KR20230054908A - 근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는 데 사용하기 위한 콘택트 렌즈 및 관련 방법 - Google Patents

근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는 데 사용하기 위한 콘택트 렌즈 및 관련 방법 Download PDF

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Abstract

근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는 데 사용하기 위한 콘택트 렌즈(101)와, 이러한 렌즈(101)의 제조 및 사용 방법. 렌즈(101)는 광학 구역(102) 및 렌즈(101)의 회전을 제어하도록 구성되는 두께 변동을 갖는 주변 구역(104)을 포함한다. 광학 구역(102)은 원거리 점 물체로부터 원위 초점 표면으로 광을 포커싱하는 기본 도수를 갖는 중심 영역(105)을 포함하고, 상기 광은 근위 초점 표면을 통과할 때 블러 원을 형성한다. 중심 영역(105)을 둘러싸는 환형 영역(103)은, 환형 영역(103)의 75% 미만에 걸쳐 있고 0.5 D 이상의 추가 도수를 갖는 추가 도수 영역(107)을 포함한다. 추가 도수 영역의 곡률 중심을 정의하는 점은 환형의 세그먼트를 형성한다. 추가 도수 영역(107)은 원거리 점 물체로부터의 광을 포커싱하여 근위 초점 표면에 포커싱된 원호를 형성한다.

Description

근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는 데 사용하기 위한 콘택트 렌즈 및 관련 방법
본 개시내용은 망막 영역에서의 치료를 표적화함으로써 근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는 데 사용하기 위한 콘택트 렌즈에 관한 것이다. 본 개시내용은 또한 이러한 렌즈를 제조하는 방법 및 이러한 렌즈를 사용하는 방법에 관한 것이다.
근시(근시안)는 어린이와 성인을 비롯하여 상당한 수의 사람에게서 발생한다. 근시 눈은 멀리 있는 물체로부터 유입되는 광을 망막 전방의 위치에 포커싱한다. 따라서, 광은 망막 전방의 평면을 향해 수렴하고 망막을 향해 발산하며, 망막에 도달하면 초점이 맞지 않는다. 종래의 근시 교정용 렌즈(예를 들어, 안경 렌즈 및 콘택트 렌즈)는 멀리 있는 물체로부터 유입되는 광이 눈에 도달하기 전에 수렴을 감소시키거나(콘택트 렌즈의 경우) 발산하게 하여(안경 렌즈의 경우), 초점의 위치가 망막 상으로 이동하게 된다.
어린이나 젊은이의 근시 진행은 부족 교정(under-correcting)에 의해, 즉, 초점을 망막을 향해 이동시키지만 완전히 망막 상으로 이동시키지는 않음으로써 늦추거나 방지할 수 있다고 수십 년 전에 제안되었다. 그러나, 이러한 접근법은 임의의 근시를 완전히 교정하는 렌즈로 획득된 시력에 비교하여 원거리 시력이 저하될 수밖에 없다. 더욱이, 부족 교정이 진행 중인 근시를 제어하는 데 효과적이라는 것은 이제 의심스러운 것으로 간주된다. 보다 최근의 접근법은 원거리 시력의 완전한 교정을 제공하는 영역 및 근시 디포커스를 부족 교정하거나 의도적으로 유도하는 영역을 모두 갖는 렌즈를 제공하는 것이다. 이 접근법은 양호한 원거리 시력을 제공하면서 어린이나 젊은이의 근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦출 수 있다고 제안되었다. 원거리 시력의 완전 교정을 제공하는 영역은 일반적으로 기본 도수 영역이라고 지칭되며, 부족 교정을 제공하거나 근시 디포커스를 의도적으로 유도하는 영역은 일반적으로 추가 도수 영역 또는 근시 디포커스 영역(굴절 도수가 원거리 영역의 도수보다 더 큰 양이거나 더 작은 음이기 때문에)이라고 지칭된다.
추가 도수 영역(들)의 표면(통상적으로 전방 표면)은 원거리 도수 영역(들)의 곡률 반경보다 작은 곡률 반경을 갖고 따라서 눈에 더 큰 양의 또는 더 작은 음의 도수를 제공한다. 추가 도수 영역(들)은 망막 전방(즉, 수정체에 더 가까운)의 눈 내에 유입되는 평행 광(즉, 원거리로부터의 광)을 포커싱하도록 설계되며, 원거리 도수 영역(들)은 광을 포커싱하여 망막에(즉, 수정체로부터 더 멀리 떨어져) 이미지를 형성하도록 설계된다.
이 이중 초점 콘택트 렌즈는 MISIGHT(CooperVision, Inc.)라는 이름 하에 입수 가능한 것으로, 원거리 물체와 근거리 물체를 모두 보기 위해 수용할 수 있는 사람이 원거리 교정(즉, 기본 도수)을 사용할 수 있도록 이중 초점 렌즈가 특정 광학 치수로 구성된다는 점에서 노안의 시력을 개선시키기 위해 구성된 이중 초점 또는 다초점 콘택트 렌즈와 상이하다. 추가 도수를 갖는 이중 초점 렌즈의 치료 구역은 또한 망막의 중심와(foveal) 및 주변 영역에 대해 원거리 및 근거리 시야 거리 모두에서 근시적으로 디포커싱된 이미지를 제공한다.
이들 렌즈는 근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는 데 유리한 것으로 밝혀졌지만, 환형 추가 도수 영역은 원치 않는 시각적 부작용을 야기할 수 있다. 망막 전방의 환형 추가 도수 영역에 의해 포커싱된 광은 초점에서 벗어나 망막에 디포커싱된 고리를 형성한다. 따라서, 이들 렌즈의 착용자는, 특히 가로등이나 자동차 헤드라이트와 같은 작고 밝은 물체에 대해 망막에 형성되는 고리 또는 '후광' 주변 이미지를 볼 수 있다. 또한, 가까운 물체에 초점을 맞추기 위해 눈의 자연스러운 조절(즉, 초점 거리를 변경하는 눈의 자연스러운 능력)을 사용하는 대신, 이론적으로, 착용자는 근거리 물체를 포커싱하기 위해 환형 추가 도수 영역으로부터 기인한 망막 전방의 추가 초점을 사용할 수 있다; 달리 말하면, 착용자는 노안 교정 렌즈를 사용하는 것과 동일한 방식으로 렌즈를 부주의하게 사용할 수 있으며, 이는 젊은 피검자에게 바람직하지 않다.
근시 치료에 사용될 수 있고 전술한 MISIGHT(CooperVision, Inc.) 렌즈 및 기타 유사한 렌즈에서 포커싱된 원거리 이미지 둘레에서 관찰되는 후광을 제거하도록 설계된 추가 렌즈가 개발되었다. 이들 렌즈에서, 환형 영역은 망막 전방에 단일 축상 이미지가 형성되지 않도록 구성됨으로써, 이러한 이미지가 눈이 근거리 표적에 적응할 필요성을 피하는 데 사용되는 것을 방지한다. 오히려, 원거리 점 광원은 근거리 추가 도수 초점 표면에서 고리 형상의 초점선으로 환형 영역에 의해 이미징되어, 원거리 초점 표면에서 망막에 주변 '후광' 효과 없이 작은 스폿 크기의 광을 초래한다.
본 개시내용은 근시의 악화를 방지하거나 늦추는 젊은 피검자에게 사용하기 위한 개선된 렌즈를 제공한다.
제1 양태에 따르면, 본 개시내용은 근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는 데 사용하기 위한 콘택트 렌즈를 제공한다. 렌즈는 광학 구역 및 광학 구역을 둘러싸는 주변 구역을 포함한다. 주변 구역은 렌즈의 회전을 제어하도록 구성된 두께 변동을 갖는다. 광학 구역은 중심 영역을 포함하고, 중심 영역은 곡률을 갖는 적어도 하나의 표면에 의해 제공되는 기본 도수를 갖는다. 이에 의해, 중심 영역은 원거리 점 물체로부터 원위 초점 표면으로 광을 포커싱하고, 상기 광은 근위 초점 표면을 통과할 때 블러 원 또는 타원을 형성한다. 광학 구역은 중심 영역을 원주방향으로 둘러싸는 환형 영역을 포함한다. 환형 영역은 곡률을 갖는 적어도 하나의 표면에 의해 제공되는 추가 도수를 갖는 추가 도수 영역을 포함하고, 추가 도수는 0.5 D 이상이며, 추가 도수 영역의 면적은 환형 영역의 면적의 75% 미만이다. 추가 도수 영역의 곡률 중심을 정의하는 일련의 점은 환형의 세그먼트를 형성한다. 이에 의해, 추가 도수 영역은 원거리 점 물체로부터 광을 포커싱하여 근위 초점 표면에 포커싱된 원호를 형성한다.
제2 양태에 따르면, 본 개시내용은 콘택트 렌즈의 제조 방법을 제공한다. 방법은 콘택트 렌즈를 형성하는 단계를 포함한다. 렌즈는 광학 구역 및 광학 구역을 둘러싸는 주변 구역을 포함한다. 주변 구역은 렌즈의 회전을 제어하도록 구성된 두께 변동을 갖는다. 광학 구역은 중심 영역을 포함하고, 중심 영역은 곡률을 갖는 적어도 하나의 표면에 의해 제공되는 기본 도수를 갖는다. 이에 의해, 중심 영역은 원거리 점 물체로부터 원위 초점 표면으로 광을 포커싱하고, 상기 광은 근위 초점 표면을 통과할 때 블러 원 또는 타원을 형성한다. 광학 구역은 중심 영역을 원주방향으로 둘러싸는 환형 영역을 포함한다. 환형 영역은 곡률을 갖는 적어도 하나의 표면에 의해 제공되는 추가 도수를 갖는 추가 도수 영역을 포함하고, 추가 도수는 0.5 D 이상이며, 추가 도수 영역의 면적은 환형 영역의 면적의 75% 미만이다. 추가 도수 영역의 곡률 중심을 정의하는 일련의 점은 환형의 세그먼트를 형성한다. 이에 의해, 추가 도수 영역은 원거리 점 물체로부터 광을 포커싱하여 근위 초점 표면에 포커싱된 원호를 형성한다.
본 개시내용은, 제3 양태에 따라, 근시의 진행을 감소시키는 방법을 제공한다. 방법은 다양한 근거리를 수용할 수 있는 근시인에게 제1 양태에 따른 다초점 안과용 렌즈를 제공하는 단계를 포함한다.
물론, 본 개시내용의 일 양태와 관련하여 설명된 특징은 본 개시내용의 다른 양태에 통합될 수 있음이 이해될 것이다. 예를 들어, 본 개시내용의 방법은 본 개시내용의 장치를 참조하여 설명된 특징을 통합할 수 있고 그 반대의 경우도 마찬가지이다.
도 1은 사분면으로 분할된 눈의 시야를 나타내는 개략도이고;
도 2a 내지 도 2c는 렌즈와 렌즈 착용자의 동공 사이의 시차 효과를 나타내는 개략도이며;
도 3a는 환형 영역을 갖는 렌즈의 개략적인 평면도이고, 환형 영역은 본 개시내용의 일 실시예에 따라 환형 영역의 면적의 약 50%인 추가 도수 영역을 포함하며;
도 3b는 환형 영역을 갖는 렌즈의 개략적인 평면도이고, 환형 영역은 도 3a의 렌즈와 비교하여 환형 영역의 반대쪽 절반을 차지하는 추가 도수 영역을 포함하며;
도 4는 라인 A-A를 따라 취한 도 3a의 렌즈를 통한 개략적인 단면도이고;
도 5a 내지 도 5d는 환형 영역의 면적의 약 25%에 걸쳐 있는 추가 도수 영역을 포함하는 환형 영역을 갖는 렌즈의 개략적인 평면도이며, 각각의 렌즈의 추가 도수 영역은 본 개시내용의 실시예에 따라 상이한 사분면에 걸쳐 있고;
도 6a는 환형 영역의 면적의 약 25%에 걸쳐 있는 추가 도수 영역을 포함하는 환형 영역을 갖는 렌즈의 개략적인 평면도이며, 추가 도수 영역은 본 개시내용의 실시예에 따라 비대칭성 도수 프로파일을 갖고;
도 6b는 도 6a의 렌즈의 환형 영역의 비대칭성 도수 프로파일을 나타내는 그래프이며;
도 7은 환형 영역을 갖는 렌즈의 개략적인 평면도이고, 본 개시내용의 실시예에 따라, 환형 영역은 2개의 추가 도수 영역을 포함하고, 각각은 환형 영역의 면적의 약 25%에 걸쳐 있으며, 각각은 동일한 추가 도수를 가지며;
도 8은 라인 B-B를 따라 취한 도 7의 렌즈를 통한 개략적인 단면도이고;
도 9는 라인 C-C를 따라 취한 도 7의 렌즈를 통한 개략적인 단면도이며;
도 10은 환형 영역을 갖는 렌즈의 개략적인 평면도이고, 본 개시내용의 실시예에 따라, 환형 영역은 2개의 인접한 추가 도수 영역을 포함하고, 각각은 환형 영역의 면적의 약 25%에 걸쳐 있으며, 각각은 상이한 추가 도수를 가지며;
도 11은 환형 영역을 갖는 렌즈의 개략적인 평면도이고, 본 개시내용의 실시예에 따라, 환형 영역은 2개의 비-인접한 추가 도수 영역을 포함하고, 각각은 환형 영역의 면적의 약 25%에 걸쳐 있으며, 각각은 상이한 추가 도수를 갖고;
도 12는 라인 D-D를 따라 취한 도 11의 렌즈를 통한 개략적인 단면도이며;
도 13은 환형 영역을 갖는 렌즈의 개략적인 평면도이고, 본 개시내용의 실시예에 따라, 환형 영역은 인접한 추가 도수 영역을 포함하고, 각각은 환형 영역의 면적의 약 1/8에 걸쳐 있으며, 각각은 상이한 추가 도수를 가지며;
도 14는 2개의 동심 환형 영역을 갖는 렌즈의 개략적인 평면도이고, 각각의 동심 환형 영역은 본 개시내용의 실시예에 따라 추가 도수 영역을 포함한다.
제1 양태에 따르면, 본 개시내용은 근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는 데 사용하기 위한 콘택트 렌즈를 제공한다. 렌즈는 광학 구역 및 광학 구역을 둘러싸는 주변 구역을 포함한다. 주변 구역은 렌즈의 회전을 제어하도록 구성된 두께 변동을 갖는다. 광학 구역은 중심 영역을 포함하고, 중심 영역은 곡률을 갖는 적어도 하나의 표면에 의해 제공되는 기본 도수를 갖는다. 이에 의해, 중심 영역은 원거리 점 물체로부터 원위 초점 표면으로 광을 포커싱하고, 상기 광은 근위 초점 표면을 통과할 때 블러 원 또는 타원을 형성한다. 광학 구역은 중심 영역을 원주방향으로 둘러싸는 환형 영역을 포함한다. 환형 영역은 곡률을 갖는 적어도 하나의 표면에 의해 제공되는 추가 도수를 갖는 추가 도수 영역을 포함하고, 추가 도수는 0.5 D 이상이며, 추가 도수 영역의 면적은 환형 영역의 면적의 75% 미만이다. 추가 도수 영역의 곡률 중심을 정의하는 일련의 점은 환형의 세그먼트를 형성한다. 이에 의해, 추가 도수 영역은 원거리 점 물체로부터 광을 포커싱하여 근위 초점 표면에 포커싱된 원호를 형성한다.
축상 이미지는 추가 도수 영역을 통과하는 광에 의해 형성되지 않기 때문에, 렌즈 착용자는 따라서 가까운 물체에 초점을 맞추기 위해 눈의 자연스러운 조절을 사용해야 한다.
눈의 시야는, 도 1에 도시된 바와 같이, 사분면으로 분할될 수 있으며, 이들 사분면은 또한 눈에 위치 설정될 때 콘택트 렌즈의 사분면을 설명하는 데 사용될 수 있다. 눈/렌즈의 상반부는 상위 절반부(1)이고, 하반부는 하위 절반부(3)이다. 코에 가장 가까운 시야는 코 절반부(5)이고, 코로부터 가장 먼 시야는 측두 절반부(7)이다. 따라서, 4개의 사분면은 상위-코(9), 상위-측두(11), 하위-코(13), 및 하위-측두(15)로서 정의될 수 있다. 아래의 설명에서, 이들 정의는 렌즈가 정상적으로 사용 중이고 착용자에 의해 착용되었을 때 추가 도수 영역의 위치 및 주변 영역의 두께 변동을 설명하는 데 사용될 것이다.
본 개시내용의 실시예에 따라 렌즈에 입사하는 축외 광에 대해, 렌즈 착용자의 시야의 각각의 사분면에 대한 광의 망막의 대향 사분면에 대한 대략적인 맵핑이 존재한다. 각막의 전방 표면에 위치 설정될 때 렌즈와 착용자의 동공 위치 사이의 축방향 분리가 시차를 초래하여, 시야각이 변경됨에 따라, 또는 렌즈에 입사되는 광의 방향이 변경됨에 따라 렌즈와 동공의 상대 위치를 변위시킨다. 이는, 예로서, 환형 영역의 대략 절반부(측두 절반부)에 걸쳐 있는 추가 도수 영역(19)을 갖는 본 개시내용의 실시예에 따른 렌즈(17)를 도시하는 도 4a 내지 도 4c에 도시되어 있다. 홍채(21)는 각막을 통해 보여지는 것과 같이 개략적으로 도시되어 있다. 도 4b에 도시된 바와 같이, 추가 도수 영역(19)은 착용자의 우측 시야로부터 이미징되는 광의 경로를 변경하지만, 도 4c에 도시된 바와 같이, 추가 도수 영역(19)은 착용자의 좌측 시야로부터 이미징되는 광에 영향을 미치지 않을 것이다. 추가 도수 구역(19)을 통과한 착용자의 좌측 시야로부터 나오는 광은 홍채(21)에 의해 차단되게 된다. 이 렌즈(17)의 경우, 제1 근사치로, 추가 도수 구역(19)은 좌측 망막(우안의 코 망막, 좌안의 측두 망막)에 입사하는 광의 초점을 변경시키지만, 우측 망막(우안의 측두 망막, 좌안의 코 망막)에 입사하는 광의 초점을 변위시키지 않게 된다. 추가 도수 구역이 측두 절반부 대신 렌즈의 코 절반부에 걸친 경우, 렌즈가 우측(측두) 망막에 입사하는 광의 초점을 변경시키지만, 좌측(코) 망막에 입사하는 광의 초점을 변경시키지 않는다는 것이 명백할 것이다. 렌즈의 환형 영역에 추가 도수 영역(17)을 포함함으로써, 대비 감쇠는 중심와 시력을 최소로 방해하면서 주변 망막 영역으로 표적화될 수 있다.
망막의 특정 영역은 통상적으로 근시의 진행 또는 악화로 이어지는 원시 디포커스를 다소 경험하는 것으로 밝혀졌다. 일부 눈에서, 망막의 측두 절반부는 망막의 코 절반부보다 원시 디포커스를 덜 경험한다. 따라서, 망막의 특정 영역을 향해 포커싱되는 광선에 영향을 미칠 표적화된 추가 도수를 제공하는 것이 유리할 수 있다. 예를 들어, 추가 도수 영역이 망막의 코 절반부에 입사하는 광선의 초점을 변경하도록, 렌즈의 측두 절반부에 걸쳐 있는 추가 도수 영역을 갖는 렌즈를 제공하는 것이 유리할 수 있다. 이를 통해 렌즈는 더 많은 원시 디포커스를 경험하는 망막 영역을 향해 표적화된 치료를 제공할 수 있다. 우안 렌즈의 경우, 렌즈의 측두 절반부가 렌즈의 우측(착용자의 관점에서)이고, 좌측 렌즈의 경우, 렌즈의 측두 절반부가 렌즈의 좌측(착용자의 관점에서)이며, 따라서 착용자의 코 망막을 향해 표적화된 추가 도수를 제공하기 위해, 반대 위치에 추가 도수 영역을 갖는 우안 렌즈와 좌안 렌즈를 제공하는 것이 유리할 수 있다는 것이 이해될 것이다.
본 명세서에 사용될 때, 원거리 점 물체라는 용어는 물체로부터의 광선이 렌즈에 도달할 때 평행하도록 렌즈로부터 충분히 멀리 위치되는 물체를 설명할 때 사용된다.
본 명세서에 사용될 때, 콘택트 렌즈라는 용어는 눈의 전방 표면에 배치될 수 있는 안과용 렌즈를 지칭한다. 이러한 콘택트 렌즈는 임상적으로 허용 가능한 안구 움직임을 제공하고 사람의 눈 또는 눈들에 결합되지 않는다는 것을 이해할 것이다. 콘택트 렌즈는 각막 렌즈(예를 들어, 눈의 각막 상에 놓인 렌즈)의 형태일 수 있다. 콘택트 렌즈는 히드로겔 콘택트 렌즈 또는 실리콘 히드로겔 콘택트 렌즈와 같은 소프트 콘택트 렌즈일 수 있다.
본 개시내용에 따른 콘택트 렌즈는 광학 구역을 포함한다. 광학 구역은 광학 기능이 있는 렌즈 부분을 포함한다. 광학 구역은 사용 시 눈의 동공 위에 위치 설정되도록 구성된다. 본 개시내용에 따른 콘택트 렌즈의 경우, 광학 구역은 중심 영역, 및 중심 영역을 원주방향으로 둘러싸는 환형 영역을 포함한다. 본 개시내용과 관련하여, 환형 영역은 광학 구역을 둘러싸는 실질적으로 환형 영역이다. 환형 영역은 실질적으로 원형 형상 또는 실질적으로 타원형 형상일 수 있다. 환형 영역은 광학 구역을 완전히 둘러쌀 수 있다. 환형 영역은 광학 구역을 부분적으로 둘러쌀 수 있다. 광학 구역은 주변 구역에 의해 둘러싸여 있다. 에지 구역은 주변 구역을 둘러쌀 수 있다. 주변 구역은 광학 구역의 일부가 아니고, 렌즈 착용 시 광학 구역 외부와 홍채 위에 놓이며, 예를 들어 렌즈의 크기를 증가시켜 렌즈의 취급을 쉽게 만들고, 렌즈의 회전을 방지하기 위해 밸러스트를 제공하며, 및/또는 렌즈 착용자를 위한 편안함을 개선하는 형상화된 영역을 제공하는 기계적 기능을 제공한다. 주변 구역은 콘택트 렌즈의 에지까지 연장될 수 있다.
본 개시내용의 실시예에 따른 콘택트 렌즈는 렌즈의 회전을 제어하도록 구성된 주변 구역 두께 변동을 갖는다. 주변 구역의 두께의 두께 변동은 특정 배향에서 렌즈를 안정화하도록 구성될 수 있다. 주변 구역의 두께의 두께 변동은 특정 방향으로의 렌즈의 회전을 촉진하도록 구성될 수 있다.
주변 구역의 다양한 영역의 두께는 본 기술 분야의 숙련자에게 알려진 일상적인 방법을 사용하여 선택될 수 있다. 콘택트 렌즈의 편안함이나 렌즈 인식을 크게 감소시키지 않고 임의의 원하는 양의 콘택트 렌즈 회전을 눈에서 달성하도록 두께와 구성을 선택할 수 있다. 예를 들어, 주변 구역의 설계에 있어서, 콘택트 렌즈를 특정한 표적 설계와 두께로 제조하여 사람의 눈에 임상적으로 테스트할 수 있다. 세극등(slit lamp) 또는 다른 종래의 도구를 사용하여 눈 관리 전문가가 렌즈 회전량을 관찰할 수 있다. 통상적으로, 상이한 두께 프로파일을 갖는 다수의 콘택트 렌즈가 제조되고 렌즈 회전 및 렌즈 편안함을 평가하기 위해 많은 사람(예를 들어, 20명 이상)의 눈에 테스트될 것이다. 렌즈 회전이 너무 적거나 너무 크면, 또는 렌즈 편안함이 제어 렌즈에 비교하여 상당히 감소되면, 주변 구역에 상이한 두께 프로파일을 갖는 렌즈가 제조되고 테스트된다.
렌즈는 안정화 피처 또는 피처들을 포함한다. 예를 들어, 렌즈는 페리밸러스트(periballast), 프리즘 밸러스트, 또는 동적 안정화 피처(예컨대, 상위 절반부와 하위 절반부를 분리하는 수직 자오선을 따라 제공되는 2개의 얇은 구역)를 포함할 수 있다. 주변 구역은 착용자의 눈에 위치 설정될 때 렌즈를 배향시키기 위한 밸러스트를 포함할 수 있다. 착용자의 눈에 위치될 때, 렌즈는 착용자의 눈꺼풀의 작용 하에 미리 결정된 안식각으로 회전할 수 있다. 밸러스트는 쐐기일 수 있고 회전은 착용자의 눈꺼풀에 의해 쐐기에 부여되는 회전력으로 인해 초래될 수 있다. 렌즈의 전방 표면에 프리즘 밸러스트가 제공될 수 있다. 프리즘 밸러스트가 있는 콘택트 렌즈는 주변 구역에 걸쳐 수평 밴드로 연장되는 균일한 두께를 가질 수 있으며, 수평 밴드는 렌즈의 상위 부분에서 더 낮은 두께로부터 진행하고, 콘택트 렌즈의 하위 에지에 더 가까운 더 얇은 두께로 테이퍼지기 전에 렌즈의 하위 부분에서 더 큰 상대 두께로 점진적으로 증가한다. 기준 프레임으로서, 수평 밴드는 평면도에서 볼 때 그리고 렌즈의 상위 부분이 시야의 상단에 위치될 때 콘택트 렌즈의 중심을 통과하는 수평선과 평행하게 된다. 다시 말해서, 수평 밴드는 본 기술 분야의 숙련자가 이해하는 바와 같이 콘택트 렌즈의 0도/180도 자오선에 평행하다. 콘택트 렌즈가 동적 안정화 피처를 포함하는 경우, 콘택트 렌즈는 콘택트 렌즈의 0도/180도 자오선을 따라 주변 구역의 두께보다 상대적으로 더 얇은 주변 구역의 상위 및 하위 부분을 가질 수 있다. 예로서, 안정화 피처는 주변 구역의 상위 영역에서 50 내지 100 마이크로미터의 두께를 가질 수 있고, 두께는 0도/180도 자오선을 향해 점진적으로 증가할 수 있다. 안정화 피처가 이중 얇은 구역을 갖는 경우, 최대 두께 영역은 0도/180도 자오선 근방에 있을 수 있고, 250 마이크로미터 내지 450 마이크로미터 범위일 수 있다. 안정화 피처가 프리즘 밸러스트인 경우, 주변 구역의 두께는 주변 구역의 하위 부분에서 최대 두께까지 계속 증가될 수 있으며, 최대 두께는 약 250 마이크로미터 내지 450 마이크로미터일 수 있다.
콘택트 렌즈는 형상이 실질적으로 원형일 수 있고 약 4 mm 내지 약 20 mm, 바람직하게는 약 13.0 mm 내지 15.0 mm의 직경을 가질 수 있다. 본 명세서에 사용될 때, 직경에 대한 언급은 코드 직경에 대한 언급이다. 렌즈의 중심 두께는 약 50 마이크로미터 내지 약 300 마이크로미터일 수 있다. 렌즈의 주변 구역은 약 50 마이크로미터 내지 약 450 마이크로미터의 두께를 가질 수 있다. 렌즈의 두께는 종래의 기술과 레더 게이지(Rehder gauge)와 같은 기구를 사용하여 측정될 수 있다. 광학 구역은 형상이 실질적으로 원형일 수 있고 약 2 mm 내지 약 10 mm의 직경을 가질 수 있다. 몇몇 실시예에서, 콘택트 렌즈는 13 mm 내지 15 mm의 직경을 갖고, 광학 구역은 7 mm 내지 9 mm의 직경을 갖는다.
제1 광축은 렌즈의 중심선을 따라 놓일 수 있다. 중심 영역의 기본 도수는 광축에 센터링된 곡률을 갖는 적어도 하나의 표면에 의해 제공될 수 있다. 중심 영역은 광축 상의 원거리 점 물체로부터 원위 초점 표면에서 광축 상의 스폿으로 광을 포커싱할 수 있다. 본 명세서에 사용될 때, 표면이라는 용어는 물리적 표면을 지칭하지 않고, 원거리 물체로부터의 광이 포커싱되는 점을 통해 그려질 수 있는 표면을 지칭한다. 이러한 표면은 또한 국소로 이미지 평면(만곡 표면일 수 있음에도 불구하고) 또는 이미지 쉘이라고도 지칭된다. 눈은 만곡된 망막에 광을 포커싱하고, 완벽하게 포커싱된 눈에서는 이미지 쉘의 곡률이 망막의 곡률과 일치하게 된다. 그러나, 본 기술 분야에서는, 망막의 만곡 표면이 일반적으로 평면이라고 지칭된다.
환형의 적어도 하나의 추가 도수 영역을 통과하는 원거리 점 소스로부터의 광선은 추가 도수 초점 표면 상의 광축으로부터 멀리 포커싱될 수 있다. 중심 영역을 통과하는 광선은 추가 도수 초점 표면에서 축상 블러 원 또는 타원(원환체 렌즈의 경우)을 형성할 수 있다. 추가 도수 영역을 통과하는 원거리 점 소스로부터의 광선은 포커싱되어, 블러 원 또는 타원 외부에 포커싱된 원호를 형성할 수 있다.
적어도 하나의 추가 도수 영역은 추가 도수 영역의 임의의 구역 기하형상을 일반적으로 복제하는 추가 도수 영역의 초점면에 광 분포를 생성하도록 구성될 수 있다. 추가 도수 영역의 초점면은 추가 도수 영역을 통과하는 광이 포커싱되는 지점을 통과하는 평면에 의해 정의된다. 환형의 일부에 걸쳐 있는 추가 도수 영역의 경우, 포커싱된 원호는 추가 도수 영역의 초점면에서 생성될 수 있다. 치료 부분의 곡률은 광축으로부터 수직으로 약 2 마이크로미터 내지 약 700 마이크로미터, 바람직하게는 약 20 마이크로미터 내지 약 300 마이크로미터의 거리에서 치료 부분 초점면에 포커싱된 광을 위치 설정하도록 선택될 수 있다.
렌즈의 중심 영역은 기본 도수를 갖는다. 환형 영역의 추가 도수 영역은 적어도 0.5 D의 추가 도수를 갖고, 추가 도수 영역의 순 근거리 도수는 기본 도수와 추가 도수의 합이다.
렌즈의 기본 도수는 양일 수 있고; 추가 도수 영역은 기본 도수보다 더 큰 양인 도수를 갖는다. 이 경우, 추가 도수 초점 표면은 원위 초점 표면보다 렌즈에 더 가깝게 된다. 축상 이미지는 추가 도수 영역을 통과하는 광에 의해 형성되지 않게 된다. 추가 도수 영역에 의해 포커싱된 광선은 콘택트 렌즈의 제1 광축과 전혀 교차하지 않거나, 추가 도수 초점 표면을 통과할 때까지 교차하지 않을 수 있다.
양의 기본 도수를 갖는 렌즈의 경우, 추가 도수 영역은 기본 도수를 제공하는 곡률보다 더 큰 곡률을 갖게 된다. 이 경우, 추가 도수 영역의 곡률 반경은 중심 영역의 곡률 반경보다 더 작게 된다. 추가 도수 영역의 곡률 중심은 중심 영역의 곡률 중심보다 렌즈에 더 가까울 수 있다.
렌즈의 기본 도수는 음일 수 있고, 적어도 하나의 추가 도수 영역은 기본 영역의 도수보다 더 작은 음인 도수를 가질 수 있거나, 추가 도수 영역은 양의 도수를 가질 수 있다. 각막에 위치 설정된 렌즈를 고려할 때, 추가 도수 영역의 도수가 기본 도수보다 작은 음이면, 추가 도수 초점 표면이 원위 초점 표면보다 눈에서 더 전방에 있게 된다. 렌즈가 각막에 위치 설정되지 않은 경우를 고려할 때, 추가 도수 영역의 도수가 양이면, 추가 도수 초점 표면은 원위 초점 표면(렌즈의 물체측에 있는 가상 초점 표면)보다 렌즈의 반대쪽(이미지)에 있게 된다; 추가 도수 영역의 도수가 음이면(그러나 기본 도수보다 작은 음), 가상 최대 추가 도수 초점 표면은 가상 원위 초점 표면보다 렌즈로부터 더 멀리 있게 된다.
추가 도수 영역의 면적은 환형 영역 면적의 75% 미만이다. 환형 영역의 나머지는 기본 도수를 제공하는 곡률을 가질 수 있다. 환형 영역의 나머지를 통과하는 광선은 원위 초점 표면에 포커싱될 수 있다. 따라서, 환형 영역은, 착용자가 렌즈를 착용하고 있을 때 망막의 특정 영역에 입사하는 광의 초점을 변경할 수 있는 한편, 망막의 다른 영역에 입사하는 광에 영향을 주지 않는 국소화된 추가 도수를 제공한다. 렌즈의 회전을 제어하는 주변 구역의 다양한 두께 프로파일과, 국소화된 추가 도수 영역의 조합은 렌즈가 사용 중일 때 표적화된 추가 도수를 제공하는 데 사용될 수 있다.
추가 도수 영역의 면적은 환형 영역의 면적의 50% 미만일 수 있다. 추가 도수 영역의 면적은 환형 영역의 면적의 25% 미만일 수 있다. 추가 도수 영역의 면적은 환형 영역의 면적의 15% 미만일 수 있다. 추가 도수 영역의 면적은 환형 영역의 면적의 10% 미만일 수 있다.
주변 구역의 두께 변동은 렌즈 직경에 대해 대칭성일 수 있으며, 렌즈 직경은 환형 영역을 2개의 절반부로 분할하고, 추가 도수 영역은 환형 영역의 하나의 절반부로 제한된다. 두께 변동은 실질적으로 렌즈 직경을 따라 놓이도록 제한될 수 있다. 주변 구역의 두께 변동은 착용자가 렌즈를 착용할 때 착용자의 망막에 대한 추가 도수 영역의 위치를 제어하는 데 사용될 수 있다.
주변 구역의 두께 변동은 밸러스트를 포함할 수 있고, 밸러스트는 렌즈의 회전을 제어할 수 있다. 렌즈가 사용 중일 때, 밸러스트가 렌즈의 하단에 또는 하단을 향해 있도록, 즉, 하위 절반부에 있도록 렌즈가 회전될 수 있다. 렌즈는 밸러스트가 렌즈의 측두 절반부와 코 절반부를 분할하는 라인을 따라 놓이도록 회전될 수 있다.
렌즈 직경은 렌즈의 코 절반부와 측두 절반부를 분리하는 라인을 따라 놓일 수 있다. 추가 도수 영역은 렌즈의 코 절반부 또는 렌즈의 측두 절반부로 제한될 수 있다. 이들 각각의 경우에, 추가 도수는 망막의 반대쪽 절반부를 표적화되게 된다.
환형 영역의 각각의 절반부는 상부 사분면 및 하부 사분면으로 분할될 수 있고, 추가 도수 영역은 단일 사분면으로 제한될 수 있다. 추가 도수 영역은 주변 구역의 두께 변동에 대해 렌즈의 반대쪽 절반부에 제공될 수 있다. 추가 도수 영역은 주변 구역의 두께 변동에 대해 렌즈의 동일한 절반부에 제공될 수 있다. 주변 구역의 두께 변동은 렌즈의 하위 절반부로 제한될 수 있다. 추가 도수 영역은 렌즈의 상위-측두, 상위-코, 하위-측두 또는 하위-코 사분면 중 어느 하나로 제한될 수 있다. 이들 각각의 경우에, 추가 도수는 망막의 반대쪽 사분면을 향해 표적화되게 된다.
추가 도수 영역은 5.0 D 이상의 추가 도수를 제공하는 곡률을 가질 수 있다. 환형 영역은 0 D 내지 5.0 D의 추가 도수를 제공하는 곡률을 갖는 더 낮은 추가 도수 영역을 더 포함할 수 있다. 추가 도수 영역의 곡률 중심을 정의하는 일련의 지점은 광축을 둘러싸는 환형의 세그먼트를 형성할 수 있고 세그먼트는 광축으로부터 제1 거리에 있고, 더 낮은 추가 도수 영역의 곡률 중심을 정의하는 일련의 지점은 광축을 둘러싸는 고리의 환형의 추가 세그먼트를 형성할 수 있으며, 이 세그먼트는 광축으로부터의 제2 상이한 거리에 있고, 제2 거리는 제1 거리보다 작다.
적어도 하나의 더 낮은 추가 도수 영역을 통과하는 원거리 점 소스로부터의 광선은 중간 추가 도수 초점 표면에 포커싱될 수 있다. 양의 기본 도수와 기본 도수보다 더 큰 양의 도수를 갖는 적어도 하나의 더 낮은 추가 도수 영역을 갖는 렌즈의 경우, 중간 추가 도수 초점 표면은 원위 초점 표면보다 렌즈에 더 가깝지만 추가 도수 초점 표면보다 렌즈로부터 더 멀리 있게 된다. 축상 이미지는 또한 적어도 하나의 더 낮은 추가 도수 영역을 통과하는 광에 의해 형성되지 않게 된다. 적어도 하나의 더 낮은 추가 도수 영역에 의해 포커싱된 광선은 콘택트 렌즈의 제1 광축과 전혀 교차하지 않거나, 중간 및 추가 도수 초점 표면을 통과할 때까지 교차하지 않을 수 있다. 각막에 위치 설정된 렌즈를 고려할 때, 렌즈가 음의 기본 도수를 갖고, 적어도 하나의 더 낮은 추가 도수 영역이 기본 도수보다 더 작은 음의 도수를 가지면, 중간 추가 도수 초점 표면은 원위 초점 표면보다 렌즈에 더 가깝지만 추가 도수 초점 표면보다 더 멀리 떨어져 있게 된다. 각막에 위치 설정되지 않은 렌즈를 고려할 때, 렌즈가 음의 기본 도수를 갖고 적어도 하나의 더 낮은 추가 도수 영역이 기본 도수보다 더 작은 음의 도수를 가지면, 가상 추가 도수 초점 표면은 가상 원위 초점 표면보다 렌즈로부터 더 멀리 있지만 가상 추가 도수 초점 표면보다 가깝게 된다.
양의 기본 도수를 갖는 렌즈의 경우, 더 낮은 추가 도수 영역은 추가 도수 영역의 곡률과 중심 영역의 곡률 사이에 있는 곡률을 가질 수 있다. 이 경우, 적어도 하나의 더 낮은 추가 도수 영역의 곡률 반경은 중심 영역의 곡률 반경보다 더 작지만 적어도 하나의 추가 도수 영역의 곡률 반경보다 크게 된다. 적어도 하나의 더 낮은 추가 도수 영역의 곡률 중심은 중심 영역의 곡률 중심보다 렌즈에 더 가까울 수 있지만 렌즈로부터 적어도 하나의 추가 도수 자오선의 곡률 중심까지 더 멀 수 있다.
음의 기본 도수를 갖는 렌즈의 경우, 더 낮은 추가 도수 영역은 기본 영역의 도수보다 더 작은 음인 도수를 가질 수 있거나, 추가 도수 영역은 양의 도수를 가질 수 있지만 도수는 추가 도수 영역보다 더 작은 양이거나 더 큰 음이 된다. 각막에 위치 설정된 렌즈를 고려할 때, 더 낮은 추가 도수 영역의 도수가 기본 도수보다 더 작은 음이면, 추가 도수 초점 표면은 원위 초점 표면보다 눈에서 더 전방에 있게 되지만 추가 도수 초점 표면보다는 눈에서 덜 전방에 있게 된다. 렌즈가 각막에 위치 설정되지 않은 경우를 고려할 때, 더 낮은 추가 도수 영역의 도수가 양이면, 더 낮은 추가 도수 초점 표면은 원위 초점 표면(렌즈의 물체측에 있는 가상 초점 표면)보다 렌즈의 반대쪽(이미지)에 있게 된다; 더 낮은 추가 도수 영역의 도수가 음이면(그러나 기본 도수보다 작은 음 및 추가 도수보다 큰 음), 가상 최대 추가 도수 초점 표면은 가상 원위 초점 표면보다 렌즈로부터 더 멀리 있고 가상 추가 도수 초점 표면보다 렌즈에 더 가깝게 있게 된다.
더 낮은 추가 도수 영역은 환형 영역의 25% 미만의 면적을 가질 수 있다. 더 낮은 추가 도수 영역은 환형 영역의 10% 미만의 면적을 가질 수 있다. 추가 도수 영역 및 더 낮은 추가 도수 영역은 렌즈의 동일한 절반부로 제한될 수 있거나, 렌즈의 반대쪽 절반부에 제공될 수 있다. 추가 도수 영역 및 더 낮은 추가 도수 영역은 각각 환형 영역의 25% 미만의 면적을 가질 수 있다. 추가 도수 영역 및 더 낮은 추가 도수 영역은 렌즈의 동일한 사분면에 제한될 수 있거나 렌즈의 상이한 사분면에 제공될 수 있다. 예를 들어, 추가 도수 영역은 상위-코 사분면에 제공될 수 있고, 더 낮은 추가 도수 영역은 하위 측두 사분면에 제공될 수 있다. 추가 도수 영역은 4개의 사분면 중 어느 하나에 제공될 수 있고, 더 낮은 추가 도수 영역은 다른 3개의 사분면 중 어느 하나 또는 동일한 사분면에 제공될 수 있다. 더 낮은 추가 도수 영역은 추가 도수 영역에 인접할 수 있다.
환형 영역은, 기본 도수를 제공하고 중심 영역의 곡률 중심에 센터링된 곡률을 갖는 기본 도수 영역을 더 포함할 수 있다. 기본 도수 영역은 원거리 점 물체로부터의 광을 원위 표면에서 제1 광축 상의 스폿으로 포커싱할 수 있다. 스폿은 중심 영역을 통과한 광에 의해 형성된 스폿과 일치할 수 있다. 환형 영역의 면적의 적어도 25%는 기본 도수를 가질 수 있다. 환형 영역이 추가 도수 영역 및 더 낮은 추가 도수 영역을 포함하는 실시예에서, 기본 도수 영역은 이들 영역을 분리하도록 제공될 수 있다. 추가 도수 영역은 환형 영역의 면적의 약 50%인 면적을 갖는 연속 영역일 수 있고, 기본 도수 영역의 면적은 환형 영역의 약 50%인 면적을 갖는 연속 영역일 수 있다. 추가 도수 영역은 렌즈의 하위, 상위, 측두 또는 코 절반부 중 임의의 절반부에 걸쳐 있을 수 있고 기본 도수 영역은 나머지 절반부에 걸쳐 있을 수 있다.
기본 도수, 추가 도수, 및 임의의 더 낮은 추가 도수를 제공하는 곡률은 렌즈의 전방 표면의 곡률일 수 있다. 기본 도수, 추가 도수, 및 임의의 더 낮은 추가 도수를 제공하는 곡률은 렌즈의 후방 표면의 곡률일 수 있다. 기본 도수, 추가 도수, 및 임의의 더 낮은 추가 도수를 제공하는 곡률은 복합 효과를 제공하는 렌즈의 전방 표면 및 후방 표면의 곡률일 수 있다.
환형 영역의 추가 도수 영역은 폭을 갖고, 치료 구역 영역의 폭을 가로질러 중간에서 취한 추가 도수 영역의 표면에 대한 법선은 중심 영역의 표면 곡률의 중심에서, 중심 영역의 중심에서 취한 법선을 횡단할 수 있다. 이에 의해, 추가 도수 영역은 각각의 원거리 점 물체로부터의 광을 포커싱하여 근위 초점 표면에 포커싱된 원호를 형성할 수 있고, 원호는 중심 영역에 의해 포커싱된 광에 의해 형성된 블러 원 또는 타원의 외부에 있고 이를 둘러싼다. 추가 도수 영역의 표면은 전방 표면일 수 있다. 중심 구역의 표면은 전방 표면일 수 있다. 추가 도수 영역의 표면은 추가 도수를 제공하는 곡률을 갖는 표면일 수 있다. 중심 구역의 표면은 기본 도수를 제공하는 곡률을 갖는 표면일 수 있다.
추가 도수 영역은 비대칭성 도수 프로파일을 가질 수 있다. 더 낮은 추가 도수 영역을 갖는 실시예에서, 더 낮은 추가 도수 영역은 비대칭성 도수 프로파일을 가질 수 있다.
환형 영역은 실질적으로 원형의 외주를 가질 수 있다. 환형 영역은 실질적으로 타원형의 외주를 가질 수 있다. 중심 영역은 형상이 실질적으로 원형일 수 있고 약 2 내지 9 mm, 바람직하게는 약 2 내지 7 mm, 보다 바람직하게는 2 내지 5 mm의 직경을 가질 수 있다. 중심 영역은 형상이 실질적으로 타원형일 수 있다. 기본 곡선은 약 8.0 mm 내지 9.0 mm의 곡률 반경을 가질 수 있다. 환형 영역은 약 0.1 내지 4 mm, 바람직하게는 약 0.5 내지 1.5 mm만큼 중심 영역의 주연부로부터 반경방향 외향으로 연장될 수 있다. 예를 들어, 환형 영역의 반경방향 폭은 약 0.1 mm 내지 약 4 mm일 수 있고, 바람직하게는 약 0.5 mm 내지 약 1.5 mm일 수 있다. 중심 영역의 주연부는 중심 영역과 환형 영역 사이의 경계를 정의할 수 있고, 따라서 환형 영역은 중심 영역에 인접할 수 있다.
환형 영역은 중심 영역에 맞접할 수 있다. 중심 영역과 환형 영역 사이에 블렌딩 영역이 제공될 수 있다. 블렌딩 영역은 중심 영역 및 환형 영역에 의해 제공되는 광학계에 실질적으로 영향을 미치지 않아야 하며, 블렌딩 영역은 0.05 mm 이하의 반경방향 폭을 가질 수 있지만, 몇몇 실시예에서 0.2 mm만큼 넓거나 0.5 mm만큼 넓을 수도 있다.
환형 영역은 주변 구역에 맞접하도록 반경방향 외향으로 연장될 수 있다. 추가 도수 영역은 환형 영역의 반경방향 폭에 걸쳐 있을 수 있다.
중심 영역은, 본 개시내용과 관련하여, 중심 영역의 평균 절대 굴절력으로 정의되는 기본 도수를 갖는다. 임의의 기본 도수 영역도 기본 도수를 갖게 된다. 기본 도수는 콘택트 렌즈 패키징에 제공된 콘택트 렌즈의 라벨 설정된 굴절력에 대응한다(실제로 동일한 값이 아닐 수도 있음). 따라서, 본 명세서에 주어진 렌즈 도수는 공칭 도수이다. 이들 값은 렌즈를 직접 측정하여 획득한 렌즈 도수 값과 상이할 수 있으며, 안과용 치료에 사용될 때 필요한 처방 도수를 제공하는 데 사용되는 렌즈 도수를 반영한다.
근시 치료에 사용되는 렌즈의 경우, 기본 도수는 음이거나 0에 가깝고, 중심 영역은 원거리 시력을 교정하게 된다. 기본 도수는 0.5 디옵터(D) 내지 -15.0 디옵터일 수 있다. 기본 도수는 -0.25 D 내지 -15.0 D일 수 있다.
추가 도수는 0이 아니며 적어도 0.5 D이다. 추가 도수는 기본 도수와 추가 도수 자오선의 도수 사이의 차이로 정의된다. 추가 도수는 약 +0.5 내지 +20.0 D, 바람직하게는 약 +0.5 내지 +10.0 D일 수 있다. 양의 기본 도수를 갖는 렌즈의 경우, 추가 도수 영역의 도수는 기본 도수보다 더 양이 되고, 유사하게 임의의 더 낮은 추가 도수 영역의 도수는 기본 도수보다 더 양이 된다. 음의 기본 도수를 갖는 렌즈를 갖는 렌즈의 경우, 추가 도수 영역 각각의 도수는 기본 도수보다 작은 음일 수 있거나, 추가 도수 영역 각각의 도수는 양의 도수일 수 있다. 유사하게, 임의의 더 낮은 추가 도수 영역 각각의 도수는 기본 도수보다 작은 음일 수 있거나, 임의의 더 낮은 추가 도수 영역의 도수는 양의 도수일 수 있다. 추가 도수 영역에서 환형 영역의 순 도수는 기본 도수와 추가 도수의 합이 된다.
더 낮은 추가 도수 영역을 갖는 실시예의 경우, 더 낮은 추가 도수 영역은 중심 영역의 기본 도수보다 더 큰(즉, 더 큰 양이거나 더 작은 음인) 렌즈 도수를 가질 수 있다. 더 낮은 추가 도수 영역의 도수는, 기본 도수와 더 낮은 추가 도수 영역의 도수 사이의 차이인 더 낮은 추가 도수로서 설명될 수 있다. 더 낮은 추가 도수는 약 +0.1 내지 +5.0 D, 바람직하게는 약 +0.1 내지 +3.0 D일 수 있다. 더 낮은 추가 도수 영역에서 환형 영역의 순 도수는 기본 도수와 더 낮은 추가 도수의 합이 된다.
렌즈는 적어도 2개의 동심 환형 영역을 포함할 수 있으며, 각각의 환형 영역은 0.5 D 이상의 추가 도수를 제공하는 곡률을 갖는 적어도 하나의 추가 도수 영역을 포함하고, 추가 도수 영역의 면적은 환형 영역의 면적의 75% 미만이다. 중심 영역은 광축 상의 한 지점에 센터링된 곡률을 갖는 표면을 포함하고, 각각의 추가 도수 영역의 곡률 중심을 정의하는 일련의 지점은 광축을 둘러싸는 동심 원호를 형성한다.
각각의 환형 영역은 전술한 임의의 특징을 통합하는 환형 영역일 수 있다. 렌즈의 원주 둘레의 위치를 각도 θ에 의해 정의하면(여기서, θ는 0°와 360°사이에서 변경됨), 각각의 환형 영역의 추가 도수 영역은 환형 영역의 원주 둘레에서 동일한 θ 값에 있을 수 있다. 대안적으로, 각각의 환형 영역의 추가 도수 영역은 원주 둘레에서 상이한 θ 값에 있을 수 있다. 상이한 동심 환형 영역의 추가 도수 영역은 동일한 추가 도수를 가질 수 있다. 상이한 동심 환형 영역의 추가 도수 영역은 상이한 추가 도수를 가질 수 있다.
바람직하게는, 환형 영역 또는 환형 영역들은 렌즈릿을 포함하지 않거나, 환형 영역(들)에는 렌즈릿이 없다(즉, 콘택트 렌즈의 표면에 제공된 작은 렌즈는 콘택트 렌즈의 광학 구역의 직경보다 작은 직경을 가짐).
콘택트 렌즈는 원환체 콘택트 렌즈일 수 있다. 예를 들어, 원환체 콘택트 렌즈는 사람의 난시를 교정하도록 형상화된 광학 구역을 포함할 수 있다.
콘택트 렌즈는 엘라스토머 재료, 실리콘 엘라스토머 재료, 히드로겔 재료, 또는 실리콘 히드로겔 재료, 또는 그 조합을 포함할 수 있다. 콘택트 렌즈 분야에서 이해되는 바와 같이, 히드로겔은 평형 상태에서 물을 유지하고 실리콘 함유 화학 물질이 없는 재료이다. 실리콘 히드로겔은 실리콘 함유 화학 물질을 포함하는 히드로겔이다. 본 개시내용과 관련하여 설명되는 바와 같이, 히드로겔 재료 및 실리콘 히드로겔 재료는 적어도 10% 내지 약 90%(wt/wt)의 평형 수분 함량(equilibrium water content)(EWC)을 갖는다. 몇몇 실시예에서, 히드로겔 재료 또는 실리콘 히드로겔 재료는 약 30% 내지 약 70%(wt/wt)의 EWC를 갖는다. 비교해 보면, 본 개시내용과 관련하여 설명되는 바와 같이, 실리콘 엘라스토머 재료는 약 0% 내지 10% 미만(wt/wt)의 수분 함량을 갖는다. 통상적으로, 본 방법 또는 장치와 함께 사용되는 실리콘 엘라스토머 재료는 0.1% 내지 3%(wt/wt)의 수분 함량을 갖는다. 적절한 렌즈 제형의 예는 하기 미국 의약품 성분명(United States Adopted Name)(USAN)을 갖는 것을 포함한다: 메타필콘 A, 오큐필콘 A, 오큐필콘 B, 오큐필콘 C, 오큐필콘 D, 오마필콘 A, 오마필콘 B, 컴필콘 A, 엔필콘 A, 스텐필콘 A, 팬필콘 A, 에타필콘 A, 세노필콘 A, 세노필콘 B, 세노필콘 C, 나라필콘 A, 나라필콘 B, 발라필콘 A, 삼필콘 A, 로트라필콘 A, 로트라필콘 B, 소모필콘 A, 리오필콘 A, 델레필콘 A, 베로필콘 A, 칼리필콘 A 등.
대안적으로, 렌즈는 실리콘 엘라스토머 재료를 포함하거나, 이 재료로 본질적으로 구성되거나, 구성될 수 있다. 예를 들어, 렌즈는 3 내지 50의 쇼어 A 경도를 갖는 실리콘 엘라스토머 재료를 포함하거나, 이 재료로 본질적으로 구성되거나, 구성될 수 있다. 쇼어 A 경도는 본 기술 분야의 숙련자가 이해하는 바와 같이 종래의 방법을 사용하여(예를 들어, DIN 53505 방법을 사용하여) 측정될 수 있다. 다른 실리콘 엘라스토머 재료는, 예를 들어 NuSil Technology 또는 Dow Chemical Company로부터 획득될 수 있다.
제2 양태에 따르면, 본 개시내용은 렌즈의 제조 방법을 제공한다. 방법은 콘택트 렌즈를 형성하는 단계를 포함한다. 렌즈는 광학 구역 및 광학 구역을 둘러싸는 주변 구역을 포함한다. 주변 구역은 렌즈의 회전을 제어하도록 구성된 두께 변동을 갖는다. 광학 구역은 중심 영역을 포함하고, 중심 영역은 곡률을 갖는 적어도 하나의 표면에 의해 제공되는 기본 도수를 갖는다. 이에 의해, 중심 영역은 원거리 점 물체로부터 원위 초점 표면으로 광을 포커싱하고, 상기 광은 근위 초점 표면을 통과할 때 블러 원 또는 타원을 형성한다. 광학 구역은 중심 영역을 원주방향으로 둘러싸는 환형 영역을 포함한다. 환형 영역은 곡률을 갖는 적어도 하나의 표면에 의해 제공되는 추가 도수를 갖는 추가 도수 영역을 포함하고, 추가 도수는 0.5 D 이상이며, 추가 도수 영역의 면적은 환형 영역의 면적의 75% 미만이다. 추가 도수 영역의 곡률 중심을 정의하는 일련의 점은 환형의 세그먼트를 형성한다. 이에 의해, 추가 도수 영역은 원거리 점 물체로부터 광을 포커싱하여 근위 초점 표면에 포커싱된 원호를 형성한다.
렌즈는 전술한 특징 중 임의의 것을 포함할 수 있다.
제조 방법은 오목 렌즈 형성 표면을 갖는 암형 몰드 부재 및 볼록 렌즈 형성 표면을 갖는 수형 몰드 부재를 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 방법은 벌크 렌즈 재료로 암형 몰드 부재와 수형 몰드 부재 사이의 간극을 채우는 단계를 포함할 수 있다. 방법은 벌크 렌즈 재료를 경화시켜 렌즈를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
콘택트 렌즈는 라싱(lathing) 프로세스를 사용하여 형성될 수 있다. 렌즈는 캐스트 몰딩 프로세스, 스핀 캐스트 몰딩 프로세스, 또는 라싱 프로세스 또는 그 조합에 의해 형성될 수 있다. 본 기술 분야의 숙련자에 의해 이해되는 바와 같이, 캐스트 몰딩은 오목 렌즈 부재 형성 표면을 갖는 암형 몰드 부재와 볼록 렌즈 부재 형성 표면을 갖는 수형 몰드 부재 사이에 렌즈 형성 재료를 배치하여 렌즈를 몰딩하는 것을 지칭한다.
본 개시내용의 제3 양태에서, 본 명세서에 설명된 콘택트 렌즈의 사용 방법이 또한 제공된다. 방법은 근시의 진행을 감소시키는 것과 같이 굴절 이상의 진행을 감소시키는 데에 효과적일 수 있다. 본 발명의 렌즈가 근시의 진행을 감소시키기 위해 사용될 때, 방법은 눈이 다양한 근거리(예를 들어, 약 15 cm 내지 약 40 cm의 범위)를 수용할 수 있는 사람에게 콘택트 렌즈를 제공하는 단계를 포함한다. 방법의 몇몇 실시예는 안과용 렌즈를 약 5세 내지 약 25세인 사람에게 제공하는 단계를 포함한다. 제공은 안경사 또는 검안사와 같은 눈 관리 전문가에 의해 수행될 수 있다. 대안적으로, 제공은 안과용 렌즈를 렌즈 착용자에게 전달하도록 배열하는 렌즈 분배기에 의해 수행될 수 있다.
도 3a는 본 개시내용의 실시예에 따른 근시의 진행을 늦추는 데 사용하기 위한(예를 들어, 근시 제어) 렌즈(101)의 개략적인 평면도를 도시한다. 렌즈(101)는 대략 동공을 덮는 광학 구역(102), 및 홍채 위에 안착되는 주변 구역(104)을 포함한다. 주변 구역(104)은 렌즈의 크기를 증가시켜 렌즈(101)의 취급을 쉽게 만들고, 렌즈(101) 착용자를 위한 편안함을 개선하는 형상화된 영역을 제공하는 것을 포함하는 기계적 기능을 제공한다. 주변 구역(104)은 렌즈의 회전을 제어하도록 구성된 밸러스트(109)에 의해 제공되는 두께 변동을 갖고, 그에 따라, 렌즈(101)가 착용될 때, 렌즈(101)는 착용자 깜박임으로부터의 회전력에도 불구하고 안정된 위치에 유지된다. 광학 구역(102)은 렌즈(101)의 광학 기능을 제공하고, 광학 구역은 환형 영역(103) 및 중심 영역(105)을 포함한다. 환형 영역(103)은 0.5 D 이상의 추가 도수를 갖는 추가 도수 영역(107)을 포함한다. 추가 도수 영역(107)은 환형 영역(103)의 면적의 약 50%, 이 경우에는 렌즈의 측두 절반부에 걸쳐 있다. 이 렌즈(101)는 양의 기본 도수를 갖고 중심 영역(105)은 기본 도수를 제공하는 곡률을 갖는다. 추가 도수 영역(107)의 전방 표면은 중심 영역(105)의 전방 표면보다 큰 곡률을 갖고, 따라서 중심 영역(105)의 기본 도수보다 큰 도수를 제공한다. 추가 도수 영역(107)을 포함하지 않는 환형 영역(103)의 나머지는 또한 기본 도수를 갖는다. 도 4는 라인 A-A를 따라 취한 도 3a의 렌즈를 통한 단면의 개략도를 도시한다. 중심 영역(105)의 전방 표면은 제1 광축(118)에 중심을 갖는 더 큰 반경(110)의 구체 표면의 일부를 정의한다. 기본 도수를 갖는 환형 영역(105)의 전방 표면은 동일한 구체의 면의 일부를 정의한다. 추가 도수 영역(103)의 전방 표면은 보다 작은 반경(106) 및 광축(118)으로부터 제1 거리인 중심을 갖는 만곡 환형 표면을 정의한다.
도 4에 도시된 바와 같이, 원위 초점 표면(117)에서, 중심 영역(105) 및 환형 영역(103)의 비-추가 도수 영역을 통과하는 광선이 포커싱된다. 근위 초점 표면(113)에는 단일 이미지가 형성되지 않는다. 근위 초점 표면(113)에서, 무한대의 점 소스에 대해, 중심 영역(105) 및 환형 영역의 비-추가 도수 부분을 통과하는 광선은 블러 원 또는 타원을 생성한다. 그러나, 추가 도수 영역(107)을 통과하는 원거리 점 소스로부터의 광선은 블러 원 또는 타원을 둘러싸는 환형의 세그먼트를 생성한다.
추가 도수 영역(107)이 환형 영역(103)의 측두 절반부에 걸쳐 있기 때문에, 추가 도수는 망막의 코 절반부에 입사하는 광의 초점을 변경하게 된다. 착용될 때 렌즈(101)의 회전을 제어하는 주변 구역에 제공되는 밸러스트(109)와, 국소화된 추가 도수 영역(107)의 조합은 망막의 특정 영역에 표적화된 추가 도수를 제공하는 데 사용될 수 있다.
도 3b는 본 개시내용의 실시예에 따른 근시의 진행을 늦추는 데 사용하기 위한(예를 들어, 근시 제어) 렌즈(201)의 개략적인 평면도를 도시한다. 이 렌즈(201)는 도 3a의 렌즈(101)와 유사하지만, 이 렌즈의 경우, 추가 도수 영역(207)은 이 경우에 환형 영역의 코 절반부인 환형 영역(203)의 반대쪽 절반부에 걸쳐 있다. 따라서, 추가 도수는 망막의 측두 절반부를 향해 표적화되게 된다.
도 5a는 본 개시내용의 실시예에 따른 근시의 진행을 늦추는 데 사용하기 위한(예를 들어, 근시 제어) 렌즈(301)의 개략적인 평면도를 도시한다. 렌즈(301)는 도 3a 및 도 3b의 렌즈와 유사하지만, 추가 도수 영역(307)은 환형 영역(303)의 약 25%에 걸쳐 있고 단일 사분면으로 제한된다. 도 5b 내지 도 5d는 각각 환형 영역의 약 25%에 걸쳐 있는 추가 도수 영역을 갖는 3개의 유사한 렌즈(301', 301", 301"')를 도시한다. 이들 렌즈(301, 301', 301", 301"') 각각에 대해, 추가 도수 영역(307, 307', 307", 307"')은 밸러스트(309, 309', 309", 309"')에 대해 상이한 사분면에 걸쳐 있다. 도 5a의 렌즈의 경우, 추가 도수는 렌즈의 상위-측두 사분면에 걸쳐 있으므로, 추가 도수는 망막의 하위-코 사분면을 향해 표적화된다. 도 5b의 렌즈의 경우, 추가 도수는 렌즈의 상위-코 사분면에 걸쳐 있으므로, 추가 도수는 망막의 하위-측두 사분면을 향해 표적화된다. 도 5c의 렌즈의 경우, 추가 도수는 렌즈의 하위-코 사분면에 걸쳐 있으므로, 추가 도수는 망막의 상위-측두 사분면을 향해 표적화된다. 도 5d의 렌즈의 경우, 추가 도수는 렌즈의 하위-측두 사분면에 걸쳐 있으므로, 추가 도수는 망막의 상위-코 사분면을 향해 표적화된다.
도 6a는 본 개시내용의 실시예에 따른 근시의 진행을 늦추는 데 사용하기 위한(예를 들어, 근시 제어) 렌즈(401)의 개략적인 평면도를 도시한다. 렌즈(401)는 도 5a의 렌즈와 유사하고 추가 도수 영역(407)은 환형 영역(403)의 약 25%에 걸쳐 있다. 추가 도수 영역(403)에서 렌즈의 전방 표면의 곡률은 기본 도수에 대해 0 D와 2.5 D 사이에서 변경되고, 그에 따라 추가 도수 영역(407)의 추가 도수는 환형 영역(403) 둘레에서 변경된다. 렌즈의 원주 둘레의 위치를 각도 θ에 의해 정의하면(여기서, θ는 0°과 360° 사이에서 변경됨(도 6a에 도시된 바와 같음)), 이는 도 6b에 도시된 바와 같이 추가 도수에 비대칭성 피크 프로파일을 야기한다.
도 7a는 본 개시내용의 실시예에 따른 근시의 진행을 늦추는 데 사용하기 위한(예를 들어, 근시 제어) 렌즈(601)의 개략적인 평면도를 도시한다. 렌즈는 도 3a의 렌즈, 및 도 5a의 렌즈와 유사하다. 그러나, 환형 영역(103)은 제1 추가 도수 영역(607a) 및 제2 추가 도수 영역(607b)을 포함한다. 각각의 추가 도수 영역(607a, 607b)은 환형 영역(603)의 약 25%에 걸쳐 있고, 2개의 추가 도수 영역(607a, 607b)은 환형 영역(603)의 대향 사분면에 걸쳐 있다. 제1 추가 도수 영역(607a)은 렌즈의 상위-측두 사분면에 걸쳐 있고 제2 추가 도수 영역(607b)은 렌즈의 하위-코 사분면에 걸쳐 있다. 추가 도수 영역(607a, 607b)은 동일한 추가 도수를 갖는다. 추가 도수 영역(607a, 607b)은 망막의 2개의 상이한 영역에서 추가 도수를 표적화하는 데 사용될 수 있다. 제1 추가 도수 영역(607a)은 망막의 하위-코 영역을 표적화하고 제2 추가 도수 영역(607b)은 망막의 상위-측두 영역을 표적화한다. 이 렌즈(601)는 양의 기본 도수를 갖고 중심 영역(605)은 기본 도수를 제공하는 곡률을 갖는다. 추가 도수 영역(607a, 607b)의 전방 표면은 동일한 곡률을 갖고, 중심 영역(605)의 전방 표면보다 큰 곡률을 갖는다. 따라서, 추가 도수 영역(607a, 607b)은 중심 영역(605)의 기본 도수보다 큰 도수를 제공한다. 2개의 추가 도수 영역(607a, 607b)에 의해 걸쳐 있지 않은 환형 영역(603)의 나머지는 기본 도수를 갖는다.
도 8은 라인 B-B를 따라 취한 도 7의 렌즈(601)를 통한 단면의 개략도를 도시한다. 중심 영역(605)의 전방 표면은 제1 광축(118)에 중심을 갖는 더 큰 반경(610)(일점쇄선 원으로 나타냄)의 구체 표면의 일부를 정의한다. 추가 도수 영역(607a, 607b)의 전방 표면은 동일한 크기의 더 작은 반경(606a, 606b)(점선 원으로 나타냄), 및 광축(618)으로부터 동일한 제1 거리에 모두 있는 중심을 갖는 만곡 환형 표면을 정의한다.
도 8에 도시된 바와 같이, 원위 초점 표면(617)에서, 중심 영역(605)을 통과하는 광선이 포커싱된다. 근위 초점 표면(613)에는 단일 이미지가 형성되지 않는다. 근위 초점 표면(613)에서, 무한대의 점 소스에 대해, 중심 영역(105)을 통과하는 광선은 블러 원(128)을 생성한다. 그러나, 추가 도수 영역(607a, 607b)을 통과하는 원거리 점 소스로부터의 광선은 블러 원(128)을 둘러싸는 환형의 포커싱된 원호를 생성한다. 원위 초점 표면(617)에서, 중심 영역(105)을 통과하는 광선이 포커싱된다. 라인 C-C(도 7에 도시됨)를 따라, 환형 영역(603)은 중심 영역(605)과 동일한 기본 도수를 제공하는 곡률을 갖는다. 중심 영역(605)의 전방 표면 및 환형 영역(603)의 전방 표면은 도 9에 도시된 바와 같이 광축(618)에 센터링되는 단일 구체의 표면의 일부를 정의한다.
도 10은 본 개시내용의 실시예에 따른 근시의 진행을 늦추는 데 사용하기 위한(예를 들어, 근시 제어) 렌즈(701)의 개략적인 평면도를 도시한다. 렌즈는 도 3a 및 도 3b의 렌즈와 유사하지만, 환형 영역(703)은 중심 영역(705)의 기본 도수에 대해 상이한 추가 도수를 갖는 2개의 추가 도수 영역(707a, 707b)을 포함한다. 2개의 추가 도수 영역(707a, 707b) 각각은 환형 영역(703)의 약 25%에 걸쳐 있다. 2개의 추가 도수 영역(707a, 707b)은 환형 영역(703)의 인접한 사분면에 걸쳐 있고, 그에 따라 추가 도수는 환형 영역(703)의 하나의 절반부로 제한된다. 환형 영역(703)의 나머지 절반부는 기본 도수를 갖는다. 2개의 추가 도수 영역(707a, 707b)은 망막의 2개의 상이한 영역에서 상이한 추가 도수를 표적화하는 데 사용될 수 있다. 이 경우에, 추가 도수 영역(707a, 707b)은 렌즈의 상위-측두 사분면 및 하위-측두 사분면에 각각 걸쳐 있고, 따라서 각각 망막의 하위-코 사분면 및 상위-코 사분면에 추가 도수를 표적화한다. 이 렌즈(701)는 양의 기본 도수를 갖고 중심 영역(705)은 기본 도수를 제공하는 곡률을 갖는다. 추가 도수 영역(707a, 707b)의 전방 표면은 상이한 곡률을 갖지만, 양자 모두 중심 영역(705)의 전방 표면보다 큰 곡률을 갖는다. 따라서, 추가 도수 영역(707a, 707b)은 모두 중심 영역(705)의 기본 도수보다 큰 도수를 제공한다. 2개의 추가 도수 영역(707a, 707b)에 의해 걸쳐 있지 않은 환형 영역(703)의 나머지 절반부는 기본 도수를 갖는다.
도 11은 본 개시내용의 실시예에 따른 근시의 진행을 늦추는 데 사용하기 위한(예를 들어, 근시 제어) 렌즈(801)의 개략적인 평면도를 도시한다. 렌즈는 도 10의 렌즈와 유사하지만, 2개의 추가 도수 영역(807a, 807b)은 환형 영역(803)의 반대쪽, 비-인접한 사분면에 걸쳐 있다. 환형 영역(803)의 나머지 2개의 사분면은 기본 도수 및 별개의 추가 도수 영역(807)을 갖는다. 2개의 추가 도수 영역(807a, 807b)은 망막의 상이한 영역에 상이한 추가 도수를 표적화하는 데 사용될 수 있다. 이 경우에, 추가 도수 영역(807a, 807b)은 렌즈의 상위-측두 사분면 및 하위-코 사분면에 각각 걸쳐 있고, 따라서 각각 망막의 하위-코 사분면 및 상위-측두 사분면에 추가 도수를 표적화한다. 이 렌즈(801)는 양의 기본 도수를 갖고 중심 영역(805)은 기본 도수를 제공하는 곡률을 갖는다. 추가 도수 영역(807a, 807b)의 전방 표면은 상이한 곡률을 갖지만, 양자 모두 중심 영역(805)의 전방 표면보다 큰 곡률을 갖는다. 따라서, 추가 도수 영역(807a, 807b)은 모두 중심 영역(805)의 기본 도수보다 큰 도수를 제공한다.
도 12는 라인 D-D를 따라 취한 도 11의 렌즈(801)를 통한 단면의 개략도를 도시한다. 중심 영역(805)의 전방 표면은 제1 광축(818)에 중심을 갖는 더 큰 반경(810)의 구체 표면의 일부를 정의한다. 추가 도수 영역(807a, 807b)의 전방 표면은 상이한 만곡 환형 표면을 정의한다. 제1 추가 도수 영역(807a)의 전방 표면은 중심 영역(805)의 전방 표면의 곡률 반경(810)(일점쇄선 원으로 나타냄)보다 작은 곡률 반경(806a)(점선 원으로 나타냄)을 갖는다. 제2 추가 도수 영역(807b)의 전방 표면은 중심 영역(805)의 전방 표면의 곡률 반경(810) 및 제1 추가 도수 영역(807a)의 전방 표면의 곡률 반경(806a)보다 작은 반경(806b)(점 원으로 나타냄)을 갖는다. 제1 추가 도수 영역(807a)은 광축(818)으로부터 제1 거리인 곡률 중심을 갖고, 제2 추가 도수 영역(807b)은 광축(818)으로부터 제2 상이한 거리인 곡률 중심을 갖는다.
도 12에 도시된 바와 같이, 원위 초점 표면(817)에서, 중심 영역(605)을 통과하는 광선이 포커싱된다. 제1 추가 도수 영역(807a)과 관련된 제1 근위 초점 표면(813) 또는 제2 추가 도수 영역(807b)과 관련된 제2 근위 초점 표면(814)에는 단일 이미지가 형성되지 않는다. 무한대의 점 소스에 대한 제1 및 제2 근위 초점 표면(813, 814)에서, 중심 영역(105)을 통과하는 광선은 블러 원을 생성한다. 그러나, 추가 도수 영역(807a, 807b)을 통과하는 원거리 점 소스로부터의 광선은 각각의 블러 원을 둘러싸는 제1 및 제2 근위 초점 표면(813, 814)에서 환형의 포커싱된 원호를 각각 생성한다. 원위 초점 표면(817)에서, 중심 영역(805)을 통과하는 광선이 포커싱된다.
도 13은 본 개시내용의 실시예에 따른 근시의 진행을 늦추는 데 사용하기 위한(예를 들어, 근시 제어) 렌즈(901)의 개략적인 평면도를 도시한다. 렌즈는 도 10의 렌즈와 유사하지만, 2개의 추가 도수 영역(907a, 907b)은 각각 환형 영역의 약 1/8의 면적에 걸쳐 있다. 2개의 추가 도수 영역(907a, 907b)은 환형 영역의 인접한 면적에 걸쳐 있고, 그에 따라 추가 도수 영역(907)은 환형 영역(903)의 하나의 사분면, 이 경우에는 렌즈의 상위-측두 사분면으로 제한된다. 환형 영역의 나머지 3개의 사분면은 기본 도수를 갖는다. 2개의 추가 도수 영역(907a, 907b)은 상이한 추가 도수를 갖는다. 2개의 추가 도수 영역(907a, 907b)은 망막의 하위-코 사분면 내의 망막의 상이한 영역에 상이한 추가 도수를 표적화하는 데 사용될 수 있다. 이 렌즈(901)는 양의 기본 도수를 갖고 중심 영역(905)은 기본 도수를 제공하는 곡률을 갖는다. 추가 도수 영역(907a, 907b)의 전방 표면은 상이한 곡률을 갖지만, 양자 모두 중심 영역(805)의 전방 표면보다 큰 곡률을 갖는다. 따라서, 추가 도수 영역(907a, 907b)은 모두 중심 영역(905)의 기본 도수보다 큰 도수를 제공한다.
도 14는 본 개시내용의 실시예에 따른 근시의 진행을 늦추는 데 사용하기 위한(예를 들어, 근시 제어) 렌즈(1001)의 개략적인 평면도를 도시한다. 렌즈(1001)는 도 5a의 렌즈와 유사하며, 환형 영역(1003)의 면적의 약 25%에 걸쳐 있고 단일 사분면으로 제한되는 추가 도수 영역(1007)을 갖는다.
그러나, 광학 구역(1002)은 또한 제2 동심 환형 영역(1003')을 포함한다. 제2 환형 영역은 도 4b의 추가 도수 영역과 유사하고 제1 환형 영역(1003)에 대해 상이한 사분면에 걸쳐 있는 제2 추가 도수 영역(1007')을 포함한다. 제2 추가 도수 영역(1007')의 추가 도수는 제1 추가 도수 영역(1007)의 추가 도수와 동일하다. 동심 환형 영역(1003, 1003')은 기본 도수를 갖는 광학 구역의 면적에 의해 분리된다.
본 개시내용의 실시예(도시되지 않음)에서, 광학 구역은 복수의 동심 환형 영역을 포함할 수 있으며, 각각의 환형 영역은 추가 도수 영역을 갖고, 각각의 추가 도수 영역은 환형 영역의 동일한 사분면 또는 동일한 절반부로 제한된다. 본 개시내용의 실시예에서, 동심 환형 영역의 추가 도수 영역은 상이한 추가 도수를 가질 수 있다.
착용자는 우안 렌즈와 좌안 렌즈를 동시에 착용할 수 있음이 이해될 것이다. 착용자의 망막의 특정 영역에 입사되는 광에 영향을 미치는 추가 도수를 제공하기 위해, 착용자는 좌안과 우안에 각각 반대 추가 도수 영역을 갖는 2개의 상이한 렌즈를 동시에 착용하는 것이 유리할 수 있다. 예를 들어, 착용자의 망막의 코 절반부에 입사하는 광에 영향을 미치는 추가 도수를 제공하는 것이 바람직할 수 있다. 착용자의 우안의 코 망막은 망막의 좌측(착용자의 관점에서)이고, 착용자의 좌안의 코 망막은 망막의 우측(착용자의 관점에서)이다. 양쪽 코 망막에 입사되는 광의 초점을 변경하는 추가 도수를 제공하기 위해, 우안 렌즈는 측두 절반부(착용자의 관점에서 렌즈의 우측)에 걸쳐 있는 추가 도수 영역을 가져야 하고 좌안 렌즈는 측두 절반부(착용자의 관점에서 렌즈의 좌측)에 걸쳐 있는 추가 도수 영역을 가져야 한다. 착용자의 뇌는 양쪽 눈과 망막의 양쪽 영역으로부터 신호를 수신하지만, 피질에서 우세한 양안 신경 이미지는 추가 도수 영역에 의해 영향을 받지 않은 광선으로부터 형성된 이미지가 될 것이다. 따라서, 인지 수준에서, 정상적인 양안 관찰 동안 이미지 저하를 피할 수 있다.
전술한 설명에서, 공지되거나, 명백하거나 예측 가능한 등가물을 갖는 정수 또는 요소가 언급되는 경우, 이러한 등가물은 마치 개별적으로 기재된 것처럼 본 명세서에 포함된다. 본 개시내용의 진정한 범위를 결정하기 위해 청구범위를 참조해야 하며, 청구범위는 임의의 그러한 등가물을 포함하도록 해석되어야 한다. 유리하고, 편리한 것 등으로 설명된 본 개시내용의 정수 또는 특징이 임의적이며 독립 청구항의 범위를 제한하지 않는다는 것이 독자에 의해 이해될 것이다. 더욱이, 이러한 임의적인 정수 또는 특징은 본 개시내용의 몇몇 실시예에서 가능한 이점이 있지만, 다른 실시예에서는 바람직하지 않을 수 있고, 따라서 부재할 수 있음을 이해하여야 한다.

Claims (22)

  1. 근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는 데 사용하기 위한 콘택트 렌즈이며,
    광축을 갖는 광학 구역; 및
    상기 광학 구역을 둘러싸는 주변 구역을 포함하고, 상기 주변 구역은 렌즈의 회전을 제어하도록 구성되는 두께 변동을 가지며;
    상기 광학 구역은:
    중심 영역으로서, 중심 영역은 곡률을 갖는 적어도 하나의 표면에 의해 제공되는 기본 도수를 갖고, 중심 영역은 이에 의해 원거리 점 물체로부터 원위 초점 표면으로 광을 포커싱하며, 상기 광은 근위 초점 표면을 통과할 때 블러 원 또는 타원을 형성하는, 중심 영역; 및
    환형 영역으로서, 상기 중심 영역을 원주방향으로 둘러싸고 곡률을 갖는 적어도 하나의 표면에 의해 제공되는 추가 도수를 갖는 추가 도수 영역을 포함하는, 환형 영역을 포함하며, 추가 도수는 0.5 D 이상이고 추가 도수 영역의 면적은 환형 영역의 면적의 75% 미만이고;
    추가 도수 영역의 곡률 중심을 정의하는 일련의 점은 환형의 세그먼트를 형성하며, 추가 도수 영역은 이에 의해 원거리 점 물체로부터 광을 포커싱하여 근위 초점 표면에 포커싱된 원호를 형성하는, 콘택트 렌즈.
  2. 제1항에 있어서, 상기 추가 도수 영역의 면적은 환형 영역의 면적의 25% 미만인, 콘택트 렌즈.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 주변 구역의 두께 변동은 렌즈 직경에 대해 대칭성이며, 렌즈 직경은 환형 영역을 2개의 절반부로 분할하고, 상기 추가 도수 영역은 환형 영역의 하나의 절반부로 제한되는, 콘택트 렌즈.
  4. 제3항에 있어서, 상기 환형 영역의 각각의 절반부는 상부 사분면 및 하부 사분면으로 분할되고, 상기 추가 도수 영역은 단일 사분면으로 제한되는, 콘택트 렌즈.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 추가 도수 영역은 5.0 D 이상의 추가 도수를 제공하는 곡률을 갖는, 콘택트 렌즈.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 영역은 0 D 내지 5.0 D의 추가 도수를 제공하는 곡률을 갖는 더 낮은 추가 도수 영역을 더 포함하는, 콘택트 렌즈.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 영역은, 상기 기본 도수를 제공하며 상기 중심 영역의 곡률 중심에 센터링된 곡률을 갖는, 기본 도수 영역을 더 포함하는, 콘택트 렌즈.
  8. 제7항에 있어서, 상기 환형 영역의 면적의 적어도 25%는 기본 도수를 갖는, 콘택트 렌즈.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 추가 도수 영역은 환형 영역의 면적의 약 50%인 면적을 갖는 연속 영역이고, 기본 도수 영역의 면적은 환형 영역의 약 50%인 면적을 갖는 연속 영역인, 콘택트 렌즈.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 추가 도수 영역은 비대칭성 도수 프로파일을 갖는, 콘택트 렌즈.
  11. 제6항에 있어서, 상기 더 낮은 추가 도수 영역은 비대칭성 도수 프로파일을 갖는, 콘택트 렌즈.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 영역은 실질적으로 원형의 외주를 갖는, 콘택트 렌즈.
  13. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 영역은 실질적으로 타원형의 외주를 갖는, 콘택트 렌즈.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 곡률은 렌즈의 전방 표면의 곡률인, 콘택트 렌즈.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 중심 영역은 형상이 실질적으로 원형이고 2 내지 7 mm의 직경을 갖는, 콘택트 렌즈.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 환형 영역은 중심 영역의 주연부로부터 0.5 내지 1.5 mm만큼 반경방향 외향으로 연장되는, 콘택트 렌즈.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 기본 도수는 0.5 D 내지 -15.0 D인, 콘택트 렌즈.
  18. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 렌즈는 엘라스토머 재료, 실리콘 엘라스토머 재료, 히드로겔 재료, 또는 실리콘 히드로겔 재료, 또는 이들의 혼합물을 포함하는, 콘택트 렌즈.
  19. 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 렌즈는 라싱 프로세스를 사용하여 형성되는, 콘택트 렌즈.
  20. 콘택트 렌즈의 제조 방법이며,
    콘택트 렌즈를 형성하는 단계를 포함하고, 렌즈는 광학 구역 및 상기 광학 구역을 둘러싸는 주변 구역을 포함하고, 상기 주변 구역은 렌즈의 회전을 제어하도록 구성되는 두께 변동을 가지며,
    상기 광학 구역은:
    중심 영역으로서, 중심 영역은 곡률을 갖는 적어도 하나의 표면에 의해 제공되는 기본 도수를 갖고, 중심 영역은 이에 의해 원거리 점 물체로부터 원위 초점 표면으로 광을 포커싱하며, 상기 광은 근위 초점 표면을 통과할 때 블러 원 또는 타원을 형성하는, 중심 영역; 및
    환형 영역으로서, 상기 중심 영역을 원주방향으로 둘러싸고 곡률을 갖는 적어도 하나의 표면에 의해 제공되는 추가 도수를 갖는 추가 도수 영역을 포함하는, 환형 영역을 포함하며, 추가 도수는 0.5 D 이상이고 추가 도수 영역의 면적은 환형 영역의 면적의 75% 미만이고;
    추가 도수 영역의 곡률 중심을 정의하는 일련의 점은 환형의 세그먼트를 형성하며, 추가 도수 영역은 이에 의해 원거리 점 물체로부터 광을 포커싱하여 근위 초점 표면에 포커싱된 원호를 형성하는, 방법.
  21. 근시의 진행을 감소시키는 방법이며,
    다양한 근거리를 수용할 수 있는 근시인에게 제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 따른 콘택트 렌즈를 제공하는 단계를 포함하는, 방법.
  22. 제21항에 있어서, 상기 추가 도수 영역이 사람의 망막의 식별된 표적 영역에 광을 포커싱하도록 렌즈를 배향시키기 위해 밸러스팅 수단을 사용하는 단계를 더 포함하는, 방법.
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