KR20230054086A - Rf 에너지를 이용한 치료장치, 그 제어방법 및 이를 이용한 치료 방법 - Google Patents

Rf 에너지를 이용한 치료장치, 그 제어방법 및 이를 이용한 치료 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 피부 조직 중 세부적으로 에너지를 전달하고자 하는 대상조직에 따라 RF 에너지의 주파수를 조절하고, 임피던스 매칭을 실시간으로 수행하여 효율적이고 정확한 조직치료효과를 달성할 수 있는 RF 에너지를 이용한 치료 장치, 그 제어방법 및 이를 이용한 피부 치료 방법에 관한 것이다.

Description

RF 에너지를 이용한 치료장치, 그 제어방법 및 이를 이용한 치료 방법{TREATMENT APPARATUS USING RADIO-FREQUENCY ENERGY, CONTROL METHOD FOR THAT AND TREATMENT METHOD USING THAT}
본 발명은 RF 에너지를 이용한 치료장치, 그 제어방법 및 이를 이용한 치료 방법에 관한 것이다.
의료분야에서 RF(Radio-frequancy) 에너지는 조직에 국부적으로 RF 에너지를 전달하여 가열함으로써 조직을 제거하거나 절제하는 목적으로 널리 사용되어 왔다.
그러나 최근 노화된 피부 조직(주름, 탄력 저하 등)에 대한 치료목적으로서 RF 에너지를 전달하여 조직을 리모델링하는 방법이 개발되어 사용되고 있다. 또한 넓은 범위의 피하지방에 RF에너지를 인가하여 지방세포를 사멸하는 방법으로 사용되는 등 RF 에너지의 의료 분야에서의 활용범위가 넓어지고 있다.
이러한 RF 에너지를 이용하여 피부를 처리하는 방법과 관련하여 대한민국 공개특허 제1246980 호가 개시되어 있다.
그러나, 이러한 종래기술은 피부를 통하여 RF 에너지가 인가될 때 조직별로 다른 전기적 특성으로 인해 RF 에너지의 침투 깊이를 적절하게 제어하지 못하는 문제점이 있었다.
대한민국 등록특허 제1246980 호
본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위하여 침투 깊이별로 다른 조직의 전기적 특성을 고려하여 조절된 RF 에너지를 피부를 통하여 전달할 수 있는 RF 에너지를 이용한 치료장치, 그 제어방법 및 이를 이용한 치료 방법을 제공하는 것에 그 목적이 있다.
상기 과제의 해결 수단으로서, RF 에너지를 발생시킬 수 있도록 RF 발생부 RF 에너지를 조절할 수 있도록 구성되는 RF 조절부, 조절된 RF 에너지를 피부에 접촉하여 비칩습적으로 대상조직에 전달할 수 있도록 구성되는 전극 및 RF 발생부 및 RF 조절부를 제어할 수 있도록 구성되는 제어부를 포함하며, 제어부는, 표피, 진피 및 지방층 중 어느 하나에 집중하여 RF 에너지를 전달할 수 있도록 RF 에너지의 주파수를 조절하는 RF 에너지를 이용한 치료 장치가 제공될 수 있다.
한편, 제어부는, RF 조절부가 3가지 주파수 중 어느 하나를 선택하여 RF 에너지를 전달하도록 제어할 수 있다.
한편, RF 조절부와 전극 사이에 구비되는 임피던스 매처를 더 포함하며, 제어부는, RF 조절부가 RF 에너지의 주파수를 조절하는 경우 임피던스 매처를 조절하여 대상조직과 RF 조절부 사이의 임피던스 매칭을 수행하도록 임피던스 매처를 조절할 수 있다.
또한, 제어부는, RF 조절부가 RF 에너지의 주파수를 실질적으로 2.28MHz, 6.75MHz 및 13.56MHz 중에서 선택하도록 제어할 수 있다.
한편, 전극은, 얼굴 치료용 핸드피스의 단부에 구비될 수 있다.
이때, 제어부는, RF 조절부가 RF 에너지의 주파수를 2.25MHz, 6.75MHz 및 13.56MHz 의 순서로 변경하도록 제어할 수 있다.
또한, 전극을 냉각시킬 수 있도록 구성되는 냉각부를 더 포함하며, 제어부는 피부 표면의 온도가 임계값 이상으로 상승한 경우 냉각부를 구동하도록 제어할 수 있다.
한편, 전극은 인체의 몸에 부착가능하게 구비되는 바디 어플리케이터에 구비될 수 있다.
이때, 바디 어플리케이터는 복수로 구비되며, 제어부는 RF 조절부가 복수의 바디 어플리케이터 중 적어도 하나의 바디 어플리케이터에 적용되는 RF 에너지의 주파수를 소정 조건에 따라 변경하도록 제어할 수 있다.
한편, 제어부는 RF 조절부가 바디 어플리케이터에 적용되는 RF 에너지의 주파수를 2.25MHz, 6.75MHz 및 13.56MHz 의 순서로 조절하도록 제어할 수 있다.
한편, 복수의 바디 어플리케이터는, 각각 고유번호가 구비되며, 제어부는 RF 조절부가 고유번호에 따른 각각의 바디 어플리케이터에 순차적으로 RF 에너지의 주파수를 조절하도록 제어할 수 있다.
나아가, 진공펌프를 더 포함하며, 바디 어플리케이터의 진공펌프와 유체소통할 수 있도록 구성되는 흡입구를 더 포함할 수 있다.
추가적으로 RF 에너지를 발생시키는 단계, RF 에너지의 주파수를 조절하는 단계 및 조절된 RF 에너지를 전극에 전달하는 단계를 포함하며, RF 에너지의 주파수 및 파워를 조절하는 단계는 표피, 진피 및 지방층 중 어느 하나에 집중하여 RF 에너지가 전달될 수 있도록 주파수를 조절하는 RF 에너지를 이용한 치료 장치의 제어 방법이 제공될 수 있다.
한편, RF 에너지의 주파수를 조절하는 단계는 3가지 주파수 중에서 어느 하나의 주파수를 선택하여 수행될 수 있다.
또한, RF 에너지의 주파수가 조절된 경우 치료 장치 측의 임피던스와 대상 조직의 임피던스 간의 임피던스 매칭을 수행하는 단계를 더 포함할 수 있다.
한편, RF 에너지의 주파수를 조절하는 단계에서 주파수의 조절은 실질적으로 2.28MHz, 6.75MHz 및 13.56MHz 중 어느 하나의 주파수로 선택되어 수행될 수 있다.
또한, 조절된 RF 에너지를 전극에 전달하는 단계는, 얼굴에 밀착될 수 있도록 구성되는 핸드 피스의 팁에 구비된 전극에 RF 에너지를 전달하여 수행될 수 있다.
한편, 팁과 밀착된 피부 표면의 온도가 임계값 이상으로 상승된 경우 전극을 냉각시킬 수 있도록 구성되는 냉각부를 구동하는 냉각단계를 더 포함할 수 있다.
한편, 조절된 RF 에너지를 전극에 전달하는 단계는, 복수로 구비되며, 몸에 부착할 수 있도록 구성되는 바디 어플리케이터에 구비된 전극에 RF 전극을 전달하여 수행될 수 있다.
또한, 조절된 RF 에너지를 전극에 전달하는 단계는 복수의 바디 어플리케이터 중 적어도 하나에 적용되는 RF 에너지의 주파수를 소정 조건에 따라 변경하여 수행될 수 있다.
추가로, 피부에 전극을 밀착시키는 단계, 표피, 진피 및 지방층 중 어느 하나에 집중하여 RF 에너지를 전달하는 조직 치료 단계 및 RF 에너지의 전달을 차단하는 RF 에너지 차단 단계를 포함하는 RF 에너지를 이용한 치료 방법이 제공될 수 있다.
한편, 조직 치료 단계는 3가지 주파수 중 어느 하나를 선택하여 RF 에너지를 전달할 수 있다.
또한, 조직 치료 단계에서 주파수가 변경되는 경우, RF 에너지를 이용한 치료 기기와 조직 사이에서 임피던스 매칭을 수행하는 임피던스 매칭 단계를 더 포함할 수 있다.
한편, 조직 치료 단계는 RF 에너지의 주파수를 실질적으로 2.28MHz, 6.75MHz 및 13.56MHz 중에서 선택하여 수행될 수 있다.
또한, 피부에 전극을 밀착시키는 단계는 얼굴의 피부에 전극을 밀착시키며, 조직 치료 단계는 얼굴에 밀착된 전극에 RF 에너지를 전달하여 수행될 수 있다.
한편, 피부에 전극을 밀착시키는 단계는 몸의 복수의 지점에 전극이 구비된 복수의 바디 어플리케이터를 밀착시켜 수행되며, 조직 치료 단계는 복수의 바디 어플리케이터 중 적어도 하나에 RF 에너지를 전달하여 수행될 수 있다.
본 발명에 따른 RF 에너지를 이용한 치료장치, 그 제어방법 및 이를 이용한 치료 방법은 피부 표면으로부터의 침투 깊이에 따른 RF 에너지를 조절하여 치료 정밀도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다. 또한 RF 에너지의 침투 깊이 별로 임피던스 매칭을 수행하여 치료영역에 대한 치료 효과를 극대화할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 제1 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 구성을 나타낸 블록도이다.
도 2는 피부조직의 모식도와 각 조직의 전기적 특징을 근사화하여 나타낸 회로도이다.
도 3은 대상조직별로 선택되는 RF 에너지의 주파수를 도시한 개념도이다.
도 4는 본 발명에 따른 제2 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 핸드피스를 나타낸 부분확대사시도이다.
도 5는 도 4에 도시된 팁의 분해사시도이다.
도 6은 도 4에 도시된 팁의 단면도이다.
도 7은 도 4에 도시된 팁에서 표면을 냉각할 때의 히트맵과 온도정보를 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명에 따른 제3 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 바디 어플리케이터의 부분확대사시도이다.
도 9는 도 8에 도시된 바디 어플리케이터의 분해사시도이다.
도 10은 도 8에 도시된 바디 어플리케이터의 단면도이다.
도 11은 제3 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 사용상태도이다.
도 12는 본 발명에 따른 제4 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 제어방법의 순서도이다.
도 13은 본 발명에 따른 제5 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 제어방법의 순서도이다.
도 14는 본 발명에 따른 제6 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 제어방법의 순서도이다.
도 15는 본 발명에 따른 제7 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료 방법의 순서도이다.
도 16은 본 발명에 따른 제8 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료 방법의 순서도이다.
도 17은 본 발명에 따른 제9 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료 방법의 순서도이다.
이하, 본 발명의 실시 예에 따른 RF 에너지를 이용한 치료장치, 그 제어방법 및 이를 이용한 치료 방법에 대하여, 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 그리고 이하의 실시예의 설명에서 각각의 구성요소의 명칭은 당업계에서 다른 명칭으로 호칭될 수 있다. 그러나 이들의 기능적 유사성 및 동일성이 있다면 변형된 실시예를 채용하더라도 균등한 구성으로 볼 수 있다. 또한 각각의 구성요소에 부가된 부호는 설명의 편의를 위하여 기재된다. 그러나 이들 부호가 기재된 도면상의 도시 내용이 각각의 구성요소를 도면내의 범위로 한정하지 않는다. 마찬가지로 도면상의 구성을 일부 변형한 실시예가 채용되더라도 기능적 유사성 및 동일성이 있다면 균등한 구성으로 볼 수 있다. 또한 당해 기술 분야의 일반적인 기술자 수준에 비추어 보아, 당연히 포함되어야 할 구성요소로 인정되는 경우, 이에 대하여는 설명을 생략한다.
본 명세서에서 치료라 함은 국부적으로 피부 조직을 가열하여 Wrinkles, Tone and Textural Changes, Scars and Acne Scarring, Sagging mucosa, Overall Rejuvenation, Hyperhidrosis, laxity, lifting, tightening, Fat reduction 등을 개선하는 효과를 발휘하는 것을 뜻함을 전제로 설명하도록 한다.
하에서, '조직'이라함은 인간을 포함하는 동물의 피부조직을 구성하는 세포의 집합을 의미하며, 얼굴, 몸 등의 피부 조직을 포함할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 제1 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 구성을 나타낸 블록도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 제1 실시예인 RF 치료 장치는 조직내에 RF 에너지를 전달하여 가열하여 조직을 치료할 수 있도록 구성된다. 본 발명에 따른 RF 치료장치는 RF 발생부(1), RF 조절부(2), 임피던스 매처(3), 전극(4), 센서부(5) 및 제어부(6)를 포함하여 구성될 수 있다.
RF 발생부(1)는 전원을 공급받고 RF에너지를 발생시킬 수 있도록 구성된다. 다만 RF 에너지를 발생시키는 RF 발생부의 구성은 널리 사용되는 구성이 적용될 수 있으므로 구성에 대한 상세한 설명은 생략하도록 한다.
RF 조절부(2)는 전극(4)을 통하여 치료에 사용되는 RF에너지를 발생시키며, 이때 필요에 따라 RF에너지의 주파수, 전압 등을 변화시킬 수 있도록 구성된다. RF 조절부(2)는 피부의 표면으로부터 RF 에너지를 심부에 전달할 때 주된 에너지 전달 영역이 달라질 수 있도록 주파수를 조절할 수 있다. 일 예로서, RF 조절부(2)는 피부의 표피, 진피 및 지방층에 집중하여 RF 에너지가 전달될 수 있도록 RF 에너지의 주파수를 2.25, 6.75 및 13.56MHz 로 조절가능하도록 구성될 수 있다.
임피던스 매처(3)는 RF 에너지를 이용한 치료장치의 회로측과 조직 사이에서의 임피던스 매칭을 수행할 수 있도록 구성된다. 임피던스 매처(3)는 조직의 온도가 달라지는 경우 조직 자체의 임피던스가 변화될 수 있다. 또한 치료하고자 하는 조직이 달라지는 경우 조직의 임피던스 특성을 근거로 임피던스 매칭을 실시간으로 수행하도록 구성될 수 있다. 임피던스 매처(3)는 임피던스 치료 장치와 매칭을 수행하여 에너지 전달 효율을 극대화하며, 결국 치료 시간을 단축시킬 수 있고 정밀한 치료 효과를 발휘할 수 있게 된다.
전극(4)은 RF 치료장치로부터 RF 에너지를 피부에 전달하도록 구성된다. 전극(4)은 복수로 구성되어 복수의 지점에 에너지를 전달하도록 구성될 수 있다. 전극(4)은 Bipolar 타입으로 구성되어 각 전극(4)쌍 사이에 위치한 병변부위에 RF 에너지가 집중될 수 있도록 구성될 수 있다. 또한 복수의 전극(4)쌍이 구비되어 조직내에 fractional damage를 발생시킬 수 있도록 구성될 수 있다. 복수의 전극(4)은 비침습식으로 구성될 수 있다.
센서부(5)는 RF에너지의 출력값을 측정할 수 있도록 구성된다. 센서부(5)는 RF 발생부(1)로부터 전극(4) 사이의 전기적 경로상에 구비될 수 있으며, 전극(4)에 인가되는 전류, 전압 및 파워를 측정할 수 있도록 구성된다. 이로부터 조직의 임피던스 값을 계산할 수 있게 된다.
제어부(6)는 센서부(5)로부터 센싱값을 입력받으며, RF 발생부(1) 등을 제어할 수 있도록 구성된다. 또한 사용자의 입력에 따라 작동시 RF 발생부(1), RF 조절부(2) 및 임피던스 매처(3)와 같은 구성요소를 제어할 수 있도록 구성된다. 제어부(6)는 RF 에너지 인가 도중 조직 내의 상태를 판단하고 이에 따라 인가되는 RF에너지를 조절하거나 RF에너지를 차단하도록 기능할 수 있다. 이때, 치료하고자 하는 대상조직이 달라지는 경우, 즉 진피, 표피 및 지방층 중 어느 하나에서 다른 하나로 달라지는 경우 RF 에너지의 주파수를 조절하도록 RF 조절부(2)를 제어하게 된다. 또한 대상조직이 달라짐에 따라 조직의 임피던스를 센서부(5)로부터 전송받고 임피던스 매처(3)를 제어하게 된다.
도 2는 피부조직의 모식도와 각 조직의 전기적 특징을 근사화하여 나타낸 회로도이다.
도 2를 참조하면, 피부 표면에 전극이 밀착되어 전기 에너지를 전달할 때 피부 조직의 전기적 특성을 반영하여 근사화된 회로도를 확인할 수 있다. 여기 Ueq 는 전극의 전위, Us는 피부에서의 전위, Rct 는 인터페이스에서 Charge Transfer resistance, CDC 는 Double layer capacitance, RL 는 electrolyte 및 리드의 저항을, CT 는 하이드로젤(hydrogel)의 부족으로 인한 피부-전극 인퍼페이스에서의 strong capacitive behavior, Rs 및 Cs는 각각 Stratum corneum(피부각질층) 의 저항과 커패시턴스(capacitance), 그리고 RSUB 은 subcutis 층의 저항을 나타낸다.
그러나, 이러한 전기적인 근사화를 수행하더라도, 주된 RF 에너지 전달 조직을 피부조직은 표피(Epidermis), 진피(Dermis) 및 피하지방(Subcutis) 중 어떤 것으로 선택하느냐에 따라 전기적인 특성이 달라지게 되며, 이에 따라 임피던스 매칭을 위한 조절값이 달라지게 된다. 예로서 표피를 주된 치료 대상으로 하는 경우 표피의 전기적인 특성을 반영하여 임피던스 매칭을 수행한다. 또한 진피를 주된 치료 대상으로 하는 경우 표피와 진피의 전기적 특성이 반영되며, 나아가 피하지방을 주된 치료 대상으로 하는 경우 표피, 진피 및 피하지방의 전기적인 특성이 반영되어 임피던스 매칭을 수행하게 된다.
다만, 임피던스 매칭을 위한 조절값은 부위별, 개인차, 조직의 컨디션별로 크게 달라질수 있어 구체적인 수치에 대한 설명은 생략하도록 한다.
도 3은 대상조직별로 선택되는 RF 에너지의 주파수를 도시한 개념도이다.
도 3을 참조하면, 표피, 진피 및 피하지방 중 어느 하나를 선택하여 RF 에너지를 인가할 때 선택되는 주파수, 전위 및 임피던스 매칭이 없이 RF 에너지를 조직에 인가했을 때의 전류값이 나타나 있다. RF 에너지는 2 내지 20 MHz 의 주파수 범위 내에서 주파수가 작은 경우 조직내에서 RF 에너지의 전달영역이 얕고 넓게 형성되며, 반대로 주파수가 높은 경우 RF 에너지의 전달 영역이 피부 표면으로부터 깊고 좁은 영역으로 형성되는 것으로 알려져 있다.
따라서 제어부(6)는 표피를 대상조직으로 하여 RF 에너지를 전달하는 경우 2.25MHz, 진피를 대상조직으로 하여 RF 에너지를 전달하는 경우 6.75MHz, 그리고 피하지방층을 대상조직으로 하여 RF 에너지를 전달하는 경우 13.56MHz 로 RF 에너지의 주파수가 조절될 수 있도록 RF 조절부(2)를 제어할 수 있다.
또한 제어부는, 인가되는 RF 에너지의 주파수에 따라 조직의 주된 RF 에너지 전달영역이 결정되고, 이때 조직의 임피던스 값이 달라지게 되므로 임피던스 매칭을 수행하기 위하여 임피던스 매처(3)를 제어한다.
따라서 본 발명에 따른 제1 실시예는 대상조직을 어떤 조직으로 선택하느냐에 따라 RF 에너지의 주파수를 조절하며, 또한 주된 대상조직이 달라짐에 따라 임피던스 매칭을 실시간으로 수행하여 RF 에너지의 전달효율을 극대화하고 치료의 정확도를 향상시킬 수 있게 된다.
이하에서는 도 4 내지 도 7을 참조하여 본 발명에 따른 제2 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치에 대하여 설명하도록 한다.
도 4는 본 발명에 따른 제2 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 핸드피스를 나타낸 부분확대사시도이다.
도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 제2 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치는 피부 조직의 리모델링을 치료하기 위한 장치일 수 있다. 구체적으로 얼굴피부의 조직을 치료하기 위한 장치일 수 있다. 본 실시예에서 치료 장치는 사용자가 파지할 수 있는 핸드피스(미도시)가 구비될 수 있으며, 핸드피스(10)의 일측에는 팁(100)이 구비될 수 있다. 팁(100)의 단부에는 피부와 밀착가능한 복수의 전극이 구비될 수 있다. 사용자는 핸드피스(10)의 위치를 이동하여 치료영역을 선택할 수 있게 된다.
한편, 본 실시예에서도 전술한 실시예와 같이 RF 발생부, RF 조절부, 임피던스 매처, 센서부, 제어부가 구비될 수 있으나, 이러한 구성은 전술한 핸드피스와 별도로 구비되는 본체에 구비될 수 있다.
도 5는 도 4에 도시된 팁의 분해사시도이며, 도 6은 도 4에 도시된 팁의 단면도이다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 본 실시예에서 팁은 전방 커버(front cover, 110), 전극 모듈(140), 냉각유로 블록(150), 내부 커버(120) 및 후방 커버(130)를 포함하여 구성될 수 있다.
전방 커버(110)와 내부 커버(120)는 서로 결합되어 전극 모듈(140)을 지지할 수 있도록 구성될 수 있다. 내부 커버(120)에는 냉각유로 블록(150)이 배치될 수 있다. 전극 모듈(140)은 복수의 전극을 포함하여 구성되며, 복수의 전극은 전술한 바와 같이 팁(100)의 일측을 향하여 복수의 전극쌍으로 구비될 수 있다. 냉각유로 블록(150)은 일측이 후방 커버(130)를 관통하여 구비되며, 본체에 구비된 냉각부로부터 전달된 냉매가 유입되어 전극 모듈(140)의 후면에 분사될 수 있도록 구성된다. 이때 전극 모듈(140)의 복수의 영역에서 고르게 열흡수를 수행할 수 있도록 냉각유로 블록(150)은 복수의 유출구가 형성되며, 냉각유로 블록(150) 내부에서 냉매(m)가 분지되어 전극의 후면 측으로 분사되도록 구성될 수 있다.
한편, 도시되는 않았으나, 냉각부는 본체에 구비될 수 있으며, 냉각 매체가 수용된 용기, 용기를 조작하여 냉매의 유출을 야기하는 냉각구동부를 포함하여 구성될 수 있다. 냉각부는 일 예로서 크라이어젠(cryogen) 등의 냉매를 냉각유로 블록(150)으로 유동시키고, 최종적으로 전극 모듈(140)의 후면으로 분사되어 기화되면서 전극을 냉각할 수 있도록 구성될 수 있다.
도 7은 도 4에 도시된 팁에서 표면을 냉각할 때의 히트맵과 온도정보를 도시한 도면이다.
도 7을 참조하면, 냉각부의 구동에 따라 전극 모듈(140)의 후면에 냉매가 분사되었을 때 분사된 시간에 따른 최종 온도가 도시되어 있다. 초기 온도는 전극의 온도를 실내온도인 20 내지 21 ℃로 설정하였으며, 냉매의 분사는 5초에서 25초까지 5초 단위로 분사 지속시간을 설정하여 수행되었다. 냉매의 분사지속시간이 증가됨에 따라 최종 온도는 낮게 나타났다. 이때 냉각유로 블록(150)에 형성되어 있는 분사구에 의해 전극 모듈(140)의 후면이 균일하게 냉각되면서 중심부분의 열분포가 균일하게 형성됨을 확인할 수 있다.
전술한 바와 같이 냉각부는 전극의 후면을 냉각할 수 있다. 이때 전극은 피부와 전기적으로 용량성 커플링(capacitive coupling)이 되어 있는 상태이므로, RF 에너지를 전달할 때 피부 표면에서 과도하게 온도가 증가하는 경우 냉각부가 구동하여 피부 표면의 온도를 낮출 수 있다. 한편, 이때 팁의 일측에 구비된 온도센서를 이용하여 밀착된 피부 표면의 온도를 측정하여 피드백하고, 냉각부의 제어에 이용할 수 있게 된다.
이하에서는 도 8 내지 도 11을 참조하여 본 발명에 따른 제3 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치에 대하여 설명하도록 한다.
제3 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치는 하나의 본체에 복수의 바디 어플리케이터를 포함하여 구성될 수 있다. 각각의 바디 어플리케이터는 몸에 부착하여 RF 에너지를 전달할 수 있도록 구성될 수 있다. 제3 실시예에서 바디 어플리케이터로 RF 에너지를 전달하여 지방세포를 사멸하여 최종적으로 body contouring의 효과를 발휘할 수 있게 된다.
도 8은 본 발명에 따른 제3 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 바디 어플리케이터의 부분확대사시도이다.
도 8을 참조하면, 바디 어플리케이터가 도시되어 있다. 바디 어플리케이터는 상대적으로 대면적인 복부 전체적인 치료를 한번에 수행할 수 있도록 복수로 구비되며, 복수의 바디 어플리케이터는 동시에 사용될 수 있다. 각각의 바디 어플리케이터는 소정크기로 구성되며, 피부, 일 예로 복부에 부착된 상태에서 RF 에너지를 전달할 수 있도록 구성될 수 있다.
도 9는 도 8에 도시된 바디 어플리케이터의 분해사시도이며, 도 10은 도 8에 도시된 바디 어플리케이터의 단면도이다.
도 9 및 도 10을 참조하면, 바디 어플리케이터(200)는 상부 외부 커버(211), 하부 외부 커버(212), 인슐레이터(220), 내부 커버(230), 전극판(240), 커넥터(250) 및 디스플레이부(260)를 포함하여 구성될 수 있다.
상부 외부 커버(211)와 하부 외부 커버(212)는 상하방향으로 결합하며, 내측에 공간이 형성될 수 있도록 구성될 수 있다. 상부 외부 커버(211)와 하부 외부 커버(212) 사이의 공간에는 인슐레이터(220)가 구비되어 전기적인 경로와 후술할 음압의 경로가 서로 간섭을 방지하도록 구성된다.
하부 외부 커버(212)는 하측이 개방되어 형성되며, 내부 커버(230) 및 전극판이 내측에 구비될 수 있도록 구성될 수 있다. 하부 외부 커버(212)는 내측에 내부 커버(230)가 하부 외부 커버(212)의 내면과 단차를 두어 구비될 수 있다. 즉 하부 외부 커버(212)의 내면과 내부 커버(230)의 외면 사이에는 일정한 간격으로 틈이 형성될 수 있다. 이러한 틈은 흡입구로서 기능하게 된다.
전극판(240)에는 복수의 전극이 구비될 수 있다. 복수의 전극은 하면에 일정한 패턴으로 형성될 수 있다. 각각의 전극과 연결된 와이어는 내부 커버를 통과하여 상부 외부 커버(211)와 하부 외부 커버(212) 사이의 공간에서 연결될 수 있다.
커넥터(250)는 상부 외부 커버(211)의 일측에 구비되며, 본체와 전기적으로 연결되어 RF 에너지를 전달하는 배선과 튜브가 통과할 수 있도록 구성될 수 있다. 튜브는 본체의 진공펌프로부터 음압을 제공받고, 틈(270)과 유체소통될 수 있다.
틈(270)은 본체에 구비된 진공펌프가 작동하여 튜브를 통하여 음압이 전달되고 전극판(240)의 둘레방향으로 음압을 형성하여 피부에 밀착시킬 수 있게 된다.
디스플레이부(260)은 상부 외부 커버(211)의 상면에 구비되어 정보를 시현할 수 있도록 구성되며, 일 예로서 복수의 바디 어플리케이터(200) 각각에 대한 고유 정보를 표시할 수 있도록 구성될 수 있다.
도 11은 제3 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 사용상태도이다.
도 11을 참조하면, 본 실시예에서 바디 어플리케이터는 복수로 구성되어 동시에 피부에 부착되어 함께 사용될 수 있다. 일 예로서 바디 어플리케이터는 6개로 구성될 수 있으며, 각각의 바디 어플리케이터는 일련번호가 부여되어 복부의 각 부분에 부착될 수 있다.
본 실시예에서 제어부는 각각의 바디 어플리케이터를 독립적으로 제어할 수 있도록 구성된다.
제어부는 전체 치료 영역에 대하여 서브 치료 영역으로 분할하고, 각각의 분할된 영역에 대하여 차례대로 치료를 수행할 수 있도록 제어할 수 있다. 일 예로서, 치료 시퀀스가 수행되는 어느 하나의 바디 어플리케이터는 RF 에너지의 주파수를 2.25, 6.75 및 13.56MHz 의 순서대로 설정하여 인가할 수 있다. 즉 제1 치료시간동안 2.25 MHz의 RF 에너지를 인가하여 넓은 영역에 pre-heating을 수행하며, 이후 제2 치료시간동안 6.75Mhz의 주파수의 RF 에너지를 인가하고, 이후 제3 치료시간동안 13.56MHz의 RF 에너지를 인가하여 지방세포를 사멸하기 위한 치료온도로 상승시킬 수 있게 된다. 이때 각각의 치료 시간은 미리 설정되거나, 각각의 조직의 온도를 측정하여 임계온도보다 상승된 경우 해당 치료 시퀀스를 종료하고 다음 치료 시퀀스를 수행하도록 제어될 수 있다.
이때 제어부는 인접하는 바디 어플리케이터와 연동하여 RF 에너지를 인가할 수 있다. 즉 제어부는, 제1 바디 어플리케이터(201)에 2.25MHz의 주파수를 갖는 RF 에너지를 인가한 뒤 6.75MHz의 주파수를 갖는 RF 에너지를 인가할 때, 제1 바디 어플리케이터(201)에 인접한 제2 바디 어플리케이터(202)에는 2.25MHz의 주파수를 갖는 RF 에너지를 인가할 수 있다. 이후 소정시간이 경과한 뒤 제2 바디 어플리케이터(202)에 인접한 제3 바디 어플리케이터(203)에 2.25MHz의 주파수를 갖는 RF 에너지를 인가한다. 이때 제어부는 제3 바디 어플리케이터(203)에는 6.75MHz의 주파수를 갖는 RF 에너지를, 그리고 제1 바디 어플리케이터(201)에는 13.56MHz의 주파수를 갖는 RF 에너지를 인가하도록 제어할 수 있다. 즉 전체 치료 영역을 살펴보면 2.25MHz의 주파수를 갖는 RF 에너지가 인가되는 영역은 바디 어플리케이터가 부착된 위치의 일련번호를 따라 쉬프팅된다. 이와 유사하게 6.75MHz의 주파수를 갖는 RF 에너지가 인가되는 영역 또한 2.25MHz 가 인가되는 영역에 뒤이어 인가된다. 이와 유사하게 13.56MHz의 주파수를 갖는 RF 에너지는 6.75MHz 의 주파수를 갖는 RF 에너지가 인가되는 영역에 뒤이어 인가될 수 있다.
한편, 제어부에서 제1 치료시간, 제2 치료시간 및 제3 치료시간은 서로 다르게 설정될 수 있으므로 각각의 바디 어플리케이터에서 주파수가 변형되는 시기는 서로 달라질 수 있다.
한편, 제어부는 이때 각각의 바디 어플리케이터에 인가되는 RF 에너지의 주파수가 달라지는 경우 각각의 바디 어플리케이터와 연결된 임피던스 매처를 이용하여 임피던스 매칭을 수행할 수 있다. 이때 임피던스 매칭은 제1 실시예에서 설명한 내용과 유사하게 주된 RF 에너지가 인가되는 조직의 임피던스를 근거로 수행될 수 있다.
전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 제3 실시예는 복수의 바디 어플리케이터가 구비되며, 각각의 바디 어플리케이터에서 순차적으로 RF 에너지의 주파수를 변경하면서 치료를 수행할 수 있다. 이때 각각의 바디 어플리케이터에서 RF 에너지의 주파수가 변경되는 경우 임피던스 매칭이 실시간으로 수행될 수 있다.
이하에서는 도 12를 참조하여 본 발명에 따른 제4 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 제어방법에 대하여 설명하도록 한다.
도 12는 본 발명에 따른 제4 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 제어방법의 순서도이다.
도 12를 참조하면, 본 발명에 따른 제4 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 제어방법은 RF에너지를 발생시키는 단계(S110), 2.28MHz, 6.75MHz 및 13.56MHz 중 어느 하나의 주파수로 조절하는 단계(S120), 임피던스 매칭을 수행하는 단계(S130) 및 조절된 RF 에너지를 전극에 전달하는 단계(S140)를 포함하여 구성될 수 있다.
RF에너지를 발생시키는 단계(S110)는 전원부에서 인가된 에너지를 이용하여 RF 에너지를 발생시키는 단계에 해당한다.
2.28MHz, 6.75MHz 및 13.56MHz 중 어느 하나의 주파수로 조절하는 단계(S120)는 치료하고자 하는 대상조직을 표피, 진피 및 지방층 중 어느 하나를 선택할 수 있도록 RF 에너지의 주파수를 선택하는 단계에 해당한다. 주파수가 낮을수록 RF 에너지가 인가되는 영역 중 넓고 얕은 영역에 RF 에너지가 집중되며, 주파수가 높을수록 좁고 깊은 영역에 RF 에너지가 집중되므로, 치료 영역을 선택하여 주파수를 선택하는 단계에 해당한다.
임피던스 매칭을 수행하는 단계(S130)는 RF 에너지의 주파수가 선택된 경우 주된 RF 에너지가 전달되는 영역이 달라지게 되므로 임피던스 매칭을 수행하는 단계에 해당한다.
조절된 RF 에너지를 전극에 전달하는 단계(S140)는 RF 에너지의 주파수가 변경되고, 또한 변경된 주파수를 갖는 RF 에너지가 전달될 때 조직과 임피던스 매칭이 된 상태에서 RF 에너지를 전극에 전달하는 단계에 해당한다. 전극에 RF 에너지가 전달된 경우 전극과 용량성 커플링된 조직에 RF 에너지가 전달되어 조직 내에 심부열이 발생된다.
한편, 도시되지는 않았으나, 사용자에 의해 또는 미리 입력된 제어 시퀀스에 의해 RF 에너지의 주파수가 변경되는 경우 2.28MHz, 6.75MHz 및 13.56MHz 중 어느 하나의 주파수로 조절하는 단계(S120) 내지 조절된 RF 에너지를 전극에 전달하는 단계(S140)가 재수행될 수 있다.
이하에서는 도 13을 참조하여 본 발명에 따른 제5 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 제어방법에 대하여 설명하도록 한다. 도 13은 본 발명에 따른 제5 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 제어방법의 순서도이다.
도 13을 참조하면, 제5 실시예에서는 전술한 실시예에서 RF에너지를 발생시키는 단계(S110) 내지 조절된 RF 에너지를 전극에 전달하는 단계(S140)가 동일하게 수행될 수 있다.
본 실시예에서는 조절된 RF 에너지를 조직에 인가하여 치료하는 도중 피부 표면의 온도가 임계값 이상이 되는지 여부를 판단하는 단계(S150) 및 냉각단계(S160)를 더 포함할 수 있다.
피부 표면의 온도가 임계값 이상이 되는지 여부를 판단하는 단계(S150)는 온도센서를 이용하여 피부 표면의 온도를 측정하고, 피부 표면의 온도가 임계값 이상으로 과도하게 상승된 경우를 판단한다. 본 단계에서 온도센서에 의해 측정된 값이 임계값을 초과하지 않은 경우 조절된 RF 에너지를 전극에 전달하는 단계(S140)가 지속될 수 있다. 반대로, 조절된 RF 에너지를 전극에 전달하는 단계(S140)의 수행 중 피부 표면의 온도가 임계값 이상이 된 것 으로 판단된 경우 냉각단계(S160)가 수행될 수 있다.
냉각단계(S160)는 냉각유체, 즉 냉매를 이용하여 최종적으로 조직을 냉각하여 피부 표면의 과도한 손상을 방지할 수 있도록 수행된다. 냉각단계(S160)에서는 RF 에너지의 전달에는 영향을 미치지 않고 피부 표면의 온도만을 낮출 수 있도록 피부와 밀착된 전극의 후면을 냉각하는 방식으로 수행될 수 있다. 본 단계에서는 냉각매체, 일 예로서 크라이어젠(Cryogen)을 전극의 후면에 분사하여 전기적으로 영향을 미지치 않고 온도만을 낮출 수 있도록 수행될 수 있다. 크라이어젠과 같은 냉매는 기화되면서 전극의 온도를 낮출 수 있고 최종적으로 피부 표면의 온도를 낮출 수 있게 된다.
이상에서 설명한 제5 실시예는 전술한 제2 실시예의 RF 에너지를 이용한 치료 장치에 적용될 수 있다.
이하에서는 도 14를 참조하여 본 발명에 따른 제6 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 제어방법에 대하여 설명하도록 한다.
도 14는 본 발명에 따른 제6 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 제어방법의 순서도이다.
도 14를 참조하면, 제6 실시예에서는 전술한 제4 실시예에서 RF에너지를 발생시키는 단계(S110) 내지 임피던스 매칭을 수행하는 단계(S130)가 동일하게 수행될 수 있다. 제6 실시예에서는 임피던스 매칭을 수행하는 단계(S130)이후 바디 어플리케이터 중 적어도 하나에 상이한 RF 에너지를 전달하는 단계(S145)가 수행될 수 있다.
바디 어플리케이터 중 적어도 하나에 상이한 RF 에너지를 전달하는 단계(S145)는 복수의 바디 어플리케이터에 전달하는 RF 에너지의 주파수 및 인가 시간을 개별적으로 조절하는 단계에 해당한다. 치료 영역, 예를 들어 복부에 부착된 복수의 바디 어플리케이터는 각각의 치료영역에 순차적으로 2.28MHz 의 RF 에너지를 인가하고, 각 영역에 차순위로 6.75MHz, 그리고 13.56MHz의 주파수를 갖는 RF 에너지를 인가하도록 제어될 수 있다. 한편, 시간에 따라 인가되는 RF 에너지의 주파수는 작은 주파수에서 큰 주파수로 조절될 수 있으나, 소정 조건에 따라 선택되는 주파수가 달라질 수 있다. 일 예로서, 특정 치료 영역에 최초 인가하고자 하는 영역이 이미 가열되어 소정온도로 상승된 경우 별도의 예열 과정을 거치지 않고 바로 6.75MHz 또는 13.56MHz의 주파수를 갖는 RF 에너지를 인가하도록 미리 설정될 수 있다.
한편, 도시되는 않았으나, 본 실시예에서는 온도센서를 이용하여 온도를 측정한 결과 예측되는 범위를 벗어나 온도 측정값이 과도하게 낮은 경우 진공펌프를 재가동하여 바디 어플리케이터의 흡착력을 증대시킬 수 있다.
이상에서 설명한 제6 실시예는 전술한 제3 실시예의 RF 에너지를 이용한 치료 장치에 적용될 수 있다.
이하에서는 도 15를 참조하여 본 발명에 따른 제7 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료장치의 제어방법에 대하여 설명하도록 한다.
도 15는 본 발명에 따른 제7 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료 방법의 순서도이다.
도 15를 참조하면, 제7 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료 방법은, 피부에 전극을 밀착시키는 단계(S210), 표피, 진피 및 지방층 중 어느 하나를 선택하여 치료할 수 있도록 RF 에너지를 조절하는 단계(S220), 치료기기와 조직 사이의 임피던스 매칭을 수행하는 임피던스 매칭 단계(S230), 조절된 RF 에너지를 조직에 전달하는 단계(S240)를 포함하여 구성될 수 있다.
피부에 전극을 밀착시키는 단계(S210)는 복수의 전극을 치료하고자 하는 대상조직의 피부 표면에 밀착시키는 단계에 해당한다.
표피, 진피 및 지방층 중 어느 하나를 선택하여 치료할 수 있도록 RF 에너지를 조절하는 단계(S220)는 정해진 시퀀스 또는 사용자의 선택에 의해 RF 에너지의 주파수가 선택되는 단계에 해당한다. 이때 주파수는 표피를 대상으로 하는 경우 2.25MHz, 진피를 대상으로 하는 경우 6.75MHz, 지방층을 대상으로 하는 경우 13.56MHz 가 될 수 있다.
치료기기와 조직 사이의 임피던스 매칭을 수행하는 임피던스 매칭 단계(S230)는 RF 에너지의 주파수를 변경하는 경우 RF 에너지가 전달되는 조직내에서의 경로가 달라지게 되고, 결국 임피던스 값이 달라지게 되므로, 치료 기기와 조직간의 임피던스 매칭을 수행하는 단계에 해당한다.
조절된 RF 에너지를 조직에 전달하는 단계(S240)는 임피던스 매칭이 완료되고 주파수와 파워 등의 파라미터를 조절한 RF 에너지를 조직에 전달하여 치료하는 단계에 해당한다. 본 단계에서 RF 에너지가 조직에 인가되면 넓은 영역에 예열할 수 있으며(2.28MHz), 심부에 조직의 변성을 야기하는 온도로 조직을 가열하여 치료할 수 있다(13.56MHz). 한편, 본 단계의 수행도중 치료기기와 조직 사이의 임피던스 매칭을 수행하는 임피던스 매칭 단계(S230)본 단계는 실시간으로 수행될 수 있으며, RF 에너지의 주파수 및 조직의 임피던스, 특히 조직의 온도에 따른 임피던스 변화량을 반영하여 임피던스 매칭이 실시간으로 수행될 수 있다.
한편, 도시되지는 않았으나 대상조직이 치료온도에 도달한 것으로 판단한 경우 RF 에너지의 인가를 차단하는 차단단계가 수행될 수 있다.
도 16은 본 발명에 따른 제8 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료 방법의 순서도이다.
도 16을 참조하면, 본 실시예에서는 얼굴의 피부 조직을 치료할 수 있도록 수행된다.
본 실시예에서는 먼저 얼굴에 전극을 밀착시키는 단계(S210)가 수행될 수 있으며, RF 에너지를 조절하는 단계(S220) 및 임피던스 매칭 단계(S230)가 전술한 제7 실시예와 동일하게 수행될 수 있다.
본 실시예에서는 조절된 RF 에너지를 조직에 전달하는 단계(S240)의 수행중 피부 온도가 임계값을 초과하는지를 판단하는 단계(S250) 및 피부 표면을 냉각시키는 단계(S260)가 수행될 수 있다.
피부 온도가 임계값을 초과하는지를 판단하는 단계(S250)는 RF 에너지가 전달됨에 따라 피부 표면의 과도한 손상이 발생하는 것을 방지할 수 있도록 온도를 측정하는 단계에 해당한다. 본 단계는 일 예로서 전극에 인접하여 구비된 온도센서를 이용하여 온도가 측정될 수 있다. RF 에너지가 인가되는 피부 표면의 온도가 임계값을 초과하지 않은 경우 RF 에너지를 조직에 전달하는 단계(S240)가 지속적으로 수행될 수 있다.
피부 온도가 임계값을 초과하는지를 판단하는 단계(S250)에서 피부 온도가 임계값을 초과한 경우로 판단한 경우 냉각단계(S260)가 수행될 수 있다. 냉각단계(S260)는 전극을 냉각시켜 최종적으로 피부 표면의 온도를 낮출수 있게 된다. 냉각단계(S260)는 피부표면의 온도가 임계값 이하로 낮아졌을 때 종료될 수 있다. 한편 피부 온도가 임계값을 초과하는지를 판단하는 단계(S250) 및 냉각단계(S260)의 수행시에도 RF 에너지를 조직에 전달하는 단계(S240)는 지속적으로 수행되고 있어 심부는 지속적으로 치료온도까지 상승되거나, 또는 치료온도를 유지할 수 있게 된다.
도 17은 본 발명에 따른 제9 실시예인 RF 에너지를 이용한 치료 방법의 순서도이다.
도 17을 참조하면, 본 발명에 따른 제9 실시예는 복부를 치료할 수 있는 복수의 바디 어플리케이터를 이용하여 수행될 수 있다.
본 실시예는 피부에 전극을 밀착시키는 단계(S210)에서 전극을 복부의 피부에 부착시킬 수 있다. 이후 표피, 진피 및 지방층 중 어느 하나를 선택하여 치료할 수 있도록 RF 에너지를 조절하는 단계(S220), 치료기기와 조직 사이의 임피던스 매칭을 수행하는 임피던스 매칭 단계(S230)는 전술한 제7 실시예와 동일하게 수행될 수 있다.
본 실시예서는 부착된 바디 어플리케이터 중 적어도 하나는 서로 다른 치료 깊이를 갖도록 조절된 RF 에너지를 조직에 전달하는 단계(S245)가 수행되어 조직을 치료할 수 있다.
본 단계(S245)에서는 RF 에너지의 주파수에 따라 가열 영역의 범위와 깊이가 달라지게 되므로, 부착된 복수의 바디 어플리케이터간 순위를 두어 순차적으로 특정 시퀀스에 의해 치료를 수행하게 된다. 일 예로서 표피에 대한 RF 에너지 전달은 순차적으로 시간의 순서를 두어 인접하는 치료 위치로 조절된다. 이후 진피에 대한 RF 에너지 전달은 표피에 대한 RF 에너지 전달에 뒤이어 순차적으로 시간의 순서를 두어 인접하는 치료 위치로 조절된다. 이후 지방층에 대한 RF 에너지 전달 또한 마찬가지로 진피에 대한 RF 에너지 전달에 뒤이어 순차적으로 시간의 순서를 두어 인접하는 치료 위치로 조절된다. 이 경우 복수의 바디 어플리케이터가 피부에 부착된 위치를 변경하지 않고, 복수의 어플리케이터 각각을 독립적으로 제어하여 수행될 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 RF 에너지를 이용한 치료장치, 그 제어방법 및 이를 이용한 치료 방법은 피부 표면으로부터의 침투 깊이에 따른 RF 에너지를 조절하여 치료 정밀도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다. 또한 RF 에너지의 침투 깊이 별로 임피던스 매칭을 수행하여 치료영역에 대한 치료 효과를 극대화할 수 있는 효과가 있다.
1: RF 발생부 2: RF 조절부
3: 임피던스 매처 4: 전극
5: 센서부 6: 제어부
100: 팁 200: 바디 어플리케이터

Claims (26)

  1. RF 에너지를 발생시킬 수 있도록 RF 발생부;
    상기 RF 에너지를 조절할 수 있도록 구성되는 RF 조절부;
    조절된 상기 RF 에너지를 피부에 접촉하여 비칩습적으로 대상조직에 전달할 수 있도록 구성되는 전극; 및
    상기 RF 발생부 및 상기 RF 조절부를 제어할 수 있도록 구성되는 제어부를 포함하며,
    상기 제어부는,
    표피, 진피 및 지방층 중 어느 하나에 집중하여 상기 RF 에너지를 전달할 수 있도록 RF 에너지의 주파수를 조절하는 RF 에너지를 이용한 치료 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 RF 조절부가 3가지 주파수 중 어느 하나를 선택하여 상기 RF 에너지를 전달하도록 제어하는 RF 에너지를 이용한 치료 장치.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 RF 조절부와 상기 전극 사이에 구비되는 임피던스 매처를 더 포함하며,
    상기 제어부는,
    상기 RF 조절부가 상기 RF 에너지의 주파수를 조절하는 경우 상기 임피던스 매처를 조절하여 상기 대상조직과 상기 RF 조절부 사이의 임피던스 매칭을 수행하도록 상기 임피던스 매처를 조절하는 RF 에너지를 이용한 치료 장치.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 RF 조절부가 상기 RF 에너지의 주파수를 실질적으로 2.28MHz, 6.75MHz 및 13.56MHz 중에서 선택하도록 제어하는 RF 에너지를 이용한 치료 장치.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 전극은,
    얼굴 치료용 핸드피스의 단부에 구비되는 RF 에너지를 이용한 치료 장치.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 RF 조절부가 상기 RF 에너지의 주파수를 2.25MHz, 6.75MHz 및 13.56MHz 의 순서로 변경하도록 제어하는 RF 에너지를 이용한 치료 장치.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 전극을 냉각시킬 수 있도록 구성되는 냉각부를 더 포함하며,
    상기 제어부는 피부 표면의 온도가 임계값 이상으로 상승한 경우 상기 냉각부를 구동하도록 제어하는 RF 에너지를 이용한 치료 장치.
  8. 제4 항에 있어서,
    상기 전극은,
    인체의 몸에 부착가능하게 구비되는 바디 어플리케이터에 구비되는 RF 에너지를 이용한 치료 장치.
  9. 제8 항에 있어서,
    상기 바디 어플리케이터는 복수로 구비되며,
    상기 제어부는,
    상기 RF 조절부가 상기 복수의 바디 어플리케이터 중 적어도 하나의 상기 바디 어플리케이터에 적용되는 상기 RF 에너지의 주파수를 소정 조건에 따라 변경하도록 제어하는 RF 에너지를 이용한 치료 장치.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 RF 조절부가 상기 바디 어플리케이터에 적용되는 상기 RF 에너지의 주파수를 2.25MHz, 6.75MHz 및 13.56MHz 의 순서로 조절하도록 제어하는 RF 에너지를 이용한 치료 장치.
  11. 제10 항에 있어서,
    상기 복수의 바디 어플리케이터는, 각각 고유번호가 구비되며,
    상기 제어부는,
    상기 RF 조절부가 상기 고유번호에 따른 각각의 바디 어플리케이터에 순차적으로 상기 RF 에너지의 주파수를 조절하도록 제어하는 RF 에너지를 이용한 치료 장치.
  12. 제11 항에 있어서,
    진공펌프를 더 포함하며,
    상기 바디 어플리케이터의 상기 진공펌프와 유체소통할 수 있도록 구성되는 흡입구를 더 포함하는 RF 에너지를 이용한 치료 장치.
  13. RF 에너지를 발생시키는 단계;
    상기 RF 에너지의 주파수를 조절하는 단계;및
    상기 조절된 RF 에너지를 전극에 전달하는 단계를 포함하며,
    상기 RF 에너지의 주파수를 조절하는 단계는 표피, 진피 및 지방층 중 어느 하나에 집중하여 상기 RF 에너지가 전달될 수 있도록 상기 주파수를 조절하는 RF 에너지를 이용한 치료 장치의 제어 방법.
  14. 제13 항에 있어서,
    상기 RF 에너지의 주파수를 조절하는 단계는 3가지 주파수 중에서 어느 하나의 주파수를 선택하여 수행되는 RF 에너지를 이용한 치료 장치의 제어 방법.
  15. 제14 항에 있어서,
    상기 RF 에너지의 주파수가 조절된 경우 상기 치료 장치 측의 임피던스와 대상 조직의 임피던스 간의 임피던스 매칭을 수행하는 단계를 더 포함하는 RF 에너지를 이용한 치료 장치의 제어 방법.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 RF 에너지의 주파수를 조절하는 단계에서 상기 주파수의 조절은 실질적으로 2.28MHz, 6.75MHz 및 13.56MHz 중 어느 하나의 주파수로 선택되어 수행되는 RF 에너지를 이용한 치료 장치의 제어 방법.
  17. 제16 항에 있어서,
    상기 조절된 RF 에너지를 전극에 전달하는 단계는,
    얼굴에 밀착될 수 있도록 구성되는 핸드 피스의 팁에 구비된 상기 전극에 상기 RF 에너지를 전달하여 수행되는 RF 에너지를 이용한 치료 장치의 제어 방법.
  18. 제17 항에 있어서,
    상기 팁과 밀착된 피부 표면의 온도가 임계값 이상으로 상승된 경우 상기 전극을 냉각시킬 수 있도록 구성되는 냉각부를 구동하는 냉각단계를 더 포함하는 RF 에너지를 이용한 치료 장치의 제어 방법.
  19. 제16 항에 있어서,
    상기 조절된 RF 에너지를 전극에 전달하는 단계는,
    복수로 구비되며, 몸에 부착할 수 있도록 구성되는 바디 어플리케이터에 구비된 상기 전극에 상기 RF 전극을 전달하여 수행되는 RF 에너지를 이용한 치료 장치의 제어 방법.
  20. 제19 항에 있어서,
    상기 조절된 RF 에너지를 전극에 전달하는 단계는,
    상기 복수의 바디 어플리케이터 중 적어도 하나에 적용되는 상기 RF 에너지의 주파수를 소정 조건에 따라 변경하여 수행되는 RF 에너지를 이용한 치료 장치의 제어 방법.
  21. 피부에 전극을 밀착시키는 단계;
    표피, 진피 및 지방층 중 어느 하나에 집중하여 상기 RF 에너지를 전달하는 조직 치료 단계; 및
    상기 RF 에너지의 전달을 차단하는 RF 에너지 차단 단계를 포함하는 RF 에너지를 이용한 치료 방법.
  22. 제 21항에 있어서,
    상기 조직 치료 단계는 3가지 주파수 중 어느 하나를 선택하여 상기 RF 에너지를 전달하는 RF 에너지를 이용한 치료 방법.
  23. 제22 항에 있어서,
    상기 조직 치료 단계에서 상기 주파수가 변경되는 경우,
    RF 에너지를 이용한 치료 기기와 상기 조직 사이에서 임피던스 매칭을 수행하는 임피던스 매칭 단계를 더 포함하는 RF 에너지를 이용한 치료 방법.
  24. 제23 항에 있어서,
    상기 조직 치료 단계는,
    상기 RF 에너지의 주파수를 실질적으로 2.28MHz, 6.75MHz 및 13.56MHz 중에서 선택하여 수행되는 RF 에너지를 이용한 치료 방법.
  25. 제24 항에 있어서,
    상기 피부에 전극을 밀착시키는 단계는 얼굴의 피부에 상기 전극을 밀착시키며,
    상기 조직 치료 단계는 상기 얼굴에 밀착된 전극에 상기 RF 에너지를 전달하여 수행되는 RF 에너지를 이용한 치료 방법.
  26. 제24 항에 있어서,
    상기 피부에 전극을 밀착시키는 단계는 몸의 복수의 지점에 상기 전극이 구비된 복수의 바디 어플리케이터를 밀착시켜 수행되며,
    상기 조직 치료 단계는 상기 복수의 바디 어플리케이터 중 적어도 하나에 상기 RF 에너지를 전달하여 수행되는 RF 에너지를 이용한 치료 방법.


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