KR20230052524A - Manufacturing method of polyimide resin using photopolymerization - Google Patents

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KR20230052524A
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Abstract

The present invention relates to a method for preparing polyimide using photopolymerization. The technical gist of the present invention is to include the steps of: preparing a reaction solution by adding a solvent and a siloxane monomer to a reactor, and cooling the reaction solution while stirring the same; preparing an amic acid solution containing siloxane amic acid by adding mixing an anhydride monomer to the cooled reaction solution and mixing the same; preparing an imide solution containing siloxane imide by adding at least one of pyridine and acetic anhydride to the amic acid solution, mixing the same, and imidizing the siloxane amic acid; preparing a polyimide solution containing a polyimide having a structure represented by chemical formula 1 below by irradiating the imide solution with ultraviolet rays and polymerizing the siloxanimide; and obtaining polyimide from the polyimide solution. According to the present invention, polyimide which not only has excellent optical transparency but also has excellent flexibility can be prepared. (Chemical formula 1) Here, R_1, R_2, R_3, R_4, and R_5 are alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms.

Description

광중합을 이용한 폴리이미드의 제조방법{MANUFACTURING METHOD OF POLYIMIDE RESIN USING PHOTOPOLYMERIZATION}Manufacturing method of polyimide using photopolymerization {MANUFACTURING METHOD OF POLYIMIDE RESIN USING PHOTOPOLYMERIZATION}

본 발명은 광중합을 이용한 폴리이미드 수지의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a polyimide resin using photopolymerization.

최근 폴더블 디스플레이, 롤러블 디스플레이 및 웨어러블 디스플레이의 등장과 함께 디스플레이용 소재의 경량화와 유연화가 중요시되고 있다. 특히, 윈도우 디스플레이와 같이 우수한 기계적 강도와 유연성 및 투명성을 함께 요구하는 재료에 대한 필요성이 커지면서 폴리이미드에 대한 관심이 높아지고 있다.Recently, with the advent of foldable displays, rollable displays, and wearable displays, weight reduction and flexibility of display materials are becoming more important. In particular, interest in polyimide is increasing as the need for a material requiring excellent mechanical strength, flexibility and transparency, such as a window display, increases.

종래에는 통상적으로 폴리이미드를 다이안하이라이드(dianhydride) 모노머와 디아민(diamine) 모노머를 극성용매하에서 중합하여 폴리아믹산(polyamic acid) 용액을 제조한 다음, 아믹산을 고온에서 열처리함으로써 이미드화하는 열적 이미드화법(thermal imidization)으로 제조하거나, 아믹산을 피리딘과 무수초산 등을 이용해 처리함으로써 화학적으로 이미드화하는 화학적 이미드화법(chemical imidization)으로 제조하였다.Conventionally, a polyamic acid solution is prepared by polymerizing a dianhydride monomer and a diamine monomer in a polar solvent, and then heat-treating the amic acid at a high temperature to imidize the polyimide. It was prepared by thermal imidization or chemical imidization by treating amic acid with pyridine and acetic anhydride to chemically imidize it.

다만, 종래 기술에 따른 열적 이미드화법 또는 화학적 이미드화법으로 제조되는 폴리이미드는 노랑색 내지 갈색을 띄어 투명성이 떨어지고, 유연성이 떨어지는 문제가 있었다.However, polyimide prepared by thermal imidation or chemical imidation according to the prior art has a problem of poor transparency and poor flexibility due to its yellow to brown color.

또한, 디스플레이 분야나 반도체 분야에서는 폴리아믹산 용액을 제조한 다음 소자에 제조된 폴리아믹산 용액을 도포하고, 소자에 도포된 폴리아믹산 용액을 열적 이미드화법이나 화학적 이미드화법으로 처리함으로써 소자에 폴리이미드 필름을 적층시키는데, 종래 기술에 따른 열적 이미드화법을 이용하여 소자에 폴리이미드 필름을 적층하면 폴리아믹산 용액을 소자에 도포한 다음 축합반응을 일으키는 과정에서 수분이 발생하여 소자의 불량을 일으키는 문제가 있었다.In addition, in the display field or semiconductor field, after preparing a polyamic acid solution, the prepared polyamic acid solution is applied to a device, and the polyamic acid solution applied to the device is treated with a thermal imidation method or a chemical imidation method to obtain polyimide in the device. When the film is laminated, when the polyimide film is laminated on the device using the thermal imidization method according to the prior art, there is a problem of causing defects in the device due to moisture generation in the process of causing a condensation reaction after applying the polyamic acid solution to the device. there was.

또한, 종래 기술에 따른 화학적 이미드화법을 이용하여 소자에 폴리이미드 필름을 적층하면 폴리이믹산 용액을 소자에 도포한 다음 이미드화하는 과정에서 피리딘과 무수초산으로 인해 가스가 방출(outgassing)가 되어 소자의 불량을 야기하는 문제가 있었다.In addition, when a polyimide film is laminated on a device using a chemical imidation method according to the prior art, a polyimic acid solution is applied to the device and then outgassing occurs due to pyridine and acetic anhydride in the process of imidization. There was a problem that caused the defect of

KRKR 10-2020-0115264 10-2020-0115264 AA KRKR 10-2016-0105378 10-2016-0105378 AA

본 발명의 목적은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 폴리이미드의 제조시 높은 광학적 투명도와 유연성을 가지면서도 소자의 불량을 야기시키지 않는 폴리이미드를 제조할 수 있도록 광중합을 이용한 폴리이미드의 제조방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.An object of the present invention is to solve the above problems, and to provide a method for manufacturing polyimide using photopolymerization so as to manufacture polyimide having high optical transparency and flexibility while not causing defects in devices during the manufacture of polyimide. Its purpose is to provide

본 발명의 목적은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The object of the present invention is not limited to the object mentioned above, and other objects not mentioned will be clearly understood from the description below.

전술한 목적을 달성하기 위한, 본 발명의 일면에 따른 광중합을 이용한 폴리이미드의 제조방법은 반응기에 용매와 실록산모노머를 투입하여 반응용액을 제조하고, 반응용액을 교반하면서 냉각시키는 단계; 냉각된 상기 반응용액에 무수물모노머를 투입하고 혼합하여 실록산아믹산을 포함하는 아믹산 용액을 제조하는 단계; 상기 아믹산 용액에 피리딘과 무수아세트산 중 적어도 하나를 투입하여 혼합하여 상기 실록산아믹산을 이미드화시킴으로써 실록산이미드를 포함하는 이미드 용액을 제조하는 단계; 상기 이미드 용액에 자외선을 조사하여 상기 실록산이미드를 중합함으로써 아래 화학식 1로 표현되는 구조를 갖는 폴리이미드를 포함하는 폴리이미드 용액을 제조하는 단계; 및 상기 폴리이미드 용액으로부터 폴리이미드를 얻는 단계;를 포함한다.In order to achieve the above object, a method for producing polyimide using photopolymerization according to an aspect of the present invention includes preparing a reaction solution by introducing a solvent and a siloxane monomer into a reactor, and cooling the reaction solution while stirring; preparing an amic acid solution containing a siloxane amic acid by adding an anhydride monomer to the cooled reaction solution and mixing; preparing an imide solution containing siloxaneimide by imidizing the siloxaneamic acid by adding at least one of pyridine and acetic anhydride to the amic acid solution and mixing the mixture; preparing a polyimide solution including polyimide having a structure represented by Chemical Formula 1 below by irradiating the imide solution with ultraviolet rays to polymerize the siloxaneimide; and obtaining polyimide from the polyimide solution.

(화학식 1)(Formula 1)

Figure pat00001
Figure pat00001

여기서, R1, R2, R3, R4 및 R5는 탄소수가 1 내지 5개인 알킬기이다.Here, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms.

상기한 구성에 의한 본 발명의 실시예에 따른 광중합을 이용한 폴리이미드의 제조방법은 하기와 같은 효과를 기대할 수 있다.The method for producing polyimide using photopolymerization according to an embodiment of the present invention according to the above configuration can expect the following effects.

광학적 투명성이 뛰어날 뿐만 아니라, 유연성이 뛰어난 폴리이미드를 제조할 수 있다.Polyimide with excellent optical transparency and excellent flexibility can be produced.

폴리아믹산 용액을 제조하고, 제조된 폴리아믹산 용액을 소자에 도포한 후 도포된 폴리아믹산 용액을 이미드화하여 폴리이미드를 제조하는 것이 아니라, 폴리이미드를 제조한 다음 제조된 폴리이미드를 용매에 용해한 수지 형태로 사용할 수 있어 이미드화 반응에 따른 수분이나 가스가 발생하지 않아 소자의 불량을 야기하지 않을 수 있다.Instead of preparing a polyamic acid solution, applying the prepared polyamic acid solution to a device, and then imidating the applied polyamic acid solution to produce polyimide, a resin obtained by preparing polyimide and then dissolving the prepared polyimide in a solvent. Since it can be used in the form of an imidation reaction, no moisture or gas is generated, which may not cause defects in the device.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 광중합을 이용한 폴리이미드의 제조방법의 순서를 나타낸 순서도이다.1 is a flow chart showing the sequence of a method for manufacturing polyimide using photopolymerization according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 한편, 본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며, 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다.Advantages and features of the present invention, and methods of achieving them, will become clear with reference to the detailed description of the following embodiments taken in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in a variety of different forms, only the present embodiments make the disclosure of the present invention complete, and those skilled in the art in the art to which the present invention belongs It is provided to fully inform the person of the scope of the invention. Meanwhile, terms used in this specification are for describing embodiments, and are not intended to limit the present invention. In this specification, singular forms also include plural forms unless specifically stated otherwise in a phrase.

이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 광중합을 이용한 폴리이미드의 제조방법을 설명하도록 한다.Hereinafter, a method of manufacturing polyimide using photopolymerization according to embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

본 발명의 실시예에 따른 광중합을 이용한 폴리이미드의 제조방법은 반응용액 제조단계(S100), 아믹산 제조단계(S200), 이미드화 단계(S300), 폴리이미드 제조단계(S400) 및 수득단계(S500)를 포함한다.The method for producing polyimide using photopolymerization according to an embodiment of the present invention includes a reaction solution preparation step (S100), an amic acid preparation step (S200), an imidation step (S300), a polyimide preparation step (S400), and an obtaining step ( S500).

반응용액 제조단계(S100)는 반응기에 반응용매와 실록산모노머를 투입하여 반응용액을 제조하고, 제조된 반응용액을 교반하면서 냉각시키는 단계일 수 있다.The reaction solution preparation step (S100) may be a step of preparing a reaction solution by introducing a reaction solvent and a siloxane monomer into a reactor, and cooling the prepared reaction solution while stirring.

이때, 실록산모노머는 분자 구조 내에 실록산기(siloxane group)을 가지고, 양말단기에 아민기(amine group)를 갖는 화합물일 수 있다.In this case, the siloxane monomer may be a compound having a siloxane group in the molecular structure and an amine group at both terminal groups.

바람직하게, 반응용액 제조단계(S100)에서 반응기에 투입되는 실록산모노머는 아래 화학식 1로 표현되는 구조를 가질 수 있다.Preferably, the siloxane monomer introduced into the reactor in the reaction solution preparation step (S100) may have a structure represented by Formula 1 below.

(화학식 1)(Formula 1)

Figure pat00002
Figure pat00002

여기서, R1, R2, R3, R4 및 R5는 탄소수가 1 내지 5개인 알킬기이다.Here, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms.

R1, R2, R3, R4 및 R5의 탄소수가 1개 미만이면 본 발명의 실시예에 따라 제조되는 폴리이미드의 기계적 물성이 떨어질 수 있고, 5개를 초과하면 본 발명의 실시예에 따라 제조되는 폴리이미드의 유연성이 떨어질 수 있고, 후술할 수지 제조단계(S600)에서 폴리이미드를 반응용매에 용해시켜 수지 형태로 제조하기 어려울 수 있다.If the carbon number of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 is less than 1, the mechanical properties of the polyimide prepared according to the embodiment of the present invention may be deteriorated, and if it exceeds 5, the number of carbon atoms of the present invention may be reduced. The flexibility of the polyimide prepared according to the above may be deteriorated, and it may be difficult to prepare the polyimide in a resin form by dissolving the polyimide in a reaction solvent in the resin manufacturing step (S600) to be described later.

더욱 바람직하게, 반응용액 제조단계(S100)에서 반응기에 투입되는 실록산모노머는 아래 화학식 2로 표현되는 구조를 갖는 1,3-비스(3-아미노프로필)테트라메틸다이실록산(1,3-Bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane)일 수 있다.More preferably, the siloxane monomer introduced into the reactor in the reaction solution preparation step (S100) is 1,3-bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane (1,3-Bis ( 3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane).

(화학식 2)(Formula 2)

Figure pat00003
Figure pat00003

반응용액 제조단계(S100)에서 실록산모노머로 상기 1,3-비스(3-아미노프로필)테트라메틸다이실록산을 사용하면 본 발명의 실시예에 따라 제조되는 폴리이미드가 높은 유연성을 가질 뿐만 아니라, 광학적 투명성이 향상될 수 있다.When the 1,3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane is used as the siloxane monomer in the reaction solution preparation step (S100), the polyimide prepared according to the embodiment of the present invention not only has high flexibility, but also has optical properties. Transparency can be improved.

반응용액 제조단계(S100)에서 반응용매는 실록산모노머와 아믹산 제조단계(S200)에서 혼합되는 무수물모노머 및 이미드화 단계(S300)에서 혼합되는 첨가제를 용해할 수 있는 유기용매이면 제한되지 않고, 예를 들어, 디메틸포름아미드(Dimethylformamide, DMF)와 디메틸아세트아마이드(Dimethylacetamide, DMAc) 중 적어도 하나를 포함하는 것일 수 있으며, 바람직하게는 디메틸아세트아마이드일 수 있다.In the reaction solution preparation step (S100), the reaction solvent is not limited as long as it is an organic solvent capable of dissolving the siloxane monomer and the anhydride monomer mixed in the amic acid preparation step (S200) and the additives mixed in the imidation step (S300). For example, it may include at least one of dimethylformamide (DMF) and dimethylacetamide (DMAc), preferably dimethylacetamide.

반응용액 제조단계(S100)는 반응용매 100 중량부에 실록산모노머 20 내지 40 중량부를 혼합하는 것일 수 있고, 바람직하게는 반응용매 100 중량부에 실록산모노머 30 중량부를 혼합하는 것일 수 있다.In the reaction solution preparation step (S100), 20 to 40 parts by weight of a siloxane monomer may be mixed with 100 parts by weight of a reaction solvent, and preferably, 30 parts by weight of a siloxane monomer may be mixed with 100 parts by weight of a reaction solvent.

반응용액 제조단계(S100)에서 반응용매 100 중량부에 혼합되는 실록산모노머의 양이 20 중량부 미만이면 실록산모노머의 양이 너무 적어 본 발명의 실시예에 따라 제조되는 폴리이미드의 양이 반응용매의 양에 비해 적어 반응용매의 낭비로 이어질 수 있다.If the amount of the siloxane monomer mixed with 100 parts by weight of the reaction solvent in the reaction solution preparation step (S100) is less than 20 parts by weight, the amount of the siloxane monomer is too small and the amount of polyimide prepared according to the embodiment of the present invention is less than the amount of the reaction solvent. It is small compared to the amount and may lead to waste of the reaction solvent.

반응용액 제조단계(S100)에서 반응용매 100 중량부에 혼합되는 실록산모노머의 양이 40 중량부를 초과하면 본 발명의 실시예에 따라 폴리이미드를 제조하는 과정에서 반응용액, 아믹산 용액, 이미드 용액 및 폴리이미드 용액의 점도가 너무 높아져 폴리이미드의 제조가 어려울 수 있다.If the amount of the siloxane monomer mixed with 100 parts by weight of the reaction solvent in the reaction solution preparation step (S100) exceeds 40 parts by weight, the reaction solution, amic acid solution, and imide solution in the process of preparing polyimide according to an embodiment of the present invention And the viscosity of the polyimide solution is too high, making it difficult to prepare the polyimide.

반응용액 제조단계(S100)에서 반응용매와 실록산모노머를 투입하여 제조되는 반응용액의 냉각은 -5 내지 5℃로 이루어질 수 있다.In the reaction solution preparation step (S100), the reaction solution prepared by adding the reaction solvent and the siloxane monomer may be cooled to -5 to 5°C.

아믹산 제조단계(S200)에서 반응용액에 무수물모노머를 투입하여 아믹산 용액을 제조하면 순간적으로 반응열이 발생하게 되고, 이때, 발생하는 반응열을 제거해주지 않으면 실록산모노머와 무수물모노머의 반응이 원활하게 이루어지지 않아 실록산아믹산의 합성에 어려움이 있을 수 있다.In the amic acid production step (S200), when an amic acid solution is prepared by adding an anhydride monomer to the reaction solution, reaction heat is instantaneously generated. Therefore, it may be difficult to synthesize siloxane amic acid.

반응용액 제조단계(S100)에서 반응용액의 냉각이 -5 내지 5℃로 이루어지면 아믹산 제조단계(S200)에서 반응열의 제거가 효과적으로 이루어져 실록산아믹산의 합성이 원활하게 이루어질 수 있다.When the reaction solution is cooled to -5 to 5 ° C in the reaction solution preparation step (S100), the reaction heat is effectively removed in the amic acid preparation step (S200), so that the synthesis of siloxane amic acid can be smoothly performed.

바람직하게, 반응용액 제조단계(S100)에서 반응용액의 냉각은 0℃로 이루어질 수 있다.Preferably, in the reaction solution preparation step (S100), the reaction solution may be cooled to 0°C.

반응용액 제조단계(S100)에서 반응용매와 실록산모노머를 투입하여 제조되는 반응용액의 교반은 마그네틱바를 이용하여 이루어질 수 있고, 이때, 교반 속도는 100 내지 150rpm일 수 있으며, 바람직하게는 120rpm일 수 있다.In the reaction solution preparation step (S100), stirring of the reaction solution prepared by adding the reaction solvent and the siloxane monomer may be performed using a magnetic bar, and at this time, the stirring speed may be 100 to 150 rpm, preferably 120 rpm. .

반응용액 제조단계(S100)에서 제조된 반응용액에 무수물모노머를 투입하고 혼합하여 아믹산 용액을 제조한다(S200).An amic acid solution is prepared by adding an anhydride monomer to the reaction solution prepared in the reaction solution preparation step (S100) and mixing (S200).

아믹산 제조단계(S200)에서 반응용액에 투입되는 무수물모노머는 아래 화학식 3으로 표현되는 구조를 갖는 무수말레인산(maleic anhydride)일 수 있다.The anhydride monomer introduced into the reaction solution in the amic acid production step (S200) may be maleic anhydride having a structure represented by Formula 3 below.

(화학식 3)(Formula 3)

Figure pat00004
Figure pat00004

아믹산 제조단계(S200)에서 무수물모노머로 무수말레인산을 이용하고, 반응용액 제조단계(S100)에서 전술한 화학식 1로 표현되는 구조를 갖는 실록산모노머를 이용하면 아믹산 제조단계(S200)에서는 아래 화학식 4로 표현되는 구조를 갖는 실록산아믹산(siloxane amic acid)을 포함하는 아믹산 용액이 제조될 수 있다.When maleic anhydride is used as the anhydride monomer in the amic acid preparation step (S200) and the siloxane monomer having the structure represented by Formula 1 is used in the reaction solution preparation step (S100), in the amic acid preparation step (S200), the following chemical formula is used. An amic acid solution containing siloxane amic acid having a structure represented by 4 may be prepared.

(화학식 4)(Formula 4)

Figure pat00005
Figure pat00005

여기서, 여기서, R1, R2, R3, R4 및 R5는 탄소수가 1 내지 5개인 알킬기이다.Here, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms.

아믹산 제조단계(S200)에서 무수물모노머로 무수말레인산을 이용하고, 반응용액 제조단계(S100)에서 전술한 화학식 2로 표현되는 구조를 갖는 1,3-비스(3-아미노프로필)테트라메틸다이실록산를 이용하면 아믹산 제조단계(S200)에서는 아래 화학식 5로 표현되는 구조를 갖는 실록산아믹산(siloxane amic acid)을 포함하는 아믹산 용액이 제조될 수 있다.In the amic acid preparation step (S200), maleic anhydride is used as an anhydride monomer, and 1,3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane having a structure represented by Formula 2 is prepared in the reaction solution preparation step (S100). If used, in the amic acid production step (S200), an amic acid solution including siloxane amic acid having a structure represented by Chemical Formula 5 below can be prepared.

(화학식 5)(Formula 5)

Figure pat00006
Figure pat00006

반응용액 제조단계(S100)에서 제조된 반응용액에 무수물모노머를 투입하면 실록산모노머와 무수물모노머가 반응을 일으킬 수 있고, 이에 따라, 반응열이 순간적으로 발생할 수 있다.When the anhydride monomer is added to the reaction solution prepared in the reaction solution preparation step (S100), the siloxane monomer and the anhydride monomer may react, and accordingly, reaction heat may be instantaneously generated.

아믹산 제조단계(S200)는 반응용액 제조단계(S100)에서 제조된 반응용액에 무수물모노머를 투입하고, 반응용액에 발생하는 반응열을 제거한 후 반응용액을 10 내지 15시간 동안 교반하여 아믹산 용액을 제조하는 단계일 수 있다.In the amic acid preparation step (S200), an anhydride monomer is added to the reaction solution prepared in the reaction solution preparation step (S100), reaction heat generated in the reaction solution is removed, and the reaction solution is stirred for 10 to 15 hours to obtain an amic acid solution. It may be a manufacturing step.

바람직하게, 아믹산 제조단계(S200)는 반응용액 제조단계(S100)에서 제조된 반응용액에 무수물모노머를 투입하고, 반응용액에 발생하는 반응열을 제거한 후 반응용액을 12시간 동안 교반하여 아믹산 용액을 제조하는 단계일 수 있다.Preferably, in the amic acid preparation step (S200), an anhydride monomer is added to the reaction solution prepared in the reaction solution preparation step (S100), reaction heat generated in the reaction solution is removed, and the reaction solution is stirred for 12 hours to obtain an amic acid solution. It may be a step of manufacturing.

이때, 반응용액에서 발생하는 반응열의 제거는 반응용액 제조단계(S100)에서 냉각된 반응용액의 온도를 유지함으로써 이루어질 수 있고, 반응용액이 냉각되는 온도는 -5 내지 5℃일 수 있으며, 바람직하게는 0℃일 수 있다.At this time, the removal of the reaction heat generated in the reaction solution can be achieved by maintaining the temperature of the reaction solution cooled in the reaction solution preparation step (S100), the temperature at which the reaction solution is cooled may be -5 to 5 ℃, preferably may be 0°C.

아믹산 제조단계(S200)에서 반응용액이 냉각되는 온도가 -5℃ 미만이거나 5℃를 초과하면 반응용액 내에서 실록산모노머와 무수물모노머의 반응이 원활하게 이루어지지 않을 수 있다.If the temperature at which the reaction solution is cooled in the amic acid production step (S200) is less than -5°C or exceeds 5°C, the reaction between the siloxane monomer and the anhydride monomer may not be smoothly performed in the reaction solution.

즉, 아믹산 제조단계(S200)는 반응용액 제조단계(S100)에서 제조된 반응용액에 무수물모노머를 투입한 후 반응열이 발생하지 않을 때까지 반응용액을 냉각하여 반응용액의 온도를 -5 내지 5℃로 유지한 후 반응열이 더 이상 발생하지 않으면 반응용액을 10 내지 15시간 동안 교반함으로써 반응용액과 무수물모노머를 혼합하여 아믹산 용액을 제조하는 단계일 수 있다.That is, in the amic acid preparation step (S200), the anhydride monomer is added to the reaction solution prepared in the reaction solution preparation step (S100), and then the reaction solution is cooled until the reaction heat is not generated to increase the temperature of the reaction solution to -5 to 5 When the reaction heat is no longer generated after maintaining the temperature, the reaction solution may be stirred for 10 to 15 hours to mix the reaction solution and an anhydride monomer to prepare an amic acid solution.

한편, 아믹산 제조단계(S200)에서 반응용액 제조단계(S100)에서 제조된 반응용액에 무수물모노머를 투입하고 혼합할 때 수분이 존재하면 실록산모노머와 무수물모노머의 혼합이 원활하게 이루어지지 않을 수 있다.On the other hand, when the anhydride monomer is added to the reaction solution prepared in the reaction solution preparation step (S100) in the amic acid preparation step (S200) and mixed, if moisture is present, the siloxane monomer and the anhydride monomer may not be smoothly mixed. .

아믹산 제조단계(S200)는 실록산모노머와 무수물모노머의 혼합이 대기 중에 존재하는 수분에 영향을 받지 않도록 하기 위해 반응기 내부에 질소를 환류시키면서 반응용액 제조단계(S100)에서 제조된 반응용액에 무수물모노머를 투입하고 혼합하는 것일 수 있다.In the amic acid preparation step (S200), the anhydride monomer is added to the reaction solution prepared in the reaction solution preparation step (S100) while nitrogen is refluxed inside the reactor so that the mixing of the siloxane monomer and the anhydride monomer is not affected by moisture present in the air. It may be to add and mix.

반응용액 제조단계(S100)에서 무수말레인산의 투입량은 반응용액 제조단계(S100)에서 반응용액의 제조시 반응용매에 투입된 실록산모노머 대비 1.8 내지 2.2 당량일 수 있다.In the reaction solution preparation step (S100), the input amount of maleic anhydride may be 1.8 to 2.2 equivalents compared to the siloxane monomer added to the reaction solvent when preparing the reaction solution in the reaction solution preparation step (S100).

반응용액 제조단계(S100)에서 무수말레인산의 투입량이 1.8 당량 미만이면 반응용액 제조단계(S100)에서 반응용액의 제조시 반응용매에 투입된 실록산모노머 대비 무수말레인산의 투입량이 부족하여 실록산아믹산의 중합이 원활하게 이루어지지 않을 수 있고, 이에 따라 본 발명의 실시예에 따라 제조되는 폴리이미드의 기계적 물성이 떨어질 수 있다.If the amount of maleic anhydride added in the reaction solution preparation step (S100) is less than 1.8 equivalents, the amount of maleic anhydride added to the siloxane monomer used in the reaction solvent during preparation of the reaction solution in the reaction solution preparation step (S100) is insufficient, resulting in polymerization of siloxaneamic acid. It may not be made smoothly, and thus the mechanical properties of the polyimide manufactured according to the embodiment of the present invention may be deteriorated.

반응용액 제조단계(S100)에서 무수말레인산의 투입량이 2.2 당량을 초과하면 반응용액 제조단계(S100)에서 반응용액의 제조시 반응용매에 투입된 실록산모노머 대비 무수말레인산의 투입량이 과하여 실록산아믹산의 중합이 원활하게 이루어지지 않을 수 있고, 이에 따라 본 발명의 실시예에 따라 제조되는 폴리이미드의 기계적 물성이 떨어질 수 있다.If the amount of maleic anhydride added exceeds 2.2 equivalents in the reaction solution preparation step (S100), the amount of maleic anhydride added to the siloxane monomer added to the reaction solvent during preparation of the reaction solution in the reaction solution preparation step (S100) is greater than the amount of maleic anhydride added, resulting in polymerization of siloxaneamic acid. It may not be made smoothly, and thus the mechanical properties of the polyimide manufactured according to the embodiment of the present invention may be deteriorated.

바람직하게, 반응용액 제조단계(S100)에서 무수말레인산의 투입량은 반응용액 제조단계(S100)에서 반응용액의 제조시 반응용매에 투입된 실록산모노머 대비 2 당량일 수 있다.Preferably, the amount of maleic anhydride added in the reaction solution preparation step (S100) may be 2 equivalents compared to the siloxane monomer added to the reaction solvent when preparing the reaction solution in the reaction solution preparation step (S100).

이미드화 단계(S300)는 아믹산 제조단계(S200)에서 제조된 아믹산 용액에 피리딘과 무수아세트산 중 적어도 하나를 투입하여 혼합하여 이미드 용액을 제조하는 단계일 수 있다.The imidization step (S300) may be a step of preparing an imide solution by introducing and mixing at least one of pyridine and acetic anhydride into the amic acid solution prepared in the amic acid preparation step (S200).

바람직하게, 이미드화 단계(S300)에서 아믹산 제조단계(S200)에서 제조된 아믹산 용액에 피리딘과 무수아세트산을 투입하고, 반응기 내부를 질소로 환류시키면서 혼합하는 단계일 수 있다.Preferably, in the imidization step (S300), pyridine and acetic anhydride may be added to the amic acid solution prepared in the amic acid preparation step (S200), and mixing may be performed while refluxing the inside of the reactor with nitrogen.

이때, 피리딘의 투입량은 아믹산 제조단계(S200)에서 제조된 아믹산 용액에 포함되는 실록산아믹산 1 당량 대비 1.2 내지 1.5 당량일 수 있고, 바람직하게는 1.3 당량일 수 있다.At this time, the input amount of pyridine may be 1.2 to 1.5 equivalents, preferably 1.3 equivalents, relative to 1 equivalent of siloxane amic acid contained in the amic acid solution prepared in the amic acid preparation step (S200).

이미드화 단계(S300)에서 피리딘의 투입량이 아믹산 제조단계(S200)에서 제조된 아믹산 용액에 포함되는 실록산아믹산 1 당량 대비 1.2 당량 미만이거나 1.5 당량을 초과하면 아믹산 용액에 포함되는 실록산아믹산의 이미드화가 원활하게 이루어지지 않을 수 있다.In the imidization step (S300), when the input amount of pyridine is less than 1.2 equivalents or exceeds 1.5 equivalents compared to 1 equivalent of the siloxane amic acid contained in the amic acid solution prepared in the amic acid preparation step (S200), the siloxane contained in the amic acid solution Imidation of mix acid may not be performed smoothly.

또한, 무수아세트산의 투입량은 아믹산 제조단계(S200)에서 제조된 아믹산 용액에 포함되는 실록산아믹산 1 당량 대비 2.5 내지 3 당량일 수 있고, 바람직하게는 2.7 당량일 수 있다.In addition, the amount of acetic anhydride added may be 2.5 to 3 equivalents, preferably 2.7 equivalents, relative to 1 equivalent of siloxane amic acid contained in the amic acid solution prepared in the amic acid preparation step (S200).

이미드화 단계(S300)에서 무수아세트산의 투입량이 아믹산 제조단계(S200)에서 제조된 아믹산 용액에 포함되는 실록산아믹산 1 당량 대비 2.5 당량 미만이거나 3 당량을 초과하면 아믹산 용액에 포함되는 실록산아믹산의 이미드화가 원활하게 이루어지지 않을 수 있다.In the imidization step (S300), when the amount of acetic anhydride added is less than 2.5 equivalents or greater than 3 equivalents compared to 1 equivalent of the siloxane amic acid contained in the amic acid solution prepared in the amic acid preparation step (S200), the siloxane contained in the amic acid solution Imidization of acid-amic acid may not be performed smoothly.

이미드화 단계(S300)에서 아믹산 제조단계(S200)에서 제조된 아믹산 용액에 피리딘과 무수아세트산을 투입하여 혼합하면 아믹산 용액에 포함된 화학식 4 또는 화학식 5로 표현되는 구조를 갖는 실록산아믹산이 이미드화 반응을 일으켜 실록산이미드(siloxane imide)가 생성될 수 있고, 이에 따라, 실록산이미드를 포함하는 이미드 용액을 제조할 수 있다.In the imidization step (S300), when pyridine and acetic anhydride are added to the amic acid solution prepared in the amic acid production step (S200) and mixed, the siloxane amic having a structure represented by Formula 4 or Formula 5 included in the amic acid solution Siloxane imide may be generated by an acid imidation reaction, and thus, an imide solution containing siloxane imide may be prepared.

이미드화 단계(S300)에서 전술한 화학식 4로 표현되는 구조를 갖는 실록산아믹산을 포함하는 아믹산 용액에 피리딘과 무수아세트산을 투입하여 혼합하면 아래 화학식 6으로 표현되는 구조를 갖는 실록산이미드를 포함하는 이미드 용액을 제조할 수 있다.In the imidization step (S300), when pyridine and acetic anhydride are added to the amic acid solution containing the siloxane amic acid having the structure represented by Chemical Formula 4 and mixed, siloxaneimide having the structure represented by Chemical Formula 6 below is included. An imide solution can be prepared.

(화학식 6)(Formula 6)

Figure pat00007
Figure pat00007

여기서, R1, R2, R3, R4 및 R5는 탄소수가 1 내지 5개인 알킬기이다.Here, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms.

이미드화 단계(S300)에서 전술한 화학식 5로 표현되는 구조를 갖는 실록산아믹산을 포함하는 아믹산 용액에 피리딘과 무수아세트산을 투입하여 혼합하면 아래 화학식 7로 표현되는 구조를 갖는 실록산이미드를 포함하는 이미드 용액을 제조할 수 있다.In the imidization step (S300), when pyridine and acetic anhydride are added to the amic acid solution containing the siloxane amic acid having the structure represented by the above-described formula (5) and mixed, the siloxaneimide having the structure represented by the formula (7) below is included. An imide solution can be prepared.

(화학식 7)(Formula 7)

Figure pat00008
Figure pat00008

이미드화 단계(S300)는 아믹산 제조단계(S200)에서 제조된 아믹산 용액에 피리딘과 무수아세트산 중 적어도 하나를 투입하고, 반응기 내부를 질소로 환류시키면서 90 내지 150분동안 상온에서 교반한 다음 70 내지 90℃에서 90 내지 150분동안 교반하여 혼합함으로써 이미드 용액을 제조하는 것일 수 있고, 이미드 용액의 제조가 완료되면 이미드 용액을 25℃로 냉각하는 단계일 수 있다.In the imidation step (S300), at least one of pyridine and acetic anhydride was added to the amic acid solution prepared in the amic acid preparation step (S200), and the inside of the reactor was stirred at room temperature for 90 to 150 minutes while refluxing with nitrogen, and then 70 The imide solution may be prepared by stirring and mixing at a temperature of 90 to 90° C. for 90 to 150 minutes, and cooling the imide solution to 25° C. when the preparation of the imide solution is completed.

이미드화 단계(S300)에서 얻어지는 이미드 용액에 전자기파를 조사하여 폴리이미드 용액을 제조한다(S400).The imide solution obtained in the imidization step (S300) is irradiated with electromagnetic waves to prepare a polyimide solution (S400).

폴리이미드 제조단계(S400)에서 이미드 용액에 조사되는 전자기파는 파장이 365 내지 436nm일 수 있고, 바람직하게는 파장이 365, 405 및 436nm 중 어느 하나일 수 있다.In the polyimide manufacturing step (S400), the electromagnetic wave irradiated to the imide solution may have a wavelength of 365 to 436 nm, and preferably may have a wavelength of any one of 365, 405, and 436 nm.

폴리이미드 제조단계(S400)에서 이미드 용액에 파장이 365 내지 436nm인 전자기파가 조사되면 전술한 화학식 6 또는 7로 표현되는 구조를 갖는 실록산이미드가 2+2고리화첨가 반응(2+2 cycloaddition reaction)을 일으킴에 따라 폴리이미드가 중합될 수 있다. In the polyimide manufacturing step (S400), when the imide solution is irradiated with electromagnetic waves having a wavelength of 365 to 436 nm, the siloxane imide having the structure represented by the above-mentioned formula 6 or 7 undergoes a 2+2 cycloaddition reaction (2+2 cycloaddition reaction) may cause polyimide to polymerize.

폴리이미드 제조단계(S400)에서 전술한 화학식 6으로 표현되는 구조를 갖는 실록산이미드를 포함하는 이미드 용액에 파장이 365 내지 436nm인 전자기파를 조사하면 아래 화학식 8로 표현되는 구조를 갖는 폴리이미드를 포함하는 폴리이미드 용액을 제조할 수 있다.In the polyimide manufacturing step (S400), when electromagnetic waves having a wavelength of 365 to 436 nm are irradiated to an imide solution containing siloxaneimide having a structure represented by the above-described formula (6), a polyimide having a structure represented by formula (8) is obtained. It is possible to prepare a polyimide solution containing

(화학식 8)(Formula 8)

Figure pat00009
Figure pat00009

여기서, R1, R2, R3, R4 및 R5는 탄소수가 1 내지 5개인 알킬기이다.Here, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms.

폴리이미드 제조단계(S400)에서 전술한 화학식 7로 표현되는 구조를 갖는 실록산이미드를 포함하는 이미드 용액에 파장이 365 내지 436nm인 전자기파를 조사하면 아래 화학식 9로 표현되는 구조를 갖는 폴리이미드를 포함하는 폴리이미드 용액을 제조할 수 있다.In the polyimide production step (S400), when electromagnetic waves having a wavelength of 365 to 436 nm are irradiated to an imide solution containing siloxaneimide having a structure represented by the above-described formula (7), polyimide having a structure represented by formula (9) below is produced. It is possible to prepare a polyimide solution containing

(화학식 9)(Formula 9)

Figure pat00010
Figure pat00010

폴리이미드 제조단계(S400)는 실록산이미드가 원활하게 2+2 고리화첨가 반응을 일으킬 수 있도록 이미드화 단계(S300)에서 얻어지는 아믹산 용액에 광개시제를 혼합한 다음 광개시제가 혼합된 아믹산 용액에 전자기파를 조사하여 폴리이미드 용액을 제조할 수 있다.In the polyimide manufacturing step (S400), a photoinitiator is mixed with the amic acid solution obtained in the imidization step (S300) so that the siloxaneimide can smoothly undergo a 2+2 cycloaddition reaction, and then the photoinitiator is mixed with the amic acid solution. Electromagnetic waves may be irradiated to prepare a polyimide solution.

여기서, 광개시제의 투입량은 실록산이미드가 원활하게 2+2 고리화첨가 반응을 일으킬 수 있도록 이미드화 단계(S300)에서 제조된 이미드 용액에 포함되는 실록산이미드 1 당량 대비 0.1 내지 5 당량일 수 있고, 광개시제로는 통상적으로 2+2 고리화첨가 반응에서 이용되는 것을 사용할 수 있다.Here, the input amount of the photoinitiator may be 0.1 to 5 equivalents relative to 1 equivalent of siloxaneimide contained in the imide solution prepared in the imidation step (S300) so that the siloxaneimide can smoothly cause a 2+2 cycloaddition reaction. And, as the photoinitiator, one commonly used in a 2+2 cycloaddition reaction may be used.

폴리이미드 제조단계(S400)에서 제조된 폴리이미드 용액으로부터 폴리이미드를 얻는다(S500).Polyimide is obtained from the polyimide solution prepared in the polyimide production step (S400) (S500).

수득단계(S500)는 폴리이미드 제조단계(S400)에서 제조된 폴리이미드 용액에 포함된 폴리이미드를 결정화하여 폴리이미드를 얻는 단계일 수 있다.The obtaining step (S500) may be a step of obtaining polyimide by crystallizing the polyimide included in the polyimide solution prepared in the polyimide manufacturing step (S400).

수득단계(S500)는 폴리이미드 제조단계(S400)에서 제조된 폴리이미드 용액을 물에 투입함으로써 폴리이미드를 결정화하고, 결정화된 폴리이미드를 건조하여 폴리이미드를 얻는 단계일 수 있다.The obtaining step (S500) may be a step of crystallizing polyimide by injecting the polyimide solution prepared in the polyimide manufacturing step (S400) into water, and drying the crystallized polyimide to obtain polyimide.

이때, 폴리이미드 제조단계(S400)에서 제조된 폴리이미드 용액이 투입되는 물은 순수(deionized water)인 것이 바람직하고, 물의 부피는 폴리이미드 제조단계(S400)에서 제조된 폴리이미드 용액의 부피 대비 90 내지 110배인 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the water into which the polyimide solution prepared in the polyimide production step (S400) is introduced is deionized water, and the volume of water is 90% of the volume of the polyimide solution prepared in the polyimide production step (S400). to 110 times is preferred.

폴리이미드 제조단계(S400)에서 제조된 폴리이미드 용액이 순수에 투입되면 폴리이미드 용액에 존재하는 불순물이 순수에 의해 제거되면서 폴리이미드 용액에 포함된 폴리이미드의 결정화가 이루어질 수 있다.When the polyimide solution prepared in the polyimide production step (S400) is put into pure water, impurities present in the polyimide solution are removed by the pure water, and the polyimide included in the polyimide solution can be crystallized.

본 발명의 실시예에 따른 광중합을 이용한 폴리이미드의 제조방법은 수지 제조단계(S600)를 더 포함할 수 있다.The method for manufacturing polyimide using photopolymerization according to an embodiment of the present invention may further include a resin manufacturing step (S600).

수지 제조단계(S600)는 수득단계(S500)에서 얻어진 폴리이미드를 용매에 용해하여 폴리이미드 수지를 제조하는 단계일 수 있다.The resin preparation step (S600) may be a step of preparing a polyimide resin by dissolving the polyimide obtained in the obtaining step (S500) in a solvent.

수지 제조단계(S600)는 수득단계(S500)에서 얻어진 폴리이미드 25 내지 35 중량부를 용매 100 중량부에 투입하여 폴리이미드 수지를 제조할 수 있다.In the resin preparation step (S600), a polyimide resin may be prepared by adding 25 to 35 parts by weight of the polyimide obtained in the obtaining step (S500) to 100 parts by weight of a solvent.

수지 제조단계(S600)에서 용매 100 중량부에 투입되는 폴리이미드의 양이 25 중량부 미만이면 제조되는 폴리이미드 수지의 점도가 너무 떨어져 소자에 제조된 폴리이미드 수지의 도포가 원활하게 이루어지지 않을 수 있다.If the amount of polyimide added to 100 parts by weight of the solvent in the resin manufacturing step (S600) is less than 25 parts by weight, the viscosity of the polyimide resin to be produced is too low, so that the polyimide resin may not be smoothly applied to the device. there is.

수지 제조단계(S600)에서 용매 100 중량부에 투입되는 폴리이미드의 양이 35 중량부를 초과하면 제조되는 폴리이미드 수지의 점도가 너무 과해져 소자에 제조된 폴리이미드 수지의 도포가 어려울 수 있다.In the resin manufacturing step (S600), if the amount of polyimide added to 100 parts by weight of the solvent exceeds 35 parts by weight, the viscosity of the polyimide resin to be produced is too high, making it difficult to apply the polyimide resin to the device.

바람직하게, 수지 제조단계(S600)는 수득단계(S500)에서 얻어진 폴리이미드 30 중량부를 용매 100 중량부에 투입하여 폴리이미드 수지를 제조할 수 있다.Preferably, in the resin preparation step (S600), a polyimide resin may be prepared by adding 30 parts by weight of the polyimide obtained in the obtaining step (S500) to 100 parts by weight of a solvent.

수지 제조단계(S600)에서 용매는 수득단계(S500)에서 얻어진 폴리이미드를 용해할 수 있는 유기용매이면 제한되지 않으나, 바람직하게는 디메틸아세트아마이드와 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트(Propylene glycol methyl ether acetate) 중 어느 하나일 수 있다.In the resin manufacturing step (S600), the solvent is not limited as long as it is an organic solvent capable of dissolving the polyimide obtained in the obtaining step (S500), but is preferably dimethylacetamide and propylene glycol methyl ether acetate. can be either

수지 제조단계(S600)에서 폴리이미드를 용매에 용해하여 수지 형태를 갖는 폴리이미드 수지를 제조함으로써, 디스플레이 분야 및 반도체 분야 등에서 필요시 소자에 폴리이미드 수지를 도포하고 건조시킴으로써, 별도의 이미드화 반응을 수반할 필요없이 간편하게 소자에 폴리이미드를 코팅할 수 있다.In the resin manufacturing step (S600), polyimide is dissolved in a solvent to prepare a polyimide resin having a resin form, and when necessary in the display field and semiconductor field, the polyimide resin is applied to the device and dried to perform a separate imidation reaction. It is possible to simply coat the element with polyimide without the need to accompany it.

본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구의 범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구의 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Those skilled in the art to which the present invention pertains will understand that the present invention can be embodied in other specific forms without changing its technical spirit or essential features. Therefore, the embodiments described above should be understood as illustrative in all respects and not limiting. The scope of the present invention is indicated by the claims to be described later rather than the detailed description above, and all changes or modifications derived from the scope of the claims and equivalent concepts should be construed as being included in the scope of the present invention.

S100: 반응용액 제조단계,
S200: 아믹산 제조단계,
S300: 이미드화 단계,
S400: 폴리이미드 제조단계,
S500: 수득단계,
S600: 수지 제조단계.
S100: reaction solution preparation step,
S200: amic acid manufacturing step,
S300: imidization step,
S400: polyimide manufacturing step,
S500: obtaining step,
S600: Resin manufacturing step.

Claims (7)

반응기에 용매와 실록산모노머를 투입하여 반응용액을 제조하고, 반응용액을 교반하면서 냉각시키는 단계;
냉각된 상기 반응용액에 무수물모노머를 투입하고 혼합하여 실록산아믹산을 포함하는 아믹산 용액을 제조하는 단계;
상기 아믹산 용액에 피리딘과 무수아세트산 중 적어도 하나를 투입하고 혼합하여 상기 실록산아믹산을 이미드화시킴으로써 실록산이미드를 포함하는 이미드 용액을 제조하는 단계;
상기 이미드 용액에 자외선을 조사하여 상기 실록산이미드를 중합함으로써 아래 화학식 1로 표현되는 구조를 갖는 폴리이미드를 포함하는 폴리이미드 용액을 제조하는 단계; 및
상기 폴리이미드 용액으로부터 폴리이미드를 얻는 단계;를 포함하는 것
인 광중합을 이용한 폴리이미드의 제조방법.
(화학식 1)
Figure pat00011

여기서, R1, R2, R3, R4 및 R5는 탄소수가 1 내지 5개인 알킬기이다.
preparing a reaction solution by introducing a solvent and a siloxane monomer into a reactor, and cooling the reaction solution while stirring;
preparing an amic acid solution containing a siloxane amic acid by adding an anhydride monomer to the cooled reaction solution and mixing;
preparing an imide solution containing siloxaneimide by imidizing the siloxaneamic acid by adding at least one of pyridine and acetic anhydride to the amic acid solution and mixing the mixture;
preparing a polyimide solution including polyimide having a structure represented by Chemical Formula 1 below by irradiating the imide solution with ultraviolet rays to polymerize the siloxaneimide; and
comprising; obtaining polyimide from the polyimide solution;
Method for producing polyimide using phosphorus photopolymerization.
(Formula 1)
Figure pat00011

Here, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms.
제 1항에 있어서, 상기 냉각시키는 단계는
상기 반응기에 중 적어도 하나를 포함하는 용매 100 중량부와 상기 실록산모노머 20 내지 40 중량부를 투입하여 상기 반응용액을 제조하고, 상기 반응용액을 -5 내지 5℃로 냉각시키는 단계인 것
인 광중합을 이용한 폴리이미드의 제조방법.
The method of claim 1, wherein the cooling step
Preparing the reaction solution by adding 100 parts by weight of a solvent containing at least one of the above and 20 to 40 parts by weight of the siloxane monomer to the reactor, and cooling the reaction solution to -5 to 5 ° C.
Method for producing polyimide using phosphorus photopolymerization.
제 1항에 있어서,
상기 실록산모노머는 아래 화학식 2에 따른 화학 구조를 갖는 것
인 광중합을 이용한 폴리이미드의 제조방법.
(화학식 2)
Figure pat00012

여기서, R1, R2, R3, R4 및 R5는 탄소수가 1 내지 5개인 알킬기이다.
According to claim 1,
The siloxane monomer has a chemical structure according to Formula 2 below
Method for producing polyimide using phosphorus photopolymerization.
(Formula 2)
Figure pat00012

Here, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms.
제 1항에 있어서, 상기 아믹산 용액을 제조하는 단계는
상기 반응용액에 상기 무수물모노머인 무수말레인산을 투입하되, 상기 무수말레인산의 투입시 상기 실록산모노머 1 당량 대비 1.8 내지 2.2 당량을 투입하고, 상기 반응기 내부에 질소를 환류하면서 상기 반응용액을 혼합하여 상기 아믹산 용액을 제조하는 단계인 것
인 광중합을 이용한 폴리이미드의 제조방법.
The method of claim 1, wherein the step of preparing the amic acid solution
Maleic anhydride, which is the anhydride monomer, is added to the reaction solution, and when maleic anhydride is added, 1.8 to 2.2 equivalents are added to 1 equivalent of the siloxane monomer, and the reaction solution is mixed while nitrogen is refluxed in the reactor to mix the maleic anhydride. A step for preparing a mix acid solution
Method for producing polyimide using phosphorus photopolymerization.
제 1항에 있어서, 상기 아믹산 용액에 피리딘과 무수아세트산 중 적어도 하나를 투입하여 혼합하는 단계는
상기 아믹산 용액에 포함된 실록산아믹산 1 당량 대비 상기 피리딘 1.2 내지 1.5 당량과 상기 무수아세트산 2.5 내지 3 당량을 상기 아믹산 용액에 투입하고, 상기 반응기 내부에 질소를 환류하면서 상온에서 상기 아믹산 용액을 90 내지 150분동안 교반한 다음 상기 아믹산 용액을 70 내지 90℃에서 90 내지 150분동안 교반함으로써 상기 이미드 용액을 제조하는 것
인 광중합을 이용한 폴리이미드의 제조방법.
The method of claim 1, wherein the step of adding and mixing at least one of pyridine and acetic anhydride into the amic acid solution
1.2 to 1.5 equivalents of the pyridine and 2.5 to 3 equivalents of the acetic anhydride relative to 1 equivalent of the siloxane amic acid contained in the amic acid solution were introduced into the amic acid solution, and the amic acid solution at room temperature while refluxing nitrogen into the reactor for 90 to 150 minutes and then stirring the amic acid solution at 70 to 90 ° C. for 90 to 150 minutes to prepare the imide solution
Method for producing polyimide using phosphorus photopolymerization.
제 1항에 있어서, 상기 폴리이미드 용액을 제조하는 단계는
상기 이미드 용액에 파장이 365 내지 436nm 파장인 전자기파를 조사하여 상기 폴리이미드 용액을 제조하는 것
인 광중합을 이용한 폴리이미드의 제조방법.
The method of claim 1, wherein preparing the polyimide solution
Preparing the polyimide solution by irradiating the imide solution with electromagnetic waves having a wavelength of 365 to 436 nm
Method for producing polyimide using phosphorus photopolymerization.
제 1항에 있어서, 상기 폴리이미드를 얻는 단계 이후에 있어서,
상기 폴리이미드를 디메틸아세트아마이드와 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트 중 적어도 하나를 포함하는 용매에 용해하여 폴리이미드 수지를 제조하는 단계를 더 포함하는 것
인 광중합을 이용한 폴리이미드의 제조방법.
The method of claim 1, after the step of obtaining the polyimide,
Dissolving the polyimide in a solvent containing at least one of dimethylacetamide and propylene glycol methyl ether acetate to prepare a polyimide resin
Method for producing polyimide using phosphorus photopolymerization.
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KR20200115264A (en) 2019-03-28 2020-10-07 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 Method for producing polyimide film and method for producing metal clad laminate

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