100)에 결합되어 보철물을 지지하며 내부에 상단으로부터 하단까지 연장되는 체결나사 삽입공(201)이 형성된다. Referring to FIGS. 2 and 9 to 11 , the
이러한 어버트먼트(200)는 상기 임플란트(100) 외부로 돌출되어 상기 보철물이 부착되는 상측부(210)와 상기 상측부(210)의 하측에 배치되며 상기 임플란트(100)의 내부 홈(110)에 삽입되는 하측부(220)를 포함한다.The
하측부(220)는 테이퍼 삽입부(230), 회전방지부(240), 원통부(250), 및 홀딩부(260)를 포함한다.The
테이퍼 삽입부(230)는 상기 임플란트(100)의 상측 경사부(111)에 삽입되며 상기 상측 경사부(111)와 대응되는 형상으로 형성될 수 있다.The
회전방지부(240)는 상기 임플란트(100)의 다각형부(112)에 삽입되어 상기 임플란트(100)에 대한 어버트먼트(200)의 상대적인 회전을 구속시킨다. 이러한 회전방지부(240)는 상기 다각형부(112)와 대응되는 형상으로 형성될 수 있다.The
원통부(250)는 회전방지부(240)와 홀딩부(260) 사이에 배치되며 대략 원통의 형상으로 형성된다. 이러한 원통부(250)는 적어도 일부분이 상기 임플란트(100)의 제2 원형수직부(114) 내부에 삽입된다. 구체적으로 원통부(250)는 적어도 일부분이 상기 홀딩부(260)와 함께 제2 원형수직부(114) 내에 삽입되게 된다.The
홀딩부(260)는 상기 원통부(250)의 아래쪽으로 배치되며 상기 어버트먼트(200)가 상기 임플란트(100)에 삽입되었을 때 상기 제2 원형수직부(114)의 내주면에 억지끼움되면서 상기 어버트먼트(200)를 상기 임플란트(100) 내부에 임시적으로 고정시킨다. 즉 홀딩부(260)는 상하간(상단과 하단간)의 탄성차이를 가지면서 임플란트(100) 내부에 임시적으로 고정시키는 것이다. 이러한 홀딩부(260)는 서로 이격되며 탄성을 가진 복수의 돌기로 구성되어 있으며, 적어도 한 쌍이 상기 제2 원형수직부(114)에 견고하게 억지끼움될 수 있도록 구성된다.The holding
이러한 홀딩부(260)에는 상기 체결나사 삽입공(201) 내에 삽입되는 체결나사(300)와 소정간격 이격되도록 체결나사(300)와 마주보는 내면에 단턱(263)이 형성되어 있다.
한편, 홀딩부(260)는 제1부분(261)과 제2부분(262)으로 구성된다. 상기 제1부분(261)은 외면이 수직하게 연장된 부분이며, 상기 제2부분(262)은 상기 제1부분(261)으로부터 하측으로 연장되며 외면이 외측으로 돌출되어 상기 제2 원형수직부(114)에 억지끼움된 부분이다.Meanwhile, the holding
단턱(263)은 상기 체결나사(300)와 멀어지는 방향으로 하향 경사진 경사면(263a)과 상기 경사면(263a)으로부터 하측으로 연장되는 수직면(263b)을 포함하여 구성된다. 이러한 단턱(263)은 홀딩부(260)의 탄성력을 높이기 위한 기능과 더불어 이물질이 임플란트(100) 내부에 있어서 상기 어버트먼트(200)와 체결나사(300) 간의 끼임현상을 방지하는 기능을 갖는다.The
다만, 단턱(263)의 형상은 이에 한정되는 것은 아니며 이외에도 단턱이 상기 체결나사(300)와 멀어지는 방향으로 수평연장되는 수평면과, 상기 수평면으로부터 하측으로 연장되는 수직면을 포함하는 것도 가능함은 물론이다.However, the shape of the
체결나사(300)는 어버트먼트(200)의 체결나사 삽입공(201)에 삽입된 상태에서 하부가 임플란트(100)의 내부 나사부(116)에 나사결합되어 상기 어버트먼트(200)를 상기 임플란트(100)에 고정시키기 위한 것이다.The
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트의 표면처리 방법을 도식화한 것이고, 도 13은 본 발명의 일 실시예에 외부 표면의 상부 영역 및 하부 영역의 SEM 이미지이다.12 is a schematic diagram of a surface treatment method of an implant according to an embodiment of the present invention, and FIG. 13 is a SEM image of an upper region and a lower region of an external surface according to an embodiment of the present invention.
임플란트(100)는 티타늄계 소재일 수 있다. 상기 티타늄계 소재는 순수 티타늄 또는 티타늄과 주기율표 상의 다른 금속의 합금으로 이루어진 소재를 의미한다. 상기 티타늄 합금은 예를 들어, 티타늄(Ti)과 알루미늄(Al), 실리콘(Si), 바나듐(V), 니오븀(Nb), 지르코늄(Zr), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 주석(Sn), 탄탈륨(Ta), 팔라듐(Pd) 및 이들 중 적어도 하나 이상의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The
도3, 도12 및 도 13을 참조하면, 임플란트(100)의 외부 표면(120)은 레이저 가공 단계 및 에칭 단계를 통해 표면처리 될 수 있으며, 레이저 가공에 의해 상기 외부 표면(120)에 하나 이상의 제1 홈(123)을 포함하는 매크로 표면이 형성되고, 에칭 단계에 의해 상기 외부 표면(120)에 하나 이상의 제2 홈(124)을 포함하는 마이크로 표면이 형성될 수 있다.3, 12 and 13, the
즉, 별도의 표면 거칠기가 부여되지 않은 가공된 임플란트(100)의 외부 표면(120)을 1차적으로 레이저 처리하여 가공할 수 있다. 외부 표면(120)을 레이저 가공하여 하나 이상의 제1 홈(123)을 규칙적으로 형성시킴으로써 균일한 형상의 매크로 표면을 구현할 수 있다. 이러한 하나 이상의 제1 홈(123)이 형성된 매크로 표면에 에칭 처리하여 하나 이상의 제2 홈(124)을 포함하는 마이크로 표면을 형성시키면 외부 표면(120)의 표면적이 증가하고, 그 결과 요철 효과로 골계면 결합력이 증가하여 임플란트의 식립 후 세포의 반응이 더욱 활성화될 수 있다.That is, the
일 실시예에서, 외부 표면(120)은 기 설정된 높이에 따라 상부 영역(Ua) 및 하부 영역(La)로 구획되고, 상기 하부 영역(La)에서 제1 홈(123)의 평균 폭 및 평균 깊이 중 적어도 하나는 상기 상부 영역(Ua) 대비 크게 형성될 수 있다. 이때, 상부 영역(Ua)은 상단에서부터 아래쪽으로 0.5~2㎜인 영역을 의미하고, 하부 영역(La)은 나머지 영역을 의미할 수 있다. In one embodiment, the
일 실시예에서, 외부 표면(120)은 기 설정된 높이에 따라 상부 영역(Ua) 및 하부 영역(La)로 구획되고, 상기 상부 영역(Ua)은 피질골과 접촉하는 부분이고 깊이 1~15㎛, 폭 1~25㎛의 제1 홈(123)이 형성되며, 상기 하부 영역(La)은 해면골과 접촉하는 부분이고 깊이 20~75㎛, 폭 30~125㎛의 제1 홈(123)이 형성될 수 있다. 즉, 상부 영역(Ua)에 상대적으로 작은 제1 홈(123)을 형성하고, 하부 영역(La)에 상대적으로 큰 제1 홈(123)을 형성시키면, 상부 영역(Ua)은 상대적으로 낮은 거칠기를 갖게 되어 박테리아의 증식을 억제할 수 있고, 동시에 하부 영역(La)은 상대적으로 큰 거칠기를 갖게 되어 골유착 성능을 개선할 수 있다. In one embodiment, the
임플란트(100)의 외부 표면(120)을 레이저 가공함으로써 하나 이상의 제1 홈(123)을 규칙적인 형상으로 형성하여 매크로 표면 특성을 부여할 수 있다. 상기 레이저는 UV 레이저일 수 있고, 예를 들어, 자외선 파장이 200~400㎚인 UV 레이저 빔을 조사할 수 있다. 상기 UV 레이저 빔의 자외선 파장은 예를 들어, 200㎚, 210㎚, 220㎚, 230㎚, 240㎚, 250㎚, 260㎚, 270㎚, 280㎚, 290㎚, 300㎚, 310㎚, 320㎚, 330㎚, 340㎚, 350㎚, 360㎚, 370㎚, 380㎚, 390㎚ 또는 400㎚일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 UV 레이저 빔의 자외선 파장이 작을수록 레이저 빔의 세기가 증가하므로 본 명세서의 임플란트(100)의 외부 표면(120)에 구현하고자 하는 제1 홈(123)의 폭, 깊이 등을 고려하여 상기 범위에서 적절한 값이 선택될 수 있다.One or more
또한, 상기 레이저의 펄스 폭이 1~200ns(nano second)일 수 있고, 예를 들어, 1ns, 2ns, 3ns, 4ns, 5ns, 6ns, 7ns, 8ns, 9ns, 10ns, 15ns, 20ns, 25ns, 30ns, 35ns, 40ns, 45ns, 50ns, 55ns, 60ns, 65ns, 70ns, 75ns, 80ns, 85ns, 90ns, 95ns, 100ns, 110ns, 115ns, 120ns, 125ns, 130ns, 135ns, 140ns, 145ns, 150ns, 155ns, 160ns, 165ns, 170ns, 175ns, 180ns, 185ns, 190ns, 195ns 또는 200ns일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 레이저의 펄스 폭은 조사되는 레이저 빔의 지속시간을 의미하며, 상기 레이저의 펄스 폭이 200ns 초과이면 상기 제1 홈(123)의 폭 및 깊이가 과도하게 상승할 수 있고, 1ns 미만이면 표면 거칠기의 구현이 충분하지 않아 골융합 특성이 저하될 수 있다.In addition, the pulse width of the laser may be 1 to 200ns (nano second), for example, 1ns, 2ns, 3ns, 4ns, 5ns, 6ns, 7ns, 8ns, 9ns, 10ns, 15ns, 20ns, 25ns, 30ns ,35ns,40ns,45ns,50ns,55ns,60ns,65ns,70ns,75ns,80ns,85ns,90ns,95ns,100ns,110ns,115ns,120ns,125ns,130ns,135ns,140ns,145ns, 150ns, 155ns, 160ns , 165ns, 170ns, 175ns, 180ns, 185ns, 190ns, 195ns, or 200ns, but is not limited thereto. The pulse width of the laser means the duration of the irradiated laser beam. If the pulse width of the laser is greater than 200 ns, the width and depth of the
한편, 상기 제1 홈(123)의 평균 폭은 5~100㎛이고, 평균 깊이는 5~50㎛일 수 있다. 상기 제1 홈(123)의 평균 폭은 예를 들어, 5㎛, 6㎛, 7㎛, 8㎛, 9㎛, 10㎛, 15㎛, 20㎛, 25㎛, 30㎛, 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 85㎛, 90㎛, 95㎛ 또는 100㎛일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 제1 홈(123)의 평균 폭이 100㎛ 초과이면 상기 임플란트(100)의 내구성이 저하될 수 있고, 5㎛ 미만이면 상기 임플란트(100)의 골융합 특성이 저하될 수 있다.Meanwhile, the average width of the
일 실시예에서 상기 제1 홈(123)의 최대 폭과 최소 폭 간의 차이는 50% 이하, 예를 들어, 50%, 45%, 40%, 35%, 30%, 25%, 20%, 15%, 10%, 5% 또는 이들 중 두 값의 사이 범위일 수 있다. 예를 들어, 최대 폭과 최소 폭 간의 차이가 50%라면 제1 홈(123) 중 가장 큰 폭이 100㎛이면 가장 작은 폭이 50㎛ 이상임을 의미한다. 이러한 특성을 추가로 만족시키면 골융합 특성이 현저히 개선될 수 있다.In one embodiment, the difference between the maximum width and the minimum width of the
또한, 상기 제1 홈(123)의 평균 깊이는 예를 들어, 5㎛, 6㎛, 7㎛, 8㎛, 9㎛, 10㎛, 15㎛, 20㎛, 25㎛, 30㎛, 35㎛, 40㎛, 45㎛ 또는 50㎛일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 제1 홈(123)의 평균 깊이가 50㎛ 초과이면 상기 임플란트의 내구성이 저하될 수 있고, 5㎛ 미만이면 상기 임플란트의 골융합 특성이 저하될 수 있다.In addition, the average depth of the
일 실시예에서 상기 제1 홈(123)의 최대 깊이와 최소 깊이 간의 차이는 50% 이하, 예를 들어, 50%, 45%, 40%, 35%, 30%, 25%, 20%, 15%, 10%, 5% 또는 이들 중 두 값의 사이 범위일 수 있다. 이러한 특성을 추가로 만족시키면 마이크로 표면을 형성하는 제2 홈(124)이 보다 균일하게 형성되어 일부 영역에서의 골융합이 미흡하게 이루어지는 문제점을 해결할 수 있다.In one embodiment, the difference between the maximum and minimum depths of the
레이저 가공에 의해 외부 표면(120)에 하나 이상의 제1 홈(123)을 형성하여 1차적으로 표면 거칠기가 부여된 후, 상기 외부 표면(120)을 에칭 처리함으로써 상기 제1 홈(123) 보다 크기가 작은 하나 이상의 제2 홈(124)을 형성하여 마이크로 표면 특성을 부여할 수 있다.One or more
상기 제2 홈의(240) 평균 폭 및 평균 깊이는 1~10㎛일 수 있고, 예를 들어, 1㎛, 2㎛, 3㎛, 4㎛, 5㎛, 6㎛, 7㎛, 8㎛, 9㎛ 또는 10㎛일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 제2 홈(124)의 평균 폭 및 평균 깊이가 10㎛ 초과이면 상기 임플란트(100)의 내구성이 저하될 수 있고, 1㎛ 미만이면 상기 임플란트(100)의 골융합 특성이 저하될 수 있다.The average width and average depth of the
일 실시예에서, 상기 임플란트(100)에서 하나 이상의 상기 제2 홈(124)이 상기 제1 홈(123)의 내부에 형성될 수 있다. 임플란트(100)의 매크로 표면 내부에 마이크로 표면이 형성되면 임플란트(100)와 골이 상호 결합성이 향상되어 시술 후 치유 기간이 단축될 수 있다.In one embodiment, one or more
한편, 에칭 단계는 에칭액을 처리하여 수행될 수 있고, 상기 에칭액은 염산, 황산, 인산, 질산, 과산화수소 및 이들 중 2 이상의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어 상기 에칭액이 염산 및 황산의 혼합물일 경우 상기 염산의 함량은 50~100부피%일 수 있고, 예를 들어 50부피%, 55부피%, 60부피%, 65부피%, 70부피%, 75부피%, 80부피%, 85부피%, 90부피%, 95부피% 또는 100부피%일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.Meanwhile, the etching step may be performed by treating an etchant, and the etchant may be one selected from the group consisting of hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrogen peroxide, and a mixture of two or more of them, but is not limited thereto. For example, when the etchant is a mixture of hydrochloric acid and sulfuric acid, the hydrochloric acid content may be 50 to 100 vol%, for example 50 vol%, 55 vol%, 60 vol%, 65 vol%, 70 vol%, 75 vol%, 80 vol%, 85 vol%, 90 vol%, 95 vol% or 100 vol%, but is not limited thereto.
일 실시예에서, 상기 에칭은 10초 내지 120분 동안 수행될 수 있고, 예를 들어, 10초, 30초, 60초, 3분, 5분, 10분, 15분, 20분, 25분, 30분, 35분, 40분, 45분, 50분, 55분, 60분, 65분, 70분, 75분, 80분, 85분, 90분, 95분, 100분, 105분, 110분, 115분, 120분 또는 이들 중 두 값의 사이 범위의 시간 동안 수행될 수 있다. 에칭 시간은 에칭액의 종류에 따라 달라질 수 있고, 일반적으로 10~40분 동안 수행될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.In one embodiment, the etching may be performed for 10 seconds to 120 minutes, for example, 10 seconds, 30 seconds, 60 seconds, 3 minutes, 5 minutes, 10 minutes, 15 minutes, 20 minutes, 25 minutes, 30 minutes, 35 minutes, 40 minutes, 45 minutes, 50 minutes, 55 minutes, 60 minutes, 65 minutes, 70 minutes, 75 minutes, 80 minutes, 85 minutes, 90 minutes, 95 minutes, 100 minutes, 105 minutes, 110 minutes , 115 minutes, 120 minutes, or a time range between these two values. Etching time may vary depending on the type of etching solution, and may generally be performed for 10 to 40 minutes, but is not limited thereto.
도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 임플란트 및 임플란트의 표면 형상을 나타내고, 도 15는 본 발명의 다른 실시예에 외부 표면의 상부 영역, 제1 하부 영역, 및 제2 하부 영역의 SEM 이미지이다.14 shows an implant and a surface shape of the implant according to another embodiment of the present invention, and FIG. 15 is an SEM image of an upper region, a first lower region, and a second lower region of the external surface in another embodiment of the present invention. .
도 12, 도14, 및 도 15를 참조하면, 외부 표면(120)은 기 설정된 높이에 따라 상부 영역(Ua), 제1 하부 영역(La1), 및 제2 하부 영역(La2)으로 구획되고, 상기 제2 하부 영역(La2)에서 제1 홈(123)의 평균 폭 및 평균 깊이 중 적어도 하나는 상기 제1 하부 영역(La1) 대비 크게 형성되고, 상기 제1 하부 영역(La1)에서 제1 홈(123)의 평균 폭 및 평균 깊이 중 적어도 하나는 상기 상부 영역(Ua) 대비 크게 형성될 수 있다. 12, 14, and 15, the
이때, 외부 표면(120)의 상부 영역(Ua)은 평균 깊이 1~15㎛, 평균 폭 1~25㎛의 제1 홈(123)이 형성될 수 있고, 제1 하부 영역(La1)은 평균 깊이 20~35㎛, 평균 폭 30~65㎛의 제1 홈(123)이 형성될 수 있으며, 제2 하부 영역(La2)은 평균 깊이 40~75㎛, 평균 폭 70~125㎛의 제1 홈(123)이 형성될 수 있다. In this case, the upper region Ua of the
이처럼, 외부 표면(120)을 상부 영역(Ua), 제1, 2하부 영역(La1, La2)의 3 이상의 영역으로 구획하고, 아래 영역으로 갈수록 표면 거칠기가 커지도록 형성하여, 박테리아의 증식 억제와 골융합 특성을 균형적으로 개선할 수 있다.In this way, the
그 외 제1 홈 및 제2 홈의 평균 폭 및 평균 길이, 표면처리 방법인 레이저 가공의 수행조건, 에칭 처리에 대한 수행조건 및 이에 따른 효과에 대한 기술사항은 전술한 바와 같다.In addition, the description of the average width and average length of the first groove and the second groove, the performance conditions of the laser processing as a surface treatment method, the performance conditions of the etching treatment, and the effect thereof are as described above.
전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The above description of the present invention is for illustrative purposes, and those skilled in the art can understand that it can be easily modified into other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. Therefore, the embodiments described above should be understood as illustrative in all respects and not limiting. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and similarly, components described as distributed may be implemented in a combined form.
본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is indicated by the following claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and equivalent concepts should be interpreted as being included in the scope of the present invention.
1000
치과용 임플란트 조립체
100
임플란트
110
내부 홈
111
상측 경사부
112
다각형부
113
보링 구간
113a
제1 원형수직부
113b
라운드부
114
제2 원형수직부
115
내측 경사부
116
내부 나사부
120
외부 표면
121
상부 나사산 구간
121a
나사산
122
하부 나사산 구간
122a
나사산
123
제1 홈
124
제2 홈
200
어버트먼트
201
체결나사 삽입공
210
상측부
220
하측부
230
테이퍼 삽입부
240
회전방지부
250
원통부
260
홀딩부
261
제1 부분
262
제2 부분
263
단턱
263a
단턱 경사면
263b
단턱 수직면
300
체결나사
10
펀칭 툴
Ua
상부 영역
La
하부 영역
La1
제1 하부 영역
La2
제2 하부 영역 1000 Dental Implant Assemblies
100 implants
110 inner groove
111 upper slope
112 polygon part
113 boring section
113a first circular vertical portion
113b round part
114 second circular vertical part
115 inner slope
116 internal thread
120 outer surface
121 upper thread section
121a thread
122 lower thread section
122a thread
123 first home
124 second home
200 abutment
201 fastening screw insertion hole
210 upper part
220 lower part
230 taper insert
240 anti-rotation
250 cylinder
260 holding part
261 first part
262 second part
263 steps
263a stepped slope
263b stepped vertical plane
300 fastening screw
10 punching tool
Ua upper area
La lower area
La1 first lower region
La2 second lower region
Claims (10)
상기 임플란트는, 보철물 지지를 위한 어버트먼트가 결합될 수 있도록 상단면에 형성되는 내부 홈, 및 상단에서부터 하단까지 나사산이 형성되는 외부 표면을 포함하고,
상기 어버트먼트는, 상기 임플란트의 외부로 돌출되어 상기 보철물이 부착되는 상측부, 및 상기 상측부의 하측에 배치되며 상기 내부 홈에 삽입되는 하측부를 포함하며,
상기 외부 표면은, 기 설정된 높이에 따라 상부 영역 및 하부 영역으로 구획되고, 레이저 가공에 의해 표면처리 되어 하나 이상의 제1 홈이 형성되되, 상기 하부 영역의 제1 홈의 평균 폭 및 평균 깊이 중 적어도 하나는 상기 상부 영역의 제1 홈 대비 크게 형성되는, 치과용 임플란트 조립체.An implant that is inserted into the alveolar bone to form an artificial tooth root according to a rotational motion about the axis, and an abutment that is coupled to the implant to support the prosthesis and extends from the top to the bottom inside and has a fastening screw insertion hole into which a fastening screw is inserted. In the dental implant assembly comprising,
The implant includes an inner groove formed on an upper surface to which an abutment for supporting the prosthesis can be coupled, and an outer surface on which a thread is formed from the upper end to the lower end,
The abutment includes an upper portion protruding out of the implant and to which the prosthesis is attached, and a lower portion disposed below the upper portion and inserted into the inner groove,
The outer surface is divided into an upper region and a lower region according to a predetermined height, and the surface is treated by laser processing to form one or more first grooves, wherein at least among the average width and average depth of the first grooves in the lower region One is formed larger than the first groove of the upper region, dental implant assembly.
상기 내부 홈은,
상기 상단면 입구에서부터 일정 깊이 아래쪽으로는 단면이 원형이며 아래쪽으로 갈수록 내경이 좁아지는 상측 경사부;
상기 상측 경사부의 일정 깊이 아래쪽으로는 단면 형상이 다각형인 다각형부;
상기 다각형부의 일정 깊이 아래쪽으로는 상기 다각형부의 다각형에 외접하는 원의 직경 이상의 직경을 갖고, 상기 다각형부 보다 앞서 형성되는 원형의 보링 구간;
상기 보링 구간의 일정 깊이 아래쪽으로는 상기 보링 구간 보다 작은 직경을 갖는 제2 원형수직부; 및
상기 제2 원형수직부의 일정 깊이 아래쪽으로는 상기 다각형부의 다각형에 내접하는 원보다 작은 직경을 갖는 어버트먼트 결합용 나사산이 형성된 내부 나사부를 포함하는, 치과용 임플란트 조립체.According to claim 1,
The inner groove,
an upper inclined portion having a circular cross-section downward at a predetermined depth from the entrance of the upper surface and having a narrower inner diameter toward the lower side;
A polygonal portion having a polygonal cross-sectional shape below a predetermined depth of the upper inclined portion;
a circular boring section having a diameter greater than or equal to a diameter of a circle circumscribed to the polygon of the polygonal portion below a predetermined depth of the polygonal portion and formed ahead of the polygonal portion;
a second circular vertical portion having a diameter smaller than that of the boring section at a predetermined depth below the boring section; and
A dental implant assembly including an internal screw portion formed with a screw thread for coupling an abutment having a smaller diameter than a circle inscribed in a polygon of the polygonal portion below a predetermined depth of the second circular vertical portion.
상기 어버트먼트는,
상기 하측부의 하단에 배치되며 상기 어버트먼트가 상기 임플란트에 삽입되었을 때 탄성변형되면서 상기 제2 원형수직부의 내주면에 억지끼움되어 상기 어버트먼트를 상기 픽스쳐 내부에 임시적으로 고정시키는 홀딩부를 더 포함하는, 치과용 임플란트 조립체.According to claim 2,
The abutment,
It is disposed at the lower end of the lower part and is elastically deformed when the abutment is inserted into the implant, and the holding part is fitted to the inner circumferential surface of the second circular vertical part to temporarily fix the abutment to the inside of the fixture. Further comprising , dental implant assemblies.
상기 외부 표면은 레이저 가공 이후, 에칭에 의해 표면처리 되어 하나 이상의 제2 홈이 형성되는 것을 특징으로 하는, 치과용 임플란트 조립체.According to claim 1,
The outer surface is surface treated by etching after laser processing to form one or more second grooves, dental implant assembly.
상기 제2 홈은 상기 제1 홈의 표면에 형성되는 것을 특징으로 하는, 치과용 임플란트 조립체.According to claim 4,
The second groove is characterized in that formed on the surface of the first groove, dental implant assembly.
상기 보링 구간은,
제1 원형수직부; 및
상기 제1 원형수직부의 아래쪽으로 일정 곡률을 갖는 라운드부를 포함하고,
상기 제1 원형수직부의 직경이 상기 다각형부의 외접원의 직경 이상인 것을 특징으로 하는, 치과용 임플란트 조립체.According to claim 2,
The boring section,
a first circular vertical portion; and
A round portion having a certain curvature below the first circular vertical portion,
The dental implant assembly, characterized in that the diameter of the first circular vertical portion is greater than or equal to the diameter of the circumscribed circle of the polygonal portion.
상기 외부 표면은 나사산이 단일 피치로 형성되며, 상단으로부터 일정 거리까지는 얕은 골 깊이의 나사산이 형성된 상부 나사산 구간으로 구성되고, 상기 상부 나사산 구간 아래쪽으로는 깊은 골 깊이의 나사산이 형성된 하부 나사산 구간으로 구성되는 것을 특징으로 하는, 치과용 임플란트 조립체.According to claim 2,
The outer surface is formed with a single pitch thread, and consists of an upper thread section with a shallow thread depth up to a certain distance from the upper end, and a lower thread section with a deep thread depth below the upper thread section. Characterized in that, dental implant assembly.
상기 보링 구간은 상기 상부 나사산 구간의 하단 경계에서부터 제1 산의 위쪽 또는 제2 산의 위쪽 또는 제3 산의 위쪽에 위치하는 것을 특징으로 하는, 치과용 임플란트.According to claim 7,
Characterized in that, the boring section is located above the first mountain, above the second mountain, or above the third mountain from the lower boundary of the upper thread section.
상기 제1 홈의 평균 폭은 5~100㎛이고, 평균 깊이는 5~50㎛이고, 상기 제2 홈의 평균 폭 및 평균 깊이는 1~10㎛인, 치과용 임플란트.According to claim 4,
The average width of the first groove is 5 to 100 μm, the average depth is 5 to 50 μm, and the average width and average depth of the second groove are 1 to 10 μm.
상기 임플란트는, 보철물 지지를 위한 어버트먼트가 결합될 수 있도록 상단면에 형성되는 내부 홈, 및 상단에서부터 하단까지 나사산이 형성되는 외부 표면을 포함하고,
상기 어버트먼트는, 상기 임플란트의 외부로 돌출되어 상기 보철물이 부착되는 상측부, 및 상기 상측부의 하측에 배치되며 상기 내부 홈에 삽입되는 하측부를 포함하며,
상기 외부 표면은, 기 설정된 높이에 따라 상부 영역, 제1 하부 영역, 및 제2 하부 영역으로 구획되고, 레이저 가공에 의해 표면처리 되어 하나 이상의 제1 홈이 형성되되,
상기 제1 하부 영역의 제1 홈의 평균 폭 및 평균 깊이 중 적어도 하나는 상기 상부 영역의 제1 홈 대비 크게 형성되고, 상기 제2 하부 영역의 제1 홈의 평균 폭 및 평균 깊이 중 적어도 하나는 상기 제2 하부 영역의 제1 홈 대비 크게 형성되는, 치과용 임플란트 조립체.An implant that is inserted into the alveolar bone to form an artificial tooth root according to a rotational motion about the axis, and an abutment that is coupled to the implant to support the prosthesis and extends from the top to the bottom inside and has a fastening screw insertion hole into which a fastening screw is inserted. In the dental implant assembly comprising,
The implant includes an inner groove formed on an upper surface to which an abutment for supporting the prosthesis can be coupled, and an outer surface on which a thread is formed from the upper end to the lower end,
The abutment includes an upper portion protruding out of the implant and to which the prosthesis is attached, and a lower portion disposed below the upper portion and inserted into the inner groove,
The outer surface is divided into an upper region, a first lower region, and a second lower region according to a predetermined height, and is surface treated by laser processing to form one or more first grooves,
At least one of the average width and average depth of the first grooves in the first lower region is greater than that of the first grooves in the upper region, and at least one of the average width and average depth of the first grooves in the second lower region is The dental implant assembly formed larger than the first groove of the second lower region.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210192661A KR102698004B1 (en) | 2021-12-30 | 2021-12-30 | Dental implant assembly |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210192661A KR102698004B1 (en) | 2021-12-30 | 2021-12-30 | Dental implant assembly |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20230102485A true KR20230102485A (en) | 2023-07-07 |
KR102698004B1 KR102698004B1 (en) | 2024-08-23 |
Family
ID=87153767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020210192661A KR102698004B1 (en) | 2021-12-30 | 2021-12-30 | Dental implant assembly |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102698004B1 (en) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR200386621Y1 (en) | 2005-03-10 | 2005-06-16 | 김정찬 | Dental Implant |
EP3235465A1 (en) * | 2014-12-15 | 2017-10-25 | JJGC Indústria Comércio de Materiais Dentários S.A. | Implant |
KR101953301B1 (en) * | 2016-01-19 | 2019-02-28 | 오스템임플란트 주식회사 | Dental implant assembly and dental abutment |
KR20190065621A (en) * | 2017-12-04 | 2019-06-12 | 주식회사 메가젠임플란트 | A fixture of dental implants |
KR102304083B1 (en) * | 2020-12-30 | 2021-09-24 | 오스템임플란트 주식회사 | Method of machining the regular polygon shaped vertical parts of the implant fixture and the implant fixture manufactured by this method. |
KR102304075B1 (en) * | 2020-12-30 | 2021-09-24 | 오스템임플란트 주식회사 | Pixture for dental implant |
-
2021
- 2021-12-30 KR KR1020210192661A patent/KR102698004B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR200386621Y1 (en) | 2005-03-10 | 2005-06-16 | 김정찬 | Dental Implant |
EP3235465A1 (en) * | 2014-12-15 | 2017-10-25 | JJGC Indústria Comércio de Materiais Dentários S.A. | Implant |
KR101953301B1 (en) * | 2016-01-19 | 2019-02-28 | 오스템임플란트 주식회사 | Dental implant assembly and dental abutment |
KR20190065621A (en) * | 2017-12-04 | 2019-06-12 | 주식회사 메가젠임플란트 | A fixture of dental implants |
KR102304083B1 (en) * | 2020-12-30 | 2021-09-24 | 오스템임플란트 주식회사 | Method of machining the regular polygon shaped vertical parts of the implant fixture and the implant fixture manufactured by this method. |
KR102304075B1 (en) * | 2020-12-30 | 2021-09-24 | 오스템임플란트 주식회사 | Pixture for dental implant |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Mingdeng Rong rt al."The early osseointegration of the laser-treated andacid-etched dental implants surface: an experimental study in rabbits".* * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102698004B1 (en) | 2024-08-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5885079A (en) | Selective surface, endosseous dental implants | |
US5571017A (en) | Selective surface, externally-threaded endosseous dental implant | |
US6626671B2 (en) | Method of manufacturing cutting flutes on a coated or roughened dental implant | |
KR102304081B1 (en) | Abutment for implant, and coupling structure of fixture and the same | |
US20220104921A1 (en) | Dental implant system having enhanced soft-tissue growth features | |
KR102304071B1 (en) | Fixture for dental implant | |
IL129779A (en) | Selective surface endosseous dental implants | |
JP2010148558A (en) | Dental implant and connecting screw for dental implant | |
KR102304075B1 (en) | Pixture for dental implant | |
EP2008612A1 (en) | Improved dental implant | |
US20070111164A1 (en) | Dental implant | |
EP2482753B1 (en) | Dental implant having improved osseointegration characteristics | |
KR102698004B1 (en) | Dental implant assembly | |
KR101309700B1 (en) | Fabrication method of implant fixture and implant fixture | |
KR102680039B1 (en) | Dental implant | |
KR102698005B1 (en) | Dental implant | |
KR102304090B1 (en) | Method of machining the regular polygon shaped vertical parts of the implant fixture and the implant fixture manufactured by this method. | |
KR101308945B1 (en) | Dental fixture | |
EP1582173A1 (en) | Dental implant | |
EP1696815B1 (en) | Implant | |
JP2020058855A (en) | Dental abutment screw having loosening prevention mechanism | |
KR102304065B1 (en) | Pixture for dental implant | |
KR20240107597A (en) | Dental implant surface treatment method and dental imlant using the same | |
Du Toit | Implant Materials, Designs, and Surfaces | |
JPH07275276A (en) | Intraosseous implant |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |