KR20230064582A - Device for repairing a semiconductor light emitting device for a pixel and a repair method using the same - Google Patents

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석승환
최봉운
정상식
이효형
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엘지전자 주식회사
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Abstract

실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법은 광학계 상에 핀을 구비하는 가압 헤드를 배치하는 단계; 상기 가압 헤드를 제1 높이에서 제2 높이로 이동시키는 단계; 및 상기 광학계로 상기 핀의 이미지를 상기 제1 높이에서부터 상기 제2 높이까지 관측하는 단계;를 포함하며, 상기 제1 높이에서 상기 핀의 제1 이미지는 제1 영역을 나타내며, 상기 제2 높이에서 상기 핀의 제2 이미지는 상기 제1 영역과 제2 영역을 나타내고, 상기 제1 영역의 중심과 상기 제2 영역의 중심이 일치되도록 상기 가압 헤드를 틸트하는 단계를 포함할 수 있다.A method of repairing a semiconductor light emitting device for a pixel according to an embodiment includes disposing a pressure head having pins on an optical system; moving the pressure head from a first height to a second height; and observing an image of the pin from the first height to the second height with the optical system, wherein the first image of the pin at the first height represents a first area, and at the second height The second image of the pin may indicate the first area and the second area, and tilting the pressing head so that a center of the first area and a center of the second area coincide.

Description

화소용 반도체 발광소자의 리페어 장치 및 이를 이용한 리페어 방법{Device for repairing a semiconductor light emitting device for a pixel and a repair method using the same}Repair device for a semiconductor light emitting device for a pixel and a repair method using the same {Device for repairing a semiconductor light emitting device for a pixel and a repair method using the same}

실시예는 화소용 반도체 발광소자의 리페어 장치 및 이를 이용한 리페어 방법에 대한 방법에 관한 것이다.Embodiments relate to a repair device for a semiconductor light emitting device for a pixel and a method for a repair method using the same.

대면적 디스플레이는 액정디스플레이(LCD), OLED 디스플레이, 그리고 마이크로-LED 디스플레이(Micro-LED display) 등이 있다.Large-area displays include liquid crystal displays (LCDs), OLED displays, and micro-LED displays.

마이크로-LED 디스플레이는 100㎛ 이하의 직경 또는 단면적을 가지는 반도체 발광 소자인 마이크로-LED를 표시소자로 사용하는 디스플레이이다. A micro-LED display is a display using a micro-LED, which is a semiconductor light emitting device having a diameter or cross-sectional area of 100 μm or less, as a display device.

마이크로-LED 디스플레이는 반도체 발광 소자인 마이크로-LED를 표시소자로 사용하기 때문에 명암비, 응답속도, 색 재현율, 시야각, 밝기, 해상도, 수명, 발광효율이나 휘도 등 많은 특성에서 우수한 성능을 가지고 있다.Micro-LED display has excellent performance in many characteristics such as contrast ratio, response speed, color reproducibility, viewing angle, brightness, resolution, lifespan, luminous efficiency or luminance because it uses micro-LED, which is a semiconductor light emitting device, as a display element.

특히 마이크로-LED 디스플레이는 화면을 모듈 방식으로 분리, 결합할 수 있어 크기나 해상도 조절이 자유로운 장점 및 플렉서블 디스플레이 구현이 가능한 장점이 있다.In particular, the micro-LED display has the advantage of being free to adjust the size or resolution as screens can be separated and combined in a modular manner, and can implement a flexible display.

그런데, 마이크로-LED를 디스플레이 장치에 조립하는 과정에 있어서, 이 중 조립되지 않거나 불량인 마이크로-LED에 대해서는 리페어 공정이 필요하다. However, in the process of assembling the micro-LED into the display device, a repair process is required for the non-assembled or defective micro-LED.

또한 리페어 대상이 되는 마이크로-LED는 수 만개 이상이 될 수 있다. 이에 따라, 리페어 공정을 통해 마이크로-LED의 전사율을 높이고, 디스플레이 장치의 발광 효율을 높이는 방법이 필요한 상황이다.In addition, the number of micro-LEDs subject to repair may be tens of thousands or more. Accordingly, there is a need for a method of increasing the transfer rate of the micro-LED through the repair process and increasing the luminous efficiency of the display device.

실시예는 전술한 문제 및 다른 문제를 해결하는 것을 목적으로 한다.Embodiments are aimed at solving the foregoing and other problems.

실시예의 다른 목적은 반도체 발광 소자의 조립에서 전사율을 높이는 것이다.Another object of the embodiment is to increase the transfer rate in assembling a semiconductor light emitting device.

또한, 실시예의 또 다른 목적은 반도체 발광 소자를 제거할 때 제거율을 높이는 것이다.In addition, another object of the embodiment is to increase the removal rate when removing the semiconductor light emitting device.

또한, 실시예의 또 다른 목적은 가압헤드에 부착된 핀의 수직도를 정밀하게 세팅하는 것이다.In addition, another object of the embodiment is to precisely set the verticality of the pin attached to the pressing head.

또한, 실시예의 또 다른 목적은 가압헤드에 부착된 핀의 교체 빈도를 줄이는 것이다.Further, another object of the embodiments is to reduce the replacement frequency of pins attached to the pressure head.

또한, 실시예의 또 다른 목적은 무작위로 배치되어 있는 반도체 발광 소자들의 위치를 파악하는 것이다.In addition, another object of the embodiment is to determine the locations of randomly arranged semiconductor light emitting devices.

또한, 실시예의 또 다른 목적은 z축 위치가 서로 다른 반도체 발광 소자의 z축 위치를 파악하는 것이다.In addition, another object of the embodiment is to determine z-axis positions of semiconductor light emitting devices having different z-axis positions.

또한, 실시예의 또 다른 목적은 z축 위치가 서로 다른 반도체 발광 소자에 알맞은 가압조건을 적용하여 공정 수율을 향상시키는 것이다.In addition, another object of the embodiment is to improve process yield by applying pressurization conditions suitable for semiconductor light emitting devices having different z-axis positions.

실시예의 기술적 과제는 본 항목에 기재된 것에 한정되지 않으며, 발명의 설명을 통해 파악될 수 있는 것을 포함한다.The technical problems of the embodiments are not limited to those described in this section, and include those that can be grasped through the description of the invention.

실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법은 광학계 상에 핀을 구비하는 가압 헤드를 배치하는 단계; 상기 가압 헤드를 제1 높이에서 제2 높이로 이동시키는 단계; 및 상기 광학계로 상기 핀의 이미지를 상기 제1 높이에서부터 상기 제2 높이까지 관측하는 단계;를 포함하며, 상기 제1 높이에서 상기 핀의 제1 이미지는 제1 영역을 나타내며, 상기 제2 높이에서 상기 핀의 제2 이미지는 제2 영역을 나타내고, 상기 제1 영역의 중심과 상기 제2 영역의 중심이 일치되도록 상기 가압 헤드를 틸트하는 단계를 포함할 수 있다.A method of repairing a semiconductor light emitting device for a pixel according to an embodiment includes disposing a pressure head having pins on an optical system; moving the pressure head from a first height to a second height; and observing an image of the pin from the first height to the second height with the optical system, wherein the first image of the pin at the first height represents a first area, and at the second height The second image of the pin may indicate a second area, and tilting the pressure head so that a center of the first area and a center of the second area coincide.

또한, 실시예에서 상기 제1 높이는 상기 광학계의 초점심도가 상기 핀의 중심부에 위치하도록 하는 높이이며, 상기 제2 높이는 상기 광학계의 초점심도가 상기 핀의 첨두에 위치하도록 하는 높이일 수 있다.Further, in an embodiment, the first height may be a height such that the depth of focus of the optical system is located at the center of the pin, and the second height may be a height such that the depth of focus of the optical system is located at the peak of the pin.

또한, 실시예는 상기 가압 헤드를 틸트한 이후에 상기 핀으로 반도체 발광 소자를 가압하는 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, the embodiment may further include pressing the semiconductor light emitting device with the pin after tilting the pressing head.

또한, 실시예에서 상기 핀은 상기 반도체 발광 소자와 수직 관계일 수 있다.Also, in an embodiment, the fin may be in a vertical relationship with the semiconductor light emitting device.

또한, 실시예에서 상기 제1 영역 및 제2 영역은 동심원일 수 있다.Also, in an embodiment, the first area and the second area may be concentric circles.

또한, 실시예는 상기 가압 헤드 및 상기 핀은 복수개를 포함하며, 상기 가압 헤드를 틸트하는 단계는 상기 복수개의 가압 헤드 중 적어도 어느 하나를 틸트할 수 있다.Further, in the embodiment, the pressure head and the pin include a plurality, and the step of tilting the pressure head may tilt at least one of the plurality of pressure heads.

또한, 다른 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법은 필름에 접착되어 있는 복수의 반도체 발광 소자 상에 광학계를 제3 높이에 배치하는 단계;Also, a method of repairing a semiconductor light emitting device for a pixel according to another embodiment includes arranging an optical system at a third height on a plurality of semiconductor light emitting devices attached to a film;

상기 광학계로 상기 복수의 반도체 발광 소자 중 적어도 어느 하나의 선명한 이미지를 획득하는 단계; 상기 선명한 이미지에 해당하는 상기 복수의 반도체 발광 소자의 적어도 어느 하나의 z축 높이에 대한 데이터를 획득하는 단계; 상기 광학계를 z축 방향으로 소정의 높이만큼 이동하는 단계; 및 상기 광학계로 상기 복수의 반도체 발광 소자 중 적어도 다른 어느 하나의 선명한 이미지를 획득하는 단계를 포함할 수 있다.obtaining a clear image of at least one of the plurality of semiconductor light emitting devices with the optical system; obtaining data on a z-axis height of at least one of the plurality of semiconductor light emitting devices corresponding to the clear image; moving the optical system by a predetermined height in the z-axis direction; and acquiring a clear image of at least one other of the plurality of semiconductor light emitting devices with the optical system.

또한, 실시예에서 상기 광학계가 z축 방향으로 소정의 높이만큼 이동하는 단계는, 상기 광학계가 제4 높이에 위치할 때까지 반복되며, 상기 제3 높이와 상기 제4 높이의 차이는 상기 광학계의 초점심도 범위의 2배 이상일 수 있다.In addition, in the embodiment, the step of moving the optical system by a predetermined height in the z-axis direction is repeated until the optical system is positioned at a fourth height, and the difference between the third height and the fourth height is It may be more than twice the depth of focus range.

또한, 실시예에서 상기 복수의 반도체 발광 소자는 상기 광학계의 초점심도 범위 내에 위치할 수 있다.Also, in an embodiment, the plurality of semiconductor light emitting devices may be located within a depth of focus range of the optical system.

또한, 실시예는 상기 복수의 반도체 중 적어도 어느 하나의 z축 높이에 대한 데이터를 획득한 후, 상기 z축 높이에 대응되도록 가압 조건을 변경하는 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, the embodiment may further include changing pressurization conditions to correspond to the z-axis height after obtaining data on the z-axis height of at least one of the plurality of semiconductors.

실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법은 칩 조립 시 조립율을 높일 수 있는 기술적 효과가 있다.The method for repairing a semiconductor light emitting device for a pixel according to the embodiment has a technical effect of increasing an assembly rate when assembling a chip.

또한, 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법은 칩 제거 시 제거율을 높일 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the method for repairing a semiconductor light emitting device for a pixel according to the embodiment has a technical effect of increasing a removal rate during chip removal.

또한, 실시예는 고배율의 광학계를 사용하지 않더라도 초소형 반도체 발광 소자의 리페어 정확도를 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the embodiment has a technical effect of improving repair accuracy of the subminiature semiconductor light emitting device even without using a high-magnification optical system.

또한, 실시예는 가압 헤드에 장착된 핀의 휨을 방지할 수 있으며, 핀의 교체 빈도를 저감할 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the embodiment has a technical effect of preventing bending of the pins mounted on the pressure head and reducing the replacement frequency of the pins.

또한, 실시예는 핀의 첨두에 접착 물질을 도포하여 반도체 발광 소자와의 접착율을 높여 칩 제거 시 제거율을 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the embodiment has a technical effect of improving the removal rate during chip removal by increasing the adhesion rate with the semiconductor light emitting device by applying an adhesive material to the tip of the pin.

또한, 실시예는 광학계가 핀의 하부, 측면, 상부에 위치하더라도 핀의 수직도를 정밀하게 제어할 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the embodiment has a technical effect of precisely controlling the verticality of the pin even if the optical system is located at the bottom, side, or top of the pin.

또한, 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법은 무작위로 배치되어 있는 반도체 발광 소자들의 위치를 파악할 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the method for repairing a semiconductor light emitting device for a pixel according to the embodiment has a technical effect of being able to locate randomly arranged semiconductor light emitting devices.

또한, 실시예는 z축 위치가 서로 다른 반도체 발광 소자들의 z축 위치를 파악할 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the embodiment has a technical effect of determining the z-axis positions of semiconductor light emitting elements having different z-axis positions.

또한, 실시예는 반도체 발광 소자들의 z축 위치에 맞게 가압 조건을 변경하여 공정 수율을 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the embodiment has a technical effect of improving the process yield by changing the pressurization conditions according to the z-axis position of the semiconductor light emitting devices.

실시예의 적용 가능성의 추가적인 범위는 이하의 상세한 설명으로부터 명백해질 것이다. 그러나 실시예의 사상 및 범위 내에서 다양한 변경 및 수정은 당업자에게 명확하게 이해될 수 있으므로, 상세한 설명 및 바람직한 실시예와 같은 특정 실시예는 단지 예시로 주어진 것으로 이해되어야 한다.A further scope of applicability of the embodiments will become apparent from the detailed description that follows. However, since various changes and modifications within the spirit and scope of the embodiments can be clearly understood by those skilled in the art, it should be understood that the detailed description and specific embodiments, such as preferred embodiments, are given by way of example only.

도 1은 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자가 이용된 디스플레이 장치가 배치된 주택의 거실을 도시한다.
도 2는 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자가 이용된 디스플레이 장치를 개략적으로 보여주는 블록도이다.
도 3는 도 2의 화소의 일 예를 보여주는 회로도이다.
도 4은 도 1의 디스플레이 장치에서 제1 패널영역의 확대도이다.
도 5은 도 4의 A2 영역의 확대도이다.
도 6는 실시예에 따른 반도체 발광 소자가 자가 조립 방식에 의해 기판에 조립되는 예를 나타내는 도면이다.
도 7은 제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 장치에 대한 개념도이다.
도 8은 제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 장치 및 이를 이용한 방법에 대한 개념도이다.
도 9는 제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 장치를 이용한 방법에 대한 도면이다.
도 10은 제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법에 대한 개념도이다.
도 11은 제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법을 나타낸 개념도이다.
도 12는 제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법을 나타낸 개념도이다.
도 13은 제2 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법을 나타낸 개념도이다.
도 14는 제3 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법을 나타낸 개념도이다.
도 15는 제4 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법에 대한 개념도이다.
도 16은 제4 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법을 나타낸 개념도이다.
도 17은 제4 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법에 대한 개념도이다.
도 18은 제4 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법에 대한 흐름도이다.
1 illustrates a living room of a house in which a display device using a semiconductor light emitting device for a pixel according to an exemplary embodiment is disposed.
2 is a schematic block diagram of a display device using a semiconductor light emitting device for a pixel according to an exemplary embodiment.
3 is a circuit diagram illustrating an example of a pixel of FIG. 2 .
FIG. 4 is an enlarged view of a first panel area in the display device of FIG. 1 .
FIG. 5 is an enlarged view of area A2 of FIG. 4 .
6 is a diagram illustrating an example in which a semiconductor light emitting device according to an embodiment is assembled to a substrate by a self-assembly method.
7 is a conceptual diagram of a repair device for a semiconductor light emitting device for a pixel according to the first embodiment.
8 is a conceptual diagram of a repair device for a semiconductor light emitting device for a pixel and a method using the same according to the first embodiment.
9 is a diagram of a method using a repair device for a semiconductor light emitting device for a pixel according to the first embodiment.
10 is a conceptual diagram of a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to the first embodiment.
11 is a conceptual diagram illustrating a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to the first embodiment.
12 is a conceptual diagram illustrating a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to the first embodiment.
13 is a conceptual diagram illustrating a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to a second embodiment.
14 is a conceptual diagram illustrating a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to a third embodiment.
15 is a conceptual diagram of a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to a fourth embodiment.
16 is a conceptual diagram illustrating a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to a fourth embodiment.
17 is a conceptual diagram of a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to a fourth embodiment.
18 is a flowchart of a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to a fourth embodiment.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 '모듈' 및 '부'는 명세서 작성의 용이함이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것이며, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되는 것은 아니다. 또한, 층, 영역 또는 기판과 같은 요소가 다른 구성요소 '상(on)'에 존재하는 것으로 언급될 때, 이것은 직접적으로 다른 요소 상에 존재하거나 또는 그 사이에 다른 중간 요소가 존재할 수도 있는 것을 포함한다.Hereinafter, the embodiments disclosed in this specification will be described in detail with reference to the accompanying drawings, but the same or similar components are given the same reference numerals regardless of reference numerals, and redundant description thereof will be omitted. The suffixes 'module' and 'unit' for the components used in the following description are given or used interchangeably in consideration of ease of writing the specification, and do not themselves have a meaning or role that is distinct from each other. In addition, the accompanying drawings are for easy understanding of the embodiments disclosed in this specification, and the technical idea disclosed in this specification is not limited by the accompanying drawings. Also, when an element such as a layer, region or substrate is referred to as being 'on' another element, this includes being directly on the other element or other intervening elements may be present therebetween. do.

본 명세서에서 설명되는 디스플레이 장치에는 TV, 샤이니지, 휴대폰이나 스마트 폰(smart phone)과 같은 이동 단말기, 노트북이나 데스크탑과 같은 컴퓨터용 디스플레이, 자동차용 HUD(head-Up Display), 디스플레이용 백라이트 유닛, VR, AR 또는 MR(mixed Reality)용 디스플레이, 광원 소스 등이 포함될 수 있다. 그러나, 본 명세서에 기재된 실시예에 따른 구성은 추후 개발되는 새로운 제품형태이라도, 디스플레이가 가능한 장치에도 적용될 수 있다.The display device described in this specification includes TV, Shinage, mobile terminal such as mobile phone or smart phone, computer display such as laptop or desktop, automobile head-up display (HUD), display backlight unit, A display for VR, AR or mixed reality (MR), a light source, and the like may be included. However, the configuration according to the embodiment described in this specification can be applied to a device capable of displaying even a new product type to be developed in the future.

이하 실시예에 따른 반도체 발광 소자를 포함하는 디스플레이 장치에 대해 설명한다.Hereinafter, a display device including a semiconductor light emitting device according to an exemplary embodiment will be described.

도 1은 실시예에 따른 디스플레이 장치가 배치된 주택의 거실을 도시한다. 1 illustrates a living room of a house in which a display device according to an exemplary embodiment is disposed.

도 1을 참조하면, 실시예의 디스플레이 장치(100)는 세탁기(101), 로봇 청소기(102), 공기 청정기(103) 등의 각종 전자 제품의 상태를 표시할 수 있고, 각 전자 제품들과 IOT 기반으로 통신할 수 있으며 사용자의 설정 데이터에 기초하여 각 전자 제품들을 제어할 수도 있다.Referring to FIG. 1 , the display device 100 of the embodiment may display the status of various electronic products such as a washing machine 101, a robot cleaner 102, and an air purifier 103, and may display the status of each electronic product and an IOT based and can control each electronic product based on the user's setting data.

실시예에 따른 디스플레이 장치(100)는 얇고 유연한 기판 위에 제작되는 플렉서블 디스플레이(flexible display)를 포함할 수 있다. 플렉서블 디스플레이는 기존의 평판 디스플레이의 특성을 유지하면서, 종이와 같이 휘어지거나 말릴 수 있다.The display device 100 according to the embodiment may include a flexible display fabricated on a thin and flexible substrate. A flexible display can be bent or rolled like paper while maintaining characteristics of a conventional flat panel display.

플렉서블 디스플레이에서 시각정보는 매트릭스 형태로 배치되는 단위 화소(unit pixel)의 발광이 독자적으로 제어됨에 의하여 구현될 수 있다. 단위 화소는 하나의 색을 구현하기 위한 최소 단위를 의미한다. 플렉서블 디스플레이의 단위 화소는 발광 소자에 의하여 구현될 수 있다. 실시예에서 발광 소자는 Micro-LED나 Nano-LED일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.In a flexible display, visual information can be implemented by independently controlling light emission of unit pixels arranged in a matrix form. A unit pixel means a minimum unit for implementing one color. A unit pixel of the flexible display may be implemented by a light emitting device. In the embodiment, the light emitting device may be a Micro-LED or a Nano-LED, but is not limited thereto.

도 2는 실시예에 따른 디스플레이 장치를 개략적으로 보여주는 블록도이고, 도 3는 도 2의 화소의 일 예를 보여주는 회로도이다.FIG. 2 is a block diagram schematically illustrating a display device according to an exemplary embodiment, and FIG. 3 is a circuit diagram illustrating an example of a pixel of FIG. 2 .

도 2 및 도 3를 참조하면, 실시예에 따른 디스플레이 장치는 디스플레이 패널(10), 구동 회로(20), 스캔 구동부(30) 및 전원 공급 회로(50)를 포함할 수 있다. Referring to FIGS. 2 and 3 , a display device according to an embodiment may include a display panel 10 , a driving circuit 20 , a scan driving unit 30 and a power supply circuit 50 .

실시예의 디스플레이 장치(100)는 액티브 매트릭스(AM, Active Matrix)방식 또는 패시브 매트릭스(PM, Passive Matrix) 방식으로 발광 소자를 구동할 수 있다.The display device 100 according to the embodiment may drive a light emitting element in an active matrix (AM) method or a passive matrix (PM) method.

구동 회로(20)는 데이터 구동부(21)와 타이밍 제어부(22)를 포함할 수 있다.The driving circuit 20 may include a data driver 21 and a timing controller 22 .

디스플레이 패널(10)은 직사각형으로 이루어질 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 즉, 디스플레이 패널(10)은 원형 또는 타원형으로 형성될 수 있다. 디스플레이 패널(10)의 적어도 일 측은 소정의 곡률로 구부러지도록 형성될 수 있다.The display panel 10 may be formed in a rectangular shape, but is not limited thereto. That is, the display panel 10 may be formed in a circular or elliptical shape. At least one side of the display panel 10 may be formed to be bent with a predetermined curvature.

디스플레이 패널은 표시 영역(DA)을 포함할 수 있다. 표시 영역(DA)은 화소(PX)들이 형성되어 영상을 디스플레이하는 영역이다. 디스플레이 패널은 비표시 영역(NDA)을 포함할 수 있다. 비표시 영역(DNA)은 표시 영역(DA)을 제외한 영역일 수 있다. The display panel may include a display area DA. The display area DA is an area where the pixels PX are formed to display an image. The display panel may include a non-display area NDA. The non-display area DNA may be an area excluding the display area DA.

일 예로서, 표시 영역(DA)와 비표시 영역(NDA)은 동일 면상에 정의될 수 있다. 예컨대, 비표시 영역(DNA)은 표시 영역(DA)와 함께 동일 면 상에서 표시 영역(DA)을 둘러쌀 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. As an example, the display area DA and the non-display area NDA may be defined on the same surface. For example, the non-display area DNA may surround the display area DA on the same surface as the display area DA, but is not limited thereto.

다른 예로서, 도면에 도시되지 않았지만, 표시 영역(DA)와 비표시 영역(NDA)은 상이한 면 상에 정의될 수 있다. 예컨대, 표시 영역(DA)은 기판의 상면에 정의되고, 비표시 영역(NDA)은 기판의 하면에 정의될 수 있다. 예컨대, 비표시 영역(NDA)은 기판의 하면의 전체 영역 또는 일부 영역 상에 정의될 수도 있다. As another example, although not shown in the figure, the display area DA and the non-display area NDA may be defined on different surfaces. For example, the display area DA may be defined on the upper surface of the substrate, and the non-display area NDA may be defined on the lower surface of the substrate. For example, the non-display area NDA may be defined on the entire area or a partial area of the lower surface of the substrate.

한편, 도면에는 표시 영역(DA)과 비표시 영역(NDA)으로 구분되는 것으로 도시되고 있지만, 표시 영역(DA)과 비표시 영역(NDA)으로 구분되지 않을 수도 있다. 즉, 기판의 상면 상에 표시 영역(DA)만 존재하고, 비표시 영역(NDA)가 존재하지 않을 수 있다. 다시 말해, 기판의 상면의 전체 영역이 영상이 디스플레이되는 표시 영역(DA)으로서, 비표시 영역(NDA)인 베젤 영역이 존재하지 않을 수 있다. Meanwhile, although it is shown as being divided into a display area DA and a non-display area NDA in the drawing, the display area DA and the non-display area NDA may not be divided. That is, only the display area DA may exist on the upper surface of the substrate, and the non-display area NDA may not exist. In other words, the entire area of the upper surface of the substrate is the display area DA where the image is displayed, and the bezel area, which is the non-display area NDA, may not exist.

디스플레이 패널(10)은 데이터 라인들(D1~Dm, m은 2 이상의 정수), 데이터 라인들(D1~Dm)과 교차되는 스캔 라인들(S1~Sn, n은 2 이상의 정수), 고전위 전압(VDD)이 공급되는 고전위 전압 라인(VDDL), 저전위 전압(VSS)이 공급되는 저전위 전압 라인(VSSL) 및 데이터 라인들(D1~Dm)과 스캔 라인들(S1~Sn)에 접속된 화소(PX)들을 포함할 수 있다.The display panel 10 includes data lines (D1 to Dm, where m is an integer greater than or equal to 2), scan lines (S1 to Sn, where n is an integer greater than or equal to 2) crossing the data lines (D1 to Dm), and a high potential voltage. Connected to the high potential voltage line (VDDL) to which (VDD) is supplied, the low potential voltage line (VSSL) to which the low potential voltage (VSS) is supplied, and the data lines (D1 to Dm) and scan lines (S1 to Sn). may include the pixels PX.

화소(PX)들 각각은 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3)를 포함할 수 있다. 제1 서브 화소(PX1)는 제1 주 파장의 제1 컬러 광을 발광하고, 제2 서브 화소(PX2)는 제2 주 파장의 제2 컬러 광을 발광하며, 제3 서브 화소(PX3)는 제3 주 파장의 제3 컬러 광을 발광할 수 있다. 제1 컬러 광은 적색 광, 제2 컬러 광은 녹색 광, 제3 컬러 광은 청색 광일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 또한, 도 2에서는 화소(PX)들 각각이 3 개의 서브 화소들을 포함하는 것을 예시하였으나, 이에 한정되지 않는다. 즉, 화소(PX)들 각각은 4 개 이상의 서브 화소들을 포함할 수 있다. Each of the pixels PX may include a first sub-pixel PX1 , a second sub-pixel PX2 , and a third sub-pixel PX3 . The first sub-pixel PX1 emits light of a first color of a first main wavelength, the second sub-pixel PX2 emits light of a second color of a second main wavelength, and the third sub-pixel PX3 emits light of a second color. A third color light having a third main wavelength may be emitted. The first color light may be red light, the second color light may be green light, and the third color light may be blue light, but are not limited thereto. In addition, in FIG. 2, it is illustrated that each of the pixels PX includes three sub-pixels, but is not limited thereto. That is, each of the pixels PX may include four or more sub-pixels.

제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각은 데이터 라인들(D1~Dm) 중 적어도 하나, 스캔 라인들(S1~Sn) 중 적어도 하나 및 고전위 전압 라인(VDDL)에 접속될 수 있다. 제1 서브 화소(PX1)는 도 3과 같이 발광 소자(LD)들과 발광 소자(LD)들에 전류를 공급하기 위한 복수의 트랜지스터들과 적어도 하나의 커패시터(Cst)를 포함할 수 있다. Each of the first sub-pixel PX1 , the second sub-pixel PX2 , and the third sub-pixel PX3 includes at least one of the data lines D1 to Dm, at least one of the scan lines S1 to Sn, and a high voltage signal. It can be connected to the upper voltage line (VDDL). As shown in FIG. 3 , the first sub-pixel PX1 may include light emitting elements LD, a plurality of transistors for supplying current to the light emitting elements LD, and at least one capacitor Cst.

도면에 도시되지 않았지만, 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각은 단지 하나의 발광 소자(LD)와 적어도 하나의 커패시터(Cst)를 포함할 수도 있다. Although not shown in the drawing, each of the first sub-pixel PX1 , the second sub-pixel PX2 , and the third sub-pixel PX3 may include only one light emitting element LD and at least one capacitor Cst. may be

발광 소자(LD)들 각각은 제1 전극, 복수의 도전형 반도체층 및 제2 전극을 포함하는 반도체 발광 다이오드일 수 있다. 여기서, 제1 전극은 애노드 전극, 제2 전극은 캐소드 전극일 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.Each of the light emitting elements LD may be a semiconductor light emitting diode including a first electrode, a plurality of conductive semiconductor layers, and a second electrode. Here, the first electrode may be an anode electrode and the second electrode may be a cathode electrode, but is not limited thereto.

발광 소자(LD)는 수평형 발광 소자, 플립칩형 발광 소자 및 수직형 발광 소자 중 하나일 수 있다. The light emitting device LD may be one of a horizontal light emitting device, a flip chip type light emitting device, and a vertical light emitting device.

복수의 트랜지스터들은 도 3와 같이 발광 소자(LD)들에 전류를 공급하는 구동 트랜지스터(DT), 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극에 데이터 전압을 공급하는 스캔 트랜지스터(ST)를 포함할 수 있다. 구동 트랜지스터(DT)는 스캔 트랜지스터(ST)의 소스 전극에 접속되는 게이트 전극, 고전위 전압(VDD)이 인가되는 고전위 전압 라인(VDDL)에 접속되는 소스 전극 및 발광 소자(LD)들의 제1 전극들에 접속되는 드레인 전극을 포함할 수 있다. 스캔 트랜지스터(ST)는 스캔 라인(Sk, k는 1≤k≤n을 만족하는 정수)에 접속되는 게이트 전극, 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극에 접속되는 소스 전극 및 데이터 라인(Dj, j는 1≤j≤m을 만족하는 정수)에 접속되는 드레인 전극을 포함할 수 있다.The plurality of transistors may include a driving transistor DT supplying current to the light emitting elements LD and a scan transistor ST supplying a data voltage to a gate electrode of the driving transistor DT, as shown in FIG. 3 . The driving transistor DT includes a gate electrode connected to the source electrode of the scan transistor ST, a source electrode connected to the high potential voltage line VDDL to which the high potential voltage VDD is applied, and first elements of the light emitting elements LD. It may include a drain electrode connected to the electrodes. The scan transistor ST has a gate electrode connected to the scan line (Sk, k is an integer satisfying 1≤k≤n), a source electrode connected to the gate electrode of the driving transistor DT, and data lines Dj, j an integer that satisfies 1≤j≤m).

커패시터(Cst)는 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극과 소스 전극 사이에 형성된다. 스토리지 커패시터(Cst)는 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전압과 소스 전압의 차이값을 충전한다.The capacitor Cst is formed between the gate electrode and the source electrode of the driving transistor DT. The storage capacitor Cst charges a difference between the gate voltage and the source voltage of the driving transistor DT.

구동 트랜지스터(DT)와 스캔 트랜지스터(ST)는 박막 트랜지스터(thin film transistor)로 형성될 수 있다. 또한, 도 3에서는 구동 트랜지스터(DT)와 스캔 트랜지스터(ST)가 P 타입 MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)으로 형성된 것을 중심으로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 구동 트랜지스터(DT)와 스캔 트랜지스터(ST)는 N 타입 MOSFET으로 형성될 수도 있다. 이 경우, 구동 트랜지스터(DT)와 스캔 트랜지스터(ST)들 각각의 소스 전극과 드레인 전극의 위치는 변경될 수 있다.The driving transistor DT and the scan transistor ST may be formed of thin film transistors. In addition, in FIG. 3, the driving transistor DT and the scan transistor ST have been mainly described as being formed of P-type MOSFETs (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistors), but the present invention is not limited thereto. The driving transistor DT and the scan transistor ST may be formed of N-type MOSFETs. In this case, positions of the source and drain electrodes of the driving transistor DT and the scan transistor ST may be changed.

또한, 도 3에서는 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각이 하나의 구동 트랜지스터(DT), 하나의 스캔 트랜지스터(ST) 및 하나의 커패시터(Cst)를 갖는 2T1C (2 Transistor - 1 capacitor)를 포함하는 것을 예시하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각은 복수의 스캔 트랜지스터(ST)들과 복수의 커패시터(Cst)들을 포함할 수 있다.In addition, in FIG. 3 , each of the first sub-pixel PX1 , the second sub-pixel PX2 , and the third sub-pixel PX3 includes one driving transistor DT, one scan transistor ST, and one capacitor ( 2T1C (2 Transistor - 1 capacitor) having Cst) is illustrated, but the present invention is not limited thereto. Each of the first sub-pixel PX1 , the second sub-pixel PX2 , and the third sub-pixel PX3 may include a plurality of scan transistors ST and a plurality of capacitors Cst.

제2 서브 화소(PX2)와 제3 서브 화소(PX3)는 제1 서브 화소(PX1)와 실질적으로 동일한 회로도로 표현될 수 있으므로, 이들에 대한 자세한 설명은 생략한다.Since the second sub-pixel PX2 and the third sub-pixel PX3 may be expressed with substantially the same circuit diagram as the first sub-pixel PX1 , a detailed description thereof will be omitted.

구동 회로(20)는 디스플레이 패널(10)을 구동하기 위한 신호들과 전압들을 출력한다. 이를 위해, 구동 회로(20)는 데이터 구동부(21)와 타이밍 제어부(22)를 포함할 수 있다.The driving circuit 20 outputs signals and voltages for driving the display panel 10 . To this end, the driving circuit 20 may include a data driver 21 and a timing controller 22 .

데이터 구동부(21)는 타이밍 제어부(22)로부터 디지털 비디오 데이터(DATA)와 소스 제어 신호(DCS)를 입력 받는다. 데이터 구동부(21)는 소스 제어 신호(DCS)에 따라 디지털 비디오 데이터(DATA)를 아날로그 데이터 전압들로 변환하여 디스플레이 패널(10)의 데이터 라인들(D1~Dm)에 공급한다.The data driver 21 receives digital video data DATA and a source control signal DCS from the timing controller 22 . The data driver 21 converts the digital video data DATA into analog data voltages according to the source control signal DCS and supplies them to the data lines D1 to Dm of the display panel 10 .

타이밍 제어부(22)는 호스트 시스템으로부터 디지털 비디오 데이터(DATA)와 타이밍 신호들을 입력받는다. 호스트 시스템은 스마트폰 또는 태블릿 PC의 어플리케이션 프로세서, 모니터, TV의 시스템 온 칩 등일 수 있다.The timing controller 22 receives digital video data DATA and timing signals from the host system. The host system may be an application processor of a smart phone or tablet PC, a monitor, a system on chip of a TV, and the like.

타이밍 제어부(22)는 데이터 구동부(21)와 스캔 구동부(30)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 제어신호들을 생성한다. 제어신호들은 데이터 구동부(21)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 소스 제어 신호(DCS)와 스캔 구동부(30)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 스캔 제어 신호(SCS)를 포함할 수 있다.The timing controller 22 generates control signals for controlling operation timings of the data driver 21 and the scan driver 30 . The control signals may include a source control signal DCS for controlling the operation timing of the data driver 21 and a scan control signal SCS for controlling the operation timing of the scan driver 30 .

구동 회로(20)는 디스플레이 패널(10)의 일 측에 마련된 비표시 영역(NDA)에서 배치될 수 있다. 구동 회로(20)는 집적회로(integrated circuit, IC)로 형성되어 COG(chip on glass) 방식, COP(chip on plastic) 방식, 또는 초음파 접합 방식으로 디스플레이 패널(10) 상에 장착될 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 구동 회로(20)는 디스플레이 패널(10)이 아닌 회로 보드(미도시) 상에 장착될 수 있다.The driving circuit 20 may be disposed in the non-display area NDA provided on one side of the display panel 10 . The driving circuit 20 may be formed of an integrated circuit (IC) and mounted on the display panel 10 using a chip on glass (COG) method, a chip on plastic (COP) method, or an ultrasonic bonding method. The present invention is not limited to this. For example, the driving circuit 20 may be mounted on a circuit board (not shown) instead of the display panel 10 .

데이터 구동부(21)는 COG(chip on glass) 방식, COP(chip on plastic) 방식, 또는 초음파 접합 방식으로 디스플레이 패널(10) 상에 장착되고, 타이밍 제어부(22)는 회로 보드 상에 장착될 수 있다.The data driver 21 may be mounted on the display panel 10 using a chip on glass (COG) method, a chip on plastic (COP) method, or an ultrasonic bonding method, and the timing controller 22 may be mounted on a circuit board. there is.

스캔 구동부(30)는 타이밍 제어부(22)로부터 스캔 제어 신호(SCS)를 입력 받는다. 스캔 구동부(30)는 스캔 제어 신호(SCS)에 따라 스캔 신호들을 생성하여 디스플레이 패널(10)의 스캔 라인들(S1~Sn)에 공급한다. 스캔 구동부(30)는 다수의 트랜지스터들을 포함하여 디스플레이 패널(10)의 비표시 영역(NDA)에 형성될 수 있다. 또는, 스캔 구동부(30)는 집적 회로로 형성될 수 있으며, 이 경우 디스플레이 패널(10)의 다른 일 측에 부착되는 게이트 연성 필름 상에 장착될 수 있다.The scan driver 30 receives the scan control signal SCS from the timing controller 22 . The scan driver 30 generates scan signals according to the scan control signal SCS and supplies them to the scan lines S1 to Sn of the display panel 10 . The scan driver 30 may include a plurality of transistors and be formed in the non-display area NDA of the display panel 10 . Alternatively, the scan driver 30 may be formed as an integrated circuit, and in this case, it may be mounted on a gate flexible film attached to the other side of the display panel 10 .

전원 공급 회로(50)는 시스템 보드로부터 인가되는 메인 전원으로부터 디스플레이 패널(10)의 구동에 필요한 전압들을 생성하여 디스플레이 패널(10)에 공급할 수 있다. 예를 들어, 전원 공급 회로(50)는 메인 전원으로부터 디스플레이 패널(10)의 발광 소자(LD)들을 구동하기 위한 고전위 전압(VDD)과 저전위 전압(VSS)을 생성하여 디스플레이 패널(10)의 고전위 전압 라인(VDDL)과 저전위 전압 라인(VSSL)에 공급할 수 있다. 또한, 전원 공급 회로(50)는 메인 전원으로부터 구동 회로(20)와 스캔 구동부(30)를 구동하기 위한 구동 전압들을 생성하여 공급할 수 있다.The power supply circuit 50 may generate voltages necessary for driving the display panel 10 from the main power supplied from the system board and supply the voltages to the display panel 10 . For example, the power supply circuit 50 generates a high potential voltage (VDD) and a low potential voltage (VSS) for driving the light emitting elements (LD) of the display panel 10 from the main power supply to generate the display panel 10. can be supplied to the high potential voltage line (VDDL) and the low potential voltage line (VSSL). Also, the power supply circuit 50 may generate and supply driving voltages for driving the driving circuit 20 and the scan driving unit 30 from the main power.

도 4은 도3의 디스플레이 장치에서 제1 패널영역의 확대도이다.4 is an enlarged view of a first panel area in the display device of FIG. 3;

도 4을 참조하면, 실시예의 디스플레이 장치(100)는 제1 패널영역(A1)과 같은 복수의 패널영역들이 타일링에 의해 기구적, 전기적 연결되어 제조될 수 있다.Referring to FIG. 4 , the display device 100 of the embodiment may be manufactured by mechanically and electrically connecting a plurality of panel areas such as the first panel area A1 by tiling.

제1 패널영역(A1)은 단위 화소(도 2의 PX) 별로 배치된 복수의 반도체 발광 소자(150)를 포함할 수 있다.The first panel area A1 may include a plurality of semiconductor light emitting devices 150 arranged for each unit pixel (PX in FIG. 2 ).

다음으로 도 5는 도 4의 A2 영역의 B1-B2 선을 따른 단면도이다.Next, FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line B1-B2 of region A2 of FIG. 4 .

도 5를 참조하면, 실시예의 디스플레이 장치(100)는 기판(200), 조립 배선(201, 202), 제1 절연층(211a), 제2 절연층(211b), 제3 절연층(206) 및 복수의 발광소자(150)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 5 , the display device 100 of the embodiment includes a substrate 200, assembled wires 201 and 202, a first insulating layer 211a, a second insulating layer 211b, and a third insulating layer 206. And it may include a plurality of light emitting devices (150).

조립 배선은 서로 이격된 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202)을 포함할 수 있다. 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202)은 발광소자(150)를 조립하기 위해 유전영동 힘을 생성하기 위해 구비될 수 있다. 또한 상기 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202)은 상기 발광소자의 전극과 전기적으로 연결되어 디스플레이 패널의 전극으로 기능할 수도 있다.The assembly line may include a first assembly line 201 and a second assembly line 202 spaced apart from each other. The first assembling wire 201 and the second assembling wire 202 may be provided to generate dielectrophoretic force for assembling the light emitting device 150 . In addition, the first assembly line 201 and the second assembly line 202 may be electrically connected to the electrode of the light emitting device to function as electrodes of a display panel.

조립 배선(201, 202)은 투광성 전극(ITO)으로 형성되거나, 전기 전도성이 우수한 금속물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 조립 배선(201, 202)은 티탄(Ti), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 금(Au), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo) 중 적어도 어느 하나 또는 이들의 합금으로 형성될 수 있다.The assembled wires 201 and 202 may be formed of light-transmitting electrodes (ITO) or may include a metal material having excellent electrical conductivity. For example, the assembled wires 201 and 202 may be titanium (Ti), chromium (Cr), nickel (Ni), aluminum (Al), platinum (Pt), gold (Au), tungsten (W), molybdenum (Mo) ) It may be formed of at least one or an alloy thereof.

상기 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202) 사이에 제1 절연층(211a)이 배치될 수 있고, 상기 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202) 상에 제2 절연층(211b)이 배치될 수 있다. 상기 제1 절연층(211a)과 상기 제2 절연층(211b)은 산화막, 질화막 등일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.A first insulating layer 211a may be disposed between the first assembly wire 201 and the second assembly wire 202 , and a first insulating layer 211a may be disposed on the first assembly wire 201 and the second assembly wire 202 . 2 insulating layers 211b may be disposed. The first insulating layer 211a and the second insulating layer 211b may be an oxide film or a nitride film, but are not limited thereto.

발광소자(150)는 각각 단위 화소(sub-pixel)를 이루기 위하여 적색 발광소자(150), 녹색 발광소자(150G) 및 청색 발광소자(150B0를 포함할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니며, 적색 형광체와 녹색 형광체 등을 구비하여 각각 적색과 녹색을 구현할 수도 있다.The light emitting device 150 may include, but is not limited to, a red light emitting device 150, a green light emitting device 150G, and a blue light emitting device 150B0 to form a sub-pixel, respectively. It is also possible to implement red and green colors by providing a green phosphor or the like.

기판(200)은 유리나 폴리이미드(Polyimide)로 형성될 수 있다. 또한 기판(200)은 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate) 등의 유연성 있는 재질을 포함할 수 있다. 또한, 기판(200)은 투광성한 재질일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The substrate 200 may be formed of glass or polyimide. In addition, the substrate 200 may include a flexible material such as polyethylene naphthalate (PEN) or polyethylene terephthalate (PET). In addition, the substrate 200 may be a light-transmitting material, but is not limited thereto.

제3 절연층(206)은 폴리이미드, PEN, PET 등과 같이 절연성과 유연성 있는 재질을 포함할 수 있으며, 기판(200)과 일체로 이루어져 하나의 기판을 형성할 수도 있다.The third insulating layer 206 may include an insulating and flexible material such as polyimide, PEN, PET, or the like, and may be integrally formed with the substrate 200 to form a single substrate.

제3 절연층(206)은 접착성과 전도성을 가지는 전도성 접착층일 수 있고, 전도성 접착층은 연성이 있어서 디스플레이 장치의 플렉서블 기능을 가능하게 할 수 있다. 예를 들어, 제3 절연층(206)은 이방성 전도성 필름(ACF, anisotropy conductive film)이거나 이방성 전도매질, 전도성 입자를 함유한 솔루션(solution) 등의 전도성 접착층일 수 있다. 전도성 접착층은 두께에 대해 수직방향으로는 전기적으로 전도성이나, 두께에 대해 수평방향으로는 전기적으로 절연성을 가지는 레이어일 수 있다.The third insulating layer 206 may be a conductive adhesive layer having adhesiveness and conductivity, and the conductive adhesive layer may be flexible and thus enable a flexible function of the display device. For example, the third insulating layer 206 may be an anisotropy conductive film (ACF) or a conductive adhesive layer such as an anisotropic conductive medium or a solution containing conductive particles. The conductive adhesive layer may be a layer that is electrically conductive in a direction perpendicular to the thickness but electrically insulating in a direction horizontal to the thickness.

제3 절연층(206)은 발광소자(150)가 삽입되기 위한 조립 홀(203)을 포함할 수 있다(도 6 참조). 따라서, 자가 조립시, 발광소자(150)가 제3 절연층(206)의 조립 홀(203)에 용이하게 삽입될 수 있다. 조립 홀(203)은 삽입 홀, 고정 홀, 정렬 홀 등으로 불릴 수 있다. The third insulating layer 206 may include an assembly hole 203 into which the light emitting device 150 is inserted (see FIG. 6 ). Accordingly, during self-assembly, the light emitting device 150 can be easily inserted into the assembly hole 203 of the third insulating layer 206 . The assembly hole 203 may be called an insertion hole, a fixing hole, an alignment hole, or the like.

조립 배선(201, 202) 간의 간격은 발광소자(150)의 폭 및 조립 홀(203)의 폭보다 작게 형성되어, 전기장을 이용한 발광소자(150)의 조립 위치를 보다 정밀하게 고정할 수 있다.The distance between the assembly lines 201 and 202 is smaller than the width of the light emitting element 150 and the width of the assembly hole 203, so that the assembly position of the light emitting element 150 using an electric field can be more precisely fixed.

조립 배선(201, 202) 상에는 제3 절연층(206)이 형성되어, 조립 배선(201, 202)을 유체(1200)로부터 보호하고, 조립 배선(201, 202)에 흐르는 전류의 누출을 방지할 수 있다. 제3 절연층(206)은 실리카, 알루미나 등의 무기물 절연체 또는 유기물 절연체가 단일층 또는 다층으로 형성될 수 있다.A third insulating layer 206 is formed on the assembly wires 201 and 202 to protect the assembly wires 201 and 202 from the fluid 1200 and prevent leakage of current flowing through the assembly wires 201 and 202. can The third insulating layer 206 may be formed of a single layer or multiple layers of an inorganic insulator such as silica or alumina or an organic insulator.

또한 제3 절연층(206)은 폴리이미드, PEN, PET 등과 같이 절연성과 유연성 있는 재질을 포함할 수 있으며, 기판(200)과 일체로 이루어져 하나의 기판을 형성할 수도 있다.In addition, the third insulating layer 206 may include an insulating and flexible material such as polyimide, PEN, PET, or the like, and may be integrally formed with the substrate 200 to form a single substrate.

제3 절연층(206)은 접착성이 있는 절연층일 수 있거나, 전도성을 가지는 전도성 접착층일 수 있다. 제3 절연층(206)은 연성이 있어서 디스플레이 장치의 플렉서블 기능을 가능하게 할 수 있다. The third insulating layer 206 may be an adhesive insulating layer or a conductive adhesive layer having conductivity. The third insulating layer 206 is ductile and can enable a flexible function of the display device.

제3 절연층(206)은 격벽을 가지고, 이 격벽에 의해 조립 홀(203)이 형성될 수 있다. 예컨대, 기판(200)의 형성 시, 제3 절연층(206)의 일부가 제거됨으로써, 발광소자(150)들 각각이 제3 절연층(206)의 조립 홀(203)에 조립될 수 있다. The third insulating layer 206 has a barrier rib, and an assembly hole 203 may be formed by the barrier rib. For example, when the substrate 200 is formed, a portion of the third insulating layer 206 is removed, so that each of the light emitting devices 150 may be assembled into the assembly hole 203 of the third insulating layer 206 .

기판(200)에는 발광소자(150)들이 결합되는 조립 홀(203)이 형성되고, 조립 홀(203)이 형성된 면은 유체(1200)와 접촉할 수 있다. 조립 홀(203)은 발광소자(150)의 정확한 조립 위치를 가이드할 수 있다.An assembly hole 203 to which the light emitting devices 150 are coupled is formed in the substrate 200 , and a surface on which the assembly hole 203 is formed may contact the fluid 1200 . The assembly hole 203 may guide an accurate assembly position of the light emitting device 150 .

한편, 조립 홀(203)은 대응하는 위치에 조립될 발광소자(150)의 형상에 대응하는 형상 및 크기를 가질 수 있다. 이에 따라, 조립 홀(203)에 다른 발광소자가 조립되거나 복수의 발광소자들이 조립되는 것을 방지할 수 있다.Meanwhile, the assembly hole 203 may have a shape and size corresponding to the shape of the light emitting element 150 to be assembled at the corresponding position. Accordingly, it is possible to prevent assembly of another light emitting element or a plurality of light emitting elements into the assembly hole 203 .

도 6은 실시예에 따른 발광소자가 자가 조립 방식에 의해 기판에 조립되는 예를 나타내는 도면이며, 도면들을 참조하여 발광소자의 자가 조립 방식을 설명한다.6 is a view showing an example in which a light emitting device according to an embodiment is assembled to a substrate by a self-assembly method, and the self-assembly method of the light emitting device will be described with reference to the drawings.

기판(200)은 디스플레이 장치의 패널 기판일 수 있다. 이후 설명에서는 기판(200)은 디스플레이 장치의 패널 기판인 경우로 설명하나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다.The substrate 200 may be a panel substrate of a display device. In the following description, the substrate 200 will be described as a panel substrate of a display device, but the embodiment is not limited thereto.

도 6을 참조하면, 복수의 발광소자(150)는 유체(1200)가 채워진 챔버(1300)에 투입될 수 있다. 유체(1200)는 초순수 등의 물일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 챔버는 수조, 컨테이너, 용기 등으로 불릴 수 있다. Referring to FIG. 6 , a plurality of light emitting devices 150 may be put into a chamber 1300 filled with a fluid 1200 . The fluid 1200 may be water such as ultrapure water, but is not limited thereto. A chamber may also be called a water bath, container, vessel, or the like.

이 후, 기판(200)이 챔버(1300) 상에 배치될 수 있다. 실시예에 따라, 기판(200)은 챔버(1300) 내로 투입될 수도 있다.After that, the substrate 200 may be disposed on the chamber 1300 . Depending on the embodiment, the substrate 200 may be introduced into the chamber 1300 .

도 5에 도시한 바와 같이, 기판(200)에는 조립될 발광소자(150) 각각에 대응하는 한 쌍의 조립 배선(201, 202)이 배치될 수 있다. As shown in FIG. 5 , a pair of assembly wires 201 and 202 corresponding to each of the light emitting devices 150 to be assembled may be disposed on the substrate 200 .

도 6을 참조하면, 기판(200)이 배치된 후, 자성체를 포함하는 조립 장치(1100)가 기판(200)을 따라 이동할 수 있다. 자성체로 예컨대, 자석이나 전자석이 사용될 수 있다. 조립 장치(1100)는 자기장이 미치는 영역을 유체(1200) 내로 최대화하기 위해, 기판(200)과 접촉한 상태로 이동할 수 있다. 실시예에 따라서는, 조립 장치(1100)가 복수의 자성체를 포함하거나, 기판(200)과 대응하는 크기의 자성체를 포함할 수도 있다. 이 경우, 조립 장치(1100)의 이동 거리는 소정 범위 이내로 제한될 수도 있다.Referring to FIG. 6 , after the substrate 200 is disposed, an assembly device 1100 including a magnetic material may move along the substrate 200 . As the magnetic material, for example, a magnet or an electromagnet may be used. The assembly device 1100 may move while in contact with the substrate 200 in order to maximize the area of the magnetic field into the fluid 1200 . Depending on the embodiment, the assembly device 1100 may include a plurality of magnetic bodies or may include a magnetic body having a size corresponding to that of the substrate 200 . In this case, the moving distance of the assembling device 1100 may be limited within a predetermined range.

조립 장치(1100)에 의해 발생하는 자기장에 의해, 챔버(1300) 내의 발광소자(150)는 조립 장치(1100)를 향해 이동할 수 있다.The light emitting device 150 in the chamber 1300 may move toward the assembly device 1100 by the magnetic field generated by the assembly device 1100 .

발광소자(150)는 조립 장치(1100)를 향해 이동 중, 유전영동 힘(DEP force)에 의해 조립 홀(203)로 진입하여 기판(200)과 접촉될 수 있다. While moving toward the assembly device 1100 , the light emitting device 150 may enter the assembly hole 203 by a dielectrophoretic force (DEP force) and come into contact with the substrate 200 .

구체적으로 조립 배선(201, 202)은 외부에서 공급된 전원에 의해 전기장을 형성하고, 이 전기장에 의해 유전영동 힘이 조립 배선(201, 202) 사이에 형성될 수 있다. 이 유전영동 힘에 의해 기판(200) 상의 조립 홀(203)에 발광소자(150)를 고정시킬 수 있다.In detail, the assembled wires 201 and 202 form an electric field by an externally supplied power, and dielectrophoretic force can be formed between the assembled wires 201 and 202 by the electric field. The light emitting element 150 can be fixed to the assembly hole 203 on the substrate 200 by this dielectrophoretic force.

기판(200)에 형성된 조립 배선(201, 202)에 의해 가해지는 전기장에 의해, 기판(200)에 접촉된 발광소자(150)가 조립 장치(1100)의 이동에 의해 이탈되는 것이 방지될 수 있다. 실시예에 의하면, 상술한 전자기장을 이용한 자가 조립 방식에 의해, 발광소자(150)들 각각이 기판(200)에 조립되는 데 소요되는 시간을 급격히 단축시킬 수 있으므로, 대면적 고화소 디스플레이를 보다 신속하고 경제적으로 구현할 수 있다.The light emitting element 150 in contact with the substrate 200 may be prevented from being separated by the movement of the assembly device 1100 by the electric field applied by the assembly wires 201 and 202 formed on the substrate 200 . . According to the embodiment, since the time required to assemble each of the light emitting devices 150 to the substrate 200 can be drastically reduced by the above-described self-assembly method using the electromagnetic field, a large-area high-pixel display can be made more quickly and can be implemented economically.

이때 기판(200)의 조립 홀(203) 상에 조립된 발광소자(150)와 조립 전극 사이에 소정의 솔더층(미도시)이 형성되어 발광소자(150)의 결합력을 향상시킬 수 있다.At this time, a predetermined solder layer (not shown) may be formed between the assembled electrode and the light emitting device 150 assembled on the assembly hole 203 of the substrate 200 to improve the bonding strength of the light emitting device 150 .

다음으로 기판(200)의 조립 홀(203)에 몰딩층(미도시)이 형성될 수 있다. 몰딩층은 투광성 레진이거나 또는 반사물질, 산란물질이 포함된 레진일 수 있다.Next, a molding layer (not shown) may be formed in the assembly hole 203 of the substrate 200 . The molding layer may be a light-transmissive resin or a resin containing a reflective material or a scattering material.

도 7은 제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 장치의 단면도이다. 도 7을 참조하면, 스테이지(125)에 가압헤드(120)가 장착될 수 있다. 가압헤드(120)는 단일 또는 복수로 구비될 수 있다. 예를 들어, 상기 가압헤드(120)는 제1 가압헤드(121), 제2 가압헤드(122), 제3 가압헤드(123)를 포함할 수 있으며 더 많은 수의 가압헤드를 포함할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.7 is a cross-sectional view of a repair device for a semiconductor light emitting device for a pixel according to the first embodiment. Referring to FIG. 7 , a pressure head 120 may be mounted on a stage 125 . The pressure head 120 may be provided singly or in plurality. For example, the pressure head 120 may include a first pressure head 121, a second pressure head 122, and a third pressure head 123, and may include a larger number of pressure heads, but It is not limited to this.

상기 가압헤드(120)와 상기 스테이지(125)는 틸트 유닛(126)으로 연결될 수 있다. 또한 소정의 핀(130)은 가압헤드(120)의 아래에 연결될 수 있다. 상기 핀(130)은 제1 핀(131), 제2 핀(132) 및 제3 핀(133)을 포함할 수 있다.The pressure head 120 and the stage 125 may be connected by a tilt unit 126 . In addition, a predetermined pin 130 may be connected below the pressure head 120 . The pin 130 may include a first pin 131 , a second pin 132 and a third pin 133 .

상기 스테이지(125)는 제1 가압헤드(121)와 제1 틸트 유닛(127)으로 연결될 수 있고, 제2 가압헤드(122)와 제2 틸트 유닛(128)으로 연결될 수 있고, 제3 가압헤드(123)와 제3 틸트 유닛(129)으로 연결될 수 있다. The stage 125 may be connected to the first pressing head 121 and the first tilt unit 127, may be connected to the second pressing head 122 and the second tilt unit 128, and may be connected to the third pressing head 123 and the third tilt unit 129 may be connected.

또한, 제1 가압헤드(121)는 제1 핀(131)과 연결되며, 제2 가압헤드(122)는 제2 핀(132)과 연결되고, 제3 가압헤드(123)는 제3 핀(133)과 연결될 수 있다.In addition, the first pressure head 121 is connected to the first pin 131, the second pressure head 122 is connected to the second pin 132, and the third pressure head 123 is connected to the third pin ( 133) can be linked.

제1 틸트 유닛(127), 제2 틸트 유닛(128) 및 제3 틸트 유닛(129)은 각각 다른 각도로 회전할 수 있다. 상기 제1 틸트 유닛(127), 제2 틸트 유닛(128) 및 제3 틸트 유닛(129)에 의해 상기 제1 가압헤드(121), 제2 가압헤드(122) 및 제3 가압헤드(123) 각각은 틸트될 수 있다. The first tilt unit 127, the second tilt unit 128, and the third tilt unit 129 may rotate at different angles. The first pressing head 121, the second pressing head 122 and the third pressing head 123 are formed by the first tilt unit 127, the second tilt unit 128 and the third tilt unit 129 Each can be tilted.

상기 핀(130)은 상기 가압헤드(120) 각각에 대응하여 구비될 수 있다. 제1 핀(131)은 상기 제1 가압헤드(121)의 아래에 연결될 수 있으며, 제2 핀(132)은 상기 제2 가압헤드(122)의 아래에 연결될 수 있고, 제3 핀(133)은 상기 제3 가압헤드(123)의 아래에 연결될 수 있다. 상기 핀(130)은 금속으로 형성될 수 있으나 이에 한정하지 않는다. 상기 핀(130)의 첨두는 평평한 형태로 형성될 수 있다.The pin 130 may be provided to correspond to each of the pressure heads 120 . The first pin 131 may be connected under the first pressure head 121, the second pin 132 may be connected under the second pressure head 122, and the third pin 133 may be connected below the third pressure head 123 . The pin 130 may be formed of metal, but is not limited thereto. The peak of the pin 130 may be formed in a flat shape.

제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 장치는 디스플레이 패널에 반도체 발광 소자를 재조립하거나 불량 칩을 제거할 때 사용될 수 있다. 상기 핀(130)은 디스플레이 패널에 칩 미조립 시, 반도체 발광 소자를 필름으로부터 떼어내어 조립 홀에 전사시키거나, 불량 칩이 조립되어 있을 때 이를 제거하는 용도로 사용할 수 있다.The repair device for a semiconductor light emitting device for a pixel according to the first embodiment may be used when reassembling a semiconductor light emitting device in a display panel or removing a defective chip. The pin 130 may be used to remove a semiconductor light emitting device from a film and transfer it to an assembly hole when chips are not assembled in a display panel, or to remove defective chips when assembled.

도 8은 제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법에 대한 개념도이다. 8 is a conceptual diagram of a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to the first embodiment.

도 8을 참조하면, 가압헤드(120)의 하부에 핀(130)이 장착될 수 있다. 광학계(140)는 핀의 하부에 위치하여 핀(130)을 관측할 수 있다. 이 때, 광학계(140)는 센서를 이용하여 스테이지(도 11참조)와 수직으로 세팅되며, 상기 가압헤드(120) 또한 스테이지와 수직으로 세팅 될 수 있다. Referring to FIG. 8 , a pin 130 may be mounted under the pressure head 120 . The optical system 140 is positioned below the pin to observe the pin 130 . At this time, the optical system 140 is set vertically with the stage (see FIG. 11) using a sensor, and the pressure head 120 may also be set vertically with the stage.

반도체 발광 소자를 리페어 하는 공정에 있어서 핀(130)이 스테이지에 수직이 아니고 기울어진 상태라면, z축을 기준으로 반도체 발광소자에 접근할수록 기울어진 각도에 의해 오차는 더욱 커지며, 초소형으로 제작된 반도체 발광소자의 중심과 멀어질 수 있다. 또한, 기울어진 상태로 반도체 발광소자에 압력을 가하는 것이기 때문에 핀과 반도체 발광소자가 쉽게 손상될 수 있으며, 전사율과 제거율 또한 낮아질 수밖에 없는 문제점이 있다.In the process of repairing the semiconductor light emitting device, if the pin 130 is not perpendicular to the stage and is in an inclined state, the error increases due to the inclined angle as it approaches the semiconductor light emitting device based on the z-axis, and the semiconductor light emitting device manufactured in a miniature size It may be far from the center of the element. In addition, since the pressure is applied to the semiconductor light emitting device in an inclined state, the fin and the semiconductor light emitting device can be easily damaged, and the transfer rate and removal rate are also reduced.

이에 대하여, 제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법은 핀을 z축으로 이동시키며 광학계의 초점심도를 이용하여 관찰되는 이미지를 파악하여 상기 핀을 수직으로 보정할 수 있다.In contrast, in the method of repairing the semiconductor light emitting device for a pixel according to the first embodiment, the pin may be moved in the z-axis, and the pin may be vertically corrected by grasping an observed image using a depth of focus of an optical system.

자세하게, 도 8의 (a)는 핀(130)이 광학계(140)로부터 제1 거리(D1)만큼 떨어져 있을 때를 나타낸 도면이다. 광학계(140)의 초점심도(F1)는 상기 핀(130)의 중앙부에 위치할 수 있다.In detail, (a) of FIG. 8 is a view showing a case where the pin 130 is separated from the optical system 140 by a first distance D1. The depth of focus F1 of the optical system 140 may be located at the center of the pin 130 .

도 8의 (b)는 핀(130)이 광학계(140)로부터 제2 거리(D2)만큼 떨어져 있을 때를 나타낸 도면이다. 이 때, 광학계(140)의 초점심도(F1)는 상기 핀(130)의 첨두(137)에 위치할 수 있다. 상기 첨두(137)는 상기 핀(130)의 중앙부보다 작은 폭을 갖도록 형성될 수 있다.(b) of FIG. 8 is a view showing a case where the pin 130 is separated from the optical system 140 by the second distance D2. At this time, the depth of focus F1 of the optical system 140 may be located at the peak 137 of the pin 130 . The peak 137 may be formed to have a smaller width than the central portion of the pin 130 .

상기 핀(130)이 z축을 따라 이동하며, 광학계(140)와 핀(130)의 거리가 달라질 경우, 광학계(140)의 초점심도(F1) 범위 내에 위치하는 부분이 달라질 수 있다. 광학계(140)는 상기 초점심도(F1) 범위 내에 위치하는 핀(130)을 관찰하며, 관찰된 데이터는 핀(130)의 수직도를 제어하는데 이용될 수 있다.When the pin 130 moves along the z-axis and the distance between the optical system 140 and the pin 130 changes, a portion of the optical system 140 located within the range of the depth of focus F1 may vary. The optical system 140 observes the pin 130 located within the range of the depth of focus F1, and observed data may be used to control the verticality of the pin 130.

도 9는 제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법에 관한 도면이다. 도 9의 (a)를 참조하면, 도 8의 (a)에서 광학계(140)의 초점심도(F1)가 핀(130)의 중앙부에 위치할 경우, 광학계(140)에서 나온 빛이 광학계(140)로 다시 반사되지 않아서, 핀(130)의 이미지를 제1 영역(160)으로 판별할 수 있다. 상기 제1 영역(160)은 핀(130)의 수평방향의 형태를 따라 원의 형태가 관찰될 수 있으며, 검은 이미지로 관찰될 수 있다.9 is a diagram of a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to the first embodiment. Referring to (a) of FIG. 9 , when the depth of focus F1 of the optical system 140 is located in the center of the pin 130 in FIG. 8 (a), the light emitted from the optical system 140 ), it is possible to determine the image of the pin 130 as the first area 160 . The first region 160 may have a circular shape along the horizontal direction of the pin 130 and may be observed as a black image.

도 9의 (b)를 참조하면, 도 8의 (b)에서 광학계의 초점심도(F1)가 핀(130)의 첨두(137)에 위치할 때, 광학계(140)에서 나온 빛이 핀(130)의 첨두(137)에 의해 반사되어 다시 광학계(140)로 들어오게 되며, 핀(130)의 첨두(137)의 이미지를 제2 영역(165)으로 판별할 수 있다. 따라서, 제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법은 상기 제1 영역(160)의 중심과 상기 제2 영역(165)의 중심을 비교하여 핀의 수직도를 정밀하게 제어할 수 있는 기술적 효과가 있다.Referring to (b) of FIG. 9, when the depth of focus F1 of the optical system is located at the peak 137 of the pin 130 in FIG. 8 (b), the light emitted from the optical system 140 ) is reflected by the peak 137 and enters the optical system 140 again, and the image of the peak 137 of the pin 130 can be determined as the second area 165. Therefore, the repair method of the semiconductor light emitting device for pixels according to the first embodiment compares the center of the first region 160 and the center of the second region 165 to precisely control the verticality of the pin. There is a technical effect.

도 10은 제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법에 대한 개념도이다. 도 9의 (b)를 참조했을 때, 광학계(140)의 초점심도가 핀(130)의 첨두에 위치할 경우, 핀(130)의 이미지는 제1 영역(160)의 검은 원의 이미지로 판별할 수 있으며, 핀(130)의 첨두의 이미지는 제2 영역(165)의 하얀 점의 이미지로 판별할 수 있다.10 is a conceptual diagram of a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to the first embodiment. Referring to (b) of FIG. 9, when the depth of focus of the optical system 140 is located at the peak of the pin 130, the image of the pin 130 is determined as an image of a black circle in the first area 160 The image of the peak of the pin 130 can be determined as the image of the white dot in the second area 165 .

다시 도 10의 (a)를 참조하면, 제1 영역(160)의 중심부를 지나도록 수직 선(AA')과 수평 선(BB')을 나타낼 수 있다. 또한, 제2 영역(165)의 중심부를 지나도록 수직 선(aa')과 수평 선(bb')을 나타낼 수 있다. Referring back to (a) of FIG. 10 , a vertical line AA' and a horizontal line BB' may be indicated passing through the center of the first area 160 . In addition, a vertical line aa' and a horizontal line bb' may be indicated passing through the center of the second area 165 .

핀(130)이 광학계(140) 또는 스테이지와 수직이 아닐 경우, 제1 영역(160)의 수직 선(AA')와 제2 영역(165)의 수직 선(aa')은 일치하지 않으며, 제1 영역의 수평 선(BB')와 제2 영역(165)의 수평 선(bb')는 일치하지 않을 수 있다.When the pin 130 is not perpendicular to the optical system 140 or the stage, the vertical line AA' of the first area 160 and the vertical line aa' of the second area 165 do not coincide. The horizontal line BB' of area 1 and the horizontal line bb' of area 2 165 may not coincide.

이 경우, 제1 영역(160)의 중심과 제2 영역(165)의 중심 사이의 거리를 환산하여 틸트 유닛(126)에서 가압헤드(120)의 각도를 변화시킬 수 있다. 가압헤드(120)에 장착된 핀이 스테이지와 수직이 되도록 가압헤드(120)의 각도가 변화할 수 있다. 따라서, 제1 실시예는 고배율의 광학계를 사용하지 않더라도 핀의 수직도를 정밀하게 제어할 수 있고, 초소형 반도체 발광 소자의 리페어 정확도를 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다.In this case, the angle of the pressure head 120 in the tilt unit 126 may be changed by calculating the distance between the center of the first region 160 and the center of the second region 165 . An angle of the pressing head 120 may be changed so that a pin mounted on the pressing head 120 is perpendicular to the stage. Accordingly, the first embodiment has technical effects in that the verticality of the pin can be precisely controlled without using a high-magnification optical system and the repair accuracy of the subminiature semiconductor light emitting device can be improved.

도 10의(b)를 참조하면, 제1 영역(160)의 중심과 제2 영역(165)의 중심이 일치하는 순간을 나타낸 도면이다. 두 영역이 동심원으로 형성되는 경우, 핀은 스테이지에 수직으로 위치한 것을 의미할 수 있다.Referring to (b) of FIG. 10 , it is a view showing the moment when the center of the first area 160 coincides with the center of the second area 165 . When the two regions are formed as concentric circles, the pins may mean that they are positioned perpendicularly to the stage.

핀이 스테이지에 수직으로 위치하면 핀이 반도체 발광 소자의 재조립 및 제거 시, 반도체 발광 소자와 정확히 수직관계를 유지하며, 반도체 발광 소자가 초소형으로 형성되더라도 반도체 발광 소자 상면의 중심에 접할 수 있다. 이에 따라, 제1 실시예는 반도체 발광 소자의 재조립 및 제거 공정 시 핀의 휘어짐과 반도체 발광 소자의 손상을 방지할 수 있으며, 반도체 발광 소자가 초소형으로 형성되더라도 재조립율과 제거율을 각각 향상시킬 수 있는 복합적 기술적 효과가 있다.When the pins are positioned vertically on the stage, the pins maintain an exact vertical relationship with the semiconductor light emitting devices when the semiconductor light emitting devices are reassembled and removed, and can come into contact with the center of the upper surface of the semiconductor light emitting devices even if the semiconductor light emitting devices are formed in a very small size. Accordingly, the first embodiment can prevent pin bending and damage to the semiconductor light emitting device during reassembly and removal processes of the semiconductor light emitting device, and can improve the reassembly rate and removal rate, respectively, even if the semiconductor light emitting device is formed in a very small size. There are complex technical effects that exist.

도 11은 제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법의 개념도이다. 반도체 발광 소자 조립 과정에서 스테이지(110)에는 조립되지 않고 비어 있는 조립 홀이 존재할 수 있으며, 상기 조립 홀에 반도체 발광 소자를 별도로 전사해야 할 필요가 있다.11 is a conceptual diagram of a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to the first embodiment. In the process of assembling the semiconductor light emitting device, an unassembled, empty assembly hole may exist in the stage 110, and it is necessary to separately transfer the semiconductor light emitting device to the assembly hole.

도 11을 참조하면, 스테이지(110)에는 반도체 발광 소자가 조립되며, 회로 패턴이 형성되어 있을 수 있다. 스테이지(110) 상에는 필름(115)이 위치하며, 필름(115)에는 스테이지(110)로 전사될 반도체 발광 소자(150)가 부착될 수 있다.Referring to FIG. 11 , a semiconductor light emitting device may be assembled on the stage 110 and a circuit pattern may be formed thereon. A film 115 is positioned on the stage 110 , and a semiconductor light emitting device 150 to be transferred to the stage 110 may be attached to the film 115 .

필름(115) 상에는 핀(130)이 장착된 가압헤드(120)가 위치하며, 가압헤드(120)가 상기 필름(115) 방향으로 압력을 가하면서, 필름(115)으로부터 반도체 발광 소자(150)를 떼어내고 스테이지(110) 상으로 전사할 수 있다.On the film 115, a pressure head 120 equipped with a pin 130 is positioned, and while the pressure head 120 applies pressure in the direction of the film 115, the semiconductor light emitting device 150 is removed from the film 115. can be removed and transferred onto the stage 110.

이때, 마이크로-LED의 경우 수십 um이하로 형성되고, 핀의 수직도가 정밀하게 설정되지 못하면, 반도체 발광 소자를 전사할 때 핀과 반도체 발광 소자의 중심으로부터 오차가 크게 발생하여 정밀한 압력을 가하지 못하며, 반도체 발광 소자의 손상을 야기할 수 있는 문제점이 있다. 따라서, 제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법은 핀(130)의 수직도를 정밀하게 제어하여 반도체 발광 소자를 전사할 때 전사율을 높일 수 있는 기술적 효과가 있다.At this time, in the case of micro-LED, it is formed to be less than several tens of μm, and if the verticality of the pin is not precisely set, a large error occurs from the center of the pin and the semiconductor light emitting element when transferring the semiconductor light emitting element, so precise pressure cannot be applied. , there is a problem that can cause damage to the semiconductor light emitting device. Accordingly, the method for repairing the semiconductor light emitting device for pixels according to the first embodiment has a technical effect of increasing the transfer rate when transferring the semiconductor light emitting device by precisely controlling the verticality of the fin 130 .

도 12는 제1 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법의 개념도이다. 도 12를 참조하면, 스테이지(110)상에 전사되어 있는 반도체 발광 소자(150)가 불량인 경우, 상기 반도체 발광 소자(150)를 제거하고 양품의 반도체 발광 소자를 재조립할 필요가 있다.12 is a conceptual diagram of a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to the first embodiment. Referring to FIG. 12 , when the semiconductor light emitting device 150 transferred on the stage 110 is defective, it is necessary to remove the semiconductor light emitting device 150 and reassemble a good semiconductor light emitting device.

이 때, 가압헤드(120)에 장착되어 있는 핀(130)이 상기 반도체 발광 소자(150)와 수직이 아닐 경우, 상기 반도체 발광 소자(150)가 상기 핀(130)에 대해 접착력이 감소하여, 핀(130)에 의해 제거되지 않을 수 있다. 또한, 이 과정에서 반도체 발광 소자(150)가 손상되어 잔여물질이 조립 홀에 남아있을 수 있는 문제점이 있다.At this time, when the pin 130 mounted on the pressure head 120 is not perpendicular to the semiconductor light emitting element 150, the adhesive strength of the semiconductor light emitting element 150 to the pin 130 is reduced, It may not be removed by pin 130 . In addition, there is a problem in that the semiconductor light emitting device 150 is damaged during this process and residual materials may remain in the assembly hole.

따라서, 제1 실시예는 핀(130)을 반도체 발광 소자에 수직이 되도록 보정하여, 반도체 발광 소자 제거 시 제거율을 향상시키고, 핀과 반도체 발광소자의 손상을 방지할 수 있는 기술적 효과가 있다.Therefore, the first embodiment has a technical effect of improving the removal rate when removing the semiconductor light emitting device and preventing damage to the fin and the semiconductor light emitting device by correcting the fin 130 to be perpendicular to the semiconductor light emitting device.

또한, 핀(130)의 첨두에는 접착 물질(135)이 도포될 수 있다. 상기 접착 물질은 상기 핀(130) 보다 반도체 발광 소자(150)에 대한 접착력이 강하며, 탄성 재료를 포함할 수 있다. 이에 따라, 반도체 발광 소자(150) 제거 시 제거율을 더욱 향상시키고, 핀과 반도체 발광소자의 손상을 방지할 수 있다.Also, an adhesive material 135 may be applied to the tip of the pin 130 . The adhesive material has stronger adhesion to the semiconductor light emitting device 150 than the pin 130 and may include an elastic material. Accordingly, when removing the semiconductor light emitting device 150, the removal rate may be further improved, and damage to the fins and the semiconductor light emitting device may be prevented.

도 13은 제2 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법의 개념도이다.13 is a conceptual diagram of a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to a second embodiment.

도 13을 참조하면, 제2 광학계(140b)는 가압헤드(120)와 핀(130)의 수평방향에 위치할 수 있다. 또한, 제2 광학계(140b)는 스테이지(110)와 수직관계에 위치할 수 있다. 광학계(140)는 중심 측정알고리즘에 의해서 핀(130)에서 가압헤드(120)에 가까운 부분의 중심과 첨두의 중심을 파악할 수 있으며, 두 중심이 수직관계에 위치하는지 데이터를 획득할 수 있다. 두 중심을 연결하는 가상의 선이 기울어져 있을 경우, 기울어진 각도 데이터를 바탕으로 틸트 유닛이 가압헤드(120)의 각도를 변경하여 핀(130)이 스테이지(110)와 수직관계가 되도록 핀(130)의 각도가 조절될 수 있다.Referring to FIG. 13 , the second optical system 140b may be positioned in a horizontal direction between the pressure head 120 and the pin 130 . Also, the second optical system 140b may be positioned in a vertical relationship with the stage 110 . The optical system 140 can determine the center of the pin 130 close to the pressure head 120 and the center of the peak by the center measurement algorithm, and can obtain data whether the two centers are located in a vertical relationship. When an imaginary line connecting the two centers is inclined, the tilt unit changes the angle of the pressure head 120 based on the inclined angle data so that the pin 130 is in a vertical relationship with the stage 110. 130) can be adjusted.

이 때, 제2 광학계(140b)는 xy평면 상에서 핀(130)을 중심으로 복수 개가 위치할 수 있다. 또한, 제2 광학계(140b)는 xy평면 상에서 핀(130)을 중심으로 회전하며 핀(130)의 기울어짐을 파악할 수 있도록 배치될 수 있다. 따라서, 제2 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법은 다각도에서 핀(130)의 기울어짐을 파악하고 정밀하게 수직으로 조절할 수 있는 기술적 효과가 있다.At this time, a plurality of second optical systems 140b may be located around the pin 130 on the xy plane. In addition, the second optical system 140b rotates around the pin 130 on the xy plane and may be arranged to recognize the inclination of the pin 130 . Therefore, the repair method of the semiconductor light emitting device for pixels according to the second embodiment has a technical effect of recognizing the inclination of the pin 130 from various angles and precisely adjusting it vertically.

도 14는 제3 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법의 개념도이다.14 is a conceptual diagram of a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to a third embodiment.

도 14를 참조하면, 제3 광학계(140c)는 렌즈가 핀(130)의 방향과 평행하도록 위치할 수 있다. 제3 광학계(140c)는 반사체(145)를 통해서 핀(130)의 기울어짐을 관측할 수 있다. 제3 광학계(140c)는 중심 측정알고리즘에 의해서 핀(130)에서 가압헤드(120)에 가까운 부분의 중심과 첨두의 중심을 파악할 수 있으며, 두 중심이 수직관계에 위치하는지 데이터를 획득할 수 있다. 두 중심을 연결하는 가상의 선이 기울어져 있을 경우, 기울어진 각도 데이터를 바탕으로 틸트 유닛이 가압헤드(120)의 각도를 변경하여 핀(130)이 스테이지(110)와 수직관계가 되도록 핀(130)의 각도가 조절될 수 있다. 또한, 가압헤드(120)를 회전시키며, 다각도로 핀(130)의 기울어짐을 관측할 수 있다.Referring to FIG. 14 , the lens of the third optical system 140c may be positioned parallel to the direction of the pin 130 . The third optical system 140c may observe the inclination of the pin 130 through the reflector 145 . The third optical system 140c can grasp the center of the pin 130 close to the pressure head 120 and the center of the peak by the center measurement algorithm, and can obtain data whether the two centers are located in a vertical relationship. . When an imaginary line connecting the two centers is inclined, the tilt unit changes the angle of the pressure head 120 based on the inclined angle data so that the pin 130 is in a vertical relationship with the stage 110. 130) can be adjusted. In addition, the pressure head 120 is rotated, and the inclination of the pin 130 can be observed from various angles.

따라서, 제3 실시예에 따른 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법은 제3 광학계(140c)가 xy평면에 위치하지 않아도 되어 화소용 반도체 발광소자의 리페어 장치를 소형화할 수 있으며, 다각도에서 핀(130)의 기울어짐을 파악하고 정밀하게 수직으로 조절할 수 있는 기술적 효과가 있다.Therefore, in the repair method of the semiconductor light emitting device for pixels according to the third embodiment, the third optical system 140c does not have to be located on the xy plane, so that the repair device for the semiconductor light emitting device for pixels can be miniaturized, and the pin 130 can be viewed from multiple angles. ) has the technical effect of identifying the inclination and precisely adjusting it vertically.

도 15는 제4 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법에 대한 개념도이다. 도 15에서, 필름(115)에 반도체 발광소자(150)가 장착된 모습을 확대하면, 필름(115) 아래에 접착층(117)이 도포되며, 상기 접착층(117)에 반도체 발광소자(150)가 부착되어 있다. 상기 필름(115)은 광 투과가 가능하며, 유동성을 가질 수 있다. 15 is a conceptual diagram of a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to a fourth embodiment. In FIG. 15 , when the semiconductor light emitting device 150 is mounted on the film 115 when enlarged, an adhesive layer 117 is applied under the film 115, and the semiconductor light emitting device 150 is applied to the adhesive layer 117. attached. The film 115 may transmit light and may have fluidity.

상기 필름(115)과 접착층(117)은 평평하지 않고 불 균일한 두께를 가질 수 있으며, 이에 따라, 복수의 반도체 발광소자(150)의 z축 높이는 불 균일할 수 있다. 복수의 반도체 발광소자(150)의 z축 높이가 제 각각일 경우, 리페어 공정 시, 핀으로 필름을 누를 때, 가압량에 차이가 발생하게 되며, 필름(115)으로부터 원활하게 떼어내지는 반도체 발광 소자가 존재하고, 가압량이 부족하여 잘 떼어내지지 않는 반도체 발광 소자가 존재하게 되며, 이는 공정 수율의 감소로 이어질 수 있다.The film 115 and the adhesive layer 117 may have non-flat and non-uniform thicknesses, and thus, the z-axis heights of the plurality of semiconductor light emitting devices 150 may be non-uniform. When the z-axis heights of the plurality of semiconductor light emitting devices 150 are different, during the repair process, when pressing the film with a pin, a difference occurs in the pressing amount, and the semiconductor light emitting device is smoothly detached from the film 115 There exists, and there is a semiconductor light emitting device that is not easily detached due to an insufficient amount of pressing, which may lead to a decrease in process yield.

상기 문제점을 해결하기 위해, 제4 실시예는 반도체 발광소자들 각각의 z축 높이를 파악하고, 이에 알맞은 가압조건을 변경하여 리페어 공정 시 반도체 발광 소자의 재조립률을 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다. In order to solve the above problem, the fourth embodiment has a technical effect of improving the reassembly rate of the semiconductor light emitting device during the repair process by identifying the z-axis height of each of the semiconductor light emitting devices and changing the pressurization conditions suitable for this. there is.

도 16은 제4 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법에 대한 개념도이다. 도 16을 참조하면, 필름(115)에 접착층(117)이 도포되며, 상기 접착층(117)에 복수 개의 반도체 발광소자(150)가 부착될 수 있다. 상기 복수 개의 반도체 발광 소자(150)는 제1, 제2, 제3 및 제4 반도체 발광 소자(151, 152, 153, 154)들을 포함할 수 있으며, 더 많은 수의 반도체 발광 소자들을 포함할 수 있다. 16 is a conceptual diagram of a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel according to a fourth embodiment. Referring to FIG. 16 , an adhesive layer 117 is applied to the film 115, and a plurality of semiconductor light emitting devices 150 may be attached to the adhesive layer 117. The plurality of semiconductor light emitting devices 150 may include first, second, third, and fourth semiconductor light emitting devices 151, 152, 153, and 154, and may include a larger number of semiconductor light emitting devices. there is.

상기 필름(115)과 접착층(117)은 유동성을 가지며, 평평하지 않을 수 있다. 이에 따라, 제1 반도체 발광 소자(151), 제2 반도체 발광 소자(152), 제3 반도체 발광 소자(153) 및 제4 반도체 발광 소자(150)의 높이에 대한 z축의 위치는 서로 다를 수 있다. The film 115 and the adhesive layer 117 have fluidity and may not be flat. Accordingly, positions of the z-axis relative to the heights of the first semiconductor light emitting device 151, the second semiconductor light emitting device 152, the third semiconductor light emitting device 153, and the fourth semiconductor light emitting device 150 may be different from each other. .

상기 필름(115) 상에는 제4 광학계(140d)가 위치할 수 있다. 상기 제4 광학계(140d)는 초점심도(F2)를 가지며, 초점심도(F2) 내에 위치한 복수 개의 반도체 발광소자들의 선명한 이미지를 획득할 수 있다. 상기 초점심도(F2)의 경계 밖에 위치한 반도체 발광소자들은 흐릿한 이미지를 획득하거나, 이미지를 획득할 수 없게 된다.A fourth optical system 140d may be positioned on the film 115 . The fourth optical system 140d has a depth of focus F2 and can obtain clear images of the plurality of semiconductor light emitting devices located within the depth of focus F2. Semiconductor light emitting devices positioned outside the boundary of the depth of focus F2 acquire a blurry image or cannot acquire an image.

제4 광학계(140d)가 선명한 이미지를 획득한 반도체 발광 소자들에 대해서 x, y, z의 좌표 값의 데이터를 파악할 수 있다.The fourth optical system 140d may determine data of x, y, and z coordinate values of the semiconductor light emitting devices for which clear images have been obtained.

상기 제4 광학계(140d)는 복수 개의 반도체 발광소자들의 선명한 이미지를 파악하기 위기 위해 z축 방향을 따라 위, 아래로 이동할 수 있다. 또한, 디스플레이 패널의 한 영역의 반도체 발광 소자들의 위치와 높이 데이터를 모두 획득했다면, 디스플레이 패널의 다른 영역에서 상기 과정을 반복할 수 있다.The fourth optical system 140d may move up and down along the z-axis direction to capture a clear image of the plurality of semiconductor light emitting devices. In addition, if both position and height data of the semiconductor light emitting devices in one area of the display panel are obtained, the above process may be repeated in another area of the display panel.

도 17은 도 16의 제4 광학계(140d)에서 반도체 발광소자들을 관측한 개념도이다. 도 17의 (a)는 제1 높이에서 광학계로 반도체 발광소자들을 관측한 도면이며, (b)는 제2 높이에서 광학계로 반도체 발광소자들을 관측한 도면이다.FIG. 17 is a conceptual view of semiconductor light emitting devices observed in the fourth optical system 140d of FIG. 16 . (a) of FIG. 17 is a view of semiconductor light emitting devices observed through the optical system at a first height, and (b) is a view of semiconductor light emitting devices observed through the optical system at a second height.

도 16을 참조하면, 제1 반도체 발광 소자(151), 제2 반도체 발광 소자(152), 제3 반도체 발광 소자(153), 제4 반도체 발광 소자(150)의 z축의 위치는 서로 다를 수 있다.Referring to FIG. 16 , the z-axis positions of the first semiconductor light emitting device 151, the second semiconductor light emitting device 152, the third semiconductor light emitting device 153, and the fourth semiconductor light emitting device 150 may be different from each other. .

다시 도 17의 (a)를 참조하면, 예를 들어 광학계(140)의 초점심도(F2)가 제1 높이에 있을 때, 제1 반도체 발광 소자(151)는 선명하게 보일 수 있고, 제2 반도체 발광 소자(152)는 흐리게 보일 수 있고, 제3 반도체 발광 소자(153)는 안 보일 수 있으며, 제4 반도체 발광 소자(154)는 선명하게 보일 수 있다.Referring back to (a) of FIG. 17 , for example, when the depth of focus F2 of the optical system 140 is at the first height, the first semiconductor light emitting element 151 can be clearly seen and the second semiconductor light emitting device 151 can be clearly seen. The light emitting device 152 may be dimly visible, the third semiconductor light emitting device 153 may not be visible, and the fourth semiconductor light emitting device 154 may be clearly visible.

이 경우, 제4 광학계(140d)에서 선명하게 보이는 제1 반도체 발광 소자(151) 및 제4 반도체 발광 소자(154)의 x, y, z의 좌표 값에 대한 데이터를 저장할 수 있다.In this case, data on the x, y, and z coordinate values of the first semiconductor light emitting device 151 and the fourth semiconductor light emitting device 154 that are clearly visible in the fourth optical system 140d may be stored.

그리고 도 17의 (b)를 참조하면, 예를 들어 제4 광학계(140d)의 초점심도(F2)가 제2 높이에 있을 때, 제1 반도체 발광 소자(151)는 흐리게 보일 수 있고, 제2 반도체 발광 소자(152)는 선명하게 보일 수 있고, 제3 반도체 발광 소자(153)는 선명하게 보일 수 있으며, 제4 반도체 발광 소자(154)는 흐리게 보일 수 있다.Referring to (b) of FIG. 17 , for example, when the depth of focus F2 of the fourth optical system 140d is at the second height, the first semiconductor light emitting element 151 may appear blurred, and the second The semiconductor light emitting device 152 may be clearly visible, the third semiconductor light emitting device 153 may be clearly visible, and the fourth semiconductor light emitting device 154 may be dimly visible.

이 경우, 광학계(140)에서 선명하게 보이는 제2 반도체 발광 소자(152) 및 제3 반도체 발광 소자(153)의 x, y, z의 좌표 값에 대한 데이터를 저장할 수 있다.In this case, data on x, y, and z coordinate values of the second semiconductor light emitting device 152 and the third semiconductor light emitting device 153 that are clearly visible in the optical system 140 may be stored.

상기 제4 광학계(140d)는 제1 높이와 제2 높이 또는 다른 높이에서 복수 개의 반도체 발광 소자들의 x, y, z의 좌표 값을 파악할 수 있다. The fourth optical system 140d may grasp the x, y, and z coordinate values of the plurality of semiconductor light emitting devices at the first height and the second height or different heights.

따라서, 제4 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법은 제4 광학계(140d)의 높이를 변화시킴에 따라서, 균일하지 않게 위치한 반도체 발광소자의 위치와 높이를 파악할 수 있는 기술적 효과가 있다. 이에 따라, 높이가 제 각각인 반도체 발광 소자들의 높이에 맞도록 가압 조건을 변경하여 전사율을 향상시킬 수 있는 특별한 기술적 효과가 있다.Therefore, the repair method of the semiconductor light emitting device for pixels according to the fourth embodiment has a technical effect of determining the location and height of non-uniformly located semiconductor light emitting devices by changing the height of the fourth optical system 140d. . Accordingly, there is a special technical effect of improving the transfer rate by changing the pressing conditions to match the heights of the semiconductor light emitting devices having different heights.

도 18은 제4 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법에 관한 흐름도를 나타낸 것이다.18 is a flowchart illustrating a method of repairing a semiconductor light emitting device for a pixel according to a fourth embodiment.

도 18을 참조하면, 복수 개의 반도체 발광소자가 부착된 필름 위에 광학계가 위치할 수 있다. 반도체 발광소자는 접착층에 의해 필름에 부착될 수 있으며, 상기 접착층과 필름은 유동성을 가지고 있어서 평평하지 않을 수 있다. 복수 개의 반도체 발광 소자는 평평하지 않은 접착층에 부착되어 있기 때문에, 각각 다른 높이에 위치할 수 있다. 필름은 투과성 물질을 포함하며, 상기 광학계는 레이저 포커싱 또는 이미지 포커싱 등으로 필름 면에 포커싱하면서, 필름 위에서 z축으로 이동하게 된다. Referring to FIG. 18 , an optical system may be positioned on a film to which a plurality of semiconductor light emitting devices are attached. The semiconductor light emitting device may be attached to the film by an adhesive layer, and the adhesive layer and the film may not be flat because they have fluidity. Since the plurality of semiconductor light emitting devices are attached to the non-flat adhesive layer, they may be positioned at different heights. The film includes a transmissive material, and the optical system moves in the z-axis on the film while focusing on the film surface by laser focusing or image focusing.

이어서, 상기 광학계는 초점심도(F2)를 가지며, 상기 초점심도(F2)만큼 필름을 향해서 제1 높이에 위치할 수 있다. 이후 광학계는 상기 제1 높이에서 z축을 기준으로 +1um 이동할 수 있다. 상기 광학계가 이동한 후, 반도체 발광소자의 이미지를 측정하여, 반도체 발광 소자의 선명도와 유사도를 확인할 수 있다. 반도체 발광 소자로 추정되는 물체에 대해서는 x, y의 위치를 기억할 수 있다.Subsequently, the optical system has a depth of focus F2 and may be positioned at a first height toward the film by the depth of focus F2. Thereafter, the optical system may move +1 um based on the z-axis at the first height. After the optical system is moved, an image of the semiconductor light emitting device may be measured to check the sharpness and similarity of the semiconductor light emitting device. For an object presumed to be a semiconductor light emitting device, the x and y positions can be stored.

그리고 상기 광학계는 다시 z축을 기준으로 +1um 이동할 수 있다. 이동한 후, 선명하게 관측된 반도체 발광 소자의 x, y, z의 좌표 값 파악한 후 데이터를 저장할 수 있다. 계속해서 z축을 기준으로 +1um씩 이동하며, 상기 제1 높이에서 상기 초점심도(F2)만큼 위쪽으로 이동이 끝나면, 모든 반도체 발광 소자의 선명한 이미지를 획득하여 반도체 발광 소자의 x, y, z의 좌표를 파악할 수 있게 된다.Also, the optical system may move +1 um based on the z-axis. After moving, data may be stored after determining the coordinate values of x, y, and z of the clearly observed semiconductor light emitting device. It continues to move by +1 um based on the z-axis, and when the movement from the first height to the top by the depth of focus (F2) is completed, a clear image of all semiconductor light emitting devices is obtained, and the x, y, and z of the semiconductor light emitting device are obtained. coordinates can be identified.

따라서, 각각의 반도체 발광 소자의 높이에 알맞은 가압량을 가압헤드에 적용가능하며 이에 따라, 반도체 발광 소자의 전사율을 높일 수 있는 기술적 효과가 있다.Therefore, it is possible to apply a pressing amount suitable for the height of each semiconductor light emitting device to the pressing head, and thus, there is a technical effect of increasing the transfer rate of the semiconductor light emitting device.

따라서, 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법은 칩 조립 시 조립율을 높일 수 있는 기술적 효과가 있다.Therefore, the repair method of the semiconductor light emitting device for pixels according to the embodiment has a technical effect of increasing the assembly rate when assembling a chip.

또한, 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법은 칩 제거 시 제거율을 높일 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the method for repairing a semiconductor light emitting device for a pixel according to the embodiment has a technical effect of increasing a removal rate during chip removal.

또한, 실시예는 고배율의 광학계를 사용하지 않더라도 초소형 반도체 발광 소자의 리페어 정확도를 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the embodiment has a technical effect of improving repair accuracy of the subminiature semiconductor light emitting device even without using a high-magnification optical system.

또한, 실시예는 가압 헤드에 장착된 핀의 휨을 방지할 수 있으며, 핀의 교체 빈도를 저감할 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the embodiment has a technical effect of preventing bending of the pins mounted on the pressure head and reducing the replacement frequency of the pins.

또한, 실시예는 핀의 첨두에 접착 물질을 도포하여 반도체 발광 소자와의 접착율을 높여 칩 제거 시 제거율을 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the embodiment has a technical effect of improving the removal rate during chip removal by increasing the adhesion rate with the semiconductor light emitting device by applying an adhesive material to the tip of the pin.

또한, 실시예는 광학계가 핀의 하부, 측면, 상부에 위치하더라도 핀의 수직도를 정밀하게 제어할 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the embodiment has a technical effect of precisely controlling the verticality of the pin even if the optical system is located at the bottom, side, or top of the pin.

또한, 실시예에 따른 화소용 반도체 발광소자의 리페어 방법은 무작위로 배치되어 있는 반도체 발광 소자들의 위치를 파악할 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the method for repairing a semiconductor light emitting device for a pixel according to the embodiment has a technical effect of being able to locate randomly arranged semiconductor light emitting devices.

또한, 실시예는 z축 위치가 서로 다른 반도체 발광 소자들의 z축 위치를 파악할 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the embodiment has a technical effect of determining the z-axis positions of semiconductor light emitting elements having different z-axis positions.

또한, 실시예는 반도체 발광 소자들의 z축 위치에 맞게 가압 조건을 변경하여 공정 수율을 향상시킬 수 있는 기술적 효과가 있다.In addition, the embodiment has a technical effect of improving the process yield by changing the pressurization conditions according to the z-axis position of the semiconductor light emitting devices.

상기의 상세한 설명은 모든 면에서 제한적으로 해석되어서는 아니되고 예시적인 것으로 고려되어야 한다. 실시예의 범위는 첨부된 청구항의 합리적 해석에 의해 결정되어야 하고, 실시예의 등가적 범위 내에서의 모든 변경은 실시예의 범위에 포함된다.The above detailed description should not be construed as limiting in all respects and should be considered illustrative. The scope of the embodiments should be determined by reasonable interpretation of the appended claims, and all changes within the equivalent range of the embodiments are included in the scope of the embodiments.

20: 구동 회로
21: 데이터 구동부
22: 타이밍 제어부
100: 디스플레이 장치
PX: 화소
PX1: 제1 서브 화소
PX2: 제2 서브 화소
PX3: 제3 서브 화소
Cst: 커패시터
DT: 구동 트랜지스터
A1: 제1 패널 영역
201, 202: 조립 배선
110: 패널
115: 필름
117: 접착층
120: 가압헤드
121: 제1 가압헤드
122: 제2 가압헤드
123: 제3 가압헤드
125: 스테이지
126: 틸트 유닛
127: 제1 틸트 유닛
128: 제2 틸트 유닛
129: 제3 틸트 유닛
130: 핀
131: 제1 핀
132: 제2 핀
133: 제3 핀
135: 탄성물질
137: 첨두
140: 광학계
145: 반사체
150: 반도체 발광 소자
151: 제1 반도체 발광 소자
152: 제2 반도체 발광 소자
153: 제3 반도체 발광 소자
154: 제4 반도체 발광 소자
160: 제1 영역
165: 제2 영역
20: drive circuit
21: data driving unit
22: timing control unit
100: display device
PX: pixels
PX1: first sub-pixel
PX2: second sub-pixel
PX3: third sub-pixel
Cst: capacitor
DT: drive transistor
A1: first panel area
201, 202: assembly wiring
110: panel
115: film
117: adhesive layer
120: press head
121: first pressure head
122: second pressure head
123: third pressure head
125: stage
126: tilt unit
127: first tilt unit
128: second tilt unit
129: third tilt unit
130: pin
131: first pin
132: second pin
133: third pin
135: elastic material
137: peak
140: optical system
145: reflector
150: semiconductor light emitting element
151: first semiconductor light emitting element
152: second semiconductor light emitting element
153: third semiconductor light emitting element
154: fourth semiconductor light emitting element
160: first area
165 second area

Claims (10)

광학계 상에 핀을 구비하는 가압 헤드를 배치하는 단계;
상기 가압 헤드를 제1 높이에서 제2 높이로 이동시키는 단계; 및
상기 광학계로 상기 핀의 이미지를 상기 제1 높이에서부터 상기 제2 높이까지 관측하는 단계;를 포함하며,
상기 제1 높이에서 상기 핀의 제1 이미지는 제1 영역을 나타내며,
상기 제2 높이에서 상기 핀의 제2 이미지는 제2 영역을 나타내고,
상기 제1 영역의 중심과 상기 제2 영역의 중심이 일치되도록 상기 가압 헤드를 틸트하는 단계를 포함하는, 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법.
disposing a pressure head having pins on an optical system;
moving the pressure head from a first height to a second height; and
Observing the image of the pin from the first height to the second height with the optical system; including,
the first image of the pin at the first height represents a first area;
a second image of the pin at the second height represents a second area;
and tilting the pressure head so that a center of the first region coincides with a center of the second region.
제1항에 있어서,
상기 제1 높이는 상기 광학계의 초점심도가 상기 핀의 중심부에 위치하도록 하는 높이이며,
상기 제2 높이는 상기 광학계의 초점심도가 상기 핀의 첨두에 위치하도록 하는 높이인, 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법.
According to claim 1,
The first height is such that the depth of focus of the optical system is located at the center of the pin,
The second height is a height at which the depth of focus of the optical system is located at the peak of the pin, the repair method of the semiconductor light emitting device for a pixel.
제1항에 있어서,
상기 가압 헤드를 틸트한 이후에 상기 핀으로 반도체 발광 소자를 가압하는 단계를 더 포함하는, 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법.
According to claim 1,
The method of repairing a semiconductor light emitting device for a pixel, further comprising pressing the semiconductor light emitting device with the pin after tilting the pressing head.
제3항에 있어서,
상기 핀은 상기 반도체 발광 소자와 수직 관계인 것을 특징으로 하는, 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법.
According to claim 3,
The method of repairing a semiconductor light emitting device for a pixel, characterized in that the fin is in a vertical relationship with the semiconductor light emitting device.
제1항에 있어서,
상기 제1 영역 및 제2 영역은 동심원인 것을 특징으로 하는, 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법.
According to claim 1,
The repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel, characterized in that the first region and the second region are concentric circles.
제1항에 있어서,
상기 가압 헤드 및 상기 핀은 복수개를 포함하며,
상기 가압 헤드를 틸트하는 단계는 상기 복수개의 가압 헤드 중 적어도 어느 하나를 틸트하는, 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법.
According to claim 1,
The pressure head and the pin include a plurality,
In the step of tilting the pressure head, at least one of the plurality of pressure heads is tilted.
필름에 접착되어 있는 복수의 반도체 발광 소자 상에 광학계를 제3 높이에 배치하는 단계;
상기 광학계로 상기 복수의 반도체 발광 소자 중 적어도 어느 하나의 선명한 이미지를 획득하는 단계;
상기 선명한 이미지에 해당하는 상기 복수의 반도체 발광 소자의 적어도 어느 하나의 z축 높이에 대한 데이터를 획득하는 단계;
상기 광학계를 z축 방향으로 소정의 높이만큼 이동하는 단계; 및
상기 광학계로 상기 복수의 반도체 발광 소자 중 적어도 다른 어느 하나의 선명한 이미지를 획득하는 단계;를 포함하는, 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법.
arranging an optical system at a third height on a plurality of semiconductor light emitting devices adhered to the film;
obtaining a clear image of at least one of the plurality of semiconductor light emitting devices with the optical system;
obtaining data on a z-axis height of at least one of the plurality of semiconductor light emitting devices corresponding to the clear image;
moving the optical system by a predetermined height in the z-axis direction; and
Acquiring a clear image of at least one other of the plurality of semiconductor light emitting devices with the optical system; including, a repair method of a semiconductor light emitting device for a pixel.
제7항에 있어서,
상기 광학계가 z축 방향으로 소정의 높이만큼 이동하는 단계는, 상기 광학계가 제4 높이에 위치할 때까지 반복되며,
상기 제3 높이와 상기 제4 높이의 차이는 상기 광학계의 초점심도 범위의 2배 이상인, 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법.
According to claim 7,
The step of moving the optical system by a predetermined height in the z-axis direction is repeated until the optical system is located at the fourth height,
A difference between the third height and the fourth height is at least twice the depth of focus range of the optical system.
제8항에 있어서,
상기 복수의 반도체 발광 소자는 상기 광학계의 초점심도 범위 내에 위치하는, 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법.
According to claim 8,
The plurality of semiconductor light emitting elements are located within the depth of focus range of the optical system, a method of repairing a semiconductor light emitting element for a pixel.
제7항에 있어서,
상기 복수의 반도체 중 적어도 어느 하나의 z축 높이에 대한 데이터를 획득한 후, 상기 z축 높이에 대응되도록 가압 조건을 변경하는 단계를 더 포함하는, 화소용 반도체 발광 소자의 리페어 방법.
According to claim 7,
After obtaining data on the z-axis height of at least one of the plurality of semiconductors, the method of repairing a semiconductor light emitting device for a pixel further comprising the step of changing a pressing condition to correspond to the z-axis height.
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