KR20230004281A - Optical pressure-sensitive adhesive layer - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은, 광학 점착제층에 관한 것이다.The present invention relates to an optical pressure-sensitive adhesive layer.
디스플레이 패널은, 예를 들어, 화소 패널, 터치 패널, 편광판 및 커버 필름 등을 포함하는 적층 구조를 갖는다. 그와 같은 디스플레이 패널의 제조 과정에서는, 적층 구조에 포함되는 요소끼리의 접합을 위해서, 광학 용도의 투명한 점착제로부터 형성된 점착제층(광학 점착제층)이 이용된다. 디스플레이 패널의 제조 과정에 있어서, 광학 점착제층은, 예를 들어, 광학 점착제 조성물로부터 형성된 광학 점착 시트를 접합 대상물에 첩합하는 것에 의해 형성된다. 혹은, 광학 점착제층은, 접합 대상물 상으로의 광학 점착제 조성물의 도포 등에 의해 형성된다.The display panel has a laminated structure including, for example, a pixel panel, a touch panel, a polarizing plate, and a cover film. In the manufacturing process of such a display panel, a pressure-sensitive adhesive layer (optical pressure-sensitive adhesive layer) formed from a transparent pressure-sensitive adhesive for optical use is used for bonding between elements included in the laminated structure. In the manufacturing process of a display panel, an optical adhesive layer is formed, for example by bonding the optical adhesive sheet formed from the optical adhesive composition to the object to be bonded. Alternatively, the optical adhesive layer is formed by applying an optical adhesive composition onto an object to be bonded or the like.
한편, 예를 들어 스마트폰용 및 태블릿 단말용으로, 반복 절곡 가능(폴더블)한 디스플레이 패널의 개발이 진행되고 있다. 폴더블 디스플레이 패널에서는, 적층 구조 중의 각 요소가, 반복 절곡 가능하게 제작되어 있고, 그와 같은 요소 사이의 접합에 광학 점착제층이 이용되고 있다. 폴더블 디스플레이 패널 등 플렉시블 디바이스용의 광학 점착제층에 대해서는, 예를 들어 하기의 특허문헌 1에 기재되어 있다.On the other hand, for example, for smartphones and tablet terminals, development of display panels capable of being repeatedly bent (foldable) is in progress. In the foldable display panel, each element in the laminated structure is manufactured to be able to be repeatedly bent, and an optical adhesive layer is used for bonding between such elements. About the optical adhesive layer for flexible devices, such as a foldable display panel, it describes, for example in
폴더블 디스플레이 패널의 절곡 개소에서는, 종래, 피착체로부터의 광학 점착제층의 박리가 생기기 쉽다. 디스플레이 패널이 절곡되었을 때, 당해 절곡 개소에서는, 광학 점착제층에 대해서 전단 응력 등의 응력이 국소적으로 작용하기 때문이다. 당해 박리의 발생은, 디바이스의 기능 불량의 원인이 되어, 바람직하지 않다. 폴더블 디스플레이 패널용의 광학 점착제층에는, 디스플레이 굴곡 시에 피착체와 함께 굴곡 변형되기 쉬울 것과, 당해 피착체로부터의 박리 억제의 양립이, 보다 높은 레벨로 요구되고 있다.Conventionally, peeling of the optical adhesive layer from the adherend is likely to occur at the bent portion of the foldable display panel. It is because when a display panel is bent, stress, such as shear stress, acts locally with respect to the optical adhesive layer at the said bending location. Occurrence of the said peeling becomes a cause of malfunction of a device, and is not preferable. An optical adhesive layer for a foldable display panel is required to be easily bent and deformed together with an adherend when the display is bent, and to be compatible with peeling suppression from the adherend at a higher level.
플렉시블 디바이스로서는, 권취 가능(롤러블)한 디스플레이 패널의 개발도 진행되고 있다. 롤러블 디스플레이 패널용의 광학 점착제층에는, 디스플레이 권취 시에 피착체와 함께 변형(감기 변형)되기 쉬울 것과, 당해 피착체로부터의 박리 억제의, 매우 높은 레벨에서의 양립이 요구된다.As a flexible device, development of a rollable (rollable) display panel is also progressing. The optical pressure-sensitive adhesive layer for rollable display panels is required to be easily deformed (winding deformation) together with an adherend at the time of winding up the display, and to be compatible at a very high level with suppression of peeling from the adherend.
본 발명은, 플렉시블 디바이스 용도에 적합한 광학 점착제층을 제공한다.The present invention provides an optical pressure-sensitive adhesive layer suitable for use in flexible devices.
본 발명[1]은, 제 1 면과 당해 제 1 면과는 반대측의 제 2 면을 갖는 광학 점착제층으로서, -20℃에 있어서 180kPa 이하의 전단 저장 탄성률 G'를 갖고, 상기 제 1 면 및 상기 제 2 면의 적어도 한쪽이, 폴리이미드 필름으로의 첩합부터 23℃에서 30분간 경과 후에, 당해 폴리이미드 필름에 대해, 박리 각도 180° 및 박리 속도 300mm/분의 조건에 있어서 5N/25mm 이상의 박리 점착력 F를 갖는, 광학 점착제층을 포함한다.The present invention [1] is an optical pressure-sensitive adhesive layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface, and has a shear storage modulus G' of 180 kPa or less at -20 ° C, and the first surface and At least one of the second surfaces is 5 N / 25 mm or more peeled from the polyimide film after 30 minutes at 23 ° C. from bonding to the polyimide film, under the conditions of a peel angle of 180 ° and a peel rate of 300 mm / min An optical pressure-sensitive adhesive layer having an adhesive strength F is included.
본 발명[2]는, -20℃에서의 상기 전단 저장 탄성률 G'(kPa) 및 상기 박리 점착력 F(N/25mm)는, G'>135에 있어서, F≥0.4667×G'-58을 만족시키는, 상기 [1]에 기재된 광학 점착제층을 포함한다.In the present invention [2], the shear storage modulus G' (kPa) and the peel adhesive force F (N/25 mm) at -20°C satisfy F≥0.4667×G'-58 at G'>135. The optical adhesive layer as described in said [1] which makes it is included.
본 발명[3]은, 상기 박리 점착력 F(N/25mm)에 대한, -20℃에서의 전단 저장 탄성률 G'(kPa)의 비율이, 200 이하인, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 광학 점착제층을 포함한다.In the present invention [3], the ratio of the shear storage modulus G' (kPa) at -20 ° C to the peel adhesive strength F (N / 25 mm) is 200 or less, the optics according to [1] or [2] above. Contains an adhesive layer.
본 발명[4]는, 상기 박리 점착력 F(N/25mm)에 대한, -40℃에서의 전단 저장 탄성률 G'(kPa)의 비율이, 200 이하인, 상기 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 광학 점착제층을 포함한다.In the present invention [4], the ratio of the shear storage modulus G' (kPa) at -40 ° C to the peel adhesive force F (N / 25 mm) is 200 or less, any one of the above [1] to [3] Including the optical pressure-sensitive adhesive layer described in.
본 발명[5]는, -40℃에서의 전단 저장 탄성률 G'가 1200kPa 이하인, 상기 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 광학 점착제층을 포함한다.This invention [5] contains the optical adhesive layer in any one of said [1]-[4] whose shear storage elastic modulus G' at -40 degreeC is 1200 kPa or less.
본 발명[6]은, 최대 두께와 최소 두께의 차가 3μm 이하인, 상기 [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 광학 점착제층을 포함한다.This invention [6] contains the optical adhesive layer in any one of said [1] - [5] whose difference of maximum thickness and minimum thickness is 3 micrometers or less.
본 발명[7]은, 단면 직경 20mm의 권심에 권회하고 나서 1시간 경과에 의한 투과율의 변화가 5% 이하인, 상기 [1] 내지 [6] 중 어느 하나에 기재된 광학 점착제층을 포함한다.The present invention [7] includes the optical pressure-sensitive adhesive layer according to any one of [1] to [6], wherein the change in transmittance at 1 hour after winding on a core having a cross-sectional diameter of 20 mm is 5% or less.
본 발명의 광학 점착제층은, 상기와 같이, -20℃에 있어서 180kPa 이하의 전단 저장 탄성률 G'를 갖는다. 이 정도로 고도의 부드러움을 갖는 광학 점착제층은, 당해 점착제층이 첩합된 피착체가 비교적 큰 곡률로 변형(전술한 굴곡 변형 및 감기 변형 등)되었을 경우에, 당해 피착체의 변형에 추종하여 큰 곡률로 변형되기 쉽다. 광학 점착제층이 부드러워 큰 곡률로 변형되기 쉬움(굽힘 변형성)은, 당해 광학 점착제층이 이용되는 플렉시블 디바이스의 양호한 반복 변형(반복되는 굴곡 변형 및 감기 변형 등)을 실현하는 데 적합하다. 또한, 광학 점착제층은, 상기와 같이, 제 1 면 및 제 2 면의 적어도 한쪽이 소정 조건에서 5N/25mm 이상의 박리 점착력 F를 갖는다. 당해 구성은, 피착체에 대한 광학 점착제층의 양호한 밀착성을 확보하는 데 적합하고, 따라서, 피착체로부터의 광학 점착제층의 박리를 억제하는 데 적합하다. 이와 같이 굽힘 변형성과 박리 억제성이 양립되는 광학 점착제층은, 플렉시블 디바이스 용도에 적합하다.As described above, the optical pressure-sensitive adhesive layer of the present invention has a shear storage modulus G' of 180 kPa or less at -20°C. The optical pressure-sensitive adhesive layer having such a high level of softness follows the deformation of the adherend to a large curvature when the adherend to which the adhesive layer is bonded is deformed with a relatively large curvature (such as the aforementioned bending deformation and winding deformation). easy to deform The softness of the optical adhesive layer and its ability to deform to a large curvature (bending deformability) are suitable for realizing good repeated deformation (repeated bending deformation and winding deformation, etc.) of flexible devices in which the optical adhesive layer is used. In addition, as described above, the optical pressure-sensitive adhesive layer has a peel adhesive strength F of 5 N/25 mm or more under predetermined conditions on at least one of the first surface and the second surface. This configuration is suitable for ensuring good adhesion of the optical adhesive layer to the adherend, and therefore suitable for suppressing peeling of the optical adhesive layer from the adherend. An optical pressure-sensitive adhesive layer in which bending deformability and peeling suppression properties are compatible in this way is suitable for use in flexible devices.
[도 1] 본 발명의 광학 점착제층의 일 실시형태의 단면 모식도이다.
[도 2] 도 1에 나타내는 광학 점착제층이 2층 구조를 갖는 경우를 나타낸다.
[도 3] 도 1에 나타내는 광학 점착제층이 3층 구조를 갖는 경우를 나타낸다.
[도 4] 본 발명의 광학 점착제층의 사용 방법의 일례를 나타낸다. 도 4A는, 광학 점착제층을 제 1 피착체에 첩합하는 공정을 나타내고, 도 4B는, 광학 점착제층을 개재시켜 제 1 피착체와 제 2 피착체를 접합하는 공정을 나타내고, 도 4C는, 에이징 공정을 나타낸다.
[도 5] 실시예 1∼4 및 비교예 2, 3의 광학 점착제층에 대하여 측정한 제 1 전단 저장 탄성률 G'(가로축) 및 박리 점착력 F(세로축)의 측정 결과의 플롯이다.[Fig. 1] It is a cross-sectional schematic diagram of an embodiment of an optical pressure-sensitive adhesive layer of the present invention.
Fig. 2 shows a case where the optical pressure-sensitive adhesive layer shown in Fig. 1 has a two-layer structure.
Fig. 3 shows a case where the optical pressure-sensitive adhesive layer shown in Fig. 1 has a three-layer structure.
[Fig. 4] An example of a method of using the optical pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is shown. Fig. 4A shows a step of bonding an optical adhesive layer to a first adherend, Fig. 4B shows a step of bonding a first adherend and a second adherend with an optical adhesive layer interposed therebetween, and Fig. 4C shows aging represents the process.
5] It is a plot of the measurement results of the 1st shear storage modulus G' (horizontal axis) and the peel adhesive force F (vertical axis) measured for the optical adhesive layers of Examples 1-4 and Comparative Examples 2 and 3.
본 발명의 광학 점착제층의 일 실시형태로서의 광학 점착제층(10)은, 도 1에 나타내는 바와 같이, 소정의 두께의 시트 형상을 갖고, 두께 방향 H와 직교하는 방향(면방향)으로 퍼진다. 광학 점착제층(10)은, 제 1 면(10a)과, 당해 제 1 면(10a)과는 반대측의 제 2 면(10b)을 갖는다. 도 1은, 광학 점착제층(10)이 광학 점착 시트(S)로서 제작되어, 당해 시트의 양면에 박리 필름(L1, L2)이 첩합되어 있는 상태를, 예시적으로 나타낸다. 박리 필름 부착된 광학 점착 시트(S)는, 예를 들어 롤상(도시 생략)이다.As shown in Fig. 1, the optical pressure-sensitive
광학 점착제층(10)은, 단층 구조를 갖거나, 또는, 2층 이상의 다층 구조(도 1에서는 도시 생략)를 갖는다. 도 2는, 2층 구조의 광학 점착제층(10)의 일례로서의 광학 점착제층(10A)의 부분 확대도이다. 광학 점착제층(10A)은, 점착제층(11)(제 1 점착제층)과 점착제층(12)(제 2 점착제층)을 두께 방향 H로 순차로 구비한다(2층 구조). 광학 점착제층(10A)에서는, 점착제층(11)의 노출면(점착제층(11)에 있어서의, 점착제층(12)과는 반대측의 면)이 제 1 면(10a)이며, 점착제층(12)의 노출면(점착제층(12)에 있어서의, 점착제층(11)과는 반대측의 면)이 제 2 면(10b)이다. 도 3은, 3층 구조의 광학 점착제층(10)의 일례로서의 광학 점착제층(10B)의 부분 확대도이다. 광학 점착제층(10B)은, 점착제층(11)(제 1 점착제층)과, 점착제층(12)(제 2 점착제층)와, 점착제층(13)(제 3 점착제층)을 두께 방향 H로 순차로 구비한다(3층 구조). 광학 점착제층(10B)에서는, 점착제층(11)의 노출면(점착제층(11)에 있어서의, 점착제층(12)과는 반대측의 면)이 제 1 면(10a)이며, 점착제층(13)의 노출면(점착제층(13)에 있어서의, 점착제층(12)과는 반대측의 면)이 제 2 면(10b)이다.The optical
이와 같은 광학 점착제층(10)은, 플렉시블 디바이스에 있어서의 광통과 개소에 배치되는 투명한 점착제층이다. 플렉시블 디바이스로서는, 예를 들어 플렉시블 디스플레이 패널을 들 수 있다. 플렉시블 디스플레이 패널은, 예를 들어, 화소 패널, 터치 패널, 편광판 및 커버 필름 등을 포함하는 적층 구조를 갖는다. 플렉시블 디스플레이 패널로서는, 예를 들어, 폴더블 디스플레이 패널 및 롤러블 디스플레이 패널을 들 수 있다. 광학 점착제층(10)은, 예를 들어, 플렉시블 디스플레이 패널의 제조 과정에 있어서, 상기 적층 구조에 포함되는 요소끼리의 접합에, 이용된다.Such an optical pressure-sensitive
광학 점착제층(10)은, -20℃에 있어서 180kPa 이하의 전단 저장 탄성률 G'(제 1 전단 저장 탄성률 G')를 갖는다. 광학 점착제층(10)에 있어서, 플렉시블 디바이스에 적합한 유연성 및 굴곡성을 확보하는 관점에서, 제 1 전단 저장 탄성률 G'는, 바람직하게는 150kPa 이하, 보다 바람직하게는 130kPa 이하, 더 바람직하게는 100kPa 이하, 특히 바람직하게는 90kPa 이하이다. 광학 점착제층(10)의 응집력을 확보하는 관점에서, 제 1 전단 저장 탄성률 G'는, 바람직하게는 30kPa 이상, 보다 바람직하게는 40kPa 이상, 더 바람직하게는 50kPa 이상, 특히 바람직하게는 60kPa 이상이다. 광학 점착제층(10)의 제 1 전단 저장 탄성률 G'는, 동적 점탄성 측정 장치에 의해 측정할 수 있다. 그 측정에 있어서, 측정 모드를 전단 모드로 하고, 측정 온도 범위를 -60℃∼150℃로 하고, 승온 속도를 5℃/분으로 하고, 주파수를 1Hz로 한다(후술하는 제 2 전단 저장 탄성률 G'의 측정에 있어서도 마찬가지이다). 구체적으로는, 실시예에 관해서 후술하는 바와 같다. 점착제층의 전단 저장 탄성률 G'의 조정 방법으로서는, 예를 들어, 점착제층에 있어서의 베이스 폴리머의 종류의 선택, 분자량의 조정, 및 배합량의 조정, 및, 상기 베이스 폴리머를 가교하는 가교제의 종류의 선택 및 배합량의 조정을 들 수 있다. 베이스 폴리머의 종류의 선택에는, 베이스 폴리머에 있어서의 주쇄의 종류의 선택, 및, 작용기의 종류의 선택 및 양의 조정이 포함된다. 또한, 광학 점착제층(10)이 다층 구조를 갖는 경우, 광학 점착제층(10)의 전단 저장 탄성률 G'의 조정 방법으로서는, 예를 들어, 광학 점착제층(10)에 있어서의 각 점착제층의 전단 저장 탄성률 G'의 조정, 및, 각 점착제층의 두께의 조정을 들 수 있다.The optical pressure-sensitive
광학 점착제층(10)의 제 1 면(10a) 및 제 2 면(10b)의 적어도 한쪽(즉, 제 1 면(10a) 및 제 2 면(10b)의 한쪽 또는 양쪽)은, 폴리이미드 필름으로의 첩합부터 23℃에서 30분간 경과 후에, 당해 폴리이미드 필름에 대해, 박리 각도 180° 및 박리 속도 300mm/분의 조건에 있어서 5N/25mm 이상의 박리 점착력 F를 갖는다. 피착체에 대한 광학 점착제층(10)의 첩부는, 23℃의 환경하에서 2kg의 롤러를 1왕복시키는 하중에 의한, 첩부이다. 피착체에 대한 양호한 밀착성을 확보하는 관점에서, 박리 점착력 F는, 바람직하게는 7N/25mm 이상, 보다 바람직하게는 9N/25mm 이상, 더 바람직하게는 11N/25mm 이상이다. 박리 점착력 F는, 예를 들어 30N/25mm 이하이다. 점착제층 표면의 박리 점착력 F의 조정 방법으로서는, 예를 들어, 점착제층에 있어서의 베이스 폴리머의 종류의 선택, 분자량의 조정, 및 배합량의 조정을 들 수 있다. 점착제층 표면의 박리 점착력 F의 조정 방법으로서는, 점착제층에 있어서의 베이스 폴리머 이외의 성분의 종류의 선택, 및, 당해 성분의 배합량의 조정도 들 수 있다. 당해 성분으로서는, 가교제, 실레인 커플링제, 및 올리고머를 들 수 있다. 또한, 광학 점착제층(10)이 다층 구조를 갖는 경우, 광학 점착제층(10)의 박리 점착력 F의 조정 방법으로서는, 예를 들어, 광학 점착제층(10)에 있어서의 각 점착제층의 박리 점착력 F의 조정, 및, 각 점착제층의 두께의 조정을 들 수 있다.At least one of the first surface 10a and the second surface 10b of the optical pressure-sensitive adhesive layer 10 (ie, one or both of the first surface 10a and the second surface 10b) is made of a polyimide film. After a lapse of 30 minutes at 23 ° C. from bonding of the polyimide film, it has a peel adhesive force F of 5 N / 25 mm or more on the conditions of a peel angle of 180 ° and a peel speed of 300 mm / min. The attachment of the optical pressure-
광학 점착제층(10)은, 전술한 바와 같이, -20℃에 있어서 180kPa 이하의 전단 저장 탄성률 G'를 갖는다. 이 정도로 고도의 부드러움을 갖는 광학 점착제층(10)은, 광학 점착제층(10)이 첩합된 피착체가 비교적 큰 곡률로 변형되었을 경우에, 당해 피착체의 변형에 추종하여 큰 곡률로 변형되기 쉽다. 비교적 큰 곡률로의 변형으로서는, 예를 들어, 폴더블 디스플레이의 굴곡 변형, 및, 롤러블 디스플레이 권취 시의 변형(감기 변형)을 들 수 있다. 광학 점착제층(10)이 부드러워 큰 곡률로 변형되기 쉬움(굽힘 변형성)은, 광학 점착제층(10)이 이용되는 플렉시블 디바이스의 양호한 반복 변형(반복되는 굴곡 변형 및 감기 변형 등)을 실현하는 데 적합하다.As described above, the optical pressure-
광학 점착제층(10)은, 전술한 바와 같이, 제 1 면(10a) 및 제 2 면(10b)의 적어도 한쪽이, 상기 조건에서 5N/25mm 이상의 박리 점착력 F를 갖는다. 즉, 광학 점착제층(10)은, 점착력에 관해서 다음의 제 1 구성 또는 제 2 구성을 갖는다. 제 1 면(10a) 및 제 2 면(10b)의 양쪽이 상기 조건에서 5N/25mm 이상의 박리 점착력 F를 갖는 구성(제 1 구성), 및, 제 1 면(10a) 및 제 2 면(10b)의 한쪽이 상기 조건에서 5N/25mm 이상의 박리 점착력 F를 갖는 구성(제 2 구성)이다. 이와 같은 광학 점착제층(10)은, 박리 점착력 F를 갖는 제 1 면(10b) 및/또는 제 2 면(10b)에 있어서, 피착체에 대한 양호한 밀착성을 확보하는 데 적합하고, 따라서, 피착체로부터의 광학 점착제층(10)의 박리를 억제하는 데 적합하다.As described above, the optical pressure-
이상과 같이 굽힘 변형성과 박리 억제성이 양립된 광학 점착제층(10)은, 플렉시블 디바이스 용도에 적합하다.As described above, the optical pressure-
광학 점착제층(10)은, 바람직하게는, 도 2 및 도 3에 나타내는 바와 같이 2층 이상의 다층 구조를 갖는다. 이와 같은 구성은, 광학 점착제층(10)에 포함되는 각 점착제층에 있어서 기능을 분담하여, 굽힘 변형성과 박리 억제성의 전술한 양립을 도모하는 데 바람직하다. 예를 들어 다음과 같다.The optical
도 2에 나타내는 광학 점착제층(10A)은, 예를 들어, 점착제층(11)으로서, 점착제층(12)보다도 고전단 저장 탄성률이고 또한 고점착력인 점착제층을 갖고, 점착제층(12)으로서, 점착제층(11)보다도 저전단 저장 탄성률이고 또한 저점착력인 점착제층을 갖는다. 이와 같은 구성은, 광학 점착제층(10)(점착제층(11, 12))의 총체적인 전단 저장 탄성률을 억제하면서, 제 1 면(10a)(점착제층(11)측 노출면)의 전술한 박리 점착력 F를 확보하는 데 적합하다. 도 3에 나타내는 광학 점착제층(10B)은, 예를 들어, 점착제층(11, 13)으로서, 점착제층(12)보다도 고전단 저장 탄성률이고 또한 고점착력인 점착제층을 갖고, 점착제층(12)으로서, 점착제층(11, 13)보다도 저전단 저장 탄성률이고 또한 저점착력인 점착제층을 갖는다. 이와 같은 구성은, 광학 점착제층(10)(점착제층(11, 12, 13))의 총체적인 전단 저장 탄성률을 억제하면서, 제 1 면(10a)(점착제층(11)측 표면) 및 제 2 면(10b)(점착제층(13)측 표면)의 전술한 박리 점착력 F를 확보하는 데 적합하다. 점착제층의 전단 저장 탄성률 및 점착력의 조정 방법으로서는, 예를 들어, 당해 점착제층 내의 베이스 폴리머에 있어서의 분자량의 조정과 유리 전이 온도의 조정과 가교도의 조정이 유효하다. 베이스 폴리머의 분자량이 클수록, 점착제층은 고탄성률화되는 경향이 있고, 또한, 고점착력화되는 경향이 있다. 베이스 폴리머의 유리 전이 온도가 작을수록, 점착제층은 저탄성률화되는 경향이 있고, 또한, 저점착력화되는 경향이 있다. 베이스 폴리머의 가교도가 높을수록, 점착제층은 고탄성률화되는 경향이 있다. 또한, 점착제층의 점착력은, 베이스 폴리머에 있어서의 소정의 가교도에서 극대치를 갖도록, 가교도에 따라서 변화한다. 구체적으로는, 다음과 같다. 베이스 폴리머의 가교도가 높을수록, 일정 정도의 가교도까지는, 점착제층 내부의 응집력이 높아져 점착제층이 고점착력화되는 경향이 있다. 상기 일정 정도의 가교도를 초과하면, 베이스 폴리머의 가교도가 높을수록, 점착제층이 지나치게 고탄성화되어 저점착력화되는 경향이 있다.The optical pressure-sensitive adhesive layer 10A shown in FIG. 2, for example, has a pressure-sensitive adhesive layer having a higher shear storage modulus and higher adhesive strength than the pressure-
광학 점착제층(10)에 있어서, 제 1 면(10a) 및 제 2 면(10b)의 한쪽이 상기 조건에서 5N/25mm 이상의 박리 점착력 F를 갖지 않는 점착면(저점착면)인 경우, 그와 같은 광학 점착제층(10)의 저점착면측을 피착체에 첩합하기 전에, 피착체 표면(첩합 예정면)을 플라즈마 처리하는 것에 의해, 당해 광학 점착제층(10)과 피착체 사이의 밀착성을 확보해도 된다. 제 1 면(10a) 및 제 2 면(10b)의 양쪽이 상기 조건에서 5N/25mm 이상의 박리 점착력 F를 갖는 경우에는, 피착체 표면에 대한 그와 같은 플라즈마 처리를 반드시 필요로 하지 않아, 바람직하다.In the optical pressure-
광학 점착제층(10)에 있어서는, -20℃에서의 전단 저장 탄성률 G'(kPa) 및 박리 점착력 F(N/25mm)는, 바람직하게는 G'>135에 있어서, F≥0.4667×G'-58을 만족시킨다. 광학 점착제층(10)에 있어서의 이 정도로 고도의 부드러움과 고점착력의 양립은, 광학 점착제층(10)의 굴곡성과 대피착체 밀착성을 양립시키는 데 바람직하고, 따라서, 전술한 굽힘 변형성과 박리 억제성을 양립하는 데 바람직하다.In the optical pressure-
박리 점착력 F(N/25mm)에 대한, -20℃에서의 전단 저장 탄성률 G'(kPa)의 비율은, 바람직하게는 30 이하, 보다 바람직하게는 25 이하, 더 바람직하게는 15 이하이며, 또한, 바람직하게는 1 이상, 보다 바람직하게는 3 이상, 더 바람직하게는 5 이상이다. 이와 같은 구성은, 광학 점착제층(10)의 점착력과 유연성 및 굴곡성의 균형을 취하는 데 바람직하다.The ratio of the shear storage modulus G' (kPa) at -20 ° C to the peel adhesion F (N / 25 mm) is preferably 30 or less, more preferably 25 or less, still more preferably 15 or less, and , is preferably 1 or more, more preferably 3 or more, still more preferably 5 or more. Such a configuration is preferable for balancing the adhesive strength, flexibility, and bendability of the optical pressure-
박리 점착력 F(N/25mm)에 대한, -40℃에서의 전단 저장 탄성률 G'(kPa)의 비율은, 바람직하게는 200 이하, 보다 바람직하게는 180 이하, 더 바람직하게는 100 이하이며, 또한, 바람직하게는 10 이상, 보다 바람직하게는 20 이상, 더 바람직하게는 30 이상이다. 이와 같은 구성은, 광학 점착제층(10)의 점착력과 유연성 및 굴곡성의 균형을 취하는 데 바람직하다.The ratio of the shear storage modulus G' (kPa) at -40°C to the peel adhesion F (N/25 mm) is preferably 200 or less, more preferably 180 or less, still more preferably 100 or less, and , is preferably 10 or more, more preferably 20 or more, still more preferably 30 or more. Such a configuration is preferable for balancing the adhesive strength, flexibility, and bendability of the optical pressure-
-40℃에서의 전단 저장 탄성률 G'는, 바람직하게는 1200kPa 이하, 보다 바람직하게는 1000kPa 이하, 더 바람직하게는 800kPa 이하, 특히 바람직하게는 600kPa 이하이며, 또한, 바람직하게는 100 이상, 보다 바람직하게는 200 이상, 더 바람직하게는 300 이상이다. 이와 같은 구성은, 광학 점착제층(10)의 유연성 및 굴곡성을 확보하는 데 바람직하다.The shear storage modulus G' at -40°C is preferably 1200 kPa or less, more preferably 1000 kPa or less, still more preferably 800 kPa or less, particularly preferably 600 kPa or less, and is preferably 100 or more, more preferably Preferably it is 200 or more, more preferably 300 or more. Such a configuration is preferable for ensuring the flexibility and bendability of the optical pressure-
광학 점착제층(10)에 있어서, 최대 두께와 최소 두께의 차는, 바람직하게는 3μm 이하, 보다 바람직하게는 2μm 이하, 더 바람직하게는 1μm 이하이다. 이와 같은 구성은, 광학 점착제층(10)이 접하는 피착체의 변형 시에, 당해 피착체에 있어서의 응력 집중을 억제하는 데 바람직하다. 또한, 두께의 차에 관한 당해 구성은, 광학 점착제층(10)을 적층 구조 중에 갖는 플렉시블 디바이스(광학 디바이스)의 시인성의 관점에서도 바람직하다.In the optical
광학 점착제층(10)을 단면 직경 20mm의 권심에 권회하고 나서 1시간 경과에 의한 광학 점착제층(10)의 투과율의 변화는, 바람직하게는 5% 이하, 보다 바람직하게는 4% 이하, 더 바람직하게는 3% 이하이다. 이와 같은 구성은, 플렉시블 디바이스 용도의 광학 점착제층으로서의 투명성을 확보하는 데 적합하다. 광학 점착제층(10)의 상기 투과율 변화는, 구체적으로는, 실시예에 관해서 후술하는 방법에 의해 측정할 수 있다.The change in transmittance of the optical
광학 점착제층(10)은, 점착제 조성물로부터 형성된 감압 접착제층이다. 광학 점착제층(10)은, 투명성(가시광 투과성)을 갖는다. 광학 점착제층(10)은, 적어도 베이스 폴리머를 포함한다.The optical
베이스 폴리머는, 광학 점착제층(10)에 있어서 점착성을 발현시키는 점착 성분이다. 베이스 폴리머로서는, 예를 들어, 아크릴 폴리머, 실리콘 폴리머, 폴리에스터 폴리머, 폴리유레테인 폴리머, 폴리아마이드 폴리머, 폴리바이닐 에터 폴리머, 아세트산 바이닐/염화 바이닐 코폴리머, 변성 폴리올레핀 폴리머, 에폭시 폴리머, 불소 폴리머, 및 고무 폴리머를 들 수 있다. 베이스 폴리머는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 광학 점착제층(10)에 있어서의 양호한 투명성 및 점착성을 확보하는 관점에서, 베이스 폴리머로서는, 바람직하게는 아크릴 폴리머가 이용된다.The base polymer is an adhesive component that expresses adhesiveness in the optical
아크릴 폴리머는, (메트)아크릴산 알킬 에스터를 50질량% 이상의 비율로 포함하는 모노머 성분의 공중합체이다. 「(메트)아크릴산」은, 아크릴산 및/또는 메타크릴산을 의미한다.An acrylic polymer is a copolymer of monomer components containing an alkyl (meth)acrylate in a proportion of 50% by mass or more. "(meth)acrylic acid" means acrylic acid and/or methacrylic acid.
(메트)아크릴산 알킬 에스터로서는, 알킬기의 탄소수가 1∼20인 (메트)아크릴산 알킬 에스터가, 호적하게 이용된다. (메트)아크릴산 알킬 에스터는, 직쇄상 또는 분기상의 알킬기를 가져도 되고, 지환식 알킬기 등 환상의 알킬기를 가져도 된다.As the (meth)acrylic acid alkyl ester, a (meth)acrylic acid alkyl ester having 1 to 20 carbon atoms in the alkyl group is suitably used. The (meth)acrylic acid alkyl ester may have a linear or branched alkyl group, or may have a cyclic alkyl group such as an alicyclic alkyl group.
직쇄상 또는 분기상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터로서는, 예를 들어, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 뷰틸, (메트)아크릴산 아이소뷰틸, (메트)아크릴산 s-뷰틸, (메트)아크릴산 t-뷰틸, (메트)아크릴산 펜틸, (메트)아크릴산 아이소펜틸, (메트)아크릴산 네오펜틸, (메트)아크릴산 헥실, (메트)아크릴산 헵틸, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 옥틸, (메트)아크릴산 아이소옥틸, (메트)아크릴산 노닐, (메트)아크릴산 아이소노닐, (메트)아크릴산 데실, (메트)아크릴산 아이소데실, (메트)아크릴산 운데실, (메트)아크릴산 도데실(즉 라우릴 아크릴레이트), (메트)아크릴산 아이소트라이데실, (메트)아크릴산 테트라데실, (메트)아크릴산 아이소테트라데실, (메트)아크릴산 펜타데실, (메트)아크릴산 세틸, (메트)아크릴산 헵타데실, (메트)아크릴산 옥타데실, (메트)아크릴산 아이소옥타데실, 및 (메트)아크릴산 노나데실을 들 수 있다.Examples of the (meth)acrylic acid alkyl ester having a linear or branched alkyl group include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, and (meth)acrylate s. -Butyl, t-butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, isopentyl (meth)acrylate, neopentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, 2-ethyl (meth)acrylate Hexyl, octyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, undecyl (meth)acrylate, Dodecyl (meth)acrylate (i.e. lauryl acrylate), isotridecyl (meth)acrylate, tetradecyl (meth)acrylate, isotetradecyl (meth)acrylate, pentadecyl (meth)acrylate, cetyl (meth)acrylate, Heptadecyl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate, isooctadecyl (meth)acrylate, and nonadecyl (meth)acrylate.
지환식 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터로서는, 예를 들어, (메트)아크릴산 사이클로알킬 에스터, 2환식의 지방족 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산 에스터, 및, 3환 이상의 지방족 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산 에스터를 들 수 있다. (메트)아크릴산 사이클로알킬 에스터로서는, 예를 들어, (메트)아크릴산 사이클로펜틸, (메트)아크릴산 사이클로헥실, (메트)아크릴산 사이클로헵틸, 및 (메트)아크릴산 사이클로옥틸을 들 수 있다. 2환식의 지방족 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산 에스터로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산 아이소보닐을 들 수 있다. 3환 이상의 지방족 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산 에스터로서는, 예를 들어, 다이사이클로펜탄일 (메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜탄일옥시에틸 (메트)아크릴레이트, 트라이사이클로펜탄일 (메트)아크릴레이트, 1-아다만틸 (메트)아크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸 (메트)아크릴레이트, 및, 2-에틸-2-아다만틸 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다.As the (meth)acrylic acid alkyl ester having an alicyclic alkyl group, for example, (meth)acrylic acid cycloalkyl ester, (meth)acrylic acid ester having a bicyclic aliphatic hydrocarbon ring, and having a tricyclic or more aliphatic hydrocarbon ring ( meth)acrylic acid esters are exemplified. Examples of the (meth)acrylate cycloalkyl ester include cyclopentyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, cycloheptyl (meth)acrylate, and cyclooctyl (meth)acrylate. As (meth)acrylic acid ester which has a bicyclic aliphatic hydrocarbon ring, isobornyl (meth)acrylate is mentioned, for example. Examples of the (meth)acrylic acid ester having a tricyclic or higher aliphatic hydrocarbon ring include dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth)acrylate, and tricyclopentanyl (meth)acrylate. , 1-adamantyl (meth)acrylate, 2-methyl-2-adamantyl (meth)acrylate, and 2-ethyl-2-adamantyl (meth)acrylate.
(메트)아크릴산 알킬 에스터로서는, 바람직하게는, 탄소수 3∼15의 알킬기를 갖는 아크릴산 알킬 에스터가 이용되고, 보다 바람직하게는, 아크릴산 n-뷰틸, 아크릴산 2-에틸헥실, 및 아크릴산 도데실로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개가 이용된다.As the (meth)acrylic acid alkyl ester, preferably, an acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 3 to 15 carbon atoms is used, more preferably from the group consisting of n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and dodecyl acrylate. At least one selected is used.
모노머 성분에 있어서의 (메트)아크릴산 알킬 에스터의 비율은, 광학 점착제층(10)에 있어서 점착성 등의 기본 특성을 적절히 발현시키는 관점에서, 바람직하게는 50질량% 이상, 보다 바람직하게는 60질량% 이상, 더 바람직하게는 70질량% 이상이다. 동 비율은, 예를 들어 99질량% 이하이다.The ratio of the (meth)acrylic acid alkyl ester in the monomer component is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass, from the viewpoint of appropriately expressing basic properties such as adhesiveness in the optical pressure-
모노머 성분은, (메트)아크릴산 알킬 에스터와 공중합 가능한 공중합성 모노머를 포함해도 된다. 공중합성 모노머로서는, 예를 들어, 극성기를 갖는 모노머를 들 수 있다. 극성기 함유 모노머로서는, 예를 들어, 질소 원자 함유환을 갖는 모노머, 하이드록시기 함유 모노머, 및 카복시기 함유 모노머를 들 수 있다. 극성기 함유 모노머는, 아크릴 폴리머로의 가교점의 도입, 아크릴 폴리머의 응집력의 확보 등, 아크릴 폴리머의 개질에 도움이 된다.The monomer component may also contain a copolymerizable monomer copolymerizable with (meth)acrylic acid alkyl ester. As a copolymerizable monomer, the monomer which has a polar group is mentioned, for example. Examples of the polar group-containing monomer include a monomer having a nitrogen atom-containing ring, a hydroxyl group-containing monomer, and a carboxy group-containing monomer. The polar group-containing monomer is useful for modifying the acrylic polymer, such as introducing a crosslinking point into the acrylic polymer and securing cohesive force of the acrylic polymer.
질소 원자 함유환을 갖는 모노머로서는, 예를 들어, N-바이닐-2-피롤리돈, N-메틸바이닐피롤리돈, N-바이닐피리딘, N-바이닐피페리돈, N-바이닐피리미딘, N-바이닐피페라진, N-바이닐피라진, N-바이닐피롤, N-바이닐이미다졸, N-바이닐옥사졸, N-(메트)아크릴로일-2-피롤리돈, N-(메트)아크릴로일피페리딘, N-(메트)아크릴로일피롤리딘, N-바이닐모폴린, N-바이닐-3-모폴린온, N-바이닐-2-카프로락탐, N-바이닐-1,3-옥사진-2-온, N-바이닐-3,5-모폴린다이온, N-바이닐피라졸, N-바이닐아이소옥사졸, N-바이닐싸이아졸, 및 N-바이닐아이소싸이아졸을 들 수 있다. 질소 원자 함유환을 갖는 모노머로서는, 바람직하게는 N-바이닐-2-피롤리돈이 이용된다.Examples of the monomer having a nitrogen atom-containing ring include N-vinyl-2-pyrrolidone, N-methylvinylpyrrolidone, N-vinylpyridine, N-vinylpiperidone, N-vinylpyrimidine, and N-vinyl Piperazine, N-vinylpyrazine, N-vinylpyrrole, N-vinylimidazole, N-vinyloxazole, N-(meth)acryloyl-2-pyrrolidone, N-(meth)acryloylpiperi Deine, N-(meth)acryloylpyrrolidine, N-vinylmorpholine, N-vinyl-3-morpholinone, N-vinyl-2-caprolactam, N-vinyl-1,3-oxazin-2 -one, N-vinyl-3,5-morpholinedione, N-vinylpyrazole, N-vinylisoxazole, N-vinylthiazole, and N-vinylisothiazole. As a monomer having a nitrogen atom-containing ring, N-vinyl-2-pyrrolidone is preferably used.
모노머 성분에 있어서의, 질소 원자 함유환을 갖는 모노머의 비율은, 광학 점착제층(10)에 있어서의 응집력의 확보, 및, 광학 점착제층(10)에 있어서의 대피착체 밀착력의 확보의 관점에서, 바람직하게는 0.1질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.3질량% 이상, 더 바람직하게는 0.55질량% 이상이다. 동 비율은, 아크릴 폴리머의 유리 전이 온도의 조정, 및, 아크릴 폴리머의 극성(광학 점착제층(10)에 있어서의 각종 첨가제 성분과 아크릴 폴리머의 상용성에 관련된다)의 조정의 관점에서, 바람직하게는 30질량% 이하, 보다 바람직하게는 20질량% 이하이다.The ratio of the monomer having a nitrogen atom-containing ring in the monomer component is preferable from the viewpoint of ensuring the cohesive force in the optical
하이드록시기 함유 모노머로서는, 예를 들어, (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산 2-하이드록시프로필, (메트)아크릴산 2-하이드록시뷰틸, (메트)아크릴산 3-하이드록시프로필, (메트)아크릴산 4-하이드록시뷰틸, (메트)아크릴산 6-하이드록시헥실, (메트)아크릴산 8-하이드록시옥틸, (메트)아크릴산 10-하이드록시데실, (메트)아크릴산 12-하이드록시라우릴, 및 (4-하이드록시메틸사이클로헥실)메틸 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 하이드록시기 함유 모노머로서는, 바람직하게는 (메트)아크릴산 4-하이드록시뷰틸이 이용되고, 보다 바람직하게는 아크릴산 4-하이드록시뷰틸이 이용된다.Examples of the hydroxy group-containing monomer include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 3-hydroxypropyl (meth)acrylate. , (meth)acrylate 4-hydroxybutyl, (meth)acrylate 6-hydroxyhexyl, (meth)acrylate 8-hydroxyoctyl, (meth)acrylate 10-hydroxydecyl, (meth)acrylate 12-hydroxylar uryl, and (4-hydroxymethylcyclohexyl)methyl (meth)acrylate. As the hydroxyl group-containing monomer, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate is preferably used, and 4-hydroxybutyl acrylate is more preferably used.
모노머 성분에 있어서의 하이드록시기 함유 모노머의 비율은, 아크릴 폴리머로의 가교 구조의 도입, 및, 광학 점착제층(10)에 있어서의 응집력의 확보의 관점에서, 바람직하게는 0.1질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.5질량% 이상, 더 바람직하게는 0.8질량% 이상이다. 동 비율은, 아크릴 폴리머의 극성(광학 점착제층(10)에 있어서의 각종 첨가제 성분과 아크릴 폴리머의 상용성에 관련된다)의 조정의 관점에서, 바람직하게는 20질량% 이하, 보다 바람직하게는 10질량% 이하이다.The ratio of the hydroxyl group-containing monomer in the monomer component is preferably 0.1% by mass or more, from the viewpoint of introducing a crosslinked structure into the acrylic polymer and securing the cohesive force in the optical pressure-
카복시기 함유 모노머로서는, 예를 들어, 아크릴산, 메타크릴산, 카복시에틸 아크릴레이트, 카복시펜틸 아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산, 및 아이소크로톤산을 들 수 있다.Examples of the carboxyl group-containing monomer include acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl acrylate, carboxypentyl acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, and isocrotonic acid.
모노머 성분에 있어서의 카복시기 함유 모노머의 비율은, 아크릴 폴리머로의 가교 구조의 도입, 광학 점착제층(10)에 있어서의 응집력의 확보, 및, 광학 점착제층(10)에 있어서의 대피착체 밀착력의 확보의 관점에서, 바람직하게는 0.1질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.5질량% 이상, 더 바람직하게는 0.8질량% 이상이다. 동 비율은, 아크릴 폴리머의 유리 전이 온도의 조정, 및, 산에 의한 피착체의 부식 리스크의 회피의 관점에서, 바람직하게는 30질량% 이하, 보다 바람직하게는 20질량% 이하이다.The ratio of the carboxyl group-containing monomer in the monomer component is the ratio of introduction of a crosslinked structure to the acrylic polymer, securing of cohesive force in the optical
플렉시블 디바이스에 있어서의 전극 등 금속 요소가 산 성분에 의해 부식되는 것을 방지하려면, 광학 점착제층(10)은, 산의 함유량이 작은 것이 바람직하다. 또한, 광학 점착제층(10)이 편광판의 접착에 이용되는 경우, 산 성분에 의한 폴리바이닐 알코올계 편광자의 폴리엔화를 억제하기 위해서, 광학 점착제층(10)은, 산의 함유량이 작은 것이 바람직하다. 이와 같은 산 프리의 광학 점착제층(10)에서는, 유기산 모노머(예를 들어, (메트)아크릴산 및 카복실기 함유 모노머)의 함유량이, 바람직하게는 100ppm 이하, 보다 바람직하게는 70ppm 이하, 더 바람직하게는 50ppm 이하이다. 광학 점착제층(10)의 유기산 모노머 함유량은, 광학 점착제층(10)을 순수 중에 침지하고 100℃에서 45분 가온하는 것에 의해 물 중에 추출된 산 모노머를, 이온 크로마토그래프로 정량하는 것에 의해, 구해진다.In order to prevent metal elements such as electrodes in a flexible device from being corroded by an acid component, the optical
산 프리의 관점에서는, 광학 점착제층(10) 중의 베이스 폴리머가 모노머 성분으로서 유기산 모노머를 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 산 프리의 관점에서는, 모노머 성분에 있어서의 유기산 모노머의 비율은, 바람직하게는 0.5질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.1질량% 이하, 더 바람직하게는 0.05질량%이며, 이상적으로는 0질량%이다.From an acid-free viewpoint, it is preferable that the base polymer in the optical pressure-
모노머 성분은, 다른 공중합성 모노머를 포함하고 있어도 된다. 다른 공중합성 모노머로서는, 예를 들어, 산 무수물 모노머, 설폰산기 함유 모노머, 인산기 함유 모노머, 에폭시기 함유 모노머, 사이아노기 함유 모노머, 알콕시기 함유 모노머, 및 방향족 바이닐 화합물을 들 수 있다. 이들 다른 공중합성 모노머는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.The monomer component may contain other copolymerizable monomers. Examples of other copolymerizable monomers include acid anhydride monomers, sulfonic acid group-containing monomers, phosphoric acid group-containing monomers, epoxy group-containing monomers, cyano group-containing monomers, alkoxy group-containing monomers, and aromatic vinyl compounds. These other copolymerizable monomers may be used independently, or two or more types may be used together.
베이스 폴리머는, 본 실시형태에서는, 가교 구조를 갖는다. 베이스 폴리머로의 가교 구조의 도입 방법으로서는, 가교제와 반응 가능한 작용기를 갖는 베이스 폴리머와 가교제를 점착제 조성물에 배합하여, 베이스 폴리머와 가교제를 광학 점착제층(10) 중에서 반응시키는 방법(제 1 방법), 및, 베이스 폴리머를 형성하는 모노머 성분에 다작용 모노머를 포함시켜, 당해 모노머 성분의 중합에 의해, 폴리머쇄에 분지 구조(가교 구조)가 도입된 베이스 폴리머를 형성하는 방법(제 2 방법)을, 들 수 있다. 이들 방법은, 병용되어도 된다.The base polymer has a crosslinked structure in this embodiment. As a method for introducing a cross-linked structure into the base polymer, a base polymer having a functional group capable of reacting with the cross-linking agent and a cross-linking agent are blended into the pressure-sensitive adhesive composition, and the base polymer and the cross-linking agent are reacted in the optical pressure-sensitive adhesive layer 10 (first method); and a method (second method) of forming a base polymer having a branched structure (crosslinked structure) introduced into the polymer chain by polymerization of the monomer component by including a polyfunctional monomer in a monomer component forming the base polymer, can be heard These methods may be used together.
상기 제 1 방법에서 이용되는 가교제로서는, 예를 들어, 베이스 폴리머에 포함되는 작용기(하이드록시기 및 카복시기 등)와 반응하는 화합물을 들 수 있다. 그와 같은 가교제로서는, 예를 들어, 아이소사이아네이트 가교제, 과산화물 가교제, 에폭시 가교제, 옥사졸린 가교제, 아지리딘 가교제, 카보다이이미드 가교제, 및 금속 킬레이트 가교제를 들 수 있다. 가교제는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 가교제로서는, 베이스 폴리머에 있어서의 하이드록시기 및 카복시기와의 반응성이 높아서 가교 구조의 도입이 용이하므로, 바람직하게는, 아이소사이아네이트 가교제, 과산화물 가교제, 및 에폭시 가교제가 이용된다.Examples of the crosslinking agent used in the first method include compounds that react with functional groups (such as hydroxyl and carboxyl groups) contained in the base polymer. Examples of such crosslinking agents include isocyanate crosslinking agents, peroxide crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, carbodiimide crosslinking agents, and metal chelate crosslinking agents. A crosslinking agent may be used independently and two or more types may be used together. As the crosslinking agent, an isocyanate crosslinking agent, a peroxide crosslinking agent, and an epoxy crosslinking agent are preferably used because they have high reactivity with the hydroxyl group and carboxy group in the base polymer and introduce a crosslinked structure easily.
아이소사이아네이트 가교제로서는, 예를 들어, 톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트, 아이소포론 다이아이소사이아네이트, 자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 수첨 자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트, 수첨 다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트, 테트라메틸자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 나프탈렌 다이아이소사이아네이트, 트라이페닐메테인 트라이아이소사이아네이트, 및 폴리메틸렌 폴리페닐 아이소사이아네이트를 들 수 있다. 또한, 아이소사이아네이트 가교제로서는, 이들 아이소사이아네이트의 유도체도 들 수 있다. 당해 아이소사이아네이트 유도체로서는, 예를 들어, 아이소사이아누레이트 변성체 및 폴리올 변성체를 들 수 있다. 아이소사이아네이트 가교제의 시판품으로서는, 예를 들어, 코로네이트 L(톨릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 애덕트체, 도소제), 코로네이트 HL(헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 애덕트체, 도소제), 코로네이트 HX(헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트의 아이소사이아누레이트체, 도소제), 및 타케네이트 D110N(자일릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 애덕트체, 미쓰이 화학제)를 들 수 있다.Examples of the isocyanate crosslinking agent include tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, and hydrogenated xylylene diisocyanate. nate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, and polymethylene polyphenyl isocyanate. Moreover, derivatives of these isocyanates are also mentioned as an isocyanate crosslinking agent. As the said isocyanate derivative, an isocyanurate modified body and a polyol modified body are mentioned, for example. As a commercially available isocyanate crosslinking agent, for example, Coronate L (trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate, manufactured by Tosoh), Coronate HL (of hexamethylene diisocyanate) Trimethylolpropane adduct, manufactured by Tosoh), Coronate HX (isocyanurate of hexamethylene diisocyanate, manufactured by Tosoh), and Takenate D110N (trimethyl of xylylene diisocyanate) All-propane adducts, manufactured by Mitsui Chemicals) are exemplified.
과산화물 가교제로서는, 다이벤조일 퍼옥사이드, 다이(2-에틸헥실)퍼옥시 다이카보네이트, 다이(4-t-뷰틸사이클로헥실)퍼옥시 다이카보네이트, 다이-sec-뷰틸퍼옥시 다이카보네이트, t-뷰틸퍼옥시 네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시 피발레이트, 및 t-뷰틸퍼옥시 피발레이트를 들 수 있다.As the peroxide crosslinking agent, dibenzoyl peroxide, di(2-ethylhexyl)peroxydicarbonate, di(4-t-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate, di-sec-butylperoxydicarbonate, t-butylper oxy neodecanoate, t-hexylperoxy pivalate, and t-butylperoxy pivalate.
에폭시 가교제로서는, 비스페놀 A, 에피클로로하이드린형의 에폭시 수지, 에틸렌 글라이시딜 에터, 폴리에틸렌 글라이콜 다이글라이시딜 에터, 글리세린 다이글라이시딜 에터, 글리세린 트라이글라이시딜 에터, 1,6-헥세인다이올 글라이시딜 에터, 트라이메틸올프로페인 트라이글라이시딜 에터, 다이글라이시딜아닐린, 다이아민글라이시딜아민, N,N,N',N'-테트라글라이시딜-m-자일릴렌다이아민, 및 1,3-비스(N,N-다이글라이시딜아미노메틸)사이클로헥세인을 들 수 있다.Examples of the epoxy crosslinking agent include bisphenol A, epichlorohydrin type epoxy resin, ethylene glycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, 1,6- Hexanediol glycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, diglycidylaniline, diamineglycidylamine, N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xyl relendiamine, and 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane.
아이소사이아네이트 가교제(특히, 2작용의 아이소사이아네이트 가교제) 및 과산화물 가교제는, 광학 점착제층(10)의 적당한 유연성(따라서 굴곡성)의 확보의 관점에서 바람직하다. 아이소사이아네이트 가교제(특히, 3작용의 아이소사이아네이트 가교제)는, 광학 점착제층(10)의 내구성 확보의 관점에서 바람직하다. 베이스 폴리머에 있어서, 2작용 아이소사이아네이트 가교제 및 과산화물 가교제는, 보다 유연한 이차원 가교를 형성하는 데 반해, 3작용 아이소사이아네이트 가교제는, 보다 강고한 삼차원 가교를 형성한다. 광학 점착제층(10)의 내구성과 유연성의 양립의 관점에서는, 3작용 아이소사이아네이트 가교제와 과산화물 가교제 및/또는 2작용 아이소사이아네이트 가교제의 병용이, 바람직하다.An isocyanate crosslinking agent (particularly, a bifunctional isocyanate crosslinking agent) and a peroxide crosslinking agent are preferable from the viewpoint of ensuring appropriate flexibility (and therefore flexibility) of the optical pressure-
가교제의 배합량은, 광학 점착제층(10)의 응집력을 확보하는 관점에서, 베이스 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들어 0.01질량부 이상이며, 바람직하게는 0.05질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.07질량부 이상이다. 광학 점착제층(10)에 있어서 양호한 택성을 확보하는 관점에서, 베이스 폴리머 100질량부에 대한 가교제의 배합량은, 예를 들어 10질량부 이하이며, 바람직하게는 5질량부 이하, 보다 바람직하게는 3질량부 이하이다.The compounding amount of the crosslinking agent is, for example, 0.01 parts by mass or more, preferably 0.05 parts by mass or more, more preferably 0.07 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the base polymer, from the viewpoint of securing the cohesive force of the optical pressure-
상기 제 2 방법에서는, 모노머 성분(가교 구조를 도입하기 위한 다작용 모노머와 다른 모노머를 포함한다)은, 한 번에 중합시켜도 되고, 다단계로 중합시켜도 된다. 다단계 중합의 방법에서는, 우선, 베이스 폴리머를 형성하기 위한 단작용 모노머를 중합시키고(예비 중합), 이것에 의해 부분 중합물(저중합도의 중합물과 미반응의 모노머의 혼합물)을 함유하는 프리폴리머 조성물을 조제한다. 다음에, 프리폴리머 조성물에 다작용 모노머를 첨가한 후, 부분 중합물과 다작용 모노머를 중합시킨다(본 중합).In the second method, the monomer component (including the polyfunctional monomer for introducing the crosslinked structure and other monomers) may be polymerized at once or in multiple steps. In the multi-stage polymerization method, first, a monofunctional monomer for forming a base polymer is polymerized (prepolymerization), thereby preparing a prepolymer composition containing a partially polymerized product (a mixture of a polymer having a low polymerization degree and an unreacted monomer) do. Next, after adding the polyfunctional monomer to the prepolymer composition, the partial polymer and the polyfunctional monomer are polymerized (main polymerization).
다작용 모노머로서는, 예를 들어, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 1분자 중에 2개 이상 함유하는 다작용 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 다작용 모노머로서는, 활성 에너지선 중합(광중합)에 의해 가교 구조를 도입 가능한 관점에서, 다작용 아크릴레이트가 바람직하다.Examples of the polyfunctional monomer include polyfunctional (meth)acrylates containing two or more ethylenically unsaturated double bonds in one molecule. As a polyfunctional monomer, a polyfunctional acrylate is preferable from the viewpoint of being able to introduce a crosslinked structure by active energy ray polymerization (photopolymerization).
다작용 (메트)아크릴레이트로서는, 2작용 (메트)아크릴레이트, 3작용 (메트)아크릴레이트, 및, 4작용 이상의 다작용 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다.Examples of polyfunctional (meth)acrylates include bifunctional (meth)acrylates, trifunctional (meth)acrylates, and tetrafunctional or higher functional (meth)acrylates.
2작용 (메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어, 에틸렌 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 다이에틸렌 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌 글라이콜 다이메타크릴레이트, 1,6-헥세인다이올 다이(메트)아크릴레이트, 1,9-노네인다이올 다이(메트)아크릴레이트, 글리세린 다이(메트)아크릴레이트, 네오펜틸 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 스테아르산 변성 펜타에리트리톨 다이(메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜텐일 다이아크릴레이트, 다이(메트)아크릴로일 아이소사이아누레이트, 및 알킬렌 옥사이드 변성 비스페놀 다이(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.Examples of the bifunctional (meth)acrylate include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, and tetraethylene. Glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate, neopentyl glycol Col di(meth)acrylate, stearic acid modified pentaerythritol di(meth)acrylate, dicyclopentenyl diacrylate, di(meth)acryloyl isocyanurate, and alkylene oxide modified bisphenol di(meth)acrylate ) acrylate.
3작용 (메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어, 트라이메틸올프로페인 트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트라이(메트)아크릴레이트, 및 트리스(아크릴로일옥시에틸)아이소사이아누레이트를 들 수 있다.Examples of the trifunctional (meth)acrylate include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, and tris(acryloyloxyethyl)isocyanurate. can
4작용 이상의 다작용 (메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어, 다이트라이메틸올프로페인 테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 모노하이드록시 펜타(메트)아크릴레이트, 알킬 변성 다이펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 및 다이펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.Examples of the tetrafunctional or higher polyfunctional (meth)acrylate include ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta(meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate.
다작용 모노머의 분자량은, 바람직하게는 1500 이하, 보다 바람직하게는 1000 이하이다. 또한, 다작용 모노머의 작용기 당량(g/eq)은, 바람직하게는 50 이상, 보다 바람직하게는 70 이상, 더 바람직하게는 80 이상이다. 동 작용기 당량은, 바람직하게는 500 이하, 보다 바람직하게는 300 이하, 더 바람직하게는 200 이하이다. 이들 구성은, 베이스 폴리머에 있어서 가교 구조의 도입에 의해 점탄성(예를 들어, 저장 탄성률 G' 및 손실 정접 tanδ)을 적절히 조정하는 관점에서 바람직하다.The molecular weight of the polyfunctional monomer is preferably 1500 or less, more preferably 1000 or less. In addition, the functional group equivalent (g/eq) of the polyfunctional monomer is preferably 50 or more, more preferably 70 or more, still more preferably 80 or more. The functional group equivalent is preferably 500 or less, more preferably 300 or less, still more preferably 200 or less. These structures are preferable from the viewpoint of appropriately adjusting the viscoelastic properties (eg, storage modulus G' and loss tangent tan δ) by introduction of a crosslinked structure in the base polymer.
아크릴 폴리머는, 전술한 모노머 성분을 중합시키는 것에 의해 형성할 수 있다. 중합 방법으로서는, 예를 들어, 용액 중합, 활성 에너지선 중합(예를 들어 UV 중합), 괴상 중합, 및 유화 중합을 들 수 있다. 광학 점착제층(10)의 투명성, 내수성, 및 비용의 관점에서, 용액 중합 및 UV 중합이 바람직하다. 용액 중합의 용매로서는, 예를 들어, 아세트산 에틸 및 톨루엔이 이용된다. 또한, 중합의 개시제로서는, 예를 들어, 열중합 개시제 및 광중합 개시제가 이용된다. 중합 개시제의 사용량은, 모노머 성분 100질량부에 대해서, 예를 들어 0.05질량부 이상이며, 또한, 예를 들어 1질량부 이하이다.An acrylic polymer can be formed by polymerizing the above-mentioned monomer components. As a polymerization method, solution polymerization, active energy ray polymerization (for example, UV polymerization), bulk polymerization, and emulsion polymerization are mentioned, for example. From the viewpoints of transparency, water resistance, and cost of the optical pressure-
열중합 개시제로서는, 예를 들어, 아조 중합 개시제 및 과산화물 중합 개시제를 들 수 있다. 아조 중합 개시제로서는, 예를 들어, 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴, 2,2'-아조비스-2-메틸뷰티로나이트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산)다이메틸, 4,4'-아조비스-4-사이아노발레리안산, 아조비스아이소발레로나이트릴, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로페인)다이하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(5-메틸-2-이미다졸린-2-일)프로페인]다이하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘)이황산염, 및, 2,2'-아조비스(N,N'-다이메틸렌아이소뷰틸아미딘)다이하이드로클로라이드를 들 수 있다. 과산화물 중합 개시제로서는, 예를 들어, 다이벤조일 퍼옥사이드, t-뷰틸 퍼말레에이트, 및 과산화 라우로일을 들 수 있다.As a thermal polymerization initiator, an azo polymerization initiator and a peroxide polymerization initiator are mentioned, for example. Examples of the azo polymerization initiator include 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile, and 2,2'-azobis(2-methylpropionic acid). ) dimethyl, 4,4'-azobis-4-cyanovalerian acid, azobisisovaleronitrile, 2,2'-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, 2,2' -azobis[2-(5-methyl-2-imidazolin-2-yl)propane]dihydrochloride, 2,2'-azobis(2-methylpropionamidine)disulfate, and, 2, and 2'-azobis(N,N'-dimethyleneisobutylamidine) dihydrochloride. As a peroxide polymerization initiator, dibenzoyl peroxide, t-butyl permaleate, and lauroyl peroxide are mentioned, for example.
광중합 개시제로서는, 예를 들어, 벤조인 에터계 광중합 개시제, 아세토페논계 광중합 개시제, α-케톨계 광중합 개시제, 방향족 설폰일 클로라이드계 광중합 개시제, 광활성 옥심계 광중합 개시제, 벤조인계 광중합 개시제, 벤질계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 케탈계 광중합 개시제, 싸이옥산톤계 광중합 개시제, 및 아실 포스핀 옥사이드계 광중합 개시제를 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include benzoin ether photopolymerization initiators, acetophenone photopolymerization initiators, α-ketol photopolymerization initiators, aromatic sulfonyl chloride photopolymerization initiators, photoactive oxime photopolymerization initiators, benzoin photopolymerization initiators, and benzyl photopolymerization initiators. initiators, benzophenone-based photopolymerization initiators, ketal-based photopolymerization initiators, thioxanthone-based photopolymerization initiators, and acyl phosphine oxide-based photopolymerization initiators.
중합에 있어서는, 분자량 조정 등을 목적으로 하여, 연쇄 이동제 및/또는 중합 금지제(중합 지연제)를 이용해도 된다. 연쇄 이동제로서는, α-싸이오글리세롤, 라우릴머캅탄, 글라이시딜머캅탄, 머캅토아세트산, 2-머캅토에탄올, 싸이오글라이콜산, 싸이오글루콜산 2-에틸헥실, 2,3-다이머캅토-1-프로판올, 및 α-메틸스타이렌 이량체를 들 수 있다.In polymerization, a chain transfer agent and/or a polymerization inhibitor (polymerization retardant) may be used for the purpose of molecular weight adjustment or the like. Examples of the chain transfer agent include α-thioglycerol, lauryl mercaptan, glycidyl mercaptan, mercaptoacetic acid, 2-mercaptoethanol, thioglycolic acid, 2-ethylhexyl thioglucholic acid, 2,3-dimercapto -1-propanol, and α-methylstyrene dimer.
중합 개시제의 종류 및/또는 양의 조정에 의해, 베이스 폴리머의 분자량을 조정할 수 있다. 예를 들어, 라디칼 중합에서는, 중합 개시제의 양이 많을수록, 반응계의 라디칼 농도가 높기 때문에, 반응 개시점의 밀도가 높고, 형성되는 베이스 폴리머의 분자량이 작아지는 경향이 있다. 이에 반해, 중합 개시제의 양이 적을수록, 반응 개시점의 밀도가 낮기 때문에 폴리머쇄가 신장되기 쉽고, 형성되는 베이스 폴리머 분자량이 커지는 경향이 있다.The molecular weight of the base polymer can be adjusted by adjusting the type and/or amount of the polymerization initiator. For example, in radical polymerization, since the radical concentration in the reaction system increases as the amount of the polymerization initiator increases, the density of reaction starting points tends to increase and the molecular weight of the base polymer formed tends to decrease. On the other hand, the smaller the amount of polymerization initiator, the lower the density of the reaction starting point, so the polymer chain tends to elongate and the molecular weight of the formed base polymer tends to increase.
베이스 폴리머의 중량 평균 분자량은, 광학 점착제층(10)에 있어서의 응집력의 확보의 관점에서, 바람직하게는 10만 이상, 보다 바람직하게는 30만 이상, 더 바람직하게는 50만 이상이다. 동 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 500만 이하, 보다 바람직하게는 300만 이하, 더 바람직하게는 200만 이하이다. 베이스 폴리머의 중량 평균 분자량은, 겔·퍼미에이션·크로마토그래프(GPC)에 의해 측정하여 폴리스타이렌 환산에 의해 산출된다.The weight average molecular weight of the base polymer is preferably 100,000 or more, more preferably 300,000 or more, and still more preferably 500,000 or more, from the viewpoint of securing the cohesive force in the optical pressure-
베이스 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)는, 바람직하게는 0℃ 이하, 보다 바람직하게는 -10℃ 이하, 더 바람직하게는 -20℃ 이하이다. 동 유리 전이 온도는, 예를 들어 -80℃ 이상이다.The glass transition temperature (Tg) of the base polymer is preferably 0°C or lower, more preferably -10°C or lower, still more preferably -20°C or lower. The copper glass transition temperature is, for example, -80°C or higher.
베이스 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)에 대해서는, 하기의 Fox의 식에 기초하여 구해지는 유리 전이 온도(이론치)를 이용할 수 있다. Fox의 식은, 폴리머의 유리 전이 온도 Tg와, 당해 폴리머를 구성하는 모노머의 호모폴리머의 유리 전이 온도 Tgi의 관계식이다. 하기의 Fox의 식에 있어서, Tg는 폴리머의 유리 전이 온도(℃)를 나타내고, Wi는 당해 폴리머를 구성하는 모노머 i의 중량 분율을 나타내고, Tgi는, 모노머 i로부터 형성되는 호모폴리머의 유리 전이 온도(℃)를 나타낸다. 호모폴리머의 유리 전이 온도에 대해서는 문헌치를 이용할 수 있다. 예를 들어, 「Polymer Handbook」(제4판, John Wiley & Sons, Inc., 1999년) 및 「신고분자 문고 7 도료용 합성 수지 입문」(기타오카 교조 저, 고분자 간행회, 1995년)에는, 각종의 호모폴리머의 유리 전이 온도를 들 수 있다. 한편, 모노머의 호모폴리머의 유리 전이 온도에 대해서는, 일본 특허공개 2007-51271호 공보에 구체적으로 기재되어 있는 방법에 의해 구하는 것도 가능하다.Regarding the glass transition temperature (Tg) of the base polymer, a glass transition temperature (theoretical value) obtained based on the following formula of Fox can be used. Fox's formula is a relational expression between the glass transition temperature Tg of a polymer and the glass transition temperature Tgi of a homopolymer of monomers constituting the polymer. In Fox's formula below, Tg represents the glass transition temperature (°C) of a polymer, Wi represents the weight fraction of monomer i constituting the polymer, and Tgi represents the glass transition temperature of a homopolymer formed from monomer i. (°C) is shown. Literature values can be used for the glass transition temperature of the homopolymer. For example, in "Polymer Handbook" (4th edition, John Wiley & Sons, Inc., 1999) and "New Polymer Bunko 7 Introduction to Synthetic Resins for Paint" (authored by Kitaoka Kyojo, Polymer Publication Society, 1995), The glass transition temperature of various homopolymers is mentioned. On the other hand, about the glass transition temperature of the homopolymer of a monomer, it is also possible to obtain|require by the method specifically described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-51271.
Fox의 식 1/(273+Tg)=Σ[Wi/(273+Tgi)]Fox's
점착제 조성물은, 베이스 폴리머에 더하여, 1종류 또는 2종류 이상의 올리고머를 포함하고 있어도 된다. 베이스 폴리머로서 아크릴 폴리머가 이용되는 경우, 바람직하게는, 올리고머로서 아크릴 올리고머가 이용된다. 아크릴 올리고머는, (메트)아크릴산 알킬 에스터를 50질량% 이상의 비율로 포함하는 모노머 성분의 공중합체이며, 중량 평균 분자량이 예를 들어 1000 이상 30000 이하이다.The pressure-sensitive adhesive composition may contain one type or two or more types of oligomers in addition to the base polymer. When an acrylic polymer is used as the base polymer, an acrylic oligomer is preferably used as the oligomer. The acrylic oligomer is a copolymer of monomer components containing an alkyl (meth)acrylate in a proportion of 50% by mass or more, and has a weight average molecular weight of, for example, 1000 or more and 30000 or less.
아크릴 올리고머의 유리 전이 온도는, 바람직하게는 60℃ 이상, 보다 바람직하게는 80℃ 이상, 더 바람직하게는 100℃ 이상, 특히 바람직하게는 110℃ 이상이다. 아크릴 올리고머의 유리 전이 온도는, 예를 들어 200℃ 이하이며, 바람직하게는 180℃ 이하, 보다 바람직하게는 160℃ 이하이다. 가교 구조가 도입된 저Tg의 아크릴 폴리머(베이스 폴리머)와 고Tg의 아크릴 올리고머의 병용에 의해, 광학 점착제층(10)의 점착력, 특히 고온에서의 점착력을 높일 수 있다. 아크릴 올리고머의 유리 전이 온도는, 상기의 Fox의 식에 의해 산출된다.The glass transition temperature of the acrylic oligomer is preferably 60°C or higher, more preferably 80°C or higher, still more preferably 100°C or higher, and particularly preferably 110°C or higher. The glass transition temperature of the acrylic oligomer is, for example, 200°C or lower, preferably 180°C or lower, and more preferably 160°C or lower. The combined use of a low-Tg acrylic polymer (base polymer) and a high-Tg acrylic oligomer into which a crosslinked structure is introduced can increase the adhesive strength of the optical pressure-
유리 전이 온도가 60℃ 이상인 아크릴 올리고머는, 바람직하게는, 쇄상 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터(쇄상 알킬 (메트)아크릴레이트)와, 지환식 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터(지환식 알킬 (메트)아크릴레이트)를 포함하는 모노머 성분의 중합체이다. 이들 (메트)아크릴산 알킬 에스터의 구체예로서는, 예를 들어, 아크릴 폴리머의 모노머 성분으로서 상기한 (메트)아크릴산 알킬 에스터를 들 수 있다.The acrylic oligomer having a glass transition temperature of 60°C or higher is preferably composed of an alkyl (meth)acrylate having a chain alkyl group (chain alkyl (meth)acrylate) and an alkyl (meth)acrylate having an alicyclic alkyl group (alicyclic). It is a polymer of monomer components including alkyl (meth)acrylates. As a specific example of these alkyl (meth)acrylates, the above-mentioned alkyl (meth)acrylates as a monomer component of an acrylic polymer are mentioned, for example.
쇄상 알킬 (메트)아크릴레이트로서는, 유리 전이 온도가 높고, 베이스 폴리머와의 상용성이 우수하므로, 메타크릴산 메틸이 바람직하다. 지환식 알킬 (메트)아크릴레이트로서는, 아크릴산 다이사이클로펜탄일, 메타크릴산 다이사이클로펜탄일, 아크릴산 사이클로헥실, 및 메타크릴산 사이클로헥실이 바람직하다. 즉, 아크릴 올리고머는, 아크릴산 다이사이클로펜탄일, 메타크릴산 다이사이클로펜탄일, 아크릴산 사이클로헥실, 및 메타크릴산 사이클로헥실로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상과, 메타크릴산 메틸을 포함하는 모노머 성분의 중합체인 것이 바람직하다.As the chain alkyl (meth)acrylate, methyl methacrylate is preferable because it has a high glass transition temperature and excellent compatibility with the base polymer. As an alicyclic alkyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentanyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, and cyclohexyl methacrylate are preferable. That is, the acrylic oligomer is a monomer component containing at least one selected from the group consisting of dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentanyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, and cyclohexyl methacrylate, and methyl methacrylate It is preferably a polymer of
아크릴 올리고머의 모노머 성분에 있어서의 지환식 알킬 (메트)아크릴레이트의 비율은, 바람직하게는 10질량% 이상, 보다 바람직하게는 20질량% 이상, 더 바람직하게는 30질량% 이상이다. 동 비율은, 바람직하게는 90질량% 이하, 보다 바람직하게는 80질량% 이하, 더 바람직하게는 70질량% 이하이다. 아크릴 올리고머의 모노머 성분에 있어서의 쇄상 알킬 (메트)아크릴레이트의 비율은, 바람직하게는 90질량% 이하, 보다 바람직하게는 80질량% 이하, 더 바람직하게는 70질량% 이하이다. 동 비율은, 바람직하게는 10질량% 이상, 보다 바람직하게는 20질량% 이상, 더 바람직하게는 30질량% 이상이다.The ratio of the alicyclic alkyl (meth)acrylate in the monomer component of the acrylic oligomer is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, still more preferably 30% by mass or more. The ratio is preferably 90% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, still more preferably 70% by mass or less. The proportion of the chain-like alkyl (meth)acrylate in the monomer component of the acrylic oligomer is preferably 90% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, still more preferably 70% by mass or less. The ratio is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, and still more preferably 30% by mass or more.
아크릴 올리고머의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 1000 이상, 보다 바람직하게는 1500 이상, 더 바람직하게는 2000 이상이다. 동 분자량은, 바람직하게는 30000 이하, 보다 바람직하게는 10000 이하, 더 바람직하게는 8000 이하이다. 이와 같은 아크릴 올리고머의 분자량 범위는, 광학 점착제층(10)의 접착력 및 접착 유지력을 확보하는 데 바람직하다.The weight average molecular weight of the acrylic oligomer is preferably 1000 or more, more preferably 1500 or more, still more preferably 2000 or more. The molecular weight is preferably 30000 or less, more preferably 10000 or less, still more preferably 8000 or less. Such a molecular weight range of the acrylic oligomer is preferable to secure the adhesive force and adhesive retention force of the optical pressure-
아크릴 올리고머는, 당해 아크릴 올리고머의 모노머 성분을 중합하는 것에 의해 얻어진다. 중합 방법으로서는, 예를 들어, 용액 중합, 활성 에너지선 중합(예를 들어 UV 중합), 괴상 중합, 및 유화 중합을 들 수 있다. 아크릴 올리고머의 중합에 있어서는, 중합 개시제를 이용해도 되고, 분자량의 조정을 목적으로 하여 연쇄 이동제를 이용해도 된다.An acrylic oligomer is obtained by polymerizing the monomer component of the said acrylic oligomer. As a polymerization method, solution polymerization, active energy ray polymerization (for example, UV polymerization), bulk polymerization, and emulsion polymerization are mentioned, for example. In the polymerization of the acrylic oligomer, a polymerization initiator may be used, or a chain transfer agent may be used for the purpose of molecular weight adjustment.
광학 점착제층(10)에 있어서의 아크릴 올리고머의 함유량은, 광학 점착제층(10)의 접착력을 충분히 높이기 위해서는, 베이스 폴리머 100질량부에 대해서, 바람직하게는 0.5질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.8질량부 이상, 더 바람직하게는 1질량부 이상이다. 한편, 광학 점착제층(10)의 투명성의 확보의 관점에서는, 광학 점착제층(10)에 있어서의 아크릴 올리고머의 함유량은, 베이스 폴리머 100질량부에 대해서, 바람직하게는 5질량부 이하, 보다 바람직하게는 4질량부 이하, 더 바람직하게는 3질량부 이하이다. 광학 점착제층(10)에 있어서는, 아크릴 올리고머의 함유량이 지나치게 큰 경우, 당해 아크릴 올리고머의 상용성의 저하에 기인하여, 헤이즈가 상승하여 투명성이 저하되는 경향이 있다.The content of the acrylic oligomer in the optical pressure-
점착제 조성물은, 실레인 커플링제를 함유해도 된다. 점착제 조성물에 있어서의 실레인 커플링제의 함유량은, 베이스 폴리머 100질량부에 대해서, 바람직하게는 0.1질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.2질량부 이상이다. 동 함유량은, 바람직하게는 5질량부 이하, 보다 바람직하게는 3질량부 이하이다.The pressure-sensitive adhesive composition may contain a silane coupling agent. The content of the silane coupling agent in the pressure-sensitive adhesive composition is preferably 0.1 part by mass or more, more preferably 0.2 part by mass or more with respect to 100 parts by mass of the base polymer. The copper content is preferably 5 parts by mass or less, more preferably 3 parts by mass or less.
점착제 조성물은, 필요에 따라서 다른 성분을 함유해도 된다. 다른 성분으로서는, 예를 들어, 점착 부여제, 가소제, 연화제, 산화 방지제, 충전제, 착색제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 계면활성제, 및 대전 방지제를 들 수 있다.The adhesive composition may contain other components as needed. Examples of other components include tackifiers, plasticizers, softeners, antioxidants, fillers, colorants, ultraviolet absorbers, antioxidants, surfactants, and antistatic agents.
단층 구조의 광학 점착제층(10)은, 예를 들어, 전술한 점착제 조성물을 박리 필름(L1)(제 1 박리 필름) 상에 도포하여 도막을 형성한 후, 당해 도막을 건조시키는 것에 의해, 제조할 수 있다.The optical
박리 필름으로서는, 예를 들어, 가요성을 갖는 플라스틱 필름을 들 수 있다. 당해 플라스틱 필름으로서는, 예를 들어, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 및 폴리에스터 필름을 들 수 있다. 박리 필름의 두께는, 예를 들어 3μm 이상이며, 또한, 예를 들어 200μm 이하이다. 박리 필름의 표면은, 바람직하게는 박리 처리되어 있다.As a peeling film, the plastic film which has flexibility is mentioned, for example. As the said plastic film, a polyethylene terephthalate film, a polyethylene film, a polypropylene film, and a polyester film are mentioned, for example. The thickness of the peeling film is, for example, 3 µm or more, and is, for example, 200 µm or less. The surface of the peeling film is preferably subjected to peeling treatment.
점착제 조성물의 도포 방법으로서는, 예를 들어, 롤 코팅, 키스 롤 코팅, 그라비어 코팅, 리버스 코팅, 롤 브러시, 스프레이 코팅, 딥 롤 코팅, 바 코팅, 나이프 코팅, 에어 나이프 코팅, 커튼 코팅, 립 코팅, 및 다이 코팅을 들 수 있다. 도막의 건조 온도는, 예를 들어 50℃∼200℃이다. 건조 시간은, 예를 들어 5초∼20분이다.As a method of applying the pressure-sensitive adhesive composition, for example, roll coating, kiss roll coating, gravure coating, reverse coating, roll brush, spray coating, dip roll coating, bar coating, knife coating, air knife coating, curtain coating, lip coating, and die coating. The drying temperature of the coating film is, for example, 50°C to 200°C. Drying time is 5 seconds - 20 minutes, for example.
제 1 박리 필름(L1) 상의 광학 점착제층(10) 상에 추가로 박리 필름(L2)(제 2 박리 필름)을 적층해도 된다. 제 2 박리 필름은, 표면 박리 처리가 실시된 가요성의 플라스틱 필름이며, 제 1 박리 필름에 관해서 전술한 것과 마찬가지의 것을 이용할 수 있다.You may laminate|stack the peeling film L2 (2nd peeling film) further on the optical
이상과 같이 하여, 박리 필름(L1, L2)에 의해 점착면이 피복 보호된 광학 점착 시트(S)로서의 광학 점착제층(10)을 제조할 수 있다. 박리 필름(L1, L2)은, 광학 점착 시트(S)를 사용할 때에 필요에 따라서 광학 점착 시트(S)로부터 벗겨진다.As described above, the optical
다층 구조의 광학 점착제층(10)의 형성 방법으로서는, 드라이·온·드라이법, 웨트·온·드라이법, 및 웨트·온·웨트법을 들 수 있다. 드라이·온·드라이법에서는, 예를 들어, 복수의 점착제층의 각각을, 박리 필름 상으로의 점착제 조성물의 도포 및 건조에 의해 형성한 후, 당해 복수의 점착제층을 첩합하는 것에 의해, 다층 점착제층을 형성할 수 있다. 웨트·온·드라이법에서는, 예를 들어, 박리 필름 상에 있어서, 점착제 조성물의 도포 및 건조에 의한 점착제층의 형성을, 점착제층마다 실시하는 것에 의해, 다층 점착제층을 형성할 수 있다. 웨트·온·웨트법에서는, 예를 들어, 박리 필름 상에 복수의 점착제 조성물을 다단으로 도포하여 다층 도막을 형성한 후, 당해 다층 도막을 건조시키는 것에 의해, 다층 점착제층을 형성할 수 있다.Examples of the method for forming the optical pressure-
단층 구조 또는 다층 구조의 광학 점착제층(10)은, 광학 점착제층(10)에 의한 접합의 대상물 상에서의 점착제 조성물의 도포 및 건조에 의해 형성해도 된다.You may form the optical
광학 점착제층(10)의 두께는, 피착체에 대한 충분한 점착성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 10μm 이상, 보다 바람직하게는 15μm 이상이다. 광학 점착제층(10)의 핸들링성의 관점에서, 광학 점착제층(10)의 두께는, 바람직하게는 300μm 이하, 보다 바람직하게는 200μm 이하, 더 바람직하게는 100μm 이하, 특히 바람직하게는 50μm 이하이다.The thickness of the optical
광학 점착제층(10)의 헤이즈는, 바람직하게는 3% 이하, 보다 바람직하게는 2% 이하, 보다 바람직하게는 1% 이하이다. 광학 점착제층(10)의 헤이즈는, JIS K7136(2000년)에 준거하여, 헤이즈 미터를 사용하여 측정할 수 있다. 헤이즈 미터로서는, 예를 들어, 닛폰 덴쇼쿠 공업사제의 「NDH2000」, 및, 무라카미 색채기술 연구소사제의 「HM-150형」을 들 수 있다.The haze of the optical
광학 점착제층(10)의 전광선 투과율은, 바람직하게는 60% 이상, 보다 바람직하게는 80% 이상, 더 바람직하게는 85% 이상이다. 광학 점착제층(10)의 전광선 투과율은, 예를 들어 100% 이하이다. 광학 점착제층(10)의 전광선 투과율은, JIS K 7375(2008년)에 준거하여, 측정할 수 있다.The total light transmittance of the optical
도 4A 내지 도 4C는, 광학 점착제층(10)의 사용 방법의 일례를 나타낸다.4A to 4C show an example of a method of using the optical pressure-
본 방법에서는, 우선, 도 4A에 나타내는 바와 같이, 광학 점착제층(10)을, 제 1 부재(21)(피착체)의 두께 방향 H의 일방면에 첩합한다. 제 1 부재(21)는, 예를 들어, 플렉시블 디스플레이 패널이 갖는 적층 구조 중의 한 요소이다. 당해 요소로서는, 예를 들어, 화소 패널, 터치 패널, 편광판, 및 커버 필름을 들 수 있다(후기하는 제 2 부재(22)에 대해서도 마찬가지이다). 본 공정에 의해, 제 1 부재(21) 상에, 다른 부재와의 접합용의 광학 점착제층(10)이 마련된다.In this method, first, as shown to FIG. 4A, the optical
다음에, 도 4B에 나타내는 바와 같이, 제 1 부재(21) 상의 광학 점착제층(10)을 개재시켜, 제 1 부재(21)의 두께 방향 H 일방면측과, 제 2 부재(22)의 두께 방향 H 타방면측을 접합한다. 제 2 부재(22)는, 예를 들어, 플렉시블 디스플레이 패널이 갖는 적층 구조 중의 다른 요소이다.Next, as shown in FIG. 4B, the thickness direction H one side of the
다음에, 도 4C에 나타내는 바와 같이, 제 1 부재(21)와 제 2 부재(22) 사이의 광학 점착제층(10)을 에이징한다. 에이징에 의해, 광학 점착제층(10)에 있어서 베이스 폴리머의 가교 반응이 진행되어, 제 1 부재(21)와 제 2 부재(22) 사이의 접합력이 높아진다. 에이징 온도는, 예를 들어 20℃∼160℃이다. 에이징 시간은, 예를 들어 1분 내지 21일이다. 에이징으로서 오토클레이브 처리(가열 가압 처리)하는 경우, 온도는 예를 들어 30℃∼80℃이고, 압력은 예를 들어 0.1∼0.8MPa이며, 처리 시간은 예를 들어 15분 이상이다.Next, as shown in FIG. 4C, the optical
플렉시블 디바이스의 제조 프로세스에 있어서 이상과 같이 사용되는 광학 점착제층(10)은, 전술한 바와 같이, -20℃에 있어서 180kPa 이하의 전단 저장 탄성률 G'를 갖고, 또한, 제 1 면(10a) 및 제 2 면(10b)의 적어도 한쪽이, 상기 조건에서 5N/25mm 이상의 박리 점착력 F를 갖는다. 이와 같은 광학 점착제층(10)은, 전술한 바와 같이, 굽힘 변형성과 박리 억제성을 양립시키는 데 적합하고, 따라서, 플렉시블 디바이스 용도에 적합하다.As described above, the optical pressure-
실시예Example
본 발명에 대해, 이하에 실시예를 나타내어 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은, 실시예로 한정되지 않는다. 또한, 이하에 기재되어 있는 배합량(함유량), 물성치, 파라미터 등의 구체적 수치는, 전술한 「발명을 실시하기 위한 구체적인 내용」에 있어서 기재되어 있는, 그들에 대응하는 배합량(함유량), 물성치, 파라미터 등의 상한(「이하」 또는 「미만」으로서 정의되어 있는 수치) 또는 하한(「이상」 또는 「초과」로서 정의되어 있는 수치)으로 대체할 수 있다.The present invention will be described concretely by showing examples below. However, this invention is not limited to an Example. In addition, the specific numerical values such as the compounding amount (content), physical property values, and parameters described below are the compounding amounts (content), physical property values, and parameters corresponding to them described in the above-mentioned “Specific Content for Carrying Out the Invention”. It can be substituted with the upper limit (numerical value defined as "below" or "less than") or the lower limit (numerical value defined as "greater than" or "exceeding") of the same.
〈폴리머 P1의 조제〉<Preparation of Polymer P1>
교반기, 온도계, 환류 냉각기, 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에서, 아크릴산 2-에틸헥실(2EHA) 89질량부와, N-바이닐-2-피롤리돈(NVP) 10질량부와, 아크릴산 4-하이드록시뷰틸(4HBA) 1질량부와, 열중합 개시제로서의 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴(AIBN) 0.1질량부와, 용매로서의 아세트산 에틸 및 톨루엔을 포함하는 혼합물(고형분 농도 50질량%, 용매에 있어서의 톨루엔의 비율은 5질량%)을, 55℃에서 6시간, 질소 분위기하에서 교반했다(중합 반응). 이것에 의해, 아크릴 폴리머(폴리머 P1)를 함유하는 용액을 얻었다. 그 후, 이 용액에 아세트산 에틸을 가하여, 당해 용액의 폴리머 농도를 30질량%로 조정했다. 이것에 의해, 아크릴 폴리머(폴리머 P1)를 함유하는 제 1 폴리머 용액을 얻었다. 제 1 폴리머 용액 중의 아크릴 폴리머의 중량 평균 분자량은 219만이었다.In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas introduction pipe, 89 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) and 10 parts by mass of N-vinyl-2-pyrrolidone (NVP), A mixture (solid content) containing 1 part by mass of 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA), 0.1 part by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) as a thermal polymerization initiator, and ethyl acetate and toluene as a solvent A concentration of 50% by mass, the ratio of toluene in the solvent was 5% by mass) was stirred at 55°C for 6 hours in a nitrogen atmosphere (polymerization reaction). In this way, a solution containing the acrylic polymer (polymer P1) was obtained. Then, ethyl acetate was added to this solution to adjust the polymer concentration of the solution to 30% by mass. In this way, a first polymer solution containing an acrylic polymer (polymer P1) was obtained. The weight average molecular weight of the acrylic polymer in the first polymer solution was 2,190,000.
〈폴리머 P2의 조제〉<Preparation of Polymer P2>
교반기, 온도계, 환류 냉각기, 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에서, 아크릴산 2-에틸헥실(2EHA) 56질량부와, 라우릴 아크릴레이트(LA) 39질량부와, 아크릴산 4-하이드록시뷰틸(4HBA) 5질량부와, 열중합 개시제로서의 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴(AIBN) 0.1질량부와, 용매로서의 아세트산 에틸을 포함하는 혼합물(고형분 농도 33질량%)을, 58℃에서 5시간, 질소 분위기하에서 교반했다(중합 반응). 이것에 의해, 아크릴 폴리머(폴리머 P2)를 함유하는 용액을 얻었다. 그 후, 이 용액에 아세트산 에틸을 가하여, 당해 용액의 폴리머 농도를 30질량%로 조정했다. 이것에 의해, 아크릴 폴리머(폴리머 P2)를 함유하는 제 2 폴리머 용액을 얻었다. 제 2 폴리머 용액 중의 아크릴 폴리머의 중량 평균 분자량은 83만이었다.In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas introduction tube, 56 parts by mass of 2-ethylhexyl (2EHA) acrylic acid, 39 parts by mass of lauryl acrylate (LA), and 4-hydroxy acrylic acid A mixture (solid content concentration: 33% by mass) containing 5 parts by mass of butyl (4HBA), 0.1 part by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) as a thermal polymerization initiator, and ethyl acetate as a solvent, It stirred at 58 degreeC for 5 hours in nitrogen atmosphere (polymerization reaction). This obtained a solution containing an acrylic polymer (polymer P2). Then, ethyl acetate was added to this solution to adjust the polymer concentration of the solution to 30% by mass. In this way, a second polymer solution containing an acrylic polymer (polymer P2) was obtained. The weight average molecular weight of the acrylic polymer in the second polymer solution was 830,000.
〈폴리머 P3의 조제〉<Preparation of Polymer P3>
교반기, 온도계, 환류 냉각기, 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에서, 아크릴산 2-에틸헥실(2EHA) 70.3질량부와, 라우릴 아크릴레이트(LA) 8.0질량부와, 아크릴산 n-뷰틸(BA) 20.1질량부와, 아크릴산 4-하이드록시뷰틸(4HBA) 1.0질량부와, N-바이닐-2-피롤리돈(NVP) 0.6질량부와, 열중합 개시제로서의 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴(AIBN) 0.1질량부와, 용매로서의 아세트산 에틸을 포함하는 혼합물(고형분 농도 47질량%)을, 56℃에서 6시간, 질소 분위기하에서 교반했다(중합 반응). 이것에 의해, 아크릴 폴리머(폴리머 P3)를 함유하는 용액을 얻었다. 그 후, 이 용액에 아세트산 에틸을 가하여, 당해 용액의 폴리머 농도를 24질량%로 조정했다. 이것에 의해, 아크릴 폴리머(폴리머 P3)를 함유하는 제 3 폴리머 용액을 얻었다. 제 3 폴리머 용액 중의 아크릴 폴리머의 중량 평균 분자량은 210만이었다.In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas introduction tube, 70.3 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), 8.0 parts by mass of lauryl acrylate (LA), and n-butyl acrylate ( BA) 20.1 parts by mass, 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA) 1.0 parts by mass, N-vinyl-2-pyrrolidone (NVP) 0.6 parts by mass, and 2,2'-azobisiso as a thermal polymerization initiator A mixture containing 0.1 part by mass of butyronitrile (AIBN) and ethyl acetate as a solvent (solid content concentration: 47% by mass) was stirred at 56°C for 6 hours in a nitrogen atmosphere (polymerization reaction). This obtained a solution containing an acrylic polymer (Polymer P3). Then, ethyl acetate was added to this solution to adjust the polymer concentration of the solution to 24% by mass. In this way, a third polymer solution containing an acrylic polymer (polymer P3) was obtained. The weight average molecular weight of the acrylic polymer in the third polymer solution was 2,100,000.
〈폴리머 P4의 조제〉<Preparation of Polymer P4>
교반기, 온도계, 환류 냉각기, 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에서, 아크릴산 2-에틸헥실(2EHA) 97.3질량부와, N-바이닐-2-피롤리돈(NVP) 1.7질량부와, 아크릴산 4-하이드록시뷰틸(4HBA) 1.0질량부와, 열중합 개시제로서의 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴(AIBN) 0.1질량부와, 용매로서의 아세트산 에틸 및 톨루엔을 포함하는 혼합물(고형분 농도 50질량%, 용매에 있어서의 톨루엔의 비율은 5질량%)을, 55℃에서 6시간, 질소 분위기하에서 교반했다(중합 반응). 이것에 의해, 아크릴 폴리머(폴리머 P1)를 함유하는 용액을 얻었다. 그 후, 이 용액에 아세트산 에틸을 가하여, 당해 용액의 폴리머 농도를 30질량%로 조정했다. 이것에 의해, 아크릴 폴리머(폴리머 P4)를 함유하는 제 4 폴리머 용액을 얻었다. 제 4 폴리머 용액 중의 아크릴 폴리머의 중량 평균 분자량은 200만이었다.In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas introduction tube, 97.3 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) and 1.7 parts by mass of N-vinyl-2-pyrrolidone (NVP), A mixture (solid content) containing 1.0 parts by mass of 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA), 0.1 part by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) as a thermal polymerization initiator, and ethyl acetate and toluene as solvents A concentration of 50% by mass, the ratio of toluene in the solvent was 5% by mass) was stirred at 55°C for 6 hours in a nitrogen atmosphere (polymerization reaction). In this way, a solution containing the acrylic polymer (polymer P1) was obtained. Then, ethyl acetate was added to this solution to adjust the polymer concentration of the solution to 30% by mass. In this way, a fourth polymer solution containing an acrylic polymer (polymer P4) was obtained. The weight average molecular weight of the acrylic polymer in the fourth polymer solution was 2,000,000.
〈제 1 아크릴 올리고머의 조제〉<Preparation of the first acrylic oligomer>
교반기, 온도계, 환류 냉각기, 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에서, 메타크릴산 다이사이클로펜탄일(DCPMA) 60질량부와, 메타크릴산 메틸(MMA) 40질량부와, 연쇄 이동제로서의 α-싸이오글리세롤 3.5질량부와, 용매로서의 톨루엔 100질량부를 포함하는 혼합물을, 70℃에서 1시간, 질소 분위기하에서 교반했다. 그 후, 혼합물에, 열중합 개시제로서의 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴(AIBN) 0.2질량부를 가하여 반응 용액을 조제하고, 질소 분위기하에 있어서, 70℃에서 2시간, 및, 그 후에 80℃에서 2시간, 반응시켰다(제 1 아크릴 올리고머의 형성). 이것에 의해, 고형상의 제 1 아크릴 올리고머를 얻었다. 제 1 아크릴 올리고머의 중량 평균 분자량은 5100이었다. 제 1 아크릴 올리고머의 유리 전이 온도(Tg)는 130℃였다.In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas introduction tube, 60 parts by mass of dicyclopentanyl methacrylate (DCPMA), 40 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), and a chain transfer agent A mixture containing 3.5 parts by mass of α-thioglycerol and 100 parts by mass of toluene as a solvent was stirred at 70°C for 1 hour in a nitrogen atmosphere. Thereafter, 0.2 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) as a thermal polymerization initiator was added to the mixture to prepare a reaction solution, and in a nitrogen atmosphere at 70 ° C. for 2 hours, and then It was made to react at 80 degreeC for 2 hours (formation of the 1st acrylic oligomer). In this way, a solid first acrylic oligomer was obtained. The weight average molecular weight of the 1st acrylic oligomer was 5100. The glass transition temperature (Tg) of the first acrylic oligomer was 130°C.
〈제 2 아크릴 올리고머의 조제〉<Preparation of the second acrylic oligomer>
교반기, 온도계, 환류 냉각기, 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에서, 메타크릴산 사이클로헥실(CHMA) 95질량부와, 아크릴산(AA) 5질량부와, 연쇄 이동제로서의 α-메틸스타이렌 다이머(품명 「노프머 MSD」, 니혼 유지사제) 10질량부와, 용매로서의 톨루엔 120질량부를 포함하는 혼합물을, 실온에서 1시간, 질소 분위기하에서 교반했다. 그 후, 혼합물에, 열중합 개시제로서의 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴(AIBN) 10질량부를 가하여 반응 용액을 조제하고, 질소 분위기하에 있어서, 85℃로 2시간, 및, 그 후에 86℃에서 1.5시간, 반응시켰다(제 2 아크릴 올리고머의 형성). 이것에 의해, 고형상의 제 2 아크릴 올리고머를 얻었다. 제 2 아크릴 올리고머의 중량 평균 분자량은 4000이었다. 제 2 아크릴 올리고머의 유리 전이 온도(Tg)는 67℃였다.In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas inlet pipe, 95 parts by mass of cyclohexyl methacrylate (CHMA), 5 parts by mass of acrylic acid (AA), and α-methylstyrene as a chain transfer agent. A mixture containing 10 parts by mass of dimer (product name "Nopmer MSD", manufactured by Nippon Oil & Oil Co., Ltd.) and 120 parts by mass of toluene as a solvent was stirred at room temperature for 1 hour in a nitrogen atmosphere. Thereafter, 10 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) as a thermal polymerization initiator was added to the mixture to prepare a reaction solution, and in a nitrogen atmosphere, at 85 ° C. for 2 hours, and then It was made to react at 86 degreeC for 1.5 hours (formation of the 2nd acryl oligomer). In this way, a solid second acrylic oligomer was obtained. The weight average molecular weight of the second acrylic oligomer was 4000. The glass transition temperature (Tg) of the second acrylic oligomer was 67°C.
〔실시예 1〕[Example 1]
〈제 1 점착제 조성물의 조제〉<Preparation of the first pressure-sensitive adhesive composition>
제 1 폴리머 용액에 아세트산 에틸을 가하여 고형분 농도를 10질량%로 조정하여, 제 1 점착제 조성물을 얻었다.Ethyl acetate was added to the first polymer solution to adjust the solid content concentration to 10% by mass, thereby obtaining the first pressure-sensitive adhesive composition.
〈제 2 점착제 조성물의 조제〉<Preparation of the second pressure-sensitive adhesive composition>
제 2 폴리머 용액에, 당해 폴리머 용액 중의 아크릴 폴리머(폴리머 P2) 100질량부당, 가교제(품명 「나이퍼 BMT 40SV」, 다이벤조일 퍼옥사이드, 니혼 유지사제) 0.5질량부를 가하여 혼합하고, 그 후에 아세트산 에틸을 가하여 고형분 농도를 23질량%로 조정하여, 제 2 점착제 조성물을 얻었다.To the second polymer solution, 0.5 parts by mass of a crosslinking agent (product name "Nyper BMT 40SV", dibenzoyl peroxide, manufactured by Nippon Yuji Co., Ltd.) per 100 parts by mass of the acrylic polymer (polymer P2) in the polymer solution was added and mixed, and then ethyl acetate It was added, the solid content concentration was adjusted to 23% by mass, and the second adhesive composition was obtained.
〈광학 점착제층의 형성〉<Formation of optical adhesive layer>
편면이 실리콘 박리 처리되어 있는 제 1 박리 필름(품명 「JT-50Wa」, 폴리에스터 필름, 두께 50μm, 닛토 덴코사제)의 박리 처리면 상에, 웨트·온·웨트법에 의해, 제 1 점착제 조성물(하위) 및 제 2 점착제 조성물(상위)을 도포했다. 구체적으로는, 제 1 박리 필름 상에 제 1 점착제 조성물을 도포하여 도막(건조 후의 두께 2μm)을 형성함과 함께, 당해 도막 상에 제 2 점착제 조성물을 도포하여 도막(건조 후의 두께 23μm)을 형성했다(다층 도막의 형성). 다음에, 제 1 박리 필름 상의 다층 도막을, 155℃에서 2분간의 가열에 의해 건조하여, 두께 25μm의 다층 점착제층을 형성했다. 다음에, 제 1 박리 필름 상의 다층 점착제층에, 편면이 실리콘 박리 처리되어 있는 제 2 박리 필름(품명 「MRQ25T100J」, 폴리에스터 필름, 두께 25μm, 미쓰비시 케미컬사제)의 박리 처리면을 첩합했다. 이 후, 50℃에서 48시간, 에이징 처리하여, 점착제층 중의 가교 반응을 진행시켰다. 이상과 같이 하여, 실시예 1의 광학 점착 시트(광학 점착제층)를 제작했다. 실시예 1의 광학 점착 시트는, 제 1 점착제 조성물로부터 형성된 제 1 점착제층으로서의 제 1 층(두께 2μm)과, 제 2 점착제 조성물로부터 형성된 제 2 점착제층으로서의 제 2 층(두께 23μm)의 2층 구조를 갖는다. 실시예 1의 광학 점착 시트에 있어서의 폴리머의 모노머 조성 및 점착제층 조성에 대해, 단위를 질량부로 하여 표 1에 나타낸다(후기하는 실시예 및 비교예에 대해서도 마찬가지이다).On the release-treated surface of the first release film (trade name "JT-50Wa", polyester film,
〔실시예 2〕[Example 2]
다음의 것 이외에는 실시예 1의 광학 점착 시트와 마찬가지로 하여, 실시예 2의 광학 점착 시트를 제작했다. 제 2 점착제 조성물의 조제에 있어서, 가교제(품명 「나이퍼 BMT 40SV」)의 배합량을, 0.5질량부 대신에 1.0질량부로 했다.An optical adhesive sheet of Example 2 was produced in the same manner as the optical adhesive sheet of Example 1 except for the following. Preparation of the 2nd adhesive composition WHEREIN: The compounding quantity of the crosslinking agent (product name "Nyper BMT 40SV") was made into 1.0 mass part instead of 0.5 mass part.
실시예 2의 광학 점착 시트는, 제 1 점착제 조성물로부터 형성된 제 1 점착제층으로서의 제 1 층(두께 2μm)과, 제 2 점착제 조성물로부터 형성된 제 2 점착제층으로서의 제 2 층(두께 23μm)의 2층 구조를 갖는다. 실시예 2의 광학 점착 시트와 실시예 2의 광학 점착 시트는, 제 1 점착제층 및 제 2 점착제층에 있어서의 폴리머 성분의 가교도에 차이가 생기고 있다. 그 결과, 실시예 1, 2의 광학 점착 시트 사이에서는, 후기하는 박리 점착력 F에 차이가 생기고 있다. 광학 점착 시트 제조 과정에 있어서의 전술한 웨트·온·웨트법에서는, 제 1 점착제 조성물(하위) 상에 도포된 제 2 점착제 조성물(상위)로부터, 일부의 가교제가 제 1 점착제 조성물로 확산하기 때문이다.The optical adhesive sheet of Example 2 has two layers of a first layer (thickness: 2 μm) as the first adhesive layer formed from the first adhesive composition, and a second layer (thickness: 23 μm) as the second adhesive layer formed from the second adhesive composition. have a structure The optical adhesive sheet of Example 2 and the optical adhesive sheet of Example 2 differ in the degree of crosslinking of the polymer component in the first adhesive layer and the second adhesive layer. As a result, between the optical adhesive sheets of Examples 1 and 2, there is a difference in the peel adhesive strength F described later. In the above-described wet-on-wet method in the optical adhesive sheet manufacturing process, a part of the crosslinking agent diffuses into the first PSA composition from the second PSA composition (upper) applied on the first PSA composition (lower). to be.
〔실시예 3〕[Example 3]
〈제 3 점착제 조성물의 조제〉<Preparation of the third pressure-sensitive adhesive composition>
제 3 폴리머 용액에, 당해 폴리머 용액 중의 아크릴 폴리머(폴리머 P3) 100질량부당, 가교제(품명 「나이퍼 BMT 40SV」, 다이벤조일 퍼옥사이드, 니혼 유지사제) 0.28질량부와, 제 1 아크릴 올리고머 3질량부와, 산화 방지제(품명 「Irganox1010」, BASF사제) 0.3질량부를 가하여 혼합하고, 그 후에 아세트산 에틸을 가하여 고형분 농도를 15질량%로 조정하여, 제 3 점착제 조성물을 얻었다. 제 1 아크릴 올리고머는, 다음과 같이 하여 얻었다.To the third polymer solution, 0.28 parts by mass of a crosslinking agent (product name "Nyper BMT 40SV", dibenzoyl peroxide, manufactured by Nippon Oil Co., Ltd.) and 3 parts by mass of the first acrylic oligomer per 100 parts by mass of the acrylic polymer (polymer P3) in the polymer solution. And 0.3 parts by mass of an antioxidant (product name "Irganox1010", manufactured by BASF) was added and mixed, and then ethyl acetate was added to adjust the solid content concentration to 15% by mass to obtain a third adhesive composition. The first acrylic oligomer was obtained as follows.
〈광학 점착제층의 형성〉<Formation of optical adhesive layer>
편면이 실리콘 박리 처리되어 있는 제 1 박리 필름(품명 「JT-50Wa」, 폴리에스터 필름, 두께 50μm, 닛토 덴코사제)의 박리 처리면 상에, 제 3 점착제 조성물을 도포하여 도막(건조 후의 두께 25μm)을 형성했다. 다음에, 제 1 박리 필름 상의 도막을, 155℃에서 2분간의 가열에 의해 건조하여, 두께 25μm의 점착제층을 형성했다. 다음에, 제 1 박리 필름 상의 점착제층에, 편면이 실리콘 박리 처리되어 있는 제 2 박리 필름(품명 「MRQ25T100J」, 폴리에스터 필름, 두께 25μm, 미쓰비시 케미컬사제)의 박리 처리면을 첩합했다. 이 후, 50℃에서 48시간, 에이징 처리하여, 점착제층 중의 가교 반응을 진행시켰다. 이상과 같이 하여, 실시예 3의 광학 점착 시트(단층 구조의 광학 점착제층)를 제작했다.A coating film (thickness after drying of 25 μm) by applying the third adhesive composition on the release treated surface of the first release film (product name “JT-50Wa”, polyester film,
〔실시예 4〕[Example 4]
전술한 제 3 폴리머 용액에, 당해 폴리머 용액 중의 아크릴 폴리머(폴리머 P3) 100질량부당, 제 1 가교제(품명 「나이퍼 BMT 40SV」, 다이벤조일 퍼옥사이드, 니혼 유지사제) 0.26질량부와, 제 2 가교제(품명 「코로네이트 L」, 톨릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 애덕트체, 도소사제) 0.02질량부와, 제 2 아크릴 올리고머 1.5질량부와, 실레인 커플링제(품명 「KBM403」, 신에쓰 화학공업 사제) 0.3질량부를 가하여 혼합하고, 그 후에 아세트산 에틸을 가하여 고형분 농도를 23질량%로 조정하여, 제 4 점착제 조성물을 얻었다. 그리고, 광학 점착제층의 형성에 있어서, 제 3 점착제 조성물 대신에 제 4 점착제 조성물을 이용한 것 이외에는 실시예 3의 광학 점착 시트와 마찬가지로 하여, 실시예 4의 광학 점착 시트(단층 구조의 광학 점착제층)를 제작했다.To the above-described third polymer solution, 0.26 parts by mass of the first crosslinking agent (product name "Nyper BMT 40SV", dibenzoyl peroxide, manufactured by Nippon Yuji Co., Ltd.) per 100 parts by mass of the acrylic polymer (polymer P3) in the polymer solution, and the second crosslinking agent (product name "Coronate L", trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate, manufactured by Tosoh Corporation) 0.02 parts by mass, 1.5 parts by mass of the second acrylic oligomer, and a silane coupling agent (product name "KBM403 , manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) 0.3 parts by mass was added and mixed, and then ethyl acetate was added to adjust the solid content concentration to 23% by mass to obtain a fourth adhesive composition. Then, in the formation of the optical adhesive layer, the optical adhesive sheet of Example 4 (single-layer optical adhesive layer) was carried out in the same manner as the optical adhesive sheet of Example 3 except that the fourth adhesive composition was used instead of the third adhesive composition. has produced
〔비교예 1〕[Comparative Example 1]
전술한 제 1 폴리머 용액에, 당해 폴리머 용액 중의 아크릴 폴리머(폴리머 P1) 100질량부당, 가교제(품명 「나이퍼 BMT 40SV」, 다이벤조일 퍼옥사이드, 니혼 유지사제) 0.5질량부를 가하여 혼합하고, 그 후에 아세트산 에틸을 가하여 고형분 농도를 15질량%로 조정하여, 제 5 점착제 조성물을 얻었다. 그리고, 광학 점착제층의 형성에 있어서, 제 3 점착제 조성물 대신에 제 5 점착제 조성물을 이용한 것 이외에는 실시예 3의 광학 점착 시트와 마찬가지로 하여, 비교예 1의 광학 점착 시트(단층 구조의 광학 점착제층)를 제작했다.To the first polymer solution described above, 0.5 part by mass of a crosslinking agent (product name "Nyper BMT 40SV", dibenzoyl peroxide, manufactured by Nippon Yuji Co., Ltd.) per 100 parts by mass of the acrylic polymer (polymer P1) in the polymer solution was added and mixed, followed by acetic acid Ethyl was added to adjust the solid content concentration to 15% by mass to obtain a fifth adhesive composition. Then, in the formation of the optical adhesive layer, the optical adhesive sheet of Comparative Example 1 (single-layer structure optical adhesive layer) was carried out in the same manner as the optical adhesive sheet of Example 3 except that the fifth adhesive composition was used instead of the third adhesive composition. has produced
〔비교예 2〕[Comparative Example 2]
광학 점착제층의 형성에 있어서, 제 3 점착제 조성물 대신에 전술한 제 2 점착제 조성물을 이용한 것 이외에는 실시예 3의 광학 점착 시트와 마찬가지로 하여, 비교예 2의 광학 점착 시트(단층 구조의 광학 점착제층)를 제작했다.In the formation of the optical adhesive layer, the optical adhesive sheet of Comparative Example 2 (single-layer optical adhesive layer) in the same manner as the optical adhesive sheet of Example 3 except that the above-described second adhesive composition was used instead of the third adhesive composition has produced
〔비교예 3〕[Comparative Example 3]
전술한 제 4 폴리머 용액에 아세트산 에틸을 가하여 고형분 농도를 10질량%로 조정하여, 제 6 점착제 조성물을 얻었다. 그리고, 광학 점착제층의 형성에 있어서, 제 1 점착제 조성물 대신에 제 6 점착제 조성물을 이용한 것 이외에는 실시예 1의 광학 점착 시트와 마찬가지로 하여, 비교예 3의 광학 점착 시트를 제작했다. 비교예 3의 광학 점착 시트는, 제 6 점착제 조성물로부터 형성된 제 1 점착제층으로서의 제 1 층(두께 2μm)과, 제 2 점착제 조성물로부터 형성된 제 2 점착제층으로서의 제 2 층(두께 23μm)의 2층 구조를 갖는다.Ethyl acetate was added to the above-mentioned fourth polymer solution to adjust the solid content concentration to 10% by mass, thereby obtaining a sixth adhesive composition. And in formation of the optical adhesive layer, the optical adhesive sheet of comparative example 3 was produced like the optical adhesive sheet of Example 1 except having used the 6th adhesive composition instead of the 1st adhesive composition. The optical adhesive sheet of Comparative Example 3 consists of two layers: a first layer (thickness: 2 μm) as the first adhesive layer formed from the sixth adhesive composition, and a second layer (thickness: 23 μm) formed from the second adhesive composition as the second adhesive layer. have a structure
〈점착제층의 두께〉<Thickness of adhesive layer>
실시예 1∼4 및 비교예 1∼3의 각 광학 점착 시트에 대해, 두께를 조사했다. 구체적으로는, 우선, 광학 점착 시트로부터 점착 시트편(단변 25mm×장변 100mm)을 절출했다. 다음에, 점착 시트편에 있어서의 5개의 측정점 각각의 두께를, 다이얼 게이지로 측정했다. 5개의 측정점은, 점착 시트의 폭 방향 중앙을 장변 방향으로 6등분하는 5점이다. 5개의 측정점에서의 두께 측정치 중, 최대 두께 T1(μm) 및 최소 두께 T2(μm)를 표 1에 나타낸다. 또한, 최대 두께와 최소 두께의 차(T1-T2)도 표 1에 나타낸다.The thickness of each optical adhesive sheet of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 was investigated. Specifically, first, an adhesive sheet piece (25 mm short side x 100 mm long side) was cut out from the optical adhesive sheet. Next, the thickness of each of the five measuring points on the pressure-sensitive adhesive sheet piece was measured with a dial gauge. The five measuring points are five points that divide the center of the pressure-sensitive adhesive sheet in the width direction into six equal parts in the long side direction. Table 1 shows the maximum thickness T 1 (μm) and the minimum thickness T 2 (μm) among the thickness measurements at the five measurement points. Table 1 also shows the difference between the maximum thickness and the minimum thickness (T 1 -T 2 ).
〈박리 점착력〉<Peel Adhesion>
실시예 1∼4 및 비교예 1∼3의 각 광학 점착 시트에 대해, 박리 시험에 의해 박리 점착력을 조사했다.The peel adhesive strength of each optical adhesive sheet of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 was examined by a peel test.
우선, 광학 점착 시트마다 측정용 시료를 제작했다. 실시예 1, 2의 각 광학 점착 시트의 측정용 시료의 제작에 있어서는, 우선, 광학 점착 시트로부터 제 2 박리 필름을 박리하고, 이것에 의해 노출된 노출면에, 표면이 플라즈마 처리된 폴리이미드 기재(품명 「유피렉스 25RN」, 두께 25μm, 우베 고산사제)를 첩합하여, 적층체를 얻었다. 다음에, 이 적층체(폴리이미드 기재/점착제층/제 1 박리 필름)로부터 시험편(폭 25mm×길이 100mm)을 절출했다. 다음에, 이 시험편에 있어서의 점착제층으로부터 제 1 박리 필름을 박리하고, 이것에 의해 노출된 노출면(다층 점착제층에서는 제 1 층측 표면)에, 폴리이미드 필름(품명 「유피렉스 50S」, 두께 50μm, 우베 고산사제)을 첩합했다. 이 첩합에서는, 23℃의 환경하에서 2kg의 핸드 롤러를 1왕복시키는 작업에 의해 폴리이미드 필름에 대해서 시험편을 압착시켰다. 이상과 같이 하여, 실시예 1, 2 및 비교예 3의 각 광학 점착 시트의 측정용 시료를 제작했다. 실시예 3, 4 및 비교예 1, 2의 각 광학 점착 시트의 측정용 시료는, 표면이 플라즈마 처리된 상기 폴리이미드 기재 대신에, 플라즈마 처리되어 있지 않은 폴리이미드 기재(품명 「유피렉스 25RN」, 두께 25μm, 우베 고산사제)를 이용한 것 이외에는, 실시예 1, 2 및 비교예 3에 있어서의 측정용 시료와 마찬가지로 하여 제작했다.First, samples for measurement were prepared for each optical adhesive sheet. In the production of samples for measurement of each optical adhesive sheet in Examples 1 and 2, first, the second release film was peeled off from the optical adhesive sheet, and the exposed surface thereby exposed was a polyimide substrate whose surface was plasma-treated. (product name "UPILEX 25RN", thickness 25 µm, manufactured by Ube Kosan Co., Ltd.) were bonded together to obtain a laminate. Next, a test piece (25 mm in width x 100 mm in length) was cut out from this layered product (polyimide base material/adhesive layer/1st peeling film). Next, the first peeling film is peeled off from the pressure-sensitive adhesive layer of this test piece, and a polyimide film (product name "Upilex 50S",
다음에, 측정용 시료를 실온에서 30분간 정치한 후, 측정용 시료에 있어서의 폴리이미드 필름으로부터 시험편을 박리하는 박리 시험을 실시하여, 박리 강도를 측정했다. 실시예 1, 2 및 비교예 3에 있어서의 측정용 시료에서는, 제 1 층 표면의 폴리이미드 필름 표면으로부터의 박리 강도를 측정했다. 본 측정에는, 인장 시험기(품명 「오토그래프 AG-50NX plus)」, 시마즈 제작소제)를 사용했다. 본 측정에서는, 측정 온도를 25℃로 하고, 폴리이미드 필름으로부터의 시험편의 박리 각도를 180°로 하고, 시험편의 인장 속도를 300mm/분으로 하고, 박리 길이를 50mm로 했다. 측정된 박리 강도의 평균치를 박리 점착력 F(N/25mm)로서 표 1에 나타낸다. 다층 구조(제 1 층/제 2 층)의 점착제층의 박리 점착력 F는, 제 1 층의 노출 표면의 점착력이다.Next, after the sample for measurement was left still at room temperature for 30 minutes, a peeling test was conducted in which a test piece was peeled from the polyimide film in the sample for measurement, and the peel strength was measured. In the samples for measurement in Examples 1 and 2 and Comparative Example 3, the peel strength from the surface of the polyimide film on the surface of the first layer was measured. For this measurement, a tensile tester (product name "Autograph AG-50NX plus", manufactured by Shimadzu Corporation) was used. In this measurement, the measurement temperature was 25°C, the peel angle of the test piece from the polyimide film was 180°, the tensile speed of the test piece was 300 mm/min, and the peel length was 50 mm. The average value of the measured peel strength is shown in Table 1 as the peel adhesive strength F (N/25 mm). The peel adhesive force F of the pressure-sensitive adhesive layer of the multilayer structure (first layer/second layer) is the adhesive force of the exposed surface of the first layer.
〈전단 저장 탄성률〉<Shear storage modulus>
실시예 1∼4 및 비교예 1∼3의 각 광학 점착 시트(광학 점착제층)에 대해, 다음과 같이 하여 전단 저장 탄성률을 측정했다.About each optical adhesive sheet (optical adhesive layer) of Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3, the shear storage elastic modulus was measured as follows.
우선, 측정용의 샘플을 제작했다. 구체적으로는, 광학 점착 시트로부터 절출된 복수의 점착제층편을 첩합하여 약 1mm의 두께의 점착제 시트를 제작한 후, 당해 시트를 타발하여, 측정용 샘플인 원주상의 펠릿(직경 9mm)을 얻었다. 그리고, 측정용 샘플에 대해, 동적 점탄성 측정 장치(품명 「ARES-G2」, TA Instruments사제)를 사용하여, 직경 8mm의 패럴렐 플레이트의 지그에 고정한 후에 동적 점탄성 측정을 행했다. 본 측정에 있어서, 측정 모드를 전단 모드로 하고, 측정 온도 범위를 -60℃∼150℃로 하고, 승온 속도를 5℃/분으로 하고, 주파수를 1Hz로 했다. 측정 결과로부터, -20℃에서의 제 1 전단 저장 탄성률 G'(kPa)와 -40℃에서의 제 2 전단 저장 탄성률 G'(kPa)를 읽어냈다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. 표 1에는, 박리 점착력 F(N/25mm)에 대한 제 1 전단 저장 탄성률 G'(kPa)의 비율과, 박리 점착력 F(N/25mm)에 대한 제 2 전단 저장 탄성률 G'(kPa)의 비율도, 나타낸다.First, samples for measurement were produced. Specifically, a plurality of PSA layer pieces cut out from the optical PSA sheet were bonded together to prepare a PSA sheet having a thickness of about 1 mm, and then the sheet was punched out to obtain a cylindrical pellet (9 mm in diameter) as a sample for measurement. And about the sample for a measurement, dynamic-viscoelasticity measurement was performed after fixing to the jig of a parallel plate with a diameter of 8 mm using the dynamic-viscoelasticity measuring apparatus (product name "ARES-G2", made by TA Instruments). In this measurement, the measurement mode was the shear mode, the measurement temperature range was -60°C to 150°C, the temperature increase rate was 5°C/min, and the frequency was 1 Hz. From the measurement results, the first shear storage modulus G' (kPa) at -20°C and the second shear storage modulus G' (kPa) at -40°C were read. The results are shown in Table 1. In Table 1, the ratio of the first shear storage modulus G' (kPa) to the peel adhesion force F (N / 25 mm) and the ratio of the second shear storage modulus G' (kPa) to the peel adhesion force F (N / 25 mm) also, indicate
또한, 실시예 1∼4 및 비교예 2, 3의 각 광학 점착 시트(광학 점착제층)에 대해, 전술한 박리 점착력 F 및 제 1 전단 저장 탄성률 G'의 측정 결과를 도 5의 그래프에 나타낸다. 도 5의 그래프에서는, 가로축은, -20℃에서의 전단 저장 탄성률로서의 제 1 전단 저장 탄성률 G'(kPa)를 나타내고, 세로축은 박리 점착력 F(N/25mm)를 나타낸다. 도 5에 있어서, 플롯 E1은 실시예 1에 있어서의 측정 결과를 나타내고, 플롯 E2는 실시예 2에 있어서의 측정 결과를 나타내고, 플롯 E3은 실시예 3에 있어서의 측정 결과를 나타내고, 플롯 E4는 실시예 4에 있어서의 측정 결과를 나타내고, 플롯 C2는 비교예 2에 있어서의 측정 결과를 나타내고, 플롯 C3은 비교예 3에 있어서의 측정 결과를 나타낸다(비교예 1의 측정 결과는, 세로축·가로축의 범위 밖에 있어, 나타나지 않았다). 또한, 도 5에 있어서, 일점 쇄선 R1은, G'≤135에 있어서, 박리 점착력 F=5N/25mm의 라인을 나타내고, 일점 쇄선 R2는, G'>135에 있어서, F=0.4667×G'-58의 라인을 나타낸다. G'≤135에 있어서 박리 점착력 F가 5N/25mm 이상이고, 또한, G'>135에 있어서 박리 점착력 F가 F≥0.4667×G'-58을 만족시키는 경우(플롯 E1∼E4)에, 광학 점착제층의 부드러움과 고밀착성의 양립을 도모할 수 있다.In addition, the measurement results of the peel adhesive force F and the first shear storage modulus G' described above for each optical adhesive sheet (optical adhesive layer) of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 2 and 3 are shown in the graph of FIG. 5 . In the graph of FIG. 5 , the abscissa axis represents the first shear storage modulus G' (kPa) as the shear storage modulus at -20°C, and the ordinate axis represents the peel adhesive force F (N/25 mm). 5, plot E1 shows the measurement results in Example 1, plot E2 shows the measurement results in Example 2, plot E3 shows the measurement results in Example 3, and plot E4 shows the measurement results in Example 3. The measurement results in Example 4 are shown, the plot C2 shows the measurement results in Comparative Example 2, and the plot C3 shows the measurement results in Comparative Example 3 (the measurement results in Comparative Example 1 are the vertical and horizontal axes). is outside the range of , and did not appear). In Fig. 5, the dashed-dotted line R1 represents a line of peel adhesive strength F = 5 N/25 mm in G' ≤ 135, and the dashed-dotted line R2 represents the line in G' > 135, F = 0.4667 x G'- Shows line 58. When the peel adhesive force F is 5 N/25 mm or more in G'≤135 and the peel adhesive force F satisfies F≥0.4667 × G'-58 in G'>135 (plots E1 to E4), the optical adhesive Coexistence of layer softness and high adhesion can be achieved.
〈투과율의 변화〉<Change in transmittance>
실시예 1∼4 및 비교예 1∼3의 각 광학 점착 시트(광학 점착제층)에 대해, 다음과 같이 하여 투과율 변화를 조사했다.The transmittance change was investigated for each optical adhesive sheet (optical adhesive layer) of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 as follows.
우선, 측정용의 샘플을 제작했다. 구체적으로는, 광학 점착 시트로부터 제 2 박리 필름을 벗긴 후, 이것에 의해 노출된 점착제층측을, PET 기재(품명 「T100C50」, 두께 50μm, 미쓰비시 케미컬 사제)에 첩합했다. 다음에, 광학 점착 시트(점착제층)로부터 제 1 박리 필름을 벗긴 후, 이것에 의해 노출된 점착제층 표면을, PET 기재(품명 「T100C50」, 두께 50μm, 미쓰비시 케미컬사제)에 첩합했다. 이것에 의해, PET 기재/광학 점착제층/PET 기재의 적층 구성의 적층체를 얻었다. 다음에, 이 적층체로부터, 폭 25mm×길이 100mm의 사이즈의 측정용의 샘플을 절출했다.First, samples for measurement were produced. Specifically, after peeling off the second peeling film from the optical adhesive sheet, the exposed adhesive layer side was bonded to a PET base material (product name "T100C50",
다음에, 측정용 샘플에 대해, 파장 550nm의 광의 투과율(T1)을 측정했다(제 1 투과율 측정). 측정에는, 투과율 측정 장치(품명 「U4100형 분광 광도계」, 히타치 하이테크놀로지즈사제)를 사용했다.Next, the transmittance (T1) of light having a wavelength of 550 nm was measured for the sample for measurement (first transmittance measurement). For the measurement, a transmittance measuring device (product name "U4100 type spectrophotometer", manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) was used.
다음에, 제 1 투과율 측정을 거친 측정용 샘플을, 직경 20mm의 권심에 대해, 동 샘플의 길이 방향이 권심의 둘레 방향을 따르는 태양으로 감아 붙였다(권심 주위로 약 1.6주(周)). 다음에, 이와 같이 하여 권심에 감아 붙인 샘플을, 23℃에서 1시간, 보관했다. 다음에, 당해 보관 후의 측정용 샘플에 대해, 제 1 투과율 측정 과 마찬가지로 하여, 파장 550nm의 광의 투과율(T2)을 측정했다(제 2 투과율 측정).Next, the sample for measurement, which had undergone the first transmittance measurement, was wound around a winding core with a diameter of 20 mm in such a way that the longitudinal direction of the sample was along the circumferential direction of the winding core (approximately 1.6 turns around the winding core). Next, the sample wound around the core in this way was stored at 23°C for 1 hour. Next, the transmittance (T2) of light having a wavelength of 550 nm was measured for the storage sample for measurement in the same manner as in the first transmittance measurement (second transmittance measurement).
그리고, 투과율 T1에 대한 투과율 T2의 변화율을, 하기의 식에 기초하여 구했다. 그 값을 표 1에 나타낸다.And the change rate of transmittance T2 with respect to transmittance T1 was calculated|required based on the following formula. The values are shown in Table 1.
투과율의 변화율(%)=[(T2-T1)/T]×100Transmittance change rate (%) = [(T2-T1) / T] × 100
S 광학 점착 시트
10 광학 점착제층
10a 제 1 면
10b 제 2 면
11 제 1 점착제층
12 제 2 점착제층
13 제 2 점착제층
H 두께 방향
L1, L2 박리 필름
21 제 1 부재
22 제 2 부재S optical adhesive sheet
10 Optical adhesive layer
11 1st adhesive layer
12 2nd adhesive layer
13 2nd adhesive layer
H thickness direction
L1, L2 release film
21 first member
22 Second member
Claims (7)
-20℃에 있어서 180kPa 이하의 전단 저장 탄성률 G'를 갖고,
상기 제 1 면 및 상기 제 2 면의 적어도 한쪽이, 폴리이미드 필름으로의 첩합부터 23℃에서 30분간 경과 후에, 당해 폴리이미드 필름에 대해, 박리 각도 180° 및 박리 속도 300mm/분의 조건에 있어서 5N/25mm 이상의 박리 점착력 F를 갖는, 광학 점착제층.An optical adhesive layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface,
Has a shear storage modulus G' of 180 kPa or less at -20 ° C,
At least one of the first surface and the second surface is bonded to the polyimide film after 30 minutes at 23 ° C., with respect to the polyimide film, under the conditions of a peeling angle of 180 ° and a peeling speed of 300 mm / min. The optical adhesive layer which has peel adhesive force F of 5 N/25 mm or more.
-20℃에서의 상기 전단 저장 탄성률 G'(kPa) 및 상기 박리 점착력 F(N/25mm)는, G'>135에 있어서, F≥0.4667×G'-58을 만족시키는, 광학 점착제층.According to claim 1,
The shear storage modulus G' (kPa) and the peel adhesive force F (N / 25 mm) at -20 ° C. satisfy F≥ 0.4667 × G' -58 at G'> 135. The optical adhesive layer.
상기 박리 점착력 F(N/25mm)에 대한, -20℃에서의 전단 저장 탄성률 G'(kPa)의 비율이, 30 이하인, 광학 점착제층.According to claim 1,
The ratio of the shear storage modulus G' (kPa) at -20 ° C. to the peel adhesive strength F (N / 25 mm) is 30 or less, the optical adhesive layer.
상기 박리 점착력 F(N/25mm)에 대한, -40℃에서의 전단 저장 탄성률 G'(kPa)의 비율이, 200 이하인, 광학 점착제층.According to claim 1,
The ratio of the shear storage modulus G' (kPa) at -40 ° C. to the peel adhesive strength F (N / 25 mm) is 200 or less, the optical adhesive layer.
-40℃에서의 전단 저장 탄성률 G'가 1200kPa 이하인, 광학 점착제층.According to any one of claims 1 to 4,
The optical adhesive layer whose shear storage elastic modulus G' at -40 degreeC is 1200 kPa or less.
최대 두께와 최소 두께의 차가 3μm 이하인, 광학 점착제층.According to any one of claims 1 to 4,
An optical pressure-sensitive adhesive layer having a difference between the maximum thickness and the minimum thickness of 3 µm or less.
단면 직경 20mm의 권심에 권회하고 나서 1시간 경과에 의한 투과율의 변화가 5% 이하인, 광학 점착제층.
According to any one of claims 1 to 4,
An optical adhesive layer having a change in transmittance of 5% or less over 1 hour after winding on a core having a cross-sectional diameter of 20 mm.
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