KR20220170650A - Artificial marble having high light transmittance - Google Patents

Artificial marble having high light transmittance Download PDF

Info

Publication number
KR20220170650A
KR20220170650A KR1020210081753A KR20210081753A KR20220170650A KR 20220170650 A KR20220170650 A KR 20220170650A KR 1020210081753 A KR1020210081753 A KR 1020210081753A KR 20210081753 A KR20210081753 A KR 20210081753A KR 20220170650 A KR20220170650 A KR 20220170650A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
artificial marble
less
weight
particles
particle size
Prior art date
Application number
KR1020210081753A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102706092B1 (en
Inventor
이중헌
김예찬
김동희
서주환
최영우
예성훈
조홍관
Original Assignee
(주)엘엑스하우시스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)엘엑스하우시스 filed Critical (주)엘엑스하우시스
Priority to KR1020210081753A priority Critical patent/KR102706092B1/en
Priority claimed from KR1020210081753A external-priority patent/KR102706092B1/en
Publication of KR20220170650A publication Critical patent/KR20220170650A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102706092B1 publication Critical patent/KR102706092B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B26/00Compositions of mortars, concrete or artificial stone, containing only organic binders, e.g. polymer or resin concrete
    • C04B26/02Macromolecular compounds
    • C04B26/10Macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C04B26/18Polyesters; Polycarbonates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C67/00Shaping techniques not covered by groups B29C39/00 - B29C65/00, B29C70/00 or B29C73/00
    • B29C67/24Shaping techniques not covered by groups B29C39/00 - B29C65/00, B29C70/00 or B29C73/00 characterised by the choice of material
    • B29C67/242Moulding mineral aggregates bonded with resin, e.g. resin concrete
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44DECORATIVE ARTS
    • B44FSPECIAL DESIGNS OR PICTURES
    • B44F1/00Designs or pictures characterised by special or unusual light effects
    • B44F1/06Designs or pictures characterised by special or unusual light effects produced by transmitted light, e.g. transparencies, imitations of glass paintings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B14/00Use of inorganic materials as fillers, e.g. pigments, for mortars, concrete or artificial stone; Treatment of inorganic materials specially adapted to enhance their filling properties in mortars, concrete or artificial stone
    • C04B14/02Granular materials, e.g. microballoons
    • C04B14/04Silica-rich materials; Silicates
    • C04B14/06Quartz; Sand
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B14/00Use of inorganic materials as fillers, e.g. pigments, for mortars, concrete or artificial stone; Treatment of inorganic materials specially adapted to enhance their filling properties in mortars, concrete or artificial stone
    • C04B14/02Granular materials, e.g. microballoons
    • C04B14/04Silica-rich materials; Silicates
    • C04B14/22Glass ; Devitrified glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B20/00Use of materials as fillers for mortars, concrete or artificial stone according to more than one of groups C04B14/00 - C04B18/00 and characterised by shape or grain distribution; Treatment of materials according to more than one of the groups C04B14/00 - C04B18/00 specially adapted to enhance their filling properties in mortars, concrete or artificial stone; Expanding or defibrillating materials
    • C04B20/0076Use of materials as fillers for mortars, concrete or artificial stone according to more than one of groups C04B14/00 - C04B18/00 and characterised by shape or grain distribution; Treatment of materials according to more than one of the groups C04B14/00 - C04B18/00 specially adapted to enhance their filling properties in mortars, concrete or artificial stone; Expanding or defibrillating materials characterised by the grain distribution
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B20/00Use of materials as fillers for mortars, concrete or artificial stone according to more than one of groups C04B14/00 - C04B18/00 and characterised by shape or grain distribution; Treatment of materials according to more than one of the groups C04B14/00 - C04B18/00 specially adapted to enhance their filling properties in mortars, concrete or artificial stone; Expanding or defibrillating materials
    • C04B20/0076Use of materials as fillers for mortars, concrete or artificial stone according to more than one of groups C04B14/00 - C04B18/00 and characterised by shape or grain distribution; Treatment of materials according to more than one of the groups C04B14/00 - C04B18/00 specially adapted to enhance their filling properties in mortars, concrete or artificial stone; Expanding or defibrillating materials characterised by the grain distribution
    • C04B20/008Micro- or nanosized fillers, e.g. micronised fillers with particle size smaller than that of the hydraulic binder
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/01Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
    • C08K3/013Fillers, pigments or reinforcing additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L67/00Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L67/06Unsaturated polyesters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2111/00Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
    • C04B2111/80Optical properties, e.g. transparency or reflexibility
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02WCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W30/00Technologies for solid waste management
    • Y02W30/50Reuse, recycling or recovery technologies
    • Y02W30/91Use of waste materials as fillers for mortars or concrete

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Civil Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

The present invention is to provide artificial marble having excellent light transmittance. The artificial marble of the present invention comprises a binder resin, inorganic particles and quartz powder. The inorganic particles include inorganic particles of which the particle size is 0.7 mm or more and particles of which the particle size is less than 0.7 mm.

Description

높은 광 투과도를 갖는 인조대리석{ARTIFICIAL MARBLE HAVING HIGH LIGHT TRANSMITTANCE}Artificial marble with high light transmittance {ARTIFICIAL MARBLE HAVING HIGH LIGHT TRANSMITTANCE}

본 발명은 높은 광 투과도를 갖는 인조대리석에 대한 것이다.The present invention relates to artificial marble having high light transmittance.

엔지니어드 스톤은 이스톤이라고도 불리는 인조대리석으로, 천연석과 비슷한 질감과 느낌을 갖는 인테리어 소재이다. 업계에서는 인조대리석의 발색 및 모양 등을 개선하여 미감을 증진시키는 연구들이 이루어져 왔는데, 예컨대, 한국등록특허 10-1270415호는 마블칩을 이용하여 무늬 및 외관을 다양화한 인조대리석을 개시하고 있다. 엔지니어드 스톤은 실내 바닥, 벽 장식, 주방 상판 등에서 수요가 점차 증가하고 있으며, 화강암과 대리석 계열의 천연 석종들을 모사한 제품들이 주를 이루어 왔다. Engineered stone is an artificial marble, also called easton, and is an interior material that has a texture and feel similar to that of natural stone. In the industry, studies have been made to enhance aesthetics by improving the color and shape of artificial marble. For example, Korean Patent Registration No. 10-1270415 discloses artificial marble with various patterns and appearances using marble chips. Demand for engineered stone is gradually increasing for interior floors, wall decorations, kitchen tops, etc., and products imitating natural stone species such as granite and marble have been the main products.

그러나 최근 인테리어 시장에서는 보다 고급스러운 무늬를 갖는 규암(quartzite)에 대한 관심이 점차 높아지고 있는 추세이다. 이러한 트렌드를 반영하여 이스톤 업계에서도 해당 석종을 구현하고자 많은 노력을 기울이고 있다.However, interest in quartzite having a more luxurious pattern is gradually increasing in the recent interior market. Reflecting this trend, the Easton industry is making great efforts to implement the corresponding stone species.

그러나 현재의 이스톤 생산 기술로는 천연 규암류 디자인의 구현이 쉽지 않다. 기존의 이스톤 생산 공정에서 많이 사용되는 유색 안료와 불투명한 무기계 석영 입자로는 천연 규암류와 유사하며 투명하고 시각적인 깊이감이 있는 엔지니어드 스톤을 구현하기 어렵다.However, it is not easy to implement a natural quartzite design with the current E-stone production technology. Colored pigments and opaque inorganic quartz particles, which are widely used in the existing E-stone production process, are similar to natural quartzites, and it is difficult to realize engineered stones that are transparent and have a sense of visual depth.

이에 본 발명자들은 천연 규암류와 유사하면서도 광 투과도가 우수한 엔지니어드 스톤을 연구하였다.Accordingly, the present inventors studied an engineered stone that is similar to natural quartzites but has excellent light transmittance.

본 발명의 목적은 광 투과도가 우수한 인조대리석을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide artificial marble having excellent light transmittance.

본 발명의 일 실시상태는 바인더 수지, 무기 입자 및 석영 분말을 포함하고, 상기 무기 입자는 입도가 0.7 mm 이상인 무기 입자 및 입도가 0.7 mm 미만인 입자를 포함하는 것인 인조대리석을 제공한다. An exemplary embodiment of the present invention provides artificial marble comprising a binder resin, inorganic particles, and quartz powder, wherein the inorganic particles include inorganic particles having a particle size of 0.7 mm or more and particles having a particle size of less than 0.7 mm.

본 발명의 또 하나의 실시상태에 있어서, 상기 0.7 mm 이상인 무기 입자는 상기 무기 입자 총 100 중량%를 기준으로 60 중량% 이상 80 중량% 이하로 포함된다. In another embodiment of the present invention, the inorganic particles having a size of 0.7 mm or more are included in an amount of 60 wt% or more and 80 wt% or less based on 100 wt% of the total inorganic particles.

본 발명의 또 하나의 실시상태에 있어서, 상기 입도가 0.7 mm 미만인 입자는 입도 0.1 mm 이상 0.3 mm 미만인 입자 및 입도 0.3 mm 이상 0.7 mm 미만인 입자 중 어느 한쪽 또는 둘 다를 포함한다. In another embodiment of the present invention, the particles having a particle size of less than 0.7 mm include either or both of particles having a particle size of 0.1 mm or more and less than 0.3 mm and particles having a particle size of 0.3 mm or more and less than 0.7 mm.

본 발명의 인조대리석은 우수한 광 투과성을 갖고 있으므로, 육안으로 관찰 시 천연 규암과 유사한 특징이 있다.Since the artificial marble of the present invention has excellent light transmittance, it has characteristics similar to natural quartzite when observed with the naked eye.

이하에서 본 발명을 자세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 명세서에 있어서, "광 투과성"란 가시광선이 투과하는 성질을 나타내는 것으로서, 후술하는 방법에 따른 전투과율의 측정에 의하여 평가될 수 있다. 예컨대, 광 투과성을 갖는 인조대리석 또는 인조대리석 영역은 후술하는 방법에 따라 측정되는 전투과율이 0.5 % 이상인 것을 의미할 수 있다.In this specification, "light transmittance" indicates the property of transmitting visible light, and can be evaluated by measuring transmittance according to a method described later. For example, the artificial marble or artificial marble region having light transmittance may mean that the combat transmittance measured according to the method described below is 0.5% or more.

본 발명의 일 실시상태는 바인더 수지, 무기 입자 및 석영 분말을 포함하고, 상기 무기 입자는 입도가 0.7 mm 이상인 무기 입자 및 입도가 0.7 mm 미만인 입자를 포함하는 것인 인조대리석을 제공한다. An exemplary embodiment of the present invention provides artificial marble comprising a binder resin, inorganic particles, and quartz powder, wherein the inorganic particles include inorganic particles having a particle size of 0.7 mm or more and particles having a particle size of less than 0.7 mm.

상기 실시상태에 따른 인조대리석은, 무기 입자로서 입도가 상이한 2종 이상을 포함하고, 그 중 1종 이상이 0.7 mm 이상인 무기 입자인 것을 특징으로 한다. 이와 같이 입도가 0.7 mm 이상인 무기 입자를 사용함으로써 빛이 통과하는 매질(물질)들 간의 계면수를 감소시킬 수 있고, 이에 의하여 빛이 물질간의 계면에서 굴절하는 것을 최소화할 수 있으므로, 인조대리석의 광 투과율을 증대할 수 있다. The artificial marble according to the embodiment is characterized in that it includes two or more types of inorganic particles having different particle sizes, and at least one of them is an inorganic particle having a size of 0.7 mm or more. As such, by using inorganic particles having a particle size of 0.7 mm or more, the number of interfaces between materials (substances) through which light passes can be reduced, thereby minimizing the refraction of light at interfaces between materials. transmittance can be increased.

일 실시상태에 따르면, 상기 0.7 mm 이상인 무기 입자는 상기 무기 입자 총 100 중량%를 기준으로 60 중량% 이상 80 중량% 이하로 포함된다. 이와 같은 범위내의 함량이, 매질(물질)들 간의 계면수를 감소시켜 광 투과율을 증대시키는데 유리하다.According to one embodiment, the inorganic particles having a size of 0.7 mm or more are included in an amount of 60 wt% or more and 80 wt% or less based on 100 wt% of the total inorganic particles. A content within this range is advantageous for increasing light transmittance by reducing the number of interfaces between media (substances).

또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 입도가 0.7 mm 미만인 입자는 입도 0.1 mm 이상 0.3 mm 미만인 입자를 포함할 수 있다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 입도가 0.7 mm 미만인 입자는 입도 0.3 mm 이상 0.7 mm 미만인 입자를 포함할 수 있다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 입도가 0.7 mm 미만인 입자는 입도 0.1 mm 이상 0.3 mm 미만인 입자 및 입도 0.3 mm 이상 0.7 mm 미만인 입자를 모두 포함할 수 있다. 전술한 바와 같이, 입도가 0.7 mm 이상인 무기 입자를 사용하여 매질(물질)들 간의 계면수를 감소함과 동시에, 입도가 0.7 mm 미만인 상대적으로 작은 무기 입자를 사용하여 상대적으로 큰 무기 입자들 사이의 공간을 채움으로써 진동 압축시 완전한 다짐 상태를 만들 수 있고, 이것이 인조대리석의 물성에 유리하다. According to another exemplary embodiment, the particles having a particle size of less than 0.7 mm may include particles having a particle size of 0.1 mm or more and less than 0.3 mm. According to another exemplary embodiment, the particles having a particle size of less than 0.7 mm may include particles having a particle size of 0.3 mm or more and less than 0.7 mm. According to another embodiment, the particles having a particle size of less than 0.7 mm may include both particles having a particle size of 0.1 mm or more and less than 0.3 mm and particles having a particle size of 0.3 mm or more and less than 0.7 mm. As described above, the number of interfaces between mediums (substances) is reduced by using inorganic particles with a particle size of 0.7 mm or more, and at the same time, the number of interfaces between relatively large inorganic particles is reduced by using relatively small inorganic particles with a particle size of less than 0.7 mm. By filling the space, it is possible to create a completely compacted state during vibration compression, which is advantageous to the physical properties of artificial marble.

이하에서는 각 성분들에 대하여 설명한다. Hereinafter, each component is described.

바인더 수지binder resin

본 발명의 인조대리석 및/또는 인조대리석의 영역은 바인더 수지를 포함한다. The artificial marble and/or the region of the artificial marble of the present invention includes a binder resin.

일 예에 따르면, 상기 바인더 수지의 굴절율은 1.52 내지 1.56일 수 있다. According to one example, the refractive index of the binder resin may be 1.52 to 1.56.

일 실시상태에 따르면, 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르(unsaturated polyester, UPE) 수지 및 폴리메틸메타크릴레이트 중 적어도 하나를 포함한다. According to one embodiment, the binder resin includes at least one of an unsaturated polyester (UPE) resin and polymethyl methacrylate.

일 실시상태에 따르면, 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르(unsaturated polyester, UPE) 수지를 포함하는 바인더 수지이다. 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지를 90 중량% 이상 포함할 수 있다. According to one embodiment, the binder resin is a binder resin including an unsaturated polyester (UPE) resin. The binder resin may include 90% by weight or more of an unsaturated polyester resin.

또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지 100 중량부에 대하여 경화제 0.4 내지 2.5 중량부, 촉매제 0.05 내지 0.3 중량부, 및 커플링제 0.5 내지 7 중량부를 혼합하고 분산시킨 후 경화하여 제조할 수 있다.According to another embodiment, the binder resin is mixed with 0.4 to 2.5 parts by weight of a curing agent, 0.05 to 0.3 parts by weight of a catalyst, and 0.5 to 7 parts by weight of a coupling agent based on 100 parts by weight of an unsaturated polyester resin, dispersed, and then cured. can be manufactured

상기 불포화 폴리에스테르 수지는 불포화 폴리에스테르 고분자 및 비닐계 단량체를 포함하는 수지 혼합물을 이용하여 제조될 수 있다. 바람직하게는 상기 불포화 폴리에스테르 수지는 불포화 폴리에스테르 고분자 및 비닐계 단량체를 100 : 30 내지 70 중량비로 포함하는 조성물을 이용하여 제조한다. 더욱 바람직하게는 상기 불포화 폴리에스테르 수지는 불포화 폴리에스테르 고분자 60 중량% 내지 75 중량% 및 비닐계 단량체 25 중량% 내지 40 중량%로 이루어지는 조성물을 이용하여 제조한다. The unsaturated polyester resin may be prepared using a resin mixture including an unsaturated polyester polymer and a vinyl monomer. Preferably, the unsaturated polyester resin is prepared using a composition containing an unsaturated polyester polymer and a vinyl monomer in a weight ratio of 100:30 to 70. More preferably, the unsaturated polyester resin is prepared using a composition comprising 60% to 75% by weight of an unsaturated polyester polymer and 25% to 40% by weight of a vinyl monomer.

상기 불포화 폴리에스테르 수지는 통상적으로 상기 비닐계 단량체 내에 불포화 폴리에스테르 고분자가 희석되어 점성이 있는 용액일 수 있다. 따라서, 상기 비닐계 단량체를 전술한 범위의 함량으로 만족시킴으로써, 점도를 줄여주어 상기 불포화 폴리에스테르 수지를 취급하는데 더욱 용이하게 할 수 있다. 게다가 상기 비닐계 단량체는 부산물의 생성 없이, 상기 불포화 폴리에스테르 수지를 폴리에스테르 분자 사슬의 교차결합에 의해 액체에서 고체로 경화시킬 수 있다. 상기 불포화 폴리에스테르 수지의 중량평균분자량은 1,000-10,000 g/mol이다. The unsaturated polyester resin may be a viscous solution in which the unsaturated polyester polymer is usually diluted in the vinyl monomer. Therefore, by satisfying the content of the vinyl-based monomer within the above-mentioned range, the viscosity can be reduced, making it easier to handle the unsaturated polyester resin. In addition, the vinyl-based monomer can cure the unsaturated polyester resin from a liquid to a solid through cross-linking of polyester molecular chains without generating by-products. The weight average molecular weight of the unsaturated polyester resin is 1,000-10,000 g/mol.

상기 불포화 폴리에스테르 고분자는 특별히 제한되지 않으며, 예컨대, 포화 또는 불포화 이염기산; 및 다가 알코올의 축합반응을 통해 제조되는 불포화 폴리에스테르 고분자를 사용할 수 있다. 상기 포화 또는 불포화 이염기산으로는 오쏘(ortho)-프탈산, 이소프탈산, 무수말레산, 시트라콘산, 푸마르산, 이타콘산, 프탈산, 무수프탈산, 테레프탈산, 호박산, 아디핀산, 세바신산 또는 테트라히드로프탈산을 사용할 수 있다. 또한, 상기 다가 알코올로는 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 트리프로필렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 1,3-부틸렌 글리콜, 수소화 비스페놀 A, 트리메틸롤 프로판 모노아릴에테르, 네오펜틸 글리콜, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜타디올 및/또는 글리세린을 사용할 수 있다. 또한, 필요에 따라서 아크릴산, 프로피온산 또는 안식향산과 같은 일염기산; 또는 트리멜리트산 또는 벤졸의 테트라카본산과 같은 다염기산을 더 사용할 수 있다.The unsaturated polyester polymer is not particularly limited, and examples include saturated or unsaturated dibasic acids; and an unsaturated polyester polymer prepared through a condensation reaction of a polyhydric alcohol. Examples of the saturated or unsaturated dibasic acid include ortho-phthalic acid, isophthalic acid, maleic anhydride, citraconic acid, fumaric acid, itaconic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, terephthalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid or tetrahydrophthalic acid. can be used In addition, as the polyhydric alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-butylene glycol, hydrogenated bisphenol A, trimethylolpropane monoaryl Ether, neopentyl glycol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentadiol and/or glycerin may be used. In addition, if necessary, a monobasic acid such as acrylic acid, propionic acid or benzoic acid; Alternatively, a polybasic acid such as trimellitic acid or tetracarboxylic acid of benzol may be further used.

상기 비닐계 단량체의 종류로는 알킬 아크릴레이트 단량체 또는 방향족 비닐계 단량체를 사용할 수 있으나, 불포화 폴리에스테르 고분자와의 반응성을 고려하여, 방향족 비닐계 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. 예컨대, 상기 방향족 비닐계 단량체로는 스티렌, α-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 비닐 톨루엔, 탄소수 1 내지 3의 알킬기로 치환된 알킬 스티렌 및 할로겐으로 치환된 스티렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 스티렌 단량체를 사용할 수 있다.As the type of the vinyl monomer, an alkyl acrylate monomer or an aromatic vinyl monomer may be used, but it is preferable to use an aromatic vinyl monomer in consideration of reactivity with an unsaturated polyester polymer. For example, as the aromatic vinyl monomer, at least one selected from the group consisting of styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyl toluene, alkyl styrene substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and styrene substituted with a halogen may be used. may be used, and preferably, a styrene monomer may be used.

상기 경화제는 바인더의 경화 반응을 위해 포함될 수 있는 것으로, 인조대리석, 특히 엔지니어드 스톤의 제조에 사용되는 경화제를 사용하면 되고 특별히 제한되는 것은 아니다. 상기 경화제는 유기퍼옥사이드계 화합물 또는 아조계 화합물일 수 있다. 상기 유기퍼옥사이드계 화합물은 터트부틸퍼옥시벤조에이트 열경화제(TBPB, Trigonox C, akzo nobel), 디아실퍼옥사이드, 하이드로퍼옥사이드, 케톤퍼옥사이드, 퍼옥시에스테르, 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드, 알킬 퍼에스테르, 퍼카보네이트 및 퍼옥시디카보네이트 중 선택된 1종 또는 2종 이상일 수 있다. 일 예로, 터트부틸퍼옥시벤조에이트 열경화제, 벤조일퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 부틸하이드로퍼옥사이드, 쿠밀하이드로 퍼옥사이드, 과산화메틸에틸케톤, t-부틸 퍼옥시 말레산, t-부틸 하이드로 퍼옥사이드, 아세틸 퍼옥사이드, 라우로일 퍼옥사이드, t-부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 또는 t--아밀 퍼옥시 2-에틸 헥사노에이트일 수 있으나 반드시 이로 제한되는 것은 아니다.The curing agent may be included for the curing reaction of the binder, and may use a curing agent used in the manufacture of artificial marble, particularly engineered stone, and is not particularly limited. The curing agent may be an organic peroxide-based compound or an azo-based compound. The organic peroxide-based compound is a tert-butyl peroxybenzoate heat curing agent (TBPB, Trigonox C, akzo novel), diacyl peroxide, hydroperoxide, ketone peroxide, peroxy ester, peroxy ketal, dialkyl peroxide, It may be one or two or more selected from among alkyl peresters, percarbonates, and peroxydicarbonates. For example, tert-butyl peroxybenzoate heat curing agent, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, butyl hydroperoxide, cumyl hydroperoxide, methyl ethyl ketone peroxide, t-butyl peroxy maleic acid, t-butyl hydroperoxide, It may be acetyl peroxide, lauroyl peroxide, t-butyl peroxy neodecanoate, or t-amyl peroxy 2-ethyl hexanoate, but is not necessarily limited thereto.

또한 상기 아조계 화합물은 아조비스이소부티로니트릴(azobisisobutyronitrile)일 수 있으나 반드시 이로 제한되는 것은 아니다. 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지 100 중량부에 대하여 경화제 0.4 내지 2.5 중량부를 포함할 수 있다. 상기 경화제가 0.4 중량부 이상으로 포함될 때 바인더의 경화가 충분히 일어날 수 있고, 2.5 중량부 이하로 포함될 때 바인더의 변색 발생을 방지할 수 있다. In addition, the azo-based compound may be azobisisobutyronitrile (azobisisobutyronitrile), but is not necessarily limited thereto. The binder resin may include 0.4 to 2.5 parts by weight of a curing agent based on 100 parts by weight of the unsaturated polyester resin. When the curing agent is included in an amount of 0.4 parts by weight or more, the binder may be sufficiently cured, and when included in an amount of 2.5 parts by weight or less, discoloration of the binder may be prevented.

상기 촉매제로는 저온에서 바인더의 경화를 촉진하기 위해 포함될 수 있는 것으로, 인조대리석, 특히 엔지니어드 스톤의 제조에 사용되는 촉매제를 사용하면 되고 특별히 제한되는 것은 아니다. 상기 촉매제는 코발트계, 바나듐계 또는 망간계 등의 금속 비누류, 제3급 아민류, 제4급 암모늄염 및 메르캅탄류 중 선택된 1종 또는 2종 이상일 수 있다. 예컨대 코발트 6% 촉매제(Hex-Cem, Borchers)가 사용될 수 있다. 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지 100 중량부에 대하여 상기 촉매제는 0.05 내지 0.3 중량부로 포함될 수 있다. 상기 촉매제가 0.05 중량부 이상으로 포함될 때 경화를 촉진하는 데 유리하고, 0.3 중량부 이하로 포함될 때 바인더의 변색 발생을 방지할 수 있다. The catalyst may be included to promote curing of the binder at a low temperature, and a catalyst used in the manufacture of artificial marble, particularly engineered stone, may be used and is not particularly limited. The catalyst may be one or two or more selected from metal soaps such as cobalt, vanadium, or manganese, tertiary amines, quaternary ammonium salts, and mercaptans. For example, a cobalt 6% catalyst (Hex-Cem, Borchers) can be used. The binder resin may include 0.05 to 0.3 parts by weight of the catalyst based on 100 parts by weight of the unsaturated polyester resin. When the catalyst is included in an amount of 0.05 parts by weight or more, it is advantageous to promote curing, and when included in an amount of 0.3 parts by weight or less, discoloration of the binder may be prevented.

상기 커플링제는 상기 바인더 수지와 무기입자 및/또는 석영 분말과의 결합력을 향상시켜 주기 위해 포함될 수 있는 것으로, 실란계 또는 실리케이트계일 수 있다. 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지 100 중량부에 대하여 상기 커플링제는 0.5 내지 7 중량부로 포함될 수 있다. 상기 커플링제가 0.5 중량부 이상으로 포함될 때 상기 무기입자 및/또는 석영 분말과의 결합력을 향상시키는 데 유리하고, 7 중량부 이하로 포함될 때 원재료 단가를 낮추는데 유리하다.The coupling agent may be included to improve bonding strength between the binder resin and inorganic particles and/or quartz powder, and may be a silane-based or silicate-based coupling agent. The binder resin may include 0.5 to 7 parts by weight of the coupling agent based on 100 parts by weight of the unsaturated polyester resin. When the coupling agent is included in an amount of 0.5 parts by weight or more, it is advantageous to improve bonding strength with the inorganic particles and/or quartz powder, and when it is included in an amount of 7 parts by weight or less, it is advantageous to lower the cost of raw materials.

무기 입자inorganic particles

본 발명의 인조대리석 및/또는 인조대리석의 영역은 무기 입자를 포함한다. 일 예에 따르면, 상기 무기 입자는 입도가 0.7 mm 이상인 무기 입자 및 입도가 0.7 mm 미만인 입자를 포함한다. The artificial marble and/or the region of the artificial marble of the present invention includes inorganic particles. According to one example, the inorganic particles include inorganic particles having a particle size of 0.7 mm or more and particles having a particle size of less than 0.7 mm.

상기 입도가 0.7 mm 이상인 무기 입자는 입도가 0.7 mm 내지 1.2 mm일 수 있다. The inorganic particles having a particle size of 0.7 mm or more may have a particle size of 0.7 mm to 1.2 mm.

상기 입도가 0.7 mm 미만인 입자는 입도 0.1 mm 이상 0.3 mm 미만인 입자 및 입도 0.3 mm 이상 0.7 mm 미만인 입자 중 어느 한쪽 또는 둘 다를 포함할 수 있다. The particles having a particle size of less than 0.7 mm may include either or both of particles having a particle size of 0.1 mm or more and less than 0.3 mm and particles having a particle size of 0.3 mm or more and less than 0.7 mm.

상기 0.1 mm 이상 0.3 mm 미만인 입자는, 전체 무기 입자 함량 100 중량% 중 1 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있고, 1 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있으며, 3 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있고, 예컨대 5 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. The particles having a size of 0.1 mm or more and less than 0.3 mm may be included in 1 wt% to 40 wt%, 1 wt% to 20 wt%, and 3 wt% to 15 wt% based on 100 wt% of the total inorganic particle content. It may be included, for example, may be included in 5% to 10% by weight.

상기 0.3 mm 이상 0.7 mm 미만인 입자는, 전체 무기 입자 함량 100 중량% 중 1 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있고, 10 중량% 내지 35 중량%로 포함될 수 있으며, 15 중량% 내지 30 중량%로 포함될 수 있으며, 예컨대 20 중량% 내지 25 중량%로 포함될 수 있다.The particles having a size of 0.3 mm or more and less than 0.7 mm may be included in 1% to 40% by weight, 10% to 35% by weight, or 15% to 30% by weight, based on 100% by weight of the total inorganic particle content. It may be included, for example, may be included in 20% by weight to 25% by weight.

상기 무기 입자는 비정질 실리카 입자, 유리 입자, 결정질 석영 입자 등이 될 수 있다. 또한 본 발명의 무기 입자는 비정질 실리카 입자, 및 결정질 석영 입자로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상일 수 있다. 상기 입도는 Beckman coulter LS 13 320 Particle size analyzer 입도분석기를 사용하여 측정할 수 있다. The inorganic particles may be amorphous silica particles, glass particles, crystalline quartz particles, and the like. In addition, the inorganic particles of the present invention may be at least one selected from the group consisting of amorphous silica particles and crystalline quartz particles. The particle size may be measured using a Beckman coulter LS 13 320 Particle size analyzer particle size analyzer.

바람직하게는 상기 무기 입자는 비정질 실리카 입자, 바륨 이온을 포함하는 유리 입자 및/또는 SiO2 함량이 99.5 중량% 이상이고 100 중량% 이하인 결정질 석영 입자이다. 더욱 바람직하게는 본 발명의 무기 입자는 비정질 실리카 입자, 내 바륨(Ba) 이온 함량이 10 중량% 이상 35 중량% 이하인 유리 입자 및/또는 SiO2 함량이 99.5 중량% 이상이고 100 중량% 이하인 결정질 석영 입자이다. 더욱 바람직하게는 본 발명의 무기 입자는 비정질 실리카 입자, 입자 내 바륨(Ba) 이온 함량이 10 중량% 이상 35 중량% 이하인 유리 입자이다. Preferably, the inorganic particles are amorphous silica particles, glass particles containing barium ions, and/or crystalline quartz particles having an SiO 2 content of 99.5% by weight or more and 100% by weight or less. More preferably, the inorganic particles of the present invention are amorphous silica particles, glass particles having a barium (Ba) ion content of 10% by weight or more and 35% by weight or less, and/or crystalline quartz having a SiO 2 content of 99.5% by weight or more and 100% by weight or less. is a particle More preferably, the inorganic particles of the present invention are amorphous silica particles and glass particles having a barium (Ba) ion content of 10% by weight or more and 35% by weight or less.

본 발명의 무기 입자로 비정질 실리카 입자 또는 입자 내 바륨(Ba) 이온 함량이 10 중량% 이상 35 중량% 이하인 유리 입자를 사용하여 제조한 인조대리석은 무기 입자로 SiO2 함량이 99.5 중량% 이상이고 100 중량% 이하인 결정질 석영 입자를 사용하여 제조한 인조대리석보다 광 투과도가 더 높다. 또한 본 발명의 무기 입자로 비정질 실리카 입자 또는 입자 내 바륨(Ba) 이온 함량이 10 중량% 이상 35 중량% 이하인 유리 입자를 사용하여 제조한 인조대리석은 무기 입자로 SiO2 함량이 99.5 중량% 이상이고 100 중량% 이하인 결정질 석영 입자를 사용하여 제조한 인조대리석보다 휘도가 더 높다.Artificial marble manufactured using amorphous silica particles or glass particles having a barium (Ba) ion content of 10% by weight or more and 35% by weight or less as inorganic particles of the present invention is an inorganic particle with a SiO 2 content of 99.5% by weight or more and 100 Light transmittance is higher than that of artificial marble manufactured using crystalline quartz particles having a weight percent or less. In addition, the artificial marble prepared using amorphous silica particles or glass particles having a barium (Ba) ion content of 10% by weight or more and 35% by weight or less as the inorganic particles of the present invention has a SiO 2 content of 99.5% by weight or more as an inorganic particle It has higher luminance than artificial marble prepared using 100% by weight or less of crystalline quartz particles.

본 발명의 무기 입자는 비정질 실리카 입자일 수 있다. 실리카 입자는 인조대리석 분야에서 일반적으로 사용되는 용어로, 일반적으로 SiO2 함량이 90 중량 % 이상으로 높고 SiO2 외에도 광물 등의 다른 성분이 소량 함유하는 SiO2 계 무기 입자를 의미하는 것이 일반적이다. 본 발명의 비정질 실리카 입자는 비정질 용융 실리카 입자일 수 있으며, 본 발명의 비정질 실리카 입자는 고투명 비정질 용융 실리카 입자로도 본 명세서에서 불릴 수 있다. 상기 비정질 용융 실리카 입자는 입도가 0.1 내지 4.0 mm 인 비정질 용융 실리카 입자일 수 있다. 또한 상기 비정질 용융 실리카 입자는 SiO2 함량이 99.5 내지 100 중량%, 바람직하게는 99.6 내지 100 중량%, 더욱 바람직하게는 99.7 내지 100 중량%이다. 또한, 상기 비정질 용융 실리카 입자는 알루미나 함량이 0.5 중량% 이하, 바람직하게는 0.4 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 0.3 중량% 이하, 더욱 더 바람직하게는 0.2 중량% 이하인 것일 수 있다. 비정질 실리카 입자 내 SiO2 함량이 99.5 중량% 이상, 바람직하게는 99.6 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 99.7 중량% 이상이면 인조대리석의 광 투과도는 더욱 좋아진다.The inorganic particles of the present invention may be amorphous silica particles. Silica particles are a term commonly used in the field of artificial marble, and generally mean SiO 2 -based inorganic particles having a high SiO 2 content of 90% by weight or more and a small amount of other components such as minerals in addition to SiO 2 . The amorphous silica particles of the present invention may be amorphous fused silica particles, and the amorphous silica particles of the present invention may also be referred to herein as highly transparent amorphous fused silica particles. The amorphous fused silica particles may be amorphous fused silica particles having a particle size of 0.1 to 4.0 mm. In addition, the amorphous fused silica particles have a SiO 2 content of 99.5 to 100% by weight, preferably 99.6 to 100% by weight, more preferably 99.7 to 100% by weight. In addition, the amorphous fused silica particles may have an alumina content of 0.5% by weight or less, preferably 0.4% by weight or less, more preferably 0.3% by weight or less, and even more preferably 0.2% by weight or less. When the SiO 2 content in the amorphous silica particles is 99.5% by weight or more, preferably 99.6% by weight or more, and more preferably 99.7% by weight or more, the light transmittance of the artificial marble is further improved.

본 발명의 비정질 실리카 입자 및 결정질 석영 입자의 SiO2의 함량은 XRF(X-Ray Fluorescence spectroscopy)로 함량을 정량분석하여 확인할 수 있다. 또한, 결정질 입자들 및 비정질 입자들은 XRD (X-ray diffraction)로 확인이 가능하다. XRF는 일반적으로 입자들을 펠렛으로 만든 후 측정하여 확인할 수 있고, XRD는 입자 상태 또는 인조대리석 상태에서 측정하여 확인할 수 있다. The content of SiO 2 in the amorphous silica particles and crystalline quartz particles of the present invention can be confirmed by quantitatively analyzing the content using XRF (X-Ray Fluorescence Spectroscopy). In addition, crystalline particles and amorphous particles can be confirmed by XRD (X-ray diffraction). XRF can generally be confirmed by measuring particles after making them into pellets, and XRD can be confirmed by measuring particles or artificial marble.

본 발명의 무기 입자는 바륨 이온을 포함하는 유리 입자일 수 있다. 바람직하게는 본 발명의 유리 입자는 입자 내 바륨(Ba) 이온 함량이 10 중량% 이상 35 중량% 이하이고 더욱 바람직하게는 15 중량% 이상 25 중량% 이하이다.The inorganic particles of the present invention may be glass particles containing barium ions. Preferably, the glass particles of the present invention have a barium (Ba) ion content of 10 wt% or more and 35 wt% or less, more preferably 15 wt% or more and 25 wt% or less.

유리는 비정질이므로, 본 발명의 바륨 이온을 포함하는 유리 입자는 고투명 비정질 유리 입자로도 본 명세서에서 불릴 수 있다. 이때, 고투명이란 가시광선의 투과도가 90% 이상 100% 이하인 것을 의미하며, 구체적으로 입자로 분쇄 전 유리 판형 기준으로, UV/VIS 분광 광도계로 측정시 가시광선 영역에서 90% 이상의 투과도를 갖는 것을 의미한다.Since glass is amorphous, the barium ion-containing glass particles of the present invention may also be referred to herein as highly transparent amorphous glass particles. At this time, high transparency means that the transmittance of visible light is 90% or more and 100% or less, and specifically, it means having a transmittance of 90% or more in the visible ray region when measured with a UV / VIS spectrophotometer on a glass plate-shaped basis before grinding into particles. .

상기 유리 입자 내 바륨 이온의 함량은 엑스선 스캔에 의하여 측정할 수 있다. 엑스선 스캔에 의하여 검출 시 유리 입자 내 바륨(Ba) 이온 함량이 10 중량% 이상 35 중량% 이하 검출되는 것이 바람직하며, 15 중량% 이상 25 중량% 이하로 검출되는 것이 더욱 바람직하다. 바륨 이온 함량이 상기 범위를 벗어나더라도 유리 입자 자체의 투명도는 양호하나, 유리 입자를 이용하여 인조대리석을 제조 시 육안으로 보아도 인조대리석이 푸른빛 내지 옥색 빛을 띠어 사용하기 부적법하다. 즉, 엑스선 스캔에 의하여 검출 시 바륨(Ba) 이온 함량이 10 중량% 이상 35 중량% 이하 검출되는 유리 입자를 이용하여 인조대리석을 만들어야 푸른빛 내지 옥색 빛을 띠지 않고 색상이 양호하고 제품성이 우수한 인조대리석을 제조할 수 있다. The content of barium ions in the glass particles can be measured by X-ray scanning. When detected by X-ray scanning, the content of barium (Ba) ions in the glass particles is preferably detected at 10 wt% or more and 35 wt% or less, and more preferably at 15 wt% or more and 25 wt% or less. Even if the barium ion content is out of the above range, the transparency of the glass particles themselves is good, but when artificial marble is manufactured using the glass particles, the artificial marble is blue or jade-blue even when viewed with the naked eye, making it illegal to use. In other words, artificial marble must be made using glass particles in which the barium (Ba) ion content is detected by X-ray scanning at 10% by weight or more and 35% by weight or less, so that the color is good and the product quality is excellent. Artificial marble can be manufactured.

인조대리석 내 바륨 이온의 함량은 하기와 같이 확인할 수 있다. 바륨 이온을 포함하는 유리 입자를 사용하여 인조대리석을 제조하는 경우, 인조대리석 내에 바륨 이온이 포함되게 된다. 이렇게 바륨 이온이 일정 함량 이상 포함된 인조대리석을 엑스선을 이용하여 스캔하면, 엑스선 촬영된 이미지에 인조대리석이 푸른색으로 나타나게 된다. 유리 입자 내 바륨 이온 함량도 같은 방법으로 측정한다.The content of barium ions in artificial marble can be confirmed as follows. When artificial marble is manufactured using glass particles containing barium ions, barium ions are included in the artificial marble. When the artificial marble containing more than a certain amount of barium ions is scanned using X-rays, the artificial marble appears blue in the X-ray image. The barium ion content in the glass particles is also measured in the same way.

바람직하게는 본 발명의 유리 입자는 입도가 0.1 내지 4.0 mm 인 유리 입자일 수 있으며, 또한 입자로 분쇄 전 유리 판형 기준으로, UV/VIS 분광 광도계로 측정시 가시광선 영역에서 90% 이상의 투과도를 갖는 고투명 유리 입자일 수 있다.Preferably, the glass particles of the present invention may be glass particles having a particle size of 0.1 to 4.0 mm, and have a transmittance of 90% or more in the visible ray region as measured by a UV/VIS spectrophotometer on a glass plate basis before grinding into particles. It may be highly transparent glass particles.

본 발명의 무기 입자는 결정질 석영 입자일 수 있다. 본 발명의 결정질 석영 입자는 고투명 결정질 석영 입자로도 본 명세서에서 불릴 수 있다.The inorganic particles of the present invention may be crystalline quartz particles. The crystalline quartz particles of the present invention may also be referred to herein as high-transparency crystalline quartz particles.

이때, 결정질 석영 입자는 입도가 0.1 내지 4.0 mm 인 고투명 결정질 석영 입자일 수 있으며, 또한 SiO2 함량이 99.5 내지 100 중량%, 바람직하게는 99.6 내지 100 중량%, 더욱 바람직하게는 99.7 내지 100 중량%이다. 또한, 결정질 석영 입자는 알루미나 함량이 0.5 중량% 이하, 바람직하게는 0.4 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 0.3 중량% 이하, 더욱 더 바람직하게는 0.2 중량% 이하인 것일 수 있다.At this time, the crystalline quartz particles may be highly transparent crystalline quartz particles having a particle size of 0.1 to 4.0 mm, and the SiO 2 content is 99.5 to 100% by weight, preferably 99.6 to 100% by weight, more preferably 99.7 to 100% by weight. to be. In addition, the crystalline quartz particles may have an alumina content of 0.5% by weight or less, preferably 0.4% by weight or less, more preferably 0.3% by weight or less, and even more preferably 0.2% by weight or less.

결정질 석영 입자 내 SiO2 함량이 99.5 중량% 미만, 예컨대, 99.4 중량% 이하가 되는 경우 인조대리석의 광 투과도가 낮아질 수 있다. 그러므로 SiO2 함량이 99.5 중량% 이상인 결정질 석영 입자인 것이 바람직하다.When the content of SiO 2 in the crystalline quartz particles is less than 99.5% by weight, for example, less than 99.4% by weight, light transmittance of the artificial marble may be lowered. Therefore, crystalline quartz particles having an SiO 2 content of 99.5% by weight or more are preferred.

석영 분말quartz powder

본 발명의 인조대리석 및/또는 인조대리석의 영역은 석영 분말을 포함한다. 이때 석영 분말이란 입도가 0.1 mm 미만인 석영 분말을 의미한다. 예컨대, 석영 분말은 입도가 55 ㎛ 미만의 분말 및 입도가 55 ㎛ 이상 0.1 mm 미만의 분말 중 어느 한쪽 또는 둘 다를 포함할 수 있다. The artificial marble and/or the region of the artificial marble of the present invention includes quartz powder. In this case, the quartz powder means quartz powder having a particle size of less than 0.1 mm. For example, the quartz powder may include either or both of powder having a particle size of less than 55 μm and powder having a particle size of 55 μm or more and less than 0.1 mm.

상기 입도는 Beckman coulter LS 13 320 Particle size analyzer 입도분석기를 사용하여 측정할 수 있다. 본 발명의 석영 분말은 고투명 결정질 석영 분말로도 본 명세서에서 불릴 수 있다. The particle size may be measured using a Beckman coulter LS 13 320 Particle size analyzer particle size analyzer. The quartz powder of the present invention may also be referred to herein as a highly transparent crystalline quartz powder.

본 발명의 석영 분말은 결정질 석영 분말이며, 바람직하게는 SiO2 함량이 99.5 내지 100 중량%인 결정질 석영 분말이다. 본 발명의 석영 분말은 SiO2 함량이 99.5 내지 100 중량%, 바람직하게는 99.6 내지 100 중량%, 더욱 바람직하게는 99.7 내지 100 중량%이며 알루미나 함량이 0.5 중량% 이하, 바람직하게는 0.4 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 0.3 중량% 이하, 더욱 더 바람직하게는 0.2 중량% 이하인 것일 수 있다.The quartz powder of the present invention is a crystalline quartz powder, preferably a crystalline quartz powder having a SiO 2 content of 99.5 to 100% by weight. The quartz powder of the present invention has a SiO 2 content of 99.5 to 100% by weight, preferably 99.6 to 100% by weight, more preferably 99.7 to 100% by weight, and an alumina content of 0.5% by weight or less, preferably 0.4% by weight or less. , More preferably 0.3% by weight or less, and even more preferably 0.2% by weight or less.

본 발명의 석영 분말은 평균 SiO2 함량이 99.5 중량% 이상 100 중량% 이하인 것이 바람직하며, 평균 알루미나 함량이 0.5 중량% 이하인 것이 바람직하다.The quartz powder of the present invention preferably has an average SiO 2 content of 99.5% by weight or more and 100% by weight or less, and preferably has an average alumina content of 0.5% by weight or less.

본 발명의 석영 분말의 SiO2의 함량은 XRF(X-Ray Fluorescence spectroscopy)로 함량을 정량분석하여 확인할 수 있다. 이때 일반적으로 분말들을 펠렛으로 만든 후 측정하여 확인한다.The content of SiO 2 in the quartz powder of the present invention can be confirmed by quantitatively analyzing the content by XRF (X-Ray Fluorescence Spectroscopy). At this time, the powders are generally made into pellets and then measured and confirmed.

석영 분말은 입자의 크기가 작기 때문에 자체 산란이 발생하게 된다. 그러므로 인조대리석의 내부 광 투과도를 높이기 위하여 본 발명의 인조대리석은 SiO2 함량이 99.5 중량% 이상인 결정질 석영 분말을 포함한다. 만약 석영 분말의 SiO2 함량이 99.5 중량% 미만인 경우, 인조대리석의 내부 광 투과도가 낮아, 본 발명의 목적으로 하는 광 투과도가 높은 인조대리석을 제조하기 어려울 수 있다.Since quartz powder has a small particle size, self-scattering occurs. Therefore, in order to increase the internal light transmittance of the artificial marble, the artificial marble of the present invention includes crystalline quartz powder having a SiO 2 content of 99.5% by weight or more. If the SiO 2 content of the quartz powder is less than 99.5% by weight, the internal light transmittance of the artificial marble is low, and thus it may be difficult to manufacture the artificial marble having high light transmittance, which is the object of the present invention.

인조대리석artificial marble

본 발명의 인조대리석 및/또는 인조대리석의 임의의 영역은 바인더 수지, 무기 입자 및 석영 분말을 포함한다. 여기서, 상기 무기 입자는 입도가 0.7 mm 이상인 무기 입자 및 입도가 0.7 mm 미만인 입자를 포함한다. The artificial marble and/or an arbitrary region of the artificial marble of the present invention includes a binder resin, inorganic particles, and quartz powder. Here, the inorganic particles include inorganic particles having a particle size of 0.7 mm or more and particles having a particle size of less than 0.7 mm.

일 실시상태에 따르면, 상기 인조대리석은 상기 바인더 수지 100 중량부에 대하여 무기 입자 500 내지 800 중량부 및 석영 분말 200 내지 400 중량부를 포함한다. According to one embodiment, the artificial marble includes 500 to 800 parts by weight of inorganic particles and 200 to 400 parts by weight of quartz powder based on 100 parts by weight of the binder resin.

구체적인 예로서, 바인더 수지 100 중량부에 대하여 무기 입자는 500 내지 700 중량부로 포함되며, 바람직하게는 550 내지 650 중량부로 포함된다. 또한, 바인더 수지 100 중량부에 대하여 석영 분말은 200 내지 400 중량부로 포함되며, 바람직하게는 250 내지 350 중량부로 포함된다.As a specific example, the inorganic particles are included in 500 to 700 parts by weight, preferably 550 to 650 parts by weight, based on 100 parts by weight of the binder resin. In addition, the quartz powder is included in 200 to 400 parts by weight, preferably 250 to 350 parts by weight, based on 100 parts by weight of the binder resin.

한 측면에서 본 발명은,In one aspect, the present invention,

바인더 수지 100 중량부에 대하여 무기 입자 500 내지 700 중량부, 바람직하게는 550 내지 650 중량부, 석영 분말 200 내지 400 중량부, 바람직하게는 250 내지 350 중량부를 포함하고, 500 to 700 parts by weight of inorganic particles, preferably 550 to 650 parts by weight, and 200 to 400 parts by weight of quartz powder, preferably 250 to 350 parts by weight, based on 100 parts by weight of the binder resin,

상기 무기 입자는 입도가 0.7 mm 이상인 무기 입자 및 입도가 0.7 mm 미만인 입자를 포함하며, The inorganic particles include inorganic particles having a particle size of 0.7 mm or more and particles having a particle size of less than 0.7 mm,

상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지를 포함하고, The binder resin includes an unsaturated polyester resin,

상기 불포화 폴리에스테르 수지는 불포화 폴리에스테르 고분자 및 비닐계 단량체를 100 : 30 내지 70 중량비로 포함하며, The unsaturated polyester resin includes an unsaturated polyester polymer and a vinyl monomer in a weight ratio of 100: 30 to 70,

상기 석영 분말은 SiO2 함량이 99.5 내지 100 중량%, 바람직하게는 99.6 내지 100 중량%, 더욱 바람직하게는 99.7 내지 100 중량%이며 알루미나 함량이 0.5 중량% 이하, 바람직하게는 0.4 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 0.3 중량% 이하, 더욱 더 바람직하게는 0.2 중량% 이하인 인조대리석에 대한 것이다.The quartz powder has a SiO 2 content of 99.5 to 100% by weight, preferably 99.6 to 100% by weight, more preferably 99.7 to 100% by weight, and an alumina content of 0.5% by weight or less, preferably 0.4% by weight or less, more preferably 0.4% by weight or less. Preferably it is 0.3% by weight or less, and even more preferably 0.2% by weight or less for artificial marble.

또 하나의 한 측면에서 본 발명은,In another aspect, the present invention,

바인더 수지 100 중량부에 대하여 무기 입자 500 내지 700 중량부, 바람직하게는 550 내지 650 중량부, 석영 분말 200 내지 400 중량부, 바람직하게는 250 내지 350 중량부를 포함하고, 500 to 700 parts by weight of inorganic particles, preferably 550 to 650 parts by weight, and 200 to 400 parts by weight of quartz powder, preferably 250 to 350 parts by weight, based on 100 parts by weight of the binder resin,

상기 무기 입자는 입도가 0.7 mm 이상인 무기 입자 및 입도가 0.7 mm 미만인 입자를 포함하며, The inorganic particles include inorganic particles having a particle size of 0.7 mm or more and particles having a particle size of less than 0.7 mm,

상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지를 포함하고, The binder resin includes an unsaturated polyester resin,

상기 불포화 폴리에스테르 수지는 불포화 폴리에스테르 고분자 및 비닐계 단량체를 100 : 30 내지 70 중량비로 포함하며, The unsaturated polyester resin includes an unsaturated polyester polymer and a vinyl monomer in a weight ratio of 100: 30 to 70,

상기 석영 분말은 SiO2 함량이 99.5 내지 100 중량%, 바람직하게는 99.6 내지 100 중량%, 더욱 바람직하게는 99.7 내지 100 중량%이며 알루미나 함량이 0.5 중량% 이하, 바람직하게는 0.4 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 0.3 중량% 이하, 더욱 더 바람직하게는 0.2 중량% 이하인 임의의 영역을 포함하는 인조대리석에 대한 것이다.더욱 바람직한 실시상태에 따른 인조대리석은 바인더 수지 100 중량부에 대하여 고투명 비정질 용융 실리카 입자 500 내지 700 중량부, 및 SiO2를 99.5 중량% 이상 함유한 석영분말 200 내지 400 중량부를 포함하는 인조대리석이며, 상기 인조대리석의 광 투과도가 우수하다.The quartz powder has a SiO 2 content of 99.5 to 100% by weight, preferably 99.6 to 100% by weight, more preferably 99.7 to 100% by weight, and an alumina content of 0.5% by weight or less, preferably 0.4% by weight or less, more preferably 0.4% by weight or less. Preferably, it relates to artificial marble including an arbitrary area of 0.3% by weight or less, and even more preferably 0.2% by weight or less. Artificial marble according to a more preferred embodiment is highly transparent amorphous fused silica particles based on 100 parts by weight of the binder resin. Artificial marble comprising 500 to 700 parts by weight and 200 to 400 parts by weight of quartz powder containing 99.5% by weight or more of SiO 2 , and the light transmittance of the artificial marble is excellent.

또는 더욱 바람직한 실시상태에 따른 인조대리석은 바인더 수지 100 중량부에 대하여 바륨을 10 내지 35 중량% 함유한 유리 입자 500 내지 700 중량부 및 SiO2를 99.5 중량% 이상 함유하는 석영 분말 200 내지 400 중량부를%를 포함하는 인조대리석이며, 상기 인조대리석의 광 투과명도가 우수하다.Alternatively, artificial marble according to a more preferred embodiment may contain 500 to 700 parts by weight of glass particles containing 10 to 35% by weight of barium and 200 to 400 parts by weight of quartz powder containing 99.5% by weight or more of SiO 2 based on 100 parts by weight of the binder resin. %, and the light transmittance of the artificial marble is excellent.

또는 다른 바람직한 실시상태에 따른 인조대리석은 바인더 수지 100 중량부에 대하여 SiO2 함량이 99.5 내지 100 중량%이고 알루미나 함량이 0.5 중량% 이하인 고투명 결정질 석영 입자 500 내지 700 중량부, SiO2를 99.5 중량% 이상 함유한 석영 분말 200 내지 400 중량부를 포함하는 인조대리석이며, 상기 인조대리석의 광 투과도가 우수하다. Alternatively, artificial marble according to another preferred embodiment includes 500 to 700 parts by weight of highly transparent crystalline quartz particles having an alumina content of 0.5% by weight or less and 99.5 to 100% by weight of SiO 2 and 99.5% by weight of SiO 2 based on 100 parts by weight of the binder resin. An artificial marble comprising 200 to 400 parts by weight of the quartz powder contained above, and the light transmittance of the artificial marble is excellent.

본 발명의 인조대리석은 가로 7 cm, 세로 7 cm, 두께 1.5 cm 의 인조대리석 샘플에 대하여 탁도계(Nippon denshoku사의 NDH 5000)를 사용하여 전투과율 측정 시 전투과율이 0.5% 이상 20.0% 이하이며, 바람직하게는 3.0% 이상 20.0% 이하이고, 더욱 바람직하게는 6.0% 이상 20.0% 이하일 수 있다. 일 예에 따르면, 상기 전투과율이 10% 이상인 것이 바람직하며, 13% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 이때 전투과율은 확산투과율(diffusion transmittance)와 평행투과율(parallel transmittance)의 합이다.The artificial marble of the present invention has a combat duty rate of 0.5% or more and 20.0% or less when measuring the combat duty ratio using a turbidimeter (Nippon Denshoku's NDH 5000) for an artificial marble sample having a width of 7 cm, a length of 7 cm, and a thickness of 1.5 cm. It may be 3.0% or more and 20.0% or less, more preferably 6.0% or more and 20.0% or less. According to one example, the combat duty rate is preferably 10% or more, and more preferably 13% or more. At this time, the combat transmittance is the sum of diffusion transmittance and parallel transmittance.

또한 본 발명의 인조대리석은 가로 7 cm, 세로 7 cm, 두께 1.5 cm 의 인조대리석 샘플에 대하여 60 루멘(lumen)의 빛을 방출하는 백라이트를 인조대리석에 접촉하여 비추고, 백라이트를 접촉하는 인조대리석의 반대편에서 인조대리석의 표면 약 5 cm 위에서 휘도계(KONICA MINOLTA의 Luminance Meter LS-160)를 이용하여 휘도를 측정 시 휘도가 400 cd/m2 이상 2000 cd/m2 이하인 것일 수 있으며, 바람직하게는 500 cd/m2 이상 2000 cd/m2 이고, 더욱 바람직하게는 600 cd/m2 이상 2000 cd/m2 이하이고, 더욱 더 바람직하게는 700 cd/m2 이상 2000 cd/m2 이하이고, 더더욱 바람직하게는 800 cd/m2 이상 2000 cd/m2 이하이며, 가장 바람직하게는 900 cd/m2 이상 2000 cd/m2 이하이다. In addition, in the artificial marble of the present invention, a backlight emitting 60 lumens of light is irradiated in contact with the artificial marble for an artificial marble sample having a width of 7 cm, a length of 7 cm, and a thickness of 1.5 cm, and the artificial marble in contact with the backlight is illuminated. On the other side, when measuring the luminance using a luminance meter (KONICA MINOLTA's Luminance Meter LS-160) about 5 cm above the surface of the artificial marble, the luminance may be 400 cd/m 2 or more and 2000 cd/m 2 or less, preferably 500 cd/m 2 or more and 2000 cd/m 2 , more preferably 600 cd/m 2 or more and 2000 cd/m 2 or less, still more preferably 700 cd/m 2 or more and 2000 cd/m 2 or less; More preferably, it is 800 cd/m 2 or more and 2000 cd/m 2 or less, and most preferably 900 cd/m 2 or more and 2000 cd/m 2 or less.

바람직한 한 예에서, 본 발명의 인조대리석은 가로 7 cm, 세로 7 cm, 두께 1.5 cm 의 인조대리석 샘플에 대하여 60 루멘(lumen)의 빛으로 백라이트를 인조대리석에 접촉하여 비추고 백라이트를 접촉하는 인조대리석의 반대편에서 인조대리석의 표면 약 5 cm 위에서 휘도계(KONICA MINOLTA의 Luminance Meter LS-160)를 이용하여 휘도를 측정 시 휘도가 400 cd/m2 이상 2000 cd/m2 이하일 수 있다.In a preferred example, the artificial marble of the present invention illuminates the artificial marble with light of 60 lumens on an artificial marble sample having a width of 7 cm, a length of 7 cm and a thickness of 1.5 cm, and the artificial marble contacting the backlight. When the luminance is measured using a luminance meter (KONICA MINOLTA's Luminance Meter LS-160) about 5 cm above the surface of the artificial marble on the opposite side of the luminance, the luminance may be 400 cd/m 2 or more and 2000 cd/m 2 or less.

상기 인조대리석의 KS F 4739에 따른 굴곡 강도는 30 내지 100 MPa일 수 있다. 상기 굴곡 강도는 굽힘 하중에 의해 상기 인조대리석이 파단에 이르기까지의 최대 응력을 의미한다. 구체적으로, 상기 인조대리석의 굴곡 강도는 30 MPa 내지 100 MPa, 또는 50 MPa 내지 80 MPa일 수 있다. 상기 인조대리석이 전술한 범위 내의 굴곡 강도를 가짐으로써, 외장재에 적절히 적용할 수 있다 The artificial marble may have a flexural strength of 30 to 100 MPa according to KS F 4739. The flexural strength means the maximum stress until the artificial marble is broken by a bending load. Specifically, the artificial marble may have a flexural strength of 30 MPa to 100 MPa, or 50 MPa to 80 MPa. Since the artificial marble has a flexural strength within the above range, it can be appropriately applied to exterior materials.

상기 인조대리석의 내스크래치성은 Erichsen 시험기로 측정 시 0.8 내지 2.0 N일 수 있다. 내스크래치성이 상기 범위를 가질 때 인조대리석이 외장재로서 적절히 사용될 수 있다.The scratch resistance of the artificial marble may be 0.8 to 2.0 N as measured by an Erichsen tester. When the scratch resistance is within the above range, artificial marble may be suitably used as an exterior material.

상기 인조대리석의 흡수율은 0.1% 이하일 수 있다. 상기 흡수율은 ASTM C97 규격에 따라 측정될 수 있다. 본 발명의 인조대리석은 상기 범위의 흡수율을 가짐으로써 수시로 수분에 노출되는 주방 상판이나 실외 건축장식재, 외장재 등으로 적용 가능하다.Water absorption of the artificial marble may be 0.1% or less. The water absorption may be measured according to the ASTM C97 standard. The artificial marble of the present invention can be applied to kitchen tops, outdoor building decoration materials, and exterior materials that are frequently exposed to moisture by having an absorption rate within the above range.

본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석은 불포화 폴리에스테르계(unsaturated polyester, (UPE)) 인조대리석이며, 아크릴계 인조대리석이 아니다. 상기 실시상태에 따른 인조대리석의 제조 시 아크릴계 수지, 아크릴계 단량체 등을 소량 포함할 수 있으나, 본 발명의 인조대리석은 불포화 폴리에스테르계(unsaturated polyester, (UPE)) 인조대리석이며, 아크릴계 인조대리석이 아니다. Artificial marble according to one embodiment of the present invention is unsaturated polyester (UPE) artificial marble, not acrylic artificial marble. When manufacturing the artificial marble according to the embodiment, a small amount of acrylic resin, acrylic monomer, etc. may be included, but the artificial marble of the present invention is unsaturated polyester (UPE) artificial marble and is not acrylic artificial marble. .

인조대리석의 제조 방법Manufacturing method of artificial marble

본 발명의 인조대리석의 제조 방법은 The manufacturing method of artificial marble of the present invention

바인더 수지, 무기 입자 및 석영 분말을 포함하는 인조대리석 조성물을 제조하는 단계로서, 상기 무기 입자는 입도가 0.7 mm 이상인 무기 입자 및 입도가 0.7 mm 미만인 입자를 포함하는 것인 단계;preparing an artificial marble composition comprising a binder resin, inorganic particles, and quartz powder, wherein the inorganic particles include inorganic particles having a particle size of 0.7 mm or more and particles having a particle size of less than 0.7 mm;

상기 인조대리석 조성물을 몰드에 투입하고 압축성형하는 압축 성형 단계; A compression molding step of putting the artificial marble composition into a mold and compression molding;

상기 인조대리석 조성물을 경화시킨 후 몰드에서 빼내(탈형) 인조대리석을 제조하는 단계, 및 After curing the artificial marble composition, removing it from the mold (removing the mold) to produce artificial marble, and

상기 인조대리석을 재단하고 표면을 매끄럽게 연마하는 후가공 단계를 포함한다. and a post-processing step of cutting the artificial marble and polishing the surface smoothly.

일 실시상태에 따르면, 상기 바인더 수지, 무기 입자 및 석영 분말을 포함하는 인조대리석 조성물을 제조하는 단계는 무기 입자에 바인더 수지를 혼합하는 단계 및 상기 무기 입자와 바인더 수지의 혼합물에 석영 분말을 혼합하는 단계를 포함한다. 무기 입자와 바인더 수지를 먼저 혼합하여 무기 입자의 표면에 바인더 수지가 감싸지도록 할 수 있으며, 그 후 석영 분말을 혼합함으로써 무기 입자와 석영 분말 사이에 바인더 수지가 분포하도록 함으로써 재료들을 균일하게 혼합할 수 있다. 이와 같은 순서로 혼합을 수행함으로써 바인더 수지, 무기 입자 및 석영 분말을 포함하는 조성물이 건조한 상태를 유지함으로써 추후 압축성형시 상기 조성물을 몰드에 원하는 상태로 투입할 수 있다. According to an exemplary embodiment, the preparing of the artificial marble composition including the binder resin, inorganic particles and quartz powder may include mixing the binder resin with the inorganic particles and mixing the quartz powder with the mixture of the inorganic particles and the binder resin. Include steps. The inorganic particles and the binder resin may be first mixed so that the surface of the inorganic particles is covered with the binder resin, and then the materials may be uniformly mixed by mixing the quartz powder to distribute the binder resin between the inorganic particles and the quartz powder. there is. By performing the mixing in this order, the composition including the binder resin, the inorganic particles, and the quartz powder is maintained in a dry state, so that the composition can be put into a mold in a desired state during compression molding later.

일 실시상태에 따른 본 발명의 인조대리석의 제조 방법은 바인더 수지 조성물에 무기 입자를 혼합하고 상기 혼합물을 잘 섞어준 후, 석영 분말을 첨가하여 혼합하고 잘 섞어 인조대리석 조성물을 제조하는 단계, 상기 인조대리석 조성물을 몰드에 투입하고 진공가압 장비를 이용하여 압축성형하는 진공진동압축 성형 단계, 그 후 90 내지 130 ℃에서 30분 내지 1시간 동안 경화시키고, 경화가 완료된 후 실온으로 식히고(냉각) 그 후 몰드에서 빼내(탈형) 인조대리석을 제조하는 단계, 상기 제조된 인조대리석을 재단하고 표면을 매끄럽게 연마하는 후가공 단계를 포함할 수 있다.The method for producing artificial marble of the present invention according to an embodiment includes the steps of mixing inorganic particles with a binder resin composition, mixing the mixture well, adding quartz powder, mixing, and mixing well to prepare an artificial marble composition; A vacuum vibration compression molding step in which the marble composition is put into a mold and compressed using vacuum pressure equipment, then cured at 90 to 130 ° C for 30 minutes to 1 hour, and after curing is completed, cooled to room temperature (cooling), and then It may include a step of removing (demolding) from the mold to manufacture artificial marble, and a post-processing step of cutting the manufactured artificial marble and polishing the surface smoothly.

이때, 바인더 수지 조성물에 무기 입자를 혼합하고 상기 혼합물을 잘 섞어준 후, 석영 분말을 첨가하여 혼합하고 잘 섞어 인조대리석 조성물을 제조할 때, 하나 이상의 색상의 안료 및/또는 칩을 함께 섞어 인조대리석 조성물을 제조할 수 있다. 또한 바인더 수지 조성물에 무기 입자를 혼합하고 상기 혼합물을 잘 섞어준 후, 석영 분말, 안료 및/또는 칩을 함께 섞어 제1의 서브 인조대리석 조성물을 제조하고, 안료 및/또는 칩의 종류를 상이하게 사용하되 같은 방식으로 제2의 서브 인조대리석 조성물을 제조하고, 이런 식으로 둘 이상의 적은 양의 서브(sub) 인조대리석 조성물들을 복수 개 제조한 후 이를 섞어 최종적인 인조대리석 조성물을 제조하여 이용할 수도 있다. 이렇게 최종적인 인조대리석 조성물을 몰드에 투입하고 진공가압 장비를 이용하여 압축성형하는 진공진동압축 성형 단계, 그 후 90 내지 130 ℃에서 30분 내지 1시간 동안 경화시키고, 경화가 완료된 후 실온으로 식히고(냉각) 그 후 몰드에서 빼내(탈형) 인조대리석을 제조하는 단계, 상기 제조된 인조대리석을 재단하고 표면을 매끄럽게 연마하는 후가공 단계를 포함하는 공정을 거쳐 인조대리석을 제조할 수 있다. 이때, 서브 인조대리석 조성물은 각각 서로 다른 안료 및/또는 칩을 포함할 수 있으며, 인조대리석 제조 시 사용되는 각각의 서브 인조대리석 조성물의 첨가량 또한 상이할 수 있다. 또한 복수 개의 서브 인조대리석 조성물을 섞어 최종적인 인조대리석 조성물을 제조할 때, 서브 인조대리석 조성물들이 서로 완전히 잘 섞이게 혼합하지 않고, 서브 인조대리석 조성물들이 최종 인조대리석 조성물의 군데군데에 덩어리가 져서 남아있을 수 있도록 불완전하게 혼합하는 것이 바람직하다. At this time, when inorganic particles are mixed with the binder resin composition and the mixture is mixed well, quartz powder is added, mixed, and mixed well to prepare the artificial marble composition, pigments and/or chips of one or more colors are mixed together to form artificial marble. composition can be prepared. In addition, after mixing inorganic particles with the binder resin composition and mixing the mixture well, quartz powder, pigments and/or chips are mixed together to prepare a first sub-artificial marble composition, and different types of pigments and/or chips are used. However, a second sub artificial marble composition may be prepared in the same way, and in this way, two or more small amounts of a plurality of sub artificial marble compositions may be prepared, and then mixed to prepare the final artificial marble composition. . A vacuum vibration compression molding step in which the final artificial marble composition is put into a mold and compressed using vacuum pressure equipment, then cured at 90 to 130 ° C. for 30 minutes to 1 hour, and after curing is completed, cooled to room temperature ( After cooling), artificial marble can be manufactured through a process including a step of removing (demolding) from the mold to manufacture artificial marble, and a post-processing step of cutting the manufactured artificial marble and polishing the surface smoothly. In this case, each of the sub-artificial marble compositions may include different pigments and/or chips, and addition amounts of each of the sub-artificial marble compositions used in manufacturing the artificial marble may also be different. In addition, when a plurality of sub-artificial marble compositions are mixed to prepare the final artificial marble composition, the sub-artificial marble compositions are not completely mixed with each other, and the sub-artificial marble compositions may remain lumped here and there in the final artificial marble composition. It is desirable to mix incompletely so that

이렇게 복수 개의 서브 인조대리석 조성물들을 불완전하게 혼합하여 최종 인조대리석 조성물을 제조하여 인조대리석을 제조하는 경우, 처음 사용된 서브 인조대리석 조성물이 뭉쳐서 인조대리석 내에 군데군데 남아있게 되는데, 이를 본 발명에서는 "영역"이라 부를 수 있으며, 이러한 영역들의 존재가 인조대리석에 특별한 미감을 갖게 한다.In this way, when artificial marble is prepared by incompletely mixing a plurality of sub-artificial marble compositions to prepare the final artificial marble composition, the first-use sub-artificial marble composition is agglomerated and remains in places in the artificial marble. ", and the existence of these areas gives artificial marble a special sense of beauty.

영역area

상기 영역이란, 인조대리석의 임의의 입체적인 한 부분을 가리킬 수 있다. 또한 본 발명에서, 복수 개의 서브 인조대리석 조성물들을 이용하여 최종 인조대리석 조성물을 제조하여 인조대리석을 제조하는 경우, 처음 사용된 서브 인조대리석 조성물이 뭉쳐서 인조대리석 내에 남아있게 되는데, 이를 본 발명에서는 "영역"이라 부를 수 있다.The region may refer to an arbitrary three-dimensional part of artificial marble. In addition, in the present invention, when artificial marble is manufactured by preparing a final artificial marble composition using a plurality of sub-artificial marble compositions, the first-use sub-artificial marble composition remains in the artificial marble, which in the present invention is referred to as a "region" " can be called

일 실시상태에 따른 인조대리석은 전술한 실시상태들 중 적어도 하나에 따른 인조대리석으로 이루어진 영역을 포함한다. Artificial marble according to one embodiment includes an area made of artificial marble according to at least one of the above-described embodiments.

또 하나의 실시상태에 따른 인조대리석은 광 투과도가 상이한 2 이상의 영역을 포함하는 인조대리석으로서, 상기 영역 중 적어도 하나는 전술한 실시상태에 따른 인조대리석이다. 다시 말하면, 상기 영역 중 적어도 하나는 바인더 수지, 무기 입자 및 석영 분말을 포함하고, 상기 무기 입자는 입도가 0.7 mm 이상인 무기 입자 및 입도가 0.7 mm 미만인 입자를 포함하는 인조대리석으로 이루어져 있다. Artificial marble according to another embodiment is artificial marble including two or more regions having different light transmittances, and at least one of the regions is the artificial marble according to the above-described embodiment. In other words, at least one of the regions includes a binder resin, inorganic particles, and quartz powder, and the inorganic particles are made of artificial marble including inorganic particles having a particle size of 0.7 mm or more and particles having a particle size of less than 0.7 mm.

Claims (19)

바인더 수지, 무기 입자 및 석영 분말을 포함하고, 상기 무기 입자는 입도가 0.7 mm 이상인 무기 입자 및 입도가 0.7 mm 미만인 입자를 포함하는 것인 인조대리석. Artificial marble comprising a binder resin, inorganic particles, and quartz powder, wherein the inorganic particles include inorganic particles having a particle size of 0.7 mm or more and particles having a particle size of less than 0.7 mm. 제1항에 있어서, 상기 0.7 mm 이상인 무기 입자는 상기 무기 입자 총 100 중량%를 기준으로 60 중량% 이상 80 중량% 이하로 포함되는 것인 인조대리석. The artificial marble according to claim 1, wherein the inorganic particles having a size of 0.7 mm or more are included in an amount of 60% by weight or more and 80% by weight or less based on 100% by weight of the total inorganic particles. 제1항에 있어서, 상기 입도가 0.7 mm 미만인 입자는 입도 0.1 mm 이상 0.3 mm 미만인 입자를 포함하는 것인 인조대리석. The artificial marble according to claim 1, wherein the particles having a particle size of less than 0.7 mm include particles having a particle size of 0.1 mm or more and less than 0.3 mm. 제1항에 있어서, 상기 입도가 0.7 mm 미만인 입자는 입도 0.3 mm 이상 0.7 mm 미만인 입자를 포함하는 것인 인조대리석. The artificial marble according to claim 1, wherein the particles having a particle size of less than 0.7 mm include particles having a particle size of 0.3 mm or more and less than 0.7 mm. 제1항에 있어서, 상기 입도가 0.7 mm 미만인 입자는 입도 0.1 mm 이상 0.3 mm 미만인 입자 및 입도 0.3 mm 이상 0.7 mm 미만인 입자를 포함하는 것인 인조대리석. The artificial marble according to claim 1, wherein the particles having a particle size of less than 0.7 mm include particles having a particle size of 0.1 mm or more and less than 0.3 mm and particles having a particle size of 0.3 mm or more and less than 0.7 mm. 제1항에 있어서, 상기 무기 입자는 비정질 실리카 입자, 바륨 이온을 포함하는 유리 입자 및 결정질 석영 입자로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상인 것인 인조대리석.The artificial marble according to claim 1, wherein the inorganic particles are at least one selected from the group consisting of amorphous silica particles, glass particles containing barium ions, and crystalline quartz particles. 제1항에 있어서, 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지 및 폴리메틸메타크릴레이트 중 적어도 하나를 포함하는 것인 인조대리석.The artificial marble according to claim 1, wherein the binder resin includes at least one of an unsaturated polyester resin and polymethyl methacrylate. 제1항에 있어서, 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지를 90 중량% 이상 포함하고, 상기 불포화 폴리에스테르 수지는 불포화 폴리에스테르 고분자 및 비닐계 단량체를 100 : 30 내지 70 중량비로 포함하는 조성물을 이용하여 제조되는 것인 인조대리석.The method of claim 1, wherein the binder resin contains 90% by weight or more of an unsaturated polyester resin, and the unsaturated polyester resin comprises an unsaturated polyester polymer and a vinyl monomer in a weight ratio of 100: 30 to 70. Manufactured artificial marble. 제1항에 있어서, 상기 석영 분말의 SiO2 함량은 99.5 중량% 이상 100 중량% 이하인 것인 인조대리석.The artificial marble according to claim 1, wherein the quartz powder has a SiO 2 content of 99.5% by weight or more and 100% by weight or less. 제1항에 있어서, 상기 석영 분말의 SiO2 함량은 99.5 중량% 이상 100 중량% 이하이고, 알루미나의 함량이 0.5 중량% 이하인 것인 인조대리석. The artificial marble according to claim 1, wherein the quartz powder has a SiO 2 content of 99.5 wt% or more and 100 wt% or less, and an alumina content of 0.5 wt% or less. 제1항에 있어서, 상기 석영 분말은 입도가 0.1 mm 미만인 것인 인조대리석.The artificial marble according to claim 1, wherein the quartz powder has a particle size of less than 0.1 mm. 제1항에 있어서, 상기 석영 분말은 입도가 55 ㎛ 미만의 분말을 포함하는 것인 인조대리석.The artificial marble according to claim 1, wherein the quartz powder includes powder having a particle size of less than 55 μm. 제1항에 있어서, 상기 석영 분말은 입도가 55 ㎛ 이상 0.1 mm 미만의 분말을 포함하는 것인 인조대리석.The artificial marble according to claim 1, wherein the quartz powder includes powder having a particle size of 55 μm or more and less than 0.1 mm. 제1항에 있어서, 상기 석영 분말은 입도가 55 ㎛ 미만의 분말 및 입도가 55 ㎛ 이상 0.1 mm 미만의 분말을 포함하는 것인 인조대리석.The artificial marble according to claim 1, wherein the quartz powder includes powder having a particle size of less than 55 μm and powder having a particle size of 55 μm or more and less than 0.1 mm. 제1항에 있어서, 상기 인조대리석은 가로 7 cm, 세로 7 cm, 두께 1.5 cm 의 인조대리석 샘플에 대하여 탁도계(Nippon denshoku사의 NDH 5000)를 사용하여 전투과율 측정 시 전투과율이 6% 이상 20% 이하인 것을 특징으로 하는 인조대리석.The method of claim 1, wherein the artificial marble has a combat duty rate of 6% or more and 20% when the combat duty is measured using a turbidimeter (Nippon Denshoku's NDH 5000) for an artificial marble sample having a width of 7 cm, a length of 7 cm and a thickness of 1.5 cm. Artificial marble, characterized in that the following. 제1항에 있어서, 상기 인조대리석은 가로 7 cm, 세로 7 cm, 두께 1.5 cm 의 인조대리석 샘플에 대하여 60 루멘(lumen)의 빛으로 백라이트를 인조대리석에 접촉하여 비추고 백라이트를 접촉하는 인조대리석의 반대편에서 인조대리석의 표면 약 5 cm 위에서 휘도계(KONICA MINOLTA의 Luminance Meter LS-160)를 이용하여 휘도를 측정 시 휘도가 400 cd/m2 이상 2000 cd/m2 이하인 것을 특징으로 하는 인조대리석.The method of claim 1, wherein the artificial marble illuminates the artificial marble with light of 60 lumens for an artificial marble sample having a width of 7 cm, a length of 7 cm and a thickness of 1.5 cm, and the artificial marble contacting the backlight. Artificial marble, characterized in that the luminance is 400 cd / m 2 or more and 2000 cd / m 2 or less when the luminance is measured using a luminance meter (KONICA MINOLTA's Luminance Meter LS-160) about 5 cm above the surface of the artificial marble on the other side. 제1항에 있어서, 상기 바인더 수지 100 중량부에 대하여 무기 입자 500 내지 800 중량부 및 석영 분말 200 내지 400 중량부를 포함하는 것인 인조대리석. The artificial marble according to claim 1, which comprises 500 to 800 parts by weight of inorganic particles and 200 to 400 parts by weight of quartz powder, based on 100 parts by weight of the binder resin. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 따른 인조대리석으로 이루어진 영역을 포함하는 인조대리석.An artificial marble comprising a region made of the artificial marble according to any one of claims 1 to 17. 바인더 수지, 무기 입자 및 석영 분말을 포함하는 인조대리석 조성물을 제조하는 단계로서, 상기 무기 입자는 입도가 0.7 mm 이상인 무기 입자 및 입도가 0.7 mm 미만인 입자를 포함하는 것인 단계;
상기 인조대리석 조성물을 몰드에 투입하고 압축성형하는 압축 성형 단계;
상기 인조대리석 조성물을 경화시킨 후 몰드에서 빼내(탈형) 인조대리석을 제조하는 단계, 및
상기 인조대리석을 재단하고 표면을 매끄럽게 연마하는 후가공 단계를 포함하는 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 따른 인조대리석의 제조방법.
preparing an artificial marble composition comprising a binder resin, inorganic particles, and quartz powder, wherein the inorganic particles include inorganic particles having a particle size of 0.7 mm or more and particles having a particle size of less than 0.7 mm;
A compression molding step of putting the artificial marble composition into a mold and compression molding;
After curing the artificial marble composition, removing it from the mold (removing the mold) to produce artificial marble, and
The method of manufacturing artificial marble according to any one of claims 1 to 17, comprising a post-processing step of cutting the artificial marble and polishing the surface smoothly.
KR1020210081753A 2021-06-23 Artificial marble having high light transmittance KR102706092B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210081753A KR102706092B1 (en) 2021-06-23 Artificial marble having high light transmittance

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210081753A KR102706092B1 (en) 2021-06-23 Artificial marble having high light transmittance

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220170650A true KR20220170650A (en) 2022-12-30
KR102706092B1 KR102706092B1 (en) 2024-09-11

Family

ID=

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100106756A (en) * 2009-03-24 2010-10-04 (주)엘지하우시스 Artificial marble and preparation method thereof
KR20200028595A (en) * 2018-09-07 2020-03-17 (주)엘지하우시스 Composition for artificial marble
KR20210065307A (en) * 2019-11-27 2021-06-04 (주)엘지하우시스 Artificial marble having high light transmittance and method of preparing the same
KR20210072972A (en) * 2019-12-10 2021-06-18 (주)엘지하우시스 Artificial marble

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100106756A (en) * 2009-03-24 2010-10-04 (주)엘지하우시스 Artificial marble and preparation method thereof
KR20200028595A (en) * 2018-09-07 2020-03-17 (주)엘지하우시스 Composition for artificial marble
KR20210065307A (en) * 2019-11-27 2021-06-04 (주)엘지하우시스 Artificial marble having high light transmittance and method of preparing the same
KR20210072972A (en) * 2019-12-10 2021-06-18 (주)엘지하우시스 Artificial marble

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2744023B2 (en) Reaction curable composition and artificial marble obtained by molding and curing the same
KR20150137529A (en) Engineered stone chips with three-dimensional patterns and engineered stone using the same
EP2377896A2 (en) Marble chips for an artificial marble, manufacturing method thereof, and artificial marble comprising same
KR101548342B1 (en) Artificial Marble Chip, Artificial Marble Using Same, and Method for Preparing thereof
KR100715606B1 (en) Artificial marble chip having high transparency, method for preparing thereof and artificial marble using the same
KR101141023B1 (en) Marble chip with marbling pattern and synthetic marble using same, and method of preparing the artificial marble
KR102706092B1 (en) Artificial marble having high light transmittance
KR20190013444A (en) Resin composition for engineered stone and engineered stone produced therefrom
KR20220170650A (en) Artificial marble having high light transmittance
KR102657647B1 (en) Artificial marble having high light transmittance and manufacturing method thereof
KR102706091B1 (en) Artificial marble having high light transmittance
US20230416149A1 (en) Artificial marble having high light transmittance
KR20220170646A (en) Artificial marble having high light transmittance
KR20220074796A (en) Artificial marble having high light transmittance
US20240018044A1 (en) Artificial marble having high light transmittance
KR102694149B1 (en) Artificial marble having opaque vein area and transparent base area
KR20230034745A (en) Artificial marble having high light transmittance
JP3225180B2 (en) Stone-grain artificial marble
KR20230114506A (en) Artificial marble and method for manufacturing the same
US20230416165A1 (en) Artificial marble including stripes having high light transmittance
KR20220170640A (en) Knife for manufacturing vein pattern of artificial marble and method for manufacturing artificial marble using the same
KR20080064758A (en) A transparent stripe chip, an artificial marble comprising the same and preparation method thereof
KR20220170638A (en) Method for manufacturing artificial marble and manufacturing device of artificial marble
KR20230115925A (en) E-stone based artificial marble and method for manufacturing the same
KR20140045218A (en) Transparent chip for artificial marble, manufacturing the same and artificial marble using the same

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right