KR20230088738A - Method and apparatus for removing impurities from granular material - Google Patents
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Abstract
본 발명은 입상 물질 내 불순물 제거 방법 및 장치를 제공하고, 상기 방법은, 저주파 음파 기체 도파 모드, 고주파 음파 기체 도파 모드 및 고주파 음파 고체 도파 모드 중 적어도 하나의 모드를 사용하여, 음파를 불순물 제거할 입상 물질에 전달하여, 불순물 제거할 입상 물질에서 입상 물질과 불순물 사이의 결합력을 약화시키고, 아울러 기류를 사용하여 불순물과 입상 물질의 분리를 강화시키며; 여기서 저주파 음파 기체 도파 모드는 기체를 도파 매질로 하여 저주파 음파를 전달하는 것이고; 고주파 음파 기체 도파 모드는 기체를 도파 매질로 하여 고주파 음파를 전달하는 것이며; 고주파 음파 고체 도파 모드는 고체를 도파 매질로 하여 고주파 음파를 전달하는 것이다. 본 발명은 음파의 소리 에너지를 이용하여 입상 물질 및 그 표면에 부착된 불순물에 대해 응향 피로 작용을 일으켜, 입상 물질과 불순물 사이의 결합력을 약화시키거나 심지어 제거할 수 있고, 선행기술에 비해, 입상 물질 내의 불순물을 빠르고 효과적으로 제거할 수 있으며, 분리 효율 및 분리 정밀도가 높다. The present invention provides a method and apparatus for removing impurities in a particulate material, wherein the method uses at least one of a low-frequency acoustic wave gas guiding mode, a high-frequency acoustic wave gas guiding mode, and a high-frequency acoustic wave solid wave guiding mode to remove impurities from sound waves. to the granular material to weaken the binding force between the granular material and the impurities in the granular material to be removed, and at the same time to enhance the separation of the impurities and the granular material by using air flow; Here, the low-frequency sound wave gas wave guiding mode transmits low-frequency sound waves using gas as a guiding medium; The high-frequency sound wave gas wave guiding mode uses gas as a guiding medium to transmit high-frequency sound waves; The high-frequency sound wave solid wave guiding mode transmits high-frequency sound waves using a solid as a guiding medium. The present invention uses the sound energy of sound waves to cause a cohesive fatigue effect on the particulate material and impurities attached to its surface, thereby weakening or even removing the bonding force between the particulate material and the impurity, compared to the prior art. Impurities in the material can be removed quickly and effectively, and the separation efficiency and separation precision are high.
Description
관련 출원의 상호 참조CROSS REFERENCES OF RELATED APPLICATIONS
본 발명은 특허 출원 번호가 202011282872.3이고, 출원일자가 2020년 11월 17일인 중국 발명 특허, 특허 출원 번호가 202110325003.2이고, 출원일자가 2021년 03월 26일인 중국 발명 특허, 및 특허 출원 번호가 202120618127.5이고, 출원일자가 2021년 03월 26일인 중국 실용신안 특허의 우선권을 주장한다. The present invention is a Chinese invention patent with patent application number 202011282872.3 and an application date of November 17, 2020, a Chinese invention patent with patent application number 202110325003.2 and an application date of March 26, 2021, and a patent application number 202120618127.5, the filing date Claims the priority of the Chinese utility model patent dated March 26, 2021.
본 발명은 불순물 제거 기술분야에 관한 것으로, 특히 입상 물질 내 불순물 제거 방법 및 장치에 관한 것이다. The present invention relates to the field of impurity removal technology, and more particularly to a method and apparatus for removing impurities in particulate matter.
입자상 물질에는 많은 불순물이 존재하는데, 이러한 불순물은 분진, 보풀, 미립자, 리본 등 형태로 입자상 물질에 존재하여, 후속 생산 공정에 악영향을 미치게 되는데, 이러한 불순물을 제거하기 위해, 현재 일반적으로 수세법, 기계진동법 등을 사용하지만, 이러한 방법은 모두 분리 효율이 낮고, 분리 정밀도가 좋지 않으며, 투자 비용이 높고, 장치 부피가 큰 단점이 있어 불순물을 빠르고 효과적으로 제거하기 어렵다. There are many impurities in particulate matter, and these impurities are present in particulate matter in the form of dust, fluff, particulates, ribbons, etc., and adversely affect the subsequent production process. Mechanical vibration method and the like are used, but all of these methods have the disadvantages of low separation efficiency, poor separation precision, high investment cost, and large device volume, making it difficult to quickly and effectively remove impurities.
본 발명의 목적은 선행기술에서 불순물을 빠르고 효과적으로 제거하기 어려운 문제를 해결하기 위해, 입상 물질 내 불순물 제거 방법 및 장치를 제공하는 것이다. An object of the present invention is to provide a method and apparatus for removing impurities in a granular material in order to solve the problem of difficult to quickly and effectively remove impurities in the prior art.
상술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 입상 물질 내 불순물 제거 장치를 제안하고, 이는 분리 캐비티가 구비된 케이스 및 상기 분리 캐비티 내로 기류를 유입하기 위한 송풍기 또는/및 기류를 유출하기 위한 흡입기를 포함하고, 저주파 음파 발생 장치, 제1 고주파 음파 발생 장치 및 고주파 음파 고체 도파 어셈블리 중 적어도 하나를 더 포함하며, 상기 저주파 음파 발생 장치에서 방출되는 저주파 음파 및 상기 제1 고주파 음파 발생 장치에서 방출되는 고주파 음파는 기체를 도파 매질로 하여 상기 분리 캐비티 내의 불순물 제거할 입상 물질에 전달될 수 있고, 상기 고주파 음파 고체 도파 어셈블리는 서로 연결된 제2 고주파 음파 발생 장치 및 고체 도파 매질을 포함하며, 상기 제2 고주파 음파 발생 장치에서 방출되는 고주파 음파는 상기 고체 도파 매질에 의해 상기 분리 캐비티 내의 불순물 제거할 입상 물질에 전달될 수 있다. In order to achieve the above object, the present invention proposes an apparatus for removing impurities in particulate matter, which includes a case having a separation cavity, a blower for introducing air current into the separation cavity, and/or an aspirator for discharging the air flow. and at least one of a low-frequency sound wave generator, a first high-frequency sound wave generator, and a high-frequency sound wave solid waveguide assembly, wherein the low-frequency sound wave is emitted from the low-frequency sound wave generator and the high-frequency sound wave is emitted from the first high-frequency sound wave generator. may be transferred to a particulate material to be removed impurities in the separation cavity using gas as a guiding medium, the high-frequency sound wave solid wave guiding assembly includes a second high-frequency sound wave generator and a solid guiding medium connected to each other, and the second high-frequency sound wave High-frequency sound waves emitted from the generating device may be transmitted to the particulate material to be removed from the impurities in the separation cavity by the solid waveguide medium.
본 발명은 또한 입상 물질 내 불순물 제거 방법을 제안하며, 이는, 저주파 음파 기체 도파 모드, 고주파 음파 기체 도파 모드 및 고주파 음파 고체 도파 모드 중 적어도 하나의 모드를 사용하여, 음파를 불순물 제거할 입상 물질에 전달하여, 상기 불순물 제거할 입상 물질에서 입상 물질과 불순물 사이의 결합력을 약화시키고, 아울러 기류를 사용하여 상기 불순물과 상기 입상 물질의 분리를 강화시키는 단계를 포함하고; 여기서, 상기 저주파 음파 기체 도파 모드는 기체를 도파 매질로 하여 저주파 음파를 전달하는 것이고; 상기 고주파 음파 기체 도파 모드는 기체를 도파 매질로 하여 고주파 음파를 전달하는 것이며; 상기 고주파 음파 고체 도파 모드는 고체를 도파 매질로 하여 고주파 음파를 전달하는 것이다. The present invention also proposes a method for removing impurities in a particulate material, which uses at least one of a low-frequency acoustic wave gas wave guiding mode, a high-frequency acoustic wave gas guiding mode, and a high-frequency acoustic wave solid wave guiding mode, so as to transmit sound waves to a particulate material to be impurity-removed. transferring the impurity to weaken the binding force between the particulate material and the impurity in the particulate material to be removed, and also strengthening the separation of the impurity and the particulate material by using an air flow; Here, the low-frequency sound wave gas wave guiding mode transmits low-frequency sound waves using gas as a guiding medium; The high-frequency sound wave gas wave guiding mode transmits high-frequency sound waves using gas as a guiding medium; The high-frequency sound wave solid wave guiding mode transmits high-frequency sound waves using a solid as a guiding medium.
본 발명은 또한 입상 물질 내 불순물 제거 장치를 제공하고, 이는 상술한 입상 물질 내 불순물 제거 방법에서 사용되는 장치이고, 상기 장치는 분리 캐비티가 구비된 케이스 및 상기 분리 캐비티 내로 기류를 유입하기 위한 송풍기 또는/및 기류를 유출하기 위한 흡입기를 포함하고, 상기 장치는 저주파 음파 발생 장치, 제1 고주파 음파 발생 장치 및 고주파 음파 고체 도파 어셈블리 중 적어도 하나를 더 포함하며, 상기 저주파 음파 발생 장치의 작동 모드는 상기 저주파 음파 기체 도파 모드이고, 상기 제1 고주파 음파 발생 장치의 작동 모드는 상기 고주파 음파 기체 도파 모드이며, 상기 고주파 음파 고체 도파 어셈블리의 작동 모드는 상기 고주파 음파 고체 도파 모드이고, 상기 고주파 음파 고체 도파 어셈블리는 서로 연결된 제2 고주파 음파 발생 장치 및 고체 도파 매질을 포함한다. The present invention also provides a device for removing impurities in a granular material, which is a device used in the above-described method for removing impurities in a granular material, the device comprising a case provided with a separation cavity and a blower for introducing air current into the separation cavity; and/or an aspirator for outflowing the airflow, wherein the device further includes at least one of a low-frequency sound wave generator, a first high-frequency sound wave generator, and a high-frequency sound wave solid waveguide assembly, wherein the operation mode of the low-frequency sound wave generator is as described above. a low-frequency acoustic wave gas wave guiding mode, the operating mode of the first high-frequency sound wave generator is the high-frequency acoustic wave gas wave guiding mode, the operating mode of the high-frequency acoustic wave solid wave guiding assembly is the high-frequency acoustic wave solid wave guiding mode, and the high-frequency acoustic wave solid wave guiding assembly includes a second high-frequency sound wave generating device and a solid waveguide medium connected to each other.
본 발명의 입상 물질 내 불순물 제거 방법 및 장치의 특징 및 이점은 다음을 포함한다.The features and advantages of the method and apparatus for removing impurities in particulate matter of the present invention include the following.
본 발명은 음파의 소리 에너지를 이용하여 입상 물질 및 그 표면에 부착된 불순물에 대해 응향 피로 작용을 일으켜, 입상 물질과 불순물 사이의 결합력을 약화시키거나 심지어 제거하여, 양자 사이에 간극이 생기거나 분리되어, 부착 상태의 불순물이 분산 상태의 불순물로 전환되고, 바람 기류와 협력하여 분산 상태의 불순물을 입상 물질로부터 불어냄으로써, 입상 물질과 불순물이 고효율적으로 분리되어, 입상 물질이 깊이 정화되는데, 선행기술에 비해, 본 발명은 입상 물질 내의 불순물을 빠르고 효과적으로 제거할 수 있으며, 특히 부착 상태의 불순물의 경우, 본 발명의 방법을 사용하여 입상 물질 내의 불순물을 제거하면, 분리 효율이 높고, 분리 정밀도가 높으며, 투자 비용이 낮다. The present invention uses the sound energy of sound waves to cause a cohesive fatigue effect on the particulate material and impurities attached to its surface, thereby weakening or even removing the bonding force between the particulate material and the impurity, so that a gap is formed or separated between the two. The impurities in the attached state are converted into impurities in the dispersed state, and the impurities in the dispersed state are blown out of the granular material in cooperation with the wind airflow, so that the granular material and the impurities are separated with high efficiency, and the granular material is deeply purified. Compared with the technology, the present invention can quickly and effectively remove impurities in the granular material, especially in the case of attached impurities, using the method of the present invention to remove impurities in the granular material, the separation efficiency is high and the separation accuracy is high. high and low investment cost.
이하의 도면은 본 발명을 모식적으로 설명 및 해석하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니다. 여기서:
도 1은 발명의 일 실시예에 따른 입상 물질 내 불순물 제거 장치의 평면 구조 모식도이다.
도 2는 발명의 일 실시예에 따른 입상 물질 내 불순물 제거 장치의 입체 구조 모식도이다.
도 3은 도 2의 첫 번째 슬라이드 플레이트의 평면도이다.
도 4는 도 3의 슬라이드 플레이트의 측면도이다.
도 5는 도 3의 A부분의 부분 확대도이다.
도 6은 두 번째 슬라이드 플레이트의 정면도이다.
도 7은 도 6의 슬라이드 플레이트의 평면도이다.
도 8은 세 번째 슬라이드 플레이트의 정면도이다.
도 9는 도 8의 슬라이드 플레이트의 평면도이다.
도 10은 네 번째 슬라이드 플레이트의 정면도이다.
도 11은 도 10의 슬라이드 플레이트의 평면도이다.
도 12는 다섯 번째 슬라이드 플레이트의 정면도이다.
도 13은 도 12의 슬라이드 플레이트의 평면도이다.
도 14는 여섯 번째 슬라이드 플레이트의 정면도이다.
도 15는 도 14의 슬라이드 플레이트의 평면도이다.
도 16은 일곱 번째 슬라이드 플레이트의 정면도이다.
도 17은 도 16의 슬라이드 플레이트의 평면도이다.
도 18은 여덟 번째 슬라이드 플레이트의 정면도이다.
도 19는 도 18의 슬라이드 플레이트의 평면도이다.
도 20은 첫 번째 물질 분배 방식의 모식도이다.
도 21은 두 번째 물질 분배 방식의 모식도이다.
도 22는 도 21의 평면도이다.
도 23은 세 번째 물질 분배 방식의 모식도이다.
도 24는 도 23의 평면도이다.
도 25는 네 번째 물질 분배 방식의 모식도이다.
도 26은 다섯 번째 물질 분배 방식의 모식도이다.
도 27은 도 26의 평면도이다.
도 28은 여섯 번째 물질 분배 방식의 모식도이다.
도 29는 일곱 번째 물질 분배 방식의 모식도이다.
도 30은 여덟 번째 물질 분배 방식의 모식도이다.
도 31은 아홉 번째 물질 분배 방식의 모식도이다.
도 32는 도 31의 평면도이다.
도 33은 열 번째 물질 분배 방식의 모식도이다.
도 34는 도 33의 평면도이다. The following drawings are only for schematically explaining and interpreting the present invention, but do not limit the scope of the present invention. here:
1 is a schematic planar structure diagram of an apparatus for removing impurities in particulate matter according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic diagram of a three-dimensional structure of an apparatus for removing impurities in particulate matter according to an embodiment of the present invention.
3 is a plan view of the first slide plate of FIG. 2;
Figure 4 is a side view of the slide plate of Figure 3;
5 is a partial enlarged view of part A of FIG. 3 .
6 is a front view of the second slide plate.
7 is a plan view of the slide plate of FIG. 6;
8 is a front view of the third slide plate.
Fig. 9 is a plan view of the slide plate of Fig. 8;
10 is a front view of the fourth slide plate.
11 is a plan view of the slide plate of FIG. 10;
12 is a front view of a fifth slide plate.
13 is a plan view of the slide plate of FIG. 12;
14 is a front view of a sixth slide plate.
15 is a plan view of the slide plate of FIG. 14;
16 is a front view of a seventh slide plate.
17 is a plan view of the slide plate of FIG. 16;
18 is a front view of an eighth slide plate.
19 is a plan view of the slide plate of FIG. 18;
20 is a schematic diagram of a first material distribution method.
21 is a schematic diagram of the second substance distribution method.
Fig. 22 is a plan view of Fig. 21;
23 is a schematic diagram of a third material distribution method.
Fig. 24 is a plan view of Fig. 23;
25 is a schematic diagram of a fourth substance distribution method.
26 is a schematic diagram of a fifth material distribution method.
Fig. 27 is a plan view of Fig. 26;
28 is a schematic diagram of a sixth material distribution method.
29 is a schematic diagram of a seventh material distribution method.
30 is a schematic diagram of an eighth material distribution method.
31 is a schematic diagram of a ninth substance distribution method.
Fig. 32 is a plan view of Fig. 31;
33 is a schematic diagram of a tenth material distribution method.
Fig. 34 is a plan view of Fig. 33;
본 발명의 기술적 특징, 목적 및 효과를 보다 명확하게 이해하기 위하여, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 구현 방식을 설명한다. 여기서 형용사적 또는 부사적 수식어 “상” 및 “하”, “최상” 및 “바닦”, “내” 및 “외”의 사용은 용어 그룹 간의 상대적인 참조를 위한 것일 뿐 수식 용어에 대한 어떠한 특정 방향 제한을 설명하기 위한 것이 아니다. 또한, “제1”, “제2” 등의 용어는 설명의 목적으로만 사용된 것으로, 상대적 중요도를 지시 또는 암시하거나 지시된 기술적 특징의 수를 함축적으로 나타내는 것으로 이해될 수 없으므로 “제1”, “제2” 로 한정된 특징은 하나 이상의 이러한 특징을 명시적으로 또는 암시적으로 포함할 수 있다. 본 발명의 설명에서 “복수”는 특별한 언급이 없는 한 2개 이상을 의미한다. 본 발명을 설명에서, “연결”이라는 용어는 특별한 언급이 없는 한 넓은 의미로 이해되어야 하며, 예를 들어 고정 연결, 착탈식 연결, 직접 연결 또는 중간 매체를 통한 간접 연결일 수 있다. 당업자는 구체적인 상황에 따라 본 특허에서 상기 용어의 구체적인 의미를 이해할 수 있다. In order to more clearly understand the technical features, objects and effects of the present invention, specific implementation methods of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The use of the adjective or adverbial qualifiers “above” and “lower”, “top” and “bottom”, “within” and “outside” here is only for relative reference between groups of terms and does not limit any specific direction to the qualifier terms. is not intended to explain In addition, the terms “first” and “second” are used only for descriptive purposes and cannot be understood as indicating or implying relative importance or implicitly indicating the number of indicated technical features. , a feature defined as "second" may explicitly or implicitly include one or more of these features. In the description of the present invention, "plurality" means two or more unless otherwise specified. In the description of the present invention, the term "connection" should be understood in a broad sense unless otherwise specified, and may be, for example, a fixed connection, a detachable connection, a direct connection, or an indirect connection through an intermediate medium. A person skilled in the art can understand the specific meaning of the above terms in this patent according to specific circumstances.
설명의 편의를 위해, 본문에서는 입자상 물질을 “입상 물질”라 하고, 불순물이 흡착된 입상 물질을 “불순물 제거할 입상 물질”라 한다. For convenience of explanation, in the present text, particulate matter is referred to as “granular material”, and particulate matter adsorbed with impurities is referred to as “particulate material to be removed impurities”.
입상 물질 내의 불순물은 주로 분산 상태 및 부착 상태의 두 가지 형태로 입상 물질에 존재하고, 부착 상태의 불순물은 전자기력, 액가교력, 반데르발스 힘과 같은 결합력에 의해 입상 물질 표면에 부착(흡착)되는데, 이는 입상 물질 정제의 난점이자 핵심 포인트이다. 선행기술에서 통상적으로 수세법, 기계진동법 등을 사용하여 입상 물질 내의 불순물을 제거하지만, 이러한 방법은 모두 분리 효율이 낮고, 분리 정밀도가 좋지 않으며, 투자 비용이 높고, 장치 부피가 큰 단점이 있어 불순물을 빠르고 효과적으로 제거하기 어렵고, 특히 부착 상태의 불순물을 제거하기 어렵다. Impurities in the granular material exist in the granular material mainly in two forms: dispersed state and adhered state, and the impurity in the adhered state is attached (adsorbed) to the surface of the granular material by bonding forces such as electromagnetic force, liquid bridge force, and van der Waals force. This is the difficulty and key point of particulate material purification. In the prior art, impurities in the granular material are usually removed using a water washing method, a mechanical vibration method, etc., but all of these methods have the disadvantages of low separation efficiency, poor separation accuracy, high investment cost, and large device volume. It is difficult to quickly and effectively remove impurities, and it is particularly difficult to remove impurities in an attached state.
실시형태 1
상술한 선행기술의 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 입상 물질 내 불순물 제거 방법을 제공하고, 상기 방법은, 저주파 음파 기체 도파 모드, 고주파 음파 기체 도파 모드 및 고주파 음파 고체 도파 모드 중 적어도 하나의 모드를 사용하여, 음파의 소리 에너지를 불순물 제거할 입상 물질에 전달하여, 불순물 제거할 입상 물질에서 입상 물질과 불순물 사이의 결합력, 예를 들어 전자기력, 액가교력, 반데르발스 힘과 같은 결합력을 약화시키고, 이와 동시에, 기류를 사용하여 불순물과 입상 물질의 분리를 강화시키며, 예를 들어 불순물 제거할 입상 물질에 바람을 불어넣어, 불순물을 입상 물질로부터 불어냄으로써, 입상 물질과 불순물이 완전히 분리되도록 하고; 여기서, 저주파 음파 기체 도파 모드는 공기를 도파 매질로 하여 저주파 음파를 전달하는 것이고, 고주파 음파 기체 도파 모드는 공기를 도파 매질로 하여 고주파 음파를 전달하는 것이며, 고주파 음파 고체 도파 모드는 고체를 도파 매질로 하여 고주파 음파를 전달하는 것이고, 본 발명에서 저주파 음파의 주파수는 1 Hz ~ 350 Hz이고, 바람직하게는 10 Hz ~ 350 Hz이며, 고주파 음파의 주파수는 6 kHz ~ 40 kHz이고, 예를 들어 9 kHz, 12 kHz이며, 바람직하게는, 고주파 음파의 주파수는 6 Hz ~ 20 Hz이다. In order to solve the above problems of the prior art, the present invention provides a method for removing impurities in particulate matter, wherein the method includes at least one mode of low frequency acoustic wave gas wave guiding mode, high frequency acoustic wave gas wave guiding mode and high frequency acoustic wave solid wave guiding mode. By using, the sound energy of the sound wave is transferred to the particulate material to remove impurities, thereby weakening the bonding force between the particulate material and the impurities in the particulate material to be removed, such as electromagnetic force, liquid bridge force, and van der Waals force. At the same time, the separation of impurities and granular materials is strengthened by using air flow, for example, blowing air into the granular materials to be removed to blow impurities out of the granular materials, so that the granular materials and impurities are completely separated; ; Here, the low-frequency sound wave gas wave guiding mode is to transmit low-frequency sound waves using air as a guiding medium, the high-frequency sound wave gas guiding mode is to transmit high-frequency sound waves using air as a guiding medium, and the high-frequency sound wave solid wave guiding mode is to use a solid as a guiding medium In the present invention, the frequency of the low-frequency sound wave is 1 Hz to 350 Hz, preferably 10 Hz to 350 Hz, and the frequency of the high-frequency sound wave is 6 kHz to 40 kHz, for example 9 kHz, 12 kHz, and preferably, the frequency of the high-frequency sound wave is 6 Hz to 20 Hz.
본 발명은 음파의 소리 에너지를 이용하여 입상 물질 및 그 표면에 부착된 불순물에 대해 응향 피로 작용을 일으켜, 입상 물질과 불순물 사이의 결합력을 약화시키거나 심지어 제거할 수 있고, 양자 사이에 간극이 생기거나 분리되어, 부착 상태의 불순물이 분산 상태의 불순물로 전환되고, 바람 기류와 협력하여 분산 상태의 불순물을 입상 물질로부터 불어냄으로써, 입상 물질과 불순물이 고효율적으로 분리되어, 입상 물질이 깊이 정화된다. 선행기술에 비해, 본 발명은 입상 물질 내의 불순물, 특히 부착 상태의 불순물을 빠르고 효과적으로 제거할 수 있다. 본 발명의 방법을 사용하여 입상 물질 내의 불순물을 제거하면, 분리 효율이 높고, 분리 정밀도가 높으며, 투자 비용이 낮다. The present invention uses the sound energy of sound waves to cause a cohesive fatigue effect on the particulate material and impurities attached to its surface, thereby weakening or even removing the bonding force between the particulate material and the impurity, and creating a gap between the two. or separated, the impurities in the attached state are converted to impurities in the dispersed state, and by cooperating with the wind airflow to blow the impurities in the dispersed state out of the granular material, the granular material and impurities are separated with high efficiency, and the granular material is deeply purified. . Compared to the prior art, the present invention can quickly and effectively remove impurities in the particulate matter, especially impurities in an adhering state. Removal of impurities in the particulate matter using the method of the present invention has high separation efficiency, high separation precision and low investment cost.
본 발명의 방법은 구현 시, 3 가지 모드 중 어느 하나의 모드를 사용할 수 있고, 3 가지 모드 중 어느 두 가지 모드를 동시에 사용할 수도 있으며, 3 가지 모드를 동시에 사용할 수도 있다. 예를 들어, 저주파 음파 기체 도파 모드만 사용하거나, 또는 고주파 음파 기체 도파 모드만 사용하거나, 또는 저주파 음파 기체 도파 모드와 고주파 음파 기체 도파 모드를 동시에 사용하거나, 또는 저주파 음파 기체 도파 모드와 고주파 음파 고체 도파 모드를 동시에 사용하거나, 또는 고주파 음파 기체 도파 모드와 고주파 음파 고체 도파 모드를 동시에 사용하거나, 또는 저주파 음파 기체 도파 모드, 고주파 음파 기체 도파 모드 및 고주파 음파 고체 도파 모드를 동시에 사용한다. When the method of the present invention is implemented, any one of the three modes may be used, any two of the three modes may be used simultaneously, or all three modes may be used simultaneously. For example, using only the low-frequency sonic gas guiding mode, or using only the high-frequency sonic gas guiding mode, or using the low-frequency sonic gas guiding mode and the high-frequency sonic gas guiding mode at the same time, or using the low-frequency sonic gas guiding mode and the high-frequency sonic gas guiding mode at the same time. The waveguide mode is used at the same time, or the high-frequency acoustic gas waveguide mode and the high-frequency acoustic wave solid waveguide mode are used simultaneously, or the low-frequency acoustic wave gas waveguide mode, the high-frequency acoustic wave gas waveguide mode and the high-frequency acoustic wave solid waveguide mode are used simultaneously.
불순물 제거할 입상 물질에 대한 저주파 음파 기체 도파 모드의 작용 메커니즘은 다음과 같다. 상기 모드의 저주파 음파는 입상 물질 표면의 불순물과 입상 물질 사이의 결합력에 대해 응향 피로 작용을 일으킬 수 있고, 음파의 강도를 음파 에너지 흐름 밀도라 하며, 음파의 강도는 음파 진폭의 제곱에 비례하고, 소정 음파 에너지 흐름 밀도를 갖는 저주파 음파의 작용하에, 입상 물질에서 불순물과 입상 물질 사이의 결합력을 크게 약화시킬 수 있으며, 심지어 결합력이 0에 근접하도록 하여, 입상 물질과 불순물이 공간적으로 간극 또는 분리가 발생하도록 함으로써, 부착 상태의 불순물이 분산 상태의 불순물로 전환된다. The mechanism of action of the low-frequency sound wave gas wave guiding mode on the particulate matter to be removed is as follows. The low-frequency sound wave of the above mode can cause a cohesive fatigue effect on the bonding force between impurities on the surface of the granular material and the granular material, and the intensity of the sound wave is called the sound wave energy flow density, and the intensity of the sound wave is proportional to the square of the sound wave amplitude, Under the action of low-frequency sound waves with a certain acoustic wave energy flow density, it can greatly weaken the bonding force between impurities and granular materials in the granular material, and even make the bonding force approach zero, so that the granular materials and impurities are spatially gapped or separated. By causing it to occur, impurities in an attached state are converted to impurities in a dispersed state.
불순물 제거할 입상 물질에 대한 고주파 음파 기체 도파 모드의 작용 메커니즘은 다음과 같다. 상기 모드의 고주파 음파는 저주파 음파의 상술한 효능을 구비할 뿐만 아니라, 강한 침투력을 구비하므로, 입상 물질과 결합력을 크게 약화시키고, 입상 물질과 불순물이 공간적으로 간극 또는 분리가 발생하도록 함으로써, 부착 상태의 불순물이 분산 상태의 불순물로 전환된다. The mechanism of action of the high-frequency sound wave gas waveguide mode on the particulate matter to be removed is as follows. The high-frequency sound wave of the above mode not only has the above-described effect of the low-frequency sound wave, but also has a strong penetrating power, so that the bonding force with the particulate matter is greatly weakened, and the particulate matter and the impurity are spatially gapped or separated, resulting in an attached state of impurities are converted to impurities in a dispersed state.
불순물 제거할 입상 물질에 대한 저주파 음파 기체 도파 모드와 고주파 음파 기체 도파 모드의 결합의 작용 메커니즘은 다음과 같다. 저주파 음파의 기초상에서 고주파 음파를 인가하여, 입상 물질과 불순물 간의 결합력에 대한 제거 작용을 강화시키고, 유입된 고주파 음파가 결합력을 더욱 약화시켜, 입상 물질과 그 표면 불순물 간에 간극이 발생하고 간극이 커지도록 함으로써, 분리 정제의 효과를 향상시킨다. The action mechanism of the combination of the low frequency acoustic wave gas wave guiding mode and the high frequency acoustic wave gas wave guiding mode for the particulate matter to be removed is as follows. High-frequency sound waves are applied on the basis of low-frequency sound waves to enhance the removal action on the binding force between particulate matter and impurities, and the introduced high-frequency sound waves further weaken the binding force, resulting in gaps between the granular materials and their surface impurities, and the gaps increase. By doing so, the effect of separation and purification is improved.
불순물 제거할 입상 물질에 대한 고주파 음파 고체 도파 모드의 작용 메커니즘은 다음과 같다. 고주파 음파의 파 에너지를 고체 도파 매질에 전달하여, 고체 도파 매질이 고주파 음파를 따라 파동하고, 고주파 음파가 고체 도파 매질에 의해 이와 접촉하는 불순물 제거할 입상 물질에 직접적으로 작용함으로써, 상기 고체 도파 매질을 통과하는 불순물 제거할 입상 물질에서의 입상 물질과 불순물 간의 결합력에 대해 피로 효과를 발생시켜, 양자 간의 결합력을 약화시키거나 또는 제거하여, 입상 물질 표면에 부착된 불순물과 입상 물질 간에 간극 또는 분리가 발생되고, 부착 상태의 불순물이 분산 상태의 불순물로 전환된다. The action mechanism of the high-frequency sound wave solid state waveguide mode on the particulate matter to be removed is as follows. The wave energy of the high-frequency sound wave is transmitted to the solid guiding medium, so that the solid guiding medium undulates along with the high-frequency sound wave, and the high-frequency sound wave directly acts on the particulate matter to be removed by the solid guiding medium to remove impurities in contact with the solid guiding medium. Impurities passing through cause a fatigue effect on the binding force between the granular material and the impurity in the granular material to be removed, thereby weakening or removing the binding force between the two, so that a gap or separation between the impurity attached to the surface of the granular material and the granular material is formed. is generated, and impurities in an attached state are converted to impurities in a dispersed state.
일 실시예에서, 저주파 음파 기체 도파 모드, 고주파 음파 기체 도파 모드 및 고주파 음파 고체 도파 모드 중 적어도 두 가지 모드를 사용하여, 음파를 불순물 제거할 입상 물질에 전달하여, 불순물 제거 효과를 더욱 향상시킨다. 예를 들어, 저주파 음파 기체 도파 모드, 고주파 음파 기체 도파 모드 및 고주파 음파 고체 도파 모드 중 임의의 두가지 모드를 동시에 사용하거나, 또는 이 3 가지 모드를 동시에 사용한다. In an embodiment, at least two modes of low-frequency acoustic wave gas guiding mode, high-frequency acoustic wave gas guiding mode, and high-frequency acoustic wave solid guiding mode are used to transmit sound waves to the particulate material to be impurity-removed, so as to further improve the impurity removal effect. For example, any two modes of low frequency sound wave gas wave guiding mode, high frequency sound wave gas wave guiding mode and high frequency sound wave solid wave guiding mode are used simultaneously, or these three modes are used simultaneously.
본 발명인은 연구 끝에, 음파의 주파수, 진폭 및 파형도 입상 물질과 불순물 간의 결합력을 약화시키는 효과에 영향을 미친다는 것을 발견하였고, 따라서 본 발명은 구현 시, 실제 필요에 따라, 각 모드에서 음파의 주파수, 진폭 및 파형을 결정할 수 있다. After research, the present inventors found that the frequency, amplitude and waveform of sound waves also affect the effect of weakening the bonding force between particulate matter and impurities. The frequency, amplitude and waveform can be determined.
일 실시예에서, 저주파 음파 기체 도파 모드에서 저주파 음파의 주파수는 하나의 주파수 또는 다중 주파수의 조합이고; 고주파 음파 기체 도파 모드에서 고주파 음파의 주파수는 하나의 주파수 또는 다중 주파수의 조합이며; 고주파 음파 고체 도파 모드에서 고주파 음파의 주파수는 하나의 주파수 또는 다중 주파수의 조합이다. 즉 각 모드에서, 하나의 주파수의 음파를 사용할 수 있고, 상이한 주파수의 다양한 음파를 동시에 사용할 수도 있다. 고주파 음파에 있어서, 그 주파수가 높을수록, 입상 물질에 대한 진동 침투력이 더 강하다. In one embodiment, the frequency of the low frequency sound wave in the low frequency sound wave gas wave guiding mode is one frequency or a combination of multiple frequencies; In the high-frequency sound wave gas waveguide mode, the frequency of the high-frequency sound wave is a single frequency or a combination of multiple frequencies; High-frequency sound waves In the solid waveguide mode, the frequency of a high-frequency sound wave is a single frequency or a combination of multiple frequencies. That is, in each mode, sound waves of one frequency may be used, and various sound waves of different frequencies may be simultaneously used. For high-frequency sound waves, the higher the frequency, the stronger the vibration penetration into particulate matter.
저주파 음파 기체 도파 모드를 예로 들면, 하나의 주파수의 저주파 음파를 사용할 수 있고, 상이한 주파수의 다양한 저주파 음파를 동시에 사용할 수도 있다. 두 가지 모드 또는 3 가지 모드를 동시에 사용할 경우, 상이한 주파수의 다양한 고주파 음파 및 상이한 주파수의 다양한 저주파 음파를 동시에 사용할 수 있다. 고주파와 저주파의 상이한 주파수 대역의 음파 조합 방법을 사용할 경우, 상이한 주파수 대역의 음파는 물질의 특성에 따라 하나를 메인으로 다른 하나를 보조로 하거나, 두 가지 음파를 모두 메인으로 할 수 있다. Taking the low-frequency sound wave gas wave guiding mode as an example, a low-frequency sound wave of one frequency may be used, and various low-frequency sound waves of different frequencies may be used simultaneously. When two or three modes are used simultaneously, various high-frequency sound waves of different frequencies and various low-frequency sound waves of different frequencies can be used simultaneously. When a method of combining sound waves of different frequency bands of high and low frequencies is used, one sound wave of different frequency bands may be main and the other auxiliary, or both sound waves may be main depending on the characteristics of the material.
불순물 제거 과정에서, 음파의 주파수는 고정되거나, 변조 가능하거나, 스윕(주파수 자동 변환)될 수 있으며, 주파수는 수동 제어 또는 자동 조절될 수 있다. In the impurity removal process, the frequency of the sound wave can be fixed, modulated, or swept (automatic frequency conversion), and the frequency can be manually controlled or automatically adjusted.
일 실시예에서, 저주파 음파 기체 도파 모드에서 저주파 음파의 진폭은 하나의 진폭 또는 다중 진폭의 조합이고; 고주파 음파 기체 도파 모드에서 고주파 음파의 진폭은 하나의 진폭 또는 다중 진폭의 조합이며; 고주파 음파 고체 도파 모드에서 고주파 음파의 진폭은 하나의 진폭 또는 다중 진폭의 조합이다. 각 모드에서 음파의 진폭은 설비로부터 1 m 떨어진 위치에서의 노이즈가 85 데시벨보다 작거나 같은 것이 바람직하고(또는 현지 환경 보호 요구 사항을 만족), 이 조건을 만족하는 경우, 음파의 주파수가 높을수록, 입상 물질과 불순물 사이의 결합력 약화 효과가 더 좋다. In one embodiment, the amplitude of the low frequency sound wave in the low frequency sound wave gas guiding mode is one amplitude or a combination of multiple amplitudes; The amplitude of the high-frequency sound wave in the high-frequency sound wave gas waveguide mode is a single amplitude or a combination of multiple amplitudes; The amplitude of a high-frequency sound wave in the high-frequency sound wave solid waveguide mode is a single amplitude or a combination of multiple amplitudes. In each mode, it is desirable that the noise at a location 1 m away from the facility be less than or equal to 85 decibels (or satisfy local environmental protection requirements), and if this condition is satisfied, the higher the frequency of the sound wave, the higher the frequency of the sound wave. , the effect of weakening the binding force between the granular material and impurities is better.
일 실시예에서, 저주파 음파 기체 도파 모드에서 저주파 음파의 파형은 하나의 파형 또는 다중 파형의 조합이고, 고주파 음파 기체 도파 모드에서 고주파 음파의 파형은 하나의 파형 또는 다중 파형의 조합이며, 고주파 음파 고체 도파 모드에서 고주파 음파의 파형은 하나의 파형 또는 다중 파형의 조합이다. 선택 가능한 파형은 사인파, 삼각파, 방형파 및 맥파를 포함하고, 구현 시 다중 파형을 동시에 사용할 수 있다. In an embodiment, the waveform of the low-frequency sound wave in the low-frequency sound wave gas guiding mode is a single waveform or a combination of multiple waveforms, and the waveform of the high-frequency sound wave in the high-frequency sound wave gas guiding mode is a single waveform or a combination of multiple waveforms, and the high-frequency sound wave solid The waveform of the high-frequency sound wave in waveguide mode is a single waveform or a combination of multiple waveforms. Selectable waveforms include sine, triangle, square, and pulse waves, and multiple waveforms can be used simultaneously in implementation.
고주파 음파 기체 도파 모드를 예로 들면, 하나의 파형의 고주파 음파를 사용할 수 있고, 상이한 파형의 다양한 고주파 음파를 동시에 사용할 수 있다. 두 가지 모드 또는 3 가지 모드를 동시에 사용할 경우, 상이한 파형의 다양한 고주파 음파 및 상이한 파형의 다양한 저주파 음파를 동시에 사용할 수 있다. Taking the high-frequency sound wave gas wave guiding mode as an example, a high-frequency sound wave of one waveform can be used, and various high-frequency sound waves of different waveforms can be used simultaneously. When the two or three modes are used simultaneously, various high-frequency sound waves of different waveforms and various low-frequency sound waves of different waveforms can be used simultaneously.
입상 물질의 불순물 분리 정제 수준의 요구 사항에 따라, 분리 정제 수준 요구 사항이 높을 경우, 3 가지 모드를 조합하여 사용하고, 진폭을 소음 제어의 한계까지 조절하며, 저주파 음파의 낮은 주파수(예를 들어 1 Hz ~ 20 Hz), 고주파 음파의 높은 주파수(예를 들어 30 kHz ~ 40 kHz)를 사용할 수 있으며, 가능한 단일 주파수 사인파를 사용하고; 분리 정제 수준 요구 사항이 낮을 경우, 비용 또는 다른 요인에 따라 요구 사항을 낮출 수 있으며, 그중 하나 또는 두 가지 모드를 메인으로 하거나, 또는 파형을 모드 및 진폭과 유기적으로 결합한 다양한 조합 방식을 사용하고; 분리 정제 수준 요구 사항이 매우 높을 경우, 고주파 음파 고체 도파 모드 기초상에서, 저주파 음파 고체 도파 모드의 초음파 처리 효과를 향상시켜, 음파의 효능을 더욱 발휘하고 발굴한다. According to the requirements of the level of separation and purification of impurities in the granular material, if the level of separation and purification is high, the three modes are used in combination, the amplitude is adjusted to the limit of noise control, and the low frequency of the low-frequency sound wave (such as 1 Hz to 20 Hz), high frequencies of high-frequency sound waves (eg 30 kHz to 40 kHz) may be used, and a single frequency sine wave may be used; If the requirements for the level of separation and refinement are low, the requirements can be lowered according to cost or other factors, using one or two modes as the main ones, or using various combinations of waveforms and modes and amplitudes organically combined; When the separation and purification level requirements are very high, on the basis of the high-frequency sound wave solid wave guiding mode, improve the ultrasonic treatment effect of the low-frequency sound wave solid wave guiding mode, to further play out and discover the effect of the sound wave.
일 실시예에서, 불순물 제거할 입상 물질이 유동하는 상태에서, 저주파 음파 기체 도파 모드, 고주파 음파 기체 도파 모드 및 고주파 음파 고체 도파 모드 중 적어도 하나의 모드를 사용하여, 음파를 불순물 제거할 입상 물질에 전달한다. 예를 들어, 불순물 제거할 입상 물질이 통과하기 위한 챔버를 설치하고, 상기 챔버 내로 음파를 유입하면, 불순물 제거할 입상 물질이 정적 축적이 아닌 유동 상태이므로, 불순물 제거 효과를 더욱 향상시킬 수 있고, 바람 기류가 불순물을 불어내는 데 유리하다. In one embodiment, in a state in which the particulate material to be removed impurities flows, at least one of a low-frequency acoustic wave gas wave guiding mode, a high-frequency acoustic wave gas wave guiding mode, and a high-frequency acoustic wave solid wave guiding mode is used to transmit sound waves to the particulate material to be removed impurities. convey For example, if a chamber is installed for the passage of the particulate material to be removed, and sound waves are introduced into the chamber, the particulate material to be removed is in a fluid state rather than static accumulation, so the impurity removal effect can be further improved. The wind current is favorable for blowing out the impurities.
일 실시예에서, 불순물 제거할 입상 물질에 플라즈마, 마이크로파, 적외선, 드라이아이스 중 적어도 하나를 인가한 상태에서, 저주파 음파 기체 도파 모드, 고주파 음파 기체 도파 모드 및 고주파 음파 고체 도파 모드 중 적어도 하나의 모드를 사용하여, 음파를 불순물 제거할 입상 물질에 전달하여, 불순물 제거 효과를 더욱 향상시킨다. 예를 들어, 불순물 제거할 입상 물질에 플라즈마, 마이크로파, 적외선, 드라이아이스 중 적어도 두 가지 또는 적어도 3 가지를 인가하거나, 또는 4 가지를 동시에 인가한다. In one embodiment, in a state in which at least one of plasma, microwave, infrared, and dry ice is applied to the particulate material to remove impurities, at least one mode of low-frequency sound wave gas waveguide mode, high-frequency sound wave gas waveguide mode, and high-frequency sound wave solid waveguide mode to transmit sound waves to the particulate material to be removed impurities, further improving the effect of removing impurities. For example, at least two or at least three of plasma, microwave, infrared, and dry ice are applied to the granular material to be removed, or all four are applied simultaneously.
일 실시예에서, 고주파 음파 고체 도파 모드에서 고체 도파 매질은 필름, 금속 플레이트 또는 플라스틱 플레이트이고, 물론 상응한 작동 상태에 적용 가능한 다른 다양한 고체 물질 및 형태일 수도 있으며, 사용 시, 다양한 고체 도파 매질을 동시에 사용할 수 있다. 예를 들어 고체 도파 매질은 슬라이드 플레이트, 분배기 또는/및 유동화 플레이트 등이다. In an embodiment, in the high-frequency sound wave solid wave guiding mode, the solid wave guiding medium is a film, a metal plate or a plastic plate, and of course can also be various other solid materials and shapes applicable to the corresponding operating conditions. can be used simultaneously. For example, solid waveguide media are slide plates, distributors or/and fluidized plates, and the like.
본 발명에서, 입상 물질은 일반적으로 입경이 0.8 mm ~ 20 mm 사이인 입자상 고체 물질이고, 그 외형은 구형, 타원형, 장방형, 원통형, 물방울형 또는 다른 불규칙한 형태일 수 있다. 불순물은 일반적으로 입상 물질에 포함된 분진, 보풀, 리본, 부스러기, 물방울, 플레이크, 조각, 먼지, 액체 방울 등이고, 분진, 먼지, 부스러기는 일반적으로 입경이 500 μm 미만인 미립자를 의미하며, 불순물의 재질은 입상 물질과 같거나, 입상 물질과 상이할 수 있고, 불순물은 입자, 리본 또는 보풀일 수 있으며, 불순물은 고체 미립자 또는 액체 방울일 수 있다. In the present invention, the particulate material is generally a particulate solid material having a particle diameter between 0.8 mm and 20 mm, and its shape may be spherical, elliptical, rectangular, cylindrical, drop-shaped or other irregular shapes. Impurities are generally dust, lint, ribbons, crumbs, droplets, flakes, pieces, dust, liquid droplets, etc. contained in particulate matter. The silver may be the same as or different from the particulate material, the impurities may be particles, ribbons or fluff, and the impurities may be solid particulates or liquid droplets.
실시형태 2
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명은 또한 입상 물질 내 불순물 제거 장치를 제공하고, 상기 장치는 실시형태 1의 입상 물질 내 불순물 제거 방법에서 사용되는 장치이고, 상기 장치는, 내부에 분리 캐비티(11)가 구비된 케이스(1)를 포함하고, 저주파 음파 발생 장치(2), 제1 고주파 음파 발생 장치(3) 및 고주파 음파 고체 도파 어셈블리 중 적어도 하나, 및 분리 캐비티(11) 내로 기류(Q)를 유입하기 위한 송풍기 또는/및 기류(Q)를 유출하기 위한 흡입기를 더 포함한다. As shown in FIG. 1 , the present invention also provides an apparatus for removing impurities in a granular material, which is the apparatus used in the method for removing impurities in a granular material according to
여기서 저주파 음파 발생 장치의 작동 모드는 실시형태 1에 따른 저주파 음파 기체 도파 모드이고, 제1 고주파 음파 발생 장치의 작동 모드는 실시형태 1에 따른 고주파 음파 기체 도파 모드이며, 고주파 음파 고체 도파 어셈블리의 작동 모드는 실시형태 1에 따른 고주파 음파 고체 도파 모드이고, 저주파 음파 발생 장치(2)에서 방출되는 저주파 음파 및 제1 고주파 음파 발생 장치(3)에서 방출되는 고주파 음파는 분리 캐비티(11) 내의 기체를 도파 매질로 하여, 분리 캐비티(11) 내의 불순물 제거할 입상 물질에 전달될 수 있으며, 고주파 음파 고체 도파 어셈블리는 서로 연결된 제2 고주파 음파 발생 장치(4) 및 고체 도파 매질를 포함하고, 고체 도파 매질은 분리 캐비티(11) 내에 설치되어야 하고 불순물 제거할 입상 물질(K1)의 유일한 통로에 위치해야 하며, 제2 고주파 음파 발생 장치(4)에서 방출되는 고주파 음파는 고체 도파 매질을 도파 매질로 하여, 분리 캐비티(11) 내의 불순물 제거할 입상 물질(K1)에 전달되고, 불순물 제거할 입상 물질(K1)에 작용하는 음파는 입상 물질과 불순물 사이의 결합력을 약화시킬 수 있으며, 팬에서 생성된 기류(Q)는 불순물을 입상 물질로부터 불어낼 수 있어, 불순물과 입상 물질이 완전히 분리되어, 정제된 입상 물질(K2)을 얻을 수 있다. Here, the operation mode of the low-frequency sound wave generator is the low-frequency sound wave gas wave guiding mode according to
본 발명에서 저주파 음파 발생 장치(2)에서 방출되는 저주파 음파의 주파수는 1 Hz ~ 350 Hz이며, 예를 들어 10 Hz ~ 350 Hz이며, 제1 고주파 음파 발생 장치(3) 및 제2 고주파 음파 발생 장치(4)에서 방출되는 고주파 음파의 주파수는 6 kHz ~ 40 kHz이며, 예를 들어 9 kHz이며, 12 kHz이다. 바람직하게는, 고주파 음파의 주파수는 6 Hz ~ 20 Hz이다. In the present invention, the frequency of the low-frequency sound waves emitted from the low-frequency
본 발명의 장치는 사용 시, 저주파 음파 발생 장치(2), 제1 고주파 음파 발생 장치(3) 및 고주파 음파 고체 도파 어셈블리 중 하나만 켜서, 하나의 모드의 음파를 사용할 수 있고, 임의의 두 개를 동시에 켜서, 아울러 임의의 두 가지 모드의 음파를 동시에 사용할 수도 있으며, 3 개를 동시에 켜서, 3 가지 모드의 음파를 동시에 사용할 수도 있다. When the device of the present invention is used, only one of the low-frequency
본 발명에서 불순물 제거할 입상 물질에 대한 저주파 음파 발생 장치(2), 제1 고주파 음파 발생 장치(3) 및 고주파 음파 고체 도파 어셈블리의 작용 메커니즘은 실시형태 1의 불순물 제거할 입상 물질에 대한 3 가지 모드의 작용 메커니즘과 동일하므로, 반복하여 설명하지 않는다. In the present invention, the action mechanism of the low-frequency
일 실시예에서, 도 1에 도시된 바와 같이, 저주파 음파 발생 장치(2)는 저주파 음파 발생기(21) 및 저주파 음파 변환기(22)(또는 저주파 음파 에너지 변환기라 함)를 포함하고, 저주파 음파 변환기(22)는 저주파 음파 발생기(21)로부터의 음파 신호를 수신하여 저주파 음파로 전환하기 위한 것이고, 저주파 음파 발생기(21)에서 생성된 저주파 음파 신호는 전자기 진동을 이용하여 생성되거나, 압축 공기, 기계 진동, 압전 재료 등 방법에 의해 생성될 수 있다. In one embodiment, as shown in FIG. 1 , the low-frequency sound
전자기 진동을 이용하여 저주파 음파 신호를 생성할 경우, 저주파 음파 발생기(21)와 저주파 음파 변환기(22)는 전기적으로 연결된다. 압축 공기를 이용하여 저주파 음파 신호를 생성할 경우, 저주파 음파 발생기(21)와 저주파 음파 변환기(22)는 파이프라인을 통해 연결된다. When a low-frequency sound wave signal is generated using electromagnetic vibration, the low-frequency
본 실시예는 하나의 저주파 음파 발생기(21)에 하나의 저주파 음파 변환기(22)가 연결되거나, 하나의 저주파 음파 발생기(21)에 복수의 저주파 음파 변환기(22)가 연결되거나, 하나의 저주파 음파 및 고주파 음파를 발생할 수 있는 음파 발생기에 하나 이상의 변환기가 구비되는 등 다양한 모드일 수 있다. 저주파 음파 발생기(21) 및 저주파 음파 변환기(22)는 음파 발생 및 음파 변환 기능을 겸비한 동일한 통합 장치일 수 있고, 음파 발생 및 음파 변환 기능을 각각 구비한 두 개의 장치일 수도 있다. In this embodiment, one low-frequency
일 실시예에서, 도 1에 도시된 바와 같이, 제1 고주파 음파 발생 장치(3)는 제1 고주파 음파 발생기(31) 및 제1 고주파 음파 변환기(32)를 포함하고, 제2 고주파 음파 발생 장치(4)는 제2 고주파 음파 발생기(41) 및 제2 고주파 음파 변환기(42)를 포함하며, 제1 고주파 음파 발생기(31)와 제1 고주파 음파 변환기(32)는 전기적으로 연결되고, 제2 고주파 음파 발생기(41)와 제2 고주파 음파 변환기(42)는 전기적으로 연결되며, 고주파 음파 변환기는 고주파 음파 발생기로부터의 음파 신호를 수신하여 고주파 음파로 전환하기 위한 것이고, 고주파 음파 발생기에서 생성된 고주파 음파 신호는 전자기 진동을 이용하여 생성되거나, 압축 공기, 기계 진동, 압전 재료 등 방법에 의해 생성될 수 있다. 제2 고주파 음파 발생 장치(4)의 제2 고주파 음파 변환기(42)와 고체 도파 매질은 기계적 연결 방식을 통해 연결되고, 제2 고주파 음파 변환기(42)의 음파는 고체 도파 매질에 전달되어, 고체 도파 매질이 기계 진동을 생성하고, 나아가 이 기계 진동을 불순물 제거할 입상 물질(K1)에 전달한다. 예를 들어, 저주파 음파 변환기(22) 및 제1 고주파 음파 변환기(32)는 모두 스피커이고, 제2 고주파 음파 변환기(42)는 전자기 진동기 또는 공압 진동기이다. In one embodiment, as shown in FIG. 1 , the first high-frequency sound wave generator 3 includes a first high-frequency
본 실시예는 하나의 고주파 음파 발생기에 하나의 고주파 음파 변환기가 연결되거나, 하나의 고주파 음파 발생기에 복수의 고주파 음파 변환기가 연결되거나, 하나의 저주파 음파 및 고주파 음파를 발생할 수 있는 음파 발생기에 하나 이상의 변환기가 연결되는 등 다양한 모드일 수 있다. 고주파 음파 발생기 및 고주파 음파 변환기는 음파 발생 및 음파 변환 기능을 겸비한 동일한 통합 장치일 수 있고, 음파 발생 및 음파 변환 기능을 각각 구비한 두 개의 장치는 일 수도 있다. In this embodiment, one high-frequency sound wave converter is connected to one high-frequency sound wave generator, a plurality of high-frequency sound wave transducers are connected to one high-frequency sound wave generator, or one or more sound wave generators capable of generating low-frequency sound waves and high-frequency sound waves are connected to one or more high-frequency sound wave generators. It can be in various modes, such as with a converter connected. The high-frequency sound wave generator and the high-frequency sound wave converter may be the same integrated device combining sound wave generation and sound wave conversion functions, or may be two devices each having sound wave generation and sound wave conversion functions.
본 발명에서 저주파 음파 발생 장치(2), 제1 고주파 음파 발생 장치(3) 및 제2 고주파 음파 발생 장치(4)는 케이스(1) 외부에 설치되거나 분리 캐비티(11) 내에 설치될 수 있고, 물론 일부가 케이스(1) 외부에 설치되고, 다른 일부가 분리 캐비티(11) 내에 설치될 수도 있으며, 예를 들어 음파 발생기는 케이스(1) 외부에 설치되고, 음파 변환기는 분리 캐비티(11) 내에 설치되어, 분리 캐비티(11) 내에 기체를 도파 매질로 하는 저주파 음파 및 고주파 음파로 채워지도록 한다 . In the present invention, the low frequency
본 발명에서 저주파 음파 발생 장치(2), 제1 고주파 음파 발생 장치(3) 및 제2 고주파 음파 발생 장치(4)에서 방출되는 음파의 주파수는 고정되거나, 변조 가능하거나, 스윕(즉 주파수 자동 변환)될 수 있으며, 주파수를 수동으로 변경하거나, 주파수를 자동으로 조절할 수 있다. 음파 발생기의 진폭은 조정 가능하거나 고정될 수 있다. In the present invention, the frequencies of the sound waves emitted from the low-frequency
본 발명에서, 저주파 음파 발생 장치(2)의 저주파 음파 발생기(21) 및 저주파 음파 변환기(22)는 전기식 또는 공압식일 수 있고, 일체형 또는 분리형 일 수 있으며; 제1 고주파 음파 발생 장치(3)의 제1 고주파 음파 발생기(31) 및 제1 고주파 음파 변환기(32)는 전기식 또는 공압식일 수 있고, 일체형 또는 분리형 일 수 있으며; 제2 고주파 음파 발생 장치(4)의 제2 고주파 음파 발생기(41) 및 제2 고주파 음파 변환기(42)는 전기식 또는 공압식일 수 있고, 일체형 또는 분리형 일 수 있다. In the present invention, the low-frequency
일 실시예에서, 케이스(1)에는 분리 캐비티(11)와 각각 연통되는 입상 물질 입구(12) 및 입상 물질 출구(13)가 설치되고, 분리 캐비티(11) 내에는 불순물 제거할 입상 물질(K1)이 분리 캐비티(11) 내에서 유동하도록 안내하는 흐름 안내 장치가 설치되며, 흐름 안내 장치는 입상 물질 입구(12) 및 입상 물질 출구(13) 사이에 설치되고, 불순물 제거할 입상 물질(K1)은 입상 물질 입구(12)로부터 분리 캐비티(11) 내로 들어가며, 흐름 안내 장치의 안내 작용하에, 불순물 제거할 입상 물질(K1)은 분리 캐비티(11) 내에서 축적 상태가 아닌 분산 상태로 유동하여, 불순물 제거할 입상 물질(K1)에 대한 음파 및 기류의 작용 효과를 향상시키고, 불순물이 제거된 후, 정제된 입상 물질(K2)은 입상 물질 출구(13)로부터 분리 캐비티(11)를 나간다. In one embodiment, the
흐름 안내 장치에 관하여, 적어도 다음과 같은 여러 실시예가 있다.Regarding the flow guide device, there are at least several embodiments as follows.
일 실시예에서, 도 2에 도시된 바와 같이, 흐름 안내 장치는 불순물 제거할 입상 물질(K1)이 슬라이딩하여 떨어지도록 안내하는 슬라이드 플레이트(6)를 포함한다. In one embodiment, as shown in FIG. 2 , the flow guide device includes a
다른 실시예에서, 흐름 안내 장치는 불순물 제거할 입상 물질(K1)이 슬라이딩하여 떨어지도록 안내하는 유동화 플레이트(7)를 포함한다. In another embodiment, the flow guide device includes a
또 다른 실시예에서, 흐름 안내 장치는 불순물 제거할 입상 물질(K1)이 슬라이딩하여 떨어지도록 안내하는 슬라이드 플레이트(6) 및 유동화 플레이트(7)를 포함하고, 유동화 플레이트(7)는 슬라이드 플레이트(6) 아래에 위치한다. In another embodiment, the flow guide device includes a
제1 구현 가능한 기술적 해결수단에서, 슬라이드 플레이트(6)는 대칭되게 설치된 두 개의 제1 슬라이드 플레이트(61) 및 제2 슬라이드 플레이트(62)가 연결되어 구성된 역V자형 구조이고, 즉 제1 슬라이드 플레이트(61) 및 제2 슬라이드 플레이트(62)는 경사져 있고, 양자의 상단은 연결되고 하단은 이격되며, 입상 물질 입구(12), 슬라이드 플레이트(6) 및 입상 물질 출구(13)는 위에서 아래로 순차적으로 대응되게 설치되고, 입상 물질 입구(12)는 슬라이드 플레이트(6)의 상단을 향하여, 불순물 제거할 입상 물질(K1)이 슬라이드 플레이트(6)의 상단에 떨어질 수 있도록 하며, 불순물 제거할 입상 물질(K1)이 슬라이드 플레이트(6)의 상단에서 두 부분으로 나뉘어, 각각 제1 슬라이드 플레이트(61) 및 제2 슬라이드 플레이트(62)를 따라 아래로 슬라이딩하여 떨어진다. In a first possible technical solution, the
작동 과정은 다음과 같다. 불순물 제거할 입상 물질(K1)은 입상 물질 입구(12)로부터 분리 캐비티(11) 내로 들어가 슬라이드 플레이트(6)의 상단에 떨어지고, 그 다음 두 부분으로 나뉘어 각각 제1 슬라이드 플레이트(61) 및 제2 슬라이드 플레이트(62)를 따라 아래로 슬라이딩하여 떨어지며, 이와 동시에, 저주파 음파 발생 장치(2), 제1 고주파 음파 발생 장치(3) 및 고주파 음파 고체 도파 어셈블리 중 적어도 하나로부터의 음파는 불순물 제거할 입상 물질(K1)에 작용하여, 입상 물질과 불순물 사이의 결합력을 약화시키거나 심지어 제거하며, 이와 동시에, 팬에서 생성된 기류(Q)는 불순물 제거할 입상 물질을 향해 불므로, 바람 기류는 불순물을 입상 물질로부터 불어내고, 정제된 입상 물질(K1)은 입상 물질 출구(13)로부터 떨어지며, 바람 기류는 고체 불순물과 함께 분리 캐비티(11)로부터 배출되므로, 불순물 및 입상 물질의 완전히 분리를 구현한다. The working process is as follows. The particulate material K1 to be removed from impurities enters the
본 해결수단은 제1 슬라이드 플레이트(61) 및 제2 슬라이드 플레이트(62)를 설치함으로써, 불순물 제거할 입상 물질이 분리 캐비티(11) 내에서 아래로 슬라이딩하여 떨어지도록 안내할 수 있을 뿐만 아니라, 불순물 제거할 입상 물질이 분리 캐비티(11) 내부에서 머무르는 시간을 연장할 수 있어, 불순물 제거 효과를 더욱 향상시킨다. In this solution, by installing the
본 해결수단에서, 도 2에 도시된 바와 같이, 흐름 안내 장치는 두 개의 유동화 플레이트(7)를 더 포함할 수 있고, 유동화 플레이트(7)에는 공기 구멍이 촘촘하게 배치되며, 두 개의 유동화 플레이트(7)는 각각 제1 슬라이드 플레이트(61) 아래 및 제2 슬라이드 플레이트(62) 아래에 위치하고 각각 제1 슬라이드 플레이트(61) 및 제2 슬라이드 플레이트(62)를 향하며, 두 개의 유동화 플레이트(7)는 위에서 아래로 서로를 향해 경사지며, 입상 물질 출구(13)는 두 개의 유동화 플레이트(7)의 하단 사이에 위치하므로, 불순물 제거할 입상 물질(K1)은 먼저 제1 슬라이드 플레이트(61) 및 제2 슬라이드 플레이트(62)를 따라 아래로 슬라이딩하여 떨어진 후, 두 개의 유동화 플레이트(7)에 떨어지고, 그 다음 두 개의 유동화 플레이트(7)를 따라 입상 물질 출구(13)로 슬라이딩하여 떨어지며, 정제된 입상 물질(K2)은 입상 물질 출구(13)로부터 떨어진다. In this solution, as shown in FIG. 2 , the flow guide device may further include two
본 실시예에서, 슬라이드 플레이트(6) 및 유동화 플레이트(7) 중 적어도 하나를 고체 도파 매질로 하여 제2 고주파 음파 발생 장치(4)에 연결하므로, 슬라이드 플레이트(6) 및/또는 유동화 플레이트(7)는 입상 물질이 슬라이딩하여 떨어지도록 안내할 뿐만 아니라, 음파를 불순물 제거할 입상 물질에 전달하는 작용도 일으킨다. 또한, 유동화 플레이트(7)는 또한 물질 수집 장치로서, 정제된 입상 물질을 집중시킨다. In this embodiment, since at least one of the
여기서, 제1 슬라이드 플레이트(61)의 전체 형상은 평판(도 2에 도시된 바와 같음), 또는 오목한 호형판(도 6, 도 7, 도 14, 도 15에 도시된 바와 같음), 또는 볼록한 호형판일 수 있고(도 10, 도 11에 도시된 바와 같음), 제2 슬라이드 플레이트(62)의 전체 형상은 평판(도 2에 도시된 바와 같음), 또는 오목한 호형판(도 6, 도 7, 도 14, 도 15에 도시된 바와 같음), 또는 볼록한 호형판일 수 있다(도 10, 도 11에 도시된 바와 같음). Here, the overall shape of the
또한, 도 2, 도 3, 도 4에 도시된 바와 같이, 제1 슬라이드 플레이트(61) 및 제2 슬라이드 플레이트(62)의 구조는 동일하고, 모두 계단식 구조이며, 제1 슬라이드 플레이트(61)를 예로 들어 소개하면, 제1 슬라이드 플레이트(61)는 교대로 설치된 복수의 수직판(611) 및 복수의 경사판(612)이 순차적으로 연결되어 구성되고, 경사판(612)과 수직판(611) 사이의 끼인각은 90°보다 크고 180°보다 작으며, 여기서 수직판(611)은 불순물 제거할 입상 물질(K1)이 빠르게 떨어지도록 하고, 불순물 제거할 입상 물질(K1)에 대해 유동 가속 작용을 하며, 불순물 제거할 입상 물질(K1)이 경사판(612)에 떨어질 때 진동을 일으켜, 불순물과 입상 물질의 분리에 도움을 주고, 경사판(612)은 불순물 제거할 입상 물질(K1)이 아래로 슬라이딩하여 떨어지도록 안내한다. In addition, as shown in FIGS. 2, 3 and 4, the structures of the
또한, 도 5에 도시된 바와 같이, 수직판(611)에는 관통홀(613)이 촘촘하게 배치되고, 관통홀(613)은 기류가 통과되도록 한다. In addition, as shown in FIG. 5 , through-
제2 구현 가능한 기술적 해결수단에서, 슬라이드 플레이트(6)는 대략 C자형 판이고(도 20, 도 21에 도시된 바와 같음), 슬라이드 플레이트(6)의 양단은 케이스(1)의 측벽에 고정된다. In the second feasible technical solution, the
본 해결수단에서, 슬라이드 플레이트(6)의 구조는 제1 해결수단의 제1 슬라이드 플레이트(61) 및 제2 슬라이드 플레이트(62)의 구조와 동일할 수 있고, 계단식 구조이다. In this solution, the structure of the
본 해결수단에서, 흐름 안내 장치는 하나의 유동화 플레이트(7)를 더 포함할 수 있고(도 20, 도 21에 도시된 바와 같음), 유동화 플레이트(7)는 슬라이드 플레이트(6)의 아래에 위치하며, 슬라이드 플레이트(6)에서 떨어진 입상 물질을 받는 데 사용된다. In this solution, the flow guide device may further include one fluidization plate 7 (as shown in FIGS. 20 and 21 ), and the
제3 구현 가능한 기술적 해결수단에서, 슬라이드 플레이트(6)는 대략 원뿔형 실린더이고(도 8, 도 9, 도 12, 도 13, 도 16, 도 17에 도시된 바와 같음), 상기 원뿔형 실린더의 모선은 오목한 호(도 8, 도 9, 도 16, 도 17에 도시된 바와 같음) 또는 볼록한 호이다(도 12, 도 13에 도시된 바와 같음). In a third feasible technical solution, the
본 해결수단에서, 슬라이드 플레이트(6)의 구조는 제1 해결수단의 제1 슬라이드 플레이트(61) 및 제2 슬라이드 플레이트(62)의 구조와 동일할 수 있고, 계단식 구조이다. In this solution, the structure of the
본 해결수단에서, 흐름 안내 장치는 두 개의 유동화 플레이트(7)를 더 포함할 수 있고, 두 개의 유동화 플레이트(7)는 슬라이드 플레이트(6)의 아래에 위치하며, 슬라이드 플레이트(6)에서 떨어진 입상 물질을 받는 데 사용된다. In this solution, the flow guide device may further include two
제4 구현 가능한 기술적 해결수단에서, 슬라이드 플레이트(6)는 대략 S자형 판이고(도 18, 도 19에 도시된 바와 같음), 곡선형 슬라이드와 유사하다. In the fourth feasible technical solution, the
본 해결수단에서, 슬라이드 플레이트(6)의 구조는 제1 해결수단의 제1 슬라이드 플레이트(61) 및 제2 슬라이드 플레이트(62)의 구조와 동일할 수 있고, 계단식 구조이다. In this solution, the structure of the
본 해결수단에서, 흐름 안내 장치는 하나의 유동화 플레이트(7)를 더 포함할 수 있고, 유동화 플레이트(7)는 슬라이드 플레이트(6)의 아래에 위치하며, 슬라이드 플레이트(6)에서 떨어진 입상 물질을 받는 데 사용된다. In this solution, the flow guide device may further include one
제5 구현 가능한 기술적 해결수단에서, 슬라이드 플레이트(6)는 반구형 판이고, 불순물 제거할 입상 물질은 반구형 판의 구형 표면을 따라 슬라이딩하여 떨어진다. In the fifth feasible technical solution, the
제6 구현 가능한 기술적 해결수단에서, 슬라이드 플레이트(6)는 반타원형 판이고, 불순물 제거할 입상 물질은 반타원형 판의 타원형 표면을 따라 슬라이딩하여 떨어진다. In the sixth feasible technical solution, the
그러나 본 발명은 이에 한정되지 않고, 다른 실시예에서, 흐름 안내 장치는 불순물 제거할 입상 물질이 축적되지 않고 분산되도록 할 수 있는 한, 가속판, 체판, 체, 환기판, 물질 분배기, 송풍관, 분사관, 원심분리 장치, 피드홀 및 선회기 중 하나 이상의 조합을 더 포함할 수 있다. However, the present invention is not limited to this, and in other embodiments, the flow guide device is an accelerator plate, a sieve plate, a sieve, a ventilation plate, a material distributor, a blower pipe, a duster, as long as the flow guide device can make the particulate matter to be removed free of impurities disperse without accumulating. It may further include a combination of one or more of a tube, a centrifugal separator, a feed hole, and a swirler.
일 실시예에서, 도 2에 도시된 바와 같이, 입상 물질 입구(12)에는 물질 분배기(5)가 설치되고, 물질 분배기(5)는 불순물 제거할 입상 물질(K1)을 흐름 안내 장치에 분배하여, 불순물 제거할 입상 물질(K1)이 분산 상태로 흐름 안내 장치에 분산되도록 함으로써, 분산 방식(예를 들어 균일성, 유지력 등)을 조정할 수 있다. In one embodiment, as shown in FIG. 2, a
물질 분배 방식에 관하여, 하나의 물질 분배 기준선(O)을 정의하고, 물질 분배 기준선(O)의 단측에 물질을 분배하거나(도 20, 도 21에 도시된 바와 같음), 물질 분배 기준선(O)의 양측에 물질을 분배하거나(도 23, 도 24에 도시된 바와 같음), 물질 분배 기준선(O) 주변 방향에서 물질을 분배할 수 있다(도 25, 도 26, 도 28에 도시된 바와 같음). Regarding the material distribution method, one material distribution baseline O is defined, and the material is distributed on one side of the material distribution baseline O (as shown in FIGS. 20 and 21), or the material distribution baseline O It is possible to distribute the material on both sides of (as shown in FIGS. 23 and 24) or distribute the material in a direction around the material distribution reference line O (as shown in FIGS. 25, 26 and 28) .
물질 분배기(5)에 관하여, 적어도 다음과 같은 여러 실시예가 있다.Regarding the
제1 구체적인 실시예에서, 입상 물질 입구(12), 물질 분배기(5), 흐름 안내 장치 및 입상 물질 출구(13)는 모두 물질 분배 기준선(O)의 일측에 설치되고, 물질 분배 기준선(O)은 케이스(1)의 측벽에 위치하며, 물질 분배기(5)는 직선 슬리브(미도시), 경사판이거나(도 29에 도시된 바와 같음), 물질 분배기(5)는 위에서 아래로 물질 분배 기준선(O)으로부터 멀어지는 방향으로 경사진 경사 쉘이고(도 21, 도 22에 도시된 바와 같음), 도 21 및 도 22의 예시에서, 경사 쉘의 횡단면은 직사각형이다. 본 실시예의 물질 분배 방식은 단측에 물질을 분배하는 것으로, 전술한 제2 기술적 해결수단의 흐름 안내 장치 또는 제4 기술적 해결수단의 흐름 안내 장치와 조합하여 사용하기에 적합하다. In the first specific embodiment, the
본 실시예에서, 흐름 안내 장치는 슬라이드 플레이트(6)를 포함할 수 있고(도 20, 도 21에 도시된 바와 같음), 슬라이드 플레이트(6)를 포함하지 않을 수도 있으며(도 29에 도시된 바와 같음), 유동화 플레이트(7)를 포함할 수 있고(도 20, 도 21, 도 29), 유동화 플레이트(7)를 포함하지 않을 수도 있다. In this embodiment, the flow guide device may include a slide plate 6 (as shown in FIGS. 20 and 21 ), or may not include a slide plate 6 (as shown in FIG. 29 ). same), may include a fluidization plate 7 (Figs. 20, 21, 29), or may not include a
제2 구체적인 실시예에서, 도 23 내지 도 27에 도시된 바와 같이, 물질 분배 기준선(O)은 케이스(1)의 중심선이고, 물질 분배 기준선(O)은 흐름 안내 장치의 대칭축이며, 본 실시예의 물질 분배 방식은 물질 분배 기준선(O)의 양측 또는 주변 방향에서 물질을 분배하는 것으로, 전술한 제1 기술적 해결수단의 흐름 안내 장치 또는 제3 기술적 해결수단의 흐름 안내 장치와 조합하여 사용하기에 적합하다. In the second specific embodiment, as shown in FIGS. 23 to 27, the material distribution reference line O is the center line of the
본 실시예의 제1 구현 가능한 기술적 해결수단에서, 도 23, 도 24에 도시된 바와 같이, 물질 분배기(5)는 두 개의 피더(51)를 포함하고, 두 개의 피더(51)는 각각 물질 분배 기준선(O)의 마주하는 양측에 위치하며, 피더(51)의 횡단면은 직사각형이고, 흐름 안내 장치에 가까운 방향에서, 두 개의 피더(51)는 서로 멀어지는 방향을 향해 경사지며, 두 개의 피더(51)의 아래 출구는 직사각형의 간극이고, 불순물 제거할 입상 물질(K1)은 두 개의 피더(51)로부터 흘러나와, 흐름 안내 장치에 떨어진다. 본 해결수단의 물질 분배 방식은 다중 간극 물질 분배 방식이라 할 수 있다. In the first feasible technical solution of this embodiment, as shown in FIGS. 23 and 24 , the
본 해결수단에서, 흐름 안내 장치는 슬라이드 플레이트(6)를 포함할 수 있고(도 23에 도시된 바와 같음), 슬라이드 플레이트(6)를 포함하지 않을 수도 있으며(도 31, 도 32에 도시된 바와 같음), 유동화 플레이트(7)를 포함할 수 있고(도 23, 도 31), 유동화 플레이트(7)를 포함하지 않을 수도 있다. In this solution, the flow guide device may include a slide plate 6 (as shown in FIG. 23) or may not include a slide plate 6 (as shown in FIGS. 31 and 32). same), may include a fluidization plate 7 (FIG. 23, FIG. 31), or may not include a
본 실시예의 제2 구현 가능한 기술적 해결수단에서, 도 25에 도시된 바와 같이, 물질 분배기(5)는 원뿔형 실린더이고, 물질 분배 기준선(O)은 원뿔형 실린더의 중심축선이며, 흐름 안내 장치에 가까운 방향에서, 원뿔형 실린더의 몸체의 직경은 점차 줄어들고, 원뿔형 실린더의 출구의 직경은 점차 확장되며, 물론, 원뿔형 실린더 전체가 위에서 아래로 점차 확장될 수도 있고(도 30에 도시된 바와 같음), 불순물 제거할 입상 물질(K1)은 원뿔형 실린더 내부를 통과한 후, 흐름 안내 장치로 떨어진다. 본 해결수단의 물질 분배 방식은 원뿔형 물질 분배 방식이라 할 수 있다. In the second feasible technical solution of this embodiment, as shown in FIG. 25, the
본 해결수단에서, 흐름 안내 장치는 슬라이드 플레이트(6)를 포함할 수 있고(도 25에 도시된 바와 같음), 슬라이드 플레이트(6)를 포함하지 않을 수도 있으며(도 30에 도시된 바와 같음), 유동화 플레이트(7)를 포함할 수 있고(도 25, 도 30), 유동화 플레이트(7)를 포함하지 않을 수도 있다. In this solution, the flow guide device may include a slide plate 6 (as shown in FIG. 25) or may not include a slide plate 6 (as shown in FIG. 30), It may include a fluidization plate 7 ( FIGS. 25 and 30 ) or may not include a
본 실시예의 제3 구현 가능한 기술적 해결수단에서, 도 26, 도 27에 도시된 바와 같이, 물질 분배기(5)는 안밖으로 이격되게 씌움 설치된 두 개의 동심 월뿔형 실린더로 구성되고, 물질 분배 기준선(O)은 두 개의 월뿔형 실린더의 중심축선이며, 흐름 안내 장치에 가까운 방향에서, 두 개의 월뿔형 실린더의 직경은 점차 확장되고, 두 개의 월뿔형 실린더 사이의 간극은 환형 간극이며, 불순물 제거할 입상 물질(K1)은 두 개의 월뿔형 실린더 사이의 환형 간극을 통과한 후, 흐름 안내 장치에 떨어진다. 본 해결수단의 물질 분배 방식은 환형 물질 분배 방식이라 할 수 있다. In the third possible technical solution of the present embodiment, as shown in FIGS. 26 and 27, the
본 해결수단에서, 흐름 안내 장치는 슬라이드 플레이트(6)를 포함할 수 있고(도 26에 도시된 바와 같음), 슬라이드 플레이트(6)를 포함하지 않을 수도 있으며(도 33, 도 34에 도시된 바와 같음), 유동화 플레이트(7)를 포함할 수 있고(도 26, 도 33), 유동화 플레이트(7)를 포함하지 않을 수도 있다. In this solution, the flow guide device may include a slide plate 6 (as shown in FIG. 26) or may not include a slide plate 6 (as shown in FIGS. 33 and 34). same), may include a fluidization plate 7 (Figs. 26 and 33), or may not include a
본 실시예의 상술한 3 가지 기술적 해결수단에서, 입상 물질 입구(12)는 모두 흐름 안내 장치 위에 위치하고, 즉 물질 분배기(5)는 흐름 안내 장치 위에 위치하며, 위에서 언급된 “흐름 안내 장치에 가까운 방향”은 즉 위에서 아래로의 방향이다. In the above three technical solutions of this embodiment, the
상술한 여러 실시예에서, 슬라이드 플레이트(6)가 설치되지 않을 경우, 제2 고주파 음파 변환기(42)를 물질 분배기(5)에 설치할 수 있다(도 29 내지 도 34에 도시된 바와 같음). In the various embodiments described above, when the
그러나 본 발명은 이에 한정되지 않고, 제2 고주파 음파 발생 장치를 분리 캐비티(11) 내에서 입자와 접촉하는 다른 고체 물질에 연결할 수도 있다. However, the present invention is not limited thereto, and the second high-frequency sound wave generating device may be connected to other solid materials in contact with particles in the
제3 구체적인 실시예에서, 도 28에 도시된 바와 같이, 물질 분배 기준선(O)은 케이스(1)의 중심선이고, 흐름 안내 장치는 슬라이드 플레이트(6)를 포함하며, 물질 분배 기준선(O)은 슬라이드 플레이트(6)의 대칭축이고, 입상 물질 입구(12)는 슬라이드 플레이트(6) 아래에 위치하고 물질 분배 기준선(O)의 일측에 위치하며, 물질 분배기(5)는 벤드이고, 벤드는 입상 물질 입구(12)로부터 물질 분배 기준선(O)에 가까운 비스듬히 위쪽으로 연장되며, 슬라이드 플레이트(6)의 바닦 중심까지 연장된 후, 물질 분배 기준선(O)을 따라 위쪽으로 슬라이드 플레이트(6)를 통과하여 슬라이드 플레이트(6)의 상부로 연장되며, 불순물 제거할 입상 물질(K1)은 벤드 내에서 위쪽으로 유동하고, 벤드에서 빠져나온 후 슬라이드 플레이트(6)의 상부에 떨어지며, 그 다음 슬라이드 플레이트(6)를 따라 아래로 슬라이딩하여 떨어진다. 본 실시예의 물질 분배 방식은 세정식 물질 분배 방식이라 할 수 있다. 본 실시예에서, 슬라이드 플레이트(6)는 원뿔형 실린더, 반구형 판 또는 반타원형 판일 수 있고; 흐름 안내 장치는 유동화 플레이트(7)를 포함하지 않을 수 있고 케이스(1) 하부의 역원뿔형 내벽에 의존하여 입상 물질이 입상 물질 출구(13)로 슬라이딩하여 떨어지도록 안내할 수 있다. In the third specific embodiment, as shown in FIG. 28 , the material distribution reference line O is the center line of the
일 실시예에서, 입상 물질 출구(13)에는 또한 정제된 입상 물질(K2)을 모으기 위한 물질 수집 장치가 설치되어, 정제된 입상 물질(K2)이 집중된 후 입상 물질 출구(13)로부터 흘러나온다. 예를 들어 물질 수집 장치는 깔때기 모양의 구조이다. In one embodiment, the
일 실시예에서, 케이스(1)에는 분리 캐비티(11)와 각각 연통되는 공기 유입구(14) 및 공기 배출구(15)가 설치되고, 공기 유입구(14) 및/또는 공기 배출구(15)에는 팬이 설치되며, 즉 공기 유입구(14)에는 송풍기/블로어가 설치되거나, 및/또는 공기 배출구(15)에는 흡입기가 설치되고, 기류는 불순물과 함께 공기 배출구(15)로부터 배출된다. In one embodiment, the
또한, 도 1에 도시된 바와 같이, 입상 물질 입구(12), 입상 물질 출구(13), 공기 유입구(14) 및 공기 배출구(15)에는 모두 밸브(8)가 설치되어, 조작 및 제어가 용이하다. In addition, as shown in FIG. 1,
일 실시예에서, 장치는 플라즈마 발생기, 마이크로파 발생기, 적외선 발생기, 드라이아이스 투입구 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있고, 예를 들어 임의의 두 가지, 3 가지 또는 4 가지를 포함할 수 있다. 여기서 플라즈마 발생기는 불순물 제거할 입상 물질에 플라즈마를 인가하기 위한 것이고, 마이크로파 발생기는 불순물 제거할 입상 물질에 마이크로파를 인가하기 위한 것이며, 적외선 발생기는 불순물 제거할 입상 물질에 적외선을 인가하기 위한 것이고, 드라이아이스 투입구는 불순물 제거할 입상 물질에 드라이아이스를 투입하기 위한 것이며, 이로써 불순물 제거 효과를 더욱 향상시킨다. 본 실시예에서, 플라즈마 발생기, 마이크로파 발생기 및 적외선 발생기는 케이스(1)의 내부에 설치될 수 있고, 드라이아이스 투입구는 케이스(1)의 케이스 벽에 개방 설치될 수 있다. In one embodiment, the device may further include at least one of a plasma generator, a microwave generator, an infrared generator, and a dry ice inlet, for example, any two, three, or four. Here, the plasma generator is for applying plasma to the granular material to remove impurities, the microwave generator is for applying microwaves to the granular material to remove impurities, the infrared generator is for applying infrared rays to the granular material to remove impurities, and the dry The ice inlet is for injecting dry ice into the granular material to remove impurities, thereby further improving the effect of removing impurities. In this embodiment, the plasma generator, the microwave generator and the infrared generator may be installed inside the
실시형태 3Embodiment 3
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명은 또한 입상 물질 내 불순물 제거 장치를 제공하며, 상기 장치는, 내부에 분리 캐비티(11)가 구비된 케이스(1)를 포함하고, 저주파 음파 발생 장치(2), 제1 고주파 음파 발생 장치(3) 및 고주파 음파 고체 도파 어셈블리 중 적어도 하나, 및 분리 캐비티(11) 내로 기류(Q)를 유입하기 위한 송풍기 또는/및 기류(Q)를 유출하기 위한 흡입기를 더 포함한다. 저주파 음파 발생 장치(2)에서 방출되는 저주파 음파 및 제1 고주파 음파 발생 장치(3)에서 방출되는 고주파 음파는 분리 캐비티(11) 내의 기체를 도파 매질로 하여, 분리 캐비티(11) 내의 불순물 제거할 입상 물질에 전달될 수 있고, 고주파 음파 고체 도파 어셈블리는 서로 연결된 제2 고주파 음파 발생 장치(4) 및 고체 도파 매질를 포함하며, 고체 도파 매질은 분리 캐비티(11) 내에 설치되어야 하고 불순물 제거할 입상 물질(K1)의 유일한 통로에 위치해야 하며, 제2 고주파 음파 발생 장치(4)에서 방출되는 고주파 음파는 고체 도파 매질을 도파 매질로 하여, 분리 캐비티(11) 내의 불순물 제거할 입상 물질(K1)에 전달되고, 불순물 제거할 입상 물질에 작용하는 저주파 음파 및/ 고주파 음파는 불순물 제거할 입상 물질(K1)에서 입상 물질과 불순물 사이의 결합력을 약화시킬 수 있으며, 팬에서 생성된 기류(Q)는 불순물을 입상 물질로부터 불어낼 수 있어, 불순물과 입상 물질이 완전히 분리되어, 정제된 입상 물질(K2)을 얻을 수 있다. As shown in FIG. 1 , the present invention also provides an apparatus for removing impurities in particulate matter, the apparatus comprising a
본 실시형태에 따른 장치의 다른 구조 및 작동 원리는, 실시형태 2에 따른 입상 물질 내 불순물 제거 장치와 동일하므로, 반복하여 설명하지 않는다. Other structures and operation principles of the device according to the present embodiment are the same as those of the device for removing impurities in particulate matter according to the second embodiment, and thus will not be repeatedly described.
본 발명의 방법 및 장치는 음파의 상이한 주파수 대역의 특성을 이용하여, 저주파 음파와 고주파 음파를 유기적으로 결합하고, 기체 도파와 고체 도파를 유기적으로 결합하여, 입상 물질과 그 표면에 부착된 불순물 간의 결합력을 약화시켜, 양자 사이에 간극 또는 분리 효과가 발생하도록 하고, 결합력이 제거된 입자와 불순물은 바람 기류에 의해 더욱 분리되어 각각 다운스트림으로 보내져, 과립상 물질과 불순물의 고효율적인 분리를 구현하고, 과립상 물질을 깊이 정화하는 목적을 달성한다. The method and apparatus of the present invention organically combine low-frequency sound waves and high-frequency sound waves, and organically combine gas waveguides and solid waveguides by using the characteristics of different frequency bands of sound waves, so that a particulate material and impurities attached to its surface are separated. The binding force is weakened so that a gap or separation effect occurs between them, and the particles and impurities from which the binding force is removed are further separated by wind airflow and sent downstream, respectively, realizing high-efficiency separation of granular materials and impurities , to achieve the purpose of deeply purifying granular matter.
본 발명은 입상 물질 정제의 난점 및 핵심 포인트를 해결하고, 즉, 전자기력, 액가교력, 반데르발스 힘과 같은 결합력에 의해 입자 표면에 부착되는 부착 상태의 불순물을 분산 상태의 불순물로 변환함으로써, 부착 상태의 불순물을 효과적으로 제거하고, 입상 물질의 정제 효율의 질적 도약을 구현하며, 테스트 결과, 다른 작동 상태가 동일한 경우에, 본 발명을 사용하면 입상 물질 정제 값을 평균 10 PPM 이상 높일 수 있음을 보여주고, 본 발명은 투자 비용이 낮고, 안전하고 신뢰적이며, 환경을 보호하고, 실행이 안정적이며, 구현하기 쉬어, 기술이 후지고, 정제 효율이 낮은 설비를 개조하고 업그레이드하기 쉬우며, 투자가 적고, 효과가 현저하다. The present invention solves the difficulties and key points of particulate material purification, namely, by converting impurities in an attached state to impurities in a dispersed state attached to the particle surface by bonding forces such as electromagnetic force, liquid bridge force, and van der Waals force, It effectively removes impurities in the attached state, realizing a qualitative leap in the purification efficiency of the granular material, and the test results show that the use of the present invention can increase the particulate material purification value by more than 10 PPM on average under other operating conditions. As shown, the present invention has low investment cost, safe and reliable, environmental protection, stable operation, easy to implement, easy to retrofit and upgrade equipment with backward technology and low purification efficiency, investment is small, and the effect is remarkable.
본 발명의 방법 및 장치는 입상 물질과 불순물의 결합력을 제거하거나 이들을 분리하는 다른 방법과 조합할 수 있으며, 예를 들어 전자기장, 이온풍, 체판, 유동화 베드, 임팩트판, 엘루트리에이터, 스프레이 블로잉, 정전기, 기계, 체의 불순물 제거 방법 또는 장치와 조합할 수 있다. The method and apparatus of the present invention can be combined with other methods to remove the binding force of particulate matter and impurities or to separate them, for example electromagnetic fields, ion wind, sieve plates, fluidized beds, impact plates, elutriators, spray blowing , electrostatic, mechanical, sieve impurity removal methods or devices can be combined.
본 발명의 방법 및 장치는 입상 물질과 불순물의 분리를 구현하고, 다른 관점에서, 분말 또는 미립자 등 유형의 불순물의 집중도 구현하며, 분말 또는 미립자에서 큰 입자를 제거하는 것과 같다 . The method and apparatus of the present invention realize separation of particulate matter and impurities, and from another point of view, also realize concentration of types of impurities such as powder or fine particles, such as removal of large particles from powder or fine particles.
상기 설명은 본 발명의 예시적인 구체적인 실시형태일 뿐이며, 본 발명의 범위를 제한하려는 의도가 아니다. 본 발명의 사상 및 원칙을 벗어나지 않고 당업자에 의해 이루어진 동등한 변경 및 수정은 본 발명의 보호 범위 내에 속할 것이다. 또한, 본 발명의 각 구성요소는 전술한 전체 응용에 한정되지 않으며, 본 발명의 명세서에 기재된 각 기술적 특징은 실제 필요에 따라 단독으로 또는 조합하여 사용하도록 선택될 수 있음을 유의해야 한다. 따라서, 본 발명은 당연히 본 발명의 발명적 요점과 관련된 다른 조합 및 구체적 응용을 포함한다.The above description is only exemplary specific embodiments of the present invention, and is not intended to limit the scope of the present invention. Equivalent changes and modifications made by a person skilled in the art without departing from the spirit and principle of the present invention shall fall within the protection scope of the present invention. In addition, it should be noted that each component of the present invention is not limited to the entire application described above, and each technical feature described in the specification of the present invention may be selected for use alone or in combination according to actual needs. Accordingly, the present invention naturally includes other combinations and specific applications related to the inventive subject matter of the present invention.
Claims (20)
분리 캐비티가 구비된 케이스 및 상기 분리 캐비티 내로 기류를 유입하기 위한 송풍기 또는/및 기류를 유출하기 위한 흡입기를 포함하고, 저주파 음파 발생 장치, 제1 고주파 음파 발생 장치 및 고주파 음파 고체 도파 어셈블리 중 적어도 하나를 더 포함하며, 상기 저주파 음파 발생 장치에서 방출되는 저주파 음파 및 상기 제1 고주파 음파 발생 장치에서 방출되는 고주파 음파는 기체를 도파 매질로 하여 상기 분리 캐비티 내의 불순물 제거할 입상 물질에 전달될 수 있고, 상기 고주파 음파 고체 도파 어셈블리는 서로 연결된 제2 고주파 음파 발생 장치 및 고체 도파 매질을 포함하며, 상기 제2 고주파 음파 발생 장치에서 방출되는 고주파 음파는 상기 고체 도파 매질에 의해 상기 분리 캐비티 내의 불순물 제거할 입상 물질에 전달될 수 있는 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 장치.
As an impurity removal device in particulate matter,
At least one of a low-frequency sound wave generating device, a first high-frequency sound wave generating device, and a high-frequency sound wave solid waveguide assembly including a case having a separation cavity, a blower for introducing air current into the separation cavity, and/or an aspirator for outflow of air flow. wherein the low-frequency sound waves emitted from the low-frequency sound wave generator and the high-frequency sound waves emitted from the first high-frequency sound wave generator can be transmitted to the particulate matter to be removed from the separation cavity using gas as a guiding medium, The high-frequency sound wave solid waveguide assembly includes a second high-frequency sound wave generator and a solid wave guiding medium connected to each other, and the high-frequency sound waves emitted from the second high-frequency sound wave generator are formed by the solid wave guide medium to remove impurities in the separation cavity. A device for removing impurities in a particulate material, characterized in that it can be transferred to the material.
상기 장치는 저주파 음파 발생 장치, 제1 고주파 음파 발생 장치 및 고주파 음파 고체 도파 어셈블리 중 적어도 둘을 포함하는 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 장치.
According to claim 1,
The device includes at least two of a low-frequency sound wave generator, a first high-frequency sound wave generator, and a high-frequency sound wave solid waveguide assembly.
상기 케이스에는 상기 분리 캐비티와 각각 연통되는 입상 물질 입구 및 입상 물질 출구가 설치되고, 상기 분리 캐비티 내에는 상기 불순물 제거할 입상 물질이 상기 분리 캐비티 내에서 분산된 상태로 유동하도록 안내하는 흐름 안내 장치가 설치되며, 상기 흐름 안내 장치는 상기 입상 물질 입구와 상기 입상 물질 출구 사이에 설치되는 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 장치.
According to claim 1,
The case is provided with a granular material inlet and a granular material outlet communicating with the separation cavity, and a flow guide device for guiding the granular material to be removed from impurities to flow in a dispersed state within the separation cavity. wherein the flow guide device is installed between the inlet of the granular material and the outlet of the granular material.
상기 흐름 안내 장치는 적어도 부분적으로 상기 고체 도파 매질로서 상기 제2 고주파 음파 발생 장치에 연결되는 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 장치.
According to claim 3,
wherein the flow guide device is at least partially connected to the second high-frequency sound wave generator as the solid guiding medium.
상기 장치는 상기 입상 물질 입구에 설치된 물질 분배기를 더 포함하고, 상기 물질 분배기는 상기 불순물 제거할 입상 물질을 상기 흐름 안내 장치에 분배하는 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 장치.
According to claim 3,
The apparatus further comprises a material distributor installed at the inlet of the granular material, the material distributor distributing the granular material to be removed impurities to the flow guide device.
상기 물질 분배기는 상기 고체 도파 매질로서 상기 제2 고주파 음파 발생 장치에 연결되는 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 장치.
According to claim 5,
The material distributor is connected to the second high-frequency sound wave generator as the solid waveguide medium.
상기 방법은, 저주파 음파 기체 도파 모드, 고주파 음파 기체 도파 모드 및 고주파 음파 고체 도파 모드 중 적어도 하나의 모드를 사용하여, 음파를 불순물 제거할 입상 물질에 전달하여, 상기 불순물 제거할 입상 물질에서 입상 물질과 불순물 사이의 결합력을 약화시키고, 아울러 기류를 사용하여 상기 불순물과 상기 입상 물질의 분리를 강화시키는 단계를 포함하고;
상기 저주파 음파 기체 도파 모드는 기체를 도파 매질로 하여 저주파 음파를 전달하는 것이고;
상기 고주파 음파 기체 도파 모드는 기체를 도파 매질로 하여 고주파 음파를 전달하는 것이며;
상기 고주파 음파 고체 도파 모드는 고체를 도파 매질로 하여 고주파 음파를 전달하는 것인 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 방법.
As a method for removing impurities in particulate matter,
The method may include transmitting sound waves to a particulate material to be removed impurities using at least one of a low-frequency acoustic wave gas wave guiding mode, a high-frequency acoustic wave gas wave guiding mode, and a high-frequency acoustic wave solid wave guiding mode, and removing impurities from the particulate material. weakening the bonding force between the impurity and the impurity, and further strengthening the separation of the impurity and the particulate matter using an air flow;
The low-frequency sound wave gas wave guiding mode transmits low-frequency sound waves using gas as a guiding medium;
The high-frequency sound wave gas wave guiding mode transmits high-frequency sound waves using gas as a guiding medium;
The method of removing impurities in particulate matter, characterized in that the high-frequency sound wave solid wave guiding mode transmits high-frequency sound waves using a solid as a guiding medium.
저주파 음파 기체 도파 모드, 고주파 음파 기체 도파 모드 및 고주파 음파 고체 도파 모드 중 적어도 하나의 모드를 사용하여, 음파를 불순물 제거할 입상 물질에 전달하는 상기 단계는,
저주파 음파 기체 도파 모드, 고주파 음파 기체 도파 모드 및 고주파 음파 고체 도파 모드 중 적어도 두 가지 모드를 사용하여, 음파를 불순물 제거할 입상 물질에 전달하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 방법.
According to claim 7,
The step of transmitting sound waves to the particulate material to remove impurities using at least one mode of low-frequency acoustic wave gas wave guiding mode, high-frequency acoustic wave gas wave guiding mode, and high-frequency acoustic wave solid wave guiding mode,
A method for removing impurities in a particulate material, comprising transmitting sound waves to a particulate material to be removed by using at least two modes of low-frequency acoustic wave gas wave guiding mode, high-frequency acoustic wave gas wave guiding mode, and high-frequency acoustic wave solid wave guiding mode. .
상기 저주파 음파 기체 도파 모드에서 저주파 음파의 주파수는 하나의 주파수 또는 다중 주파수의 조합이고;
상기 고주파 음파 기체 도파 모드에서 고주파 음파의 주파수는 하나의 주파수 또는 다중 주파수의 조합이며;
상기 고주파 음파 고체 도파 모드에서 고주파 음파의 주파수는 하나의 주파수 또는 다중 주파수의 조합인 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 방법.
According to claim 7,
The frequency of the low-frequency sound wave in the low-frequency sound wave gas wave guiding mode is a single frequency or a combination of multiple frequencies;
In the high-frequency sound wave gas wave guiding mode, the frequency of the high-frequency sound wave is a single frequency or a combination of multiple frequencies;
The method of removing impurities in particulate matter, characterized in that the frequency of the high-frequency sound wave in the high-frequency sound wave solid waveguide mode is one frequency or a combination of multiple frequencies.
상기 저주파 음파 기체 도파 모드에서 저주파 음파의 파형은 하나의 파형 또는 다중 파형의 조합이고;
상기 고주파 음파 기체 도파 모드에서 고주파 음파의 파형은 하나의 파형 또는 다중 파형의 조합이며;
상기 고주파 음파 고체 도파 모드에서 고주파 음파의 파형은 하나의 파형 또는 다중 파형의 조합인 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 방법.
According to claim 7,
The waveform of the low-frequency sound wave in the low-frequency sound wave gas wave guiding mode is a single waveform or a combination of multiple waveforms;
The waveform of the high-frequency sound wave in the high-frequency sound wave gas wave guiding mode is a single waveform or a combination of multiple waveforms;
The method of removing impurities in particulate matter, characterized in that the waveform of the high-frequency sound wave in the high-frequency sound wave solid waveguide mode is a single waveform or a combination of multiple waveforms.
상기 저주파 음파 기체 도파 모드에서 저주파 음파의 진폭은 하나의 진폭 또는 다중 진폭의 조합이고;
상기 고주파 음파 기체 도파 모드에서 고주파 음파의 진폭은 하나의 진폭 또는 다중 진폭의 조합이며;
상기 고주파 음파 고체 도파 모드에서 고주파 음파의 진폭은 하나의 진폭 또는 다중 진폭의 조합인 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 방법.
According to claim 7,
The amplitude of the low-frequency sound wave in the low-frequency sound wave gas guiding mode is a single amplitude or a combination of multiple amplitudes;
The amplitude of the high-frequency sound wave in the high-frequency sound wave gas wave guiding mode is a single amplitude or a combination of multiple amplitudes;
The method of removing impurities in particulate matter, characterized in that the amplitude of the high-frequency sound wave in the high-frequency sound wave solid wave guiding mode is a single amplitude or a combination of multiple amplitudes.
상기 저주파 음파의 주파수는 1 Hz ~ 350 Hz이고, 상기 고주파 음파의 주파수는 6 kHz ~ 40 kHz인 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 방법.
According to any one of claims 7 to 11,
The method of removing impurities in particulate matter, characterized in that the frequency of the low-frequency sound wave is 1 Hz to 350 Hz, and the frequency of the high-frequency sound wave is 6 kHz to 40 kHz.
저주파 음파 기체 도파 모드, 고주파 음파 기체 도파 모드 및 고주파 음파 고체 도파 모드 중 적어도 하나의 모드를 사용하여, 음파를 불순물 제거할 입상 물질에 전달하는 상기 단계는,
불순물 제거할 입상 물질이 유동하는 상태에서, 저주파 음파 기체 도파 모드, 고주파 음파 기체 도파 모드 및 고주파 음파 고체 도파 모드 중 적어도 하나의 모드를 사용하여, 음파를 상기 불순물 제거할 입상 물질에 전달하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 방법.
According to any one of claims 7 to 11,
The step of transmitting sound waves to the particulate material to remove impurities using at least one mode of low-frequency acoustic wave gas wave guiding mode, high-frequency acoustic wave gas wave guiding mode, and high-frequency acoustic wave solid wave guiding mode,
transmitting sound waves to the particulate material to remove impurities using at least one of a low-frequency acoustic wave gas wave guiding mode, a high-frequency acoustic wave gas wave guiding mode, and a high-frequency acoustic wave solid wave guiding mode in a state in which the particulate material to be removed impurities flows; A method for removing impurities in a particulate material, comprising:
저주파 음파 기체 도파 모드, 고주파 음파 기체 도파 모드 및 고주파 음파 고체 도파 모드 중 적어도 하나의 모드를 사용하여, 음파를 불순물 제거할 입상 물질에 전달하는 상기 단계는, :
불순물 제거할 입상 물질에 플라즈마, 마이크로파, 적외선, 드라이아이스 중 적어도 하나를 인가한 상태에서, 저주파 음파 기체 도파 모드, 고주파 음파 기체 도파 모드 및 고주파 음파 고체 도파 모드 중 적어도 하나의 모드를 사용하여, 음파를 상기 불순물 제거할 입상 물질에 전달하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 방법.
According to any one of claims 7 to 11,
The above step of transmitting sound waves to the particulate material to be removed impurities using at least one mode of low frequency acoustic wave gas guiding mode, high frequency acoustic wave gas guiding mode and high frequency acoustic wave solid wave guiding mode:
In a state in which at least one of plasma, microwave, infrared, and dry ice is applied to the granular material to remove impurities, using at least one mode of low-frequency sound wave gas wave guiding mode, high-frequency sound wave gas wave guiding mode, and high-frequency sound wave solid wave guiding mode, Impurity removal method in the particulate material, characterized in that it comprises the step of transferring to the particulate material to be removed impurities.
상기 장치는 제7항 내지 제14항 중 어느 한 항에 따른 입상 물질 내 불순물 제거 방법에서 사용되는 장치이고, 상기 장치는 분리 캐비티가 구비된 케이스 및 상기 분리 캐비티 내로 기류를 유입하기 위한 송풍기 또는/및 기류를 유출하기 위한 흡입기를 포함하고, 상기 장치는 저주파 음파 발생 장치, 제1 고주파 음파 발생 장치 및 고주파 음파 고체 도파 어셈블리 중 적어도 하나를 더 포함하며, 상기 저주파 음파 발생 장치의 작동 모드는 상기 저주파 음파 기체 도파 모드이고, 상기 제1 고주파 음파 발생 장치의 작동 모드는 상기 고주파 음파 기체 도파 모드이며, 상기 고주파 음파 고체 도파 어셈블리의 작동 모드는 상기 고주파 음파 고체 도파 모드이고, 상기 고주파 음파 고체 도파 어셈블리는 서로 연결된 제2 고주파 음파 발생 장치 및 고체 도파 매질을 포함하는 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 장치.
As an impurity removal device in particulate matter,
The device is a device used in the method for removing impurities in a particulate material according to any one of claims 7 to 14, and the device includes a case having a separation cavity and a blower for introducing air current into the separation cavity; and an aspirator for outflowing the airflow, wherein the device further includes at least one of a low-frequency sound wave generator, a first high-frequency sound wave generator, and a high-frequency sound wave solid waveguide assembly, wherein an operating mode of the low-frequency sound wave generator is the low-frequency sound wave generator. The high-frequency acoustic wave solid wave guiding mode is the operating mode of the first high-frequency sound wave generating device is the high-frequency acoustic wave gas guiding mode, the operating mode of the high-frequency acoustic wave solid wave guiding assembly is the high-frequency acoustic wave solid wave guiding mode, and the high-frequency acoustic wave solid wave guiding assembly is A device for removing impurities in particulate matter, characterized in that it comprises a second high-frequency sound wave generating device and a solid waveguide medium connected to each other.
상기 케이스에는 상기 분리 캐비티와 각각 연통되는 입상 물질 입구 및 입상 물질 출구가 설치되고, 상기 분리 캐비티 내에는 상기 불순물 제거할 입상 물질이 상기 분리 캐비티 내에서 분산된 상태로 유동하도록 안내하는 흐름 안내 장치가 설치되며, 상기 흐름 안내 장치는 상기 입상 물질 입구와 상기 입상 물질 출구 사이에 설치되는 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 장치. According to claim 15,
The case is provided with a granular material inlet and a granular material outlet communicating with the separation cavity, and a flow guide device for guiding the granular material to be removed from impurities to flow in a dispersed state within the separation cavity. wherein the flow guide device is installed between the inlet of the granular material and the outlet of the granular material.
상기 흐름 안내 장치는 적어도 부분적으로 상기 고체 도파 매질로서 상기 제2 고주파 음파 발생 장치에 연결되는 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 장치.
According to claim 16,
wherein the flow guide device is at least partially connected to the second high-frequency sound wave generator as the solid guiding medium.
상기 장치는 상기 입상 물질 입구에 설치된 물질 분배기를 더 포함하고, 상기 물질 분배기는 상기 불순물 제거할 입상 물질을 상기 흐름 안내 장치에 분배하는 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 장치.
According to claim 16,
The apparatus further comprises a material distributor installed at the inlet of the granular material, the material distributor distributing the granular material to be removed impurities to the flow guide device.
상기 물질 분배기는 상기 고체 도파 매질로서 상기 제2 고주파 음파 발생 장치에 연결되는 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 장치.
According to claim 18,
The material distributor is connected to the second high-frequency sound wave generator as the solid waveguide medium.
상기 장치는 플라즈마 발생기, 마이크로파 발생기, 적외선 발생기, 드라이아이스 투입구 중 적어도 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입상 물질 내 불순물 제거 장치.
According to claim 15,
The device further comprises at least one of a plasma generator, a microwave generator, an infrared generator, and a dry ice inlet.
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