KR20230050931A

KR20230050931A - Jig for fabricating target of X-ray tube, and apparatus for fabricating target of X-ray tube with the same

Info

Publication number: KR20230050931A
Application number: KR1020210134307A
Authority: KR
Inventors: 이동헌; 박준범
Original assignee: 주식회사 대구신소재
Priority date: 2021-10-08
Filing date: 2021-10-08
Publication date: 2023-04-17

Abstract

Disclosed are a jig for manufacturing a target of an X-ray tube and a device for manufacturing a target of an X-ray tube including the same. The disclosed jig for manufacturing a target of an X-ray tube comprises: a plurality of target supports arranged vertically in a line at intervals and supporting a plurality of target bases respectively; at least one spacer shaft interposed between the plurality of separated target supports and having a lower side surface being in contact with one intermediate part among the plurality of target bases while covering the intermediate part; and at least one target shield inserted into the at least one spacer shaft respectively, and capable of ascending and descending between a descent position of covering the outer side surface of the intermediate part of the target bases supporting the spacer shaft respectively while being in contact therewith, and an ascent position of exposing the outer side surface of the intermediate part of the target bases. The plurality of target supports, the plurality of target bases, the at least one spacer shaft and the at least one target shield are assembled to be able to be separated from one another. If the plurality of target supports, the plurality of target bases, the at least one spacer shaft and the at least one target shield are assembled, the plurality of target supports and the at least one spacer shaft are connected to rotate coaxially. Therefore, the defects of a target of an X-ray tube can be reduced and costs for a target of an X-ray tube can be saved.

Description

Jig for fabricating target of X-ray tube, and apparatus for fabricating target of X-ray tube, and apparatus for fabricating target of X-ray tube with the same}

본 발명은 엑스선관에 관한 것으로, 보다 상세하게는 전자 충돌에 의해 엑스선(X-ray)을 방출하는 엑스선관 타겟을 제조하는데 사용되는 지그와, 이를 구비한 엑스선관 타겟 제조 장치에 관한 것이다. The present invention relates to an X-ray tube, and more particularly, to a jig used to manufacture an X-ray tube target emitting X-rays by electron collision, and an X-ray tube target manufacturing apparatus having the same.

전자가 고속으로 타겟(target)에 충돌하면 엑스선(X-ray)이 방출되는데, 엑스선관(X-ray tube)이 이러한 원리를 이용하여 의도적으로 엑스선을 방출시키는데 사용된다. 엑스선관을 내부에 포함하는 것으로, 방출되는 엑스선을 이용하여 예컨대, 인체 내부를 관찰하는 의료용 영상 기기로 사용되는 장치를 엑스선관 장치라고 한다. When electrons collide with a target at high speed, X-rays are emitted. An X-ray tube is used to intentionally emit X-rays using this principle. An X-ray tube device includes an X-ray tube inside and is used as a medical imaging device that observes, for example, the inside of a human body using emitted X-rays.

엑스선관은 양극(anode), 즉 타겟(target)과 음극(cathode)의 전위차에 의해 전자가 가속되어 타겟에 충돌하며, 이때 엑스선이 방출된다. 엑스선관 타겟은 내열성이 큰 몰리브덴(Mo) 또는 몰리브덴 합금으로 된 타겟 베이스(base)와, 상기 타겟 베이스 위에 적층된, 텅스텐(W) 또는 텅스텐 합금으로 된 트랙(track)을 구비한다. 엑스선관 타겟은 분말야금에 의해 상기 타겟 베이스와 트랙을 일체로 형성하여 제조하거나, 모재를 기계 가공하여 타겟 베이스를 형성하고, 상기 타겟 베이스에 텅스텐(W)을 포함하는 금속 분말을 용사(溶射)하여 트랙을 형성하는 방법으로 제조할 수 있다. In the X-ray tube, electrons are accelerated by a potential difference between an anode, that is, a target and a cathode, to collide with the target, and at this time, X-rays are emitted. An X-ray tube target includes a target base made of molybdenum (Mo) or a molybdenum alloy having high heat resistance, and a track made of tungsten (W) or a tungsten alloy stacked on the target base. The X-ray tube target is manufactured by integrally forming the target base and the track by powder metallurgy, or by machining a base material to form a target base, and spraying metal powder containing tungsten (W) on the target base. It can be manufactured by a method of forming a track by doing so.

금속 분말을 베이스에 용사하여 트랙을 형성하기 위하여 공개특허공보 제10-2021-0014006호에 개시된 것과 같은 엑스선과 타겟 제조용 지그가 사용될 수 있다. 그런데, 상기 지그에 복수의 타겟 베이스를 탑재하고 상기 복수의 타겟 베이스 중 하나의 타겟 베이스에 금속 분말을 용사할 때 금속 분말이 용사되는 타겟 베이스의 아래에 위치한 타겟 베이스에도 용사 토치에서 분사된 금속 분말이 용사 적층되어 상기 타겟 베이스가 오염되고, 트랙의 두께와 품질이 불균일하게 형성되어 엑스선관 타겟의 불량율이 증대되고, 고가의 텅스텐(W)을 포함하는 금속 분말이 낭비되어 엑스선관 타겟의 원가가 높아지는 문제가 있다. In order to form tracks by spraying metal powder on a base, a jig for manufacturing X-rays and a target as disclosed in Patent Publication No. 10-2021-0014006 may be used. However, when a plurality of target bases are mounted on the jig and metal powder is sprayed on one of the plurality of target bases, the metal powder is sprayed from the spraying torch also on the target base located below the target base on which the metal powder is sprayed. The thermal spray laminate contaminates the target base, increases the defect rate of the X-ray tube target due to non-uniform thickness and quality of the track, and wastes metal powder containing expensive tungsten (W), thereby reducing the cost of the X-ray tube target. There is a growing problem.

공개특허공보 제10-2021-0014006호Publication No. 10-2021-0014006

본 발명은, 금속 분말을 용사하여 트랙을 형성하기 위해 복수의 타겟 베이스를 지지하는 지그로서, 임의의 일 타겟 베이스에 용사되는 금속 분말이 다른 타겟 베이스를 오염시키지 않도록 타겟 베이스를 선택적으로 가려주는 커버(cover)를 구비한 엑스선관 타겟 제조용 지그, 및 이를 구비한 엑스선관 타겟 제조 장치를 제공한다. The present invention is a jig supporting a plurality of target bases to form tracks by spraying metal powder, and a cover that selectively covers the target base so that metal powder sprayed on any one target base does not contaminate other target bases. Provided is a jig for manufacturing an X-ray tube target having a cover, and an apparatus for manufacturing an X-ray tube target having the same.

본 발명은, 복수의 타겟 베이스의 중간부의 바깥 측면에 트랙(track)을 형성하기 위하여 금속 분말을 상기 중간부의 바깥 측면에 용사할 때 상기 복수의 타겟 베이스를 지지하는 지그로서, 상하 방향으로 일렬로 이격되게 배열된 것으로, 상기 복수의 타겟 베이스를 하나씩 지지하는 복수의 타겟 받침, 상기 이격된 복수의 타겟 받침 사이에 개재되는 것으로, 하측면이 상기 복수의 타겟 베이스 중 하나의 중간부를 가리며 상기 중간부에 접촉 지지되는 적어도 하나의 스페이서 샤프트(spacer shaft), 및 상기 적어도 하나의 스페이서 샤프트에 하나씩 끼워지는 것으로, 각각의 스페이서 샤프트를 접촉 지지하는 타겟 베이스의 중간부의 바깥 측면을 가리는 하강 위치와, 상기 타겟 베이스의 중간부의 바깥 측면을 노출하는 상승 위치 사이에서 승강 가능한 적어도 하나의 타겟 쉴드(shield)를 구비하고, 상기 복수의 타겟 받침, 복수의 타겟 베이스, 적어도 하나의 스페이서 샤프트, 및 적어도 하나의 타겟 쉴드는 서로 분리 가능하게 조립되고, 상기 복수의 타겟 받침, 복수의 타겟 베이스, 적어도 하나의 스페이서 샤프트, 및 적어도 하나의 타겟 쉴드가 조립되면 상기 복수의 타겟 받침 및 적어도 하나의 스페이서 샤프트는 동축(同軸) 회전하도록 연결되는 엑스선관 타겟 제조용 지그(jig)를 제공한다. The present invention is a jig for supporting a plurality of target bases when metal powder is sprayed on the outer side surface of the intermediate portion to form a track on the outer side surface of the intermediate portion of the plurality of target bases, in a row in the vertical direction. Arranged spaced apart, interposed between a plurality of target supports supporting the plurality of target bases one by one and the plurality of target supports spaced apart, the lower surface covering the middle of one of the plurality of target bases, the middle At least one spacer shaft supported in contact with the unit, and a lowered position covering the outer side of the middle portion of the target base for contacting and supporting each spacer shaft by being fitted into the at least one spacer shaft one by one; At least one target shield capable of being lifted between raised positions exposing the outer side of the middle portion of the target base, the plurality of target supports, the plurality of target bases, at least one spacer shaft, and at least one target The shields are detachably assembled from each other, and when the plurality of target supports, the plurality of target bases, the at least one spacer shaft, and the at least one target shield are assembled, the plurality of target supports and the at least one spacer shaft are coaxial. ) Provides a jig for manufacturing an X-ray tube target that is connected to rotate.

본 발명의 엑스선관 타겟 제조용 지그는, 상기 복수의 타겟 받침 중 적어도 하나의 타겟 받침을 지지하는 것으로, 상기 스페이서 샤프트의 직경보다 크고 상기 타겟 받침의 직경보다 작은 직경을 갖는 적어도 하나의 타겟 받침 지지 디스크(disk)를 더 구비할 수 있다. The jig for manufacturing an X-ray tube target of the present invention supports at least one target support among the plurality of target supports, and at least one target support disk having a diameter larger than the diameter of the spacer shaft and smaller than the diameter of the target support disk (disk) may be further provided.

본 발명의 엑스선관 타겟 제조용 지그는, 상기 복수의 타겟 받침 중 최상측의 타겟 받침에 지지되는 타겟 베이스의 중간부를 가리며 상기 중간부에 접촉 지지되는 최상측 타겟 마스킹 부재를 더 구비할 수 있다.The jig for manufacturing an X-ray tube target of the present invention may further include an uppermost target masking member that covers a middle portion of the target base supported by the uppermost target support of the plurality of target supports and is supported in contact with the middle portion.

상기 적어도 하나의 스페이서 샤프트의 외주면에는 수형 스크류 패턴(male screw pattern)이 형성되고, 상기 적어도 하나의 타겟 쉴드의 내주면에는 상기 수형 스크류 패턴에 치합되는 암형 스크류 패턴(female screw pattern)이 형성되어, 상기 적어도 하나의 타겟 쉴드 중 하나의 타겟 쉴드가 끼워진 스페이서 샤프트가 상기 하나의 타겟 쉴드에 대해 상대 회전하여 상기 하나의 타겟 쉴드가 승강할 수 있다. A male screw pattern is formed on an outer circumferential surface of the at least one spacer shaft, and a female screw pattern engaged with the male screw pattern is formed on an inner circumferential surface of the at least one target shield. A spacer shaft into which one of the at least one target shield is fitted rotates relative to the one target shield so that the one target shield can move up and down.

또한 본 발명은, 진공 상태로 유지되는 내부 공간을 갖는 진공 챔버(chamber), 상기 진공 챔버의 내부 공간에 배치되는, 상기한 엑스선관 타겟 제조용 지그, 상기 엑스선관 타겟 제조용 지그를 지지하며, 상기 복수의 타겟 받침 및 적어도 하나의 스페이서 샤프트를 동축(同軸) 회전시키는 턴테이블, 및 상기 엑스선관 타겟 제조용 지그에 탑재된 복수의 타겟 베이스에 순차적으로 금속 분말을 용사하는 플라즈마 용사 토치(plasma spraying torch)를 구비하는 엑스선관 타겟 제조 장치를 제공한다. In addition, the present invention supports a vacuum chamber having an internal space maintained in a vacuum state, the above-mentioned X-ray tube target manufacturing jig, and the X-ray tube target manufacturing jig disposed in the internal space of the vacuum chamber, and the plurality of A turntable for coaxially rotating the target support and at least one spacer shaft, and a plasma spraying torch for sequentially spraying metal powder on a plurality of target bases mounted on the jig for manufacturing the X-ray tube target. An X-ray tube target manufacturing apparatus is provided.

본 발명의 엑스선관 타겟 제조 장치는, 상기 적어도 하나의 타겟 쉴드 중 하나의 타겟 쉴드가 상기 적어도 하나의 스페이서 샤프트의 회전에 동조하여 회전하지 않도록 상기 하나의 타겟 쉴드를 가로막는 회전 스토퍼(stopper)를 더 구비할 수 있다. The X-ray tube target manufacturing apparatus of the present invention further includes a rotation stopper blocking the one target shield so that one of the at least one target shield does not rotate in sync with the rotation of the at least one spacer shaft can be provided

또한 본 발명은, 복수의 타겟 베이스의 표면에 트랙을 형성하기 위하여 금속 분말을 용사할 때 상기 복수의 타겟 베이스를 지지하는 지그로서, 상기 복수의 타겟 베이스가 안착 지지되는 복수의 타겟 안착부가 가상의 원 궤도를 따라 등각도 간격으로 이격되게 마련된 타겟 지지판, 및 상기 복수의 타겟 안착부 중 하나만 선택적으로 노출하고 나머지 타겟 안착부는 가리는 타겟 커버(cover)를 구비하고, 상기 타겟 지지판과 타겟 커버는 서로에 대해 상대 회전 가능하게 결합되는 엑스선관 타겟 제조용 지그를 제공한다. In addition, the present invention is a jig for supporting the plurality of target bases when metal powder is sprayed to form tracks on the surfaces of the plurality of target bases, wherein a plurality of target seating portions on which the plurality of target bases are seated and supported are virtual A target support plate provided to be spaced apart at regular intervals along a circular trajectory, and a target cover that selectively exposes only one of the plurality of target seating portions and covers the remaining target seating portions, wherein the target support plate and the target cover are mutually incompatible with each other. Provided is a jig for manufacturing an X-ray tube target coupled to be relatively rotatable with respect to the same.

상기 트랙은 상기 타겟 베이스의 표면 중에서 상기 타겟 베이스의 중간부의 바깥 측면에만 형성되고, 본 발명의 엑스선관 타겟 제조용 지그는, 상기 복수의 타겟 안착부에 안착 지지된 복수의 타겟 베이스의 중간부에 올려져 상기 중간부를 가리는 복수의 마스킹 부재(masking member)를 더 구비할 수 있다. The track is formed only on the outer side of the middle part of the target base among the surfaces of the target base, and the jig for manufacturing the X-ray tube target of the present invention is placed on the middle part of the plurality of target bases seated and supported on the plurality of target seating parts. A plurality of masking members may be further provided to cover the intermediate portion.

또한 본 발명은, 진공 상태로 유지되는 내부 공간을 갖는 진공 챔버, 상기 진공 챔버의 내부 공간에 배치되는, 상기한 엑스선관 타겟 제조용 지그, 상기 타겟 지지판을 지지하며 회전시키는 턴테이블, 상기 복수의 타겟 안착부 중에서 노출된 하나의 타겟 안착부에 안착 지지된 타겟 베이스에 금속 분말을 용사하는 플라즈마 용사 토치, 및 상기 타겟 지지판이 회전할 때 상기 타겟 커버가 동조하여 회전하지 않도록 상기 타겟 커버를 가로막는 회전 스토퍼를 구비하는 엑스선관 타겟 제조 장치를 제공한다. In addition, the present invention, a vacuum chamber having an internal space maintained in a vacuum state, the jig for manufacturing the X-ray tube target disposed in the internal space of the vacuum chamber, a turntable for supporting and rotating the target support plate, and seating the plurality of targets A plasma spraying torch for spraying metal powder on a target base seated and supported on one target seating part exposed among the parts, and a rotation stopper blocking the target cover so that the target cover does not rotate in sync when the target support plate rotates An X-ray tube target manufacturing apparatus provided is provided.

본 발명의 엑스선관 타겟 제조용 지그는 진공 챔버 내에서 복수의 타겟 베이스를 동시에 지지할 수 있다. 그럼에도 불구하고 특정한 타겟 베이스에 트랙을 형성하도록 용사되는 금속 분말이 의도치 않게 다른 타겟 베이스를 오염시키지 않는다. 따라서, 엑스선관 타겟의 트랙의 두께와 품질이 균일하게 형성되어 엑스선관 타겟의 불량율이 감소하고, 고가의 텅스텐(W)을 포함하는 금속 분말의 낭비가 억제되어서 엑스선관 타겟의 원가가 절감된다. The jig for manufacturing an X-ray tube target of the present invention can simultaneously support a plurality of target bases in a vacuum chamber. Nevertheless, metal powder sprayed to form tracks on a particular target base does not inadvertently contaminate other target bases. Therefore, the thickness and quality of the tracks of the X-ray tube target are uniformly formed, thereby reducing the defect rate of the X-ray tube target, and reducing the cost of the X-ray tube target by suppressing waste of metal powder containing expensive tungsten (W).

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 엑스선관 타겟 제조용 지그의 분해 사시도이다.
도 2는 도 1의 엑스선관 타겟 제조용 지그를 구비한 엑스선관 타겟 제조 장치의 단면도이다.
도 3은 도 2의 용사 토치(torch)의 내부를 개략적으로 도시한 용사 토치의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 엑스선관 타겟 제조용 지그의 사시도이다.
도 5는 도 4의 엑스선관 타겟 제조용 지그의 분해 사시도이다. 1 is an exploded perspective view of a jig for manufacturing an X-ray tube target according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of an X-ray tube target manufacturing apparatus including the X-ray tube target manufacturing jig of FIG. 1 .
3 is a cross-sectional view of the thermal spray torch schematically showing the inside of the thermal spray torch of FIG. 2;
4 is a perspective view of a jig for manufacturing an X-ray tube target according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 5 is an exploded perspective view of the jig for manufacturing the X-ray tube target of FIG. 4 .

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 엑스선관 타겟 제조용 지그, 및 이를 구비한 엑스선관 타겟 제조 장치를 상세하게 설명한다. 본 명세서에서 사용되는 용어(terminology)들은 본 발명의 바람직한 실시예를 적절히 표현하기 위해 사용된 용어들로서, 이는 사용자 또는 운용자의 의도 또는 본 발명이 속하는 분야의 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 본 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.Hereinafter, a jig for manufacturing an X-ray tube target according to an embodiment of the present invention and an apparatus for manufacturing an X-ray tube target having the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Terminologies used in this specification are terms used to appropriately express preferred embodiments of the present invention, which may vary according to the intention of a user or operator or conventions in the field to which the present invention belongs. Therefore, definitions of these terms will have to be made based on the content throughout this specification.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 엑스선관 타겟 제조용 지그의 분해 사시도이고, 도 2는 도 1의 엑스선관 타겟 제조용 지그를 구비한 엑스선관 타겟 제조 장치의 단면도이며, 도 3은 도 2의 용사 토치(torch)의 내부를 개략적으로 도시한 용사 토치의 단면도이다. 도 1 내지 도 3을 함께 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 엑스선관 타겟 제조용 지그(10)는 복수의 타겟 베이스(1)의 상측면에 엑스선이 방출되는 트랙(track)을 형성하기 위햐여 금속 분말을 용사할 때 상기 복수의 타겟 베이스(1)를 지지하는 지그이다. 1 is an exploded perspective view of a jig for manufacturing an X-ray tube target according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of an apparatus for manufacturing an X-ray tube target having the jig for manufacturing an X-ray tube target of FIG. 1, and FIG. It is a cross-sectional view of the thermal spray torch schematically showing the inside of the thermal spray torch. 1 to 3 together, the jig 10 for manufacturing an X-ray tube target according to the first embodiment of the present invention forms a track through which X-rays are emitted on the upper surface of a plurality of target bases 1. It is a jig that supports the plurality of target bases 1 when spraying metal powder for the purpose.

구체적으로, 타겟 베이스(1)는 몰리브덴(Mo)을 포함하는 금속, 즉 순수 몰리브덴이나 몰리브덴을 주재료로 포함하는 몰리브덴 합금으로 이루어진다. 타겟 베이스(1)에는 엑스선관의 샤프트(shaft)(미도시)가 관통하도록 중공(中孔)(2)이 형성된다. 타겟 베이스(1)의 상측면은 상기 중공(2)의 주변인 중간부(3)와 상기 중간부(3)의 바깥 측면, 즉 트랙 형성면(4)으로 구분된다. 상기 트랙 형성면(4)은 상기 중간부(3) 외측의 경사진 면으로 여기에 상기 트랙이 적층 형성된다. 상기 트랙은 텅스텐(W)을 포함하는 금속, 즉 순수 텅스텐(W)이나 텅스텐을 주재료로 포함하는 텅스텐 합금으로 이루어진다. Specifically, the target base 1 is made of a metal containing molybdenum (Mo), that is, pure molybdenum or a molybdenum alloy containing molybdenum as a main material. A hollow 2 is formed in the target base 1 so that a shaft (not shown) of the X-ray tube passes therethrough. The upper surface of the target base 1 is divided into a middle part 3, which is the periphery of the hollow 2, and an outer side of the middle part 3, that is, a track forming surface 4. The track forming surface 4 is an inclined surface outside the intermediate portion 3, on which the tracks are laminated. The track is made of a metal containing tungsten (W), that is, pure tungsten (W) or a tungsten alloy containing tungsten as a main material.

상기 엑스선관 타겟 제조용 지그(10)는 지그 베이스(base)(11), 복수의 타겟 받침(15), 상기 타겟 받침(15)의 개수보다 하나 적은 개수의 스페이서 샤프트(spacer shaft)(30), 상기 스페이서 샤프트(30)의 개수와 같은 개수의 타겟 쉴드(shield)(20), 상기 스페이서 샤프트(30)의 개수와 같은 개수의 타겟 받침 지지 디스크(disk)(28), 최상측 타겟 마스킹 부재(40), 및 상기 복수의 타겟 받침(15)의 개수와 같은 개수의 연결 핀(pin)(26)을 구비한다. The jig 10 for manufacturing the X-ray tube target includes a jig base 11, a plurality of target supports 15, a spacer shaft 30 that is one less than the number of target supports 15, The same number of target shields 20 as the number of the spacer shafts 30, the same number of target support disks 28 as the number of the spacer shafts 30, the uppermost target masking member ( 40), and the same number of connecting pins 26 as the number of the plurality of target supports 15.

복수의 타겟 받침(15)은 상하 방향, 구체적으로는 스페이서 샤프트(30)의 길이 방향과 일치하는 축선(CL)을 따라 일렬로 이격되게 배열된다. 각각의 타겟 받침(15)은 하나의 타겟 베이스(1)를 안착 지지한다. 각각의 타겟 받침(15)은 상측면에 상기 타겟 베이스(1)가 안착되는 타겟 안착 홈(17)이 형성되고, 상기 축선(CL)을 따라 중공(16)이 형성된다. 도 1 및 도 2에 도시된 실시예에서 상기 타겟 받침(15)은 3개가 구비되나, 2개 또는 4개 이상이 구비될 수도 있다. 타겟 받침(15)에는 플라즈마 용사 토치(torch)(60)의 화염이 직접 닿기 때문에 상기 타겟 받침(15)은 고열에 강한 카본(carbon) 소재로 형성된다. A plurality of target bearings 15 are spaced apart in a row along an axis line CL that coincides with the vertical direction, specifically, the longitudinal direction of the spacer shaft 30 . Each target support 15 seats and supports one target base 1 . Each target support 15 has a target seating groove 17 on its upper surface, in which the target base 1 is seated, and a hollow 16 formed along the axis CL. In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2 , three target supports 15 are provided, but two or four or more may be provided. Since the flame of the plasma spraying torch 60 directly touches the target support 15, the target support 15 is made of a carbon material that is resistant to high heat.

도 1 및 도 2에 도시된 실시예에서 스페이서 샤프트(30)는 타겟 받침(15)의 개수보다 하나 작은 2개가 구비된다. 각각의 스페이서 샤프트(30)는 이격된 한 쌍의 타겟 받침(15) 사이에 개재되며, 축선(CL)을 따라 연장된다. 스페이서 샤프트(30)의 하측면은 타겟 안착 홈(17)에 안착 지지된 타겟 베이스(1)의 중간부(3)를 가리며 상기 중간부(3)에 접촉 지지된다. 스페이서 샤프트(30)에는 플라즈마 용사 토치(torch)(60)의 화염이 직접 닿기 때문에 상기 스페이서 샤프트(30)는 고열에 강한 카본(carbon) 소재로 형성된다. 스페이서 샤프트(30)의 하측면에 의해 그 아래의 타겟 베이스(1)의 중간부(30)가 가려지므로, 상기 플라즈마 용사 토치(60)에 의해 트랙 형성면(4)에 텅스텐을 포함하는 금속의 분말이 용사될 때 상기 중간부(3)가 상기 금속 분말에 의해 오염되지 않게 된다. In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2 , spacer shafts 30 are provided with two smaller than the number of target supports 15 . Each spacer shaft 30 is interposed between a pair of spaced apart target supports 15 and extends along an axis CL. The lower surface of the spacer shaft 30 covers the intermediate portion 3 of the target base 1 seated and supported in the target seating groove 17 and is supported in contact with the intermediate portion 3 . Since the flame of the plasma spraying torch 60 directly touches the spacer shaft 30, the spacer shaft 30 is made of a carbon material that is resistant to high heat. Since the middle part 30 of the target base 1 below is covered by the lower surface of the spacer shaft 30, the metal containing tungsten is formed on the track forming surface 4 by the plasma spraying torch 60. When the powder is thermally sprayed, the intermediate portion 3 is not contaminated by the metal powder.

스페이서 샤프트(30)는 상단부에 자신의 위에 배치된 타겟 받침(15)의 중공(16)에 끼워지도록 상향 돌출된 상단 돌기(31)를 구비한다. 상기 상단 돌기(31)가 끼워지는 중공(16)의 내주면과 상기 상단 돌기(31)의 외주면은 마찰 접촉된다. 스페이서 샤프트(30)는 상기 상단 돌기(31)의 아래에 일정한 직경(DH)의 크기를 가지며 상기 축선(CL)을 따라 연장된 몸통부(body portion)를 구비하고, 상기 몸통부의 외주면에는 수형 스크류 패턴(male screw pattern)(35)이 형성된다. The spacer shaft 30 has an upper end protrusion 31 protruding upward so as to be inserted into the hollow 16 of the target support 15 disposed thereon at the upper end. An inner circumferential surface of the hollow 16 into which the upper protrusion 31 is inserted and an outer circumferential surface of the upper protrusion 31 are in frictional contact. The spacer shaft 30 has a body portion having a predetermined diameter DH below the upper end protrusion 31 and extending along the axis line CL, and a male screw is provided on the outer circumferential surface of the body portion. A male screw pattern 35 is formed.

도 1 및 도 2에 도시된 실시예에서 타겟 받침 지지 디스크(28)는 타겟 받침(15)의 개수보다 하나 작은 2개가 구비된다. 2개의 타겟 받침 지지 디스크(28) 중 하나는 3개의 타겟 받침(15) 중 가장 위에 위치한 타겟 받침(15), 즉 최상층의 타겟 받침(15)을 접촉 지지하고, 다른 하나의 타겟 받침 지지 디스크(28)는 3개의 타겟 받침(15) 중 중간 높이에 위치한 타겟 받침(15)을 접촉 지지한다. 각각의 타겟 받침 지지 디스크(28)에는 스페이서 샤프트(30)의 상단 돌기(31)가 관통하는 중공(29)이 형성된다. 스페이서 샤프트(30)는 상기 상단 돌기(31)와 상기 몸통부 사이에 단차진 상측 단차면(33)을 구비하며, 상기 상단 돌기(31)가 상기 중공(29)을 관통하도록 스페이서 샤프트(30)에 꿰어진 타겟 받침 지지 디스크(28)가 상기 상측 단차면(33)에 접촉 지지된다. In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2 , two target abutment support disks 28 are one smaller than the number of target abutments 15 . One of the two target abutment support disks 28 contacts and supports the target abutment 15 located at the top of the three target abutments 15, that is, the target abutment 15 of the uppermost layer, and the other target abutment support disk ( 28) contacts and supports the target support 15 located at the middle height among the three target supports 15. A hollow 29 through which the top projection 31 of the spacer shaft 30 passes is formed in each target supporting disk 28 . The spacer shaft 30 has a stepped upper stepped surface 33 between the top protrusion 31 and the body, and the spacer shaft 30 has the top protrusion 31 penetrate the hollow 29. The target bearing support disk 28 threaded in is supported in contact with the upper stepped surface 33.

카본 소재로 형성된 타겟 받침(15)이 상기 스페이서 샤프트(30)의 상측 단차면에 직접 접촉하여 지지되면, 타겟 안착 홈(17)에 안착된 타겟 베이스(1)의 무게로 인해 타겟 받침(15)이 파손될 수도 있다. 타겟 받침 지지 디스크(28)가 타겟 받침(15)을 접촉 지지하여 응력을 분산시켜 줌으로써 타겟 받침(15)의 파손을 방지한다. When the target abutment 15 made of carbon material is supported in direct contact with the upper stepped surface of the spacer shaft 30, the target abutment 15 is affected by the weight of the target base 1 seated in the target seating groove 17 this may be damaged. The target abutment support disk 28 contacts and supports the target abutment 15 to distribute stress, thereby preventing the target abutment 15 from being damaged.

상기 타겟 받침 지지 디스크(28)의 직경(DI)의 크기는 상기 스페이서 샤프트(30)의 직경, 구체적으로 상기 몸통부의 직경(DH)의 크기보다 크고, 상기 타겟 받침(15)의 직경(DU)의 크기보다 작다. 상기 타겟 받침 지지 디스크(28)에는 플라즈마 용사 토치(torch)(60)의 화염이 직접 닿지 않기 때문에, 카본보다는 내열성이 약하나 상대적으로 강도가 우수하고 원가도 낮은 스테인레스스틸(stainless steel)이 타겟 받침 지지 디스크(28)의 소재로 적용될 수 있다. The size of the diameter (DI) of the target abutment support disk 28 is larger than the diameter of the spacer shaft 30, specifically, the size of the diameter (DH) of the body portion, and the diameter (DU) of the target abutment 15 smaller than the size of Since the flame of the plasma spray torch 60 does not directly touch the target support disk 28, stainless steel, which has lower heat resistance than carbon but has relatively excellent strength and low cost, supports the target support It can be applied as a material for the disk 28.

최상측 타겟 마스킹 부재(40)는 2개의 타겟 받침(15) 중 최상층의 타겟 받침(15)에 안착 지지되는 타겟 베이스(1)의 중간부(3)를 가리며 상기 중간부(3)에 접촉 지지된다. 이에 따라, 플라즈마 용사 토치(60)에 의해 트랙 형성면(4)에 텅스텐을 포함하는 금속의 분말이 용사될 때 상기 최상층의 타겟 받침(15)에 지지된 타겟 베이스(1)의 중간부(3)가 상기 금속 분말에 의해 오염되지 않게 된다. The uppermost target masking member 40 covers the middle portion 3 of the target base 1 seated and supported on the uppermost target support 15 of the two target supports 15 and contacts the middle portion 3 supported Accordingly, when the metal powder containing tungsten is sprayed on the track forming surface 4 by the plasma spray torch 60, the middle portion 3 of the target base 1 supported by the uppermost target support 15 ) is not contaminated by the metal powder.

도 1 및 도 2에 도시된 실시예에서 최상측 타겟 마스킹 부재(40)의 소재 및 형상은 스페이서 샤프트(30)의 소재 및 형상과 동일하지만, 스페이서 샤프트(30)와 다른 소재 및 형상을 갖는 최상측 타겟 마스킹 부재가 사용될 수도 있다. 도시된 실시예의 경우와 같이 최상측 타겟 마스킹 부재(40)를 스페이서 샤프트(30)와 공용으로 사용하면, 스페이서 샤프트(30)의 소재 및 형상과 다른 소재 및 형상의 최상층 타겟 마스킹 부재(40)를 사용하는 경우보다 엑스선관 타겟 제조용 지그(10)의 제작 원가가 절감될 수 있다. In the embodiment shown in Figures 1 and 2, the material and shape of the uppermost target masking member 40 is the same as the material and shape of the spacer shaft 30, but the uppermost part having a different material and shape from the spacer shaft 30 A side target masking member may be used. When the uppermost target masking member 40 is used in common with the spacer shaft 30 as in the case of the illustrated embodiment, the uppermost target masking member 40 of a different material and shape from the material and shape of the spacer shaft 30 The manufacturing cost of the jig 10 for manufacturing the X-ray tube target can be reduced compared to the case of using the X-ray tube target.

지그 베이스(jig base)(11)는 3개의 타겟 받침(15) 중 최하층의 타겟 받침(15)을 지지하는 디스크 형상의 부재로서, 중앙에 상기 최하층 타겟 받침(15)의 중공(16)에 끼워지도록 상향 돌출된 끼움 돌기(13)를 구비한다. 상기 끼움 돌기(14)가 끼워지는 상기 최하층 타겟 받침(15)의 중공(16)의 내주면과 상기 끼움 돌기(14)의 외주면은 마찰 접촉된다. 상기 지그 베이스(11)는 턴테이블(53)에 접촉 지지된다. 상기 지그 베이스(11)에는 플라즈마 용사 토치(60)의 화염이 직접 닿지 않기 때문에, 카본보다는 내열성이 약하나 상대적으로 강도가 우수하고 원가도 낮은 스테인레스스틸이 지그 베이스(11)의 소재로 적용될 수 있다. The jig base 11 is a disc-shaped member that supports the lowest target support 15 of the three target supports 15, and is inserted into the hollow 16 of the lowest target support 15 in the center. It is provided with a fitting protrusion 13 protruding upward so as to be supported. An inner circumferential surface of the hollow 16 of the lowermost target support 15 into which the fitting protrusion 14 is fitted and an outer circumferential surface of the fitting protrusion 14 are in frictional contact. The jig base 11 is supported in contact with the turntable 53. Since the flame of the plasma spray torch 60 does not directly touch the jig base 11, stainless steel, which has lower heat resistance than carbon but has relatively excellent strength and low cost, can be applied as a material for the jig base 11.

도 1 및 도 2에 도시된 실시예에서 상기 연결 핀(26)은 타겟 받침(15)의 개수와 같이 3개가 구비된다. 각각의 연결 핀(26)은 축선(CL)을 따라 연장되며 사각형의 단면 형상을 갖는다. 다만, 상기 사각형 단면 형상은 예시에 불과한 것으로, 본 발명의 연결 핀은 삼각형, 오각형 등의 다각형, 또는 반원형의 단면 형상을 가질 수 있다. 상기 연결 핀(26)에는 플라즈마 용사 토치(60)의 화염이 직접 닿지 않기 때문에, 카본보다는 내열성이 약하나 상대적으로 강도가 우수하고 원가도 낮은 스테인레스스틸이 연결 핀(26)의 소재로 적용될 수 있다. In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2 , the connecting pins 26 are provided with three as the number of target supports 15 . Each connecting pin 26 extends along the axis CL and has a rectangular cross-sectional shape. However, the rectangular cross-sectional shape is only an example, and the connection pin of the present invention may have a polygonal cross-sectional shape such as a triangle or a pentagon, or a semi-circular cross-section. Since the flame of the plasma spray torch 60 does not directly contact the connection pin 26, stainless steel having lower heat resistance than carbon but relatively excellent strength and low cost can be applied as a material for the connection pin 26.

상기 3개의 연결 핀(26) 중 하나는 지그 베이스(11)와 최하층 타겟 받침(15)에 지지된 타겟 베이스(1)의 중간부(3)에 접촉 지지된 스페이서 샤프트(30)를 축선(CL)을 중심으로 동축(同軸) 회전하도록 연결한다. 구체적으로, 상기 지그 베이스(11)의 끼움 돌기(13) 상측면 및 상기 스페이서 샤프트(30)의 몸통부의 하측면에는 각각, 상기 연결 핀(26)의 하단부 및 상단부가 끼워지도록, 상기 연결 핀(26)의 단면 형상에 대응되는 단면 형상을 갖는 하단부 삽입 핀 홀(14) 및 상단부 삽입 핀 홀(34)이 형성된다. 상기 연결 핀(26)은 상기 최하층 타겟 받침(15)에 지지된 타겟 베이스(1)의 중공(2)을 관통하며, 상기 중공(2)의 내주면에 상기 연결 핀(26)의 외측면이 접촉되지 않을 수 있다. One of the three connection pins 26 connects the spacer shaft 30 supported in contact with the middle portion 3 of the target base 1 supported by the jig base 11 and the lowest target support 15 along the axis CL ) are connected so that they rotate coaxially around the center. Specifically, the connection pin ( 26), a lower end insertion pin hole 14 and an upper end insertion pin hole 34 having a cross-sectional shape corresponding to the cross-sectional shape are formed. The connection pin 26 passes through the hollow 2 of the target base 1 supported by the lowest layer target support 15, and the outer surface of the connection pin 26 contacts the inner circumferential surface of the hollow 2 It may not be.

상기 3개의 연결 핀(26) 중 다른 하나는 한 쌍의 스페이서 샤프트(30)를 축선(CL)을 중심으로 동축 회전하도록 연결한다. 구체적으로, 한 쌍의 스페이서 샤프트(30) 중 상대적으로 하측에 위치하는 스페이서 샤프트(30)의 상단 돌기(31)의 상측면, 및 상대적으로 상측에 위치하는 스페이서 샤프트(30)의 몸통부의 하측면에는 각각, 상기 연결 핀(26)의 하단부 및 상단부가 끼워지도록, 상기 연결 핀(26)의 단면 형상에 대응되는 단면 형상을 갖는 하단부 삽입 핀 홀(32) 및 상단부 삽입 핀 홀(34)이 형성된다. 상기 연결 핀(26)은 상기 한 쌍의 스페이서 샤프트(30) 사이에 위치하는 타겟 베이스(1)의 중공(2)을 관통하며, 상기 중공(2)의 내주면에 상기 연결 핀(26)의 외측면이 접촉되지 않을 수 있다. The other one of the three connection pins 26 connects the pair of spacer shafts 30 to be coaxially rotated around the axis CL. Specifically, the upper surface of the upper protrusion 31 of the spacer shaft 30 positioned at a relatively lower side among the pair of spacer shafts 30, and the lower surface of the body portion of the spacer shaft 30 positioned at a relatively upper side. A lower end insertion pin hole 32 and an upper end insertion pin hole 34 having a cross-sectional shape corresponding to the cross-sectional shape of the connecting pin 26 are formed, respectively, so that the lower end and the upper end of the connecting pin 26 are inserted. do. The connecting pin 26 passes through the hollow 2 of the target base 1 located between the pair of spacer shafts 30, and the outer surface of the connecting pin 26 is formed on the inner circumferential surface of the hollow 2. The sides may not be in contact.

상기 3개의 연결 핀(26) 중 나머지 하나는 최상측 타겟 마스킹 부재(40)와 그 아래에 위치한 스페이서 샤프트(30)를 축선(CL)을 중심으로 동축 회전하도록 연결한다. 구체적으로, 최상측 타겟 마스킹 부재(40)의 하측에 위치하는 스페이서 샤프트(30)의 상단 돌기(31)의 상측면, 및 상기 최상측 타겟 마스킹 부재(40)의 하측면에는 각각, 상기 연결 핀(26)의 하단부 및 상단부가 끼워지도록, 상기 연결 핀(26)의 단면 형상에 대응되는 단면 형상을 갖는 하단부 삽입 핀 홀(32) 및 상단부 삽입 핀 홀(44)이 형성된다. 상기 연결 핀(26)은 상기 최상측 타겟 마스킹 부재(40)와 그 아래의 스페이서 샤프트(30) 사이에 위치하는 타겟 베이스(1)의 중공(2)을 관통하며, 상기 중공(2)의 내주면에 상기 연결 핀(26)의 외측면이 접촉되지 않을 수 있다. The other one of the three connection pins 26 connects the uppermost target masking member 40 and the spacer shaft 30 positioned below it to coaxially rotate around the axis CL. Specifically, on the upper surface of the upper end projection 31 of the spacer shaft 30 located on the lower side of the uppermost target masking member 40 and the lower surface of the uppermost target masking member 40, respectively, the connecting pins A lower end insertion pin hole 32 and an upper end insertion pin hole 44 having a cross-sectional shape corresponding to the cross-sectional shape of the connecting pin 26 are formed so that the lower end and the upper end of 26 are fitted. The connecting pin 26 penetrates the hollow 2 of the target base 1 located between the uppermost target masking member 40 and the spacer shaft 30 below it, and the inner circumferential surface of the hollow 2 The outer surface of the connecting pin 26 may not be contacted.

도 1 및 도 2에 도시된 실시예에서 타겟 쉴드(shield)(20)는 스페이서 샤프트(30)의 개수와 같이 2개가 구비된다. 2개의 타겟 쉴드(20)는 2개의 스페이서 샤프트(30)에 하나씩 끼워진다. 각각의 타겟 쉴드(20)에는 스페이서 샤프트(30)의 몸통부가 관통하는 중공(21)이 형성되고, 상기 중공(21)의 내주면에는 상기 스페이서 샤프트(30)의 외주면의 수형 스크류 패턴(35)에 치합되는 암형 스크류 패턴(female screw pattern)(22)이 형성된다. In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2 , two target shields 20 are provided as the number of spacer shafts 30 . The two target shields 20 are fitted into the two spacer shafts 30 one by one. Each target shield 20 has a hollow 21 through which the body of the spacer shaft 30 passes, and the inner circumferential surface of the hollow 21 is connected to the male screw pattern 35 on the outer circumferential surface of the spacer shaft 30. A mating female screw pattern 22 is formed.

각각의 타겟 쉴드(20)의 직경은 타겟 베이스(1)의 직경보다 크며, 하측면에는 타겟 받침(15)에 안착 지지된 타겟 베이스(1)의 트랙 형성면(4), 즉 타겟 받침(15)의 상측면보다 위로 돌출된 부분이 수용되도록 상측으로 파인 타겟 수용 홈(24)이 형성된다. 각각의 타겟 쉴드(20)는 방사 방향으로 돌출된 스토퍼 간섭 돌기(25)를 구비한다. 상기 타겟 쉴드(20)에는 플라즈마 용사 토치(60)의 화염이 직접 닿지 않기 때문에, 카본보다는 내열성이 약하나 상대적으로 강도가 우수하고 원가도 낮은 스테인레스스틸이 타겟 쉴드(20)의 소재로 적용될 수 있다. The diameter of each target shield 20 is larger than the diameter of the target base 1, and on the lower side, the track forming surface 4 of the target base 1 seated and supported on the target abutment 15, that is, the target abutment 15 ) A target accommodating groove 24 dug upward is formed so that a portion protruding above the upper side of the target is accommodated. Each target shield 20 has a stopper interference projection 25 protruding in a radial direction. Since the flame of the plasma spray torch 60 does not directly touch the target shield 20, stainless steel having lower heat resistance than carbon but relatively excellent strength and low cost can be applied as a material for the target shield 20.

각각의 타겟 쉴드(20)는 상기 타겟 쉴드(20)가 끼워진 스페이서 샤프트(30)를 접촉 지지하는 타겟 베이스(1)의 중간부(3)의 바깥 측면(4), 즉 트랙 형성부(4)를 가리는 하강 위치와, 상기 트랙 형성부(4)를 노출하는 상승 위치 사이에서 승강 가능하다. 타겟 쉴드(20)가 끼워진 스페이서 샤프트(30)가 상기 타겟 쉴드(20)에 대해 축선(CL)을 중심으로 상대 회전하면 상기 타겟 쉴드(20)가 축선(CL)을 따라 승강하게 된다. 부연하면, 지그(10)에 포함된 모든 스페이서 샤프트(30)가 축선(CL)을 중심으로 회전할 때, 지그(10)에 포함된 모든 타겟 쉴드(20) 중 특정 타겟 쉴드(20)만 동축 회전하지 않고 나머지 타겟 쉴드(20)는 동축 회전하면, 상기 특정 타겟 쉴드(20)가 상기 축선(CL)을 따라 승강하게 된다. Each target shield 20 has an outer side surface 4 of the middle part 3 of the target base 1 that contacts and supports the spacer shaft 30 into which the target shield 20 is fitted, that is, the track forming part 4 It is possible to move up and down between a lowering position that covers and an elevated position that exposes the track forming portion 4 . When the spacer shaft 30 into which the target shield 20 is fitted rotates relative to the target shield 20 about the axis CL, the target shield 20 moves up and down along the axis CL. In other words, when all spacer shafts 30 included in the jig 10 rotate about the axis CL, only a specific target shield 20 among all target shields 20 included in the jig 10 is coaxial. When the remaining target shields 20 are coaxially rotated without rotation, the specific target shield 20 moves up and down along the axis CL.

도 2에서 한 쌍의 스페이서 샤프트(30) 중 상대적으로 상측에 위치한 스페이서 샤프트(30)에 끼워진 타겟 쉴드(20)의 위치가 상승 위치를 예시하고, 상대적으로 하측에 위치한 스페이서 샤프트(30)에 끼워진 타겟 쉴드(20)의 위치가 하강 위치를 예시한다. 타겟 쉴드(20)가 하강 위치일 때 상기 타겟 쉴드(20)의 하측면과 타겟 받침(15)의 상측면이 면접촉될 수 있다. In FIG. 2, the position of the target shield 20 fitted to the relatively upper spacer shaft 30 of the pair of spacer shafts 30 illustrates the upward position, and the position of the target shield 20 fitted to the relatively lower spacer shaft 30 The position of the target shield 20 exemplifies the lowered position. When the target shield 20 is in a lowered position, the lower surface of the target shield 20 and the upper surface of the target support 15 may be in surface contact.

상기 지그 베이스(11), 3개의 타겟 받침(15), 2개의 스페이서 샤프트(30), 2개의 타겟 쉴드(20), 2개의 타겟 받침 지지 디스크(28), 최상측 타겟 마스킹 부재(40), 및 3개의 연결 핀(26)은 서로 분리 가능하게 조립될 수 있다. 그리고, 이처럼 엑스선관 타겟 제조용 지그(10)가 조립되면, 상기 지그 베이스(11), 3개의 타겟 받침(15), 2개의 스페이서 샤프트(30), 최상측 타겟 마스킹 부재(40), 및 3개의 연결 핀(26)은 동축 회전하도록 연결된다. The jig base 11, three target supports 15, two spacer shafts 30, two target shields 20, two target support disks 28, the uppermost target masking member 40, And the three connection pins 26 can be detachably assembled from each other. And, when the jig 10 for manufacturing the X-ray tube target is assembled in this way, the jig base 11, three target supports 15, two spacer shafts 30, the uppermost target masking member 40, and three The connecting pins 26 are connected for coaxial rotation.

상기 엑스선관 타겟 제조용 지그(10)를 구비한 엑스선관 타겟 제조 장치(50)는, 상기 지그(10) 외에 진공 챔버(vacuum chamber)(51), 턴테이블(turn table)(53), 플라즈마 용사 토치(plasma spraying torch)(60), 및 회전 스토퍼(stopper)(55)를 더 구비한다. 진공 챔버(51)는 금속 분말의 플라즈마 용사 작업을 위해 진공 상태로 유지되는 내부 공간을 갖는 챔버이다. 상기 진공 챔버(51)의 내부 공간에 상기 지그(10), 턴테이블(53), 플라즈마 용사 토치(60), 및 회전 스토퍼(55)가 배치된다. The X-ray tube target manufacturing apparatus 50 equipped with the X-ray tube target manufacturing jig 10 includes a vacuum chamber 51, a turn table 53, and a plasma spray torch in addition to the jig 10 (plasma spraying torch) 60 and a rotation stopper 55 are further provided. The vacuum chamber 51 is a chamber having an inner space maintained in a vacuum state for plasma spraying of metal powder. The jig 10, the turntable 53, the plasma spraying torch 60, and the rotation stopper 55 are disposed in the inner space of the vacuum chamber 51.

턴테이블(53)은 상기 지그(10)를 지지하며 상기 축선(CL)을 중심으로 회전시킨다. 구체적으로, 턴테이블(53)에는 상기 축선(CL)과 상기 턴테이블(53)의 회전 중심이 일치하도록 상기 지그 베이스(11)가 접촉 지지되며, 이 상태에서 턴테이블(53)이 회전하면, 상기 지그(10)에 포함된 모든 구성요소들이 축선(CL)을 중심으로 동축 회전할 수 있다. 다만, 상기 2개의 타겟 쉴드(20) 중 하나가 상기 회전 스토퍼(55)에 의해 가로막히면 상기 타겟 쉴드(20)는 함께 회전하지 않게 된다. The turntable 53 supports the jig 10 and rotates it around the axis CL. Specifically, the jig base 11 is supported in contact with the turntable 53 so that the axis CL and the center of rotation of the turntable 53 coincide, and in this state, when the turntable 53 rotates, the jig ( All components included in 10) may coaxially rotate around the axis CL. However, if one of the two target shields 20 is blocked by the rotation stopper 55, the target shield 20 does not rotate together.

플라즈마 용사 토치(60)는 진공 환경에서 상기 지그(10)의 3개의 타겟 받침(15)에 탑재된 3개의 타겟 베이스(1)를 향해 순차적으로 텅스텐(W)을 포함하는 금속 분말을 용사하여 상기 3개의 타겟 베이스(1)에 트랙을 형성한다. 플라즈마 용사 토치(60)는 중앙부에 핀(pin) 형태로 돌출된 음극 전극(cathode)(61)과, 음극 전극(61) 주변을 감싸며 음극 전극(61)의 전방에 노즐 개구(64)가 형성된 양극 전극(anode)(62)을 구비한다. 아르곤, 수소, 질소, 헬륨과 같은 불활성 가스가 음극 전극(61) 주변의 불활성 가스 공급부(67)를 통해 공급되어 음극 전극(61)과 양극 전극(62) 사이에서 플라즈마화되고, 노즐 개구(64)를 통해 상기 용사 토치(60)의 전방으로 플라즈마 제트(plasma jet)가 분사된다. 상기 용사 토치(60)의 과열을 방지하기 위해 양극 전극(62)의 주변부로는 냉각수 공급부(68)를 통해 냉각수가 공급된다. The plasma spraying torch 60 sequentially sprays metal powder containing tungsten (W) toward the three target bases 1 mounted on the three target supports 15 of the jig 10 in a vacuum environment. Tracks are formed on three target bases (1). Plasma spraying torch 60 has a cathode electrode 61 protruding in the form of a pin at the center and a nozzle opening 64 wrapped around the cathode electrode 61 and in front of the cathode electrode 61. An anode 62 is provided. An inert gas such as argon, hydrogen, nitrogen, or helium is supplied through an inert gas supply unit 67 around the cathode electrode 61 to form plasma between the cathode electrode 61 and the anode electrode 62, and the nozzle opening 64 ) through which a plasma jet is sprayed to the front of the spray torch 60. In order to prevent overheating of the thermal spray torch 60, cooling water is supplied to the periphery of the anode electrode 62 through the cooling water supply unit 68.

상기 플라즈마 용사 토치(60) 전면의 분말 투입부(66)를 통해 텅스텐(W)을 포함하는 금속 분말이 투입되면 상기 플라즈마 제트에 의해 용융되고, 상기 용융된 금속 분말이 상기 플라즈마 제트에 실려 상기 플라즈마 용사 토치(60)의 전방으로 투사되어 타겟 베이스(1)의 중간부(3)의 바깥 측면(4), 즉 트랙 형성면(4)에 코팅(coating)되고 냉각되면서 트랙(track)이 형성된다. 바람직한 실시예에서, 상기 텅스텐(W)을 포함하는 금속은 텅스텐 합금이고, 그 성분에는 3 내지 10wt%의 라듐(Ra)이 포함될 수 있다. 상기 라듐(Ra)은 용사된 텅스텐 합금이 타겟 베이스(1)의 트랙 형성면(4)에 부착되는 부착력을 향상시켜 타겟 베이스(1)와 트랙 간의 결합력을 높여준다. When a metal powder containing tungsten (W) is introduced through the powder input unit 66 on the front side of the plasma spraying torch 60, it is melted by the plasma jet, and the molten metal powder is loaded on the plasma jet to form the plasma A track is formed as it is projected forward of the spray torch 60 and is coated on the outer side surface 4 of the middle part 3 of the target base 1, that is, the track forming surface 4 and cooled. . In a preferred embodiment, the metal containing tungsten (W) is a tungsten alloy, and 3 to 10 wt% of radium (Ra) may be included in the composition. The radium (Ra) increases the bonding force between the target base 1 and the track by improving the adhesion of the sprayed tungsten alloy to the track forming surface 4 of the target base 1.

회전 스토퍼(55)는 상기 턴테이블(53)이 회전하여 상기 2개의 스페이서 샤프트(30)가 회전할 때, 상기 2개의 스페이서 샤프트(30)에 끼워진 2개의 타겟 쉴드(20) 중 하나의 타겟 쉴드(20)가 상기 2개의 스페이서 샤프트(30)의 회전에 동조하여 회전하지 않도록 상기 하나의 타겟 쉴드(20)를 가로막는 기구이다. 부연하면, 상기 회전 스토퍼(55)가 2개의 타겟 쉴드(20) 중 하나의 스토퍼 간섭 돌기(25)를 시계 방향 및 반시계 방향으로 회전하지 못하도록 가로막은 상태로 상기 턴테이블(53)이 회전하여 상기 지그(10)가 축선(CL)을 중심으로 회전하면, 상기 하나의 타겟 쉴드(20)를 끼운 스페이서 샤프트(30)는 상기 하나의 타겟 쉴드(20)에 대해 상대 회전하게 된다.The rotation stopper 55 is one of the two target shields 20 inserted into the two spacer shafts 30 when the turntable 53 rotates and the two spacer shafts 30 rotate ( 20) is a mechanism that blocks the one target shield 20 so that it does not rotate in sync with the rotation of the two spacer shafts 30. In other words, the turntable 53 rotates in a state in which the rotation stopper 55 blocks the stopper interference protrusion 25 of one of the two target shields 20 from rotating clockwise and counterclockwise. When the jig 10 rotates around the axis CL, the spacer shaft 30 sandwiched with the one target shield 20 rotates relative to the one target shield 20 .

상술한 바와 같이 스페이서 샤프트(30)의 외주면과 타겟 쉴드(20)의 중공(21)의 내주면은 수형 스크류 패턴(35)과 암형 스크류 패턴(22)으로 치합되어 있으므로, 상기 스페이서 샤프트(30)이 상기 타겟 쉴드(20)에 대해 상대 회전함에 따라 상기 타겟 쉴드(20)는 축선(CL)을 따라 승강 이동한다. 상기 스페이서 샤프트(30)의 회전 방향에 따라 상기 타겟 쉴드(20)는 하강 위치에서 상승 위치로 이동하거나, 반대로 상승 위치에서 하강 위치로 이동할 수 있다. As described above, since the outer circumferential surface of the spacer shaft 30 and the inner circumferential surface of the hollow 21 of the target shield 20 are meshed with the male screw pattern 35 and the female screw pattern 22, the spacer shaft 30 As the target shield 20 rotates relative to the target shield 20, the target shield 20 moves up and down along the axis line CL. Depending on the direction of rotation of the spacer shaft 30, the target shield 20 may move from a lowered position to a raised position or vice versa.

도 2에 도시되진 않았으나, 상기 플라즈마 용사 토치(60)와 회전 스토퍼(55)는 상기 지그(10) 주변에서 상하좌우로 이동 가능한 하나의 로봇 암(robot arm)에 지지될 수 있다. Although not shown in FIG. 2 , the plasma spray torch 60 and the rotation stopper 55 may be supported by one robot arm capable of moving vertically and horizontally around the jig 10 .

상기 엑스선관 타겟 제조 장치(50)를 이용하여 3개의 타겟 베이스(1)에 트랙을 형성하는 과정을 설명하면 아래와 같다. 먼저, 3개의 타겟 베이스(1)를 포함하여 조립된 엑스선관 타겟 제조용 지그(10)를 텐테이블(11) 위에 지지시키고, 진공 챔버(51)의 내부 공간을 폐쇄하고 진공 상태로 만든다. 이때 상기 2개의 타겟 쉴드(20)는 각각 하강 위치에 위치한다. A process of forming tracks on the three target bases 1 using the X-ray tube target manufacturing apparatus 50 will be described below. First, the jig 10 for manufacturing the X-ray tube target assembled including the three target bases 1 is supported on the tentable 11, and the internal space of the vacuum chamber 51 is closed and vacuumed. At this time, the two target shields 20 are each positioned in a lowered position.

다음으로, 플라즈마 용사 토치(60)를 최상층의 타겟 받침(15)에 안착 지지된 타겟 베이스(1)의 위로 이동시키고, 상기 턴테이블(53)을 일정한 속도와 방향으로 회전시켜 상기 지그(10)를 일정한 속도와 방향으로 회전시키면서, 상기 플라즈마 용사 토치(60)를 통해 상기 최상층 타겟 베이스(1)의 트랙 형성면(4)를 향해 아래로 텅스텐(W)을 포함하는 금속 분말을 용사한다. 이때, 상기 최상층 타겟 베이스(1)의 중간부(3)는 최상측 타겟 마스킹 부재(40)에 의해 노출되지 않게 가려져 있으므로, 상기 트랙 형성면(4)에만 상기 금속 분말이 용사되어 트랙이 형성된다. 또한, 상기 최상층 아래의 중간층 및 최하층 타겟 베이스(1)의 중간부(3)와 트랙 형성면(4)은 2개의 스페이서 샤프트(30)와 2개의 타겟 쉴드(20)에 의해 노출되지 않고 가려져 있으므로, 상기 최상층 타겟 베이스(1)를 향해 아래로 용사된 금속 분말로 인해 중간층 및 최하층 타겟 베이스(1)가 오염되지 않는다. Next, the plasma spraying torch 60 is moved above the target base 1 seated and supported on the uppermost target support 15, and the turntable 53 is rotated at a constant speed and direction to make the jig 10 While rotating at a constant speed and direction, metal powder containing tungsten (W) is thermally sprayed downward toward the track forming surface 4 of the uppermost target base 1 through the plasma spraying torch 60. At this time, since the middle part 3 of the uppermost target base 1 is not exposed by the uppermost target masking member 40, the metal powder is sprayed only on the track forming surface 4 to form a track . In addition, the middle part 3 and the track forming surface 4 of the middle layer and the lowest layer target base 1 under the uppermost layer are not exposed and covered by the two spacer shafts 30 and the two target shields 20, , the middle layer and the lowermost target base 1 are not contaminated due to the metal powder sprayed downward toward the uppermost target base 1.

다음으로, 회전 스토퍼(55)가 상기 중간층 타겟 베이스(1)를 가리도록 하강 위치에 있는 타겟 쉴드(20)의 스토퍼 간섭 돌기(25)를 회전하지 않게 가로막고, 상기 턴테이블(53)을 일 방향으로 회전시킨다. 이로 인해, 상기 하강 위치에 있던 타겟 쉴드(20)가 도 2에 도시된 바와 같이 상승 위치로 이동하면, 상기 턴테이블(53)의 회전을 정지시키고, 회전 스토퍼(55)를 상기 타겟 쉴드(20)의 스토퍼 간섭 돌기(25)에서 이격시킨다. Next, the rotation stopper 55 blocks the stopper interference protrusion 25 of the target shield 20 in the lowered position so as not to rotate so as to cover the intermediate layer target base 1, and the turntable 53 in one direction rotate Due to this, when the target shield 20 in the lowered position moves to the upper position as shown in FIG. 2, the rotation of the turntable 53 is stopped, and the rotation stopper 55 is moved to the target shield 20. spaced apart from the stopper interference projection 25.

다음으로, 상기 플라즈마 용사 토치(60)를 직전에 상승 위치로 이동한 타겟 쉴드(20)의 아래 및 상기 중간층 타겟 베이스(1)의 위로 이동시키고, 상기 턴테이블(53)을 일정한 속도와 방향으로 회전시켜 상기 지그(10)를 일정한 속도와 방향으로 회전시키면서, 상기 플라즈마 용사 토치(60)를 통해 상기 중간층 타겟 베이스(1)의 트랙 형성면(4)를 향해 아래로 텅스텐(W)을 포함하는 금속 분말을 용사한다. 이때, 상기 중간층 타겟 베이스(1)의 중간부(3)는 상기 최상측 타겟 마스킹 부재(40) 아래의 스페이서 샤프트(30)에 의해 노출되지 않게 가려져 있으므로, 상기 트랙 형성면(4)에만 상기 금속 분말이 용사되어 트랙이 형성된다. Next, the plasma spraying torch 60 is moved below the target shield 20 moved to the immediately raised position and above the intermediate layer target base 1, and the turntable 53 is rotated at a constant speed and direction. While rotating the jig 10 at a constant speed and direction, the metal containing tungsten (W) downward toward the track forming surface 4 of the intermediate layer target base 1 through the plasma spraying torch 60 spray the powder At this time, since the middle part 3 of the middle layer target base 1 is not exposed by the spacer shaft 30 under the uppermost target masking member 40, the metal is only on the track forming surface 4. The powder is thermally sprayed to form tracks.

상기 최하층 타겟 베이스(1)의 중간부(3)와 트랙 형성면(4)은 가장 아래에 배치된 스페이서 샤프트(30)와 이에 끼워진 타겟 쉴드(20)에 의해 노출되지 않고 가려져 있으므로, 상기 중간층 타겟 베이스(1)를 향해 아래로 용사된 금속 분말로 인해 최하층 타겟 베이스(1)가 오염되지 않는다. 또한, 플라즈마 용사 토치(60)에서 상기 중간층 타겟 베이스(1)를 향해 아래로 용사된 금속 분말은 상승 이동하지 않으므로 최상층 타겟 베이스(1)도 이로 인해 오염되지 않는다. Since the middle part 3 and the track forming surface 4 of the lowermost target base 1 are not exposed and covered by the lowermost spacer shaft 30 and the target shield 20 fitted therein, the middle layer target The lowermost target base 1 is not contaminated by the metal powder sprayed down toward the base 1 . In addition, since the metal powder sprayed downward from the plasma spraying torch 60 toward the middle layer target base 1 does not move upward, the uppermost target base 1 is not contaminated due to this.

다음으로, 회전 스토퍼(55)가 상기 최하층 타겟 베이스(1)를 가리도록 하강 위치에 있는 타겟 쉴드(20)의 스토퍼 간섭 돌기(25)를 회전하지 않게 가로막고, 상기 턴테이블(53)을 일 방향으로 회전시킨다. 이로 인해, 상기 하강 위치에 있던 타겟 쉴드(20)가 상승 위치로 이동하면, 상기 턴테이블(53)의 회전을 정지시키고, 회전 스토퍼(55)를 상기 타겟 쉴드(20)의 스토퍼 간섭 돌기(25)에서 이격시킨다. Next, the rotation stopper 55 blocks the stopper interference protrusion 25 of the target shield 20 in the lowered position so as not to rotate so as to cover the lowermost target base 1, and the turntable 53 in one direction rotate Due to this, when the target shield 20 in the lowered position moves to the upper position, the rotation of the turntable 53 is stopped, and the rotation stopper 55 is moved to the stopper interference protrusion 25 of the target shield 20 distance from

다음으로, 상기 플라즈마 용사 토치(60)를 직전에 상승 위치로 이동한 타겟 쉴드(20)의 아래 및 상기 최하층 타겟 베이스(1)의 위로 이동시키고, 상기 턴테이블(53)을 일정한 속도와 방향으로 회전시켜 상기 지그(10)를 일정한 속도와 방향으로 회전시키면서, 상기 플라즈마 용사 토치(60)를 통해 상기 최하층 타겟 베이스(1)의 트랙 형성면(4)를 향해 아래로 텅스텐(W)을 포함하는 금속 분말을 용사한다. 이때, 상기 최하층 타겟 베이스(1)의 중간부(3)는 2개의 스페이서 샤프트(30) 중 더 아래에 배치된 스페이서 샤프트(30)에 의해 노출되지 않게 가려져 있으므로, 상기 트랙 형성면(4)에만 상기 금속 분말이 용사되어 트랙이 형성된다. 상기 플라즈마 용사 토치(60)에서 상기 최하층 타겟 베이스(1)를 향해 아래로 용사된 금속 분말은 상승 이동하지 않으므로 최상층 타겟 베이스(1)와 중간층 타겟 베이스(1)는 이로 인해 오염되지 않는다.Next, the plasma spray torch 60 is moved below the target shield 20 moved to the immediately raised position and above the lowest target base 1, and the turntable 53 is rotated at a constant speed and direction. While rotating the jig 10 at a constant speed and direction, the metal containing tungsten (W) downward toward the track forming surface 4 of the lowermost target base 1 through the plasma spraying torch 60 spray the powder At this time, since the middle part 3 of the lowermost target base 1 is covered so as not to be exposed by the spacer shaft 30 disposed below the two spacer shafts 30, only the track forming surface 4 The metal powder is thermally sprayed to form tracks. Since the metal powder sprayed downward from the plasma spraying torch 60 toward the lowermost target base 1 does not move upward, the uppermost target base 1 and the middle target base 1 are not contaminated thereby.

도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 엑스선관 타겟 제조용 지그의 사시도이고, 도 5는 도 4의 엑스선관 타겟 제조용 지그의 분해 사시도이다. 도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 엑스선관 타겟 제조용 지그(70)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 엑스선관 타겟 제조용 지그(10)와 마찬가지로, 복수의 타겟 베이스(1)의 상측면에 엑스선이 방출되는 트랙(track)을 형성하기 위햐여 텅스텐(W)을 포함한 금속 분말을 용사할 때 상기 복수의 타겟 베이스(1)를 지지하는 지그이다. 상기 지그(70)는 타겟 지지판(71), 타겟 커버(80), 및 상기 타겟 베이스(1)의 개수와 같은 개수의 마스킹 부재(77)를 구비한다. 4 is a perspective view of a jig for manufacturing an X-ray tube target according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 5 is an exploded perspective view of the jig for manufacturing an X-ray tube target of FIG. 4 . 4 and 5, the jig 70 for manufacturing an X-ray tube target according to the second embodiment of the present invention, like the jig 10 for manufacturing an X-ray tube target according to the first embodiment of the present invention, a plurality of targets It is a jig that supports the plurality of target bases 1 when metal powder containing tungsten (W) is sprayed to form a track through which X-rays are emitted on the upper surface of the base 1. The jig 70 includes a target support plate 71 , a target cover 80 , and the same number of masking members 77 as the number of the target base 1 .

타겟 지지판(71)은 중공(72)이 형성된 디스크(disk) 형상의 부재로서, 상기 타겟 지지판(71)의 상측면에는 상기 복수의 타겟 베이스(1)가 하나씩 안착 지지되는 복수의 타겟 안착부(73)가 상기 중공(72)의 중심을 가로지르는 축선(CJ)을 중심으로 하는 가상의 원궤도를 따라 등각도 간격으로 이격되게 마련된다. 바람직하게는, 상기 타겟 안착부(73)는 타겟 베이스(1)가 안착되도록 단차지게 파이고 평면 형상이 원형인 안착 홈(groove)일 수 있다. 상기 타겟 안착부(73)의 바닥면의 중앙 지점에는 후술할 마스킹 부재(77)의 가이드 핀(guide pin)(79)이 끼워지는 핀 홀(hole)(75)이 형성된다. 상기 타겟 안착부(73)는 상기 타겟 베이스(1)의 개수와 같은 개수로 마련된다. 상기 타겟 지지판(71)에는 플라즈마 용사 토치(60)의 화염이 직접 닿기 때문에 상기 타겟 지지판(71)은 고열에 강한 카본(carbon) 소재로 형성된다.The target support plate 71 is a disk-shaped member in which a hollow 72 is formed, and a plurality of target seating portions ( 73) are spaced apart at equal angular intervals along an imaginary circular trajectory centered on an axis line CJ crossing the center of the hollow 72. Preferably, the target seating portion 73 may be a seating groove having a circular planar shape and a stepwise cut in which the target base 1 is seated. A pin hole 75 into which a guide pin 79 of a masking member 77 to be described later is inserted is formed at a central point of the bottom surface of the target seating portion 73 . The target seating parts 73 are provided in the same number as the number of target bases 1 . Since the flame of the plasma spraying torch 60 directly touches the target support plate 71, the target support plate 71 is formed of a carbon material resistant to high heat.

타겟 커버(80)는 상기 타겟 지지판(71)과 겹쳐지는 대략 원형의 가림판(81)과, 상기 가림판(81)의 중심에서 상기 타겟 지지판(71)의 중공(72)에 끼워지도록 하향 돌출된 피봇 돌기(미도시)와, 상기 가림판(81)의 중심에서 벗어난 편심 위치에서 상향 돌출된 스토퍼 간섭 돌기(83)를 구비한다. 상기 타겟 커버(80)에는 상기 복수의 타겟 안착부(73) 중에서 하나만 선택적으로 노출하고 나머지 타겟 안착부(73)는 가려지도록 내측으로 파인 덴트(dent)(82)가 형성된다. 상기 피봇 돌기가 상기 중공(72)에 끼워지면 상기 타겟 커버(80)와 타겟 지지판(71)은 서로에 대해 상대 회전 가능하게 결합된다. 상기 타겟 커버(80)에는 플라즈마 용사 토치(60)의 화염이 직접 닿지 않기 때문에, 카본보다는 내열성이 약하나 상대적으로 강도가 우수하고 원가도 낮은 스테인레스스틸이 타겟 커버(80)의 소재로 적용될 수 있다. The target cover 80 protrudes downward so as to be inserted into the hollow 72 of the target support plate 71 at the center of the approximately circular covering plate 81 overlapping the target supporting plate 71 and the covering plate 81. and a pivoting protrusion (not shown), and a stopper interference protrusion 83 protruding upward at an eccentric position away from the center of the cover plate 81. A dent 82 is formed in the target cover 80 so that only one of the plurality of target seating portions 73 is selectively exposed and the remaining target seating portions 73 are covered. When the pivot protrusion is inserted into the hollow 72, the target cover 80 and the target support plate 71 are coupled to each other to be relatively rotatable. Since the flame of the plasma spray torch 60 does not directly touch the target cover 80, stainless steel, which has lower heat resistance than carbon but has relatively excellent strength and low cost, can be applied as a material for the target cover 80.

본 발명의 제1 실시예에서 언급한 바와 같이 타겟 베이스(1)에서 트랙은 상기 타겟 베이스(1)의 중간부(3)의 바깥 측면, 즉 트랙 형성면(4)에만 형성된다. 복수의 마스킹 부재(77)는 복수의 타겟 안착부(73)에 안착 지지된 복수의 타겟 베이스(1)의 중간부(3)에 각각 올려져 상기 중간부(3)을 가린다. 상기 마스킹 부재(77)는 원형 디스크와, 상기 디스크의 중심에서 하향 돌출된 가이드 핀(guide pin)(79)을 구비한다. 상기 가이드 핀(79)은 타겟 베이스(1)의 중공(2)을 관통하고 그 하단부는 상기 타겟 안착부(73)의 핀 홀(75)에 끼워진다. As mentioned in the first embodiment of the present invention, in the target base 1, the track is formed only on the outer side of the middle portion 3 of the target base 1, that is, the track forming surface 4. A plurality of masking members 77 are placed on the intermediate portions 3 of the plurality of target bases 1 seated and supported by the plurality of target seating portions 73, respectively, to cover the intermediate portions 3. The masking member 77 includes a circular disc and a guide pin 79 protruding downward from the center of the disc. The guide pin 79 passes through the hollow 2 of the target base 1, and its lower end is inserted into the pin hole 75 of the target seating part 73.

이처럼 타겟 베이스(1)의 중공(2)의 중심선(CT) 상에 가이드 핀(79)과 타겟 안착부(73)의 핀 홀(75)이 정렬되게 타겟 베이스(1)가 타겟 안착부(73)에 안착되고 마스킹 부재(77)가 타겟 베이스(1)에 올려지면, 플라즈마 용사 토치(60)가 금속 분말을 용사하는 방향과 타겟 베이스(1)의 트랙 형성면(4)이 정확히 정렬되고, 마스킹 부재(77)의 디스크가 타겟 베이스(1)의 중간부(3)를 정확하게 가리게 된다. 상기 마스킹 부재(77)에는 플라즈마 용사 토치(60)의 화염이 직접 닿기 때문에 상기 마스킹 부재(77)는 고열에 강한 카본(carbon) 소재로 형성된다.As such, the target base 1 has the target seating portion 73 such that the guide pin 79 and the pin hole 75 of the target seating portion 73 are aligned on the center line CT of the hollow 2 of the target base 1. ) and when the masking member 77 is placed on the target base 1, the direction in which the plasma spraying torch 60 sprays metal powder and the track forming surface 4 of the target base 1 are accurately aligned, The disk of the masking member 77 accurately covers the middle part 3 of the target base 1 . Since the flame of the plasma spray torch 60 directly touches the masking member 77, the masking member 77 is made of a carbon material resistant to high heat.

상기 엑스선관 타겟 제조용 지그(70)를 구비한 엑스선관 타겟 제조 장치(90)는, 상기 지그(70) 외에 진공 챔버(미도시), 턴테이블(92), 플라즈마 용사 토치(60), 및 회전 스토퍼(stopper)(95)를 더 구비한다. 도 4에 직접 도시되진 않았으나 상기 진공 챔버는 금속 분말의 플라즈마 용사 작업을 위해 진공 상태로 유지되는 내부 공간을 갖는 챔버로서, 상기 진공 챔버의 내부 공간에 상기 지그(70), 턴테이블(92), 플라즈마 용사 토치(60), 및 회전 스토퍼(95)가 배치된다. The X-ray tube target manufacturing apparatus 90 having the X-ray tube target manufacturing jig 70 includes a vacuum chamber (not shown), a turntable 92, a plasma spray torch 60, and a rotation stopper in addition to the jig 70 (stopper) 95 is further provided. Although not directly shown in FIG. 4, the vacuum chamber is a chamber having an internal space maintained in a vacuum state for plasma spraying of metal powder, and the jig 70, the turntable 92, and the plasma are placed in the internal space of the vacuum chamber. A thermal spray torch 60 and a rotation stopper 95 are disposed.

턴테이블(92)은 상기 지그(70)의 타겟 지지판(71)을 접촉 지지하며 상기 축선(CJ)을 중심으로 회전시킨다. 플라즈마 용사 토치(60)는 진공 환경에서 상기 지그(70)의 복수의 타겟 안착부(73) 중에서 타겟 커버(80)에 의해 가려지지 않고 노출된 하나의 타겟 안착부(73)에 안착 지지된 타겟 베이스(1)를 향해 텅스텐(W)을 포함하는 금속 분말을 용사하여 상기 타겟 베이스(1)에 트랙을 형성한다. 상기 플라즈마 용사 토치(60)는 도 3을 참조하여 이미 설명한 바 있으므로 중복된 설명은 생략한다. The turntable 92 contacts and supports the target support plate 71 of the jig 70 and rotates it around the axis CJ. The plasma spray torch 60 is a target seated and supported on one target seating portion 73 exposed without being covered by the target cover 80 among a plurality of target seating portions 73 of the jig 70 in a vacuum environment. A track is formed on the target base 1 by spraying metal powder containing tungsten (W) toward the base 1 . Since the plasma spraying torch 60 has already been described with reference to FIG. 3, duplicate descriptions will be omitted.

회전 스토퍼(95)는 상기 턴테이블(92)이 회전하여 상기 타겟 지지판(71)이 회전할 때, 상기 타겟 커버(80)가 동조하여 회전하지 않도록 상기 타겟 커버(80)를 가로막는 기구이다. 부연하면, 상기 회전 스토퍼(95)가 타겟 커버(80)의 스토퍼 간섭 돌기(83)를 시계 방향 및 반시계 방향으로 회전하지 못하도록 가로막은 상태로 상기 턴테이블(92)이 회전하여 상기 타겟 지지판(71)이 축선(CJ)을 중심으로 회전하면, 상기 복수의 타겟 안착부(73) 중 상기 덴트(82)에 의해 노출되는 타겟 안착부(73)가 순차적으로 변경된다. The rotation stopper 95 is a mechanism that blocks the target cover 80 so that the target cover 80 does not rotate in synchronization when the turntable 92 rotates and the target support plate 71 rotates. In other words, while the rotation stopper 95 blocks the stopper interference protrusion 83 of the target cover 80 from rotating clockwise and counterclockwise, the turntable 92 rotates and the target support plate 71 ) rotates around the axis CJ, the target seating portion 73 exposed by the dent 82 among the plurality of target seating portions 73 is sequentially changed.

도 4에 도시되진 않았으나, 상기 플라즈마 용사 토치(60)와 회전 스토퍼(95)는 상기 지그(70) 주변에서 상하좌우로 이동 가능한 하나의 로봇 암(robot arm)에 지지될 수 있다. Although not shown in FIG. 4 , the plasma spray torch 60 and the rotation stopper 95 may be supported by one robot arm capable of moving up and down and left and right around the jig 70 .

상기 엑스선관 타겟 제조 장치(90)를 이용하여 복수의 타겟 베이스(1)에 트랙을 형성하는 과정을 설명하면 아래와 같다. 먼저, 복수의 마스킹 부재(77)가 각각 올려진 복수의 타겟 베이스(1)를 타겟 지지판(71)의 복수의 타겟 안착부(73)에 안착시키고, 상기 엑스선관 타겟 제조용 지그(70)를 턴테이블(92) 위에 지지시키며, 진공 챔버의 내부 공간을 폐쇄하고 진공 상태로 만든다. A process of forming tracks on the plurality of target bases 1 using the X-ray tube target manufacturing apparatus 90 will be described below. First, the plurality of target bases 1 on which the plurality of masking members 77 are mounted are seated on the plurality of target seating parts 73 of the target support plate 71, and the jig 70 for manufacturing the X-ray tube target is placed on the turntable (92), the inner space of the vacuum chamber is closed and a vacuum is made.

다음으로, 상기 타겟 커버(80)가 회전하지 않도록 회전 스토퍼(95)가 상기 스토퍼 간섭 돌기(83)를 가로막거나 잡고, 상기 턴테이블(92)을 일 방향으로 회전시킨다. 이로 인해, 상기 커버(80)는 회전하지 않는 상태에서 상기 타겟 지지판(71)이 회전하여 복수의 타겟 안착부(73) 중에서 하나에 안착된 타겟 베이스(1)가 온전하게 노출되면, 상기 턴테이블(92)의 회전을 멈춘다. 다음으로, 상기 플라즈마 용사 토치(60)를 통해 노출된 타겟 베이스(1)의 트랙 형성면을 향해 아래로 텅스텐(W)을 포함하는 금속 분말을 용사한다. Next, the rotation stopper 95 blocks or holds the stopper interference protrusion 83 so that the target cover 80 does not rotate, and rotates the turntable 92 in one direction. Due to this, when the target support plate 71 rotates while the cover 80 does not rotate and the target base 1 seated on one of the plurality of target seating portions 73 is completely exposed, the turntable ( 92) to stop the rotation. Next, metal powder containing tungsten (W) is thermally sprayed downward toward the track formation surface of the target base 1 exposed through the plasma spraying torch 60 .

이때, 상기 노출된 타겟 베이스(1)의 중간부(3)는 마스킹 부재(77)에 의해 노출되지 않게 가려져 있으므로, 상기 트랙 형성면(4)에만 상기 금속 분말이 용사되어 트랙이 형성된다. 또한, 상기 노출된 타겟 베이스(1)를 제외한 다른 타겟 베이스(1)들은 타겟 커버(80)에 의해 노출되지 않고 가려져 있으므로, 상기 노출된 타겟 베이스(1)를 향해 용사된 금속 분말로 인해 상기 다른 타겟 베이스(1)가 오염되지 않는다. 한편, 상기 플라즈마 용사 토치(60)는 상기 타겟 베이스(1)의 중공(2)의 중심선(CT)을 중심으로 하는 가상의 원궤도를 따라 상기 타겟 베이스(1) 주위를 공전하면서 상기 타겟 베이스(1)의 트랙 형성면(4)에 금속 분말을 용사할 수 있다. At this time, since the exposed middle portion 3 of the target base 1 is covered by the masking member 77 so that it is not exposed, the metal powder is sprayed only on the track forming surface 4 to form a track. In addition, since the other target bases 1 other than the exposed target base 1 are not exposed and covered by the target cover 80, the other target bases 1 due to the metal powder sprayed toward the exposed target base 1 The target base 1 is not contaminated. On the other hand, the plasma spraying torch 60 revolves around the target base 1 along a virtual circular orbit centered on the center line CT of the hollow 2 of the target base 1 while the target base ( Metal powder can be sprayed on the track formation surface 4 of 1).

다음으로, 상기 타겟 커버(80)가 회전하지 않도록 회전 스토퍼(95)가 상기 스토퍼 간섭 돌기(83)를 가로막거나 잡고, 상기 트랙이 형성된 타겟 베이스(1)에 인접한 다른 타겟 베이스(1)가 온전하게 노출되도록 턴테이블(92)을 미리 정해진 각도만큼만 일 방향으로 회전시킨다. 다음으로, 상기 플라즈마 용사 토치(60)를 통해 새롭게 노출된 타겟 베이스(1)의 트랙 형성면을 향해 아래로 텅스텐(W)을 포함하는 금속 분말을 용사하여 트랙을 형성한다. 상술한 방식으로 턴테이블(92)의 회전과 플라즈마 용사 토치(60)의 금속 분말 용사를 반복하여 복수의 타겟 안착부(73)에 안착 지지된 모든 타겟 베이스(1)의 트랙 형성면(4)에 트랙을 형성한다. Next, the rotation stopper 95 blocks or holds the stopper interference protrusion 83 so that the target cover 80 does not rotate, and another target base 1 adjacent to the target base 1 on which the track is formed is intact The turntable 92 is rotated in one direction only by a predetermined angle so as to be exposed. Next, a track is formed by spraying metal powder containing tungsten (W) downward toward the newly exposed track-forming surface of the target base 1 through the plasma spray torch 60 . By repeating the rotation of the turntable 92 and the metal powder spraying of the plasma spray torch 60 in the above-described manner, the track forming surfaces 4 of all the target bases 1 seated and supported on the plurality of target seating parts 73 form a track

이상에서 설명한 엑스선관 타겟 제조용 지그(10, 70)는 진공 챔버 내에서 복수의 타겟 베이스(1)를 동시에 지지할 수 있다. 그럼에도 불구하고 특정한 타겟 베이스(1)에 트랙을 형성하도록 용사되는 금속 분말이 의도치 않게 다른 타겟 베이스(1)를 오염시키지 않는다. 따라서, 엑스선관 타겟의 트랙의 두께와 품질이 균일하게 형성되어 엑스선관 타겟의 불량율이 감소하고, 고가의 텅스텐(W)을 포함하는 금속 분말의 낭비가 억제되어서 엑스선관 타겟의 원가가 절감된다. The jigs 10 and 70 for manufacturing an X-ray tube target described above may simultaneously support a plurality of target bases 1 in a vacuum chamber. Nevertheless, metal powder sprayed to form tracks on a particular target base 1 does not inadvertently contaminate other target bases 1 . Therefore, the thickness and quality of the tracks of the X-ray tube target are uniformly formed, thereby reducing the defect rate of the X-ray tube target, and reducing the cost of the X-ray tube target by suppressing waste of metal powder containing expensive tungsten (W).

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다. Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, this is only exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true scope of protection of the present invention should be defined only by the appended claims.

1: 타겟 베이스 10: 엑스선관 타겟 제조용 지그
15: 타겟 받침 25: 타겟 쉴드
26: 연결 핀 28: 타겟 받침 지지 디스크
30: 스페이서 샤프트 50: 엑스선관 타겟 제조 장치
53: 턴테이블 60: 플라즈마 용사 토치1: target base 10: jig for manufacturing X-ray tube target
15: target support 25: target shield
26: connecting pin 28: target abutment support disk
30: spacer shaft 50: X-ray tube target manufacturing device
53: turntable 60: plasma warrior torch

Claims

As a jig for supporting the plurality of target bases when metal powder is sprayed on the outer side of the intermediate portion to form a track on the outer side of the intermediate portion of the plurality of target bases,
a plurality of target supports arranged spaced apart in a row in a vertical direction and supporting the plurality of target bases one by one; at least one spacer shaft interposed between the plurality of spaced apart target supports, the lower side of which covers a middle portion of one of the plurality of target bases and is supported in contact with the middle portion; And, by being fitted one by one to the at least one spacer shaft, between a lowered position covering the outer side of the middle portion of the target base for contacting and supporting each spacer shaft, and a raised position exposing the outer side surface of the middle portion of the target base. Equipped with at least one target shield (shield) capable of elevating,
The plurality of target supports, the plurality of target bases, at least one spacer shaft, and at least one target shield are detachably assembled from each other,
When the plurality of target supports, the plurality of target bases, the at least one spacer shaft, and the at least one target shield are assembled, the plurality of target supports and the at least one spacer shaft are connected to rotate coaxially. A jig for manufacturing an X-ray tube target.

According to claim 1,
At least one target support disk supporting at least one target support among the plurality of target supports and having a diameter larger than the diameter of the spacer shaft and smaller than the diameter of the target support; A jig for manufacturing an X-ray tube target.

According to claim 1,
The jig for manufacturing an X-ray tube target, characterized in that it further comprises: an uppermost target masking member that covers the middle portion of the target base supported by the uppermost target support of the plurality of target supports and is supported in contact with the middle portion.

According to claim 1,
A male screw pattern is formed on an outer circumferential surface of the at least one spacer shaft, and a female screw pattern engaged with the male screw pattern is formed on an inner circumferential surface of the at least one target shield,
A jig for manufacturing an X-ray tube target, characterized in that the spacer shaft into which one of the at least one target shield is inserted rotates relative to the one target shield so that the one target shield moves up and down.

As a jig for supporting the plurality of target bases when spraying metal powder to form tracks on the surfaces of the plurality of target bases,
a target support plate provided so that the plurality of target seating portions on which the plurality of target bases are seated and supported are spaced apart at equal angular intervals along an imaginary circular trajectory; and a target cover that selectively exposes only one of the plurality of target seating portions and covers the remaining target seating portions,
The jig for manufacturing an X-ray tube target, characterized in that the target support plate and the target cover are coupled rotatably relative to each other.

According to claim 5,
The track is formed only on the outer side of the middle portion of the target base among the surfaces of the target base,
The jig for manufacturing the X-ray tube target further includes a plurality of masking members that are placed on the middle part of the plurality of target bases seated and supported on the plurality of target seating parts to cover the middle part. A jig for manufacturing a liner target.

a vacuum chamber having an inner space maintained in a vacuum state; Disposed in the inner space of the vacuum chamber, the jig for manufacturing the X-ray tube target according to any one of claims 1 to 3; a turn table supporting the jig for manufacturing the X-ray tube target and coaxially rotating the plurality of target supports and at least one spacer shaft; and a plasma spraying torch for sequentially spraying metal powder on a plurality of target bases mounted on the X-ray tube target manufacturing jig.

According to claim 7,
A male screw pattern is formed on an outer circumferential surface of the at least one spacer shaft, and a female screw pattern engaged with the male screw pattern is formed on an inner circumferential surface of the at least one target shield. A spacer shaft fitted with one of the at least one target shield rotates relative to the one target shield so that the one target shield moves up and down;
The X-ray tube target manufacturing apparatus further comprises a rotation stopper blocking the one target shield so that one of the at least one target shield does not rotate in sync with the rotation of the at least one spacer shaft. An X-ray tube target manufacturing apparatus characterized in that for doing.

a vacuum chamber having an inner space maintained in a vacuum state; The jig for manufacturing an X-ray tube target according to any one of claims 5 and 6, which is disposed in the inner space of the vacuum chamber; a turntable for supporting and rotating the target support plate; a plasma spraying torch for spraying metal powder on a target base seated and supported on one exposed target seating portion among the plurality of target seating portions; and a rotation stopper blocking the target cover so that the target cover does not rotate in synchronization with the rotation of the target support plate.