KR20230002835A - silver particles - Google Patents

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KR20230002835A
KR20230002835A KR1020227040248A KR20227040248A KR20230002835A KR 20230002835 A KR20230002835 A KR 20230002835A KR 1020227040248 A KR1020227040248 A KR 1020227040248A KR 20227040248 A KR20227040248 A KR 20227040248A KR 20230002835 A KR20230002835 A KR 20230002835A
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silver particles
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마사유키 도토우게
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타츠타 전선 주식회사
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Abstract

도전성과 분산성이 우수한 은 입자, 및 그 제조 방법을 제공한다. 중심부로부터 방사상으로 돌출한 돌기를 가지고, 평균 입자 직경(D)이 0.1∼10㎛이며, 비표면적(S)이 0.1∼10㎡/g이고, 은 입자의 진비중(ρ)과 평균 입자 직경(D)과 비표면적(S)의 곱이 12 이상 24 이하인, 은 입자로 한다.Silver particles with excellent conductivity and dispersibility and a method for producing the same are provided. It has projections protruding radially from the center, the average particle diameter (D) is 0.1 to 10 μm, the specific surface area (S) is 0.1 to 10 m / g, and the true specific gravity (ρ) and average particle diameter ( The product of D) and the specific surface area (S) is 12 or more and 24 or less, silver particles.

Description

은 입자silver particles

본 발명은, 은 입자에 관한 것이다.The present invention relates to silver particles.

도전성(導電性) 잉크나 도전성 페이스트에 관하여, 보다 좁은 폭, 보다 작은 피치의 배선 묘화가 가능한 것이 요구되고 있다. 또한, 얇게 도포한 경우라도, 평활한 표면을 형성할 수 있고, 신뢰성이 높은 도전성이 얻어지는 것이 요구되고 있다.Regarding conductive ink or conductive paste, it is required to be capable of drawing wires with a narrower width and a smaller pitch. Moreover, even when it is applied thinly, it is desired to be able to form a smooth surface and to obtain highly reliable conductivity.

이와 같은 시장의 요구에 대하여, 예를 들면 은 나노 입자의 사용이 검토되고 있다. 은 나노 입자를 사용한 경우, 극세선이나 박막을 형성할 수 있지만, 신뢰성이 높은 도전성을 얻기 위해서는 은 나노 입자를 고배합할 필요가 있고, 소성(燒成) 시의 체적 수축에 의해 변형이나 균열이 생길 우려가 있다.In response to such market demands, the use of silver nanoparticles, for example, has been examined. When silver nanoparticles are used, ultra-fine wires and thin films can be formed, but in order to obtain highly reliable conductivity, it is necessary to mix a high amount of silver nanoparticles, and deformation or cracking occurs due to volumetric shrinkage during firing. there is a risk of

또한, 수지상(덴드라이트상)은 입자나 플레이크상 은 입자의 사용이 검토되고 있다. 수지상 은 입자를 사용한 경우, 수지부의 얽힘에 의해 도전성이 발현되므로, 은 입자의 배합량을 적게 해도, 도전성을 유지할 수 있다. 배합량을 감소시킴으로써, 변형이나 균열을 억제할 수 있지만, 수지부가 길게 내민 형상이므로 극세선이나 박막을 형성하는 것에는 적합하지 않다. 또한, 수지부가 길게 신장되어 있는 경우, 수지부의 절곡이 도전성에 영향을 준다는 문제나, 수지 성분과의 혼합 시에, 수지부 사이에 공극을 발생시키기 쉽다는 문제가 있었다.In addition, the use of dendritic (dendritic) particles or flaky silver particles has been studied. When dendritic silver particles are used, since conductivity is expressed due to entanglement of the resin portion, conductivity can be maintained even if the compounding amount of the silver particles is reduced. Deformation and cracking can be suppressed by reducing the compounding amount, but since the resin part has a long protruding shape, it is not suitable for forming ultra-fine wires or thin films. In addition, when the resin portion is elongated, there are problems that bending of the resin portion affects conductivity and that a gap is easily generated between the resin portions when mixed with the resin component.

또한, 플레이크상 은 입자는 평면끼리의 유착이 생기기 쉬워, 분산성을 개선하기 위하여, 다량의 표면 처리제(윤활제)의 사용이 필요하게 된다. 그러나, 표면 처리제를 다량으로 배합할 경우, 표면 처리제가 플레이크상 은 입자끼리의 전기적인 접속을 저해하므로 도전성이 저하된다는 문제가 있었다.In addition, flaky silver particles easily cause adhesion between planes, and use of a large amount of surface treatment agent (lubricant) is required to improve dispersibility. However, when a large amount of the surface treatment agent is blended, there is a problem that the conductivity is lowered because the surface treatment agent inhibits the electrical connection between the flaky silver particles.

일본공개특허 제2011-168806호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-168806 일본공개특허 제2011-26665호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-26665 WO2012/063747 A1WO2012/063747 A1 일본공개특허 제2009-144196호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-144196 일본특허 제4335968호 공보Japanese Patent No. 4335968 일본특허 제4534098호 공보Japanese Patent No. 4534098

본 발명은, 이상의 문제점을 감안하여 이루어진 것이며, 도전성과 분산성이 우수한 은 입자를 제공하는 것을 목적으로 한다.This invention was made in view of the above problems, and aims at providing silver particles excellent in conductivity and dispersibility.

특허문헌 1∼4에는, 중심부로부터 방사상으로 돌출한 돌기를 가지는 금속입자가 기재되어 있지만, 도 5에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 은 입자란, 형상, 평균 입자 직경, 및 비표면적의 조합에 있어서 상이한 것이다.Patent Literatures 1 to 4 describe metal particles having protrusions protruding radially from the center, but as shown in FIG. 5, the silver particles of the present invention are a combination of shape, average particle diameter, and specific surface area. it is different

본 발명에 관련된 은 입자는 중심부로부터 방사상으로 돌출한 돌기를 가지고, 평균 입자 직경(D)이 0.1∼10㎛이고, 비표면적(S)이 0.1∼10㎡/g이며, 은 입자의 진비중(眞比重)(ρ)과 평균 입자 직경(D)과 비표면적(S)의 곱이 12 이상 24 이하인 것으로 한다.The silver particles according to the present invention have protrusions protruding radially from the center, have an average particle diameter (D) of 0.1 to 10 μm, a specific surface area (S) of 0.1 to 10 m / g, and a true specific gravity of the silver particles ( It is assumed that the product of true ratio weight (ρ), average particle diameter (D), and specific surface area (S) is 12 or more and 24 or less.

상기 은 입자는, 탭 밀도가 2∼4g/㎤인 것으로 할 수 있다.The silver particles can have a tap density of 2 to 4 g/cm 3 .

본 발명에 관련된 은 입자의 제조 방법은 접근·이격 가능하게 서로 대향하여 배치되고, 적어도 한쪽이 다른 쪽에 대하여 회전하는 제1 처리용 면과 제2 처리용 면을 가지는 처리용 부(部)를 구비한 강제 박막 반응 장치를 이용하여, 액상(液相)의 반응계 중에서 은 이온을 환원함으로써, 은 입자를 석출시키는 은 입자의 제조 방법에 있어서, 제1 처리용 면과 제2 처리용 면 사이에, 상기 액상으로 되는 피처리 유동체를 도입하고, 이 피처리 유동체의 압력에 의해 제1 처리용 면으로부터 제2 처리용 면을 이격시키는 방향으로 이동시키는 힘을 발생시키고, 이 힘에 의해, 제1 처리용 면과 제2 처리용 면 사이가 미소한 간격으로 유지되고, 이 미소 간격으로 유지된 제1 처리용 면과 제2 처리용 면 사이를 통과하는 상기 피처리 유동체가 박막 유체를 형성하고, 상기의 박막 유체 중에서 상기 금속 이온과 환원제가 반응함으로써 은 입자가 얻어지는 것으로서, 상기 피처리 유체에서의 질산은과 환원제의 함유 비율이 몰비(질산은/환원제)로 0.3∼0.9이고, 상기 처리용 부의 회전수가 2000∼5000rpm이며, 상기 처리용 부에서의 배압이 0.005∼0.05Mpa인 것으로 한다.The manufacturing method of the silver particle which concerns on this invention is arrange|positioned facing each other so that approach/separation is possible, and the 1st processing with at least one side rotates with respect to the other side, and the 2nd processing with a processing part which has a surface, It is provided In the manufacturing method of silver particles in which silver particles are precipitated by reducing silver ions in a liquid phase reaction system using a forced thin film reactor, between the first processing with face and the second processing with face, The liquid to be treated is introduced, and a force is generated to move the second treated face away from the first treated face by the pressure of the treated fluid, and this force causes the first treated fluid to be treated. A minute distance is maintained between the face and the second handling face, and the fluid to be treated passing between the first handling face and the second handling face maintained at this minute distance forms a thin film fluid, Silver particles are obtained by the reaction of the metal ion and the reducing agent in the thin film fluid, the content ratio of silver nitrate and the reducing agent in the fluid to be treated is 0.3 to 0.9 in terms of molar ratio (silver nitrate/reducing agent), and the number of rotations of the processing part is 2000 It is -5000 rpm, and it is assumed that the back pressure in the processing part is 0.005 - 0.05 Mpa.

본 발명의 은 입자에 의하면, 우수한 도전성 및 분산성이 얻어진다.According to the silver particles of the present invention, excellent conductivity and dispersibility are obtained.

[도 1] 강제 박막 반응 장치의 구성을 나타내는 모식도.
[도 2] 강제 박막 반응 장치의 처리용 부를 나타내는 모식도.
[도 3] 실시예에 있어서 얻어진 은 입자의 전자현미경 사진(배율: 20000배).
[도 4] 실시예에 있어서 얻어진 은 입자의 전자현미경 사진(배율: 30000배).
[도 5] 평균 입자 직경과 비표면적의 관계를 나타내는 산포도.
[도 6] 평균 입자 직경과 탭 밀도의 관계를 나타내는 산포도.
[Fig. 1] A schematic diagram showing the configuration of a forced thin film reactor.
[Fig. 2] A schematic diagram showing a processing section of a forced thin film reactor.
[Fig. 3] An electron micrograph of silver particles obtained in Examples (magnification: 20000 times).
[Fig. 4] An electron micrograph of silver particles obtained in Examples (magnification: 30000 times).
[Fig. 5] A scatter plot showing the relationship between average particle diameter and specific surface area.
[Fig. 6] A scatter plot showing the relationship between average particle diameter and tap density.

이하, 본 발명의 실시형태를 보다 구체적으로 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described more specifically.

본 발명의 일 실시형태에 관련된 은 입자는 도 3, 4(후술하는 실시예에 의해 얻어진 은 입자의 전자현미경 사진)에 나타낸 바와 같이, 중심부로부터 방사상으로 돌출한 돌기를 가지는 것이다. 또한, 평균 입자 직경(D)이 0.1∼10㎛이고, 비표면적(S)이 0.1∼10㎡/g이며, 은 입자의 진비중(ρ)과 평균 입자 직경(D)과 비표면적(S)의 곱이 12 이상 24 이하인 것으로 한다.As shown in Figs. 3 and 4 (electron micrographs of silver particles obtained in Examples described later), the silver particles according to one embodiment of the present invention have protrusions protruding radially from the center. In addition, the average particle diameter (D) is 0.1 to 10 μm, the specific surface area (S) is 0.1 to 10 m / g, and the true specific gravity (ρ) of the silver particles, the average particle diameter (D) and the specific surface area (S) It is assumed that the product of is 12 or more and 24 or less.

본 실시형태에 관련된 은 입자의 평균 입자 직경은 0.1∼10㎛이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 도전성 페이스트에 사용하는 경우에는, 분산성과 도공성(塗工性)의 관점에서 1㎛∼5㎛인 것이 바람직하다. 0.1㎛ 이상인 경우, 양호한 분산성이 얻어지고, 응집하기 어렵고, 10㎛ 이하인 경우, 미세한 배선을 그리기 쉽다. 여기에서, 본 명세서에 있어서 평균 입자 직경이란, 레이저 회절 산란법에 의해 얻어진 입도 분포에서의 적산값 50%에서의 입자 직경(1차 입자 직경)을 의미한다.The average particle diameter of the silver particles according to this embodiment is not particularly limited as long as it is 0.1 to 10 μm, but, for example, when used for an electrically conductive paste, from the viewpoint of dispersibility and coatability, it is 1 μm to 5 μm It is desirable to be When it is 0.1 μm or more, good dispersibility is obtained and it is difficult to aggregate, and when it is 10 μm or less, it is easy to draw fine wiring. Here, the average particle diameter in this specification means the particle diameter (primary particle diameter) at 50% of the integrated value in the particle size distribution obtained by the laser diffraction scattering method.

본 실시형태에 관련된 은 입자의 비표면적은 0.1∼10㎡/g이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 도전성 페이스트에 사용하는 경우에는, 접촉 면적과 도전성의 관점에서 0.2∼2㎡/g인 것이 바람직하다. 0.1㎡/g 이상인 경우, 구상(球狀)의 은 입자와 비교하여 우수한 도전성을 얻기 쉽고, 10㎡/g 이하인 경우, 덴드라이트상의 은 입자가 가지는 과제를 개선하기 쉽다. 여기에서, 본 명세서에 있어서 비표면적이란, 측정 시료를 진공 건조기에 넣고, 상온에서 2시간 처리를 행하고, 그 후, 시료를 셀이 조밀해지도록 충전한 후, BET 비표면적 측정 장치에 세팅하고, 이어서, 탈기 온도 40℃에서 60분간 전처리를 행한 후, 측정한 값으로 한다.The specific surface area of the silver particles according to the present embodiment is not particularly limited as long as it is 0.1 to 10 m 2 /g. For example, when used for a conductive paste, it is preferably 0.2 to 2 m 2 /g from the viewpoint of contact area and conductivity. Do. When it is 0.1 m 2 /g or more, compared with spherical silver particles, it is easy to obtain excellent conductivity, and when it is 10 m 2 /g or less, it is easy to improve the subject of dendrite-like silver particles. Here, the specific surface area in the present specification means that the measurement sample is placed in a vacuum dryer, treated at room temperature for 2 hours, and then filled with the sample so that the cell becomes dense, and then set in a BET specific surface area measuring device, Then, after performing a pretreatment for 60 minutes at a degassing temperature of 40°C, it is set as the measured value.

본 실시형태에 관련된 은 입자의 형상은, 성형(星形) 다면체에 근사할 수 있고, 정십이면체나 정이십면체를 근사 모델로 하면, 비표면적은 다음의 식(1), 식(2)에 의해 이론값을 구할 수 있다.The shape of the silver particles according to the present embodiment can approximate a star polyhedron, and if a regular dodecahedron or a regular icosahedron is used as an approximate model, the specific surface area is expressed by the following equations (1) and (2) The theoretical value can be obtained by

<정십이면체의 성형 다면체><The forming polyhedron of the regular dodecahedron>

비표면적(S)≒12/(진비중(ρ)×평균 입자 직경(D))…(1)Specific surface area (S) ≈ 12 / (true specific gravity (ρ) × average particle diameter (D)) ... (One)

<정이십면체의 성형 다면체><The forming polyhedron of the regular icosahedron>

비표면적(S)≒24/(진비중(ρ)×평균 입자 직경(D))…(2)Specific surface area (S) ≈ 24 / (true specific gravity (ρ) × average particle diameter (D)) ... (2)

상기 식(1), 식(2)로부터 본 실시형태에 관련된 은 입자의 진비중(ρ)과 평균 입자 직경(D)과 비표면적(S)의 곱은 12 이상 24 이하이다. 그리고, 은의 진비중(ρ)은 10.49g/㎤로 한다.From the said Formula (1) and Formula (2), the product of the true specific gravity (rho) of the silver particle which concerns on this embodiment, the average particle diameter (D), and the specific surface area (S) is 12 or more and 24 or less. And, the true specific gravity (ρ) of silver is 10.49 g/cm 3 .

또한, 진구상(眞球狀)과 플레이크상(평면 형상이 진원인 경우)의 은 입자의 비표면적은, 다음의 식(3), 식(4)에 의해 이론값을 구할 수 있다.In addition, the theoretical value can be calculated|required for the specific surface area of silver particle of spherical shape and flake shape (when a planar shape is a perfect circle) by following Formula (3) and Formula (4).

<진구상><Jin Gu-sang>

비표면적(S)=6/(진비중(ρ)×평균 입자 직경(D))…(3)Specific surface area (S) = 6 / (true specific gravity (ρ) × average particle diameter (D)) ... (3)

<플레이크상><Flakes>

비표면적(S)=2(아스펙트비+2)/(진비중(ρ)×평균 입자 직경(D))…(4)Specific surface area (S) = 2 (aspect ratio + 2) / (true specific gravity (ρ) × average particle diameter (D)) ... (4)

상기 식(3)으로부터 진구상 은 입자의 진비중(ρ)과 평균 입자 직경(D)과 비표면적(S)의 곱은 6이다. 본 실시형태에 관련된 은 입자는, 진비중(ρ)과 평균 입자 직경(D)과 비표면적(S)의 곱이 12 이상 24 이하이므로, 동일 체적의 진구상 은 입자와 비교하여, 2∼4배 정도의 비표면적을 가지는 것을 알 수 있다. 본 실시형태에 관련된 은 입자를 도전성 조성물 등에 사용함으로써, 비표면적에 비례하여 향상되는 특성을 향상시킬 수 있다. 구체적으로는, 진구상 은 입자에 비하여 같은 배합량으로도 입자끼리의 접촉 면적이 증가함으로써 도전성이 향상되거나, 배합하는 수지와의 접합 계면이 커짐으로써 조성물의 강도를 진구상 은 입자보다 향상시키거나할 수 있다.From the above equation (3), the product of the true specific gravity (ρ) of the spherical silver particles, the average particle diameter (D), and the specific surface area (S) is 6. Since the silver particles according to the present embodiment have a product of true specific gravity (ρ), average particle diameter (D), and specific surface area (S) of 12 or more and 24 or less, compared to true spherical silver particles of the same volume, 2 to 4 times It can be seen that it has a specific surface area of about. The characteristic improved in proportion to a specific surface area can be improved by using the silver particle which concerns on this embodiment for a conductive composition etc. Specifically, compared to spherical silver particles, even with the same blending amount, the contact area between the particles increases, thereby improving conductivity, or increasing the bonding interface with the resin to be blended, so that the strength of the composition is improved compared to that of spherical silver particles. can

상기 식 (4)로부터 플레이크상 은 입자의 진비중(ρ)과 평균 입자 직경(D)과 비표면적(S)의 곱은, 플레이크상 은 입자의 아스펙트비가 10∼100인 경우, 24∼204이며, 동일 체적의 진구상 은 입자와 비교하여, 약 4∼35배의 비표면적을 가지는 것을 알 수 있다. 또한, 덴드라이트상 은 입자는 후술하는 실시예에 있어서 측정한 시판품의 실측값으로부터, 동일 체적의 진구상 은 입자와 비교하여, 약 10∼30배의 비표면적을 가지는 것을 확인했다. 따라서, 플레이크상이나 덴드라이트상의 은 입자에 대해서도, 도전성 조성물 등에 사용함으로써, 비표면적에 비례하여 향상되는 특성을 진구상 은 입자보다 향상시킬 수 있지만, 전술한 바와 같이, 플레이크상 은 입자는 분산성과 도전성의 양립에 대하여 과제를 가지고, 덴드라이트상 은 입자는 극세선이나 박막을 형성하는 데에 적합하지 않는 등의 문제를 가지고 있다.From the above formula (4), the product of the true specific gravity (ρ) of the flaky silver particles, the average particle diameter (D), and the specific surface area (S) is 24 to 204 when the aspect ratio of the flake silver particles is 10 to 100, , it can be seen that the specific surface area is about 4 to 35 times larger than that of spherical silver particles of the same volume. In addition, it was confirmed that the dendrite-like silver particles had a specific surface area about 10 to 30 times larger than that of spherical silver particles having the same volume, based on the measured values of commercially available products measured in Examples described later. Therefore, even for flaky or dendrite-like silver particles, by using them in a conductive composition or the like, the properties that are improved in proportion to the specific surface area can be improved over spherical silver particles, but as described above, flaky silver particles have dispersibility and conductivity As for compatibility, dendrite-like silver particles have problems such as being unsuitable for forming ultra-fine wires or thin films.

본 실시형태에 관련된 은 입자의 동일 체적에 대한 비표면적은 진구상보다 크고, 플레이크상이나 덴드라이트상보다 작은 것이며, 본 실시형태에 관련된 은 입자는 진구상이나 플레이크상, 덴드라이트상이 가지는 특성을 양호한 밸런스로 구비하는 것이다. 구체적으로는, 본 실시형태에 관련된 은 입자는, 중심부로부터 방사상으로 돌출한 돌기를 가짐으로써, 평면끼리의 유착이 생기기 어렵고, 표면 처리제(윤활제)가 없어도 응집하기 어려워, 우수한 분산성이 얻어지기 쉽다. 또한, 본 실시형태에 관련된 은 입자는, 중심부로부터 방사상으로 돌출한 돌기를 가짐으로써, 돌기끼리의 얽힘에 의해 우수한 도전성이 얻어지기 쉽고, 전기 접점에 압착시켰을 때, 전기 접점 표면의 보호막이나 산화 피막 등의 절연성의 막을 찢어 도전 회로와의 접속 신뢰성을 향상시키는, 이른바 스파이크 효과도 얻어진다.The specific surface area for the same volume of the silver particles according to the present embodiment is larger than that of the spherical shape and smaller than that of the flaky or dendrite phase, and the silver particles according to the present embodiment have a good balance of characteristics possessed by the spherical, flake, and dendrite phases. is to be provided with Specifically, since the silver particles according to the present embodiment have protrusions protruding radially from the central portion, adhesion between planes is difficult to occur, and even without a surface treatment agent (lubricant), it is difficult to aggregate, and excellent dispersibility is easily obtained. . In addition, since the silver particles according to the present embodiment have protrusions protruding radially from the center, excellent conductivity is easily obtained by entanglement of the protrusions, and when pressed to an electrical contact, a protective film or an oxide film on the surface of the electrical contact The so-called spike effect, which tears the insulating film of the back and improves connection reliability with the conductive circuit, is also obtained.

여기에서, 본 실시형태에 관련된 은 입자는, 종래부터 알려져 있는 덴드라이트상과는 상이한 형상을 가지는 것이다. 구체적으로는, 본 실시형태에 관련된 은 입자는 중심부로부터 방사상으로 돌출한 돌기를 가지는 것이지만, 덴드라이트상은 입자 표면으로부터 돌출한 돌기가 주지(主枝)로부터 더 가지 부분이 분기되어 평면형 혹은 3차원적으로 성장하여 이루어지는 수지상인 점에서 본 실시형태에 관련된 은 입자와는 상이하다. 그러므로, 덴드라이트상과 같이 수지부의 절곡이 도전성에 영향을 준다는 문제나, 수지 성분과의 혼합 시에, 수지부 사이에 공극이 생기는 문제는 발생하지 않는다. 또한, 본 실시형태에 관련된 은 입자의 평균 입자 직경과 비표면적의 관계로부터, 돌기부는 덴드라이트상과 같이 길게 내민 형상이 아니라 극세선이나 박막의 형성에 적응할 수 있다.Here, the silver particle which concerns on this embodiment has a shape different from the conventionally known dendrite phase. Specifically, the silver particles related to this embodiment have protrusions protruding radially from the center, but in the case of the dendrite phase, the protrusions protruding from the surface of the particles diverge further from the main branch, resulting in a planar or three-dimensional shape. It is different from the silver particle concerning this embodiment in that it is dendritic grown by. Therefore, there is no problem that the bending of the resin part affects the conductivity, such as in the dendrite phase, or a problem that a gap is formed between the resin parts when mixed with the resin component. In addition, from the relationship between the average particle diameter and the specific surface area of the silver particles according to the present embodiment, the protruding portion can be adapted to the formation of ultra-fine lines or thin films, rather than a shape elongated like a dendrite.

본 실시형태에 관련된 은 입자의 탭 밀도는 특별히 한정되지 않지만, 2∼4g/㎤인 것이 바람직하고, 2.5∼3.5g/㎤인 것이 보다 바람직하다. 탭 밀도가 상기 범위 내인 경우, 도전성 조성물을 제작했을 때에 보이드가 생기기 어렵고, 건조나 소성 시에 체적 수축이 생기기 어렵다.Although the tap density of the silver particle concerning this embodiment is not specifically limited, It is preferable that it is 2-4 g/cm<3>, and it is more preferable that it is 2.5-3.5 g/cm<3>. When the tap density is within the above range, voids are less likely to occur when the conductive composition is produced, and volumetric shrinkage is less likely to occur during drying or firing.

본 실시형태에 관련된 은 입자의 제조 방법으로서는, 강제 박막 반응 장치(1)를 이용하여, 박막 유체 중에서 질산은과 환원제를 반응시키는 방법을 들 수 있다.As a method for producing silver particles according to the present embodiment, a method in which silver nitrate and a reducing agent are reacted in a thin film fluid using the forced thin film reactor 1 is exemplified.

강제 박막 반응 장치(1)로서는, 예를 들면 도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 환원제를 포함하는 수용액(이하, A액이라고도 함)을 저장하는 A액 탱크(10)와, A액의 온도를 조정하는 A액용 열교환기(11)와, A액 탱크(10)에 공기를 보내주는 도시하지 않은 압축기와, 질산은 수용액(이하, B액이라고도 함)을 저장하는 B액 용기(20)와, B액 용기(20) 내를 교반하는 스터러(21)와, B액 용기(20)로부터 B액을 내보내기 위한 B액용 펌프(22)와, B액의 온도를 조정하는 B액용 열교환기(23)와, 피처리 유동체(A액과 B액)을 박막 유체화시키는 처리용 부(3)와, 처리용 부(3)를 구성하는 제1 처리용 부(4)와 제2 처리용 부(5)를 상대적으로 회전시키는 회전 구동 장치(2)를 가지는 것을 들 수 있다.As the forced thin film reaction device 1, as shown in FIGS. 1 and 2, for example, a liquid A tank 10 for storing an aqueous solution containing a reducing agent (hereinafter also referred to as liquid A), and a temperature of liquid A A liquid A heat exchanger 11 for adjusting the heat exchanger 11, a compressor not shown for sending air to the liquid A tank 10, a liquid B container 20 for storing an aqueous solution of silver nitrate (hereinafter also referred to as liquid B), A stirrer 21 for stirring the inside of the liquid B container 20, a pump 22 for liquid B for discharging liquid B from the liquid B container 20, and a heat exchanger for liquid B 23 for adjusting the temperature of liquid B ), and processing portion 3 that converts the fluids to be processed (liquid A and liquid B) into a thin film fluid, and the first processing portion 4 and the second processing portion 5 constituting the processing portion 3 ) and having a rotational drive device 2 that relatively rotates.

먼저, A액의 흐름에 대하여, 도 1을 참조하여 설명한다. 도시하지 않은 압축기에 의해, A액 탱크(10) 내에 공기가 보내어지고, A액 탱크(10) 내의 압력이 상승함으로써, A액은, A액 탱크(10)로부터 A액용 열교환기(11)로 보내어져 온도 조정된 후, 처리용 부(3)로 보내어진다.First, the flow of Liquid A will be described with reference to FIG. 1 . Air is sent into the liquid A tank 10 by a compressor (not shown) and the pressure in the liquid A tank 10 rises, so that the liquid A is transferred from the liquid A tank 10 to the heat exchanger 11 for liquid A. After being sent and temperature-adjusted, it is sent to the part 3 for a process.

A액의 송액(送液) 속도는 특별히 한정되지 않지만, 200∼1000ml/min인 것이 바람직하고, 500∼700ml/min인 것이 보다 바람직하다. 송액 속도가 상기 범위 내인 경우, 원하는 평균 입자 직경 및 비표면적을 가지는 은 입자가 얻어지기 쉽다.The feeding speed of Liquid A is not particularly limited, but is preferably 200 to 1000 ml/min, and more preferably 500 to 700 ml/min. When the liquid feed rate is within the above range, silver particles having a desired average particle diameter and specific surface area are easily obtained.

A액의 온도는 특별히 한정되지 않지만, 10∼40℃인 것이 바람직하고, 20∼30℃인 것이 보다 바람직하다. A액의 온도가 상기 범위 내인 경우, 원하는 평균 입자 직경 및 비표면적을 가지는 은 입자가 얻어지기 쉽다.Although the temperature of liquid A is not specifically limited, It is preferable that it is 10-40 degreeC, and it is more preferable that it is 20-30 degreeC. When the temperature of the liquid A is within the above range, it is easy to obtain silver particles having a desired average particle diameter and specific surface area.

다음으로, B액의 흐름에 대하여, 도 1을 참조하여 설명한다. B액 용기(20) 내에서는, 스터러(21)가 회전하고 있음으로써, 질산은이 수용액 중에 균일하게 분산되어 있다. 그리고, B액 펌프(22)에 의해, B액은 B액 용기(20)로부터 B액용 열교환기(23)로 보내어져 온도 조정된 후, 처리용 부(3)로 보내어진다.Next, the flow of Liquid B will be described with reference to FIG. 1 . In the liquid B container 20, the stirrer 21 is rotating, so that silver nitrate is uniformly dispersed in the aqueous solution. And B liquid is sent to the processing part 3, after being sent to the B liquid heat exchanger 23 from the B liquid container 20 by the B liquid pump 22, and temperature-adjusted.

B액의 송액 속도는 특별히 한정되지 않지만, 10∼200ml/min인 것이 바람직하고, 50∼150ml/min인 것이 보다 바람직하다. 송액 속도가 상기 범위 내인 경우, 원하는 평균 입자 직경 및 비표면적을 가지는 은 입자가 얻어지기 쉽다.The feed rate of Liquid B is not particularly limited, but is preferably 10 to 200 ml/min, and more preferably 50 to 150 ml/min. When the liquid feed rate is within the above range, silver particles having a desired average particle diameter and specific surface area are easily obtained.

B액의 온도는 특별히 한정되지 않지만, 10∼40℃인 것이 바람직하고, 20∼30℃인 것이 보다 바람직하다. B액의 온도가 상기 범위 내인 경우, 원하는 평균 입자 직경 및 비표면적을 가지는 은 입자가 얻어지기 쉽다.The temperature of Liquid B is not particularly limited, but is preferably 10 to 40°C, and more preferably 20 to 30°C. When the temperature of Liquid B is within the above range, it is easy to obtain silver particles having a desired average particle diameter and specific surface area.

처리용 부(3)는 도 2에 나타낸 바와 같이, 상대적으로 접근·이격 가능하게 설치된 제1 처리용 부(4)와 제2 처리용 부(5)를 가진다. 제1 처리용 부(4)와 제2 처리용 부(5)는, 서로 대향하는 제1 처리용 면(도시하지 않음)과 제2 처리용 면(5')을 각각 가진다. 제1 처리용 부(4)에는, 처리용 부(3)에 보내어져 온 A액을 화살표 A에 나타낸 바와 같이, 제1 처리용 면 및 제2 처리용 면(5') 사이에 도입하기 위한 A액용 유로(6)와, 처리용 부(3)에 보내어져 온 B액을 화살표 B에 나타낸 바와 같이, 제1 처리용 면 및 제2 처리용 면(5') 사이에 도입하기 위한 B액용 유로(7)가 설치되어 있다.As shown in FIG. 2, the processing portion 3 has a first processing portion 4 and a second processing portion 5 installed to be relatively approachable and separated from each other. The 1st handling with part 4 and the 2nd handling with part 5 each have the 1st handling with face (not shown) and the 2nd handling with face 5' facing each other. In the 1st handling part 4, for introducing liquid A sent to the part 3 for handling between the 1st handling with face and the 2nd handling with face 5', as shown by the arrow A As shown by the arrow B, the flow path 6 for liquid A and the liquid B sent to the part 3 for processing is for liquid B for introducing between the face 5' with the 1st handling and the 2nd handling with face 5' A flow path 7 is installed.

상기 유로(6, 7)를 통하여, 제1 처리용 면 및 제2 처리용 면(5') 사이에 도입된 피처리 유동체(A액 및 B액)의 압력에 의해 제1 처리용 면으로부터 제2 처리용 면(5')을 이격시키는 방향으로 이동시키는 힘을 발생시키고, 이 힘에 의해, 제1 처리용 면과 제2 처리용 면(5') 사이가 미소한 간격으로 유지되고, 이 미소 간격으로 유지된 제1 처리용 면과 제2 처리용 면(5') 사이를 통과하는 상기 피처리 유동체가 박막 유체를 형성한다. 그리고, 회전 구동 장치(2)에 의해, 제2 처리용 부(5)가 제1 처리용 부(4)에 대하여 상대적으로 회전함으로써, 상기 피처리 유동체는 균일하게 혼합되면서, 처리용 부(3)의 직경 방향 외측으로 밀어내어진다.Through the flow passages 6 and 7, the first treatment with the face and the second treatment with the pressure of the fluid to be treated introduced between the face 5' (Liquid A and B) to be treated from the face with the first treatment A force is generated to move the two-handling face 5' in the direction of separation, and by this force, the first hand-handling face and the second hand-handling face 5' are held at a minute interval, and this The fluid to be processed that passes between the first processing face and the second processing face 5' held at a minute interval forms a thin film fluid. Then, the second processing portion 5 is relatively rotated with respect to the first processing portion 4 by the rotary driving device 2, so that the processing target fluid is uniformly mixed while the processing portion 3 ) is extruded outward in the radial direction of

혼합된 피처리 유동체에서는, 질산은과 환원제의 반응에 의해, 피처리 유동체 중의 은 이온이 환원되고, 은 입자가 석출된다.In the mixed fluid to be treated, silver ions in the fluid to be treated are reduced and silver particles are precipitated by the reaction between silver nitrate and the reducing agent.

피처리 유체에서의 질산은과 환원제의 함유 비율은 몰비(질산은/환원제)로 0.3∼0.9이며, 0.5∼0.7인 것이 바람직하다. 상기 함유 비율로 질산은과 환원제를 반응시킴으로써, 원하는 평균 입자 직경 및 비표면적을 가지는 은 입자를 얻기 쉽다.The content ratio of silver nitrate and reducing agent in the fluid to be treated is 0.3 to 0.9, preferably 0.5 to 0.7, in terms of molar ratio (silver nitrate/reducing agent). It is easy to obtain silver particles having a desired average particle diameter and specific surface area by making silver nitrate and a reducing agent react at the above content ratio.

처리용 부(3)의 회전수는 2000∼5000rpm이며, 3000∼4000rpm인 것이 바람직하다. 회전수가 2000rpm 이상인 경우, 처리용 부(3) 내의 피처리 유동체가 충분히 교반되어, 균일한 입자가 생성되기 쉽다. 또한, 회전수가 5000rpm 이하인 경우, 피처리 유동체가 마찰 열에 의해 고온으로 되기 어려워 원하는 입자가 생성되기 쉽다.The rotation speed of the part 3 for a process is 2000-5000 rpm, and it is preferable that it is 3000-4000 rpm. When the number of revolutions is 2000 rpm or more, the fluid to be treated in the processing portion 3 is sufficiently stirred, and uniform particles are easily generated. In addition, when the rotation speed is 5000 rpm or less, the target fluid does not become high temperature due to frictional heat, and desired particles are easily generated.

처리용 부(3)에서의 배압은 0.005∼0.05MPa이며, 0.01∼0.03MPa인 것이 바람직하다. 배압이 상기 범위 내인 경우, 원하는 평균 입자 직경 및 비표면적을 가지는 은 입자가 얻어지기 쉽다. 여기서 배압이란, 피처리 유동체가 제1 처리용 부(4)와 제2 처리용 부(5) 사이를 통과할 때 제1 처리용 부(4)를 제1 처리용 면(5')으로부터 이격시키는 방향으로 넓히려고 하는 힘에 대항하여 제1 처리용 부(4)의 배면으로부터 누르는 압력이다. 배압이 0.005MPa 이상인 경우, 처리용 부(3)의 간극이 지나치게 넓지 않아, 원하는 교반력이 얻어지기 쉽고, 배압이 0.05MPa 이하인 경우, 피처리 유동체가 처리용 부(3) 내에 흘러 들기 쉽다.The back pressure in the processing part 3 is 0.005-0.05 MPa, and it is preferable that it is 0.01-0.03 MPa. When the back pressure is within the above range, it is easy to obtain silver particles having a desired average particle diameter and specific surface area. Here, the back pressure refers to the separation of the first processing portion 4 from the first processing surface 5' when the fluid to be processed passes between the first processing portion 4 and the second processing portion 5 It is the pressure which presses from the back surface of the 1st handling part 4 against the force which tries to spread in the direction to be made. When the back pressure is 0.005 MPa or more, the gap between the handling portion 3 is not too wide, and the desired stirring force is easily obtained.

환원제로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 수소화붕소나트륨, 차아 인산나트륨, 히드라진, 천이 금속 원소의 이온(3가의 티탄 이온, 2가의 코발트 이온 등)이나 메탄올, 에탄올, 2-프로판올 등의 알코올이나 글루코오스, 말토오스 등의 환원성이 있는 당류, 혹은 아스코르브산, 에리토르브산 등을 들 수 있다.The reducing agent is not particularly limited, but examples thereof include sodium borohydride, sodium hypophosphite, hydrazine, transition metal element ions (trivalent titanium ion, divalent cobalt ion, etc.), alcohol such as methanol, ethanol, 2-propanol, and glucose , reducing saccharides such as maltose, ascorbic acid, erythorbic acid, and the like.

이와 같은 강제 박막 반응 장치(1)로서는, 예를 들면 상기 특허문헌 5, 6에 기재된 것을 사용할 수 있고, 구체적으로는, M-technique사 제조의 강제 박막 반응 장치 「ULREA SS-11」등을 사용할 수 있다.As such a forced thin film reaction device 1, those described in Patent Documents 5 and 6 can be used, for example, and specifically, a forced thin film reaction device “ULREA SS-11” manufactured by M-technique, etc. can be used. can

<실시예><Example>

이하에 본 발명의 실시예를 나타내지만, 본 발명은 이하의 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 그리고, 이하에 있어서 함유량 등은 특별히 단서가 없는 한 질량 기준으로 한다.Examples of the present invention are shown below, but the present invention is not limited by the following examples. In the following, content and the like are based on mass unless otherwise specified.

[실시예 1][Example 1]

물 10L에 대하여, L-아스코르브산을 1kg 용해시켜, 9.1 질량%의 L-아스코르브산 수용액을 조제하고, 반응액 A로 했다. 또한, 물 2L에 대하여, 질산은 1kg을 용해시켜, 33 질량%의 질산은 수용액을 조제하고, 반응액 B로 했다.1 kg of L-ascorbic acid was dissolved in 10 L of water to prepare a 9.1 mass % L-ascorbic acid aqueous solution, which was used as reaction solution A. Furthermore, with respect to 2 L of water, 1 kg of silver nitrate was dissolved, and the 33 mass % silver nitrate aqueous solution was prepared, and it was set as the reaction liquid B.

M-technique사 제조의 강제 박막 반응 장치 「ULREA SS-11」을 사용하여, 이하의 조건으로 반응을 행했다. 구체적으로는, 상기 강제 박막 반응 장치의 제1 처리용 면과 제2 처리용 면 사이에 형성된, 박막 유체 중에서 반응액 A와 반응액 B를 혼합하고, 얻어진 혼합액을 1시간 정치(靜置)한 후, No.5의 여과지를 사용하여, 여과 분리·세정하고, 진공 데시케이터 내에서 24시간 건조함으로써, 은 입자를 550g 얻었다(수율: 약 85%).The reaction was performed under the following conditions using a forced thin film reactor "ULREA SS-11" manufactured by M-technique. Specifically, the reaction solution A and the reaction solution B were mixed in a thin film fluid formed between the first processing face and the second processing face of the forced thin film reaction device, and the resulting mixed solution was allowed to stand still for 1 hour. After that, 550 g of silver particles were obtained by filter separation/washing using filter paper of No. 5 and drying within a vacuum desiccator for 24 hours (yield: about 85%).

<장치의 설정 조건><Device setting conditions>

처리용 부의 형상·재질: 실리콘 카바이드(SiC)제 원환 홈 디스크 및 회전 디스크Shape/Material of processing part: Silicon carbide (SiC) annular grooved disc and rotating disc

처리용 부의 회전수: 3000rpmRotational speed of processing unit: 3000 rpm

처리용 부의 배압: 0.02MPaBack pressure of processing part: 0.02MPa

반응액 A의 온도: 25℃Temperature of reaction solution A: 25°C

반응액 A의 송액 속도: 600ml/minFeeding rate of reaction solution A: 600 ml/min

반응액 B의 온도: 25℃Temperature of reaction solution B: 25°C

반응액 B의 송액 속도: 100ml/minFeed rate of reaction solution B: 100 ml/min

얻어진 은 입자에 대하여, 이하의 측정 방법에 의해, 입도 분포, 비표면적, 및 탭 밀도를 측정했다.About the obtained silver particle, the particle size distribution, specific surface area, and tap density were measured with the following measuring method.

·평균 입자 직경(D50): 레이저 회절식 입도 분포 측정 장치(마이크로트랙·벨 가부시키가이샤 제조 「MT3300EX II」, 측정 매체: 물)을 사용하여, 레이저 회절 산란법에 의해 얻은 입도 분포에 있어서 적산값 50%에서의 입자 직경을 평균 입자 직경으로 했다.- Average particle diameter (D50): integrated in the particle size distribution obtained by the laser diffraction scattering method using a laser diffraction type particle size distribution analyzer ("MT3300EX II" manufactured by Microtrac Bell Co., Ltd., measurement medium: water) The particle diameter at 50% of the value was taken as the average particle diameter.

·비표면적: 측정 시료를 진공 건조기에 넣고, 상온에서 2시간 처리를 행하고, 그 후, 시료를 셀이 조밀해지도록 충전한 후, BET 비표면적 측정 장치(가부시키가이샤 시마즈 세이사쿠쇼 제조 「제미니 VII2390」)에 세팅하고, 이어서, 탈기 온도 40℃에서 60분간 전처리를 행한 후, 측정했다.Specific surface area: Put the measurement sample in a vacuum dryer, treat at room temperature for 2 hours, and then fill the sample so that the cell becomes dense, BET specific surface area measuring device (manufactured by Shimadzu Seisakusho, Inc. VII2390”), and then pre-processed at a degassing temperature of 40° C. for 60 minutes, and then measured.

·탭 밀도: 가부시키가이샤 세이신 기교 제조 「탭 덴서 KYT-5000」의 실린더에 얻어진 은 입자를 차분하게 충전한 후, 태핑(실린더를 위쪽으로 이동시킨 후, 실린더를 자유낙하시키는 것)을 행하고, 은 입자 사이의 공극을 파괴하고, 조밀충전했을 때의 외관 부피 밀도를 측정했다.・Tap density: After gently filling the cylinder of “Tap Denser KYT-5000” manufactured by Seishin Kikyo Co., Ltd. with the obtained silver particles, tapping (moving the cylinder upwards and then letting the cylinder fall freely) , the voids between the silver particles were destroyed, and the apparent bulk density when densely packed was measured.

실시예 1에서 얻어진 은 입자의 평균 입자 직경은 4.97㎛, 비표면적은 0.28㎡/g, 탭 밀도는 2.9g/㎤이며, 결과를 도 5, 6의 산포도에 플로팅했다. 이들 결과로부터, 진비중(ρ)과 평균 입자 직경(D)과 비표면적(S)의 곱은 14.6이었다.The silver particles obtained in Example 1 had an average particle diameter of 4.97 μm, a specific surface area of 0.28 m 2 /g, and a tap density of 2.9 g/cm 3 , and the results were plotted on scatter plots in FIGS. 5 and 6 . From these results, the product of true specific gravity (ρ), average particle diameter (D), and specific surface area (S) was 14.6.

또한, 시판되고 있는 복수의 구상 은 입자, 플레이크상 은 입자, 덴드라이트상 은 입자에 대하여, 카탈로그로부터 평균 입자 직경, 비표면적 및 탭 밀도를 추출하고, 기재가 없는 것은 상기 방법에 따라 측정했다. 그 결과를 표 1에 나타내고, 도 5, 6의 산포도에 플로팅했다. 또한, 특허문헌 1∼4의 기재로부터, 은 입자가 가지는 평균 입자 직경 및 비표면적을 추출하고, 이들 문헌에 기재된 은 입자가 속하는 영역(30∼33)을 도 5의 산포도에 나타냈다. 또한, 상기 식(3), 식(4)로부터 구한, 진구상 은 입자 및 플레이크상 은 입자의 비표면적의 이론값을 점선으로 나타냈다.In addition, for a plurality of commercially available spherical silver particles, flaky silver particles, and dendrite-like silver particles, the average particle diameter, specific surface area, and tap density were extracted from the catalog, and those without description were measured according to the above method. The results are shown in Table 1 and plotted on the scatter plots in FIGS. 5 and 6 . In addition, the average particle diameter and specific surface area of silver particles were extracted from the descriptions of Patent Documents 1 to 4, and the regions 30 to 33 to which the silver particles described in these documents belong were shown in a scatter plot in FIG. 5 . In addition, the theoretical value of the specific surface area of the spherical silver particle and flaky silver particle calculated|required from said Formula (3) and Formula (4) was shown by the dotted line.

[표 1][Table 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

도 5에 있어서, 영역(40)에는 플레이크상 은 입자 No.13이 속해 있다. 그러나, 전술한 바와 같이, 플레이크상 은 입자는 평면끼리의 유착이 생기기 쉽고, 분산성을 개선하기 위하여, 다량의 표면 처리제(활제)의 사용이 필요하게 되고, 표면 처리제가 도전성을 저해하므로, 분산성과 도전성의 양립이 곤란하다는 문제가 있다. 따라서, 본 실시형태에 관련된 은 입자는, 플레이크상 은 입자와는 형상이 상이하므로, 상이한 특성을 가지는 것이다.5, flaky silver particle No. 13 belongs to the region 40. However, as described above, flaky silver particles are prone to flat surface adhesion, and a large amount of surface treatment agent (lubricant) is required to improve dispersibility, and since the surface treatment agent inhibits conductivity, dispersion There is a problem that it is difficult to balance performance and conductivity. Therefore, since the silver particle which concerns on this embodiment differs in shape from the flaky silver particle, it has a different characteristic.

도 5에 있어서, 영역(40)에는, 구상 은 입자 No. 2가 속해 있다. 그러나, 구상 은 입자는 돌기를 가지고 있지 않으므로, 본 실시형태의 은 입자와는 적어도 도전성에 관하여 상이한 특성을 가지는 것이다.5, in the region 40, spherical silver particles No. 2 belongs to However, since the spherical silver particles do not have protrusions, they have different characteristics at least regarding conductivity from the silver particles of the present embodiment.

이들 결과로부터, 본 실시형태에 관련된 은 입자는, 종래부터 알려져 있는 구상이나, 플레이크상, 덴드라이트상의 은 입자와는 형상, 평균 입자 직경 및 비표면적의 조합에 있어서 상이한 것인 것을 알 수 있다.From these results, it turns out that the silver particle which concerns on this embodiment differs from conventionally known spherical, flaky, and dendrite-shaped silver particle in shape, average particle diameter, and a combination of a specific surface area.

1 : 강제 박막 반응 장치
2 : 회전 구동 기구
3 : 처리용 부
4 : 제1 처리용 부
5 : 제2 처리용 부
5' : 제2 처리용 면
6 : A액용 유로
7 : B액용 유로
10 : A액 탱크
11 : A액용 열교환기
20 : B액 용기
21 : 스터러
22 : B액용 펌프
23 : B액용 열교환기
30 : 특허문헌 1에 기재된 입자가 속하는 영역
31 : 특허문헌 2에 기재된 입자가 속하는 영역
32 : 특허문헌 3에 기재된 입자가 속하는 영역
33 : 특허문헌 4에 기재된 입자가 속하는 영역
40 : 본 발명에 관련된 은 입자가 속하는 영역
1: forced thin film reaction device
2: rotation drive mechanism
3: processing unit
4: first processing unit
5: second processing unit
5 ': 2nd processing surface
6: Euro for Liquid A
7: Euro for Liquid B
10: Liquid A tank
11: heat exchanger for liquid A
20: liquid B container
21 : Stirrer
22: pump for liquid B
23: B liquid heat exchanger
30: region to which the particles described in Patent Document 1 belong
31: region to which the particles described in Patent Document 2 belong
32: region to which the particles described in Patent Document 3 belong
33: region to which the particles described in Patent Document 4 belong
40: region to which silver particles according to the present invention belong

Claims (3)

중심부로부터 방사상으로 돌출한 돌기를 가지고,
평균 입자 직경(D)이 0.1∼10㎛이며,
비표면적(S)이 0.1∼10㎡/g이고,
은 입자의 진비중(眞比重)(ρ)과 평균 입자 직경(D)과 비표면적(S)의 곱이 12 이상 24 이하인,
은 입자.
With protrusions protruding radially from the center,
The average particle diameter (D) is 0.1 to 10 μm,
The specific surface area (S) is 0.1 to 10 m 2 / g,
The product of the true specific gravity (ρ) of the silver particles, the average particle diameter (D), and the specific surface area (S) is 12 or more and 24 or less,
silver particles.
제1항에 있어서,
탭 밀도가 2∼4g/㎤인, 은 입자.
According to claim 1,
Silver particles having a tap density of 2 to 4 g/cm 3 .
접근·이격 가능하게 서로 대향하여 배치되고, 적어도 한쪽이 다른 쪽에 대하여 회전하는 제1 처리용 면과 제2 처리용 면을 가지는 처리용 부(部)를 구비한 강제 박막 반응 장치를 사용하여, 액상(液相)의 반응계 중에서 은 이온을 환원함으로써, 은 입자를 석출시키는 은 입자의 제조 방법에 있어서,
제1 처리용 면과 제2 처리용 면 사이에, 상기 액상으로 되는 피처리 유동체를 도입하고, 이 피처리 유동체의 압력에 의해 제1 처리용 면으로부터 제2 처리용 면을 이격시키는 방향으로 이동시키는 힘을 발생시키고, 이 힘에 의해, 제1 처리용 면과 제2 처리용 면 사이가 미소한 간격으로 유지되고, 이 미소 간격으로 유지된 제1 처리용 면과 제2 처리용 면 사이를 통과하는 상기 피처리 유동체가 박막 유체를 형성하고, 상기 박막 유체 중에서 상기 금속 이온과 환원제가 반응함으로써 은 입자가 얻어지는 것으로서,
상기 피처리 유체에서의 질산은과 환원제의 함유 비율이, 몰비(질산은/환원제)로 0.3∼0.9이고,
상기 처리용 부의 회전수가 2000∼5000rpm이며,
상기 처리용 부에서의 배압이, 0.005∼0.05MPa인,
은 입자의 제조 방법.
By using a forced thin-film reactor having a processing portion having a first processing surface and a second processing surface disposed opposite to each other so as to be approachable and spaced apart and having at least one side rotating with respect to the other side, the liquid phase A method for producing silver particles in which silver particles are precipitated by reducing silver ions in a reaction system of a liquid phase, the method comprising:
Between the 1st handling surface and the 2nd handling surface, the said fluid to be processed which becomes the liquid phase is introduced, and the pressure of this to-be-processed fluid moves in the direction which separates the 2nd handling surface from the 1st handling surface. By this force, the 1st processing with face and the 2nd processing with face are held at a minute interval, and the 1st processing with this minute interval is held between the face and the 2nd processing with face. The passing fluid forms a thin film fluid, and silver particles are obtained by reacting the metal ion with the reducing agent in the thin film fluid,
The content ratio of silver nitrate and reducing agent in the fluid to be treated is 0.3 to 0.9 in terms of molar ratio (silver nitrate/reducing agent);
The rotational speed of the processing portion is 2000 to 5000 rpm,
The back pressure in the processing part is 0.005 to 0.05 MPa,
A method for producing silver particles.
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